JP2001300447A - 粉粒体処理装置及びその洗浄方法 - Google Patents
粉粒体処理装置及びその洗浄方法Info
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- JP2001300447A JP2001300447A JP2000124458A JP2000124458A JP2001300447A JP 2001300447 A JP2001300447 A JP 2001300447A JP 2000124458 A JP2000124458 A JP 2000124458A JP 2000124458 A JP2000124458 A JP 2000124458A JP 2001300447 A JP2001300447 A JP 2001300447A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 洗浄性の向上
【解決手段】 処理容器１の接続口７ａ（タンジェンシ
ャルスプレーノズル７の接続口）と、給気ダクト４に設
けた接続口４ａに流体循環路２１を接続して、処理室１
ａと給気室５とを外部の流体循環路２１を介して連通さ
せている。また、ディスクロータ３の回転駆動軸９に攪
拌翼１７を設けている。処理室１ａと給気室５に洗浄液
Ｗを充填した後、回転駆動軸９を回転駆動し、ディスク
ロータ３及び攪拌翼１７を洗浄液Ｗ中で回転させる。
ャルスプレーノズル７の接続口）と、給気ダクト４に設
けた接続口４ａに流体循環路２１を接続して、処理室１
ａと給気室５とを外部の流体循環路２１を介して連通さ
せている。また、ディスクロータ３の回転駆動軸９に攪
拌翼１７を設けている。処理室１ａと給気室５に洗浄液
Ｗを充填した後、回転駆動軸９を回転駆動し、ディスク
ロータ３及び攪拌翼１７を洗浄液Ｗ中で回転させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、粉粒体処理装置の
洗浄技術に関し、特に、粉粒体転動用のディスクロータ
を備えた転動流動層装置の自動洗浄技術に関する。
洗浄技術に関し、特に、粉粒体転動用のディスクロータ
を備えた転動流動層装置の自動洗浄技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば医薬品や食品の製造に用いられる
粉粒体処理装置では、異物混入や他製品とのコンタミネ
ーション等を防止するために、処理容器や配管系などの
洗浄を綿密に行うことが求められる。この洗浄作業は、
以前は人手による分解洗浄が主流であったが、作業時間
が非常に多くかかり効率的でないことから、現在では装
置を分解することなく、所定のプログラムに従って洗浄
液を装置内部に供給して洗浄を行う自動洗浄が主流にな
っている。例えば、流動層装置では、処理容器の内部に
洗浄用ノズルを配設し、洗浄時に、この洗浄用ノズルか
ら高圧の洗浄液を噴射して処理容器内を洗浄するのが一
般的である。一方、転動流動層装置の場合は、流動層装
置と比較して、ディスクロータ及びその周辺部、ディス
クロータの回転駆動部など、複雑な形状・構造をもった
構成部分が存在するため、洗浄用ノズルからの噴射液圧
だけでは十分な洗浄が困難であるか、あるいは、多数の
洗浄用ノズルを配設する必要が生じて装置構造の複雑化
を招くという問題がある。そのため、転動流動層装置に
おいては、いわゆる溜め洗いと呼ばれる洗浄方法が採ら
れることがある（例えば特開平１１−４７７０４号
等）。この洗浄方法は、一般に、処理容器の処理室と、
ディスクロータの下面側に設けられた給気室とに洗浄液
を充填すると共に、ディスクロータを洗浄液中で回転さ
せて洗浄を行うものである。ディスクロータの回転に伴
い、充填された洗浄液に攪拌流が生じ、これが処理室の
内壁面等の表面と接触することにより、洗浄がなされ
る。
粉粒体処理装置では、異物混入や他製品とのコンタミネ
ーション等を防止するために、処理容器や配管系などの
洗浄を綿密に行うことが求められる。この洗浄作業は、
以前は人手による分解洗浄が主流であったが、作業時間
が非常に多くかかり効率的でないことから、現在では装
置を分解することなく、所定のプログラムに従って洗浄
液を装置内部に供給して洗浄を行う自動洗浄が主流にな
っている。例えば、流動層装置では、処理容器の内部に
洗浄用ノズルを配設し、洗浄時に、この洗浄用ノズルか
ら高圧の洗浄液を噴射して処理容器内を洗浄するのが一
般的である。一方、転動流動層装置の場合は、流動層装
置と比較して、ディスクロータ及びその周辺部、ディス
クロータの回転駆動部など、複雑な形状・構造をもった
構成部分が存在するため、洗浄用ノズルからの噴射液圧
だけでは十分な洗浄が困難であるか、あるいは、多数の
洗浄用ノズルを配設する必要が生じて装置構造の複雑化
を招くという問題がある。そのため、転動流動層装置に
おいては、いわゆる溜め洗いと呼ばれる洗浄方法が採ら
れることがある（例えば特開平１１−４７７０４号
等）。この洗浄方法は、一般に、処理容器の処理室と、
ディスクロータの下面側に設けられた給気室とに洗浄液
を充填すると共に、ディスクロータを洗浄液中で回転さ
せて洗浄を行うものである。ディスクロータの回転に伴
い、充填された洗浄液に攪拌流が生じ、これが処理室の
内壁面等の表面と接触することにより、洗浄がなされ
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の溜め洗
い洗浄では、処理室の内部は比較的良好に洗浄できるも
のの、給気室の内部や、処理室と給気室との間に配設さ
れる気体分散板等の洗浄が不十分になる場合があった。
い洗浄では、処理室の内部は比較的良好に洗浄できるも
のの、給気室の内部や、処理室と給気室との間に配設さ
れる気体分散板等の洗浄が不十分になる場合があった。
【０００４】そこで、本発明は、転動流動層装置におい
て、処理室のみならず、給気室の内部や気体分散板等も
十分に洗浄できる構成を提供しようとするものである。
て、処理室のみならず、給気室の内部や気体分散板等も
十分に洗浄できる構成を提供しようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、粉粒体が処理される処理室を有する処理
容器と、処理室の底部に回転自在に設けられたディスク
ロータと、ディスクロータの下面側に設けられた給気室
とを備え、処理室に供給された粉粒体を、ディスクロー
タにより転動させると共に、給気室から処理室内に供給
される気体により流動させながら処理する粉粒体処理装
置の洗浄方法において、処理室と給気室とを外部の流体
循環路を介して連通させ、処理室と給気室に洗浄液を充
填し、その状態でディスクロータを回転させることによ
り、洗浄液を攪拌すると共に、処理室の洗浄液と給気室
内の洗浄液との間に生じる圧力差を利用して、洗浄液を
処理室から流体循環路を介して給気室に循環させて洗浄
を行う洗浄方法を提供する。
め、本発明は、粉粒体が処理される処理室を有する処理
容器と、処理室の底部に回転自在に設けられたディスク
ロータと、ディスクロータの下面側に設けられた給気室
とを備え、処理室に供給された粉粒体を、ディスクロー
タにより転動させると共に、給気室から処理室内に供給
される気体により流動させながら処理する粉粒体処理装
置の洗浄方法において、処理室と給気室とを外部の流体
循環路を介して連通させ、処理室と給気室に洗浄液を充
填し、その状態でディスクロータを回転させることによ
り、洗浄液を攪拌すると共に、処理室の洗浄液と給気室
内の洗浄液との間に生じる圧力差を利用して、洗浄液を
処理室から流体循環路を介して給気室に循環させて洗浄
を行う洗浄方法を提供する。
【０００６】上記構成において、ディスクロータの回転
駆動軸に、給気室内の洗浄液を攪拌する攪拌翼を設ける
ことができる。
駆動軸に、給気室内の洗浄液を攪拌する攪拌翼を設ける
ことができる。
【０００７】また、清浄な洗浄液を追加供給すると共
に、その追加供給に見合う量の洗浄液を排出する構成と
することができる。
に、その追加供給に見合う量の洗浄液を排出する構成と
することができる。
【０００８】さらに、洗浄液による洗浄の後、洗浄液に
代えて仕上げ用洗浄水を用いてすすぎ洗いを行うことが
できる。
代えて仕上げ用洗浄水を用いてすすぎ洗いを行うことが
できる。
【０００９】また、本発明は、粉粒体が処理される処理
室を有する処理容器と、処理室の底部に回転自在に設け
られたディスクロータと、ディスクロータの下面側に設
けられた給気室とを備え、処理室に供給された粉粒体
を、ディスクロータにより転動させると共に、給気室か
ら処理室内に供給される気体により流動させながら処理
する粉粒体処理装置において、ディスクロータの回転駆
動軸に、給気室内に位置する攪拌翼を設けた粉粒体処理
装置を提供する。
室を有する処理容器と、処理室の底部に回転自在に設け
られたディスクロータと、ディスクロータの下面側に設
けられた給気室とを備え、処理室に供給された粉粒体
を、ディスクロータにより転動させると共に、給気室か
ら処理室内に供給される気体により流動させながら処理
する粉粒体処理装置において、ディスクロータの回転駆
動軸に、給気室内に位置する攪拌翼を設けた粉粒体処理
装置を提供する。
【００１０】上記構成において、処理容器と、給気室又
はこれに連通する給気ダクトとに、外部の流体循環路を
接続するための接続部を有する構成とすることができ
る。
はこれに連通する給気ダクトとに、外部の流体循環路を
接続するための接続部を有する構成とすることができ
る。
【００１１】また、処理室と給気室とが気体分散板によ
って仕切られている構成とすることができる。
って仕切られている構成とすることができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
従って説明する。
従って説明する。
【００１３】図１は、この実施形態の転動流動装置（転
動流動造粒コーティング装置）の全体構成を概念的に示
している。
動流動造粒コーティング装置）の全体構成を概念的に示
している。
【００１４】処理容器１の処理室１ａの上方にバグフィ
ルター２が設置され（ツインシェイキングフィルターシ
ステムが例示されている。）、処理室１ａの底部にディ
スクロータ３が回転自在に配設されている。ディスクロ
ータ３の上面には、円錐形のコーン部３ａと複数のブレ
ード（凸状羽根）３ｂが設けられる（図２参照）。流動
化気体は、図示されていない流動化気体供給部から所定
の温度・風量等で供給され、給気ダクト４からディスク
ロータ３の下方の給気室５に導かれた後、ディスクロー
タ３の外周部と処理室１ａの側壁面との間の環状隙間Ｓ
（図２参照）から処理室１ａ内に導入される。ディスク
ロータ３上の粉粒体は、コーン部３ａとブレード３ｂに
よる転動圧密作用を強く受け、外周部に転動してきた時
に流動化気体に乗って処理室１ａの中央上部に吹き上げ
られ、コーン部３ａの円錐テーパ面に沿って流動循環す
る。また、処理室１ａには、スプレー液をミスト状にし
てスプレーするためのスプレーノズル６、７が設置され
る。これらスプレーノズル６、７には、図示されていな
いスプレー液供給部からスプレー液が所定の流量・液温
等で供給され、また、スプレーエアー供給部からスプレ
ーエアーが所定の圧力・風量等で供給される。スプレー
ノズル６は、処理室１ａの上方部に設置され、処理室１
ａ内で流動状態にある粉粒体に向けてスプレー液を上方
からスプレーする（トップスプレー）。スプレーノズル
７は、処理室１ａの下方部に設置され、処理室１ａ内で
流動状態にある粉粒体に向けてスプレー液を接線方向か
らスプレーする（タンジェンシャルスプレー）。スプレ
ーノズル６又は７からスプレーされるスプレー液ミスト
によって、処理容器１ａ内の粉粒体が湿潤を受けて凝集
し、あるいは、粒子表面にスプレー液ミストの基剤成分
が付着して被覆層が形成される。尚、スプレーノズル６
によるトップスプレーと、スプレーノズル７によるタン
ジェンシャルスプレーは、必要に応じて択一的に使い分
ける。
ルター２が設置され（ツインシェイキングフィルターシ
ステムが例示されている。）、処理室１ａの底部にディ
スクロータ３が回転自在に配設されている。ディスクロ
ータ３の上面には、円錐形のコーン部３ａと複数のブレ
ード（凸状羽根）３ｂが設けられる（図２参照）。流動
化気体は、図示されていない流動化気体供給部から所定
の温度・風量等で供給され、給気ダクト４からディスク
ロータ３の下方の給気室５に導かれた後、ディスクロー
タ３の外周部と処理室１ａの側壁面との間の環状隙間Ｓ
（図２参照）から処理室１ａ内に導入される。ディスク
ロータ３上の粉粒体は、コーン部３ａとブレード３ｂに
よる転動圧密作用を強く受け、外周部に転動してきた時
に流動化気体に乗って処理室１ａの中央上部に吹き上げ
られ、コーン部３ａの円錐テーパ面に沿って流動循環す
る。また、処理室１ａには、スプレー液をミスト状にし
てスプレーするためのスプレーノズル６、７が設置され
る。これらスプレーノズル６、７には、図示されていな
いスプレー液供給部からスプレー液が所定の流量・液温
等で供給され、また、スプレーエアー供給部からスプレ
ーエアーが所定の圧力・風量等で供給される。スプレー
ノズル６は、処理室１ａの上方部に設置され、処理室１
ａ内で流動状態にある粉粒体に向けてスプレー液を上方
からスプレーする（トップスプレー）。スプレーノズル
７は、処理室１ａの下方部に設置され、処理室１ａ内で
流動状態にある粉粒体に向けてスプレー液を接線方向か
らスプレーする（タンジェンシャルスプレー）。スプレ
ーノズル６又は７からスプレーされるスプレー液ミスト
によって、処理容器１ａ内の粉粒体が湿潤を受けて凝集
し、あるいは、粒子表面にスプレー液ミストの基剤成分
が付着して被覆層が形成される。尚、スプレーノズル６
によるトップスプレーと、スプレーノズル７によるタン
ジェンシャルスプレーは、必要に応じて択一的に使い分
ける。
【００１５】図２は、ディスクロータ３の周辺部、及び
その下方部分の詳細構成を示している。処理室１ａの底
部にディスクロータ３が回転自在に配設され、その下面
側に給気室５が設けられる。給気室５には、給気ダクト
４を介して流動化気体が供給される。処理室１ａと給気
室５との間は気体分散板８によって仕切られており、こ
の実施形態では、気体分散板８として金網を用いてい
る。この金網の網目は、処理室１ａ内の粉粒体が下方に
落下しない程度の大きさである。尚、金網に代えて多孔
板（パンチングメタル）等を用いても良い。
その下方部分の詳細構成を示している。処理室１ａの底
部にディスクロータ３が回転自在に配設され、その下面
側に給気室５が設けられる。給気室５には、給気ダクト
４を介して流動化気体が供給される。処理室１ａと給気
室５との間は気体分散板８によって仕切られており、こ
の実施形態では、気体分散板８として金網を用いてい
る。この金網の網目は、処理室１ａ内の粉粒体が下方に
落下しない程度の大きさである。尚、金網に代えて多孔
板（パンチングメタル）等を用いても良い。
【００１６】ディスクロータ３は、上面にコーン部３ａ
と複数のブレード３ｂとを備え、下面に複数のフィン
（凸状羽根）３ｃを備えている。また、ディスクロータ
３の外周と処理室１ａの側壁面との間には、環状隙間Ｓ
が設けられている。給気室５に供給された流動化気体は
気体分散板８によって分散された後、環状隙間Ｓを通っ
て処理室１ａ内に導入される。
と複数のブレード３ｂとを備え、下面に複数のフィン
（凸状羽根）３ｃを備えている。また、ディスクロータ
３の外周と処理室１ａの側壁面との間には、環状隙間Ｓ
が設けられている。給気室５に供給された流動化気体は
気体分散板８によって分散された後、環状隙間Ｓを通っ
て処理室１ａ内に導入される。
【００１７】ディスクロータ３は回転駆動軸９の上端部
に連結され、その回転駆動軸９は気体分散板８及び給気
室５を貫通して下方に延びている。回転駆動軸９の中央
部分はハウジング１０に軸受１１、１２で回転自在に支
持され、そのハウジング１０は給気室５の下端壁に固定
される。ハウジング１０の内部は、上下端部に装着され
たシール部材１３、１４、さらには上端部のエアーシー
ル部１５に供給される圧縮エアーによってシールされ
る。また、回転駆動軸９の下端部には、例えばプーリ１
６が連結される。さらに、この実施形態では、回転駆動
軸９に攪拌翼１７を設けている。攪拌翼１７は給気室５
内の上方部に位置し、同図に示す例では、気体分散板８
の下面と若干の隙間を介して対向している。図３に示す
ように、この実施形態において、攪拌翼１７は１８０度
対向位置に配列された２つの翼部１７ａを有し、各翼部
１７ａはそれぞれ角度θの傾斜をもっている。この攪拌
翼１７は、回転駆動軸９にキー結合され、止めねじ等で
固定される。尚、攪拌翼１７の構造、回転駆動軸９に対
する結合構造は図３に例示するものに限定されない。例
えば、攪拌翼１７の翼部１７ａは、１つ又は３つ以上設
けても良い。また、攪拌翼１７は回転駆動軸９に溶接等
の適宜の手段で固着しても良いし、回転駆動軸９と一体
形成しても良い。さらに、その他の種々の改変が可能で
ある。回転駆動軸９には、図示されていない回転駆動源
（電動モータ等）からベルト及びプーリ１６を介して回
転動力が入力され、これにより、回転駆動軸９、攪拌翼
１７、及びディスクロータ３が一体に回転する。
に連結され、その回転駆動軸９は気体分散板８及び給気
室５を貫通して下方に延びている。回転駆動軸９の中央
部分はハウジング１０に軸受１１、１２で回転自在に支
持され、そのハウジング１０は給気室５の下端壁に固定
される。ハウジング１０の内部は、上下端部に装着され
たシール部材１３、１４、さらには上端部のエアーシー
ル部１５に供給される圧縮エアーによってシールされ
る。また、回転駆動軸９の下端部には、例えばプーリ１
６が連結される。さらに、この実施形態では、回転駆動
軸９に攪拌翼１７を設けている。攪拌翼１７は給気室５
内の上方部に位置し、同図に示す例では、気体分散板８
の下面と若干の隙間を介して対向している。図３に示す
ように、この実施形態において、攪拌翼１７は１８０度
対向位置に配列された２つの翼部１７ａを有し、各翼部
１７ａはそれぞれ角度θの傾斜をもっている。この攪拌
翼１７は、回転駆動軸９にキー結合され、止めねじ等で
固定される。尚、攪拌翼１７の構造、回転駆動軸９に対
する結合構造は図３に例示するものに限定されない。例
えば、攪拌翼１７の翼部１７ａは、１つ又は３つ以上設
けても良い。また、攪拌翼１７は回転駆動軸９に溶接等
の適宜の手段で固着しても良いし、回転駆動軸９と一体
形成しても良い。さらに、その他の種々の改変が可能で
ある。回転駆動軸９には、図示されていない回転駆動源
（電動モータ等）からベルト及びプーリ１６を介して回
転動力が入力され、これにより、回転駆動軸９、攪拌翼
１７、及びディスクロータ３が一体に回転する。
【００１８】図４〜図７は、上記の転動流動装置を洗浄
液Ｗにより洗浄する際の状態を模式的に示している。
尚、処理容器１には、スプレーノズル６（トップスプレ
ーノズル）の接続口６ａ、スプレーノズル７（タンジェ
ンシャルスプレーノズル）の接続口７ａ、及び製品排出
口２０が設けられている。
液Ｗにより洗浄する際の状態を模式的に示している。
尚、処理容器１には、スプレーノズル６（トップスプレ
ーノズル）の接続口６ａ、スプレーノズル７（タンジェ
ンシャルスプレーノズル）の接続口７ａ、及び製品排出
口２０が設けられている。
【００１９】図４に示す洗浄方法では、処理容器１の接
続口７ａ（タンジェンシャルスプレーノズル７の接続
口）と、給気ダクト４に設けた接続口４ａに流体循環路
２１を接続して、処理室１ａと給気室５とを外部の流体
循環路２１を介して連通させている。流体循環路２１
は、例えば配管ホース等の配管部材である。給気ダクト
４の接続口４ａよりも上流側、及び製品排出口２０は水
密に閉じている。この状態で、処理室１ａと給気室５に
洗浄液Ｗを充填する。洗浄液Ｗの充填水位は接続口７ａ
よりも上方である。接続口６ａを閉じて、その上方まで
洗浄液Ｗを充填しても良い。洗浄液Ｗを充填した後、回
転駆動軸９を回転駆動し、ディスクロータ３及び攪拌翼
１７を洗浄液Ｗ中で回転させる。これにより、処理室１
ａ及び給気室５内の洗浄液Ｗが攪拌される。
続口７ａ（タンジェンシャルスプレーノズル７の接続
口）と、給気ダクト４に設けた接続口４ａに流体循環路
２１を接続して、処理室１ａと給気室５とを外部の流体
循環路２１を介して連通させている。流体循環路２１
は、例えば配管ホース等の配管部材である。給気ダクト
４の接続口４ａよりも上流側、及び製品排出口２０は水
密に閉じている。この状態で、処理室１ａと給気室５に
洗浄液Ｗを充填する。洗浄液Ｗの充填水位は接続口７ａ
よりも上方である。接続口６ａを閉じて、その上方まで
洗浄液Ｗを充填しても良い。洗浄液Ｗを充填した後、回
転駆動軸９を回転駆動し、ディスクロータ３及び攪拌翼
１７を洗浄液Ｗ中で回転させる。これにより、処理室１
ａ及び給気室５内の洗浄液Ｗが攪拌される。
【００２０】すなわち、ディスクロータ３が回転するこ
とにより、処理室１ａ内の洗浄液Ｗに回転方向の流れ
（回転流）と、コーン部３ａの円錐テーパ面に沿って循
環する渦流とが生じる。また、フィン３ｃの存在によ
り、ディスクロータ３と気体分散板８との間の洗浄液Ｗ
に回転流が生じ、遠心力が加わり、この結果、洗浄液Ｗ
がディスクロータ３の下面側から環状隙間Ｓを通り、処
理室１ａの内側面に沿って上昇する上昇流も生じる。そ
して、これらの洗浄液Ｗの流れによって、処理室１ａの
内壁面、ディスクロータ３の表面、環状隙間Ｓ、気体分
散板８が効果的に洗浄される。
とにより、処理室１ａ内の洗浄液Ｗに回転方向の流れ
（回転流）と、コーン部３ａの円錐テーパ面に沿って循
環する渦流とが生じる。また、フィン３ｃの存在によ
り、ディスクロータ３と気体分散板８との間の洗浄液Ｗ
に回転流が生じ、遠心力が加わり、この結果、洗浄液Ｗ
がディスクロータ３の下面側から環状隙間Ｓを通り、処
理室１ａの内側面に沿って上昇する上昇流も生じる。そ
して、これらの洗浄液Ｗの流れによって、処理室１ａの
内壁面、ディスクロータ３の表面、環状隙間Ｓ、気体分
散板８が効果的に洗浄される。
【００２１】また、上記のような洗浄液Ｗの流れに起因
して、処理室１ａの内側壁付近における洗浄液Ｗの圧力
が高められ、給気室５内の洗浄液Ｗとの間に圧力差が生
じる。この圧力差により、処理室１ａ内の洗浄液Ｗが流
体循環路２１を通って給気ダクト４内に流入して、処理
室１ａ→流体循環路２１→給気室５→気体分散板８→処
理室１ａという経路で循環する循環流が生じる。そし
て、この洗浄液Ｗの循環流によって、上記部位の洗浄効
果が高められると共に、給気室５内の洗浄も促進され
る。特に、循環流が気体分散板８を通過する際に、従来
の溜め洗い洗浄では汚れが落ち難かった気体分散板８の
下面や網目も十分に洗浄される。
して、処理室１ａの内側壁付近における洗浄液Ｗの圧力
が高められ、給気室５内の洗浄液Ｗとの間に圧力差が生
じる。この圧力差により、処理室１ａ内の洗浄液Ｗが流
体循環路２１を通って給気ダクト４内に流入して、処理
室１ａ→流体循環路２１→給気室５→気体分散板８→処
理室１ａという経路で循環する循環流が生じる。そし
て、この洗浄液Ｗの循環流によって、上記部位の洗浄効
果が高められると共に、給気室５内の洗浄も促進され
る。特に、循環流が気体分散板８を通過する際に、従来
の溜め洗い洗浄では汚れが落ち難かった気体分散板８の
下面や網目も十分に洗浄される。
【００２２】さらに、この実施形態では、給気室５内の
洗浄液Ｗを攪拌翼１７で攪拌する構成としているので、
従来の溜め洗い洗浄では洗浄が困難であった給気室５の
内部も十分に洗浄することが可能である。すなわち、攪
拌翼１７の回転により、給気室５内の洗浄液Ｗに回転流
と、給気室５内を上昇する上昇流が生じる。そして、こ
れらの洗浄液Ｗの流れによって、給気室５の内壁面、攪
拌翼１７の表面、回転駆動軸９やその回転支持部等が十
分に洗浄される。さらに、気体分散板８の洗浄効果もよ
り一層高められる。尚、エアーシール部１５から排出さ
れる圧縮エアーの気泡も洗浄効果の向上に有効である。
さらに、給気室５の内部に振動発生装置、例えば超音波
発振機を配設し、洗浄液Ｗに超音波振動を与えることに
より、洗浄効果の一層の向上を図ることもできる。
洗浄液Ｗを攪拌翼１７で攪拌する構成としているので、
従来の溜め洗い洗浄では洗浄が困難であった給気室５の
内部も十分に洗浄することが可能である。すなわち、攪
拌翼１７の回転により、給気室５内の洗浄液Ｗに回転流
と、給気室５内を上昇する上昇流が生じる。そして、こ
れらの洗浄液Ｗの流れによって、給気室５の内壁面、攪
拌翼１７の表面、回転駆動軸９やその回転支持部等が十
分に洗浄される。さらに、気体分散板８の洗浄効果もよ
り一層高められる。尚、エアーシール部１５から排出さ
れる圧縮エアーの気泡も洗浄効果の向上に有効である。
さらに、給気室５の内部に振動発生装置、例えば超音波
発振機を配設し、洗浄液Ｗに超音波振動を与えることに
より、洗浄効果の一層の向上を図ることもできる。
【００２３】図５に示す洗浄方法では、処理容器１の接
続口６ａ（トップスプレーノズル６の接続口）と、給気
ダクト４に設けた接続口４ａに流体循環路２１を接続し
て、処理室１ａと給気室５とを外部の流体循環路２１を
介して連通させている。給気ダクト４の接続口４ａより
も上流側、製品排出口２０、及び接続口７ａは水密に閉
じている。洗浄液Ｗの充填水位は接続口６ａよりも上方
である。図４に示す洗浄方法と同様の作用効果が得られ
る。
続口６ａ（トップスプレーノズル６の接続口）と、給気
ダクト４に設けた接続口４ａに流体循環路２１を接続し
て、処理室１ａと給気室５とを外部の流体循環路２１を
介して連通させている。給気ダクト４の接続口４ａより
も上流側、製品排出口２０、及び接続口７ａは水密に閉
じている。洗浄液Ｗの充填水位は接続口６ａよりも上方
である。図４に示す洗浄方法と同様の作用効果が得られ
る。
【００２４】図６に示す洗浄方法では、処理容器１の製
品排出口２０と、給気ダクト４に設けた接続口４ｂに流
体循環路２１を接続して、処理室１ａと給気室５とを外
部の流体循環路２１を介して連通させている。給気ダク
ト４の接続口４ｂよりも上流側、及び接続口７ａは水密
に閉じている。洗浄液Ｗの充填水位は接続口７ａよりも
上方である。接続口６ａを閉じて、その上方まで洗浄液
Ｗを充填しても良い。図４に示す洗浄方法と同様の作用
効果が得られる他、製品排出口２０も同時に洗浄できる
という利点がある。
品排出口２０と、給気ダクト４に設けた接続口４ｂに流
体循環路２１を接続して、処理室１ａと給気室５とを外
部の流体循環路２１を介して連通させている。給気ダク
ト４の接続口４ｂよりも上流側、及び接続口７ａは水密
に閉じている。洗浄液Ｗの充填水位は接続口７ａよりも
上方である。接続口６ａを閉じて、その上方まで洗浄液
Ｗを充填しても良い。図４に示す洗浄方法と同様の作用
効果が得られる他、製品排出口２０も同時に洗浄できる
という利点がある。
【００２５】図７に示す洗浄方法は、図６に示す構成に
加え、給気ダクト４の接続口４ａに洗浄液タンク３０を
接続して、洗浄タンク３０から洗浄液Ｗを連続的又は断
続的に追加供給するようにしたものである。洗浄タンク
３０からの追加供給に見合う量の洗浄液Ｗは、接続口７
ａからオーバーフローして外部に排出され、あるいは、
フィルター等を介して洗浄タンク３０に戻される。洗浄
によって汚れた洗浄液Ｗが、洗浄タンク３０から追加供
給される清浄な洗浄液Ｗに置換されるので、洗浄液Ｗの
洗浄能力を維持して、洗浄効果を高めることができる。
特に、洗浄液Ｗの汚れの大半が洗浄の初期段階で発生す
ることに鑑み、洗浄液Ｗの追加供給を洗浄の初期段階で
行うことが好ましい。
加え、給気ダクト４の接続口４ａに洗浄液タンク３０を
接続して、洗浄タンク３０から洗浄液Ｗを連続的又は断
続的に追加供給するようにしたものである。洗浄タンク
３０からの追加供給に見合う量の洗浄液Ｗは、接続口７
ａからオーバーフローして外部に排出され、あるいは、
フィルター等を介して洗浄タンク３０に戻される。洗浄
によって汚れた洗浄液Ｗが、洗浄タンク３０から追加供
給される清浄な洗浄液Ｗに置換されるので、洗浄液Ｗの
洗浄能力を維持して、洗浄効果を高めることができる。
特に、洗浄液Ｗの汚れの大半が洗浄の初期段階で発生す
ることに鑑み、洗浄液Ｗの追加供給を洗浄の初期段階で
行うことが好ましい。
【００２６】尚、洗浄液Ｗによる洗浄が完了した後、洗
浄液Ｗに代えて仕上げ用洗浄水を用いて、以上説明した
方法と同様にしてすすぎ洗いを行うと良い。
浄液Ｗに代えて仕上げ用洗浄水を用いて、以上説明した
方法と同様にしてすすぎ洗いを行うと良い。
【００２７】
【発明の効果】本発明によれば、処理室の内部は勿論、
従来方法では困難であった給気室の内部や気体分散板等
の洗浄も十分に行うことができ、異物混入や他製品との
コンタミネーションを防止できるので、サニタリ性が向
上し、バリデーションの向上を図ることができる。
従来方法では困難であった給気室の内部や気体分散板等
の洗浄も十分に行うことができ、異物混入や他製品との
コンタミネーションを防止できるので、サニタリ性が向
上し、バリデーションの向上を図ることができる。
【図１】実施形態に係る転動流動装置の全体構成を概念
的に示す図である。
的に示す図である。
【図２】ディスクロータ３の周辺部、及びその下方部分
の詳細構成を示す拡大断面図である。
の詳細構成を示す拡大断面図である。
【図３】攪拌翼の平面図（図ａ）、正面図（図ｂ）、側
面図（図ｃ）である。
面図（図ｃ）である。
【図４】実施形態に係る洗浄方法を概念的に示す図であ
る。
る。
【図５】実施形態に係る洗浄方法を概念的に示す図であ
る。
る。
【図６】実施形態に係る洗浄方法を概念的に示す図であ
る。
る。
【図７】実施形態に係る洗浄方法を概念的に示す図であ
る。
る。
１ 処理容器 １ａ 処理室 ３ ディスクロータ ４ 給気ダクト ５ 給気室 ９ 回転駆動軸 ８ 気体分散板 １７ 攪拌翼
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０８Ｂ 9/093 Ｂ０８Ｂ 9/06 (72)発明者 永妻 健二 埼玉県北葛飾郡杉戸3000−79 Ｆターム(参考） 3B116 AA47 AB53 BB03 BB22 BB87 CC01 3B201 AA47 AB53 BB03 BB22 BB87 BB92 CB11 CC01 4G004 BA00 JA01
Claims (7)
- 【請求項１】 粉粒体が処理される処理室を有する処理
容器と、前記処理室の底部に回転自在に設けられたディ
スクロータと、前記ディスクロータの下面側に設けられ
た給気室とを備え、前記処理室に供給された粉粒体を、
前記ディスクロータにより転動させると共に、前記給気
室から前記処理室内に供給される気体により流動させな
がら処理する粉粒体処理装置の洗浄方法において、 前記処理室と前記給気室とを外部の流体循環路を介して
連通させ、前記処理室と前記給気室に洗浄液を充填し、
その状態で前記ディスクロータを回転させることによ
り、前記洗浄液を攪拌すると共に、前記処理室内の前記
洗浄液と前記給気室内の前記洗浄液との間に生じる圧力
差を利用して、前記洗浄液を前記処理室から前記流体循
環路を介して前記給気室に循環させて洗浄を行うことを
特徴とする粉粒体処理装置の洗浄方法。 - 【請求項２】 前記ディスクロータの回転駆動軸に、前
記給気室内の前記洗浄液を攪拌する攪拌翼を設けたこと
を特徴とする請求項１記載の粉粒体処理装置の洗浄方
法。 - 【請求項３】 清浄な洗浄液を追加供給すると共に、そ
の追加供給に見合う量の前記洗浄液を排出することを特
徴とする請求項１又は２記載の粉粒体処理装置の洗浄方
法。 - 【請求項４】 前記洗浄液による洗浄の後、前記洗浄液
に代えて仕上げ用洗浄水を用いてすすぎ洗いを行うこと
を特徴とする請求項１から３の何れかに記載の粉粒体処
理装置の洗浄方法。 - 【請求項５】 粉粒体が処理される処理室を有する処理
容器と、前記処理室の底部に回転自在に設けられたディ
スクロータと、前記ディスクロータの下面側に設けられ
た給気室とを備え、前記処理室に供給された粉粒体を、
前記ディスクロータにより転動させると共に、前記給気
室から前記処理室内に供給される気体により流動させな
がら処理する粉粒体処理装置において、 前記ディスクロータの回転駆動軸に、前記給気室内に位
置する攪拌翼を設けたことを特徴とする粉粒体処理装
置。 - 【請求項６】 前記処理容器と、前記給気室又はこれに
連通する給気ダクトとに、外部の流体循環路を接続する
ための接続部を有することを特徴とする請求項５記載の
粉粒体処理装置。 - 【請求項７】 前記処理室と前記給気室とが気体分散板
によって仕切られていることを特徴とする請求項５又は
６記載の粉粒体処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000124458A JP4309556B2 (ja) | 2000-04-25 | 2000-04-25 | 粉粒体処理装置及びその洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000124458A JP4309556B2 (ja) | 2000-04-25 | 2000-04-25 | 粉粒体処理装置及びその洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001300447A true JP2001300447A (ja) | 2001-10-30 |
| JP4309556B2 JP4309556B2 (ja) | 2009-08-05 |
Family
ID=18634590
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000124458A Expired - Lifetime JP4309556B2 (ja) | 2000-04-25 | 2000-04-25 | 粉粒体処理装置及びその洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4309556B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007301486A (ja) * | 2006-05-11 | 2007-11-22 | Pauretsuku:Kk | 流動層装置 |
| JP2007307447A (ja) * | 2006-05-16 | 2007-11-29 | Pauretsuku:Kk | 攪拌処理装置 |
| JP2007307448A (ja) * | 2006-05-16 | 2007-11-29 | Pauretsuku:Kk | 流動層装置 |
| CN106735114A (zh) * | 2015-11-24 | 2017-05-31 | 西安航空动力控制科技有限公司 | 一种铸件内腔污染物的清理方法 |
| JP2020081984A (ja) * | 2018-11-27 | 2020-06-04 | 株式会社明治 | 粉粒体処理装置用ロータ、及び粉粒体処理装置 |
-
2000
- 2000-04-25 JP JP2000124458A patent/JP4309556B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007301486A (ja) * | 2006-05-11 | 2007-11-22 | Pauretsuku:Kk | 流動層装置 |
| JP4652275B2 (ja) * | 2006-05-11 | 2011-03-16 | 株式会社パウレック | 流動層装置 |
| JP2007307447A (ja) * | 2006-05-16 | 2007-11-29 | Pauretsuku:Kk | 攪拌処理装置 |
| JP2007307448A (ja) * | 2006-05-16 | 2007-11-29 | Pauretsuku:Kk | 流動層装置 |
| CN106735114A (zh) * | 2015-11-24 | 2017-05-31 | 西安航空动力控制科技有限公司 | 一种铸件内腔污染物的清理方法 |
| JP2020081984A (ja) * | 2018-11-27 | 2020-06-04 | 株式会社明治 | 粉粒体処理装置用ロータ、及び粉粒体処理装置 |
| JP7224155B2 (ja) | 2018-11-27 | 2023-02-17 | 株式会社明治 | 粉粒体処理装置用ロータ、及び粉粒体処理装置 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4309556B2 (ja) | 2009-08-05 |
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