JP2001300447A - 粉粒体処理装置及びその洗浄方法 - Google Patents
粉粒体処理装置及びその洗浄方法Info
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Abstract
ャルスプレーノズル7の接続口)と、給気ダクト4に設
けた接続口4aに流体循環路21を接続して、処理室1
aと給気室5とを外部の流体循環路21を介して連通さ
せている。また、ディスクロータ3の回転駆動軸9に攪
拌翼17を設けている。処理室1aと給気室5に洗浄液
Wを充填した後、回転駆動軸9を回転駆動し、ディスク
ロータ3及び攪拌翼17を洗浄液W中で回転させる。
Description
洗浄技術に関し、特に、粉粒体転動用のディスクロータ
を備えた転動流動層装置の自動洗浄技術に関する。
粉粒体処理装置では、異物混入や他製品とのコンタミネ
ーション等を防止するために、処理容器や配管系などの
洗浄を綿密に行うことが求められる。この洗浄作業は、
以前は人手による分解洗浄が主流であったが、作業時間
が非常に多くかかり効率的でないことから、現在では装
置を分解することなく、所定のプログラムに従って洗浄
液を装置内部に供給して洗浄を行う自動洗浄が主流にな
っている。例えば、流動層装置では、処理容器の内部に
洗浄用ノズルを配設し、洗浄時に、この洗浄用ノズルか
ら高圧の洗浄液を噴射して処理容器内を洗浄するのが一
般的である。一方、転動流動層装置の場合は、流動層装
置と比較して、ディスクロータ及びその周辺部、ディス
クロータの回転駆動部など、複雑な形状・構造をもった
構成部分が存在するため、洗浄用ノズルからの噴射液圧
だけでは十分な洗浄が困難であるか、あるいは、多数の
洗浄用ノズルを配設する必要が生じて装置構造の複雑化
を招くという問題がある。そのため、転動流動層装置に
おいては、いわゆる溜め洗いと呼ばれる洗浄方法が採ら
れることがある(例えば特開平11−47704号
等)。この洗浄方法は、一般に、処理容器の処理室と、
ディスクロータの下面側に設けられた給気室とに洗浄液
を充填すると共に、ディスクロータを洗浄液中で回転さ
せて洗浄を行うものである。ディスクロータの回転に伴
い、充填された洗浄液に攪拌流が生じ、これが処理室の
内壁面等の表面と接触することにより、洗浄がなされ
る。
い洗浄では、処理室の内部は比較的良好に洗浄できるも
のの、給気室の内部や、処理室と給気室との間に配設さ
れる気体分散板等の洗浄が不十分になる場合があった。
て、処理室のみならず、給気室の内部や気体分散板等も
十分に洗浄できる構成を提供しようとするものである。
め、本発明は、粉粒体が処理される処理室を有する処理
容器と、処理室の底部に回転自在に設けられたディスク
ロータと、ディスクロータの下面側に設けられた給気室
とを備え、処理室に供給された粉粒体を、ディスクロー
タにより転動させると共に、給気室から処理室内に供給
される気体により流動させながら処理する粉粒体処理装
置の洗浄方法において、処理室と給気室とを外部の流体
循環路を介して連通させ、処理室と給気室に洗浄液を充
填し、その状態でディスクロータを回転させることによ
り、洗浄液を攪拌すると共に、処理室の洗浄液と給気室
内の洗浄液との間に生じる圧力差を利用して、洗浄液を
処理室から流体循環路を介して給気室に循環させて洗浄
を行う洗浄方法を提供する。
駆動軸に、給気室内の洗浄液を攪拌する攪拌翼を設ける
ことができる。
に、その追加供給に見合う量の洗浄液を排出する構成と
することができる。
代えて仕上げ用洗浄水を用いてすすぎ洗いを行うことが
できる。
室を有する処理容器と、処理室の底部に回転自在に設け
られたディスクロータと、ディスクロータの下面側に設
けられた給気室とを備え、処理室に供給された粉粒体
を、ディスクロータにより転動させると共に、給気室か
ら処理室内に供給される気体により流動させながら処理
する粉粒体処理装置において、ディスクロータの回転駆
動軸に、給気室内に位置する攪拌翼を設けた粉粒体処理
装置を提供する。
はこれに連通する給気ダクトとに、外部の流体循環路を
接続するための接続部を有する構成とすることができ
る。
って仕切られている構成とすることができる。
従って説明する。
動流動造粒コーティング装置)の全体構成を概念的に示
している。
ルター2が設置され(ツインシェイキングフィルターシ
ステムが例示されている。)、処理室1aの底部にディ
スクロータ3が回転自在に配設されている。ディスクロ
ータ3の上面には、円錐形のコーン部3aと複数のブレ
ード(凸状羽根)3bが設けられる(図2参照)。流動
化気体は、図示されていない流動化気体供給部から所定
の温度・風量等で供給され、給気ダクト4からディスク
ロータ3の下方の給気室5に導かれた後、ディスクロー
タ3の外周部と処理室1aの側壁面との間の環状隙間S
(図2参照)から処理室1a内に導入される。ディスク
ロータ3上の粉粒体は、コーン部3aとブレード3bに
よる転動圧密作用を強く受け、外周部に転動してきた時
に流動化気体に乗って処理室1aの中央上部に吹き上げ
られ、コーン部3aの円錐テーパ面に沿って流動循環す
る。また、処理室1aには、スプレー液をミスト状にし
てスプレーするためのスプレーノズル6、7が設置され
る。これらスプレーノズル6、7には、図示されていな
いスプレー液供給部からスプレー液が所定の流量・液温
等で供給され、また、スプレーエアー供給部からスプレ
ーエアーが所定の圧力・風量等で供給される。スプレー
ノズル6は、処理室1aの上方部に設置され、処理室1
a内で流動状態にある粉粒体に向けてスプレー液を上方
からスプレーする(トップスプレー)。スプレーノズル
7は、処理室1aの下方部に設置され、処理室1a内で
流動状態にある粉粒体に向けてスプレー液を接線方向か
らスプレーする(タンジェンシャルスプレー)。スプレ
ーノズル6又は7からスプレーされるスプレー液ミスト
によって、処理容器1a内の粉粒体が湿潤を受けて凝集
し、あるいは、粒子表面にスプレー液ミストの基剤成分
が付着して被覆層が形成される。尚、スプレーノズル6
によるトップスプレーと、スプレーノズル7によるタン
ジェンシャルスプレーは、必要に応じて択一的に使い分
ける。
その下方部分の詳細構成を示している。処理室1aの底
部にディスクロータ3が回転自在に配設され、その下面
側に給気室5が設けられる。給気室5には、給気ダクト
4を介して流動化気体が供給される。処理室1aと給気
室5との間は気体分散板8によって仕切られており、こ
の実施形態では、気体分散板8として金網を用いてい
る。この金網の網目は、処理室1a内の粉粒体が下方に
落下しない程度の大きさである。尚、金網に代えて多孔
板(パンチングメタル)等を用いても良い。
と複数のブレード3bとを備え、下面に複数のフィン
(凸状羽根)3cを備えている。また、ディスクロータ
3の外周と処理室1aの側壁面との間には、環状隙間S
が設けられている。給気室5に供給された流動化気体は
気体分散板8によって分散された後、環状隙間Sを通っ
て処理室1a内に導入される。
に連結され、その回転駆動軸9は気体分散板8及び給気
室5を貫通して下方に延びている。回転駆動軸9の中央
部分はハウジング10に軸受11、12で回転自在に支
持され、そのハウジング10は給気室5の下端壁に固定
される。ハウジング10の内部は、上下端部に装着され
たシール部材13、14、さらには上端部のエアーシー
ル部15に供給される圧縮エアーによってシールされ
る。また、回転駆動軸9の下端部には、例えばプーリ1
6が連結される。さらに、この実施形態では、回転駆動
軸9に攪拌翼17を設けている。攪拌翼17は給気室5
内の上方部に位置し、同図に示す例では、気体分散板8
の下面と若干の隙間を介して対向している。図3に示す
ように、この実施形態において、攪拌翼17は180度
対向位置に配列された2つの翼部17aを有し、各翼部
17aはそれぞれ角度θの傾斜をもっている。この攪拌
翼17は、回転駆動軸9にキー結合され、止めねじ等で
固定される。尚、攪拌翼17の構造、回転駆動軸9に対
する結合構造は図3に例示するものに限定されない。例
えば、攪拌翼17の翼部17aは、1つ又は3つ以上設
けても良い。また、攪拌翼17は回転駆動軸9に溶接等
の適宜の手段で固着しても良いし、回転駆動軸9と一体
形成しても良い。さらに、その他の種々の改変が可能で
ある。回転駆動軸9には、図示されていない回転駆動源
(電動モータ等)からベルト及びプーリ16を介して回
転動力が入力され、これにより、回転駆動軸9、攪拌翼
17、及びディスクロータ3が一体に回転する。
液Wにより洗浄する際の状態を模式的に示している。
尚、処理容器1には、スプレーノズル6(トップスプレ
ーノズル)の接続口6a、スプレーノズル7(タンジェ
ンシャルスプレーノズル)の接続口7a、及び製品排出
口20が設けられている。
続口7a(タンジェンシャルスプレーノズル7の接続
口)と、給気ダクト4に設けた接続口4aに流体循環路
21を接続して、処理室1aと給気室5とを外部の流体
循環路21を介して連通させている。流体循環路21
は、例えば配管ホース等の配管部材である。給気ダクト
4の接続口4aよりも上流側、及び製品排出口20は水
密に閉じている。この状態で、処理室1aと給気室5に
洗浄液Wを充填する。洗浄液Wの充填水位は接続口7a
よりも上方である。接続口6aを閉じて、その上方まで
洗浄液Wを充填しても良い。洗浄液Wを充填した後、回
転駆動軸9を回転駆動し、ディスクロータ3及び攪拌翼
17を洗浄液W中で回転させる。これにより、処理室1
a及び給気室5内の洗浄液Wが攪拌される。
とにより、処理室1a内の洗浄液Wに回転方向の流れ
(回転流)と、コーン部3aの円錐テーパ面に沿って循
環する渦流とが生じる。また、フィン3cの存在によ
り、ディスクロータ3と気体分散板8との間の洗浄液W
に回転流が生じ、遠心力が加わり、この結果、洗浄液W
がディスクロータ3の下面側から環状隙間Sを通り、処
理室1aの内側面に沿って上昇する上昇流も生じる。そ
して、これらの洗浄液Wの流れによって、処理室1aの
内壁面、ディスクロータ3の表面、環状隙間S、気体分
散板8が効果的に洗浄される。
して、処理室1aの内側壁付近における洗浄液Wの圧力
が高められ、給気室5内の洗浄液Wとの間に圧力差が生
じる。この圧力差により、処理室1a内の洗浄液Wが流
体循環路21を通って給気ダクト4内に流入して、処理
室1a→流体循環路21→給気室5→気体分散板8→処
理室1aという経路で循環する循環流が生じる。そし
て、この洗浄液Wの循環流によって、上記部位の洗浄効
果が高められると共に、給気室5内の洗浄も促進され
る。特に、循環流が気体分散板8を通過する際に、従来
の溜め洗い洗浄では汚れが落ち難かった気体分散板8の
下面や網目も十分に洗浄される。
洗浄液Wを攪拌翼17で攪拌する構成としているので、
従来の溜め洗い洗浄では洗浄が困難であった給気室5の
内部も十分に洗浄することが可能である。すなわち、攪
拌翼17の回転により、給気室5内の洗浄液Wに回転流
と、給気室5内を上昇する上昇流が生じる。そして、こ
れらの洗浄液Wの流れによって、給気室5の内壁面、攪
拌翼17の表面、回転駆動軸9やその回転支持部等が十
分に洗浄される。さらに、気体分散板8の洗浄効果もよ
り一層高められる。尚、エアーシール部15から排出さ
れる圧縮エアーの気泡も洗浄効果の向上に有効である。
さらに、給気室5の内部に振動発生装置、例えば超音波
発振機を配設し、洗浄液Wに超音波振動を与えることに
より、洗浄効果の一層の向上を図ることもできる。
続口6a(トップスプレーノズル6の接続口)と、給気
ダクト4に設けた接続口4aに流体循環路21を接続し
て、処理室1aと給気室5とを外部の流体循環路21を
介して連通させている。給気ダクト4の接続口4aより
も上流側、製品排出口20、及び接続口7aは水密に閉
じている。洗浄液Wの充填水位は接続口6aよりも上方
である。図4に示す洗浄方法と同様の作用効果が得られ
る。
品排出口20と、給気ダクト4に設けた接続口4bに流
体循環路21を接続して、処理室1aと給気室5とを外
部の流体循環路21を介して連通させている。給気ダク
ト4の接続口4bよりも上流側、及び接続口7aは水密
に閉じている。洗浄液Wの充填水位は接続口7aよりも
上方である。接続口6aを閉じて、その上方まで洗浄液
Wを充填しても良い。図4に示す洗浄方法と同様の作用
効果が得られる他、製品排出口20も同時に洗浄できる
という利点がある。
加え、給気ダクト4の接続口4aに洗浄液タンク30を
接続して、洗浄タンク30から洗浄液Wを連続的又は断
続的に追加供給するようにしたものである。洗浄タンク
30からの追加供給に見合う量の洗浄液Wは、接続口7
aからオーバーフローして外部に排出され、あるいは、
フィルター等を介して洗浄タンク30に戻される。洗浄
によって汚れた洗浄液Wが、洗浄タンク30から追加供
給される清浄な洗浄液Wに置換されるので、洗浄液Wの
洗浄能力を維持して、洗浄効果を高めることができる。
特に、洗浄液Wの汚れの大半が洗浄の初期段階で発生す
ることに鑑み、洗浄液Wの追加供給を洗浄の初期段階で
行うことが好ましい。
浄液Wに代えて仕上げ用洗浄水を用いて、以上説明した
方法と同様にしてすすぎ洗いを行うと良い。
従来方法では困難であった給気室の内部や気体分散板等
の洗浄も十分に行うことができ、異物混入や他製品との
コンタミネーションを防止できるので、サニタリ性が向
上し、バリデーションの向上を図ることができる。
的に示す図である。
の詳細構成を示す拡大断面図である。
面図(図c)である。
る。
る。
る。
る。
Claims (7)
- 【請求項1】 粉粒体が処理される処理室を有する処理
容器と、前記処理室の底部に回転自在に設けられたディ
スクロータと、前記ディスクロータの下面側に設けられ
た給気室とを備え、前記処理室に供給された粉粒体を、
前記ディスクロータにより転動させると共に、前記給気
室から前記処理室内に供給される気体により流動させな
がら処理する粉粒体処理装置の洗浄方法において、 前記処理室と前記給気室とを外部の流体循環路を介して
連通させ、前記処理室と前記給気室に洗浄液を充填し、
その状態で前記ディスクロータを回転させることによ
り、前記洗浄液を攪拌すると共に、前記処理室内の前記
洗浄液と前記給気室内の前記洗浄液との間に生じる圧力
差を利用して、前記洗浄液を前記処理室から前記流体循
環路を介して前記給気室に循環させて洗浄を行うことを
特徴とする粉粒体処理装置の洗浄方法。 - 【請求項2】 前記ディスクロータの回転駆動軸に、前
記給気室内の前記洗浄液を攪拌する攪拌翼を設けたこと
を特徴とする請求項1記載の粉粒体処理装置の洗浄方
法。 - 【請求項3】 清浄な洗浄液を追加供給すると共に、そ
の追加供給に見合う量の前記洗浄液を排出することを特
徴とする請求項1又は2記載の粉粒体処理装置の洗浄方
法。 - 【請求項4】 前記洗浄液による洗浄の後、前記洗浄液
に代えて仕上げ用洗浄水を用いてすすぎ洗いを行うこと
を特徴とする請求項1から3の何れかに記載の粉粒体処
理装置の洗浄方法。 - 【請求項5】 粉粒体が処理される処理室を有する処理
容器と、前記処理室の底部に回転自在に設けられたディ
スクロータと、前記ディスクロータの下面側に設けられ
た給気室とを備え、前記処理室に供給された粉粒体を、
前記ディスクロータにより転動させると共に、前記給気
室から前記処理室内に供給される気体により流動させな
がら処理する粉粒体処理装置において、 前記ディスクロータの回転駆動軸に、前記給気室内に位
置する攪拌翼を設けたことを特徴とする粉粒体処理装
置。 - 【請求項6】 前記処理容器と、前記給気室又はこれに
連通する給気ダクトとに、外部の流体循環路を接続する
ための接続部を有することを特徴とする請求項5記載の
粉粒体処理装置。 - 【請求項7】 前記処理室と前記給気室とが気体分散板
によって仕切られていることを特徴とする請求項5又は
6記載の粉粒体処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000124458A JP4309556B2 (ja) | 2000-04-25 | 2000-04-25 | 粉粒体処理装置及びその洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000124458A JP4309556B2 (ja) | 2000-04-25 | 2000-04-25 | 粉粒体処理装置及びその洗浄方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001300447A true JP2001300447A (ja) | 2001-10-30 |
JP4309556B2 JP4309556B2 (ja) | 2009-08-05 |
Family
ID=18634590
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000124458A Expired - Lifetime JP4309556B2 (ja) | 2000-04-25 | 2000-04-25 | 粉粒体処理装置及びその洗浄方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP4309556B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007301486A (ja) * | 2006-05-11 | 2007-11-22 | Pauretsuku:Kk | 流動層装置 |
JP2007307447A (ja) * | 2006-05-16 | 2007-11-29 | Pauretsuku:Kk | 攪拌処理装置 |
JP2007307448A (ja) * | 2006-05-16 | 2007-11-29 | Pauretsuku:Kk | 流動層装置 |
CN106735114A (zh) * | 2015-11-24 | 2017-05-31 | 西安航空动力控制科技有限公司 | 一种铸件内腔污染物的清理方法 |
JP2020081984A (ja) * | 2018-11-27 | 2020-06-04 | 株式会社明治 | 粉粒体処理装置用ロータ、及び粉粒体処理装置 |
-
2000
- 2000-04-25 JP JP2000124458A patent/JP4309556B2/ja not_active Expired - Lifetime
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JP4652275B2 (ja) * | 2006-05-11 | 2011-03-16 | 株式会社パウレック | 流動層装置 |
JP2007307447A (ja) * | 2006-05-16 | 2007-11-29 | Pauretsuku:Kk | 攪拌処理装置 |
JP2007307448A (ja) * | 2006-05-16 | 2007-11-29 | Pauretsuku:Kk | 流動層装置 |
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