JP2001296484A - 光スイッチ及び光スイッチの切り替え方法 - Google Patents

光スイッチ及び光スイッチの切り替え方法

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JP2001296484A
JP2001296484A JP2000110808A JP2000110808A JP2001296484A JP 2001296484 A JP2001296484 A JP 2001296484A JP 2000110808 A JP2000110808 A JP 2000110808A JP 2000110808 A JP2000110808 A JP 2000110808A JP 2001296484 A JP2001296484 A JP 2001296484A
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mirror
movable
optical
optical switch
electrode
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JP2000110808A
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English (en)
Inventor
Koichi Yamada
康一 山田
Atsushi Fujita
藤田  淳
Kazuhiko Tsutsumi
和彦 堤
Tsukasa Matsuura
司 松浦
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
  • Use Of Switch Circuits For Exchanges And Methods Of Control Of Multiplex Exchanges (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光通信網や光交換システムなどにおいて、複
数の光信号端子間の回線切り替えを行う光スイッチを従
来に比べて小さくすることを目的とする。 【解決手段】 1.光路切り替え時のミラーの動く方向
を2方向のファイバーが配置された面に垂直な方向にし
た。2.ミラーの切り替えを電磁力と静電力の組み合わ
せで行う際、個々のミラーにかかる静電力により動かさ
ないミラーを選択し、ミラー列全体にかかる電磁力によ
り動かすようにした。3.静電力を発生するための電極
を利用し、電極間の容量を検出することによりミラーの
位置状態を検出可能にした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、光通信網や光交
換システムなどにおいて、複数の光信号端子間の回線切
り替えを行う光スイッチ及び光りスイッチの切り替え方
法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年の高度情報化・マルチメディア化に
対応して、大量の情報の伝達が可能な光通信の要求が高
まっている。このような光通信ネットワークにおける信
頼性向上のための故障時における回線切換や加入者間の
回線切替のために小型・高速・高信頼性を有する光スイ
ッチが必要になってきており、活発な開発が行われてい
る。
【0003】図15は特開平5−113543号公報に
示された従来の光スイッチを表す構成図である。スイッ
チ基板60には入力光ガイド溝61と出力光ガイド溝6
2が形成され、それぞれの入力光ガイド溝61には入力
光ファイバ63、64、65がそれぞれの出力光ガイド
溝62には出力光ファイバ66,67,68がそれぞれ
レンズ69に光学的に接続された状態で装着されてい
る。入力光ガイド溝61と出力光ガイド溝62の各差点
には、可動反射装置とその可動反射装置を移動させるア
クチュエータが形成されている。ここでは、可動反射装
置として可動ミラー70が、またアクチュエータとして
その可動ミラー70をスイッチ基板60の表面に平行に
移動させるリニアアクチュエータ71及びセル回路(図
示せず)が形成されている。可動ミラー70のミラー面
は、入力光ガイド溝61を通って入射した光ビームを出
力光ガイド溝62の方向に反射させる角度に設定されて
いる。
【0004】この構成では、光ビームを直進させると
き、可動ミラー70は入出力ガイド溝61、62から外
れた位置の収納溝72に格納されているが、所定の差点
を示すアドレス信号がインターフェース回路を通して与
えられると、当該差点のリニアアクチュエータ71が駆
動され、可動ミラー70が出力光ガイド溝62の差点
(入力光ファイバ63と出力光ファイバ67の交差点)
の中に移動挿入され、光路が変更される。この従来例で
は、静電誘導形リニアアクチュエータが使用されてい
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来の光スイッチは以
上のように構成されているので、ミラーを駆動させるた
めの機構部分がミラーの大きさよりも面積を占めてお
り、入射光ファイバー数M本,出射光ファイバー数N本
の数を大きくしていくと全体の面積が大きくなるため光
ファイバーを出た光が空中を伝播する距離が長くなりビ
ームの広がりによる損失が大きくなる。また、ミラーを
支えるスイッチ基板の溝幅とミラー厚さには動かすため
のクリアランスが存在しミラーを挿入したときの姿勢に
ばらつきが発生し反射角度の誤差となるため光スイッチ
としての挿入損失特性の再現性が悪くなる。さらにこの
発明のような光スイッチは光路の切り替えの頻度が少な
く、ほとんどの時間は片側に固定されている。そのため
静電型アクチュエータを使用していると常に高電圧の印
加が必要であるなどの問題点があった。
【0006】この発明は上記従来の課題を解決するため
になされたものであって、挿入損失が小さく、かつコン
パクトな光スイッチ及び光スイッチの切り替え方法を提
供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】この発明の第1の構成に
よる光スイッチは、ミラーと光通過孔が一体で形成され
た可動部と、可動部を支持するバネと、駆動力を発生す
る電磁石と、可動部を保持する力を発生する永久磁石
と、各可動部分に設けられた透磁体と、移動したい可動
部を選択するための保持力を発生させる各可動部に設け
られた電極からなる駆動機構を有し、各入射光路および
出射光路は光ファイバーとレンズからなり、所定の入射
光路から入った光がすべての出射光路へ光路変更が可能
なようにマトリックス状に配置され、選択したミラーの
みが光路中に配置されその他の光路には光通過孔が配置
されたものである。
【0008】また、この発明の第2構成による光スイッ
チは、この発明の第1の構成において、磁性体を可動部
それぞれに形成し一対の永久磁石をM×N個のマトリッ
クス状に配置されたミラー行列の上下に配置し、さらに
上下の永久磁石およびミラー行列を挟み込むようにC型
電磁石を配置したものである。
【0009】また、この発明の第2構成による光スイッ
チは、この発明の第1の構成において、磁性体を可動部
それぞれに形成し一対の永久磁石をM×N個のマトリッ
クス状に配置されたミラー行列の上下に配置し、さらに
上下の永久磁石およびミラー行列を挟み込むようにC型
電磁石を配置したものである。
【0010】また、この発明の第3の構成による光スイ
ッチは、この発明の第1の構成において、可動部の周囲
に設けられた固定電極と可動部に設けられた移動電極と
が可動部の上下にそれぞれ互いに対抗するように配置さ
れ、さらに対抗する面間の距離が永久磁石により可動部
が固着されているときに接触するように配置したもので
ある。
【0011】また、この発明の第4構成による光スイッ
チは、この発明の第1の構成において、可動部、可動部
を支持するバネ部、可動部分を選択するための少なくと
も一対の固定電極と移動電極をガラス基板と接合したシ
リコンウエハからエッチングにより一体で形成し、シリ
コンウエハ面と平行になるようにミラー反射面を設け、
上記ガラス基板と接合したシリコンウエハから切り出し
た1次元のミラー列のミラーが入射光路の光を出射光路
へ導くように立てて配置しさらに複数のミラー列を並べ
てマトリックス状に配置されたミラー行列を構成したも
のである。
【0012】また、この発明の第5の構成による光スイ
ッチは、この発明の第3の構成において、少なくとも一
対の固定電極と移動電極は可動部とバネと同一のシリコ
ン基板から形成し、少なくとも一対の固定電極と移動電
極の互いに対抗する面には絶縁膜を形成したものであ
る。
【0013】また、この発明の第6の構成による光スイ
ッチは、この発明の第5の構成における絶縁膜をシリコ
ンの熱酸化膜により形成するものである。
【0014】また、この発明の第7の構成による光スイ
ッチは、この発明の第5の構成において、ミラーと光通
過孔とバネからなる可動部の厚みと、移動電極と固定電
極の厚みの合計をシリコン基板の板厚に等しくするもの
である。
【0015】また、この発明の第8の構成による光スイ
ッチは、この発明の第1の構成において、少なくとも一
対の固定電極と移動電極間にパルス電圧を印加した時の
電流をモニタすることで光路上にミラーが存在するか否
かを検出する手段を設けるものである。
【0016】また、この発明の第9の構成による光スイ
ッチは、この発明の第8の構成において、経路を切り替
える前に点順次方式でミラーが光路上に存在するか否か
を検出する手段を動作させるものである。
【0017】また、この発明の第10の構成による光ス
イッチの切り替え方法は、この発明の第1の構成におい
て、切り替えるチャンネルに対応する入力ライン上で光
通過孔が全ての光路上に来るように移動し、次に、切り
替えるチャンネルに対応する出力ラインとの交差点にの
みミラーが移動するように経路を切り替えるものであ
る。
【0018】
【発明の実施の形態】実施の形態1.図1は、この発明
の実施の形態1に係わる光スイッチの全体を表す斜視図
であり、図2は駆動機構の一部を示す2次元と3次元の
構成図であり、各構成部品の位置関係を示している。図
1、2において、1はM本(M=2)の光ファイバの入
射光路、2はN本(N=2)の光ファイバの出射光路、3
は光ファイバを固定する多芯V溝基板、4はファイバか
ら出た光を平行ビームにするレンズ、5は交差する光路
の交点に配置されたミラー移動部、6はミラー移動部を
支持するガラスベース、7はガラスベース6に設けた
孔、8は光路上にミラー(後述)がマトリックス状に配置
されたミラー行列の上下に配置された永久磁石、9はミ
ラー駆動のきっかけを作る電磁石である。11、12、
13、14a、14bはミラー移動部5に設けられたそ
れぞれ光通過孔、ミラー、磁性体、移動電極であり、1
0はミラー移動部5を支持するバネである。16a、1
6bはミラー移動部5の周囲に位置するようにガラスベ
ース6に固着された固定電極である。入射側光ファイバ
1で導かれた光は光ファイバ1を出射した後レンズ4に
より平行ビームに変換されミラー行列80に入ってい
く。光を直進させる場合は光路からミラー12を下側に
ずらし、可動部15の光通過孔11により光を通過させ
る。反射させる場合は、ミラー12を光路の交点に配置
する。4個(M×N個)のミラー12のうち大部分のミ
ラー12は下へ移動した状態にあり選択された交点のみ
のミラー12が光路上に配置されている。
【0019】入射光路と出射光路の交点に配置されたミ
ラー12は図2(a)に示す一対のバネ10により支持
されている。また、ミラー移動部5はバネ10で支えら
れた光通過孔11とミラー12と磁性体13と静電力発
生のための移動電極14a,14bを設けた可動部15
と固定電極16a,16bからなる。光通過孔11とミ
ラー12と一対の磁性体13が可動部15の表面上に一
体形成されている。移動電極14a、14bは可動部の
Z軸方向の両端において、XY平面に一体形成されてい
る。一対のバネ10はZ軸方向の剛性がX、Y軸方向の
それよりも小さくなるように設定され各々一端がガラス
ベース6に固定され他端が移動電極14a、14bに固
定されている。可動部15とガラスベース6は分離され
ている。可動部15と一対のバネ10とはYZ面に対し
対称になるように配置されている。固定電極16bはガ
ラスベース6に固定されており、可動部15がZ軸のマ
イナス方向に移動した時、光通過孔11が光路上に位置
し、下側の移動電極14bが固定電極16bと面接触す
るように配置されている。一方、固定電極16aはガラ
スベース6に固定されており、可動部15がZ軸のプラ
ス方向に移動した時ミラー12が光路上に位置し、上側
の移動電極14aが固定電極16aと面接触するように
配置されている。この固定電極16a、16bにより、
可動部15を位置決めしている。一対の磁性体13はZ
軸方向に磁化されやすいように細長く形成されると共に
その長さは概略可動体15のZ軸方向の移動量に等しく
している。なお、移動電極14a、14bと面接触する
固定電極16a、16bの各表面には両電極間を電気的
に絶縁するため、例えばSiO2で形成された絶縁膜を
設けている。図2に示すように、可動部15,バネ1
0,固定電極16a,16b,可動電極14a,14b
を精度よく形成するために写真製版技術により一体形成
した。ガラスベース6は1つのミラー移動部5が支持さ
れている部分を示している。ガラスベース6には可動部
15とほぼ同じ面積の孔7が設けられている。光フアイ
バ1、2の先端に配置されたレンズ4は入射光が4個の
ミラー12のうちどのミラー12で反射されても、レン
ズ間における結合損失がほぼ同じになるように周知の手
法による光学設計がなされている。ミラー12の各辺の
長さはレンズ4で決まる平行ビームの直径より大きく設
定されている。また、光通過孔11、孔7は平行ビーム
が入射光路側から入射しても、出射光路側から入射して
も光ビームの通過を妨げないよう充分大きな空間として
構成されている。
【0020】図3は、この発明の実施の形態1に係わる
光スイッチの可動部15を示す構成図であり、可動部1
5の周囲に設けられた固定電極16a、16bと可動部
15に設けられた移動電極14a、14bとが可動部1
5の上下にそれぞれ互いに対抗するように配置され、さ
らに対抗する電極面間の距離が永久磁石により可動部1
5が固着されているときに面接触するように配置されて
いる。
【0021】選択するミラー12を切り替える時の動作
を図3により説明する。(a)に示すように、選択され
たミラー12は可動部15に固定された磁性体13が永
久磁石8aの磁力によりZ軸のプラス方向に引っ張られ
固定され、そのとき可動部15に設けた上側の移動電極
14aは上側の固定電極16aに面接触している。この
ように、ミラー12が固定された状態をラッチと呼ぶ。
(b)に示すように、このミラー12の選択を解除しZ
軸のマイナス方向へ移動させる動作は次のとおりであ
る。電磁石9に電流を流し上側の永久磁石8aの磁力を
弱める。磁性体13に作用する磁力よりバネの反発力が
勝り、可動部15は下側へ動き出す。磁性体13が永久
磁石の磁場の中立点を超えると下側の永久磁石8bの磁
力と電磁石9の磁力の合成力で下側へ移動し、電磁石9
の電流を切っても下側の永久磁石8bにより固定され
る。このとき電磁石9、下側の永久磁石8bの磁力はミ
ラー行列80全体に加わるため、この動作を行うと上側
に位置するミラー12はすべて下側へ移動してしまうこ
とになる。これを防ぎ選択したミラー12のみを移動さ
せるために、この発明では静電力によるミラー12の選
択を行う。各可動部15には移動電極14a,14bが
上端と下端に設けられておりそれと対向する位置に固定
電極16a,16bがガラスべース6に設けられてい
る。ミラー12が上側にあるとき移動電極14aと固定
電極16a間に電圧を印加し静電力により互いに引き合
う力が発生し上述した下側へ移動させる動作を行っても
静電力により引っ張られているため上側の位置に保持さ
れる。したがって、上側に保持したいミラー12のみ電
極14a、16a間に電圧をかけておくことにより所望
のミラー12をそのまま保持することが可能になる。同
じように下側にあるミラー12を上側に移動させるには
電磁石9に流す電流の向きを反対にすることにより逆方
向の磁力を発生させることができ同様の動作で上側へ移
動させることができる。また、下側に保持したいミラー
12には上側の場合と同様に電極14b、16b間に電
圧を印加することにより所望のミラー12を下側に保持
することができる。この構成によれば、マトリックス状
に配置した4個(M×N個)のミラーを個別に制御して
切り替えることができる自己保持機能を有する光スイッ
チを得ることができる。
【0022】実施の形態2.図4は、この発明の実施の
形態2に係わる光スイッチの全体を示す3次元の構成図
であり、実施の形態1に記載した2入力2出力の光スイ
ッチの各可動部15、4個のマトリックス状に配置され
たミラー行列80の上下に配置された上下の永久磁石8
a、8bおよびミラー行列80を挟み込むようにC型電
磁石9Aの磁極A,Bを配置した。これにより永久磁石
からの磁力によって可動部15を固着し保持できるよう
になるとともにスイッチを切り替えるときのみC型電磁
石9Aに通電し永久磁石から発生する磁場を調整するこ
とにより可動部を動かすことが可能になる。C型電磁石
9Aを用いた磁気回路を閉ループとしたことにより、小
電流で必要な磁場を発生させることができ、低消費電力
化、小型化を実現できる。
【0023】実施の形態3.図5は、この発明の実施の
形態3に係わる可動部の製造プロセスを示す工程図であ
り、光スイッチのミラー12をマトリックス状に配列す
る構成方法を示している。以下、加工プロセスを説明す
る。各工程の説明(1)〜(7)は図5の工程(1)〜
(7)に対応している。各プロセス図は図2の(a)に記
載されたAA断面を矢印方向から見た形態を示し、この
形態に従って説明する。 (1)熱酸化膜25付のシリコン基板20にガラス基板
21を陽極接合することにより複合基板28を形成す
る。接合するガラス基板21が図2の(a)に示すバネ1
0と可動部15に固着しないように予めガラス基板21
に逃げ23を設けておく。(ガラス基板21と接合する
シリコン基板20の表面に0.5μm程度の熱酸化膜が
あってもよい。) (2)熱酸化膜25上にレジスト24を全面に塗布した
後に、ミラー12と光通過孔11及び磁性体13からな
る可動部15、可動部15を支持するバネ10、可動部
15を選択するための移動電極14a、14b(図示せ
ず)、固定電極16a、16b(図示せず)を形成する
ために熱酸化膜25付きシリコン基板20にレジスト2
4にパターンを形成する。各部材は図2の(a)に示すと
おりである。 (3)上記レジスト24のパターンをマスクにしてRI
E(ReactiveIon Etcing)で熱酸化
膜25に転写し、アッシングによりレジスト24のパタ
ーンマスクを除去する。 (4)熱酸化膜25のパターンをマスクにしてICP
(Inductive Coupled Plusma)
ドライエッチングでシリコン基板20を異方性良く加工
面が略垂直になるようにエッチングする。 (5)静電力を発生させる移動電極14a,14b(図
示せず)および固定電極16a,16b(図示せず)の電
極面に絶縁膜26を形成し、シリコン基板20の表面に
付着した絶縁膜26をミリングにより除去する。この時
ガラス基板21に付着した絶縁膜26は若干残るが可動
部15の動作に影響を与えることはない。絶縁膜26は
例えばバネ10をレジスト24で保護してからプラズマ
CVDによりSiNxを成膜し、シリコン基板20の表
面のみをエッチングし、図6に示すように固定電極、移
動電極14a,14b,16a,16bの表面にのみ絶
縁膜26を形成してもよい。 (6)可動部15に駆動力とラッチする力を受ける磁性
体13をマスクスパッタにより形成する(例えば、Ni
80at%、Fe20at%)。 (7)複合基板28を良く洗浄した後、ミラー12とな
る金属(例えば、金)をマスクスパッタにより形成す
る。以上の工程により、ミラー12、光通過孔11、磁
性体13、可動部15、バネ10、移動電極14a、1
4b、固定電極16a、16bからなるミラー移動部5
を図7の(a)に示すようにマトリックス状に一括形成す
る。
【0024】上記複合基板28を1次元のミラー列にな
るように切り出しアレー基板29を形成し、光路を確保
するためにガラスベース6に設けられた孔7を連結する
溝47を機械加工により切除した。図7(b)に示すミ
ラー12が入射光路の光を出射光路へ導くようにガラス
基板21と同程度の熱膨張係数をもつガラス基板30に
立てて配置し、図8に示すようにさらに複数のミラー列
を並べてミラー12がマトリックス状に配置されるよう
にした。入射光路31と出射光路32の交差点が各ミラ
ー12の表面に位置するように配置され、光路間隔dの
場合、一次元ミラー列のミラーピッチPを√2・dとな
るようにし、アレー基板29の厚み方向のミラー間隔W
を(√2/2)・dとした。なお、本実施の形態では入
射光路1と出射光路2のなす角αを90度とし、ミラー
12とに入射光路1とのなす角βを45度に設定してい
るが、これらの角度に限定されるものではない。
【0025】実施の形態4.この発明の第4の構成によ
る光スイッチは、上記絶縁膜をシリコンの熱酸化法によ
り形成することで均一な膜厚の絶縁膜を形成した。以下
加工プロセスを図9により説明する。工程(1)〜
(4)は実施の形態3と同一であるので説明は省略し、
工程(5)〜(7)について説明する。また、バネ10
も実施の形態3と同一構成であるため図示を省略する。
図5の工程説明(5)、(6)、(7)と図9の(5)、(6)、
(7)に示す工程とが対応する。 (5)ICPドライエッチングで穴明けしたシリコン基
板のシリコン露出面に熱酸化膜27を形成する。 (6) 可動部15に駆動力とラッチ力を受ける磁性体
13をマスクスパッタにより形成する。 (7) 複合基板28を良く洗浄した後、ミラー12と
なる金属をマスクスパッタにより形成する。以後のアレ
ー基板29を作成しミラー列を並べてミラーをマトリッ
クス状に配置するミラーマトリックス組立工程は実施の
形態3と同じである。
【0026】実施の形態5.図10は、この発明の実施
の形態5に係わる可動部の製造プロセスを示す工程図で
あり、各プロセスは図2の(a)におけるBB断面を矢印
方向からみた形態を示し、この形態に従い説明する。ミ
ラー12と光通過孔11と磁性体13からなる可動部1
5の裏側に移動電極14a、14b、固定電極16a、
16bを形成し、可動部15と移動電極14a、14
b、固定電極16a、16bの厚みの合計がシリコン基
板20の板厚に等しくすることにより、移動電極14
a、14b、固定電極16a、16bを精度良く加工す
ることができ、安定した静電力を発生させることができ
る。以下加工プロセスを図10により説明する。 (1)シリコン基板20に移動電極14a、14b、固
定電極16a、16bを形成するためのパターンを熱酸
化膜付きシリコン基板20に写真製版でレジスト24に
パターンを形成する。 (2)上記パターンをRIEで熱酸化膜25に転写す
る。 (3)ICPドライエッチングでシリコン基板20を異
方性良く加工面が略垂直になるようにエッチングする。 (4)レジスト24を除去した後RIEで移動電極と固
定電極の形成面のみ熱酸化膜25を除去する。 (5)平面部の保護膜40例えばSiNxを成膜する。 (6)シリコンの熱酸化法により移動電極14a、14
b、固定電極16a、16bの電極面に熱酸化膜27を
形成する。 (7)RIEで平面部の保護膜40を除去する。 (8)シリコン基板20とガラス基板21を陽極接合す
ることにより複合基板28を形成する。以下移動電極1
4a、14b、可動部15、固定電極16a、16bの
位置が合うように、実施の形態3の工程(2)〜(7)
と同一の工程で可動部15、バネ10、移動電極14
a、14b、固定電極16a、16bを複合基板28の
シリコン基板20表面より加工する。その後のミラーマ
トリックスの組立工程も実施の形態3と同一である。
【0027】実施の形態6.図11は、この発明の実施
の形態6に係る可動部15の位置を検出する構成を示す
概念図である。光スイッチの可動部15の位置を検出す
る可動部位置検出回路41はパルス電圧を発生する周知
の電源42と過渡的に流れる電流を検出する電圧計43
とこの電圧計43に対し並列に接続された微小抵抗44
とを、光スイッチの移動電極14a―固定電極16aと
移動電極14b―固定電極16bのそれぞれを結線する
回路に設けたものである。可動部15の位置検出は、パ
ルス電圧を発生する電源42により矩形波状のパルス電
圧を印加し、光スイッチの移動電極14a−固定電極1
6a、移動電極14b−固定電極16b間の電流を電圧
計43によりモニタすることにより行う。電流が流れた
固定電極側に可動部15が位置していることが分かる。
【0028】実施の形態7.図12は、この発明の実施
の形態7に係わる可動部位置を検出するマトリックス配
線を示す回路図であり、光スイッチはミラー12を動か
せて光路を切り替える前に光通過孔11側の移動電極1
4a、固定電極16a間の電流を点順次方式により図1
1で説明した方法でモニタし、光路上にミラー12が存
在するか否かを検出する概略配線図である。一方、図1
3は光路上に光通過孔11が存在するか否かを検出する
概略配線図である。小判形状の点線で囲われた2個の容
量45、46が1つのミラー移動部5に存在する。可動
部の移動電極14aと対向する固定電極16aとの間の
容量45と、可動部の移動電極14bと対向する固定電
極16bとの間の容量46とからなる。容量45はは可
動部15が上にラッチされている状態(ミラー12が光
路上にある。)に対応し、容量46はその逆で可動部1
5が下側にラッチしている状態(光通過孔11が光路上
にある。)に対応する。入射光側アドレスデコーダ回路
51では入射光アドレス信号に対応するi行の配線をア
クティブにし、一方、出射光側アドレスデコーダ回路5
0では出射光アドレス信号に対応するj列の配線をアク
ティブにすることでi列j列の位置にある可動部15の
ラッチ状態を容量45に対して検出することができる。
アドレス信号を順次送っていくことにより各可動部15
のミラー12が光路上に存在するか否かを検出する。次
に、移動電極14bと対向する固定電極16bとの間の
容量46に対して同様の検出を行うことにより、光通過
孔11が光路上に存在するか否かを検出する。ミラー1
2側、光通過孔11側の双方の電極間電流をモニタでき
るように配線してあるので、上下の電極間の電流値を照
合することにより検出精度が上げられる。
【0029】実施の形態8.図14は、この発明の実施
の形態8に係わる光スイッチの駆動制御を表すフロー図
である。図に示すように、外部からの切替信号により以
下の流れでスイッチのミラー12の切替を行う。 a.切替要請を受ける。 b.切り替え後の各ミラー12の位置を示す切替チヤン
ネル情報を記憶する。 c.可動位置検出回路41により、現在の各可動部15
の位置を検出する。 d.各入力ライン(入射光側アドレス、i行)で切替要
請されている出射光位置と現在の出力ライン(出射光位
置)(出射光側アドレス、j列)が一致するか否か全て
のミラーについて調べる。 e.入力ライン毎に現在の切替チャンネル位置と切替要
請チャンネルが一致している時、そのアドレスを記憶す
る。 f.全ての入力ラインについて調べる。 g.各入力ライン(入射光側アドレス、i行)で切替要
請ラインと現在の出力ラインが一致する場合、移動電極
14a、固定電極16aに電位を印加しておく。各入力
ライン(入射光側アドレス、i列)で切替要請ラインと
現在の出力ラインが異なる場合、どこの移動電極14
a、固定電極16aにも電位を印加しない。 h.光軸上に可動部の光通過孔がくる方向の磁界を強め
るように電磁石にパルス電流を流し、変更の必要な入力
ライン上の可動部15のみ光路を開放しておく。 i.変更が必要な切替入力ラインに対応する出力ライン
との交点における可動部15以外の可動部の移動電極1
4b、固定電極16bに電位を印加しておく。変更が必
要でない入力ラインでは現在の光路上にミラー12のな
い可動部15の対向する移動電極14bと固定電極16
bに電位を印加しておく。 j.光軸上に可動部15のミラーがくる方向に磁界を弱
めるように電磁石8a、8bにパルス電流を流し、上記
i.で移動電極14b、固定電極16bに電位を印加し
ていない可動部15のみを移動させることにより光路上
にミラー12を移動させる。 a〜hの動作により切り替えるチャンネルに対応する入
力ライン上で光通過孔11が全ての光路上にくるように
移動させることができる。必要最小限のミラー移動で光
スイッチを切り替えることができ、切り替る必要のない
チャンネルに影響を及ぼすことはない。なお、実施の形
態では2×2のミラー行列について説明したが、これに
限らずM×Nのミラー行列が本発明の対象である。な
お、この実施の形態では各入力ラインについて可動部位
置検出を行っているが、これに限らず現在の可動部位置
の状態をメモリに保持させておくことにより、可動部位
置検出を省略することができる。
【0030】
【発明の効果】以上のように、この発明の第1の構成で
ある光スイッチによれば、ミラーと光通過孔が一体で形
成された可動部と、可動部を支持するバネと、駆動力を
発生する電磁石と、可動部を保持する力を発生する永久
磁石と、各可動部分に設けられた透磁体と、移動したい
可動部を選択するための保持力を発生させる各可動部に
設けられた電極からなる駆動機構を有し、各入射光路お
よび出射光路は光ファイバーとレンズからなり、所定の
入射光路から入った光がすべての出射光路へ光路変更が
可能なようにマトリックス状に配置され、光路の選択は
選択したミラーのみが光路中に配置されその他の光路に
は光通過孔が配置されることにより、従来必要であった
ミラー駆動部のためのスペースが光路面上にないためミ
ラー間の距離を大幅に狭めることが可能となり配列する
ミラーの数が大きくなっても挿入損失を小さくすること
ができる。
【0031】また、この発明の第2の構成である光スイ
ッチによれば、磁性体を可動部それぞれに形成し一対の
永久磁石をM×N個のマトリックス状に配置されたミラ
ー行列の上下に配置し、さらに上下の永久磁石およびミ
ラー行列を挟み込むようにC型電磁石を配置したことに
より、光路の保持が無電源で可能となり駆動時のみのわ
ずかな電力で光路変更をすることができる。
【0032】また、この発明の第3の構成である光スイ
ッチによれば、可動部の周囲に設けられた固定電極と可
動部に設けられた移動電極とが可動部の上下にそれぞれ
互いに対抗するように配置さし、さらに対抗する電極面
間の距離が永久磁石により可動部が固着されているとき
に接触するように配置されたことにより、簡単な構造で
スイッチ切り替えの選択が可能となり、駆動機構として
の電磁力発生機構を光スイッチ全体で1個にすることが
可能になった。
【0033】また、この発明の第4の構成である光スイ
ッチによれば、可動部、可動部を支持するバネ部、可動
部分を選択するための少なくとも一対の固定電極と移動
電極をガラス基板と接合したシリコンウエハからエッチ
ングにより一体で形成し、シリコンウエハ面と平行にな
るようにミラー反射面を設け、上記ガラス基板と接合し
たシリコンウエハから切り出した1次元のミラー列のミ
ラーが入射光路の光を出射光路へ導くように立てて配置
しさらに複数のミラー列を並べてマトリックス状に配置
されたミラー行列を構成することにより、半導体プロセ
スと同様のプロセスで作製できるため高精度でばらつき
の少ないミラー列を得ることが可能となり各光路間の挿
入損失のばらつきを抑えることができる。
【0034】また、この発明の第5の構成である光スイ
ッチによれば、少なくとも一対の固定電極と移動電極は
可動部、バネと同じシリコンで形成し少なくとも一対の
固定電極と移動電極の互いに対抗する面には絶縁膜を形
成することにより、安定した大きさの静電力を発生する
ことができる。
【0035】また、この発明の第6の構成である光スイ
ッチによれば、絶縁膜をシリコンの熱酸化膜により形成
することにより、均一な膜厚の絶縁膜が形成でき安定し
た大きさの静電力を発生することができる。
【0036】また、この発明の第7の構成である光スイ
ッチによれば、ミラーと光通過孔とバネからなる可動部
の厚みと対向する電極の厚みの合計をシリコン基板の板
厚に等しくすることにより、対向電極の精度良く加工す
ることができ、安定した静電力を発生させることができ
る。
【0037】また、この発明の第8の構成である光スイ
ッチによれば、可動部と少なくとも一対の移動電極と固
定電極間にパルス電圧を印加した時の電流をモニタする
ことで光路上にミラーが存在するかどうかを検出する手
段を設けることにより、ミラーの位置検知用の部材を追
加することなくミラーの位置を常に検知することができ
る。
【0038】また、この発明の第9の構成である光スイ
ッチによれば、光路を切り換える前に点順次方式で光路
上にミラーが存在するか否かを検出する手段を動作させ
ることにより、現状のミラー位置を確認することができ
より正確な経路切り替えが可能になる。
【0039】また、この発明の第10の構成である光ス
イッチによれば、切り換えるチャンネルに対応する入力
ライン上で光通過孔が全ての光路上に来るように移動
し、次に、切り換えるチャンネルに対応する出力ライン
と交差点にのみミラーが移動するように光路を切り換え
ることにより、低消費電力での光路切り替えが可能とな
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の実施の形態1に係わる光スイッチ
の全体を表す斜視図と駆動機構を示す3次元の構成図で
ある。
【図2】 この発明の実施の形態1に係わる光スイッチ
の可動部分を表す構成図である。
【図3】 この発明の実施の形態1に係わる光スイッチ
の可動部分を示す構成図である。
【図4】 この発明の実施の形態2に係わる光スイッチ
の全体を示す3次元の構成図である。
【図5】 この発明の実施の形態3に係わる可動部の製
造プロセスを示す工程図である。
【図6】 この発明の実施の形態3に係わる対向電極を
表す斜視図である。
【図7】 この発明の実施の形態3に係わる一体形成し
たミラーマトリックを表す斜視図である。
【図8】 この発明の実施の形態3に係わる光路とミラ
ーの位置関係を表す平面構成図である。
【図9】 この発明の実施の形態4に係わる可動部の製
造プロセスを示す工程図である。
【図10】 この発明の実施の形態5に係わる可動部の
製造プロセスを示す工程図である。
【図11】 この発明の実施の形態6に係わる可動部位
置を検出する回路を示す概念図である。
【図12】 この発明の実施の形態7に係わる可動部位
置を検出するマトリックス配線を示す回路図である。
【図13】 この発明の実施の形態7に係わる可動部位
置を検出するマトリックス配線を示す回路図である。
【図14】 この発明の実施の形態8に係わる光スイッ
チの駆動制御を表すフロー図である。
【図15】 従来の光スイッチを表す構成図である。
【符号の説明】
1 入射光路、2 出射光路、3 多芯V溝基板、4
レンズ、5 ミラー移動部、6 ガラスベース、7
孔、8 永久磁石、9 電磁石、10 バネ、11光通
過孔、12 ミラー、13 磁性体、14a,14b
移動電極、15 可動部、16a,16b 固定電極、
20 シリコン基板、21 ガラス基板、24 レジス
ト、25、27 熱酸化膜、26 絶縁膜、28 複合
基板、29アレー基板、30 ガラス基板、31 入射
光路、32 出射光路、40 保護膜。80、ミラー行
列。
フロントページの続き (72)発明者 堤 和彦 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 松浦 司 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 Fターム(参考) 2H041 AA16 AA18 AB13 AC04 AZ02 AZ05 AZ08 5K069 AA16 DB07 DB34 DC05 EA27 EA30

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 M個の入射光路とN個の出射光路および
    光路を変更させる駆動機構からなる光スイッチにおい
    て、ミラーと光通過孔が一体で形成された可動部と、可
    動部を支持するバネと、駆動力を発生する電磁石と、可
    動部を保持する力を発生する永久磁石と、各可動部分に
    設けられた透磁体と、移動したい可動部を選択するため
    の保持力を発生させる各可動部に設けられた電極からな
    る駆動機構を有し、各入射光路および出射光路は光ファ
    イバーとレンズからなり、所定の入射光路から入った光
    がすべての出射光路へ光路変更が可能なようにマトリッ
    クス状に配置され、選択したミラーのみが光路中に配置
    されその他の光路には光通過孔が配置されることにより
    光路の選択を行うことを特徴とする光スイッチ。
  2. 【請求項2】 磁性体を可動部それぞれに形成し一対の
    永久磁石をM×N個のマトリックス状に配置されたミラ
    ー行列の上下に配置しさらに上下の永久磁石およびミラ
    ー行列を挟み込むようにC型電磁石を配置したことを特
    徴とする請求項1記載の光スイッチ。
  3. 【請求項3】 可動部の周囲に設けられた固定電極と可
    動部に設けられた移動電極とが可動部の上下にそれぞれ
    互いに対抗するように配置され、さらに対抗する電極面
    間の距離が永久磁石により可動部が固着されているとき
    に接触するように配置されたことを特徴とする請求項1
    記載の光スイッチ。
  4. 【請求項4】 可動部、可動部を支持するバネ部、可動
    部分を選択するための少なくとも一対の固定電極と移動
    電極をガラス基板と接合したシリコンウエハからエッチ
    ングにより一体で形成し、シリコンウエハ面と平行にな
    るようにミラー反射面を設け、上記ガラス基板と接合し
    たシリコンウエハから切り出した1次元のミラー列のミ
    ラーが入射光路の光を出射光路へ導くように立てて配置
    しさらに複数のミラー列を並べてマトリックス状に配置
    されたミラー行列を構成することを特徴とする請求項1
    記載の光スイッチ。
  5. 【請求項5】 少なくとも一対の固定電極と移動電極は
    可動部とバネと同一のシリコン基板から形成し、少なく
    とも一対の固定電極と移動電極の互いに対抗する面には
    絶縁膜を形成することを特徴とする請求項3記載の光ス
    イッチ。
  6. 【請求項6】 絶縁膜をシリコンの熱酸化膜により形成
    したことを特徴とする請求項5記載の光スイッチ。
  7. 【請求項7】 ミラーと光通過孔とバネからなる可動部
    の厚みと、移動電極と固定電極の厚みの合計がシリコン
    基板の板厚に等しいことを特徴とする請求項5記載の光
    スイッチ。
  8. 【請求項8】 少なくとも一対の固定電極と移動電極間
    にパルス電圧を印加した時の電流をモニタすることによ
    り光路上にミラーが存在するか否かを検出する手段を有
    することを特徴とする請求項1記載の光スイッチ。
  9. 【請求項9】 光路を切り替える前に点順次方式でミラ
    ーが光路上に存在するか否かを検出する手段を備えたこ
    とを特徴とする請求項8記載の光スイッチ。
  10. 【請求項10】 切り替えるチャンネルに対応する入力
    ライン上で光通過孔が全ての光路上に来るように移動
    し、次に、切り替えるチャンネルに対応する出力ライン
    との交差点にのみミラーが移動するように光路を切り替
    えることを特徴とする請求項1記載の光スイッチの切り
    替え方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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