JP2001293651A - 板状体の研磨装置 - Google Patents

板状体の研磨装置

Info

Publication number
JP2001293651A
JP2001293651A JP2000115185A JP2000115185A JP2001293651A JP 2001293651 A JP2001293651 A JP 2001293651A JP 2000115185 A JP2000115185 A JP 2000115185A JP 2000115185 A JP2000115185 A JP 2000115185A JP 2001293651 A JP2001293651 A JP 2001293651A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polishing
polishing pad
plate
platen
pad
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000115185A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4239129B2 (ja
Inventor
Itsuro Watanabe
逸郎 渡邉
Masatoshi Oyama
正敏 大山
Makoto Fukuda
真 福田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Priority to JP2000115185A priority Critical patent/JP4239129B2/ja
Publication of JP2001293651A publication Critical patent/JP2001293651A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4239129B2 publication Critical patent/JP4239129B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】研磨パッドの端部に発生する圧力集中を緩和し
て板状体の研磨面に発生する研磨むらを抑えることがで
きる板状体の研磨装置を提供する。 【解決手段】研磨定盤14の端部と研磨パッド16の端
部との間に膨縮自在なエアーバッグ18を設け、このエ
アーバッグ18を研磨パッド16のツルーイング時に膨
張させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、板状体の研磨装置
に係り、特に液晶ディスプレイ用ガラス基板を製造する
ための研磨装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図6、図7は、液晶ディスプレイ用ガラ
ス基板を製造する連続式研磨装置の概略構成図である。
図6は円形の研磨パッドを設けた定盤を回転させてガラ
ス板を研磨する装置、図7は矩形の研磨パッドを設けた
定盤を揺動させてガラス板を研磨する装置を示してい
る。
【0003】図6、図7において研磨装置1、1´は、
ガラス基板となるガラス板2を、ワーク定盤3上に設け
た発泡ウレタン製のテーブルパッド4で固定し、これを
搬送手段5で搬送しながら、その搬送ラインに設置され
ている複数台の研磨装置1、1´によってガラス板2を
少量ずつ研磨して所定厚さのガラス基板を製造する。
【0004】研磨装置1は、図8に示すように研磨パッ
ド6が支持されたアルミプレート7を研磨定盤8に固定
することにより構成されている。この研磨装置1の下方
に、ワーク定盤3(図6参照)上のテーブルパッド4
(図8参照)に固定されたガラス板2が搬送され、ガラ
ス板2が研磨装置1を通過する際に研磨パッド6により
研磨される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、連続式
研磨装置1は、研磨パッド6の外側からガラス板2が入
り込む装置であり、研磨パッド6の端部6Aに圧力が集
中するという特性があるため、研磨パッド6を通過した
ガラス板2の研磨面に研磨むらが発生するという問題が
あった。
【0006】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、研磨パッドの端部に発生する圧力集中を緩和し
て板状体の研磨面に発生する研磨むらを抑えることがで
きる板状体の研磨装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、研磨定盤に研磨パッドを設け、該研磨パ
ッドを板状体に押し付けるとともに、研磨パッドと板状
体とを相対的に移動させて板状体を研磨する研磨装置に
おいて、前記研磨定盤の端部と前記研磨パッドの端部と
の間に、該研磨パッドの端部が逃げ込む空間部を形成し
たことを特徴とする。
【0008】本発明は、前記目的を達成するために、研
磨定盤に研磨パッドを設け、該研磨パッドを板状体に押
し付けるとともに、研磨パッドと板状体とを相対的に移
動させて板状体を研磨する研磨装置において、前記研磨
定盤の端部と前記研磨パッドとの間に膨縮自在な膨縮手
段を設け、該膨縮手段を膨縮させることにより、研磨パ
ッドの端部の加圧を制御可能にしたことを特徴とする。
【0009】請求項1に記載の発明によれば、板状体の
研磨時において、研磨定盤の端部と研磨パッドの端部と
の間に形成された空間部に、研磨パッドの端部が空間部
に逃げ込むので、圧力集中が緩和され、研磨むらを抑え
ることができる。
【0010】請求項2に記載の発明によれば、研磨パッ
ドを板状体に押し付けると、膨縮手段が研磨パッドの端
部において押圧されて収縮するので、研磨パッドの端部
が板状体から逃げる。これにより、研磨パッドの端部に
発生する圧力集中が緩和されるので、板状体に発生する
研磨むらを抑えることができる。
【0011】請求項3に記載の発明は、前記膨縮手段と
してエアーバッグを適用したものであり、エアーバッグ
は、エアを供給するだけで膨張するので、簡易な構造で
膨縮手段を構成することができる。
【0012】請求項4に記載の発明によれば、研磨パッ
ドをツルーイング用砥石で面出しする時に、膨縮手段を
膨張させて研磨パッドの端部を加圧し、該端部をツルー
イング用砥石に押し付けて研削する。これにより、面出
しされた研磨パッドには、従来のような突起が発生せ
ず、良好に面出しされる。よって、板状体の研磨精度を
向上させることができる。
【0013】
【発明の実施の形態】以下添付図面に従って本発明に係
る板状体の研磨装置の好ましい実施の形態を詳説する。
【0014】第1の実施の形態の研磨装置は、図1の如
く研磨パッド6の端部6Aの位置に対応する研磨定盤8
の端部を切除している。かかる研磨装置によれば、研磨
定盤8の端部を切除して形成された空間部9に、アルミ
プレート7の弾性変形により研磨パッド6の端部6Aが
逃げ込むので、圧力集中が緩和され、研磨むらを抑える
ことができる。
【0015】しかしながら、図1の研磨装置は、研磨パ
ッド6をツルーイング用砥石に押し付けて面出しする時
に、研磨パッド6の端部6Aがツルーイング用砥石から
逃げてしまうので、その端部6Aが面出しされず、ツル
ーイング後に前記逃げが戻り、図2の如く突起のような
形状として残存するという問題があった。
【0016】図3は、第2の実施の形態の研磨装置10
の構成を示す断面図である。この研磨装置10は、液晶
ディスプレイ用ガラス基板の連続式研磨装置に適用され
る装置であり、不図示のガラス板搬送ラインに沿って複
数台設置されている。
【0017】研磨装置10は、主として支持定盤12、
研磨定盤14、研磨パッド16、アルミプレート17及
びエアーバッグ(膨縮手段)18等から構成される。こ
の支持定盤12の上端軸部12Aが、不図示のモータの
駆動軸に連結され、このモータからの回転駆動力によっ
て所定の回転数で回転される。なお、支持定盤12、研
磨定盤14及びアルミプレート17には、研磨パッド1
6に研磨液(スラリ)を供給するためのスラリ供給路1
3が設けられている。
【0018】研磨定盤14は、鋳鉄製の高剛性構造であ
り、その表面形状は円形、若しくは矩形状に形成されて
いる。なお、本実施の形態では、円形形状として研磨定
盤14を説明する。
【0019】支持定盤12と研磨定盤14との間には、
複数の空気ばね20、20…が配設されている。この空
気ばね20は、支持定盤12に形成されたエア通路2
2、圧力調整装置及び不図示のロータリージョイントを
介してエアポンプに接続されている。また、支持定盤1
2と研磨定盤14とは、複数の積層ゴム24、24…を
介して連結されている。
【0020】一方、エアーバッグ18は、研磨定盤14
の下面の端部外周に形成された凹条溝26に配設されて
いる。このエアーバッグ18は、略リング状に形成され
た1枚のゴムシートで形成されている。また、図4に示
すようにエアーバッグ18の外周部18A及び内周部1
8Bが、研磨定盤14にボルト28、30で固定された
リング状パッキン32、34によってシールされてい
る。
【0021】更に、エアーバッグ18と凹条溝26との
空間部19に連通するように、研磨定盤14の外周部に
はエア通路36が形成される。このエア通路36は、図
3の如くバルブ38及び圧力調整装置を介してエア通路
22と連結されている。したがって、バルブ38が開放
されると、エアポンプからの圧縮エアがロータリージョ
イント及びエア通路36を介して図4の空間部19に供
給される。これにより、エアーバッグ18が膨張するの
で、アルミプレート17に支持された研磨パッド16の
端部が下方に向けて押圧され、下方に弾性変形される。
【0022】次に、前記の如く構成された研磨装置10
の作用について説明する。
【0023】まず、ガラス板の研磨時には、圧縮エアが
エアーバッグ18に供給されないようにバルブ38を閉
じておくか、又は、バルブ38を開けたままで圧縮エア
ー圧をツルーイング用砥石で面出しする時よりも低い適
当に選択された圧力に保っておく。この状態で研磨パッ
ド16をガラス板に押し付けると、エアーバッグ18が
研磨パッド16の端部に押圧されて収縮するので、研磨
パッド16の端部がガラス板から逃げる。これにより、
研磨パッド16の端部に発生する圧力集中が緩和される
ので、ガラス板に発生する研磨むらを抑えることができ
る。
【0024】次に、研磨パッド16をツルーイング用砥
石で面出しする時には、バルブ38を開放し、エアーバ
ッグ18を図5(A)の如く膨張させるか、又は、前述
の様に研磨中にバルブ38を開けたままにする時には、
前記で選択された圧力よりも高い適当に選択された圧力
に保っておく。これにより、エアーバッグ18によって
研磨パッド16の端部16Aがアルミプレート17ごと
加圧され、この端部16Aが図5(B)のツルーイング
用砥石40に押し付けられて研削される。したがって、
面出しされた研磨パッド16の端部16Aには、従来の
ような突起が発生せず、図5(C)に示すようなR面1
6Bが形成され、良好に面出しされる。
【0025】このように面出しされた研磨パッド16
で、ガラス板の研磨を継続して実施すると、研磨パッド
16の端部16AはR面16Bが形成されているので、
エアーバッグ18が収縮するまでもなく、端部16Aに
発生する圧力集中が緩和される。よって、ガラス板の研
磨精度が向上する。
【0026】本実施の形態では、膨縮手段として、エア
を供給するだけで膨張するエアーバッグ18を適用した
ので、簡易な構造で膨縮手段を構成することができる。
【0027】なお、本実施の形態では、膨縮手段として
エアーバッグ18を適用したが、エアーバッグ18に代
えて、圧電素子等の膨縮可能な膨縮手段を適用し、研磨
パッド16のツルーイング時に膨張動作させるようにし
てもよい。
【0028】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係る板状体
の研磨装置によれば、研磨定盤の端部と研磨パッドの端
部との間に、研磨パッドの端部が逃げ込む空間部を形成
し、板状体の研磨時において、前記空間部に研磨パッド
の端部が逃げ込むので、圧力集中が緩和され、研磨むら
を抑えることができる。
【0029】また、本発明によれば、支持定盤の端部と
研磨パッドとの間に膨縮自在な膨縮手段を設け、膨縮手
段を膨張させることにより、研磨パッドの端部を加圧可
能に構成したので、膨縮手段の収縮作用によって研磨パ
ッドの端部に発生する圧力集中を緩和でき、また、膨縮
手段を膨張させて研磨パッドの端部をツルーイング用砥
石で研削させることにより、研磨パッドを良好に面出し
することができる。
【0030】また、本発明は、前記膨縮手段としてエア
ーバッグを適用したので、簡易な構造で膨縮手段を構成
することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】支持定盤の端部の剛性を低くして圧力集中を防
止した説明図
【図2】ツルーイング終了した研磨パッドの要部拡大断
面図
【図3】実施の形態の研磨装置の構造を示す断面図
【図4】図3の研磨装置に設けられたエアーバッグの要
部拡大断面図
【図5】エアーバッグによる研磨パッドのツルーイング
方法を示す遷移図
【図6】円形の研磨パッドを使用した連続式研磨装置の
概略図
【図7】矩形の研磨パッドを使用した連続式研磨装置の
概略図
【図8】従来の研磨装置によるガラス板研磨状況を示す
説明図
【符号の説明】
6、16…研磨パッド、8、14…研磨定盤、9…空間
部、10…研磨装置、12…支持定盤、18…エアーバ
ッグ(膨縮手段)、20…空気ばね、40…ツルーイン
グ用砥石
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 福田 真 山形県米沢市八幡原4丁目2837番地11 株 式会社旭硝子ファインテクノ内 Fターム(参考) 3C047 AA05 AA34 3C058 AA14 AA19 CA01 CB01

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 研磨定盤に研磨パッドを設け、該研磨パ
    ッドを板状体に押し付けるとともに、研磨パッドと板状
    体とを相対的に移動させて板状体を研磨する研磨装置に
    おいて、 前記研磨定盤の端部と前記研磨パッドの端部との間に、
    該研磨パッドの端部が逃げ込む空間部を形成したことを
    特徴とする板状体の研磨装置。
  2. 【請求項2】 研磨定盤に研磨パッドを設け、該研磨パ
    ッドを板状体に押し付けるとともに、研磨パッドと板状
    体とを相対的に移動させて板状体を研磨する研磨装置に
    おいて、 前記研磨定盤の端部と前記研磨パッドとの間に膨縮自在
    な膨縮手段を設け、該膨縮手段を膨縮させることによ
    り、研磨パッドの端部の加圧を制御可能にしたことを特
    徴とする板状体の研磨装置。
  3. 【請求項3】 前記膨縮手段は、エアーバッグであるこ
    とを特徴とする請求項2に記載の板状体の研磨装置。
  4. 【請求項4】 前記膨縮手段は、前記研磨パッドをツル
    ーイング用砥石で面出しする際に膨張され、研磨パッド
    の端部がツルーイング砥石で研削されることを特徴とす
    る請求項2又は3に記載の板状体の研磨装置。
JP2000115185A 2000-04-17 2000-04-17 板状体の研磨装置及び研磨パッドのツルーイング方法 Expired - Fee Related JP4239129B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000115185A JP4239129B2 (ja) 2000-04-17 2000-04-17 板状体の研磨装置及び研磨パッドのツルーイング方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000115185A JP4239129B2 (ja) 2000-04-17 2000-04-17 板状体の研磨装置及び研磨パッドのツルーイング方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001293651A true JP2001293651A (ja) 2001-10-23
JP4239129B2 JP4239129B2 (ja) 2009-03-18

Family

ID=18626879

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000115185A Expired - Fee Related JP4239129B2 (ja) 2000-04-17 2000-04-17 板状体の研磨装置及び研磨パッドのツルーイング方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4239129B2 (ja)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007043263A1 (ja) * 2005-10-14 2007-04-19 Asahi Glass Company, Limited 研磨パッド用ツルーイング部材及び研磨パッドのツルーイング方法
CN1326662C (zh) * 2005-03-10 2007-07-18 浙江工业大学 磁控式气囊柔性抛光工具
CN1326661C (zh) * 2005-03-10 2007-07-18 浙江工业大学 磁流变式气囊柔性抛光工具
JP2009184074A (ja) * 2008-02-06 2009-08-20 Sd Future Technology Co Ltd 研磨装置
CN101823228A (zh) * 2010-04-29 2010-09-08 浙江工业大学 可主动分配磨粒的气囊抛光工具
TWI482683B (zh) * 2009-10-08 2015-05-01 Lg Chemical Ltd 拋光浮式玻璃之方法與系統
TWI503205B (zh) * 2009-03-06 2015-10-11 Lg Chemical Ltd 玻璃研磨系統
TWI511842B (zh) * 2009-03-06 2015-12-11 Lg Chemical Ltd 玻璃研磨方法及其系統
CN109676507A (zh) * 2019-01-23 2019-04-26 厦门大学 一种高速气浮主轴气囊抛光装置

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1326662C (zh) * 2005-03-10 2007-07-18 浙江工业大学 磁控式气囊柔性抛光工具
CN1326661C (zh) * 2005-03-10 2007-07-18 浙江工业大学 磁流变式气囊柔性抛光工具
WO2007043263A1 (ja) * 2005-10-14 2007-04-19 Asahi Glass Company, Limited 研磨パッド用ツルーイング部材及び研磨パッドのツルーイング方法
JP2009184074A (ja) * 2008-02-06 2009-08-20 Sd Future Technology Co Ltd 研磨装置
TWI503205B (zh) * 2009-03-06 2015-10-11 Lg Chemical Ltd 玻璃研磨系統
TWI511842B (zh) * 2009-03-06 2015-12-11 Lg Chemical Ltd 玻璃研磨方法及其系統
TWI482683B (zh) * 2009-10-08 2015-05-01 Lg Chemical Ltd 拋光浮式玻璃之方法與系統
CN101823228A (zh) * 2010-04-29 2010-09-08 浙江工业大学 可主动分配磨粒的气囊抛光工具
CN101823228B (zh) * 2010-04-29 2011-12-21 浙江工业大学 可主动分配磨粒的气囊抛光工具
CN109676507A (zh) * 2019-01-23 2019-04-26 厦门大学 一种高速气浮主轴气囊抛光装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP4239129B2 (ja) 2009-03-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4744250B2 (ja) 角形状基板の両面研磨装置および両面研磨方法
JP4796813B2 (ja) 研磨パッドの貼り付け方法および研磨パッドの貼り付け用治具
US20090036033A1 (en) Methods and apparatus for processing a substrate
US6569771B2 (en) Carrier head for chemical mechanical polishing
JP2001293651A (ja) 板状体の研磨装置
JP3683149B2 (ja) 研磨装置の研磨ヘッドの構造
JP3734878B2 (ja) ウェーハの研磨装置
KR20140010073A (ko) 판상체의 연마 방법
US6739958B2 (en) Carrier head with a vibration reduction feature for a chemical mechanical polishing system
JP2001246550A (ja) 研磨装置
JP2001293656A (ja) 板状体の連続式研磨装置及びその方法
KR100926025B1 (ko) 직사각형 기판의 양면 연마 장치 및 양면 연마 방법
JP3068086B1 (ja) ウェ―ハ研磨装置
JP2002246346A (ja) 化学機械研磨装置
JP2000218514A (ja) 研磨装置及び研磨方法
KR20120105382A (ko) 판상체의 연마 장치
JP5257729B2 (ja) 研磨装置
TWI826630B (zh) 晶圓研磨用頭
JPH09262759A (ja) 面加工装置
JPH09267256A (ja) 基板研磨方法及びその装置
JP4582971B2 (ja) 研磨装置
JP3959173B2 (ja) 研磨装置及び研磨加工方法
KR100583279B1 (ko) 반도체 웨이퍼 연마 장치에 사용하는 탄성 지지대
JPH10277928A (ja) 研磨装置
JP2023061323A (ja) 研磨装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070314

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080919

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080925

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081107

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20081128

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20081211

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120109

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120109

Year of fee payment: 3

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R371 Transfer withdrawn

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120109

Year of fee payment: 3

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120109

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130109

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130109

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140109

Year of fee payment: 5

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees