JP2001291581A - ディスプレイおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
し電極と外部駆動回路接続用フレキシブルプリント基板
との接続部におけるフレキシブルプリント基板の折り曲
げに基づく剥がれ現象を防止することにより、長期信頼
性を確保するとともに、小型化に有利な有機ELディス
プレイおよびその製造方法を提供する。 【解決手段】 異方導電性フィルムによるガラス基板上
の有機EL素子駆動用引き出し電極とフレキシブルプリ
ント基板との接続部を、ガラス基板と封着板とで挟み込
む構造とする。
Description
びその製造方法に関する。さらに詳しくは、素子の駆動
用引き出し電極と外部駆動回路の仲介基板との接続信頼
性に優れ、小型化に好適なディスプレイおよびその製造
方法に関する。ディスプレイデバイスには、有機エレク
トロルミネッセンス(electroluminescence:EL)ディス
プレイ、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ等多
種のものがある。本発明は、マトリックス状の各画素を
構成する電極と接続されている駆動用引き出し電極部を
外部駆動回路と仲介基板により接続する全てのディスプ
レイに対して適用可能な共通技術であるが、特に適用が
好ましい有機ELディスプレイを例に以下に説明する。
素子とがあるが、いずれのEL素子も自己発光性である
ために視認性が高く、また完全固体素子であるため耐衝
撃性に優れるとともに取り扱いが容易である。このた
め、グラフィックディスプレイの画素やテレビ画像表示
装置の画素、あるいは面光源等としての開発が進められ
ている。特に、有機EL素子は、無機EL素子とは異な
り、交流駆動かつ高電圧が必要といった制約が無く、有
機蛍光体薄膜を有機EL素子としているために、液晶表
示装置やプラズマ表示装置に比べて基板の軽量化がで
き、有機ELディスプレイ全体の軽量化や小型化が可能
となる特徴を有している。また、有機化合物の多様性に
より、多色化が比較的容易であると考えられることか
ら、フルカラーディスプレイなどへの応用が期待され、
低電圧で高い輝度を有する構造が開発されている。無機
EL素子は、電界励起型の発光である。一方、有機EL
素子は、陽極から正孔を、陰極から電子を注入して動作
する、いわゆるキャリア注入型の発光である。両電極か
ら注入された正負のキャリアは、各々対極に移動し、こ
れらの再結合によって励起子が形成される。この励起子
が、失活される際に放出される光が有機EL素子におけ
る発光である。
セン単結晶を用いての研究が盛んであったが、高電圧印
加を必要とする割に輝度、発光効率共に低く安定性に欠
けていた。しかし、1987年になって、イーストマン
・コダック社のTangらが、有機薄膜の2層積層型構
造で低電圧で高輝度な安定した発光が得られることを発
表して以来、有機EL素子の研究開発は一気に活発化し
た。これは、電極対に挟持される有機層を、発光層と正
孔輸送層との2層の積層構造としたもので、10Vの印
加電圧で1,000cd/m2という従来にない優れた
特性を示すものであった(Tang et.al,Ap
pl.Phys.Lett.,51(12),913
(1987))。最近では、発光層、正孔輸送層だけで
なく陰極と発光層の間に電子輸送層を設けたり、あるい
は正孔輸送層と陽極の間に正孔注入層を設けることもあ
る。また、各層に用いる材料の種々の検討の結果、高発
光効率化、長寿命化等に関して多くの成果が挙げられ、
素子をX−Y平面に配列して形成するフラットパネルデ
ィスプレイへの応用が大いに期待されており、単純マト
リックス方式の256×64ドットのモノクロパネル、
対角5インチクラスの1/4VGAカラーパネル、対角
10インチVGAカラーパネルが開発されている(例え
ば、仲田 仁ら、ディスプレイ アンド イメージング
Vol.5,pp.273−277(1997)や仲
田 仁、「有機EL素子の基礎から実用化技術まで」応
用物理学会 有機分子・バイオエレクトロニクス分科会
第6回講習会テキスト、pp.147−154(19
97)、「フラットパネルディスプレイ1998」p
p.234 日経BP社等)。
以下の有機薄膜を2つの電極で挟持した構造であるが、
素子作成後大気に曝すと有機層、電極の構成材料が、大
気中のガス(水分、酸素など)と何らかの作用を来た
し、ダークスポットと呼ばれる非発光領域が出現し、発
光特性の劣化をもたらす。従って、実用上は素子作製
後、直ちに大気と遮断するような封止機構を付す必要が
ある。封止方法には、保護層を素子の外表面に設けた
り、樹脂等で素子をモールドする直接的手法と、封着板
等を用いて中空構造とし、素子を外気から遮断する間接
的手法とがある。また、直接素子を保護した上で、さら
に別の封止手段を講じることもある。これらの具体例と
しては、酸素吸収樹脂でモールドする方法(特開平3−
37991号公報)、ガスバリア層とガス吸収層を併用
する方法(特開平7−169567号公報)、乾燥剤を
封止空間内に素子から隔離して固定する方法(特開平9
−148066号公報)、封止空間内に弾性樹脂を充填
させる方法(特開平8−236271号公報)、有機E
L素子の背面にガラス板等の封止材を接着剤で面接着す
る際に、有機EL素子の背面と接着剤の間に応力緩和層
を介在させる方法(特開平8−124677号公報)、
耐湿性を有する光硬化性樹脂を介して非透水性の基板を
固着させる方法(特開平5−182759号公報)、外
表面に絶縁性高分子層を設け、さらにその上に絶縁性ガ
ラス等を設ける方法(第2813495号特許公報)、
外表面に絶縁無機化合物材料を設け、その上に吸湿層を
積層させ、さらに絶縁性ガラス若しくは絶縁性高分子フ
ィルムを設ける方法、(第2813499号特許公
報)、フッ素系不活性液体中に保持する方法(特開平4
−363890号公報)、乾燥剤の五酸化二リンを入れ
た気密空間内に保持する方法(特開平3−261091
号公報)、外表面に保護層を設け、特定の物性を有する
封止層でモールドし、さらにキャップで外気を遮断する
方法(特開平9−274990号公報)等が挙げられ
る。
たり、素子自体を直接樹脂等でモールドする方法は、1
マイクロメートルに満たない厚さの有機膜からなる有機
EL素子に与えるダメージが大いに懸念される。ダメー
ジは、プロセスの最中に素子に直接加わる力、熱のみで
なく、保護層との界面に生じる応力などによってももた
らされ得るので、出来れば素子に直接触れない方法を採
るのが賢明である。仮に満足の出来る手法が見出せたと
しても、プロセスがかなり増え、コストも増大する。
子を外気から遮断する間接的手法は、有機EL素子に与
える影響も無く、プロセスも比較的容易である。封着板
等による封止は、有機EL素子の支持基板と封止板を接
着剤等により接合するが、この方法においては、封着板
自体のガスバリア性が確保されていれば、封着板と基板
の接合を如何に良好に保持するかが課題である。最近
は、接着剤の開発が進み、高い封止効果が得られるよう
になってきている。ここで、封着板と基板の接合幅を広
くして固定すれは、耐久性は向上する。しかしながら、
あまりに接合幅をとりすぎると、装置本体の面積の割に
発光部領域が狭くなってしまう問題があり、例えばノー
トパソコンなどへの応用を考えた場合には、大きな欠点
となる。したがって、接合幅を大きくすることなく、封
止することが重要な検討事項となる。
のような現状であり、より低コスト、省プロセスで十分
な封止手段を見いだす努力がなされている。
駆動回路の仲介基板との接続は、従来液晶表示装置ある
いはプラズマ表示装置に見られるように、透明絶縁性基
板を用いてマトリックス状に表示素子が配置された表示
装置において、表示素子を駆動する駆動回路は、該表示
装置が形成された基板外の任意の場所に設けて前記表示
素子を駆動する回路との接続を仲介基板、特に折り曲げ
が可能なフレキシブルプリント基板と接続されている。
イは有機蛍光体薄膜を有機EL素子としているために、
液晶表示装置やプラズマ表示装置に比べて基板の軽量化
ができ、有機ELディスプレイ全体の軽量化や小型化が
可能となる特徴を有している。そのため、この特徴を活
かすために、外部駆動回路は有機ELディスプレイに隣
接して設置することが好ましく、有機EL素子駆動用引
き出し電極は前記有機EL素子を形成した同一基板上に
設けて、外部駆動回路と強固に接続することが重要な構
造的要素の一つとなっている。
断する目的でガラスあるいは金属板からなる封着板を有
機EL素子が形成された基板上に有機EL素子領域を囲
むように接着剤で接着した後有機EL素子駆動用引き出
し電極と外部駆動回路を封着板の外側で接続する方法が
一般的に採用されており、例えば特開平9−14806
6号公報に開示されている。
一例を示す平面図、図11は、図10におけるF−F’
線に沿う断面図である。従来の有機EL素子109は、
まず、透明なガラス基板101上に透明な陽極102を
配置し、その上に有機化合物からなる発光層を含む有機
化合物層104、更にその上に陰極金属103を積層す
ることにより形成される。次に有機EL素子領域の外側
に封着板105が接着剤108により接合される。封着
板105の外側に導出された駆動用引き出し電極部10
2a先端には、異方導電性フィルム106を介してフレ
キシブルプリント基板107aが接続されている。そし
て、フレキシブルプリント基板107aの他端は、前記
有機EL素子が形成された基板と別に設けられた外部駆
動回路と接続され、筐体内にフレキシブルプリント基板
を折り曲げ収納される。フレキシブルプリント基板10
7kについても同様である。
L素子駆動用引き出し電極とフレキシブルプリント基板
との接続が圧着や熱圧着による面接着であるため、接続
部の折り曲げ負荷に対する強度が弱く、接続部の一部あ
るいは接続部全体が剥がれるという問題があった。前述
したように、有機ELディスプレイは自発光であるため
高精細で発光応答速度が早く、また、発光素子膜厚が薄
いために基板の軽量化が可能という大きな特徴を有して
いる。これらの特徴を活かすべく有機ELディスプレイ
全体の軽量化や小型化が要求されているが、前記電極接
続部の幅を狭くして小型化すると、有機EL素子駆動用
引き出し電極とフレキシブルプリント基板との接続部の
接続長が短くなり、フレキシブルプリント基板の折り曲
げに対して接続部に更なる負荷が掛かり、フレキシブル
プリント基板が剥がれ易くなる。更に高精細になると引
き出し電極数が増大するため、引き出し電極幅は狭くな
り、接続強度が弱くなるという問題が発生する。
に示すように透明なガラス基板121上に形成された封
止部から導出された集電体延在部122aと接続されて
いる電極リード127の上に繊維強化樹脂層120を形
成することが開示されている。しかしながら、図10お
よび11における有機EL素子駆動用引き出し電極10
2とフレキシブルプリント基板107あるいは図12に
記載の集電体延在部122aと電極リード127との接
続は、いずれも封止部の外周部でされているため、有機
ELディスプレイの小型化には不利な構造となってい
る。
ものであり、上述したような電極接続部の信頼性低下を
防止し長期信頼性を確保すると同時に、小型化に有利な
有機ELディスプレイおよびその製造方法を提供するこ
とを目的としている。
基板上に表示画素がマトリックス状に配置され、前記画
素の駆動用引き出し電極と外部駆動回路とが仲介基板に
より接続されており、前記画素領域を覆って前記支持基
板上に第2の基板が接合されたディスプレイにおいて、
前記画素の駆動用引き出し電極と前記仲介基板とが前記
駆動用引き出し電極上で接続され、前記駆動用引き出し
電極と前記仲介基板との前記駆動用引き出し電極上の接
続部が前記第1の基板と前記第2の基板の接合部とで挟
み込まれていることを特徴とする。ここで、ディスプレ
イは、上述したELディスプレイに限定されるものでは
なく、従来駆動用引き出し電極を仲介基板と接続してい
る他のディスプレイ、即ち液晶ディスプレイやプラズマ
ディスプレイ等にも適用できる。本発明の好ましい適用
例であるELディスプレイとして、支持基板上に一対の
電極と、その間に少なくとも有機化合物からなる発光層
を含有する有機化合物層を挟持した構造の有機エレクト
ロルミネッセンス素子がマトリックス状に配置され、前
記有機エレクトロルミネッセンス素子の駆動用引き出し
電極と外部駆動回路とが仲介基板により接続されてお
り、前記有機エレクトロルミネッセンス素子領域を覆っ
て前記支持基板上に封着板が接合された有機エレクトロ
ルミネッセンスディスプレイにおいて、前記有機エレク
トロルミネッセンス素子の駆動用引き出し電極と前記仲
介基板とが前記駆動用引き出し電極上で接続され、前記
駆動用引き出し電極と前記仲介基板との前記駆動用引き
出し電極上の接続部が前記支持基板と前記封着板の接合
部とで挟み込まれていることを特徴とする。具体的に
は、前記接続部は前記支持基板と前記封着板の接合部位
とで接着剤により接合されている。前記仲介基板は、フ
レキシブルプリント基板であることを特徴とする。前記
支持基板上に形成される好ましい一対の電極は、前記支
持基板側の電極が透明電極であり、前記有機化合物層を
挟むもう一方の電極が金属電極である。前記有機EL素
子の駆動用引き出し電極と前記仲介基板との前記駆動用
引き出し電極上の接続部は、異方導電材料を介して接続
されていることを特徴としており、好ましくはバインダ
ー樹脂中に導電粒子が分散されている異方導電性フィル
ムである。前記有機EL素子の駆動用引き出し電極と前
記仲介基板との前記駆動用引き出し電極上の接続部と、
前記封着板の接合部とを接合する接着剤は、光硬化型あ
るいは熱硬化型の樹脂が使用でき、特にフィルム状のエ
ポキシ系樹脂が好適である。
の基板上に表示画素がマトリックス状に配置され、前記
画素の駆動用引き出し電極と外部駆動回路とが仲介基板
により接続されており、前記画素領域を覆って前記第1
の基板上に第2の基板が接合されたディスプレイの製造
方法において、第1の基板上に表示画素をマトリックス
状に配置する工程と、前記画素の駆動用引き出し電極と
前記仲介基板とを前記駆動用引き出し電極上で接続する
工程と、前記駆動用引き出し電極と前記仲介基板との前
記駆動用引き出し電極上の接続部を前記第1の基板と前
記第2の基板の接合部で挟み込む工程を含むことを特徴
とする。本発明の好ましい適用例であるELディスプレ
イにおいて、支持基板上に一対の電極と、その間に少な
くとも有機化合物からなる発光層を含有する有機化合物
層を挟持した構造の有機エレクトロルミネッセンス素子
をマトリックス状に配置する有機エレクトロルミネッセ
ンス素子形成工程と、該有機エレクトロルミネッセンス
素子の駆動用引き出し電極と外部駆動回路とを仲介基板
により接続し、前記有機エレクトロルミネッセンス素子
領域を覆って前記支持基板上に封着板を接合する実装工
程からなる有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ
の製造方法であって、前記実装工程が前記有機エレクト
ロルミネッセンス素子の駆動用引き出し電極と前記仲介
基板とを前記駆動用引き出し電極上で接続し、前記駆動
用引き出し電極と前記仲介基板との前記駆動用引き出し
電極上の接続部を前記支持基板と前記封着板の接合部と
で挟み込む工程を有することを特徴とする。ここで、前
記有機エレクトロルミネッセンス素子の駆動用引き出し
電極と前記仲介基板とを前記駆動用引き出し電極上で接
続する工程は、前記仲介基板に異方導電性フィルムを仮
接着後、前記引き出し電極と位置合わせし、続いて本圧
着する、あるいは、前記駆動用引き出し電極上に異方導
電性フィルムを仮接着後、前記有機エレクトロルミネッ
センス素子の駆動用引き出し電極と前記仲介基板とを位
置合わせし、続いて本圧着することを特徴とする。前記
有機エレクトロルミネッセンス素子の駆動用引き出し電
極と前記仲介基板との前記駆動用引き出し電極上の接続
部を前記支持基板と前記封着板の接合部とで挟み込む工
程は、前記接続部または封着板の接合部のいずれか一方
に接着剤を配置後、位置合わせして接合することを特徴
とする。また、前記有機エレクトロルミネッセンス素子
の駆動用引き出し電極と前記仲介基板とを前記駆動用引
き出し電極上で接続する工程と前記有機エレクトロルミ
ネッセンス素子の駆動用引き出し電極と前記仲介基板と
の前記駆動用引き出し電極上の接続部を前記支持基板と
前記封着板の接合部とで挟み込む工程は、前記仲介基板
への異方導電性フィルムの仮接着および前記接続部また
は封着板の接合部のいずれか一方への接着剤を配置後位
置合わせして、一括して接続および接合をすることを特
徴とする。そして、前記有機エレクトロルミネッセンス
素子形成工程は、支持基板上への陽極、少なくとも有機
化合物からなる発光層を含有する有機化合物層、陰極を
順次積層形成する工程からなり、前記発光層形成工程以
降は不活性雰囲気下で行うことを特徴とする。さらに、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子形成工程後の前
記実装工程を不活性雰囲気下で引き続き行うことを特徴
とする。
動用引き出し電極と外部駆動回路の仲介基板とが、前記
引き出し電極上で接続され、この接続部が更に支持基板
と封着板の接合部位とで挟み込まれている。この構造に
より、接続部の信頼性低下が防止され、長期信頼性を確
保することができる。同時に、接続部を封着板の外周部
に形成していないため、従来よりディスプレイの小型化
が図れる。本発明は、有機ELディスプレイに特に好適
であるが、他のディスプレイである液晶ディスプレイや
プラズマディスプレイ等画素の駆動用引き出し電極を仲
介基板と接続するディスプレイにも適用でき、小型化に
有効である。
て、有機ELディスプレイを例に図面を参照しながら詳
述する。なお、本発明は、これらの実施の形態例に限定
されるものではない。
L素子が3行、3列で配置されている場合を想定した本
発明の有機ELディスプレイの一実施例を説明する。図
1は平面図であり、図2,3および4は、図1のA−
A’線、B−B’線およびC−C’線にそれぞれ沿った
断面図である。図1においては、赤、緑、青の各色発光
領域がマトリックス状に配置されており、各々R、G、
Bで表している。各色の配置は、この配置に限定される
ものではない。各有機EL素子を行方向および列方向に
各々接続している陽極および陰極は、省略されている。
図2から図4に示す様に、ガラス基板11上に有機EL
素子用の陽極12およびこれと接続されている有機EL
素子駆動用の引き出し電極12aが列方向に平行に形成
され、有機EL素子用の陰極13と接続される駆動用の
引き出し電極12kが行方向に平行に形成されている。
この上に各表示領域を一括して覆うように正孔輸送層1
4Pが形成されている。また、この正孔輸送層14P上
に各色を表示する発光層14R(赤)、14G(緑)お
よび14B(青)が形成され、この上に図示していない
が電子輸送層が積層されている。さらに、有機EL素子
用の陰極13が行方向に平行に形成され、その先端が先
に形成された陰極13と接続される駆動用の引き出し電
極12kの端部と積層されている。また、引き出し電極
12aおよび12kの上には、各々金属層10が形成さ
れている。これは、配線および接続抵抗値を低減するた
めである。この金属層10の上には異方導電材料16を
介してフレキシブルプリント基板17aおよび17kが
各々接続されている。そして、この接続部は有機EL素
子19を外気と遮断するための封着板15の接合部とガ
ラス基板11の間に接着剤18を介して接合されてい
る。引き出し電極12aおよび12kが形成されていな
いガラス基板11の対向辺においては、ガラス基板11
と封着板15の接合部が直接接着剤18により接合され
ている。なお、引き出し電極12aおよび12kが形成
されていない対向辺側のガラス基板11上においても同
様に引き出し電極、その上に金属層を形成し、異方導電
材料を介してフレキシブルプリント基板を接続すること
ができる。また、電極形成をしていないダミー基板を高
さ調整用に介在させることもできる。なお、図3に示す
ように、異方導電材料による接着により、隣接する引き
出し配線間隙は異方導電樹脂で充填されるが、隣接配線
間のショートは発生しない。また、ガラス基板11と封
着板15の接合部との接着剤18による接合は、支持基
板と封着板との隙間が生じないように行われる。図3に
おいて、封着板側壁の端部と中央部で厚みに大きな段差
があるように記載されているが、これは寸法の異なるも
のを同一図面に記載しているためであり、実際はゼロか
らフレキシブルプリント基板と接着剤層の厚みの和以下
の範囲である。
料は特に限定されない。すなわち、支持基板、封着板、
陽極、有機化合物、陰極、異方導電材料、接着剤等は、
各種公知のものを使用できる。なお、本発明の有機EL
ディスプレイへの適用においては、支持基板は第1の基
板に、封着板は第2の基板に対応する。液晶ディスプレ
イやプラズマディスプレイへの適用においては、通常第
1の基板および第2の基板はともにガラス基板の平板が
用いられるが、有機ELディスプレイでは、支持基板は
平板、封着板は周辺部が表示領域に相当する内部より突
出した箱型あるいはキャップ状である。
支持基板としては、ガラス、プラスチック、石英、金属
等からなる板状、シート状あるいはフィルム状のものが
使用できる。特に、発光に対して高い透過性を有する透
明ガラス、ポリエステル、ポリメタクリレート、ポリカ
ーボネート等の透明プラスチック、石英等が好適であ
る。
グネシウム合金等の金属、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリカーボネート、ポリスチレン、ナイロン、ポリ
塩化ビニル等のプラスチック、およびこれらの複合物、
ガラス等が挙げられ、必要に応じてアルミニウム、酸化
アルミニウム、酸化ケイ素、窒化ケイ素等のガスバリア
層を積層することもできる。ガスバリア層は、封着板成
形前に封着板材料の両面若しくは片面にスパッタリン
グ、蒸着等により形成することもできるし、封着板成形
後に封着板材料の両面若しくは片面に同様な方法で形成
してもよい。なお、封着板には、必要に応じてのりしろ
部を設けることができる。
属、合金、電気導電性化合物およびこれらの混合物が挙
げられる。具体的には、Au,CuI,ITO,SnO
2,ZnO等の誘電性を有した透明材料または半透明材
料が挙げられる。一方、陰極材料としては、仕事関数の
小さい金属、合金、電気導電性化合物およびこれらの混
合物が挙げられる。具体的には、ナトリウム、マグネシ
ウム、銀、アルミニウム、リチウム、インジウム、希土
類金属等およびこれらの合金が挙げられる。上記陽極又
は陰極のいずれか一方を透明又は半透明とすることが、
電極自体を発光が透過して発光効率を向上させることが
できるため好ましい。
て、陽極から注入された正孔と陰極から注入された電子
を効率よく輸送して再結合させ、かつ再結合により効率
良く発光する材料から形成され、通常1種または複数種
の有機発光材料により形成される。具体的には、トリス
(8−ヒドロキシキノラト)アルミニウム(Al
q3)、4,4’−ビス(2,2’−ジフェニルビニ
ル)ビフェニル(DPVBi)、ビス(10−ヒドロキ
シベンゾ[h]キノラト)ベリリウム(BeBq2)等が
挙げられる。これらのホスト材料に、赤、緑、青の各色
を発現するためのドーパントを併用することにより、各
色の発光層が形成される。赤色のドーパントとしては、
4−ジシアノメチレン−2−メチル−6−(p−ジメチ
ルアミノスチリル)−4H−ピラン(DCM)、4−ジ
シアノメチレン−2−メチル−6−[2−(9−ユロリ
ジル)エテニル]−4H−チオピラン等ジシアノメチレ
ンピラン色素、フェノキサゾン誘導体、スクアリリウム
色素、緑色のドーパントとしては、キナクリドン、2,
9−ジメチルキナクリドン等キナクリドン誘導体、3−
(2−ベンゾチアゾリル)−7−ジエチルアミノクマリ
ン等クマリン誘導体、青色材料として、テトラフェニル
シクロペンタジエン、ペンタフェニルシクロペンタジエ
ン、テトラフェニルブタジエン誘電体、ペリレン誘導
体、ジベンゾナフタセン、ベンゾピレン等が挙げられ
る。また、発光効率の向上のために、必要に応じて正孔
輸送層と電子輸送層が併用される。正孔輸送層は、イオ
ン化ポテンシャルが小さく、正孔移動度が大きく、安定
性に優れ、トラップとなる不純物が製造時や使用時に発
生しにくい材料が使用される。例えば、N,N’−ジフ
ェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−1,
1’−ビフェニル−4,4’−ジアミン(TPD)、
N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(α−ナフチ
ル)−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミン(α
−NPD)、ポリビニルカルバゾール(PVK)等が挙
げられる。これらの化合物は、単独でもよいし、必要に
応じて混合してもよい。有機層の陽極への密着性を改善
させて、正孔注入の効率をさらに向上させる目的で、正
孔輸送層と陽極との間に正孔注入層を挿入することも行
われる。正孔注入層としては、銅フタロシアニン(Cu
Pc)、4,4’,4’’−トリス(3−メチルフェニ
ルアミノ)トリフェニルアミン(m−MTDATA)、
4,4’,4’’−トリス(2−ナフチルフェニルアミ
ノ)トリフェニルアミン(2−TNATA)等が挙げら
れる。電子輸送層としては、電子親和力が大きく、電子
移動度が大きく、安定性に優れ、トラップとなる不純物
が製造時や使用時に発生しにくい材料が使用される。具
体的には、2−(4−ビフェニルイル)−5−(4−t
−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール
(PBD)、3−(3−ビフェニルイル)−4−フェニ
ル−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,2,4−ト
リアゾール(TAZ)、トリス−(8−ヒドロキシキノ
ラト)アルミニウム(Alq3)等が挙げられる。ここ
で、PBDを電子輸送層として使用する場合、Alq3
を電子注入層として使用することもできる。
のキャリア輸送層と発光層を兼ねた構成とすること、あ
るいは3層以上とすることも可能である。具体例として
は、陽極/発光層/陰極、陽極/発光層/電子輸送層/
陰極、陽極/正孔輸送層/発光層/陰極、陽極/正孔輸
送層/発光層/電子輸送層/陰極、陽極/正孔注入層/
正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極、陽極/正孔輸
送層/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極、等が挙
げられる。ここで、各層は必ずしも1種類の化合物で構
成されるものではない。必要に応じて、数種類の材料を
混合することもできる。具体的には、発光層に別の蛍光
材料を添加し、添加した物質を発光させる、いわゆるド
ープ型発光としてもよい。また、耐熱性を向上させるた
めに、高分子をマトリックス材料として各層に混合させ
てもよい。なお、支持基板は陰極側としてもよいし、光
の取り出し方向もいずれでもよい。素子の製造順序は、
支持基板上に、陽極、正孔輸送層、発光層、電子輸送
層、陰極の順に積層していく方法が比較的簡便である
が、特に限定されるものではない。陰極側に支持基板を
設ける場合は、陰極、電子輸送層、発光層、正孔輸送
層、陽極の順に構成してゆく方法が簡便であるが、この
場合も特に限定されるものではない。
TO等の比較的高抵抗の材料を使用する場合、配線およ
び接続抵抗値を低下させるために低抵抗の金属層を積層
することが好ましい。使用される金属は特に限定され
ず、ニッケル、クロムあるいは金等の単層またはこれら
の複合膜等を用いることができる。これらの金属層は、
ITO層の上下いずれにも積層することができ、蒸着や
無電解メッキ等により形成することができる。
は、絶縁バインダー樹脂中に導電粒子が分散されている
ペーストあるいはフィルムが好適である。図5に異方導
電性フィルム(a)およびこれを用いた接続原理概略図
(b)である。異方導電性フィルム50を介して対向さ
れる第1の基板53と第2の基板54を熱圧着すると、
両者の電極55および56間に導電粒子51が介在する
ことにより、厚み方向の電気的接続が取られ、同時にバ
インダー樹脂52により機械的接合が取られる。熱圧着
により隣接電極間隙に過剰な溶融樹脂が流れ込み充填さ
れるが、隣接電極間に存在する導電粒子51は、隣接電
極間のショートを発生させないように配合量が調整され
ている。バインダー樹脂としては、エポキシ樹脂、フェ
ノール樹脂等の熱硬化樹脂、ポリアミドイミド等の熱可
塑性樹脂等が挙げられるが、樹脂の流動性、接続信頼
性、コスト、ポットライフ等の観点からフィルム状のエ
ポキシ樹脂が好適である。導電粒子としては、ニッケ
ル、銅、銀等の金属、アクリル樹脂、スチレン樹脂等の
プラスチック粒子の表面にニッケル、金等の金属メッキ
膜が被覆された複合粒子等が挙げられる。特に接続信頼
性の点で粒子自体が柔軟で復元性のあるプラスチック粒
子の表面にニッケル、金等の金属メッキ膜が被覆された
複合粒子が好適である。なお、導電粒子径は、通常3〜
5ミクロンである。一般的には電極高さと同等程度の厚
みの異方導電性フィルムが適用される。なお、異方導電
性材料の代わりに、引き出し電極上に導電ペーストを使
用して、隣接引き出し電極間隙に絶縁ペーストを各々印
刷等で形成することもできる。
接合に使用される接着剤には、熱硬化性樹脂、紫外線硬
化性樹脂が好適である。有機EL素子は、水分やアルコ
ール系ガス等に影響を受けやすいため、低透湿性、低ア
ウトガスの材料が要求される。また、有機EL素子は、
耐熱性に乏しいため、低温で硬化することができるもの
が好ましく、この点で紫外線硬化性樹脂は好適である。
紫外線硬化性の樹脂には、アクリル系とエポキシ系とが
あるが、エポキシ系はアクリル系に比べて硬化性には劣
るが、樹脂の取り扱い性(ポットライフ、臭気)、硬化
時の寸法安定性、硬化物特性(耐熱性、耐湿性)が優れ
るためより好ましい。しかしながら、紫外線が照射され
ると有機EL素子は損傷するため、樹脂の硬化の際は有
機EL素子に紫外線を照射しないように注意する必要が
ある。熱硬化型樹脂としては、硬化温度は80℃以下の
低温であるものが好ましいが、速硬化型の熱硬化樹脂で
あれば、有機EL素子への伝熱の影響は小さいため適用
できる。特に異方導電性フィルムのような硬化時間が数
秒から数十秒程度である樹脂であれば、有機EL素子に
直接加熱するわけではないので200℃程度の硬化温度
の樹脂でも適用できる。
板の概略を図6に示す。(a)はフレキシブルプリント
基板60の平面図、(b)および(c)は(a)のD―
D’線およびE−E’線、にそれぞれ沿った断面図を示
す。有機ELディスプレイと接続されるフレキシブルプ
リント基板の接続部は、(b)に示すように銅配線61
の一面を除いてポリイミド樹脂62で覆い尽くした形状
となっており、接続部断面は(c)に示すように銅配線
61の接続部61aが露出している。
について説明する。図7は、有機ELディスプレイを例
に接続部(図3:図1のB−B’断面参照)に着目して
示した第1の実施形態の製造工程である。まず、ガラス
基板上71に、ITO電極72および有機EL素子駆動
用引き出しITO電極72a、その上に正孔輸送層74
P、有機蛍光体薄膜74R、74G、74B、電子輸送
層(図示せず)および陰極金属73を順次積層して、図
1に示す様に有機EL素子をガラス基板71上にマトリ
ックス状に形成する。ここで、ITO電極72は同列の
画素を接続し、かつ駆動用引き出しITO電極72aと
接続されるように形成される。これらの形成は、ITO
をスパッタリング、蒸着等によりガラス基板71上全面
に形成後所望のパターンにエッチングして形成すること
ができる。あるいは予め所望のレジストパターンを形成
した上にITOを蒸着し、レジストパターンをリフトオ
フすることでも形成できる。さらに、所望のパターンが
開口された金属マスク等を用いて直接ITOをスパッタ
リング、蒸着等により形成することもできる。正孔輸送
層74Pは、図2に示したようにマトリックス状の各画
素を全て被覆するように形成してもよいし、各画素を構
成する各ITO電極72の上部あるいはその周辺部を含
めた範囲のみを被覆してもよい。電子輸送層は、正孔輸
送層同様にマトリックス状の各画素を全て被覆するよう
に形成してもよいし、各画素を構成する各有機蛍光体薄
膜74R、74G、74Bの上部あるいはその周辺部を
含めた範囲のみを被覆してもよい。陰極金属73は、同
行の画素を接続し、かつ駆動用引き出しITO電極と接
続されるように形成される。続いて、ITO電極72と
同時に形成された有機EL素子駆動用引き出しITO電
極72a上には、選択的にニッケル等の金属層70が無
電解メッキ、蒸着等により形成される。なお、これらの
金属層70は、ITO引き出し電極72a下に形成して
もよく、その場合上述の有機EL素子形成工程中に形成
することができる。次に、異方導電性フィルム76をガ
ラス基板71上の有機EL素子駆動用引き出しITO電
極72a上の金属層70に仮接着後フレキシブルプリン
ト基板87aの接続部を位置合わせして、両者を接着さ
せる。この接着は異方導電性フィルムの本圧着条件で行
うことが好ましい。そして、フレキシブルプリント基板
77aの接続部に相当する位置の裏面またはそれと対向
する封着板75の断面のいずれか一方に接着剤78を予
め配置しておき、接続部と封着板75を位置合わせ後、
両者を接合する。この接合には、熱硬化性樹脂あるいは
紫外線硬化樹脂が用いられる。有機EL素子は、前述し
たように紫外線が照射されると損傷するので、紫外線硬
化樹脂を使用する場合は有機EL素子に紫外線を照射し
ない様にマスクする必要がある。なお、この接着剤硬化
条件で硬化が進行する異方導電性フィルムを使用する場
合は、前記接着は導通が取れれば必ずしも異方導電性フ
ィルムの本圧着条件で実施する必要はない。
部に着目して示した第2の実施形態の製造工程である。
先の製造工程と異なる点は、異方導電性フィルム86を
ガラス基板81上の有機EL素子駆動用引き出しITO
電極82a上の金属層80に仮接着しておく代わりに、
異方導電性フィルム86がフレキシブルプリント基板8
7の接続部に仮接着されている点である。
続工程では、異方導電性フィルムによる有機EL素子駆
動用引き出しITO電極上の金属層とフレキシブルプリ
ント基板の接続と、フレキシブルプリント基板と封着板
との接続とを別工程で実施しているが、第3の実施形態
の様にフレキシブルプリント基板97aの裏面または封
着板95にフィルム状の接着剤98を配置しておき、3
者を同時に位置合わせした後一括して固定することも可
能である。
る。図2および図7を参照して第1の実施形態の実施例
を説明する。
る。厚さ1.1mmのガラス基板71上に透明電極とし
て有機EL素子用のITO電極72および有機EL素子
駆動用引き出しITO電極72aおよび72k(図示な
し)をスパッタリングにより約120nmの厚みで形成
後不要な部分をエッチングすることにより除去して形成
した。陽極側のフレキシブルプリント基板77aの各配
線と接続される引き出しITO電極72aは、同列のI
TO電極72と接続している。続いて、この基板上の有
機EL素子駆動用引き出しITO電極72aおよび72
k上にのみニッケル蒸着膜70を約300nmの厚みで
形成した。次に、正孔輸送材料74PとしてN,N’―
ジフェニルーN,N’―ジ(3−メチルフェニル)―
1,1’―ビフェニルー4,4’―ジアミンを50nm
程度の膜厚でITO電極72上を被覆するように真空蒸
着し、正孔輸送層74Pを一様に形成する。なお、各マ
トリックス状に形成されたITO電極72上およびその
周辺部のみを覆うように形成することもできる。その後
赤色の発光層を形成するITO電極72上に開口部を設
けたメタルマスクによって、赤色の有機発光材料74R
として、アルミキノリン錯体にドーパントとして4―ジ
シアノメチレンー2―メチルー6―(p―ジメチルアミ
ノスチリル)―4H―ピラン(DCM、ドーピング濃度
5wt%)を25nm程度共蒸着し、電子輸送層(図示
せず)としてアルミキノリン錯体を35nm程度の膜厚
とすべく真空蒸着した。次に緑色の発光層を形成するI
TO電極72上に開口部を設けたメタルマスクの位置合
わせ行い、緑色の有機発光材料74Gとして、ホストに
トリス(8―キノリノール)アルミニウム(アルミニウ
ム錯体)、ドーパントとしてキナクリドン(ドーピング
濃度5wt%)を25nm程度共蒸着し、続いて電子輸
送層(図示なし)としてトリス(8―キノリノール)ア
ルミニウムを30nm程度の厚みで蒸着した。更に青色
の発光層を形成するITO電極72上に開口部を設けた
メタルマスクのの位置合わせを行い、青色の有機発光材
料74Bとしてペリレンを25nm程度蒸着し、電子輸
送層(図示なし)としてトリス(8―キノリノール)ア
ルミニウムを35nm程度の厚みで蒸着し、蒸発源を変
えて陰極73として同行の発光素子領域を被覆し、且つ
同行方向の有機EL素子駆動用引き出しITO電極72
k(図示なし)の素子側の端部と接続されるようにメタ
ルマスクを介して陰極73の材料としてAL:Liを共
蒸着により30nm程度蒸着、その後アルミニウムのみ
を100nm程度蒸着してカラー3色独立の3行3列の
発光素子アレイを得た。
71と封着板75の接合工程について説明する。ガラス
基板71上に形成された有機EL素子駆動用引き出しI
TO電極72aおよび72k(図示なし)上に形成され
た金属層70上に異方導電性フィルム76を仮接着し、
これにガラス基板71上の金属層70とフレキシブルプ
リント基板77aおよび77k(図示なし)の銅配線部
が電気的に接続されるように対向位置合わせを行い、こ
の接続部のフレキシブルプリント基板77aおよび77
k上から温度200度、圧力30kg/cm2で熱圧着
して電気的に接続した。ここで、バインダー樹脂として
エポキシ樹脂、導電粒子として平均粒径5μmのニッケ
ル粒子を配合した異方導電性フィルム76を使用した。
この熱圧着により、隣接電極間隙には、異方導電性フィ
ルム76の溶融した過剰樹脂分が充填され、ガラス基板
71とフレキシブルプリント基板77aを機械的に接合
した。その後ガラス基板71およびフレキシブルプリン
ト基板77aおよび77kに対するガラス製封着板75
の接合面に100μmの厚みで紫外線硬化型エポキシ樹
脂78のペーストを印刷により形成した後、ガラス基板
71と封着板75の位置合わせを行って封着板75上か
ら封着板75の外周部に沿って、圧力10kg/cm2
を掛けながら波長350nmから500nmの紫外線を
照射して樹脂を硬化させ接合し、図3の構造を得た。な
お、この際有機EL素子上には紫外線が照射されないよ
うに、有機EL素子上を金属遮光マスクで被覆しながら
樹脂を硬化させた。
プレイを市販の熱衝撃試験(温度サイクル)処理槽を用
いて−35℃から85℃の熱衝撃試験を行った。熱衝撃
試験の温度プロファイルは、−35℃および85℃の保
持時間を各々20分間、昇温および降温に要する時間も
各々20分間とした。1000サイクル後この有機EL
ディスプレイを表示したが、ダークスポットは発生せ
ず、熱衝撃試験前と遜色のない表示が得られた。また、
フレキシブルプリント基板の折り曲げによるフレキシブ
ルプリント基板の剥がれ現象を完全に防止でき、かつ、
従来よりも有機ELディスプレイの小型化が図れた。
参照して説明する。
態と同様としてここでは省略し、有機EL素子を形成し
たガラス基板81と封着板85の接合工程について説明
する。ガラス基板81上に形成された有機EL素子駆動
用引き出しITO電極82aおよび82k(図示なし)
上に形成された金属層80上に、予めフレキシブルプリ
ント基板87aおよび87k(図示なし)の接続部に異
方導電性フィルム86が仮接着されたフレキシブルプリ
ント基板87aおよび87kを位置合わせ後、温度20
0度、圧力30kg/cm2で熱圧着して電気的に接続
した。ここで、バインダー樹脂としてフェノールノボラ
ック系エポキシ樹脂、導電粒子としてポリスチレン粒子
表面にニッケル、金が順次メッキされた平均粒径4μm
の導電粒子を配合した厚み25μmの異方導電性フィル
ム86を使用した。ガラス基板81およびフレキシブル
プリント基板87aおよび87kに対するステンレス製
の封着板85の接合面に100μmの厚みで熱硬化型エ
ポキシ樹脂88ペーストを印刷により形成した後、ガラ
ス基板81と封着板85の位置合わせを行って封着板8
5上からその外周部に沿って、温度80℃、圧力10k
g/cm2でエポキシ樹脂を熱硬化させ接合し、図3の
構造を得た。
プレイを、第1の実施例同様に熱衝撃試験を行った。1
000サイクル後この有機ELディスプレイを表示させ
たが、ダークスポットは発生しせず、熱衝撃試験前と遜
色のない表示が得られた。また、フレキシブルプリント
基板の折り曲げによるフレキシブルプリント基板の剥が
れ現象を完全に防止でき、かつ、従来よりも小型化が図
れた。
2の実施形態とほぼ同様である。異なる点は、ガラス基
板91上に有機EL素子駆動用引き出しITO電極92
aおよび92k(図示なし)と積層されるクロム層をま
ず400nm形成し、その上にITO電極92aが12
0nm形成されていることと、封着板95がのりしろ部
を有する点のみである。したがって、ここでは詳細な説
明を省略し、有機EL素子を形成したガラス基板91と
封着板95の接合工程について説明する。形成された有
機EL素子駆動用引き出しITO電極92a上に第2の
実施例で使用した異方導電性フィルム96を仮接着し
た。次に、引き出しITO電極92aおよび92kとフ
レキシブルプリント基板97aおよび97k(図示な
し)の銅配線部を位置合わせした。一方、ガラス基板9
1およびフレキシブルプリント基板97aおよび97k
に対するステンレス製の封着板95ののりしろ部を含め
た95の接合面に100μmの厚みの前記異方導電性フ
ィルム96と同一で導電粒子を含まない絶縁性エポキシ
樹脂98フィルムを仮接着した。その後、ガラス基板9
1と封着板95の位置合わせを行って封着板95ののり
しろ部上からその外周部に沿って、温度200℃、圧力
30kg/cm2で異方導電性フィルムおよび絶縁性エ
ポキシ樹脂フィルムを同時に熱圧着して熱硬化させ電気
的接続および機械的接合を一括して行い、図3と類似の
構造を得た。
プレイを、第1の実施例同様に熱衝撃試験を行った。1
000サイクル後この有機ELディスプレイを表示させ
たが、ダークスポットは発生せず、熱衝撃試験前と遜色
のない表示が得られた。また、フレキシブルプリント基
板の折り曲げによるフレキシブルプリント基板の剥がれ
現象を完全に防止でき、かつ、従来よりも小型化が図れ
た。
駆動用引き出し電極と外部駆動回路との接続部を基板間
に挟み込むという接着強度劣化防止手段によって、フレ
キシブルプリント基板の折り曲げによる前記フレキシブ
ルプリント基板の剥がれ現象を防止できる。本発明を有
機ELディスプレイに適用することにより、有機ELデ
ィスプレイの短命化を防止し長期信頼性を確保すること
ができる。また、フレキシブルプリント基板との接続部
が、従来は封着板外部であったが支持基板と封着板との
接合部まで内側になったことにより、従来に比べて有機
ELディスプレイの小型化が図れた。本発明は、上記各
実施例に限定されず、本発明の技術思想の範囲内におい
て、各実施例は適宜変更され得る。また、液晶ディスプ
レイやプラズマディスプレイ等駆動用引き出し電極と外
部駆動回路との接続にフレキシブル基板を使用している
他のディスプレイにおいても適用可能である。
ィスプレイの平面図である。
(a)およびこれを用いた接続原理概略図(b)であ
る。
平面図(a)、(a)のD−D’線に沿った断面図
(b)および(a)のE−E’線に沿った断面図(c)
である。
る。
る。
る。
る。
ある。
機EL素子駆動用引き出しITO電極 12k,102k 陰極側有機EL素子駆動用引き出し
ITO電極 13,103 陰極 14B,74B,84B,94B,104B 青色発光
層 14G,74G,84G,94G,104G 青色発光
層 14P,74P,84P,94P,104P 青色発光
層 14R,74R,84R,94R,104R 赤色発光
層 15,75,85,95,105 封着板 16,50,76,86,96,106 異方導電性フ
ィルム 17a,77a,87a,97a,107a 陽極側フ
レキシブルプリント基板 17k,107k 陰極側フレキシブルプリント基板 18,78,88,98,108 接着剤 19,109 EL素子 51 導電粒子 52 バインダー樹脂 53 第1の基板 54 第2の基板 55 第1の基板の電極 56 第2の基板の電極 60 フレキシブルプリント基板 61 銅配線 61a フレキシブルプリント基板の接続部 62 ポリイミド樹脂 120 繊維強化樹脂層 122 透明電極層 122a 集電体延在部 123 背面電極層 124 発光層 125 防湿フィルム 126 銀ペースト 127 電極リード 128 反射絶縁層 129 捕水層
Claims (19)
- 【請求項1】 第1の基板上に表示画素がマトリックス
状に配置され、前記画素の駆動用引き出し電極と外部駆
動回路とが仲介基板により接続されており、前記画素領
域を覆って前記支持基板上に第2の基板が接合されたデ
ィスプレイにおいて、前記画素の駆動用引き出し電極と
前記仲介基板とが前記駆動用引き出し電極上で接続さ
れ、前記駆動用引き出し電極と前記仲介基板との前記駆
動用引き出し電極上の接続部が前記第1の基板と前記第
2の基板の接合部とで挟み込まれていることを特徴とす
るディスプレイ。 - 【請求項2】 前記画素が有機エレクトロルミネッセン
ス素子、液晶素子、プラズマディスプレイの画素のいず
れか1つであることを特徴とする請求項1に記載のディ
スプレイ。 - 【請求項3】 支持基板上に一対の電極と、その間に少
なくとも有機化合物からなる発光層を含有する有機化合
物層を挟持した構造の有機エレクトロルミネッセンス素
子がマトリックス状に配置され、前記有機エレクトロル
ミネッセンス素子の駆動用引き出し電極と外部駆動回路
とが仲介基板により接続されており、前記有機エレクト
ロルミネッセンス素子領域を覆って前記支持基板上に封
着板が接合された有機エレクトロルミネッセンスディス
プレイにおいて、前記有機エレクトロルミネッセンス素
子の駆動用引き出し電極と前記仲介基板とが前記駆動用
引き出し電極上で接続され、前記駆動用引き出し電極と
前記仲介基板との前記駆動用引き出し電極上の接続部が
前記支持基板と前記封着板の接合部とで挟み込まれてい
ることを特徴とするディスプレイ。 - 【請求項4】 前記接続部が前記支持基板と前記封着板
の接合部で接着剤により接合されていることを特徴とす
る請求項3に記載のディスプレイ。 - 【請求項5】 前記仲介基板は、フレキシブルプリント
基板であることを特徴とする請求項1または3に記載の
ディスプレイ。 - 【請求項6】 前記支持基板上に形成された一対の電極
は、前記支持基板側の電極が透明電極であり、前記有機
化合物層を挟むもう一方の電極が金属電極であることを
特徴とする請求項3に記載のディスプレイ。 - 【請求項7】 前記駆動用引き出し電極と前記仲介基板
との接続部が異方導電材料を介して接続されていること
を特徴とする請求項1または3に記載のディスプレイ。 - 【請求項8】 前記異方導電材料は、バインダー樹脂中
に導電粒子が分散されていることを特徴とする請求項7
に記載のディスプレイ。 - 【請求項9】 前記異方導電材料は、異方導電性フィル
ムであることを特徴とする請求項7または8に記載のデ
ィスプレイ。 - 【請求項10】 前記駆動用引き出し電極と前記仲介基
板との接続部と、前記封着板の接合部位とを接合する接
着剤は光硬化型あるいは熱硬化型の樹脂であることを特
徴とする請求項4に記載のディスプレイ。 - 【請求項11】 前記光硬化型あるいは熱硬化型の樹脂
接着剤はフィルム状であることを特徴とする請求項10
に記載のディスプレイ。 - 【請求項12】 第1の基板上に表示画素がマトリック
ス状に配置され、前記画素の駆動用引き出し電極と外部
駆動回路とが仲介基板により接続されており、前記画素
領域を覆って前記第1の基板上に第2の基板が接合され
たディスプレイの製造方法において、第1の基板上に表
示画素をマトリックス状に配置する工程と、前記画素の
駆動用引き出し電極と前記仲介基板とを前記引き出し電
極上で接続する工程と、前記駆動用引き出し電極と前記
仲介基板との前記駆動用引き出し電極上の接続部を前記
第1の基板と前記第2の基板の接合部で挟み込む工程を
含むことを特徴とするディスプレイの製造方法。 - 【請求項13】 支持基板上に一対の電極と、その間に
少なくとも有機化合物からなる発光層を含有する有機化
合物層を挟持した構造の有機エレクトロルミネッセンス
素子をマトリックス状に配置する有機エレクトロルミネ
ッセンス素子形成工程と、該有機エレクトロルミネッセ
ンス素子の駆動用引き出し電極と外部駆動回路とを仲介
基板により接続し、前記有機エレクトロルミネッセンス
素子領域を覆って前記支持基板上に封着板を接合する実
装工程からなる有機エレクトロルミネッセンスディスプ
レイの製造方法であって、前記実装工程が前記有機エレ
クトロルミネッセンス素子の駆動用引き出し電極と前記
仲介基板とを前記駆動用引き出し電極上で接続し、前記
駆動用引き出し電極と前記仲介基板との前記駆動用引き
出し電極上の接続部を前記支持基板と前記封着板の接合
部とで挟み込む工程を有することを特徴とするディスプ
レイの製造方法。 - 【請求項14】 前記有機エレクトロルミネッセンス素
子の駆動用引き出し電極と前記仲介基板とを前記駆動用
引き出し電極上で接続する工程は、前記駆動用引き出し
電極上に異方導電性フィルムを仮接着後、前記有機エレ
クトロルミネッセンス素子の駆動用引き出し電極と前記
仲介基板とを位置合わせし、続いて本圧着することを特
徴とする請求項13に記載のディスプレイの製造方法。 - 【請求項15】 前記有機エレクトロルミネッセンス素
子の駆動用引き出し電極と前記仲介基板とを前記駆動用
引き出し電極上で接続する工程は、前記仲介基板に異方
導電性フィルムを仮接着後、前記駆動用引き出し電極と
位置合わせし、続いて本圧着することを特徴とする請求
項13に記載のディスプレイの製造方法。 - 【請求項16】 前記有機エレクトロルミネッセンス素
子の駆動用引き出し電極と前記仲介基板との前記駆動用
引き出し電極上の接続部を前記支持基板と前記封着板の
接合部とで挟み込む工程は、前記接続部または封着板の
接合部のいずれか一方に接着剤を配置後、位置合わせし
て接合することを特徴とする請求項14または15に記
載のディスプレイの製造方法。 - 【請求項17】 前記有機エレクトロルミネッセンス素
子の駆動用引き出し電極と前記仲介基板とを前記引き出
し電極上で接続する工程と前記有機エレクトロルミネッ
センス素子の駆動用引き出し電極と前記仲介基板との前
記駆動用引き出し電極上の接続部を前記支持基板と前記
封着板の接合部とで挟み込む工程は、前記仲介基板への
異方導電性フィルムの仮接着および、前記接続部または
封着板の接合部のいずれか一方への接着剤を配置後位置
合わせして、一括して接続および接合をすることを特徴
とする請求項13に記載のディスプレイの製造方法。 - 【請求項18】 前記有機エレクトロルミネッセンス素
子形成工程は、支持基板上への陽極、、少なくとも有機
化合物からなる発光層を含有する有機化合物層、陰極を
順次積層形成する工程からなり、前記発光層を含有する
有機化合物層形成工程以降は不活性雰囲気下で行うこと
を特徴とする請求項13に記載のディスプレイの製造方
法。 - 【請求項19】 前記有機エレクトロルミネッセンス素
子形成工程後の前記実装工程を不活性雰囲気下で引き続
き行うことを特徴とする請求項18に記載のディスプレ
イの製造方法。
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