JP2001286755A - 可視光励起可能な光触媒性組成物及び光触媒性薄膜並びにそれらの製造方法 - Google Patents
可視光励起可能な光触媒性組成物及び光触媒性薄膜並びにそれらの製造方法Info
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Abstract
とができ、穏和な条件で製造しうる可視光励起可能な光
触媒性組成物及び光触媒性薄膜並びにそれらの製造方法
を提供すること。 【解決手段】 アナターゼ型またはブルッカイト型酸化
チタンから成る光触媒とプロトン性溶剤に溶解したタン
グステンアルコキシドとを複合してなり、380〜45
0nmの可視光低波長領域の光に応答し得ることを特徴
とする可視光励起可能な光触媒性組成物及びこれを用い
た光触媒性薄膜。
Description
り光触媒活性を発現することができる光触媒性組成物及
び光触媒性薄膜並びにそれらの製造方法に関する。
ーンな光エネルギーを常温で化学エネルギーに変換する
環境調和型プロセスとして注目され、環境浄化や表面高
機能化等への応用研究が活発に行われている。例えば、
特開平9−71437号公報には、窓ガラスにプレコー
ト層を挟んで酸化チタン層を設けることにより、透明度
が高く、親水性で、汚れ防止性等、安定した光触媒機能
を有する窓ガラスが得られることが開示されている。ま
た、特開平11−151406号公報には、より一層光
触媒活性を高める目的でパラジウムを複合した酸化チタ
ン光触媒を紙製の基体に漉き込んだフィルタを作製し、
臭気成分であるホルムアルデヒドやNOx、更にはCO
を共に高い能力で除去できる空気清浄器が得られること
が開示されている。
は、アナターゼ型酸化チタン粒子とシリカを含有する光
触媒薄膜は、釉薬層の上に固定のため700℃以上で焼
成しても高温で安定なルチル型に相転移する割合が少な
く、高い光触媒性を維持できることを利用し、抗菌性や
汚れにくいタイルや衛生陶器を提供しうることが報告さ
れている。
光触媒は、約380nmよりも短い波長の紫外光領域で
は作用するが、波長の長い可視光領域での定常的な光触
媒反応は不可能とされてきた。このため、太陽光を用い
ると紫外光領域の光が5%程度しか存在しないため、特
に室内では水銀ランプのような高価な紫外光源が別途必
要であったし、使用できる用途も相当限定されてしま
う。そのため、可視光領域(約380〜780nm)の
光を有効に利用する試みが種々行われている。例えば、
可視光を吸収する色素を吸着させ、可視光を吸収して生
じた色素の励起状態から酸化チタンの伝導体へ電子注入
を起こさせ、この電子を回すことによって電池を形成す
ることが報告されている〔B.O′Regan and
M.Gratzel,Nature,353、737
(1991)〕。そのため、色素光増感剤としては種々
の化合物が合成され、現在最も効果の高いものとしてル
テニウム錯体、〔Ru(4,4−ジカルボキシ−2,2
−ビピリジン)2(NCS)2〕が知られているが、光増感
剤色素の安定性が大きな課題として残されている。
ることにより半導体の電子状態を改質する技術はよく用
いられ、電子デバイス等の半導体電子材料分野等では広
く応用されていることから、酸化チタンにクロム等のイ
オンをドーピングすることが検討されている。しかしな
がら、ドーピングしたクロムイオンが光照射で生成する
電子と正孔との再結合中心として働き、太陽光照射下の
みでなく紫外光領域の光照射においてもその活性は、ド
ーピングしていない元の酸化チタン光触媒に比較して著
しく低くなってしまう結果に終わっているのが現状であ
る。また、その化学的手法と異なり、高エネルギーで高
速に加速した金属イオンを注入することにより酸化チタ
ン半導体光触媒の可視光化が取り組まれている。これは
酸化チタンの結晶構造にダメージを与えることなく、金
属イオンを酸化チタンの内部に注入することが可能で、
そのため金属イオンの凝集は起こらず、原子・分子レベ
ルの高分散状態で金属イオンのドープが可能になるとさ
れている。しかしながら、実験室レベルではかなり高い
効果を得ているが、実用化にまでは至っていない。
は光触媒活性の向上を図る手段として光触媒活性点また
はその近傍にCu、Ag、Ni、Zn、Co、Fe、P
t、Pd等の貴金属やその酸化物等を担持させる方法が
開示されている。それによると光触媒の作用は、紫外線
等の照射によって、価電子帯にあった電子(e−)が伝
導帯に励起され、価電子帯には正孔(h+)が生じ、こ
れら電子(e−)及び正孔(h+)が酸化還元反応等
を、貴金属担持により発生した電子と正孔の分離促進で
加速すると従来から考えられていたが、活性点以外の箇
所における貴金属の担持はかえって光触媒活性を阻害す
る恐れがあるので、該公報では光触媒の形状によらず、
その活性点のみを選定して貴金属等を担持する方法を見
出している。しかしながら、この方法では紫外線の照射
量(照射時間)を減らすことができたが、波長の長い領
域での効果を保持することはできていない。
は、酸化チタンと、塩化タングステンとテトラヒドロフ
ランを含む光触媒性親水性コーティング組成物が開示さ
れているが、基材に光触媒性コーティング液を塗布した
後、それを更に焼成する手段を講じている。焼成時に塩
化タングステンが空気中の酸素種と反応して酸化タング
ステンに変わり、それが含有されていると一旦親水化さ
れた表面の遮光時の親水維持特性が向上すると報告され
ているが、その理由としては酸化タングステンが含有さ
れていないと、表面の極性が光の有無にかかわらず大き
な状態になるために、疎水性分子よりも極性分子である
水分子を選択的に吸着させやすく、そのために安定な物
理吸着水層が形成されやすいためと説明されている。し
かしながら、この方法では、焼成固化という厳しい条件
によって酸化タングステンを生成させなければならず、
また、光励起についても、波長領域が380nm以下の
紫外線を照射することが前提となっており、380nm
以上の波長領域においての酸化チタンの光励起について
は全く触れていない。
鑑み、可視光の照射により光触媒活性を発現することが
可能となり、穏和な条件で製造しうる可視光励起可能な
光触媒性組成物及び光触媒性薄膜並びにそれらの製造方
法を提供することを目的とする。
結果、タングステンアルコキシドを特定の溶剤に溶解し
た状態で酸化チタン光触媒溶液に添加することによっ
て、上記目的を達成しうることを見出し、本発明を完成
した。即ち、本発明は、アナターゼ型またはブルッカイ
ト型酸化チタンから成る酸化チタン光触媒とプロトン性
溶剤に溶解したタングステンアルコキシドとを複合して
なり、380〜450nmの可視光低波長領域の光に応
答し得ることを特徴とする可視光励起可能な光触媒性組
成物及びタングステンアルコキシドを、予めプロトン性
溶剤に溶解してから酸化チタン光触媒溶液に添加するこ
とを特徴とする可視光励起可能な光触媒性組成物の製造
方法を提供するものである。
可能な光触媒性組成物から成ることを特徴とする光触媒
性薄膜及びこのような光触媒性組成物を基材あるいは成
形物上に塗布した後、常温ないし120℃以下の温度で
乾燥することを特徴とする可視光励起可能な光触媒性薄
膜の製造方法を提供するものである。
説明する。半導体にそのバンドギャップ以上のエネルギ
ーをもつ光を照射すると、伝導帯に電子が、価電子帯に
電子の抜け殻(正孔)が生じる。この電子・正孔対を何
らかの方法で分離して、電子を外部回路に取り出すと光
で電流を得ることができる。これが太陽電池の原理であ
る。外部を流れた電子は仕事をして(ポテンシャルを下
げて)正孔と再結合する。伝導帯の下端が水素発生電位
よりもより負で、価電子帯の上端が酸素発生電位よりも
より正、すなわち、バンドギャップとして1.23eV
あれば熱力学的には水の完全分解は可能である。例え
ば、CdSeは非常に理想的なエネルギー構造をもって
いる。しかしながら、バンドギャップの小さい半導体は
いずれも光溶解反応を起こしてしまう。すなわち、水を
酸化する代わりに自分自身を酸化してしまうことで、光
触媒としては利用できない。
な酸化力が利用される。光励起の結果、上述の価電子帯
の正孔は酸化チタンの表面に存在する水酸基と結合し、
生成した水酸ラジカル(・OH)はフッ素分子に匹敵す
る酸化力を有し、有機分子の常温分解に寄与する。一
方、伝導帯の電子は、酸化チタンに吸着した有機分子を
還元して有機分子の酸化に寄与する酸素アニオンラジカ
ルを与えるので、O3 やH2 O2 よりも強く、殆どの有
機物をその構成元素(炭素,水素,硫黄,窒素)から最
終的に炭酸ガス,水,硫酸,硝酸にまで分解されると言
われる。実用では、バンドギャップが3.2eVと比較
的大きく、かつ伝導帯の位置の高いアナターゼ型、次い
でブルッカイト型酸化チタンが、現在安定で高活性な光
触媒として注目されている。しかしながら、これらの酸
化チタンは、紫外光領域にのみ光吸収をもつため、可視
光領域の光は吸収できず、太陽光の3〜5%しか利用で
きない。
ギャップが小さい方が良いが、量子効率が著しく低いこ
とや生成した準位はバンドギャップ励起により生成した
電子・正孔対の再結合センターとしても作用するため、
電荷分離効率が低下する。ルチル型酸化チタンはその例
である。ルチル型酸化チタンのギャップエネルギーは光
の波長に換算すると、その波長領域がわずか可視光側に
寄っているにもかかわらず、電子と正孔の再結合が激し
いため光触媒としての能力が低い。
はブルッカイト型酸化チタンとタングステンアルコキシ
ドとを複合すると、光触媒酸化チタンの光吸収が長波長
側へシフトし、即ち380〜450nmの波長領域でも
光触媒としての機能を発揮することが可能となり、可視
光波長領域の光量が多いため活性が高く、またその応用
範囲が一気に拡大されることが期待される。
以上の波長領域ではそれ程応答性はない。しかし、本発
明による酸化チタンとの組合せによってはじめて長波長
へのシフトが認められる。その理由については、まだ充
分には解明されていないが、光照射で生成した半導体中
の電子の還元作用を高め、結果として半導体中での電子
と正孔の電荷分離を促進することや、半導体表面上での
酸化物の還元や酸化反応における触媒作用や反応物を選
択的に吸脱着させる効果等が一因として考えられ、これ
らの相乗効果によってエネルギーの低い長波長領域の光
でも励起されるものと推定される。一方、アナターゼ型
およびブルッカイト型酸化チタンのみならず、ルチル型
酸化チタンも電子と正孔との分離促進効果によって両者
の再結合を抑制され、活性が高まることにより光触媒効
率の向上が図られるものと期待できる。
は、市販のものでよいが、酸化チタンとの複合のため溶
剤に対する溶解性が必要である。溶解しないタングステ
ン化合物は酸化チタンの活性点近傍に均一に存在するこ
とが難しく、相乗効果が得られ難い。これは、溶解状態
のタングステンが酸化チタンとミクロンオーダーまたは
ナノスケールでの複合により、電荷の再結合が起こりに
くいためと推定される。
シドを良好に溶解させるため、プロトン性溶剤を用い
る。これは酸化チタン光触媒のコーテイング液は殆どア
ルコール類等の極性が強い溶剤を使用しているため、そ
の溶剤とよく溶け合うように選択する必要がある故であ
る。また、溶剤は、タングステンアルコキシドが良く溶
け、かつ沸点が150℃以下のものが好ましい。本発明
の光触媒性組成物に使用される溶剤の沸点が150℃を
超えると、塗布後の塗膜の乾燥が遅くなったり、乾燥温
度も高くなったりするため好ましくないので、タングス
テンアルコキシド溶解用溶剤は基本的にはこれと性質的
に近いものの使用が望まれる。タングステンアルコキシ
ドを溶解するため使用するプロトン性溶剤の具体例とし
ては、水、エタノール,イソプロパノール、エチレング
リコール,プロピレングリコール等のアルコール類、酢
酸エチル,酢酸ブチル等のエステル類などが挙げられ
る。このようなプロトン性溶剤を用いることによって、
タングステンアルコキシドを良好に溶解させることがで
き、溶解状態のタングステンが酸化チタンの活性点近傍
に均一に存在することができ、酸化チタンとミクロンオ
ーダーまたはナノスケールで複合することができる。
の出発物としては、上記のようなプロトン性溶剤に溶解
するものであれば、各種のものであってよく、何らかの
手段によって変化を起こし最終的に一部でも酸化タング
ステンの形で光触媒の酸化チタン活性点近傍に存在して
いれば、本発明の相乗効果が得られ、光触媒酸化チタン
の光吸収が長波長側へシフトし、即ち380〜450n
mの波長領域でも光触媒としての機能を発揮することが
可能となる。本発明においては、タングステンアルコキ
シドを予め上記のようなプロトン性溶剤に溶解させる必
要があるが、溶解方法は公知の方法に従えばよい。
する理由の一つは、タングステンアルコキシドが上述の
プロトン性溶剤であるアルコール類に可溶であることで
あるが、タングステンアルコキシドは加水分解を起こす
ので、光触媒の酸化チタン或いはバインダーに使われる
二酸化けい素近傍の水酸基と縮合反応を起こし、結合す
ることによって光触媒の活性点に強繋することができ、
タングステンアルコキシド自身は部分的に或いは完全に
酸化物となり、酸化チタンとの複合による相乗効果に大
きく寄与することが期待されるためである。
価でも6価でも効果に殆ど差異がなく、例えば、5価の
タングステンの化合物であるタングスト(V)イソプロ
ピルオキシド〔W(Oipr)5 〕や6価のタングステ
ンの化合物であるタングスト(VI)イソプロピルオキ
シド〔WO(Oipr)4 〕等が好適に使用できる。タ
ングステンアルコキシドの添加量は酸化チタンに対し
0.1〜10重量%とすればよく、1〜5重量%の範囲
が好ましい。この添加量が0.1重量%より少なければ
複合による相乗効果が得られ難く、一方10重量%を超
えてもそれ以上の効果が期待できない。
を行うためには紫外線を多く発生する水銀ランプ等の光
源が必要であったが、本発明のタングステンアルコキシ
ドを複合した酸化チタン光触媒を用いれば、光源として
は380nm以上の波長領域の光を出す光源であれば良
い。屋外では太陽光をより効率良く使用できるし、室内
でもメタルハライドランプ,蛍光灯,白熱灯,陽光灯,
ハロゲンランプ,ナトリウムランプ等、通常の照明用ラ
ンプの光を効率よく使えることから、光触媒の用途が著
しく広がる。さらに、従来の紫外線の利用では、人体に
対する危険性が高く、心配されていた。しかし、本発明
の光触媒性組成物を用いれば、可視光で効率よく光触媒
の励起を行うことができ、可視光は目に優しく、オゾン
発生の危険性も少ないため、光触媒作用を利用する各種
機器で効率を上げるためにUV光発生の高いランプの代
わりに通常の照明ランプ等が使用可能となる。
液として各種基材や成形物に塗布・乾燥することにより
光触媒性薄膜を作ることができる。光触媒性薄膜の膜厚
は0.1〜5μmの範囲でよく、好ましくは2μm以下
である。これにより光干渉による表面層の発色を防止す
ることができる。また、表面層が薄ければ薄い程部材の
透明度を確保することができ、膜厚を薄くすれば表面層
の耐磨耗性も向上する。
スクリーン印刷法,グラビア印刷法,ロールコート法,
スプレー吹き付け法,デイップコーティング法,スピン
コーティング法などが挙げられる。コーティング液の塗
布後、塗膜を室温で乾燥しても良いが、より早く機能を
発現するには、ある程度の加温が好ましい。基材や成形
物が無機質であれば少々高温でも問題ないが、有機質成
形物の場合、温度が高ければ基材や成形物の劣化を生じ
るので、極力低温で加工するのが好ましい。通常の熱硬
化性樹脂を使用した基材や成形物で、短時間での加熱温
度は150℃位が限度とされている。本発明方法におけ
る塗膜の乾燥条件としては、温度120℃以下、時間5
〜60分で十分性能が得られる。
ような問題を抱えている。1つは光触媒の強力な酸化力
によって有機質の基材や成形物まで分解されてしまう恐
れがある。もう1つは光触媒の基材や成形物への接着性
である。これを解決するには、基材や成形物と光触媒層
との中間に接着保護層を設ける手段がある。本発明で
は、有機・無機のハイブリッド材を用いその役割を果た
すことが可能である。ハイブリッド材の有機部分は下地
の有機質基材との接着性を向上し、一方無機部分は表面
の光触媒の分解に対する耐性を有することになる。中間
層を設けることで有機質である各種プラスチック成形物
への応用が可能となる。
光波長領域においても優れた光触媒性を発現するのみな
らず、高度かつ半永久的親水性となるので、防曇,防
滴,防汚,自己洗浄性(セルフクリーニング)等の向上
が期待される。これによって、例えば、各種建築外装材
料や建造物の環境汚染による汚れ防止に役立つものと考
えられる。親水性であれば油性汚染物が付着しにくく、
堆積物は降水に伴って雨水により流され、常にきれいな
表面を保持することができる。また、本発明の光触媒性
薄膜は、大気中のCO2 、NOx及びSOx等の物質を
除去する能力を有することから、居住空間の脱臭,抗
菌,防カビ等への期待も考えられる。
金属,アルミ等の合金,ガラス,セラミックス,セメン
ト,コンクリート等の無機質は勿論のこと、低温硬化が
可能であるため、プラスチックや繊維,布,紙等の有機
質およびそれらの組合せ、それらの積層体、成形体が好
適に利用できる。有機無機の複合材料の一例として、樹
脂および充填材,ガラス繊維等を混合し、バルク状に1
次加工して得られるバルクモールディングコンパウンド
(BMC)や、樹脂と充填材,触媒,離型剤等を混合し
て更にガラスチョップストランドに含浸させ、シート状
に1次加工して作られるシートモールディングコンパウ
ンド(SMC)等がある。上記適用可能な基材を用途で
言えば、自動車,鉄道車輌,航空機,船舶,潜水艇,雪
上車,スノーモービル,オートバイ,ロープウエイのゴ
ンドラ,遊園地ゴンドラ,宇宙船等の乗り物関係,各種
建材,建築外装,内装,構造部材,交通標識,各種表示
看板,広告塔,道路用防音壁,鉄道用防音壁,橋梁,ガ
ードレール等建築関係,各種住宅設備,便器,浴槽,洗
面台,照明器具,照明カバー,台所用品,食器,食器洗
浄器,食器乾燥器,流し台,換気扇等住宅関係及び上記
物品表面に貼付させるためのフィルムを含む。
更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。
化合物であるタングスト(V)イソプロピルオキシド
〔W(Oipr)5 〕を、固形分として約5重量%にな
るようにイソプロピルアルコールに溶解した。この〔W
(Oipr)5 〕のイソプロピルアルコール溶液を、光
触媒として市販のアナターゼ型酸化チタンであるSTS
−K02(商品名、石原テクノ製、固形分濃度10重量
%)に1mol%添加し、本発明の光触媒性組成物液を
得た。一方、接着保護層の形成には、SiO2 とバイン
ダーとの組合せによるコルコートP(商品名、石原テク
ノ製、液の固形分濃度2重量%)を用いた。基材として
は、ビニルエステル樹脂であるリポキシR802(商品
名、昭和高分子製)に硬化剤としてt−ブチルパーベン
ゾエート0.4重量部を配合して硬化させて得られた成
形物を使用した。この成形物にまず上記接着保護液を、
ディップ法(引き上げ速度20cm/分)でドライ膜厚
が約5000Åになるように塗布し、室温で約20分放
置後100℃で20分間、加熱乾燥を行い、接着保護層
を形成した。この接着保護層の上に、上記光触媒性組成
物液をドライ膜厚で約12000Åになるように同様に
ディップ法で塗布し、接着保護層と同様な条件で乾燥さ
せ、本発明の光触媒性薄膜を形成した。
製、固形分濃度10重量%)を用い、光触媒としてアナ
ターゼ型酸化チタンであるNDC−100C(商品名、
日本曹達製、固形分濃度8重量%)を用いた以外は、す
べて実施例1と同様にして本発明の光触媒性薄膜を形成
した。
のを用いた以外は、実施例1と同様にして本発明の光触
媒性薄膜を形成した。接着保護液:テトラエトキシシラ
ン120重量部、トリメトキシメチルシラン80重量
部、アルコキシシランのKBM−503(商品名、信越
化学製)40重量部、酢酸エチル80重量部、35%塩
酸0.2重量部及び水40重量部を一括混合し、攪拌し
ながら70℃で6時間加熱処理する。得られたシリカゾ
ルを、ビニルエステル樹脂であるリポキシVR77(商
品名、昭和高分子製)および多官能基モノマーであるト
リメチロールプロパントリアクリレートと固形分比率が
2/1/1の割合で液の固形分濃度10重量%になるよ
う調整した後、光硬化剤としてダロキュア−1173を
1重量%添加し、接着保護液とした。引き上げ速度20
cm/分でディッピングし、室温にて約10分放置後U
V照射(1000mJ/cm2 )し、硬化を行う。光触
媒性組成物液:イソプロピルアルコール42.7gにメ
タノール性シリカゾル(日産化学製)3.3gおよびト
リメトキシメチルシラン1gを添加し、均一に混合した
後、更に酸化チタンゾルTR−53(商品名、日産化学
製)および予め調整しておいたタングステン(V)アル
コキシド〔W(Oipr)5 〕のイソプロピルアルコー
ル溶液を添加し、光触媒性組成物液を得た。
13(商品名、昭和電工製)を用いた以外は、すべて実
施例3と同様にして光触媒性薄膜を形成した。
の化合物であるタングスト(VI)イソプロピルオキシ
ド〔WO(Oipr)4 〕を用いた以外は、すべて実施
例1と同様にして光触媒性薄膜を形成した。
31(商品名、昭和高分子製)を硬化させて得られた成
形物を用いた以外は、すべて実施例1と同様にして光触
媒性薄膜を形成した。
バルクモールディングコンパウンド(BMC)の成形材
料であるリゴラックBMC RNC−410(商品名、
昭和高分子製)を用いて成形した成形物を用いた以外
は、すべて実施例1と同様にして光触媒性薄膜を形成し
た。
材,触媒,離型剤等を含浸させて作られるシートモール
デイングコンパウンド(SMC)であるリゴラックSM
C MG−100(商品名、昭和高分子製)を用いて成
形した成形物を用いた以外は、すべて実施例1と同様に
して光触媒性薄膜を形成した。
実施例1と同様にして光触媒性薄膜を形成した。
実施例2と同様にして光触媒性薄膜を形成した。
実施例3と同様にして光触媒性薄膜を形成した。
実施例4と同様にして光触媒性薄膜を形成した。
の酸化物であるWO3を用いた以外は、すべて実施例1
と同様にして光触媒性薄膜を形成した。WO3 の場合、
イソプロピルアルコールに溶けないため極力強力な攪拌
にて分散を行った。
テン〔WCl6 〕を用いた以外は、すべて実施例1と同
様にして光触媒性薄膜を形成した。
I)りん酸n水和物〔H3 (PW12O40)nH2 O〕を
用いた以外は、すべて実施例1と同様にして光触媒性薄
膜を形成した。
I)けい酸26水〔SiO2 ・12WO3 ・26H
2 O〕を用いた以外は、すべて実施例1と同様にして光
触媒性薄膜を形成した。
コキシドを単独使用した。この場合、タングスト(V)
イソプロピルオキシド〔W(Oipr)5 〕を3.52
3g取り、30gのイソプロピルアルコールに溶解し、
このイソプロピルアルコール溶液にメタノール性シリカ
ゾル0.7gとトリメトキシメチルシラン0.21gを
添加して比較用の光触媒性コーテイング液を得た。その
他はすべて実施例1と同様にして光触媒性薄膜を形成し
た。
コルコートP(商品名、石原テクノ製)を使用しない以
外は、すべて実施例1と同様にして光触媒性薄膜を形成
した。
触媒性薄膜について、下記の試験を行い、結果を第1表
及び第2表に示す。 膜厚測定 表面形状測定装置Dektak3(日本真空技術製)を
用い、段差による表面塗布膜厚を測定する。
度を測定する。 基材との密着性測定 JIS K5400に準じて碁盤目テープ剥離テストを
実施する。 耐水性測定 JIS K5400に準じて100℃の蒸留水に10分
間浸漬した後、表面の状態を観察する。 ○ 変化無し △ わずかに変化あり × ふくれ或いは剥がれが認められる
せ、所定波長領域の光を所定照射量で照射し、照射後の
サラダオイルの重量減からオイル分解率を算出する。
表面に煙草ヤニを付着させ、上記オイル分解テストと同
様に所定波長領域の光を所定照射量で照射し、照射後の
表面状態を観察する。 ○ ヤニは完全に消える △ ヤニは若干残る(薄い黄色) × ヤニは殆ど残る
煙草ヤニ分解テストは、陽光ランプD125(東芝ライ
テック製)を使用し、下記の各種フィルター(富士フィ
ルム製)により光の波長領域を制御して行った。得られ
た結果をそれぞれ第1表及び第2表にまとめて示す。 カットフィルターを使用しない:陽光ランプの全波
長領域 SC38フィルター使用:380nm以下の波長領
域カット SC42フィルター使用:420nm以下の波長領
域カット
及び光触媒性薄膜は、アナターゼ型またはブルッカイト
型酸化チタンから成る光触媒とタングステンアルコキシ
ドとを穏和な条件で複合することによって容易に製造さ
れ、380〜450nmの可視光低波長領域の光に応答
することができる。これによって、用途が屋外の場合、
吸収波長が長波長領域へシフトするため太陽光による照
射光量が増え、光触媒活性が向上する。一方、屋内使用
の場合に従来必要とされていた水銀灯等、紫外線を多く
発生する光源がなくても、通常照明用ランプの光を効率
良く使用でき、応用範囲が一躍拡大する。また、人体に
対する危険性の高い紫外線利用を避けることによる意味
も大きい。可視光では目に優しく、オゾン発生の危険性
も少ないことから環境保全に大いに役に立つものであ
る。
Claims (7)
- 【請求項1】 アナターゼ型またはブルッカイト型酸化
チタンから成る酸化チタン光触媒とプロトン性溶剤に溶
解したタングステンアルコキシドとを複合してなり、3
80〜450nmの可視光低波長領域の光に応答し得る
ことを特徴とする可視光励起可能な光触媒性組成物。 - 【請求項2】 プロトン性溶剤がアルコールまたはエス
テルである請求項1に記載の可視光励起可能な光触媒性
組成物。 - 【請求項3】 タングステンアルコキシドの添加量が、
酸化チタン光触媒に対して固形分換算で0.1〜15重
量%の範囲である請求項1又は2に記載の可視光励起可
能な光触媒性組成物。 - 【請求項4】 タングステンアルコキシドを、予めプロ
トン性溶剤に溶解してから酸化チタン光触媒溶液に添加
することを特徴とする可視光励起可能な光触媒性組成物
の製造方法。 - 【請求項5】 請求項1〜3のいずれか1項に記載の可
視光励起可能な光触媒性組成物から成ることを特徴とす
る光触媒性薄膜。 - 【請求項6】 請求項1〜3のいずれか1項に記載の可
視光励起可能な光触媒性組成物を基材あるいは成形物上
に塗布した後、常温ないし120℃以下の温度で乾燥す
ることを特徴とする可視光励起可能な光触媒性薄膜の製
造方法。 - 【請求項7】 基材あるいは成形物の表面に予め接着保
護層を形成する請求項6に記載の可視光励起可能な光触
媒薄膜の製造方法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004329916A (ja) * | 2003-04-14 | 2004-11-25 | Showa Denko Kk | 発光ダイオードを用いた光触媒装置及び発光ダイオードの使用方法 |
JP2014217838A (ja) * | 2013-04-30 | 2014-11-20 | イエフペ エネルジ ヌヴェルIfp Energies Nouvelles | 水素化処理または水素化分解における使用のためのタングステンをベースとする触媒の調製方法 |
EP2816087A1 (en) | 2005-12-13 | 2014-12-24 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Aqueous organic-inorganic hybrid composition |
CN113683910A (zh) * | 2020-05-18 | 2021-11-23 | 金百利科技(深圳)有限公司 | 一种具有高效光催化功能的光催化涂料及制备方法 |
CN113831017A (zh) * | 2021-07-28 | 2021-12-24 | 景德镇陶瓷大学 | 一种应用于提高锐钛矿TiO2超亲水自清洁陶瓷釉的涂层及其应用方法 |
-
2000
- 2000-04-06 JP JP2000104515A patent/JP4381558B2/ja not_active Expired - Lifetime
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