JP2001284520A - Circuit board for semiconductor chip mounting, manufacturing method for the circuit board, circuit board for relay connecting, semiconductor device and connecting structure between the semiconductor devices - Google Patents

Circuit board for semiconductor chip mounting, manufacturing method for the circuit board, circuit board for relay connecting, semiconductor device and connecting structure between the semiconductor devices

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JP2001284520A
JP2001284520A JP2000101856A JP2000101856A JP2001284520A JP 2001284520 A JP2001284520 A JP 2001284520A JP 2000101856 A JP2000101856 A JP 2000101856A JP 2000101856 A JP2000101856 A JP 2000101856A JP 2001284520 A JP2001284520 A JP 2001284520A
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JP
Japan
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insulator
external input
wiring
semiconductor
wiring board
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JP2000101856A
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Japanese (ja)
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Hideki Iwaki
秀樹 岩城
Tetsuyoshi Ogura
哲義 小掠
Yutaka Taguchi
豊 田口
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Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73203Bump and layer connectors
    • H01L2224/73204Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To resolve a trade-off problem which is observed between a requiring of deducing a signal delay caused by a too long wiring which is generated by accompanied by making a high density, a high integration and a high speed operation of a semiconductor device and a requiring of eases for several tests such as burn-in and so on and for repairing. SOLUTION: Circuit patterns 104 and 105 are formed on both upper and lower surfaces of an insulating body 101 and a circuit board 100A is made while connecting electrodes 107 for terminal surface type external input and output by performing dicing under the condition of passing through vias 106 which connects both the circuit patterns. Flip chip bonding of a semiconductor chip 200A with a circuit board 100A is made. When a plurality of semiconductor device 300A and 300A are mounted on a mother board 401, direct connection of the connecting electrodes 107 and 107 for external input and output is made (direct connecting part 404) to connect a semiconductor chip 200A and 200A each other.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、絶縁体上に形成し
た配線パターンの内端側に、この絶縁体に搭載すべき半
導体チップとの接続部分を有し、前記配線パターンの外
端側に外部との入出力のための接続部分を有している半
導体チップ搭載用の配線基板、ならびに、そのような配
線基板の製造方法にかかわるものである。また、本発明
は、そのような配線基板を用いて半導体チップを搭載し
てなる半導体装置にかかわるものである。さらに、本発
明は、そのような半導体装置の複数をマザー基板に実装
して、半導体チップどうしを接続する半導体装置間接続
構造にかかわるものである。より詳しくは、半導体装置
の高密度化・高集積化・高速動作化などに伴って発生す
るところの、配線長が大きいことに起因する信号遅延の
低減要求とバーンインなどの各種テストおよびリペア
(修復)の容易性要求との間にみられるトレードオフ
(二律背反)の問題を解消するための技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wiring pattern formed on an insulator and having a connection portion with a semiconductor chip to be mounted on the insulator at an inner end side of the wiring pattern. The present invention relates to a wiring board for mounting a semiconductor chip having a connection portion for input and output with the outside, and a method for manufacturing such a wiring board. Further, the present invention relates to a semiconductor device having a semiconductor chip mounted using such a wiring board. Further, the present invention relates to a connection structure between semiconductor devices in which a plurality of such semiconductor devices are mounted on a mother board and semiconductor chips are connected to each other. More specifically, there is a demand for a reduction in signal delay caused by a large wiring length and various tests such as burn-in and repair (repair), which are caused by high density, high integration, and high speed operation of semiconductor devices. The present invention relates to a technique for solving the problem of a trade-off (a trade-off) between the requirement for ease of use and the requirement for ease of use.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体装置は一般的に、半導体チップを
パッケージに収納した形態となっている。それは、主と
して半導体チップの保護を図るためである。
2. Description of the Related Art Generally, a semiconductor device has a form in which a semiconductor chip is housed in a package. This is mainly to protect the semiconductor chip.

【0003】最近では、電子機器の小型化のために、上
記の半導体装置の小型化が推進されている。この小型化
が行われているパッケージの一つに、プラスチックパッ
ケージがある。これは、所定位置に半導体搭載部、信号
配線部、電源配線部等を配置する形状に打ち抜いたリー
ドフレーム上に、半導体チップを搭載し、Au等のボン
ディングワイヤーで半導体チップの電極とリードフレー
ムの電極とを電気的に接続し、エポキシ樹脂等の熱硬化
性樹脂でパッケージしたものである。
In recent years, miniaturization of the above-described semiconductor devices has been promoted for miniaturization of electronic equipment. One of the packages in which such miniaturization is performed is a plastic package. This is because a semiconductor chip is mounted on a lead frame punched into a shape in which a semiconductor mounting portion, a signal wiring portion, a power supply wiring portion, and the like are arranged at predetermined positions, and the electrodes of the semiconductor chip are connected to the lead frame with a bonding wire such as Au. The electrodes are electrically connected and packaged with a thermosetting resin such as an epoxy resin.

【0004】しかし、このプラスチックパッケージ型半
導体装置では、電気的接続をボンディングワイヤーで行
うので、リードフレーム上の半導体搭載部分の周辺に、
ワイヤーボンディングを行うための配線領域を設ける必
要があり、必然的に半導体チップそのものよりも所要面
積が大きくなり、パッケージの小型化の障害になってい
る。
However, in this plastic package type semiconductor device, the electrical connection is made by a bonding wire, so that the area around the semiconductor mounting portion on the lead frame is
It is necessary to provide a wiring region for performing wire bonding, which inevitably requires a larger area than the semiconductor chip itself, which is an obstacle to miniaturization of the package.

【0005】さらに、半導体チップの動作速度が高速に
なるに従い、半導体チップを収納するパッケージに対し
ても、できるだけ信号遅延を小さくすべきとする要求が
強くなり、半導体チップ間のいわゆる最短接続が必要と
されている。
Further, as the operating speed of a semiconductor chip becomes higher, there is an increasing demand for a package for accommodating the semiconductor chip to reduce the signal delay as much as possible. It has been.

【0006】したがって、上記の小型化の要求に合わ
せ、ボンデイングワイヤーを使用しないで、半導体チッ
プの電極を半導体キャリアに対向させた状態で、半導体
チップそのものの大きさの範囲内で半導体キャリアの電
極に接続するいわゆるフェースダウン方式による半導体
装置の使用が増えてきている。このようにパッケージサ
イズをほぼ半導体チップの大きさにした半導体装置は、
チップサイズパッケージ(CSP)と称されている。こ
のような方式を用いることで、パッケージ内の配線を最
短の配線長で行うことができるため、必然的に半導体チ
ップ間をより接続距離の短い状態ですることが可能とな
る。
Therefore, in order to meet the above-mentioned demand for miniaturization, the electrodes of the semiconductor chip are applied to the electrodes of the semiconductor carrier within a size range of the semiconductor chip itself in a state where the electrodes of the semiconductor chip are opposed to the semiconductor carrier without using a bonding wire. The use of so-called face-down semiconductor devices for connection has been increasing. As described above, a semiconductor device whose package size is almost the size of a semiconductor chip,
This is called a chip size package (CSP). By using such a method, the wiring in the package can be performed with the shortest wiring length, so that the connection distance between the semiconductor chips can inevitably be reduced.

【0007】従来の技術におけるフェースダウン方式に
よる半導体装置を図19(a)に基づいて説明する。図
19(a)は従来技術のフェースダウン方式の半導体装
置の断面図である。
A conventional semiconductor device of the face-down type according to the prior art will be described with reference to FIG. FIG. 19A is a cross-sectional view of a conventional face-down type semiconductor device.

【0008】半導体キャリア50Aは、絶縁性基板11
において、その上面から底面まで貫通するように複数の
ビア電極12が設けられ、各ビア電極12に電気的に接
続された状態で絶縁性基板11の上面に上面電極13
が、また、下面に底面電極14が形成されている。な
お、絶縁性基板11としては、セラミックスやガラス織
布をコアに用いてエポキシ樹脂を含浸させたものなどが
ある。
[0008] The semiconductor carrier 50A is provided on the insulating substrate 11.
, A plurality of via electrodes 12 are provided so as to penetrate from the top surface to the bottom surface, and the upper surface electrode 13 is electrically connected to each via electrode 12 on the upper surface of the insulating substrate 11.
However, a bottom electrode 14 is formed on the lower surface. As the insulating substrate 11, there is a substrate obtained by impregnating an epoxy resin using ceramic or glass woven fabric as a core.

【0009】半導体チップ50Bは、半導体チップ本体
21と、その下面に露出している電極22上に接合され
たハンダや金などからなるバンプ23を有している。
The semiconductor chip 50B has a semiconductor chip main body 21 and bumps 23 made of solder, gold, or the like, which are joined to the electrodes 22 exposed on the lower surface thereof.

【0010】この半導体チップ50Bのバンプ23を半
導体キャリア50Aにおける上面電極13に位置合わせ
して載置し、導電性樹脂31を介して接合され、さらに
封止樹脂32によって半導体キャリア50Aと半導体チ
ップ50Bとの間の空間を充填し、半導体キャリア50
Aと半導体チップ50Bとの接合の信頼性を確保してい
る。
The bumps 23 of the semiconductor chip 50B are placed on the upper surface electrode 13 of the semiconductor carrier 50A in alignment with each other, are joined via a conductive resin 31, and are further joined by a sealing resin 32 to the semiconductor carrier 50A and the semiconductor chip 50B. Between the semiconductor carriers 50
The reliability of the connection between A and the semiconductor chip 50B is ensured.

【0011】半導体チップ50Bの背面(上面)は露出
状態となっている(ベアチップ)。なお、底面電極14
はマザー基板への実装のためのものである。
The back surface (upper surface) of the semiconductor chip 50B is exposed (bare chip). The bottom electrode 14
Is for mounting on a motherboard.

【0012】このように、フェースダウン方式による半
導体装置50Cにおいては、半導体キャリア50Aと半
導体チップ50Bとの接合が、半導体チップ50Bの直
下において行われるので、すなわち半導体チップ50B
の周辺の領域で接合されるのではなく、半導体チップ5
0Bそのものの面積占有範囲内で接合が行われるので、
上記したプラスチックパッケージ型半導体装置における
ワイヤーボンディング部分の必要性に起因しての小型化
の障害がなくなり、更にパッケージサイズを小型化する
ことができる。
As described above, in the semiconductor device 50C of the face-down type, the bonding between the semiconductor carrier 50A and the semiconductor chip 50B is performed immediately below the semiconductor chip 50B, that is, the semiconductor chip 50B
Instead of being joined in the area around the semiconductor chip 5
Since the bonding is performed within the area occupied by 0B itself,
The above-described obstacle to miniaturization due to the necessity of the wire bonding portion in the plastic package type semiconductor device is eliminated, and the package size can be further reduced.

【0013】ところで、1つの配線基板に複数の半導体
チップを搭載するマルチチップモジュール(MCM)の
技術がある。その一例を図19(b)を用いて説明す
る。
Meanwhile, there is a multi-chip module (MCM) technology in which a plurality of semiconductor chips are mounted on one wiring board. An example will be described with reference to FIG.

【0014】半導体キャリア61の上面に配線電極62
が形成されているとともに、その下面に電極パッド63
が形成され、それら配線電極62と電極パッド63と
が、半導体キャリア61に貫通状態で埋め込まれたビア
電極64を介して電気的に接続されている。
A wiring electrode 62 is provided on the upper surface of the semiconductor carrier 61.
Are formed, and an electrode pad 63 is formed on the lower surface thereof.
Are formed, and the wiring electrodes 62 and the electrode pads 63 are electrically connected via the via electrodes 64 embedded in the semiconductor carrier 61 in a penetrating state.

【0015】半導体チップ70Bは、その構成要素とし
て半導体チップ本体71とハンダなどのバンプ72を有
しているが、そのような2つの半導体チップ70B,7
0Bをフェースダウン方式で半導体キャリア61に搭載
している。すなわち、半導体チップ70Bの電極を半導
体キャリア61上の配線電極62に対してハンダなどの
バンプ72を介して電気的に接続し、さらに封止樹脂8
1で半導体キャリア61と半導体チップ本体71との間
の空間を充填している。
The semiconductor chip 70B has, as its components, a semiconductor chip body 71 and bumps 72 such as solder.
OB is mounted on the semiconductor carrier 61 in a face-down manner. That is, the electrodes of the semiconductor chip 70B are electrically connected to the wiring electrodes 62 on the semiconductor carrier 61 via bumps 72 such as solder.
1, the space between the semiconductor carrier 61 and the semiconductor chip body 71 is filled.

【0016】なお、この場合の半導体キャリア61につ
いては具体的な構造の図示を省略しているが、概略を説
明すると、絶縁体として有機基板を用いたMCM‐L
や、セラミックを用いた多層構造のMCM‐Cや、高周
波領域や大規模なシステム向けの多層のポリイミドやシ
リコンの酸化物でCu配線を多層構造にしたMCM‐D
などが知られている。
Although the specific structure of the semiconductor carrier 61 in this case is omitted from the illustration, the MCM-L using an organic substrate as an insulator is briefly described.
Or MCM-C with multilayer structure using ceramic, or MCM-D with multilayer structure of Cu wiring with multilayer polyimide or silicon oxide for high frequency range or large scale system
Etc. are known.

【0017】以上のようにしてマルチチップモジュール
として半導体装置70Cを構成してある。このマルチチ
ップモジュールによると、半導体キャリア61上に複数
の半導体チップ70B,70Bを隣接配置しておき、両
者の半導体チップを半導体キャリア61上の配線パター
ン62を介して接続すると、モジュール内に実装された
半導体チップどうし間の接続距離が短くなり、その結果
として、半導体チップ間の信号遅延を低減することがで
きる。
As described above, the semiconductor device 70C is configured as a multi-chip module. According to this multi-chip module, when a plurality of semiconductor chips 70B, 70B are arranged adjacently on a semiconductor carrier 61 and both semiconductor chips are connected via a wiring pattern 62 on the semiconductor carrier 61, the semiconductor chip is mounted in the module. Thus, the connection distance between the semiconductor chips becomes shorter, and as a result, the signal delay between the semiconductor chips can be reduced.

【0018】[0018]

【発明が解決しようとする課題】ここで、以上の図19
(a)で説明したように構成されてパッケージ内の配線
長を最短にしたCSP(チップサイズパッケージ)とし
ての半導体装置50Cの複数個をマザー基板にマルチチ
ップ実装する場合を考える。その場合に、複数の半導体
装置50Cにおける半導体チップ50Bどうしを接続す
るには、例えばCPUとDRAMとを接続するには、、
マザー基板上に形成された配線パターンを介しての接続
となる。
Here, FIG.
A case is considered where a plurality of semiconductor devices 50C as a CSP (chip size package) configured as described in (a) and having the shortest wiring length in the package are mounted on a mother board in a multi-chip manner. In this case, to connect the semiconductor chips 50B in the plurality of semiconductor devices 50C, for example, to connect the CPU and the DRAM,
The connection is made via a wiring pattern formed on the mother substrate.

【0019】このように、ワイヤーボンド用設計をフリ
ップチップ用設計に変更すると、チップサイズを小さく
することができるので、チップコスト自体を低減し、か
つ高密度のマルチチップ実装が可能となる。
As described above, when the design for wire bonding is changed to the design for flip chip, the chip size can be reduced, so that the chip cost itself can be reduced and high-density multi-chip mounting can be performed.

【0020】しかしながら、いかに高密度のマルチチッ
プ実装が可能であるといっても、自ずと限界があること
も確かなことである。
However, no matter how high-density multi-chip mounting is possible, it is certain that there is naturally a limit.

【0021】ここで、2つの半導体チップ50B,50
B間の接続距離について考察してみると、それは、CS
P(チップサイズパッケージ)に用いられる半導体キャ
リア11上での配線の引き回しによる配線長のほかに、
マザー基板上の配線パターンの配線長があり、さらに、
半導体キャリア11内のビア電極12の配線長がある。
これらの配線長を合計した接続距離はかなり長いものと
なり、それが原因で信号の伝搬遅延を引き起こす可能性
が高いものとなっている。特に、半導体チップとして高
速のCPUを搭載するときには、その信号遅延は大きな
問題となる。
Here, two semiconductor chips 50B, 50
Considering the connection distance between B, it is CS
In addition to the wiring length of the wiring on the semiconductor carrier 11 used for P (chip size package),
There is a wiring length of the wiring pattern on the mother board,
There is a wiring length of the via electrode 12 in the semiconductor carrier 11.
The connection distance obtained by adding up these wiring lengths becomes considerably long, which causes a high possibility of causing a signal propagation delay. In particular, when a high-speed CPU is mounted as a semiconductor chip, the signal delay becomes a serious problem.

【0022】また、図19(b)に示したマルチチップ
モジュール(MCM)の場合、モジュール内に実装され
た半導体チップ70B,70B間の接続距離は短くなり
はするが、複数の半導体チップ70B,70Bが全体と
して一体化されてしまっているので、個々の半導体チッ
プ70Bを各々単体で取り扱うことは当然に不可能とな
っている。すなわち、モジュール単位での汎用性がなく
なってしまっており、その分、コスト増となることは避
けられない。
In the case of the multi-chip module (MCM) shown in FIG. 19B, the connection distance between the semiconductor chips 70B, 70B mounted in the module is reduced, but the plurality of semiconductor chips 70B, 70B, Since the semiconductor chips 70B are integrated as a whole, it is naturally impossible to handle the individual semiconductor chips 70B individually. That is, the versatility in the module unit has been lost, and it is inevitable that the cost will increase accordingly.

【0023】そうかといって、試験されて品質レベルが
確定しているKGD(Known Good Die)をタイムリーに
かつ安価に入手することは一般的にむずかしいという実
情がある。
Nevertheless, it is generally difficult to obtain a known good die (KGD) that has been tested and the quality level of which has been determined, in a timely and inexpensive manner.

【0024】例えば、4個の半導体チップを搭載するマ
ルチチップモジュールにおいては、個々の半導体チップ
の不良率を例えば5%であるとすると、良品率は95%
の4乗となって、トータルで81.5%まで低下し、約
1/5が不良品となってしまう。しかし、すでに搭載し
ている半導体チップと実装のコストは大きいので、簡単
にスクラップするわけにはいかず、不良チップを特定し
て交換しなければならない。
For example, in a multi-chip module on which four semiconductor chips are mounted, if the defect rate of each semiconductor chip is, for example, 5%, the non-defective rate is 95%.
, Which is reduced to 81.5% in total, and about 1/5 is defective. However, since the cost of mounting the semiconductor chip already mounted is high, the scrap cannot be easily scrapped, and the defective chip must be identified and replaced.

【0025】フリップチップ実装の場合は、接合におけ
るバンプ72としてハンダを用いると、不良チップの取
り外しおよび新しい半導体チップの搭載すなわちリペア
は比較的容易ではある。しかしながら、各種のテスト
(DC/ACテストなど)やバーンイン(昇温に伴うバ
ンプずれなど)を行った際に、対象がマルチチップモジ
ュールであるので、どの半導体チップが不良なのかの特
定が容易ではない。例えば、ある半導体チップがCPU
であり、他の半導体チップがDRAMであるときに、不
良がCPUで発生しているのか、それともDRAMで発
生しているのか、さらには両方で発生しているのかを特
定するのがむずかしい。マルチチップモジュールとして
搭載する半導体チップの個数が増えるほど、不良チップ
の特定の困難性が指数関数的に増大する。
In the case of flip-chip mounting, if solder is used as the bump 72 in bonding, removal of a defective chip and mounting or repair of a new semiconductor chip are relatively easy. However, when various tests (such as DC / AC test) and burn-in (such as bump displacement due to temperature rise) are performed on a multi-chip module, it is not easy to specify which semiconductor chip is defective. Absent. For example, a semiconductor chip is a CPU
When the other semiconductor chip is a DRAM, it is difficult to specify whether the defect has occurred in the CPU, the DRAM, or both. As the number of semiconductor chips mounted as a multi-chip module increases, the difficulty of identifying defective chips increases exponentially.

【0026】以上のように、マルチチップモジュールの
場合には、実装する半導体チップによってはモジュール
化したときの歩留まりが著しく悪くなってしまうという
課題をかかえている。
As described above, in the case of a multi-chip module, there is a problem that the yield when modularized is significantly deteriorated depending on the semiconductor chip to be mounted.

【0027】以上のように、複数の半導体チップどうし
を接続する接続距離をなるべく短くして信号遅延を低減
することと、マルチチップ化したときのモジュール単位
での取り扱い性、ならびにバーンインを含む各種のテス
トあるいはリペアの容易性とは、互いにトレードオフ
(二律背反)の関係にある。従来にあっては、そのよう
に認識されていたのである。
As described above, the connection distance for connecting a plurality of semiconductor chips is reduced as much as possible to reduce the signal delay, the handling in a module unit when a multi-chip is formed, and various types of processing including burn-in. The ease of test or repair is in a trade-off relationship. In the past, this was recognized.

【0028】本発明は上記した課題の解決を図るべく創
作したものであって、上記のトレードオフの関係を解消
し、複数の半導体チップどうしを接続する接続距離をな
るべく短くして信号遅延を低減する要求と、マルチチッ
プ化したときのモジュール単位での取り扱い性、ならび
にバーンインを含む各種のテストあるいはリペアの容易
性との双方の要求を両立させることのできる半導体装置
についての最先端のテクノロジーを提案するものであ
る。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and solves the above-mentioned trade-off relationship and reduces the signal delay by shortening the connection distance for connecting a plurality of semiconductor chips as much as possible. Of advanced semiconductor devices that can meet both the requirements of a single chip and the ease of handling of various modules including burn-in and the ease of various tests and repairs. Is what you do.

【0029】[0029]

【課題を解決するための手段】上記した課題の解決を図
ろうとする配線基板についての本発明は、半導体チップ
を接続するために絶縁体の表面に配線パターンを形成し
てある配線基板において、前記配線パターンに対して連
接される状態で前記絶縁体の端面に外部入出力用接続電
極を形成した構成としてある。そして、このような配線
基板上に半導体チップを搭載して半導体装置となしてあ
る。さらに、このように構成した半導体装置の複数をマ
ザー基板に実装するにおいて、隣接する半導体装置それ
ぞれの外部入出力用接続電極どうしを接合することによ
り、両半導体チップ間の接続の配線長としてはマザー基
板を経由しない分だけ短くなり、配線長が長いことに起
因する信号遅延を低減したいという要求を満たすことが
できる。加えて、半導体チップごとのパッケージが可能
で、そのようなパッケージ単体での検査やバーンインな
どを実現でき、併せてモジュール単体としての汎用性を
確保することができる。
According to the present invention, there is provided a wiring board having a wiring pattern formed on the surface of an insulator for connecting a semiconductor chip. An external input / output connection electrode is formed on an end face of the insulator in a state of being connected to the wiring pattern. Then, a semiconductor chip is mounted on such a wiring board to form a semiconductor device. Further, in mounting a plurality of the semiconductor devices configured as described above on a mother board, by connecting the external input / output connection electrodes of each of the adjacent semiconductor devices, the wiring length of the connection between the two semiconductor chips is reduced to the mother length. This can be shortened by the amount not passing through the substrate, and can satisfy the demand for reducing a signal delay caused by a long wiring length. In addition, a package for each semiconductor chip can be provided, and inspection or burn-in of such a package alone can be realized, and versatility as a module alone can be secured.

【0030】したがって、本発明によれば、従来におい
てトレードオフ(二律背反)と考えられていた2つの課
題(配線長が大きいことに起因する信号遅延の低減要求
とバーンインなどの各種テストおよびリペアの容易性要
求)を同時的に解消することができるに至った。
Therefore, according to the present invention, there are two problems (reduction of signal delay due to a long wiring length, various tests such as burn-in, and easy tests and repairs) which have conventionally been considered as a trade-off. Requirements) can be eliminated simultaneously.

【0031】[0031]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を総括
的に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be generally described.

【0032】本願第1の発明の半導体チップ搭載用の配
線基板は、半導体チップを接続するために絶縁体の表面
に形成された配線パターンに対して連接される状態で前
記絶縁体の端面に外部入出力用接続電極が形成された構
成となっている。この配線基板を用いて半導体チップを
搭載して構成した半導体装置の複数を隣接配置し、半導
体チップどうしを電気的に接続しようとするときには、
両者の半導体装置の外部入出力用接続電極どうしで接続
することが可能であり、そのように接続することによ
り、両半導体チップ間の接続の配線長としてはマザー基
板を経由しない分だけ短くなり、信号遅延の低減を図る
ことが可能となる。加えて、半導体チップごとのパッケ
ージが可能で、そのようなパッケージ単体での検査やバ
ーンインなどを実現でき、併せてモジュール単体として
の汎用性を確保することができる。すなわち、配線長が
大きいことに起因する信号遅延の低減要求とバーンイン
などの各種テストおよびリペアの容易性要求をともに満
たすことが可能となる。
The wiring board for mounting a semiconductor chip according to the first invention of the present application is provided on an end face of the insulator in a state of being connected to a wiring pattern formed on the surface of the insulator for connecting the semiconductor chip. The configuration is such that input / output connection electrodes are formed. When a plurality of semiconductor devices configured by mounting semiconductor chips using this wiring board are arranged adjacent to each other and electrical connection between the semiconductor chips is to be performed,
It is possible to connect between the external input / output connection electrodes of both semiconductor devices, and by such a connection, the wiring length of the connection between the two semiconductor chips is shortened by not passing through the mother board, Signal delay can be reduced. In addition, a package for each semiconductor chip can be provided, and inspection or burn-in of such a package alone can be realized, and versatility as a module alone can be secured. That is, it is possible to satisfy both the requirement for reducing the signal delay due to the long wiring length and the requirement for the ease of various tests such as burn-in and repair.

【0033】本願第2の発明の半導体チップ搭載用の配
線基板は、上記の第1の発明において、前記絶縁体端面
の外部入出力用接続電極は、前記絶縁体表面の前記配線
パターンに連なる状態で前記絶縁体に形成された貫通孔
に設けられたビアをカッティングすることで形成された
ものとなっているというものである。貫通孔にビアを設
けることは、半導体製造の分野で一般的に行われている
ことであり、また、ビアをカッティングするときの絶縁
体のダイシングも同じく一般的に行われていることであ
る。換言すると、そのために必要な装置・器具類ならび
に材料面は整っているということであり、その製造は比
較的に容易であるため、絶縁体端面に外部入出力用接続
電極を有する配線基板を低廉に提供することが可能とな
る。また、隣接する半導体装置における半導体チップど
うしの外部入出力用接続電極を介しての接続は、双方の
外部入出力用接続電極を例えばプリコートハンダや導電
性接着剤などを介しての実質的に直接的な接合をもって
実現することが可能である。
According to a second aspect of the present invention, in the wiring board for mounting a semiconductor chip according to the first aspect, the external input / output connection electrode on the insulator end face is connected to the wiring pattern on the insulator surface. Thus, it is formed by cutting a via provided in a through hole formed in the insulator. Providing a via in a through-hole is generally performed in the field of semiconductor manufacturing, and dicing of an insulator when cutting a via is also commonly performed. In other words, the equipment and instruments necessary for this and the material surface are in place, and its manufacture is relatively easy, so that a wiring board having external input / output connection electrodes on the insulator end face can be manufactured at low cost. Can be provided. In addition, the connection between the semiconductor chips in adjacent semiconductor devices via the external input / output connection electrodes is performed by directly connecting both external input / output connection electrodes via, for example, a precoat solder or a conductive adhesive. It can be realized with a simple joining.

【0034】本願第3の発明の半導体チップ搭載用の配
線基板は、上記の第1の発明において、前記絶縁体端面
の外部入出力用接続電極は、前記絶縁体表面の前記配線
パターンに連なる状態で前記絶縁体に形成された貫通孔
の内周壁面にメッキされた筒状導体をカッティングする
ことで形成されたものとなっている。この場合、基本的
に上記の第1の発明と同様の作用を発揮するが、加え
て、その筒状導体に対してコネクタ係合が可能となるの
で、実装時の位置合わせの制御が容易なものとなる。
According to a third aspect of the present invention, in the wiring board for mounting a semiconductor chip according to the first aspect, the external input / output connection electrode on the insulator end face is continuous with the wiring pattern on the insulator surface. Thus, it is formed by cutting a tubular conductor plated on the inner peripheral wall surface of a through hole formed in the insulator. In this case, basically, the same operation as the above first invention is exhibited, but in addition, since the connector can be engaged with the cylindrical conductor, the control of the alignment at the time of mounting is easy. It will be.

【0035】本願第4の発明の半導体チップ搭載用の配
線基板は、上記の第1〜第3の発明において、前記外部
入出力用接続電極が、前記絶縁体の端面においてマトリ
ックス状に配置されているというものである。これは、
絶縁体を多層化したもので、横方向にも縦方向にも外部
入出力用接続電極が並んでいる。ただし、個々の外部入
出力用接続電極どうしは互いに分離していなければなら
ないことはいうまでもない。半導体チップはますます多
ピン化の傾向にあるが、条件としてピン数を同じとする
と、必要な外部入出力用接続電極をより狭い範囲で配置
することが可能であり、また、条件として同じ範囲内に
配置するとなると、より多くの外部入出力用接続電極を
配置することが可能となる。通常は、多ピン化傾向に対
する充分な対応性を発揮する。
According to a fourth aspect of the present invention, in the wiring board for mounting a semiconductor chip according to the first to third aspects, the external input / output connection electrodes are arranged in a matrix on the end face of the insulator. It is that there is. this is,
It is a multi-layered insulator, and external input / output connection electrodes are arranged in both the horizontal and vertical directions. However, it goes without saying that the individual external input / output connection electrodes must be separated from each other. Semiconductor chips tend to have more and more pins, but if the number of pins is the same, it is possible to arrange the necessary external input / output connection electrodes in a narrower range. If it is arranged inside, more external input / output connection electrodes can be arranged. Normally, it exhibits sufficient responsiveness to the tendency to increase the number of pins.

【0036】本願第5の発明の半導体チップ搭載用の配
線基板は、上記の第1の発明において、前記外部入出力
用接続電極が形成されている前記絶縁体の端面が傾斜端
面とされているというものである。絶縁体の傾斜端面に
形成された外部入出力用接続電極は、垂直な端面に形成
された外部入出力用接続電極よりも面積が大きくなる。
したがって、双方の外部入出力用接続電極どうしの接合
面積が高く、また、絶縁体の傾斜端面全体についても接
合面積が大きくなる。したがって、接合をより強固に行
え、接続信頼性の向上を図ることが可能となる。
In a wiring board for mounting a semiconductor chip according to a fifth aspect of the present invention, in the first aspect, an end face of the insulator on which the external input / output connection electrodes are formed is an inclined end face. That is. The external input / output connection electrode formed on the inclined end face of the insulator has a larger area than the external input / output connection electrode formed on the vertical end face.
Therefore, the bonding area between the two external input / output connection electrodes is large, and the bonding area is also large on the entire inclined end surface of the insulator. Therefore, bonding can be performed more firmly, and connection reliability can be improved.

【0037】本願第6の発明の半導体チップ搭載用の配
線基板は、半導体チップを接続するために絶縁体の一方
の表面に形成された配線パターンと、マザー基板に搭載
するために前記絶縁体の他方の表面に形成された配線パ
ターンと、前記両配線パターンの双方に対して連接され
る状態で前記絶縁体の端面に形成された外部入出力用接
続電極とを有するもので、前記両配線パターンと前記外
部入出力用接続電極とが前記絶縁体にまとわり付けた配
線層の前記絶縁体に対する圧着に伴う転写によって形成
された構成となっている。配線層を絶縁体にまとわり付
けること、および圧着によって転写することは比較的に
容易なことであり、しかも、絶縁体端面に形成された外
部入出力用接続電極の形状精度は高いものとなる。
A wiring board for mounting a semiconductor chip according to a sixth aspect of the present invention includes a wiring pattern formed on one surface of an insulator for connecting a semiconductor chip, and a wiring pattern formed on the insulator for mounting on a mother board. A wiring pattern formed on the other surface, and an external input / output connection electrode formed on an end face of the insulator in a state of being connected to both of the wiring patterns. And the connection electrodes for external input / output are formed by transfer of a wiring layer attached to the insulator with pressure bonding to the insulator. It is relatively easy to attach the wiring layer to the insulator and transfer it by crimping.Moreover, it is assumed that the external input / output connection electrodes formed on the insulator end faces have high shape accuracy. Become.

【0038】本願第7の発明の半導体チップ搭載用の配
線基板は、上記の第1〜第6の発明において、前記絶縁
体の外形の少なくとも1辺が位置合わせ用の段差辺部に
形成されているというものである。一方の配線基板の段
差辺部における凹入辺部を他方の配線基板の段差辺部に
おける突出辺部に位置合わせし、さらに、前記一方の配
線基板の段差辺部における突出辺部を他方の配線基板の
段差辺部における凹入辺部に位置合わせすることによ
り、双方の配線基板の位置合わせをきわめて容易かつ高
精度に行うことが可能となる。
According to a seventh aspect of the present invention, in the wiring board for mounting a semiconductor chip according to the first to sixth aspects, at least one side of the outer shape of the insulator is formed on a step side for positioning. It is that there is. The recessed side of the stepped side of one wiring board is aligned with the protruding side of the stepped side of the other wiring board, and the protruding side of the stepped side of the one wiring board is connected to the other wiring. By positioning the wiring board at the recessed side of the stepped side of the board, the positioning of both wiring boards can be performed extremely easily and with high accuracy.

【0039】本願第8の発明の半導体チップ搭載用の配
線基板は、上記の第1〜第7の発明において、前記半導
体チップを接続するために絶縁体の表面に形成された配
線パターンの内端側で前記半導体チップのチップ電極パ
ッドへの接続ランド部の配列順序が前記外部入出力用接
続電極の配列順序と同一関係または鏡像関係とされてい
るというものである。このような配列順序の同一関係ま
たは鏡像関係がなくて、絶縁体の同一面内において複数
の配線パターンをランダムな位置関係とすると、交差さ
せることなく配線するためには、交差が起こり得るとこ
ろでは立体交差としなければならない。すなわち、配線
パターンの引き回しとして必ず貫通孔およびその内部の
ビアなどの垂直接続体ならびに反対側の面における配線
パターン、さらに元に戻す垂直接続体および元の面での
配線パターンといった経路が必ず必要となる。しかし、
配列順序を同一関係または鏡像関係としておくと、配線
パターンの引き回しにおける垂直接続体は必ずしも必要
ではなくて、同一面内のみでの配線で完結する。したが
って、配線パターンの配線長の短縮化を促進することが
可能となる。
According to an eighth aspect of the present invention, in the wiring board for mounting a semiconductor chip according to the first to seventh aspects, an inner end of a wiring pattern formed on a surface of an insulator for connecting the semiconductor chip is provided. The arrangement order of the connection lands to the chip electrode pads of the semiconductor chip on the side is the same as the arrangement order of the external input / output connection electrodes or a mirror image relationship. If there is no such arrangement relationship or mirror image relationship in the arrangement order and a plurality of wiring patterns are in a random positional relationship within the same plane of the insulator, in order to wire without crossing, where crossing may occur. Must be a crossover. In other words, routes such as vertical connection bodies such as through holes and vias inside them, wiring patterns on the opposite surface, and vertical connection bodies to be restored and wiring patterns on the original surface are necessarily required for routing the wiring pattern. Become. But,
If the arrangement order is the same relation or mirror image relation, a vertical connector is not necessarily required in the routing of the wiring pattern, and the wiring is completed only in the same plane. Therefore, it is possible to promote the reduction of the wiring length of the wiring pattern.

【0040】本願第9の発明の半導体チップ搭載用の配
線基板は、半導体チップを接続するために絶縁体の表面
に形成された配線パターンが封止樹脂のアンダフィル領
域を越えて前記絶縁体の端縁または端縁近傍まで延出さ
れてあり、その延出部分が外部入出力用接続電極として
構成されているというものである。外部入出力用接続電
極を絶縁体の端面に形成するときには、ダイシングと同
時的なカッティングが必要となるが、そのような作業に
は一定以上の精度が要求される。これに対して、この発
明の場合には、絶縁体を面方向に延長し、配線パターン
も延出して、その延出部分を外部入出力用接続電極とし
てあるので、上記のような精度を要求される加工が不要
となり、通常のダイシングですむ。また、絶縁体の表面
上での外部入出力用接続電極の形成であるので、その形
成自体がより容易となる。ただし、絶縁体を延長した分
は面積が増えることにはなる。
According to a ninth aspect of the present invention, in the wiring board for mounting a semiconductor chip, the wiring pattern formed on the surface of the insulator for connecting the semiconductor chip extends beyond the underfill region of the sealing resin. It extends to the edge or the vicinity of the edge, and the extended portion is configured as an external input / output connection electrode. When the external input / output connection electrode is formed on the end face of the insulator, it is necessary to perform cutting simultaneously with dicing, but such work requires a certain degree of accuracy or more. On the other hand, in the case of the present invention, the insulator is extended in the surface direction, the wiring pattern is also extended, and the extended portion is used as an external input / output connection electrode. This eliminates the need for machining, and allows normal dicing. In addition, since the external input / output connection electrodes are formed on the surface of the insulator, the formation itself becomes easier. However, the extension of the insulator increases the area.

【0041】本願第10の発明の半導体チップ搭載用の
配線基板は、上記の第1〜第4の発明において、半導体
チップとの接続のための前記絶縁体端面に形成の外部入
出力用接続電極が凹入状に形成され、かつ、前記絶縁体
の他の辺部において前記凹入状の外部入出力用接続電極
とほぼ同サイズで同配列の位置決め用の凹入部が形成さ
れているというものである。この場合、凹入状の外部入
出力用接続電極に対してコネクタ係合が可能となるとと
もに、他の辺部の位置決め用の凹入部においてもコネク
タ係合が可能となり、全体として、実装時の位置合わせ
の制御が非常に容易なものとなる。
According to a tenth aspect of the present invention, in the wiring board for mounting a semiconductor chip according to the first to fourth aspects, an external input / output connection electrode formed on an end face of the insulator for connection to a semiconductor chip is provided. Are formed in a concave shape, and the other side portions of the insulator are formed with positioning concave portions having substantially the same size and the same arrangement as the concave external input / output connection electrodes. It is. In this case, the connector can be engaged with the recessed external input / output connection electrode, and the connector can also be engaged with the positioning recesses of the other sides, and as a whole, when mounting, The control of the alignment becomes very easy.

【0042】本願第11の発明は中継接続用の配線基板
についてのものであって、上記の第10の発明の配線基
板に対して並列配置される中継接続用の配線基板であっ
て、絶縁体の表面に形成された中継接続用の配線パター
ンが形成されているとともに、その中継接続用の配線パ
ターンに対して連接される状態で前記絶縁体の少なくと
も2辺の端面において上記第10の発明の外部入出力用
接続電極とほぼ同サイズで同配列の位置決め用の凹入部
が形成されているというものである。これは、第10の
発明の場合の半導体チップを搭載するための配線基板と
組み合わせて用いる中継接続用の配線基板についての記
述している。すなわち、複数種類の配線基板をモジュー
ル規格化しておくもので、それらのモジュールの組み合
わせによって様々な展開が自由自在になり、複数の半導
体装置間の接続の自由度を拡大することが可能となる。
According to an eleventh aspect of the present invention, there is provided a wiring board for relay connection, wherein the wiring board for relay connection is arranged in parallel with the wiring board of the tenth aspect. The wiring pattern for relay connection formed on the surface of the insulator is formed on the end face of at least two sides of the insulator in a state of being connected to the wiring pattern for relay connection. The positioning recesses are formed in substantially the same size and the same arrangement as the external input / output connection electrodes. This describes a wiring board for relay connection used in combination with a wiring board for mounting a semiconductor chip in the case of the tenth invention. That is, a plurality of types of wiring boards are standardized as modules, and various combinations can be freely developed by combining these modules, and the degree of freedom of connection between a plurality of semiconductor devices can be increased.

【0043】本願第12の発明は半導体装置についての
ものであって、上記の第1〜第10の発明の半導体チッ
プ搭載用の配線基板を用いて、この配線基板における前
記配線パターンに接続する状態で半導体チップを前記配
線基板に搭載した構成となっている。この半導体装置に
おいては、その複数を隣接配置し、半導体チップどうし
を電気的に接続しようとするときには、両者の半導体装
置の外部入出力用接続電極どうしで接続することが可能
であり、そのように接続することにより、両半導体チッ
プ間の接続の配線長としてはマザー基板を経由しない分
だけ短くなり、信号遅延の低減を図ることが可能とな
る。加えて、半導体チップごとのパッケージが可能で、
そのようなパッケージ単体での検査やバーンインなどを
実現でき、併せてモジュール単体としての汎用性を確保
することができる。すなわち、配線長が大きいことに起
因する信号遅延の低減要求とバーンインなどの各種テス
トおよびリペアの容易性要求をともに満たすことが可能
となる。
The twelfth aspect of the present invention is directed to a semiconductor device, and uses the wiring board for mounting a semiconductor chip according to any of the first to tenth aspects to connect to the wiring pattern on the wiring board. In this configuration, a semiconductor chip is mounted on the wiring board. In this semiconductor device, when a plurality of the semiconductor devices are arranged adjacent to each other and the semiconductor chips are to be electrically connected to each other, it is possible to connect the external input / output connection electrodes of both semiconductor devices. By connecting, the wiring length of the connection between the two semiconductor chips becomes shorter by not passing through the mother board, and it is possible to reduce the signal delay. In addition, a package for each semiconductor chip is possible,
Inspection, burn-in, etc. of such a package alone can be realized, and versatility as a module alone can be secured. That is, it is possible to satisfy both the requirement for reducing the signal delay due to the long wiring length and the requirement for the ease of various tests such as burn-in and repair.

【0044】本願第13の発明は半導体装置間接続構造
についてのものであって、絶縁体上に半導体チップが搭
載されてなる複数の半導体装置をマザー基板に実装し
て、前記各半導体装置における前記半導体チップどうし
を接続する構造であって、前記各々の半導体装置とし
て、前記半導体チップを接続するために前記絶縁体の表
面に形成された配線パターンに対して連接される状態で
前記絶縁体の端面に外部入出力用接続電極が形成されて
なる半導体装置を用い、隣接する半導体装置それぞれの
前記外部入出力用接続電極どうしを直接に接合した構成
となっている。これによると、基本的に第13の発明の
作用を発揮するとともに、加えて、隣接する半導体装置
における半導体チップどうしの外部入出力用接続電極を
介しての接続は、双方の外部入出力用接続電極を例えば
プリコートハンダや導電性接着剤などを介しての直接的
な接合をもって実現することが可能であり、面積の増大
を招くことなく、あるいは面積の増大を抑制しつつ、上
記の信号遅延の低減という大きなメリットを生み出すこ
とが可能となっている。
A thirteenth invention of the present application relates to a connection structure between semiconductor devices, wherein a plurality of semiconductor devices each having a semiconductor chip mounted on an insulator are mounted on a mother board, and the semiconductor device in each of the semiconductor devices described above is mounted. A structure for connecting semiconductor chips to each other, wherein each of the semiconductor devices includes an end face of the insulator connected to a wiring pattern formed on a surface of the insulator for connecting the semiconductor chip. A semiconductor device having external input / output connection electrodes formed thereon is used, and the external input / output connection electrodes of adjacent semiconductor devices are directly joined to each other. According to this, not only the function of the thirteenth invention is basically exerted, but also the connection between the semiconductor chips in the adjacent semiconductor devices via the external input / output connection electrodes is performed by the external input / output connection electrodes. The electrodes can be realized by direct bonding via, for example, a precoat solder or a conductive adhesive, and the above-described signal delay can be prevented without increasing the area or suppressing the increase in the area. It is possible to produce a great advantage of reduction.

【0045】本願第14の発明の半導体装置間接続構造
は、上記の第13の発明において、前記各半導体装置
は、その配線基板として上記第2・第4〜第8の配線基
板が用いられたものとなっている。各々の配線基板によ
る利点を発揮しつつ、半導体装置の高密度化・高集積化
・高速動作化などに伴って発生するところの、配線長が
大きいことに起因する信号遅延の低減要求とバーンイン
などの各種テストおよびリペア(修復)の容易性要求と
の間にみられるトレードオフ(二律背反)の問題を解消
することが可能となる。
According to a fourteenth aspect of the present invention, in the thirteenth aspect, each of the semiconductor devices uses the second, fourth to eighth wiring boards as its wiring board. It has become something. While exhibiting the advantages of each wiring board, there is a demand for reduction of signal delay caused by a long wiring length and burn-in, which are caused by high density, high integration and high speed operation of semiconductor devices. Of the various tests and the ease of repair (repair) that can be solved.

【0046】本願第15の発明の半導体装置間接続構造
は、絶縁体上に半導体チップが搭載されてなる複数の半
導体装置をマザー基板に実装して、前記各半導体装置に
おける前記半導体チップどうしを接続する構造であっ
て、前記各々の半導体装置として、前記半導体チップを
接続するために前記絶縁体の表面に形成された配線パタ
ーンが封止樹脂のアンダフィル領域を越えて前記絶縁体
の端縁または端縁近傍まで延出されてあり、その延出部
分が外部入出力用接続電極として構成されてなる半導体
装置を用い、隣接する半導体装置それぞれの前記外部入
出力用接続電極どうしを接続用配線基板を介して接続し
た構成となっている。絶縁体端面の外部入出力用接続電
極どうしの突き合わせ的な接続に比べると、外部入出力
用接続電極がともに絶縁体表面にあり、かつ両者間にわ
たってブリッジのように接続用配線基板を掛け渡し、充
分な接触面積のもとでの面接触の接続となるから、接続
の作業性が良いし、接合強度も高いものとなる。もちろ
ん、配線長が大きいことに起因する信号遅延の低減要求
とバーンインなどの各種テストおよびリペア(修復)の
容易性要求をともに満たすことが可能となる。
In the fifteenth aspect of the present invention, the semiconductor device connection structure comprises mounting a plurality of semiconductor devices each having a semiconductor chip mounted on an insulator on a mother board and connecting the semiconductor chips in each of the semiconductor devices. In each of the semiconductor devices, a wiring pattern formed on a surface of the insulator for connecting the semiconductor chip extends beyond an underfill region of a sealing resin or an edge of the insulator. A semiconductor device, which is extended to near the edge, and whose extended portion is configured as an external input / output connection electrode, connects the external input / output connection electrodes of adjacent semiconductor devices to each other with a connection wiring board. It is configured to be connected via a. Compared with the butt connection between the external input / output connection electrodes on the insulator end face, the external input / output connection electrodes are both on the insulator surface, and the connection wiring board is bridged between them as a bridge, Since the connection is made in a surface contact with a sufficient contact area, the workability of the connection is good and the joining strength is high. Of course, it is possible to satisfy both the requirement for reducing the signal delay due to the long wiring length and the requirement for the ease of various tests such as burn-in and repair (repair).

【0047】本願第16の発明の半導体装置間接続構造
は、上記の第15の発明において、前記各半導体装置
は、その配線基板として上記の第9の発明の配線基板が
用いられたものである。これは、上記第15の発明をよ
り具体的に記述したものに相当し、上記の作用が発揮さ
れる。
A connection structure between semiconductor devices according to a sixteenth aspect of the present invention is the semiconductor device according to the fifteenth aspect, wherein each of the semiconductor devices uses the wiring substrate according to the ninth aspect as its wiring substrate. . This corresponds to a more specific description of the fifteenth invention, and the above-mentioned effect is exerted.

【0048】本願第17の発明の半導体装置間接続構造
は、絶縁体上に半導体チップが搭載されてなる複数の半
導体装置をマザー基板に実装して、前記各半導体装置に
おける前記半導体チップどうしを接続する構造であっ
て、前記各々の半導体装置として、前記半導体チップを
接続するために前記絶縁体の表面に形成された配線パタ
ーンに対して連接される状態で前記絶縁体の端面に外部
入出力用接続電極が形成されてなる半導体装置を用い、
隣接する半導体装置それぞれの前記外部入出力用接続電
極どうしを、これら両外部入出力用接続電極に対して共
通に接触し同時に位置決めを行うコネクタを介して接続
した構成となっている。配線長が大きいことに起因する
信号遅延の低減要求とバーンインなどの各種テストおよ
びリペア(修復)の容易性要求をともに満たすことが可
能となるとともに、コネクタを介しての接続により、電
気的に接続と同時に実装の位置合わせの制御を容易なも
のとなす。
The connection structure between semiconductor devices according to the seventeenth aspect of the present invention is such that a plurality of semiconductor devices each having a semiconductor chip mounted on an insulator are mounted on a motherboard and the semiconductor chips in each of the semiconductor devices are connected to each other. Wherein each of the semiconductor devices is connected to a wiring pattern formed on the surface of the insulator in order to connect the semiconductor chip. Using a semiconductor device having connection electrodes formed thereon,
The external input / output connection electrodes of the adjacent semiconductor devices are connected to each other via a connector which is in common contact with these external input / output connection electrodes and simultaneously performs positioning. It is possible to satisfy both the requirement for signal delay reduction due to the long wiring length and the ease of various tests such as burn-in and the ease of repair (repair). At the same time, the positioning of the mounting is easily controlled.

【0049】本願第18の発明の半導体装置間接続構造
は、上記の第17の発明において、前記各半導体装置
は、その配線基板として上記第3の発明の配線基板が用
いられたものである。これは、上記第17の発明をより
具体的に記述したものに相当し、上記の作用が発揮され
る。
The connection structure between semiconductor devices according to an eighteenth aspect of the present invention is the semiconductor device according to the seventeenth aspect, wherein each of the semiconductor devices uses the wiring substrate according to the third aspect as its wiring substrate. This corresponds to a more specific description of the seventeenth invention, and the above effects are exerted.

【0050】上記第18の発明において、前記コネクタ
は、前記マザー基板から立設されている場合もあり得る
し、あるいは、前記マザー基板から分離されている場合
もあり得る。
In the eighteenth aspect, the connector may be erected from the mother board, or may be separated from the mother board.

【0051】本願第21の発明の半導体装置間接続構造
は、絶縁体上に半導体チップが搭載されてなる複数の半
導体装置をマザー基板に実装して、前記各半導体装置に
おける前記半導体チップどうしを接続する構造であっ
て、次のような構成要件をもつ。すなわち、前記各々の
半導体装置として、前記半導体チップを接続するための
前記絶縁体の端面に形成の外部入出力用接続電極が凹入
状に形成され、かつ、前記絶縁体の他の辺部において前
記凹入状の外部入出力用接続電極とほぼ同サイズで同配
列の位置決め用の凹入部が形成されてなる半導体装置を
用いる。また、前記複数の半導体装置間を中継接続する
ための配線基板として、絶縁体の表面に形成された中継
接続用の配線パターンが形成されているとともに、その
中継接続用の配線パターンに対して連接される状態で前
記絶縁体の少なくとも2辺の端面において前記半導体装
置における前記外部入出力用接続電極とほぼ同サイズで
同配列の位置決め用の凹入部が形成されてなる中継接続
用の配線基板を用る。そして、前記半導体装置における
外部入出力用接続電極と前記中継接続用の配線基板にお
ける外部入出力用接続電極どうしを、これら両外部入出
力用接続電極に対して共通に接触し同時に位置決めを行
うコネクタを介して接続する。これは、上記の第10の
発明と上記第11の発明に対応しており、複数種類の配
線基板をモジュール規格化しておくもので、それらのモ
ジュールの組み合わせによって様々な展開が自由自在に
なり、複数の半導体装置間の接続の自由度を拡大するこ
とが可能となる。
According to the twenty-first connection structure of the present invention, a plurality of semiconductor devices each having a semiconductor chip mounted on an insulator are mounted on a mother board, and the semiconductor chips in each of the semiconductor devices are connected to each other. It has the following configuration requirements. That is, as each of the semiconductor devices, an external input / output connection electrode formed on an end face of the insulator for connecting the semiconductor chip is formed in a concave shape, and on another side of the insulator. A semiconductor device having substantially the same size as the recessed external input / output connection electrodes and the same arrangement of recesses for positioning is used. Further, as a wiring board for relay connection between the plurality of semiconductor devices, a wiring pattern for relay connection formed on the surface of the insulator is formed and connected to the wiring pattern for relay connection. In this state, a wiring board for relay connection, in which at least two sides of the insulator are formed with positioning recesses having substantially the same size and the same arrangement as the external input / output connection electrodes in the semiconductor device, Use. A connector that contacts the external input / output connection electrodes of the semiconductor device and the external input / output connection electrodes of the relay connection wiring board in common to these external input / output connection electrodes and performs positioning simultaneously. Connect through. This corresponds to the tenth and eleventh aspects of the present invention, in which a plurality of types of wiring boards are module-standardized, and various developments can be freely performed by combining these modules. The degree of freedom in connection between a plurality of semiconductor devices can be increased.

【0052】本願第22の発明の配線基板の製造方法
は、絶縁体に貫通孔を形成する工程と、前記貫通孔に導
電性ペーストを充填する工程と、前記絶縁体の上下両方
の表面に前記導電性ペーストに連なる状態で配線パター
ンを形成するとともに前記導電性ペーストを焼成してビ
アにする工程と、外周部相当箇所に位置するビア群を通
る状態でダイシングを行って前記ビアの切断端面を露出
状態の外部入出力用接続電極となす工程とを含むものと
して構成されている。これは、上記の第2の発明の半導
体チップ搭載用の配線基板に対応しているが、その配線
基板の製造に適したものであり、その配線基板を容易に
製造することが可能である。
The method of manufacturing a wiring board according to the twenty-second aspect of the present invention includes a step of forming a through hole in the insulator, a step of filling the through hole with a conductive paste, and a step of forming the through hole on both upper and lower surfaces of the insulator. A step of forming a wiring pattern in a state connected to the conductive paste and baking the conductive paste into a via, and performing dicing in a state of passing through a via group located at a position corresponding to an outer peripheral portion to cut a cut end surface of the via Forming a connection electrode for external input / output in an exposed state. Although this corresponds to the wiring board for mounting a semiconductor chip according to the second aspect of the invention, it is suitable for manufacturing the wiring board, and the wiring board can be easily manufactured.

【0053】本願第23の発明の配線基板の製造方法
は、絶縁体に貫通孔を形成する工程と、前記貫通孔に導
電性ペーストを充填する工程と、前記絶縁体の上下両方
の表面に前記導電性ペーストに連なる状態で配線パター
ンを形成するとともに前記導電性ペーストを焼成してビ
アにする工程と、前記各工程の結果として得られる配線
基板を複数枚積層する工程と、外周部相当箇所において
マトリックス状態に配列されているビア群を通る状態で
ダイシングを行って前記ビアの切断端面を露出状態でマ
トリックス状の外部入出力用接続電極となす工程とを含
むものとして構成されている。これは、上記の第4の発
明の半導体チップ搭載用の配線基板に対応しているが、
その配線基板の製造に適したものであり、その配線基板
を容易に製造することが可能である。
The method for manufacturing a wiring board according to the twenty-third aspect of the present invention includes a step of forming a through-hole in the insulator, a step of filling the through-hole with a conductive paste, and a step of forming the through-hole on both upper and lower surfaces of the insulator. A step of forming a wiring pattern in a state connected to the conductive paste and firing the conductive paste to form vias; a step of laminating a plurality of wiring boards obtained as a result of each of the steps; Dicing in a state of passing through a group of vias arranged in a matrix to form a cut end surface of the via in an exposed state to form a matrix-like external input / output connection electrode. This corresponds to the wiring board for mounting a semiconductor chip of the fourth invention,
This is suitable for manufacturing the wiring board, and the wiring board can be easily manufactured.

【0054】本願第24の発明の配線基板の製造方法
は、絶縁体の上下両方の表面に導体箔を形成する工程
と、前記絶縁体および前記導体箔に貫通孔を形成する工
程と、前記貫通孔の内周壁面に筒状導体を前記両導体箔
に連なる状態で形成する工程と、前記絶縁体表面の両導
体箔をパターニングして配線パターンを形成する工程
と、外周部相当箇所に位置する筒状導体群を通る状態で
ダイシングを行って前記筒状導体の切断端面を露出状態
の外部入出力用接続電極となす工程とを含むものとして
構成されている。これは、上記の第3の発明の半導体チ
ップ搭載用の配線基板に対応しているが、その配線基板
の製造に適したものであり、その配線基板を容易に製造
することが可能である。
The method of manufacturing a wiring board according to the twenty-fourth aspect of the present invention includes a step of forming a conductor foil on both upper and lower surfaces of an insulator; a step of forming through holes in the insulator and the conductor foil; A step of forming a cylindrical conductor on the inner peripheral wall surface of the hole so as to be continuous with the two conductor foils; a step of patterning both conductor foils on the insulator surface to form a wiring pattern; Dicing in a state of passing through the cylindrical conductor group to form a cut end surface of the cylindrical conductor as an exposed external input / output connection electrode. Although this corresponds to the wiring board for mounting a semiconductor chip according to the third aspect of the present invention, it is suitable for manufacturing the wiring board, and the wiring board can be easily manufactured.

【0055】本願第25の発明の配線基板の製造方法
は、所定のパターンの配線層が形成された支持基材に対
して絶縁体を重ね合わせる工程と、前記支持基材と前記
絶縁体とが接する面と前記絶縁体の端面とに対して同時
に前記配線層を圧着により転写する工程と、前記配線層
を残して前記支持基材を除去することにより前記絶縁体
の表面に配線パターンを形成するとともに前記絶縁体の
端面に外部入出力用接続電極を露出させる工程とを含む
ものとして構成されている。これは、上記の第6の発明
の半導体チップ搭載用の配線基板に対応しているが、そ
の配線基板の製造に適したものであり、その配線基板を
容易に製造することが可能である。
In the method for manufacturing a wiring board according to the twenty-fifth aspect of the present invention, a step of superposing an insulator on a support substrate on which a wiring layer of a predetermined pattern is formed, Forming a wiring pattern on the surface of the insulator by simultaneously transferring the wiring layer to the contact surface and the end face of the insulator by pressure bonding, and removing the supporting base material while leaving the wiring layer. And exposing a connection electrode for external input / output to an end face of the insulator. This corresponds to the wiring board for mounting a semiconductor chip according to the sixth aspect, but is suitable for manufacturing the wiring board, and the wiring board can be easily manufactured.

【0056】本願第26の発明の配線基板の製造方法
は、絶縁体と支持基材とを重ね合わせて接着する工程
と、前記絶縁体にV字状溝を形成してこの絶縁体の端面
を傾斜面となす工程と、前記絶縁体の表面および傾斜面
に配線パターンを形成する工程と、前記支持基材を除去
するとともに前記絶縁体を分割して前記絶縁体の傾斜面
に外部入出力用接続電極を形成する工程とを含含むもの
として構成されている。これは、上記の第5の発明の半
導体チップ搭載用の配線基板に対応しているが、その配
線基板の製造に適したものであり、その配線基板を容易
に製造することが可能である。
The method of manufacturing a wiring board according to the twenty-sixth aspect of the present invention includes a step of laminating and bonding an insulator and a supporting base material, and forming a V-shaped groove in the insulator to form an end face of the insulator. Forming an inclined surface; forming a wiring pattern on the surface and the inclined surface of the insulator; removing the support base and dividing the insulator to form an external input / output on the inclined surface of the insulator. And a step of forming a connection electrode. This corresponds to the wiring board for mounting a semiconductor chip according to the fifth aspect, but is suitable for manufacturing the wiring board, and the wiring board can be easily manufactured.

【0057】(具体的な実施の形態)以下、本発明にか
かわる半導体チップ搭載用の配線基板、配線基板の製造
方法、半導体装置、半導体装置間接続構造の具体的な実
施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
(Specific Embodiment) Hereinafter, specific embodiments of a wiring board for mounting a semiconductor chip, a method of manufacturing a wiring board, a semiconductor device, and a connection structure between semiconductor devices according to the present invention will be described with reference to the drawings. This will be described in detail.

【0058】(実施の形態1)図1は本発明の実施の形
態1の半導体装置に用いる配線基板の製造方法の概略を
示す工程断面図、図2は半導体装置の製造方法の概略を
示す工程断面図、図3(a)は半導体装置の構成の概略
を示す平面図、図3(b)は半導体装置における端面タ
イプの外部入出力用接続電極の部分を強調して示す側面
図、図4(a)は半導体装置間接続構造の概略を示す断
面図、図4(b)は半導体装置間接続構造の概略を示す
平面図である。
(Embodiment 1) FIG. 1 is a process sectional view schematically showing a method of manufacturing a wiring board used for a semiconductor device according to Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 2 is a process schematically showing a method of manufacturing a semiconductor device. FIG. 3A is a cross-sectional view, FIG. 3A is a plan view schematically showing the configuration of the semiconductor device, FIG. 3B is a side view showing the end face type external input / output connection electrodes in the semiconductor device, and FIG. 4A is a cross-sectional view schematically showing a connection structure between semiconductor devices, and FIG. 4B is a plan view schematically showing a connection structure between semiconductor devices.

【0059】まず、半導体装置に用いる配線基板の製造
方法について説明する。この製造方法の概略を示す図1
において、符号の100Aは配線基板、101は絶縁
体、102は絶縁体101に形成された貫通孔、103
は貫通孔102に充填された導電性ペースト、104,
105は絶縁体101の上下の表面に形成された配線パ
ターン、106は導電性ペースト103が焼結された結
果のビア、106aはそのようなビア106のうち端面
に位置していてカッティングによって端面露出された端
面露出ビア、104a,105aは配線パターン10
4,105のうち端面に位置していてカッティングによ
って端面露出された露出配線パターン端面、107は上
下の露出配線パターン端面104a,105aと両者間
の端面露出ビア106aとからなる端面タイプの外部入
出力用接続電極である。
First, a method for manufacturing a wiring board used for a semiconductor device will be described. FIG. 1 schematically shows the manufacturing method.
In the figure, 100A is a wiring board, 101 is an insulator, 102 is a through hole formed in the insulator 101, 103
Denotes a conductive paste filled in the through hole 102, 104,
Reference numeral 105 denotes a wiring pattern formed on the upper and lower surfaces of the insulator 101, 106 denotes a via formed by sintering the conductive paste 103, and 106a denotes an end of the via 106, and the end is exposed by cutting. The exposed end face vias 104a and 105a
The exposed wiring pattern end face which is located at the end face and which is exposed by cutting out of the end faces 4, 105, 107 is an end face type external input / output composed of upper and lower exposed wiring pattern end faces 104a, 105a and an end face exposed via 106a therebetween. Connection electrode.

【0060】次に、図1に示す配線基板100Aの製造
方法を順を追って説明する。
Next, a method of manufacturing the wiring board 100A shown in FIG. 1 will be described step by step.

【0061】まず、図1(a)に示すように、絶縁体1
01の所要の位置に上下に貫通する貫通孔102を形成
する。絶縁体101としては、例えばセラミックグリー
ンシートを用いる。貫通孔102の形成については、金
属ピン等による打ち抜きで行う。
First, as shown in FIG.
A through hole 102 penetrating vertically is formed at a required position 01. As the insulator 101, for example, a ceramic green sheet is used. The formation of the through hole 102 is performed by punching with a metal pin or the like.

【0062】次に、図1(b)に示すように、貫通孔1
02内に導電性ペースト103を充填する。この導電性
ペースト103としては、例えば酸化銅を主成分とする
導電性ペーストを用いる。
Next, as shown in FIG.
02 is filled with a conductive paste 103. As the conductive paste 103, for example, a conductive paste containing copper oxide as a main component is used.

【0063】次に、図1(c)に示すように、絶縁体1
01の上下両方の表面において配線パターン104,1
05を形成する。上下の配線パターン104,105
は、導電性ペースト103を介して電気的に接続された
状態で形成する。配線パターン104,105として
は、例えば酸化銅を主成分とするペーストを用い、この
ペーストを印刷することにより形成することができる。
Next, as shown in FIG.
01 on both upper and lower surfaces.
05 is formed. Upper and lower wiring patterns 104 and 105
Are formed in a state where they are electrically connected via the conductive paste 103. The wiring patterns 104 and 105 can be formed by using, for example, a paste containing copper oxide as a main component and printing the paste.

【0064】絶縁体101としてのセラミックグリーン
シートは、焼結後に収縮する性質を有しているため、事
前に収縮率を考慮して、貫通孔102および配線パター
ン104,105の位置が決められる。
Since the ceramic green sheet as the insulator 101 has a property of shrinking after sintering, the positions of the through hole 102 and the wiring patterns 104 and 105 are determined in advance in consideration of the shrinkage rate.

【0065】次に、空気中において500℃で約2時間
の焼成を行い、絶縁体101としてのセラミックグリー
ンシート中の有機成分を充分に除去する。さらに、水素
と窒素を混合したガス雰囲気中において、900℃で約
1時間の焼成を行い、前記の有機成分が除去されたセラ
ミックグリーンシートを焼結させて、セラミック層を形
成するとともに、配線パターン104,105を構成し
ている酸化銅を銅に還元させると同時に焼結させて導体
層を形成する。
Next, baking is performed in air at 500 ° C. for about 2 hours to sufficiently remove the organic components in the ceramic green sheet as the insulator 101. Further, firing is performed at 900 ° C. for about 1 hour in a gas atmosphere in which hydrogen and nitrogen are mixed, and the ceramic green sheet from which the organic components have been removed is sintered to form a ceramic layer and a wiring pattern. The copper oxide constituting 104 and 105 is reduced to copper and simultaneously sintered to form a conductor layer.

【0066】この焼成において、貫通孔102内の導電
性ペースト103は焼結され、ビア106となる。
In this firing, the conductive paste 103 in the through hole 102 is sintered to form a via 106.

【0067】次に、図1(d)に示すように、絶縁体1
01から切り出すことになる配線基板100Aの矩形周
縁部に相当する位置にある貫通孔102内のビア106
をほぼその中心を通る状態で縦方向にカッティングす
る。これによって、端面露出ビア106aが形成され
る。この端面露出ビア106aの形成のためのカッティ
ングにおいて、その端面露出ビア106aに位置対応し
ている上下の配線パターン104,105もカッティン
グされる。そのような配線パターン104,105のカ
ッティングされた端面が露出配線パターン端面104
a,105aである。この露出配線パターン端面104
a,105aと両者間の端面露出ビア106aとから端
面タイプの外部入出力用接続電極107が形成されるこ
とになる。なお、上記のカッティングは、いわゆるダイ
シングであり、複数の配線基板100Aが個片に分割さ
れることになる。すなわち、個片分割と外部入出力用接
続電極107の形成とが同時に行われる。
Next, as shown in FIG.
01, the via 106 in the through hole 102 at a position corresponding to the rectangular peripheral portion of the wiring board 100A to be cut out.
Is cut in the vertical direction while passing substantially through the center. As a result, the end face exposure via 106a is formed. In the cutting for forming the end face exposed via 106a, the upper and lower wiring patterns 104 and 105 corresponding to the position of the end face exposed via 106a are also cut. The cut end faces of the wiring patterns 104 and 105 are exposed end faces 104 of the wiring pattern.
a and 105a. This exposed wiring pattern end face 104
An external input / output connection electrode 107 of an end face type is formed from the end faces a and 105a and the end face exposed via 106a therebetween. Note that the above-described cutting is so-called dicing, and the plurality of wiring boards 100A are divided into individual pieces. That is, the division of the individual pieces and the formation of the external input / output connection electrodes 107 are performed simultaneously.

【0068】以上のようにして、端面タイプの外部入出
力用接続電極107を有する配線基板100Aが製造さ
れたことになる。
As described above, the wiring board 100A having the end face type external input / output connection electrodes 107 is manufactured.

【0069】なお、図1において詳しい図示はしていな
いが、配線基板100Aのもとになる絶縁体101はも
っと面積の大きなものであり、そのような絶縁体101
から複数の配線基板100Aを個片として分割するよう
になっている。
Although not shown in detail in FIG. 1, the insulator 101 serving as the base of the wiring board 100A has a larger area.
, The plurality of wiring boards 100A are divided into individual pieces.

【0070】次に、半導体装置の製造方法について説明
する。この製造方法の概略の工程断面図を示す図2にお
いて、符号の200Aは半導体チップ、201は半導体
チップ本体、202は半導体チップ本体201の下面の
チップ電極パッドに形成されたバンプ、301は封止樹
脂、300Aは半導体装置である。
Next, a method of manufacturing a semiconductor device will be described. In FIG. 2 showing a schematic process cross-sectional view of this manufacturing method, reference numeral 200A is a semiconductor chip, 201 is a semiconductor chip main body, 202 is a bump formed on a chip electrode pad on the lower surface of the semiconductor chip main body 201, and 301 is a sealing. The resin, 300A, is a semiconductor device.

【0071】次に、図2に示す半導体装置300Aの製
造方法を順を追って説明する。
Next, a method of manufacturing the semiconductor device 300A shown in FIG. 2 will be described step by step.

【0072】まず、図2(a),(b)に示すように、
配線基板100Aに対して半導体チップ200Aをフリ
ップチップ(FC)として接続する。半導体チップ20
0Aは、半導体チップ本体201の下面に露出している
入出力用のチップ電極パッドに対してハンダや金などか
らなるバンプ202を接合したものとなっている。その
半導体チップ200Aのバンプ202を配線基板100
Aにおける上面の配線パターン104の接続ランド部に
位置合わせして載置し、加熱および超音波照射などを行
うことにより、バンプ202を配線パターン104に接
合する。これにより、半導体チップ200Aと配線基板
100Aとが電気的に接続されたことになる。
First, as shown in FIGS. 2A and 2B,
The semiconductor chip 200A is connected as a flip chip (FC) to the wiring board 100A. Semiconductor chip 20
Reference numeral 0A indicates that the bump 202 made of solder, gold, or the like is bonded to the input / output chip electrode pad exposed on the lower surface of the semiconductor chip body 201. The bump 202 of the semiconductor chip 200A is connected to the wiring board 100.
The bump 202 is bonded to the wiring pattern 104 by positioning and mounting it on the connection land portion of the wiring pattern 104 on the upper surface in A, and performing heating, ultrasonic irradiation, and the like. As a result, the semiconductor chip 200A and the wiring board 100A are electrically connected.

【0073】次に、図2(c)に示すように、半導体チ
ップ200Aの下面および側面と配線基板100Aの上
面との間に封止樹脂301を充填し、その封止樹脂30
1を固化することにより、半導体チップ200Aと配線
基板100Aとを機械的に強固に結合し、半導体装置3
00Aを得る。これにより、半導体チップ200Aと配
線基板100Aとの接続信頼性を高いものとして確保す
る。封止樹脂301としては、例えばエポキシ樹脂とS
iO2 等からなるフィラーとの混合物である封止樹脂を
用いることができる。半導体チップ200Aの背面は封
止樹脂301によって覆われておらず、露出したままと
なっている。
Next, as shown in FIG. 2C, a sealing resin 301 is filled between the lower surface and the side surface of the semiconductor chip 200A and the upper surface of the wiring board 100A, and the sealing resin 301 is filled.
By solidifying the semiconductor device 3, the semiconductor chip 200 A and the wiring substrate 100 A are mechanically and firmly connected to each other, and the semiconductor device 3
00A is obtained. This ensures that the connection reliability between the semiconductor chip 200A and the wiring board 100A is high. As the sealing resin 301, for example, epoxy resin and S
A sealing resin which is a mixture with a filler composed of iO 2 or the like can be used. The back surface of the semiconductor chip 200A is not covered with the sealing resin 301, and remains exposed.

【0074】図3(a)は以上のようにして製造した半
導体装置300Aの概略の平面図であり、図3(b)は
図3(a)におけるA−A′方向から見た一部分の側面
図であって、端面タイプの外部入出力用接続電極107
の部分を強調して示している。
FIG. 3A is a schematic plan view of the semiconductor device 300A manufactured as described above, and FIG. 3B is a partial side view of the semiconductor device 300A seen from the AA 'direction in FIG. 3A. FIG. 13 is a diagram showing an end face type external input / output connection electrode 107.
Is highlighted.

【0075】半導体装置300Aの周縁部つまりは絶縁
体101の周縁部において、その端面に露出する状態で
多数の外部入出力用接続電極107が稠密な状態に形成
されている。本実施の形態1においては、後述する実施
の形態2(図8)のマトリックス配列とは異なり、1次
元配列となっている。
At the periphery of the semiconductor device 300A, that is, at the periphery of the insulator 101, a large number of external input / output connection electrodes 107 are formed so as to be exposed at the end faces. In the first embodiment, unlike the matrix arrangement of a second embodiment (FIG. 8) described later, a one-dimensional arrangement is used.

【0076】次に、複数の半導体装置をマザー基板上に
実装する半導体装置間接続構造について説明する。この
半導体装置間接続構造の概略の断面図を示す図4(a)
および平面図を示す図4(b)において、符号の401
はマザー基板、402はマザー基板401上に形成され
た電極端子、403はハンダ、404は直接接合部であ
る。
Next, a connection structure between semiconductor devices in which a plurality of semiconductor devices are mounted on a mother board will be described. FIG. 4A showing a schematic cross-sectional view of the connection structure between semiconductor devices.
4B showing a plan view, and reference numeral 401 in FIG.
Denotes a mother substrate, 402 denotes an electrode terminal formed on the mother substrate 401, 403 denotes a solder, and 404 denotes a direct bonding portion.

【0077】図4に示すような半導体装置間接続構造
は、次のようにして構築される。
The connection structure between semiconductor devices as shown in FIG. 4 is constructed as follows.

【0078】まず、2つの半導体装置300A,300
Aそれぞれの互いに接続すべき端面タイプの外部入出力
用接続電極107,107に、あらかじめ、ハンダをプ
リコートする。このプリコートハンダがあとで直接接合
部404となる。
First, the two semiconductor devices 300A, 300
A Solder is pre-coated in advance on the end face type external input / output connection electrodes 107 to be connected to each other. This pre-coated solder will directly become the bonding portion 404 later.

【0079】次に、マザー基板401上の電極端子40
2にクリームハンダを印刷する。
Next, the electrode terminals 40 on the motherboard 401
Print cream solder on 2.

【0080】次に、2つの半導体装置300A,300
Aにおいてハンダプリコート済みの端面タイプの外部入
出力用接続電極107,107どうしの位置合わせを行
い、さらにこの位置合わせ状態を保持したまま、両半導
体装置300A,300Aをマザー基板401に載置す
る。この載置は、マザー基板401上の電極端子402
に対して両半導体装置300A,300Aの下面の配線
パターン105の電極パッドが位置合わせされた状態で
行う。
Next, the two semiconductor devices 300A, 300
In A, the solder-precoated end-face type external input / output connection electrodes 107, 107 are aligned with each other, and both semiconductor devices 300A, 300A are mounted on the motherboard 401 while maintaining this alignment state. This mounting is performed by the electrode terminals 402 on the mother substrate 401.
Is performed in a state where the electrode pads of the wiring pattern 105 on the lower surfaces of the semiconductor devices 300A and 300A are aligned.

【0081】次に、ハンダリフローを行う。これによ
り、2つの半導体装置300A,300Aの配線パター
ン105の電極パッドとマザー基板401の電極端子4
02とのハンダ接続と、2つの半導体装置300A,3
00Aどうし間の端面タイプの外部入出力用接続電極1
07,107どうしのハンダ接続とが、同時的に行われ
ることになる。外部入出力用接続電極107,107の
ハンダ接続部分が直接接合部404となる。
Next, solder reflow is performed. Thereby, the electrode pads of the wiring pattern 105 of the two semiconductor devices 300A and 300A and the electrode terminals 4 of the motherboard 401 are formed.
02 and two semiconductor devices 300A, 300A, 3
End face type external input / output connection electrode 1 between 00A
07 and 107 are connected simultaneously. The solder connection portion between the external input / output connection electrodes 107 and 107 becomes the direct bonding portion 404.

【0082】以上のように、この半導体装置間接続構造
は、それぞれ端面タイプの外部入出力用接続電極107
を有する半導体装置300Aの2つを、その両者の外部
入出力用接続電極107,107どうしの直接の接続を
行った状態で、マザー基板401上に隣接実装した構造
となっている。
As described above, this connection structure between semiconductor devices has an external input / output connection electrode 107 of an end surface type.
Are mounted adjacent to each other on the mother board 401 in a state where the two external input / output connection electrodes 107 are directly connected to each other.

【0083】本実施の形態1による隣接する半導体装置
300A,300Aそれぞれの半導体チップ200A,
200Aどうし間の接続においては、マザー基板401
を経由しておらず、その接続距離については、図19
(a)に示すマザー基板を経由しての接続が行われてい
る従来技術の場合と比較すると、マザー基板上の配線長
分が減じられているとともに、半導体キャリア内の2つ
のビアの配線長分が減じられており、より短い配線での
接続が可能となっている。
The semiconductor chips 200A, 300A of the adjacent semiconductor devices 300A, 300A according to the first embodiment
In connection between 200A, mother board 401
The connection distance is not shown in FIG.
Compared with the case of the related art in which connection is made via the mother substrate shown in FIG. 1A, the wiring length on the mother substrate is reduced and the wiring length of two vias in the semiconductor carrier is reduced. The number of connections has been reduced, and connection with shorter wiring is possible.

【0084】したがって、マルチチップモジュールと同
程度に接続距離を短くすることが可能となっている。し
かも、各半導体装置300Aにおいて半導体チップ20
0Aのそれぞれはパッケージされているため、そのよう
なパッケージ単体での検査およびバーンイン等も可能で
あり、その結果として、接続する半導体装置の汎用性を
損なうことがない。
Therefore, it is possible to reduce the connection distance as much as the multi-chip module. Moreover, in each semiconductor device 300A, the semiconductor chip 20
Since each of the devices 0A is packaged, it is possible to perform inspection, burn-in, and the like using such a package alone, and as a result, there is no loss of versatility of the semiconductor device to be connected.

【0085】なお、本実施の形態1においては、絶縁体
101としてグリーンシートを焼結したセラミックを使
った配線基板100Aおよび半導体装置300Aの製造
方法を説明したが、必ずしもそれにとらわれる必要性は
なく、絶縁体101としては、樹脂を用いるALIVH
(Any Layer Inner Via Hole)基板を用いてもよく、こ
の場合も上記と同様に、絶縁体101の端面に端面タイ
プの外部入出力用接続電極107を形成してなる半導体
装置300Aの製造が可能である。なお、ALIVH基
板については、特許第2601128号を参照すること
ができる。
In the first embodiment, the method of manufacturing the wiring board 100A and the semiconductor device 300A using the ceramic obtained by sintering the green sheet as the insulator 101 has been described. However, the present invention is not necessarily limited to this. ALIVH using resin as the insulator 101
(Any Layer Inner Via Hole) A substrate may be used, and in this case, similarly to the above, a semiconductor device 300A in which an end face type external input / output connection electrode 107 is formed on the end face of the insulator 101 can be manufactured. It is. For the ALIVH substrate, Japanese Patent No. 2601128 can be referred to.

【0086】なお、半導体装置内での配線パターンの引
き回しを最短にするための要件を図5を用いて説明して
おく。
The requirements for minimizing the wiring pattern in the semiconductor device will be described with reference to FIG.

【0087】図5は半導体装置300Aにおける半導体
チップ200Aのチップ電極パッド203と端面タイプ
の外部入出力用接続電極107との配列順序関係の概念
を示す平面図である。
FIG. 5 is a plan view showing the concept of the arrangement order relationship between the chip electrode pads 203 of the semiconductor chip 200A and the end face type external input / output connection electrodes 107 in the semiconductor device 300A.

【0088】チップ電極パッド203の搭載方法として
フェースダウン方式が用いられているとして、その半導
体チップ200Aのチップ電極パッド203の配列順序
と絶縁体101の端面における外部入出力用接続電極1
07の配列順序とが鏡像関係となっている。それは、配
線パターン104の引き回しにおいてビアなどの垂直接
続体を用いずともよく、すなわち、立体交差が不要であ
り、すべての配線パターンを同一面内で引き回すことが
可能となり、最短での配線が可能である。なお、もちろ
ん、条件が許せば、鏡像関係に代えて、同一関係として
もよい。鏡像関係というのは、外部入出力用接続電極の
ピッチがチップ電極パッドのピッチより広がっている意
味であり、同一関係というのはピッチが等しいという意
味である。
Assuming that the face-down method is used as the mounting method of the chip electrode pads 203, the arrangement order of the chip electrode pads 203 of the semiconductor chip 200A and the external input / output connection electrodes 1 on the end face of the insulator 101 are assumed.
The arrangement order of 07 has a mirror image relationship. It is not necessary to use a vertical connector such as a via in the routing of the wiring pattern 104, that is, there is no need for a three-dimensional intersection, and all the wiring patterns can be routed in the same plane, and the shortest wiring is possible. It is. Of course, if conditions permit, the same relationship may be used instead of the mirror image relationship. The mirror image relationship means that the pitch of the external input / output connection electrodes is wider than the pitch of the chip electrode pads, and the same relationship means that the pitches are equal.

【0089】上記はフェースダウン方式についての説明
であったが、これ以外に、半導体チップの搭載方法にワ
イヤボンド方式を用いる場合も、半導体チップ上に形成
されるチップ電極パッドの配列順序と、端面タイプの外
部入出力用接続電極107の配列順序とが鏡像関係とな
るようにするのが好ましい。
Although the above description has been made with respect to the face-down method, in addition to the above, when the wire bonding method is used for mounting the semiconductor chip, the arrangement order of the chip electrode pads formed on the semiconductor chip and the end surface It is preferable that the arrangement order of the type external input / output connection electrodes 107 be a mirror image relationship.

【0090】(実施の形態2)図6は本発明の実施の形
態2の半導体装置に用いる配線基板の製造方法の概略を
示す工程断面図、図7は半導体装置の製造方法の概略を
示す工程断面図、図8(a)は半導体装置の構成の概略
を示す平面図、図8(b)は半導体装置における端面タ
イプの外部入出力用接続電極の部分を強調して示す側面
図、図9は半導体装置間接続構造の概略を示す断面図で
ある。
(Embodiment 2) FIG. 6 is a process sectional view schematically showing a method of manufacturing a wiring board used in a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a process schematically showing a method of manufacturing a semiconductor device. FIG. 8A is a cross-sectional view, FIG. 8A is a plan view schematically showing the configuration of the semiconductor device, FIG. 8B is a side view showing the end face type external input / output connection electrodes in the semiconductor device, and FIG. 1 is a sectional view schematically showing a connection structure between semiconductor devices.

【0091】まず、半導体装置に用いる配線基板の製造
方法について説明する。この製造方法の概略を示す図6
において、符号の100Bは配線基板、101は絶縁
体、102は絶縁体101に形成された貫通孔、103
は貫通孔102に充填された導電性ペースト、104,
105は絶縁体101の上下の表面に形成された配線パ
ターン、106は導電性ペースト103が焼結された結
果のビア、106aはそのようなビア106のうち端面
に位置していてカッティングによって端面露出された端
面露出ビア、104a,105aは配線パターン10
4,105のうち端面に位置していてカッティングによ
って端面露出された露出配線パターン端面、107,1
08は上下の露出配線パターン端面104a,105a
と両者間の端面露出ビア106aとからなる上下2段配
列の端面タイプの外部入出力用接続電極である。
First, a method for manufacturing a wiring board used for a semiconductor device will be described. FIG. 6 schematically showing this manufacturing method.
In the figure, 100B is a wiring board, 101 is an insulator, 102 is a through hole formed in the insulator 101, 103
Denotes a conductive paste filled in the through hole 102, 104,
Reference numeral 105 denotes a wiring pattern formed on the upper and lower surfaces of the insulator 101, 106 denotes a via formed by sintering the conductive paste 103, and 106a denotes an end of the via 106, and the end is exposed by cutting. The exposed end face vias 104a and 105a
4, 105, the end face of the exposed wiring pattern, which is located on the end face and is exposed by cutting.
08 denotes upper and lower exposed wiring pattern end faces 104a and 105a.
And an external input / output connection electrode of an end face type having a two-tiered arrangement composed of an end face exposed via 106a between the two.

【0092】次に、図6に示す配線基板100Bの製造
方法を順を追って説明する。
Next, a method of manufacturing the wiring board 100B shown in FIG. 6 will be described step by step.

【0093】図6(a)から図6(c)までは、実施の
形態1の場合の図1(a)から図1(c)までで説明し
た事項がそのまま当てはまる。簡単に説明すると、ま
ず、図6(a)に示すように、絶縁体101の所要の位
置に貫通孔102を形成し、次に、図6(b)に示すよ
うに、貫通孔102内に導電性ペースト103を充填
し、次に、図6(c)に示すように、絶縁体101の上
下両方の表面において配線パターン104,105を、
導電性ペースト103を介して互いに電気的に接続され
る状態で形成する。
6 (a) to 6 (c) are the same as those described in FIGS. 1 (a) to 1 (c) in the first embodiment. Briefly, first, as shown in FIG. 6A, a through hole 102 is formed at a required position of an insulator 101, and then, as shown in FIG. The conductive paste 103 is filled, and then, as shown in FIG. 6C, wiring patterns 104 and 105 are formed on both upper and lower surfaces of the insulator 101.
It is formed in a state of being electrically connected to each other via the conductive paste 103.

【0094】次に、図6(d),(e)に示すように、
上記のプロセスを繰り返し行って作製した複数の絶縁体
101を積層し圧着する。このときに、上下2段配列の
端面タイプの外部入出力用接続電極107,108どう
しが電気的に接続されないような位置関係とする。すな
わち、最上層部と最下層部とが中間層を介して絶縁性が
保たれているようにする。
Next, as shown in FIGS. 6D and 6E,
A plurality of insulators 101 manufactured by repeating the above process are stacked and pressed. At this time, the external input / output connection electrodes 107 and 108 of the end-face type of the two-tiered arrangement are arranged so that they are not electrically connected to each other. That is, the insulation is maintained between the uppermost layer and the lowermost layer via the intermediate layer.

【0095】次に、空気中において500℃で約2時間
の焼成を行い、多層の絶縁体101としてのセラミック
グリーンシート中の有機成分を充分に除去する。さら
に、水素と窒素を混合したガス雰囲気中において、90
0℃で約1時間の焼成を行い、前記の有機成分が除去さ
れたセラミックグリーンシートを焼結させて、セラミッ
ク層を形成するとともに、配線パターン104,105
を構成している酸化銅を銅に還元させると同時に焼結さ
せて導体層を形成する。
Next, baking is performed in air at 500 ° C. for about 2 hours to sufficiently remove the organic components in the ceramic green sheet as the multilayer insulator 101. Further, in a gas atmosphere in which hydrogen and nitrogen are mixed, 90
Baking is performed at 0 ° C. for about 1 hour to sinter the ceramic green sheet from which the organic components have been removed, thereby forming a ceramic layer and forming wiring patterns 104 and 105.
Is reduced to copper and sintered at the same time to form a conductor layer.

【0096】この焼成において、貫通孔102内の導電
性ペースト103は焼結され、ビア106となる。
In this firing, the conductive paste 103 in the through-hole 102 is sintered to form a via 106.

【0097】次に、図6(f)に示すように、絶縁体1
01の積層体から切り出すことになる配線基板100B
の矩形周縁部に相当する位置にある上下の貫通孔10
2,102内のビア106,106をほぼその中心を通
る状態で縦方向にカッティングする。これによって、端
面露出ビア106a,106aが形成される。この端面
露出ビア106a,106aの形成のためのカッティン
グにおいて、その端面露出ビア106a,106aに位
置対応している上下の配線パターン104,105…も
カッティングされる。そのような配線パターン104,
105…のカッティングされた端面が露出配線パターン
端面104a,105a…である。そして、上層側の露
出配線パターン端面104a,105aと両者間の端面
露出ビア106aとから上段の端面タイプの外部入出力
用接続電極107が形成され、下層側の露出配線パター
ン端面104a,105aと両者間の端面露出ビア10
6aとから下段の端面タイプの外部入出力用接続電極1
08が形成されることになる。なお、上記のカッティン
グは、いわゆるダイシングである。
Next, as shown in FIG.
01 wiring board 100B to be cut from the laminate
Upper and lower through holes 10 at positions corresponding to the rectangular peripheral portion of
The vias 106, 106 in the components 2, 102 are cut in the vertical direction while substantially passing through the center. As a result, end face exposed vias 106a, 106a are formed. In the cutting for forming the end face exposed vias 106a, 106a, the upper and lower wiring patterns 104, 105... Corresponding to the end face exposed vias 106a, 106a are also cut. Such a wiring pattern 104,
Are cut end faces 104a, 105a,... Then, the external input / output connection electrode 107 of the upper end type is formed from the exposed wiring pattern end surfaces 104a, 105a on the upper layer side and the end surface exposed via 106a therebetween, and the lower-layer exposed wiring pattern end surfaces 104a, 105a are formed. End face exposed via 10 between
6a and lower end face type external input / output connection electrode 1
08 will be formed. The above-mentioned cutting is so-called dicing.

【0098】以上のようにして、上下2段配列の端面タ
イプの外部入出力用接続電極107,108を有する配
線基板100Bが製造されたことになる。
As described above, the wiring board 100B having the external input / output connection electrodes 107 and 108 of the end face type arranged in the upper and lower two stages is manufactured.

【0099】なお、図1において詳しい図示はしていな
いが、配線基板100Bのもとになる絶縁体積層体はも
っと面積の大きなものであり、そのような絶縁体積層体
から複数の配線基板100Bを個片として分割するよう
になっている。
Although not shown in detail in FIG. 1, the insulator laminate that forms the basis of the wiring board 100B has a larger area, and a plurality of wiring boards 100B are formed from such an insulator laminate. Is divided into individual pieces.

【0100】次に、半導体装置の製造方法について説明
する。この製造方法の概略の工程断面図を示す図7にお
いて、符号の200Aは半導体チップ、201は半導体
チップ本体、202は半導体チップ本体201の下面に
形成されたバンプ、301は封止樹脂、300Bは半導
体装置である。
Next, a method of manufacturing a semiconductor device will be described. In FIG. 7 showing a schematic process cross-sectional view of this manufacturing method, reference numeral 200A is a semiconductor chip, 201 is a semiconductor chip body, 202 is a bump formed on the lower surface of the semiconductor chip body 201, 301 is a sealing resin, and 300B is It is a semiconductor device.

【0101】次に、図7に示す半導体装置300Bの製
造方法を順を追って説明する。
Next, a method of manufacturing the semiconductor device 300B shown in FIG. 7 will be described step by step.

【0102】まず、図7(a),(b)に示すように、
配線基板100Bに対して半導体チップ200Aを接続
する。半導体チップ200Aは、半導体チップ本体20
1の下面に露出している入出力用のチップ電極パッドに
対してハンダや金などからなるバンプ202を接合した
ものとなっている。その半導体チップ200Aのバンプ
202を配線基板100Bにおける上面の配線パターン
104に位置合わせして載置し、加熱および超音波照射
などを行うことにより、バンプ202を配線パターン1
04に接合する。これにより、半導体チップ200Aと
配線基板100Bとが電気的に接続されたことになる。
First, as shown in FIGS. 7A and 7B,
The semiconductor chip 200A is connected to the wiring board 100B. The semiconductor chip 200A is the semiconductor chip body 20.
A bump 202 made of solder, gold, or the like is bonded to an input / output chip electrode pad exposed on the lower surface of the device 1. The bump 202 of the semiconductor chip 200A is aligned with the wiring pattern 104 on the upper surface of the wiring board 100B and placed thereon, and heating and ultrasonic irradiation are performed, so that the bump 202 is moved to the wiring pattern 1.
04. Thus, the semiconductor chip 200A and the wiring board 100B are electrically connected.

【0103】次に、図7(c)に示すように、半導体チ
ップ200Aの下面および側面と配線基板100Bの上
面との間に封止樹脂301を充填し、その封止樹脂30
1を固化することにより、半導体チップ200Aと配線
基板100Bとを機械的に強固に結合する。これによ
り、半導体チップ200Aと配線基板100Bとの接続
信頼性を高いものとして確保する。封止樹脂301とし
ては、例えばエポキシ樹脂とSiO2 等からなるフィラ
ーとの混合物である封止樹脂を用いることができる。
Next, as shown in FIG. 7C, a sealing resin 301 is filled between the lower surface and the side surface of the semiconductor chip 200A and the upper surface of the wiring board 100B, and the sealing resin
By solidifying 1, the semiconductor chip 200A and the wiring board 100B are mechanically and firmly connected. Thereby, the connection reliability between the semiconductor chip 200A and the wiring board 100B is ensured to be high. As the sealing resin 301, for example, a sealing resin that is a mixture of an epoxy resin and a filler made of SiO 2 or the like can be used.

【0104】図8(a)は以上のようにして製造した半
導体装置300Bの概略の平面図であり、図8(b)は
図8(a)におけるB−B′方向から見た一部分の側面
図であって上下2段配列の端面タイプの外部入出力用接
続電極107,108の部分を強調して示している。
FIG. 8A is a schematic plan view of the semiconductor device 300B manufactured as described above, and FIG. 8B is a side view of a part of the semiconductor device 300B seen from the direction BB 'in FIG. 8A. In the drawing, the end face type external input / output connection electrodes 107 and 108 in a two-tiered arrangement are shown in an emphasized manner.

【0105】半導体装置300Bの周縁部つまりは絶縁
体積層体の周縁部において、その端面に露出する状態で
上下2段配列の多数の端面タイプの外部入出力用接続電
極107,108がマトリックス状に稠密な状態に形成
されている。
At the peripheral portion of the semiconductor device 300B, that is, at the peripheral portion of the insulator laminate, a large number of external input / output connection electrodes 107 and 108 of a two-stage arrangement are arranged in a matrix in a state of being exposed on the end surface. It is formed in a dense state.

【0106】本実施の形態2の半導体装置300Bにお
いては、端面タイプの外部入出力用接続電極107,1
08が上下2段配列のマトリックスとなっているので、
実施の形態1の場合の1次元展開である1段配列の端面
タイプの外部入出力用接続電極107のみのものに比べ
て、外部入出力用接続電極数を倍増することが可能とな
っている。すなわち、半導体チップ200Aの多ピン化
に対応することが可能となっている。
In the semiconductor device 300B of the second embodiment, the external input / output connection electrodes 107, 1 of the end face type are used.
08 is a two-tiered matrix,
The number of external input / output connection electrodes can be doubled as compared with the case of the one-dimensional development of the first embodiment, which is a one-stage arrangement of end face type external input / output connection electrodes 107 only. . That is, it is possible to cope with the increase in the number of pins of the semiconductor chip 200A.

【0107】なお、端面タイプの外部入出力用接続電極
の段数は必ずしも2段に限る必要性はなくて、3段以上
としてもよい。
Note that the number of end face type external input / output connection electrodes need not necessarily be limited to two, but may be three or more.

【0108】次に、複数の半導体装置をマザー基板上に
組み立てる半導体装置間接続構造について説明する。こ
の半導体装置間接続構造の概略の断面図を示す図9にお
いて、符号の401はマザー基板、402はマザー基板
401上に形成された電極端子、403はハンダ、40
4,405は直接接合部である。
Next, a connection structure between semiconductor devices for assembling a plurality of semiconductor devices on a mother substrate will be described. In FIG. 9 showing a schematic cross-sectional view of the connection structure between semiconductor devices, reference numeral 401 denotes a mother board, 402 denotes electrode terminals formed on the mother board 401, 403 denotes solder,
4,405 is a direct joining part.

【0109】図9に示すような半導体装置間接続構造
は、次のようにして構築される。
A connection structure between semiconductor devices as shown in FIG. 9 is constructed as follows.

【0110】まず、2つの半導体装置300B,300
Bそれぞれの互いに接続すべき端面タイプの上段の外部
入出力用接続電極107,107および下段の外部入出
力用接続電極108,108に、あらかじめ、ハンダを
プリコートする。このプリコートハンダがあとで直接接
合部404,405となる。
First, two semiconductor devices 300B and 300B
B. Solder is pre-coated on the upper and lower external input / output connection electrodes 107, 107 and the lower external input / output connection electrodes 108, 108 of the end face type to be connected to each other. This pre-coated solder will directly become the joints 404 and 405 later.

【0111】次に、マザー基板401上の電極端子40
2にクリームハンダを印刷する。
Next, the electrode terminals 40 on the mother substrate 401
Print cream solder on 2.

【0112】次に、2つの半導体装置300B,300
Bにおいてハンダプリコート済みの端面タイプの上段の
外部入出力用接続電極107,107どうしの位置合わ
せおよび下段の外部入出力用接続電極108,108ど
うしの位置合わせを行い、さらにこの位置合わせ状態を
保持したまま、両半導体装置300B,300Bをマザ
ー基板401に載置する。この載置は、マザー基板40
1上の電極端子402に対して両半導体装置300B,
300Bの下面の配線パターン105の電極パッドが位
置合わせされた状態で行う。
Next, the two semiconductor devices 300B and 300
In B, the upper-level external input / output connection electrodes 107, 107 are aligned with each other and the lower-level external input / output connection electrodes 108, 108 are aligned with each other, and the alignment state is maintained. The semiconductor devices 300B and 300B are placed on the motherboard 401 while keeping the state. This mounting is performed by the mother substrate 40.
1, the two semiconductor devices 300B,
This is performed in a state where the electrode pads of the wiring pattern 105 on the lower surface of the 300B are aligned.

【0113】次に、ハンダリフローを行う。これによ
り、2つの半導体装置300B,300Bの配線パター
ン105の電極パッドとマザー基板401の電極端子4
02とのハンダ接続と、2つの半導体装置300B,3
00Bどうし間の端面タイプの上段の外部入出力用接続
電極107,107どうしのハンダ接続および下段の外
部入出力用接続電極108,108どうしのハンダ接続
とが、同時的に行われることになる。上段の外部入出力
用接続電極107,107のハンダ接続部分が直接接合
部404となり、下段の外部入出力用接続電極108,
108のハンダ接続部分が直接接合部405となる。
Next, solder reflow is performed. Thereby, the electrode pads of the wiring pattern 105 of the two semiconductor devices 300B and 300B and the electrode terminals 4 of the motherboard 401 are formed.
02 and the two semiconductor devices 300B and 300B.
Solder connection between the upper and lower external input / output connection electrodes 107 and 107 and solder connection between the lower external input / output connection electrodes 108 and 108 between the end surfaces of 00B are performed simultaneously. The solder connection portion of the upper external input / output connection electrodes 107, 107 directly serves as a bonding portion 404, and the lower external input / output connection electrodes 108, 107
The solder connection portion 108 becomes the direct bonding portion 405.

【0114】以上のように、この半導体装置間接続構造
は、それぞれ端面タイプの外部入出力用接続電極107
を有する半導体装置300Bの2つを、その両者の上段
の外部入出力用接続電極107,107どうしおよび下
段の外部入出力用接続電極108,108どうしの直接
の接続を行った状態で、マザー基板401上に隣接実装
した構造となっている。なお、図面上では、下段の外部
入出力用接続電極108,108と半導体チップ200
A,200Aとの接続関係が現れていないが、実際に
は、紙面外において接続されているのである。
As described above, this connection structure between semiconductor devices has an external input / output connection electrode 107 of an end surface type.
The two semiconductor devices 300B having the above structure are connected directly to each other by connecting the upper and lower external input / output connection electrodes 107 and 107 and the lower external input / output connection electrodes 108 and 108 directly to each other. It has a structure in which it is mounted adjacently on 401. In the drawing, the lower external input / output connection electrodes 108 and 108 and the semiconductor chip 200
A and 200A do not appear to be connected, but they are actually connected outside the paper.

【0115】本実施の形態2による隣接する半導体装置
300B,300Bそれぞれの半導体チップ200A,
200Aどうし間の接続においては、マザー基板401
を経由しておらず、その接続距離については、図19
(a)に示すマザー基板を経由しての接続が行われてい
る従来技術の場合と比較すると、マザー基板上の配線長
分が減じられているとともに、半導体キャリア内の2つ
のビアの配線長分が減じられており、より短い配線での
接続が可能となっている。
The semiconductor chips 200A, 200A,
In connection between 200A, mother board 401
The connection distance is not shown in FIG.
Compared with the case of the related art in which connection is made via the mother substrate shown in FIG. 1A, the wiring length on the mother substrate is reduced and the wiring length of two vias in the semiconductor carrier is reduced. The number of connections has been reduced, and connection with shorter wiring is possible.

【0116】また、マルチチップモジュールと同等に接
続距離を短くすることが可能となっている。しかも、各
半導体装置300Bにおいて半導体チップ200Aのそ
れぞれはパッケージされているため、そのようなパッケ
ージ単体での検査およびバーンイン等も可能であり、そ
の結果として、接続する半導体装置の汎用性を損なうこ
とがない。
Further, the connection distance can be reduced as in the case of the multi-chip module. In addition, since each of the semiconductor chips 200A is packaged in each of the semiconductor devices 300B, it is possible to perform inspection, burn-in, and the like of such a package alone, and as a result, the versatility of the semiconductor device to be connected may be impaired. Absent.

【0117】しかも、端面タイプの外部入出力用接続電
極を上下2段配列のマトリックスとしてあるので、1段
のみの実施の形態1の場合に比べて、半導体装置の入出
力端子数が増加した場合すなわち多ピン化に有効に対処
することができる。
In addition, since the end face type external input / output connection electrodes are arranged in a two-stage matrix, the number of input / output terminals of the semiconductor device is increased as compared with the case of the first embodiment having only one stage. That is, it is possible to effectively cope with the increase in the number of pins.

【0118】(実施の形態3)図10は本発明の実施の
形態3の半導体装置に用いる配線基板の製造方法の概略
を示す工程断面図、図11(a)は半導体装置間接続構
造の概略を示す断面図である。
(Embodiment 3) FIG. 10 is a process sectional view showing an outline of a method of manufacturing a wiring board used for a semiconductor device according to Embodiment 3 of the present invention, and FIG. 11 (a) is an outline of a connection structure between semiconductor devices. FIG.

【0119】図10において、符号の100Cは配線基
板、501は絶縁体、502は絶縁体501の表面に形
成された配線パターン、503は支持基材、504は接
着剤層、505はV字状溝、506は配線パターン、5
07は傾斜端面タイプの外部入出力用接続電極、550
はダイシング用ブレードである。
In FIG. 10, reference numeral 100C denotes a wiring board, 501 denotes an insulator, 502 denotes a wiring pattern formed on the surface of the insulator 501, 503 denotes a support base, 504 denotes an adhesive layer, and 505 denotes a V-shape. Grooves, 506 are wiring patterns, 5
Reference numeral 07 denotes a connection electrode for external input / output of the inclined end surface type, and 550.
Is a dicing blade.

【0120】まず、図10(a)に示すように、絶縁体
501を支持基材503に対して接着剤層504を介し
て接着する。
First, as shown in FIG. 10A, an insulator 501 is bonded to a supporting base material 503 via an adhesive layer 504.

【0121】この場合に、絶縁体501としては、ダイ
シングにより切断面が平坦になるものが用いられる。そ
れに適したものとして、例えばアルミナやガラスセラミ
ックなどをあげることができる。アルミナやガラスセラ
ミックからなる絶縁体は、高周波用として優れた特性を
有しているが、反面で硬度が高いために、貫通孔の形成
が困難である。そこで、本実施の形態3を適用するわけ
である。
In this case, an insulator 501 whose cut surface is flattened by dicing is used. Suitable materials include, for example, alumina and glass ceramic. Insulators made of alumina or glass ceramic have excellent characteristics for high frequencies, but have high hardness, but it is difficult to form through holes. Therefore, the third embodiment is applied.

【0122】接着剤層504としては、加熱により接着
性を失うワックスおよび発泡性シートなどが用いられ
る。
As the adhesive layer 504, a wax, a foamable sheet, or the like, which loses adhesiveness when heated, is used.

【0123】次に、図10(b)に示すように、傾斜面
タイプの外部入出力用接続電極507を形成する位置に
対して、ダイシング用ブレード550を用いてV字状溝
505を形成する。このとき、V字状溝505の最深部
が接着剤層504をも切断して支持基材503の表面に
達するように深さ制御を行う。それは、図10(c)の
段階で、配線パターン502がV字状溝505上に形成
する配線パターン506と連接するようにするためであ
る。なお、ダイシング用ブレード550としては、その
先端形状における先端面のなす角度が45度以上のもの
を用いることが好ましい。
Next, as shown in FIG. 10B, a V-shaped groove 505 is formed by using a dicing blade 550 at a position where the external input / output connection electrode 507 of the inclined surface type is formed. . At this time, depth control is performed so that the deepest part of the V-shaped groove 505 also cuts the adhesive layer 504 and reaches the surface of the support base material 503. This is because the wiring pattern 502 is connected to the wiring pattern 506 formed on the V-shaped groove 505 at the stage of FIG. In addition, as the dicing blade 550, it is preferable to use a blade having an angle of 45 degrees or more with respect to the tip surface in the tip shape.

【0124】次に、図10(c)に示すように、絶縁体
501の表面にメッキを施し、マスクを形成し、エッチ
ングを行って配線パターン506を形成する。このと
き、V字状溝505の表面に対しても配線パターン50
6を形成する。
Next, as shown in FIG. 10C, the surface of the insulator 501 is plated, a mask is formed, and etching is performed to form a wiring pattern 506. At this time, the wiring pattern 50 is also formed on the surface of the V-shaped groove 505.
6 is formed.

【0125】次に、図10(d)に示すように、加熱に
よって接着剤層504および支持基材503を離型す
る。この離型においては、V字状溝505の存在によ
り、2つに分離されることすなわち個片への分離が同時
に起こる。
Next, as shown in FIG. 10D, the adhesive layer 504 and the supporting substrate 503 are released by heating. In this mold release, separation into two, that is, separation into individual pieces, occurs at the same time due to the presence of the V-shaped groove 505.

【0126】その結果として、図10(e)に示すよう
に、絶縁体501の上表面と下表面とをつなぐつなぎ面
が傾斜端面501aとなっており、その傾斜端面501
aに外部入出力用接続電極507が形成された配線基板
100Cが製造される。
As a result, as shown in FIG. 10 (e), the connecting surface connecting the upper surface and the lower surface of the insulator 501 is the inclined end surface 501a.
The wiring substrate 100C in which the external input / output connection electrodes 507 are formed on a is manufactured.

【0127】なお、図示の仕方について、次のことに注
意されたい。図10(a)〜(d)と図10(e)とで
相違が見られるが、これは表現の都合でそのようにして
ある。図10(a)〜(d)は傾斜端面タイプの外部入
出力用接続電極507の合理的な作り方を表現すること
を主眼としているため、V字状溝505を図面上の中心
において描いている。しかし、右端および左端のそれぞ
れおいて、さらに外方に延在している部分が存在してお
り、その部分の図示を省略しているのである。図10
(e)の配線基板100Cは、図10(d)において分
離された2つの個片のうち左側の個片の全体を示してい
る。
Note the following about the method of illustration. 10 (a) to 10 (d) are different from FIG. 10 (e), but this is done for convenience of expression. 10 (a) to 10 (d) mainly show a rational method of forming the external input / output connection electrode 507 of the inclined end surface type, and thus the V-shaped groove 505 is drawn at the center of the drawing. . However, at each of the right end and the left end, there is a portion extending further outward, and the illustration of that portion is omitted. FIG.
The wiring board 100C shown in FIG. 10E shows the whole of the left piece of the two pieces separated in FIG. 10D.

【0128】次に、複数の半導体装置をマザー基板上に
実装する半導体装置間接続構造について説明する。この
半導体装置間接続構造の概略の断面図を示す図9におい
て、符号の401はマザー基板、402はマザー基板4
01上に形成された電極端子、403はハンダ、404
は直接接合部である。
Next, a connection structure between semiconductor devices in which a plurality of semiconductor devices are mounted on a motherboard will be described. In FIG. 9 showing a schematic cross-sectional view of the connection structure between semiconductor devices, reference numerals 401 indicate a mother substrate, and 402 indicates a mother substrate 4.
01, electrode terminal 403, solder 403,
Is a direct joint.

【0129】図11に示すような半導体装置間接続構造
は、次のようにして構築される。
A connection structure between semiconductor devices as shown in FIG. 11 is constructed as follows.

【0130】一方の左側の半導体装置300Cは、その
配線基板100Cにおける絶縁体501の傾斜端面50
1aが下広がりとなっている。そして、他方の右側の半
導体装置300Cは、その配線基板100Cにおける絶
縁体501の傾斜端面501aが上広がりとなってい
る。すなわち、一方の半導体装置300Cにおける傾斜
端面タイプの外部入出力用接続電極507と他方の半導
体装置300Cにおける傾斜端面タイプの外部入出力用
接続電極508とは傾斜方向が互いに逆で、傾斜角度は
等しくなっている。
On the other hand, the left semiconductor device 300C has an inclined end surface 50 of an insulator 501 on its wiring board 100C.
1a has spread downward. In the semiconductor device 300C on the other right side, the inclined end face 501a of the insulator 501 in the wiring board 100C is widened upward. That is, the inclined direction of the external input / output connection electrode 507 in one semiconductor device 300C and the inclined input surface external input / output connection electrode 508 in the other semiconductor device 300C are opposite to each other, and the inclination angles are equal. Has become.

【0131】まず、2つの半導体装置300C,300
Cそれぞれの互いに接続すべき下広がりの傾斜端面タイ
プの外部入出力用接続電極507と上広がりの傾斜端面
タイプの外部入出力用接続電極508に、あらかじめ、
ハンダをプリコートする。このプリコートハンダがあと
で直接接合部となる。
First, two semiconductor devices 300C, 300
C, the externally input / output connection electrode 507 of the downwardly sloping end surface type to be connected to each other and the externally input / output connection electrode 508 of the upwardly sloping end surface type,
Pre-coat the solder. This pre-coated solder will directly become the joint later.

【0132】次に、マザー基板401上の電極端子40
2にクリームハンダを印刷する。
Next, the electrode terminals 40 on the motherboard 401
Print cream solder on 2.

【0133】次に、2つの半導体装置300C,300
Cにおいてハンダプリコート済みの傾斜端面タイプの外
部入出力用接続電極507,508どうしの位置合わせ
を行い、さらにこの位置合わせ状態を保持したまま、両
半導体装置300C,300Cをマザー基板401に載
置する。この載置は、マザー基板401上の電極端子4
02に対して両半導体装置300C,300Cの下面の
配線パターン105の電極パッドが位置合わせされた状
態で行う。
Next, the two semiconductor devices 300C and 300C
In C, the external input / output connection electrodes 507 and 508 of the inclined end surface type having been solder pre-coated are aligned with each other, and both semiconductor devices 300C and 300C are mounted on the mother substrate 401 while maintaining this alignment state. . This mounting is performed on the electrode terminals 4 on the motherboard 401.
02 is performed in a state where the electrode pads of the wiring pattern 105 on the lower surfaces of the semiconductor devices 300C and 300C are aligned.

【0134】傾斜端面タイプの外部入出力用接続電極5
07,508は、実施の形態1の場合の垂直となってい
る端面タイプの外部入出力用接続電極107に比べて、
その面積がより大きなものとなっている。したがって、
傾斜端面タイプの外部入出力用接続電極507,508
どうしの直接接合部の接合面積が大きく、より強固な接
合が可能となっている。
External input / output connection electrode 5 of inclined end surface type
07 and 508 are compared with the vertical end face type external input / output connection electrode 107 in the first embodiment.
Its area is larger. Therefore,
External input / output connection electrodes 507 and 508 of the inclined end surface type
The bonding area of the direct bonding part between the two is large, and stronger bonding is possible.

【0135】なお、図11(b)においては、表現の都
合上で、傾斜端面タイプの外部入出力用接続電極50
7,508どうし間に空隙が存するように描いてある
が、もちろんこれは密着しており、直接接合部となって
いるのである。
In FIG. 11B, for the sake of convenience, the external input / output connection electrode 50 of the inclined end surface type is used.
Although it is drawn so that there is a gap between 7,508, it is of course closely adhered, and it is a direct joint.

【0136】本実施の形態3による隣接する半導体装置
300C,300Cそれぞれの半導体チップ200A,
200Aどうし間の接続においても、マザー基板401
を経由していないので、実施の形態1の場合と同様に、
半導体チップ200A,200Aどうしを短配線で接続
することができる。また、各半導体装置300Cにおい
て半導体チップ200Aのそれぞれはパッケージされて
いるため、そのようなパッケージ単体での検査およびバ
ーンイン等も可能となっている。
The semiconductor chips 200A, 300C of the adjacent semiconductor devices 300C, 300C according to the third embodiment
Even in the connection between 200A, the mother board 401
, As in the first embodiment,
The semiconductor chips 200A, 200A can be connected by short wiring. Further, since each of the semiconductor chips 200A is packaged in each of the semiconductor devices 300C, the inspection, the burn-in and the like of such a single package can be performed.

【0137】しかも、半導体装置300C,300Cの
互いに端面接続すべき外部入出力用接続電極が互いに傾
斜方向を逆にした傾斜端面タイプの外部入出力用接続電
極507,508となっているので、両者の接合面積が
拡大され、より強固な接合が可能となっている。すなわ
ち、接続信頼性が高い半導体装置間接続構造を構築する
ことができる。
Further, since the external input / output connection electrodes to be connected to the end surfaces of the semiconductor devices 300C and 300C are inclined end surface type external input / output connection electrodes 507 and 508 whose inclination directions are reversed to each other, both are connected. Has been expanded, and stronger bonding has become possible. That is, a connection structure between semiconductor devices having high connection reliability can be constructed.

【0138】(実施の形態4)次に、本発明の実施の形
態4の配線基板について説明する。図12は実施の形態
4における半導体装置に用いる配線基板の製造方法の概
略を示す工程断面図である。
(Embodiment 4) Next, a wiring board according to Embodiment 4 of the present invention will be described. FIG. 12 is a process cross-sectional view schematically showing a method of manufacturing a wiring board used for a semiconductor device according to the fourth embodiment.

【0139】まず、図12(a)に示すように、絶縁体
601を用意するとともに、支持基材602上に所定パ
ターンに配線層603を形成したものを用意する。絶縁
体601としては、寸法安定性に優れ、高耐熱性のもの
が用いられる。例えば、ガラス織布に熱硬化性樹脂を含
浸したものがある。熱硬化性樹脂の好適例としてエポキ
シ樹脂があり、これがガラスエポキシプリプレグであ
る。また、支持基材602の好適例としてアルミ箔をあ
げることができ、また、配線層603の好適例として銅
箔をあげることができる。あらかじめアルミ箔と銅箔が
貼り合わされた複合材を用いると有利となる。
First, as shown in FIG. 12A, an insulator 601 is prepared, and a support base 602 on which a wiring layer 603 is formed in a predetermined pattern is prepared. As the insulator 601, an insulator having excellent dimensional stability and high heat resistance is used. For example, there is a glass woven fabric impregnated with a thermosetting resin. A preferred example of the thermosetting resin is an epoxy resin, which is a glass epoxy prepreg. Further, a preferable example of the supporting base material 602 is an aluminum foil, and a preferable example of the wiring layer 603 is a copper foil. It is advantageous to use a composite material in which an aluminum foil and a copper foil are bonded in advance.

【0140】その支持基材602上の配線層603に対
して絶縁体601を位置合わせする。この場合に、絶縁
体601の両方の端面601aが各配線層603の中間
的位置に位置するように位置合わせを行う。
The insulator 601 is positioned with respect to the wiring layer 603 on the supporting base material 602. In this case, alignment is performed so that both end surfaces 601a of the insulator 601 are located at intermediate positions of the respective wiring layers 603.

【0141】次に、図12(b)に示すように、支持基
材602と絶縁体601とを重ね合わせた状態で、凹所
650aを有する成形金型650に押し込む。このと
き、支持基材602の両端に引っ張り応力をかけた状態
で押し込む。成形金型650の凹所650aの大きさ
は、絶縁体601よりも大きく、配線層603よりも小
さい。この押し込みにより、支持基材602が配線層6
03とともにほぼ直角に折り曲げられ、絶縁体601の
端面601aに配線層603が圧接されることになる。
Next, as shown in FIG. 12B, the support base 602 and the insulator 601 are pushed into a molding die 650 having a recess 650a in a state of being overlapped. At this time, both ends of the support base material 602 are pushed in while a tensile stress is applied. The size of the recess 650 a of the molding die 650 is larger than the insulator 601 and smaller than the wiring layer 603. By this pushing, the supporting base material 602 is
03 is bent substantially at a right angle, and the wiring layer 603 is pressed against the end face 601a of the insulator 601.

【0142】次に、図12(c)に示すように、押さえ
金型651を用いた真空プレス状態での加熱加圧によ
り、支持基材602の突出している部分をさらに直角に
折り曲げ、支持基材602および配線層603を絶縁体
601にまとわり付けながら、強力に圧着する。これに
より、配線層603が絶縁体601の表面から端面60
1aにかけて、そしてさらに裏面にかけて圧着され転写
されることになる。
Next, as shown in FIG. 12C, the protruding portion of the support base material 602 is further bent at a right angle by heating and pressing in a vacuum press state using a holding die 651, and the support base is bent. The material 602 and the wiring layer 603 are strongly pressed while being attached to the insulator 601. As a result, the wiring layer 603 moves from the surface of the insulator 601 to the end face 60.
1a, and further, to the back surface, to be pressed and transferred.

【0143】次に、図12(d)に示すように、金型6
50,651から離型を行った上で、支持基材602を
除去する。支持基材602がアルミ箔で、配線層603
が銅箔の場合には、アルミ箔と銅箔の選択エッチングに
より、アルミ箔すなわち支持基材602を溶解除去する
ことにより行うことができる。このように溶解除去によ
って支持基材602を除去すると、応力をかけて除去す
る場合に起こるおそれのある破壊現象を確実に抑制する
ことができ、形状精度の高く面精度の良好な両面配線タ
イプの配線基板100Dを製造することができる。ま
た、一貫ラインの中で支持基材602の除去を行うこと
が可能で、そうすれば生産性の向上を図ることができ
る。
Next, as shown in FIG.
After releasing from 50 and 651, the supporting base material 602 is removed. The supporting base material 602 is made of aluminum foil, and the wiring layer 603 is used.
Is a copper foil, the aluminum foil and the supporting base material 602 can be dissolved and removed by selective etching of the aluminum foil and the copper foil. When the support base material 602 is removed by dissolving and removing in this manner, a destructive phenomenon that may occur when the support base material 602 is removed by applying a stress can be reliably suppressed, and a double-sided wiring type having a high shape accuracy and a good surface accuracy can be used. The wiring board 100D can be manufactured. In addition, the support base material 602 can be removed in an integrated line, so that productivity can be improved.

【0144】上記の場合のアルミ箔と銅箔の選択エッチ
ングにおける選択エッチング液としては、過硫酸アンモ
ン等を用いることができる。配線層603を所定パター
ンに形成するのにも同様な方法を用いることができる。
As a selective etching solution in the selective etching of the aluminum foil and the copper foil in the above case, ammonium persulfate or the like can be used. A similar method can be used to form the wiring layer 603 in a predetermined pattern.

【0145】絶縁体601を構成しているガラスエポキ
シプリプレグは、ガラス織布にエポキシ樹脂を含浸させ
たものであるが、その含浸の際に自然にガラス織布の上
下にエポキシ樹脂の層が形成される。図12(c)の場
合の熱圧着時に、絶縁体601は、厚み方向での圧縮を
受けると同時に、平面方向への伸張を受ける。この平面
方向への伸張に伴って、含浸されているエポキシ樹脂が
平面方向に流動し、外形寸法がわずかに大きくなる。
The glass epoxy prepreg constituting the insulator 601 is obtained by impregnating a glass woven fabric with an epoxy resin. At the time of the impregnation, the epoxy resin layers are naturally formed on and under the glass woven fabric. Is done. At the time of thermocompression bonding in the case of FIG. 12C, the insulator 601 undergoes compression in the thickness direction and extension in the plane direction at the same time. With the extension in the plane direction, the impregnated epoxy resin flows in the plane direction, and the outer dimensions slightly increase.

【0146】成形金型650として絶縁体601の外形
よりわずかに大きい金型を用いるが、その金型の寸法は
圧着時の厚み方向の圧縮率により決定される。このよう
な工夫により、絶縁体601の端面601aに配線層6
03に連なる状態で形成される銅箔よりなる端面タイプ
の外部入出力用接続電極604をたわみなど変形のない
状態で形成することが可能となる。
As the molding die 650, a die slightly larger than the outer shape of the insulator 601 is used, and the dimensions of the die are determined by the compression ratio in the thickness direction at the time of pressure bonding. With such a contrivance, the wiring layer 6 is formed on the end face 601a of the insulator 601.
It is possible to form the external input / output connection electrode 604 of the end face type made of copper foil formed in a state connected to 03 without deformation such as bending.

【0147】(実施の形態5)図13は実施の形態5に
おける半導体装置間接続構造の概略を示す断面図であ
る。
(Embodiment 5) FIG. 13 is a cross-sectional view schematically showing a connection structure between semiconductor devices according to a fifth embodiment.

【0148】図13において、符号の100Eは配線基
板、101は絶縁体、104,105は絶縁体101の
上下の表面に形成された配線パターン、106は絶縁体
101に形成の貫通孔に充填した導電性ペーストを焼結
してなる結果のビア、200Aは半導体チップ、201
は半導体チップ本体、202は半導体チップ本体201
の下面に形成されたバンプ、301は封止樹脂、300
Dは半導体装置、401はマザー基板、402はマザー
基板401上に形成された電極端子、403はハンダ、
700は接続用配線基板である。
In FIG. 13, reference numeral 100E is a wiring board, 101 is an insulator, 104 and 105 are wiring patterns formed on upper and lower surfaces of the insulator 101, and 106 is filled in a through hole formed in the insulator 101. Vias resulting from sintering conductive paste, 200A semiconductor chip, 201
Is a semiconductor chip body, 202 is a semiconductor chip body 201
Formed on the lower surface of the substrate, 301 is a sealing resin, 300
D is a semiconductor device, 401 is a mother substrate, 402 is an electrode terminal formed on the mother substrate 401, 403 is solder,
Reference numeral 700 denotes a connection wiring board.

【0149】2つの半導体装置300D,300Dにお
ける半導体チップ200A,200A間の接続のため
に、接続用配線基板700を用いる。
For connection between the semiconductor chips 200A, 200A in the two semiconductor devices 300D, 300D, a connection wiring board 700 is used.

【0150】半導体装置300Dの配線基板100Eに
おいて、その絶縁体101が封止樹脂301のアンダフ
ィル領域を越えて延長されており、これに伴って、絶縁
体101上の配線パターン104も外方側に延出されて
いる。そして、配線パターン104の延出部分104a
に対して接続用配線基板700を接続するようにしてい
る。
In the wiring board 100E of the semiconductor device 300D, the insulator 101 extends beyond the underfill region of the sealing resin 301, and accordingly, the wiring pattern 104 on the insulator 101 also moves outward. Has been extended to. Then, the extension portion 104a of the wiring pattern 104
Is connected to the connection wiring substrate 700.

【0151】この接続用配線基板700は、接続用基材
701に所定のパターンで配線パターン702が形成さ
れており、さらに配線パターン702の要所に異方性導
電膜などからなる接続導体703,703が接合されて
いる。
In this connection wiring board 700, a wiring pattern 702 is formed in a predetermined pattern on a connection base material 701. 703 are joined.

【0152】接続用基材701としては、可撓性を有し
かつ寸法安定性に優れ、高耐熱のものが用いられ、その
好適例としてポリイミドなどをあげることができる。
As the connection base material 701, a material having flexibility, excellent dimensional stability, and high heat resistance is used, and preferable examples thereof include polyimide.

【0153】接続用基材701上に形成された配線パタ
ーン702は、接続用基材701であるポリイミドに貼
り合わせた銅箔がもとになっており、その銅箔に対し
て、マスクを形成し、エッチング法またはリフトオフ法
などにより配線パターン702を形成してある。
The wiring pattern 702 formed on the connection base material 701 is based on a copper foil bonded to polyimide as the connection base material 701, and a mask is formed on the copper foil. Then, a wiring pattern 702 is formed by an etching method or a lift-off method.

【0154】図13に示すような半導体装置間接続構造
は、次のようにして構築される。
A connection structure between semiconductor devices as shown in FIG. 13 is constructed as follows.

【0155】まず、2つの半導体装置300D,300
Dそれぞれの互いに接続すべき配線パターン延出部分1
04a,104aに対して、接続用基材701の接続導
体703,703を加熱加圧により電気的に接合する。
First, two semiconductor devices 300D, 300
D: Wiring pattern extension 1 to be connected to each other
The connection conductors 703 and 703 of the connection base material 701 are electrically joined to the substrates 04a and 104a by heating and pressing.

【0156】本実施の形態5による隣接する半導体装置
300D,300Dそれぞれの半導体チップ200A,
200Aどうし間の接続においては、マザー基板401
を経由しておらず、その接続距離については、図19
(a)に示すマザー基板を経由しての接続が行われてい
る従来技術の場合と比較すると、マザー基板上の配線長
分が減じられているとともに、半導体キャリア内の2つ
のビアの配線長分が減じられており、より短い配線での
接続が可能となっている。
According to the fifth embodiment, the semiconductor chips 200A,
In connection between 200A, mother board 401
The connection distance is not shown in FIG.
Compared with the case of the related art in which connection is made via the mother substrate shown in FIG. 1A, the wiring length on the mother substrate is reduced and the wiring length of two vias in the semiconductor carrier is reduced. The number of connections has been reduced, and connection with shorter wiring is possible.

【0157】したがって、マルチチップモジュールと同
等に接続距離を短くすることが可能となっている。しか
も、各半導体装置300Dにおいて半導体チップ200
Aのそれぞれはパッケージされているため、そのような
パッケージ単体での検査およびバーンイン等も可能であ
り、その結果として、接続する半導体装置の汎用性を損
なうことがない。
Therefore, the connection distance can be reduced as in the case of the multi-chip module. Moreover, in each semiconductor device 300D, the semiconductor chip 200
Since each of A is packaged, it is possible to perform inspection, burn-in, and the like using such a package alone, and as a result, there is no loss of versatility of the semiconductor device to be connected.

【0158】実施の形態1の場合には、ビアをカッティ
ングして端面タイプの外部入出力用接続電極107を形
成したが、本実施の形態5の場合はそのようなカッティ
ングは不要であり、接続用配線基板700を介して半導
体装置300D,300Dの表面における配線パターン
延出部分104a,104aどうしを接続することがで
きるため、半導体装置の製造を容易に行うことができ
る。
In the first embodiment, the vias are cut to form the end face type external input / output connection electrodes 107. In the fifth embodiment, however, such cutting is unnecessary, and the connection is not performed. Since the wiring pattern extending portions 104a, 104a on the surfaces of the semiconductor devices 300D, 300D can be connected to each other via the wiring substrate 700, the semiconductor device can be easily manufactured.

【0159】(実施の形態6)図14は実施の形態6に
おける半導体装置間接続構造を示す平面図である。
(Sixth Embodiment) FIG. 14 is a plan view showing a connection structure between semiconductor devices according to a sixth embodiment.

【0160】隣接配置されるべき2つの半導体装置30
0E,300Eは、配線基板100F,100Fに半導
体チップ200A,200Aを搭載したものであるが、
それぞれの配線基板100F,100Fが矩形に対して
異形となっている。すなわち、配線基板100F,10
0Fは、各々互いに相手側に対面する辺部が段差辺部1
10,110となっている。各配線基板100Fの段差
辺部110は、1つの凹入辺部110aと1つの突出辺
部110bとの組み合わせとなっている。凹入辺部11
0aと突出辺部110bとは、両者ともに対して垂直な
垂直辺部110cで連なっている。凹入辺部110aの
長さと突出辺部110bの長さは等しくなっている。そ
れは、一方の配線基板100Fの凹入辺部110aを他
方の配線基板100Fの突出辺部110bに対応させ、
同時に、一方の配線基板100Fの突出辺部110bを
他方の配線基板100Fの凹入辺部110aに対応させ
るためである。このような関係で2つの半導体装置30
0E,300Eの配線基板100F,100Fを対面さ
せると、互いに、凹入辺部110aと突出辺部110b
とが対応して、段差辺部110,110の全長にわたっ
て両者間の間隔が一定となる。中央の垂直辺部110
c,110cどうしは接触して、横方向の位置決めを行
うようになっている。なお、垂直辺部110c,110
cの「垂直」については、必ずしもそれにとらわれる必
要性はなく、傾斜した辺部であってもよい。要するに、
2つの配線基板100F,100Fは、回転対称形をな
しておればよいのである。なお、このような形態にする
には、大きな原板から配線基板100F,100Fをレ
ーザーを用いて個片状に切り出すときに、1辺につき一
直線ではなく、上記のような形態の段差を有するように
レーザーを鉤状に走査すれば実現できる。
Two Semiconductor Devices 30 to be Arranged Adjacently
Reference numerals 0E and 300E indicate that the semiconductor chips 200A and 200A are mounted on the wiring boards 100F and 100F.
Each of the wiring boards 100F, 100F has an irregular shape with respect to the rectangle. That is, the wiring boards 100F, 10F
0F indicates that the sides facing each other are steps 1
10,110. The step side portion 110 of each wiring board 100F is a combination of one concave side portion 110a and one projecting side portion 110b. Recessed edge 11
0a and the protruding side portion 110b are connected by a vertical side portion 110c perpendicular to both. The length of the concave side 110a and the length of the protruding side 110b are equal. That is, the concave side 110a of one wiring board 100F is made to correspond to the protruding side 110b of the other wiring board 100F,
At the same time, the projecting side 110b of one wiring board 100F is made to correspond to the recessed side 110a of the other wiring board 100F. In such a relationship, the two semiconductor devices 30
When the wiring boards 100F and 100F of the OE 0300E face each other, the concave side 110a and the protruding side 110b
Corresponding to the above, the distance between the step sides 110, 110 is constant over the entire length. Center vertical side 110
c and 110c come into contact with each other to perform horizontal positioning. The vertical sides 110c, 110
The “vertical” of c does not necessarily need to be considered, and may be an inclined side. in short,
The two wiring boards 100F, 100F may be rotationally symmetric. In order to make such a form, when cutting the wiring boards 100F, 100F from a large original plate into individual pieces using a laser, the steps are not straight in one side but have the steps as described above. This can be realized by scanning the laser with a hook.

【0161】両配線基板100F,100Fにおいて
は、半導体チップ200A,200Aがフェースダウン
方式で搭載され、段差辺部110,110に向けても配
線パターン104,104が形成され、段差辺部11
0,110の端面において端面タイプの外部入出力用接
続電極117,117が露出状態で形成されているので
あるが、これらの相互関係においても、両者は回転対称
形をなしている。特に、一方の配線基板100Fにおけ
る凹入辺部110aに臨む外部入出力用接続電極117
と他方の配線基板100Fにおける突出辺部110bに
臨む外部入出力用接続電極117とは互いに横方向にお
ける位置が同じとなっており、同様に、一方の配線基板
100Fにおける突出辺部110bに臨む外部入出力用
接続電極117と他方の配線基板100Fにおける凹入
辺部110aに臨む外部入出力用接続電極117とは互
いに横方向における位置が同じとなっている。
In both wiring boards 100F, 100F, semiconductor chips 200A, 200A are mounted in a face-down manner, and wiring patterns 104, 104 are formed toward step sides 110, 110, and step sides 11A are formed.
The external input / output connection electrodes 117, 117 of the end face type are formed on the end faces of 0, 110 in an exposed state, and they are also rotationally symmetric in relation to each other. In particular, the external input / output connection electrode 117 facing the recessed side 110a of one wiring board 100F.
The external input / output connection electrode 117 facing the protruding side 110b of the other wiring board 100F has the same position in the horizontal direction, and similarly, the outside facing the protruding side 110b of the one wiring board 100F. The position of the input / output connection electrode 117 and the position of the external input / output connection electrode 117 facing the recessed side 110a of the other wiring board 100F are the same in the horizontal direction.

【0162】そして、2つの配線基板100F,100
Fを図示のように、それぞれの段差辺部110,110
どうしが係合するような状態で対面させ、両者の互いに
位置対応している外部入出力用接続電極117,117
どうしのすべてを、プリコートしたハンダや塗布した導
電性接着剤のような接続導体800を介して電気的に接
続してある。プリコートハンダの場合は、リフローを行
えばよい。
Then, the two wiring boards 100F, 100F
As shown in FIG.
The external input / output connection electrodes 117, 117 which face each other in a state where they are engaged with each other and correspond to each other.
All of them are electrically connected via connection conductors 800 such as pre-coated solder or applied conductive adhesive. In the case of precoat solder, reflow may be performed.

【0163】なお、段差辺部110,110の形状につ
いて、上記では回転対称形と説明したが、必ずしもそれ
にとらわれる必要性はなく、互いに係合する形態であっ
て、かつ、対面させたときにその辺部の全長にわたって
間隔が一定となるようなものであれば、どのような形態
を採用してもよい。一方が凹入辺部のときに他方を突出
辺部とするという条件を守れば、簡単に実現できる。
Although the shape of the step sides 110, 110 has been described above as being rotationally symmetric, it is not necessary to be limited to that, and they are in a form of engagement with each other and when facing each other. Any configuration may be employed as long as the interval is constant over the entire length of the side. This can be easily realized if the condition that one is a concave side and the other is a protruding side is satisfied.

【0164】本実施の形態6による隣接する半導体装置
300E,300Eそれぞれの半導体チップ200A,
200Aどうし間の接続においては、マザー基板(図示
せず)を経由させることがなく、その接続距離について
は、図19(a)に示すマザー基板を経由しての接続が
行われている従来技術の場合と比較すると、マザー基板
上の配線長分が減じられているとともに、半導体キャリ
ア内の2つのビアの配線長分が減じられており、より短
い配線での接続が可能となっている。
According to the sixth embodiment, the semiconductor chips 200A,
The connection between the 200A devices does not pass through a mother board (not shown), and the connection distance is determined by a conventional technique in which connection is made via a mother board shown in FIG. Compared with the case of the above, the wiring length on the mother substrate is reduced, and the wiring length of the two vias in the semiconductor carrier is reduced, so that connection with shorter wiring is possible.

【0165】したがって、マルチチップモジュールと同
等に接続距離を短くすることが可能となっている。しか
も、各半導体装置300Eにおいて半導体チップ200
Aのそれぞ はパッケージされているため、そのような
パッケージ単体での検査およびバーンイン等も可能であ
り、その結果として、接続する半導体装置の汎用性を損
なうことがない。
Therefore, the connection distance can be reduced as in the case of the multi-chip module. Moreover, in each semiconductor device 300E, the semiconductor chip 200
Since each of A is packaged, inspection, burn-in, and the like of such a package alone are also possible, and as a result, the versatility of the semiconductor device to be connected is not impaired.

【0166】しかも、隣接配置する2つの半導体装置3
00E,300Eの配線基板100F,100Fどうし
が、両者の対向辺部において、その段差辺部110,1
10によって係合する形態となっているので、正確な位
置合わせが極めて容易に行え、両者の端面タイプの外部
入出力用接続電極117,117どうしの電気的接続を
高精度かつ良好に行うことができる。
In addition, two semiconductor devices 3 arranged adjacent to each other
The wiring boards 100F, 100F of the first and second substrates 100E, 300E are connected to the stepped side portions 110, 1
10, the positioning can be performed extremely easily, and the external input / output connection electrodes 117, 117 of both end surfaces can be electrically connected with high precision and goodness. it can.

【0167】(実施の形態7)本発明の実施の形態7
は、実施の形態1の変形に相当するものであり、端面タ
イプの外部入出力用接続電極どうしの接合形態において
相違している。
(Embodiment 7) Embodiment 7 of the present invention
Is equivalent to a modification of the first embodiment, and is different in the form of bonding between the end face type external input / output connection electrodes.

【0168】図15は実施の形態7の半導体装置に用い
る配線基板の製造方法を概略を示す工程断面図、図16
は半導体装置間接続構造の概略を示す断面図である。
FIG. 15 is a process sectional view schematically showing a method of manufacturing a wiring board used in the semiconductor device of the seventh embodiment.
1 is a sectional view schematically showing a connection structure between semiconductor devices.

【0169】まず、半導体装置に用いる配線基板の製造
方法について説明する。この製造方法の概略を示す図1
5において、符号の100Gは配線基板、901は絶縁
体、902は絶縁体901の表裏両面に形成された銅
箔、903は絶縁体901に形成された貫通孔、904
はメッキ法により貫通孔902に形成された円筒状導
体、905,906は絶縁体901の上下の表面に形成
された配線パターン、907は導体904のうち端面に
位置していてカッティングによって端面露出された端面
タイプの外部入出力用接続電極である。
First, a method for manufacturing a wiring board used for a semiconductor device will be described. FIG. 1 schematically shows the manufacturing method.
5, reference numeral 100G denotes a wiring board, 901 denotes an insulator, 902 denotes a copper foil formed on both sides of the insulator 901, 903 denotes a through hole formed in the insulator 901, 904.
Is a cylindrical conductor formed in the through hole 902 by plating, 905 and 906 are wiring patterns formed on the upper and lower surfaces of the insulator 901, 907 is located on an end face of the conductor 904 and is exposed by cutting. It is an external input / output connection electrode of the end face type.

【0170】次に、図15に示す配線基板100Gの製
造方法を順を追って説明する。
Next, a method of manufacturing the wiring board 100G shown in FIG. 15 will be described step by step.

【0171】まず、図15(a)に示すように、絶縁体
901の上下両方の表面に対して銅箔902を真空中で
熱圧着し、次いで、絶縁体901の所要の位置に上下に
貫通する貫通孔903をドリルなどの工具を用いて形成
する。絶縁体901としては、例えばセラミックグリー
ンシートを用いる。
First, as shown in FIG. 15A, copper foil 902 is thermocompression-bonded to both upper and lower surfaces of insulator 901 in a vacuum, and then vertically penetrated to a required position of insulator 901. Is formed using a tool such as a drill. As the insulator 901, for example, a ceramic green sheet is used.

【0172】次に、図15(b)に示すように、貫通孔
903の内周壁面に対してメッキ法等により円筒状導体
904を形成する。
Next, as shown in FIG. 15B, a cylindrical conductor 904 is formed on the inner peripheral wall surface of the through hole 903 by plating or the like.

【0173】次に、図15(c)に示すように、絶縁体
901の上下両方の表面において配線パターン905,
906を形成する。これは、絶縁体901の上下両方の
表面における銅箔902,902に対するレジスト形成
およびエッチングにより行う。形成された配線パターン
905,906は導体904に一連一体につながってい
る。
Next, as shown in FIG. 15C, the wiring patterns 905 and 505 are formed on both upper and lower surfaces of the insulator 901.
906 is formed. This is performed by forming resist on the copper foils 902 and 902 on both upper and lower surfaces of the insulator 901 and etching. The formed wiring patterns 905 and 906 are connected to the conductor 904 integrally and in series.

【0174】次に、図15(d)に示すように、絶縁体
901から切り出すことになる配線基板100Gの矩形
周縁部に相当する位置にある貫通孔903内の円筒状導
体904をほぼその中心を通る状態で縦方向にカッティ
ングする。これによって、端面タイプの外部入出力用接
続電極907が形成される。なお、上記のカッティング
は、いわゆるダイシングであり、複数の配線基板100
Gが個片に分割されることになる。すなわち、個片分割
と外部入出力用接続電極907の形成とが同時に行われ
る。
Next, as shown in FIG. 15D, the cylindrical conductor 904 in the through hole 903 at a position corresponding to the rectangular peripheral portion of the wiring board 100G to be cut out from the insulator 901 is substantially centered. And cut vertically. As a result, an end face type external input / output connection electrode 907 is formed. Note that the above-described cutting is so-called dicing, and a plurality of wiring boards 100
G will be divided into individual pieces. That is, the division of the individual pieces and the formation of the external input / output connection electrodes 907 are performed simultaneously.

【0175】以上のようにして、端面タイプの外部入出
力用接続電極907を有する配線基板100Gが製造さ
れたことになる。
As described above, the wiring board 100G having the end face type external input / output connection electrode 907 is manufactured.

【0176】図16および図17において、符号の20
0Aは半導体チップ、201は半導体チップ本体、20
2は半導体チップ本体201の下面に形成されたバン
プ、301は封止樹脂、300Gは半導体装置、401
はマザー基板、402はマザー基板401上に形成され
た電極端子、403はハンダ、950はコネクタ、96
0は位置決め部材である。
In FIG. 16 and FIG.
0A is a semiconductor chip, 201 is a semiconductor chip body, 20
Reference numeral 2 denotes a bump formed on the lower surface of the semiconductor chip body 201; 301, a sealing resin; 300G, a semiconductor device;
Is a mother board, 402 is an electrode terminal formed on the mother board 401, 403 is solder, 950 is a connector, 96
0 is a positioning member.

【0177】なお、実施の形態1において説明した事項
であって本実施の形態7において改めて説明しない事項
についてはそのまま本実施の形態7にも該当するものと
し、詳しい説明は省略する。本実施の形態7における構
成が実施の形態1と相違する点は以下のとおりである。
Note that items that have been described in the first embodiment and that are not described again in the seventh embodiment also apply to the seventh embodiment as they are, and a detailed description thereof will be omitted. The configuration of the seventh embodiment differs from that of the first embodiment in the following.

【0178】次に、半導体装置300Gの製造方法につ
いて説明する。配線基板100G上にフェースダウン方
式により半導体チップ200Aを搭載する。このとき、
半導体チップ本体201の下面のバンプ202を配線基
板100Gにおける上面の配線パターン905に位置合
わせして載置し、加熱および超音波照射などを行うこと
により、バンプ202を配線パターン905に接合す
る。これにより、半導体チップ200Aと配線基板10
0Gとが電気的に接続されたことになる。
Next, a method for manufacturing the semiconductor device 300G will be described. The semiconductor chip 200A is mounted on the wiring board 100G by a face-down method. At this time,
The bumps 202 on the lower surface of the semiconductor chip body 201 are aligned with the wiring patterns 905 on the upper surface of the wiring substrate 100G and mounted, and the bumps 202 are bonded to the wiring patterns 905 by performing heating, ultrasonic irradiation, and the like. Thereby, the semiconductor chip 200A and the wiring board 10
0G is electrically connected.

【0179】この半導体装置300Gにおいて特徴的な
ことは、図17(a)の平面図に示すように、その配線
基板100Gの1辺において、半円筒状に凹入した形態
の端面タイプの複数の外部入出力用接続電極907が配
線パターン905に電気的に接続された状態で配列され
ているということである。また、反対側の辺において
は、配線パターン905との接続はないが、同様の半円
筒状に凹入した形態の複数の凹入部910が配列されて
いる。
A characteristic feature of this semiconductor device 300G is that, as shown in the plan view of FIG. 17A, a plurality of end face type recessed in a semi-cylindrical shape on one side of the wiring board 100G. This means that the external input / output connection electrodes 907 are arranged in a state of being electrically connected to the wiring pattern 905. Further, on the opposite side, there is no connection with the wiring pattern 905, but a plurality of concave portions 910 having a similar semi-cylindrical shape are arranged.

【0180】マザー基板401には、あらかじめ、端面
タイプの外部入出力用接続電極907および凹入部91
0に位置対応する状態でコネクタ950および位置決め
部材960が設けられている。
An external input / output connection electrode 907 of an end face type and a recess 91
A connector 950 and a positioning member 960 are provided in a state corresponding to position 0.

【0181】コネクタ950は、マザー基板401上に
強固に付着形成された支持部951と、支持部951に
立設状態で結合された金属製の導体ピン952とからな
っている。導体ピン952は、その表面にニッケルメッ
キもしくは金メッキが施されている。位置決め部材96
0は、コネクタ950と同じものであるが、電気的接続
の役目を担わないものとなっている。このようなコネク
タ950および位置決め部材960が列状に配列された
状態でマザー基板401に取り付けられている。
The connector 950 includes a support portion 951 firmly formed on the mother board 401 and a metal conductive pin 952 which is connected to the support portion 951 in an upright state. The conductor pins 952 have their surfaces plated with nickel or gold. Positioning member 96
0 is the same as the connector 950, but does not play the role of electrical connection. Such connectors 950 and positioning members 960 are attached to the motherboard 401 in a state of being arranged in a row.

【0182】マザー基板401における列状のコネクタ
950の導体ピン952‥に対して、隣接配置すべき2
つの半導体装置300G,300Gの端面タイプの外部
入出力用接続電極907,907…を嵌合するようにし
て、また、マザー基板401における列状の位置決め部
材960‥に対して凹入部910,910‥を嵌合する
ようにして、マザー基板401に対して両半導体装置3
00G,300Gを載置する。このような載置により、
端面タイプの外部入出力用接続電極907,907どう
しが導体ピン952を介して機械的かつ電気的に接続さ
れる。すなわち、両半導体装置300G,300Gにお
ける半導体チップ200A,200Aどうしが、配線パ
ターン905,905および端面タイプの外部入出力用
接続電極907,907ならびに導体ピン952を介し
て電気的に接続される。
The conductor pins 952 # of the row of connectors 950 on the mother board 401
Are connected to the external input / output connection electrodes 907, 907,... Of the two semiconductor devices 300G, 300G. And the two semiconductor devices 3 with respect to the mother board 401.
00G and 300G are placed. With such placement,
The external input / output connection electrodes 907 and 907 of the end face type are mechanically and electrically connected to each other via the conductor pins 952. That is, the semiconductor chips 200A, 200A in the semiconductor devices 300G, 300G are electrically connected to each other via the wiring patterns 905, 905, the end face type external input / output connection electrodes 907, 907, and the conductor pins 952.

【0183】あとは、ハンダリフローを行って、マザー
基板401上の電極端子402‥と両半導体装置300
G,300Gの下面の配線パターン906,906とを
ハンタ403を介して電気的に接続する。
Thereafter, solder reflow is performed to connect the electrode terminals 402 # on the mother substrate 401 and the semiconductor devices 300 with each other.
The wiring patterns 906 and 906 on the lower surfaces of the G and 300G are electrically connected via a hunter 403.

【0184】本実施の形態7によれば、実施の形態1と
同様の利点すなわちマザー基板を経由せずに接続できる
ため、従来のマザー基板上の配線を経由して半導体チッ
プ同士を接続するよりも短配線で接続ができるという利
点が得られる。
According to the seventh embodiment, the same advantage as that of the first embodiment can be obtained, that is, connection can be made without passing through the mother board. Also has the advantage that connection can be made with short wiring.

【0185】加えて、コネクタ950を介して端面タイ
プの外部入出力用接続電極907,907どうしの電気
的な接続と機械的な位置合わせを同時に行えるので、実
装時の位置合わせの制御をきわめて容易なものにするこ
とができる。
In addition, since electrical connection and mechanical alignment between the end face type external input / output connection electrodes 907 and 907 can be simultaneously performed via the connector 950, alignment control during mounting is extremely easy. It can be something.

【0186】なお、マザー基板401と下面の配線パタ
ーン906との電気的な接続が不要となる場合もあり、
そのような場合には、ハンダリフローは行わなくてもよ
い。ただし、位置固定のためにハンダリフローを行って
もよい。ハンダリフローしない場合には、リペアが容易
となる。
In some cases, electrical connection between the mother substrate 401 and the wiring pattern 906 on the lower surface is not required.
In such a case, the solder reflow need not be performed. However, solder reflow may be performed to fix the position. When solder reflow is not performed, repair becomes easy.

【0187】(実施の形態8)次に、本発明の実施の形
態8を図18を参照して説明する。図18は実施の形態
8における半導体装置間接続構造の概略を示す平面図で
ある。
Embodiment 8 Next, Embodiment 8 of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 18 is a plan view schematically showing a connection structure between semiconductor devices according to the eighth embodiment.

【0188】モジュールとしての配線基板100Hは、
半導体チップ200Aを搭載している配線基板である。
モジュールとしての配線基板100K,100Mは、半
導体チップ200Aを搭載していない配線基板である。
この図示の例では、半導体チップ200Aを搭載してい
る配線基板100Hの2つと、半導体チップ200Aを
搭載していないコーナー接続用の配線基板100Kの2
つと、半導体チップ200Aを搭載していない中継接続
用の配線基板100Mの2つとの、合計6つの配線基板
が矩形状に並べられている。半導体チップ搭載の配線基
板100Hは、対角の角部に位置している。ただし、図
示例のような配置はあくまで一例にすぎない。
The wiring board 100H as a module is
This is a wiring board on which the semiconductor chip 200A is mounted.
The wiring boards 100K and 100M as modules are wiring boards on which the semiconductor chip 200A is not mounted.
In the illustrated example, two of the wiring boards 100H on which the semiconductor chip 200A is mounted, and two of the wiring boards 100K for corner connection on which the semiconductor chip 200A is not mounted.
And a total of six wiring boards, two of the relay connection wiring boards 100M on which the semiconductor chip 200A is not mounted, are arranged in a rectangular shape. The wiring board 100H on which the semiconductor chip is mounted is located at a diagonal corner. However, the arrangement as in the illustrated example is merely an example.

【0189】半導体チップ搭載の配線基板100Hは、
絶縁基材001上において、半導体チップ200Aから
接続延出されるべき配線パターン002が形成され、こ
の配線基板100Hの2辺の端面には配線パターン00
2に電気的に接続された端面タイプの外部入出力用接続
電極003が形成され、残りの2辺には凹入部004が
形成されている。
The wiring board 100H on which the semiconductor chip is mounted is
On the insulating base material 001, a wiring pattern 002 to be connected and extended from the semiconductor chip 200A is formed.
An external input / output connection electrode 003 of an end face type electrically connected to the second electrode 2 is formed, and a concave portion 004 is formed on the remaining two sides.

【0190】コーナー接続用の配線基板100Kは、絶
縁基材011上において、連絡的接続のための配線パタ
ーン012が形成され、この配線基板100Kの2辺の
端面には配線パターン012に電気的に接続された端面
タイプの外部入出力用接続電極013が形成され、残り
の2辺には凹入部014が形成されている。
In the wiring board 100K for corner connection, a wiring pattern 012 for communicative connection is formed on an insulating base material 011. Two ends of the wiring board 100K are electrically connected to the wiring pattern 012. An external input / output connection electrode 013 of a connected end face type is formed, and a concave portion 014 is formed on the remaining two sides.

【0191】中継接続用の配線基板100Mは、絶縁基
材021上において、連絡的接続のための配線パターン
022が形成され、この配線基板100Mの3辺の端面
には配線パターン022に電気的に接続された端面タイ
プの外部入出力用接続電極023が形成され、残りの1
辺には凹入部024が形成されている。
In the wiring substrate 100M for relay connection, a wiring pattern 022 for communicative connection is formed on the insulating base material 211, and the wiring pattern 022 is electrically connected to the end surfaces of three sides of the wiring substrate 100M. The connected end face type external input / output connection electrode 023 is formed, and the remaining one is connected.
A concave portion 024 is formed on the side.

【0192】これら2つずつの配線基板100H,10
0K,100Mは、その外形形状および外形寸法が同じ
となっている。
Each of these two wiring boards 100H, 10H
0K and 100M have the same outer shape and outer dimensions.

【0193】半導体チップ搭載の配線基板100Hとコ
ーナー接続用の配線基板100Kおよび中継接続用の配
線基板100Mが直角をなす状態で隣接配置され、半導
体チップ搭載の配線基板100Hの外部入出力用接続電
極003とコーナー接続用の配線基板100Kの外部入
出力用接続電極013とが両者間に圧入的に介挿された
コネクタ050を介して電気的に接続され、また、半導
体チップ搭載の配線基板100Hの外部入出力用接続電
極003と中継接続用の配線基板100Mの外部入出力
用接続電極023とが両者間に圧入的に介挿された導体
ピンであるコネクタ050を介して電気的に接続されて
いる。
The wiring board 100H on which the semiconductor chip is mounted, the wiring board 100K for corner connection, and the wiring board 100M for relay connection are arranged adjacent to each other at a right angle, and the external input / output connection electrodes of the wiring board 100H on which the semiconductor chip is mounted. 003 and the external input / output connection electrode 013 of the corner-connecting wiring board 100K are electrically connected to each other via a connector 050 press-fitted between them, and the wiring board 100H on which the semiconductor chip is mounted. The external input / output connection electrode 003 and the external input / output connection electrode 023 of the relay connection wiring board 100M are electrically connected to each other via a connector 050 which is a conductor pin press-fitted therebetween. I have.

【0194】また、コーナー接続用の配線基板100K
の外部入出力用接続電極013と中継接続用の配線基板
100Mの外部入出力用接続電極023も同様にコネク
タ050を介して電気的に接続されている。さらに、中
央で対面する中継接続用の配線基板100M,100M
における外部入出力用接続電極023,023どうしも
同様にコネクタ050を介して電気的に接続されてい
る。
Also, a wiring board 100K for corner connection is provided.
The external input / output connection electrode 013 and the external input / output connection electrode 023 of the relay connection wiring board 100M are also electrically connected via the connector 050. Further, wiring substrates 100M, 100M for relay connection facing in the center.
Are also electrically connected via a connector 050.

【0195】そして、半導体チップ搭載の配線基板10
0H、コーナー接続用の配線基板100Kおよび中継接
続用の配線基板100Mそれぞれの外周辺領域に相当す
る凹入部004,014,024のそれぞれに対して、
位置決め部材060が係合され、全体の位置決めを行っ
ている。なお、位置決め部材060はコネクタ050と
同じものである。
Then, the wiring board 10 on which the semiconductor chip is mounted
0H, the recessed portions 004, 014, and 024 corresponding to the outer peripheral regions of the wiring board 100K for corner connection and the wiring board 100M for relay connection, respectively.
The positioning member 060 is engaged to perform overall positioning. The positioning member 060 is the same as the connector 050.

【0196】配線基板100H,100K,100M
は、半導体チップ200Aを搭載しているか否かは別と
して、また、コーナーにくるか中間にくるかは別とし
て、それぞれの外形の形状および寸法は規格化されてい
る。円筒状の端面タイプの外部入出力用接続電極00
3,013,023や凹入部004,014,024の
ピッチがすべて等しくされている。また、マザー基板に
設けたコネクタ050および位置決め部材060のピッ
チもすべて等しくされている。
Wiring boards 100H, 100K, 100M
Regardless of whether the semiconductor chip 200A is mounted or not, and whether the semiconductor chip 200A comes at a corner or in the middle, the shape and dimensions of each outer shape are standardized. External input / output connection electrode 00 of cylindrical end face type
The pitches of 3,013,023 and the recesses 004,014,024 are all equal. Further, the pitches of the connector 050 and the positioning member 060 provided on the mother board are all equal.

【0197】配線基板の組み合わせにより半導体チップ
間の接続が様々に可能である。
The connection between the semiconductor chips can be variously made by combining the wiring boards.

【0198】複数種類の配線基板100H,100K,
100Mを以上のようにしてモジュール規格化しておく
ことにより、それらのモジュールの組み合わせによって
様々な展開が自由自在になり、複数の半導体チップ20
0A‥間の接続の自由度を大幅に向上することができ
る。
A plurality of types of wiring boards 100H, 100K,
By modularizing 100M as described above, various developments can be freely performed by combining these modules, and a plurality of semiconductor chips 20
It is possible to greatly improve the degree of freedom of the connection between 0A ‥.

【0199】本実施の形態8によれば、実施の形態1と
同様に、複数の半導体装置における半導体チップどうし
を、半導体装置の表面の配線パターンを介して、そし
て、配線パターンの端部に接続の端面タイプの外部入出
力用接続電極およびコネクタを介して、マザー基板を経
由することなく、直接的に接続できるため、マザー基板
上の配線を経由して半導体チップどうしを接続する従来
技術に比べて短配線で接続ができる。
According to the eighth embodiment, as in the first embodiment, semiconductor chips in a plurality of semiconductor devices are connected to each other via a wiring pattern on the surface of the semiconductor device and to an end of the wiring pattern. It can be connected directly through the end face type external input / output connection electrode and connector without going through the motherboard, compared to the conventional technology that connects semiconductor chips via wiring on the motherboard. Connection with short wiring.

【0200】しかも、実装時の位置合わせ制御が容易で
あり、配線基板の交換によって自由に配線可能であるた
め、非常に汎用性を高くすることが可能である。
[0200] In addition, positioning control at the time of mounting is easy, and wiring can be freely performed by exchanging a wiring board, so that versatility can be extremely enhanced.

【0201】[0201]

【発明の効果】本発明によれば、半導体チップを接続す
るために絶縁体の表面に配線パターンを形成してある配
線基板において、前記配線パターンに対して連接される
状態で前記絶縁体の端面または延長部分に外部入出力用
接続電極を形成した構成であるので、半導体装置の高密
度化・高集積化・高速動作化などに対応することが可能
であって、半導体装置の複数をマザー基板に実装するに
おいて、両半導体チップ間の接続の配線長としてはマザ
ー基板を経由しない分だけ短くでき、配線長が大きいこ
とに起因する信号遅延の低減要求を満たすことができる
と同時に、半導体チップごとのパッケージが可能で、そ
のようなパッケージ単体でのバーンインなどの各種テス
トおよびリペア(修復)を容易に実現でき、併せてモジ
ュール単体としての汎用性を確保することができる。
According to the present invention, in a wiring board having a wiring pattern formed on a surface of an insulator for connecting a semiconductor chip, an end face of the insulator is connected to the wiring pattern. Alternatively, since the external input / output connection electrode is formed in the extension part, it is possible to cope with high density, high integration, high speed operation, etc. of the semiconductor device. The wiring length of the connection between the two semiconductor chips can be shortened by not passing through the mother board, and the requirement for reducing the signal delay due to the large wiring length can be satisfied. Package, and various tests such as burn-in with such a package alone and repair (repair) can be easily realized. It is possible to ensure versatility.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の実施の形態1における半導体装置に
用いる配線基板の製造方法の概略を示す工程断面図
FIG. 1 is a process cross-sectional view schematically illustrating a method for manufacturing a wiring substrate used for a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の実施の形態1における半導体装置の
製造方法の概略を示す工程断面図
FIG. 2 is a process cross-sectional view schematically illustrating the method for manufacturing the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention.

【図3】 本発明の実施の形態1における半導体装置の
構成の概略を示す平面図と側面図
FIG. 3 is a plan view and a side view schematically showing a configuration of a semiconductor device according to the first embodiment of the present invention;

【図4】 本発明の実施の形態1における半導体装置間
接続構造の概略を示す断面図と平面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view and a plan view schematically showing a connection structure between semiconductor devices according to the first embodiment of the present invention.

【図5】 本発明の実施の形態1における半導体チップ
の電極パッドと半導体装置の外部入出力用接続電極の配
列順序の関係の概略を示す平面図
FIG. 5 is a plan view schematically showing the relationship between the electrode pads of the semiconductor chip and the arrangement order of the external input / output connection electrodes of the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention.

【図6】 本発明の実施の形態2における半導体装置に
用いる配線基板の製造方法の概略を示す工程断面図
FIG. 6 is a process cross-sectional view schematically showing a method of manufacturing a wiring board used for a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention.

【図7】 本発明の実施の形態2における半導体装置の
製造方法の概略を示す工程断面図
FIG. 7 is a process cross-sectional view schematically showing a method for manufacturing a semiconductor device according to the second embodiment of the present invention.

【図8】 本発明の実施の形態2における半導体装置の
構成の概略を示す平面図と側面図
FIG. 8 is a plan view and a side view schematically showing a configuration of a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention;

【図9】 本発明の実施の形態2における半導体装置間
接続構造の概略を示す断面図
FIG. 9 is a sectional view schematically showing a connection structure between semiconductor devices according to a second embodiment of the present invention;

【図10】 本発明の実施の形態3における半導体装置
に用いる配線基板の製造方法の概略を示す工程断面図
FIG. 10 is a process cross-sectional view schematically showing a method of manufacturing a wiring board used for a semiconductor device in Embodiment 3 of the present invention.

【図11】 本発明の実施の形態3における半導体装置
の構成の概略を示す平面図と半導体装置間接続構造の概
略を示す断面図
FIG. 11 is a plan view schematically showing a configuration of a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention, and a cross-sectional view schematically showing a connection structure between semiconductor devices.

【図12】 本発明の実施の形態4における半導体装置
に用いる配線基板の製造方法の概略を示す工程断面図
FIG. 12 is a process cross-sectional view schematically illustrating a method of manufacturing a wiring board used for a semiconductor device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図13】 本発明の実施の形態5における半導体装置
間接続構造の概略を示す断面図
FIG. 13 is a sectional view schematically showing a connection structure between semiconductor devices according to a fifth embodiment of the present invention;

【図14】 本発明の実施の形態6における半導体装置
間接続構造の概略を示す平面図
FIG. 14 is a plan view schematically showing a connection structure between semiconductor devices according to a sixth embodiment of the present invention.

【図15】 本発明の実施の形態7における半導体装置
に用いる配線基板の製造方法の概略を示す工程断面図
FIG. 15 is a process cross-sectional view schematically showing a method of manufacturing a wiring board used for a semiconductor device according to a seventh embodiment of the present invention.

【図16】 本発明の実施の形態7における半導体装置
間接続構造の概略を示す断面図
FIG. 16 is a sectional view schematically showing a connection structure between semiconductor devices according to a seventh embodiment of the present invention;

【図17】 本発明の実施の形態7における半導体装置
の概略を示す平面図と半導体装置間接続構造の概略を示
す平面図
FIG. 17 is a plan view schematically showing a semiconductor device and a plan view schematically showing a connection structure between semiconductor devices in a seventh embodiment of the present invention.

【図18】 本発明の実施の形態8における半導体装置
間接続構造の概略を示す平面図
FIG. 18 is a plan view schematically showing a connection structure between semiconductor devices according to an eighth embodiment of the present invention.

【図19】 従来技術にかかわるフェースダウン方式の
半導体装置の断面図とマルチチップモジュールの断面図
FIG. 19 is a cross-sectional view of a face-down type semiconductor device and a cross-sectional view of a multichip module according to the related art.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100A,100B,100C,100D,100E,
100F,100G…配線基板 100H,100K,100M…モジュールとしての配
線基板 101…絶縁体 102…貫通孔 103…導電性ペースト 104,105…配線パターン 104a…延出部分 106…ビア 107…(上段の)端面タイプの外部入出力用接続電極 108…下段の端面タイプの外部入出力用接続電極 110…段差辺部 110a…凹入辺部 110b…突出辺部 110c…垂直辺部 117…端面タイプの外部入出力用接続電極 200A…半導体チップ 201…半導体チップ本体 202…バンプ 203…チップ電極パッド 300A,300B,300C,300D,300E,
300G…半導体装置 301…封止樹脂 401…マザー基板 402…電極端子 403…ハンダ 404…直接接合部 501…絶縁体 501a…傾斜端面 502…配線パターン 503…支持基材 504…接着剤層 505…V字状溝 506…配線パターン 507,508…傾斜端面タイプの外部入出力用接続電
極 550…ダイシング用ブレード 601…絶縁体 601a…端面 602…支持基材 603…配線層 650…成形金型 651…押さえ金型 700…接続用配線基板 701…接続用基材 702…配線パターン 703…接続導体 800…接続導体 901…絶縁体 902…銅箔 903…貫通孔 904…円筒状導体 905,906…配線パターン 907…端面タイプの外部入出力用接続電極 910…凹入部 950…コネクタ 952…導体ピン 960…位置決め部材 001,011,021…絶縁基材 002,012,022…配線パターン 003,013,023…端面タイプの外部入出力用接
続電極 004,014,024…凹入部 050…コネクタ 060…位置決め部材
100A, 100B, 100C, 100D, 100E,
100F, 100G: Wiring board 100H, 100K, 100M: Wiring board as module 101: Insulator 102: Through hole 103: Conductive paste 104, 105: Wiring pattern 104a: Extending part 106: Via 107 (upper row) End face type external input / output connection electrode 108... Lower end face type external input / output connection electrode 110... Step side 110 a... Recessed side 110 b... Protruding side 110 c... Vertical side 117. Output connection electrode 200A: semiconductor chip 201: semiconductor chip body 202: bump 203: chip electrode pad 300A, 300B, 300C, 300D, 300E,
300G semiconductor device 301 sealing resin 401 mother substrate 402 electrode terminal 403 solder 404 direct bonding portion 501 insulator 501a inclined end surface 502 wiring pattern 503 support base material 504 adhesive layer 505 V D-shaped groove 506... Wiring patterns 507 and 508... Slant end face type external input / output connection electrodes 550. Dicing blade 601. Insulator 601 a. End face 602. Mold 700: Connection wiring board 701: Connection base 702: Connection pattern 703: Connection conductor 800: Connection conductor 901: Insulator 902: Copper foil 903: Through hole 904: Cylindrical conductor 905, 906: Wiring pattern 907 ... End face type external input / output connection electrode 910 ... Recessed part 950 ... Connector 9 52 Conductor pin 960 Positioning member 001,011,021 Insulating base material 002,012,022 Wiring pattern 003,013,023 End-face type external input / output connection electrode 004,014,024 ... Recess 050 Connector 060: Positioning member

フロントページの続き (72)発明者 田口 豊 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5F067 AA01 AA02 AB04 AB08 CB02Continued on the front page (72) Inventor Yutaka Taguchi 1006 Kazuma Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. F term (reference) 5F067 AA01 AA02 AB04 AB08 CB02

Claims (26)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体チップを接続するために絶縁体の
表面に形成された配線パターンに対して連接される状態
で前記絶縁体の端面に外部入出力用接続電極が形成され
ていることを特徴とする半導体チップ搭載用の配線基
板。
1. An external input / output connection electrode is formed on an end face of an insulator in a state of being connected to a wiring pattern formed on the surface of the insulator for connecting a semiconductor chip. Wiring board for mounting semiconductor chips.
【請求項2】 前記絶縁体端面の外部入出力用接続電極
は、前記絶縁体表面の前記配線パターンに連なる状態で
前記絶縁体に形成された貫通孔に設けられたビアをカッ
ティングすることで形成されたものである請求項1に記
載の半導体チップ搭載用の配線基板。
2. The external input / output connection electrode on the insulator end face is formed by cutting a via provided in a through hole formed in the insulator in a state of being connected to the wiring pattern on the insulator surface. The wiring board for mounting a semiconductor chip according to claim 1, wherein the wiring board is mounted.
【請求項3】 前記絶縁体端面の外部入出力用接続電極
は、前記絶縁体表面の前記配線パターンに連なる状態で
前記絶縁体に形成された貫通孔の内周壁面にメッキされ
た筒状導体をカッティングすることで形成されたもので
ある請求項1に記載の半導体チップ搭載用の配線基板。
3. An external input / output connection electrode on the insulator end face is a cylindrical conductor plated on an inner peripheral wall surface of a through hole formed in the insulator in a state of being connected to the wiring pattern on the insulator surface. 2. The wiring board for mounting a semiconductor chip according to claim 1, wherein the wiring board is formed by cutting.
【請求項4】 前記外部入出力用接続電極が、前記絶縁
体の端面においてマトリックス状に配置されていること
を特徴とする請求項1から請求項3までのいずれかに記
載の半導体チップ搭載用の配線基板。
4. The semiconductor chip mounting device according to claim 1, wherein said external input / output connection electrodes are arranged in a matrix on an end face of said insulator. Wiring board.
【請求項5】 前記外部入出力用接続電極が形成されて
いる前記絶縁体の端面が傾斜端面とされていることを特
徴とする請求項1に記載の半導体チップ搭載用の配線基
板。
5. The wiring board for mounting a semiconductor chip according to claim 1, wherein an end face of the insulator on which the external input / output connection electrode is formed is an inclined end face.
【請求項6】 半導体チップを接続するために絶縁体の
一方の表面に形成された配線パターンと、マザー基板に
搭載するために前記絶縁体の他方の表面に形成された配
線パターンと、前記両配線パターンの双方に対して連接
される状態で前記絶縁体の端面に形成された外部入出力
用接続電極とを有するもので、前記両配線パターンと前
記外部入出力用接続電極とが前記絶縁体にまとわり付け
た配線層の前記絶縁体に対する圧着に伴う転写によって
形成されていることを特徴とする半導体チップ搭載用の
配線基板。
6. A wiring pattern formed on one surface of an insulator for connecting a semiconductor chip, a wiring pattern formed on the other surface of the insulator for mounting on a motherboard, and An external input / output connection electrode formed on an end face of the insulator in a state of being connected to both of the wiring patterns, wherein the two wiring patterns and the external input / output connection electrode are connected to the insulator. A wiring board for mounting a semiconductor chip, wherein the wiring board is formed by transfer of a wiring layer attached to the insulator with pressure bonding to the insulator.
【請求項7】 前記絶縁体の外形の少なくとも1辺が位
置合わせ用の段差辺部に形成されていることを特徴とす
る請求項1から請求項6までのいずれかに記載の半導体
チップ搭載用の配線基板。
7. The semiconductor chip mounting device according to claim 1, wherein at least one side of the outer shape of the insulator is formed on a step side portion for positioning. Wiring board.
【請求項8】 半導体チップを接続するために絶縁体の
表面に形成された配線パターンの内端側で前記半導体チ
ップのチップ電極パッドへの接続ランド部の配列順序が
前記外部入出力用接続電極の配列順序と同一関係または
鏡像関係とされていることを特徴とする請求項1から請
求項7までのいずれかに記載の半導体チップ搭載用の配
線基板。
8. The external input / output connection electrodes are arranged in the order of arrangement of connection lands to chip electrode pads of the semiconductor chip on the inner end side of the wiring pattern formed on the surface of the insulator for connecting the semiconductor chip. The wiring board for mounting a semiconductor chip according to any one of claims 1 to 7, wherein the wiring board has the same relationship or a mirror image relationship as the arrangement order.
【請求項9】 半導体チップを接続するために絶縁体の
表面に形成された配線パターンが封止樹脂のアンダフィ
ル領域を越えて前記絶縁体の端縁または端縁近傍まで延
出されてあり、その延出部分が外部入出力用接続電極と
して構成されていることを特徴とする半導体チップ搭載
用の配線基板。
9. A wiring pattern formed on a surface of the insulator for connecting a semiconductor chip extends beyond an underfill region of the sealing resin to an edge or a vicinity of the edge of the insulator, A wiring board for mounting a semiconductor chip, wherein the extended portion is configured as an external input / output connection electrode.
【請求項10】 半導体チップとの接続のための前記絶
縁体端面に形成の外部入出力用接続電極が凹入状に形成
され、かつ、前記絶縁体の他の辺部において前記凹入状
の外部入出力用接続電極とほぼ同サイズで同配列の位置
決め用の凹入部が形成されていることを特徴とする請求
項1から請求項4までのいずれかに記載の半導体チップ
搭載用の配線基板。
10. An external input / output connection electrode formed on an end face of the insulator for connection to a semiconductor chip is formed in a recessed shape, and the recessed shape is formed on another side of the insulator. 5. The wiring board for mounting a semiconductor chip according to claim 1, wherein recesses for positioning having substantially the same size and the same arrangement as the connection electrodes for external input / output are formed. .
【請求項11】 上記請求項10に記載の配線基板に対
して並列配置される中継接続用の配線基板であって、絶
縁体の表面に形成された中継接続用の配線パターンが形
成されているとともに、その中継接続用の配線パターン
に対して連接される状態で前記絶縁体の少なくとも2辺
の端面において上記請求項10に記載の外部入出力用接
続電極とほぼ同サイズで同配列の位置決め用の凹入部が
形成されていることを特徴とする中継接続用の配線基
板。
11. A wiring board for relay connection arranged in parallel with the wiring board according to claim 10, wherein a wiring pattern for relay connection formed on a surface of the insulator is formed. 11. An external input / output connection electrode according to claim 10, which is substantially the same size as the external input / output connection electrode on at least two end faces of the insulator in a state of being connected to the relay connection wiring pattern. A wiring board for relay connection, wherein a recessed portion is formed.
【請求項12】 上記請求項1から請求項10までのい
ずれかに記載の半導体チップ搭載用の配線基板を用い
て、この配線基板における前記配線パターンに接続する
状態で半導体チップを前記配線基板に搭載してあること
を特徴とする半導体装置。
12. A wiring board for mounting a semiconductor chip according to any one of claims 1 to 10, wherein a semiconductor chip is mounted on said wiring board while being connected to said wiring pattern on said wiring board. A semiconductor device characterized by being mounted.
【請求項13】 絶縁体上に半導体チップが搭載されて
なる複数の半導体装置をマザー基板に実装して、前記各
半導体装置における前記半導体チップどうしを接続する
構造であって、前記各々の半導体装置として、前記半導
体チップを接続するために前記絶縁体の表面に形成され
た配線パターンに対して連接される状態で前記絶縁体の
端面に外部入出力用接続電極が形成されてなる半導体装
置を用い、隣接する半導体装置それぞれの前記外部入出
力用接続電極どうしを直接に接合してあることを特徴と
する半導体装置間接続構造。
13. A structure in which a plurality of semiconductor devices each having a semiconductor chip mounted on an insulator are mounted on a mother board, and the semiconductor chips in each of the semiconductor devices are connected to each other. A semiconductor device having an external input / output connection electrode formed on an end face of the insulator in a state of being connected to a wiring pattern formed on the surface of the insulator to connect the semiconductor chip. Wherein the external input / output connection electrodes of adjacent semiconductor devices are directly joined to each other.
【請求項14】 前記各半導体装置は、その配線基板と
して上記請求項2または請求項4から請求項8までのい
ずれかに記載の配線基板が用いられたものであることを
特徴とする請求項13に記載の半導体装置間接続構造。
14. The semiconductor device according to claim 2, wherein the wiring substrate according to claim 2 or 4 to 8 is used as a wiring substrate. 14. The connection structure between semiconductor devices according to claim 13.
【請求項15】 絶縁体上に半導体チップが搭載されて
なる複数の半導体装置をマザー基板に実装して、前記各
半導体装置における前記半導体チップどうしを接続する
構造であって、前記各々の半導体装置として、前記半導
体チップを接続するために前記絶縁体の表面に形成され
た配線パターンが封止樹脂のアンダフィル領域を越えて
前記絶縁体の端縁または端縁近傍まで延出されてあり、
その延出部分が外部入出力用接続電極として構成されて
なる半導体装置を用い、隣接する半導体装置それぞれの
前記外部入出力用接続電極どうしを接続用配線基板を介
して接続してあることを特徴とする半導体装置間接続構
造。
15. A structure in which a plurality of semiconductor devices each having a semiconductor chip mounted on an insulator are mounted on a mother board, and the semiconductor chips in each of the semiconductor devices are connected to each other. As a wiring pattern formed on the surface of the insulator to connect the semiconductor chip is extended to the edge or near the edge of the insulator beyond the underfill region of the sealing resin,
A semiconductor device having an extended portion configured as an external input / output connection electrode is used, and the external input / output connection electrodes of adjacent semiconductor devices are connected to each other via a connection wiring board. Connection structure between semiconductor devices.
【請求項16】 前記各半導体装置は、その配線基板と
して上記請求項9に記載の配線基板が用いられたもので
あることを特徴とする請求項15に記載の半導体装置間
接続構造。
16. The connection structure between semiconductor devices according to claim 15, wherein each of the semiconductor devices uses the wiring substrate according to claim 9 as a wiring substrate thereof.
【請求項17】 絶縁体上に半導体チップが搭載されて
なる複数の半導体装置をマザー基板に実装して、前記各
半導体装置における前記半導体チップどうしを接続する
構造であって、前記各々の半導体装置として、前記半導
体チップを接続するために前記絶縁体の表面に形成され
た配線パターンに対して連接される状態で前記絶縁体の
端面に外部入出力用接続電極が形成されてなる半導体装
置を用い、隣接する半導体装置それぞれの前記外部入出
力用接続電極どうしを、これら両外部入出力用接続電極
に対して共通に接触し同時に位置決めを行うコネクタを
介して接続してあることを特徴とする半導体装置間接続
構造。
17. A structure in which a plurality of semiconductor devices each having a semiconductor chip mounted on an insulator are mounted on a motherboard and the semiconductor chips in each of the semiconductor devices are connected to each other, wherein each of the semiconductor devices is A semiconductor device having an external input / output connection electrode formed on an end face of the insulator in a state of being connected to a wiring pattern formed on the surface of the insulator to connect the semiconductor chip. A semiconductor device, wherein the external input / output connection electrodes of adjacent semiconductor devices are connected to each other via a connector which is in common contact with these external input / output connection electrodes and performs positioning at the same time. Device connection structure.
【請求項18】 前記各半導体装置は、その配線基板と
して上記請求項3に記載の配線基板が用いられたもので
あることを特徴とする請求項17に記載の半導体装置間
接続構造。
18. The connection structure between semiconductor devices according to claim 17, wherein each of the semiconductor devices uses the wiring substrate according to claim 3 as a wiring substrate thereof.
【請求項19】 前記コネクタは前記マザー基板から立
設されていることを特徴とする請求項17または請求項
18に記載の半導体装置間接続構造。
19. The connection structure between semiconductor devices according to claim 17, wherein the connector is erected from the mother substrate.
【請求項20】 前記コネクタは前記マザー基板から分
離されていることを特徴とする請求項17または請求項
18に記載の半導体装置間接続構造。
20. The connection structure between semiconductor devices according to claim 17, wherein the connector is separated from the mother board.
【請求項21】 絶縁体上に半導体チップが搭載されて
なる複数の半導体装置をマザー基板に実装して、前記各
半導体装置における前記半導体チップどうしを接続する
構造であって、前記各々の半導体装置として、前記半導
体チップを接続するための前記絶縁体の端面に形成の外
部入出力用接続電極が凹入状に形成され、かつ、前記絶
縁体の他の辺部において前記凹入状の外部入出力用接続
電極とほぼ同サイズで同配列の位置決め用の凹入部が形
成されてなる半導体装置を用い、また、前記複数の半導
体装置間を中継接続するための配線基板として、絶縁体
の表面に形成された中継接続用の配線パターンが形成さ
れているとともに、その中継接続用の配線パターンに対
して連接される状態で前記絶縁体の少なくとも2辺の端
面において前記半導体装置における前記外部入出力用接
続電極とほぼ同サイズで同配列の位置決め用の凹入部が
形成されてなる中継接続用の配線基板を用い、前記半導
体装置における外部入出力用接続電極と前記中継接続用
の配線基板における外部入出力用接続電極どうしを、こ
れら両外部入出力用接続電極に対して共通に接触し同時
に位置決めを行うコネクタを介して接続してあることを
特徴とする半導体装置間接続構造。
21. A structure in which a plurality of semiconductor devices each having a semiconductor chip mounted on an insulator are mounted on a motherboard and the semiconductor chips in each of the semiconductor devices are connected to each other. An external input / output connection electrode formed on an end face of the insulator for connecting the semiconductor chip is formed in a concave shape, and the concave external input electrode is formed on another side of the insulator. A semiconductor device having a positioning recess having substantially the same size and the same arrangement as the output connection electrode is used, and a wiring board for relay connection between the plurality of semiconductor devices is provided on the surface of the insulator. The formed wiring pattern for relay connection is formed, and the semiconductive material is connected to at least two end faces of the insulator in a state of being connected to the wiring pattern for relay connection. A relay connection wiring board having substantially the same size and the same arrangement of recesses for positioning as the external input / output connection electrodes in the body device; and using the external input / output connection electrodes in the semiconductor device and the relay The semiconductor device according to claim 1, wherein the external input / output connection electrodes on the connection wiring board are connected to each other via a connector that makes common contact with the external input / output connection electrodes and performs positioning at the same time. Connection structure.
【請求項22】 絶縁体に貫通孔を形成する工程と、前
記貫通孔に導電性ペーストを充填する工程と、前記絶縁
体の上下両方の表面に前記導電性ペーストに連なる状態
で配線パターンを形成するとともに前記導電性ペースト
を焼成してビアにする工程と、外周部相当箇所に位置す
るビア群を通る状態でダイシングを行って前記ビアの切
断端面を露出状態の外部入出力用接続電極となす工程と
を含むことを特徴とする配線基板の製造方法。
22. A step of forming a through hole in an insulator, a step of filling the through hole with a conductive paste, and forming a wiring pattern on both upper and lower surfaces of the insulator in a state of being connected to the conductive paste. And sintering the conductive paste to form vias, and dicing in a state of passing through a group of vias located at a position corresponding to the outer peripheral portion to form cut end surfaces of the vias as exposed external input / output connection electrodes. And a method for manufacturing a wiring board.
【請求項23】 絶縁体に貫通孔を形成する工程と、前
記貫通孔に導電性ペーストを充填する工程と、前記絶縁
体の上下両方の表面に前記導電性ペーストに連なる状態
で配線パターンを形成するとともに前記導電性ペースト
を焼成してビアにする工程と、前記各工程の結果として
得られる配線基板を複数枚積層する工程と、外周部相当
箇所においてマトリックス状態に配列されているビア群
を通る状態でダイシングを行って前記ビアの切断端面を
露出状態でマトリックス状の外部入出力用接続電極とな
す工程とを含むことを特徴とする配線基板の製造方法。
23. A step of forming a through hole in an insulator, a step of filling the through hole with a conductive paste, and forming a wiring pattern on both upper and lower surfaces of the insulator so as to be continuous with the conductive paste. And a step of firing the conductive paste to form vias, a step of laminating a plurality of wiring boards obtained as a result of the respective steps, and a step of passing through via groups arranged in a matrix at locations corresponding to the outer peripheral portion. Dicing in a state to form a cut end face of the via in an exposed state to form a matrix-like external input / output connection electrode.
【請求項24】 絶縁体の上下両方の表面に導体箔を形
成する工程と、前記絶縁体および前記導体箔に貫通孔を
形成する工程と、前記貫通孔の内周壁面に筒状導体を前
記両導体箔に連なる状態で形成する工程と、前記絶縁体
表面の両導体箔をパターニングして配線パターンを形成
する工程と、外周部相当箇所に位置する筒状導体群を通
る状態でダイシングを行って前記筒状導体の切断端面を
露出状態の外部入出力用接続電極となす工程とを含むこ
とを特徴とする配線基板の製造方法。
24. A step of forming a conductor foil on both upper and lower surfaces of an insulator, a step of forming a through hole in the insulator and the conductor foil, and forming a tubular conductor on an inner peripheral wall surface of the through hole. A step of forming a wiring pattern by patterning both conductor foils on the insulator surface, and a step of forming a wiring pattern by connecting both conductor foils on the insulator surface, and performing dicing in a state of passing through a cylindrical conductor group located at a position corresponding to an outer peripheral portion. Forming a cut end surface of the cylindrical conductor as an external input / output connection electrode in an exposed state.
【請求項25】 所定のパターンの配線層が形成された
支持基材に対して絶縁体を重ね合わせる工程と、前記支
持基材と前記絶縁体とが接する面と前記絶縁体の端面と
に対して同時に前記配線層を圧着により転写する工程
と、前記配線層を残して前記支持基材を除去することに
より前記絶縁体の表面に配線パターンを形成するととも
に前記絶縁体の端面に外部入出力用接続電極を露出させ
る工程とを含むことを特徴とする配線基板の製造方法。
25. A step of laminating an insulator on a support base on which a wiring layer of a predetermined pattern is formed, and a step of: contacting the support base with the insulator and an end face of the insulator. Simultaneously transferring the wiring layer by pressing, forming the wiring pattern on the surface of the insulator by removing the supporting substrate while leaving the wiring layer, and applying external input / output to the end face of the insulator. Exposing the connection electrode.
【請求項26】 絶縁体と支持基材とを重ね合わせて接
着する工程と、前記絶縁体にV字状溝を形成してこの絶
縁体の端面を傾斜面となす工程と、前記絶縁体の表面お
よび傾斜面に配線パターンを形成する工程と、前記支持
基材を除去するとともに前記絶縁体を分割して前記絶縁
体の傾斜面に外部入出力用接続電極を形成する工程とを
含むことを特徴とする配線基板の製造方法。
26. A step of laminating and bonding an insulator and a supporting substrate, a step of forming a V-shaped groove in the insulator and forming an end face of the insulator as an inclined surface, Forming a wiring pattern on a surface and an inclined surface; and removing the support base material and dividing the insulator to form an external input / output connection electrode on the inclined surface of the insulator. A method for manufacturing a wiring board, which is characterized by the following.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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