JP2001267380A - Marking device of semiconductor wafer, and semiconductor inspecting device using marking device - Google Patents

Marking device of semiconductor wafer, and semiconductor inspecting device using marking device

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JP2001267380A
JP2001267380A JP2000080672A JP2000080672A JP2001267380A JP 2001267380 A JP2001267380 A JP 2001267380A JP 2000080672 A JP2000080672 A JP 2000080672A JP 2000080672 A JP2000080672 A JP 2000080672A JP 2001267380 A JP2001267380 A JP 2001267380A
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JP
Japan
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semiconductor wafer
marking
head
semiconductor
ink
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JP2000080672A
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Hideji Tanaka
秀治 田中
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Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a marking device of a semiconductor wafer that can easily and stably form a uniform marking trace in the semiconductor wafer, and a semiconductor-inspecting device that has the marking device. SOLUTION: A marking device 120 of a semiconductor wafer is equipped with a head 126 for liquid discharge for discharging liquid for marking to a semiconductor wafer 200 without contacts, and head control parts 123 and 125 for controlling the operation of the head for liquid discharge.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハの例
えば試験結果を半導体ウエハの半導体チップ毎にマーク
する半導体ウエハのマーキング装置及びこれを有する半
導体検査装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor wafer marking apparatus for marking, for example, a test result of a semiconductor wafer for each semiconductor chip of the semiconductor wafer, and a semiconductor inspection apparatus having the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体ウエハは、通常、一枚の半導体ウ
エハに多数の半導体チップが形成される。そして、この
半導体チップは、半導体チップ毎にその電気的特性検査
が行われた後、半導体チップ毎に切り離される。
2. Description of the Related Art Generally, a semiconductor wafer has a large number of semiconductor chips formed on one semiconductor wafer. Then, the semiconductor chip is separated for each semiconductor chip after an electrical characteristic test is performed for each semiconductor chip.

【0003】このように切り離された半導体チップのう
ち、電気的特性検査の結果が良であった半導体チップの
み選択され、集積回路等に組み込まれることになる。
[0003] Of the separated semiconductor chips, only those semiconductor chips having a good electrical characteristic test result are selected and incorporated into an integrated circuit or the like.

【0004】このとき、検査済の半導体ウエハのうち、
どの半導体チップが良で、どの半導体チップが不良か
が、半導体ウエハの表面を見れば直ちにわかるように、
不良半導体チップにマークを付する半導体ウエハのマー
キング装置が使用されている。このマーキング装置は、
例えば図7に示すように構成されている。図7におい
て、マーキング装置10は、マーキングを行う対象であ
る半導体ウエハ11を載置する半導体ウエハテーブル1
3と、この半導体ウエハテーブル13を制御するテーブ
ル制御部14とを有している。
At this time, of the inspected semiconductor wafers,
As you can immediately see which semiconductor chip is good and which semiconductor chip is bad by looking at the surface of the semiconductor wafer,
2. Description of the Related Art A semiconductor wafer marking device for marking a defective semiconductor chip is used. This marking device
For example, it is configured as shown in FIG. In FIG. 7, a marking device 10 includes a semiconductor wafer table 1 on which a semiconductor wafer 11 to be marked is placed.
3 and a table control unit 14 for controlling the semiconductor wafer table 13.

【0005】このテーブル制御部14は、制御部15に
より制御されるが、この制御部15には、データ管理部
16が接続されている。データ管理部16には、半導体
ウエハ11の電気的特性試験結果である半導体チップ毎
の良、不良のデータが例えばフロッピーディスク等の媒
体で保管され、データ管理部16に読み込まれるように
なっている。
[0005] The table controller 14 is controlled by a controller 15, and a data manager 16 is connected to the controller 15. The data management unit 16 stores good and bad data for each semiconductor chip, which is the result of the electrical characteristic test of the semiconductor wafer 11, for example, on a medium such as a floppy disk, and reads the data into the data management unit 16. .

【0006】したがって、このデータ管理部16に読み
込まれた半導体ウエハ11の半導体チップの良、不良の
データに基づいて、半導体ウエハテーブル13が駆動さ
れることになる。
Therefore, the semiconductor wafer table 13 is driven on the basis of the data of good and bad semiconductor chips on the semiconductor wafer 11 read into the data management section 16.

【0007】一方、このデータ管理部16は、制御部1
5、インカー駆動部を介してインカー18に接続されて
いる。このインカー18は、インクを半導体ウエハ11
の不良の半導体チップ上に、図8に示すようにマーキン
グ跡12が付くように、インク排出するものである。
On the other hand, the data management section 16
5. Connected to the inker 18 via the inker drive unit. The inker 18 is used to transfer ink to the semiconductor wafer 11.
The ink is discharged so that marking marks 12 are formed on the defective semiconductor chip as shown in FIG.

【0008】このインカー18のインク排出位置は、前
記データ管理部16のデータに基づいて、制御部15及
びインカー駆動部17で正確に位置決めされるようにな
っている。
The ink discharge position of the inker 18 is accurately positioned by the control unit 15 and the inker drive unit 17 based on the data of the data management unit 16.

【0009】そして、このように不良の半導体チップに
マーキング跡12が付いた半導体ウエハ11は、上述の
ように半導体チップ毎に分離され、マーキング跡12が
付いていない良品の半導体チップのみが製品として使用
されることになる。
The semiconductor wafer 11 having such defective semiconductor chips with the marking marks 12 is separated for each semiconductor chip as described above, and only good semiconductor chips without the marking marks 12 are used as products. Will be used.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
マーキング装置10に使用されるインカー18は、具体
的には図9に示すようになっている。すなわち、インカ
ー18の先端部にはインク排出口18bが設けられ、こ
のインク排出口18bからインカー18の内部に向かっ
て釣り糸18aが配置されている。
The inker 18 used in such a marking device 10 is specifically as shown in FIG. That is, an ink discharge port 18 b is provided at the tip of the inker 18, and the fishing line 18 a is arranged from the ink discharge port 18 b toward the inside of the inker 18.

【0011】この釣り糸18aは、インカー18内のソ
レイドで図において上下方向に移動するようになってい
る。
The fishing line 18a is adapted to move vertically in the drawing by means of a solenoid in the inker 18.

【0012】この釣り糸18aが、ソレイドによって下
がり、その先端が半導体ウエハ11の不良の半導体チッ
プの表面に当接すると、釣り糸18aが、インカー18
内のインク溜りの中を通っているため、インクが釣り糸
18aを伝わって半導体チップ上に達し、図8に示すよ
うな円形のマーキング跡12を形成するようになってい
る。
When the fishing line 18a is lowered by the solenoid and its tip comes into contact with the surface of the defective semiconductor chip of the semiconductor wafer 11, the fishing line 18a
Since the ink passes through the ink reservoir inside, the ink travels along the fishing line 18a and reaches the semiconductor chip, and forms a circular marking mark 12 as shown in FIG.

【0013】しかし、マーキング跡12は、上述のよう
にソレイドによる釣り糸18aの上下移動によって行わ
れるため、釣り糸18aの変形や劣化等によって、不良
の半導体チップの表面に形成されたマーキング跡12が
マークされない場合がある。この場合は、後工程で半導
体チップの良、不良の判断が誤るおそれがあるため、再
び、半導体ウエハ11をマーキング装置10に設置し
て、マークの検査、マークの除去、そしてインカー18
で再び、マーキングをやり直す必要があり、コスト増と
なっていた。
However, since the marking mark 12 is formed by the vertical movement of the fishing line 18a by the solenoid as described above, the marking mark 12 formed on the surface of the defective semiconductor chip due to the deformation or deterioration of the fishing line 18a is marked. May not be. In this case, since there is a possibility that the judgment of good or bad of the semiconductor chip may be erroneously made in a later process, the semiconductor wafer 11 is set on the marking device 10 again, the mark is inspected, the mark is removed, and the inker 18 is removed.
Then, it was necessary to redo the marking again, which increased the cost.

【0014】また、マーキング跡12の形成を図9に示
すインカー18で行うと、インクの排出量は、釣り糸1
8aを伝わるインク量で決まるため、図8に示す円形の
マーキング跡12の径が、釣り糸18aの状態によって
変化し、後工程でのマーキングの跡12の認識性に大き
な影響を与えていた。
When the marking marks 12 are formed by the inker 18 shown in FIG.
Since the diameter of the circular marking mark 12 shown in FIG. 8 changes depending on the state of the fishing line 18a, the diameter of the marking mark 12 shown in FIG.

【0015】さらに、マーキング跡12の形成を図9に
示すインカー18で行うと、インクの排出量は、釣り糸
18aを伝わるインク量で決まるため、図8に示す円形
のマーキング跡12の高さが、釣り糸18aの状態によ
って変化し、後工程で行う半導体ウエハ11の研削時
に、半導体ウエハ11が割れやすくなるという問題もあ
った。
Further, when the marking mark 12 is formed by the inker 18 shown in FIG. 9, the amount of ink discharged is determined by the amount of ink transmitted through the fishing line 18a, so that the height of the circular marking mark 12 shown in FIG. However, there is also a problem that the semiconductor wafer 11 changes easily depending on the state of the fishing line 18a, and the semiconductor wafer 11 is easily broken when the semiconductor wafer 11 is ground in a later step.

【0016】そこで、本発明は、半導体ウエハに、均一
のマーキング跡を容易且つ安定的に形成できる半導体ウ
エハのマーキング装置及びこれを有する半導体検査装置
を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION It is therefore an object of the present invention to provide a semiconductor wafer marking apparatus capable of easily and stably forming a uniform marking mark on a semiconductor wafer, and a semiconductor inspection apparatus having the same.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】前記目的は、請求項1の
発明によれば、半導体ウエハに対して非接触でマーキン
グ用液体を吐出させる液体吐出用ヘッドと、この液体吐
出用ヘッドの動作を制御するヘッド制御部と、を有する
ことを特徴とする半導体ウエハのマーキング装置によ
り、達成される。
According to the first aspect of the present invention, there is provided a liquid discharging head for discharging a marking liquid to a semiconductor wafer in a non-contact manner, and an operation of the liquid discharging head. And a head controller for controlling the semiconductor wafer.

【0018】前記構成によれば、半導体ウエハに対して
非接触でマーキング用液体を吐出させる液体吐出用ヘッ
ドと、この液体吐出用ヘッドの動作を制御するヘッド制
御部と、を有するので、半導体ウエハに対して適量のマ
ーキング用液体を安定的に吐出させることができる。
According to the above configuration, the semiconductor wafer includes the liquid discharge head for discharging the marking liquid to the semiconductor wafer in a non-contact manner and the head control unit for controlling the operation of the liquid discharge head. , An appropriate amount of the marking liquid can be discharged stably.

【0019】好ましくは、請求項2の発明によれば、請
求項1の構成において、前記半導体ウエハを載置するた
めのテーブル部が設けられている半導体ウエハのマーキ
ング装置である。
Preferably, according to the second aspect of the present invention, there is provided the semiconductor wafer marking apparatus according to the first aspect of the present invention, further comprising a table section on which the semiconductor wafer is placed.

【0020】前記構成によれば、前記半導体ウエハを載
置するためのテーブル部が設けられているので、前記半
導体ウエハを前記液体吐出用ヘッドに対して最適な位置
に配置することができる。
According to the above configuration, since the table for mounting the semiconductor wafer is provided, the semiconductor wafer can be arranged at an optimum position with respect to the liquid discharge head.

【0021】好ましくは、請求項3の発明によれば、請
求項2の構成において、前記テーブル部が、半導体ウエ
ハの面方向における平面座標系において直交するX軸及
びY軸に対応して、X軸テーブルとY軸テーブルを、そ
れぞれ別個に有している半導体ウエハのマーキング装置
である。
Preferably, according to the third aspect of the present invention, in the configuration of the second aspect, the table section is provided with an X-axis and a Y-axis which are orthogonal to each other in a plane coordinate system in a plane direction of the semiconductor wafer. This is a marking device for a semiconductor wafer having an axis table and a Y axis table separately.

【0022】前記構成によれば、前記テーブル部が、半
導体ウエハの面方向における平面座標系において直交す
るX軸及びY軸に対応して、X軸テーブルとY軸テーブ
ルを、それぞれ別個に有しているので、前記液体吐出用
ヘッドに対して、前記半導体ウエハを、その面方向にお
いてより正確且つ最適な位置に移動させることができ
る。
According to the above configuration, the table unit has an X-axis table and a Y-axis table respectively corresponding to the X-axis and the Y-axis orthogonal to each other in the plane coordinate system in the plane direction of the semiconductor wafer. Therefore, the semiconductor wafer can be moved to a more accurate and optimum position in the plane direction with respect to the liquid discharge head.

【0023】好ましくは、請求項4の発明によれば、請
求項3の構成において、前記X軸テーブル又は/及び前
記Y軸テーブルが、前記液体吐出用ヘッド側に設けられ
ている半導体ウエハのマーキング装置である。
Preferably, according to the invention of claim 4, in the configuration of claim 3, the X-axis table and / or the Y-axis table are marked on a semiconductor wafer provided on the liquid ejection head side. Device.

【0024】前記構成によれば、前記X軸テーブル又は
/及び前記Y軸テーブルが、前記液体吐出用ヘッド側に
設けられているので、前記半導体ウエハに対する前記液
体吐出用ヘッドの位置を、これらX軸テーブル又は/及
び前記Y軸テーブルを操作することで最適の位置に移動
させることができる。
According to the above-described structure, since the X-axis table and / or the Y-axis table are provided on the liquid discharge head side, the position of the liquid discharge head with respect to the semiconductor wafer can be changed. By operating the axis table and / or the Y-axis table, it can be moved to an optimum position.

【0025】好ましくは,請求項5の発明によれば、請
求項3又は請求項4の構成において、前記ヘッド制御部
は、前記液体吐出用ヘッドが、その移動方向に関して一
定の傾きを保持するように制御する構成となっている半
導体ウエハのマーキング装置である。
Preferably, according to the fifth aspect of the present invention, in the configuration of the third or fourth aspect, the head control section controls the liquid discharge head to maintain a constant inclination with respect to a moving direction thereof. This is a marking device for semiconductor wafers that is configured to be controlled in the following manner.

【0026】上記構成によれば、前記ヘッド制御部は、
前記液体吐出用ヘッドが、その移動方向に関して一定の
傾きを保持するように制御する構成となっているので、
前記液体吐出用ヘッドに設けられている,例えばノズル
の移動方向の位置を前記半導体ウエハの半導体チップの
位置と一致するように調整することができる。
According to the above configuration, the head control section includes:
Since the liquid discharge head is configured to control so as to maintain a constant inclination with respect to the moving direction,
For example, the position of the liquid ejection head in the moving direction of the nozzle, for example, can be adjusted so as to match the position of the semiconductor chip on the semiconductor wafer.

【0027】好ましくは、請求項6の発明によれば、請
求項1乃至請求項5の構成において、前記液体吐出用ヘ
ッドが、インクをノズルから吐出するインクジェットヘ
ッドである半導体ウエハのマーキング装置である。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided the semiconductor wafer marking apparatus according to the first to fifth aspects, wherein the liquid discharging head is an ink jet head for discharging ink from nozzles. .

【0028】前記構成によれば、前記液体吐出用ヘッド
が、インクをノズルから吐出するインクジェットヘッド
であるので、インクジェットヘッド内の吐出機構を調整
する吐出させるインクを正確に調整することができる。
According to the above configuration, since the liquid discharge head is an ink jet head that discharges ink from nozzles, it is possible to accurately adjust the ink to be discharged for adjusting the discharge mechanism in the ink jet head.

【0029】好ましくは、請求項7の発明によれば、請
求項6の構成において、前記インクジェットヘッドのノ
ズル間のノズルチップと前記半導体チップ間の行間ピッ
チを、一致させるためのヘッド角度調整部が設けられて
いる半導体ウエハのマーキング装置である。
Preferably, according to a seventh aspect of the present invention, in the configuration of the sixth aspect, the head angle adjusting unit for matching the pitch between the nozzle chips between the nozzles of the ink jet head and the row between the semiconductor chips is provided. It is a marking device for a semiconductor wafer provided.

【0030】前記構成によれば、前記インクジェットヘ
ッドのノズル間のノズルチップと前記半導体チップ間の
行間ピッチを、一致させるためのヘッド角度調整部が設
けられているので、前記インクジェットヘッドのノズル
間のノズルチップと前記半導体チップ間の行間ピッチ
を、容易に一致させることができる。
According to the above configuration, since the head angle adjusting section is provided for matching the pitch between the nozzle chips between the nozzles of the ink jet head and the line pitch between the semiconductor chips, the nozzle between the nozzles of the ink jet head is provided. The pitch between rows between the nozzle chip and the semiconductor chip can be easily matched.

【0031】好ましくは、請求項8の発明によれば、請
求項6又は請求項7の構成において、前記インクジェッ
トヘッドの前記ノズルが配置されている部分の長手方向
の長さが、前記半導体ウエハの半導体チップが設けられ
ている部分の径方向の長さと同一もしくはより長く形成
されている半導体ウエハのマーキング装置である。
Preferably, according to the eighth aspect of the present invention, in the configuration of the sixth or seventh aspect, the length of the portion of the ink jet head where the nozzles are arranged in the longitudinal direction is smaller than the length of the semiconductor wafer. This is a marking device for a semiconductor wafer formed to have the same length as or longer than the radial length of the portion where the semiconductor chip is provided.

【0032】前記構成によれば、前記インクジェットヘ
ッドの前記ノズルが配置されている部分の長手方向の長
さが、前記半導体ウエハの半導体チップが設けられてい
る部分の径方向の長さと同一もしくはより長く形成され
ているので、前記インクジェットヘッドを前記半導体ウ
エハ上に1回移動させれば、この半導体ウエハの半導体
チップ全体に関してマーキングを行うことができ、従来
よりも処理速度を向上させることができる。
According to the above construction, the longitudinal length of the portion of the ink jet head where the nozzles are arranged is equal to or greater than the radial length of the portion of the semiconductor wafer where the semiconductor chips are provided. Since the ink jet head is formed once longer, if the ink jet head is moved once over the semiconductor wafer, marking can be performed on the entire semiconductor chip of the semiconductor wafer, and the processing speed can be improved as compared with the related art.

【0033】好ましくは、請求項9の発明によれば、請
求項6乃至請求項8の構成において、前記インクジェッ
トヘッドで、前記半導体ウエハ上に文字、記号又は図形
を形成する構成となっている半導体ウエハのマーキング
装置である。
Preferably, according to the ninth aspect of the present invention, in the configuration of the sixth to eighth aspects, the ink jet head forms a character, a symbol or a graphic on the semiconductor wafer. This is a wafer marking device.

【0034】前記構成によれば、前記インクジェットヘ
ッドで、前記半導体ウエハ上に文字、記号又は図形を形
成する構成となっているので、前記半導体ウエハに関す
る任意の情報を適宜、半導体ウエハ上に記入することが
できる。
[0034] According to the above-described structure, characters, symbols or figures are formed on the semiconductor wafer by the ink-jet head. Therefore, arbitrary information on the semiconductor wafer is appropriately written on the semiconductor wafer. be able to.

【0035】好ましくは、請求項10の発明によれば、
請求項6又は請求項7の構成において、前記インクジェ
ットヘッドが複数個、ヘッドユニットに配置されている
半導体ウエハのマーキング装置である。
Preferably, according to the tenth aspect of the present invention,
8. A marking device for a semiconductor wafer according to claim 6, wherein a plurality of said ink jet heads are arranged in a head unit.

【0036】前記構成によれば、前記インクジェットヘ
ッドが複数個、ヘッドユニットに配置されているので、
通常のインクジェットヘッドをヘッドユニットに配置す
ることができる。
According to the arrangement, a plurality of the ink jet heads are arranged in the head unit.
A normal inkjet head can be arranged in the head unit.

【0037】好ましくは、請求項11の発明によれば、
請求項1乃至請求項10のいずれかの構成の半導体ウエ
ハのマーキング装置を有する半導体検査装置である。
[0037] Preferably, according to the invention of claim 11,
A semiconductor inspection apparatus having a semiconductor wafer marking apparatus according to any one of claims 1 to 10.

【0038】[0038]

【発明の実施の形態】以下、この発明の好適な実施形態
を図面に基づき説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0039】(第1の実施の形態)図1は、本発明の第
1の実施の形態に係る半導体検査装置100を示す図で
ある。図1に示すように半導体検査装置100には、テ
スター装置110と半導体ウエハのマーキング装置であ
るマーキング装置100とを含んでいる。
(First Embodiment) FIG. 1 is a view showing a semiconductor inspection apparatus 100 according to a first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the semiconductor inspection device 100 includes a tester device 110 and a marking device 100 that is a marking device for a semiconductor wafer.

【0040】テスター装置110は、検査すべき半導体
ウエハ200に形成されている個々の半導体チップの電
気的特性を検査するための装置である。
The tester device 110 is a device for inspecting electrical characteristics of individual semiconductor chips formed on the semiconductor wafer 200 to be inspected.

【0041】具体的には、テスター装置110は、検査
対象の半導体ウエハ200の個々の半導体チップに設け
られた電極の位置に順次、移動し配置されるように構成
されている触針と、この触針を有するプローブカードと
を有している。
Specifically, the tester device 110 includes a stylus configured to sequentially move and be arranged at the positions of the electrodes provided on the individual semiconductor chips of the semiconductor wafer 200 to be inspected. A probe card having a stylus.

【0042】そして、テスター装置110に検査対象の
半導体ウエハ200を配置し、この触針を、この半導体
ウエハ200の個々の半導体チップの電極に,順次当接
させ、テスター装置110から、この電極に順次、入力
信号を送ることになる。
Then, the semiconductor wafer 200 to be inspected is placed on the tester device 110, and the stylus is sequentially brought into contact with the electrode of each semiconductor chip of the semiconductor wafer 200, and the tester device 110 makes contact with the electrode. Input signals will be sent sequentially.

【0043】このテスター装置110からの入力信号に
対応して、個々の半導体チップの電極からは、テスター
装置110側に出力信号が送られる。この出力信号をテ
スター装置110に形成された判断部が判断することに
より、個々の半導体チップについて良品か不良品かを判
断することになる。
In response to the input signal from the tester device 110, an output signal is sent from the electrode of each semiconductor chip to the tester device 110 side. By judging this output signal by the judging section formed in the tester device 110, it is judged whether each semiconductor chip is good or defective.

【0044】このようにしてテスター装置110が、検
査対象となる1枚の半導体ウエハ110のすべての半導
体チップを検査し終わると、その結果の検査データが図
1に示すマーキング装置120のデータ管理部121に
例えばネットワークで送信されることになる。
When the tester device 110 has finished inspecting all the semiconductor chips of one semiconductor wafer 110 to be inspected in this manner, the resulting inspection data is stored in the data management unit of the marking device 120 shown in FIG. 121, for example, via a network.

【0045】ここでマーキング装置120のデータ管理
部121に送信される検査データは、半導体ウエハ20
0の上のどの座標(XY座標)に不良の半導体チップが
存在するかを示すようになっている。
The inspection data transmitted to the data management unit 121 of the marking device 120 is
The coordinates (XY coordinates) above 0 indicate the position of the defective semiconductor chip.

【0046】このように検査データを受け取るマーキン
グ装置120は、以下のように構成されている。
The marking device 120 that receives inspection data as described above is configured as follows.

【0047】マーキング装置120は、図1に示すよう
に、上述の検査データをテスター装置110から受け取
るデータ管理部121を有している。このデータ管理部
121は、たとえばコンピュータで構成されている。
As shown in FIG. 1, the marking device 120 has a data management unit 121 for receiving the above-described inspection data from the tester device 110. This data management unit 121 is constituted by, for example, a computer.

【0048】このデータ管理部121は、例えばコンピ
ュータにより構成されている制御部122に接続されて
いる。この制御部122は、データ管理部121からの
データに基づき、インクジェットヘッド制御部123と
XYテーブル制御部124にに信号を送り、これらイン
クジェットヘッド制御部123とXYテーブル制御部1
24を制御するようになっている。
The data management section 121 is connected to a control section 122 constituted by a computer, for example. The control unit 122 sends a signal to the inkjet head control unit 123 and the XY table control unit 124 based on the data from the data management unit 121, and the inkjet head control unit 123 and the XY table control unit 1
24 is controlled.

【0049】このように制御部122により制御されて
いるインクジェットヘッド制御部123は、例えばコン
ピュータにより構成され、ヘッド制御部及びヘッド角度
調整部であるヘッド角度割り出し部125を制御するよ
うになっている。
The ink-jet head control unit 123 controlled by the control unit 122 is constituted by, for example, a computer, and controls the head control unit and the head angle indexing unit 125 which is a head angle adjustment unit. .

【0050】このヘッド角度割り出し部125は、イン
クジェットヘッド126に接続され、このインクジェッ
トヘッド126の半導体ウエハ200に対する角度を調
整するようになっている。
The head angle indexing section 125 is connected to the ink jet head 126, and adjusts the angle of the ink jet head 126 with respect to the semiconductor wafer 200.

【0051】具体的には、図2に示すようにインクジェ
ットヘッド126の半導体ウエハ200に対するマーキ
ング方向である、図において左右方向に対して、角度θ
だけ傾けてインクジェットヘッド126を配置する場合
に、このヘッド角度割り出し部125が用いられる。
Specifically, as shown in FIG. 2, the angle θ is relative to the horizontal direction in FIG.
The head angle indexing unit 125 is used when arranging the inkjet head 126 at only a tilt.

【0052】すなわち、このインクジェットヘッド12
6の半導体ウエハ200と対向する面の長手方向には、
ノズル126aが複数個,一定のノズルピッチで配置さ
れている。このノズル126aが設けられている部分
は、例えば図2に示す半導体ウエハ200の縦方向の径
方向において配置されている半導体チップが設けられて
いる部分の径方向の長さより長く形成されている。
That is, the ink jet head 12
6 in the longitudinal direction of the surface facing the semiconductor wafer 200,
A plurality of nozzles 126a are arranged at a constant nozzle pitch. The portion where the nozzle 126a is provided is formed longer than the radial length of the portion where the semiconductor chips arranged in the vertical radial direction of the semiconductor wafer 200 shown in FIG. 2 are provided, for example.

【0053】このようにノズル126aが設けられてい
る部分の長さを半導体チップが設けられている部分の径
方向の長さより長くすることで、インクジェットヘッド
126が、一回、半導体ウエハ200上を、通過する
と、すべての半導体チップに対してマーキングを行うこ
とが可能となる。このため、半導体ウエハ200に早く
マーキングを行うことができる。
By making the length of the portion where the nozzle 126a is provided longer than the radial length of the portion where the semiconductor chip is provided, the ink jet head 126 can move once over the semiconductor wafer 200 once. After passing through, it becomes possible to perform marking on all the semiconductor chips. For this reason, marking can be performed on the semiconductor wafer 200 quickly.

【0054】しかしながら、このようにノズル126a
が設けられている部分が、半導体チップが設けられてい
る部分の径方向より長く形成されていても、個々のノズ
ル126aが正確に半導体チップに位置的に対応しない
と、正確にマーキングすることができない。
However, as described above, the nozzle 126a
Even if the portion where the semiconductor chip is provided is formed longer than the radial direction of the portion where the semiconductor chip is provided, accurate marking can be performed if the individual nozzles 126a do not accurately correspond to the position of the semiconductor chip. Can not.

【0055】通常、半導体チップの行間ピッチは、ノズ
ルピッチの整数倍ではないので、これら半導体チップの
行間ピッチ距離とノズルピッチの整数倍が一致すること
はないので、ノズル126aが半導体チップに位置的に
正確に対応せず、マーキングの位置が不良となってしま
う。
Normally, the pitch between rows of semiconductor chips is not an integral multiple of the nozzle pitch, so that the pitch distance between rows of these semiconductor chips does not coincide with the integral multiple of the nozzle pitch. Does not correspond accurately, and the position of the marking becomes defective.

【0056】そこで、これら半導体チップの行間ピッチ
の距離とノズルピッチの整数倍を一致させるために、図
2に示すように、インクジェットヘッド126を図にお
いて左右方向に対して、角度θだけ傾けて配置し、距離
を合わせているのである。そして、ノズルピッチの整数
倍に該当するノズル126aをそれぞれ半導体チップに
対応するように構成した。
In order to make the distance between the rows of these semiconductor chips equal to the integral multiple of the nozzle pitch, as shown in FIG. 2, the ink jet head 126 is arranged at an angle θ with respect to the left and right directions in the figure. And adjust the distance. The nozzles 126a corresponding to integral multiples of the nozzle pitch are each configured to correspond to a semiconductor chip.

【0057】例えば,ある整数倍のノズルチップに該当
するノズル126aを図2に示すように半導体チップの
行1に対応するノズル126aとし、次にある整数倍の
ノズル126aを半導体チップの行2に対応するノズル
126aとする。このように半導体チップの図において
縦方向の行数分だけノズル126aをそれぞれ配置し、
マーキングするようにした。
For example, as shown in FIG. 2, the nozzle 126a corresponding to a nozzle chip of a certain integral multiple is set as the nozzle 126a corresponding to the row 1 of the semiconductor chip, and the nozzle 126a of the next integral multiple is placed in the row 2 of the semiconductor chip. Let it be the corresponding nozzle 126a. In this manner, the nozzles 126a are arranged by the number of rows in the vertical direction in the drawing of the semiconductor chip,
Marking was done.

【0058】本実施の形態では、例えば、ヘッド角度割
り出し部125がインクジェットヘッド126を、回転
させ、角度θが例えば80.07度になるように調整さ
れている。この角度80.07度は、以下の式により求
められる。
In the present embodiment, for example, the head angle indexing unit 125 rotates the ink jet head 126 so that the angle θ is adjusted to, for example, 80.07 degrees. This angle 80.07 degrees is obtained by the following equation.

【0059】例えば半導体チップの行間ピッチを5m
m,ノズルピッチを141μmとした場合、5000
(半導体行間ピッチ)÷141(ノズルピッチ)=3
5.76(約36)ピッチとなり、θ(インクジェット
ヘッド126の角度)=sin−1(5000(半導体
行間ピッチ)/141(ノズルピッチ)×36(ピッ
チ))=80.07度となる。
For example, the pitch between rows of semiconductor chips is 5 m.
m, when the nozzle pitch is 141 μm, 5000
(Pitch between semiconductor rows) ÷ 141 (nozzle pitch) = 3
The pitch is 5.76 (approximately 36), and θ (the angle of the inkjet head 126) = sin-1 (5000 (pitch between semiconductor rows) / 141 (nozzle pitch) × 36 (pitch)) = 80.07 degrees.

【0060】このようにヘッド角度割り出し部125に
よって回転等するインクジェットヘッド126は、図1
及び図2に示すように横長の直方体を成し、その長辺
は、例えば半導体ウエハ200の直径よりも長く形成さ
れている。
The ink jet head 126 rotated and the like by the head angle indexing unit 125 as shown in FIG.
As shown in FIG. 2, a long rectangular parallelepiped is formed, and its long side is formed longer than the diameter of the semiconductor wafer 200, for example.

【0061】このように構成されるノズル126aとイ
ンクジェットヘッド126との関係を示したのが,図3
である。
FIG. 3 shows the relationship between the nozzle 126a and the ink jet head 126 thus configured.
It is.

【0062】図3に示すように、インクジェットヘッド
126は、その中にインクを収容するキャビテイ126
bを有している。このキャビティ126bの図において
左側には、壁126cが設けられ、図において上側には
振動板126bと圧電素子126eが重なり合うように
配置されている。
As shown in FIG. 3, the ink jet head 126 has a cavity 126 for containing ink therein.
b. A wall 126c is provided on the left side of the cavity 126b in the figure, and the diaphragm 126b and the piezoelectric element 126e are arranged on the upper side in the figure so as to overlap with each other.

【0063】この圧電素子126eに図示しない電源か
ら電圧が印加されると、このセラミック等からなる圧電
素子126eが変形し、この圧電素子126eの変形に
より、これと重なり合うように配置されている振動板1
26dも変形するようになっている。これら圧電素子1
26eと振動板126dの変形後の状態を示したのが図
の破線で示した変形後の圧電素子126e’と変形後の
振動板126d’である。
When a voltage is applied to the piezoelectric element 126e from a power supply (not shown), the piezoelectric element 126e made of ceramic or the like is deformed, and the diaphragm arranged so as to overlap with the piezoelectric element 126e is deformed by the deformation of the piezoelectric element 126e. 1
26d is also deformed. These piezoelectric elements 1
The deformed piezoelectric element 126e 'and the deformed diaphragm 126d' shown by broken lines in the figure show the deformed state of the diaphragm 26e and the diaphragm 126d.

【0064】一方、キャビティ126bの図において右
側には、供給口126fとリザーバ126gが設けられ
ている。
On the other hand, a supply port 126f and a reservoir 126g are provided on the right side in the drawing of the cavity 126b.

【0065】このように構成されているインクジェット
ヘッド126には、インクとしてUV硬化型インクや熱
硬化型インク等が用いられるが、より具体的には、帝国
インキ社製の「UV METインキ」を主原料として、
粘度を約10cPに設定した材料が用いられる。
For the ink jet head 126 having the above-described structure, UV curable ink, thermosetting ink, or the like is used as the ink. More specifically, “UV MET ink” manufactured by Teikoku Ink Co., Ltd. is used. As the main raw material,
A material whose viscosity is set to about 10 cP is used.

【0066】このようなインクを、インクジェットヘッ
ド126に用いると、インクはリザーバ126gとキャ
ビティ126b内に満たされることになる。この状態で
上述のように圧電素子126eに電圧が印加され、圧電
素子126eが変形し、振動板126bが変形すると、
キャビティ126b内の体積が減少し、圧力が発生す
る。
When such an ink is used for the ink jet head 126, the ink is filled in the reservoir 126g and the cavity 126b. In this state, when a voltage is applied to the piezoelectric element 126e as described above, the piezoelectric element 126e is deformed, and the diaphragm 126b is deformed,
The volume in the cavity 126b decreases, and pressure is generated.

【0067】この圧力により、キャビティ126内に満
たされたインクは開放口であるノズル126aや供給口
126fへ移動しようとする。しかし、供給口126f
側にはリザーバ126gがありインクが満たされてい
る。このため、インクはノズル126aの方向へ移動
し、図3に示すように、インク滴となってノズル126
aから吐出されることになる。
Due to this pressure, the ink filled in the cavity 126 tends to move to the nozzle 126a which is an open port or the supply port 126f. However, the supply port 126f
There is a reservoir 126g on the side, which is filled with ink. As a result, the ink moves in the direction of the nozzle 126a and, as shown in FIG.
a.

【0068】このように本実施の形態においては、イン
クジェットヘッド126からのインク滴の吐出によりマ
ーキングを行うため、従来のインカーと異なり非接触で
半導体ウエハ200の半導体チップにインクでマークを
付することができる。このインクの吐出量は、前記圧電
素子126eに対し印加される電圧をコンピュータ等で
制御することができる。すなわち、電圧の印加を調整す
ることで、圧電素子126eの変形を制御し、これによ
って吐出量を正確に制御することになる。
As described above, in the present embodiment, since the marking is performed by discharging the ink droplets from the ink jet head 126, unlike the conventional inker, it is necessary to mark the semiconductor chips of the semiconductor wafer 200 with ink without contact. Can be. The voltage applied to the piezoelectric element 126e can be controlled by a computer or the like with respect to the amount of ink discharged. That is, by adjusting the application of the voltage, the deformation of the piezoelectric element 126e is controlled, whereby the ejection amount is accurately controlled.

【0069】以上のようにインクジェットヘッド126
は、構成されているが、このインクジェットヘッド12
6でマーキングされる半導体ウエハ200を載置するテ
ーブル部は、例えば半導体ウエハ200を直接載置する
半導体ウエハ載置部129、Y軸テーブル127とX軸
テーブル128を有している。
As described above, the ink jet head 126
Is configured, but this inkjet head 12
The table section on which the semiconductor wafer 200 marked by 6 is mounted has, for example, a semiconductor wafer mounting section 129 on which the semiconductor wafer 200 is directly mounted, a Y-axis table 127 and an X-axis table 128.

【0070】この半導体ウエハ載置部129に、半導体
ウエハ200を載置するための所謂CCDカメラを用い
た画像処理によるアライメントにより正確に位置を決定
している。
The position is accurately determined by the alignment by image processing using a so-called CCD camera for mounting the semiconductor wafer 200 on the semiconductor wafer mounting portion 129.

【0071】また、この半導体ウエハ載置部129は、
図1に示すようにY軸テーブル127上に固定されてお
り、このY軸テーブル127の移動に伴って移動するよ
うになっている。
The semiconductor wafer mounting portion 129 is
As shown in FIG. 1, it is fixed on a Y-axis table 127, and moves with the movement of the Y-axis table 127.

【0072】このY軸テーブル127は、モータ等を有
しており、図1に示すXYテーブル制御部124からの
指示により、図1に示すY軸方向に移動するようになっ
ている。このY軸方向は、インクジェットヘッド126
が半導体ウエハ200に対してマーキングを行う方向で
あるX軸方向に直交する方向である。そして、このY軸
方向に移動するY軸テーブル127は、例えば改行ピッ
チであるインクドットピッチのために用いられる。
The Y-axis table 127 has a motor and the like, and moves in the Y-axis direction shown in FIG. 1 according to an instruction from the XY table control unit 124 shown in FIG. This Y-axis direction is
Is a direction orthogonal to the X-axis direction, which is the direction in which marking is performed on the semiconductor wafer 200. The Y-axis table 127 that moves in the Y-axis direction is used, for example, for an ink dot pitch that is a line feed pitch.

【0073】すなわち、図2に示すようにインクジェッ
トヘッド126のノズル126aで半導体ウエハ200
の半導体チップ上にインク滴が吐出され、マーキングが
なされることになるが、このマーキングは具体的には図
2に示すようにインクドットが4つで1つのマーキング
となる。このインクドットは、ノズル126aで一回イ
ンク滴を吐出させた状態を表すものであり、このインク
ドットを形成するためのインク滴を4回ノズル126a
から吐出するようになっている。
That is, as shown in FIG. 2, the semiconductor wafer 200 is
Ink droplets are ejected onto the semiconductor chip to perform marking. Specifically, this marking is one marking with four ink dots as shown in FIG. This ink dot represents a state in which an ink droplet is ejected once by the nozzle 126a, and an ink droplet for forming the ink dot is ejected four times by the nozzle 126a.
Is discharged from the nozzle.

【0074】そして、このインクドットはX軸方向の右
方向へ2回連続してマークされた後、図に示すインクド
ットピッチの分だけY軸テーブル127が移動し、ノズ
ル126aと半導体チップとの相対位置がインクドット
ピッチの分だけ変化することになる。
After the ink dots are continuously marked rightward in the X-axis direction twice, the Y-axis table 127 moves by the ink dot pitch shown in FIG. The relative position changes by the amount of the ink dot pitch.

【0075】そして、今度は逆に、X軸方向の左方向へ
2回連続してインクドットがマークされることになる。
このようにして、4つのインクドットが相互に近接して
マークされ、1つの半導体チップのマーキングが終了す
ることになる。
Then, conversely, ink dots are continuously marked twice to the left in the X-axis direction.
In this way, the four ink dots are marked close to each other, and the marking of one semiconductor chip is completed.

【0076】このように1つの半導体チップに対するマ
ーキングをするためには、インクドットピッチ分だけ移
動させる必要があり、このためY軸テーブル127が設
けられている。
In order to perform marking on one semiconductor chip in this way, it is necessary to move the semiconductor chip by an ink dot pitch. For this reason, a Y-axis table 127 is provided.

【0077】一方、X軸テーブル128も、モータ等を
有すると共に、XYテーブル制御部124の指示によ
り、図2のX軸方向に移動するようになっている。この
X軸テーブル128が移動すると、それに伴いその上の
Y軸テーブル127及び半導体ウエハ載置部129も同
様に移動するようになっている。
On the other hand, the X-axis table 128 also has a motor and the like, and moves in the X-axis direction in FIG. When the X-axis table 128 moves, the Y-axis table 127 and the semiconductor wafer mounting part 129 thereon move accordingly.

【0078】このX軸テーブル128は、半導体ウエハ
200の半導体チップ上を先ず、図2の左から右方向へ
移動し、ノズル126aからマーキングをすべき半導体
チップ上に連続してインクドットを2個マークすること
になる。その後、上述のY軸テーブル127でインクド
ットピッチ分だけY軸方向に移動した後、今度は図2の
右から左方向へX軸テーブル128が移動し、ノズル1
26aからマーキングをすべき半導体チップ上に連続し
てインクドットを2個マークすることになる。このと
き、後からマークするインクドットは、上述のように、
最初にマークしたインクドットの下側に接するように行
われることになる。
The X-axis table 128 first moves from left to right in FIG. 2 on the semiconductor chip of the semiconductor wafer 200, and continuously prints two ink dots on the semiconductor chip to be marked from the nozzle 126a. Will be marked. Then, after moving in the Y-axis direction by the ink dot pitch in the above-described Y-axis table 127, the X-axis table 128 moves from right to left in FIG.
Two ink dots are continuously marked on the semiconductor chip to be marked from 26a. At this time, the ink dots to be marked later are, as described above,
This is performed so as to be in contact with the lower side of the first marked ink dot.

【0079】本実施の形態に係る半導体検査装置100
は、以上のように構成されており、以下のように動作等
する。
Semiconductor inspection apparatus 100 according to the present embodiment
Is configured as described above, and operates as follows.

【0080】先ず、検査対象となる半導体ウエハ200
を図1のテスター装置110に装着し、このテスター装
置110に備えられているプローブカードを個々の半導
体チップの電極に対して当接させ、上述のように半導体
チップを個々に検査し、個々の半導体チップが良品か否
かを判断する。
First, the semiconductor wafer 200 to be inspected is
Is mounted on the tester device 110 of FIG. 1, the probe card provided in the tester device 110 is brought into contact with the electrodes of the individual semiconductor chips, and the semiconductor chips are individually inspected as described above, and the individual It is determined whether the semiconductor chip is non-defective.

【0081】このように検査された個々の半導体チップ
は、その良品の半導体チップと不良品の半導体チップの
位置が半導体ウエハ200上の例えばXY座標で示さ
れ、検査データとされる。
The positions of non-defective semiconductor chips and defective semiconductor chips thus inspected are indicated by, for example, XY coordinates on the semiconductor wafer 200, and are used as inspection data.

【0082】この検査データは、図1に示すようにマー
キング装置120内のデータ管理部121にネットワー
クで送信され、格納される。
The inspection data is transmitted to the data management unit 121 in the marking device 120 via a network and stored as shown in FIG.

【0083】次に、前記テスター装置110に装着した
半導体ウエハ200を、マーキング装置120内の半導
体ウエハ載置部129に装着する。その後、データ管理
部121内に格納されている半導体チップの良品、不良
品の情報に基づき制御部122を介し、インクジェット
ヘッド制御部123とXYテーブル制御部124を駆動
する。
Next, the semiconductor wafer 200 mounted on the tester device 110 is mounted on the semiconductor wafer mounting portion 129 in the marking device 120. Thereafter, the control unit 122 drives the inkjet head control unit 123 and the XY table control unit 124 based on the information on the non-defective and defective semiconductor chips stored in the data management unit 121.

【0084】具体的には、先ず、半導体ウエハ200の
行間ピッチが、例えば5mmであるというデータとマー
キング装置120のインクジェットヘッド126のノズ
ルピッチが例えば141μmであるというデータに基づ
き、インクジェトヘッド126の図2におけるX軸方向
に対する角度θを上述の計算式により定め、例えば8
0.07度とする。
More specifically, based on the data that the line pitch of the semiconductor wafer 200 is, for example, 5 mm and the data that the nozzle pitch of the ink jet head 126 of the marking device 120 is, for example, 141 μm, The angle θ with respect to the X-axis direction in 2 is determined by the above-described calculation formula, and for example, 8
0.07 degrees.

【0085】この角度80.07度になるようにヘッド
角度取割り出し部125を動作させ、インクジェットヘ
ッド126を動かし、角度を80.07度とする。
The head angle indexing section 125 is operated so that the angle becomes 80.07 degrees, and the ink jet head 126 is moved to set the angle to 80.07 degrees.

【0086】次に、図2に示すようにインクジェットヘ
ッド126のノズル126aのうち半導体ウエハ200
の半導体チップの行に対応するノズル126aを、それ
ぞれ対応する位置になるようにX軸テーブル128やY
軸テーブル127を動かし、調整する。すなわち、行1
をマークするノズル126aや行2をマークするノズル
126a等をそれぞれ、それらの行に対応する位置にな
るように調整することになる。
Next, as shown in FIG. 2, the semiconductor wafer 200 out of the nozzles 126a of the ink jet head 126 is
The nozzles 126a corresponding to the rows of the semiconductor chips of the X-axis table 128 and the Y-axis
The axis table 127 is moved and adjusted. That is, row 1
The nozzles 126a for marking, the nozzles 126a for marking row 2 and the like are adjusted to be at positions corresponding to those rows.

【0087】次にデータ管理部121にある半導体チッ
プの良・不良のXY座標データに基づき、インクジェッ
トヘッド126のそれぞれ半導体ウエハ200の行に対
応するノズル126aを動作させ、インクを吐出するこ
とになる。
Next, based on the good / bad XY coordinate data of the semiconductor chip in the data management section 121, the nozzles 126a of the ink jet head 126 corresponding to the rows of the semiconductor wafer 200 are operated to discharge ink. .

【0088】このとき、インクジェットヘッド126
が,半導体ウエハ200上を図2の右から左側に通過す
るように、X軸テーブル128を動かし、前記半導体ウ
エハ200の行に対応するノズル126aが、データ管
理部121にある半導体チップの不良のXY座標データ
上に達したときに、インク滴を連続して2回吐出して、
図2に示すようにインクドットを横方向に2つ形成する
ことになる。
At this time, the ink jet head 126
The X-axis table 128 is moved so that the nozzle passes through the semiconductor wafer 200 from right to left in FIG. 2, and the nozzle 126 a corresponding to the row of the semiconductor wafer 200 detects a defective semiconductor chip in the data management unit 121. When the ink reaches the XY coordinate data, the ink droplet is continuously ejected twice,
As shown in FIG. 2, two ink dots are formed in the horizontal direction.

【0089】このようにして、半導体ウエハ200の半
導体チップの行について、インクジェットヘッド126
が通過すると、次にY軸テーブル127を図2のインク
ドットピッチ( 改行ピッチ)分だけ、移動させる。
In this manner, for the rows of the semiconductor chips on the semiconductor wafer 200, the ink jet head 126
Then, the Y-axis table 127 is moved by the ink dot pitch (line feed pitch) in FIG.

【0090】そして、X軸テーブル128を、今度は図
2の右から左方向に移動させ、上述の左から右方向へ移
動した際にインクドットを形成した半導体チップ上に、
インクを吐出して、インクドットを2個形成することに
なる。
Then, the X-axis table 128 is moved from the right to the left in FIG. 2 and, when the X-axis table 128 is moved from the left to the right in FIG.
The ink is ejected to form two ink dots.

【0091】このとき、後から形成されるインクドット
は、前に形成されたインクドットの下側に図2に示すよ
うに形成される。
At this time, the ink dots formed later are formed below the previously formed ink dots as shown in FIG.

【0092】このように形成された4個のインクドット
により1つの不良マークが形成され、この不良マークを
図示しない光学装置等で検出することで、半導体ウエハ
200上の不良の半導体チップを容易に識別することが
できることになる。
One defective mark is formed by the four ink dots thus formed, and the defective mark is detected by an optical device or the like (not shown) so that a defective semiconductor chip on the semiconductor wafer 200 can be easily detected. It will be able to identify.

【0093】ところで、X軸テーブル128が、図2に
おいて右から左方向へ移動し、半導体ウエハ200の不
良半導体チップのすべてに不良マークを付すと一連の動
作は終了し、半導体ウエハ200を半導体ウエハ載置部
129から取り出し、図示しない分離装置で半導体チッ
プ毎に分離することになる。
By the way, when the X-axis table 128 moves from right to left in FIG. 2 and marks all the defective semiconductor chips on the semiconductor wafer 200 as defective, a series of operations is completed, and the semiconductor wafer 200 is transferred to the semiconductor wafer 200. The semiconductor chip is taken out from the mounting portion 129 and separated into semiconductor chips by a separating device (not shown).

【0094】このとき、前記の光学装置等で不良半導体
チップを識別し、良品の半導体チップのみを例えば集積
回路等に組み込むことになる。
At this time, the defective semiconductor chip is identified by the optical device or the like, and only a good semiconductor chip is incorporated into, for example, an integrated circuit.

【0095】以上のように本実施の形態によれば、半導
体チップの不良マークを、電圧で微調整可能な圧電素子
126eの変形によるノズル126aからのインク滴の
吐出により行い,且つノズル126aが半導体チップの
表面に接触することがないので、不良マークの大きさを
常に均一とすることができ、後工程での不良マークの認
識を容易にすることができる。
As described above, according to the present embodiment, the defective mark of the semiconductor chip is formed by discharging the ink droplet from the nozzle 126a due to the deformation of the piezoelectric element 126e which can be finely adjusted by the voltage, and the nozzle 126a Since there is no contact with the surface of the chip, the size of the defective mark can always be made uniform, and the recognition of the defective mark in a subsequent process can be facilitated.

【0096】また、不良マークは、複数、例えば4つの
インクドットから形成されるため、不良マークのサイズ
を任意に調整することが可能となる。したがって、不良
マークに求められる直径200乃至600μmで±50
μm,厚みは30μm以内(目標25μm以内)の基準
を容易に満たすことができる。
Further, the defective mark is formed from a plurality of, for example, four ink dots, so that the size of the defective mark can be arbitrarily adjusted. Therefore, when the diameter required for the defective mark is 200 to 600 μm, ± 50
The standard of μm and thickness of 30 μm or less (target of 25 μm or less) can be easily satisfied.

【0097】また、本実施の形態では、不良マークをイ
ンクドット4個により形成しているが、これ以外の文字
や記号、もしくは図形を半導体チップ上に形成すること
も可能である。
Further, in this embodiment, the defective mark is formed by four ink dots. However, other characters, symbols, or figures can be formed on the semiconductor chip.

【0098】また、本実施の形態においては、X軸テー
ブル128とY軸テーブル127を半導体ウエハ載置部
129側に形成したが、これに限らず、これらX軸テー
ブル128とY軸テーブル127をインクジェットヘッ
ド126側に取り付けてもよい。さらに、これらX軸テ
ーブル128とY軸テーブル127のいずれかを半導体
ウエハ載置部側に形成し、他方をインクジェットヘッド
126側に形成することもできる。
Further, in the present embodiment, the X-axis table 128 and the Y-axis table 127 are formed on the side of the semiconductor wafer mounting portion 129. However, the present invention is not limited to this. It may be attached to the inkjet head 126 side. Further, one of the X-axis table 128 and the Y-axis table 127 can be formed on the semiconductor wafer mounting portion side, and the other can be formed on the inkjet head 126 side.

【0099】(第2の実施の形態)図4は、本発明に係
る第2の実施の形態に係る半導体検査装置の要部を示す
図である。本実施の形態の半導体検査装置の構成は、上
述の第1の実施の形態の構成と略同様であるため、以下
第1の実施の形態との相違点を中心に説明する。
(Second Embodiment) FIG. 4 is a diagram showing a main part of a semiconductor inspection apparatus according to a second embodiment of the present invention. Since the configuration of the semiconductor inspection apparatus of the present embodiment is substantially the same as the configuration of the above-described first embodiment, the following description will focus on the differences from the first embodiment.

【0100】本実施の形態においては、ヘッドユニット
226の構成が第1の実施の形態と異なる。すなわち、
第1の実施の形態のインクジェットヘッド126には、
半導体ウエハ200側に一定のノズルピッチでノズル1
26aが配置されていたが、本実施の形態ではヘッドユ
ニット226に、インクジェトヘッド226hが設けら
れ、このインクジェトヘッド226hにノズル126a
が設けられている。
In this embodiment, the configuration of the head unit 226 is different from that of the first embodiment. That is,
In the inkjet head 126 according to the first embodiment,
Nozzle 1 at a constant nozzle pitch on semiconductor wafer 200 side
In this embodiment, an ink jet head 226h is provided in the head unit 226, and the nozzle 126a is provided in the ink head 226h.
Is provided.

【0101】すなわち、本実施の形態では、第1の実施
の形態のようにマーキング装置120用の特別にノズル
126aが多く配置されているインクジェトヘッド12
6を形成せず、既存の例えばプリンタのインクジェトヘ
ッド226hを用いるものである。
That is, in this embodiment, as in the first embodiment, the ink jet head 12 in which many nozzles 126a are specially arranged for the marking device 120 is provided.
6, without using an existing ink jet head 226h of a printer, for example.

【0102】このため、図4に示すようにヘッドユニッ
ト226には、一定の間隔を空けてインクジェットヘッ
ド226hが配置されている。
For this reason, as shown in FIG. 4, the ink jet heads 226h are arranged at regular intervals in the head unit 226.

【0103】この間隔は図4に示すように、インクジェ
ットヘッド226h相互間の間隔は、図4に示すよう
に、インクジェットヘッド226hのノズル226aの
両端部間の長さAとなっており、このように配置するこ
とで、不連続に例えば3つ配置されているインクジェッ
トヘッド226hのノズル226aのノズルピッチが整
数倍に形成されることになる。
As shown in FIG. 4, the interval between the ink jet heads 226h is, as shown in FIG. 4, a length A between both ends of the nozzle 226a of the ink jet head 226h. , The nozzle pitch of the nozzles 226a of the discontinuously arranged, for example, three inkjet heads 226h is formed to be an integral multiple.

【0104】このように形成されたヘッドユニット22
6を、第1の実施の形態のインクジェットヘッド126
の代わりにヘッド角度割り出し部125に装着する。そ
して、第1の実施の形態と同様に、ヘッドユニット22
6をX軸方向に対して角度θ、たとえば80.07度傾
けて、半導体ウエハ200上を相対的に移動するように
X軸テーブル127を移動させる。
The head unit 22 thus formed
6 with the inkjet head 126 of the first embodiment.
Is mounted on the head angle indexing unit 125 in place of. Then, similarly to the first embodiment, the head unit 22
6 is tilted with respect to the X-axis direction by an angle θ, for example, 80.07 degrees, and the X-axis table 127 is moved so as to relatively move on the semiconductor wafer 200.

【0105】このヘッドユニット226が、半導体ウエ
ハ200の半導体チップ上にインクドットを形成する工
程は、上述の第1の実施の形態と同様である。しかし、
第1の実施の形態と異なるのは、図6に示すように,Y
軸方向の移動が、インクドットピッチ( 改行ピッチ
(1))の移動だけでなく、改行ピッチ(2)の移動も
含まれる点である。
The process by which the head unit 226 forms the ink dots on the semiconductor chips of the semiconductor wafer 200 is the same as in the first embodiment. But,
The difference from the first embodiment is that, as shown in FIG.
The movement in the axial direction includes not only the movement of the ink dot pitch (line feed pitch (1)) but also the movement of the line feed pitch (2).

【0106】すなわち、図6に示すように先ずマーキ
ング、改行ピッチ(1)及びマーキングで、特定の
半導体チップの行、例えば行1、2、5及び6に不良マ
ークを形成し終わったら、図5及び図6に示す改行ピ
ッチ(2)を行う。
That is, as shown in FIG. 6, first, after forming a defective mark on a specific semiconductor chip row, for example, rows 1, 2, 5 and 6, by marking, line feed pitch (1) and marking, FIG. And a line feed pitch (2) shown in FIG.

【0107】この改行ピッチ(2)で、不良マークを
付していない行3、4 、7 及び8にマーキングを行う
ため、図6に示すマーキング、改行ピッチ(1)及
びマーキングを行う。
At this line feed pitch (2), marking, line feed pitch (1) and marking shown in FIG. 6 are performed in order to perform marking on lines 3, 4, 7, and 8, which are not marked with a defect mark.

【0108】この動作をX軸テーブル128とY軸テー
ブル127を移動させて必要回数行い、半導体ウエハ2
00の半導体チップに対する不良マークのマーキングを
終了する。
This operation is performed the required number of times by moving the X-axis table 128 and the Y-axis table 127,
The marking of the defective mark on the semiconductor chip of No. 00 is completed.

【0109】以上のように本実施の形態によれば、特別
なインクジェットヘッド126を設けることなく、ヘッ
ドユニット226に、既存のプリンタ等のインジェット
ヘッド226hを取り付けることで、均一な不良マーク
を形成することができるマーキング装置を有する半導体
検査装置を提供することができる。
As described above, according to the present embodiment, a uniform defective mark can be formed by attaching an ink jet head 226h of an existing printer or the like to the head unit 226 without providing a special ink jet head 126. A semiconductor inspection device having a marking device capable of performing the above can be provided.

【0110】[0110]

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、半
導体ウエハに、均一のマーキング跡を容易且つ安定的に
形成できる半導体ウエハのマーキング装置及びこれを有
する半導体検査装置を提供することができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a semiconductor wafer marking apparatus capable of easily and stably forming uniform marking marks on a semiconductor wafer and a semiconductor inspection apparatus having the same. it can.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態に係る半導体検査装
置の概要をしめす概略図である。
FIG. 1 is a schematic view showing an outline of a semiconductor inspection device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1のインクジェットヘッドと半導体ウエハと
の関係を示す概略図である。
FIG. 2 is a schematic diagram showing a relationship between the ink jet head of FIG. 1 and a semiconductor wafer.

【図3】図1のインクジェットヘッドの構成を示した概
略断面図である。
FIG. 3 is a schematic sectional view showing the configuration of the ink jet head of FIG.

【図4】本発明の第2の実施の形態に係る半導体装置の
ヘッドユニットとインクジェットヘッドとの関係を示し
た概略図である。
FIG. 4 is a schematic diagram showing a relationship between a head unit and an inkjet head of a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention.

【図5】図4のインクジェットヘッドと半導体ウエハと
の関係を示す概略図である。
FIG. 5 is a schematic diagram showing a relationship between the ink jet head of FIG. 4 and a semiconductor wafer.

【図6】図5のインクジェットヘッドと半導体ウエハに
対する動き示す説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram showing movement of the ink jet head and the semiconductor wafer of FIG. 5;

【図7】従来のマーキング装置を示す概略図である。FIG. 7 is a schematic view showing a conventional marking device.

【図8】図7のマーキング装置でマーキングされた半導
体ウエハを示す概略図である。
FIG. 8 is a schematic diagram showing a semiconductor wafer marked by the marking device of FIG. 7;

【図9】図7のインカーの要部を示した概略断面図であ
る。
FIG. 9 is a schematic sectional view showing a main part of the inker of FIG. 7;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100・・・半導体検査装置 110・・・テスター装置 120・・・マーキング装置 121・・・データ管理部 122・・・制御部 123・・・インクジェットヘッド制御部 124・・・XYテーブル制御部 125・・・ヘッド角度割り出し部 126・・・インクジェットヘッド 127・・・Y軸テーブル 128・・・X軸テーブル 129・・・半導体ウエハ載置部 200・・・半導体ウエハ 226・・・ヘッドユニット Reference Signs List 100 semiconductor inspection device 110 tester device 120 marking device 121 data management unit 122 control unit 123 inkjet head control unit 124 XY table control unit 125 ..Head angle indexing unit 126 ... Inkjet head 127 ... Y-axis table 128 ... X-axis table 129 ... Semiconductor wafer mounting unit 200 ... Semiconductor wafer 226 ... Head unit

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体ウエハに対して非接触でマーキン
グ用液体を吐出させる液体吐出用ヘッドと、 この液体吐出用ヘッドの動作を制御するヘッド制御部
と、を有することを特徴とする半導体ウエハのマーキン
グ装置。
1. A liquid discharge head comprising: a liquid discharge head for discharging a marking liquid in a non-contact manner with respect to a semiconductor wafer; and a head control unit for controlling an operation of the liquid discharge head. Marking device.
【請求項2】 前記半導体ウエハを載置するためのテー
ブル部が設けられていることを特徴とする請求項1に記
載の半導体ウエハのマーキング装置。
2. The apparatus for marking a semiconductor wafer according to claim 1, further comprising a table on which the semiconductor wafer is placed.
【請求項3】 前記テーブル部が、半導体ウエハの面方
向における平面座標系において直交するX軸及びY軸に
対応して、X軸テーブルとY軸テーブルを、それぞれ別
個に有していることを特徴とする請求項2に記載の半導
体ウエハのマーキング装置。
3. An X-axis table and a Y-axis table respectively corresponding to an X-axis and a Y-axis orthogonal to each other in a plane coordinate system in a plane direction of a semiconductor wafer. 3. The apparatus for marking a semiconductor wafer according to claim 2, wherein:
【請求項4】 前記X軸テーブル又は/及び前記Y軸テ
ーブルが、前記液体吐出用ヘッド側に設けられているこ
とを特徴とする請求項3に記載の半導体ウエハのマーキ
ング装置。
4. The apparatus for marking a semiconductor wafer according to claim 3, wherein the X-axis table and / or the Y-axis table are provided on the liquid ejection head side.
【請求項5】 前記ヘッド制御部は、前記液体吐出用ヘ
ッドが、その移動方向に関して一定の傾きを保持するよ
うに制御する構成となっていることを特徴とする請求項
3又は請求項4に記載の半導体ウエハのマーキング装
置。
5. The liquid ejection head according to claim 3, wherein the head control unit controls the liquid ejection head to maintain a constant inclination with respect to a moving direction of the liquid ejection head. A marking device for a semiconductor wafer as described in the above.
【請求項6】 前記液体吐出用ヘッドが、インクをノズ
ルから吐出するインクジェットヘッドであることを特徴
とする請求項1乃至請求項5に記載の半導体ウエハのマ
ーキング装置。
6. The semiconductor wafer marking apparatus according to claim 1, wherein the liquid discharge head is an ink jet head that discharges ink from nozzles.
【請求項7】 前記インクジェットヘッドのノズル間の
ノズルチップと前記半導体チップ間の行間ピッチを、一
致させるためのヘッド角度調整部が設けられていること
を特徴とする請求項6に記載の半導体ウエハのマーキン
グ装置。
7. The semiconductor wafer according to claim 6, further comprising a head angle adjusting unit for matching a nozzle pitch between nozzles of the inkjet head and a row pitch between the semiconductor chips. Marking device.
【請求項8】 前記インクジェットヘッドの前記ノズル
が配置されている部分の長手方向の長さが、前記半導体
ウエハの半導体チップが設けられている部分の径方向の
長さと同一もしくはより長く形成されていることを特徴
とする請求項6又は請求項7に記載の半導体ウエハのマ
ーキング装置。
8. The ink jet head according to claim 1, wherein a length in a longitudinal direction of a portion where the nozzle is disposed is equal to or longer than a radial length of a portion of the semiconductor wafer on which the semiconductor chip is provided. The marking device for a semiconductor wafer according to claim 6 or 7, wherein:
【請求項9】 前記インクジェットヘッドで、前記半導
体ウエハ上に文字、記号又は図形を形成する構成となっ
ていることを特徴とする請求項6乃至請求項8のいずれ
かに記載の半導体ウエハのマーキング装置。
9. The marking of a semiconductor wafer according to claim 6, wherein a character, a symbol or a figure is formed on said semiconductor wafer by said ink jet head. apparatus.
【請求項10】 前記インクジェットヘッドが複数個、
ヘッドユニットに配置されていることを特徴とする請求
項6又は請求項7に記載の半導体ウエハのマーキング装
置。
10. The ink jet head according to claim 8, wherein:
8. The apparatus for marking a semiconductor wafer according to claim 6, wherein the apparatus is arranged in a head unit.
【請求項11】 請求項1乃至請求項10のいずれかに
記載の半導体ウエハのマーキング装置を有する半導体検
査装置。
11. A semiconductor inspection apparatus having the semiconductor wafer marking apparatus according to claim 1. Description:
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2018194378A (en) * 2017-05-16 2018-12-06 三菱電機株式会社 Device for detecting abnormal part of wafer and method for specifying abnormal part of wafer

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