JP2001264231A - 走査型acホール顕微鏡とその測定方法 - Google Patents
走査型acホール顕微鏡とその測定方法Info
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Abstract
ターンの測定する用法を提供すること。 【解決手段】 磁性材料には磁気格納媒体などがあり、
外部から加えられたAC磁界の影響下で、領域境界の振
動運動を測定することにより領域パターンが測定され
る。これにより、不動の領域と可動の領域との区別が可
能になる。
Description
ホール顕微鏡に関する。より詳細には、不動の領域と可
動の領域との区別を可能にする外部から加えられたAC
磁界の影響下で、領域境界の振動運動を測定することに
より、磁性材料の領域パターンを測定する走査型ACホ
ール顕微鏡に関する。
および技術は、この10年間に急速的に進歩した。とり
わけ、システムの磁気特性の空間画像を提供する走査型
磁気顕微鏡検査法のサブフィールドの研究が行われてい
る。現在4つの異なるタイプの磁気顕微鏡が使用されて
おり、SQUID顕微鏡と、磁力顕微鏡と、磁気抵抗顕
微鏡と、ホール顕微鏡である。
第1の目的は、走査型ACホール顕微鏡を提供すること
である。
ル顕微鏡は、不動の領域と可動の領域との区別を可能に
する、外部から加えられたAC磁界の影響下で、領域境
界の振動運動を測定することにより、磁性材料の領域パ
ターンを測定する走査型ACホール顕微鏡であって、 a.一定のDC磁界H0を磁性材料試料に加えるための
手段と、 b.磁性材料試料から見た正味の磁界H(t)が、 H(t)=H0+Haccos(ωt) となるように、交番AC磁界Hacを磁性材料試料にさら
に加えるための手段と、 c.試料がホールセンサで走査されたときに、磁性材料
試料のAC応答の空間画像を検出するための手段とを備
える。
界Bacの振幅および位相差φを検出するための手段を含
む、こととしてもよい。
いたロックイン増幅器を含むこととしてもよい。
え付けられており、ホールセンサから見た磁束密度が、
関係式 B=H(1+4πχ) によって磁化率中に試料の磁気応答を組み込み、正味の
磁束密度が B(t)=B0+Baccos(ωt+φ) で与えられる、こととしてもよい。
C散逸をマッピングするために、検出手段が、駆動AC
界に対して移動領域の局所的位相差を測定する、ことと
してもよい。
の顕微鏡段に取り付けられた金属コイルの上に配置され
ており、金属コイル中に交流電流を加えることにより交
番(AC)磁界が加えられる、こととしてもよい。
結されているピエゾ抵抗素子である可撓性のカンチレバ
ー上に据え付けられており、ホールセンサが試料に接触
したとき、カンチレバーの抵抗が、その曲がりに応答し
て変化する、こととしてもよい。
サによる磁界の分布の撮像と同時に、試料のトポグラフ
ィが、ホールセンサを走査することにより測定される、
こととしてもよい。
センブリが、2次元の並進移動を提供するバイモルフ板
ベースのxおよびyピエゾスキャナ上に据え付けられて
おり、試料ホルダを有するZ−ピエゾ−トランスレータ
が、スキャナに対向して据え付けられており、金属コイ
ルが試料ホルダに取り付けられ、試料が試料ホルダ上に
据え付けられており、金属コイルが、その中心がz軸に
沿ってホールセンサと位置合わせされるように配置され
ている、こととしてもよい。
−ピエゾ−トランスレータに電圧を加えることにより達
成され、ホールセンサと試料の接触が、カンチレバーの
抵抗の変化をモニタすることにより検出され、カンチレ
バー抵抗をモニタする間、走査面が、スキャナの電圧に
比例する補償電圧をZ−ピエゾ−トランスレータに加え
ることにより、試料の表面と位置合わせされており、位
置合わせ終了後、電子フィードバックシステムが、走査
の間、カンチレバーが一定の曲がりを維持するモードと
し、このモードで、フィードバック信号の状態にあるト
ポグラフィのデータと磁気情報の両方が同時に獲得され
る、こととしてもよい。
法は、不動の領域と可動の領域との区別を可能にする、
外部から加えられたAC磁界の影響下で、領域境界の振
動運動を測定することにより、磁性材料の領域パターン
を測定する走査型ACホール顕微鏡の測定方法であっ
て、 a.一定のDC磁界H0を磁性材料試料に加えるステッ
プと、 b.磁性材料試料から見た正味の磁界H(t)が、 H(t)=H0+Haccos(ωt) となるように、交番AC磁界Hacを磁性材料試料にさら
に加えるステップと、 c.試料がホールセンサで走査されたときに、磁性材料
試料のAC応答の空間画像を検出するステップとを備え
る。
界Bacの振幅および位相差φを検出するステップを含
む、こととしてもよい。
を用いたロックイン増幅器によって実施される、ことと
してもよい。
対側でホールセンサから見た磁束密度を検出し、正味の
密度が、 B(t)=B0+Baccos(ωt+φ) によって与えられる、こととしてもよい。
領域から分離されたN極の領域に分割されており、検出
ステップが、可動(弱く固定された)領域に対する不動
(強く固定された)領域のコントラスト地図を提供し、
これがN極からS極、またはその逆の領域の切り替えの
容易度または難易度を表す、こととしてもよい。
の磁性材料においてAC散逸をマッピングするために、
駆動AC界に対する移動領域の局所的位相差を測定す
る、こととしてもよい。
の顕微鏡段に取り付けられた金属コイルの上に配置され
ており、金属コイル中に交流電流(AC)を加えること
により交番(AC)磁界が加えられる、こととしてもよ
い。
結されているピエゾ抵抗素子である可撓性のカンチレバ
ー上に据え付けられており、ホールセンサが試料に接触
したとき、カンチレバーの抵抗が、その曲がりに応答し
て変化する、こととしてもよい。
による磁界の分布の撮像と同時に、試料のトポグラフィ
が、ホールセンサを走査することにより測定される、こ
ととしてもよい。
アセンブリが、2次元並進運動を提供する、バイモルフ
板ベースのxおよびyピエゾスキャナ上に据え付けられ
ており、試料ホルダを有するZ−ピエゾ−トランスレー
タが、スキャナに対向して取り付けられていて、金属コ
イルがホルダに取り付けられ、試料がホルダに据え付け
られており、金属コイルが、その中心がz軸に沿ってホ
ールセンサと位置合わせされるように配置されている、
こととしてもよい。
−ピエゾ−トランスレータに電圧を加えることにより達
成され、ホールセンサと試料の接触が、カンチレバーの
抵抗の変化をモニタすることにより検出され、カンチレ
バー抵抗をモニタする間、走査板が、スキャナの電圧に
比例する補償電圧をZ−ピエゾ−トランスレータに加え
ることにより、試料の表面と位置合わせされており、位
置合わせ終了後、電子フィードバックシステムが、走査
の間、カンチレバーが一定の曲がりを維持するモードと
し、このモードで、フィードバック信号のトポグラフィ
のデータと磁気情報の両方が同時に獲得される、ことと
してもよい。
域との区別を可能にする外部から加えられたAC磁界の
影響下で、領域境界の振動運動を測定することにより、
磁性材料の領域パターンを測定する走査型ACホール顕
微鏡およびその動作方法を提供する。磁性材料試料から
見た正味の磁界H(t)が、 H(t)=H0+Haccos(ωt) となるように、一定のDC磁界H0と交番AC磁界Hac
を磁性材料試料に加える。磁性材料試料のAC応答の空
間画像は、試料がホールセンサで走査されたときに、振
動界Bacの振幅および位相差φを検出することにより検
出される。
する本発明の利点は、いくつかの好ましい実施形態に関
する下記の詳細な説明を参照することにより、当業者に
はさらに容易に理解されるであろう。これらの実施形態
は、添付の図に関連して取り入れたものであり、図を通
して同じ要素には同一の参照番号を付けている。
顕微鏡で一般に実施されているように、磁性材料の領域
パターンの測定を可能にする走査型ACホール顕微鏡に
関する。さらに本発明は、外部から加えられた振動AC
磁界の影響下で、磁性材料の領域境界の振動運動を一意
に測定することを可能にする。このAC応答の空間画像
は、不動の領域と可動の領域との区別を可能にする。駆
動AC界に対する移動領域の局所的位相差を測定するこ
とにより、顕微鏡スケール上の磁性材料にAC散逸を位
置づけることができる。磁気領域の固定および非散逸の
転換は、格納媒体およびAC磁気装置の応用に不可欠な
ので、本発明は磁性材料の診断研究に進歩をもたらすも
のである。
る。この技術により、材料をz軸方向の磁界の中に置
き、電流をx軸方向に向けるとき、材料は、ホール電圧
として知られているy軸方向の横電圧を生じる。定常状
態にあるこの電圧により、平衡状態にある磁界内の電子
の横方向のドリフトを測定する。ホール電圧Eyは、次
式で与えられる。
り、nはその密度である。ホール係数は、RH=1/n
eである。したがってホール電圧は、キャリアから見た
界の測定である。実際には、操作する対象物は、大きな
RHの値を有する半金属または半導体である。空間領域
にわたって走査され、したがって観測した局所的磁界の
空間地図をもたらす。文献[A.M.Changet al.,Applied
Physics Letters,61,1974(1992),A.Oral et al.,Applie
d PhysicsLetters,69 1324(1996)]に報告されているよ
うに、多くのホール顕微鏡の実装方法がある。
を提供する。磁石を走査するとき、局所的磁気極性、た
とえば空間におけるN極およびS極を提供する。多くの
磁石に対しては、試料は、N極とS極を分離している領
域壁で、S極の領域から分離されているN極の領域に分
割される。標準走査画像は、走査時間にわたって平均し
たこれらの領域の静的な像を提供する。領域が可動で走
査中に移動する場合には、運動により、当然、画像はぼ
やける。これらの画像は、可動である領域と可動でない
領域について何ら情報を提供しない。しかし、磁気格納
媒体の有用性について鍵となる問題は、データが格納さ
れることになる領域の切替え可能性に関するものであ
る。したがって、領域の切替え、たとえば、N極からS
極、または、その逆のような切替えの容易度または難易
度を知る必要がある。本発明の顕微鏡は、可動(弱い固
定)領域に対する不動(強い固定)領域の対照的(コン
トラスト)な地図を提供する。したがってこの技術は、
たとえば磁気格納媒体の有用性の診断評価において、新
しく非常に有用なツールを提供する。
属コイル10が顕微鏡段に取り付けられ、その金属コイ
ル10の上に調査することになる試料12が置かれてい
る。通常、本発明によるホール顕微鏡でソレノイドによ
り加えられる一定のDC磁界H0の他に、金属コイル1
0中に交流電流による交番(AC)磁界Hacが加えられ
る。したがって、正味の磁界H(t)は次式のようにな
る。
磁束密度Bは、次の関係式 B=H(1+4πχ) (3) によって磁化率中に試料の磁気応答を組み込んでいる。
正味の磁束密度Bは次式で与えられる。
る局所的ホール電圧をもたらす。
(1)一定の磁界B0と、(2)振動界Bacの振幅と、
(3)位相差φの3つの量を検出する。後者2つのプロ
ットは、標準の電子回路に追加された標準位相感知検出
回路を用いたロックイン増幅器により検出することがで
き、本発明の測定器の新しい態様である。
微鏡の構造を示す図である。この測定器は、下記のよう
にいくつかのサブセクションに分割することができる。
ー・アセンブリ (2)走査部分(XYZピエゾ) (3)試料ステージ (4)AC磁界コイル (5)(a)標準顕微鏡検査法用の電子検出システム (b)走査型AC磁化率法用の電子検出システム 装置の中央部分は、フォトリソグラフィによって用意さ
れる、1μmの作動エリアを有する2DEG(2次元電
子ガス)ホールセンサ14である。ホールセンサ14
は、可撓性チタニウムのレバー16に上に据え付けられ
ており、レバー16は、ホールセンサ14のチップの角
が試料12と接触したときに曲げられる。ピエゾ抵抗素
子であるカンチレバー18は市販品を利用可能であり、
ホールセンサ14の機械的なガラスファイバーのジョイ
ント20により、ホールセンサ14に連結されている。
したがって、カンチレバー18は、レバー16の曲がり
に応答して変化することになる。このアセンブリによ
り、試料12との接触による、ホールセンサ14の変位
を検出することが可能になる。
ポグラフィは、ホールセンサ14による磁界の分布の撮
像と同時に、ホールセンサ14の角を走査することによ
り測定することができる。ホール・バー−カンチレバー
・アセンブリを構成する、ホールセンサ14、レバー1
6、カンチレバー18、ジョイント20は、x−ピエゾ
スキャナ22とy−ピエゾスキャナ24からなるバイモ
ルフ板ベースのピエゾスキャナの上に据え付けられてお
り、これは約150μmの範囲で2次元(2D)並進運
動を提供する。試料ホルダ28を有するZ−ピエゾ−ト
ランスレータ26は、x−ピエゾスキャナ22とy−ピ
エゾスキャナ24に対向して据え付けられている。小さ
な銅の金属コイル10が試料ホルダ28に取り付けられ
ており、試料12は、試料ホルダ28の上に据え付けら
れている。試料12を取り付ける前に、金属コイル10
は、その中心がz軸に沿ってホールセンサ14と位置合
わせされるように配置されている。
「粗い」接近は、機械的スクリュー(図示せず)により
達成することができる。続いて行われる、さらに「繊細
な」接近は、バイモルフ板であるZ−ピエゾ−トランス
レータ26に電圧を加えることにより実施することがで
きる。ホールセンサ14と試料12の接触は、カンチレ
バー18の抵抗の変化をモニタすることにより検出され
る。次に、走査板を試料12の表面と位置合わせする。
これは、カンチレバー18をモニタする間、スキャナ電
圧に比例する補償電圧をZ−ピエゾ−トランスレータ2
6に加えることにより達成される。位置合わせを実施し
た後、トポグラフィ撮像について従来の原子力顕微鏡
(AFM)と同じ方式で、走査中レバー16、カンチレ
バー18の曲がりを維持するために、プリアンプ30と
駆動回路32からなる電子フィードバックシステムの電
源を入れる。このモードでは、トポグラフィの情報(プ
リアンプ30と駆動回路32を通るフィードバック信
号)および磁気情報を、信号36として同時に獲得する
ことができる。別法として、試料の表面から約0.1μ
mホールセンサ14を引き出し、非接触モードで試料の
表面を平行に走査することにより、フィードバックを使
用することを避けることができる。この場合には、信号
36での磁気情報のみが集められる。後者のモードは、
ホールセンサ14の耐用寿命を延長する。どちらの動作
モードでも、AC電流38は、外部ソレノイドによって
作成されるDC磁界を変調するために、試料12の下の
金属コイル10に加えられる。
流によって駆動される。電圧信号は、まず利得104を
有するプリアンプ34によって増幅され、次いでロック
イン増幅器40(AC信号)と変調周波数以下のカット
オフ周波数を有するローパスフィルタ42(ACまたは
DC信号)の間で分割される。
ガーネット膜上で測定した。そのようなシステムの「迷
路のような」パターンは、文献[M.Seul,Science,Volum
e254,pp1616(1991)]で報告されており、また、一般的
な理論的理解も利用可能である[T.Gareland S.DOniac
h,Physical Review B26,325(1982)参照]。膜の磁気領
域構造は、図2(a)のDCホール画像に明らかに認め
られる。明るい領域と暗い領域は、反対の極性の領域で
あり、磁化ベクトルは、膜表面の法線である。走査中、
f=777Hzである周波数のAC変調を加え、その結
果得られた試料を通して伝送されたAC振幅と位相の画
像をそれぞれ図2(b)と図2(c)に示す。AC振幅
画像では、加えられた変調フィールドに関して横方向に
動く領域境界のみが可視となり、それにより空間走査を
実施する際に、振幅および位相の両方で変化する信号を
提供する。明るい領域は大きな振幅振動に対応し、暗い
領域は強く固定された領域を示す。さらに領域壁が励起
している明確な構造が認められ、この励起は、領域構造
において位相欠陥(「ブランチング」および「終了」
点)の間に優先的に集中している。さらにより明るいコ
ントラストが、位相画像(図2(c))に認められる。
この図では、個々の領域境界の運動の位相差が観測され
ている他に、すべての位相欠陥が明るい点として現れて
いる。したがって本発明は、振動領域壁の走査型顕微鏡
検出を一意に提供する。
れていないようにスイッチされる場合は、AC界の下で
振動することになり、これは大きなACホール抵抗では
っきり現れる。スイッチ不可能領域は大きく振動しない
ので、小さなホール抵抗を提供する。したがってACホ
ール抵抗のコントラストは、スイッチ可能およびスイッ
チ不可能領域の空間地図を提供する。さらにこの方法
は、一般に磁気不均一性のシステムに対し、非常に有用
なツールを提供する。
る。第1に、検出技術は非干渉的である。すなわち、磁
力顕微鏡検査法とは対照的に、検出システム自体は、調
査することになるシステムの状態を干渉しないのであ
る。第2に、絶対的なスケールの補償を提供する。第3
に、SQUID顕微鏡ほどの感受性はないが、SQUI
Dが動作できない室温で、容易に動作する。第4に、顕
微鏡の空間解像度は、最適に利用可能なSQUID顕微
鏡よりも優れている。さらに、程度をさらに低減する努
力により、空間解像度は最高水準まで改良できると考え
られている。
いくつかの実施形態と変形形態について、本明細書で詳
細に説明してきたが、本発明の開示および教示は、当業
者に対し、多くの代替設計を提示することになることは
明らかである。
ル顕微鏡の概略図である。
のDC磁界画像を示す図、(b)は明るい領域が大きな
振動に対応するAC磁界画像を提供する振幅地図であ
り、本発明の新規な測定を表す図、(c)は、明るい領
域が大きな振動に対応するAC磁界画像を提供する位相
地図であり、本発明の新規な測定を表す図である。
Claims (21)
- 【請求項1】 不動の領域と可動の領域との区別を可能
にする、外部から加えられたAC磁界の影響下で、領域
境界の振動運動を測定することにより、磁性材料の領域
パターンを測定する走査型ACホール顕微鏡であって、 a.一定のDC磁界H0を磁性材料試料に加えるための
手段と、 b.磁性材料試料から見た正味の磁界H(t)が、 H(t)=H0+Haccos(ωt) となるように、交番AC磁界Hacを磁性材料試料にさら
に加えるための手段と、 c.試料がホールセンサで走査されたときに、磁性材料
試料のAC応答の空間画像を検出するための手段とを備
える走査型ACホール顕微鏡。 - 【請求項2】 試料が走査されたときに、振動界Bacの
振幅および位相差φを検出するための手段を含む、請求
項1に記載の走査型ACホール顕微鏡。 - 【請求項3】 検出手段が、位相感知検出回路を用いた
ロックイン増幅器を含む、請求項1に記載の走査型AC
ホール顕微鏡。 - 【請求項4】 ホールセンサが、試料の反対側に据え付
けられており、ホールセンサから見た磁束密度が、関係
式 B=H(1+4πχ) によって磁化率中に試料の磁気応答を組み込み、正味の
磁束密度が B(t)=B0+Baccos(ωt+φ) で与えられる、請求項1に記載の走査型ACホール顕微
鏡。 - 【請求項5】 顕微鏡のスケール上で磁性材料のAC散
逸をマッピングするために、検出手段が、駆動AC界に
対して移動領域の局所的位相差を測定する、請求項1に
記載の走査型ACホール顕微鏡。 - 【請求項6】 磁性材料試料が、ACホール顕微鏡の顕
微鏡段に取り付けられた金属コイルの上に配置されてお
り、金属コイル中に交流電流を加えることにより交番
(AC)磁界が加えられる、請求項1に記載の走査型A
Cホール顕微鏡。 - 【請求項7】 ホールセンサが、ホールセンサに連結さ
れているピエゾ抵抗素子である可撓性のカンチレバー上
に据え付けられており、ホールセンサが試料に接触した
とき、カンチレバーの抵抗が、その曲がりに応答して変
化する、請求項1に記載の走査型ACホール顕微鏡。 - 【請求項8】 接触モードにあるとき、ホールセンサに
よる磁界の分布の撮像と同時に、試料のトポグラフィ
が、ホールセンサを走査することにより測定される、請
求項7に記載の走査型ACホール顕微鏡。 - 【請求項9】 ホールセンサおよびカンチレバーアセン
ブリが、2次元の並進移動を提供するバイモルフ板ベー
スのxおよびyピエゾスキャナ上に据え付けられてお
り、試料ホルダを有するZ−ピエゾ−トランスレータ
が、スキャナに対向して据え付けられており、金属コイ
ルが試料ホルダに取り付けられ、試料が試料ホルダ上に
据え付けられており、金属コイルが、その中心がz軸に
沿ってホールセンサと位置合わせされるように配置され
ている、請求項8に記載の走査型ACホール顕微鏡。 - 【請求項10】 ホールセンサへの試料の接近が、Z−
ピエゾ−トランスレータに電圧を加えることにより達成
され、ホールセンサと試料の接触が、カンチレバーの抵
抗の変化をモニタすることにより検出され、カンチレバ
ー抵抗をモニタする間、走査面が、スキャナの電圧に比
例する補償電圧をZ−ピエゾ−トランスレータに加える
ことにより、試料の表面と位置合わせされており、位置
合わせ終了後、電子フィードバックシステムが、走査の
間、カンチレバーが一定の曲がりを維持するモードと
し、このモードで、フィードバック信号の状態にあるト
ポグラフィのデータと磁気情報の両方が同時に獲得され
る、請求項9に記載の走査型ACホール顕微鏡。 - 【請求項11】 不動の領域と可動の領域との区別を可
能にする、外部から加えられたAC磁界の影響下で、領
域境界の振動運動を測定することにより、磁性材料の領
域パターンを測定する走査型ACホール顕微鏡の測定方
法であって、 a.一定のDC磁界H0を磁性材料試料に加えるステッ
プと、 b.磁性材料試料から見た正味の磁界H(t)が、 H(t)=H0+Haccos(ωt) となるように、交番AC磁界Hacを磁性材料試料にさら
に加えるステップと、 c.試料がホールセンサで走査されたときに、磁性材料
試料のAC応答の空間画像を検出するステップとを備え
る走査型ACホール顕微鏡の測定方法。 - 【請求項12】 試料が走査されたときに、振動界Bac
の振幅および位相差φを検出するステップを含む、請求
項11に記載の方法。 - 【請求項13】 検出ステップが、位相感知検出回路を
用いたロックイン増幅器によって実施される、請求項1
1に記載の方法。 - 【請求項14】 検出ステップが、関係式 B=H(1+4πχ) によって磁化率中に試料の磁気応答を組み込む試料の反
対側でホールセンサから見た磁束密度を検出し、正味の
密度が、 B(t)=B0+Baccos(ωt+φ) によって与えられる、請求項11に記載の方法。 - 【請求項15】 磁性試料が、領域壁により、S極の領
域から分離されたN極の領域に分割されており、検出ス
テップが、可動(弱く固定された)領域に対する不動
(強く固定された)領域のコントラスト地図を提供し、
これがN極からS極、またはその逆の領域の切り替えの
容易度または難易度を表す、請求項11に記載の方法。 - 【請求項16】 検出ステップが、顕微鏡スケール上の
磁性材料においてAC散逸をマッピングするために、駆
動AC界に対する移動領域の局所的位相差を測定する、
請求項11に記載の方法。 - 【請求項17】 磁性材料試料が、ACホール顕微鏡の
顕微鏡段に取り付けられた金属コイルの上に配置されて
おり、金属コイル中に交流電流(AC)を加えることに
より交番(AC)磁界が加えられる、請求項11に記載
の方法。 - 【請求項18】 ホールセンサが、ホールセンサに連結
されているピエゾ抵抗素子である可撓性のカンチレバー
上に据え付けられており、ホールセンサが試料に接触し
たとき、カンチレバーの抵抗が、その曲がりに応答して
変化する、請求項17に記載の方法。 - 【請求項19】 接触モードにある間、ホールセンサに
よる磁界の分布の撮像と同時に、試料のトポグラフィ
が、ホールセンサを走査することにより測定される、請
求項18に記載の方法。 - 【請求項20】 ホールセンサおよびカンチレバー・ア
センブリが、2次元並進運動を提供する、バイモルフ板
ベースのxおよびyピエゾスキャナ上に据え付けられて
おり、試料ホルダを有するZ−ピエゾ−トランスレータ
が、スキャナに対向して取り付けられていて、金属コイ
ルがホルダに取り付けられ、試料がホルダに据え付けら
れており、金属コイルが、その中心がz軸に沿ってホー
ルセンサと位置合わせされるように配置されている、請
求項18に記載の方法。 - 【請求項21】 ホールセンサへの試料の接近が、Z−
ピエゾ−トランスレータに電圧を加えることにより達成
され、ホールセンサと試料の接触が、カンチレバーの抵
抗の変化をモニタすることにより検出され、カンチレバ
ー抵抗をモニタする間、走査板が、スキャナの電圧に比
例する補償電圧をZ−ピエゾ−トランスレータに加える
ことにより、試料の表面と位置合わせされており、位置
合わせ終了後、電子フィードバックシステムが、走査の
間、カンチレバーが一定の曲がりを維持するモードと
し、このモードで、フィードバック信号のトポグラフィ
のデータと磁気情報の両方が同時に獲得される、請求項
20に記載の方法。
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005134196A (ja) * | 2003-10-29 | 2005-05-26 | Nec Electronics Corp | 非破壊解析方法及び非破壊解析装置 |
WO2009118887A1 (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-01 | 株式会社フォスメガ | 磁気センサー及び走査型顕微鏡 |
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