JP2001262005A - 光触媒用塗膜形成用組成物及び塗膜並びに塗布物 - Google Patents
光触媒用塗膜形成用組成物及び塗膜並びに塗布物Info
- Publication number
- JP2001262005A JP2001262005A JP2000074233A JP2000074233A JP2001262005A JP 2001262005 A JP2001262005 A JP 2001262005A JP 2000074233 A JP2000074233 A JP 2000074233A JP 2000074233 A JP2000074233 A JP 2000074233A JP 2001262005 A JP2001262005 A JP 2001262005A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- titanium oxide
- photocatalyst
- coating film
- composition
- forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
固に基材表面に被覆接着することができ、中性領域で調
製でき、かつ酸化チタン濃度が高い光触媒用塗膜形成用
組成物及びこれを含有し、光触媒としての活性に優れた
光触媒用塗膜並びに塗布物を提供すること。 【解決手段】 ペルオクソチタン酸含有分散媒に、酸化
チタン粉末を均一分散してなる光触媒用塗膜形成用組成
物を調製し、該組成物を用いて光触媒用塗膜及び光触媒
用塗布物を形成する。
Description
のない材料及び耐熱性のない材料を基材として使用する
ことができる光触媒用塗膜形成用組成物及びこれを塗布
した形成塗膜並びに塗布物に関するものである。
いて大きな屈折率を示すため、可視光領域では殆ど光吸
収は起こらない。このことから、最近化粧料、医薬又は
塗料等の紫外線遮蔽が要求されるような材料にも広く使
用されている。さらに、酸化チタンにそのバンドギャッ
プ以上のエネルギーを持つ光を照射することによって酸
化チタンが励起されて、伝導帯に電子が生じ、また価電
帯に正孔が生じるが、この電子による還元力また正孔に
よる酸化力を利用した光触媒反応の用途開発が盛んに行
われている。この酸化チタン光触媒の用途は非常に多岐
に渡っており、水の分解による水素の発生、排ガス処
理、空気清浄、防臭、殺菌、抗菌、水処理、照明機器等
の汚れ防止等、数多くの用途開発が行われている。
能させる場合、基材表面上に酸化チタンの膜を形成させ
る。酸化チタン膜の形成方法としては、(1)アルコキ
シチタンなどのチタン溶液を基材に浸漬させゾルゲル法
により酸化チタン膜を形成する方法、(2)酸化チタン
をスパッタ法やCVD法で基材に蒸着させ膜を形成する
方法、(3)基材が金属チタンの場合に表面を陽極酸化
等の方法で酸化して酸化チタン膜を形成する方法などが
ある。
液を基材に浸漬させた後高温での加熱処理が必要なた
め、酸化チタン膜を形成する基材の種類に制限があり、
また、上記(2)及び(3)の方法では、膜形成方法ま
たは装置が複雑で高価であり同様に基材の種類が限られ
るという問題点があった。
タンゾルにバインダーを添加し、これを基材に塗布し酸
化チタン膜を形成する方法が種々試みられている。例え
ば特開平8−164334号公報では、酸化チタン膜の
基材との密着性を向上させるために、酸化チタンとバイ
ンダーとしてのアルキルシリケートなどのケイ素化合物
の水溶液とからなる光触媒用酸化チタン塗膜形成用組成
物が開示されている。
ような光触媒用酸化チタン塗膜形成性組成物に用いられ
ている酸化チタンは平均粒径が0.001〜0.5μm
の超微粉であり、これを水溶液中に均一に分散させるた
めにpHを4以下の酸性に調整しており、また酸化チタ
ン塗膜を形成する際最低100℃の加熱処理を必要とす
るため、酸性領域で耐蝕性のない材料又は耐熱性のない
材料は光触媒用基材として使用できないという問題があ
る。さらにこの組成物を基材に塗布した際、酸化チタン
粒子の表面上にケイ素化合物のバインダーがコーティン
グされてしまい、酸化チタンの光触媒活性が十分に発現
しないという問題がある。
理を必要とせず簡易にかつ強固に基材表面に被覆接着す
ることができ、中性領域で調製できるため酸性領域で耐
蝕性や耐熱性に劣る材料を基材として使用することがで
き、かつ酸化チタン濃度が高い光触媒用塗膜形成用組成
物及びこれを塗布して得られる光触媒としての活性に優
れた光触媒用塗膜並びに光触媒用塗布物を提供すること
にある。
発明者らは鋭意検討した結果、ペルオクソチタン酸含有
分散媒に酸化チタン粉末を添加し高速攪拌により分散さ
せることにより、添加濃度を高めても均一分散状態を保
ち、粘度もさほど上昇することがない光触媒用塗膜形成
用組成物が得られ、酸性領域で耐蝕性のない材料及び耐
熱性のない材料に酸化チタン含有膜を形成できること、
及びこれを含有する光触媒用塗膜は光触媒としての活性
に優れかつ塗膜強度に優れることなどを見出し、本発明
を完成するに至った。
含有分散媒に、酸化チタン粉末を均一分散してなること
を特徴とする光触媒用塗膜形成用組成物を提供するもの
である。
組成物を基材に塗布し、乾燥して得られる光触媒用塗膜
を提供するものである。
組成物を基材に塗布し、乾燥して得られる光触媒用塗布
物を提供するものである。
種々の方法によって製造し得る。例えば、(1)硫酸チ
タニル、硫酸チタンなどの含チタン溶液を加水分解させ
る方法、(2)チタンアルコキシドなどの有機チタン化
合物を加水分解させる方法、(3)三塩化チタンあるい
は四塩化チタンなどのハロゲン化チタン水溶液を中和又
は加水分解させる方法、(4)四塩化チタンを気相中で
酸素と接触させ酸化させる気相法、(5)燃焼して水を
生成する水素ガス等の可燃性ガスと酸素を燃焼バーナー
に供給し火炎を形成し、この中に四塩化チタンを導入す
る火炎加水分解法などの方法が挙げられる。このうち、
乾式法が低コストで、しかも所望の粒子特性を有する酸
化チタン粉末が得られる点で好ましい。
り高純度の酸化チタンまた低コストの酸化チタンを得る
方法としては、(4)の気相法、あるいは(5)の火炎
加水分解法などの四塩化チタンを気相において酸化する
方法(四塩化チタンの気相酸化法)が好ましく、該方法
は液相法で得られる酸化チタンのような不純物元素が混
入または残留することがなく、酸化チタン以外の他成分
を殆ど含有していない高純度の酸化チタン粉末であるの
で、光触媒に利用した際、酸化チタン本来の特性が変化
せず優れた効果を得ることができる。
について、その製造方法を具体的に説明する。先ず、液
状の四塩化チタンを予め加熱し、気化させ反応炉に導入
する。次に、四塩化チタンの導入と同時に、酸素ガスを
反応炉に導入し、酸化反応を行う。酸化反応温度として
は500〜1200℃、好ましくは600〜1100℃
である。また、酸化反応の際、反応炉中に、四塩化チタ
ン及び酸素ガスと共に水素ガスあるいは水蒸気を供給す
ることが、ルチル化率の制御できる点で好ましい。該酸
化反応により酸化チタン粉末を生成させ、その後、酸化
チタン粉末を冷却する。冷却方法としては、通常、冷却
ジャケットを具備した冷却槽などが用いられ、窒素ガス
等の不活性ガスを生成酸化チタン粉末と接触させながら
冷却する方法が挙げられる。その後、冷却された酸化チ
タン粉末を捕集し、酸化チタン粉末中に残留する塩素ガ
スを加熱処理により除去し、酸化チタン粉末を得ること
ができる。前記加熱処理としては、真空加熱処理、空気
あるいは窒素ガス雰囲気中での加熱又はスチーム処理等
が挙げられる。また、必要に応じて、生成酸化チタンを
分級処理してもよい。このようにして得られた酸化チタ
ンを粉砕処理あるいは解砕処理することも好ましい。粉
砕あるいは解砕方法としては、振動ミル、ボールミル、
ディスクミル、ターボミル、タワーミル、ペイントシェ
イカー、雷壊機、振動解砕機等が用いられる。
径、比表面積などの粒子性状については、酸化チタン分
散体の用途により異なるため、特に制限されないが、平
均粒径は、好ましくは0.01〜5μm 、より好ましく
は0.05〜2μm 、さらに好ましくは0.1〜1μm
であり、比表面積は、好ましくは0.5〜100m2/
g、より好ましくは1〜50m2/g 、さらに好ましくは
2〜30m2/g である。
ナターゼであり、好ましくはアナターゼである。またそ
のルチル化率は0〜80%、好ましくは0〜50%であ
る。
不純物として酸化チタン粉末中に含まれるFe、Al、
Si及びNaが各々20ppm 未満、望ましくは10ppm
未満、さらに望ましくは5ppm 未満である。また、酸化
チタン粉末中のClは500ppm 未満、望ましくは20
0ppm 未満、さらに望ましくは100ppm 未満である。
前記範囲を越えて不純物を有すると光触媒性能を低下さ
せる要因となる。
は、ペルオキシチタン酸又は過酸化チタンとも言われる
もので、その構造はH4 TiO5 、Ti(OOH)(O
H)3又はTiO3 ・2H2 Oで示される。ペルオクソ
チタン酸は、通常、黄色、黄褐色又は赤褐色の透明粘性
水溶液(ゾル溶液)で取り扱われ、市販されているもの
が使用できる。市販品としては、例えば「PTA−8
5」、「PTA−170」(いずれも(株)田中転写製
のPTA水溶液である)が挙げられる。また、公知の方
法によって調製することも可能であり、例えば、四塩化
チタン水溶液をアンモニア水で加水分解し、水酸化チタ
ンを含むスラリーを生成し、これを洗浄した後、過酸化
水素を加えてペルオキシチタン酸水溶液を得る。
ては、特に制限されないが、例えば水及びメタノール、
エタノール等のアルコール類が挙げられ、このうち、水
が好ましい。分散媒は1種又は2種以上を混合して使用
できる。また、分散媒が水の場合、市販のペルオクソチ
タン酸水溶液をそのまま使用することもできる。ペルオ
クソチタン酸と分散媒との配合比率は、分散媒の種類、
酸化チタン粉末の添加濃度により適宜決定される。
有分散媒に均一分散させ本発明の光触媒用酸化チタン塗
膜形成用組成物を調製する方法としては、一般的な方法
でよく、例えば、気相酸化法等で製造した酸化チタン粉
末を、ペルオクソチタン酸含有分散媒に添加し、ホモジ
ナイザー、ヘンシェルミキサー及びスーパミキサー等の
高速撹拌、振とう等の手段を用いて分散する方法、又
は、振動ミル、ボールミル等の粉砕機で酸化チタン粉末
とペルオクソチタン酸含有分散媒を湿式粉砕する方法が
挙げられ、このうち、1000〜15000回転/分の
高速撹拌による方法が短時間で効率的に行える点で好ま
しい。ペルオクソチタン酸含有分散媒に酸化チタン粉末
を添加するには、酸化チタン粉末の添加量や酸化チタン
分散体の製造容量等により異なるが、少量を連続して添
加するか、分割して添加することが望ましい。ペルオク
ソチタン酸含有分散媒100ml当たり1回に添加する
酸化チタン粉末は0.1〜5g、好ましくは0.5〜2
gとすることが、高濃度の均一分散体が効率よく得られ
る点で好ましい。分散の際、分散効率を高めるため、ペ
ルオクソチタン酸含有分散媒を加熱して行ってもよい。
加熱温度は室温〜100℃、好ましくは30〜80℃で
ある。ペルオクソチタン酸水溶液を80℃以上で加熱処
理すると、酸化チタン粒子が析出させることができ、酸
化チタン粉末の濃度を調整することもできる。
ン粉末を添加する方法としては、これに限定されず、酸
化チタン粉末とペルオクソチタン酸を同時に分散媒に添
加し攪拌する方法、予め酸化チタン粉末を添加した分散
媒にペルオクソチタン酸を添加し、攪拌する方法などが
挙げられる。本発明においては、ペルオクソチタン酸水
溶液に酸化チタン粉末を添加し攪拌する方法、分散媒に
ペルオクソチタン酸と酸化チタン粉末を同時添加し攪拌
する方法又は分散媒にペルオクソチタン酸を添加し、そ
の後酸化チタン粉末を添加し攪拌する方法が好ましい。
化チタン粉末の濃度は、通常0.5〜60重量%、好ま
しくは5〜60重量%、より好ましくは10〜60重量
%である。酸化チタン粉末の濃度が0.5重量%未満で
は、光触媒性能を十分に発揮できない。一方酸化チタン
粉末の濃度が60重量%を越えると、ペルオクソチタン
酸分散媒中の酸化チタンの分散性が低下する。また、本
発明の光触媒用塗膜形成用組成物中のペルオクソチタン
酸の比率は、酸化チタン粉末に対して、1〜100重量
%、好ましくは5〜80重量%、より好ましくは10〜
50重量%である。光触媒用塗膜形成用組成物は酸化チ
タン粉末の分散性に極めて優れているので、酸化チタン
粉末の濃度として50重量%以上含有することも可能で
ある。すなわち、本発明の光触媒用塗膜形成用組成物
は、酸化チタンの濃度を上げても、分散体自体の粘度が
あまり上昇しないので、光触媒用塗膜を形成した場合、
従来では達成し得なかった均一でかつ固体酸化チタン濃
度の高い酸化チタン膜の調製が可能である。
のみを80℃以上で加熱処理すれば酸化チタン粒子が析
出し、酸化チタン分散体が得られるが、固体酸化チタン
の濃度が非常に低く、これを光触媒用塗膜に使用しても
光触媒活性の高い酸化チタン膜は得られない。これに対
し、本発明の光触媒用塗膜形成用組成物では、ペルオク
ソチタン酸含有分散媒に、酸化チタン粉末を添加し均一
分散させ、酸化チタンを高濃度にすることが可能である
ので、光触媒用塗膜を形成した際、光触媒活性の高い酸
化チタン膜を得ることができる。
て、ペルオクソチタン酸と酸化チタン粉末の水分散体の
場合、そのpHはその用途によって任意に調製しうる
が、本発明ではpH5〜10、好ましくはpH6〜8、
特に好ましくはpH6.5〜7.5である。元来酸化チ
タン粒子表面に水酸基を含有しているため、中性領域で
は分散性がよくない。そのため前述したように従来の酸
化チタンゾルは、酸性にpHを調整し分散性を改善して
いる。従って酸化チタンゾルを基材に吹き付け酸化チタ
ン膜を形成し光触媒を調製する場合、酸性で腐食するよ
うな基材は使用できないため、その用途に制限があっ
た。しかし、本発明の光触媒用塗膜形成用組成物は上記
のように中性領域においても、極めて高い分散性を示す
ため、酸性領域において耐蝕性に劣る材料を基材として
酸化チタン膜を形成でき、光触媒用塗膜形成用として非
常に有効である。また、特に加熱処理を施さなくとも強
固でかつ高活性な光触媒用酸化チタン塗膜を形成できる
ため、木材、繊維、紙、プラスティックなど耐熱性のな
い材料や、建造物の外壁や内壁、また道路のアスファル
トなど広い面積にわたる場所で加熱処理を施すことが困
難な基材にも適用することができる。さらに、中性領域
で調製されるので、酸性領域で耐蝕性に劣るコンクリー
トなどの基材に対して光触媒用塗膜形成組成物が適用で
きる。
発明の光触媒用塗膜を形成するが、この塗膜は、該組成
物を基材表面に塗布し、乾燥して形成する。このときの
塗布の方法は公知の方法でよく、例えばスプレーコーテ
ィング法、ディップコーティング法、スピンコーティン
グ法などが挙げられる。このなかでは、ディップコーテ
ィング法を用いることが好ましい。次いで、塗布した後
乾燥して酸化チタン膜を形成するが、本発明では、特別
な加熱処理を施さなくとも常温〜100℃未満で乾燥す
れば、強固でかつ光触媒活性の高い塗膜が形成される。
また、100℃〜500℃の範囲で加熱処理することに
よっても、より強固な塗膜を形成することができる。ま
た塗膜の厚さは光触媒活性が発現しうる程度でかつ塗膜
の強度が確保し得る程度であれば特に制限はないが、通
常0.1〜10μm、好ましくは0.5〜2μmであ
る。
基材としては、ステンレス、炭素鋼、アルミ、チタンな
どの金属、ガラス、コンクリート、アスファルト、スレ
ート、石材、木材、繊維もしくはプラスティックなど有
機材料、紙など、酸性領域において耐蝕性のない材料及
び耐熱性のない材料を含むあらゆる材料が利用できる。
プラスティック、繊維などの有機材料を基材に用い、そ
の表面に光触媒用塗膜を形成する場合、先ず基材表面を
保護するためのアンダーコーティングを施した後、光触
媒用塗膜を形成することが望ましい。このときアンダー
コーティングの材料としては、シリカ、アルミナ、アル
キルシリケートおよびペルオクソチタン酸などが用いら
れる。
組成物は、中性領域で調製され、かつ酸化チタン粉末が
高濃度でかつ高分散しており、特に高温での加熱処理を
施さなくとも簡易に強固でかつ高活性の光触媒用塗膜を
形成できるので、酸性領域で耐蝕性のない材料及び耐熱
性のない材料を基材とした場合にも酸化チタン膜を形成
できる。また、本発明の光触媒用塗膜は、酸性領域で耐
蝕性のない材料及び耐熱性のない材料を基材とした場合
にも形成できるため、該塗膜が形成された塗布物は幅広
い用途に利用可能であり、例えば、建造物の外壁、内壁
また屋根の汚れ防止用部材、またトンネル内や駐車場の
内壁部材に適用できる。トンネル内や駐車場の内壁部材
に用いれば、光触媒作用によるNOX などの自動車の排
ガスの分解除去が可能である。
らに具体的に説明する。本明細書において、酸化チタン
粉末の不純物量の測定及びルチル化率は以下に示す方法
で測定した。
e、Al、Si及びNa分を原子吸光法により定量分析
した、また、塩素分は吸光光度法により測定した。
従いX線回折パターンにおける、ルチル型結晶酸化チタ
ンの最強回折線(面指数110)のピーク面積(Ir)
と、アナターゼ型結晶酸化チタンの最強回折線(面指数
101)のピーク面積(Ia)を求め前述の算出式より
求めた。
れた酸化チタンであって、平均粒子径(BET径)0.
03μm、比表面積(BET)46m2/g、ルチル化率
33.3%、Fe、Al、Si及びNa分が各々10pp
m 以下、塩素分80ppm である酸化チタン粉末5 gを
0.85重量%のペルオキソチタン酸水溶液45ml(分
散媒)中に0.5gずつ10回に分割して添加し、添加
するたびに、常温下、ホモジナイザーで10000rp
mの高速攪拌を20分間行い、分散させ、光触媒用塗膜
形成用組成物を得た。pHは6.8であった。
ドガラスを用い、ディップコーティング法より光触媒用
塗膜を基材に形成した。上記光触媒用塗膜形成用組成物
中に、スライドガラスを浸漬させ、引き上げ、その後5
0℃で10分乾燥し、この操作を10回繰り返して光触
媒用塗膜を形成した。
透明の密閉容器内に上記の光触媒用塗膜を形成した基材
を入れ、さらにテトラクロロエチレンを5μmol注入し
た。次いで500Wの高圧水銀ランプ(光強度ステンレ
スメッシュにより1/20に減光し、さらにUV34フ
ィルターおよびU340フィルターを通し340nm以
下をカットした)を点灯し、光触媒作用によるテトラク
ロロエチレンの分解反応を行った。その後密閉容器内の
気体を経時的にサンプリングし、ガスクロマトグラフィ
ーによりテトラクロロエチレンの濃度を測定し、テトラ
クロロエチレンの分解速度を求めた。この結果を表1に
示した。
記の光触媒塗膜を形成した基材の塗膜面に、植物油を約
4mg滴下し塗膜面に均一に浸透させた。次いで500
Wの高圧水銀ランプ(光強度ステンレスメッシュにより
1/20に減光し、さらにUV34フィルターおよびU
340フィルターを通し340nm以下をカットした)
を点灯し、光触媒作用による植物油の分解反応を行っ
た。植物油の分解速度は、光触媒用塗膜を形成した基材
の重量減少を経時的に測定して評価した。この結果を表
1に示した。
5400(8.4.1 )に準拠した鉛筆ひっかき値(試験機
法)及びJIS−5400(8.5.2 )に準拠した碁盤目
テープ法により、光触媒用塗膜の強度を評価した。その
結果を表1に示した。表中、鉛筆ひっかき値「H」は硬
いことを意味し、「6B」は軟らかいことを意味する。
に、水を用いた以外は、実施例1と同様の方法で行い、
酸化チタン分散体を得た。得られた酸化チタン分散体を
用いて実施例1と同様に塗膜を形成して評価を行った。
その結果を表1に示した。
00℃にて加熱処理し酸化チタン粒子を析出させ、酸化
チタン分散体を得た。得られた酸化チタン分散体を用い
て実施例1と同様に塗膜を形成し評価を行った。その結
果を表1に示した。
用組成物で作成した光触媒用塗膜は、光触媒活性が高
く、さらに塗膜強度に優れていることがわかる。
塗膜形成用組成物は、中性領域で調製され、かつ酸化チ
タン粉末が高濃度でかつ高分散しており、特に高温での
加熱処理を施さなくとも簡易に強固でかつ高活性の光触
媒用塗膜を形成できるので、酸性領域で耐蝕性のない材
料及び耐熱性のない材料を基材とした場合にも酸化チタ
ン膜を形成できる。本発明の光触媒用塗膜組成物を塗布
した塗布物は、塗布する基材の種類を制限することな
く、特に酸性領域で耐蝕性のない材料及び耐熱性のない
材料を基材とすることもできる。
Claims (8)
- 【請求項1】 ペルオクソチタン酸含有分散媒に、酸化
チタン粉末を均一分散してなることを特徴とする光触媒
用塗膜形成用組成物。 - 【請求項2】 前記酸化チタン粉末の分散量が、前記組
成物中、0.5〜60重量%であることを特徴とする請
求項1記載の光触媒用塗膜形成用組成物。 - 【請求項3】 前記酸化チタン粉末の平均粒径が、0.
01〜5μm であることを特徴とする請求項1記載の光
触媒用塗膜形成用組成物。 - 【請求項4】 前記ペルオクソチタン酸含有分散媒がペ
ルオクソチタン酸水溶液であることを特徴とする請求項
1記載の光触媒用塗膜形成用組成物。 - 【請求項5】 前記ペルオクソチタン酸水溶液のpH
が、5〜10であることを特徴とする請求項4記載の光
触媒用塗膜形成用組成物。 - 【請求項6】 前記酸化チタン粉末が、四塩化チタンの
気相酸化反応で得られたものであることを特徴とする請
求項1に記載の光触媒用塗膜形成用組成物。 - 【請求項7】 請求項1〜請求項6のいずれか1項に記
載の光触媒用塗膜形成用組成物を基材に塗布し、乾燥し
て得られる光触媒用塗膜。 - 【請求項8】 請求項1〜請求項6のいずれか1項に記
載の光触媒用塗膜形成用組成物を基材に塗布し、乾燥し
て得られる光触媒用塗布物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000074233A JP2001262005A (ja) | 2000-03-16 | 2000-03-16 | 光触媒用塗膜形成用組成物及び塗膜並びに塗布物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000074233A JP2001262005A (ja) | 2000-03-16 | 2000-03-16 | 光触媒用塗膜形成用組成物及び塗膜並びに塗布物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001262005A true JP2001262005A (ja) | 2001-09-26 |
Family
ID=18592320
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000074233A Pending JP2001262005A (ja) | 2000-03-16 | 2000-03-16 | 光触媒用塗膜形成用組成物及び塗膜並びに塗布物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001262005A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004069946A1 (ja) * | 2003-02-10 | 2004-08-19 | Kansai Paint Co., Ltd. | 光触媒-酸化チタン複合膜形成用塗布剤 |
JP2006001774A (ja) * | 2004-06-16 | 2006-01-05 | Toho Titanium Co Ltd | 酸化チタン分散体およびその製造方法 |
JP2006312730A (ja) * | 2005-04-08 | 2006-11-16 | Toho Titanium Co Ltd | 酸化チタン光触媒塗膜形成用組成物、その製造方法、光触媒用塗膜および光触媒用塗布物 |
JP2007145696A (ja) * | 2005-10-24 | 2007-06-14 | Nippon Maintenance Engineering Kk | 低次酸化チタン粒子含有組成物の製造方法 |
JP2008024565A (ja) * | 2006-07-24 | 2008-02-07 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 改質酸化チタン粒子およびその製造方法、並びにこの改質酸化チタン粒子を使用した排ガス処理用触媒 |
-
2000
- 2000-03-16 JP JP2000074233A patent/JP2001262005A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004069946A1 (ja) * | 2003-02-10 | 2004-08-19 | Kansai Paint Co., Ltd. | 光触媒-酸化チタン複合膜形成用塗布剤 |
JP2006001774A (ja) * | 2004-06-16 | 2006-01-05 | Toho Titanium Co Ltd | 酸化チタン分散体およびその製造方法 |
JP4523344B2 (ja) * | 2004-06-16 | 2010-08-11 | 東邦チタニウム株式会社 | 酸化チタン分散体の製造方法 |
JP2006312730A (ja) * | 2005-04-08 | 2006-11-16 | Toho Titanium Co Ltd | 酸化チタン光触媒塗膜形成用組成物、その製造方法、光触媒用塗膜および光触媒用塗布物 |
JP4540069B2 (ja) * | 2005-04-08 | 2010-09-08 | 東邦チタニウム株式会社 | 酸化チタン光触媒塗膜形成用組成物、その製造方法、光触媒用塗膜および光触媒用塗布物 |
JP2007145696A (ja) * | 2005-10-24 | 2007-06-14 | Nippon Maintenance Engineering Kk | 低次酸化チタン粒子含有組成物の製造方法 |
JP2008024565A (ja) * | 2006-07-24 | 2008-02-07 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 改質酸化チタン粒子およびその製造方法、並びにこの改質酸化チタン粒子を使用した排ガス処理用触媒 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Barakat et al. | Effect of cobalt doping on the phase transformation of TiO2 nanoparticles | |
US7686879B2 (en) | Coating composition | |
JP5281415B2 (ja) | ナノ粒子の形態のTiO2の水性分散液の製造方法、及びこの方法で得られる分散体 | |
Javaid et al. | Influence of optical band gap and particle size on the catalytic properties of Sm/SnO2–TiO2 nanoparticles | |
Park et al. | Preparation and characterization of silica-coated TiO2 nanoparticle | |
EP1833763A1 (en) | Process for preparing dispersions of tio2 in the form of nanoparticles, and dispersions obtainable with this process and fuctionalization of surfaces by application of tio2 dispersions | |
Dhage et al. | Synthesis of ultrafine TiO2 by citrate gel method | |
Grzmil et al. | Preparation and characterization of single-modified TiO2 for pigmentary applications | |
WO2007017327A2 (en) | Use of titanium dioxide mixed oxide as a photocatalyst | |
Jitianu et al. | New carbon multiwall nanotubes–TiO2 nanocomposites obtained by the sol–gel method | |
Barkhade et al. | Optical properties of Fe doped TiO2 nanocomposites synthesized by sol-gel technique | |
TWI311547B (en) | Anatase-type titanium oxide powder and method of manufacturing the same | |
Ahmadlouydarab et al. | Evaluation of thermal stability of TiO2 applied on the surface of a ceramic tile to eliminate Methylene Blue using silica-based doping materials | |
Samadi et al. | Synthesis, characterization, and application of Nd, Zr–TiO 2/SiO 2 nanocomposite thin films as visible light active photocatalyst | |
WO2008076308A1 (en) | Highly photosensitive titanium dioxide and process for forming the same | |
Saroj et al. | Enhancement of photocatalytic activity and regeneration of Fe-doped TiO 2 (Ti 1− x Fe x O 2) nanocrystalline particles synthesized using inexpensive TiO 2 precursor | |
JP3993956B2 (ja) | 球状酸化チタン微粒子の製造方法 | |
JP2011079713A (ja) | 銅イオン修飾酸化チタン及びその製造方法、並びに光触媒 | |
WO2008068062A1 (en) | Dispersion containing titanium dioxide | |
JPS60186418A (ja) | 超微粒子状酸化チタンの製造方法 | |
JP2001262005A (ja) | 光触媒用塗膜形成用組成物及び塗膜並びに塗布物 | |
Dhage et al. | Synthesis of nanocrystalline TiO 2 by tartarate gel method | |
KR100933613B1 (ko) | 광촉매 | |
JP2001220141A (ja) | 酸化チタン分散体 | |
JP4754197B2 (ja) | 酸化チタン粒子とその製造方法及びその利用 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060412 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090225 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090304 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090428 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090730 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20091224 |