JP2001262005A

JP2001262005A - 光触媒用塗膜形成用組成物及び塗膜並びに塗布物

Info

Publication number: JP2001262005A
Application number: JP2000074233A
Authority: JP
Inventors: Takuya Miyagi; 卓也宮城; Hideki Sakai; 英樹堺
Original assignee: Toho Titanium Co Ltd
Current assignee: Toho Titanium Co Ltd
Priority date: 2000-03-16
Filing date: 2000-03-16
Publication date: 2001-09-26

Abstract

(57)【要約】【課題】高温での加熱処理を必要とせず簡易にかつ強
固に基材表面に被覆接着することができ、中性領域で調
製でき、かつ酸化チタン濃度が高い光触媒用塗膜形成用
組成物及びこれを含有し、光触媒としての活性に優れた
光触媒用塗膜並びに塗布物を提供すること。【解決手段】ペルオクソチタン酸含有分散媒に、酸化
チタン粉末を均一分散してなる光触媒用塗膜形成用組成
物を調製し、該組成物を用いて光触媒用塗膜及び光触媒
用塗布物を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、酸性領域で耐蝕性
のない材料及び耐熱性のない材料を基材として使用する
ことができる光触媒用塗膜形成用組成物及びこれを塗布
した形成塗膜並びに塗布物に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】酸化チタンは可視光付近の波長領域にお
いて大きな屈折率を示すため、可視光領域では殆ど光吸
収は起こらない。このことから、最近化粧料、医薬又は
塗料等の紫外線遮蔽が要求されるような材料にも広く使
用されている。さらに、酸化チタンにそのバンドギャッ
プ以上のエネルギーを持つ光を照射することによって酸
化チタンが励起されて、伝導帯に電子が生じ、また価電
帯に正孔が生じるが、この電子による還元力また正孔に
よる酸化力を利用した光触媒反応の用途開発が盛んに行
われている。この酸化チタン光触媒の用途は非常に多岐
に渡っており、水の分解による水素の発生、排ガス処
理、空気清浄、防臭、殺菌、抗菌、水処理、照明機器等
の汚れ防止等、数多くの用途開発が行われている。

【０００３】上記のように酸化チタンを光触媒として機
能させる場合、基材表面上に酸化チタンの膜を形成させ
る。酸化チタン膜の形成方法としては、（１）アルコキ
シチタンなどのチタン溶液を基材に浸漬させゾルゲル法
により酸化チタン膜を形成する方法、（２）酸化チタン
をスパッタ法やＣＶＤ法で基材に蒸着させ膜を形成する
方法、（３）基材が金属チタンの場合に表面を陽極酸化
等の方法で酸化して酸化チタン膜を形成する方法などが
ある。

【０００４】しかし、上記（１）の方法では、チタン溶
液を基材に浸漬させた後高温での加熱処理が必要なた
め、酸化チタン膜を形成する基材の種類に制限があり、
また、上記（２）及び（３）の方法では、膜形成方法ま
たは装置が複雑で高価であり同様に基材の種類が限られ
るという問題点があった。

【０００５】上記のような問題を解決するため、酸化チ
タンゾルにバインダーを添加し、これを基材に塗布し酸
化チタン膜を形成する方法が種々試みられている。例え
ば特開平８−１６４３３４号公報では、酸化チタン膜の
基材との密着性を向上させるために、酸化チタンとバイ
ンダーとしてのアルキルシリケートなどのケイ素化合物
の水溶液とからなる光触媒用酸化チタン塗膜形成用組成
物が開示されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような光触媒用酸化チタン塗膜形成性組成物に用いられ
ている酸化チタンは平均粒径が０．００１〜０．５μｍ
の超微粉であり、これを水溶液中に均一に分散させるた
めにｐＨを４以下の酸性に調整しており、また酸化チタ
ン塗膜を形成する際最低１００℃の加熱処理を必要とす
るため、酸性領域で耐蝕性のない材料又は耐熱性のない
材料は光触媒用基材として使用できないという問題があ
る。さらにこの組成物を基材に塗布した際、酸化チタン
粒子の表面上にケイ素化合物のバインダーがコーティン
グされてしまい、酸化チタンの光触媒活性が十分に発現
しないという問題がある。

【０００７】従って、本発明の目的は、高温での加熱処
理を必要とせず簡易にかつ強固に基材表面に被覆接着す
ることができ、中性領域で調製できるため酸性領域で耐
蝕性や耐熱性に劣る材料を基材として使用することがで
き、かつ酸化チタン濃度が高い光触媒用塗膜形成用組成
物及びこれを塗布して得られる光触媒としての活性に優
れた光触媒用塗膜並びに光触媒用塗布物を提供すること
にある。

【０００８】

【発明を解決するための手段】かかる実情において、本
発明者らは鋭意検討した結果、ペルオクソチタン酸含有
分散媒に酸化チタン粉末を添加し高速攪拌により分散さ
せることにより、添加濃度を高めても均一分散状態を保
ち、粘度もさほど上昇することがない光触媒用塗膜形成
用組成物が得られ、酸性領域で耐蝕性のない材料及び耐
熱性のない材料に酸化チタン含有膜を形成できること、
及びこれを含有する光触媒用塗膜は光触媒としての活性
に優れかつ塗膜強度に優れることなどを見出し、本発明
を完成するに至った。

【０００９】すなわち、本発明は、ペルオクソチタン酸
含有分散媒に、酸化チタン粉末を均一分散してなること
を特徴とする光触媒用塗膜形成用組成物を提供するもの
である。

【００１０】また、本発明は、前記光触媒用塗膜形成用
組成物を基材に塗布し、乾燥して得られる光触媒用塗膜
を提供するものである。

【００１１】また、本発明は、前記光触媒用塗膜形成用
組成物を基材に塗布し、乾燥して得られる光触媒用塗布
物を提供するものである。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明で用いられる酸化チタンは
種々の方法によって製造し得る。例えば、（１）硫酸チ
タニル、硫酸チタンなどの含チタン溶液を加水分解させ
る方法、（２）チタンアルコキシドなどの有機チタン化
合物を加水分解させる方法、（３）三塩化チタンあるい
は四塩化チタンなどのハロゲン化チタン水溶液を中和又
は加水分解させる方法、（４）四塩化チタンを気相中で
酸素と接触させ酸化させる気相法、（５）燃焼して水を
生成する水素ガス等の可燃性ガスと酸素を燃焼バーナー
に供給し火炎を形成し、この中に四塩化チタンを導入す
る火炎加水分解法などの方法が挙げられる。このうち、
乾式法が低コストで、しかも所望の粒子特性を有する酸
化チタン粉末が得られる点で好ましい。

【００１３】上記酸化チタンの製造方法のなかでも、よ
り高純度の酸化チタンまた低コストの酸化チタンを得る
方法としては、（４）の気相法、あるいは（５）の火炎
加水分解法などの四塩化チタンを気相において酸化する
方法（四塩化チタンの気相酸化法）が好ましく、該方法
は液相法で得られる酸化チタンのような不純物元素が混
入または残留することがなく、酸化チタン以外の他成分
を殆ど含有していない高純度の酸化チタン粉末であるの
で、光触媒に利用した際、酸化チタン本来の特性が変化
せず優れた効果を得ることができる。

【００１４】前記（４）の気相法による酸化チタン粉末
について、その製造方法を具体的に説明する。先ず、液
状の四塩化チタンを予め加熱し、気化させ反応炉に導入
する。次に、四塩化チタンの導入と同時に、酸素ガスを
反応炉に導入し、酸化反応を行う。酸化反応温度として
は５００〜１２００℃、好ましくは６００〜１１００℃
である。また、酸化反応の際、反応炉中に、四塩化チタ
ン及び酸素ガスと共に水素ガスあるいは水蒸気を供給す
ることが、ルチル化率の制御できる点で好ましい。該酸
化反応により酸化チタン粉末を生成させ、その後、酸化
チタン粉末を冷却する。冷却方法としては、通常、冷却
ジャケットを具備した冷却槽などが用いられ、窒素ガス
等の不活性ガスを生成酸化チタン粉末と接触させながら
冷却する方法が挙げられる。その後、冷却された酸化チ
タン粉末を捕集し、酸化チタン粉末中に残留する塩素ガ
スを加熱処理により除去し、酸化チタン粉末を得ること
ができる。前記加熱処理としては、真空加熱処理、空気
あるいは窒素ガス雰囲気中での加熱又はスチーム処理等
が挙げられる。また、必要に応じて、生成酸化チタンを
分級処理してもよい。このようにして得られた酸化チタ
ンを粉砕処理あるいは解砕処理することも好ましい。粉
砕あるいは解砕方法としては、振動ミル、ボールミル、
ディスクミル、ターボミル、タワーミル、ペイントシェ
イカー、雷壊機、振動解砕機等が用いられる。

【００１５】本発明で用いられる酸化チタン粉末の粒
径、比表面積などの粒子性状については、酸化チタン分
散体の用途により異なるため、特に制限されないが、平
均粒径は、好ましくは０．０１〜５μm 、より好ましく
は０．０５〜２μm 、さらに好ましくは０．１〜１μm
であり、比表面積は、好ましくは０．５〜１００m²／
g、より好ましくは１〜５０m²／g 、さらに好ましくは
２〜３０m²／g である。

【００１６】また、結晶型については、ルチルまたはア
ナターゼであり、好ましくはアナターゼである。またそ
のルチル化率は０〜８０％、好ましくは０〜５０％であ
る。

【００１７】更に、本発明で用いられる酸化チタンは、
不純物として酸化チタン粉末中に含まれるＦｅ、Ａｌ、
Ｓｉ及びＮａが各々２０ppm 未満、望ましくは１０ppm
未満、さらに望ましくは５ppm 未満である。また、酸化
チタン粉末中のＣｌは５００ppm 未満、望ましくは２０
０ppm 未満、さらに望ましくは１００ppm 未満である。
前記範囲を越えて不純物を有すると光触媒性能を低下さ
せる要因となる。

【００１８】本発明で用いられるペルオクソチタン酸
は、ペルオキシチタン酸又は過酸化チタンとも言われる
もので、その構造はＨ₄ＴｉＯ₅、Ｔｉ（ＯＯＨ）（Ｏ
Ｈ）₃又はＴｉＯ₃・２Ｈ₂Ｏで示される。ペルオクソ
チタン酸は、通常、黄色、黄褐色又は赤褐色の透明粘性
水溶液（ゾル溶液）で取り扱われ、市販されているもの
が使用できる。市販品としては、例えば「ＰＴＡ−８
５」、「ＰＴＡ−１７０」（いずれも（株）田中転写製
のＰＴＡ水溶液である）が挙げられる。また、公知の方
法によって調製することも可能であり、例えば、四塩化
チタン水溶液をアンモニア水で加水分解し、水酸化チタ
ンを含むスラリーを生成し、これを洗浄した後、過酸化
水素を加えてペルオキシチタン酸水溶液を得る。

【００１９】ペルオクソチタン酸を含有する分散媒とし
ては、特に制限されないが、例えば水及びメタノール、
エタノール等のアルコール類が挙げられ、このうち、水
が好ましい。分散媒は１種又は２種以上を混合して使用
できる。また、分散媒が水の場合、市販のペルオクソチ
タン酸水溶液をそのまま使用することもできる。ペルオ
クソチタン酸と分散媒との配合比率は、分散媒の種類、
酸化チタン粉末の添加濃度により適宜決定される。

【００２０】酸化チタン粉末を、ペルオクソチタン酸含
有分散媒に均一分散させ本発明の光触媒用酸化チタン塗
膜形成用組成物を調製する方法としては、一般的な方法
でよく、例えば、気相酸化法等で製造した酸化チタン粉
末を、ペルオクソチタン酸含有分散媒に添加し、ホモジ
ナイザー、ヘンシェルミキサー及びスーパミキサー等の
高速撹拌、振とう等の手段を用いて分散する方法、又
は、振動ミル、ボールミル等の粉砕機で酸化チタン粉末
とペルオクソチタン酸含有分散媒を湿式粉砕する方法が
挙げられ、このうち、１０００〜１５０００回転／分の
高速撹拌による方法が短時間で効率的に行える点で好ま
しい。ペルオクソチタン酸含有分散媒に酸化チタン粉末
を添加するには、酸化チタン粉末の添加量や酸化チタン
分散体の製造容量等により異なるが、少量を連続して添
加するか、分割して添加することが望ましい。ペルオク
ソチタン酸含有分散媒１００ｍｌ当たり１回に添加する
酸化チタン粉末は０．１〜５ｇ、好ましくは０．５〜２
ｇとすることが、高濃度の均一分散体が効率よく得られ
る点で好ましい。分散の際、分散効率を高めるため、ペ
ルオクソチタン酸含有分散媒を加熱して行ってもよい。
加熱温度は室温〜１００℃、好ましくは３０〜８０℃で
ある。ペルオクソチタン酸水溶液を８０℃以上で加熱処
理すると、酸化チタン粒子が析出させることができ、酸
化チタン粉末の濃度を調整することもできる。

【００２１】ペルオクソチタン酸含有分散媒に酸化チタ
ン粉末を添加する方法としては、これに限定されず、酸
化チタン粉末とペルオクソチタン酸を同時に分散媒に添
加し攪拌する方法、予め酸化チタン粉末を添加した分散
媒にペルオクソチタン酸を添加し、攪拌する方法などが
挙げられる。本発明においては、ペルオクソチタン酸水
溶液に酸化チタン粉末を添加し攪拌する方法、分散媒に
ペルオクソチタン酸と酸化チタン粉末を同時添加し攪拌
する方法又は分散媒にペルオクソチタン酸を添加し、そ
の後酸化チタン粉末を添加し攪拌する方法が好ましい。

【００２２】本発明の光触媒用塗膜形成用組成物中の酸
化チタン粉末の濃度は、通常０．５〜６０重量％、好ま
しくは５〜６０重量％、より好ましくは１０〜６０重量
％である。酸化チタン粉末の濃度が０．５重量％未満で
は、光触媒性能を十分に発揮できない。一方酸化チタン
粉末の濃度が６０重量％を越えると、ペルオクソチタン
酸分散媒中の酸化チタンの分散性が低下する。また、本
発明の光触媒用塗膜形成用組成物中のペルオクソチタン
酸の比率は、酸化チタン粉末に対して、１〜１００重量
％、好ましくは５〜８０重量％、より好ましくは１０〜
５０重量％である。光触媒用塗膜形成用組成物は酸化チ
タン粉末の分散性に極めて優れているので、酸化チタン
粉末の濃度として５０重量％以上含有することも可能で
ある。すなわち、本発明の光触媒用塗膜形成用組成物
は、酸化チタンの濃度を上げても、分散体自体の粘度が
あまり上昇しないので、光触媒用塗膜を形成した場合、
従来では達成し得なかった均一でかつ固体酸化チタン濃
度の高い酸化チタン膜の調製が可能である。

【００２３】上述したようにペルオクソチタン酸水溶液
のみを８０℃以上で加熱処理すれば酸化チタン粒子が析
出し、酸化チタン分散体が得られるが、固体酸化チタン
の濃度が非常に低く、これを光触媒用塗膜に使用しても
光触媒活性の高い酸化チタン膜は得られない。これに対
し、本発明の光触媒用塗膜形成用組成物では、ペルオク
ソチタン酸含有分散媒に、酸化チタン粉末を添加し均一
分散させ、酸化チタンを高濃度にすることが可能である
ので、光触媒用塗膜を形成した際、光触媒活性の高い酸
化チタン膜を得ることができる。

【００２４】本発明の光触媒用塗膜形成用組成物におい
て、ペルオクソチタン酸と酸化チタン粉末の水分散体の
場合、そのｐＨはその用途によって任意に調製しうる
が、本発明ではｐＨ５〜１０、好ましくはｐＨ６〜８、
特に好ましくはｐＨ６．５〜７．５である。元来酸化チ
タン粒子表面に水酸基を含有しているため、中性領域で
は分散性がよくない。そのため前述したように従来の酸
化チタンゾルは、酸性にｐＨを調整し分散性を改善して
いる。従って酸化チタンゾルを基材に吹き付け酸化チタ
ン膜を形成し光触媒を調製する場合、酸性で腐食するよ
うな基材は使用できないため、その用途に制限があっ
た。しかし、本発明の光触媒用塗膜形成用組成物は上記
のように中性領域においても、極めて高い分散性を示す
ため、酸性領域において耐蝕性に劣る材料を基材として
酸化チタン膜を形成でき、光触媒用塗膜形成用として非
常に有効である。また、特に加熱処理を施さなくとも強
固でかつ高活性な光触媒用酸化チタン塗膜を形成できる
ため、木材、繊維、紙、プラスティックなど耐熱性のな
い材料や、建造物の外壁や内壁、また道路のアスファル
トなど広い面積にわたる場所で加熱処理を施すことが困
難な基材にも適用することができる。さらに、中性領域
で調製されるので、酸性領域で耐蝕性に劣るコンクリー
トなどの基材に対して光触媒用塗膜形成組成物が適用で
きる。

【００２５】前記光触媒用塗膜形成用組成物を用いて本
発明の光触媒用塗膜を形成するが、この塗膜は、該組成
物を基材表面に塗布し、乾燥して形成する。このときの
塗布の方法は公知の方法でよく、例えばスプレーコーテ
ィング法、ディップコーティング法、スピンコーティン
グ法などが挙げられる。このなかでは、ディップコーテ
ィング法を用いることが好ましい。次いで、塗布した後
乾燥して酸化チタン膜を形成するが、本発明では、特別
な加熱処理を施さなくとも常温〜１００℃未満で乾燥す
れば、強固でかつ光触媒活性の高い塗膜が形成される。
また、１００℃〜５００℃の範囲で加熱処理することに
よっても、より強固な塗膜を形成することができる。ま
た塗膜の厚さは光触媒活性が発現しうる程度でかつ塗膜
の強度が確保し得る程度であれば特に制限はないが、通
常０．１〜１０μｍ、好ましくは０．５〜２μｍであ
る。

【００２６】本発明の光触媒用塗膜組成物が塗布される
基材としては、ステンレス、炭素鋼、アルミ、チタンな
どの金属、ガラス、コンクリート、アスファルト、スレ
ート、石材、木材、繊維もしくはプラスティックなど有
機材料、紙など、酸性領域において耐蝕性のない材料及
び耐熱性のない材料を含むあらゆる材料が利用できる。
プラスティック、繊維などの有機材料を基材に用い、そ
の表面に光触媒用塗膜を形成する場合、先ず基材表面を
保護するためのアンダーコーティングを施した後、光触
媒用塗膜を形成することが望ましい。このときアンダー
コーティングの材料としては、シリカ、アルミナ、アル
キルシリケートおよびペルオクソチタン酸などが用いら
れる。

【００２７】以上のように本発明の光触媒用塗膜形成用
組成物は、中性領域で調製され、かつ酸化チタン粉末が
高濃度でかつ高分散しており、特に高温での加熱処理を
施さなくとも簡易に強固でかつ高活性の光触媒用塗膜を
形成できるので、酸性領域で耐蝕性のない材料及び耐熱
性のない材料を基材とした場合にも酸化チタン膜を形成
できる。また、本発明の光触媒用塗膜は、酸性領域で耐
蝕性のない材料及び耐熱性のない材料を基材とした場合
にも形成できるため、該塗膜が形成された塗布物は幅広
い用途に利用可能であり、例えば、建造物の外壁、内壁
また屋根の汚れ防止用部材、またトンネル内や駐車場の
内壁部材に適用できる。トンネル内や駐車場の内壁部材
に用いれば、光触媒作用によるＮＯ_Xなどの自動車の排
ガスの分解除去が可能である。

【００２８】

【実施例】以下、本発明を実施例および比較例によりさ
らに具体的に説明する。本明細書において、酸化チタン
粉末の不純物量の測定及びルチル化率は以下に示す方法
で測定した。

【００２９】（不純物の定量）酸化チタン粉末中のＦ
ｅ、Ａｌ、Ｓｉ及びＮａ分を原子吸光法により定量分析
した、また、塩素分は吸光光度法により測定した。

【００３０】（ルチル化率）ＡＳＴＭＤ 3720-84 に
従いＸ線回折パターンにおける、ルチル型結晶酸化チタ
ンの最強回折線（面指数１１０）のピーク面積（Ｉｒ）
と、アナターゼ型結晶酸化チタンの最強回折線（面指数
１０１）のピーク面積（Ｉａ）を求め前述の算出式より
求めた。

【００３１】実施例１（光触媒用塗膜形成用組成物の調製）気相法により得ら
れた酸化チタンであって、平均粒子径（ＢＥＴ径）０．
０３μｍ、比表面積（ＢＥＴ）４６m²／ｇ、ルチル化率
３３．３％、Ｆｅ、Ａｌ、Ｓｉ及びＮａ分が各々１０pp
m 以下、塩素分８０ppm である酸化チタン粉末５ gを
０．８５重量％のペルオキソチタン酸水溶液４５ml（分
散媒）中に０．５ｇずつ１０回に分割して添加し、添加
するたびに、常温下、ホモジナイザーで１００００ｒｐ
ｍの高速攪拌を２０分間行い、分散させ、光触媒用塗膜
形成用組成物を得た。ｐＨは６．８であった。

【００３２】（光触媒用塗膜の形成）基材としてスライ
ドガラスを用い、ディップコーティング法より光触媒用
塗膜を基材に形成した。上記光触媒用塗膜形成用組成物
中に、スライドガラスを浸漬させ、引き上げ、その後５
０℃で１０分乾燥し、この操作を１０回繰り返して光触
媒用塗膜を形成した。

【００３３】（光触媒の評価）評価方法１（テトラクロロエチレンの気相分解反応）：
透明の密閉容器内に上記の光触媒用塗膜を形成した基材
を入れ、さらにテトラクロロエチレンを５μmol注入し
た。次いで５００Ｗの高圧水銀ランプ（光強度ステンレ
スメッシュにより１／２０に減光し、さらにＵＶ３４フ
ィルターおよびＵ３４０フィルターを通し３４０ｎｍ以
下をカットした）を点灯し、光触媒作用によるテトラク
ロロエチレンの分解反応を行った。その後密閉容器内の
気体を経時的にサンプリングし、ガスクロマトグラフィ
ーによりテトラクロロエチレンの濃度を測定し、テトラ
クロロエチレンの分解速度を求めた。この結果を表１に
示した。

【００３４】評価方法２（植物油の表面分解反応）：上
記の光触媒塗膜を形成した基材の塗膜面に、植物油を約
４ｍｇ滴下し塗膜面に均一に浸透させた。次いで５００
Ｗの高圧水銀ランプ（光強度ステンレスメッシュにより
１／２０に減光し、さらにＵＶ３４フィルターおよびＵ
３４０フィルターを通し３４０ｎｍ以下をカットした）
を点灯し、光触媒作用による植物油の分解反応を行っ
た。植物油の分解速度は、光触媒用塗膜を形成した基材
の重量減少を経時的に測定して評価した。この結果を表
１に示した。

【００３５】（光触媒用塗膜強度の評価）ＪＩＳＫ−
５４００（8.4.1 ）に準拠した鉛筆ひっかき値（試験機
法）及びＪＩＳ−５４００（8.5.2 ）に準拠した碁盤目
テープ法により、光触媒用塗膜の強度を評価した。その
結果を表１に示した。表中、鉛筆ひっかき値「Ｈ」は硬
いことを意味し、「６Ｂ」は軟らかいことを意味する。

【００３６】比較例１０．８５重量％のペルオキソチタン酸水溶液の代わり
に、水を用いた以外は、実施例１と同様の方法で行い、
酸化チタン分散体を得た。得られた酸化チタン分散体を
用いて実施例１と同様に塗膜を形成して評価を行った。
その結果を表１に示した。

【００３７】比較例２０．８５重量％のペルオキソチタン酸水溶液４５mlを１
００℃にて加熱処理し酸化チタン粒子を析出させ、酸化
チタン分散体を得た。得られた酸化チタン分散体を用い
て実施例１と同様に塗膜を形成し評価を行った。その結
果を表１に示した。

【００３８】

【表１】

【００３９】表１の結果から本発明の光触媒用塗膜形成
用組成物で作成した光触媒用塗膜は、光触媒活性が高
く、さらに塗膜強度に優れていることがわかる。

【００４０】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の光触媒用
塗膜形成用組成物は、中性領域で調製され、かつ酸化チ
タン粉末が高濃度でかつ高分散しており、特に高温での
加熱処理を施さなくとも簡易に強固でかつ高活性の光触
媒用塗膜を形成できるので、酸性領域で耐蝕性のない材
料及び耐熱性のない材料を基材とした場合にも酸化チタ
ン膜を形成できる。本発明の光触媒用塗膜組成物を塗布
した塗布物は、塗布する基材の種類を制限することな
く、特に酸性領域で耐蝕性のない材料及び耐熱性のない
材料を基材とすることもできる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ペルオクソチタン酸含有分散媒に、酸化
チタン粉末を均一分散してなることを特徴とする光触媒
用塗膜形成用組成物。
【請求項２】前記酸化チタン粉末の分散量が、前記組
成物中、０．５〜６０重量％であることを特徴とする請
求項１記載の光触媒用塗膜形成用組成物。
【請求項３】前記酸化チタン粉末の平均粒径が、０．
０１〜５μm であることを特徴とする請求項１記載の光
触媒用塗膜形成用組成物。
【請求項４】前記ペルオクソチタン酸含有分散媒がペ
ルオクソチタン酸水溶液であることを特徴とする請求項
１記載の光触媒用塗膜形成用組成物。
【請求項５】前記ペルオクソチタン酸水溶液のｐＨ
が、５〜１０であることを特徴とする請求項４記載の光
触媒用塗膜形成用組成物。
【請求項６】前記酸化チタン粉末が、四塩化チタンの
気相酸化反応で得られたものであることを特徴とする請
求項１に記載の光触媒用塗膜形成用組成物。
【請求項７】請求項１〜請求項６のいずれか１項に記
載の光触媒用塗膜形成用組成物を基材に塗布し、乾燥し
て得られる光触媒用塗膜。
【請求項８】請求項１〜請求項６のいずれか１項に記
載の光触媒用塗膜形成用組成物を基材に塗布し、乾燥し
て得られる光触媒用塗布物。