JP2001257139A5 - - Google Patents

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4581349B2 (ja) * 2003-08-29 2010-11-17 株式会社Sumco 貼合せsoiウェーハの製造方法
JP4902953B2 (ja) 2004-09-30 2012-03-21 ラピスセミコンダクタ株式会社 半導体装置の製造方法
US7781309B2 (en) 2005-12-22 2010-08-24 Sumco Corporation Method for manufacturing direct bonded SOI wafer and direct bonded SOI wafer manufactured by the method
JP2007243038A (ja) * 2006-03-10 2007-09-20 Sumco Corp 貼り合わせウェーハ及びその製造方法
JP5618521B2 (ja) * 2008-11-28 2014-11-05 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置の作製方法
JP2011029355A (ja) * 2009-07-24 2011-02-10 Sumco Corp レーザマーク付き半導体ウェーハの製造方法
JP5846727B2 (ja) * 2009-09-04 2016-01-20 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体基板の作製方法
JP6232186B2 (ja) * 2013-01-16 2017-11-15 住友化学株式会社 窒化物半導体ウェハのマーキング方法および識別符号付き窒化物半導体ウェハ
JP6155745B2 (ja) * 2013-03-26 2017-07-05 住友電気工業株式会社 半導体装置の製造方法及び半導体基板の製造方法
JP2016139642A (ja) * 2015-01-26 2016-08-04 株式会社東芝 半導体装置
JP6760245B2 (ja) * 2017-11-06 2020-09-23 信越半導体株式会社 薄膜soi層を有するsoiウェーハの製造方法
JP7467843B2 (ja) * 2019-08-29 2024-04-16 富士電機株式会社 炭化珪素エピタキシャル基板および炭化珪素エピタキシャル基板の製造方法
JP7354420B2 (ja) * 2020-04-02 2023-10-02 東京エレクトロン株式会社 基板処理方法及び基板処理装置
WO2025094811A1 (ja) * 2023-11-02 2025-05-08 住友電気工業株式会社 半導体基板およびエピタキシャル基板

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