JP2001242463A - 液晶表示素子の作製方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 画素基板と透明基板との間隙を設計通りにな
るようにし、かつ画像表示ムラのない液晶表示素子の作
製方法を提供する。 【解決手段】 転写版３上に配向部１を形成し、この配
向部１上に印刷液４を塗布し、転写版３の配向部１側を
画素基板５又は透明基板７に接触させることによって印
刷液４を画素基板５又は透明基板７に転写して配向膜６
を形成した後、画素基板５又は透明基板７上に配向膜６
を取り囲み、かつこの配向膜６の外周部にオーバラップ
するスペーサボール９を含んだシール剤８を形成し、こ
れらの配向膜６、６同士を互いに対向配置させ、シール
剤８を介して画素基板５と透明基板７とを所定の間隙を
有して貼り合わせ、この間隙に液晶層１０を注入してな
る液晶表示素子の作製方法において、配向部１は、外周
部に上方に向いた突起部２を有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、表示装置に用いら
れる液晶表示素子の作製方法に係わり、特に配向膜の形
成方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の液晶表示素子について図５を用い
て説明する。図５は、従来の液晶表示素子を示す断面図
である。図５に示すように、液晶表示素子は、画素基板
５上に形成された配向膜６と、この配向膜６を取り囲む
ように形成され、一定径のスペーサボール９を含んだシ
ール剤８と、一方、透明電極７上に形成された配向膜６
と、これらの配向膜６、６を互いに対向させて、画素基
板５と透明基板７とが所定の間隙ｄを有して貼り合わさ
れ、この間隙に注入された液晶層１０とからなる。

【０００３】この液晶表示素子は、以下のように作製す
る。画素基板５上に配向膜６を形成し、この配向膜６を
取り囲み、かつこの外周部とオーバーラップする所定径
のスペーサボール９を含んだシール剤８を形成する。一
方、透明基板７上にも配向膜６を形成する。次に、前記
した配向膜６、６同士を互いに向かい合わせ、シール剤
８を介して画素基板５と透明基板７とを所定の間隙ｄを
有して貼り合わせた後、この間隙に液晶層１０を注入し
て作製する。

【０００４】ここで、配向膜６、６の形成方法につい
て、図６乃至図９を用いて詳細に説明する。図６は、薄
膜印刷装置を示す概略図である。図７は、配向部が形成
された転写版を示し、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は（Ａ）
のＭＭ断面図である。図８は、印刷液塗布工程を示す断
面図である。図９は、配向膜形成工程を示す断面図であ
る。まず始めに、薄膜印刷装置１１について説明する。
図６に示すように、薄膜印刷装置１１は、印刷液４を滴
下するディスペンサ１２と、回転可能な円筒状のドクタ
ーロール１３と、このドクターロール１３と摺接し、表
面に印刷液４を保持する複数の凹溝１４が形成されてい
る回転可能な円筒状のアニロックスロール１５と、わず
かな隙間を有して、このアニロックスロール１５の下方
に近接配置された円筒状の版銅１６と、上下左右に稼動
可能な印刷テーブル１７とからなる。

【０００５】次に、この薄膜印刷装置１１を用いた配向
膜の形成方法について説明する。 （調整工程）まず始めに、図７（Ａ）及び（Ｂ）に示す
表面に配向部１が形成された金属製の転写版３を図示し
ないシート状のマグネット等を用いて版銅１６に固着し
た後、上下左右に稼動可能な印刷テーブル１７を版銅１
６の下方に配置する。次に、印刷テーブル１７上に画素
基板５を固定し、この印刷テーブル１７が版銅１６の下
方に位置した時、印刷テーブル１７上の画素基板５が版
銅１６に固着された配向部１に摺接するように調節す
る。初期状態では、印刷テーブル１７を版銅１６の左下
方に位置Ａに配置する。また、アニロックスロール１５
と版銅１６との間の間隙は、配向部１の厚さと略等しく
する。

【０００６】（印刷液滴下工程）次に、アニロックスロ
ール１５を回転させながら、ディスペンサ１２から印刷
液４をこのアニロックスロール１５上に滴下させて凹溝
１４中に印刷液４を満たすと共に表面に塗布する。この
後、ドクターロール１３をアニロックスロール１５に摺
動させながら回転させ、このアニロックスロール１５の
凹溝１４中及び表面の印刷液４を均一化する。

【０００７】（印刷液塗布工程）次に、図８に示すよう
に、版銅１６をアニロックスロール１５に摺動させなが
ら回転させ、転写版３上に形成された配向部１をアニロ
ックスロール１５に接触させて、凹溝１４中及び表面の
印刷液４を配向部１上に塗布する。

【０００８】（配向膜形成工程）続いて、図９に示すよ
うに、画素基板５を固定した印刷テーブル１７を左下方
の位置Ａから右下方の位置Ｂまで水平移動し、版銅１６
の下方を通過させ、配向部１を画素基板５上に重ねるこ
とによって印刷液４をこの画素基板５上に転写して配向
膜６を形成する。なお、図５で示した透明基板７上に配
向膜６を形成する場合には、印刷テーブル１７上に透明
基板７を固定して、前記と同様にして行うことができ
る。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
液晶表示素子の形成方法における問題点について図５、
図９及び図１０を用いて説明する。図１０は、転写版に
形成された配向部と画素基板とが接触する部分を示す拡
大図である。図１０に示すように、配向部１上の印刷液
４を画素基板５に転写する際に、転写版３が画素基板５
に押し付けられるので、配向部１上の印刷液４がこの外
周囲にはみ出して側部１ａに回り込む。この側部１ａに
回り込んだ印刷液４は、配向部１の中央部よりも厚くな
る傾向にある。

【００１０】このため、図９に示すように、画素基板５
上には、外周部に凸部Ｑを有する配向膜６が形成される
ことになる。なお、透明基板７上に形成される配向膜６
の場合も同様である。図５に示すように、配向膜６の外
周部は、シール剤８の塗布領域と一部オーバーラップさ
せるようにするので、画素基板５と透明基板７とを貼り
合わせる際に、このシール剤８中のスペーサボール９が
画素基板５と透明基板７との間の最も狭い間隙の凸部Ｑ
間にも入る。この結果、画素基板５と透明基板７との間
隙は、スペーサボール９の径と、凸部Ｑの高さとを加え
たものとなるので、この凸部Ｑの高さだけ画素基板５と
透明基板７との間隙ｄが広がってしまう。このため、液
晶層１０の厚さｄが厚くなるため、液晶層１０の光応答
速度が遅くなる等の光特性を低下させるといった問題を
生じていた。

【００１１】この凸部Ｑを生じないように印刷液４を少
量にすると、配向膜６の外周部も薄くなるが、配向膜６
の厚さムラを生じる。配向膜６が形成されなかった部分
では、液晶層１０の配向制御ができないので、画像表示
ムラを生じるといった問題を生じていた。

【００１２】そこで、本発明は、上記のような問題点を
解消するためになされたもので、画素基板と透明基板と
の間隙を設計通りになるようにし、かつ画像表示ムラの
ない液晶表示素子の作製方法を提供することを目的とす
る。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示素子の
作製方法は、転写版上に配向部を形成し、この配向部上
に印刷液を塗布し、前記転写版の配向部側を画素基板又
は透明基板に接触することによって前記印刷液を前記画
素基板又は透明基板に転写して配向膜を形成した後、前
記画素基板又は前記透明基板上にこの配向膜を取り囲
み、かつ前記配向膜の外周部とオーバーラップするスペ
ーサボールを含んだシール剤を形成し、これらの配向膜
同士を互いに対向配置させ、前記シール剤を介して前記
画素基板と前記透明基板とを所定の間隙を有して貼り合
わせ、この間隙に液晶層を注入してなる液晶表示素子の
作製方法において、前記配向部は、外周部に上方に向い
た突起部を有することを特徴とする。

【００１４】

【発明の実施の形態】本発明の実施形態の液晶表示素子
の作製方法について図１乃至図４を用いて説明する。図
１は、本発明の実施形態に係わる配向部を示す断面図で
ある。図２は、本発明の実施形態に係わる印刷塗布工程
を示す断面図である。図３は、本発明の実施形態に係わ
る配向膜形成工程を示す断面図である。図４は、本発明
の実施形態により作製された液晶表示素子を示す断面図
である。本発明の実施形態の液晶表示素子の作製方法
は、従来の液晶表示素子の作製方法の代わりに、外周部
に上方に向いた突起部２を有する配向部１を形成した転
写版３を用いて、この配向部１上に印刷液４を塗布した
後、画素基板５又は透明基板７上にこの印刷液４を転写
することによって配向膜６を形成するようにしたもので
あり、その他は同様である。従来例と同一構成には同一
符号を付し、その説明を省略する。

【００１５】以下に、詳細に説明する。図１に示すよう
に、転写版３上に外周部に上方に向いた突起部２が形成
された配向部１を用意する。この後、従来の液晶表示素
子の作製方法における（調整工程）乃至（印刷液塗布工
程）と同様の工程を行って、図２に示すように、印刷液
４を配向部１上に塗布する。この際、配向部１の外周部
には上方に向いた突起部２が形成されているので、この
配向部１の突起部２に塗布される印刷液４の厚さは、突
起部２以外の部分よりも薄くなる。

【００１６】次に、図３に示すように、従来の液晶表示
素子の作製方法における（配向膜形成工程）と同様の工
程を行って、画素基板５上に印刷液４による配向部１の
パターンを転写して配向膜６を形成する。この際、画素
基板５上に形成された配向膜６は、外周部の厚さが中央
部よりも薄い形状となる。透明基板７上に配向膜６を形
成する場合にも同様となる。これは、配向部１の側部１
ａにはみ出す印刷液４の量は、配向部１の突起部２上に
塗布された印刷液４の量に依存するが、突起部２の高さ
を調節して、この突起部２上に塗布される印刷液４の量
を少なくし、配向部１ａの側部に回り込む印刷液４の量
を少なくすることによって実現できる。

【００１７】図４に示すように、従来と同様にして、画
素基板５と透明基板７とを貼り合わせて液晶表示素子を
作製する。この際、画素基板５と透明基板７との間の最
も狭い間隔幅は、配向膜６、６間となる。このため、配
向膜６、６間に挿入されたシール剤８中のスペーサボー
ル９の径によって設定される。この結果、このスペーサ
ボール９の径の厚さで決定される液晶層１０の厚さｄを
得ることができる。

【００１８】このように、本発明の実施形態によれば、
スペーサボール９の径だけによって形成される間隙に液
晶層１０を注入して作製するので、設計通りの厚さの液
晶層１０を得ることができるため、良好な光特性を得る
ことができる。また、印刷液４の量を少量にする必要が
ないので、画素基板５及び透明電極７上での配向膜６、
６の厚さムラが生じない。この結果、良好な画像表示を
得ることができる。

【００１９】

【発明の効果】本発明の液晶表示素子の作製方法によれ
ば、転写版上に配向部を形成し、この配向部上に印刷液
を塗布し、前記転写版の配向部側を画素基板又は透明基
板に接触することによって前記印刷液を前記画素基板又
は透明基板に転写して配向膜を形成した後、前記画素基
板又は前記透明基板上にこの配向膜を取り囲み、かつ前
記配向膜の外周部とオーバーラップするスペーサボール
を含んだシール剤を形成し、これらの配向膜同士を互い
に対向配置させ、前記シール剤を介して前記画素基板と
前記透明基板とを所定の間隙を有して貼り合わせ、この
間隙に液晶層を注入してなる液晶表示素子の作製方法に
おいて、前記配向部は、外周部に上方に向いた突起部を
有するので、設計通りの厚さの前記液晶層を得ることが
できるため、良好な良好な画像表示を得ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態に係わる配向部を示す断面図
である。

【図２】本発明の実施形態に係わる印刷塗布工程を示す
断面図である。

【図３】本発明の実施形態に係わる配向膜形成工程を示
す断面図である。

【図４】本発明の実施形態により作製された液晶表示素
子を示す断面図である。

【図５】従来の液晶表示素子を示す断面図である。

【図６】薄膜印刷装置を示す概略図である。

【図７】配向部が形成された転写版を示し、（Ａ）は平
面図、（Ｂ）は（Ａ）のＭＭ断面図である。

【図８】印刷液塗布工程を示す断面図である。

【図９】配向膜形成工程を示す断面図である。

【図１０】転写版に形成された配向部と画素基板とが接
触する部分を示す拡大図である。

【符号の説明】

１…配向部、２…突起部、３…転写版、４…印刷液、５
…画素基板、６…配向膜、７…透明基板、８…シール
剤、９…スペーサボール、１０…液晶層

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】転写版上に配向部を形成し、この配向部上
   に印刷液を塗布し、前記転写版の配向部側を画素基板又
   は透明基板に接触することによって前記印刷液を前記画
   素基板又は透明基板に転写して配向膜を形成した後、前
   記画素基板又は前記透明基板上にこの配向膜を取り囲
   み、かつ前記配向膜の外周部とオーバーラップするスペ
   ーサボールを含んだシール剤を形成し、これらの配向膜
   同士を互いに対向配置させ、前記シール剤を介して前記
   画素基板と前記透明基板とを所定の間隙を有して貼り合
   わせ、この間隙に液晶層を注入してなる液晶表示素子の
   作製方法において、 前記配向部は、外周部に上方に向いた突起部を有するこ
   とを特徴とする液晶表示素子の作製方法。