JP2001232568A - 研削装置用多孔質砥石 - Google Patents

研削装置用多孔質砥石

Info

Publication number
JP2001232568A
JP2001232568A JP2000043736A JP2000043736A JP2001232568A JP 2001232568 A JP2001232568 A JP 2001232568A JP 2000043736 A JP2000043736 A JP 2000043736A JP 2000043736 A JP2000043736 A JP 2000043736A JP 2001232568 A JP2001232568 A JP 2001232568A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
porous
grinding
grindstone
silica
binder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000043736A
Other languages
English (en)
Inventor
Tetsuo Okuyama
哲雄 奥山
Shiro Murai
史朗 村井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippei Toyama Corp
Original Assignee
Nippei Toyama Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippei Toyama Corp filed Critical Nippei Toyama Corp
Priority to JP2000043736A priority Critical patent/JP2001232568A/ja
Publication of JP2001232568A publication Critical patent/JP2001232568A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 結合剤を使用せず、少ない製造工程により製
造できる多孔質体よりなる仕上げ用砥石の提供。 【解決手段】 ゾル−ゲル法、沈降法、気相法等によっ
て製造された多孔質シリカ材を成形することによって製
造される。多孔質材料としてシリカ材のほか、アルミ
ナ、チタニア、ジルコニアなどを使用することもでき
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、多孔質体砥石に係
り、特に、研削装置において、仕上研削に用いられる研
削装置用多孔質砥石に関する。
【0002】
【従来の技術】たとえば、ICチップを作成する場合、
鏡面シリコンウェーハ片面にIC(集積回路)を作製し
た後に、その裏面加工としてウェーハの片面研削が行わ
れる。この場合、まずウェーハの片面(研削面)を荒砥
石などを用いて荒削りする。荒砥石による荒削りが済ん
だら、その研削面を仕上砥石によって研削して仕上処理
を行うというものである。
【0003】このような研削を行う研削装置において、
仕上研削を行う仕上砥石としてたとえば、従来、微粒子
シリカを用いた多孔質砥石が知られている。この微粒子
シリカを用いた多孔質砥石を製造する際には、多数の微
粒子シリカを、フェノール系の結合剤などによって結合
する。そして、微粒子シリカ間に隙間ができるようにし
て多孔質砥石として製造するようにしていた。この多孔
質砥石では、複数の微粒子シリカ間に形成された隙間に
よって、多孔質部分が形成されているものであった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記従来の研
削装置における仕上砥石として用いられる多孔質砥石
は、微粒子シリカを結合剤で結合しているものである。
このため、微粒子シリカを取り出し、その微粒子シリカ
を結合剤によって結合するという複数の工程を経る必要
があり、製造工程が多くなるという問題があった。ま
た、結合剤としてフェノール樹脂系の結合剤を用いた場
合には、仕上研削を行う際に、結合剤自体が被加工物の
研削面をこすってしまい、その分研磨力が落ちてしまう
という問題もあった。
【0005】そこで、本発明の課題は、少ない製造工程
で多孔質砥石を製造することができるようにするととも
に、結合剤のこすれによる研磨力の低下を防止すること
にある。
【0006】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決した本発
明は、研削装置に用いられる多孔質体からなる多孔質砥
石であって、多孔質材料を成形することによって製造さ
れていることを特徴とする研削装置用多孔質砥石であ
る。
【0007】研削装置用多孔質砥石を製造する際、従来
のように微粒子シリカを結合剤によって結合するのでは
なく、本発明では、一般に用いられている多孔質材料、
たとえば多孔質シリカを用いている。このため、原材料
である多孔質シリカは、すでに多孔質材によって形成さ
れているので、その分多孔質砥石の製造工程を削減する
ことができる。しかも、本発明において、多孔質シリカ
はそれ自体が結合剤としても機能している。したがっ
て、砥石を製造する際に結合剤を用いていないので、被
加工物を研削しているときに、結合剤で被加工物をこす
ってしまうという事態が生じることはなくなる。さらに
は、高価な結合剤を使用しないので、コストダウンに寄
与する。
【0008】本発明における「多孔質材料」としては、
適宜公知の多孔質材料を用いることができる。具体的に
は、多孔質シリカを挙げることができ、この多孔質シリ
カとしてはゾル−ゲル法、沈降法、気相法などによって
生成されたものを例示することができる。また、多孔質
シリカをゾル−ゲル法によって製造する場合には、原材
料として、シリカ乾燥ゲル体を用いることもできるし、
シリカ乾燥ゲル体を加熱して得られるシリカ加熱ゲル体
を用いることもできる。他方、本発明における多孔質材
料としては、シリカのほかに、アルミナ、チタニア、ジ
ルコニアなどを用いることもできる。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
面を参照しながら、具体的に説明する。図1は、本発明
に係る多孔質砥石を有するカップ型砥石の外形を示す正
面断面図、図2は、その斜視図である。本実施形態にお
いては、多孔質シリカを原材料とする多孔質体砥石をゾ
ル−ゲル法を用いて製造する例について説明する。
【0010】本発明に係る研削装置用多孔質砥石(以下
「多孔質砥石」という)の製造工程を説明する前に、多
孔質砥石の外形について、多孔質砥石をカップ型砥石と
した例について簡単に説明する。図1に示すように、カ
ップ型砥石Cは、本発明に係る多孔質砥石1を有してい
る。この多孔質砥石1はホルダ2に固定されており、ホ
ルダ2はたとえばボルト3,3…などによって研削装置
における研削ヘッド4に固定されている。この研削ヘッ
ド4は、図示しないモータなどによって自転可能とされ
ている。そして、研削ヘッド4を自転させて、多孔質砥
石1を回転させることによって、被加工物Wの表面を研
削する。
【0011】本実施形態に係る多孔質砥石1は、たとえ
ばメッシュサイズが♯2000程度と細かい仕上砥石と
して用いられる。この多孔質砥石1による仕上研削は、
たとえばメッシュサイズが♯600と荒い荒砥石による
荒研削の後に行われる。
【0012】このような外形を有するカップ型砥石Cに
おける多孔質砥石1の組織構造の摸式図を図3に示す。
図3に示すように、本実施形態に係る多孔質砥石1は、
多孔質シリカを原材料として形成され、シリカ骨格11
と細孔12によって構成されている。シリカ骨格11
は、図4にイメージで示す化学構造を有しており、多孔
質砥石1における砥粒として機能し、細孔12は、その
まま多孔質砥石の孔部として機能する。
【0013】本実施形態における多孔質砥石1は、この
ような多孔質シリカを成形することによって製造されて
いる。また、シリカ骨格11は、従来の多孔質砥石に用
いられていた結合剤としても機能しているので、別途フ
ェノール系などの結合剤を必要しない。このため、結合
剤が孔部に目詰まりを起こしたり、接触抵抗の増大を防
止することができる。さらには、高価な結合剤を使用し
ないので、コストダウンに寄与する。
【0014】それでは、本実施形態に係る多孔質砥石1
の製造工程について説明する。本実施形態では、ゾル−
ゲル法によって多孔質砥石1を製造するものであるが、
ゾル−ゲル法によって最初に生成するゲルは多孔質であ
るので、乾燥ゲルの状態かあるいは乾燥ゲルを加熱して
ゲル骨格を強化した加熱ゲルの状態で多孔質砥石1とし
て利用することができる。
【0015】ゾル−ゲル法によって多孔質砥石1を製造
するにあたり、最初に出発溶液を調整する。出発溶液に
は、原料化合物、加水分解に必要な水、溶媒としてのア
ルコール類、触媒としての酸または塩基などが添加され
ている。さらには、必要に応じてその他の化合物あるい
は溶媒を混合して均質溶液としている。
【0016】この出発溶液を数10℃に保って加水分解
と重縮合反応を起こさせて酸化物微粒子または高分子が
分散している液体のゾルを生成する。この温度下でさら
に反応を進めると、粒子が繋がってゲルが生成される。
ゲル化した時点でゲルが水や溶液を含んでいる場合に
は、水分を蒸発させて乾燥ゲルとする。かくして生成さ
れた乾燥ゲルは多孔質であり、本実施形態に係る多孔質
砥石1は、この乾燥ゲルを成形することによって製造す
ることができる。
【0017】ここで、乾燥ゲルを成形して多孔質砥石1
とする場合には、最高処理温度が100℃〜150℃か
それより低い。このため、有機物の分解が起こらないの
で、必要な成分として溶液調合時に加えた有機物の機能
を利用したナノコンポジットや有機−無機ハイブリッド
が作られたものとすることができる。
【0018】さらに、本実施形態に係る多孔質砥石1
は、乾燥ゲルを加熱してなる加熱ゲルを成形して製造す
ることもできる。乾燥ゲルを数100℃で加熱して得ら
れる加熱ゲルは、ガラスあるいはガラスに近い状態にな
って強度が増しているので、多孔質砥石1として用いる
のに好適である。多孔質砥石1を製造するにあたり、出
発溶液中に無機または金属微粒子の原材料を入れておく
ことによって、加熱によって微粒子を析出させると微粒
子が分散し、多孔質砥石1の硬度などを調整することが
できる。また、有機分子の集まりである有機ピグメント
を導入し、200℃近くまで加熱してピグメントを分解
することなくゲルを強化することも可能である。
【0019】ゾル−ゲル法によって製造される多孔質シ
リカは、出発溶液の組成などによって、その平均細孔径
を調整することができ、たとえば2.5nm程度、16
nm程度、5〜10μm程度とすることができる。この
うち、平均細孔径5〜10μm程度の多孔質シリカを多
孔質砥石1として用いるのが好適である。
【0020】平均細孔径が5〜10μmの多孔質シリカ
は、図3に示すように、直径約5μmの比較的大きい球
形粒子が繋がってできた骨格からなっており、粒子間の
つながり部分がネック状になっている。この骨格と骨格
の間が細孔となると考えられる。ここで、平均細孔径や
平均細孔体積を適宜調整することによって、多孔質砥石
1の硬度を調整することもできる。
【0021】以上、本発明の好適な実施形態について説
明したが、本発明は前記実施形態に限定されるものでは
ない。たとえば、多孔質材料としてシリカを用いたもの
の他、アルミナ、チタニア、ジルコニアなどを多孔質材
料として多孔質材砥石を製造することもできる。また、
出発溶液中に予めシリカ粒子を混合させておくこともで
きる。シリカ粒子を混合させておくことにより、その混
合割合によって多孔質砥石の硬度などを容易に調整する
ことができる。
【0022】また、前記実施形態ではカップ型砥石とし
て多孔質砥石を用いたが、他の態様の砥石単体、たとえ
ばブロック形状として用いることもできるし、弾性体の
上に多孔質砥石を堆積させて使用することもできる。
【0023】
【発明の効果】以上のとおり、本発明によれば、原材料
はすでに多孔質材によって形成されているので、砥石の
製造工程を削減することができる。しかも、砥石を製造
する際に結合剤を用いていないので、被加工物を研削し
ているときに、結合剤で滑ってしまうという事態が生じ
ることを無くすことが可能となる。さらには、高価な結
合剤を使用しないので、コストダウンに寄与する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る多孔質砥石を有するカップ型砥石
の外形を示す正面断面図である。
【図2】本発明に係る多孔質砥石を有するカップ型砥石
の外形を示す斜視図である。
【図3】本発明に係る多孔質砥石の組織構造の摸式図で
ある。
【図4】本発明に係る多孔質砥石の化学構造のイメージ
を示す図である。
【符号の説明】
1 多孔質砥石 2 ホルダ 3 ボルト 4 研削ヘッド 11 シリカ骨格 12 細孔 C カップ型砥石

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 研削装置に用いられる多孔質体からなる
    多孔質砥石であって、 多孔質材料を成形することによって製造されていること
    を特徴とする研削装置用多孔質砥石。
JP2000043736A 2000-02-22 2000-02-22 研削装置用多孔質砥石 Pending JP2001232568A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000043736A JP2001232568A (ja) 2000-02-22 2000-02-22 研削装置用多孔質砥石

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000043736A JP2001232568A (ja) 2000-02-22 2000-02-22 研削装置用多孔質砥石

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001232568A true JP2001232568A (ja) 2001-08-28

Family

ID=18566605

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000043736A Pending JP2001232568A (ja) 2000-02-22 2000-02-22 研削装置用多孔質砥石

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001232568A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040041835A (ko) * 2002-11-12 2004-05-20 주식회사 새빛 실리카 연삭숫돌
EP2310168A2 (en) * 2008-06-13 2011-04-20 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Self-bonded foamed abrasive articles and machining with such articles

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040041835A (ko) * 2002-11-12 2004-05-20 주식회사 새빛 실리카 연삭숫돌
EP2310168A2 (en) * 2008-06-13 2011-04-20 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Self-bonded foamed abrasive articles and machining with such articles
JP2011524260A (ja) * 2008-06-13 2011-09-01 サンーゴバン アブレイシブズ,インコーポレイティド 自己融着型発泡研磨材物品およびこのような物品を用いた機械加工
US8696409B2 (en) 2008-06-13 2014-04-15 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Self-bonded foamed abrasive articles and machining with such articles
EP2310168A4 (en) * 2008-06-13 2015-03-11 Saint Gobain Abrasives Inc SELF-BONDED, STUFFED GRINDING BODIES AND MACHINING WITH SUCH ITEMS

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI343944B (en) Cmp slurry, preparation method thereof and method of polishing substrate using the same
CN1323124C (zh) 氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法
TWI331133B (en) Method for preparing of cerium oxide powder for chemical mechanical polishing and method for preparing of chemical mechanical polishing slurry using the same
TW494134B (en) Fine particulate polishing agent, method for producing the same and method for producing semiconductor elements
CN1935927B (zh) 氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法
CN102408871B (zh) 含抛光活性元素的多孔纳米复合磨粒、抛光液组合物及其制备方法
CN100337925C (zh) 结晶性二氧化铈溶胶及其制造方法
CN111527047B (zh) 多孔二氧化硅粒子及其制造方法
TW200521215A (en) Abrasive for chemical mechanical polishing and method for producing the same
JP2003529662A (ja) 研磨剤ならびに平面層の製造法
CN101006153A (zh) 氧化铈研磨剂以及包含该研磨剂的浆料
KR20060046118A (ko) 비트리파이드 본드 숫돌 및 그 제조방법
WO2007137508A1 (fr) Suspension de polissage pour planarisation fine de surfaces et procédé d'utilisation associé
Chen et al. Core/shell composites with polystyrene cores and meso-silica shells as abrasives for improved chemical mechanical polishing behavior
KR20130018378A (ko) 고공극율 초연마 수지 제품들 및 그 제조 방법
JP2007335847A (ja) 窒化珪素膜用研磨剤および研磨方法
JP5385653B2 (ja) 研磨用パッド及び研磨方法
TWI306841B (en) Preparing method of powder
JP2001232568A (ja) 研削装置用多孔質砥石
CN1187406A (zh) 用于硅衍生物或硅的绝缘材料层的新型化学机械抛光方法
WO2018012468A1 (ja) 研磨体およびその製造方法
JPH11246852A (ja) 研磨用スラリー、その調製方法及び化学的・機械的研磨方法
JP5385619B2 (ja) 研磨用組成物、研磨用部材、及び研磨方法
JP4167441B2 (ja) 研磨剤及びキャリア粒子
CN114433159A (zh) 用于化学机械平坦化的复合催化剂及其制备方法和抛光液