JP2001230268A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置の製造方法

Info

Publication number
JP2001230268A
JP2001230268A JP2000038431A JP2000038431A JP2001230268A JP 2001230268 A JP2001230268 A JP 2001230268A JP 2000038431 A JP2000038431 A JP 2000038431A JP 2000038431 A JP2000038431 A JP 2000038431A JP 2001230268 A JP2001230268 A JP 2001230268A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lead
tab
resin
tab suspension
qfn
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000038431A
Other languages
English (en)
Inventor
Shingo Osaka
慎悟 大坂
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Renesas Semiconductor Package and Test Solutions Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd
Priority to JP2000038431A priority Critical patent/JP2001230268A/ja
Publication of JP2001230268A publication Critical patent/JP2001230268A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32245Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45144Gold (Au) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01078Platinum [Pt]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ペリフェラル形の半導体装置におけるリード
の被実装面への樹脂付着を防止して実装性向上および外
観品質向上を図る。 【解決手段】 半導体チップを支持する四角形のタブ
と、前記タブの周囲に配置され、かつ前記タブの周囲か
ら外部に向かって延在する複数のリード1aと、前記半
導体チップの表面電極とこれに対応するリード1aとを
接続するワイヤと、前記半導体チップおよびリード1a
の一部を樹脂封止して形成された封止部3と、前記タブ
を支持するとともに、封止部3から外部に突出した突出
部1kに貫通孔1dが設けられたタブ吊りリード1cと
によって構成され、封止部3と繋がって一体に形成され
る残留樹脂9aがタブ吊りリード1cの突出部1kの貫
通孔1dに入り込んでいることにより、残留樹脂9aと
タブ吊りリード1cの突出部1kとの接着性を向上させ
てリード切断時の残留樹脂9aの剥離を防止する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造技術に
関し、特に、ペリフェラル形の半導体装置における外観
品質向上およびリードの被実装面への樹脂付着防止に適
用して有効な技術に関する。
【0002】
【従来の技術】以下に説明する技術は、本発明を研究、
完成するに際し、本発明者によって検討されたものであ
り、その概要は次のとおりである。
【0003】小形化・薄形化を図るとともにリードフレ
ームを用いて製造される半導体装置として、QFN(Qu
ad Flat Non-leaded Package) と呼ばれる小形の半導体
パッケージが開発されている。
【0004】このQFNでは、樹脂モールドによって形
成された封止部の裏面に各リードがその被実装面を露出
して配置され、これにより、表面実装形の構造となって
おり、これをペリフェラル形の半導体装置と呼んでい
る。
【0005】なお、QFNは、リードフレームの一方の
面側でのみモールドが行われるため、片面モールド構造
となり、これにより、各リードの一方の面(被実装面)
が封止部の裏面に露出する。
【0006】その結果、リードの切断(ピンチカット)
工程では、封止部から突出した各リード(タブ吊りリー
ドも含む)の根元部を切断金型によって上下から挟み込
んでパンチにより切断している。
【0007】したがって、リード切断後のQFNでは、
切断時の前記切断金型の押さえ代分、タブ吊りリードを
含む各リードが僅かに封止部から突出した状態となり、
これがQFNの製品形態となる。
【0008】また、QFN用のモールド金型には、複数
のタブ吊りリードのうちゲートに対応した箇所以外のタ
ブ吊りリードに、これに沿ってエアベントが形成され、
したがって、エアベントが形成された箇所に対応するタ
ブ吊りリードには、モールド時に、モールド金型のキャ
ビティからエアベントに向かって流出した樹脂(残留樹
脂)が付着する。
【0009】その結果、リード切断後、タブ吊りリード
の封止部から突出した前記押さえ代に相当する突出部に
は、その表面に前記残留樹脂が付着している。
【0010】ここで、QFNの構造とその製造方法につ
いては、例えば、株式会社プレスジャーナル1998年
7月27日発行、「月刊Semiconductor World 増刊号 '
99半導体組立・検査技術」56頁、57頁に記載されて
いる。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】ところが、前記した技
術のQFNにおいては、リード切断時に、タブ吊りリー
ドの突出部に付着していた残留樹脂が切断ストレスによ
って剥離する場合がある。
【0012】これにより、タブ吊りリードの突出部の表
面が露出し、その結果、QFNの外観品質が低下するこ
とが問題となる。
【0013】さらに、リード切断時に前記残留樹脂が剥
離すると、切断金型のダイ上に落下し、その結果、次の
リード切断時に、リードの被実装面に前記残留樹脂が付
着する。
【0014】これにより、QFNを実装基板などに実装
する際の実装不良を引き起こすことが問題となる。
【0015】本発明の目的は、リードの被実装面への樹
脂付着を防止して実装性向上および外観品質向上を図る
半導体装置の製造方法を提供することにある。
【0016】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【0017】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【0018】すなわち、本発明の半導体装置の製造方法
は、半導体チップを支持可能なタブと、これを支持する
タブ吊りリードと、前記タブの周囲に配置された複数の
リードとを備え、前記タブ吊りリードに貫通孔または凹
部が設けられたリードフレームを準備する工程と、前記
リードフレームの前記タブと前記半導体チップとを接合
する工程と、前記半導体チップの表面電極とこれに対応
する前記リードとを接続する工程と、前記半導体チップ
およびその周辺部を樹脂モールドして封止部を形成する
とともに、前記タブ吊りリードの前記貫通孔または前記
凹部にモールド金型のキャビティから流出した残留樹脂
を入り込ませる工程と、前記タブ吊りリードの前記封止
部から突出した突出部に前記残留樹脂を接合させて前記
リードおよび前記タブ吊りリードを前記リードフレーム
の枠部から切断分離する工程とを有するものである。
【0019】本発明によれば、モールド時に、モールド
金型のキャビティから流出した残留樹脂がタブ吊りリー
ドの貫通孔または凹部に入り込む。したがって、残留樹
脂とタブ吊りリードとの食いつき、すなわち、接着性を
向上でき、その結果、残留樹脂をタブ吊りリードに確実
に接合させることができる。
【0020】これにより、リード切断時の残留樹脂のタ
ブ吊りリードからの剥離を防止することができ、したが
って、タブ吊りリードの封止部からの突出部の表面露出
を防止することができる。
【0021】その結果、半導体装置の外観品質の向上を
図ることができる。
【0022】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明す
るための全図において、同一の機能を有する部材には同
一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。
【0023】図1は本発明の実施の形態の半導体装置で
あるQFNの構造の一例を示す図であり、(a)は平面
図、(b)は側面図、(c)は底面図、図2は図1に示
すQFNの構造を示す断面図、図3は図1に示すQFN
のタブ吊りリードの突出部の構造を一部破断して示す側
面図、図4は図1に示すQFNに用いられるリードフレ
ームの構造の一例を示す拡大部分平面図、図5は図1に
示すQFNの製造方法におけるモールド時の状態の一例
を示す部分断面図、図6は図1に示すQFNの製造方法
における組み立て手順の一例を示す製造プロセスフロー
図である。
【0024】図1〜図3に示す本実施の形態の半導体装
置であるQFN7は、樹脂モールドによって形成された
封止部3の裏面3aに実装基板などの基板端子と電気的
に接続する複数のリード1aの被実装面1bが露出して
配置されたペリフェラル形のものである。
【0025】したがって、QFN7は、薄形(小形)の
樹脂封止形で、かつ面実装形のものである。
【0026】図1〜図3を用いて、本実施の形態のQF
N7(半導体装置)の構成について説明すると、主面2
bに半導体集積回路が形成された半導体チップ2を支持
する四角形のタブ1eと、タブ1eの周囲に配置され、
かつタブ1eの周囲から外部に向かって延在する複数の
リード1aと、半導体チップ2の表面電極2aとこれに
対応するリード1aとを接続するボンディング用のワイ
ヤ4と、半導体チップ2、ワイヤ4およびリード1aの
一部を樹脂封止して形成された封止部3と、タブ1eを
その対角線上の4つの方向から支持するとともに、封止
部3から外部に突出した突出部1kに貫通孔1dが設け
られたタブ吊りリード1cとによって構成され、封止部
3と繋がって一体に形成される残留樹脂9aがタブ吊り
リード1cの突出部1kの貫通孔1dに入り込んでいる
ことにより、残留樹脂9aとタブ吊りリード1cの突出
部1kとの接着性を向上させてタブ吊りリード1cの突
出部1k上に確実に残留樹脂9aを配置するものであ
る。
【0027】なお、QFN7は、各リード1aの配置箇
所よりタブ1eの配置箇所を高くする構造(これをタブ
上げともいう)のものであり、したがって、図2に示す
ように、タブ1eの裏面1j側にも封止部3が形成され
ている。
【0028】すなわち、QFN7は、タブ埋め込み構造
である。
【0029】さらに、本実施の形態のQFN7は、タブ
1eが半導体チップ2よりも遙に小さく形成された小タ
ブ構造のものである。
【0030】なお、各リード1aの被実装面1bには、
半田めっきなどによるめっき層6が形成されている。
【0031】また、本実施の形態のQFN7では、4つ
のタブ吊りリード1cのうち、図5に示すモールド金型
8のゲート8cに対応した箇所以外のタブ吊りリード1
cの突出部1kのみに貫通孔1dが形成されている。
【0032】すなわち、モールド金型8のエアベント8
dに対応したタブ吊りリード1cのみに貫通孔1dが形
成されるため、本実施の形態では、図1(c)および図
4に示すように、4つのタブ吊りリード1cのうち、ゲ
ート8cに対応したタブ吊りリード1cを除き、かつエ
アベント8dに対応した残り3つのタブ吊りリード1c
の突出部1kにそれぞれ貫通孔1dが形成されている。
【0033】これにより、モールド時には、図5に示す
ようにキャビティ8eからエアベント8dに向かって流
出した封止用樹脂9の残留樹脂9aが、タブ吊りリード
1cの貫通孔1dに入り込み、この状態で硬化する。
【0034】したがって、残留樹脂9aとタブ吊りリー
ド1cとの密着性が向上し、硬化後リード切断を行って
も、残留樹脂9aは、タブ吊りリード1cの突出部1k
から剥離することなく、残留樹脂9aが突出部1kに付
着した状態を維持することができる。
【0035】これにより、本実施の形態のQFN7で
は、タブ吊りリード1cの封止部3からの突出部1k上
に残留樹脂9aが接合した構造となる。
【0036】また、QFN7では、半導体チップ2は、
図2に示すように、タブ1eのチップ支持面1i上にペ
付け材5を介して固定されている。
【0037】さらに、QFN7における各リード1a
は、インナリードの機能とアウタリードの機能との両者
を兼ね備えている。すなわち、リード1aのうち封止部
3内に埋め込まれた領域は、ワイヤ4と接続するインナ
リード領域であり、一方、封止部3の裏面3aにおいて
この封止部3から露出した被実装面1bを備える領域
は、アウタリード領域である。
【0038】また、QFN7で用いられるボンディング
用のワイヤ4は、例えば、金線である。
【0039】また、QFN7における各リード1aの被
実装面1bに形成された半田めっきなどによるめっき層
6は、QFN7を実装基板(図示せず)などに半田実装
した際の半田接続強度を高めるためのものであり、モー
ルドによる樹脂封止を行った後に、半田めっき処理が行
われて形成される。
【0040】なお、タブ1e、タブ吊りリード1cおよ
び各リード1aは、例えば、Cu、FeまたはFe−N
iなどによって形成され、その厚さは、例えば、0.1〜
0.2mm程度の薄板材である。
【0041】また、タブ吊りリード1cのリード幅は、
例えば、0.2mm程度であり、この場合の貫通孔1d
は、例えば、直径0.1mm程度である。
【0042】さらに、貫通孔1dの形成位置は、各タブ
吊りリード1cにおいて、リード切断後に封止部3側の
タブ吊りリード1cに残るように、すなわち封止部3か
らの突出部1kに形成しておく。これは、タブ吊りリー
ド1cの封止部3からの突出部1kにおいて、例えば、
封止部3の外周端部から0.1mm以内程度の距離の位置
である。
【0043】すなわち、リード切断では、切断金型によ
る押さえ代が、約0.1mm程度必要となるため、その結
果、突出部1kの突出量も約0.1mmとなり、したがっ
て、封止部3の外周端部から0.1mm以内の距離の位置
に貫通孔1dを形成しておく。
【0044】なお、貫通孔1dは、コスト的にはパンチ
ング加工によって形成されることが好ましいが、パンチ
ング加工が困難な場合には、微細加工に対応したエッチ
ング加工やレーザ加工などによって形成してもよい。
【0045】ただし、パンチング加工やレーザ加工を行
う際には、各リード1aの被実装面1b側に加工バリが
形成されないように、裏抜き加工すなわち被実装面1b
側から加工することが好ましい。
【0046】これにより、前記加工バリが被実装面1b
には形成されずにその反対側の面に形成されるため、前
記加工バリによる実装不良の発生を防ぐことができる。
【0047】また、封止部3は、モールド方法による樹
脂封止によって形成され、その際用いられる図5に示す
封止用樹脂9は、例えば、熱硬化性のエポキシ樹脂など
である。
【0048】次に、本実施の形態のQFN7の製造方法
を図6に示す製造プロセスフロー図にしたがって説明す
る。
【0049】まず、ステップS1により、半導体チップ
2を支持可能なほぼ四角形のタブ1eと、これをその4
つの角部で支持するタブ吊りリード1cと、タブ1eの
周囲に配置された複数のリード1aと、4本のタブ吊り
リード1cおよび各リード1aを支持する枠部1fとを
有し、かつ、モールド金型8のエアベント8dに対応し
たタブ吊りリード1cそれぞれに貫通孔1dが設けられ
た薄板状の金属板である図4に示すリードフレーム1を
準備する。
【0050】なお、リードフレーム1は、1枚のリード
フレーム1から複数個のQFN7を製造することが可能
な短冊状の細長い多連のものであり、1枚のリードフレ
ーム1には、1個のQFN7に対応したパッケージ領域
が複数個形成されている。
【0051】つまり、1枚のリードフレーム1には、1
個のQFN7に対応したパッケージ領域が複数個形成さ
れており、さらに、その枠部1fには、チップマウント
(ダイボンディング)時やワイヤボンディング時にリー
ドフレーム1を搬送する際の複数のガイド用長孔1gお
よび位置決め孔1hが形成されている。
【0052】なお、リードフレーム1の材料は、例え
ば、銅(Cu)、鉄(Fe)、または、鉄とニッケルと
の合金(Fe−Ni)などであり、その厚さは、例え
ば、0.1〜0.2mm程度であるが、前記材料や前記厚さ
などは、これらに限定されるものではない。
【0053】また、貫通孔1dは、これの封止部3の端
部からの距離が0.1mm以内になるような箇所に形成し
ておく。
【0054】一方、主面2bに半導体集積回路が形成さ
れた半導体チップ2を準備し、続いて、ステップS2に
よって半導体チップ2の供給を行う。
【0055】その後、ステップS3により、リードフレ
ーム1のタブ1eと半導体チップ2の裏面2cとを接合
する。
【0056】すなわち、図2に示すように、リードフレ
ーム1のタブ1eにペ付け材5を塗布し、主面2bを上
方に向けて半導体チップ2を固定するチップマウント
(ダイボンディングまたはペレットボンディングともい
う)を行う。
【0057】その後、半導体チップ2の表面電極2aと
これに対応する各リード1aとを金線であるボンディン
グ用のワイヤ4を用いてワイヤボンディング(ステップ
S4)し、これにより、半導体チップ2の表面電極2a
と各リード1aとを電気的に接続する。
【0058】その後、ステップS5に示すように、モー
ルドによる半導体チップ2の樹脂封止を行う。
【0059】ここでは、半導体チップ2およびその周辺
部を、図5に示す封止用樹脂9を使用したモールドによ
って樹脂封止する。その際、各リード1aの被実装面1
bが、封止部3の裏面3aに露出するように樹脂モール
ドを行って封止部3を形成する。
【0060】まず、図5に示すように、モールド金型8
の下金型8bの所定箇所にワイヤボンディング済みのリ
ードフレーム1(図4参照)を配置し、その後、モール
ド金型8における上金型8aと下金型8bとをクランプ
する。
【0061】続いて、モールド金型8のゲート8cを介
して封止用樹脂9をキャビティ8eに注入し、キャビテ
ィ8eに封止用樹脂9を充填する。その後、キャビティ
8eに充填された封止用樹脂9はキャビティ8eから流
出し、さらに、残留樹脂9aとなってタブ吊りリード1
cに沿ってエアベント8dに向かう。
【0062】その際、エアベント8dに対応した3つの
タブ吊りリード1cのそれぞれの貫通孔1dに残留樹脂
9aを入り込ませ、これにより、タブ吊りリード1cと
残留樹脂9aとの接着性を向上させて両者を接合する。
【0063】所定時間を経過させて封止用樹脂9および
残留樹脂9aを硬化させ、その後、上金型8aおよび下
金型8bの型開きを行ってモールド済みのリードフレー
ム1を取り出す。
【0064】その後、封止部3の裏面3aに露出した各
リード1aの被実装面1bに半田などのめっき層6を形
成する半田めっき(ステップS6)を行う。
【0065】続いて、タブ吊りリード1cの封止部3か
ら突出した突出部1kに残留樹脂9aを接合させて各リ
ード1aおよびタブ吊りリード1cをリードフレーム1
の枠部1fから切断によって切り離すリード切断(ステ
ップS7)を行う。
【0066】すなわち、リードフレーム1の枠部1fか
ら封止部3を含む各リード1aおよびタブ吊りリード1
cを切断(ピンチカット)分離して図1(a),(b),
(c)に示す形状とする。
【0067】ここでは、切断金型によって、各リード1
aおよびタブ吊りリード1cの封止部3寄りの際を押さ
え、これを押さえ代(約0.1mm程度)として切断す
る。
【0068】これにより、切断によって形成された突出
部1kの突出量は0.1mm程度となる。
【0069】その結果、本実施の形態のQFN7の完成
に至る(ステップS8)。
【0070】本実施の形態の半導体装置(QFN7)の
製造方法によれば、以下のような作用効果が得られる。
【0071】すなわち、タブ吊りリード1cのエアベン
ト8dに対応した箇所に貫通孔1dが形成されたことに
より、モールド時に、モールド金型8のキャビティ8e
から流出した残留樹脂9aがタブ吊りリード1cの貫通
孔1dに入り込む。
【0072】したがって、残留樹脂9aとタブ吊りリー
ド1cとの食いつき、すなわち、両者の接着性を向上で
き、その結果、残留樹脂9aをタブ吊りリード1cに確
実に接合させることができる。
【0073】これにより、リード切断時の残留樹脂9a
のタブ吊りリード1cからの剥離を防止することがで
き、したがって、タブ吊りリード1cの封止部3からの
突出部1kの表面露出を防止することができる。
【0074】その結果、QFN7(半導体装置)の外観
品質の向上を図ることができる。
【0075】また、リード切断時の残留樹脂9aのタブ
吊りリード1cからの剥離を防止することができるた
め、QFN7のリード1aの被実装面1bへの残留樹脂
9aの付着を防止することができる。
【0076】その結果、QFN7の実装基板などへの実
装不良の発生を低減でき、これにより、QFN7の実装
性を向上できる。
【0077】以上、本発明者によってなされた発明を発
明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
前記発明の実施の形態に限定されるものではなく、その
要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言う
までもない。
【0078】例えば、前記実施の形態では、タブ吊りリ
ード1cに貫通孔1dが形成され、この貫通孔1dに残
留樹脂9aを入り込ませる場合について説明したが、図
7(a),(b),(c)に示す他の実施の形態のQFN7
のように、貫通孔1dの代わりとして、タブ吊りリード
1cの突出部1kに凹部1lが設けられていてもよい。
【0079】ここで、図7(a)は、タブ吊りリード1
cの突出部1kにくさび型の凹部1lを設けたものであ
り、エッチング加工によって凹部1lをくさび型に形成
する。
【0080】これにより、残留樹脂9aとタブ吊りリー
ド1cの突出部1kとの接着性をさらに向上できる。
【0081】また、図7(b) に示すように、凹部1l
の水平方向の形状を円形としてもよく、あるいは、図7
(c) に示すように、四角形としてもよい。
【0082】なお、図7(b),(c)は、突出部1k上
の残留樹脂9a(図7(a)参照)を省略して示したも
のである。
【0083】さらに、凹部1lは、タブ吊りリード1c
の厚さの約1/2程度の深さであり、例えば、約0.06
mmの深さである。
【0084】図7(b),(c)に示すQFN7によって
も、前記実施の形態で説明したQFN7とほぼ同様の作
用効果を得ることができる。
【0085】また、前記実施の形態では、QFN7がタ
ブ埋め込み構造の場合を説明したが、QFN7は、タブ
露出構造であってもよい。
【0086】さらに、前記実施の形態では、QFN7が
小タブ構造の場合を説明したが、QFN7は、タブ1e
の大きさが半導体チップ2とほぼ等しいタイプのもので
あってもよい。
【0087】また、前記実施の形態では、QFN7のタ
ブ1eが4つのタブ吊りリード1cによって4方向から
支持されている場合を説明したが、QFN7が有するタ
ブ吊りリード1cの数は4つに限定されずに、何個であ
ってもよい。
【0088】また、前記実施の形態および前記他の実施
の形態では、半導体装置がQFN7の場合について説明
したが、前記半導体装置は、ペリフェラル形で、かつ樹
脂モールド形であり、モールド金型8のエアベント8d
に対応する箇所のタブ吊りリード1cに貫通孔1dもし
くは凹部1lが設けられ、その結果、リード切断後のタ
ブ吊りリード1cの突出部1kに残留樹脂9aが配置可
能なものであれば、QFN7以外の他の半導体装置であ
ってもよい。
【0089】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【0090】(1).タブ吊りリードに貫通孔または凹
部が形成されたことにより、モールド時に、モールド金
型のキャビティから流出した残留樹脂がタブ吊りリード
の貫通孔または凹部に入り込む。したがって、残留樹脂
とタブ吊りリードとの接着性を向上でき、その結果、リ
ード切断時の残留樹脂のタブ吊りリードの突出部からの
剥離を防止することができる。これにより、タブ吊りリ
ードの突出部の表面露出を防止することができ、その結
果、半導体装置の外観品質の向上を図ることができる。
【0091】(2).リード切断時の残留樹脂のタブ吊
りリードからの剥離を防止することができるため、半導
体装置のリードの被実装面への残留樹脂の付着を防止す
ることができる。その結果、半導体装置の実装基板など
への実装不良の発生を低減でき、これにより、半導体装
置の実装性を向上できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a),(b),(c)は本発明の実施の形態の半
導体装置であるQFNの構造の一例を示す図であり、
(a)は平面図、(b)は側面図、(c)は底面図であ
る。
【図2】図1に示すQFNの構造を示す断面図である。
【図3】図1に示すQFNのタブ吊りリードの突出部の
構造を一部破断して示す側面図である。
【図4】図1に示すQFNに用いられるリードフレーム
の構造の一例を示す拡大部分平面図である。
【図5】図1に示すQFNの製造方法におけるモールド
時の状態の一例を示す部分断面図である。
【図6】図1に示すQFNの製造方法における組み立て
手順の一例を示す製造プロセスフロー図である。
【図7】(a),(b),(c)は本発明の他の実施の形態
の半導体装置であるQFNのタブ吊りリードの突出部の
構造を示す図であり、(a)は拡大部分断面図、(b),
(c)は拡大部分平面図である。
【符号の説明】
1 リードフレーム 1a リード 1b 被実装面 1c タブ吊りリード 1d 貫通孔 1e タブ 1f 枠部 1g ガイド用長孔 1h 位置決め孔 1i チップ支持面 1j 裏面 1k 突出部 1l 凹部 2 半導体チップ 2a 表面電極 2b 主面 2c 裏面 3 封止部 3a 裏面 4 ワイヤ 5 ペ付け材 6 めっき層 7 QFN(半導体装置) 8 モールド金型 8a 上金型 8b 下金型 8c ゲート 8d エアベント 8e キャビティ 9 封止用樹脂 9a 残留樹脂

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 樹脂封止形の半導体装置の製造方法であ
    って、 半導体チップを支持可能なタブと、これを支持するタブ
    吊りリードと、前記タブの周囲に配置された複数のリー
    ドとを備え、前記タブ吊りリードに貫通孔または凹部が
    設けられたリードフレームを準備する工程と、 前記リードフレームの前記タブと前記半導体チップとを
    接合する工程と、 前記半導体チップの表面電極とこれに対応する前記リー
    ドとを接続する工程と、 前記半導体チップおよびその周辺部を樹脂モールドして
    封止部を形成するとともに、前記タブ吊りリードの前記
    貫通孔または前記凹部にモールド金型のキャビティから
    流出した残留樹脂を入り込ませる工程と、 前記タブ吊りリードの前記封止部から突出した突出部に
    前記残留樹脂を接合させて前記リードおよび前記タブ吊
    りリードを前記リードフレームの枠部から切断分離する
    工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方
    法。
JP2000038431A 2000-02-16 2000-02-16 半導体装置の製造方法 Pending JP2001230268A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000038431A JP2001230268A (ja) 2000-02-16 2000-02-16 半導体装置の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000038431A JP2001230268A (ja) 2000-02-16 2000-02-16 半導体装置の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001230268A true JP2001230268A (ja) 2001-08-24

Family

ID=18562165

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000038431A Pending JP2001230268A (ja) 2000-02-16 2000-02-16 半導体装置の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001230268A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3839321B2 (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP4149439B2 (ja) 半導体装置
JP3436254B2 (ja) リードフレームおよびその製造方法
JP3547704B2 (ja) リードフレーム及び半導体装置
JP2003124421A (ja) リードフレーム及びその製造方法並びに該リードフレームを用いた半導体装置の製造方法
JPH11260985A (ja) リードフレーム,樹脂封止型半導体装置及びその製造方法
JPH11340409A (ja) リードフレームおよびその製造方法ならびに樹脂封止型半導体装置およびその製造方法
KR20050084598A (ko) 테이핑된 리드 프레임 및 반도체 패키징에서 상기 리드프레임을 제조하고 사용하는 방법
JP2003133499A (ja) リードフレーム及びその製造方法並びに該リードフレームを用いた半導体装置の製造方法
JP2000294719A (ja) リードフレームおよびそれを用いた半導体装置ならびにその製造方法
KR20050051572A (ko) 반도체 장치 및 그 제조 방법
JP3470111B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置の製造方法
JP2003174131A (ja) 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法
JP2001077287A (ja) 半導体装置用リードフレーム
JPH11260990A (ja) リードフレーム,樹脂封止型半導体装置及びその製造方法
US20020048851A1 (en) Process for making a semiconductor package
JPH088385A (ja) 樹脂封止型半導体装置
JP3445930B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置
JP4066050B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法
JP2001230268A (ja) 半導体装置の製造方法
JP4570797B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP2001077285A (ja) リードフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法
JP2000049272A (ja) リードフレーム及びそれを用いた半導体装置の製造方法並びに半導体装置
JP2001077275A (ja) リードフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法
JP2002164496A (ja) 半導体装置およびその製造方法