JP2001228099A - Plating inspection method - Google Patents

Plating inspection method

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JP2001228099A
JP2001228099A JP2000039256A JP2000039256A JP2001228099A JP 2001228099 A JP2001228099 A JP 2001228099A JP 2000039256 A JP2000039256 A JP 2000039256A JP 2000039256 A JP2000039256 A JP 2000039256A JP 2001228099 A JP2001228099 A JP 2001228099A
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JP
Japan
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gold
light
plating
copper
wavelength
Prior art date
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JP2000039256A
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Japanese (ja)
Inventor
Takayuki Haga
孝行 芳賀
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Kokusai Gijutsu Kaihatsu Co Ltd
Original Assignee
Kokusai Gijutsu Kaihatsu Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To discriminate with high accuracy as to whether plating is applied from a monochromatic image. SOLUTION: A substrate and a plated metal are irradiated with a light of a specific wavelength which is different by a large amount in reflectivity from other wavelength region to obtain a monochromatic image, based on the light having a specific wavelength, and the monochromatic image is converted into a binary image to discriminate between the plated metal and the substrate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、下地に金属メッキ
がされているか否かを検査する方法に係り、特に銅の下
地の上に金メッキがされているか否かを検出するのに好
適なメッキ検査方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for inspecting whether or not a base is plated with metal, and more particularly to a plating method suitable for detecting whether or not gold is plated on a copper base. Related to inspection method.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体装置であるCSP(Chip S
ize Package)などにおいては、装置(パッ
ケージ)の小型化、多端子化などに対応するため、パッ
ケージの裏面に、半田ボールからなる外部端子をマトリ
ックス状に配置している。このような半導体装置の半導
体チップを搭載するパッケージ基板は、一般にポリイミ
ド樹脂などによって形成され、一側面(表面)に半導体
チップの端子部と接続される配線パターンが形成され、
裏側面に半田ボールを搭載するための円形の金メッキさ
れた外部端子部がマトリックス状に形成してある。この
外部端子部は、メッキなどで形成した銅の下地の上に金
メッキがしてある。そして、従来は、銅下地の上に金メ
ッキがされているか否かを検査する場合、パッケージ基
板の裏面に白色光を照射してモノクロCCDによってそ
れを撮影し、モノクロの画像データから2値画像を得て
金メッキがされているか否かを判別していた。
2. Description of the Related Art A semiconductor device, a CSP (Chip S)
In size packages, external terminals made of solder balls are arranged in a matrix on the back surface of the package in order to cope with miniaturization of the device (package) and increase in the number of terminals. A package substrate on which a semiconductor chip of such a semiconductor device is mounted is generally formed of a polyimide resin or the like, and a wiring pattern connected to a terminal portion of the semiconductor chip is formed on one side surface (surface).
Circular gold-plated external terminals for mounting solder balls on the back side are formed in a matrix. The external terminals are gold-plated on a copper base formed by plating or the like. Conventionally, when inspecting whether or not gold plating is performed on a copper base, a white light is irradiated on the back surface of the package substrate and photographed by a monochrome CCD, and a binary image is formed from monochrome image data. Then, it was determined whether or not gold plating had been performed.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】金と銅とは、色が違う
ために肉眼やカラー画像を見た場合、両者を容易に区別
することが可能である。しかし、金と銅とは、白色光に
対する反射率にあまり差がなく、白色光によるモノクロ
画像の明るさがほとんど同じとなる。このため、白色光
によるモノクロ画像から2値画像を得、これに基づいて
銅下地に金メッキがされているか否かを検査する場合、
光の照射角度などによって金の部分と銅の部分とを区別
することが困難となり、しばしば検査ミスを生ずる。そ
して、このような不都合を避けるために、カラー画像を
得て検査することが考えられるが、カラー画像による判
別は、モノクロ画像による判別に比較して多くの時間を
必要とし、検査速度が遅くなるばかりでなく、装置も高
くなる。
Since gold and copper have different colors, they can be easily distinguished when viewed with the naked eye or a color image. However, there is not much difference between the reflectances of gold and copper for white light, and the brightness of a monochrome image by white light is almost the same. For this reason, when obtaining a binary image from a monochrome image by white light, and inspecting whether or not the copper base is gold-plated based on the binary image,
It becomes difficult to distinguish between the gold part and the copper part depending on the light irradiation angle or the like, and an inspection error often occurs. In order to avoid such inconvenience, it is conceivable to obtain and inspect a color image, but discrimination based on a color image requires more time than that based on a monochrome image, and the inspection speed is reduced. Not only that, the equipment is expensive.

【0004】本発明は、前記従来技術の欠点を解消する
ためになされたもので、モノクロ画像から高精度でメッ
キがされているか否かを判別できるようにすることを目
的としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art, and has as its object to make it possible to determine from a monochrome image whether plating has been performed with high accuracy.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、モノクロ
画像から得た2値画像に基づいて、金メッキがされてい
るか否かを確実に判別できる方法を鋭意研究する過程に
おいて、光の波長に対する金と銅との反射率を測定した
ところ、特定の波長領域において、両者の反射率に他の
波長より大きな差があることを見出した。本発明は、こ
の知見に基づいてなされたもので、本発明に係る金メッ
キの検査方法は、検査対象のモノクロ画像を得、このモ
ノクロ画像に基づいて金メッキがされているか否かを判
別する金メッキの検査方法において、下地とメッキした
金属とで、他の波長領域より反射率の大きく異なる特定
波長の光を前記検査対象に照射し、この特定波長の光に
基づいたモノクロ画像を得ることを特徴としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The inventors of the present invention have studied a method of reliably determining whether or not gold plating has been performed on the basis of a binary image obtained from a monochrome image. When the reflectance of gold and copper with respect to was measured, it was found that there was a greater difference between the reflectances of the two in the specific wavelength region. The present invention has been made based on this finding, and the gold plating inspection method according to the present invention obtains a monochrome image to be inspected and determines whether or not gold plating has been performed based on the monochrome image. In the inspection method, with the base and the plated metal, the inspection object is irradiated with light having a specific wavelength that is significantly different in reflectance from other wavelength regions, and a monochrome image based on the light having the specific wavelength is obtained. I have.

【0006】[0006]

【作用】上記のごとく構成した本発明は、下地とメッキ
金属とで、他の波長領域より反射率がより大きく異なる
特定波長の光を照射しているため、得られるモノクロ画
像の明るさ(階調)が下地とメッキ金属とで大きく異な
る。このため、モノクロ画像から例えば2値画像を作成
する際に、下地を示す階調およびメッキ金属を示す階調
と閾値との差を大きくすることが可能となり、両者を区
別する2値画像の精度が向上し、メッキがされているか
否かを容易、確実に判別することができ、メッキ検査を
高精度で行なうことが可能となる。このため、例えば白
色光に対しては反射率にあまり差のない銅と金とであっ
ても両者を容易に区別することができ、銅の下地に金が
メッキされているか否かを容易、確実に判別することが
できる。
According to the present invention constructed as described above, since the base and the plating metal irradiate light of a specific wavelength whose reflectance is much different from that of other wavelength regions, the brightness of the obtained monochrome image (level Tone) differs greatly between the underlayer and the plated metal. For this reason, for example, when a binary image is created from a monochrome image, it is possible to increase the difference between the gradation indicating the base and the gradation indicating the plated metal and the threshold value, and the accuracy of the binary image for discriminating between the two. And it is possible to easily and reliably determine whether or not plating has been performed, and it is possible to perform plating inspection with high accuracy. For this reason, for example, it is possible to easily distinguish between copper and gold, which have little difference in reflectance for white light, and easily determine whether or not gold is plated on a copper base, It is possible to reliably determine.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】本発明に係るメッキ検査方法の好
ましい実施形態を、添付図面に従って詳細に説明する。
図1は、純銅及び純金の光の波長に対する反射率を示し
たものである。図中、●を結ぶ曲線は金の反射率であ
り、□を結ぶ曲線は銅の反射率である。図1から明らか
なように、波長が0.4μm以下の光と、波長が0.5
9μm以上の光に対する金と銅との反射率に大きな差が
ない。そして、波長が約0.33μm〜約0.52μm
の間の光に対しては、銅の方が金の方より反射率が大き
くなっている。特に、波長が0.45μm前後の光に対
しては、銅の反射率が金の反射率より17〜18%程度
大きくなっている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of a plating inspection method according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
FIG. 1 shows the reflectance of pure copper and pure gold with respect to the wavelength of light. In the figure, the curve connecting the black circles indicates the reflectance of gold, and the curve connecting the squares indicates the reflectance of copper. As is clear from FIG. 1, light having a wavelength of 0.4 μm or less and wavelength of 0.5 μm are used.
There is no significant difference in the reflectance between gold and copper for light of 9 μm or more. And the wavelength is about 0.33 μm to about 0.52 μm
For light between the two, copper has a higher reflectance than gold. In particular, for light having a wavelength of about 0.45 μm, the reflectance of copper is about 17 to 18% higher than the reflectance of gold.

【0008】ところが、波長が約0.52μm〜約0.
59μmの光に対しては、金の方が銅の方より反射率が
大きくなっている。特に、波長が0.55μm前後の光
りに対しては、金は銅より反射率が16%程度大きくな
っている。このため、白色光を金と銅とに照射した場
合、白色光に対する両者の反射率に大きな差がなくな
る。
However, the wavelength is about 0.52 μm to about 0.1 μm.
For light of 59 μm, the reflectivity of gold is higher than that of copper. In particular, for light having a wavelength of about 0.55 μm, the reflectance of gold is about 16% higher than that of copper. For this reason, when irradiating white light to gold and copper, there is no large difference in the reflectance between the two with respect to white light.

【0009】そこで、両者の反射率に大きな差のある波
長が0.45μm前後の光、または波長が0.55μm
前後の光を、銅の下地に金メッキをした検査対象に照射
し、その光に基づいたモノクロ画像を得ると、銅の部分
の明るさ(階調)と金の部分の明るさとで、他の波長で
は得られないような大きな階調差を得ることができる。
したがって、両者を識別するための閾値を設定した場合
に、銅を示す階調および金を示す階調と閾値との階調差
が大きくなるために、銅と金とを容易に区別することが
できる。したがって、銅の下地に金メッキをした場合、
0.45μm前後または0.55μm前後の波長の光を
照射してモノクロ画像を得ることにより、金メッキがさ
れているか否かを容易、確実に判別することができる。
Therefore, the wavelength having a large difference between the two reflectances is about 0.45 μm or 0.55 μm.
By irradiating the front and rear lights to the inspection object having a gold plating on the copper base and obtaining a monochrome image based on the light, the brightness (gradation) of the copper portion and the brightness of the gold portion are different from each other. A large gradation difference that cannot be obtained with a wavelength can be obtained.
Therefore, when a threshold value for discriminating between the two is set, the difference between the gradation indicating copper and the gradation indicating gold and the threshold is large, so that copper and gold can be easily distinguished. it can. Therefore, when gold plating is applied to the copper base,
By irradiating light having a wavelength of about 0.45 μm or about 0.55 μm to obtain a monochrome image, it is possible to easily and reliably determine whether or not gold plating is performed.

【0010】図2は、本発明のメッキ検査方法を適用し
た検査装置の一例を示したものである。図2において、
検査対象となるパッケージ基板10は、図示しない半導
体チップを搭載する表面を下側に、半田ボールを搭載す
る裏面を上側にして搬送装置12上に配置され、矢印1
4に示したように、図1の右方向に搬送されるようにな
っている。そして、パッケージ基板10の裏面には、半
田ボールを搭載する位置に、銅の下地メッキの上に金メ
ッキ(いずれも図示せず)が施してある。そして、検査
装置は、搬送装置12に沿って下地検出部20aと金メ
ッキ検出部20bとが設けられている。
FIG. 2 shows an example of an inspection apparatus to which the plating inspection method of the present invention is applied. In FIG.
The package substrate 10 to be inspected is placed on the transport device 12 with the front surface on which a semiconductor chip (not shown) is mounted on the lower side and the back surface on which the solder balls are mounted on the upper side.
As shown in FIG. 4, the sheet is conveyed rightward in FIG. Then, on the back surface of the package substrate 10, gold plating (both not shown) is applied on a copper base plating at positions where solder balls are to be mounted. The inspection apparatus is provided with a base detection unit 20 a and a gold plating detection unit 20 b along the transport device 12.

【0011】下地検出部20aと金メッキ検出部20b
とは、ほぼ同様に構成してある。そして、各検出部20
a、20bは、搬送装置12によって搬送されるパッケ
ージ基板10に光を照射する光源22a、22bを備え
ている。光源22aは、例えば波長が0.45μmの単
色光を放射し、光源22bは、例えば波長が0.56μ
mの単色光を放射するようになっている。また、各検出
部20a、20bは、搬送装置12の上方に配置したモ
ノクロCCD24(24a、24b)を有していおり、
モノクロCCD24が下方を通過するパッケージ基板1
2を撮影し、アナログのモノクロ画像信号をA/D変換
器26(26a、26b)に出力する。A/D変換器2
4は、モノクロCCD24が出力したアナログ画像信号
を画像の明るさに応じた例えば256階調のディジタル
信号に変換して出力する。
The underlayer detection section 20a and the gold plating detection section 20b
Are configured in substantially the same manner. Then, each detection unit 20
a and 20b are provided with light sources 22a and 22b for irradiating the package substrate 10 transported by the transport device 12 with light. The light source 22a emits monochromatic light having a wavelength of, for example, 0.45 μm, and the light source 22b emits monochromatic light having a wavelength of, for example, 0.56 μm.
m monochromatic light is emitted. Each of the detection units 20a and 20b has a monochrome CCD 24 (24a, 24b) disposed above the transport device 12,
Package substrate 1 through which monochrome CCD 24 passes below
2 and outputs an analog monochrome image signal to the A / D converter 26 (26a, 26b). A / D converter 2
Reference numeral 4 converts the analog image signal output from the monochrome CCD 24 into a digital signal of, for example, 256 gradations according to the brightness of the image and outputs the digital signal.

【0012】A/D変換器26の出力側に接続してある
メモリ28(28a、28b)は、1フレーム分のディ
ジタル画像信号を一時的に格納する。そして、メモリ2
8に接続された2値化回路30(30a、30b)は、
メモリ28に格納された画像信号を読み出し、予め与え
られている閾値に基づいて2値画像を作成し、比較判定
部32(32a、32b)に送出する。
A memory 28 (28a, 28b) connected to the output side of the A / D converter 26 temporarily stores one frame of digital image signal. And memory 2
8, the binarization circuit 30 (30a, 30b)
The image signal stored in the memory 28 is read out, a binary image is created based on a threshold value given in advance, and sent to the comparison / determination unit 32 (32a, 32b).

【0013】比較判定部32は、2値化回路30から2
値画像データが入力するとともに、基準パタン出力部3
4(34a、34b)から基準パターンが入力するよう
になっていて、両者を比較して撮影したパッケージ基板
10の銅の部分が基準のパターンと一致しているか、ま
たは金メッキをすべき部分に金メッキがされているかを
判別する。そして、比較判定部32は、対応して設けて
ある表示装置36(36a、36b)や、図示しないプ
リンタなどに判定結果を出力する。
The comparing and judging section 32 outputs signals from the binarizing circuits 30 to 2
When the value image data is input, the reference pattern output unit 3
4 (34a, 34b), a reference pattern is inputted, and the copper portion of the package substrate 10 photographed by comparing the two matches the reference pattern, or the portion to be gold-plated is gold-plated. Is determined. Then, the comparison determination unit 32 outputs the determination result to the corresponding display device 36 (36a, 36b) or a printer (not shown).

【0014】このように構成してある検査装置において
は、次のようにして下地検出部20aが銅の下地部分や
他の銅パターンを検出し、金メッキ検出部20bが金メ
ッキされている部分を検出する。
In the inspection apparatus configured as described above, the underlayer detecting section 20a detects the copper underlayer and other copper patterns as follows, and the gold plating detecting section 20b detects the gold-plated section. I do.

【0015】下地検出部20aの光源22aは、波長が
0.45μmの単色光をパッケージ基板10に照射す
る。モノクロCCD24aは、パッケージ基板10を撮
影して0.45μmの波長の光に基づいたモノクロのア
ナログ画像信号(アナログ画像データ)を出力する。A
/D変換器26aは、アナログ画像データを例えば25
6階調のディジタル画像データに変換してメモリ28a
に出力する。そして、2値化回路は、メモリ28aに記
憶されている画像データを読み出し、このデータを予め
与えられている閾値、例えば反射率46%に相当する階
調の値と比較し、銅の部分を明部、他の部分を暗部とし
た2値画像を作成して比較判定部32aに出力する。比
較判定部32aは、2値化回路30aが作成した2値画
像を基準パターン出力部34aに格納されている基準パ
ターンと比較し、2値画像が基準パターンと一致するか
否かを判別し、判別結果を表示装置36aに表示した
り、プリンタなどに出力する。
The light source 22a of the base detection unit 20a irradiates the package substrate 10 with monochromatic light having a wavelength of 0.45 μm. The monochrome CCD 24a photographs the package substrate 10 and outputs a monochrome analog image signal (analog image data) based on light having a wavelength of 0.45 μm. A
The / D converter 26a converts the analog image data into, for example, 25
The data is converted into digital image data of 6 gradations and stored in the memory 28a.
Output to Then, the binarization circuit reads the image data stored in the memory 28a, compares this data with a predetermined threshold value, for example, a gradation value corresponding to a reflectance of 46%, and determines the copper portion. A binary image having a bright part and other parts as dark parts is created and output to the comparison and determination unit 32a. The comparison determination unit 32a compares the binary image created by the binarization circuit 30a with the reference pattern stored in the reference pattern output unit 34a, and determines whether the binary image matches the reference pattern, The determination result is displayed on the display device 36a or output to a printer or the like.

【0016】下地検出部20aのモノクロCCD24a
の下方を通過したパッケージ基板10は、金メッキ検出
部20bのモノクロCCD24bの下方に搬送される
と、光源22bによって例えば0.56μmの波長の光
が照射される。そして、金メッキ検出部20bは、モノ
クロCCD24bが波長0.56μmの光に基づいたモ
ノクロのアナログ画像データを出力する。このアナログ
データは、前記と同様にしてディジタル信号に変換され
てメモリ28bに一時的に格納される。また、金メッキ
検出部20bの2値化回路30bは、下地検出部20a
の場合と同様に、メモリ28bに記憶されているデータ
を予め与えられた閾値(例えば、反射率76%に相当す
る階調)と比較し、金メッキされている部分を明部、そ
の他の部分を暗部とした2値画像を作成し、比較判定部
32bに送出する。比較判定部32bは、2値化回路3
0bの作成した2値画像を基準パターン出力部34bに
格納してある基準パターンを比較して所定の位置に金メ
ッキがされているか否かを判定し、その結果を表示装置
36等に出力する。
The monochrome CCD 24a of the background detector 20a
Is transported below the monochrome CCD 24b of the gold plating detection unit 20b, the light source 22b emits light having a wavelength of, for example, 0.56 μm. Then, in the gold plating detecting unit 20b, the monochrome CCD 24b outputs monochrome analog image data based on light having a wavelength of 0.56 μm. This analog data is converted into a digital signal in the same manner as described above, and is temporarily stored in the memory 28b. Further, the binarization circuit 30b of the gold plating detection unit 20b includes a base detection unit 20a.
As in the case of the above, the data stored in the memory 28b is compared with a predetermined threshold value (for example, a gradation corresponding to a reflectance of 76%), and the gold-plated portion is defined as a bright portion, and the other portions are defined as A binary image as a dark portion is created and sent to the comparison / determination unit 32b. The comparison / determination unit 32b includes a binarization circuit 3
By comparing the binary image created by Ob with the reference pattern stored in the reference pattern output unit 34b, it is determined whether or not a predetermined position is plated with gold, and the result is output to the display device 36 or the like.

【0017】このように、実施形態の検査装置において
は、銅と金とで、他の波長領域より反射率の大きく異な
る波長の光をパッケージ基板10に照射し、その光に基
づいてモノクロ画像を得るようにしているため、白色光
では反射率がそれほど異ならない金と銅とを容易に区別
することができ、所定の位置に金メッキが施されている
か否か、不要な箇所に金メッキがされていないか否かを
容易に判別することができる。しかも、銅の方が金より
も大きな反射率となる光を用いて銅の部分を検出すると
ともに、金の方が銅より反射率が大きくなる光を用いて
金メッキした部分を検出するようにしているため、金メ
ッキした部分をより確実に検出することができるばかり
でなく、金メッキをする必要のない銅下地の部分に金メ
ッキされているか否かを容易、確実に知ることができ
る。
As described above, in the inspection apparatus according to the embodiment, the package substrate 10 is irradiated with light of a wavelength having a reflectivity much different from that of the other wavelength region using copper and gold, and a monochrome image is formed based on the light. Because of this, it is possible to easily distinguish between gold and copper, whose reflectances are not so different in white light, and whether gold is applied to a predetermined position or not, and unnecessary portions are gold-plated. It is possible to easily determine whether or not there is. In addition, copper is detected using light that has a higher reflectance than gold, and copper is detected, and gold is detected using gold that has a higher reflectance than copper. Therefore, not only can a gold-plated portion be detected more reliably, but also it is possible to easily and reliably know whether or not a copper base portion that does not need to be gold-plated is gold-plated.

【0018】なお、前記実施形態においては、銅の部分
を検出するために0.45μmの波長の光を用いた場合
について説明したが、銅の部分を検出する場合、0.4
5μm程度から0.5μm程度の光を使用することがで
きる。また、前記実施形態においては、金メッキの部分
を検出するために、波長が0.56μmの光を使用した
場合について説明したが、金メッキの部分を検出する場
合、0.53μm程度から0.57μm程度の光を使用
することができる。そして、前記実施形態においては、
下地を検出するところと金メッキを検出するところとが
異なる場合について説明したが、同一のところにおいて
光源などを切り替えて下地金属と金メッキとを検出する
ようにしてもよい。さらに、前記実施形態においては、
銅の下地に金メッキをされている場合について説明した
が、各種金属や各種物質の波長に対する反射率を求める
ことにより、任意の下地とメッキ金属との間で大きく反
射率の異なる光を照射してモノクロ画像を得ることによ
り、下地とメッキ金属とを容易に区別することができ、
メッキがされているか否かを容易、確実に判別すること
ができる。
In the above-described embodiment, the case where the light having the wavelength of 0.45 μm is used to detect the copper portion has been described.
Light of about 5 μm to about 0.5 μm can be used. Further, in the above-described embodiment, the case where the light having the wavelength of 0.56 μm is used to detect the gold-plated portion has been described. However, when the gold-plated portion is detected, about 0.53 μm to about 0.57 μm is used. Light can be used. And in the said embodiment,
Although the case where the detection of the base is different from the detection of the gold plating has been described, the base metal and the gold plating may be detected by switching the light source or the like at the same place. Further, in the above embodiment,
Although the case where gold plating is applied to the copper base has been described, by determining the reflectance for the wavelength of various metals and various substances, it is possible to irradiate light with greatly different reflectance between the arbitrary base and the plating metal. By obtaining a monochrome image, the base and the plated metal can be easily distinguished,
Whether or not plating has been performed can be easily and reliably determined.

【0019】[0019]

【発明の効果】以上に説明したように、本発明によれ
ば、下地とメッキ金属とで、他の波長領域より反射率が
より大きく異なる特定波長の光を照射しているため、得
られるモノクロ画像の明るさ(階調)が下地とメッキ金
属とで大きく異なり、モノクロ画像から例えば2値画像
を作成する際に、下地を示す階調およびメッキ金属を示
す階調との差が大きくなって、両者を区別する2値画像
の精度が向上し、メッキがされているか否かを容易、確
実に判別することができ、メッキ検査を高精度で行なう
ことが可能となる。
As described above, according to the present invention, since the base and the plating metal irradiate light of a specific wavelength whose reflectance is much different from that of the other wavelength regions, the obtained monochrome is obtained. The brightness (gradation) of the image greatly differs between the base and the plated metal, and when a binary image is created from a monochrome image, for example, the difference between the gradation indicating the base and the gradation indicating the plated metal increases. In addition, the accuracy of the binary image that distinguishes the two is improved, and whether or not plating is performed can be easily and reliably determined, and the plating inspection can be performed with high accuracy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】純銅と純金とについての、光の波長と反射率と
の関係を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing the relationship between the wavelength of light and the reflectance for pure copper and pure gold.

【図2】本発明のメッキ検査方法を適用した検査装置の
一例を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing an example of an inspection apparatus to which the plating inspection method of the present invention is applied.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10………検査対象(パッケージ基板)、20a………
下地検出部、20b………金メッキ検出部、22a、2
2b………光源、24a、24b………モノクロCC
D、30a、30b………2値化回路、32a、32b
………比較判定部
10 ... inspection object (package substrate), 20a ...
Underlayer detecting section, 20b ... Gold plating detecting section, 22a, 2
2b: Light source, 24a, 24b: Monochrome CC
D, 30a, 30b ... binarization circuit, 32a, 32b
............ Comparative judgment unit

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // H01L 23/12 H01L 23/12 L Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (reference) // H01L 23/12 H01L 23/12 L

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 検査対象のモノクロ画像を得、このモノ
クロ画像に基づいてメッキがされているか否かを判別す
るメッキ検査方法において、 下地とメッキした金属とで、他の波長領域より反射率の
大きく異なる特定波長の光を前記検査対象に照射し、こ
の特定波長の光に基づいたモノクロ画像を得ることを特
徴とするメッキ検査方法。
1. A plating inspection method for obtaining a monochrome image to be inspected and determining whether or not plating has been performed based on the monochrome image, wherein the base and the plated metal have a higher reflectance than other wavelength regions. A plating inspection method comprising: irradiating the inspection target with light having a specific wavelength that is significantly different from the inspection target; and obtaining a monochrome image based on the light having the specific wavelength.
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