JP2001216908A - Ion source - Google Patents

Ion source

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JP2001216908A
JP2001216908A JP2000026514A JP2000026514A JP2001216908A JP 2001216908 A JP2001216908 A JP 2001216908A JP 2000026514 A JP2000026514 A JP 2000026514A JP 2000026514 A JP2000026514 A JP 2000026514A JP 2001216908 A JP2001216908 A JP 2001216908A
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JP
Japan
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sleeve
permanent magnet
cover
plasma chamber
ion source
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JP2000026514A
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Japanese (ja)
Inventor
Eiji Tanaka
栄士 田中
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Sumitomo Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Heavy Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To uniformly cool a plasma chamber, thereby preventing demagnetization of a permanent magnet due to heating of mirror coils. SOLUTION: In an ion source where by mirror coils 12 and permanent magnets 14 arranged on the outside of a plasma chamber 16, a mirror magnetic field is generated, plasma is confined into the plasma chamber 16 and ions are generated from the chamber, a thin cooling jacket 50 is arranged between the mirror coils and the permanent magnets.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマチェンバ
の外側に配設したミラーコイル及び永久磁石により、ミ
ラー磁場を発生させ、プラズマチェンバ内にプラズマを
封じ込めて、そこからイオンを発生させるようにしたイ
オン源に係り、特に、プラズマチェンバを均一に冷却し
て、ミラーコイルの熱による永久磁石の減磁を防止する
ことが可能なイオン源に関する。
The present invention relates to a mirror coil and a permanent magnet disposed outside a plasma chamber to generate a mirror magnetic field, to confine plasma in the plasma chamber, and to generate ions therefrom. The present invention relates to an ion source, and more particularly, to an ion source capable of uniformly cooling a plasma chamber and preventing demagnetization of a permanent magnet due to heat of a mirror coil.

【0002】[0002]

【従来の技術】特開平9−161688に記載されてい
る、重粒子線癌治療装置等に用いられている電子サイク
ロトロン共鳴(ECR)イオン源の一例の構成を図1に
示す。図において、10は、円筒形状のヨーク、12
は、該ヨーク10内の左右に設けられた、ミラー磁界を
発生させるミラーコイル、14は、該ミラーコイル12
の間に設けられ、隣接したN極とS極とが交互に配設さ
れ、カスプ磁界を発生させるカスプ磁石としての六極永
久磁石、16は、該六極永久磁石14の内部に形成され
たプラズマチェンバであり、このプラズマチェンバ16
内では、ミラー磁界とカスプ磁界で形成された合成磁場
によりプラズマが閉じ込められる。
2. Description of the Related Art FIG. 1 shows an example of the configuration of an electron cyclotron resonance (ECR) ion source used in a heavy ion beam cancer treatment apparatus and the like described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-161688. In the figure, 10 is a cylindrical yoke, 12
Are mirror coils provided on the left and right in the yoke 10 for generating a mirror magnetic field, and 14 is a mirror coil 12
A six-pole permanent magnet 16 serving as a cusp magnet for generating a cusp magnetic field is provided inside the six-pole permanent magnet 14. This is a plasma chamber.
Inside, the plasma is confined by the combined magnetic field formed by the mirror magnetic field and the cusp magnetic field.

【0003】30は、ECRイオン源の中心軸線CL上
に配設され、プラズマチェンバ16内に材料ガスを供給
するガス導入管、32は、該ガス導入管20内のガスに
照射するマイクロ波を供給する導波管、34は、プラズ
マチェンバ16の壁面を形成するスクリーン電極、36
は、該スクリーン電極34と同一軸線上に配設され、グ
ランドレベルの電位が保持されている引出し電極であ
る。
[0003] Reference numeral 30 denotes a gas introduction pipe which is disposed on the central axis CL of the ECR ion source and supplies a material gas into the plasma chamber 16, and 32 denotes a microwave for irradiating the gas in the gas introduction pipe 20. The supply waveguide 34 is a screen electrode forming the wall surface of the plasma chamber 16, 36.
Is an extraction electrode which is disposed on the same axis as the screen electrode 34 and holds a ground level potential.

【0004】このような構成のECRイオン源では、ミ
ラーコイル12のミラー磁界により位置決めされるEC
R磁場である、破線で示した第1段ECRゾーン40を
通るガス導入管30中のガスに、導波管32からのマイ
クロ波が作用すると、電子を加速させるマイクロ波の周
波数とミラーコイル12のミラー磁界による電子の回転
周期が一致したとき、電子はサイクロトロン共鳴し、ミ
ラー磁界の磁束の周りを回転しながら加速される。こう
して、ECR加速された電子は、ガス導入管30中のガ
ス分子や原子に衝突すると、ガスの電離が生じ、プラズ
マ化して、電子とプラスイオンが生成される。このう
ち、プラスイオンは質量が大きく、多くはガス導入管3
0内に停滞するが、電子はミラー磁界の磁束に沿ってプ
ラズマチェンバ16内に拡散する。
In the ECR ion source having such a configuration, an EC positioned by the mirror magnetic field of the mirror coil 12 is used.
When the microwave from the waveguide 32 acts on the gas in the gas introduction tube 30 passing through the first-stage ECR zone 40 indicated by the broken line, which is the R magnetic field, the frequency of the microwave for accelerating the electrons and the mirror coil 12 When the rotation periods of the electrons by the mirror magnetic field coincide with each other, the electrons undergo cyclotron resonance and are accelerated while rotating around the magnetic flux of the mirror magnetic field. When the ECR-accelerated electrons collide with gas molecules and atoms in the gas inlet tube 30, ionization of the gas occurs, and the electrons are turned into plasma to generate electrons and positive ions. Of these, positive ions have a large mass, and most of them
Although stagnating in zero, the electrons diffuse into the plasma chamber 16 along the magnetic flux of the mirror magnetic field.

【0005】一方、ガス導入管30から供給された電子
は、プラズマチェンバ16内で、導波管32からのマイ
クロ波と、六極永久磁石14及びミラーコイル12の合
成磁界とでECR加速され、その電子は、プラズマチェ
ンバ16内に導入された、電離されていないガスと衝突
して、プラズマ化した電子とプラスイオンとが生成さ
れ、又、プラスイオンに衝突して逐次電離により多価イ
オンが生成される。電子のECR加速は、六極永久磁石
14とミラーコイル12との合成磁界により形成され
た、密閉した中空円筒状の第2段ECRゾーン42で行
われ、この第2段ECRゾーン42では、電子が高エネ
ルギとなる。従って、この第2段ECRゾーン42で電
子とガスとが衝突したときには、電離衝突する頻度が最
も高く、プラズマイオンは多く生成される。このため、
プラズマチェンバ16では、第2段ECRゾーン42の
中心軸線をイオンピークとする電子ポテンシャル分布が
生じ、第2段ECRゾーン42で生じたプラスイオン
は、第2段ECRゾーン42の中心軸線上に最も多く閉
じ込められる。
On the other hand, electrons supplied from the gas inlet tube 30 are ECR-accelerated in the plasma chamber 16 by the microwave from the waveguide 32 and the combined magnetic field of the hexapole permanent magnet 14 and the mirror coil 12. The electrons collide with a non-ionized gas introduced into the plasma chamber 16 to generate plasmanized electrons and positive ions. Further, the electrons collide with the positive ions and multiply-charged ions are sequentially ionized to generate polyvalent ions. Generated. The ECR acceleration of electrons is performed in a closed hollow cylindrical second-stage ECR zone 42 formed by a combined magnetic field of the hexapole permanent magnet 14 and the mirror coil 12. Becomes high energy. Therefore, when electrons and gas collide in the second-stage ECR zone 42, ionization collision occurs most frequently, and many plasma ions are generated. For this reason,
In the plasma chamber 16, an electron potential distribution having an ion peak at the central axis of the second-stage ECR zone 42 occurs, and positive ions generated in the second-stage ECR zone 42 are most likely to be located on the central axis of the second-stage ECR zone 42. Many are trapped.

【0006】この第2段ECRゾーン42の中心軸線上
に閉じ込められたプラスイオンに、第2段ECRゾーン
42でECR加速された高エネルギの電子が衝突を繰り
返すことで、逐次電離による多価イオンの生成が行われ
る。この多価イオンは、プラズマチェンバ16及び六極
永久磁石14がプラス極性の高電圧に保持され、引出し
電極36がグランドレベルの電位に保持されているの
で、六極永久磁石14及びプラズマチェンバ16と、引
出し電極36との間の電界の作用で、プラズマチェンバ
16から引出し電極36を通って外部に引き出される。
[0006] High-energy electrons accelerated by ECR in the second-stage ECR zone 42 repeatedly collide with positive ions confined on the central axis of the second-stage ECR zone 42, so that multiply-charged ions due to sequential ionization are obtained. Is generated. Since the plasma chamber 16 and the hexapole permanent magnet 14 are maintained at a positive high voltage and the extraction electrode 36 is maintained at the ground-level potential, the multiply-charged ions are generated by the hexapole permanent magnet 14 and the plasma chamber 16. Due to the action of the electric field between the plasma chamber 16 and the extraction electrode 36, the plasma is extracted from the plasma chamber 16 to the outside through the extraction electrode 36.

【0007】このようにECRイオン源では、プラズマ
チェンバ16内に高温のプラズマを封じ込め、そこから
イオンを発生させる。しかしながら、プラズマチェンバ
16外の六極永久磁石14は、高温に晒されると減磁し
てしまうため、チェンバ16を冷却する必要があり、一
般的には冷却水による水冷が行われている。
As described above, in the ECR ion source, high-temperature plasma is contained in the plasma chamber 16 and ions are generated therefrom. However, since the six-pole permanent magnet 14 outside the plasma chamber 16 is demagnetized when exposed to a high temperature, the chamber 16 needs to be cooled, and water cooling with cooling water is generally performed.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来
は、ミラーコイル12と六極永久磁石14との間には冷
却機構を設けていなかった。このため、ミラーコイル1
2の発熱により、六極永久磁石14が高温に晒され、減
磁する恐れがあった。
Conventionally, however, no cooling mechanism has been provided between the mirror coil 12 and the six-pole permanent magnet 14. Therefore, the mirror coil 1
Due to the heat generated in No. 2, the six-pole permanent magnet 14 was exposed to a high temperature, and could be demagnetized.

【0009】本発明は、前記従来の問題点を解消するべ
くなされたもので、ミラーコイルの発熱による永久磁石
の減磁を防止することを課題とする。
The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and has as its object to prevent demagnetization of a permanent magnet due to heat generation of a mirror coil.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、プラズマチェ
ンバの外側に配設したミラーコイル及び永久磁石によ
り、ミラー磁場を発生させ、プラズマチェンバ内にプラ
ズマを封じ込めて、そこからイオンを発生させるように
したイオン源において、前記ミラーコイルと永久磁石の
間に、薄い冷却ジャケッドを配設することにより、前記
課題を解決したものである。
According to the present invention, a mirror magnetic field is generated by a mirror coil and a permanent magnet disposed outside a plasma chamber, and plasma is confined in the plasma chamber and ions are generated therefrom. In the ion source described above, the above problem is solved by disposing a thin cooling jacket between the mirror coil and the permanent magnet.

【0011】又、前記冷却ジャケットを、前記永久磁石
の外周にかぶせられる内側スリーブと、該内側スリーブ
と嵌合する外側スリーブと、前記内側スリーブの外周面
又は外側スリーブの外周面の少なくともいずれか一方に
形成されたスリーブ側冷却液通路と、前記永久磁石の端
面を覆う内側カバーと、該内側カバーに密着される外側
カバーと、前記内側カバーの外側面又は外側カバーの内
側面の少なくともいずれか一方に形成されたカバー側冷
却液通路と、を含んで構成することにより、冷却ジャケ
ットを薄く作り、イオン源をコンパクトにできるように
したものである。
[0011] Further, at least one of an inner sleeve that covers the outer periphery of the permanent magnet, the outer sleeve that fits with the inner sleeve, and an outer peripheral surface of the inner sleeve or an outer peripheral surface of the outer sleeve. At least one of an inner cover that covers an end surface of the permanent magnet, an outer cover that is in close contact with the inner cover, and an outer surface of the inner cover or an inner surface of the outer cover. And a cover-side cooling liquid passage formed in the cooling device, the cooling jacket is made thin, and the ion source can be made compact.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下図面を参照して、本発明の実
施形態を詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0013】本実施形態は、図2に示す如く、図1に示
した従来例と同様のECRイオン源において、中央の六
極永久磁石14と両側のミラーコイル12の間に、それ
ぞれ薄い筒状の水冷ジャケット50を配設したものであ
る。
In this embodiment, as shown in FIG. 2, in the same ECR ion source as the conventional example shown in FIG. 1, a thin cylindrical member is provided between a central hexapole permanent magnet 14 and mirror coils 12 on both sides. The water-cooled jacket 50 is disposed.

【0014】前記水冷ジャケット50は、図3(外側ス
リーブの手前の部分を切り欠いた状態の正面図)、図4
(図3のIV−IV線に沿う部分横断面図)、図5(同じく
V−V線に沿う横断面図)、図6(同じくVI−VI線に沿
う横断面図)、図7(図6のVII部拡大図)、図8(同
じくVIII部拡大図)、図9(図3のIX−IX線に沿う横断
面図)に示す如く、前記六極永久磁石14の外周にかぶ
せられる内側スリーブ52と、該内側スリーブ52と嵌
合する外側スリーブ54と、例えば前記内側スリーブ5
2の外周面に形成された、二条ねじ状の2つの溝56
A、56Bからなるスリーブ側冷却水通路56と、前記
六極永久磁石14の端面を覆う、例えば円板状の内側カ
バー58と、該内側カバー58に密着される、同じ円板
状の外側カバー60と、例えば前記内側カバー58の外
側面に形成された、冷却水入口62C及び出口62D
が、それぞれ前記スリーブ側冷却水通路56の溝56
A、56Bの終点56C、56Dと連通するようにされ
た溝62Aからなるカバー側冷却水通路62と、例えば
前記スリーブ側冷却水通路56の溝56A、56Bの入
口56E及び出口56Fに冷却水を送り込み、排出する
ための冷却水送入管64及び冷却水排出管66とを用い
て構成されている。
The water-cooled jacket 50 is shown in FIG. 3 (a front view of a state in which a portion in front of the outer sleeve is cut away), FIG.
(Partial cross-sectional view along line IV-IV in FIG. 3), FIG. 5 (also cross-sectional view along line VV), FIG. 6 (also cross-sectional view along line VI-VI), FIG. 6 (illustrated in section VII), FIG. 8 (also enlarged in section VIII), and FIG. 9 (cross-sectional view taken along line IX-IX in FIG. 3). A sleeve 52, an outer sleeve 54 fitted with the inner sleeve 52,
2, two double-threaded grooves 56 formed on the outer peripheral surface
A, 56B, a sleeve-side cooling water passage 56, a disc-shaped inner cover 58 covering the end face of the six-pole permanent magnet 14, for example, and the same disc-shaped outer cover tightly attached to the inner cover 58 60 and a cooling water inlet 62C and an outlet 62D formed on the outer surface of the inner cover 58, for example.
Are respectively formed in the grooves 56 of the sleeve side cooling water passage 56.
A cooling water is supplied to a cover-side cooling water passage 62 formed of a groove 62A that communicates with end points 56C and 56D of the sleeve-side cooling water passage 56A and 56B. The cooling water supply pipe 64 and the cooling water discharge pipe 66 for feeding and discharging are configured.

【0015】前記内側スリーブ52は薄い円筒であり、
この内側スリーブ52に、二条ねじ状に浅く広いスリー
ブ側冷却水通路56の溝56A、56Bが切られてい
る。このスリーブ側冷却水通路56の溝56A、56B
の一端56C、56Dは、同じく浅く広い溝62Aを切
った内側カバー58につながり、この内側カバー58に
より、二条ねじ状の2つの溝56A、56Bがつながれ
ている。前記内側スリーブ52及び内側カバー58に
は、薄い円筒状の外側スリーブ54及び薄い円板状の外
側カバー60が蓋をするようにかぶせられ、溝間の凸の
部分に沿って、全周が、例えばろう付や溶接等で水密に
固定されている。又、前記外側スリーブ54には、前記
冷却水導入管64及び冷却水排出管66を接続するため
の穴54A、54B(図4)が加工されている。図7及
び図8において、68はおきろうである。
The inner sleeve 52 is a thin cylinder,
Grooves 56A and 56B of a shallow and wide sleeve-side cooling water passage 56 are cut in the inner sleeve 52 in the form of a double thread. The grooves 56A, 56B of the sleeve-side cooling water passage 56
One end 56C, 56D is connected to an inner cover 58, which is also cut by a shallow and wide groove 62A. The inner cover 58 connects two double-threaded grooves 56A, 56B. The inner sleeve 52 and the inner cover 58 are covered with a thin cylindrical outer sleeve 54 and a thin disk-shaped outer cover 60 so as to cover the entire sleeve along the convex portion between the grooves. For example, it is fixed watertight by brazing or welding. The outer sleeve 54 has holes 54A and 54B (FIG. 4) for connecting the cooling water introduction pipe 64 and the cooling water discharge pipe 66. In FIG. 7 and FIG. 8, 68 is likely to occur.

【0016】以下作用を説明する。The operation will be described below.

【0017】冷却水導入管64から導入された冷却水
は、外側スリーブ54の片側の穴54Aから、内側スリ
ーブ52の二条ねじ状の冷却水通路56の一方の溝56
Aに入り、先端(図3の右側)方向へ流れていく。その
先には、内側カバー58がつながれており、この内側カ
バー58に形成されたカバー側冷却水通路62の溝62
Aを介して、溝56Aと56Bがつながれているため、
ここで内側スリーブ52の冷却水通路56の他方の溝5
6Bへ流れ込む。こうして、入側の溝56Aとは逆方向
へ流れた冷却水は、外側スリーブ54に形成された穴5
4Bから冷却水排出管66に出てくる。
The cooling water introduced from the cooling water introducing pipe 64 is supplied to one of the grooves 56 of the double threaded cooling water passage 56 of the inner sleeve 52 through the hole 54A on one side of the outer sleeve 54.
A, and flows toward the tip (right side in FIG. 3). An inner cover 58 is connected to the end of the groove, and a groove 62 of a cover-side cooling water passage 62 formed in the inner cover 58 is formed.
Since the grooves 56A and 56B are connected via A,
Here, the other groove 5 of the cooling water passage 56 of the inner sleeve 52
Flow into 6B. In this way, the cooling water flowing in the opposite direction to the groove 56A on the entry side is applied to the holes 5 formed in the outer sleeve 54.
4B comes out to the cooling water discharge pipe 66.

【0018】本実施形態においては、水路を薄くするこ
とにより、水冷ジャケットを薄く作っているので、イオ
ン源をコンパクトにできる。この際、水路を広くし、水
冷ジャケットにほぼ一様に配置しているので、プラズマ
チェンバを均一に冷却し、六極永久磁石の熱による減磁
を確実に防止することができる。
In this embodiment, since the water cooling jacket is made thin by making the water channel thin, the ion source can be made compact. At this time, since the water channel is widened and arranged almost uniformly in the water-cooled jacket, the plasma chamber can be uniformly cooled, and the demagnetization due to the heat of the six-pole permanent magnet can be reliably prevented.

【0019】又、本実施形態においては、スリーブ側冷
却水通路56を内側スリーブ52の外側面に形成してい
るので、加工が容易である。なお、スリーブ側冷却水通
路56を形成する位置はこれに限定されず、外側スリー
ブ54の内側面に形成してもよい。又、カバー側冷却水
通路62の形成位置も、内側カバー58の外側面に限定
されず、外側カバー60の内側面に形成してもよい。更
に、冷却水通路を、内側スリーブ及び外側スリーブの両
者に設けたり、内側カバー及び外側カバーの両者に設け
て、冷却水流量を増やすこともできる。冷却液の種類も
水に限定されない。
In this embodiment, since the sleeve-side cooling water passage 56 is formed on the outer surface of the inner sleeve 52, the processing is easy. The position where the sleeve-side cooling water passage 56 is formed is not limited to this, and may be formed on the inner surface of the outer sleeve 54. Further, the formation position of the cover-side cooling water passage 62 is not limited to the outer surface of the inner cover 58 but may be formed on the inner surface of the outer cover 60. Further, cooling water passages may be provided in both the inner sleeve and the outer sleeve, or provided in both the inner cover and the outer cover to increase the flow rate of the cooling water. The type of the cooling liquid is not limited to water.

【0020】前記実施形態においては、本発明が、EC
Rイオン源に適用されていたが、本発明の適用範囲はこ
れに限定されない。又、永久磁石の種類も六極永久磁石
に限定されない。
In the above embodiment, the present invention relates to
Although applied to the R ion source, the scope of the present invention is not limited to this. Further, the type of the permanent magnet is not limited to the six-pole permanent magnet.

【0021】[0021]

【発明の効果】本発明によれば、ミラーコイルの発熱に
よる永久磁石の減磁を防止することが可能となる。
According to the present invention, it is possible to prevent the permanent magnet from being demagnetized due to the heat generated by the mirror coil.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来のECRイオン源の全体構成の例を示す断
面図
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the overall configuration of a conventional ECR ion source.

【図2】本発明の実施形態の全体構成を示す断面図FIG. 2 is a cross-sectional view showing the overall configuration of the embodiment of the present invention.

【図3】前記実施形態で用いられている水冷ジャケット
の構成を示す、外側スリーブの手前の部分を切り欠除い
た状態を示す正面図
FIG. 3 is a front view showing a configuration of a water-cooling jacket used in the embodiment and showing a state in which a portion in front of an outer sleeve is cut away.

【図4】図3のIV−IV線に沿う部分横断面図FIG. 4 is a partial cross-sectional view taken along the line IV-IV in FIG. 3;

【図5】同じくV−V線に沿う横断面図FIG. 5 is a cross-sectional view along the line VV.

【図6】同じくVI−VI線に沿う横断面図FIG. 6 is a cross-sectional view along the line VI-VI.

【図7】図6のVII部拡大図FIG. 7 is an enlarged view of a portion VII in FIG. 6;

【図8】同じくVIII部拡大図FIG. 8 is an enlarged view of the same section VIII.

【図9】図3のIX−IX線に沿う横断面図9 is a cross-sectional view taken along line IX-IX of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

12…ミラーコイル 14…六極永久磁石 16…プラズマチェンバ 50…水冷ジャケット 52…内側スリーブ 54…外側スリーブ 56…スリーブ側冷却水通路 58…内側カバー 60…外側カバー 62…カバー側冷却水通路 64…冷却水導入管 66…冷却水排出管 DESCRIPTION OF SYMBOLS 12 ... Mirror coil 14 ... Six-pole permanent magnet 16 ... Plasma chamber 50 ... Water cooling jacket 52 ... Inner sleeve 54 ... Outer sleeve 56 ... Sleeve side cooling water passage 58 ... Inner cover 60 ... Outer cover 62 ... Cover side cooling water passage 64 ... Cooling water inlet pipe 66 ... Cooling water discharge pipe

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】プラズマチェンバの外側に配設したミラー
コイル及び永久磁石により、ミラー磁場を発生させ、プ
ラズマチェンバ内にプラズマを封じ込めて、そこからイ
オンを発生させるようにしたイオン源において、 前記ミラーコイルと永久磁石の間に、薄い冷却ジャケッ
ドを配設したことを特徴とするイオン源。
1. An ion source in which a mirror magnetic field is generated by a mirror coil and a permanent magnet disposed outside a plasma chamber, plasma is confined in the plasma chamber, and ions are generated therefrom. An ion source having a thin cooling jacket disposed between a coil and a permanent magnet.
【請求項2】請求項1において、前記冷却ジャケット
が、 前記永久磁石の外周にかぶせられる内側スリーブと、 該内側スリーブと嵌合する外側スリーブと、 前記内側スリーブの外周面又は外側スリーブの外周面の
少なくともいずれか一方に形成されたスリーブ側冷却液
通路と、 前記永久磁石の端面を覆う内側カバーと、 該内側カバーに密着される外側カバーと、 前記内側カバーの外側面又は外側カバーの内側面の少な
くともいずれか一方に形成されたカバー側冷却液通路
と、 を含んで構成されていることを特徴とするイオン源。
2. The outer sleeve according to claim 1, wherein the cooling jacket comprises: an inner sleeve that covers the outer periphery of the permanent magnet; an outer sleeve that fits the inner sleeve; and an outer peripheral surface of the inner sleeve or an outer peripheral surface of the outer sleeve. A sleeve-side coolant passage formed in at least one of the following: an inner cover that covers an end face of the permanent magnet; an outer cover that is in close contact with the inner cover; and an outer surface of the inner cover or an inner surface of the outer cover. An ion source, comprising: a cover-side coolant passage formed in at least one of the following.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018198114A (en) * 2017-05-23 2018-12-13 日新イオン機器株式会社 Plasma source
CN109285752A (en) * 2018-10-16 2019-01-29 中国工程物理研究院核物理与化学研究所 A kind of cooling device for ion source line

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