JP2001216842A - Transparent conductive film, transparent conductive sheet and touch panel - Google Patents

Transparent conductive film, transparent conductive sheet and touch panel

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JP2001216842A
JP2001216842A JP2000026675A JP2000026675A JP2001216842A JP 2001216842 A JP2001216842 A JP 2001216842A JP 2000026675 A JP2000026675 A JP 2000026675A JP 2000026675 A JP2000026675 A JP 2000026675A JP 2001216842 A JP2001216842 A JP 2001216842A
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JP
Japan
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transparent conductive
film
thin film
transparent
conductive thin
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Application number
JP2000026675A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshiyuki Otani
寿幸 大谷
Hiroyuki Nagahama
博之 長濱
Seiichiro Yokoyama
誠一郎 横山
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Toyobo Co Ltd
Original Assignee
Toyobo Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transparent conductive film having superior pen-input durability used for a touch panel is, where its transparent conductive thin film will not break, even in a friction test of 100 thousand times under the load of 4.9 N by using especially a pen made of polyacetal (tip shape of 0.8 mmR) in particular. SOLUTION: This transparent conductive film (1) is a transparent plastic film (11) laminated with a transparent conductive thin film (12) with tin oxide as the major component at least on a single face, and featured with specific resistance of the transparent conductive thin film (12) is 8×10-4 to 1×10-1 Ω.cm, and further the light transmittance of the transparent film (1) is not less than 82%.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラスチックフィ
ルムを用いた透明導電性フィルム、透明導電性シートお
よびこれを用いたタッチパネルに関するものであり、特
にペン入力用タッチパネルに使用した際にペン摺動耐久
性に優れたものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transparent conductive film using a plastic film, a transparent conductive sheet, and a touch panel using the same. It has excellent properties.

【0002】[0002]

【従来の技術】プラスチックフィルム上に透明でかつ抵
抗の低い化合物薄膜を形成した透明導電性フィルムは、
その導電性を利用した用途、例えば、液晶ディスプレ
イ、エレクトロルミネッセンスパネル(EL)、ディス
プレイといったフラットパネルディスプレイや、タッチ
パネルの透明電極など、電気、電子分野の用途に広く使
用されている。
2. Description of the Related Art A transparent conductive film in which a transparent and low-resistance compound thin film is formed on a plastic film,
It is widely used in applications in the electrical and electronic fields, such as applications utilizing its conductivity, for example, flat panel displays such as liquid crystal displays, electroluminescence panels (EL), and displays, and transparent electrodes of touch panels.

【0003】近年、携帯情報端末やタッチパネル付きノ
ートパソコンの普及により、従来以上に耐ペン摺動性に
すぐれたタッチパネルが要求されるようになってきた。
In recent years, with the spread of portable information terminals and notebook personal computers with a touch panel, a touch panel having better pen sliding resistance than ever has been required.

【0004】このような耐ペン摺動性に優れたタッチパ
ネルを作製するためには、ペン入力時に固定電極側の透
明導電性薄膜と可動電極(フィルム電極)側の透明導電
性薄膜同士は接触するが、これらが接触した際にペン荷
重で透明導電性薄膜にクラック、剥離などの破壊が生じ
ないことが必要である。
In order to manufacture such a touch panel excellent in pen sliding resistance, the transparent conductive thin film on the fixed electrode side and the transparent conductive thin film on the movable electrode (film electrode) side come into contact with each other at the time of pen input. However, it is necessary for the transparent conductive thin film to be free from cracking, peeling, and other destruction by pen load when they come into contact with each other.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
透明導電性フィルムは次のような課題を有していた。
However, the conventional transparent conductive film has the following problems.

【0006】厚さが120μm以下の透明プラスチック
フィルム上に透明導電性薄膜を形成し、粘着剤層で他の
透明基体と貼りあわせた透明導電性フィルム(特開平2
−66809号公報)が提案されている。しかしなが
ら、後述の摺動耐久試験に記載のポリアセタール製のペ
ンを使用し、4.9Nの荷重で10万回の直線摺動試験
後には、透明導電性薄膜に剥離が生じ、ペン入力に対す
る耐久性は不十分であった。そのため、この剥離部の白
化により、タッチパネル付きディスプレイ用に使用した
際に表示品位が低下する。また、粘着剤を用いて貼りあ
わせるため、貼りあわせ時にゴミなどの異物が混入し、
光学欠点の多い透明導電性フィルムとなる。
A transparent conductive thin film is formed on a transparent plastic film having a thickness of 120 μm or less, and is adhered to another transparent substrate with an adhesive layer (Japanese Patent Laid-Open No.
No.-66809) has been proposed. However, after using the polyacetal pen described in the sliding durability test described below and performing the linear sliding test 100,000 times with a load of 4.9 N, the transparent conductive thin film peels off, and the durability against pen input occurs. Was inadequate. For this reason, the whiteness of the peeled portion lowers the display quality when used for a display with a touch panel. In addition, foreign substances such as dust are mixed during bonding because they are bonded using an adhesive,
It becomes a transparent conductive film with many optical defects.

【0007】また、透明なプラスチックフィルム上に、
有機ケイ素化合物の加水分解により生成された層を設
け、さらに結晶質の透明導電性薄膜を積層した透明導電
性フィルムが、例えば特開昭60−131711号公
報、特開昭61−79647号公報、特開昭61−18
3809号公報、特開平2−194943号公報、特開
平2−276630号公報、特開平8−64034号公
報などに提案されている。
Also, on a transparent plastic film,
A layer formed by hydrolysis of an organosilicon compound is provided, and a transparent conductive film further laminated with a crystalline transparent conductive thin film is disclosed in, for example, JP-A-60-131711, JP-A-61-79647, JP-A-61-18
3809, JP-A-2-194943, JP-A-2-276630 and JP-A-8-64034.

【0008】しかしながら、これらの透明導電性フィル
ムは、結晶性の透明導電性薄膜であるため非常に脆く、
後述の摺動耐久試験に記載のポリアセタール製のペンを
使用し、4.9Nの荷重で10万回の直線摺動試験後に
は、透明導電性薄膜にクラックが発生する。また、透明
導電性薄膜をスパッタリングした後に150℃程度の熱
処理を必要とするため、加工コストが高くなるという欠
点がある。
[0008] However, these transparent conductive films are very brittle because they are crystalline transparent conductive thin films.
Using a polyacetal pen described in the sliding durability test described below, cracks occur in the transparent conductive thin film after 100,000 linear sliding tests with a load of 4.9 N. Further, since a heat treatment at about 150 ° C. is required after sputtering the transparent conductive thin film, there is a disadvantage that processing cost is increased.

【0009】本発明の目的は、上記の従来の問題点に鑑
み、タッチパネルに用いた際のペン入力耐久性に優れ、
特に後述の摺動耐久試験に記載のポリアセタール製のペ
ンを使用し、4.9Nの荷重で10万回の摺動試験でも
透明導電性薄膜が破壊されない、透明導電性フィルムを
提供することにある。
In view of the above-mentioned conventional problems, an object of the present invention is to provide an excellent pen input durability when used for a touch panel,
In particular, it is to provide a transparent conductive film in which a transparent conductive thin film is not broken even by a slide test of 100,000 times under a load of 4.9N using a polyacetal pen described in a sliding durability test described below. .

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記のような
状況に鑑みなされたものであって、上記の課題を解決す
ることができた透明導電性フィルム、透明導電性シート
およびタッチパネルとは、以下の通りである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above situation, and a transparent conductive film, a transparent conductive sheet, and a touch panel which can solve the above-mentioned problems are provided. It is as follows.

【0011】即ち、本発明の第1の発明は、透明プラス
チックフィルム(11)の少なくとも一方の面に酸化錫
を主成分とする透明導電性薄膜(12)が積層された透
明導電性フィルム(1)であって、前記透明導電性薄膜
(12)の比抵抗が8×10 -4〜1×10-1Ω・cmで
あり、さらに前記透明導電性フィルム(1)の光線透過
率が82%以上であることを特徴とする透明導電性フィ
ルムである。
That is, the first invention of the present invention is a transparent plus
Tin oxide on at least one surface of the tic film (11)
The transparent conductive thin film (12) mainly composed of
A bright conductive film (1), wherein the transparent conductive thin film is
The specific resistance of (12) is 8 × 10 -Four~ 1 × 10-1Ω · cm
Light transmission of the transparent conductive film (1)
A transparent conductive filter having a ratio of not less than 82%.
Lum.

【0012】第2の発明は、前記透明導電性薄膜(1
2)が、酸化アンチモンを30重量%以下含有すること
を特徴とする第1の発明に記載の透明導電性フィルムで
ある。
The second invention is directed to the transparent conductive thin film (1).
2) is the transparent conductive film according to the first invention, wherein the transparent conductive film contains 30% by weight or less of antimony oxide.

【0013】第3の発明は、前記透明プラスチックフィ
ルム(11)と前記透明導電性薄膜(12)との付着力
が0.1N/15mm以上であることを特徴とする第1
または2の発明に記載の透明導電性フィルムである。
A third invention is characterized in that the adhesive force between the transparent plastic film (11) and the transparent conductive thin film (12) is 0.1 N / 15 mm or more.
Or the transparent conductive film according to the second aspect of the invention.

【0014】第4の発明は、前記透明プラスチックフィ
ルム(11)と前記透明導電性薄膜(12)との間に硬
化性樹脂からなる硬化物層(13)を設けることを特徴
とする第1〜3の発明のいずれかに記載の透明導電性フ
ィルムである。
A fourth invention is characterized in that a cured material layer (13) made of a curable resin is provided between the transparent plastic film (11) and the transparent conductive thin film (12). 3. The transparent conductive film according to any one of the third aspect of the invention.

【0015】第5の発明は、前記透明プラスチックフィ
ルム(11)の透明導電性薄膜(12)を形成していな
い面上に、ハードコート層(14)が設けられているこ
とを特徴とする第1〜4の発明のいずれかに記載の透明
導電性フィルムである。
A fifth invention is characterized in that a hard coat layer (14) is provided on the surface of the transparent plastic film (11) on which the transparent conductive thin film (12) is not formed. A transparent conductive film according to any one of the first to fourth aspects.

【0016】第6の発明は、前記ハードコート層(1
4)が防眩効果を有することを特徴とする第5の発明に
記載の透明導電性フィルムである。
In a sixth aspect, the hard coat layer (1)
4) The transparent conductive film according to the fifth aspect, wherein the transparent conductive film has an antiglare effect.

【0017】第7の発明は、前記ハードコート層(1
4)に低反射処理を施したことを特徴とする第5または
6の発明に記載の透明導電性フィルムである。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided the hard coat layer (1)
The transparent conductive film according to the fifth or sixth aspect of the present invention, wherein a low reflection treatment is applied to 4).

【0018】第8の発明は、第1〜7の発明のいずれか
に記載の透明導電性フィルム(1)の透明導電性薄膜
(12)を積層している面とは反対側の表面に、透明樹
脂シートを粘着剤を介して貼合せたことを特徴とする透
明導電性シートである。
According to an eighth aspect of the present invention, there is provided a transparent conductive film (1) according to any one of the first to seventh aspects, wherein a surface opposite to a surface on which the transparent conductive thin film (12) is laminated is provided. A transparent conductive sheet characterized by laminating a transparent resin sheet via an adhesive.

【0019】第9の発明は、透明導電性薄膜を有する一
対のパネル板を、透明導電性薄膜が対向するようにスペ
ーサーを介して配置してなるタッチパネルであって、少
なくとも一方のパネル板が第1〜8の発明のいずれかに
記載の透明導電性フィルム(1)もしくは透明導電性シ
ートからなることを特徴とするタッチパネルである。
A ninth invention is a touch panel in which a pair of panel plates having a transparent conductive thin film is disposed via a spacer so that the transparent conductive thin films face each other, and at least one of the panel plates is a touch panel. A touch panel comprising the transparent conductive film (1) or the transparent conductive sheet according to any one of the first to eighth inventions.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】本発明における透明プラスチック
フィルム(11)とは、有機高分子を溶融押出し又は溶
液押出しをして、必要に応じ、長手方向及び/又は幅方
向に延伸、冷却、熱固定を施したフィルムであり、有機
高分子としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフ
タレート、ポリプロピレンテレフタレート、ナイロン
6、ナイロン4、ナイロン66、ナイロン12、ポリイ
ミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルサルファン、ポ
リエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリア
リレート、セルロースプロピオネート、ポリ塩化ビニー
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリ
エーテルイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェ
ニレンオキサイド、ポリスチレン、シンジオタクチック
ポリスチレン、ノルボルネン系ポリマーなどがあげられ
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The transparent plastic film (11) in the present invention means that an organic polymer is melt-extruded or solution-extruded, and if necessary, stretched in the longitudinal direction and / or the width direction, cooled, and heat-set. , And organic polymers include polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate, polypropylene terephthalate, nylon 6, nylon 4, nylon 66, nylon 12, polyimide, polyamide imide, and polyether. Sulfane, polyether ether ketone, polycarbonate, polyarylate, cellulose propionate, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyetherimide, polyphenylene sulfide, polyphenylene oxide, Polystyrene, syndiotactic polystyrene, such as norbornene-based polymer and the like.

【0021】これらの有機高分子のなかで、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポ
リエチレン−2,6−ナフタレート、シンジオタクチッ
クポリスチレン、ノルボルネン系ポリマー、ポリカーボ
ネート、ポリアリレートなどが、最も好ましく用いられ
る。また、これらの有機高分子は他の有機重合体の単量
体を少量共重合したり、他の有機高分子をブレンドして
もよい。
Among these organic polymers, polyethylene terephthalate, polypropylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate, syndiotactic polystyrene, norbornene-based polymers, polycarbonate, polyarylate and the like are most preferably used. Further, these organic polymers may be obtained by copolymerizing a small amount of a monomer of another organic polymer or blending another organic polymer.

【0022】本発明における透明プラスチックフィルム
(11)の厚みは、10μmを越え、300μm以下の
範囲であることが好ましく、70〜260μmの範囲が
特に好ましい。透明プラスチックフィルム(11)の厚
みが10μm以下では機械的強度が不足し、特にタッチ
パネルに用いた際のペン入力に対する変形が大きくなり
過ぎ、耐久性が不十分となる。一方、厚みが300μm
を越えると、タッチパネルに用いた際に、フィルムを変
形させるためのペン荷重が大きくなり、好ましくない。
The thickness of the transparent plastic film (11) in the present invention is preferably more than 10 μm and not more than 300 μm, particularly preferably in the range of 70 to 260 μm. If the thickness of the transparent plastic film (11) is 10 μm or less, the mechanical strength is insufficient, and the deformation with respect to pen input when used for a touch panel becomes too large, and the durability becomes insufficient. On the other hand, the thickness is 300 μm
Exceeding the limit results in a large pen load for deforming the film when used for a touch panel, which is not preferable.

【0023】本発明における透明プラスチックフィルム
(11)は、本発明の目的を損なわない範囲で、前記フ
ィルム(11)をコロナ放電処理、グロー放電処理、火
炎処理、紫外線照射処理、電子線照射処理、オゾン処理
などの表面活性化処理を施してもよい。
The transparent plastic film (11) of the present invention may be obtained by subjecting the film (11) to a corona discharge treatment, a glow discharge treatment, a flame treatment, an ultraviolet irradiation treatment, an electron beam irradiation treatment within a range not to impair the object of the present invention. A surface activation treatment such as an ozone treatment may be performed.

【0024】本発明における透明導電性薄膜(12)と
しては、透明性及び導電性をあわせもつ材料であり、さ
らに摺動試験における透明導電性薄膜同士の摩耗による
劣化が少ない材料である酸化錫を主成分とすることが必
要である。
As the transparent conductive thin film (12) in the present invention, a material having both transparency and conductivity, and a material which is less deteriorated by abrasion between the transparent conductive thin films in a sliding test, such as tin oxide, is used. It must be the main component.

【0025】また、この酸化錫を主成分とする透明導電
性薄膜(12)の比抵抗は8×10 -4〜1×10-1Ω・
cmの範囲であることが必要である。透明導電性薄膜
(12)の比抵抗を8×10-4Ω・cm未満とするため
には、製膜速度を極端に遅くする必要があり、工業的に
不適である。また、前記比抵抗が1×10-1Ω・cmを
超えるような高い比抵抗では導電性が不十分となり、タ
ッチパネルに用いた際に位置検出精度が不十分となる。
The transparent conductive material containing tin oxide as a main component
The specific resistance of the conductive thin film (12) is 8 × 10 -Four~ 1 × 10-1Ω
cm. Transparent conductive thin film
The specific resistance of (12) is 8 × 10-FourTo be less than Ω · cm
Requires extremely low film-forming speed,
Not suitable. Further, the specific resistance is 1 × 10-1Ω · cm
If the specific resistance is too high, the conductivity will be insufficient and
When used for a touch panel, the position detection accuracy becomes insufficient.

【0026】さらに、本発明の透明導電性フィルム
(1)は光線透過率が82%以上であることが必要であ
り、好ましくは83%以上、特に好ましくは84%以上
である。光線透過率が82%未満では、タッチパネルに
用いた際の光線透過率が不十分であり、タッチパネル背
面のディスプレイの表示品位が不十分となる。
Further, the transparent conductive film (1) of the present invention needs to have a light transmittance of at least 82%, preferably at least 83%, particularly preferably at least 84%. When the light transmittance is less than 82%, the light transmittance when used for the touch panel is insufficient, and the display quality of the display on the back of the touch panel is insufficient.

【0027】酸化錫を主成分とする透明導電性薄膜(1
2)の膜厚は、4〜800nmの範囲が好ましく、特に
好ましくは5〜500nmの範囲である。透明導電性薄
膜(12)の膜厚が4nmよりも薄い場合、連続した薄
膜になりにくく、良好な導電性を示さない。また、膜厚
が800nmよりも厚い場合、透明性が低下し好ましく
ない。
The transparent conductive thin film (1) containing tin oxide as a main component
The film thickness of 2) is preferably in the range of 4 to 800 nm, and particularly preferably in the range of 5 to 500 nm. When the film thickness of the transparent conductive thin film (12) is less than 4 nm, it is difficult to form a continuous thin film and does not show good conductivity. On the other hand, if the thickness is more than 800 nm, the transparency is undesirably reduced.

【0028】また、摺動試験における透明導電性薄膜同
士の摩耗による劣化をさらに少なくするために、酸化錫
を主成分とする透明導電性薄膜(12)中に、酸化アン
チモンを薄膜に対して、30重量%以下の割合で含有さ
せることが好適である。薄膜中の酸化アンチモンの含有
量が30重量%よりも多い場合には、光線透過率もしく
は導電性が不十分な透明導電性フィルムとなりやすい。
In order to further reduce the deterioration of the transparent conductive thin films due to wear in the sliding test, antimony oxide was added to the transparent conductive thin film (12) containing tin oxide as a main component. It is preferable that the content be contained in a proportion of 30% by weight or less. When the content of antimony oxide in the thin film is more than 30% by weight, a transparent conductive film having insufficient light transmittance or conductivity tends to be obtained.

【0029】本発明における酸化錫を主成分とする透明
導電性薄膜(12)の作成方法としては、真空蒸着法、
スパッタリング法、CVD法、イオンプレーティング
法、スプレー法などの公知の方法が知られており、必要
とする膜厚に応じて、前記の方法を適宜用いることが出
来る。
The method for forming the transparent conductive thin film (12) containing tin oxide as a main component in the present invention includes a vacuum deposition method,
Known methods such as a sputtering method, a CVD method, an ion plating method, and a spray method are known, and the above methods can be appropriately used depending on a required film thickness.

【0030】例えば、スパッタリング法の場合、酸化物
ターゲットを用いた通常のスパッタリング法、あるい
は、金属ターゲットを用いた反応性スパッタリング法等
が用いられる。この時、反応性ガスとして、酸素、窒
素、水蒸気等を導入したり、オゾン添加、プラズマ照
射、イオンアシスト等の手段を併用してもよい。また、
本発明の目的を損なわない範囲で、基板に直流、交流、
高周波などのバイアスを印加してもよい。
For example, in the case of a sputtering method, a normal sputtering method using an oxide target, a reactive sputtering method using a metal target, or the like is used. At this time, oxygen, nitrogen, water vapor, or the like may be introduced as a reactive gas, or means such as ozone addition, plasma irradiation, or ion assist may be used in combination. Also,
As long as the object of the present invention is not impaired, DC, AC,
A bias such as a high frequency may be applied.

【0031】また、透明プラスチックフィルムに透明導
電性薄膜(12)を成膜する際の温度は、150℃以下
とすることが好ましい。成膜時の温度を150℃を越え
る温度にするためには、プラスチックフィルムの送り速
度を極端に遅くする必要があり、工業的に不適である。
The temperature at which the transparent conductive thin film (12) is formed on the transparent plastic film is preferably 150 ° C. or less. In order to increase the temperature at the time of film formation to a temperature exceeding 150 ° C., it is necessary to extremely reduce the feeding speed of the plastic film, which is industrially unsuitable.

【0032】また、スパッタリングを行う際の真空度
は、0.013〜13Paの範囲で行うのが好ましい。
真空度が0.013Paよりも高真空では、安定な放電
が出来ないため、スパッタリングが安定しない。また、
13Paよりも低い真空度でも、やはり安定な放電が出
来ないため、スパッタリングが安定しない。また、蒸着
法、CVD法などの他の方法においても同様である。
The degree of vacuum at the time of performing the sputtering is preferably in the range of 0.013 to 13 Pa.
If the degree of vacuum is higher than 0.013 Pa, stable discharge cannot be performed, so that sputtering is not stable. Also,
Even if the degree of vacuum is lower than 13 Pa, stable discharge cannot be performed, so that sputtering is not stable. The same applies to other methods such as an evaporation method and a CVD method.

【0033】以上のようにして成膜した酸化錫を主成分
とする透明導電性薄膜(12)とプラスチックフィルム
(11)との付着力は、0.1N/15mm以上である
ことが好ましい。付着力が0.1N/15mm未満で
は、タッチパネルに用いた際の直線摺動試験時に、透明
導電性薄膜(12)が剥離しやすくなる。
The adhesion between the transparent conductive thin film (12) containing tin oxide as a main component and the plastic film (11) formed as described above is preferably 0.1 N / 15 mm or more. If the adhesive force is less than 0.1 N / 15 mm, the transparent conductive thin film (12) tends to peel off during a linear sliding test when used for a touch panel.

【0034】前記の付着力を向上させるためには、透明
導電層(12)を積層する前に、プラスチックフィルム
を予め表面処理しておくことが有効である。具体的な手
法としては、サンドブラストやエンボス加工によりプラ
スチックフィルムの表面積を増加させる物理的表面粗面
化処理法や、フィルム表面のカルボニル基、カルボキシ
ル基、水酸基などの官能基を増加させるためにグローま
たはコロナ放電をフィルム表面に照射する放電処理法、
フィルム表面のアミノ基、水酸基、カルボニル基などの
極性基を増加させるために酸またはアルカリでフィルム
表面を処理する化学薬品処理法などが挙げられる。
In order to improve the adhesion, it is effective to pre-treat the surface of the plastic film before laminating the transparent conductive layer (12). Specific methods include a physical surface roughening method that increases the surface area of the plastic film by sandblasting or embossing, and a glowing method to increase functional groups such as carbonyl groups, carboxyl groups, and hydroxyl groups on the film surface. A discharge treatment method in which corona discharge is applied to the film surface,
A chemical treatment method of treating the film surface with an acid or alkali to increase polar groups such as amino groups, hydroxyl groups, and carbonyl groups on the film surface may be used.

【0035】例えば、酸性水溶液としては、重クロム酸
ナトリウムと硫酸の混合水溶液であるクロム酸混液や塩
酸水溶液などが用いられ、アルカリ性水溶液としては、
水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液などが
用いられる。酸性またはアルカリ性水溶液にプラスチッ
クフィルム(11)を浸漬した後に、純水中に浸漬し酸
またはアルカリ性成分を十分に除去する。さらにその
後、窒素ガスをプラスチックフィルム(11)に吹き付
け、フィルム表面に残存している水分を乾燥させる。
For example, as the acidic aqueous solution, a chromic acid mixed solution or a hydrochloric acid aqueous solution which is a mixed aqueous solution of sodium dichromate and sulfuric acid is used, and as the alkaline aqueous solution,
An aqueous solution of sodium hydroxide, an aqueous solution of potassium hydroxide, or the like is used. After immersing the plastic film (11) in an acidic or alkaline aqueous solution, the plastic film (11) is immersed in pure water to sufficiently remove acid or alkaline components. Thereafter, nitrogen gas is blown onto the plastic film (11) to dry the moisture remaining on the film surface.

【0036】さらに、透明プラスチックフィルム(1
1)と透明導電性薄膜(12)との付着力を向上させる
ために、プラスチックフィルム(11)と酸化錫を主成
分とする透明導電性薄膜(12)との間に、硬化性樹脂
からなる硬化物層(13)を設けることが好ましい。硬
化性樹脂としては、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹
脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹
脂、シリコン系樹脂、ポリイミド系樹脂などの硬化性樹
脂を単体もしくは混合した樹脂が好ましい。これらの硬
化性樹脂に公知の硬化剤、触媒を加えた後、加熱、紫外
線照射、電子線照射などのエネルギーを印加し、硬化物
層(13)を形成する。
Further, the transparent plastic film (1)
In order to improve the adhesion between 1) and the transparent conductive thin film (12), a curable resin is provided between the plastic film (11) and the transparent conductive thin film (12) containing tin oxide as a main component. It is preferable to provide a cured product layer (13). As the curable resin, a resin alone or a mixture of curable resins such as a polyester resin, a urethane resin, an acrylic resin, a melamine resin, an epoxy resin, a silicon resin, and a polyimide resin is preferable. After adding a known curing agent and catalyst to these curable resins, energy such as heating, ultraviolet irradiation, and electron beam irradiation is applied to form a cured layer (13).

【0037】硬化性樹脂からなる硬化物層(13)の厚
さは、0.02〜10μmの範囲であることが好まし
い。硬化物層(13)の厚さが0.02μmよりも薄い
場合には付着力向上の効果が不十分となり、10μmを
越える場合には生産性の観点から好ましくない。
The thickness of the cured layer (13) made of a curable resin is preferably in the range of 0.02 to 10 μm. When the thickness of the cured product layer (13) is less than 0.02 μm, the effect of improving the adhesive force becomes insufficient, and when it exceeds 10 μm, it is not preferable from the viewpoint of productivity.

【0038】また、タッチパネルとした際の最外層(ペ
ン入力面)の耐擦傷性をさらに向上させるために、透明
プラスチックフィルム(11)の透明導電性薄膜(1
2)を形成させた表面とは反対面(タッチパネルとした
際の最外層のペン入力面)に、ハードコート層(14)
を設けることが好ましい。前記ハードコート層の硬度
は、鉛筆硬度で2H以上であることが好ましい。2Hよ
りも低い硬度では、透明導電性フィルムのハードコート
層としては耐擦傷性の点で不十分である。
Further, in order to further improve the scratch resistance of the outermost layer (pen input surface) when a touch panel is formed, the transparent conductive thin film (1) of the transparent plastic film (11) is used.
A hard coat layer (14) is formed on the surface opposite to the surface on which 2) is formed (the outermost pen input surface when a touch panel is formed).
Is preferably provided. The hardness of the hard coat layer is preferably 2H or more in pencil hardness. If the hardness is lower than 2H, the hard coat layer of the transparent conductive film is insufficient in abrasion resistance.

【0039】前記ハードコート層(14)の厚みは0.
5〜10μmであることが好ましい。厚みが0.5μm
未満では、耐擦傷性が不十分となりやすく、10μmよ
りも厚い場合には生産性の観点から好ましくない。
The thickness of the hard coat layer (14) is 0.1.
It is preferably from 5 to 10 μm. 0.5μm thickness
If it is less than 10 μm, the scratch resistance tends to be insufficient, and if it is more than 10 μm, it is not preferable from the viewpoint of productivity.

【0040】前記ハードコート層(14)に用いられる
硬化型樹脂組成物の皮膜形成成分は、好ましくは、アク
リレート系の官能基を有するもの、例えば、比較的低分
子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル
樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、
スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオ
ールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の
(メタ)アクリート等のオリゴマーまたはプレポリマ
ー、及び反応性希釈剤として、エチル(メタ)アクリー
ト、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、
メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等の単官能モノ
マー並びに多官能モノマー、例えば、トリメチロールプ
ロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール
(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ
(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)
アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)
アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)ア
クリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリ
レート等を比較的多量に含有するものが使用できる。
The film-forming component of the curable resin composition used in the hard coat layer (14) is preferably one having an acrylate-based functional group, for example, a polyester resin or polyether resin having a relatively low molecular weight. Acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, alkyd resin,
Spiro acetal resin, polybutadiene resin, polythiol polyene resin, oligomer or prepolymer such as (meth) acrylate of polyfunctional compound such as polyhydric alcohol, and ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate as reactive diluent, styrene,
Monofunctional monomers and polyfunctional monomers such as methylstyrene and N-vinylpyrrolidone, for example, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate , Pentaerythritol tri (meta)
Acrylate, dipentaerythritol hexa (meth)
Those containing relatively large amounts of acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate and the like can be used.

【0041】特に、ポリエステルアクリレートとポリウ
レタンアクリレートの混合物が好適である。その理由
は、ポリエステルアクリレートは塗膜が非常に硬くてハ
ードコート層として適している。しかしながら、ポリエ
ステルアクリレート単独の塗膜では耐衝撃性が低く脆く
なりやすいので、塗膜に耐衝撃性及び柔軟性を与えるた
めに、ポリウレタンアクリレートを併用する。ポリエス
テルアクリレート100重量部に対するポリウレタンア
クリレートの配合割合は30重量部以下とするのが好ま
しい。この配合割合が30重量部を超えると、塗膜が柔
らかくなりすぎて耐衝撃性が不十分となる傾向がある。
In particular, a mixture of a polyester acrylate and a polyurethane acrylate is preferred. The reason is that polyester acrylate has a very hard coating film and is suitable as a hard coat layer. However, a coating film of polyester acrylate alone has low impact resistance and tends to be brittle, so that polyurethane acrylate is used in combination to impart impact resistance and flexibility to the coating film. The mixing ratio of polyurethane acrylate to 100 parts by weight of polyester acrylate is preferably 30 parts by weight or less. If this compounding ratio exceeds 30 parts by weight, the coating film tends to be too soft and the impact resistance tends to be insufficient.

【0042】前記の硬化型樹脂組成物の硬化方法は、通
常の硬化方法、即ち、加熱、電子線または紫外線の照射
によって硬化する方法を用いることができる。例えば、
電子線硬化の場合は、コックロフトワルトン型、ハンデ
グラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダ
イナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放
出される50〜1000keV、好ましくは100〜3
00keVのエネルギーを有する電子線等が使用され
る。また、紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧
水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアー
ク、メタルハイライドランプ等の光線から発する紫外線
等が利用できる。
As the method of curing the curable resin composition, a usual curing method, that is, a method of curing by heating, irradiation with an electron beam or ultraviolet rays can be used. For example,
In the case of electron beam curing, 50 to 1000 keV, preferably emitted from various electron beam accelerators such as Cockloft-Walton type, Handie graph type, Resonant transformation type, Insulating core transformer type, Linear type, Dynamitron type, High frequency type, etc. Is 100-3
An electron beam having an energy of 00 keV is used. In the case of ultraviolet curing, ultraviolet rays emitted from light rays such as an ultrahigh-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, and a metal halide lamp can be used.

【0043】さらに、電離放射線硬化の場合には、前記
の硬化型樹脂組成物中に光重合開始剤として、アセトフ
ェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベン
ゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチ
ウラムモノサルファイド、チオキサントン類や、光増感
剤としてn−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−
n−ブチルホスフィン等を混合することが好ましい。本
発明では、オリゴマーとしてウレタンアクリレート、モ
ノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)ア
クリレート等を混合することが特に好ましい。
Further, in the case of ionizing radiation curing, acetophenones, benzophenones, Michler benzoyl benzoate, α-amyloxime ester, tetramethylthiuram monosulfide may be used as a photopolymerization initiator in the curable resin composition. , Thioxanthones, n-butylamine, triethylamine, tri-
It is preferable to mix n-butylphosphine and the like. In the present invention, it is particularly preferable to mix urethane acrylate as an oligomer and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate as a monomer.

【0044】ハードコート層に防眩性を付与するために
は、硬化型樹脂中にCaCO3やSiO2などの無機粒子
を分散させたり、ハードコート層の表面に凹凸形状を形
成させることが有効である。例えば、凹凸を形成するた
めには、硬化型樹脂組成物を含む塗液を塗工後、表面に
凸形状を有する賦形フィルムをラミネートし、この賦形
フィルム上から紫外線を照射し硬化型樹脂を硬化させた
後に、賦形フィルムのみを剥離することにより得られ
る。
In order to impart antiglare property to the hard coat layer, it is effective to disperse inorganic particles such as CaCO 3 and SiO 2 in the curable resin or to form an uneven shape on the surface of the hard coat layer. It is. For example, in order to form irregularities, a coating liquid containing a curable resin composition is applied, a shaped film having a convex shape on its surface is laminated, and ultraviolet light is irradiated from above the shaped film to form a curable resin. After curing, the resin is obtained by peeling off only the shaped film.

【0045】前記の賦型フィルムには、離型性を有する
ポリエチレンテレフタレート(以後、PETと略す)等
の基材フィルム上に所望の凸形状を設けたもの、或い
は、PET等の基材フィルム上に繊細な凸層を形成した
もの等を用いることができる。その凸層の形成は、例え
ば、無機粒子とバインダー樹脂からなる樹脂組成物を用
いて基材フィルム上に塗工することにより得ることがで
きる。前記バインダー樹脂は、例えば、ポリイソシアネ
ートで架橋されたアクリルポリオールを用い、無機粒子
としては、CaCO3やSiO2などを用いることができ
る。また、この他にPET製造時にSiO2等の無機粒
子を練込んだマットタイプのPETも用いることができ
る。
The above-mentioned imprinting film may be a film in which a desired convex shape is provided on a base film such as polyethylene terephthalate (hereinafter abbreviated as PET) having releasability, or a base film such as PET. And a delicate convex layer may be used. The formation of the convex layer can be obtained by, for example, applying a resin composition comprising inorganic particles and a binder resin on a base film. As the binder resin, for example, an acrylic polyol crosslinked with a polyisocyanate is used, and as the inorganic particles, CaCO 3 , SiO 2, or the like can be used. In addition, a mat type PET in which inorganic particles such as SiO 2 are kneaded during the production of PET can also be used.

【0046】この賦型フィルムを紫外線硬化型樹脂の塗
膜にラミネートした後紫外線を照射して塗膜を硬化する
場合、賦型フィルムがPETを基材としたフィルムの場
合、該フィルムに紫外線の短波長側が吸収され、紫外線
硬化型樹脂の硬化が不足するという欠点がある。したが
って、紫外線硬化型樹脂の塗膜にラミネートする賦型フ
ィルムは透過率が20%以上のものを使用することが必
要である。
When the molding film is laminated on a coating film of an ultraviolet curable resin and then irradiated with ultraviolet rays to cure the coating film, when the molding film is a PET-based film, the film is exposed to ultraviolet light. There is a disadvantage that the short wavelength side is absorbed and curing of the ultraviolet curable resin is insufficient. Therefore, it is necessary to use a shaping film having a transmittance of 20% or more for the shaping film to be laminated on the coating film of the ultraviolet curable resin.

【0047】また、タッチパネルに用いた際に可視光線
の透過率をさらに向上させるためにハードコート層(1
4)上に、低反射処理を施してもよい。この低反射処理
は、ハードコート層(14)の屈折率とは異なる屈折率
を有する材料を単層もしくは2層以上に積層することが
好ましい。単層構造の場合、ハードコート層(14)よ
りも小さな屈折率を有する材料を用いるのが好ましい。
また、2層以上の多層構造とする場合は、ハードコート
層(14)と隣接する層は、ハードコート層(14)よ
りも大きな屈折率を有する材料を用い、この上の層には
これよりも小さな屈折率を有する材料を選ぶのがよい。
このような低反射処理を構成する材料としては、有機材
料でも無機材料でも上記の屈折率の関係を満足すれば特
に限定されない。例えば、CaF2、MgF2、NaAl
4、SiO2、ThF4、ZrO2、Nd23、Sn
2、TiO2、CeO2、ZnS、In23、などの誘
電体を用いるのが好ましい。
In order to further improve the transmittance of visible light when used in a touch panel, a hard coat layer (1
4) A low reflection process may be performed thereon. In this low reflection treatment, it is preferable that a material having a refractive index different from the refractive index of the hard coat layer (14) is laminated as a single layer or two or more layers. In the case of a single layer structure, it is preferable to use a material having a smaller refractive index than the hard coat layer (14).
In the case of a multilayer structure having two or more layers, a layer having a higher refractive index than the hard coat layer (14) is used for a layer adjacent to the hard coat layer (14), and It is better to select a material having a small refractive index.
The material constituting such a low reflection treatment is not particularly limited, as long as it satisfies the above-described relationship of the refractive index, whether it is an organic material or an inorganic material. For example, CaF 2 , MgF 2 , NaAl
F 4 , SiO 2 , ThF 4 , ZrO 2 , Nd 2 O 3 , Sn
It is preferable to use a dielectric such as O 2 , TiO 2 , CeO 2 , ZnS, In 2 O 3 or the like.

【0048】この低反射処理は、真空蒸着法、スパッタ
リング法、CVD法、イオンプレーティング法などのド
ライコーティングプロセスでも、グラビア方式、リバー
ス方式、ダイ方式などのウェットコーティングプロセス
でもよい。
The low reflection treatment may be a dry coating process such as a vacuum evaporation method, a sputtering method, a CVD method, an ion plating method, or a wet coating process such as a gravure method, a reverse method, or a die method.

【0049】さらに、この低反射処理層の積層に先立っ
て、前処理として、コロナ放電処理、プラズマ処理、ス
パッタエッチング処理、電子線照射処理、紫外線照射処
理、プライマ処理、易接着処理などの公知の表面処理を
ハードコート層(14)に施してもよい。
Further, prior to lamination of the low reflection treatment layer, known pretreatments such as a corona discharge treatment, a plasma treatment, a sputter etching treatment, an electron beam irradiation treatment, an ultraviolet irradiation treatment, a primer treatment, an easy adhesion treatment, etc. A surface treatment may be applied to the hard coat layer (14).

【0050】本発明の透明導電性フィルム(1)を用
い、透明導電性薄膜(12)を形成していない面と粘着
剤を介して透明樹脂シートと積層することで、タッチパ
ネルの固定電極に用いる透明導電性積層シートが得られ
る。すなわち、固定電極をガラスから樹脂製にすること
で、軽量かつ割れにくいタッチパネルを作製することが
できる。
The transparent conductive film (1) of the present invention is used as a fixed electrode of a touch panel by laminating a surface on which the transparent conductive thin film (12) is not formed and a transparent resin sheet via an adhesive. A transparent conductive laminated sheet is obtained. That is, by making the fixed electrode made of resin from glass, a lightweight and hard-to-break touch panel can be manufactured.

【0051】前記粘着剤は透明性を有するものであれば
特に制限はないが、例えばアクリル系粘着剤、シリコー
ン系粘着剤、ゴム系粘着剤などが好適である。この粘着
剤の厚さは特に制限はないが、通常1〜100μmの範
囲に設定するのが望ましい。粘着剤の厚みが1μm未満
の厚さの場合、実用上問題のない接着性を得るのが難し
く、100μmを越える厚さでは生産性の観点から好ま
しくない。
The pressure-sensitive adhesive is not particularly limited as long as it has transparency. For example, acrylic pressure-sensitive adhesives, silicone-based pressure-sensitive adhesives, and rubber-based pressure-sensitive adhesives are suitable. Although the thickness of the pressure-sensitive adhesive is not particularly limited, it is usually desirable to set the thickness in the range of 1 to 100 μm. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive is less than 1 μm, it is difficult to obtain practically no problematic adhesion, and when the thickness exceeds 100 μm, it is not preferable from the viewpoint of productivity.

【0052】この粘着剤を介して貼合わせる透明樹脂シ
ートは、ガラスと同等の機械的強度を付与するために使
用するものであり、厚さは0.05〜5mmの範囲が好
ましい。前記透明樹脂シートの厚みが0.05mm未満
では、機械的強度がガラスに比べ不足する。一方、厚さ
が5mmを越える場合には、厚すぎてタッチパネルに用
いるには不適当である。また、この透明樹脂シートの材
質は、前記の透明プラスチックフィルムと同様のものを
使用することができる。
The transparent resin sheet to be bonded through the pressure-sensitive adhesive is used for imparting the same mechanical strength as glass, and the thickness is preferably in the range of 0.05 to 5 mm. When the thickness of the transparent resin sheet is less than 0.05 mm, the mechanical strength is insufficient compared with glass. On the other hand, when the thickness exceeds 5 mm, it is too thick and is not suitable for use in a touch panel. The material of the transparent resin sheet may be the same as the transparent plastic film described above.

【0053】図15に、本発明の透明導電性フィルム
(1)を用いた、タッチパネルの例を示す。透明導電性
薄膜を有する一対のパネル板を、透明導電性薄膜が対向
するようにスペーサーを介して配置してなるタッチパネ
ルにおいて、一方のパネル板に本発明の透明導電性フィ
ルム(1)を用いたものである。また、このタッチパネ
ルにペンにより文字を入力した時に、ペンからの押圧に
より、対向した透明導電性薄膜同士が接触し、電気的に
ONの状態になり、タッチパネル上でのペンの位置を検
出することができる。このペン位置を連続的かつ正確に
検出することで、ペンの軌跡から文字を認識することが
できる。この際、ペン接触側のパネル板に本発明の透明
導電性フィルム(1)を用いると、ペン入力耐久性に優
れるため、長期にわたって安定なタッチパネルとするこ
とができる。
FIG. 15 shows an example of a touch panel using the transparent conductive film (1) of the present invention. In a touch panel in which a pair of panel plates having a transparent conductive thin film are arranged via a spacer so that the transparent conductive thin films face each other, the transparent conductive film (1) of the present invention is used for one of the panel plates. Things. In addition, when characters are input to the touch panel with a pen, the opposing transparent conductive thin films come into contact with each other due to pressing from the pen, and are electrically turned on, and the position of the pen on the touch panel is detected. Can be. By continuously and accurately detecting the pen position, characters can be recognized from the locus of the pen. At this time, if the transparent conductive film (1) of the present invention is used for the panel plate on the pen contact side, the touch panel can be made stable over a long period of time because of excellent pen input durability.

【0054】なお、図16は、本発明の透明導電性フィ
ルム(1)および透明導電性シートを使用した、ガラス
基板を用いないプラスチック製のタッチパネルの断面図
である。このプラスチック製のタッチパネルはガラスを
用いていないため、非常に軽量であり、かつ、衝撃によ
り割れたりすることがない。
FIG. 16 is a cross-sectional view of a plastic touch panel using the transparent conductive film (1) and the transparent conductive sheet of the present invention and not using a glass substrate. Since this plastic touch panel does not use glass, it is extremely lightweight and does not break due to impact.

【0055】[0055]

【実施例】以下に、本発明の実施例を記載してより具体
的に説明する。なお、本発明の実施例及び比較例で用い
た透明導電性フィルム(1)およびタッチパネルの評価
に用いた測定法は以下の通りである。
The present invention will be described more specifically below with reference to examples. In addition, the measuring method used for the evaluation of the transparent conductive film (1) and the touch panel used in Examples and Comparative Examples of the present invention is as follows.

【0056】<表面抵抗率>JIS K7194に準拠
した4端子法にて測定した。測定機としては、三菱油化
(株)製 Lotest AMCP−T400を用い
た。
<Surface resistivity> The surface resistivity was measured by a four-terminal method in accordance with JIS K7194. Lotest AMCP-T400 manufactured by Mitsubishi Yuka Co., Ltd. was used as a measuring device.

【0057】<光線透過率>JIS K7105に準拠
した、日本電色工業(株)製NDH−1001DPを用
いて、光線透過率を測定した。
<Light Transmittance> The light transmittance was measured using NDH-1001DP manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. in accordance with JIS K7105.

【0058】<付着力測定>厚みが40μmのアイオノ
マーフィルム(タマポリ株式会社製:HM−07)をポ
リエステル系接着剤(武田薬品株式会社製:タケネート
A310/タケラックA−3)を用いて、厚みが75μ
mの二軸配向PETフィルム(東洋紡績株式会社製:E
5100)にラミネートした付着力測定用積層体を作製
した。この付着力測定用積層体のアイオノマー面と透明
導電性フィルムの透明導電性薄膜面を対向させ、0.5
MPaの圧力下、130℃で2秒間熱圧着した。この積
層体を付着力測定用積層体と透明導電性フィルムとを1
80度剥離法で剥離し、この剥離力を付着力とした。こ
の時の剥離速度は1000mm/分とした。
<Measurement of Adhesion Force> An ionomer film (HM-07, manufactured by Tamapoly Co., Ltd.) having a thickness of 40 μm was coated with a polyester-based adhesive (Takenate A310 / Takelac A-3, manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd.). 75μ
m biaxially oriented PET film (Toyobo Co., Ltd .: E
5100) to produce a laminate for measuring adhesive force. The ionomer surface of the laminate for measuring adhesion is opposed to the transparent conductive thin film surface of the transparent conductive film, and
Thermocompression bonding was performed at 130 ° C. for 2 seconds under a pressure of MPa. This laminate is bonded to a laminate for measuring adhesive force and a transparent conductive film in one.
Peeling was performed by an 80-degree peeling method, and this peeling force was used as an adhesive force. The peeling speed at this time was 1000 mm / min.

【0059】<比抵抗の算出>透明導電性薄膜(12)
の膜厚Dと、表面抵抗率Rsの積、すなわち、D×Rs
を比抵抗とした。
<Calculation of Specific Resistance> Transparent conductive thin film (12)
Of the film thickness D and the surface resistivity Rs, that is, D × Rs
Is the specific resistance.

【0060】<薄膜中の組成分析>プラズマ発光分析装
置(島津製作所製:ICPS−2000)により、薄膜
中の酸化錫、酸化アンチモン、酸化インジウムの組成比
を測定した。
<Composition Analysis in Thin Film> The composition ratio of tin oxide, antimony oxide, and indium oxide in the thin film was measured by a plasma emission analyzer (ICPS-2000, manufactured by Shimadzu Corporation).

【0061】<摺動耐久試験>ポリアセタール製のペン
(先端の形状:0.8mmR)に4.9Nの荷重をか
け、10万回(往復5万回)の摺動試験をタッチパネル
上で行った。この時の摺動距離は47mm、摺動速度は
240mm/秒とした。この摺動耐久試験後に、まず、
摺動部が白化しているかを目視によって観察した。さら
に、ペン荷重0.78Nで上記の摺動部にかかるように
20mmφの記号○印を筆記し、タッチパネルがこれを
正確に読みとれるかを評価した。さらに、ペン荷重0.
78Nで摺動部を押さえた際の、ON抵抗(可動電極
(フィルム電極)と固定電極とが接触した時の抵抗値)
を測定した。
<Sliding durability test> A 4.9 N load was applied to a polyacetal pen (tip shape: 0.8 mmR), and a sliding test of 100,000 times (50,000 reciprocations) was performed on the touch panel. . The sliding distance at this time was 47 mm, and the sliding speed was 240 mm / sec. After this sliding durability test,
It was visually observed whether the sliding portion was whitened. Further, a mark ○ of 20 mmφ was written on the sliding portion with a pen load of 0.78 N, and it was evaluated whether the touch panel could correctly read the mark. In addition, pen load 0.
ON resistance when the sliding part is pressed with 78N (resistance value when the movable electrode (film electrode) and fixed electrode come into contact)
Was measured.

【0062】実施例1 厚さが188μmの片面に易接着層を有する二軸配向P
ETフィルム(東洋紡績(株)製:A4140)を透明
プラスチックフィルム(11)として用いた。
Example 1 Biaxial orientation P having a thickness of 188 μm and having an easily adhesive layer on one side
An ET film (A4140, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was used as the transparent plastic film (11).

【0063】次に、プラスチックフィルム(11)の易
接着処理を施していない表面に、錫をターゲットに用い
て、直流マグネトロンスパッタリング法で、厚みが25
nmの透明導電性薄膜(12)を製膜した。この時の真
空度は0.4Paとし、ガスとしてArガスを130s
ccm、O2ガスを70sccmの流速で流し、ターゲ
ット印加電力は2.5W/cm2とし、アーク放電発生
防止のために50kHz、幅5μsec.の+20Vの
パルス印加を行った。また、フィルム冷却のために、−
10℃のクーリングロールにフィルムを接触させ、ライ
ン速度は5m/分で走行させた。
Next, the surface of the plastic film (11), which has not been subjected to the easy-adhesion treatment, has a thickness of 25 by DC magnetron sputtering using tin as a target.
nm, a transparent conductive thin film (12) was formed. At this time, the degree of vacuum was 0.4 Pa, and Ar gas was used as a gas for 130 s.
ccm and O 2 gas were flowed at a flow rate of 70 sccm, the target applied power was 2.5 W / cm 2, and a pulse of +20 V at 50 kHz and 5 μsec. width was applied to prevent arc discharge. Also, for film cooling,
The film was brought into contact with a cooling roll at 10 ° C., and the line was run at a speed of 5 m / min.

【0064】この透明導電性フィルム(1)を一方のパ
ネル板として用い、他方のパネル板として、ガラス基板
(日本曹達(株)製:450Ω/□)を用いた。この2
枚のパネル板を透明導電性薄膜が対向するように、直径
30μmのエポキシビーズを介して、配置しタッチパネ
ルを作製した。
The transparent conductive film (1) was used as one panel plate, and a glass substrate (450 Ω / □, manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) was used as the other panel plate. This 2
The two panel plates were arranged via epoxy beads having a diameter of 30 μm so that the transparent conductive thin films faced each other, to produce a touch panel.

【0065】実施例2 厚さが188μmの片面に易接着層を有する二軸配向P
ETフィルム(東洋紡績(株)製:A4140)を透明
プラスチックフィルム(11)として用いた。
Example 2 Biaxial orientation P having a thickness of 188 μm and having an easily adhesive layer on one side
An ET film (A4140, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was used as the transparent plastic film (11).

【0066】次に、プラスチックフィルム(11)の易
接着処理を施していない面上に三酸化アンチモンを5重
量%、10重量%、25重量%含有した酸化錫をターゲ
ット(それぞれのターゲットの密度は、5.7g/cm
3、5.0g/cm3、4.1g/cm3)に用いて、直
流マグネトロンスパッタリング法で、厚みが30nmの
透明導電性薄膜(12)を製膜した。この時の真空度は
0.4Paとし、ガスとしてArガスを130scc
m、O2ガスを15sccmの流速で流し、ターゲット
印加電力は1.5W/cm2とし、アーク放電発生防止
のために100kHz、幅5μsec.の+20Vのパ
ルス印加を行った。また、フィルム冷却のために、−1
0℃のクーリングロールにフィルムを接触させ、ライン
速度は3m/分で走行させた。
Next, a target of tin oxide containing antimony trioxide at 5% by weight, 10% by weight and 25% by weight was placed on the surface of the plastic film (11) which had not been subjected to the easy adhesion treatment. 5.7g / cm
3 , 5.0 g / cm 3 , 4.1 g / cm 3 ) to form a 30 nm thick transparent conductive thin film (12) by DC magnetron sputtering. At this time, the degree of vacuum was 0.4 Pa, and Ar gas was 130 scc as a gas.
m, O 2 gas was flowed at a flow rate of 15 sccm, the target applied power was 1.5 W / cm 2, and a +20 V pulse of 100 kHz and 5 μsec. width was applied to prevent arc discharge. Also, for cooling the film, -1
The film was brought into contact with a cooling roll at 0 ° C., and the film was run at a line speed of 3 m / min.

【0067】この透明導電性フィルム(1)を一方のパ
ネル板として用い、実施例1と同様にタッチパネルを作
製した。
Using this transparent conductive film (1) as one panel plate, a touch panel was produced in the same manner as in Example 1.

【0068】実施例3 厚さが188μmの両面に易接着層を有する二軸配向P
ETフィルム(東洋紡績(株)製:A4340)を透明
プラスチックフィルム(11)として用いた。さらに、
共重合ポリエステル樹脂(東洋紡績(株)製、バイロン
RV280 )0.7重量%、イソシアネート系架橋剤
(日本ポリウレタン工業(株)製、コロネートL)0.
3重量%、溶剤として、メチルエチルケトン65重量
%、トルエン24重量%、シクロヘキサノン10重量%
からなるコーティング液を得た。次に、上記PETフィ
ルムの片面の易接着層上に、バーコート法を用いて前記
コーティング液を塗布した。使用したワイヤーバーは3
番であった。コーティングされたフィルムは、130℃
で30分間熱処理を施し、塗布層を硬化させた。この硬
化性樹脂からなる硬化物層(13)の厚さは、乾燥後で
0.1μmであった。
Example 3 Biaxial orientation P having an easy-adhesion layer on both sides with a thickness of 188 μm
An ET film (A4340, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was used as the transparent plastic film (11). further,
0.7% by weight of copolymerized polyester resin (manufactured by Toyobo Co., Ltd., Byron RV280), isocyanate-based crosslinking agent (Coronate L, manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.)
3% by weight, solvent: methyl ethyl ketone 65% by weight, toluene 24% by weight, cyclohexanone 10% by weight
Was obtained. Next, the coating solution was applied on the easy-adhesion layer on one side of the PET film by a bar coating method. 3 used wire bars
It was turn. 130 ° C coated film
For 30 minutes to cure the coating layer. The thickness of the cured product layer (13) made of the curable resin was 0.1 μm after drying.

【0069】次に、硬化性樹脂硬化物層(13)上に酸
化アンチモンを5重量%含有した酸化錫をターゲット
(密度:5.7g/cm3)に用いて、直流マグネトロ
ンスパッタリング法で、厚み20nmの透明導電性薄膜
(12)を製膜した。この時の真空度は0.4Paと
し、ガスとしてArガスを130sccm、O2ガスを
15sccmの流速で流し、ターゲット印加電力は1.
5W/cm2とし、アーク放電発生防止のために100
kHz、幅5μsec.の+20Vのパルス印加を行っ
た。また、フィルム冷却のために、−10℃のクーリン
グロールにフィルムを接触させ、ライン速度は3m/分
で走行させた。
Next, using a target (density: 5.7 g / cm 3 ) as a target (density: 5.7 g / cm 3 ) tin oxide containing 5% by weight of antimony oxide on the cured curable resin layer (13), A 20 nm transparent conductive thin film (12) was formed. At this time, the degree of vacuum was 0.4 Pa, Ar gas was flowed at a flow rate of 130 sccm and O 2 gas at a flow rate of 15 sccm, and the power applied to the target was 1.
5 W / cm 2 and 100 to prevent arc discharge
A +20 V pulse with a frequency of 5 kHz and a frequency of 5 kHz was applied. Further, for cooling the film, the film was brought into contact with a cooling roll at −10 ° C., and the film was run at a line speed of 3 m / min.

【0070】この透明導電性フィルム(1)を一方のパ
ネル板として用い、実施例1と同様にしてタッチパネル
を作製した。
Using this transparent conductive film (1) as one panel plate, a touch panel was produced in the same manner as in Example 1.

【0071】実施例4 実施例3と同様にして、プラスチックフィルム(11)
/硬化性樹脂からなる硬化物層(13)の層構成からな
る積層体を作製した。この積層体の硬化物層(13)と
は反対面に、紫外線硬化型樹脂としてポリエステルアク
リレートとポリウレタンアクリレートとの混合物からな
る紫外線硬化型樹脂(大日精化製:EXG)を、膜厚5
μm(乾燥時)になるようにグラビアリバース法により
塗工し溶剤を乾燥させた。この後、160Wの紫外線照
射装置の下を10m/分の速度で通過させ、紫外線硬化
型樹脂を硬化させ、ハードコート層(14)を形成させ
た。
Example 4 In the same manner as in Example 3, the plastic film (11)
A laminate having a layer configuration of a cured product layer (13) composed of a curable resin was prepared. On the surface of the laminate opposite to the cured product layer (13), an ultraviolet-curable resin (EXG, manufactured by Dainichi Seika) made of a mixture of polyester acrylate and polyurethane acrylate as an ultraviolet-curable resin was coated with a film thickness of 5 mm.
The solution was applied by a gravure reverse method to a thickness of μm (at the time of drying), and the solvent was dried. Thereafter, the resin was passed under a 160-W ultraviolet irradiation device at a speed of 10 m / min to cure the ultraviolet-curable resin, thereby forming a hard coat layer (14).

【0072】このハードコート層(14)/プラスチッ
クフィルム(11)/硬化性樹脂からなる硬化物層(1
3)の層構成からなる積層体の硬化物層(13)上に、
実施例3と同様にして錫−アンチモン複合酸化物薄膜を
成膜した。
This hard coat layer (14) / plastic film (11) / cured material layer (1)
On the cured product layer (13) of the laminate having the layer configuration of 3),
In the same manner as in Example 3, a tin-antimony composite oxide thin film was formed.

【0073】この透明導電性フィルム(1)を一方のパ
ネル板として用い、実施例1と同様にしてタッチパネル
を作製した。
Using this transparent conductive film (1) as one panel plate, a touch panel was produced in the same manner as in Example 1.

【0074】実施例5 実施例3と同様にして、プラスチックフィルム(11)
/硬化性樹脂からなる硬化物層(13)の層構成からな
る積層体を作製した。この積層体の硬化物層(13)と
は反対面に、紫外線硬化型樹脂としてポリエステルアク
リレートとポリウレタンアクリレートとの混合物からな
る紫外線硬化型樹脂(大日精化製:EXG)を、膜厚5
μm(乾燥時)になるようにグラビアリバース法により
塗工し溶剤を乾燥させた。その後、表面に微細な凸形状
が形成されたPETフィルムのマット賦形フィルム(東
レ製:X)を、マット面が紫外線硬化型樹脂と接するよ
うにラミネートした。このマット賦形フィルムの表面形
状は、平均表面粗さ0.40μm、山の平均間隔160
μm、最大表面粗さ25μmである。このようにラミネ
ートしたフィルムを160Wの紫外線照射装置の下を1
0m/分の速度で通過させ、紫外線硬化型樹脂を硬化さ
せた。次いで、マット賦形フィルムを剥離して、表面に
凹形状加工が施され、防眩効果のあるハードコート層
(14)を形成させた。
Example 5 In the same manner as in Example 3, the plastic film (11)
A laminate having a layer configuration of a cured product layer (13) composed of a curable resin was prepared. On the surface of the laminate opposite to the cured product layer (13), an ultraviolet-curable resin (EXG, manufactured by Dainichi Seika) made of a mixture of polyester acrylate and polyurethane acrylate as an ultraviolet-curable resin was coated with a film thickness of 5 mm.
The solution was applied by a gravure reverse method to a thickness of μm (at the time of drying), and the solvent was dried. Thereafter, a mat-shaped PET film (X, manufactured by Toray) having a fine convex shape formed on its surface was laminated so that the mat surface was in contact with the ultraviolet curable resin. The surface shape of this mat-shaped film is as follows: an average surface roughness of 0.40 μm;
μm, and the maximum surface roughness is 25 μm. The film thus laminated was placed under a 160 W ultraviolet irradiation device for 1
The resin was passed at a speed of 0 m / min to cure the ultraviolet curable resin. Next, the mat-shaped film was peeled off, and the surface was subjected to concave processing to form a hard coat layer (14) having an antiglare effect.

【0075】このハードコート層(14)/プラスチッ
クフィルム(11)/硬化性樹脂からなる硬化物層(1
3)の層構成からなる積層体の硬化物層(13)上に、
実施例3と同様にして錫−アンチモン複合酸化物薄膜を
透明導電性薄膜(12)として成膜した。
The hard coat layer (1) / plastic film (11) / cured material layer (1)
On the cured product layer (13) of the laminate having the layer configuration of 3),
In the same manner as in Example 3, a tin-antimony composite oxide thin film was formed as a transparent conductive thin film (12).

【0076】この透明導電性フィルム(1)を一方のパ
ネル板として用い、実施例1と同様にしてタッチパネル
を作製した。
Using this transparent conductive film (1) as one panel plate, a touch panel was produced in the same manner as in Example 1.

【0077】実施例6 実施例5と同様にして、防眩性ハードコート層(14)
/プラスチックフィルム(11)/硬化性樹脂からなる
硬化物層(13)/透明導電性薄膜(12)の層構成か
らなる積層体を作製した。次いで、このハードコート層
(14)上に、順次TiO2(屈折率:2.30、膜厚
15nm)、SiO2(屈折率:1.46、膜厚29n
m)、TiO2(屈折率:2.30、膜厚109n
m)、SiO2(屈折率:1.46、膜厚87nm)を
積層することで反射防止処理層を形成した。TiO2
膜を形成するには、チタンをターゲットに用いて、直流
マグネトロンスパッタリング法で、真空度は0.27P
a、ガスとしてArガスを500sccm、O2ガスを
80sccmの流速で流した。また、基板の背面には0
℃の冷却ロールを設けて、プラスチックフィルムを冷却
した。この時のターゲットには7.8W/cm2の電力
を供給し、ダイナミックレートは23nm・m/分であ
った。
Example 6 In the same manner as in Example 5, the antiglare hard coat layer (14)
A laminate having a layer structure of / plastic film (11) / cured material layer (13) composed of curable resin / transparent conductive thin film (12) was produced. Next, TiO 2 (refractive index: 2.30, film thickness 15 nm) and SiO 2 (refractive index: 1.46, film thickness 29 n) are sequentially formed on the hard coat layer (14).
m), TiO 2 (refractive index: 2.30, film thickness 109 n)
m) and SiO 2 (refractive index: 1.46, film thickness 87 nm) were laminated to form an antireflection treatment layer. In order to form a TiO 2 thin film, the degree of vacuum is 0.27 P by direct current magnetron sputtering using titanium as a target.
a, Ar gas was flowed at a flow rate of 500 sccm and O 2 gas at a flow rate of 80 sccm as a gas. Also, 0 on the back of the substrate
The cooling of a plastic film was carried out by providing a cooling roll of ° C. At this time, a power of 7.8 W / cm 2 was supplied to the target, and the dynamic rate was 23 nm · m / min.

【0078】SiO2薄膜を形成するには、シリコンを
ターゲットに用いて、直流マグネトロンスパッタリング
法で、真空度は0.27Pa、ガスとしてArガスを5
00sccm、O2ガスを80sccmの流速で流し
た。また、基板の背面には0℃の冷却ロールを設けて、
プラスチックフィルムを冷却した。このときのターゲッ
トには7.8W/cm2の電力を供給し、ダイナミック
レートは23nm・m/分であった。
To form an SiO 2 thin film, silicon is used as a target and the degree of vacuum is set to 0.27 Pa by Argon gas as a gas by DC magnetron sputtering.
00 sccm and O 2 gas were flowed at a flow rate of 80 sccm. In addition, a cooling roll of 0 ° C. is provided on the back of the substrate,
The plastic film was cooled. At this time, a power of 7.8 W / cm 2 was supplied to the target, and the dynamic rate was 23 nm · m / min.

【0079】この透明導電性フィルム(1)を一方のパ
ネル板として用い、実施例1と同様にしてタッチパネル
を作製した。
Using this transparent conductive film (1) as one panel plate, a touch panel was produced in the same manner as in Example 1.

【0080】実施例7 実施例3と同様にして作製した透明導電性フィルム
(1)をアクリル系粘着剤を介して、厚みが1.0mm
のポリカーボネート製のシートに貼り付けて、透明導電
性積層シートを作製した。この透明導電性積層シートを
固定電極として用い、実施例5の透明導電性フィルムを
可動電極に用いて、実施例1と同様にしてタッチパネル
を作製した。
Example 7 A transparent conductive film (1) produced in the same manner as in Example 3 was applied with an acrylic pressure-sensitive adhesive to a thickness of 1.0 mm.
To form a transparent conductive laminated sheet. Using this transparent conductive laminated sheet as a fixed electrode, and using the transparent conductive film of Example 5 as a movable electrode, a touch panel was produced in the same manner as in Example 1.

【0081】比較例1 スパッタリング中のO2ガス導入量を100sccmに
した以外は、実施例1と同様にして、透明導電性フィル
ム(1)を作製した。さらに、実施例1と同様にしてこ
の透明導電性フィルム(1)を用いてタッチパネルを作
製した。
Comparative Example 1 A transparent conductive film (1) was produced in the same manner as in Example 1 except that the amount of O 2 gas introduced during sputtering was changed to 100 sccm. Further, in the same manner as in Example 1, a touch panel was produced using the transparent conductive film (1).

【0082】比較例2 三酸化アンチモンを35重量%含有した酸化錫ターゲッ
ト(密度:3.2g/cm3)を用いた以外は実施例2
と同様にして、透明導電性フィルム(1)を作製した。
また、この透明導電性フィルム(1)を用いて実施例1
と同様にしてタッチパネルを作製した。
Comparative Example 2 Example 2 was repeated except that a tin oxide target (density: 3.2 g / cm 3 ) containing 35% by weight of antimony trioxide was used.
In the same manner as in the above, a transparent conductive film (1) was produced.
Example 1 was prepared using this transparent conductive film (1).
In the same manner as in the above, a touch panel was manufactured.

【0083】比較例3 実施例1と同様の二軸延伸PETフィルムの易接着面
に、有機ケイ素化合物のブタノール/イソプロパノール
混合アルコール系溶液(濃度:1重量%)を塗工した
後、100℃で1分間乾燥した。この後、有機ケイ素化
合物上に酸化スズ含有率が5重量%のインジウム−スズ
複合酸化物ターゲットを用い、基板温度120℃で製膜
した。また、真空度は0.2Paとし、ガスとしてAr
ガスを130sccm、O2ガスを1sccmの流速で
流し、ターゲットへは1.5W/cm2の電力を印加し
た。成膜後、さらに150℃で10分間の加熱処理を行
い、結晶性のインジウム−スズ複合酸化物薄膜を作製し
た。また、この透明導電性フィルムを用い、実施例1と
同様にしてタッチパネルを作製した。
COMPARATIVE EXAMPLE 3 An alcoholic solution of an organosilicon compound in a mixture of butanol / isopropanol (concentration: 1% by weight) was applied to the easily adhesive surface of a biaxially stretched PET film similar to that in Example 1, and then heated at 100 ° C. Dry for 1 minute. Thereafter, a film was formed on the organosilicon compound at a substrate temperature of 120 ° C. using an indium-tin composite oxide target having a tin oxide content of 5% by weight. The degree of vacuum is 0.2 Pa, and Ar is used as a gas.
A gas was supplied at a flow rate of 130 sccm and an O 2 gas at a flow rate of 1 sccm, and electric power of 1.5 W / cm 2 was applied to the target. After the film formation, a heat treatment was further performed at 150 ° C. for 10 minutes to produce a crystalline indium-tin composite oxide thin film. Further, a touch panel was produced in the same manner as in Example 1 using this transparent conductive film.

【0084】比較例4 酸化錫を35重量%含有した酸化インジウムをターゲッ
トに用いた以外は、実施例3と同様にして透明導電性フ
ィルムを作製した。また、この透明導電性フィルムを用
い、実施例1と同様にしてタッチパネルを作製した。
Comparative Example 4 A transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 3, except that indium oxide containing 35% by weight of tin oxide was used as a target. Further, a touch panel was produced in the same manner as in Example 1 using this transparent conductive film.

【0085】上記で得られた透明導電性フィルムの測定
結果を表1に示す。また、タッチパネルとして用いた際
の摺動耐久性試験の結果を図1〜11に示す。これらの
結果より、本発明の透明導電性フィルムおよびこれを用
いたタッチパネルは、透明性に優れ、かつ、4.9Nの
荷重で10万回の過酷な摺動耐久性試験後でも劣化がな
く○印を認識し出力していることから、ペン入力タッチ
パネルに適していることがわかる。
Table 1 shows the measurement results of the transparent conductive films obtained above. The results of a sliding durability test when used as a touch panel are shown in FIGS. From these results, the transparent conductive film of the present invention and the touch panel using the same are excellent in transparency and have no deterioration even after a severe sliding durability test of 100,000 times under a load of 4.9 N 100 times. Since the mark is recognized and output, it is understood that the mark is suitable for the pen input touch panel.

【0086】[0086]

【表1】 [Table 1]

【0087】[0087]

【発明の効果】本発明の透明導電性フィルム(11)
は、酸化錫を主成分とする透明導電性薄膜(12)を透
明プラスチックフィルム(1)の少なくとも片面に積層
しており、比抵抗が小さく、かつ高い光線透過率を有し
ているため、前記透明導電性フィルム(11)を用いた
ペン入力用タッチパネルは、ペンの押圧で対向の透明導
電性薄同士が接触しても、剥離、クラック等を生じない
などペン入力耐久性に優れており、かつ位置検出精度や
表示品位にも優れている。したがって、ペン入力タッチ
パネルとして好適である。
The transparent conductive film (11) of the present invention
Is characterized in that a transparent conductive thin film (12) containing tin oxide as a main component is laminated on at least one surface of the transparent plastic film (1) and has a low specific resistance and a high light transmittance. The pen input touch panel using the transparent conductive film (11) is excellent in pen input durability such that peeling and cracking do not occur even when opposing transparent conductive thin films come into contact with each other by pressing the pen. Also, it has excellent position detection accuracy and display quality. Therefore, it is suitable as a pen input touch panel.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例1のタッチパネルからの出力形状を示し
た説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram illustrating an output shape from a touch panel according to a first embodiment.

【図2】実施例2のタッチパネルからの出力形状を示し
た説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram illustrating an output shape from a touch panel according to a second embodiment.

【図3】実施例3のタッチパネルからの出力形状を示し
た説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram illustrating an output shape from a touch panel according to a third embodiment.

【図4】実施例4のタッチパネルからの出力形状を示し
た説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram illustrating an output shape from a touch panel according to a fourth embodiment.

【図5】実施例5のタッチパネルからの出力形状を示し
た説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram illustrating an output shape from a touch panel according to a fifth embodiment.

【図6】実施例6のタッチパネルからの出力形状を示し
た説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram illustrating an output shape from a touch panel according to a sixth embodiment.

【図7】実施例7のタッチパネルからの出力形状を示し
た説明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram illustrating an output shape from a touch panel according to a seventh embodiment.

【図8】比較例1のタッチパネルからの出力形状を示し
た説明図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram showing an output shape from a touch panel of Comparative Example 1.

【図9】比較例2のタッチパネルからの出力形状を示し
た説明図である。
FIG. 9 is an explanatory diagram showing an output shape from a touch panel of Comparative Example 2.

【図10】比較例3のタッチパネルからの出力形状を示
した説明図である。
FIG. 10 is an explanatory diagram showing an output shape from a touch panel of Comparative Example 3.

【図11】比較例4のタッチパネルからの出力形状を示
した説明図である。
FIG. 11 is an explanatory diagram showing an output shape from a touch panel of Comparative Example 4.

【図12】実施例1、2の透明導電性フィルムの層構成
を示した説明図である。
FIG. 12 is an explanatory diagram showing the layer configuration of the transparent conductive films of Examples 1 and 2.

【図13】実施例3の透明導電性フィルムの層構成を示
した説明図である。
FIG. 13 is an explanatory diagram showing a layer configuration of a transparent conductive film of Example 3.

【図14】実施例4の透明導電性フィルムの層構成を示
した説明図である。
FIG. 14 is an explanatory diagram showing a layer configuration of a transparent conductive film of Example 4.

【図15】実施例2のタッチパネルの断面図である。FIG. 15 is a sectional view of a touch panel according to a second embodiment.

【図16】実施例7のタッチパネルの断面図FIG. 16 is a sectional view of a touch panel according to a seventh embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透明導電性フィルム 11 プラスチックフィルム 12 透明導電性薄膜 13 硬化性樹脂からなる硬化物層 14 ハードコート層 2 ガラス板 3 ビーズ 4 粘着剤 5 透明樹脂シート DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent conductive film 11 Plastic film 12 Transparent conductive thin film 13 Cured material layer made of curable resin 14 Hard coat layer 2 Glass plate 3 Bead 4 Adhesive 5 Transparent resin sheet

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01H 13/70 H01H 13/70 E Fターム(参考) 4F100 AA28B AA29B AA29H AK01A AK01C AK01E AK25D AK42A AK51C BA02 BA03 BA04 BA05 BA06 BA07 BA10A BA10B BA10D BA10E BA13 CB05 CC00D EH66B EJ38A GB41 GB90 JB12C JB14D JG01B JG04B JK06 JK12D JM02B JN01 JN01A JN01E JN06D YY00 YY00B YY00H 4K029 AA11 AA25 BA14 BA15 BA47 BB02 BC09 BD12 CA05 DC05 5B087 AA04 CC14 CC15 CC36 5G006 AA01 FB14 FB16 FB17 JA01 5G307 FA02 FB01 FC02 FC05 FC10──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01H 13/70 H01H 13/70 EF term (Reference) 4F100 AA28B AA29B AA29H AK01A AK01C AK01E AK25D AK42A AK51C BA02 BA03 BA04 BA05 BA06 BA07 BA10A BA10B BA10D BA10E BA13 CB05 CC00D EH66B EJ38A GB41 GB90 JB12C JB14D JG01B JG04B JK06 JK12D JM02B JN01 JN01A JN01F JN06D YY00 YY00B YY00 A4BA015 A15 BA15A15 CC 5G307 FA02 FB01 FC02 FC05 FC10

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明プラスチックフィルム(11)の少
なくとも一方の面に酸化錫を主成分とする透明導電性薄
膜(12)が積層された透明導電性フィルム(1)であ
って、前記透明導電性薄膜(12)の比抵抗が8×10
-4〜1×10 -1Ω・cmであり、さらに前記透明導電性
フィルム(1)の光線透過率が82%以上であることを
特徴とする透明導電性フィルム。
1. A transparent plastic film (11) having a small amount.
At least one surface has a transparent conductive thin film containing tin oxide as a main component.
A transparent conductive film (1) on which a film (12) is laminated;
Thus, the specific resistance of the transparent conductive thin film (12) is 8 × 10
-Four~ 1 × 10 -1Ω · cm, and the transparent conductive
The light transmittance of the film (1) must be 82% or more.
Characteristic transparent conductive film.
【請求項2】 前記透明導電性薄膜(12)が、酸化ア
ンチモンを30重量%以下含有することを特徴とする請
求項1記載の透明導電性フィルム。
2. The transparent conductive film according to claim 1, wherein the transparent conductive thin film contains 30% by weight or less of antimony oxide.
【請求項3】 前記透明プラスチックフィルム(11)
と前記透明導電性薄膜(12)との付着力が0.1N/
15mm以上であることを特徴とする請求項1または2
記載の透明導電性フィルム。
3. The transparent plastic film (11).
And the transparent conductive thin film (12) has an adhesive force of 0.1 N /
3. The method according to claim 1, wherein the distance is at least 15 mm.
The transparent conductive film according to the above.
【請求項4】 前記透明プラスチックフィルム(11)
と前記透明導電性薄膜(12)との間に硬化性樹脂から
なる硬化物層(13)を設けることを特徴とする請求項
1〜3のいずれかに記載の透明導電性フィルム。
4. The transparent plastic film (11).
A cured product layer (13) made of a curable resin is provided between the transparent conductive thin film (12) and the transparent conductive thin film (12).
4. The transparent conductive film according to any one of 1 to 3.
【請求項5】 前記透明プラスチックフィルム(11)
の透明導電性薄膜(12)を形成していない面上に、ハ
ードコート層(14)が設けられていることを特徴とす
る請求項1〜4のいずれかに記載の透明導電性フィル
ム。
5. The transparent plastic film (11)
The transparent conductive film according to any one of claims 1 to 4, wherein a hard coat layer (14) is provided on a surface on which the transparent conductive thin film (12) is not formed.
【請求項6】 前記ハードコート層(14)が防眩効果
を有することを特徴とする請求項5記載の透明導電性フ
ィルム。
6. The transparent conductive film according to claim 5, wherein said hard coat layer has an antiglare effect.
【請求項7】 前記ハードコート層(14)に低反射処
理を施したことを特徴とする請求項5または6記載の透
明導電性フィルム。
7. The transparent conductive film according to claim 5, wherein the hard coat layer has been subjected to a low reflection treatment.
【請求項8】 請求項1〜7のいずれかに記載の透明導
電性フィルム(1)の透明導電性薄膜(12)を積層し
ている面とは反対側の表面に、透明樹脂シートを粘着剤
を介して貼合せたことを特徴とする透明導電性シート。
8. A transparent resin sheet is adhered to the surface of the transparent conductive film (1) according to any one of claims 1 to 7 opposite to the surface on which the transparent conductive thin film (12) is laminated. A transparent conductive sheet characterized by being laminated via an agent.
【請求項9】 透明導電性薄膜を有する一対のパネル板
を、透明導電性薄膜が対向するようにスペーサーを介し
て配置してなるタッチパネルであって、少なくとも一方
のパネル板が請求項1〜8のいずれかに記載の透明導電
性フィルム(1)もしくは透明導電性シートからなるこ
とを特徴とするタッチパネル。
9. A touch panel in which a pair of panel plates having a transparent conductive thin film are arranged via a spacer so that the transparent conductive thin films face each other, wherein at least one of the panel plates is provided. A touch panel comprising the transparent conductive film (1) or the transparent conductive sheet according to any one of the above.
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