JP2001213963A - ポリオキシアルキレン基含有ポリシルセスキオキサン、その製造方法、およびコーティング剤 - Google Patents
ポリオキシアルキレン基含有ポリシルセスキオキサン、その製造方法、およびコーティング剤Info
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Abstract
も白濁などの弊害がなく、ポリマーと配合することがで
きるポリシルセスキオキサン、また、トップコート、光
学系用途などに好適なコーティング剤を提供する。 【解決手段】 末端SiH含有ポリシルセスキオキサン
と一般式 【化1】 で示されるアルケニル基を有するポリオキシアルキレン
とを、遷移金属系触媒の存在下で反応させて、式(A) 【化2】 {R1、R2、R3、R4はC1〜20のアルキル、C4〜
10のシクロアルキル、C6〜10のアリール含有基;
XはC2〜20のアルキレンであり;X’はC2〜20
のアルケニル;Yは−OCH2CH2−、−OCH(CH
3)CH2−または−OCH2CH(CH3)−;pは、
(Yp)の平均分子量が100〜4000を満足する
数;Zは水素、C1〜20のアルキル、C4〜10のシ
クロアルキル、C6〜10のアリール含有基であり;n
=0.1〜3.0、m=0〜2.0、n+m=0.1〜
3.0。}で表される組成を有する数平均分子量が50
0〜10000のポリオキシアルキレン基含有ポリシル
セスキオキサンを製造する。
Description
脂、ポリウレタン、ポリエステル、アルキッド樹脂など
の有機ポリマーに配合してコーティング剤として被塗物
に塗装することにより該化合物の有する撥水性などの表
面改質機能を被塗物に付与することができる有用な材料
である。しかしながら、ポリオルガノシロキサンと該有
機ポリマーとは、一般的に相溶性が乏しく、ポリオルガ
ノシロキサンの大半を占めるポリジメチルシロキサンを
配合したコーティング剤は白濁することが多い。該化合
物の代わりに特開平9−95536、特開昭62−22
5533、特開昭61−127733、特開昭59−1
20633、特開昭59−12932、特開昭55−1
35136、特開昭55−135135、特開昭55−
131022、特開昭55−125121、特開昭55
−123620、特開昭49−40398に記載される
ポリオキシアルキレン基を導入したポリジメチルシロキ
サンを使用した場合においては、コーティング剤の白濁
は抑えられるが、該コーティング剤を被塗物に塗装した
時にその塗膜が白化してしまう問題があり、未だ相溶性
の面で不充分であった。一方、ポリジメチルシロキサン
骨格ではなく、ケイ素原子が1に対して酸素原子が1.
5になる割合で構成されるポリオルガノシロキサンはポ
リシルセスキオキサンと呼ばれており、その機能が注目
されている。
有機ポリマーとの相溶性が良好であり、添加量が多くな
っても白濁などの弊害がなく、幅広いの割合で有機ポリ
マーと配合することが可能なポリシルセスキオキサンお
よびその製造方法を提供することである。また、撥水
性、耐水性、耐候性などを付与することができる、トッ
プコート、光学系用途などに好適なコーティング剤を提
供することである。
スキオキサンに着目して鋭意研究を重ねた結果、オルガ
ノトリクロロシランとオルガノモノクロロシランを所定
量の水で共加水分解することで得られるSiH基含有ポ
リシルセスキオキサンにポリオキシアルキレン基含有不
飽和化合物を特定の遷移金属触媒の存在下でヒドロシリ
ル化反応させることにより、ポリオキシアルキレン基含
有の新規なポリシルセスキオキサンを見い出し、本発明
を完成するに至った。
シルセスキオキサンは、つぎの1〜4項で示される。
数1〜20の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素
数4〜10のシクロアルキル基、炭素数6〜10のアリ
ール含有基であり;Xは炭素数が2〜20のアルキレン
基であり;Yは−OCH2CH2−、−OCH(CH3)
CH2−または−OCH2CH(CH3)−であり;p
は、ポリオキシアルキレンセグメント(Yp)の平均分
子量が100〜4000を満足する数であり;Zは水
素、炭素数1〜20の直鎖状もしくは分岐状のアルキル
基、炭素数4〜10のシクロアルキル基、炭素数6〜1
0のアリール含有基であり;n=0.1〜3.0、m=
0〜2.0、n+m=0.1〜3.0である。}で表さ
れる組成を有する数平均分子量が500〜10000の
範囲にあるポリオキシアルキレン基含有ポリシルセスキ
オキサン。
および一般式(b)および(c)
次式(2)で示される基と次式(3)で示される基とか
らなる
じ。)で表される構造単位からなり、構造単位の含有モ
ル比{(d):[(b)+(c)]}が1:0.1〜
1:3である前記1項に記載のポリオキシアルキレン基
含有ポリシルセスキオキサン。
連鎖が、一般式(a1)、(a2)および(a3)
位の群から選ばれた一種または二種以上の構造単位の結
合からなる前記2項に記載のポリオキシアルキレン基含
有ポリシルセスキオキサン。
される構造単位1モルに対する末端基WO−とW−の含
有モル数を示し、n’=0.1〜2.0、m’は1.9
以下、n’+m’=0.1〜2.0であり、その他の各
記号の定義は前記と同じである。}で表される前記2項
に記載のポリオキシアルキレン基含有ポリシルセスキオ
キサン。
シルセスキオキサンの製造方法は、つぎの5〜8項に示
される。
スキオキサンと一般式(5)
−OCH2CH2−、−OCH(CH3)CH2−または−
OCH2CH(CH3)−であり;pは、ポリオキシアル
キレンセグメント(Yp)の平均分子量が100〜40
00を満足する数であり;Zは水素、炭素数1〜20の
直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数4〜10の
シクロアルキル基、炭素数6〜10のアリール含有基で
ある。}で示されるアルケニル基を有するポリオキシア
ルキレンとを、遷移金属系触媒の存在下で反応させるこ
とを特徴とするポリオキシアルキレン基含有ポリシルセ
スキオキサンの製造方法。
ルセスキオキサンが、一般式(d) R1SiCl3 ...(d) で表されるオルガノトリクロロシラン1モルに対して、
一般式(e) R2R3ClSiH ...(e) で表されるオルガノモノクロロシランをnモルおよび一
般式(f) R4OH ...(f) で表されるアルコールmモルを、(上記式中のR1、
R2、R3およびR4はそれぞれ独立に炭素数1〜20の
直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数4〜10の
シクロアルキル基、炭素数6〜10のアリール含有基で
あり、また、n=0.1〜3.0、m=0〜2.0、n
+m=0.1〜3.0である。) 水の存在下で反応させることにより得られるSiH基含
有ポリシルセスキオキサンであることからなる前記5項
に記載のポリオキシアルキレン基含有ポリシルセスキオ
キサンの製造方法。
ルセスキオキサンが、式(B)
数1〜20の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素
数4〜10のシクロアルキル基、炭素数6〜10のアリ
ール含有基であり;n=0.1〜3.0、m=0〜2.
0、n+m=0.1〜3.0である。}で表される組成
からなる数平均分子量が500〜10000の範囲にあ
るSiH基含有ポリシルセスキオキサンであることから
なる前記5項に記載のポリオキシアルキレン基含有ポリ
シルセスキオキサンの製造方法。
スキオキサンが、つぎに示すSiH基含有ポリシルセス
キオキサン {一般式(a)
に対して、一般式(b1)および(c1)
たは次式(6)で示される基および次式(3)で示され
る基からなる
示される構造単位の0.1〜3.0モルを有するSiH
基含有ポリシルセスキオキサン}であることからなる前
記5項に記載のポリオキシアルキレン基含有ポリシルセ
スキオキサンの製造方法。
び10項で示される。 9. 前記1〜4項のいずれか一項に記載のポリオキシ
アルキレン基含有ポリシルセスキオキサン、ポリオール
および硬化剤を含有するコーティング剤。 10. 前記5〜8項のいずれか一項に記載の製造方法
により得られたポリオキシアルキレン基含有ポリシルセ
スキオキサン、ポリオールおよび硬化剤を含有するコー
ティング剤。
で示される。 11. 前記1〜4項のいずれか一項に記載のポリオキ
シアルキレン基含有ポリシルセスキオキサンおよびポリ
オールのにより形成される塗膜。 12. 前記5〜8項のいずれか一項に記載の製造方法
により得られたポリオキシアルキレン基含有ポリシルセ
スキオキサンおよびポリオールにより形成される塗膜。
具体例を示す。R1、R2、R3およびR4で示される置換
基として、直鎖状もしくは分岐状アルキル基としては、
メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブ
チル、i−ブチル、s−ブチル、t−ブチル、ペンチ
ル、ネオペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノ
ニル、デシル、ウンデシル、ドデシルなどがあげられ
る。シクロアルキル基としてはシクロペンチル、シクロ
ヘキシルなどをあげることができる。また、アリール含
有基としては、フェニル、トリル、キシリル、エチルフ
ェニル、ベンジル、フェネチルなどを挙げることができ
る。それらの中で、特に好ましい置換基として、R1の
場合はメチル、エチル、n−プロピル、 n−ヘキシル、
フェニルが、R2、R3の場合はメチル、R4の場合はメ
チル、エチル、i−プロピルが挙げられる。
リメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサ
メチレン、ヘプタメチレン、オクタメチレン、ノナメチ
レン、デカメチレン、ウンデカメチレン、ドデカメチレ
ン、テトラデカメチレンなどを例示することができる。
特に好ましいXとしてはトリメチレン基が挙げられる。
水素原子;メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピ
ル、n−ブチル、i−ブチル、s−ブチル、t−ブチ
ル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オ
クチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシルなどの
アルキル基;シクロペンチル、シクロヘキシルなどのシ
クロアルキル基;フェニル、トリル、キシリル、エチル
フェニル、ベンジル、フェネチルなどアリール含有基を
例示することができる。それらの中では、特に水素もし
くはメチル基が好ましい。
を表し、pは、ポリオキシアルキレンセグメント(Y
p)の平均分子量が100〜4000を満足する数であ
り、3〜460の値が好ましい。また特に好ましいYと
しては−OCH2CH2−である。
シルセスキオキサンにおいて、一般式(a)
とは、前記式(a1)、(a2)および(a3)で表され
る構造単位の群から選ばれた一種または二種以上の構造
単位の結合であり、たとえば、次式のような梯子状の結
合連鎖
ポリシルセスキオキサンは、これらの結合の混合連鎖で
あり、これらの連鎖の側鎖または末端基としてWO−ま
たはW−(Wの定義は前記と同じ)が結合されたもので
ある。
シルセスキオキサンは、末端にSiと結合する水素原子
を有するいわゆるSiH含有ポリシルセスキオキサンと
式(5)
とを、ヒドロシリル化反応により付加反応させることに
より製造することができる。この反応において、SiH
含有ポリシルセスキオキサンのSiH1モルに対して、
アルケニル基を有するポリオキシアルキレンを1.0〜
2.0モル使用するのが好ましい。1.0モルより少な
いと生成物中に酸、塩基に対して不安定な未反応のSi
H含有ポリシルセスキオキサンが残存する、2.0モル
以上になると未反応のアルケニル基を有するポリオキシ
アルキレンが系中に残存し、これを取り除くことが難し
くなるため好ましくない。反応温度は通常ヒドロシリル
化反応を行う温度である50℃〜150℃であることが
好ましい。50℃以下では反応がスムーズに進行せずに
反応時間が長くなる傾向にある。150℃以上ではシロ
キサン鎖の切断などの副反応が進行する場合があるので
好ましくない。
ニル基を有するポリオキシアルキレンには以下のような
市販品を使用することができ、例えば日本油脂(株)製
の次のようなものが例示される。 ”ユニオックスPKA−5001”(X’がアリル基
で、Yが−OCH2CH2−である平均分子量200のポ
リエチレングリコールモノアリルエーテル); ”ユニオックスPKA−5002”(X’はアリル基
で、Yが−OCH2CH2−である平均分子量400のポ
リエチレングリコールモノアリルエーテル); ”ユニオックスPKA−5003”(X’はアリル基
で、Yが−OCH2CH2−である平均分子量450のポ
リエチレングリコールモノアリルエーテル); ”ユニオックスPKA−5004”(X’はアリル基
で、Yが−OCH2CH2−である平均分子量750のポ
リエチレングリコールモノアリルエーテル); ”ユニオックスPKA−5005”(X’はアリル基
で、Yは−OCH2CH2−である平均分子量1500の
ポリエチレングリコールモノアリルエーテル); ”ユニセーフPKA−5014”(X’はアリル基で、
Yは−OCH(CH3)CH2−または−OCH2CH
(CH3)−である平均分子量1500のポリプロピレ
ングリコールモノアリルエーテル)。
ては一般に周期律表第VIII族金属元素が好ましく、具体
的には、白金、ロジウム、イリジウム、ルテニウム、パ
ラジウムなどが例示されるが、特に白金もしくはロジウ
ムと各種オレフィンとのコンプレックスが好適に用いら
れる。これらの触媒は溶媒に溶解するいわゆる均一系触
媒や、カーボン、シリカなどに担持させた担持触媒、ホ
スフィンやアミン、酢酸カリウムなどを助触媒とした触
媒のいずれの形態でも使用できる。触媒量はポリシルセ
スキオキサン中のSiH基1モルに対し1×10― 3〜
1×10― 6モル程度が好ましく、1×10― 3モル以上
を用いても触媒が過剰となり不経済であり、1×10―
6モル未満では微量の妨害物質の影響を受けやすく、安
定した反応成績を得られない場合があるので好ましくな
い。
に応じて反応を阻害するものでなければ適当な溶媒を使
用してもよいが、ポリシルセスキオキサン、ポリオキシ
アルキレン化合物の両者を均一に溶解する能力のあるト
ルエン、メチルイソブチルケトン(MIBK)、酢酸ブ
チルなどの溶媒が好ましい。アルケニル基を有するポリ
オキシアルキレンは吸湿性があるために、通常少量の水
分を含有しているので、ヒドロシリル化反応を安定して
スムーズに行うためには、反応前にトルエンなどと共沸
して脱水するのが好ましい。ヒドロシリル化反応の進行
を追跡する手段としては、例えば赤外吸収スペクトル分
析によりSiH伸縮振動の減少を追跡する方法、あるい
は1H−NMRによりSi−Hプロトンの減少を追跡す
る方法、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによ
り両ポリマーの組成を追跡する方法などが挙げられる
が、測定の簡便性、あるいは信頼性という観点から赤外
吸収スペクトルによる方法が好適である。反応の終了を
確認した後、系中に残存する過剰量のポリオキシアルキ
レン成分は、カラムクロマトグラフィーにより分離除去
することができる。固定層にはシリカゲルなどの通常用
いられる充填剤が使用でき、移動層にはトルエン、メタ
ノールなどの溶媒を使用できる。
シルセスキオキサンは、つぎの反応式(h)および
(i)により製造できる。
クロロシラン(d)とオルガノモノクロロシラン(e)
にアルコール(f)を反応させて後、所定量の水により
加水分解縮合してSiH含有ポリシルセスキオキサン
(B)が得られる。また、反応式(i)は、オルガノト
リクロロシラン(d)とオルガノモノクロロシラン
(e)を、所定量の水により加水分解縮合してSiH含
有ポリシルセスキオキサン(B’)が得られる(反応
(h)においてm=0の場合)。反応はオルガノトリク
ロロシラン(d)1モルに対してオルガノモノクロロシ
ラン(e)のnモル、アルコール(f)のmモル、水の
(3+n−m)/2モルである。nは0.1〜3.0、
mは0〜2.0の範囲の値であり、n+mは1〜3.0
である。式(1)で示される梯子状構造のポリオキシア
ルキレン基含有ポリシルセスキオキサンを得るために
は、一般式(4)
は式(6)で示される基および式(3)で示される基か
らなる
るSiH含有ポリシルセスキオキサンが必要であるが、
その場合は上記反応式(h),(i)における n+m
は2以下好ましく1以下であり、その値が小さいほど高
分子量のものが得られる。
るポリオキシアルキレン基含有ポリシルセスキオキサン
とポリオールおよび硬化剤から構成される。必要に応じ
て硬化触媒および添加剤などを配合してもよい。また、
該ポリオキシアルキレン基含有ポリシルセスキオキサ
ン、ポリオールおよび硬化剤はそれぞれ2種類以上を併
用してもよい。
ル、ポリエステルポリオール、フッ素含有ポリオール、
ポリビニルアルコール、ポリウレタンポリオールなどが
例示される。アクリルポリオールの市販品としては、例
えば大日本インキ化学工業(株)製の”アクリディッ
ク”(商標)、武田薬品工業(株)製の”タケラック”
(商標)UAシリーズ、日立化成工業(株)製の”ヒタ
ロイド”(商標)、三菱レーヨン(株)製の”ダイヤナ
ール”(商標)などが挙げられる。ポリエステルポリオ
ールの市販品としては、例えば武田薬品工業(株)製
の”ケラック”商標)Uシリーズなどがあげられる。ま
た、フッ素含有ポリオールとしては、例えば旭硝子
(株)製の”ルミフロン”(商標)などが挙げられる。
しうるイソシアネート化合物およびメラミン化合物など
が挙げられるが、中でもイソシアネート化合物が好適に
使用できる。イソシアネート化合物の具体例としては、
脂肪族系のイソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレ
ンジイソシアネートもしくはこれらの多価アルコール付
加タイプ、ビュレットタイプ、トリマータイプ;芳香族
系のキシレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネ
ート、ジフェニルメタンジイソシアネートなどのポリイ
ソシアネート化合物、およびブロックイソシアネート化
合物が挙げられる。イソシアネート化合物の市販品とし
ては、例えば武田薬品工業(株)製の”タケネート”
(商標)、日本ポリウレタン工業(株)製の”コロネー
ト”(商標)、旭化成工業(株)製の”デュラネート”
(商標)などが挙げられる。イソシアネート化合物は、
1種のみ単独で使用することができるし、2種以上を併
用することもできる。
基含有ポリシルセスキオキサンとの配合割合はポリオー
ルの固形分100重量部に対してポリオキシアルキレン
基含有ポリシルセスキオキサンを0.1〜20重量部と
することが好ましい。0.1重量部以下では撥水性など
のポリオルガノシロキサンの持つ特性を発揮しにくくな
り、20重量部以上を配合してもその効果は十分であり
経済性を考慮すると不利になる。該イソシアネート化合
物の配合割合は該ポリオールのOH価から求めることが
できる。OH基1モルに対するNCO基のモル数(NC
O比)が、0.1〜2とすることが好ましい。NCO比
が0.1未満では、得られる塗膜の耐溶剤性などが充分
とは言えず、NCO比が2を越える場合は、塗膜の加工
性が不良となる傾向がある。
促進するためにジブチル錫ジラウレート、アルミニウム
トリスアセチルアセテートなどの硬化触媒を使用しても
よい。さらに必要に応じて脱水剤、顔料、分散剤、消泡
剤、増粘剤、沈降防止剤、たれ防止剤、レベリング剤、
艶消し剤、擦り傷防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸
化防止剤、および抗菌剤などの添加剤を添加してもよ
い。添加剤の使用割合は特に制限はなく、用途に応じて
ポリオールに対して公知慣用の使用割合を添加して使用
することができる。
含有ポリシルセスキオキサンを含有したコーティング剤
を塗布することにより得られる。その方法としては、ロ
ールコーター法、ブレードコーター法、グラビアコータ
ー法、ビートコーター法、カーテンフローコーター法、
浸漬塗布法およびスプレー塗布法のいずれを用いてもよ
く、基材の片面または両面に塗布することができる。塗
布後、常温〜300℃の任意の温度で硬化させることが
できるが、溶剤の揮散促進、架橋反応の促進のためには
60〜250℃の温度で5秒〜60分間加熱乾燥するこ
とが好ましい。硬化温度が高い程、硬化時間は短くで
き、硬化触媒を併用することでさらに硬化時間を短縮で
きる。また、塗装後に架橋反応を促進させるためには塗
布乾燥後の塗装物を30〜120℃の温度で1〜7日間
養生処理することもできる。
シルセスキオキサンを含有したコーティング剤の被塗物
として、金属、無機材料、プラスチック、および複合材
料が挙げられる。金属としては、ステンレス、アルミニ
ウム、ブリキ、トタン、軟鋼板、銅、真鍮、各種メッキ
鋼板およびチタンなどが挙げられる。化成処理、アルマ
イト処理などの表面処理を施した金属基材でも好適に使
用できる。無機材料としては、ガラス、モルタル、スレ
ート、コンクリート、および瓦などが挙げられる。プラ
スチックとしては、表面処理を施したポリプロピレン、
ポリエチレン、アクリル、ポリカーボネート、ポリスチ
レン、ポリエチレンテレフタレート、ナイロン、ポリエ
ステル、ゴムおよびエラストマーなどのプラスチック成
形品およびこれらをフィルム状に加工した製品などが挙
げられる。複合材料としては、繊維強化熱硬化性プラス
チック(FRP)、繊維強化熱可塑性プラスチック(FR
TP)、積層板および金属と有機物を圧着したサンドイ
ッチ材、金属蒸着膜したプラスチックなどが挙げられ
る。本発明のコーティング剤はポリオルガノシロキサン
を含有することにより耐水性、耐候性に優れており、屋
外用途の建材用、車用のトップコートなどに好適に使用
することができる。
説明するが、本発明は下記の例によって何ら限定される
ものではない。実施例における物性測定はつぎの方法で
行った。 赤外吸収スペクトル:日本分光(株)製 ”IR―70
0”を用い、液膜法で行った。1 H−NMR:日本電子工業(株)製”FX−90Q”
を用い、溶媒 CDCl3で行った。 ポリシルセスキオキサンの数平均分子量:ゲルパーミエ
ーションクロマトグラフィー(GPC)によりポリスチ
レン換算数平均分子量をつぎの条件で測定した。 カラム:東ソー(株)製カラムG4000X、 G30
00XおよびG2000Xの3本をこの順序に接続し、
カラム温度:40℃、溶離液:テトラヒドロフラン、流
量:1ml/min、で行った。ポンプは日本分光
(株)製”PU−980”、検出器は日本分光(株)
製”830−RI”を使用した。
ガラス板上にWet膜厚150μmのアプリケーターを
用いて塗装し、10分間風乾したのち熱風中120℃で
30分間硬化を行ない塗膜を形成し、この塗膜について
つぎの物性を測定した。 水の接触角:接触角計(協和界面科学(株)製”CA−
DT型”)を用いて、塗膜上に滴下した水滴の接触角を
測定した。 塗膜の濁度:日本電色工業(株)製”NDH−300
A”を用いた。 塗膜の外観:目視により次の基準で評価した。 ○.....透明、 ×.....白化
られて乾燥窒素置換された500ml四ツ口フラスコ
に、n−プロピルトリクロロシラン177.5g(1.
00mol)、ジメチルクロロシラン47.3g(0.
5mol)およびトルエン46.1gを仕込んで、更に
系内を十分に窒素置換した。この仕込んだ混合液をマグ
ネティックスターラーで攪拌しながら氷浴上で5℃以下
に保ち、滴下漏斗よりテトラヒドロフラン(THF)6
3g、水31.5g(1.75mol)の混合液を約4
時間かけて滴下した。滴下終了後、オイルバスで80℃
まで加熱し1時間熟成した。トリエチルアミン20.2
gを添加し反応液を塩基性として1時間加熱撹拌後、痕
跡量のSiに結合するCl原子を除去するために水4.
5gを加えて、2時間熟成した。得られたスラリーを酢
酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、純水の順で
洗浄したのち、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥し
た。ロータリーエバポレーターで溶媒を留去し103g
の無色透明のSiH基含有ポリシルセスキオキサン{式
(B)において、R1=n−C3H7、R2=R3=CH3 、
n=0.5、m=0}(化合物1)を得た。(II)ポ
リオキシアルキレン基含有ポリシルセスキオキサンの製
造:水分定量管、温度計の取り付けられた100ml三
ツ口フラスコに、末端にアリル基を有するポリオキシエ
チレン(日本油脂(株)製”PKA−5001”、分子
量200)16.5g、上記SiH基含有ポリシルセス
キオキサン(化合物1)20.0g、トルエン20.0
gを仕込み、系内を十分に窒素置換した。この段階で採
取した溶液の赤外スペクトルチャートを図1に示す。こ
の溶液をマグネティックスターラーで攪拌しながらオイ
ルバスで加熱し2時間還流脱水を行った。釜温を80℃
まで下げた後、触媒として1,3−ジビニル−1,1,
3,3−テトラメチルジシロキサン白金錯体3%キシレ
ン溶液19μLをシリンジにて添加し、1時間加熱攪拌
した。得られた反応生成液の赤外吸収スペクトル(図
2)は、(化合物1)のスペクトル(図1)に見られた
SiH伸縮振動に由来する吸収(2128cm-1)が完
全に消失していることから、付加反応が完結しているこ
とを確認した。得られた反応生成液についてシリカゲル
を固定層、トルエンを移動層としたカラムクロマトグラ
フィーを実施することにより過剰のポリオキシエチレン
を除去して、20gの粘凋な液体(化合物2)を得た。
この(化合物2)の数平均分子量は1726であった。
化合物1および2それぞれの1H−NMRスペクトルを
図3、図4に示した。これらのスペクトルの比較から、
化合物2では化合物1に見られるSi−Hプロトンが完
全に消失していることが分かる。以上の結果から、化合
物2は{式(A)において、R1=n−C3H7、R2=R
3=CH3、X=−(CH2)3−、Y=−OCH2CH2、
p≒3.5、Z=H、n=0.5、m=0}である数平
均分子量は1726のポリオキシアルキレン基含有ポリ
シルセスキオキサンと判断した。
製造:末端にアリル基を有するポリオキシエチレンを
(日本油脂(株)製”PKA−5002”、分子量40
0)37.3g、触媒溶液量を38μLに変更した以外
は、実施例1−(II)と同様にして行ない、粘凋な液
体(化合物3)30gを得た。この(化合物3)の数平
均分子量は2530であった。
オキサン{式(B)においてR1=n−C3H7、R2=R
3=CH3、n=0.2、m=0}(化合物4)を調製し
た。(II)ポリオキシアルキレン基含有ポリシルセス
キオキサンの製造:SiH基含有ポリシルセスキオキサ
ンを前記(化合物4)に、末端にアリル基を有するポリ
オキシエチレンを(日本油脂(株)製”PKA−500
2”、分子量400)7.8gに、触媒溶液量を30μ
Lに変更した以外は、実施例1−(II)と同様にして
行った。23gの粘凋な液体(化合物5)が得られた。
この(化合物5)の数平均分子量は3420であった。
に、滴下漏斗、冷却管、サンプリング管、保護管を取り
付け、n−プロピルトリクロロシラン177.5g
(1.00mol)、ジメチルクロロシラン23.7g
(0.25mol)およびトルエン46.1gを仕込
み、系内を十分に窒素置換した。溶液をマグネティック
スターラーで攪拌しながら氷浴上で5℃以下に保ち、滴
下漏斗よりエタノール11.5g(0.25mol)を
約30分かけて滴下した。更に滴下漏斗にTHF54g
と水27.0g(1.50mol)の混合液を仕込み、
これを約4時間かけて滴下した。滴下終了後、オイルバ
スで80℃まで加熱し1時間熟成した。トリエチルアミ
ン20.2gを添加し反応液を塩基性として1時間加熱
撹拌後、痕跡量のSiに結合するCl原子を除去するた
めエタノール9.2gを加えて2時間熟成した。得られ
たスラリーを酢酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、純水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを用
いて乾燥した。ロータリーエバポレーターで溶媒を留去
し92.9gの無色透明のSiH基含有ポリシルセスキ
オキサン{式(B)において、R1=n−C3H7、R2=
R3=CH3、R4=C2H5、n=0.25、m=0.2
5である。}(化合物6)を得た。(II)ポリオキシ
アルキレン基含有ポリシルセスキオキサンの製造:Si
H基含有ポリシルセスキオキサンを上記化合物6に、末
端にアリル基を有するポリオキシエチレンを(日本油脂
(株)製”PKA−5002”、分子量400)21.
0gに、触媒溶液量を31μLに変更した以外は、実施
例1−(II)と同様にして行った。粘凋な液体(化合
物7)30gが得られた。この(化合物7)の数平均分
子量は2430であった。
含有ポリシルセスキオキサン(化合物2)の1.0g、
アクリルポリオール{(OH価51.1、NV50%)
大日本インキ化学工業(株)製”A−801”}の2
0.0g、ポリイソシアネート{(NCO含量12.6
%)武田薬品工業(株)製”タケネートD−160
N”}の6.1g(ポリイソシアネートのNCO/アク
リルポリオールのOH=1mol/1mol)を50m
lスクリュー管に入れて十分に攪拌し、コーティング剤
を得た。このコーティング剤を使用して所定の方法で得
られた塗膜の物性を表1に示す。
セスキオキサンをそれぞれ実施例2、3で合成した化合
物3、5に変更した以外は実施例5と同様にして実施し
た。
ルセスキオキサンを、下記式で示されるポリオキシアル
キレン基含有ポリジメチルシロキサン{チッソ(株)
製”XT−3000”(化合物8)}に変更した以外は
実施例5と同様にして実施した。
ルセスキオキサンを添加せずに実施した。
(化合物2)をSi−H基含有ポリシルセスキオキサン
の(化合物1)、(化合物4)、(化合物6に変更した
以外は、実施例5と同様にして実施した。その物性値を
表1に示す。
セスキオキサン *3) Si−H基含有ポリシルセスキオキサン *4) ポリオキシアルキレン基含有ポリジメチルシロ
キサン
ソシアネートを用いて硬化する系に、本発明のポリオキ
シアルキレン基含有ポリシルセスキオキサンを配合した
ところ、透明性に優れた塗膜が得られ、かつ塗膜に撥水
性の付与が達成された。(実施例5〜8)これに対して
ポリジメチルシロキサンにポリオキシアルキレン鎖を付
与した化合物の場合は、相溶性が不十分であり塗膜が白
化した。(比較例1)また、ポリオキシアルキレン鎖を
付与する前のSiH基含有ポリシルセスキオキサンで同
様の試験を実施したところ撥水性の機能は変わらないも
のの、塗膜は酷く白化した。(比較例3〜5)
リシルセスキオキサンは各種有機ポリマーとの相溶性が
良好であり、添加量が多くなっても白濁などの弊害がな
く、幅広いの割合で有機ポリマーと配合することが可能
である。また、本発明のコーティング剤は、本発明のポ
リオキシアルキレン基含有ポリシルセスキオキサンを含
むために極めて透明な塗膜が得られる。そのために塗装
外観、仕上がり感を気にするトップコート用途または光
学系用途などに好適に使用できるとともに、塗装によ
り、被塗物に撥水性、耐水性、耐候性などを付与するこ
とができるので、その応用範囲は広い。
クトルチャートである。
クトルチャートである。
である。
である。
Claims (12)
- 【請求項1】 式(A) 【化1】 {式中のR1、R2、R3およびR4はそれぞれ独立に炭素
数1〜20の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素
数4〜10のシクロアルキル基、炭素数6〜10のアリ
ール含有基であり;Xは炭素数が2〜20のアルキレン
基であり;Yは−OCH2CH2−、−OCH(CH3)
CH2−または−OCH2CH(CH3)−であり;p
は、ポリオキシアルキレンセグメント(Yp)の平均分
子量が100〜4000を満足する数であり;Zは水
素、炭素数1〜20の直鎖状もしくは分岐状のアルキル
基、炭素数4〜10のシクロアルキル基、炭素数6〜1
0のアリール含有基であり;n=0.1〜3.0、m=
0〜2.0、n+m=0.1〜3.0である。}で表さ
れる組成を有する数平均分子量が500〜10000の
範囲にあるポリオキシアルキレン基含有ポリシルセスキ
オキサン。 - 【請求項2】 一般式(a) 【化2】 {ただしR1は前記と同じ}で表される構造単位の連鎖
および一般式(b)および(c) 【化3】 {ただし、Wは、すべて次式(2)で示される基、また
は次式(2)で示される基と次式(3)で示される基と
からなる 【化4】 (ただしR2、R3、R4、X、Y、p、Zは前記と同
じ。)}で表される構造単位からなり、構造単位の含有
モル比{(d):[(b)+(c)]}が1:0.1〜
1:3である請求項1に記載のポリオキシアルキレン基
含有ポリシルセスキオキサン。 - 【請求項3】 前記式(a)で示される構造単位の連鎖
が、一般式(a1)、(a2)および(a3) 【化5】 (R1の定義は前記と同じである。)で表される構造単
位の群から選ばれた一種または二種以上の構造単位の結
合からなる請求項2に記載のポリオキシアルキレン基含
有ポリシルセスキオキサン。 - 【請求項4】 一般式 【化6】 {ここでn’およびm’は、それぞれ前記式(a)で示
される構造単位1モルに対する末端基WO−とW−の含
有モル数を示し、n’=0.1〜2.0、m’は1.9
以下、n’+m’=0.1〜2.0であり、その他の各
記号の定義は前記と同じである。}で表される請求項2
に記載のポリオキシアルキレン基含有ポリシルセスキオ
キサン。 - 【請求項5】 末端にSiH基を有するポリシルセスキ
オキサンと一般式(5) 【化7】 {X’は炭素数が2〜20のアルケニル基であり;Yは
−OCH2CH2−、−OCH(CH3)CH2−または−
OCH2CH(CH3)−であり;pは、ポリオキシアル
キレンセグメント(Yp)の平均分子量が100〜40
00を満足する数であり;Zは水素、炭素数1〜20の
直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数4〜10の
シクロアルキル基、炭素数6〜10のアリール含有基で
ある。}で示されるアルケニル基を有するポリオキシア
ルキレンとを、遷移金属系触媒の存在下で反応させるこ
とを特徴とするポリオキシアルキレン基含有ポリシルセ
スキオキサンの製造方法。 - 【請求項6】 前記末端にSiH基を有するポリシルセ
スキオキサンが、一般式(d) R1SiCl3 ...(d) で表されるオルガノトリクロロシラン1モルに対して、
一般式(e) R2R3ClSiH ...(e) で表されるオルガノモノクロロシランをnモルおよび一
般式(f) R4OH ...(f) で表されるアルコールmモルを、(上記式中のR1、
R2、R3およびR4はそれぞれ独立に炭素数1〜20の
直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数4〜10の
シクロアルキル基、炭素数6〜10のアリール含有基で
あり、また、n=0.1〜3.0、m=0〜2.0、n
+m=0.1〜3.0である。) 水の存在下で反応させることにより得られるSiH基含
有ポリシルセスキオキサンであることからなる請求項5
に記載のポリオキシアルキレン基含有ポリシルセスキオ
キサンの製造方法。 - 【請求項7】 前記末端にSiH基を有するポリシルセ
スキオキサンが、式(B) 【化8】 {式中のR1、R2、R3およびR4はそれぞれ独立に炭素
数1〜20の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素
数4〜10のシクロアルキル基、炭素数6〜10のアリ
ール含有基であり;n=0.1〜3.0、m=0〜2.
0、n+m=0.1〜3.0である。}で表される組成
からなる数平均分子量が500〜10000の範囲にあ
るSiH基含有ポリシルセスキオキサンであることから
なる請求項5に記載のポリオキシアルキレン基含有ポリ
シルセスキオキサンの製造方法。 - 【請求項8】 末端にSiH基を有するポリシルセスキ
オキサンが、つぎに示すSiH基含有ポリシルセスキオ
キサン {一般式(a) 【化9】 {ただしR1は前記と同じ}で表される構造単位1モル
に対して、一般式(b1)および(c1) 【化10】 (ただし、W1は、すべて次式(6)で表される基、ま
たは次式(6)で示される基および次式(3)で示され
る基からなる 【化11】 (R2、R3およびR4の定義は前記と同じである。)で
示される構造単位の0.1〜3.0モルを有するSiH
基含有ポリシルセスキオキサン}であることからなる請
求項5に記載のポリオキシアルキレン基含有ポリシルセ
スキオキサンの製造方法。 - 【請求項9】 請求項1〜4項のいずれか一項に記載の
ポリオキシアルキレン基含有ポリシルセスキオキサン、
ポリオールおよび硬化剤を含有するコーティング剤。 - 【請求項10】 請求項5〜8項のいずれか一項に記載
の製造方法により得られたポリオキシアルキレン基含有
ポリシルセスキオキサン、ポリオールおよび硬化剤を含
有するコーティング剤。 - 【請求項11】 請求項1〜4項のいずれか一項に記載
のポリオキシアルキレン基含有ポリシルセスキオキサン
およびポリオールにより形成される塗膜。 - 【請求項12】 請求項5〜8項のいずれか一項に記載
の製造方法により得られたポリオキシアルキレン基含有
ポリシルセスキオキサンおよびポリオールにより形成さ
れる塗膜。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003306549A (ja) * | 2002-02-13 | 2003-10-31 | Chisso Corp | 有機ケイ素化合物 |
JP2006251794A (ja) * | 2005-02-24 | 2006-09-21 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | フォトリソグラフィ・プロセス用のフォトレジスト・トップコート |
US7402648B2 (en) | 2004-11-05 | 2008-07-22 | Toagosei Co., Ltd. | Method for producing cyclic organic silicon compound and organic silicon resin having alcoholic hydroxyl group |
JP2008531767A (ja) * | 2005-02-22 | 2008-08-14 | ダウ・コーニング・コーポレイション | ポリオキシアルキレン‐アルキル官能性シロキサン樹脂およびその水性組成物 |
US20100247460A1 (en) * | 2007-09-26 | 2010-09-30 | Shaow Burn Lin | Silicone Organic Elastomer Gels From Organopolysiloxane Resins |
-
2000
- 2000-02-04 JP JP2000027960A patent/JP4239344B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4665376B2 (ja) * | 2002-02-13 | 2011-04-06 | チッソ株式会社 | 有機ケイ素化合物 |
JP2003306549A (ja) * | 2002-02-13 | 2003-10-31 | Chisso Corp | 有機ケイ素化合物 |
US7402648B2 (en) | 2004-11-05 | 2008-07-22 | Toagosei Co., Ltd. | Method for producing cyclic organic silicon compound and organic silicon resin having alcoholic hydroxyl group |
CN101128515B (zh) * | 2005-02-22 | 2012-01-04 | 陶氏康宁公司 | 聚氧化亚烷基-烷基官能的硅氧烷树脂及其含水组合物 |
US7816479B2 (en) * | 2005-02-22 | 2010-10-19 | Dow Corning Corporation | Polyoxyalkylene-alkyl functional siloxane resins and aqueous compositions thereof |
JP2008531767A (ja) * | 2005-02-22 | 2008-08-14 | ダウ・コーニング・コーポレイション | ポリオキシアルキレン‐アルキル官能性シロキサン樹脂およびその水性組成物 |
KR101214829B1 (ko) * | 2005-02-22 | 2012-12-24 | 다우 코닝 코포레이션 | 폴리옥시알킬렌-알킬 관능성 실록산 수지 및 이의 수성조성물 |
US7901868B2 (en) | 2005-02-24 | 2011-03-08 | International Business Machines Corporation | Photoresist topcoat for a photolithographic process |
US7910290B2 (en) | 2005-02-24 | 2011-03-22 | International Business Machines Corporation | Photoresist topcoat for a photolithographic process |
JP2006251794A (ja) * | 2005-02-24 | 2006-09-21 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | フォトリソグラフィ・プロセス用のフォトレジスト・トップコート |
US20100247460A1 (en) * | 2007-09-26 | 2010-09-30 | Shaow Burn Lin | Silicone Organic Elastomer Gels From Organopolysiloxane Resins |
US8222363B2 (en) * | 2007-09-26 | 2012-07-17 | Dow Corning Corporation | Silicone organic elastomer gels from organopolysiloxane resins |
US8541011B2 (en) | 2007-09-26 | 2013-09-24 | Dow Corning Corporation | Silicone organic elastomer gels from organopolysiloxane resins |
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