JP2001209927A - 磁気記録媒体とその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体とその製造方法Info
- Publication number
- JP2001209927A JP2001209927A JP2000015411A JP2000015411A JP2001209927A JP 2001209927 A JP2001209927 A JP 2001209927A JP 2000015411 A JP2000015411 A JP 2000015411A JP 2000015411 A JP2000015411 A JP 2000015411A JP 2001209927 A JP2001209927 A JP 2001209927A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- recording medium
- magnetic recording
- magnetic
- shaped
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】ガラス基板を用いた高い磁気異方性と保磁力を
有する磁気記録媒体の提供。 【解決手段】ガラス基板表面にライン状のテクスチャを
形成し、次いでスパッタ法によりＮｉとＰを少なくとも
含むアモルファス膜を形成し、次いで該アモルファス膜
が形成されたディスク状基板を室温の大気中に保持し、
そののち該基板を加熱して前記アモルファス膜の上にス
パッタ法によりＣｒ系下地膜、Ｃｏ系磁性膜、保護膜を
順次形成する。
有する磁気記録媒体の提供。 【解決手段】ガラス基板表面にライン状のテクスチャを
形成し、次いでスパッタ法によりＮｉとＰを少なくとも
含むアモルファス膜を形成し、次いで該アモルファス膜
が形成されたディスク状基板を室温の大気中に保持し、
そののち該基板を加熱して前記アモルファス膜の上にス
パッタ法によりＣｒ系下地膜、Ｃｏ系磁性膜、保護膜を
順次形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体、特に
磁気異方性を有する磁気記録媒体とその製造方法に関す
る。
磁気異方性を有する磁気記録媒体とその製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】ハード磁気ディスク用基板としてアルミ
ニウム基板の表面に無電解メッキ法によりＮｉＰ膜が形
成されてなる基板が一般的に用いられている。このＮｉ
Ｐ膜面に機械的テクスチャ加工を施してライン状のテク
スチャ（以下テクスチャラインとも言う）を形成し、次
いでスパッタ法により下地膜、磁性膜、保護膜を順次形
成して得られる磁気記録媒体は、テクスチャラインの方
向に磁気異方性を有し、保磁力は向上する。高保磁力
は、記録の高密度化および孤立再生波時間半値幅（ＰＷ
SO）を狭くする点で望ましい。
ニウム基板の表面に無電解メッキ法によりＮｉＰ膜が形
成されてなる基板が一般的に用いられている。このＮｉ
Ｐ膜面に機械的テクスチャ加工を施してライン状のテク
スチャ（以下テクスチャラインとも言う）を形成し、次
いでスパッタ法により下地膜、磁性膜、保護膜を順次形
成して得られる磁気記録媒体は、テクスチャラインの方
向に磁気異方性を有し、保磁力は向上する。高保磁力
は、記録の高密度化および孤立再生波時間半値幅（ＰＷ
SO）を狭くする点で望ましい。
【０００３】一方、ハード磁気ディスク用基板としてガ
ラス基板は硬質性や平坦度の良さ等の優れた特性をも
つ。この場合表面の硬質化を目的とした無電解メッキ法
によるＮｉＰ膜は必要としない。
ラス基板は硬質性や平坦度の良さ等の優れた特性をも
つ。この場合表面の硬質化を目的とした無電解メッキ法
によるＮｉＰ膜は必要としない。
【０００４】そこでガラス基板を用いて磁気異方性を有
する磁気記録媒体を得るために、ガラス基板の表面に直
接に機械的テクスチャ加工を施して有効なテクスチャラ
インを形成することが望まれるが、これまでバリ、クラ
ック等の欠点が少なく、工業的にも有用なテクスチャラ
インの形成は容易ではなかった。最近鳥元らはこれを可
能とする方法を確立した（特願平１１−２７９２３７号
明細書）。しかしこの方法によりテクスチャラインを形
成したガラス基板上にスパッタ法によりＣｒ系下地膜、
Ｃｏ系磁性膜、保護膜を順次形成した場合に磁気異方性
は出現せず、高保磁力を得ることはできない。
する磁気記録媒体を得るために、ガラス基板の表面に直
接に機械的テクスチャ加工を施して有効なテクスチャラ
インを形成することが望まれるが、これまでバリ、クラ
ック等の欠点が少なく、工業的にも有用なテクスチャラ
インの形成は容易ではなかった。最近鳥元らはこれを可
能とする方法を確立した（特願平１１−２７９２３７号
明細書）。しかしこの方法によりテクスチャラインを形
成したガラス基板上にスパッタ法によりＣｒ系下地膜、
Ｃｏ系磁性膜、保護膜を順次形成した場合に磁気異方性
は出現せず、高保磁力を得ることはできない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、機械
的テクスチャ加工により表面にテクスチャラインを設け
たディスク状ガラス基板を用い磁気異方性を有する磁気
記録媒体とその製造方法を提供することにある。
的テクスチャ加工により表面にテクスチャラインを設け
たディスク状ガラス基板を用い磁気異方性を有する磁気
記録媒体とその製造方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は上記の課題を解
決しようとするものであり、交差するライン状テクスチ
ャ（テクスチャライン）が表面に形成されたディスク状
ガラス基板、その上にスパッタ法により形成されたＮｉ
とＰを少なくとも含むアモルファス膜、ＣｒまたはＣｒ
合金からなる下地膜、Ｃｏ系磁性膜および保護膜からな
る磁気記録媒体であって、かつ円周方向に磁気異方性を
有することを特徴とする磁気記録媒体を提供する。
決しようとするものであり、交差するライン状テクスチ
ャ（テクスチャライン）が表面に形成されたディスク状
ガラス基板、その上にスパッタ法により形成されたＮｉ
とＰを少なくとも含むアモルファス膜、ＣｒまたはＣｒ
合金からなる下地膜、Ｃｏ系磁性膜および保護膜からな
る磁気記録媒体であって、かつ円周方向に磁気異方性を
有することを特徴とする磁気記録媒体を提供する。
【０００７】本発明におけるテクスチャラインは、通
常、交差しつつ円周に沿った方向に走っている曲線から
なる。円周に沿った方向に走っているテクスチャライン
が交差してなす角は、円周に沿った方向に開いた角と、
半径方向に開いた角があり、それらの和は１８０°であ
る。本発明において交差角とは、上記円周に沿った方向
に開いた角をいう。
常、交差しつつ円周に沿った方向に走っている曲線から
なる。円周に沿った方向に走っているテクスチャライン
が交差してなす角は、円周に沿った方向に開いた角と、
半径方向に開いた角があり、それらの和は１８０°であ
る。本発明において交差角とは、上記円周に沿った方向
に開いた角をいう。
【０００８】本発明の磁気記録媒体において前記交差す
るテクスチャラインの交差角は０．１〜４５゜の範囲が
好ましく、さらに機械的テクスチャ加工の生産性などの
観点を含めると０．１〜２５゜の範囲から選択すること
が適当である。また、本発明は円周方向に磁気異方性を
有し、保磁力については、半径方向の保磁力に対する円
周方向の保磁力の比が１．１以上である磁気記録媒体を
提供する。
るテクスチャラインの交差角は０．１〜４５゜の範囲が
好ましく、さらに機械的テクスチャ加工の生産性などの
観点を含めると０．１〜２５゜の範囲から選択すること
が適当である。また、本発明は円周方向に磁気異方性を
有し、保磁力については、半径方向の保磁力に対する円
周方向の保磁力の比が１．１以上である磁気記録媒体を
提供する。
【０００９】また本発明は、かかる本発明の磁気記録媒
体を得る方法として、ディスク状ガラス基板の表面に機
械的テクスチャ加工を施して交差するライン状テクスチ
ャを形成し、次いで該ライン状テクスチャが形成された
表面にスパッタ法によりＮｉとＰを少なくとも含むアモ
ルファス膜を形成し、次いで該アモルファス膜が形成さ
れたディスク状基板を室温の大気中に保持し、そののち
該ディスク状基板を加熱して前記アモルファス膜の上に
スパッタ法によりＣｒまたはＣｒ合金からなる下地膜、
磁性膜および保護膜を形成することを特徴とする円周方
向に磁気異方性を有する磁気記録媒体の製造方法を提供
する。
体を得る方法として、ディスク状ガラス基板の表面に機
械的テクスチャ加工を施して交差するライン状テクスチ
ャを形成し、次いで該ライン状テクスチャが形成された
表面にスパッタ法によりＮｉとＰを少なくとも含むアモ
ルファス膜を形成し、次いで該アモルファス膜が形成さ
れたディスク状基板を室温の大気中に保持し、そののち
該ディスク状基板を加熱して前記アモルファス膜の上に
スパッタ法によりＣｒまたはＣｒ合金からなる下地膜、
磁性膜および保護膜を形成することを特徴とする円周方
向に磁気異方性を有する磁気記録媒体の製造方法を提供
する。
【００１０】また本発明は、本発明の磁気記録媒体を得
る方法として、ディスク状ガラス基板の表面に機械的テ
クスチャ加工を施して交差するライン状テクスチャを形
成し、次いで該ライン状テクスチャが形成された表面に
スパッタ法によりＮｉとＰを少なくとも含むアモルファ
ス膜を形成し、次いで該アモルファス膜が形成されたデ
ィスク状基板を酸素を含む雰囲気中に保持し、そののち
該ディスク状基板を加熱して前記アモルファス膜の上に
スパッタ法によりＣｒまたはＣｒ合金からなる下地膜、
磁性膜および保護膜を形成することを特徴とする円周方
向に磁気異方性を有する磁気記録媒体の製造方法を提供
する。
る方法として、ディスク状ガラス基板の表面に機械的テ
クスチャ加工を施して交差するライン状テクスチャを形
成し、次いで該ライン状テクスチャが形成された表面に
スパッタ法によりＮｉとＰを少なくとも含むアモルファ
ス膜を形成し、次いで該アモルファス膜が形成されたデ
ィスク状基板を酸素を含む雰囲気中に保持し、そののち
該ディスク状基板を加熱して前記アモルファス膜の上に
スパッタ法によりＣｒまたはＣｒ合金からなる下地膜、
磁性膜および保護膜を形成することを特徴とする円周方
向に磁気異方性を有する磁気記録媒体の製造方法を提供
する。
【００１１】本発明の磁気記録媒体の製造方法におい
て、ライン状テクスチャの交差角は０．１〜４５゜の範
囲が好ましく、さらに機械的テクスチャ加工の生産性な
どの観点を含めると０．１〜２５゜の範囲から選択する
ことが適当である。
て、ライン状テクスチャの交差角は０．１〜４５゜の範
囲が好ましく、さらに機械的テクスチャ加工の生産性な
どの観点を含めると０．１〜２５゜の範囲から選択する
ことが適当である。
【００１２】
【実施例】（実施例）アルミノシリケートガラスからな
るディスク状ガラス基板の表面に鳥元らの方法（特願平
１１−２７９２３７号明細書）によりテクスチャライン
を形成した。
るディスク状ガラス基板の表面に鳥元らの方法（特願平
１１−２７９２３７号明細書）によりテクスチャライン
を形成した。
【００１３】直径６５ｍｍの化学強化したディスク状ガ
ラス基板表面を直接、ポリエチレン製微細繊維織物テー
プと、平均粒径０．２μｍの多結晶ダイヤモンド砥粒お
よび平均粒径０．３μｍの酸化セリウム砥粒を含有する
遊離砥粒スラリーを用い、テクスチャマシンにて機械的
テクスチャ加工を行いテクスチャラインを形成した。使
用した遊離砥粒スラリーは、遊離砥粒スラリー全体に対
して質量比で多結晶ダイヤモンドを０．０３％、酸化セ
リウム砥粒を５％の割合で含有するものであった。
ラス基板表面を直接、ポリエチレン製微細繊維織物テー
プと、平均粒径０．２μｍの多結晶ダイヤモンド砥粒お
よび平均粒径０．３μｍの酸化セリウム砥粒を含有する
遊離砥粒スラリーを用い、テクスチャマシンにて機械的
テクスチャ加工を行いテクスチャラインを形成した。使
用した遊離砥粒スラリーは、遊離砥粒スラリー全体に対
して質量比で多結晶ダイヤモンドを０．０３％、酸化セ
リウム砥粒を５％の割合で含有するものであった。
【００１４】ガラス基板は円の中心を軸に回転してお
り、ローラーにより上記テープをガラス基板両側から均
等に押しつけ、上記遊離砥粒スラリーを上記テープとガ
ラス基板の接触部周辺に滴下することにより機械的テク
スチャ加工を行った。テクスチャラインとして望ましい
交差角を持たせるために、ローラーまたはガラス基板
を、ガラス基板の回転面に平行で回転方向と異なる方向
にオシレーション（円運動または往復運動）させた。ガ
ラス基板の回転数、オシレーションのモードなどを制御
することにより所望の交差角を得ることができる。
り、ローラーにより上記テープをガラス基板両側から均
等に押しつけ、上記遊離砥粒スラリーを上記テープとガ
ラス基板の接触部周辺に滴下することにより機械的テク
スチャ加工を行った。テクスチャラインとして望ましい
交差角を持たせるために、ローラーまたはガラス基板
を、ガラス基板の回転面に平行で回転方向と異なる方向
にオシレーション（円運動または往復運動）させた。ガ
ラス基板の回転数、オシレーションのモードなどを制御
することにより所望の交差角を得ることができる。
【００１５】本実施例ではガラス基板回転数１３０ｒｐ
ｍ、加工時間６０秒、上記遊離砥粒スラリー流量１８ｇ
／６０秒／面の条件で機械的テクスチャ加工を行い、交
差角は１３゜である。
ｍ、加工時間６０秒、上記遊離砥粒スラリー流量１８ｇ
／６０秒／面の条件で機械的テクスチャ加工を行い、交
差角は１３゜である。
【００１６】次に上記のようにしてテクスチャラインが
形成されたガラス基板の表面に、まずＮｉ80Ｐ20膜（数
字は原子％、以下同じ）をスパッタ法により成膜した。
成膜は、到達真空度で１．３×１０-4Ｐａまで排気した
後、Ａｒガス圧０．６Ｐａで室温で行った。このＮｉＰ
膜はアモルファスであり、膜厚は５０ｎｍとした。
形成されたガラス基板の表面に、まずＮｉ80Ｐ20膜（数
字は原子％、以下同じ）をスパッタ法により成膜した。
成膜は、到達真空度で１．３×１０-4Ｐａまで排気した
後、Ａｒガス圧０．６Ｐａで室温で行った。このＮｉＰ
膜はアモルファスであり、膜厚は５０ｎｍとした。
【００１７】次に上記ＮｉＰアモルファス膜を形成した
ガラス基板をスパッタチャンバから取出しクリーン室の
室温の大気中に曝露（保持）した。
ガラス基板をスパッタチャンバから取出しクリーン室の
室温の大気中に曝露（保持）した。
【００１８】次いで上記室温の大気中に曝露したガラス
基板を再度スパッタチャンバに導入し、到達真空度で
１．３×１０-4Ｐａまで排気した後、基板温度２５０
℃、Ａｒガス圧０．６ＰａでＣｒ80Ｍｏ20下地膜（膜厚
２０ｎｍ）、Ｃｏ69Ｃｒ17Ｔａ4Ｐｔ10磁性膜をこの順
でスパッタ法により形成した。次いでスパッタ法により
カーボン系保護膜を形成したのち該保護膜の上にパーフ
ルオロポリエーテル系潤滑膜を設けて本発明の実施例の
試料とした。
基板を再度スパッタチャンバに導入し、到達真空度で
１．３×１０-4Ｐａまで排気した後、基板温度２５０
℃、Ａｒガス圧０．６ＰａでＣｒ80Ｍｏ20下地膜（膜厚
２０ｎｍ）、Ｃｏ69Ｃｒ17Ｔａ4Ｐｔ10磁性膜をこの順
でスパッタ法により形成した。次いでスパッタ法により
カーボン系保護膜を形成したのち該保護膜の上にパーフ
ルオロポリエーテル系潤滑膜を設けて本発明の実施例の
試料とした。
【００１９】（比較例１）実施例と同様にしてテクスチ
ャラインが形成されたガラス基板の表面に、スパッタ法
によりＮｉ80Ｐ20アモルファス膜を形成し、その後クリ
ーン室の室温の大気中に曝露することなく、引続きスパ
ッタ法により前記の下地膜、磁性膜および保護膜を実施
例と同じ条件で順次形成し、次いで前記潤滑膜を設けて
比較例１の試料とした。
ャラインが形成されたガラス基板の表面に、スパッタ法
によりＮｉ80Ｐ20アモルファス膜を形成し、その後クリ
ーン室の室温の大気中に曝露することなく、引続きスパ
ッタ法により前記の下地膜、磁性膜および保護膜を実施
例と同じ条件で順次形成し、次いで前記潤滑膜を設けて
比較例１の試料とした。
【００２０】（比較例２）実施例と同様にしてテクスチ
ャラインが形成されたガラス基板の表面に、ＮｉＰアモ
ルファス膜を形成せず、またクリーン室の室温の大気中
に曝露することもなく、直接前記の下地膜、磁性膜およ
び保護膜を実施例と同じ条件でスパッタ法により順次形
成し、次いで前記潤滑膜を設けて比較例２の試料とし
た。
ャラインが形成されたガラス基板の表面に、ＮｉＰアモ
ルファス膜を形成せず、またクリーン室の室温の大気中
に曝露することもなく、直接前記の下地膜、磁性膜およ
び保護膜を実施例と同じ条件でスパッタ法により順次形
成し、次いで前記潤滑膜を設けて比較例２の試料とし
た。
【００２１】磁気異方性を示す特性として実施例、比較
例１および比較例２の各試料の保磁力（Ｈc ）を測定し
た。図１に各試料の円周方向の保磁力（Ｈc ）を示す。
また図２に各試料の半径方向の保磁力に対する円周方向
の保磁力の比を示す。
例１および比較例２の各試料の保磁力（Ｈc ）を測定し
た。図１に各試料の円周方向の保磁力（Ｈc ）を示す。
また図２に各試料の半径方向の保磁力に対する円周方向
の保磁力の比を示す。
【００２２】ＮｉＰアモルファス膜の形成後大気中に曝
露するプロセスを経ない比較例１の磁気記録媒体は、本
発明の製造方法により得られる磁気記録媒体と比較し
て、低保磁力、低保磁力比（約１．０２）である。また
ＮｉＰアモルファス膜をもたない比較例２も本発明の磁
気記録媒体と比較して、低保磁力、低保磁力比（約１．
０５弱）であることがわかる。
露するプロセスを経ない比較例１の磁気記録媒体は、本
発明の製造方法により得られる磁気記録媒体と比較し
て、低保磁力、低保磁力比（約１．０２）である。また
ＮｉＰアモルファス膜をもたない比較例２も本発明の磁
気記録媒体と比較して、低保磁力、低保磁力比（約１．
０５弱）であることがわかる。
【００２３】一方、ＮｉＰアモルファス膜の形成と下地
膜形成の間に大気中への曝露を行った本発明の磁気記録
媒体（実施例）では、高保磁力かつ高保磁力比（約１．
１５）が得られており、円周方向に顕著な磁気異方性を
有することが明らかである。実施例はスパッタ法により
ＮｉＰアモルファス膜を形成したガラス基板をスパッタ
チャンバから取出しクリーン室の室温の大気中に曝露し
たが、そのかわりに、スパッタチャンバ内に導入した酸
素を含む雰囲気中に保持した場合の試料においても上記
と同様な結果が得られた。
膜形成の間に大気中への曝露を行った本発明の磁気記録
媒体（実施例）では、高保磁力かつ高保磁力比（約１．
１５）が得られており、円周方向に顕著な磁気異方性を
有することが明らかである。実施例はスパッタ法により
ＮｉＰアモルファス膜を形成したガラス基板をスパッタ
チャンバから取出しクリーン室の室温の大気中に曝露し
たが、そのかわりに、スパッタチャンバ内に導入した酸
素を含む雰囲気中に保持した場合の試料においても上記
と同様な結果が得られた。
【００２４】
【発明の効果】本発明の磁気記録媒体は顕著な磁気異方
性および高い保磁力を有する。また本発明の製造方法に
よれば、表面に直接ライン状のテクスチャを形成したデ
ィスク状ガラス基板を用いて従来技術では得られなかっ
た磁気異方性の高いかつ高保磁力の磁気記録媒体を得る
ことができる。
性および高い保磁力を有する。また本発明の製造方法に
よれば、表面に直接ライン状のテクスチャを形成したデ
ィスク状ガラス基板を用いて従来技術では得られなかっ
た磁気異方性の高いかつ高保磁力の磁気記録媒体を得る
ことができる。
【図１】本発明の実施例、比較例１および比較例２の保
磁力を示す図。
磁力を示す図。
【図２】本発明の実施例、比較例１および比較例２にお
ける保磁力比を示す図。
ける保磁力比を示す図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 今川 誠 山形県米沢市八幡原４丁目2837番地９ 旭 コマグ株式会社米沢工場内 Ｆターム(参考） 5D006 BB01 BB07 CA01 CB04 CB07 CB08 DA03 EA03 FA09 5D112 AA02 AA03 AA05 AA11 AA24 BA03 BA05 BB05 BD04 FA04 GA02 GA05 GA09 GB01
Claims (6)
- 【請求項１】交差するライン状テクスチャが表面に形成
されたディスク状ガラス基板、その上にスパッタ法によ
り形成されたＮｉとＰを少なくとも含むアモルファス
膜、ＣｒまたはＣｒ合金からなる下地膜、Ｃｏ系磁性膜
および保護膜からなる磁気記録媒体であって、かつ円周
方向に磁気異方性を有することを特徴とする磁気記録媒
体。 - 【請求項２】前記交差するライン状テクスチャの交差角
が０．１〜４５゜の範囲にある請求項１記載の磁気記録
媒体。 - 【請求項３】前記磁気記録媒体の半径方向の保磁力に対
する円周方向の保磁力の比が１．１以上である請求項１
または２記載の磁気記録媒体。 - 【請求項４】ディスク状ガラス基板の表面に機械的テク
スチャ加工を施して交差するライン状テクスチャを形成
し、次いで該ライン状テクスチャが形成された表面にス
パッタ法によりＮｉとＰを少なくとも含むアモルファス
膜を形成し、次いで該アモルファス膜が形成されたディ
スク状基板を室温の大気中に保持し、そののち該ディス
ク状基板を加熱して前記アモルファス膜の上にスパッタ
法によりＣｒまたはＣｒ合金からなる下地膜、磁性膜お
よび保護膜を形成することを特徴とする円周方向に磁気
異方性を有する磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項５】ディスク状ガラス基板の表面に機械的テク
スチャ加工を施して交差するライン状テクスチャを形成
し、次いで該ライン状テクスチャが形成された表面にス
パッタ法によりＮｉとＰを少なくとも含むアモルファス
膜を形成し、次いで該アモルファス膜が形成されたディ
スク状基板を酸素を含む雰囲気中に保持し、そののち該
ディスク状基板を加熱して前記アモルファス膜の上にス
パッタ法によりＣｒまたはＣｒ合金からなる下地膜、磁
性膜および保護膜を形成することを特徴とする円周方向
に磁気異方性を有する磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項６】前記ライン状テクスチャの交差角が０．１
〜４５゜の範囲にある請求項４または５記載の円周方向
に磁気異方性を有する磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000015411A JP2001209927A (ja) | 2000-01-25 | 2000-01-25 | 磁気記録媒体とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000015411A JP2001209927A (ja) | 2000-01-25 | 2000-01-25 | 磁気記録媒体とその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001209927A true JP2001209927A (ja) | 2001-08-03 |
Family
ID=18542719
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000015411A Pending JP2001209927A (ja) | 2000-01-25 | 2000-01-25 | 磁気記録媒体とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001209927A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7169487B2 (en) | 2001-12-14 | 2007-01-30 | Hoya Corporation | Magnetic recording medium |
| US7267894B2 (en) | 2002-09-19 | 2007-09-11 | Hitachi Global Storage Technologies Japan, Ltd. | Magnetic recording medium and magnetic recording apparatus |
| US7517597B2 (en) | 2003-12-24 | 2009-04-14 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Magnetic recording medium |
| US7550211B2 (en) | 2004-08-16 | 2009-06-23 | Showa Denko K.K. | Magnetic recording medium and magnetic recording and reproducing device |
-
2000
- 2000-01-25 JP JP2000015411A patent/JP2001209927A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7169487B2 (en) | 2001-12-14 | 2007-01-30 | Hoya Corporation | Magnetic recording medium |
| US7267894B2 (en) | 2002-09-19 | 2007-09-11 | Hitachi Global Storage Technologies Japan, Ltd. | Magnetic recording medium and magnetic recording apparatus |
| US7517597B2 (en) | 2003-12-24 | 2009-04-14 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Magnetic recording medium |
| US7550211B2 (en) | 2004-08-16 | 2009-06-23 | Showa Denko K.K. | Magnetic recording medium and magnetic recording and reproducing device |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO1995003603A1 (fr) | Support d'enregistrement magnetique et sa fabrication | |
| JP3423907B2 (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法並びに磁気記録装置 | |
| JP2001209927A (ja) | 磁気記録媒体とその製造方法 | |
| WO1996027878A1 (fr) | Support d'enregistrement magnetique et procede de fabrication | |
| JP2697227B2 (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JP2003030825A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| US20080044688A1 (en) | Longitudinal magnetic recording medium and method of manufacturing the same | |
| US7482069B2 (en) | Polycrystalline structure film having inclined lattice surfaces | |
| JP2819839B2 (ja) | 磁気ディスク用基板およびそれを用いた磁気記録媒体 | |
| JP3649416B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0268716A (ja) | 磁気ディスク媒体の製造方法 | |
| JPH0997417A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| WO1998044490A1 (fr) | Support d'enregistrement magnetique | |
| JP2806443B2 (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH05303734A (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
| JPH05234069A (ja) | 薄膜磁気ディスク | |
| JP2001101656A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板のテクスチャー形成方法および磁気ディスク用ガラス基板 | |
| JP2000030234A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS63121114A (ja) | 磁気記録円盤およびその製造法 | |
| JP2007128567A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH03266402A (ja) | 面内磁気記録媒体、その製造方法及び磁気記憶装置 | |
| JP2007257726A (ja) | 磁気ディスクの製造方法及び磁気ディスク | |
| JPH0740362B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2006085888A (ja) | 磁気記録媒体および磁気記録再生装置 | |
| JPH02214014A (ja) | 薄膜磁気ディスク及びその製造方法 |