JP2001201738A - カラー液晶表示素子用基板、それを用いたカラー液晶表示素子およびそれらの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高精度な位置合せをせずに位置ずれのないカ
ラーフィルタ形成用および表示用透明電極を形成し、カ
ラーフィルタ表面の凹凸による表示むらをなくす。 【解決手段】 カラー液晶表示素子１の液晶セル１８で
は一方および他方基板２，３の間に液晶層４が配置され
る。一方基板２は、プラスチック基板１０の一方表面１
０ａにカラーフィルタ形成用透明電極膜１１ａを、他方
表面１０ｂに表示用透明電極膜１３ａをそれぞれ形成
し、該電極膜１１ａ，１３ａの上に光吸収波長帯域が互
いに異なるレジストをそれぞれ塗布し、単一のマスクを
介して一括露光し、現像し、エッチングし、さらにレジ
ストを剥離することによってカラーフィルタ形成用およ
び表示用透明電極１１，１３を形成し、さらにカラーフ
ィルタ形成用透明電極１１を使用して電着法などによっ
てカラーフィルタ１２を形成して、作製される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラー液晶表示素
子用基板、それを用いたカラー液晶表示素子およびそれ
らの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在、様々な分野で使用されている液晶
表示素子は、透光性を有する絶縁性基板上に液晶を駆動
する表示用電極をそれぞれ形成して成る一対の基板間
に、液晶層を介在して構成される。絶縁性基板としては
従来からガラス基板が使用されていたが、携帯機器にお
ける小型、軽量および低消費電力の要求から、０．１ｍ
ｍ〜０．３ｍｍ程度の厚みの軽いプラスチックフィルム
が絶縁性基板として使用されるようになってきている。
しかし、プラスチックフィルムは温度や湿度などの環境
によってその寸法が変化することから、その上にカラー
フィルタを微細なパターンに形成することが困難であ
る。したがって、プラスチックフィルムを用いた従来の
液晶表示素子はそのほとんどが白黒表示用となってい
る。

【０００３】なお、液晶表示素子においてカラーフィル
タを用いずにカラー表示を行う方法が提案されている
が、この方法には表示色の数に制限があり、また表示色
は鮮やかではない。また、この方法では液晶セル厚を厳
密に制御する必要があるので、セル厚制御が困難なプラ
スチックフィルムの使用は未だ実用化に至っていない。

【０００４】また、カラーフィルタの製造方法としては
染色法・顔料分散法・電着法・ミセル電解法・印刷法な
どが知られている。染色法、顔料分散法および印刷法で
はカラーフィルタの赤、緑および青の各色パターンを順
次的に形成してゆくので、色ずれをなくすために各色パ
ターンと表示用電極との位置合せを高精度に行う必要が
ある。一方、電着法およびミセル電解法では電極上に電
気化学的に各色パターンを形成してゆくので、色ずれを
なくすための染色法、顔料分散法および印刷法のような
位置合せは不要である。

【０００５】位置合せの精度は絶縁性基板の材質、大き
さおよびカラーフィルタの製造方法などによって異なる
が、ガラス基板を使用した場合ではミクロン単位での位
置合せが可能である。これに対してプラスチックフィル
ムはガラス基板よりも寸法変化が大きく、熱履歴では環
境によって±０．１％もの寸法変化を起こすので、ガラ
ス基板に比べて位置合せの精度は低い。したがって、プ
ラスチックフィルムを用いる場合、高精度な位置合せが
不要または極力必要としない製造プロセスが好ましい。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】プラスチックフィルム
を絶縁性基板として使用した液晶表示素子の例が、特開
平６−２１４１１１号公報に開示されている。該公報の
液晶表示素子は、２枚の透光性基板、各基板上にそれぞ
れ形成される表示用の透明電極、および該電極間に挟持
して成る液晶層を備え、２枚の基板のうちの少なくとも
いずれか一方がプラスチックフィルム基板であり、該プ
ラスチックフィルム基板の液晶層とは反対側にカラーフ
ィルタ付き基板が積層されている。この液晶表示素子で
は、色ずれをなくすために、プラスチックフィルム基板
の外側にカラーフィルタ付き基板を積層または印刷する
際に、カラーフィルタをプラスチックフィルム基板上に
形成された透明電極に高精度に位置合せする必要があ
る。

【０００７】また、プラスチックフィルムを絶縁性基板
として使用した液晶表示素子の他の例が特開平１１−８
４３６７号公報に開示されている。該公報の液晶表示素
子は、プラスチックフィルム基板上に、表示用電極と兼
用されるカラーフィルタ形成用の電極を用いて電気化学
的に導電性を有するカラーフィルタを形成している。こ
の液晶表示素子では、カラーフィルタ形成用電極を表示
用電極と兼用するために、カラーフィルタを液晶表示素
子内部に形成する必要があり、またカラーフィルタ形成
用電極と導電性カラーフィルタとの積層構造体に表示用
電極としての機能をもたせるために、カラーフィルタ上
に平坦化層を形成する必要がある。平坦化層の膜厚は一
般に２〜３μｍであるが、この程度の膜厚では充分な導
電性が得られず、従って前記積層構造体の表示用電極と
して使用することは困難である。表示用電極として使用
するための平坦化層の膜厚は０．１μｍ程度であるが、
この程度の膜厚ではカラーフィルタ表面の凹凸によって
均一なラビング配向処理を行うことができず、表示むら
が発生して表示品位が著しく低下する。

【０００８】本発明の目的は、カラーフィルタ形成用透
明電極と表示用透明電極との位置ずれがなく、カラーフ
ィルタ表面の凹凸に起因する表示むらのないカラー液晶
表示素子用基板、それを用いたカラー液晶表示素子およ
びそれらの製造方法を提供することである。また本発明
の他の目的は、さらに小型・軽量・低消費電力なカラー
液晶表示素子用基板、それを用いたカラー液晶表示素子
およびそれらの製造方法を提供することである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、少なくともカ
ラーフィルタ形成用透明電極と表示用透明電極とを備え
るカラー液晶表示素子用基板の製造方法において、透光
性を有する絶縁性基板の両面に透明電極膜をそれぞれ形
成する工程と、形成した各透明電極膜上にレジストをそ
れぞれ塗布する工程と、塗布した各レジストを単一のフ
ォトマスクを用いて一括的に露光する工程と、露光後
に、レジストを現像する工程と、現像によって露出した
前記透明電極膜をエッチングする工程と、エッチング後
に、残余のレジストを剥離してカラーフィルタ形成用お
よび表示用の透明電極を形成する工程とを含むことを特
徴とするカラー液晶表示素子用基板の製造方法である。

【００１０】本発明に従えば、透光性を有する絶縁性基
板の一方表面にはカラーフィルタ形成用透明電極膜が形
成され、他方表面には表示用透明電極膜が形成され、さ
らにいわゆるフォトリソグラフィの手法によって各透明
電極膜を同時にパターニングすることによってカラーフ
ィルタ形成用透明電極と表示用透明電極とが形成され
る。具体的に、絶縁性基板の両面に形成された各透明電
極膜上にレジストをそれぞれ塗布し、該レジストを単一
のフォトマスクを用いて一括的に露光し、現像、エッチ
ングおよびレジスト剥離の工程を順次経てカラー液晶表
示素子用基板が製造される。単一のフォトマスクを使用
してレジストを一括的に露光するので、カラーフィルタ
形成用透明電極と表示用透明電極との位置ずれは生じな
い。したがって、カラーフィルタ形成用透明電極を使用
して、電着法などによって形成されるカラーフィルタと
表示用透明電極との位置ずれは生じず、色ずれは生じな
い。また、絶縁性基板の互いに対向する各表面にカラー
フィルタ形成用透明電極と表示用透明電極とがそれぞれ
形成され、特にカラーフィルタ形成用透明電極は該基板
の一方表面側、すなわち液晶層とは反対側に形成される
ので平坦化層が不要となる。したがって、本発明によっ
て製造された基板を用いたカラー液晶表示素子では、カ
ラーフィルタ表面の凹凸に起因する表示むらによる表示
品位の低下は生じない。

【００１１】また本発明は、前記レジスト塗布工程で
は、絶縁性基板の一方および他方表面に吸収波長帯域が
互いに異なるレジストをそれぞれ塗布することを特徴と
する。

【００１２】本発明に従えば、絶縁性基板の両面に形成
されたレジストのうち、露光光源から遠い方のレジスト
における、光量不足による解像度低下を防止することが
できる。すなわち、絶縁性基板の両面に吸収波長帯域が
互いに同じであるレジストを塗布し、単一のフォトマス
クを介して一括的に露光した場合、露光光源に近い方で
の光吸収によって、露光光源から遠い方の露光光量が露
光光源に近い方の露光光量よりも少なくなり、これによ
って露光光源から遠い方のレジストの解像度が低くな
る。本発明では、絶縁性基板の各表面に吸収波長帯域が
互いに異なるレジストを塗布しており、したがって露光
光源に近い方で吸収されずに透過してきた波長帯域の光
に感光するレジストを露光光源から遠い方に塗布するこ
とによって、該レジストの解像度の低下を防止すること
が可能となる。これによって、絶縁性基板の両面のレジ
ストをともに充分に感光し、高い解像度を得ることがで
きる。

【００１３】また本発明は、透光性を有する前記絶縁性
基板がプラスチック基板であることを特徴とする。

【００１４】本発明に従えば、透光性を有する絶縁性基
板としてプラスチック基板を使用することによって、さ
らに小型・軽量・低消費電力なカラー液晶表示素子用基
板を製造することができる。

【００１５】また本発明は、上述のうちのいずれかに記
載の方法によって製造された一方基板と、少なくとも表
示用透明電極を備える他方基板とを、表示用透明電極同
士が互いに対向するようにして配置し、所定の間隔をあ
けて貼合せ、基板間に液晶を充填することを特徴とする
カラー液晶表示素子の製造方法である。

【００１６】本発明に従えば、透光性を有する絶縁性基
板の一方表面にはカラーフィルタ形成用透明電極膜が形
成され、他方表面には表示用透明電極膜が形成され、さ
らにいわゆるフォトリソグラフィの手法によって各透明
電極膜を同時にパターニングすることによってカラーフ
ィルタ形成用透明電極と表示用透明電極とが形成され、
またさらにカラーフィルタ形成用透明電極を用いて電着
法などによってカラーフィルタが形成され、このように
してカラー液晶表示素子の一方基板が製造される。この
ような一方基板と、少なくとも表示用透明電極を備える
他方基板とを、表示用透明電極同士が互いに対向するよ
うにして配置し、所定の間隔をあけて貼合せ、基板間に
液晶を充填し、このようにしてカラー液晶表示素子が製
造される。上述したように、絶縁性基板の両面に形成さ
れた各透明電極膜上にレジストをそれぞれ塗布し、塗布
した各レジストを単一のフォトマスクを用いて一括的に
露光し、現像、エッチングおよびレジスト剥離の工程を
順次経てカラー液晶表示素子用基板を製造するので、カ
ラーフィルタ形成用透明電極と表示用透明電極との位置
ずれは生ず、したがって色ずれは生じない。また、絶縁
性基板の両面にカラーフィルタ形成用透明電極と表示用
透明電極とをそれぞれ形成し、特にカラーフィルタ形成
用透明電極を基板の一方表面側、すなわち液晶層とは反
対側に形成するので平坦化層が不要となり、したがって
本発明によって製造されたカラー液晶表示素子ではカラ
ーフィルタ表面の凹凸に起因する表示むらによる表示品
位の低下は生じない。また、絶縁性基板の各表面に吸収
波長帯域が互いに異なるレジストを塗布することによっ
て、露光光源から遠い方のレジストにおける、光量不足
による解像度の低下を防止することができ、解像度の高
い表示を実現することができる。さらに、透光性を有す
る絶縁性基板としてプラスチック基板を使用することに
よって、さらに小型・軽量・低消費電力なカラー液晶表
示素子を製造することができる。

【００１７】また本発明は、上述のうちのいずれかに記
載の方法によって製造されたことを特徴とするカラー液
晶表示素子用基板である。

【００１８】本発明に従えば、透光性を有する絶縁性基
板の互いに対向する各表面に位置ずれのないカラーフィ
ルタ形成用透明電極と表示用透明電極とをそれぞれ形成
したカラー液晶表示素子用の基板を提供することができ
る。

【００１９】また本発明は、上述の方法によって製造さ
れたことを特徴とするカラー液晶表示素子である。

【００２０】本発明に従えば、カラーフィルタと表示用
電極との位置ずれに起因する色ずれがなく、かつカラー
フィルタ表面の凹凸に起因する表示むらのない、優れた
表示品位のカラー液晶表示素子を提供することができ
る。

【００２１】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の実施の一形態で
あるカラー液晶表示素子１の断面図である。液晶表示素
子１は、２枚の偏光位相差板７，８、光源９および液晶
セル１８を含み、２枚の偏光位相差板７，８の間に液晶
セル１８を配置し、偏光位相差板８の液晶セル１８とは
反対側に光源９を配置して構成される、透過型の素子で
ある。光源９からの光は、偏光位相差板８を通過して液
晶セル１８に入射し、該液晶セル１８の液晶層４を透過
し、または該液晶セル１８の液晶層４で遮断される。液
晶セル１８を透過した光は、偏光位相差板７を通過して
出射する。液晶表示素子１の観察者は、偏光位相差板７
の側から出射した透過光を観察する。液晶セル１８は、
一方基板２、他方基板３、液晶層４、接着層５およびス
ペーサ６を含んで構成される。液晶層４は、一方基板２
と他方基板３との間に配置され、また基板２，３同士が
液晶セル１８の液晶層厚を規制するスペーサ６を介して
接着層５によって接着される。

【００２２】一方基板２は、透光性を有する絶縁性基板
であるプラスチック基板１０の一方表面１０ａにカラー
フィルタ形成用透明電極１１とカラーフィルタ１２とを
備え、他方表面１０ｂに液晶分子４ａを駆動するための
表示用透明電極１３を備えて構成されるが、本形態の液
晶表示素子１では他方表面１０ｂに表示用透明電極１３
と液晶分子４ａの初期配向状態を規制するための配向膜
１４とを備える。一方基板２の製造方法の詳細は後述す
るが、カラーフィルタ形成用透明電極１１と表示用透明
電極１３とが単一のマスクを使用して一括的に露光する
ことによってパターン形成される。形成されたカラーフ
ィルタ用透明電極１１を用いて電着法などによってカラ
ーフィルタ１２が形成され、また形成された表示用透明
電極１３を覆って配向膜１４が形成される。カラーフィ
ルタ１２は、たとえば各表示画素に対応して設けられる
赤フィルタ１２Ｒ、緑フィルタ１２Ｇおよび青フィルタ
１２Ｂで構成され、必要に応じて画素間にブラックフィ
ルタである黒色フィルタＢＫが設けられる。

【００２３】他方基板３は、透光性を有する絶縁性基板
であるプラスチック基板１５の一方表面１５ａに液晶分
子４ａを駆動するための表示用透明電極１６を備えて構
成されるが、本形態の液晶表示素子１では一方表面１５
ａに表示用透明電極１６と液晶分子４ａの初期配向状態
を規制するための配向膜１７とを備える。他方基板３の
製造方法の詳細は後述するが、フォトマスクを使用して
フォトリソグラフィ法によって表示用透明電極１６をパ
ターン形成し、次に形成した表示用透明電極１６を覆っ
て配向膜１７を形成する。

【００２４】プラスチック基板１０，１５は、たとえば
住友ベークライト社製の０．２ｍｍ厚の基板で実現する
ことができる。カラーフィルタ用透明電極１１として
は、I.T.O.(Indium Tin Oxide)を用いることができ、表
示用透明電極１３，１６としてもI.T.O.を用いることが
できる。カラーフィルタ１２の赤フィルタ１２Ｒとして
使用可能な材料としては電着用Ｒ顔料が挙げられ、緑フ
ィルタ１２Ｇとして使用可能な材料としては電着用Ｇ顔
料が挙げられ、青フィルタ１２Ｂとして使用可能な材料
としては電着用Ｂ顔料が挙げられる。配向膜１４，１７
として使用可能な材料としては、ポリイミドが挙げら
れ、またその膜厚は約０．５μｍとすることができる。
偏光位相差板７，８は、日東電工社製偏光位相差板で実
現することができる。光源９は、ＣＣＦＴ（三波長管）
で実現することができる。

【００２５】図２は、液晶表示素子１の一方基板２の製
造方法を段階的に説明するための断面図である。一方基
板２の製造工程は図２（Ａ）〜図２（Ｉ）の各工程に分
けられる。まず図２（Ａ）の基板準備工程でプラスチッ
ク基板１０を準備する。次の図２（Ｂ）の透明電極膜形
成工程では、プラスチック基板１０の一方表面１０ａの
全面に、たとえばスパッタリング法によってカラーフィ
ルタ用透明電極膜１１ａを、一方表面１０ａとは反対の
他方表面１０ｂの全面に、たとえばスパッタリング法に
よって表示用透明電極膜１３ａを、それぞれ形成する。

【００２６】次の図２（Ｃ）のレジスト塗布工程では、
形成した前記透明電極膜１１ａ，１３ａの上の全面にレ
ジスト１９を塗布する。特に、基板１０の一方表面１０
ａと他方表面１０ｂとに吸収波長帯域が互いに異なるレ
ジスト１９を塗布することが好ましい。吸収波長帯域が
互いに同じレジストを基板１０の両面に塗布した場合、
露光光源に近い方での光吸収によって、露光光源から遠
い方の露光光量が近い方の露光光量よりも少なくなり、
したがって露光光源から遠い方のレジストの解像度が低
くなる。しかし、上述したように吸収波長帯域が互いに
異なるレジスト１９を基板１０の両面に塗布することに
よって、露光光源に近い方で吸収されずに透過してきた
波長帯域の光に感光するレジスト１９を露光光源から遠
い方に塗布することが可能となり、露光光源から遠い方
のレジスト１９の解像度の低下を防止することができ、
よって基板１０の両面のレジスト１９を充分な光量でと
もに感光し、高い解像度を得ることができる。

【００２７】たとえば具体的に、ＳＨＩＰＬＥＹ社製ｇ
線感光用レジストをカラーフィルタ形成用透明電極膜１
１ａの上に、ＳＨＩＰＬＥＹ社製ｉ線感光用レジストを
表示用透明電極膜１３ａの上に、約２μｍの厚さにそれ
ぞれ塗布することができる。

【００２８】次の図２（Ｄ）の露光工程では、単一のフ
ォトマスク５０を介して光を照射する。フォトマスク５
０は、たとえば基板１０の他方表面１０ｂの側に配置さ
れて他方表面１０ｂの側から光が一括的に照射される。
なお、一方表面１０ａの側にフォトマスク５０を配置し
て、一方表面１０ａの側から一括的に露光しても構わな
い。

【００２９】次の図２（Ｅ）の現像工程では、可溶のレ
ジスト１９を除去して不溶のレジスト１９のみを電極膜
１１ａ，１３ａの上に残す。次の図２（Ｆ）のエッチン
グ工程では、レジスト１９の除去によって露出した電極
膜１１ａ，１３ａを除去する。次の図２（Ｇ）のレジス
ト剥離工程では、残余のレジスト１９を除去する。これ
によって、カラーフィルタ形成用および表示用透明電極
１１，１３が形成される。

【００３０】その後、たとえば図２（Ｈ）のカラーフィ
ルタ（ＣＦ）形成工程では、形成した前記カラーフィル
タ形成用透明電極１１を用いて、電着法によってカラー
フィルタ１２が形成される。なおこのとき、各色フィル
タ１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂの間にセルフアライメント法
などによってブラックマスクである黒色フィルタＢＫを
形成しても構わない。また図２（Ｉ）の配向膜形成工程
では、基板１０の他方表面１０ｂの上に、形成した前記
表示用透明電極１３を覆って配向膜１４を形成する。以
上のようにして一方基板２が完成する。

【００３１】図３は、液晶表示素子１の他方基板３の製
造方法を段階的に説明するための断面図である。他方基
板３の製造工程は図３（Ａ）〜図３（Ｈ）の各工程に分
けられる。まず図３（Ａ）の基板準備工程でプラスチッ
ク基板１５を準備する。次の図３（Ｂ）の表示用透明電
極膜形成工程では、プラスチック基板１５の一方表面１
５ａの全面に、たとえばスパッタリング法によって表示
用透明電極膜１６ａを形成する。次の図３（Ｃ）のレジ
スト塗布工程では、形成した前記透明電極膜１６ａの上
の全面にレジスト２０を塗布する。レジスト２０として
は、ポジ型フォトレジストを約２μｍの厚みに塗布する
ことができる。

【００３２】次の図３（Ｄ）の露光工程では、フォトマ
スク５１を使用して、基板１５の一方表面１５ａの側か
ら光を照射する。次の図３（Ｅ）の現像工程では、可溶
のレジスト２０を除去して不溶のレジスト２０のみを電
極膜１６ａの上に残す。次の図３（Ｆ）のエッチング工
程では、レジスト２０の除去によって露出した電極膜１
６ａを除去する。次の図３（Ｇ）のレジスト剥離工程で
は、残余のレジスト２０を除去する。これによって、表
示用透明電極１６が形成される。次の図３（Ｈ）の配向
膜形成工程では、基板１５の一方表面１５ａの上に、形
成した前記表示用透明電極１６を覆って配向膜１７を形
成する。以上のようにして他方基板３が完成する。

【００３３】図４は、一方および他方基板２，３の完成
後の液晶表示素子１の製造方法を段階的に説明するため
の工程図である。上述したようにしてそれぞれ完成した
一方および他方基板２，３は、工程ａで、表示用透明電
極１３，１６同士が互いに対向するようにして配置され
る。次の工程ｂでは、基板２，３同士が、スペーサ６に
よって所定の間隔をあけて、その周囲が接着層５によっ
て貼合せられる。次の工程ｃでは、基板２，３の間に液
晶が充填されて液晶層４が形成される。このようにして
液晶表示素子１が完成する。

【００３４】以上のように本形態に従えば、プラスチッ
ク基板１０の一方表面１０ａにカラーフィルタ形成用透
明電極膜１１ａを形成し、他方表面１０ｂに表示用透明
電極膜１３ａを形成し、いわゆるフォトリソグラフィの
手法によって各透明電極膜１１ａ，１３ａを同時にパタ
ーニングすることによって、カラーフィルタ形成用透明
電極１１と表示用透明電極１３とが形成される。これら
の透明電極１１，１３の形成には単一のフォトマスク５
０が使用されるので、カラーフィルタ形成用透明電極１
１と表示用透明電極１３との位置ずれは生じない。した
がって、透明電極１１を使用して形成されるカラーフィ
ルタ１２と表示用透明電極１３との位置ずれも生じず、
色ずれは生じない。

【００３５】また、カラーフィルタ形成用透明電極１１
と表示用透明電極１３とはプラスチック基板１０の互い
に対向する表面１０ａ，１０ｂに形成される。特に、カ
ラーフィルタ用透明電極１１は基板１０の一方表面１０
ａ、すなわち液晶層４とは反対側に形成されるので平坦
化層は不要となる。したがって、本発明によって製造さ
れた基板２を用いたカラー液晶表示素子１では、カラー
フィルタ１２の表面の凹凸に起因する表示むらによる表
示品位の低下は生じない。また、透光性を有する絶縁性
基板としてプラスチック基板１０を用いることによっ
て、さらに小型・軽量・低消費電力な基板２およびカラ
ー液晶表示素子１を提供することができる。

【００３６】図５は、本発明の実施の一形態である前記
方法によって製造された、他のカラー液晶表示素子２１
の断面図である。図５において、前記液晶表示素子１と
同様の構成要素には同じ参照符号を付して説明は省略す
る。液晶表示素子２１は前述の液晶セル１８の他に、偏
光位相差板２２、偏光板２３および反射板２４を含み、
偏光位相差板２２と偏光板２３との間に液晶セル１８を
配置し、偏光板２３の液晶セル１８とは反対側に反射板
２４を配置して構成される、反射型の素子である。

【００３７】偏光位相差板２２の側から該偏光位相差板
２２を介して液晶セル１８に入射した光は、該液晶セル
１８を透過し、または液晶セル１８で遮断される。液晶
セル１８を透過した光は、偏光板２３を通過して反射板
２４で反射する。反射光は、再び偏光板２３を通過して
液晶セル１８に入射し、偏光位相差板２２を通過して出
射する。液晶表示素子２１の観察者２５は、偏光位相差
板２２の側から出射した反射光を観察する。

【００３８】偏光位相差板２２は日東電工社製で実現す
ることができ、偏光板２３は日東電工社製で実現するこ
とができ、反射板２４は日東電工社製で実現することが
できる。

【００３９】図６は、本発明の実施の一形態である前記
方法によって製造された、さらに他のカラー液晶表示素
子３１の断面図である。液晶表示素子３１は、液晶セル
３６と偏光位相差板３７とを含んで構成される、反射型
の素子である。液晶セル３６は、他方基板３３の構成が
異なる以外は前述の液晶セル１８と同様にして構成され
る。図６において、同様の構成要素には同じ参照符号を
付して説明は省略する。

【００４０】液晶セル３６の他方基板３３は、液晶セル
１８の他方基板３と同様の透光性を有するプラスチック
基板１５、表示用透明電極１６および配向膜１７を有
し、この他に拡散層３４と反射層３５とをさらに含んで
構成される。プラスチック基板１５の一方表面１５ａに
は、その全面に拡散層３４がスピンコータ法によって形
成される。さらに拡散層３４の上には、その全面に反射
層３５が蒸着法によって形成される。反射層３５の上に
は、前述したように、フォトマスクを使用してフォトリ
ソグラフィ法によって表示用透明電極１６がパターン形
成され、次に形成した表示用透明電極１６を覆って配向
膜１７が形成される。

【００４１】偏光位相差板３７の側から該偏光位相差板
３７を介して液晶セル３６に入射した光は、該液晶セル
３６の液晶層４を透過し、または該液晶セル３６の液晶
層４で遮断される。液晶層４を透過した光は、反射層３
５で反射し、反射光は再び液晶層４を透過し、偏光位相
差板３７を通過して出射する。液晶表示素子３１の観察
者２５は、偏光位相差板３７の側から出射した反射光を
観察する。

【００４２】偏光位相差板３７は日東電工社製で実現す
ることができる。反射層３５として使用可能な材料とし
てはアルミニウムが挙げられる。

【００４３】このように本発明の製造方法は、透過型の
カラー液晶表示素子用基板のみならず、反射型のカラー
液晶表示素子用基板にも適用することができ、また透過
型のカラー液晶表示素子のみならず、反射型のカラー液
晶表示素子にも適用することができ、上述したのと同様
の効果を得ることができる。

【００４４】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、透光性を
有する絶縁性基板の両面に透明電極膜をそれぞれ形成し
た後、各透明電極膜上にレジストをそれぞれ塗布し、一
括的に露光し、現像し、露出した透明電極膜をエッチン
グし、残余のレジストを剥離し、このようにしてカラー
液晶表示素子用基板が製造される。したがって、各透明
電極同士の高精度な位置合せを行わずに、色ずれのない
カラー液晶表示素子用基板を製造することができる。

【００４５】また本発明によれば、絶縁性基板の各表面
に吸収波長帯域の異なるレジストをそれぞれ塗布するこ
とによって、露光光源から遠い方のレジストにおける、
光量不足による解像度の低下を防止することができる。

【００４６】また本発明によれば、透光性を有する絶縁
性基板としてプラスチック基板を使用することによっ
て、さらに小型・軽量・低消費電力なカラー液晶表示素
子用基板を製造することができる。

【００４７】また本発明によれば、上述したようなカラ
ーフィルタ形成用および表示用の透明電極を備える一方
基板と、少なくとも表示用透明電極を備える他方基板と
を、表示用透明電極同士が互いに対向するようにして配
置し、所定の間隔をあけて貼合せ、基板間に液晶を充填
し、このようにしてカラー液晶表示素子が製造される。
したがって、色ずれがなく、カラーフィルタ表面の凹凸
に起因する表示むらのない、高品位な表示が得られるカ
ラー液晶表示素子を製造することができる。また、基板
の各表面に吸収波長帯域の異なるレジストをそれぞれ塗
布することによって、露光光源から遠い方のレジストに
おける、光量不足による解像度の低下を防止することが
できる。さらに、透光性を有する絶縁性基板としてプラ
スチック基板を使用することによって、さらに小型・軽
量・低消費電力なカラー液晶表示素子を製造することが
できる。

【００４８】また本発明によれば、透光性を有する絶縁
性基板の両面に、カラーフィルタ形成用透明電極と表示
用透明電極とを位置ずれなく形成した基板を提供するこ
とができる。

【００４９】また本発明によれば、色ずれおよび表示む
らのない、優れた表示品位のカラー液晶表示素子を提供
することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の一形態であるカラー液晶表示素
子１の断面図である。

【図２】液晶表示素子１の一方基板２の製造方法を段階
的に説明するための断面図である。

【図３】液晶表示素子１の他方基板３の製造方法を段階
的に説明するための断面図である。

【図４】一方および他方基板２，３の完成後の液晶表示
素子１の製造方法を段階的に説明するための工程図であ
る。

【図５】前記方法によって製造された、他のカラー液晶
表示素子２１の断面図である。

【図６】前記方法によって製造された、さらに他のカラ
ー液晶表示素子３１の断面図である。

【符号の説明】

１，２１，３１ 液晶表示素子 ２ 一方基板 ３，３３ 他方基板 ４ 液晶層 ５ 接着層 ６ スペーサ ７，８，２２，３７ 偏光位相差板 ９ 光源 １０，１５ プラスチック基板 １１ カラーフィルタ形成用透明電極 １２ カラーフィルタ １２Ｒ 赤色フィルタ １２Ｇ 緑色フィルタ １２Ｂ 青色フィルタ １３，１６ 表示用透明電極 １４，１７ 配向膜 １８，３６ 液晶セル ２３ 偏光板 ２４ 反射板 ２５ 観測者 ３４ 拡散層 ３５ 反射層 ５０ フォトフォトマスク

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくともカラーフィルタ形成用透明電
   極と表示用透明電極とを備えるカラー液晶表示素子用基
   板の製造方法において、 透光性を有する絶縁性基板の両面に透明電極膜をそれぞ
   れ形成する工程と、 形成した各透明電極膜上にレジストをそれぞれ塗布する
   工程と、 塗布した各レジストを単一のフォトマスクを用いて一括
   的に露光する工程と、露光後に、レジストを現像する工
   程と、 現像によって露出した前記透明電極膜をエッチングする
   工程と、 エッチング後に、残余のレジストを剥離してカラーフィ
   ルタ形成用および表示用の透明電極を形成する工程とを
   含むことを特徴とするカラー液晶表示素子用基板の製造
   方法。
2. 【請求項２】 前記レジスト塗布工程では、絶縁性基板
   の一方および他方表面に吸収波長帯域が互いに異なるレ
   ジストをそれぞれ塗布することを特徴とする請求項１記
   載のカラー液晶表示素子用基板の製造方法。
3. 【請求項３】 透光性を有する前記絶縁性基板がプラス
   チック基板であることを特徴とする請求項１記載のカラ
   ー液晶表示素子用基板の製造方法。
4. 【請求項４】 請求項１〜３のうちのいずれかに記載の
   方法によって製造された一方基板と、少なくとも表示用
   透明電極を備える他方基板とを、表示用透明電極同士が
   互いに対向するようにして配置し、所定の間隔をあけて
   貼合せ、基板間に液晶を充填することを特徴とするカラ
   ー液晶表示素子の製造方法。
5. 【請求項５】 請求項１〜３のうちのいずれかに記載の
   方法によって製造されたことを特徴とするカラー液晶表
   示素子用基板。
6. 【請求項６】 請求項４に記載の方法によって製造され
   たことを特徴とするカラー液晶表示素子。