JP2001196842A - 反射鏡アンテナの鏡面精度測定装置およびこれを応用した鏡面制御システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高周波の測定電波を用いて鏡面アンテナ１の
鏡面精度を測定する従来の方法では、実用副反射鏡４を
移動させることでフレネル領域での測定に起因する収差
を抑制しているので、主反射鏡ユニット３の反射面全体
において好適に当該収差を抑制することができないなど
の課題があった。 【解決手段】 フレネル領域での測定に起因する収差を
補償する鏡面形状の収差補正副反射鏡１２を用いるもの
である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は反射鏡アンテナの
鏡面精度を測定する鏡面精度測定装置およびこの鏡面精
度に基づいて複数の鏡面パネルからなる主反射鏡ユニッ
トの鏡面精度を向上させる反射鏡アンテナの鏡面制御シ
ステムに係り、特に、ミリ波やサブミリ波で観測を行う
大口径電波望遠鏡などの反射鏡アンテナの鏡面精度測定
や鏡面精度制御のために好適に用いることができる反射
鏡アンテナの鏡面精度測定装置およびこれを応用した鏡
面制御システムに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】 反射鏡アンテナは、例えば上記大口径
電波望遠鏡を例に説明すれば、遠方にある星などから放
出された電波を反射鏡で反射し、その反射鏡で反射され
て収束された電波を一次放射器で受信することで、当該
星などを観測するものである。当該星などから放射され
る電波は球面波状に広がって伝搬してゆくが、十分に離
れた観測点においてはほぼ平面波状に電波が入射するこ
とになる。上記電波望遠鏡においては平面波状の電波を
効率よくその一次放射器に集約するために主反射鏡上の
開口面位相分布が一様（開口面上の全ての場所で同位
相）である必要がある。この開口面分布は主反射鏡の鏡
面精度に直接依存する。従って、上記反射鏡アンテナの
鏡面精度は当該反射鏡アンテナの観測能力を決定付ける
一要因となり、その精度を向上させることはとても重要
である。

【０００３】このような反射鏡アンテナの鏡面精度を測
定する技術としては従来、専用ゲージや測距測角儀など
を用いた測定技術や、電波ホログラフィ法を用いた測定
技術が実施されている。図１２は電波ホログラフィ法を
用いた鏡面精度測定装置の測定原理を説明するための説
明図である。図において、３３は鏡軸がその中心に位置
するパラボラ形状に形成された主反射鏡、３４は主反射
鏡３３の鏡軸上の焦点位置に配設されて所定の電波を送
信する一次放射器、３５はそれぞれこの主反射鏡３３で
反射されてその鏡軸方向と平行に送信される平行電波、
３６は上記電波３５の周波数においてフラウンホーファ
領域となる距離でもって上記鏡軸方向に垂直な面として
定義される観測面である。

【０００４】一次放射器３４から放射された電波は主反
射鏡３３で反射され、その主反射鏡３３の鏡面が正確に
パラボラ形状に形成されている場合には同図に示すよう
に上記鏡軸方向には位相が揃った平行電波３５が送信さ
れ、その鏡軸との交点を中心とする同心円状の放射界分
布となる放射界分布を観測面３６上で観測することがで
きる。また、主反射鏡３３の鏡面がその一部においても
パラボラ形状とは異なる形状に形成されていれば、その
部分で反射された電波３５の位相が他の部分で反射され
た電波３５の位相とは異なる位相にて上記観測面３６に
到達することになるので、それだけ上記観測面上で観測
される放射界分布に歪みが発生することになる。

【０００５】そして、上記電波ホログラフィ法は、上記
放射界分布を観測し、この観測された放射界分布に対し
て逆フーリエ変換などの演算処理を実施することで上記
反射鏡アンテナの開口面３７上の電波の位相分布を求
め、さらにこの位相分布の誤差に基づいて主反射鏡３３
の鏡面誤差を求めるものである。

【０００６】また、上記大口径電波望遠鏡などにおいて
は実際には、相反性の原理に基づいて衛星や星から送信
された電波３５を主反射鏡３３の向きを変化させながら
受信して上記フラウンホーファ領域における放射界分布
を測定し、これに基づいて主反射鏡３３の鏡面誤差を求
めている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】フラウンホーファ領域
における放射界分布に基づいて反射鏡アンテナの鏡面精
度を測定する従来の鏡面精度測定装置は以上の原理に基
づくものなので、特にミリ波やサブミリ波で観測を行う
大口径電波望遠鏡などの反射鏡アンテナの鏡面精度を測
定して、その鏡面精度を当該観測に十分なものとするこ
とが極めて難しいなどの課題があった。

【０００８】具体的に説明する。アンテナ利得の点から
考えると鏡面精度は観測波長に比べて充分に小さいこと
が条件となる。従って、上記主反射鏡３３が如何に大き
くとも、観測に使用する電波３５の周波数帯がミリ波帯
やサブミリ波帯となるにつれてそれに応じた高い鏡面精
度が必要となる。このような高い鏡面精度を実現するた
めには鏡面の測定精度を上げる必要がある。位相の測定
精度の観点から、鏡面の測定精度を向上するためにはよ
り高い（波長の短い）周波数帯の電波を用いて鏡面精度
を評価しなくてはならない。

【０００９】しかしながら、上記大口径電波望遠鏡は地
上に固定して設置されるものであり、それに平行な電波
３５を入射して鏡面精度を測定するためには衛星や星な
どから送信された電波を利用することになる。従って、
その設置場所に応じて測定に利用することができる電波
の周波数は限られてしまい、ミリ波帯やサブミリ波帯で
の観測が可能となる鏡面精度が得られるような周波数帯
の電波を利用することが難しい。また、例えそのような
周波数帯の電波を測定に利用することができたとして
も、非常に限られた数の中から選んだ周波数の測定電波
となってしまうので、所望の鏡面精度を得るために最適
な測定電波を利用することができる場合は極めて少な
い。

【００１０】また、このように所望の鏡面精度を得るた
めに最適な周波数の測定電波を得ることができる場合で
あっても、電波の伝搬損失は周波数と伝搬距離に比例し
て大きくなることからミリ波帯やサブミリ波帯の非常に
遠方にある波源を用いて測定を行うことは受信感度の点
からも困難である。

【００１１】その結果、ミリ波やサブミリ波で観測を行
う大口径電波望遠鏡などの反射鏡アンテナの鏡面精度を
測定して、その鏡面精度を当該観測に十分なものとする
ことは極めて難しいものとなっている。

【００１２】そこで、発明者らは既に、フラウンホーフ
ァ領域よりも短い距離、すなわちフレネル領域に設置さ
れたコリメーションアンテナから所望の高い周波数の測
定電波を送信し、この測定電波を反射鏡アンテナにて受
信し、この受信した放射界分布に基づいて当該反射鏡ア
ンテナの鏡面精度を測定する技術について検討し、一定
の成果を得るに至っている。この測定原理であれば、測
定に用いる電波の伝播経路が短いので伝播損失が抑制さ
れ、しかも、地上に設置された他の反射鏡アンテナなど
から任意の周波数の測定電波を送信し、これを鏡面精度
測定に利用することができる。

【００１３】図１３は「フレネル領域電波ホログラフィ
による大口径アンテナの評価法」（出口他，信学技報Ａ
Ｐ９８−４第２５頁から第３１頁，１９９８年４月）に
開示された、従来のフレネル領域からの測定電波に基づ
いて反射鏡アンテナの鏡面精度を測定し且つ制御する鏡
面制御システムの構成を示すシステム構成図である。図
において、３８は反射鏡を有する供試アンテナ、３９は
この供試アンテナ１とフレネル領域内の所定の距離にて
対向して配設されたコリメーションアンテナである。

【００１４】供試アンテナ３８において、４０は主反射
鏡ユニット、４２は実用副反射鏡、４３は一次放射器、
４４は一次放射器に接続される受信機、４５はマウント
部、４６は姿勢制御手段、４７はホログラフィ演算手
段、４８は鏡面制御手段である。

【００１５】次にこのような供試アンテナ３８の鏡面精
度制御処理について説明する。姿勢制御手段４６の制御
に基づいて供試アンテナ３８の向きを変えながら、コリ
メーションアンテナ３９からの測定電波を一次放射器４
３で受信する。ホログラフィ演算手段４７は、上記供試
アンテナ３８の向きと受信機４４から出力される電界強
度受信信号とに基づいて放射界分布データを生成し、こ
の放射界分布データに対してフラウンホーファ領域で観
測されたデータとみなして逆フーリエ変換などの演算処
理を実施して供試アンテナ３８の開口面上の電波の位相
分布を求め、さらにこの位相分布に基づいて主反射鏡ユ
ニット４０の鏡面誤差を求める。鏡面制御手段４８はこ
の鏡面誤差に基づいてこの鏡面誤差を抑制するように複
数の鏡面パネル４１を制御し、これにより鏡面精度を制
御する。

【００１６】そして、このような鏡面制御システムであ
れば、実際にフラウンホーファ領域からの測定電波を用
いる場合よりも測定電波の減衰量が削減されるので、こ
のフラウンホーファ領域からの測定電波として使用する
ことができなかった高い周波数帯の電波を用いて鏡面精
度を精度良く測定して制御することができる。

【００１７】ところで、このようにフレネル領域となる
距離から測定電波を送信し、これを供試アンテナ３８で
受信してその鏡面精度を測定しようとした場合、当該電
波は供試アンテナ３８の開口において平面ではなく球面
状の等位相波面となってしまう。この球面状の等位相波
面と開口面との経路長差を位相に換算したものがフレネ
ル領域で観測することに起因する収差となり、この収差
は周波数が高いほど波長が短くなるために大きくなって
しまう。

【００１８】従ってこの収差により、供試アンテナに入
射した電波がその一次放射器に集約されなくなってしま
うため利得が低下し、適切なダイナミックレンジを得ら
れなくなってしまう。

【００１９】また、充分なダイナミックレンジが確保で
きたとしても、それを逆フーリエ変換などして求めた供
試アンテナ３８の開口面における位相分布には当然に、
供試アンテナ３８の本来の鏡面誤差による位相分布に、
上述のフレネル領域で測定するために生じた収差分の位
相分布が加えられたものとなってしまうため、これを用
いて達成することができる供試アンテナ３８の鏡面精度
は限られたものとなってしまう。

【００２０】そこで、この従来の鏡面制御システムにお
いても、同図の矢印で示すように、実用副反射鏡４２を
駆動することにより新たな収差を発生させ、上記のフレ
ネル領域で観測するために生じる収差分を打ち消して補
償できるように、実用副反射鏡４２を主反射鏡ユニット
４０の鏡軸方向に移動させている。

【００２１】しかしながら、このように実用副反射鏡４
２を移動させる所謂フォーカシング技術を用いたとして
も、開口面の全域において、フレネル領域で測定するこ
とに起因する収差を完全に打ち消すことができるように
はならなかった。図１４はこのような実用副反射鏡４２
を移動させる所謂フォーカシング技術を用いた場合の収
差およびその残差の一例を示す特性図である。図におい
て、横軸は主反射鏡ユニット４０の半径方向の位置、縦
軸は開口面上の位相、４９はフレネル領域で観測するこ
とに起因する収差の特性曲線、５０は実用副反射鏡をフ
ォーカシングさせることに起因する収差の特性曲線、５
１はこれら２つの収差の残差である。

【００２２】そして、このような残差５１が残っている
とその残差５１が発生している部位において、測定電波
の周波数を上げていくにつれて位相回転量が３６０度以
上となってしまう限界点があり、このような限界点を超
えた開口面位相分布では位相の３６０度以上の回転を判
別・補正する必要があり、直接にこの開口面位相分布か
ら鏡面精度に換算することはできない。

【００２３】その結果、このような従来のフレネル領域
からの測定電波に基づいて供試アンテナ３８の鏡面精度
を測定し且つ制御する鏡面制御システムであったとして
も、ミリ波やサブミリ波で観測を行う大口径電波望遠鏡
などの供試アンテナ３８の鏡面精度を測定して、その鏡
面精度を当該観測に十分なものとすることはできなかっ
た。

【００２４】この発明は上記のような課題を解決するた
めになされたもので、従来においては使用することがで
きなかった高い周波数の観測電波を用いることができ、
しかも、その観測電波に基づいて得られた放射界分布に
おけるフレネル領域で測定することに起因する収差を効
果的に抑制し、これにより測定電波の周波数において３
６０度以上の位相回転を生ずることなく、ミリ波やサブ
ミリ波で観測を行う大口径電波望遠鏡の鏡面精度を精度
良く測定することができる反射鏡アンテナの鏡面精度測
定装置およびこれを応用した鏡面制御システムを得るこ
とを目的とする。

【００２５】

【課題を解決するための手段】この発明に係る反射鏡ア
ンテナの鏡面精度測定装置は、反射鏡を有する供試アン
テナとフレネル領域内の所定の距離にて対向して配設さ
れたコリメーションアンテナと、上記供試アンテナ内の
電波伝搬経路に配設され、上記フレネル領域で測定する
ことに起因する収差を抑制する形状に形成された収差補
正部材と、上記供試アンテナの姿勢を制御して上記距離
における放射界分布を測定する放射界分布測定手段と、
当該放射界分布により上記供試アンテナの開口面位相分
布を演算する開口面位相分布演算手段と、上記開口面位
相分布に基づき上記供試アンテナの鏡面精度を演算する
鏡面精度演算手段とを備えるものである。

【００２６】この発明に係る鏡面制御システムは、複数
の鏡面パネルで形成される主反射鏡ユニットを含む１乃
至複数の反射鏡を備えた供試アンテナの鏡面精度を制御
する鏡面制御システムにおいて、供試アンテナとなる反
射鏡アンテナとフレネル領域内の所定の距離にて対向し
て配設されたコリメーションアンテナと、上記フレネル
領域で測定することに起因する収差を抑制する形状に形
成された収差補正部材と、上記反射鏡アンテナの姿勢を
制御して上記距離における放射界分布を測定する放射界
分布測定手段と、当該放射界分布により上記供試アンテ
ナの開口面位相分布を演算する開口面位相分布演算手段
と、上記開口面位相分布に基づき上記供試アンテナの鏡
面精度を演算する鏡面精度演算手段と、当該鏡面精度に
基づき上記複数の鏡面パネルを制御する鏡面制御手段と
を備えるものである。

【００２７】この発明に係る鏡面制御システムは、収差
補正部材が、反射鏡アンテナの主反射鏡ユニット以外の
反射鏡と置き換えて用いられる反射鏡であって、上記置
き換えられた反射鏡の配設位置に配設され、上記置き換
えられた反射鏡の鏡面形状に、フレネル領域で測定する
ことに起因する収差を補正する曲面形状に形成されてい
るものである。

【００２８】この発明に係る鏡面制御システムは、収差
補正部材が、反射鏡アンテナの主反射鏡以外の反射鏡と
置き換えて用いられる反射鏡であって、上記置き換えら
れた反射鏡を用いた場合に、フレネル領域で測定するこ
とに起因する収差を抑制することができる変位位置に配
設され、上記置き換えられた反射鏡の鏡面形状に、フレ
ネル領域で測定することに起因する収差から上記置き換
えられた反射鏡を上記変位位置に変位させたことにより
生じる収差を引いた残差を補正する曲面形状に形成され
ているものである。

【００２９】この発明に係る鏡面制御システムは、収差
補正部材としての反射鏡とこれにより置き換えられる反
射鏡とが共に固定して配設される支持部材を備え、この
支持部材を回動させることでこれらの反射鏡を置き換え
るものである。

【００３０】この発明に係る鏡面制御システムは、反射
鏡アンテナの主反射鏡ユニット以外の反射鏡のうちの１
つは、反射面形状が変形できるように複数の鏡面パネル
で構成され、この複数の鏡面パネルで構成される鏡面形
状を、それ本来の観測時の鏡面形状からフレネル領域で
測定することに起因する収差を補正する形状に変化させ
ることで、上記収差補正部材として機能させるものであ
る。

【００３１】この発明に係る鏡面制御システムは、収差
補正部材が、フレネル領域で測定することに起因する収
差を補正する透過型収差補正部材であるものである。

【００３２】この発明に係る鏡面制御システムは、供試
アンテナとなる反射鏡アンテナに、上記収差補正部材を
追加したものである。

【００３３】

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の一形態を
説明する。 実施の形態１．図１はこの発明の実施の形態１による供
試アンテナおよびその鏡面精度を測定し且つ制御する鏡
面制御システムの構成を示すシステム構成図である。図
において、１は反射鏡を有する供試アンテナ、２はこの
供試アンテナ１と所定の距離でもって離間した位置に配
設され、この供試アンテナ１に対して所定の測定電波を
送信するコリメーションアンテナである。そして、上記
供試アンテナ１とコリメーションアンテナ２との距離
は、当該測定電波の周波数においてフレネル領域とみな
すことができる距離となっている。

【００３４】反射鏡を有する供試アンテナ１において、
３は主反射鏡ユニット、４は本来の設計形状で与えられ
る実用副反射鏡（反射鏡）、５は一次放射器、６は一次
放射器５に接続される受信機（放射界分布測定手段）、
７は供試アンテナ１の姿勢を変化させるマウント部、８
は供試アンテナ１の姿勢を制御する姿勢制御手段であ
る。

【００３５】主反射鏡ユニット３において、１０は主反
射鏡の反射面を分割して構成する鏡面パネル、１１は鏡
面パネルを駆動するアクチュエータ、９は鏡面パネル１
０とアクチュエータ１１を保持するバックストラクチャ
である。

【００３６】また、１２は供試アンテナ１の鏡面精度測
定時に実用副反射鏡４の代わりに元の配設位置に取り付
けられる収差補正副反射鏡（収差補正部材）、１３は上
記姿勢制御手段８より与えられる姿勢制御信号および受
信機６より与えられる受信信号が入力され、鏡面精度測
定時にはこれらの信号に基づいて開口面分布を算出し、
その位相分布から主反射鏡ユニット３の鏡面誤差を求め
るホログラフィ演算手段（開口面分布演算手段、鏡面精
度演算手段）、１４はこの主反射鏡ユニット３の鏡面誤
差に基づいて上記複数のアクチュエータ１１のそれぞれ
に対して駆動信号を出力する鏡面制御手段（鏡面制御手
段）である。

【００３７】なお、上記収差補正副反射鏡１２は、実用
副反射鏡４の鏡面形状を基にフレネル領域で測定するこ
とに起因する収差（経路長差）を補正する形状で与えら
れている。図２はこの発明の実施の形態１における上記
収差補正部材１２の鏡面形状の決定方法について説明す
る図である。同図において、１５は主反射鏡ユニット３
の反射面、１６は実用副反射鏡４の反射面、１７は主反
射鏡ユニットの鏡軸、Ｏは一次放射器の位相中心、１８
は鏡軸方向に垂直でＯを含む平面、１９は適当な距離に
定義された供試アンテナ１の開口面、２０は供試アンテ
ナ１に入射する入射波、Ｍは主反射鏡ユニット３の反射
面上の点、２１は主反射鏡ユニット３からの反射波、Ｓ
は主反射鏡ユニット３の反射面上の点Ｍを反射した電波
と実用副反射鏡４の幾何学的な交点、２２は副反射鏡か
らの反射波である。

【００３８】そして、線分ＯＳの長さをｌａ、線分ＳＭ
の長さをｌｂ、点Ｍと焦点面１８との距離をｌｃとした
時、上記主反射鏡ユニット３の鏡面形状と実用副反射鏡
４の鏡面形状との組み合わせの下では下記式１が成立す
ることになり、鏡軸方向に平行に開口面上のいずれの点
を通過した電波も、そこから幾何学的に一次放射器５の
位相中心Ｏまで等光路長で与えられるための式である。

【００３９】これに対して、フレネル領域で観測するた
めに生じる経路長差ｌｑ（ρ）は下記式２で表される。
同式においてρは開口面１９上の中心からの半径であ
り、ｒは上記フレネル領域内となる供試アンテナ１の開
口面とコリメーションアンテナまでの距離である。従っ
て、この実施の形態１における収差補正副反射鏡１２の
反射面は、上記実用副反射鏡４の反射面１６の形状にこ
の式２で表される光路長差分を補正する形状となり、下
記式３に基づく曲面形状に形成されればよい。なお、同
図は一次放射器５が直接実用副反射鏡４に吹き付けるカ
セグレン形式の供試アンテナの例であるが、例えば、グ
レゴリアン形式の供試アンテナであっても、収束ビーム
給電系を備えた供試アンテナであっても同様の設計概念
で収差補正副反射鏡１２の曲面形状を特定することがで
きる。また、その他の要因の収差を補正するための鏡面
形状となっている場合にも同様の設計概念で収差補正副
反射鏡１２の曲面形状を特定することができる。

【００４０】 ｌａ＋ｌｂ−ｌｃ ＝ Ｃｏｎｓｔ（一定） ・・・ 式１ ｌｑ（ρ） ＝ （ρ^２／２ｒ）（１−ρ^２／４ｒ^２） ・・・式２ ｌａ＋ｌｂ−ｌｃ−ｌｑ（ρ） ＝ Ｃｏｎｓｔ（一定） ・・・ 式３

【００４１】次に本発明による反射鏡を有する供試アン
テナ１の鏡面精度測定・調整法について説明する。鏡面
測定時にはフレネル領域となる距離に配設されたコリメ
ーションアンテナ２からの電波を供試アンテナ１の実用
副反射鏡４を収差補正用反射鏡１２に置き換えて受信す
る。ここで、供試アンテナ１の姿勢を変化させて測定を
行うことにより、上記姿勢制御信号と受信信号から放射
界分布データが生成される。この放射界分布データは上
述のとおりフレネル領域で測定を行うために生じる収差
分を補正してあるため、フラウンホーファ領域での測定
を模擬したものとなっている。これに逆フーリエ変換な
どの演算処理を施し、供試アンテナ１の開口面１９上の
電磁界分布（開口面分布）を求め、更にこの位相分布に
基づいて主反射鏡上の鏡面誤差分布を算出する。この鏡
面誤差分布に基づき鏡面制御手段１４はこの鏡面誤差分
布に基づいてこの鏡面誤差を抑制するようにアクチュエ
ータ１１を駆動する。

【００４２】その結果、フレネル領域で測定することに
起因する収差（経路長差）を収差補正副反射鏡１２で補
正して、あたかもフラウンホーファ領域から測定電波が
送信されたかのように測定状態を形成し、この測定状態
にて測定された放射界分布データを用いて供試アンテナ
１の開口面１９上の電波の位相分布を求めているので、
減衰などのために本来フラウンホーファ領域からの電波
として用いることができなかった高い周波数の測定電波
を用いて、フラウンホーファ領域からの電波を用いた測
定状態を模倣し、これにより高い鏡面精度を得ることが
できる。なお上記開口面分布は、上記放射界分布データ
の測定間隔に応じたデータ範囲で与えられ、上記放射界
分布データの測定範囲に応じたデータ間隔となる。

【００４３】特に、フレネル領域で測定することに起因
する収差（経路長差）を収差補正副反射鏡１２で補正し
ているので、開口１９の全体に渡って当該収差を効果的
に補正することができ、単に実用副反射鏡４の位置を鏡
軸１７方向に移動させたような従来の収差補正方法に比
べてフレネル領域で測定することに起因する収差を格段
に補正することができる。その結果、ミリ波やサブミリ
波で観測するために必要な鏡面精度を得ることができ
る。

【００４４】実施の形態２．図３はこの発明の実施の形
態２に係る供試アンテナおよびその鏡面精度を測定し且
つ制御する鏡面制御システムの構成を示すシステム構成
図である。図において、２３は供試アンテナ１の鏡面精
度測定時に実用副反射鏡４の替わりに取り付けられる収
差補正副反射鏡（収差補正部材）である。この収差補正
副反射鏡２３は、従来技術と同様にフレネル領域での測
定に起因する収差（経路長差）を抑制するように実用副
反射鏡４を観測位置からずれた位置（変位位置）に配設
される。

【００４５】なお、この実施の形態ではこの変位位置は
観測位置から鏡軸１７方向へずれた位置となる。この位
置であれば、フレネル領域で測定を行うことに起因する
収差を補正するための収差分以外の新たな収差を生じる
ことはない。また、その変位量は、実用副反射鏡４を駆
動することにより新たな収差を発生させ、上記のフレネ
ル領域で測定するために生じる収差分を打ち消して補償
できるものであればよい。

【００４６】また、この収差補正副反射鏡２３の反射面
は、実用副反射鏡４の鏡面形状に、フレネル領域で測定
することに起因する収差（経路長差）から上記実用副反
射鏡４を上記変位位置に変位させたことにより生じる収
差を引いた残差を補正する曲面形状に形成されている。
この変位に起因する収差をｌｐ（ρ）とした場合、この
実施の形態２の収差補正副反射鏡２３の反射面は下記式
４に基づく曲面形状となる。これ以外の構成は実施の形
態１と同様であり説明を省略する。

【００４７】 ｌａ＋ｌｂ−ｌｃ−｛ｌｐ（ρ）＋ｌｑ（ρ）｝ ＝ Ｃｏｎｓｔ（一定） ・・・ 式４

【００４８】次に動作について説明する。鏡面精度測定
時には、実用副反射鏡４に替えて収差補正副反射鏡２３
を上記変位位置に配設し、この状態で放射界分布データ
を測定する。これ以外の動作は観測時の動作を含めて実
施の形態１と同様であり説明を省略する。

【００４９】そして、フレネル領域で測定することに起
因する収差（経路長差）を収差補正副反射鏡２３の鏡面
形状および変位位置にて補正して、あたかもフラウンホ
ーファ領域からの測定電波を用いて供試アンテナ１の開
口面１９上の電磁界分布を求めているかのようにするこ
とができるので、実施の形態１と同様に、本来フラウン
ホーファ領域からの電波として用いることができなかっ
た高い周波数の測定電波を用いて鏡面精度を求めること
ができ、ひいてはこれに基づいて高い鏡面精度を得るこ
とができる。

【００５０】なお、この実施の形態２の収差補正補助反
射鏡２３の方が、実施の形態１の収差補正補助反射鏡１
２よりも実用副反射鏡４の形状に対する変形量が小さ
い。

【００５１】実施の形態３．図４はこの発明の実施の形
態３に係る供試アンテナおよびその鏡面精度を測定し且
つ制御する鏡面制御システムの構成を示すシステム構成
図である。図において、２４は実用副反射鏡４および収
差補正副反射鏡１２が対向する両端部に固定されるとと
もにそれらの一対の反射鏡４，１３の中央部において回
転可能に配設された回転アーム（支持部材）である。ま
た、この回転アーム２４の回転中心は鏡軸１７上に位置
するようになっている。これ以外の構成は実施の形態１
と同様であり説明を省略する。

【００５２】次に動作について説明する。観測時には、
実用副反射鏡４を主反射鏡ユニット３に対向させるよう
に回転アーム２４を設定する。鏡面精度測定時には、観
測時の状態から１８０度回転させて収差補正副反射鏡１
２が主反射鏡ユニット３に対向するように回転アーム２
４を設定する。これ以外の動作は実施の形態１と同様で
あり説明を省略する。

【００５３】そして、このように回転アーム２４の両端
に実用副反射鏡３および収差補正副反射鏡１２を配設す
るとともに、この回転アーム２４を回転することで主反
射鏡ユニット３に対向する反射鏡を切りかえるので、例
えば大口径の電波望遠鏡などであったとしても実用副反
射鏡４や収差補正副反射鏡１２を予め精度良く設置する
ことができる。

【００５４】しかも、観測時や鏡面精度測定時には回転
アーム２４が鏡軸１７に沿った姿勢にて保持されるの
で、電波の経路からみて一方の副反射鏡を他方の副反射
鏡の陰となる位置に配置することができるので、電波の
送受信特性を劣化させたりすることがない効果がある。

【００５５】なお、この実施の形態３では実施の形態１
の収差補正副反射鏡１２に対して固定アーム２４を配設
した例について説明したが、他にも例えば図５に示すよ
うに実施の形態２の収差補正副反射鏡２３に対して固定
アーム２４を配設するようにしてもよい。なお、この場
合には同図にも示すように、固定アーム２４が回転した
際に収差補正副反射鏡２３が実用副反射鏡４の観測位置
から変位した変位位置となるように、一対の反射鏡４，
２３の中央部からずれた位置を中心に回転可能に配設す
る必要がある。

【００５６】また、これらの図では回転アーム２４の両
端部に２つの反射鏡を配設する例で説明したが、回転ア
ーム２４に対する反射鏡の配設位置は必ずしもこれに限
られるものではない。基本的には、回転アーム２４の回
転動作などによって２つの反射鏡が切り替えられればよ
い。

【００５７】実施の形態４．図６はこの発明の実施の形
態４に係る供試アンテナおよびその鏡面精度を測定し且
つ制御する鏡面制御システムの構成を示すシステム構成
図である。図において、反射面を分割して構成する複数
の鏡面パネル２７と、鏡面パネル２７を駆動するアクチ
ュエータ２８と、鏡面パネル２７およびアクチュエータ
２８を保持するバックストラクチャ２６とからなる能動
副反射鏡ユニット（反射鏡）、２９は上記複数のアクチ
ュエータ２８を伸縮制御する副反射鏡制御手段である。
また、この能動副反射鏡ユニット２５は、複数のアクチ
ュエータ２８が伸縮されることで、実施の形態１の実用
副反射鏡４と同じ観測位置において、二次曲面形状の反
射面、並びに、二次曲面形状にフレネル領域で測定する
ことに起因する収差（経路長差）を補正する曲面形状の
反射面を形成することができる。これ以外の構成は実施
の形態１と同様であり説明を省略する。

【００５８】次に動作について説明する。観測時には、
副反射鏡制御手段２９の制御によって能動副反射鏡ユニ
ット２５は二次曲面形状の反射面を形成する。鏡面精度
測定時には能動副反射鏡ユニット２５は二次曲面形状に
フレネル領域で測定することに起因する収差（経路長
差）を補正する曲面形状の反射面を形成する。これ以外
の動作は実施の形態１と同様であり説明を省略する。

【００５９】そして、フレネル領域で測定することに起
因する収差（経路長差）を能動副反射鏡ユニット２５の
鏡面形状にて補正して、あたかもフラウンホーファ領域
からの測定電波を用いて供試アンテナ１の開口面１９上
の電磁界分布を求めているかのようにすることができる
ので、実施の形態１と同様に高い周波数の測定電波を用
いて鏡面精度を求めることができ、ひいてはこれに基づ
いて高い鏡面精度を得ることができる。

【００６０】なお、実施の形態２と同様に、この能動副
反射鏡ユニット２５が主反射鏡ユニット３の鏡軸１７方
向に移動可能としても良い。この場合には、この能動副
反射鏡ユニット２５の変位位置における鏡面形状は、実
施の形態２の収差補正副反射鏡２４と同じ曲面形状とな
ればよい。

【００６１】実施の形態５．図７はこの発明の実施の形
態５に係る供試アンテナおよびその鏡面精度を測定し且
つ制御する鏡面制御システムの構成を示すシステム構成
図である。図において、３０は鏡面精度測定時に主反射
鏡ユニット３の中心に開設された開口内に配設される収
差補正レンズ（透過型収差補正部材）である。この収差
補正レンズ３０は上記配設位置においてフレネル領域で
測定することに起因する収差（経路長差）を補正する曲
面形状のレンズ面に形成され、且つ、当該測定電波を透
過する材質にて形成されている。これ以外の構成は実施
の形態１と同様であり説明を省略する。

【００６２】次に動作について説明する。鏡面精度測定
時には主反射鏡ユニット３の中心の開口内に収差補正レ
ンズ３０を配設する。これ以外の動作は観測時の動作を
含めて実施の形態１と同様であり説明を省略する。

【００６３】そして、フレネル領域で測定することに起
因する収差（経路長差）を収差補正レンズ３０にて補正
して、あたかもフラウンホーファ領域からの測定電波を
用いて供試アンテナ１の開口面１９上の電磁界分布を求
めているかのようにすることができるので、実施の形態
１と同様に高い周波数の測定電波を用いて鏡面精度を求
めることができ、ひいてはこれに基づいて高い鏡面精度
を得ることができる。

【００６４】実施の形態６．図８はこの発明の実施の形
態６に係る供試アンテナおよびその鏡面精度を測定し且
つ制御する鏡面制御システムの構成を示すシステム構成
図である。図において、３１は収差補正レンズ３０と同
一の位置に配設される透過型位相器（透過型収差補正部
材）である。この透過型位相器３１は、例えば送受用の
ピックアップホーンの間に位相器を設けたものを二次元
的に配列したものや、誘電体基板上に金属パッチや金属
ストリップを二次元的に配列するとともにこれらをダイ
オード接続したものであり、鏡面精度測定時に位相量を
二次元的に変化させることでフレネル領域で測定するこ
とに起因する収差（経路長差）を補正するものである。
これ以外の構成は実施の形態１と同様であり説明を省略
する。

【００６５】次に動作について説明する。観測時には透
過型位相器３１による補正は行わない。鏡面精度測定時
には透過型位相器３１を動作させて補正を行う。これ以
外の動作は実施の形態１と同様であり説明を省略する。

【００６６】そして、フレネル領域で測定することに起
因する収差（経路長差）を透過型位相器３１にて補正し
て、あたかもフラウンホーファ領域からの測定電波を用
いて供試アンテナ１の開口面１９上の電磁界分布を求め
ているかのようにすることができるので、実施の形態１
と同様に高い周波数の測定電波を用いて鏡面精度を求め
ることができ、ひいてはこれに基づいて高い鏡面精度を
得ることができる。

【００６７】なお、以上の実施の形態では、主反射鏡ユ
ニット３と実用副反射鏡４との２つの反射鏡を備える供
試アンテナ１にて本発明を説明したが、本発明は反射鏡
の個数に関係無く適用することでき且つそれにより鏡面
精度を向上させることができる。つまり主反射鏡ユニッ
ト３のみを備える供試アンテナであっても図９に示すよ
うに測定電波の経路上に新たに収差補正副反射鏡３２を
追加し、この追加した収差補正副反射鏡３２でフレネル
領域で測定することに起因する収差（経路長差）を補正
させるようにすれば、当該供試アンテナの鏡面精度を精
度良く測定して制御することができる。逆に、ビーム給
電系などにおける反射鏡などを含めて３つ以上の反射鏡
を備える供試アンテナなどにおいても、いずれかの反射
鏡を収差補正副反射鏡に置き換えることで、供試アンテ
ナの鏡面精度を精度良く測定して制御することができ
る。

【００６８】また、主反射鏡ユニット３や実用副反射鏡
４などは必ずしも略円形状の外形に形成されて回転対称
な形状である必要はなく、例えば図１０に示すように、
主反射鏡ユニット３の鏡軸１７が供試アンテナの開口１
９と垂直に交わらないような所謂オフセットアンテナで
あっても本願発明を適用することで精度良く鏡面精度を
測定して制御することができる。なお、このオフセット
アンテナにおいて実施の形態２のように実用副反射鏡４
と収差補正副反射鏡２３との配設位置を変位させる場合
には図１１の矢印に示す方向に変位させればよい。

【００６９】更に、本願発明が適用される供試アンテナ
は、主反射鏡ユニット３や実用副反射鏡４の鏡面形状が
パラボラ形状や二次曲面形状に限定されるものではな
く、パラボラに基づく形状であればよい。例えば高能率
型の収差鏡面系やビーム整形による修正鏡面系において
は、鏡面形状が純粋な二次曲面とは異なるが、上記と全
く同様にして本発明で示した鏡面測定・調整法を適用す
ることができる。なお、上記図９から図１１において各
符号は図２と同一であり説明を省略する。

【００７０】

【発明の効果】以上のように、この発明によれば、反射
鏡を有する供試アンテナとフレネル領域内の所定の距離
にて対向して配設されたコリメーションアンテナと、上
記供試アンテナ内の電波伝搬経路に配設され、上記フレ
ネル領域で測定することに起因する収差を抑制する形状
に形成された収差補正部材と、上記供試アンテナの姿勢
を制御して上記距離における放射界分布を測定する放射
界分布測定手段と、当該放射界分布により上記供試アン
テナの開口面位相分布を演算する開口面位相分布演算手
段と、上記開口面位相分布に基づき上記供試アンテナの
鏡面精度を演算する鏡面精度演算手段とを備えるので、
フレネル領域で測定することに起因する収差を収差補正
部材で抑制して、あたかもフラウンホーファ領域から測
定電波が送信されたかのように測定状態を形成し、この
測定状態にて測定された放射界分布データを用いて電波
ホログラフィ法にて反射鏡アンテナの開口面上の電波の
位相分布を求めることができる。その結果、減衰などの
ために本来フラウンホーファ領域からの電波として用い
ることができなかった高い周波数の測定電波を用いてフ
ラウンホーファ領域からの電波を用いた測定状態を模倣
し、これにより高い鏡面精度を測定することができる効
果がある。

【００７１】特に、フレネル領域で測定することに起因
する収差を収差補正部材で抑制しているので、単に実用
副反射鏡の位置を鏡軸方向に移動させたような従来の収
差補正方法に比べてフレネル領域で測定することに起因
する収差を開口の全体に渡って効果的に抑制することが
できる。その結果、ミリ波やサブミリ波で観測するため
に必要な鏡面精度を得ることができる効果がある。

【００７２】この発明によれば、複数の鏡面パネルで形
成される主反射鏡ユニットを含む１乃至複数の反射鏡を
備えた供試アンテナの鏡面精度を制御する鏡面制御シス
テムにおいて、供試アンテナとなる反射鏡アンテナとフ
レネル領域内の所定の距離にて対向して配設されたコリ
メーションアンテナと、上記フレネル領域で測定するこ
とに起因する収差を抑制する形状に形成された収差補正
部材と、上記反射鏡アンテナの姿勢を制御して上記距離
における放射界分布を測定する放射界分布測定手段と、
当該放射界分布により上記供試アンテナの開口面位相分
布を演算する開口面位相分布演算手段と、上記開口面位
相分布に基づき上記供試アンテナの鏡面精度を演算する
鏡面精度演算手段と、当該鏡面精度に基づき上記複数の
鏡面パネルを制御する鏡面制御手段とを備えるので、フ
レネル領域で測定することに起因する収差を収差補正部
材で抑制して、あたかもフラウンホーファ領域から測定
電波が送信されたかのように測定状態を形成し、この測
定状態にて測定された放射界分布データを用いて電波ホ
ログラフィ法にて反射鏡アンテナの開口面上の電波の位
相分布を求めることができる。その結果、減衰などのた
めに本来フラウンホーファ領域からの電波として用いる
ことができなかった高い周波数の測定電波を用いてフラ
ウンホーファ領域からの電波を用いた測定状態を模倣
し、これにより高い鏡面精度を測定することができる効
果がある。

【００７３】特に、フレネル領域で測定することに起因
する収差を収差補正部材で抑制しているので、単に実用
副反射鏡の位置を鏡軸方向に移動させたような従来の収
差補正方法に比べてフレネル領域で測定することに起因
する収差を開口の全体に渡って効果的に抑制することが
できる。その結果、ミリ波やサブミリ波で観測するため
に必要な鏡面精度を得ることができる効果がある。

【００７４】この発明によれば、収差補正部材が、反射
鏡アンテナの主反射鏡ユニット以外の反射鏡と置き換え
て用いられる反射鏡であって、上記置き換えられた反射
鏡の配設位置に配設され、上記置き換えられた反射鏡の
鏡面形状に、フレネル領域で測定することに起因する収
差を補正する曲面形状に形成されているので、フレネル
領域で測定することに起因する収差を開口の全体に渡っ
て効果的に補正することができる効果がある。

【００７５】この発明によれば、収差補正部材が、反射
鏡アンテナの主反射鏡以外の反射鏡と置き換えて用いら
れる反射鏡であって、上記置き換えられた反射鏡を用い
た場合に、フレネル領域で測定することに起因する収差
を抑制することができる変位位置に配設され、上記置き
換えられた反射鏡の鏡面形状に、フレネル領域で測定す
ることに起因する収差から上記置き換えられた反射鏡を
上記変位位置に変位させたことにより生じる収差を引い
た残差を補正する曲面形状に形成されているので、フレ
ネル領域で測定することに起因する収差を開口の全体に
渡って効果的に補正することができる効果がある。

【００７６】この発明によれば、収差補正部材としての
反射鏡とこれにより置き換えられる反射鏡とが共に固定
して配設される支持部材を備え、この支持部材を回動さ
せることでこれらの反射鏡を置き換えるので、例えば大
口径の電波望遠鏡などであったとしてもこれらの反射鏡
を共に予め精度良く設置することができる効果がある。

【００７７】この発明によれば、反射鏡アンテナの主反
射鏡ユニット以外の反射鏡のうちの１つは、反射面形状
が変形できるように複数の鏡面パネルで構成され、この
複数の鏡面パネルで構成される鏡面形状を、それ本来の
観測時の鏡面形状からフレネル領域で測定することに起
因する収差を補正する形状に変化させることで、上記収
差補正部材として機能させるので、フレネル領域で測定
することに起因する収差を開口の全体に渡って効果的に
補正することができる効果がある。

【００７８】この発明によれば、収差補正部材が、フレ
ネル領域で測定することに起因する収差を補正する透過
型収差補正部材であるので、フレネル領域で測定するこ
とに起因する収差を開口の全体に渡って効果的に補正す
ることができる効果がある。

【００７９】なお、これらの発明において、供試アンテ
ナとなる反射鏡アンテナに、上記収差補正部材を追加し
たものであってもよい。

【図面の簡単な説明】

【図１】 この発明の実施の形態１による反射鏡アンテ
ナおよびその鏡面精度を測定し且つ制御する鏡面制御シ
ステムの構成を示すシステム構成図である。

【図２】 この発明の実施の形態１における上記収差補
正部材の鏡面形状の決定方法について説明する図であ
る。

【図３】 この発明の実施の形態２に係る反射鏡アンテ
ナおよびその鏡面精度を測定し且つ制御する鏡面制御シ
ステムの構成を示すシステム構成図である。

【図４】 この発明の実施の形態３に係る反射鏡アンテ
ナおよびその鏡面精度を測定し且つ制御する鏡面制御シ
ステムの構成を示すシステム構成図である。

【図５】 この発明の実施の形態３に係る反射鏡アンテ
ナおよびその鏡面精度を測定し且つ制御する鏡面制御シ
ステムの構成の変形例を示すシステム構成図である。

【図６】 この発明の実施の形態４に係る反射鏡アンテ
ナおよびその鏡面精度を測定し且つ制御する鏡面制御シ
ステムの構成を示すシステム構成図である。

【図７】 この発明の実施の形態５に係る反射鏡アンテ
ナおよびその鏡面精度を測定し且つ制御する鏡面制御シ
ステムの構成を示すシステム構成図である。

【図８】 この発明の実施の形態６に係る反射鏡アンテ
ナおよびその鏡面精度を測定し且つ制御する鏡面制御シ
ステムの構成を示すシステム構成図である。

【図９】 この発明の実施の形態に係る反射鏡アンテナ
およびその鏡面精度を測定し且つ制御する鏡面制御シス
テムの構成の変形例（その１）を示すシステム構成図で
ある。

【図１０】 この発明の実施の形態に係る反射鏡アンテ
ナ（オフセットアンテナ）およびその鏡面精度を測定し
且つ制御する鏡面制御システムの構成の変形例（その
２）を示すシステム構成図である。

【図１１】 図１０のオフセットアンテナにおいて実用
副反射鏡と収差補正副反射鏡との配設位置を変位させる
場合の説明図である。

【図１２】 従来の電波ホログラフィ法を用いた鏡面精
度測定装置の測定原理を説明するための説明図である。

【図１３】 従来のフレネル領域からの測定電波に基づ
いて反射鏡アンテナの鏡面精度を測定し且つ制御する鏡
面制御システムの構成を示すシステム構成図である。

【図１４】 図１３の鏡面制御システムにおいて、実用
副反射鏡を移動させる所謂フォーカシング技術を用いた
場合の収差およびその残差の一例を示す特性図である。

【符号の説明】

１ 供試アンテナ、２ コリメーションアンテナ、３
主反射鏡ユニット、４実用副反射鏡（反射鏡、副反射
鏡）、５ 一次放射器、６ 受信機（放射界分布測定手
段）、７ マウント部、８ 姿勢制御手段、９ バック
ストラクチャ、１０ 鏡面パネル、１１ アクチュエー
タ、１２ 収差補正副反射鏡（収差補正部材）、１３
ホログラフィ演算手段（開口面位相分布演算手段、鏡面
精度演算手段）、１４ 鏡面制御手段、１５ 主反射鏡
ユニットの反射面、１６ 実用副反射鏡の反射面、１７
主反射鏡ユニットの鏡軸、Ｏ 一次放射器の位相中
心、１８ 鏡軸方向に垂直でＯを含む平面、１９ 開口
面、２０ 入射電波、Ｍ 主反射鏡ユニットの反射面上
の点、２１ 主反射鏡ユニット３からの反射波、Ｓ交
点、２２ 副反射鏡からの反射波、２３ 収差補正副反
射鏡（収差補正部材）、２４ 回転アーム（支持部
材）、２５ 能動副反射鏡ユニット（反射鏡）、２６
バックストラクチャ、２７ 鏡面パネル、２８ アクチ
ュエータ、２９ 副反射鏡制御手段、３０ 収差補正レ
ンズ（透過型収差補正部材）、３１ 透過型位相器（透
過型収差補正部材）、３２ 収差補正副反射鏡。３３
主反射鏡、３４ 一次放射器、３５ 平行電波、３６
観測面、３７ 反射鏡アンテナの開口面、３８ 反射鏡
アンテナ。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 牧野 滋 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 出口 博之 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 Ｆターム(参考） 5J020 AA03 BA09 BA17 BC02 CA02 CA05 DA03 DA04 5J021 AA01 AA02 AB07 BA01 DA03 DA06 EA03 FA20 FA24 FA26 HA05 HA07 JA10

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 反射鏡を有する供試アンテナとフレネル
   領域内の所定の距離にて対向して配設されたコリメーシ
   ョンアンテナと、 上記供試アンテナ内の電波伝搬経路に配設され、上記フ
   レネル領域で測定することに起因する収差を抑制する形
   状に形成された収差補正部材と、 上記供試アンテナの姿勢を制御して上記距離における放
   射界分布を測定する放射界分布測定手段と、 当該放射界分布により上記供試アンテナの開口面位相分
   布を演算する開口面位相分布演算手段と、 上記開口面位相分布に基づき上記供試アンテナの鏡面精
   度を演算する鏡面精度演算手段とを備える反射鏡アンテ
   ナの鏡面精度測定装置。
2. 【請求項２】 複数の鏡面パネルで形成される主反射鏡
   ユニットを含む１乃至複数の反射鏡を備えた供試アンテ
   ナの鏡面精度を制御する鏡面制御システムにおいて、 供試アンテナとなる反射鏡アンテナとフレネル領域内の
   所定の距離にて対向して配設されたコリメーションアン
   テナと、 上記フレネル領域で測定することに起因する収差を抑制
   する形状に形成された収差補正部材と、 上記反射鏡アンテナの姿勢を制御して上記距離における
   放射界分布を測定する放射界分布測定手段と、 当該放射界分布により上記供試アンテナの開口面位相分
   布を演算する開口面位相分布演算手段と、 上記開口面位相分布に基づき上記供試アンテナの鏡面精
   度を演算する鏡面精度演算手段と、 当該鏡面精度に基づき上記複数の鏡面パネルを制御する
   鏡面制御手段とを備える反射鏡アンテナの鏡面制御シス
   テム。
3. 【請求項３】 収差補正部材は、反射鏡アンテナの主反
   射鏡ユニット以外の反射鏡と置き換えて用いられる反射
   鏡であって、 上記置き換えられた反射鏡の配設位置に配設され、 上記置き換えられた反射鏡の鏡面形状に、フレネル領域
   で測定することに起因する収差を補正する曲面形状に形
   成されていることを特徴とする請求項２記載の反射鏡ア
   ンテナの鏡面制御システム。
4. 【請求項４】 収差補正部材は、反射鏡アンテナの主反
   射鏡以外の反射鏡と置き換えて用いられる反射鏡であっ
   て、 上記置き換えられた反射鏡を用いた場合に、フレネル領
   域で測定することに起因する収差を抑制することができ
   る変位位置に配設され、 上記置き換えられた反射鏡の鏡面形状に、フレネル領域
   で測定することに起因する収差から上記置き換えられた
   反射鏡を上記変位位置に変位させたことにより生じる収
   差を引いた残差を補正する曲面形状に形成されているこ
   とを特徴とする請求項２記載の反射鏡アンテナの鏡面制
   御システム。
5. 【請求項５】 収差補正部材としての反射鏡とこれによ
   り置き換えられる反射鏡とが共に固定して配設される支
   持部材を備え、この支持部材を回動させることでこれら
   の反射鏡を置き換えることを特徴とする請求項３または
   請求項４記載の反射鏡アンテナの鏡面制御システム。
6. 【請求項６】 反射鏡アンテナの主反射鏡ユニット以外
   の反射鏡のうちの１つは、反射面形状が変形できるよう
   に複数の鏡面パネルで構成され、この複数の鏡面パネル
   で構成される鏡面形状を、それ本来の観測時の鏡面形状
   からフレネル領域で測定することに起因する収差を補正
   する形状に変化させることで、上記収差補正部材として
   機能させることを特徴とする請求項２から４記載の反射
   鏡アンテナの鏡面制御システム。
7. 【請求項７】 収差補正部材は、フレネル領域で測定す
   ることに起因する収差を補正する透過型収差補正部材で
   あることを特徴とする請求項２記載の反射鏡アンテナの
   鏡面制御システム。
8. 【請求項８】 供試アンテナとなる反射鏡アンテナに、
   上記収差補正部材を追加したことを特徴とする請求項２
   から７記載の反射鏡アンテナの鏡面制御システム。