JP2001191098A

JP2001191098A - 泥漿処理物乾燥装置

Info

Publication number: JP2001191098A
Application number: JP2000143722A
Authority: JP
Inventors: Toshiyasu Suenaga; 利安末永
Original assignee: SUENAGA SEISAKUSHO KK
Current assignee: SUENAGA SEISAKUSHO KK
Priority date: 1999-10-25
Filing date: 2000-05-16
Publication date: 2001-07-17

Abstract

(57)【要約】【課題】安定にかつ熱効率よく連続的な乾燥処理操作
が可能な泥漿処理物乾燥装置を提供すること。【解決手段】加熱手段（バンドヒーター１４Ｅ）を備
え、駆動源１８に連結された乾燥ローラ１４と、乾燥ロ
ーラ１４のローラ表面に接触するローラ表面を有し、乾
燥ローラ１４に従動して回転する液展ローラ１２と、液
展ローラ１２の表面に泥漿を接触可能に滞留させるため
の処理槽１６と、を備えた泥漿処理物乾燥装置である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は泥漿処理物乾燥装置
に係り、特に生ゴミ，その他の有機廃棄物等を微生物等
により分解や発酵させて得られる泥漿を乾燥するための
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般家庭や業務用設備から排出される生
ゴミや、醸造所における発酵用原材料等のように、固形
物が液体中に分散している泥漿（スラリー）は、通常微
生物等により分解や発酵させる処理が行われている。

【０００３】従来のこの泥漿を乾燥処理するための装置
として種々の形式のものが開発・採用されている。例え
ば、処理槽内に加熱手段を有する回転ドラムを設け、こ
の回転ドラムの一部を泥漿中に浸漬させ、回転ドラムの
表面に付着した泥漿を加熱・乾燥させ乾燥ケーキとして
取り出す方法等がある。

【０００４】しかしながら、これらの方法では、被乾燥
処理物が泥漿であるため回転ドラムのドラム表面の端部
付近に多量の乾燥処理物が付着しやすく、乾燥処理物の
除去が困難となり、安定した連続乾燥処理操作が不可能
となる。また、処理槽に供給される泥漿量の変動によっ
て処理槽内の液位が変動すると、回転ドラムに付着する
泥漿処理物の量が不均一となりやすく加熱による均一な
乾燥処理物を得ることできない。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、安定
にかつ熱効率よく連続的な乾燥処理操作が可能な泥漿処
理物乾燥装置を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本出願の請求項１に係る
発明は、駆動源に連結された乾燥ローラと、この乾燥ロ
ーラを加熱する加熱手段と、該乾燥ローラのローラ表面
に接触するローラ表面を有し、前記乾燥ローラと共に回
転する液展ローラと、該液展ローラの表面に泥漿を接触
可能に滞留させるための処理槽と、を備えたことを特徴
とする。

【０００７】本出願の請求項２に係る発明は、請求項１
の発明であって、前記液展ローラ表面の軸方向長さが前
記乾燥ローラ表面の軸方向長さよりも短くされ、前記両
ローラの接触面の両端部からそれぞれ前記乾燥ローラの
ローラ表面が露出されていることを特徴とする。

【０００８】本出願の請求項３に係る発明は、請求項１
または請求項２の発明であって、前記乾燥ローラの回転
軸が、固定された軸受部材に軸支され、前記液展ローラ
の回転軸を前記乾燥ローラの回転軸方向側に付勢させる
付勢手段を備えたことを特徴とする。

【０００９】本出願の請求項４に係る発明は、請求項３
の発明であって、前記付勢手段が、前記液展ローラを支
持する支持枠を備え、該支持枠と前記軸受部材との間に
弾性体が介在されていることを特徴とする。

【００１０】本出願の請求項５に係る発明は、請求項１
乃至請求項４のいずれかの発明であって、前記乾燥ロー
ラの表面に当接する泥漿処理乾燥物除去ブレードを設け
たことを特徴とする。

【００１１】本出願の請求項６に係る発明は、請求項１
乃至請求項５のいずれか１項に記載の発明であって、前
記処理槽を、前記液展ローラに近接して囲むように形成
することを特徴とする。

【００１２】本出願の請求項７に係る発明は、請求項１
乃至請求項６のいずれか１項に記載の発明であって、前
記泥漿の乾燥処理中において、前記泥漿を前記処理槽へ
連続的に供給させることを特徴とする。

【００１３】請求項１に係る発明では、駆動源に連結さ
れた乾燥ローラと共に回転して液展ローラが回転し、処
理槽に供給された泥漿は、回転している液展ローラの表
面に付着する。このため、泥漿供給用のポンプが不要で
あり、ポンプを用いる場合に生ずる泥漿特有の供給不安
定さやポンプ耐久性の問題を解消できる。さらには、乾
燥ローラへポンプにより泥漿を供給する場合の乾燥ロー
ラの温度低下によるエネルギーロスも解消される。液展
ローラの表面に付着した泥漿は、液展ローラのローラ表
面に接触しているローラ表面を有する乾燥ローラにほぼ
均一に移行しながら展着される。乾燥ローラは、加熱手
段によって加熱されており、乾燥ローラ表面に均一に展
着された泥漿は、乾燥ケーキとして取り出される。

【００１４】請求項２に係る発明では、液展ローラ表面
に付着した泥漿は、ローラ表面の軸方向長さが液展ロー
ラ表面の軸方向長さよりも長い乾燥ローラ表面の軸方向
端部を除くローラ表面の軸方向の中心部付近に展着さ
れ、乾燥ローラのローラ表面の端部に付着することがな
い。この乾燥ローラ表面の軸方向の中心部付近に展着さ
れた生乾きの泥漿処理乾燥物は乾燥ローラからの除去が
容易となる。

【００１５】請求項３に係る発明では、乾燥ローラの回
転軸の軸受部材が固定され、液展ローラの回転軸を前記
乾燥ローラの回転軸方向側に付勢させることによって液
展ローラ表面は乾燥ローラ表面に圧着され、液展ローラ
表面に付着された泥漿は、容易に乾燥ローラ表面に展着
される。

【００１６】請求項４に係る発明では、液展ローラを軸
支する支持枠を備え、支持枠と軸受部材との間に弾性体
が介在されており、弾性体の弾性力により支持枠は乾燥
ローラ側に付勢され、支持枠に支持された液展ローラも
乾燥ローラに付勢されて液展ローラ表面は乾燥ローラ表
面に圧着される。

【００１７】請求項５に係る発明は、乾燥ローラの表面
に形成された泥漿処理乾燥物は、乾燥ローラの回転に伴
い泥漿処理乾燥物除去ブレードにより掻き取られ、所定
の場所に集積される。

【００１８】請求項６に係る発明は、処理槽を液展ロー
ラに近接して囲むように形成するので、処理槽に対する
泥漿の量が少量となる。そのため、泥漿が処理槽内に留
まる時間を短くできるので、泥漿の腐れなどの処理槽内
に対するへばり付きが防止される。また、処理槽に対す
る泥漿の量が少量となるので、泥漿の濃縮が進み易くな
り、泥漿の濃度が高くなる。即ち、液展ローラに対する
泥漿の付着が良好となるので、乾燥ローラに展着される
泥漿量が一定となり、乾燥ローラに付着する泥漿乾燥処
理物を安定的に掻き取ることができる。

【００１９】請求項７に係る発明は、泥漿の乾燥処理中
において、泥漿を処理槽へ連続的に供給させるように構
成したので、泥漿を処理槽へ定期的に流し込むための電
磁弁などの開閉手段が不要となる。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施の形
態について図１を基に説明する。図１は、本発明の一実
施の形態に係る泥漿処理物乾燥装置１０が示されてい
る。この泥漿処理物乾燥装置１０は、液展ローラ１２及
び乾燥ローラ１４が配置された処理槽１６を備えてい
る。中空円柱状の乾燥ローラ１４のローラ軸１４Ａは軸
受１６Ａ及び軸受１６Ｂにメタルベアリングを介して軸
支され、ローラ軸１４Ａはギャードモーター１８の出力
軸にカップリング２０を介して連結されている。軸受１
６Ａ及び軸受１６Ｂは、それぞれ固定部材２２Ａ及び固
定部材２２Ｂに複数のボルト２２Ｃにより固定されてい
る。液展ローラ１２のローラ表面の軸方向長さは、乾燥
ローラ１４のローラ表面の軸方向長さよりも短くされ、
両ローラの接触面の両端部からそれぞれ乾燥ローラ１４
のローラ表面が露出されている。

【００２１】また、図２に示されるように、軸受１６Ａ
及び軸受１６Ｂのそれぞれの外側面部は、互に平行な支
持枠２４Ａ及び支持枠２４Ｂの内側面へスライド可能に
配置されている。これらの支持枠２４Ａ及び２４Ｂは、
それぞれ互に平行な平行枠２４Ｃ、２４Ｄを備え、これ
らの平行枠２４Ｃ、２４Ｄは下端部が互に連結部２４Ｅ
で連結され、この連結部２４Ｅの内側に略三角状の開口
部２４Ｆが設けられている。この開口部２４Ｆに液展ロ
ーラ１２のローラ軸１２Ａ及びローラ軸１２Ｂがそれぞ
れ挿通され、支持枠２４Ａ及び支持枠２４Ｂに支持され
ている。支持枠２４Ａ及び２４Ｂの上部を結ぶ連結部材
２４Ｇには、それぞれ垂直貫通孔が設けられ、これらの
貫通孔にボルト２６Ａ及び２６Ｂが挿通され、ボルトの
先端部は軸受１６Ａ及び軸受１６Ｂに設けれたねじ孔に
螺合されている。

【００２２】ボルト２６Ａ及び２６Ｂには、それぞれナ
ット２８Ａ及び２８Ｂが螺着されており、軸受１６Ａ、
１６Ｂのねじ孔と共にダブルナットによる回り止めを構
成している。これらのナット２８Ａ及び２８Ｂと支持枠
２４Ａ及び２４Ｂの連結部材２４Ｇとの間のボルト回り
にコイルスプリング３０Ａ及び３０Ｂがそれぞれ巻回さ
れている。

【００２３】図１に示されるように、乾燥ローラ１４の
胴部１４Ｃ及び一対の端板１４Ｄはステンレスで構成さ
れ、その内周面にシリコーンラバー内へ電熱線などの発
熱源が埋設されたバンドヒーター１４Ｅが張設されてい
る。ローラ軸１２Ｂの軸受１６Ｂに軸支された部分は、
円筒状に形成されており、その先端部に耐熱・断熱性で
円筒状のロータリーコネクタ保持部材３２が連結されて
いる。この保持部材３２の内周にはロータリーコネクタ
３３が取り付けられており、このロータリーコネクタ３
３の静止側が図示しない電源へと接続されている。また
このロータリーコネクタ３３の回転側は＋，−両極用の
コードが接続され、バンドヒーター１４Ｅにそれぞれ接
続されている。これによって、ロータリーコネクタ３３
は電源側が静止し、ローラ軸１４Ａ側は回転し、両者の
間に相対移動が生ずるが、電気的接続が維持されるよう
になっている。液展ローラ１２の表面は泥漿が付着され
やすいような表面層で構成されている。

【００２４】この表面層を形成する手段としては、１）
ローラの表面形状を、例えば、網目状、スパイラル縦目
横目等の凹凸形状とする手段、２）ローラ表面を耐熱性
の材料でライニング加工する手段、３）ローラ表面に耐
熱性の濾布等を巻きつける手段等をあるが、泥漿の種類
等により任意の表面層を選定することができる。図１に
は、上記３）の手段による例が示されており、図１の液
展ローラ１２はその下部が断面で示されている。この液
展ローラ１２の軸方向の中間部には両端部よりも小径の
凹部１２Ｃが形成され、この凹部１２Ｃ内へ布材１２Ｄ
が貼り付けられている。この布材１２Ｄの表面を液展ロ
ーラ１２の金属部分よりも若干量だけ外周へ突出させる
寸法とすることにより、布材１２Ｄへの大きな圧縮力付
与を回避しつつ、乾燥ローラ１４へ泥漿を効率良く付着
させることができる。

【００２５】支持枠２４Ａ及び２４Ｂの内側には板状の
ローラ受け枠３４Ａ及び３４Ｂが互に平行に固定され、
乾燥ローラ１４のローラ軸１４Ａ及び液展ローラ１２の
ローラ軸１２Ａがこれらのローラ受け枠３４Ａ及び３４
Ｂを貫通している。ローラ受け枠３４Ａ及び３４Ｂに
は、内周にメネジを有するカラー３５がそれぞれ固着さ
れており、処理槽１６を貫通するボルト３７がカラー３
５へ螺合することにより、ローラ受け枠３４Ａ及び３４
Ｂが処理槽１６へ固着されている。図２に示されるよう
に、これらのボルト３７は、支持枠２４Ａ、２４Ｂの開
口部２４Ｆを各々貫通している。

【００２６】ローラ受け枠３４Ａ、３４Ｂの各両端部は
図３に示されるように、一対の側板３４Ｃ、３４Ｄで互
に連結されて、これらの受け枠３４Ａ、３４Ｂ、側板３
４Ｃ、３４Ｄが全体として平面形状で短形枠状とされて
いる。この側板３４Ｃには開口部３４Ｅが設けられ、側
板３４Ｄには上端に切欠部３４Ｆが形成されている。こ
の切欠部３４Ｆに泥漿処理乾燥物除去部材３６が配置さ
れている。この泥漿処理乾燥物除去部材３６は桶状に形
成され、その上端の底部は乾燥ローラ１４のローラ表面
の軸方向の全域に達するブレード３６Ａとされている。
また、処理槽１６の側面部には、一側面部が開口された
容器収納部材３８が固定されており、この容器収納部材
３８に上端開放容器４０が載置されるようになってい
る。泥漿処理乾燥物除去部材３６の上端部は乾燥ローラ
１４に当接し、泥漿処理乾燥物除去部材３６の下端部は
容器４０内に位置するように配置されている。処理槽１
６の上部は、開口部３４Ｅに対応した送風口４２及びダ
クト４４を備えたカバー４６で覆われている。また、処
理槽１６には泥漿を導入するための泥漿導入口４７が設
けられ、この泥漿導入口４７と図示していない泥漿処理
装置との間に電磁弁等の開閉手段が設けられ、泥漿処理
装置からの泥漿を自動的に導入又は遮断できるようにな
っている。

【００２７】次に本実施の形態の作用を説明する。図１
に示されるように、スプリングコイル３０Ａ及び３０Ｂ
によって支持枠２４Ａ及び２４Ｂが図中、上方へ引き上
げる方向に付勢され、支持枠２４Ａ及び２４Ｂに載置さ
れた液展ローラ１２のローラ軸１２Ａ及び１２Ｂが上方
が引き上げられて乾燥ローラ１４のローラ表面へ液展ロ
ーラ１２のローラ表面が圧着される。乾燥ローラ１４の
ローラ表面に対する液展ローラ１２のローラ表面の圧着
力を微調整する場合、図２に示されるナット２８Ａ及び
ナット２８Ｂを回動させてボルト２６Ａ及び２６Ｂの把
持部を回動させコイルスプリング３０Ａ及び３０Ｂの圧
縮量を微調整する。

【００２８】次に図示していない電源からバンドヒータ
ー１４Ｅに通電され乾燥ローラ１４の内周面が加熱さ
れ、その熱は乾燥ローラ１４の表面に伝達され、ローラ
表面は約１００℃〜２００℃に上昇される。乾燥ローラ
１４のローラ表面が約１００℃に上昇した後、ギャード
モーター１８により乾燥ローラ１４が１〜２ｒｐｍで回
転され、乾燥ローラ１４の回転に伴い、液展ローラ１２
が乾燥ローラ１４に従動して回転する。乾燥ローラ１４
の外径が大きい場合には、１ｒｐｍ以下の回転数であっ
ても良い。

【００２９】一方、家庭用及び業務用の食品製造設備か
ら排出される生ゴミは、泥漿処理装置において、バクテ
リア等の微生物によって分解され、泥漿（スラリー）と
なる。この泥漿は、電磁弁等を介して泥漿導入口４７か
ら処理槽１６に自動的に導入される。このとき、泥漿
は、図３に示されるように泥漿導入口４７とローラ受け
枠３４との間に区画される液受け槽４８の領域に導入さ
れた後、ローラ受け枠３４Ｃの下端部と処理槽１６の底
部との間を通過して処理槽１６内に流入する。したがっ
て、泥漿導入口４７から導入される泥漿の量が急激に変
動しても処理槽１６内の液面の急激な変動は生じにく
い。

【００３０】処理槽１６内に配置された液展ローラ１２
のローラ軸１２Ａ及び１２Ｂは、支持枠２４Ａ及び２４
Ｂに支持された構造であって軸受等の構成部材を要しな
いため、液展ローラ１２のローラ軸１２Ａ及び１２Ｂが
泥漿に接触し軸受等の構成部材に泥漿が付着して液展ロ
ーラ１２が回転不能となることがない。処理槽１６に流
入した泥漿は、液展ローラ１２のローラ表面に形成され
た表面層に容易に含まれ、この泥漿は乾燥ローラ１４の
ローラ表面に展着される。この場合、液展ローラ１２の
両端金属部から突出した布材１２Ｄが乾燥ローラ１４へ
押圧されることにより、液展ローラ１２の乾燥ローラ１
４への圧着力は一定となり、乾燥ローラ１４のローラ表
面に展着される泥漿量も一定となる。

【００３１】また、処理槽１６内の液面が変動しても乾
燥ローラ１４に安定に泥漿を展着させることができる。
すなわち、図３に示されるように、処理槽１６内の液面
が、液展ローラ１２のローラ表面の最下端(液面Ｍｉ
ｎ）よりも上方であって、かつ乾燥ローラ１４のローラ
表面の最下端よりも下方に位置する液面（液面Ｍａｘ）
の間にあれば、処理槽１６内の泥漿は、乾燥ローラ１４
に直接接触することがなく、液展ローラ１２に展着され
た後、乾燥ローラ１４に移行する。これらの操作中、泥
漿の液面が変動し、液展ローラ１２に対する泥漿の付着
量が変動しても、布材１２Ｄを介した液展ローラ１２と
乾燥ローラ１４との圧着力により乾燥ローラ１４には、
常に一定の量が展着される。また、乾燥ローラ１４と液
展ローラ１２とは、ほぼ線接触であるので、乾燥ローラ
１４の熱が液展ローラ１２から逃失することが少なく、
乾燥ローラ１４に展着された泥漿を熱効率よく乾燥する
ことができる。

【００３２】加熱された乾燥ローラ１４のローラ表面に
おいては、液展ローラ１２のローラ表面幅に相当する領
域のみに泥漿が膜状に展着される結果、生乾きの泥漿が
乾燥ローラ１４のローラ表面端部付近に付着したり、汚
染することがない。したがって、乾燥ローラ１４のロー
ラ表面端部付近に付着した泥漿が乾燥ローラ１４の軸受
１６Ａに付着することがないので乾燥ローラ１４の安定
した運転が可能となる。乾燥ローラ１４には液展ローラ
１２を介して常時一定の量が確実に展着される結果、乾
燥ローラ１４のローラ表面には，ステンレス等の泥漿乾
燥処理物を掻き取りやすい材質等を選定することができ
る。乾燥ローラ１４におけるローラ表面の軸方向の全域
に達するブレード３６Ａにより乾燥ローラ１４上の泥漿
乾燥処理物をローラ表面から掻き取るので、確実に掻き
取ることができる。乾燥ローラ１４のローラ表面から掻
き取られた泥漿乾燥処理物は、容器４０内に収納された
ビニル袋５０等により集積された後、所定の場所に搬送
される。

【００３３】なお、ブレード３６Ａを乾燥ローラ１４の
表面から若干量だけ離すことにより、液展ローラ１２か
ら乾燥ローラ１４への泥漿の付着移動効率を向上でき
る。すなわち、乾燥ローラ１４の表面は溝や突起などの
細かな凹凸を設けることにより液展ローラ１２からの泥
漿付着性を向上させることができる。しかし、この凹凸
を設けるほかにも、ブレード３６Ａの先端を乾燥ローラ
１４から若干量だけ離すことにより、乾燥ローラ１４の
表面には常に薄い乾燥泥漿の層が形成され、これによっ
て液展ローラ１２の表面の泥漿が乾燥ローラ１４へ付着
し易くなる。このブレード３６Ａと乾燥ローラ１４との
距離は、好ましくは０．１〜１ｍｍ、さらに好ましくは
０．２〜０．３ｍｍである。また、このブレード３６Ａ
は、泥漿が展着されないローラの両端部分、すなわち液
展ローラ１２の両端から突出している乾燥ローラ１４の
両端部へのみ接触させ中央部には接触させないようにし
ても良い。この場合には、乾燥ローラ１４の軸方向に沿
った方向のブレード３６Ａの中央部を、乾燥ローラ１４
から離す方向に切り欠いてローラとの非接触部を設けて
も良い。これにより、乾燥ローラ１４の軸方向両端部へ
の泥漿のはみ出しを防止できる。

【００３４】本実施の形態では処理槽１６の上部をカバ
ー４６が覆ってあり、送風口４２からの送風またはダク
ト４４からの吸引による送風によってローラ受け枠３４
Ｃの開口部３４Ｅを経て乾燥ローラ１４付近の悪臭をダ
クト４４を介して集め、必要に応じて脱臭処理すること
ができる。したがって、カバー４６は、泥漿処理物が特
に悪臭を呈することがない場合、省略することができ
る。

【００３５】上記の実施の形態においては、乾燥ローラ
１４における加熱手段として乾燥ローラ１４内に設けた
通電ヒーターの例を示したが、通電ヒーターの変わりに
乾燥ローラ１４の外周囲にフードを設け、このフードに
ヒーターを設ける等の他の加熱手段を用いてもよい。ま
た、乾燥ローラ１４に対する液展ローラ１２を圧着させ
る手段としてはコイルスプリング３０Ａ及び３０Ｂによ
る付勢手段の例を示したが、ゴム等の他の弾性部材であ
ってもよい。また、駆動源からの駆動力を乾燥ローラ１
４のみでなく、液展ローラ１２へも強制的に伝達させる
チェン等の駆動力伝達手段を用いてもよい。このような
変形例では液展ローラ１２を乾燥ローラ１４へ圧接させ
る付勢手段を省略しても良いが、乾燥ローラ１４への付
着泥漿量が多くなる傾向にあるので、液展ローラ１２、
乾燥ローラ１４の設置精度を高くして、液展ローラ１２
から乾燥ローラ１４へ泥漿が適切に伝達されるようにす
る必要がある。このためには、下側の液展ローラ１２の
直径を乾燥ローラ１４と同等以上とするのが好ましい。

【００３６】上記乾燥装置１０の他の実施形態を、図４
に基づいて説明する。本実施形態の処理槽５２は、その
断面形状が液展ローラ１２の外周面１２Ｅに略沿うよう
に略Ｕ字状に形成されている。即ち、処理槽５２は、液
展ローラ１２の外周面１２Ｅに沿って近接して囲むよう
に形成されており、そして液展ローラ１２の外径よりも
若干だけ径大となっている。従って、本実施形態の処理
槽５２は、図３に示す処理槽１６よりも泥漿を収容する
容量が小さくなっている。例えば、処理槽５２は、処理
槽１６の容量を「１」とすると、処理槽１６の１０分の
１になるように設定されている。

【００３７】なお、処理槽５２は、その上方が開放され
ていると共に、液展ローラ１２の外周面１２Ｅの軸方向
長さよりも若干だけ長くなるように設定されている。ま
た、処理槽５２は、液展ローラ１２の乾燥ローラ１４側
が常に露出するような高さとなっている。

【００３８】泥漿導入口４７は受け皿５４及び側板３４
Ｃを突き抜けるようにして処理槽５２に連結され、泥漿
は泥漿導入口４７を介して連続的に処理槽５２内へ供給
されるように構成されている。なお、処理槽５２の上方
から溢れ出した泥漿は受け皿５４へ流下し、流下した泥
漿は図示しないドレーンから図示しない泥漿処理装置に
戻したりまたは下水処理場などに流す。

【００３９】また、側板３４Ｄにはその下端部付近に切
欠部３４Ｇが形成されており、この切欠部３４Ｇに泥漿
処理乾燥物除去部材５６が挿通されている。この泥漿処
理乾燥物除去部材５６は、略桶状に形成され、その先端
に乾燥ローラ１４のローラ表面の軸方向の全域に達する
ブレード部５６Ａが形成されている。泥漿処理乾燥物除
去部材５６のブレード部５６Ａは、乾燥ローラ１４を介
して送風口４２の反対側でかつ乾燥ローラ１４の軸心よ
りも下側に位置するように配置されている。なお、その
他の構成は、図３に示す例と同様であるので、説明は省
略する。

【００４０】本実施形態においては、処理槽５２を液展
ローラ１２に近接して囲むように形成することにより、
図３に示す実施形態の処理槽１６に比べ小容量となるの
で、泥漿が処理槽５２内に留まる時間を短くでき、泥漿
の腐れなどの処理槽５２内に対するへばり付きが防止さ
れる。特に、泥漿の乾燥処理中において、泥漿を処理槽
５２へ連続的に供給させることによって処理槽５２内の
泥漿が順次入れ替わると共に、液展ローラ１２で処理槽
５２内の泥漿を常に流動させ続けるので、泥漿の腐れな
どの処理槽５２内に対するへばり付きが防止される。

【００４１】また、本実施形態の処理槽５２は液展ロー
ラ１２に略沿うように円弧状に形成されているので、処
理槽５２にコーナ部がない。従って、本実施形態によれ
ば、泥漿の腐れが付着し易い部分がなくなるので、泥漿
の腐れなどの処理槽５２内に対するへばり付きが防止さ
れる。

【００４２】さらに、泥漿を処理槽へ一括して供給する
ような従来の場合（なお、以下の説明を、図３に基づい
て説明する）には、処理槽１６で乾燥処理する泥漿の最
初（開始直後）と，最後（終了直前）では水分率が異な
る。乾燥処理の開始直後では、泥漿の水分率が高く濃度
が低い状態であるので、泥漿における水分が多い。即
ち、乾燥処理の開始直後では、泥漿がある濃度以上にな
らないと、泥漿を液展ローラ１２の外周面１２Ｅに付着
させることができず、乾燥ローラ１４に付着する泥漿乾
燥処理物の量が少ない。

【００４３】一方、乾燥処理の終了直前では、泥漿の水
分率が低く濃度が非常に高い状態であるので、泥漿にお
ける水分が少ない。即ち、乾燥処理の終了直前では、泥
漿が液展ローラ１２の外周面１２Ｅに大量に付着するの
で、乾燥ローラ１４に付着する泥漿乾燥処理物の量が非
常に多くなり、泥漿乾燥処理物の乾燥が均一とならな
い。従って、泥漿を処理槽へ一括して供給するような従
来の場合には、泥漿乾燥処理物が安定して供給されず、
かつ均一に乾燥した泥漿乾燥処理物を得るのが困難であ
った。

【００４４】そこで、本実施形態では、小容量の処理槽
５２とすることによって液展ローラ１２で処理する液量
が少なくなるので、水分の蒸発などにより濃縮が進み易
く、泥漿の濃度が高くなり、液展ローラ１２に対する泥
漿の付着が良好となる。また、本実施形態では、泥漿を
処理槽５２へ連続的に供給させるように構成したので、
上記動作が連続的に進み、泥漿の濃度が略一定となる。
従って、本実施形態によれば、乾燥ローラ１４に展着さ
れる泥漿量が一定となるので、乾燥ローラ１４に付着す
る泥漿乾燥処理物を安定的に掻き取ることができ、連続
的な乾燥処理操作が安定にかつ効率よく行うことができ
る。

【００４５】さらに、本実施形態においては、泥漿の乾
燥処理中において、泥漿を処理槽５２へ連続的に供給さ
せるように構成したので、図１の実施形態で説明した泥
漿を処理槽５２へ定期的に流し込むための電磁弁などの
開閉手段が不要となる。また、泥漿処理乾燥物除去部材
５６のブレード部５６Ａを送風口４２の反対側でかつ乾
燥ローラ１４の軸心よりも下側に位置するように配置し
たので、図３に示す泥漿処理乾燥物除去部材３６よりも
乾燥する時間（距離）が長くなるので、より確実に乾燥
ローラ１４に付着する泥漿乾燥処理物を乾燥させること
ができる。なお、その他の作用効果は、図３に示す実施
形態と同様であるので、説明は省略する。

【００４６】

【発明の効果】本発明は上記の構成としたので、供給さ
れる泥漿量の変動にかかわらず、熱効率よく安定した運
転によって泥漿処理乾燥物を得ることができる。また、
本発明は、連続的な乾燥処理操作が安定にかつ効率よく
行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態に係る泥漿処理物乾燥
装置を示す縦断面図である。

【図２】図１のＡ−Ａ線断面図である。但し、（）
内符号は支持枠２４Ｂの各部を示している。

【図３】図１のＢ−Ｂ線断面図である。

【図４】本発明に係る他の実施形態に係る泥漿処理物
乾燥装置の断面図である。

【符号の説明】

１０泥漿処理物乾燥装置１２液展ローラ１４乾燥ローラ１６，５２処理槽１６Ａ，１６Ｂ軸受２４Ａ，２４Ｂ支持枠２６Ａ，２６Ｂボルト３０Ａ，３０Ｂコイルスプリング３４ローラ受け枠３６，５６泥漿処理乾燥物除去部材３８容器収納部材４０容器４２送風口４４ダクト４６カバー

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】駆動源に連結された乾燥ローラと、この乾燥ローラ表面を加熱する加熱手段と、該乾燥ローラのローラ表面に接触するローラ表面を有
し、前記乾燥ローラと共に回転する液展ローラと、該液展ローラの表面に泥漿を接触可能に滞留させるため
の処理槽と、を備えたことを特徴とする泥漿処理物乾燥
装置。
【請求項２】前記液展ローラ表面の軸方向長さが前記
乾燥ローラ表面の軸方向長さよりも短くされ、前記両ロ
ーラの接触面の両端部からそれぞれ前記乾燥ローラのロ
ーラ表面が露出されていることを特徴とする請求項１に
記載の泥漿処理物乾燥装置。
【請求項３】前記乾燥ローラの回転軸が、固定された
軸受部材に回転自在に軸支され、前記液展ローラの回転
軸を前記乾燥ローラの回転軸へ接近する方向に付勢させ
る付勢手段を備えたことを特徴とする請求項１または請
求項２に記載の泥漿処理物乾燥装置。
【請求項４】前記付勢手段が、前記液展ローラを支持
する支持枠を備え、該支持枠と前記軸受部材との間に介
在される弾性体を備えていることを特徴とする請求項３
に記載の泥漿処理物乾燥装置。
【請求項５】前記乾燥ローラの表面に当接する泥漿処
理乾燥物除去ブレードを設けたことを特徴とする請求項
１乃至請求項４のいずれかに記載の泥漿処理物乾燥装
置。
【請求項６】前記処理槽を、前記液展ローラに近接し
て囲むように形成することを特徴とする請求項１乃至請
求項５のいずれか１項に記載の泥漿処理物乾燥装置。
【請求項７】前記泥漿の乾燥処理中において、前記泥
漿を前記処理槽へ連続的に供給させることを特徴とする
請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の泥漿処理
物乾燥装置。