JP2001183667A - 液晶表示素子の製造方法 - Google Patents
液晶表示素子の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 スペーサの分散密度を確実に均一にし、また
外力を受けてもスペーサが移動しないようにし、さらに
コントラストを良くし、加えて製造工程数を少なくす
る。 【解決手段】 下ガラス基板１の配向膜５上および上ガ
ラス基板１１の配向膜１６下には紫外線硬化型の透明な
ポジ型レジストからなる柱状のスペーサ１８が形成され
ている。この場合、配向膜５、１６は紫外線照射により
プレティルトが生じる材料によって形成されている。こ
の結果、スペーサ８、１８を形成するための紫外線照射
による露光により、配向膜５、１６にプレティルトを生
じさせることができ、専用の配向処理工程は不要であ
る。
外力を受けてもスペーサが移動しないようにし、さらに
コントラストを良くし、加えて製造工程数を少なくす
る。 【解決手段】 下ガラス基板１の配向膜５上および上ガ
ラス基板１１の配向膜１６下には紫外線硬化型の透明な
ポジ型レジストからなる柱状のスペーサ１８が形成され
ている。この場合、配向膜５、１６は紫外線照射により
プレティルトが生じる材料によって形成されている。こ
の結果、スペーサ８、１８を形成するための紫外線照射
による露光により、配向膜５、１６にプレティルトを生
じさせることができ、専用の配向処理工程は不要であ
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は液晶表示素子の製
造方法に関する。
造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示素子は、一般に、相対向する面
に配向膜が設けられた２枚のガラス基板をシール材を介
して貼り合わせ、シール材の内側における両ガラス基板
の配向膜間に液晶を封入し、かつ両ガラス基板の配向膜
間に一定寸法のシリカガラスや樹脂等の粒子からなるス
ペーサを介在させた構造となっている。この場合、スペ
ーサを介在させるのは、両ガラス基板間の間隔（セルギ
ャップ）を精度良く一定に保ち、液晶の表示特性を均一
とするためである。両ガラス基板の配向膜間にスペーサ
を介在させる方法としては、一方のガラス基板上に設け
られた配向膜の表面にスペーサを乾式法または湿式法に
より散布する方法がある。
に配向膜が設けられた２枚のガラス基板をシール材を介
して貼り合わせ、シール材の内側における両ガラス基板
の配向膜間に液晶を封入し、かつ両ガラス基板の配向膜
間に一定寸法のシリカガラスや樹脂等の粒子からなるス
ペーサを介在させた構造となっている。この場合、スペ
ーサを介在させるのは、両ガラス基板間の間隔（セルギ
ャップ）を精度良く一定に保ち、液晶の表示特性を均一
とするためである。両ガラス基板の配向膜間にスペーサ
を介在させる方法としては、一方のガラス基板上に設け
られた配向膜の表面にスペーサを乾式法または湿式法に
より散布する方法がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
このような液晶表示素子では、スペーサを散布する際に
均一に散布しがたく、このためセルギャップが不均一と
なり、表示品質が低下することがあるという問題があっ
た。また、一方のガラス基板上に設けられた配向膜の表
面にスペーサをただ単に散布しているだけであるので、
ガラス基板に外力が加わったとき、流動性を有する液晶
と共にスペーサが移動してスペーサの分散密度が変化
し、ひいてはセルギャップが不均一となり、表示品質が
低下することがあるという問題があった。さらに、粒状
のスペーサの近辺における液晶の配向が乱れることによ
り、コントラストが低下するという問題もあった。この
発明の課題は、スペーサの分散密度を確実に均一にする
ことができる上、外力を受けてもスペーサが移動しない
ようにすることができ、さらにコントラストを良くする
ことができるようにすることである。
このような液晶表示素子では、スペーサを散布する際に
均一に散布しがたく、このためセルギャップが不均一と
なり、表示品質が低下することがあるという問題があっ
た。また、一方のガラス基板上に設けられた配向膜の表
面にスペーサをただ単に散布しているだけであるので、
ガラス基板に外力が加わったとき、流動性を有する液晶
と共にスペーサが移動してスペーサの分散密度が変化
し、ひいてはセルギャップが不均一となり、表示品質が
低下することがあるという問題があった。さらに、粒状
のスペーサの近辺における液晶の配向が乱れることによ
り、コントラストが低下するという問題もあった。この
発明の課題は、スペーサの分散密度を確実に均一にする
ことができる上、外力を受けてもスペーサが移動しない
ようにすることができ、さらにコントラストを良くする
ことができるようにすることである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】この発明は、２枚の基板
間に液晶を封入してなる液晶表示素子の製造方法におい
て、前記２枚の基板間に介在されるスペーサを紫外線硬
化型のレジストによって形成するようにしたものであ
る。この発明によれば、スペーサを紫外線硬化型のレジ
ストによって形成しているので、スペーサを所定の箇所
に確実に形成することができ、したがってスペーサの分
散密度を確実に均一にすることができ、また外力を受け
てもスペーサが移動しないようにすることができ、さら
にスペーサの近辺における液晶の配向が乱れることもな
く、したがってコントラストを良くすることができる。
この場合、スペーサを紫外線硬化型の透明なポジ型レジ
ストによって形成するとともに、配向膜を紫外線照射に
よりプレティルトが生じる材料によって形成すると、一
度の紫外線照射により、ポジ型レジストを露光すること
ができるとともに、配向膜にプレティルトを生じさせる
ことができ、したがって専用の配向処理工程は不要であ
り、製造工程数を少なくすることができる。
間に液晶を封入してなる液晶表示素子の製造方法におい
て、前記２枚の基板間に介在されるスペーサを紫外線硬
化型のレジストによって形成するようにしたものであ
る。この発明によれば、スペーサを紫外線硬化型のレジ
ストによって形成しているので、スペーサを所定の箇所
に確実に形成することができ、したがってスペーサの分
散密度を確実に均一にすることができ、また外力を受け
てもスペーサが移動しないようにすることができ、さら
にスペーサの近辺における液晶の配向が乱れることもな
く、したがってコントラストを良くすることができる。
この場合、スペーサを紫外線硬化型の透明なポジ型レジ
ストによって形成するとともに、配向膜を紫外線照射に
よりプレティルトが生じる材料によって形成すると、一
度の紫外線照射により、ポジ型レジストを露光すること
ができるとともに、配向膜にプレティルトを生じさせる
ことができ、したがって専用の配向処理工程は不要であ
り、製造工程数を少なくすることができる。
【０００５】
【発明の実施の形態】次に、この発明の一実施形態にお
ける液晶表示素子の製造方法について説明する。この場
合、アクティブマトリクス型の液晶表示素子の製造方法
について説明するが、まず、画素電極を備えた下ガラス
基板側の製造方法について説明する。まず、図１に示す
ように、下ガラス基板１の上面にＩＴＯからなる画素電
極２及びスイッチング素子としての薄膜トランジスタ３
がマトリクス状に設けられ、その上面にオーバーコート
膜４が設けられたものを用意する。
ける液晶表示素子の製造方法について説明する。この場
合、アクティブマトリクス型の液晶表示素子の製造方法
について説明するが、まず、画素電極を備えた下ガラス
基板側の製造方法について説明する。まず、図１に示す
ように、下ガラス基板１の上面にＩＴＯからなる画素電
極２及びスイッチング素子としての薄膜トランジスタ３
がマトリクス状に設けられ、その上面にオーバーコート
膜４が設けられたものを用意する。
【０００６】次に、図２に示すように、オーバーコート
膜４の上面に、紫外線照射によりプレティルトが生じる
材料、例えばポリシロキサン系を塗布して、配向膜５を
形成し、次いで予備乾燥を行う。次に、配向膜５の上面
に、紫外線硬化型の透明なポジ型レジスト層６を形成す
る。次に、薄膜トランジスタ３に対応する部分（もしく
は薄膜トランジスタ３およびその近傍に対応する部分）
を遮光部７ａとされた露光マスク７を用いて紫外線を照
射する。すると、ポジ型レジスト層６のうち薄膜トラン
ジスタ３に対応する部分（スペーサ形成領域）以外の領
域は露光される。また、当該露光領域における配向膜５
に紫外線が照射され、この紫外線が照射された配向膜５
にプレティルトが生じる。
膜４の上面に、紫外線照射によりプレティルトが生じる
材料、例えばポリシロキサン系を塗布して、配向膜５を
形成し、次いで予備乾燥を行う。次に、配向膜５の上面
に、紫外線硬化型の透明なポジ型レジスト層６を形成す
る。次に、薄膜トランジスタ３に対応する部分（もしく
は薄膜トランジスタ３およびその近傍に対応する部分）
を遮光部７ａとされた露光マスク７を用いて紫外線を照
射する。すると、ポジ型レジスト層６のうち薄膜トラン
ジスタ３に対応する部分（スペーサ形成領域）以外の領
域は露光される。また、当該露光領域における配向膜５
に紫外線が照射され、この紫外線が照射された配向膜５
にプレティルトが生じる。
【０００７】次に、ポジ型レジスト層６を現像すると、
図３に示すように、配向膜５の上面において薄膜トラン
ジスタ３に対応する部分に角柱状または円柱状のスペー
サ８が形成される。スペーサ８の高さは、セルギャップ
を４〜５μｍ程度とする場合、その半分で２〜２．５μ
ｍ程度とする。スペーサ８の断面の大きさは、角柱状の
場合一辺を１０〜２０μｍ程度とし、円柱状の場合直径
を１０〜２０μｍ程度とする。
図３に示すように、配向膜５の上面において薄膜トラン
ジスタ３に対応する部分に角柱状または円柱状のスペー
サ８が形成される。スペーサ８の高さは、セルギャップ
を４〜５μｍ程度とする場合、その半分で２〜２．５μ
ｍ程度とする。スペーサ８の断面の大きさは、角柱状の
場合一辺を１０〜２０μｍ程度とし、円柱状の場合直径
を１０〜２０μｍ程度とする。
【０００８】次に、共通電極を備えた上ガラス基板側の
製造方法について説明する。まず、図４に示すように、
上ガラス基板１１の下面に遮光膜１２が格子状に設けら
れ、その下面に赤、緑、青のカラーフィルタ要素１３が
設けられ、その下面にオーバーコート膜１４およびＩＴ
Ｏからなる共通電極１５が設けられたものを用意する。
なお、上ガラス基板１１側を製造する場合、実際には、
上下を１８０°反転して行うが、説明の都合上、図４に
示す状態にて説明する。
製造方法について説明する。まず、図４に示すように、
上ガラス基板１１の下面に遮光膜１２が格子状に設けら
れ、その下面に赤、緑、青のカラーフィルタ要素１３が
設けられ、その下面にオーバーコート膜１４およびＩＴ
Ｏからなる共通電極１５が設けられたものを用意する。
なお、上ガラス基板１１側を製造する場合、実際には、
上下を１８０°反転して行うが、説明の都合上、図４に
示す状態にて説明する。
【０００９】次に、図５に示すように、共通電極１５の
下面に、紫外線照射によりプレティルトが生じる材料、
例えばポリシロキサン系を塗布して、配向膜１６を形成
し、次いで予備乾燥を行う。次に、配向膜１６の下面
に、紫外線硬化型の透明なポジ型レジスト層１７を形成
する。次に、図２に示す場合と同様の露光マスク７を用
いて紫外線を照射する。すると、ポジ型レジスト層１７
のうちスペーサ形成領域以外の領域は露光される。ま
た、当該露光領域における配向膜１６に紫外線が照射さ
れ、この紫外線が照射された配向膜１６にプレティルト
が生じる。
下面に、紫外線照射によりプレティルトが生じる材料、
例えばポリシロキサン系を塗布して、配向膜１６を形成
し、次いで予備乾燥を行う。次に、配向膜１６の下面
に、紫外線硬化型の透明なポジ型レジスト層１７を形成
する。次に、図２に示す場合と同様の露光マスク７を用
いて紫外線を照射する。すると、ポジ型レジスト層１７
のうちスペーサ形成領域以外の領域は露光される。ま
た、当該露光領域における配向膜１６に紫外線が照射さ
れ、この紫外線が照射された配向膜１６にプレティルト
が生じる。
【００１０】次に、ポジ型レジスト層１７を現像する
と、図６に示すように、配向膜１６の下面のスペーサ形
成領域に角柱状または円柱状のスペーサ１８が形成され
る。この場合も、スペーサ１８の高さは、セルギャップ
を４〜５μｍ程度とする場合、その半分で２〜２．５μ
ｍ程度とする。スペーサ８の断面の大きさは、角柱状の
場合一辺を１０〜２０μｍ程度とし、円柱状の場合直径
を１０〜２０μｍ程度とする。
と、図６に示すように、配向膜１６の下面のスペーサ形
成領域に角柱状または円柱状のスペーサ１８が形成され
る。この場合も、スペーサ１８の高さは、セルギャップ
を４〜５μｍ程度とする場合、その半分で２〜２．５μ
ｍ程度とする。スペーサ８の断面の大きさは、角柱状の
場合一辺を１０〜２０μｍ程度とし、円柱状の場合直径
を１０〜２０μｍ程度とする。
【００１１】次に、図７に示すように、下ガラス基板１
と上ガラス基板１１とを図示しないシール材を介して貼
り合わせ、シール材の内側における両ガラス基板１、１
１の配向膜５、１６間に液晶２１を封入する。この状態
では、相対向する両スペーサ８、１８は互いに突き合わ
され、１本の角柱状または円柱状のスペーサとなってい
る。ところで、スペーサ８、１８の断面の大きさは、角
柱状の場合一辺を１０〜２０μｍ程度とし、円柱状の場
合直径を１０〜２０μｍ程度としているので、両ガラス
基板１、１１の貼り合わせの位置ずれが５μｍ程度生じ
ても、相対向する両スペーサ８、１８を互いに突き合わ
せることができる。
と上ガラス基板１１とを図示しないシール材を介して貼
り合わせ、シール材の内側における両ガラス基板１、１
１の配向膜５、１６間に液晶２１を封入する。この状態
では、相対向する両スペーサ８、１８は互いに突き合わ
され、１本の角柱状または円柱状のスペーサとなってい
る。ところで、スペーサ８、１８の断面の大きさは、角
柱状の場合一辺を１０〜２０μｍ程度とし、円柱状の場
合直径を１０〜２０μｍ程度としているので、両ガラス
基板１、１１の貼り合わせの位置ずれが５μｍ程度生じ
ても、相対向する両スペーサ８、１８を互いに突き合わ
せることができる。
【００１２】そして、以上のようにして製造された液晶
表示素子では、スペーサ８、１８を紫外線硬化型のレジ
ストによって形成しているので、スペーサ８、１８を所
定の箇所に確実に形成することができる。この結果、例
えば単位面積当たりのスペーサの配置数を一定にするこ
とができ、したがってスペーサ８、１８の分散密度を確
実に均一にすることができる。また、外力を受けてもス
ペーサ８、１８が移動しないようにすることができる。
以上の結果、液晶の表示特性を均一にすることができ
る。また、スペーサ８、１８を角柱状または円柱状とし
ているので、スペーサ８、１８の近辺における液晶２１
の配向が乱れることもなく、したがってコントラストを
良くすることができる。
表示素子では、スペーサ８、１８を紫外線硬化型のレジ
ストによって形成しているので、スペーサ８、１８を所
定の箇所に確実に形成することができる。この結果、例
えば単位面積当たりのスペーサの配置数を一定にするこ
とができ、したがってスペーサ８、１８の分散密度を確
実に均一にすることができる。また、外力を受けてもス
ペーサ８、１８が移動しないようにすることができる。
以上の結果、液晶の表示特性を均一にすることができ
る。また、スペーサ８、１８を角柱状または円柱状とし
ているので、スペーサ８、１８の近辺における液晶２１
の配向が乱れることもなく、したがってコントラストを
良くすることができる。
【００１３】また、スペーサ８、１８を紫外線硬化型の
透明なポジ型レジストによって形成するとともに、配向
膜５、１６を紫外線照射によりプレティルトが生じる材
料によって形成しているので、一度の紫外線照射によ
り、ポジ型レジスト層６、１７を露光することができる
とともに、配向膜５、１６にプレティルトを生じさせる
ことができる。したがって、専用の配向処理工程は不要
であり、製造工程数を少なくすることができる。
透明なポジ型レジストによって形成するとともに、配向
膜５、１６を紫外線照射によりプレティルトが生じる材
料によって形成しているので、一度の紫外線照射によ
り、ポジ型レジスト層６、１７を露光することができる
とともに、配向膜５、１６にプレティルトを生じさせる
ことができる。したがって、専用の配向処理工程は不要
であり、製造工程数を少なくすることができる。
【００１４】なお、上記実施形態では、スペーサ８、１
８を薄膜トランジスタ３上に柱状に設けた場合について
説明したが、これに限定されるものではない。例えば、
図示していないが、薄膜トランジスタ３に走査信号を供
給するための走査ライン上やデータ信号を供給するため
の信号ライン上にスペーサを柱状または帯状に設けるよ
うにしてもよい。スペーサを帯状とする場合には、スペ
ーサの長さを１００μｍ程度とすると、下ガラス基板１
に形成したスペーサ（高さ２〜２．５μｍ程度）と上ガ
ラス基板１１に形成したスペーサ（高さ２〜２．５μｍ
程度）とが互いに直交するようにすると、両ガラス基板
１、１１の貼り合わせの位置ずれがある程度生じても、
相対向する両スペーサを互いに突き合わせることができ
る。
８を薄膜トランジスタ３上に柱状に設けた場合について
説明したが、これに限定されるものではない。例えば、
図示していないが、薄膜トランジスタ３に走査信号を供
給するための走査ライン上やデータ信号を供給するため
の信号ライン上にスペーサを柱状または帯状に設けるよ
うにしてもよい。スペーサを帯状とする場合には、スペ
ーサの長さを１００μｍ程度とすると、下ガラス基板１
に形成したスペーサ（高さ２〜２．５μｍ程度）と上ガ
ラス基板１１に形成したスペーサ（高さ２〜２．５μｍ
程度）とが互いに直交するようにすると、両ガラス基板
１、１１の貼り合わせの位置ずれがある程度生じても、
相対向する両スペーサを互いに突き合わせることができ
る。
【００１５】また、上記実施形態では、両ガラス基板
１、１１の相対向する面の相対向する位置にスペーサ
８、１８形成した場合について説明したが、これに限ら
ず、下ガラス基板１の上面のみにあるいは上ガラス基板
１１の下面のみに柱状または帯状のスペーサを形成する
ようにしてもよい。この場合、スペーサの高さはセルギ
ャップ（４〜５μｍ程度）と同じ高さとする。
１、１１の相対向する面の相対向する位置にスペーサ
８、１８形成した場合について説明したが、これに限ら
ず、下ガラス基板１の上面のみにあるいは上ガラス基板
１１の下面のみに柱状または帯状のスペーサを形成する
ようにしてもよい。この場合、スペーサの高さはセルギ
ャップ（４〜５μｍ程度）と同じ高さとする。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、スペーサを紫外線硬化型のレジストによって形成し
ているので、スペーサを所定の箇所に確実に形成するこ
とができ、したがってスペーサの分散密度を確実に均一
にすることができ、また外力を受けてもスペーサが移動
しないようにすることができ、ひいては液晶の表示特性
を均一にすることができ、さらにスペーサの近辺におけ
る液晶の配向が乱れることもなく、したがってコントラ
ストを良くすることができる。この場合、スペーサを紫
外線硬化型の透明なポジ型レジストによって形成すると
ともに、配向膜を紫外線照射によりプレティルトが生じ
る材料によって形成すると、一度の紫外線照射により、
ポジ型レジストを露光することができるとともに、配向
膜にプレティルトを生じさせることができ、したがって
専用の配向処理工程は不要であり、製造工程数を少なく
することができる。
ば、スペーサを紫外線硬化型のレジストによって形成し
ているので、スペーサを所定の箇所に確実に形成するこ
とができ、したがってスペーサの分散密度を確実に均一
にすることができ、また外力を受けてもスペーサが移動
しないようにすることができ、ひいては液晶の表示特性
を均一にすることができ、さらにスペーサの近辺におけ
る液晶の配向が乱れることもなく、したがってコントラ
ストを良くすることができる。この場合、スペーサを紫
外線硬化型の透明なポジ型レジストによって形成すると
ともに、配向膜を紫外線照射によりプレティルトが生じ
る材料によって形成すると、一度の紫外線照射により、
ポジ型レジストを露光することができるとともに、配向
膜にプレティルトを生じさせることができ、したがって
専用の配向処理工程は不要であり、製造工程数を少なく
することができる。
【図１】この発明の一実施形態における液晶表示素子の
下ガラスガラス基板側の製造に際し、当初用意したもの
の一部の断面図。
下ガラスガラス基板側の製造に際し、当初用意したもの
の一部の断面図。
【図２】図１に続く製造工程の断面図。
【図３】図２に続く製造工程の断面図。
【図４】同実施形態における液晶表示素子の上ガラスガ
ラス基板側の製造に際し、当初用意したものの一部の断
面図。
ラス基板側の製造に際し、当初用意したものの一部の断
面図。
【図５】図４に続く製造工程の断面図。
【図６】図５に続く製造工程の断面図。
【図７】図３に示す下ガラス基板と図６に示す上ガラス
基板とを貼り合わせ、その間に液晶を封入した状態の断
面図。
基板とを貼り合わせ、その間に液晶を封入した状態の断
面図。
１ 下ガラス基板 ２ 画素電極 ３ 薄膜トランジスタ ５ 配向膜 ６ ポジ型レジスト層 ８ スペーサ １１ 上ガラス基板 １２ 遮光膜 １３ カラーフィルタ要素 １５ 共通電極 １６ 配向膜 １７ ポジ型レジスト層 １８ スペーサ ２１ 液晶
Claims (6)
- 【請求項１】 ２枚の基板間に液晶を封入してなる液晶
表示素子の製造方法において、前記２枚の基板間に介在
されるスペーサを紫外線硬化型のレジストによって形成
することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項２】 請求項１に記載の発明において、前記２
枚の基板の相対向する面に紫外線照射によりプレティル
トが生じる材料からなる配向膜を形成し、各配向膜上に
紫外線硬化型の透明なポジ型レジスト層を形成し、紫外
線を照射して、前記ポジ型レジスト層のうちスペーサ形
成領域以外の領域を露光するとともに、当該露光領域に
おける前記配向膜にプレティルトを生じさせ、次いで前
記ポジ型レジスト層を現像してスペーサを形成すること
を特徴とする液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項３】 請求項２に記載の発明において、前記２
枚の基板の相対向する面の相対向する位置にそれぞれ柱
状のスペーサを形成することを特徴とする液晶表示素子
の製造方法。 - 【請求項４】 請求項２に記載の発明において、前記２
枚の基板の相対向する面にそれぞれ帯状のスペーサを互
いに直交するように形成することを特徴とする液晶表示
素子の製造方法。 - 【請求項５】 請求項１に記載の発明において、前記２
枚の基板のうち一方の基板の他方の基板との対向面に紫
外線照射によりプレティルトが生じる材料からなる配向
膜を形成し、該配向膜上に紫外線硬化型の透明なポジ型
レジスト層を形成し、紫外線を照射して、前記ポジ型レ
ジスト層のうちスペーサ形成領域以外の領域を露光する
とともに、当該露光領域における前記配向膜にプレティ
ルトを生じさせ、次いで前記ポジ型レジスト層を現像し
てスペーサを形成することを特徴とする液晶表示素子の
製造方法。 - 【請求項６】 請求項２〜５のいずれかに記載の発明に
おいて、前記配向膜を形成する材料はポリシロキサン系
であることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36375299A JP2001183667A (ja) | 1999-12-22 | 1999-12-22 | 液晶表示素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36375299A JP2001183667A (ja) | 1999-12-22 | 1999-12-22 | 液晶表示素子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001183667A true JP2001183667A (ja) | 2001-07-06 |
Family
ID=18480109
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36375299A Pending JP2001183667A (ja) | 1999-12-22 | 1999-12-22 | 液晶表示素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001183667A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100817922B1 (ko) * | 2001-12-24 | 2008-03-31 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시소자의 제조방법 |
| KR101005551B1 (ko) * | 2002-12-31 | 2011-01-05 | 엘지디스플레이 주식회사 | 패턴드스페이서를 포함하는 액정패널 및 그 제조방법 |
-
1999
- 1999-12-22 JP JP36375299A patent/JP2001183667A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100817922B1 (ko) * | 2001-12-24 | 2008-03-31 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시소자의 제조방법 |
| KR101005551B1 (ko) * | 2002-12-31 | 2011-01-05 | 엘지디스플레이 주식회사 | 패턴드스페이서를 포함하는 액정패널 및 그 제조방법 |
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