JP2001179924A - Gravure plate-making device - Google Patents

Gravure plate-making device

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JP2001179924A
JP2001179924A JP37488199A JP37488199A JP2001179924A JP 2001179924 A JP2001179924 A JP 2001179924A JP 37488199 A JP37488199 A JP 37488199A JP 37488199 A JP37488199 A JP 37488199A JP 2001179924 A JP2001179924 A JP 2001179924A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To realize a gravure plate-making device, which can execute the extraction of roll data and the exclusion of improper rolls, an all automatic precision polishing ranging from a plate removal polishing to a mirror polishing and with which the formation of cells can be applied through either by etching or by engraving and which can be applied to either to a roll, which is used for the first time and is not necessary to be polished, or to a re-sued roll, which is necessary to be polished. SOLUTION: In the handling area of an industrial robot 1, a roll measuring device 4, a roll taking-out device 5, a laser abrasion film applying device 6, a laser device 7 for abrasion, an engraving machine 8, a polishing machine 9 and a roll stock device 10 are provided. In the roll carrying area of a stacker crane 2, a de-chlomizing device 11, a surface activating device 12, a nickel plating device 13, a copper plating device 14, a chrome plating device 15, an etching device 16 and a stocking device 17. Into a controller 18 which controls the whole system, the programs for plate-making processes are stored so as to input data in response to processes.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本願発明は、ロールデータの
抽出と不適正ロールの除外が行えて、落版研磨から鏡面
研磨まで全自動で精密な研磨が行えるとともに、セルの
形成を食刻による場合と彫刻による場合のいずれにも適
用でき、又、ロール製作後初めて使用するロールであっ
て研磨が必要でなく直ぐにセルの形成工程から入れる被
製版ロールと、脱クロム処理し落版研磨して鏡面研磨ま
での処理工程が必要であるリサイクルロールのいずれに
も全自動製版が適用できる,グラビア製版装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a case where extraction of roll data and exclusion of inappropriate rolls can be performed, and precision polishing can be performed fully automatically from plate drop polishing to mirror polishing, and cell formation is performed by etching. It can be applied to both the engraving and engraving.It is the first roll to be used after the roll is manufactured and does not require polishing. The present invention relates to a gravure plate making apparatus in which fully automatic plate making can be applied to any of recycle rolls requiring a processing step until polishing.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、グラビア製版装置は、セルの形成
を食刻により行う装置メーカー(本願出願人)と彫刻に
より行う装置メーカー(他企業)とで全く別々のコンセ
プトで開発を行ってきており、ディテクトスタンダード
が存在しない。このため、製版を行っている印刷会社及
び製版会社の殆どが、複数の企業の種々の装置をバラバ
ラに備えて、多くの工程がライン化されていない。理由
は、電子彫刻機のメーカーは、メッキ装置や研磨装置の
メーカーではないし、反対に、メッキ装置や研磨装置の
メーカーは電子彫刻機のメーカーでなかったからであ
る。製版工程には、脱クロム処理を行ってから研磨を行
い、次いでメッキを行ってから再び研磨を行い、次いで
クロムメッキを行うという複雑な工程が入る訳である
が、本願出願人のトータルライン装置を除くと、タルラ
イン装置を提供している他のメーカーが存在しなかっ
た。セルの形成を食刻により行う製版ラインについて
も、レーザー技術の進歩から、鏡面研磨−感光膜塗布−
レーザ露光・潜像形成−腐食と進む製版工程に替えて、
鏡面研磨−レーザアブレーション膜塗布−レーザアブレ
ーション・レジスト画像形成−腐食と進む製版工程とす
ることに注目が集まっている。そのメリットは、(1)
現像工程がなくなること、(2)明室での製版が可能に
なること、(3)感光膜の膜厚が1ミクロン変化すると
レーザ露光がオーバー露光になったり、少なかったりす
る微妙な相関関係を排除できること、(4)感光液と現
像液との化学的相関関係を排除できること、両液の相性
が悪いと現像残滓が残ったり、露光部分の輪郭部が現像
で大幅に後退する(溶解する)ことが挙げられる。しか
しながら、レーザアブレーション・レジスト画像形成−
腐食と進む製版工程については、レーザアブレーション
・レジスト画像形成装置が単独機として数台市販される
ようになったが、いずれも実用されておらず、膜塗布装
置と腐食装置とのライン化は全く行われていないのが現
状である。
2. Description of the Related Art Conventionally, a gravure plate making apparatus has been developed with completely different concepts by an apparatus manufacturer (the applicant of the present application) that forms cells by etching and an apparatus manufacturer (another company) that performs engraving. , There is no detect standard. For this reason, most of the printing companies and plate making companies that perform plate making have various devices of a plurality of companies, and many processes are not lined up. The reason is that the manufacturer of the electronic engraving machine is not a manufacturer of the plating apparatus and the polishing apparatus, and conversely, the manufacturer of the plating apparatus and the polishing apparatus is not the manufacturer of the electronic engraving machine. The plate making process involves a complicated process of performing dechroming treatment, polishing, then plating, polishing again, and then performing chromium plating. Except for the above, there was no other manufacturer providing tall line equipment. As for the plate making line where cells are formed by etching, mirror polishing-photosensitive film coating-
Laser exposure and latent image formation-
Attention has been focused on a plate making process in which mirror polishing, laser ablation film coating, laser ablation, resist image formation, and corrosion proceed. The advantages are (1)
The delicate correlation that the development process is eliminated, (2) plate making in a bright room becomes possible, and (3) the laser exposure becomes over-exposed or less when the thickness of the photosensitive film changes by 1 micron. (4) The chemical correlation between the photosensitive solution and the developing solution can be eliminated. If the compatibility of the two solutions is poor, development residues remain, or the contour of the exposed portion is largely retreated (dissolved) by development. It is mentioned. However, laser ablation and resist image formation
Regarding the plate making process that progresses with corrosion, several laser ablation / resist image forming devices have come on the market as stand-alone machines, but none of them have been put into practical use. It has not been done yet.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】製版を行っている印刷
会社及び製版会社の多くは、夕方に20本ないし40本
の被製版ロールを次々に計測して製版の方法とコンテン
ツをコントローラにデータ入力し製版室内にストックし
ておいて、夜間に無人で全自動製版を行うことができる
トータルライン装置の提供を望んでいる。ここでの問題
点は以下の通りである。 (1)感光膜コートしレーザ露光し現像してレジスト画
像を形成し食刻してセルを形成する製版方法に替えて、
ブラックコートしレーザアブレーションしてレジスト画
像を形成し食刻してセルを形成する製版方法の提供を望
んでいる企業もある。そして、ブラックコートしレーザ
アブレーションしてレジスト画像を形成し食刻してセル
を形成する製版方法と、セルの形成を彫刻により行う製
版方法は一長一短があるので、いずれでも自由に選択で
きるトータルライン装置の提供を望んでいる。特に、既
に設備してある電子彫刻機やメッキ装置を加えたトータ
ルライン装置の提供を望んでいる。ブラックコートしレ
ーザアブレーションしてレジスト画像を形成し食刻して
セルを形成する製版方法は、感光膜コートしレーザ露光
し現像してレジスト画像を形成し食刻してセルを形成す
る製版方法と全く同じ特長があり、スクリン線の交点を
切ることができるフリーフローセルが実現できること、
及び文字輪郭部をインキが流れない連続する溝に形成で
きることから、ベタ画像と文字だけの版については、セ
ルの形成を彫刻により行う製版方法よりもセルの形成を
食刻により行う製版方法の方が優れている。又、ハイラ
イト部分のグラデージョンの表現は、セルの形成を食刻
により行う場合にはセルの面積でグラデージョンを表現
し、又、セルの形成を彫刻により行う場合には菱形錐の
セルでグラデージョンを表現する相違があり、ハイライ
ト部分のグラデージョンの表現の精密度は、油性インキ
を使用する場合にはセルの形成を彫刻により行う方が優
れている。上記のようなトータルライン装置が提供され
ると、版のコンテンツによって、セルの形成を食刻によ
り行う場合と、セルの形成を彫刻により行う場合とに分
けて対応することができる。 (2)ロール製作後初めて使用するロールであって鏡面
研磨が完了していて研磨が全く必要でなく直ぐにセルの
形成工程から入れる被製版ロールと、リサイクルロール
であり脱クロム処理から処理工程を開始し落版研磨して
鏡面研磨までの処理工程が必要である被製版ロールのい
ずれにも全自動製版が適用できるようにして欲しいとの
要望がある。そして、その場合にも、セルの形成を食刻
と彫刻のいずれにも適用できるようにして欲しいとの要
望がある。 (3)研磨工程が大幅に短縮できてしかも今までよりも
円筒精度が高く、バフ研磨に依らない鏡面研磨を実現し
て欲しいとの要望がある。従来の脱クロム処理の後の研
磨は、例えば、#320の研磨砥石による補正研磨−#320の
研磨砥石による落版−#500の研磨砥石による円筒研磨−
#800の研磨砥石による円筒研磨が行われていた。又は、
従来の銅メッキの後の研磨は、例えば、#800,#1000,#12
00,#1500,#1800,#2000,#2500,#3000 の各研磨砥石によ
る円筒研磨が行われ、最後にバフによる鏡面研磨が行わ
れていた。 (4)近年の銅メッキ処理においては、光沢剤や硬質化
剤に含まれる硫黄系化合物がニッケルメッキと銅メッキ
の境界膜を形成して銅メッキの付着強度が弱小化してい
るので、ニッケルメッキの上に付ける銅メッキの付着強
度を強力に確保しなければならない問題点がある。従来
の被製版ロールの製作は、鉄製のロール母材に例えば、
#320の研磨砥石で円筒研磨しさらに脱脂処理を行なって
から厚さ2〜3μmとなるようにニッケルメッキを付け
るか、又は、アルミニウム製のロール母材に例えば、#3
20の研磨砥石で円筒研磨してから厚さ2〜3μmとなる
ようにニッケルメッキを付けていた。続いて、例えば厚
さ100μmとなるように銅メッキを付けていた。従来
の銅メッキ方法は、ニッケルメッキを付けた被製版ロー
ルを回転可能に両端チャックしてメッキ浴槽に位置させ
た後、銅メッキ液をメッキ浴槽に入れて約1分かかって
被製版ロールを浸漬し、そして回転を与えてから約15
Vの電圧がかかるようにメッキ電流を流して銅メッキし
ていた。本願発明者は、時間短縮のために、対向する二
つの#320の研磨砥石で被製版ロールを挟んで研磨圧力を
従来よりも大きく加えて研磨する方法で、落版研磨を開
始したところ、銅メッキがあたかもバラードメッキであ
るかのようにニッケルメッキ面より剥がれ落ちてしまっ
た。原因を究明したところ、ニッケルメッキと銅メッキ
との間に剥離性境界膜が形成していることが分かった。
詳述すると、近年、加工性を向上するために、銅メッキ
液の中に光沢剤や硬質化剤を入れてメッキするようにな
り、上記のように、被製版ロールを銅メッキ液を浸漬し
約1分が経過してから回転を与えてメッキ電流を流す
と、ニッケルメッキ面に対して銅メッキが行なわれる前
に、ニッケルメッキ面に対して光沢剤や硬質化剤に含ま
れる硫黄系化合物(例えば、ビス.エス.プロピル.サ
ルフォネイト.ナトリウム〔Bis.S.Propyl.Sulfonate.N
a 〕や二メルカプト.一メチル.イミダゾール〔2Merc
apto1Methyl Imidazole〕)が剥離性境界膜を形成する
ことになることが判明した。
Many printing companies and plate making companies that perform plate making often input 20 to 40 plate making rolls one after another in the evening and input the plate making method and contents to a controller. It is desired to provide a total line device that can be fully automated in the nighttime and can be fully automated in the evening. The problems here are as follows. (1) Instead of a plate making method in which a photosensitive film is coated, laser-exposed and developed to form a resist image and etched to form a cell,
Some companies want to provide a plate making method of forming a cell by forming a resist image by black coating and laser ablation and etching. The plate making method of forming cells by forming and etching a resist image by black coating and laser ablation, and the plate making method of forming cells by engraving have advantages and disadvantages. Wants to offer. In particular, it is desired to provide a total line device including an already-equipped electronic engraving machine and a plating device. The plate making method of forming a cell by forming a resist image by black coating and laser ablation and etching is a plate making method of forming a resist image by forming a resist image by coating a photosensitive film, laser exposing and developing, and forming a cell. It has exactly the same features and can realize a free flow cell that can cut the intersection of screen lines.
In addition, since the outline of the character can be formed in a continuous groove through which ink does not flow, the plate making method in which the cells are formed by engraving rather than the plate making method in which the cells are formed by engraving is used for a plate having only solid images and characters. Is better. The gradation of the highlight portion is expressed by the area of the cell when the cell is formed by etching, and is expressed by a diamond-shaped cone when the cell is formed by engraving. There is a difference in expressing the gradation, and the precision of expressing the gradation in the highlight portion is more excellent when engraving the cells when using oil-based ink. When the total line device as described above is provided, it is possible to separately cope with the case where the cell is formed by etching and the case where the cell is formed by engraving, depending on the contents of the plate. (2) A roll to be used for the first time after the roll is manufactured, the mirror polishing has been completed, and no polishing is required. There is a demand that fully automatic plate making be applied to any plate-making roll that requires a processing step from plate drop polishing to mirror surface polishing. Also in this case, there is a demand that the cell formation be applied to both etching and engraving. (3) There is a demand that the polishing process can be greatly shortened, the cylindrical accuracy is higher than before, and mirror polishing that does not rely on buff polishing is realized. Polishing after the conventional dechroming treatment is, for example, correction polishing with a # 320 polishing wheel-plate removal with a # 320 polishing wheel-cylindrical polishing with a # 500 polishing wheel-
Cylindrical polishing with a # 800 grinding wheel was performed. Or
Polishing after conventional copper plating, for example, # 800, # 1000, # 12
Cylindrical polishing was performed by each of the grinding wheels of 00, # 1500, # 1800, # 2000, # 2500, and # 3000, and finally, mirror polishing by a buff was performed. (4) In recent copper plating treatments, sulfur-based compounds contained in brighteners and hardeners form a boundary film between nickel plating and copper plating and the adhesion strength of copper plating is weakened. There is a problem that it is necessary to strongly secure the adhesion strength of the copper plating applied on the substrate. Conventional plate-making roll production, for example, on an iron roll base material,
After cylindrical polishing with a # 320 grinding wheel and further degreasing, nickel plating is applied to a thickness of 2 to 3 μm, or an aluminum roll base material, for example, # 3
After being cylindrically polished with 20 polishing wheels, nickel plating was applied to a thickness of 2 to 3 μm. Subsequently, copper plating was applied to a thickness of, for example, 100 μm. In the conventional copper plating method, a plate-making roll with nickel plating is rotatably chucked at both ends and positioned in a plating bath, and then a copper plating solution is put into the plating bath and the plate-making roll is immersed in about one minute. About 15 minutes after spinning
Copper plating was performed by applying a plating current so that a voltage of V was applied. In order to reduce the time, the inventor of the present application started the plate drop polishing by a method in which two opposite # 320 polishing grindstones were used to polish the plate-making roll with a polishing pressure larger than before by sandwiching the plate-making roll. The plating peeled off from the nickel-plated surface as if it were ballad plating. After investigating the cause, it was found that a peelable boundary film was formed between the nickel plating and the copper plating.
More specifically, in recent years, in order to improve workability, a brightening agent or a hardening agent has been put into a copper plating solution and plating has been performed. As described above, a plate-making roll is immersed in a copper plating solution. After about one minute has passed, when the plating current is applied by rotating, the sulfur-based compound contained in the brightener or hardener is applied to the nickel-plated surface before copper plating is performed on the nickel-plated surface. (For example, Bis.S.Propyl.Sulfonate.N [Bis.S.Propyl.Sulfonate.N]
a] and two mercapto. Monomethyl. Imidazole [2 Merc
apto1Methyl Imidazole]) was found to form a detachable limiting membrane.

【0004】本願発明は、上述した点に鑑み案出したも
ので、ロールデータの抽出と不適正ロールの除外が行え
て、製版工程の種類を入力すると、落版研磨から鏡面研
磨まで全自動で精密な研磨が行えるとともに、セルの形
成を食刻と彫刻のいずれにも適用でき、又、研磨が不要
な初めて使用するロールと研磨が必要な再使用するロー
ルのいずれにも適用できる,グラビア製版装置に関す
る。
The present invention has been devised in view of the above-mentioned points, and can extract roll data and exclude improper rolls, and when a type of plate making process is input, automatically performs from plate drop polishing to mirror polishing. Precise polishing can be performed, cell formation can be applied to both etching and engraving, and it can be applied to both first-use rolls that do not require polishing and reused rolls that require polishing. Related to the device.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本願発明は、製版室を、
走行型の産業ロボットのハンドリングエリアと、ロール
脱着回転装置を吊り上げて搬送し得るスタッカクレーン
の搬送エリアに分け、産業ロボットのハンドリングエリ
アに、ロール搬入口に位置するロール計測装置と、レー
ザアブレーション膜塗布装置と、アブレーション用レー
ザ装置と、彫刻機と、粗仕上げ研磨と中仕上げ研磨と鏡
面研磨が行なえる複数の研磨ヘッドを有する単一の又は
複数の研磨機と、ロールストック装置を備えるととも
に、スタッカクレーンのロール搬送エリアに、脱クロム
装置と、表面活性化装置と、ニッケルメッキ装置と、銅
メッキ装置と、クロムメッキ装置と、腐食装置と、ロー
ル脱着回転装置をストックするストック装置を配設し、
システム全体を制御するコントローラに、搬入−ロール
計測−脱クロム処理−粗仕上げ砥石による補正研磨−粗
仕上げ研磨による落版−粗仕上げ砥石による表面粗さ微
少化研磨−表面活性化処理−ニッケルメッキ−銅メッキ
−中仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨−精密仕上げ
砥石による鏡面研磨−レーザアブレーション膜塗布−レ
ーザアブレーション・レジスト画像形成−腐食−クロム
メッキ−搬出からなる製版工程(A)と、搬入−ロール
計測−脱クロム処理−粗仕上げ砥石による補正研磨−粗
仕上げ研磨による落版−粗仕上げ砥石による表面粗さ微
少化研磨−表面活性化処理−ニッケルメッキ−銅メッキ
−中仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨−精密仕上げ
砥石による鏡面研磨−画像彫刻−クロムメッキ−搬出か
らなる製版工程(B)と、搬入−ロール計測−レーザア
ブレーション膜塗布−レーザアブレーション・レジスト
画像形成−腐食−クロムメッキ−搬出からなる製版工程
(C)と、搬入−ロール計測−画像彫刻−クロムメッキ
−搬出からなる製版工程(D)、の四種類の製版工程の
プログラムを格納しておいて、最初に、製版室へ搬入す
る被製版ロールをロール計測器に取り付けてロール計測
を行なうように構成され、コントローラへ製版工程
(A)、(B)、(C)、又は(D)の種類別を入力
し、製版工程(A)と製版工程(B)のときは、被製版
ロールの全長、外径、孔径、ロール端から一定ピッチ離
れる毎の外径等のロールデータを抽出してコントローラ
にデータ入力するとともに、不適正データのロールを除
外し、製版工程(C)と製版工程(D)のときは、被製
版ロールの全長、外径、孔径のロールデータを抽出して
コントローラにデータ入力するように構成されているこ
とを特徴とするグラビア製版装置を提供することにあ
る。
According to the present invention, a plate making room is provided.
The handling area of a traveling industrial robot and the transport area of a stacker crane that can lift and transport the roll detachable rotating device are divided into a handling area of the industrial robot, a roll measuring device located at the roll entrance, and a laser ablation film coating. An apparatus, a laser apparatus for ablation, an engraving machine, a single or a plurality of polishing machines having a plurality of polishing heads capable of performing rough finish polishing, intermediate finish polishing, and mirror polishing, and a roll stock device, and a stacker. In the crane's roll transfer area, a stocking device that stocks a dechroming device, a surface activation device, a nickel plating device, a copper plating device, a chromium plating device, a corrosion device, and a roll detaching rotating device is installed. ,
Transfer to the controller that controls the whole system-Roll measurement-Dechrome treatment-Correction polishing by rough finishing stone-Plate drop by rough finishing grinding-Surface roughness miniaturization polishing by rough finishing stone-Surface activation treatment-Nickel plating- Plate-making process (A) consisting of copper plating-polishing of fine surface roughness with semi-finishing wheel-mirror polishing with precision finishing wheel-laser ablation film coating-laser ablation / resist image formation-corrosion-chrome plating-unloading- Roll measurement-Dechrome treatment-Correction polishing with rough finishing wheel-Plate drop by rough finishing grinding-Surface roughness miniaturization polishing with rough finishing wheel-Surface activation treatment-Nickel plating-Copper plating-Surface roughness with medium finishing wheel Miniaturized polishing-Mirror polishing with precision finishing whetstone-Image engraving-Chrome plating-Plate making process consisting of unloading ( ), Loading-roll measurement-laser ablation film coating-laser ablation / resist image formation-corrosion-chrome plating-unloading plate making process (C) and loading-roll measurement-image engraving-chrome plating-unloading plate making process The program for the four types of plate-making processes of step (D) is stored, and first, a plate-making roll to be carried into the plate-making room is attached to a roll measuring device to measure the rolls. Enter the type of step (A), (B), (C), or (D). In the case of the plate making step (A) and the plate making step (B), the length, outer diameter, hole diameter, The roll data such as the outer diameter at every fixed pitch from the roll end is extracted and input to the controller, and the roll of the improper data is excluded, and the roll making process (C) and the roll making process (D) are excluded. It came to provide a gravure engraving apparatus characterized by being configured to data inputted to the controller extracts the entire length of the plate-making roll, the outer diameter, the roll data having a pore size.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】本願発明の実施の形態のグラビア
製版装置を図面を参照して説明する。図1に示すよう
に、製版室をH1とH2の二つに分けて、製版室H1を
走行型の産業ロボット1のハンドリングエリアとし、製
版室をH2をスタッカクレーン2の搬送エリアとする。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A gravure plate making apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. As shown in FIG. 1, the plate making room is divided into two, H1 and H2, and the plate making room H1 is a handling area of the traveling industrial robot 1, and the plate making room is a transfer area of the stacker crane 2 as H2.

【0007】走行型の産業ロボット1は、軌道上を走行
し360度の範囲で往復旋回可能かつ上下方向に揺動か
つアーム軸の周りにひねり回転可能なロボットアーム1
aを有し、該ロボットアーム1aに備えたロボットハンド
1b(例えば特許第2136697号のロボットハン
ド)が被製版ロールRの両端面を挟持するか又は両端の
軸部を支持して他の装置との間で被製版ロールRの受渡
しを行なうハンドリング機能を有している。
A traveling-type industrial robot 1 travels on a track, can reciprocate in a range of 360 degrees, swings up and down, and can twist and rotate around an arm axis.
a, and a robot hand 1b (for example, a robot hand disclosed in Japanese Patent No. 2136697) provided on the robot arm 1a sandwiches both end surfaces of the plate making roll R or supports the shaft portions at both ends to connect with other devices. And a handling function of transferring the plate-making roll R between the rollers.

【0008】スタッカクレーン2は、ロール脱着回転装
置3(例えば特許第1278544号の装置)を吊り上
げて搬送し得るように構成されている。ロール脱着回転
装置3は、スリーブ形の被製版ロールRの両端面の軸孔
を対向一対の円錐チャックコーンにより嵌合挟持しかつ
円錐チャックコーンの外側を防水キャップで密封する
か、又は軸付きの被製版ロールRの両端の軸部を対向一
対のスリーブチャックに受け入れて端面を挟持しかつス
リーブチャックの外側を防水キャップで密封することが
できて、メッキ装置本体等への装着時に被製版ロールR
を回転し得えかつ必要に応じてメッキ電流を流せるよう
に構成されている。
The stacker crane 2 is configured to be able to lift and transport the roll detachable rotating device 3 (for example, the device disclosed in Japanese Patent No. 1278544). The roll attaching / detaching rotary device 3 fits and holds the shaft holes at both end surfaces of the sleeve-shaped plate making roll R with a pair of opposed conical chuck cones and seals the outside of the conical chuck cone with a waterproof cap, or has a shaft. The shaft portions at both ends of the plate-making roll R are received by a pair of opposed sleeve chucks, and the end faces thereof can be clamped, and the outside of the sleeve chuck can be sealed with a waterproof cap.
And a plating current can be supplied as needed.

【0009】製版室H1の産業ロボット1と、製版室H
2のスタッカクレーン2(例えば特許第2539310
号のスタッカクレーン)に吊り上げられて搬送されるロ
ール脱着回転装置3とは、隔壁に設けた開口を通して被
製版ロールRを直接授受できるように構成されている。
The industrial robot 1 in the plate making room H1 and the plate making room H
2 stacker cranes 2 (for example, Japanese Patent No. 2539310).
The roll removing / rotating device 3 which is lifted and conveyed by a stacker crane (No. 3) is configured to be able to directly transfer a plate-making roll R through an opening provided in a partition wall.

【0010】製版室H1の産業ロボット1のハンドリン
グエリアに、ロール搬入口に位置するロール計測装置4
と、ロール搬出口に位置するロール搬出装置5と、レー
ザアブレーション膜塗布装置6と、アブレーション用レ
ーザ装置7と、ダイヤモンドの針で画像データに応じて
深浅を付けて彫り込む電子彫刻機8(ヘリオクリッショ
グラフ、又はバルカス)、#320の粗仕上げ研磨砥石9
a、9bを対向一対に備えるとともに、#1000の中仕上げ
研磨砥石9cと#6000の精密研磨砥石9dを対向一対に備
え、粗仕上げ研磨9a、9bによる落版研磨と補正研磨と
表面粗さ微小化研磨を行うことができ、又、中仕上げ研
磨9cによる表面粗さ微小化研磨を行うことができ、さ
らに鏡面研磨9dによる表面粗さ微小化研磨と鏡面研磨
を行うことができる四ヘッド型の研磨機9と、ロールス
トック装置10を備えている。ロールストック装置10
は、レーザアブレーション膜塗布装置6とアブレーショ
ン用レーザ装置7の上に設けられる。なお、#320の粗仕
上げ研磨砥石9a、9bを対向一対に備える二ヘッド型の
研磨機と、#1000の中仕上げ研磨砥石9cと#6000の精密
研磨砥石9dを対向一対に備える二ヘッド型の研磨機の
二台を備えても良い。産業ロボット1は、被製版ロール
Rの端面を挟持でき、又、これらの装置5〜9は、スリ
ーブ形の被製版ロールRの両端面の軸孔を対向一対の円
錐チャックコーンにより嵌合挟持できるか、又は、軸付
きの被製版ロールRの両端の軸部を対向一対のスリーブ
チャックに受け入れて端面を挟持できて、産業ロボット
1は、これらの装置5〜9との間で被製版ロールRを授
受するように構成されている。ロール計測装置4は、被
製版ロールの全長、外径、孔径、ロールの一端から他端
まで一定ピッチ毎に直径を計測する直径計測を行なう。
ロール搬出装置5は、例えば特開平10−291289
号の装置であり、製版を完了した被製版ロールRの取り
出し時に産業ロボット1が数個ないし十数個備えたパレ
ットに被製版ロールRを載置と、これらパレットを70
〜80度位に傾斜させて、人手により被製版ロールRを
斜めに立てて転がして移動できるように構成されてい
る。レーザアブレーション膜塗布装置6は、レーザアブ
レーションが可能な耐エッチング性被膜を塗布形成する
装置であり、スキャンコート方式の装置とディッピング
方式の装置のいずれでも良い。例えば、可燃性物質(ニ
トロセルロース、やエチレン酢酸ビニル強重合体、不飽
和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アリル樹脂、ポリ
ウレタン樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン、ポリアセタール、テンネンゴム等の何れか一種
又は複数種:75重量%)と酸化剤(硝酸アンモニウムや
塩素酸化合物:10重量%)と光吸収体(カーボンブラッ
ク:15重量%)からなるレーザアブレーションが可能な
耐エッチング性を有する材料を数μmの膜厚となるよう
にロール面に塗布する。アブレーション用レーザ装置7
は、ヤグレーザ又は波長が800nm 前後のレーザ光を放射
する半導体レーザのレーザ光をレーザアブレーション膜
=耐エッチング性の黒色の被膜へ照射して画線部に対応
する部分に照射してそこの被膜をレーザアブレイション
する。すなわち、レーザ光を光吸収体で吸収して熱に変
換し可燃物質を酸化剤の下で瞬間に加熱蒸発させ、もっ
て、エッチングを行なうための銅メッキ面を画線部に対
応するように露出する。研磨機9は、以下の研磨作業を
行う。脱クロム処理の後に粗仕上げ研磨砥石9a、9bに
より落版研磨−補正研磨−表面粗さ微小化研磨を行う。
粗仕上げ研磨砥石9a、9bは、砥石の回転軸の延長線と
被製版ロールの回転軸線の両方を平面方向より見たとき
の交差角が90度であって、砥石の端面の研磨時接触線
が、砥石の端面の中心孔の中心を通る直径線乃至中心孔
を外れない限度の直径線に平行する弦線の範囲内にあっ
て研磨圧力を一定に保ち研磨を行う得るように構成され
ている。そして、直径計測値に基づいて直径の偏差を小
さくする補正研磨を行い、次いで被製版ロールの一端か
ら他端までの移動を繰り返して被製版ロールの刻設され
ているセルを無くす落版研磨を行い、次いで砥石と被製
版ロールの回転方向が一致する側を、砥石の被製版ロー
ルの面長方向に対する移動方向後方側にして研磨する表
面粗さ微少化研磨を行う。又、銅メッキの後に#1000の
中仕上げ研磨砥石9cにより表面粗さ微小化研磨を行
う。中仕上げ研磨砥石9cも、砥石の回転軸の延長線と
被製版ロールの回転軸線の両方を平面方向より見たとき
の交差角が90度であって、砥石の端面の研磨時接触線
が、砥石の端面の中心孔の中心を通る直径線乃至中心孔
を外れない限度の直径線に平行する弦線の範囲内にあっ
て研磨圧力を一定に保ち研磨を行う得るように構成され
ている。そして、砥石と被製版ロールの回転方向が一致
する側を、砥石の被製版ロールの面長方向に対する移動
方向後方側にして研磨する表面粗さ微少化研磨を行う。
続いて、#6000の精密研磨砥石9dにより表面粗さ微小化
研磨と鏡面研磨を行う。精密研磨砥石9dは、砥石の回
転軸の延長線と被製版ロールの回転軸線の両方を平面方
向より見たときの交差角が90度でなく微小角度傾いて
いて、砥石の端面の研磨時接触線が、砥石の端面の中心
孔の中心を通る直径線乃至中心孔を外れない限度の直径
線に平行する弦線の範囲内にあって研磨圧力を一定に保
って被製版ロールの周速と砥石の接触線上の一点におけ
る回転速度とを略一致させて該砥石を被製版ロールの面
長方向に移動しつつ研磨する。製版室H1の産業ロボッ
ト1のハンドリングエリアでは、一の装置が稼働中の時
は、その一の装置に処理される工程まで進んだ被製版ロ
ールRは、ロールストック装置10にストックされる。
In the handling area of the industrial robot 1 in the plate making room H1, a roll measuring device 4 located at a roll carry-in port is provided.
And a roll unloading device 5 located at a roll unloading opening, a laser ablation film coating device 6, an ablation laser device 7, and an electronic engraving machine 8 (Helio) for engraving with a diamond needle according to image data. Crissograph, barcas), # 320 rough finish grinding wheel 9
a and 9b are provided in opposing pairs, and # 1000 semi-finishing polishing wheels 9c and # 6000 precision polishing wheels 9d are provided in opposing pairs. Polishing can be performed, and the surface roughness can be reduced by the semi-finishing polishing 9c, and the surface roughness can be reduced by the mirror polishing 9d and the mirror polishing can be performed. A polishing machine 9 and a roll stock device 10 are provided. Roll stock device 10
Is provided on the laser ablation film coating device 6 and the ablation laser device 7. It should be noted that a two-head type polishing machine having a pair of opposing rough finish polishing wheels 9a and 9b of # 320, and a two-head type polishing machine having a pair of opposing pairs of # 1000 semi-finishing polishing wheels 9c and # 6000 precision polishing wheels 9d are provided. Two polishing machines may be provided. The industrial robot 1 can hold the end face of the plate-making roll R, and these devices 5 to 9 can fit and hold the shaft holes at both end faces of the sleeve-shaped plate-making roll R with a pair of opposed conical chuck cones. Alternatively, the shaft portions at both ends of the plate-making roll R with a shaft can be received by a pair of opposed sleeve chucks to hold the end surface, and the industrial robot 1 can perform the plate-making roll R between these devices 5 to 9. Are configured to be transmitted and received. The roll measuring device 4 measures the total length, outer diameter, hole diameter, and diameter of the plate making roll from one end to the other end of the roll at regular intervals.
The roll unloading device 5 is disclosed in, for example,
The industrial robot 1 places the plate-making rolls R on a pallet provided with several to more than ten when the plate-making rolls R having completed plate-making are taken out.
The plate making roll R is tilted up to about 80 degrees so that the plate making roll R can be manually moved upright and rolled. The laser ablation film coating device 6 is a device for coating and forming an etching resistant film capable of laser ablation, and may be either a scan coat type device or a dipping type device. For example, combustible substances (nitrocellulose, ethylene vinyl acetate strong polymer, unsaturated polyester resin, epoxy resin, allyl resin, polyurethane resin, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyacetal, tennene rubber, etc .: 75 or more) Wt.%), An oxidizing agent (ammonium nitrate or chloric acid compound: 10 wt.%), And a light absorbing material (carbon black: 15 wt.%), Which is laser-ablation-resistant and has a thickness of several micrometers. To the roll surface. Ablation laser device 7
Is to irradiate the laser beam of a yag laser or a semiconductor laser that emits laser light with a wavelength of around 800 nm to the laser ablation film = etching-resistant black film and irradiate the portion corresponding to the image area to irradiate the film there. Perform laser ablation. That is, the laser beam is absorbed by the light absorber, converted into heat, and the combustible material is heated and evaporated instantaneously under an oxidizing agent, so that the copper plating surface for etching is exposed to correspond to the image area. I do. The polishing machine 9 performs the following polishing operation. After the chromium removal treatment, plate finish polishing-correction polishing-surface roughness miniaturization polishing is performed by the rough finish polishing grindstones 9a and 9b.
The rough finish polishing whetstones 9a and 9b have a crossing angle of 90 degrees when both the extension line of the rotation axis of the whetstone and the rotation axis of the plate making roll are viewed from a plane direction, and a contact line at the time of polishing the end face of the whetstone. However, it is configured to be able to perform polishing while maintaining a constant polishing pressure within a range of a chord line parallel to the diameter line passing through the center of the center hole of the end face of the whetstone or the diameter line which does not deviate from the center hole. I have. Then, correction polishing is performed to reduce the deviation of the diameter based on the diameter measurement value, and then movement from one end of the plate-making roll to the other end is repeated to remove the plate engraved on the plate-making roll. Then, the surface roughness miniaturization polishing is performed in such a manner that the side where the rotation direction of the grindstone and the plate making roll coincide with each other is the rear side in the moving direction with respect to the surface length direction of the plate making roll. After the copper plating, the surface is polished to a finer surface roughness with a # 1000 semi-finishing polishing grindstone 9c. The intermediate finish polishing grindstone 9c also has an intersection angle of 90 degrees when both the extension line of the rotation axis of the grindstone and the rotation axis of the plate making roll are viewed from a plane direction, and the contact line at the time of polishing the end face of the grindstone is The polishing is performed while maintaining a constant polishing pressure within a range of a diameter line passing through the center of the center hole of the end face of the whetstone or a chord line parallel to the diameter line to the extent that the center hole is not deviated. Then, the surface roughness miniaturization polishing is performed such that the side where the rotation direction of the grindstone and the rotation of the plate making roll coincide with each other is the rear side in the moving direction with respect to the surface length direction of the plate making roll.
Subsequently, the surface roughness is reduced and the mirror surface is polished by a # 6000 precision polishing grindstone 9d. The precision polishing whetstone 9d has a crossing angle of 90 ° when viewed both from the plane of the extension line of the rotation axis of the whetstone and the rotation axis of the plate-making roll rather than 90 °. The line is within the range of the diameter line passing through the center of the center hole of the end face of the grinding wheel or the chord line parallel to the diameter line of the limit which does not deviate from the center hole, the polishing pressure is kept constant, and the peripheral speed of the plate making roll and The grinding wheel is polished while moving in the direction of the surface length of the plate making roll while making the rotation speed at one point on the contact line of the grinding wheel substantially coincide with each other. In the handling area of the industrial robot 1 in the plate making room H1, when one device is in operation, the plate making roll R, which has progressed to the step of being processed by the one device, is stocked in the roll stock device 10.

【0011】製版室H2のスタッカクレーン2のロール
搬送エリアに、脱クロム装置11と、表面活性化装置1
2と、ニッケルメッキ装置13と、銅メッキ装置14
と、クロムメッキ装置15と、腐食装置16と、ロール
脱着回転装置3をストックするストック装置17を一列
に備えている。表面活性化装置12は、アルカリ液に浸
漬して脱脂し次いで酸性液のシャワーにより酸洗いし次
いで水シャワーにより水洗する。脱クロム装置11は、
図示しない対向一対のチャック装置を備えていて、産業
ロボット1のロボットハンド1bとの間で被製版ロール
Rを授受できる。脱クロム装置11は、被製版ロールR
を塩酸に浸漬してクロムを溶解する。脱クロム装置11
はロール脱着回転装置3を載置することができて、脱ク
ロム装置11に載置されるロール脱着回転装置3は、産
業ロボット1のロボットハンド1bとの間で被製版ロー
ルRの授受できる。このとき、脱クロム装置11に備え
る上記の図示しない対向一対のチャック装置は側方に揺
動して待機するように構成されている。被製版ロールR
をチャックしたロール脱着回転装置3は、スタッカクレ
ーン2により吊り上げられて搬送される。ニッケルメッ
キ装置13は、例えば、厚さ2〜3μmとなるようにニ
ッケルメッキを付ける。被製版ロールをメッキ浴槽に位
置させた後、ニッケルメッキ液をメッキ浴槽に入れて該
メッキ液で被製版ロールを浸漬してから回転を与え15
Vの電圧を加えてメッキする。なお、アルミニウム製の
ロール母材にニッケルメッキを付けるには、前処理とし
て例えば、ジンケート処理を行なって密着性を向上する
インターフェース薄膜を形成するが、リサイクルロール
の落版研磨においてニッケルメッキが露出しないように
研磨を行うものであり、インターフェース薄膜の形成工
程はオフラインとして設備する。銅メッキ装置14は、
例えば、厚さ100μmとなるようにニッケルメッキを
付ける。被製版ロールRを両端チャックしてメッキ浴槽
内に位置させた後、電気焼けが起こらない低電圧(例え
ば1V〜5V)をかけて回転する。そして、メッキ浴槽
の銅メッキ液の液面をゆっくり上げていき、被製版ロー
ルRに銅メッキ液の液面レベルを接触させて全周面に銅
メッキを付ける。被製版ロールRに銅メッキ液が接触す
る瞬間にメッキ電流が流れるので、銅メッキの付着が瞬
間に行なわれ、光沢剤や硬質化剤に含まれる硫黄系化合
物が付着する反応速度が遅いので該硫黄系化合物がニッ
ケルメッキと銅メッキの境界膜を形成することはない。
又、低電圧なので銅メッキが電気焼けしない。その後、
銅メッキ液の液面レベルを上昇していくとともに、電圧
を漸次に上げていき、ロールが完全に浸漬した状態にな
るときにメッキ電圧が15Vになるようにして、銅メッ
キを行なう。この場合、硫黄系化合物は、銅メッキの中
に組み込まれていくが、銅メッキに剥離性を与えること
はない。クロムメッキ装置15は、例えば、厚さ8μm
となるようにクロムメッキを付ける。被製 製版室H2
のスタッカクレーン2のロール搬送エリアでは、一の装
置が稼働中の時は、その一の装置に処理される工程まで
進んだ被製版ロールRは、ロール脱着回転装置3にチャ
ックされたままでストック装置17にストックされる。
[0011] In the roll transport area of the stacker crane 2 in the plate making room H2, a dechroming device 11 and a surface activating device 1 are provided.
2, a nickel plating device 13, and a copper plating device 14
, A chrome plating device 15, a corrosion device 16, and a stocking device 17 for stocking the roll attaching / detaching rotating device 3 in a line. The surface activating device 12 is immersed in an alkaline solution to degrease, then pickled by a shower of an acidic solution, and then washed by a water shower. The dechroming device 11
A pair of opposed chuck devices (not shown) is provided, and the plate making roll R can be exchanged with the robot hand 1b of the industrial robot 1. The dechroming device 11 is provided with a plate roll R
Is immersed in hydrochloric acid to dissolve the chromium. Chromium removal device 11
The roll removing / rotating device 3 mounted on the chromium removing device 11 can transfer the plate-making roll R with the robot hand 1b of the industrial robot 1. At this time, the pair of chuck devices (not shown) provided in the dechroming device 11 are configured to swing sideways and wait. Plate roll R
The roll detaching / rotating device 3 which has been chucked is lifted and transported by the stacker crane 2. The nickel plating apparatus 13 performs nickel plating so as to have a thickness of, for example, 2 to 3 μm. After the plate making roll is positioned in the plating bath, the nickel plating solution is put into the plating bath, the plate making roll is immersed in the plating solution, and then the plate is rotated.
Plating is performed by applying a voltage of V. In addition, in order to apply nickel plating to the aluminum roll base material, for example, a zincate treatment is performed as a pretreatment to form an interface thin film that improves adhesion, but the nickel plating is not exposed in the plate drop polishing of the recycling roll. The polishing is performed as described above, and the interface thin film forming process is set off-line. The copper plating apparatus 14
For example, nickel plating is applied to a thickness of 100 μm. After the plate making roll R is chucked at both ends and positioned in the plating bath, the plate making roll R is rotated by applying a low voltage (for example, 1 V to 5 V) that does not cause electric burning. Then, the level of the copper plating solution in the plating bath is slowly raised, and the level of the copper plating solution is brought into contact with the plate-making roll R to apply copper plating to the entire peripheral surface. Since the plating current flows at the moment when the copper plating solution comes into contact with the plate making roll R, the deposition of copper plating is performed instantaneously, and the reaction speed of the sulfur-based compound contained in the brightener and the hardening agent is low. The sulfur compound does not form a boundary film between nickel plating and copper plating.
Also, since the voltage is low, the copper plating does not burn. afterwards,
As the liquid level of the copper plating solution is increased, the voltage is gradually increased so that the plating voltage becomes 15 V when the roll is completely immersed, and copper plating is performed. In this case, the sulfur compound is incorporated into the copper plating, but does not give the copper plating releasability. The chrome plating device 15 has a thickness of 8 μm, for example.
Chrome plating so that Plate making room H2
In the roll transport area of the stacker crane 2, when one apparatus is in operation, the plate making roll R, which has progressed to the step of being processed by the one apparatus, is kept chucked by the roll attaching / detaching rotary apparatus 3 and the stock apparatus Stocked at 17.

【0012】システム全体を制御するコントローラ18
に、四種類の製版工程(A)、(B)、(C)、(D)
が格納されている。
Controller 18 for controlling the entire system
, Four types of plate making processes (A), (B), (C), (D)
Is stored.

【0013】四種類の製版工程(A)、(B)、
(C)、(D)について、図2を参照して説明する。製
版工程(A)は、搬入−ロール計測−脱クロム処理−粗
仕上げ砥石による補正研磨−粗仕上げ研磨による落版−
粗仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨−表面活性化処
理−ニッケルメッキ−銅メッキ−中仕上げ砥石による表
面粗さ微少化研磨−精密仕上げ砥石による鏡面研磨−レ
ーザアブレーション膜塗布−レーザアブレーション・レ
ジスト画像形成−腐食−クロムメッキ−搬出となる 製版工程(B)は、搬入−ロール計測−脱クロム処理−
粗仕上げ砥石による補正研磨−粗仕上げ研磨による落版
−粗仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨−表面活性化
処理−ニッケルメッキ−銅メッキ−中仕上げ砥石による
表面粗さ微少化研磨−精密仕上げ砥石による鏡面研磨−
画像彫刻−クロムメッキ−搬出となる。製版工程(C)
は、搬入−ロール計測−レーザアブレーション膜塗布−
レーザアブレーション・レジスト画像形成−腐食−クロ
ムメッキ−搬出となる。製版工程(D)は、搬入−ロー
ル計測−画像彫刻−クロムメッキ−搬出となる。
There are four types of plate making processes (A), (B),
(C) and (D) will be described with reference to FIG. The plate making process (A) is carried-in, roll measurement, chromium removal treatment, correction polishing with a rough finish whetstone, plate removal by rough finish polishing,
Surface roughness miniaturization polishing with rough finishing stone-Surface activation treatment-Nickel plating-Copper plating-Surface roughness miniaturization polishing with medium finishing whetstone-Mirror polishing with precision finishing whetstone-Laser ablation film coating-Laser ablation resist image Forming-corrosion-chrome plating-unloading In the plate making process (B), loading-roll measurement-dechroming-
Correction polishing with rough finishing wheel-Plate drop by rough finishing polishing-Surface roughness miniaturization polishing with rough finishing wheel-Surface activation treatment-Nickel plating-Copper plating-Surface roughness miniaturization polishing with medium finishing wheel-Precision finishing wheel Mirror polishing by
Image engraving-chrome plating-carrying out. Plate making process (C)
Is loading, roll measurement, laser ablation film coating,
Laser ablation and resist image formation-corrosion-chrome plating-unloading. In the plate making process (D), carry-in, roll measurement, image engraving, chrome plating, and carry-out are performed.

【0014】製版工程(A)は、被製版ロールRが脱ク
ロム処理し落版研磨して鏡面研磨までの処理工程が必要
であるリサイクルロールであって、セルの形成を食刻に
よる場合にコントローラ18へ入力指定する。製版工程
(B)は、被製版ロールRが脱クロム処理し落版研磨し
て鏡面研磨までの処理工程が必要であるリサイクルロー
ルであって、セルの形成を彫刻による場合にコントロー
ラ18へ入力指定する。製版工程(C)は、被製版ロー
ルRがリサイクルロールではなくロール製作後初めて使
用するロールであり研磨が必要でなく直ぐにセルの形成
工程から入れる被製版ロールであって、セルの形成を食
刻による場合にコントローラ18へ入力指定する。製版
工程(D)は、被製版ロールRがリサイクルロールでは
なくロール製作後初めて使用するロールであり研磨が必
要でなく直ぐにセルの形成工程から入れる被製版ロール
であって、セルの形成を彫刻による場合にコントローラ
18へ入力指定する。
The plate-making process (A) is a recycle roll in which the plate-making roll R needs a processing step from dechroming, plate-drop polishing, and mirror polishing. Input to 18 The plate-making process (B) is a recycle roll in which the plate-making roll R needs a processing step from dechroming, plate drop polishing, and mirror polishing, and when the cell formation is performed by engraving, an input designation to the controller 18 is performed. I do. In the plate making step (C), the plate making roll R is not a recycle roll but a roll to be used for the first time after the roll production, and is a plate making roll that requires no polishing and is immediately inserted from the cell forming step. Is input to the controller 18. The plate-making process (D) is a plate-making roll in which the plate-making roll R is not a recycle roll but a roll used for the first time after the roll is manufactured and polishing is not required, and is immediately started from the cell forming step. In this case, the input is designated to the controller 18.

【0015】製版室へ搬入する被製版ロールは、ハンド
リング装置19の載置板に載せて引き戸を開けて送り込
みロール計測器4に人為的に取り付けてロール計測を行
なうように構成され、上記のように、コントローラ18
へ製版工程(A)、(B)、(C)、又は(D)の種類
別を入力すると、製版工程(A)と製版工程(B)を入
力するときは、被製版ロールの全長、外径、孔径、ロー
ル端から一定ピッチ離れる毎の外径等のロールデータを
抽出してコントローラにデータ入力する。ロール端から
一定ピッチ離れる毎の外径等のロールデータを抽出した
結果、不適正データのロールであるときは、人為的に除
外する。又、製版工程(C)と製版工程(D)を入力す
るときは、被製版ロールの全長、外径、孔径のロールデ
ータを抽出してコントローラにデータ入力するように構
成されている。製版工程(C)と製版工程(D)を入力
するときは、被製版ロールRがリサイクルロールではな
くロール製作後初めて使用するロールであり研磨が必要
でなく直ぐにセルの形成工程から入れる被製版ロールで
あるので、不適正データのロールがないと言う前提にな
っている。
The plate-making roll to be carried into the plate-making room is placed on the mounting plate of the handling device 19, the sliding door is opened, the feeding roll is artificially attached to the roll measuring device 4, and roll measurement is performed. And the controller 18
When the type of the plate making process (A), (B), (C), or (D) is input, when the plate making process (A) and the plate making process (B) are input, the total length of the plate making roll, outside The roll data such as the diameter, the hole diameter, and the outer diameter every time a predetermined pitch is separated from the roll end are extracted and input to the controller. As a result of extracting the roll data such as the outer diameter at every predetermined pitch from the roll end, if the roll is incorrect data roll, it is artificially excluded. Further, when the plate making process (C) and the plate making process (D) are inputted, roll data of the total length, outer diameter and hole diameter of the plate making roll are extracted and inputted to the controller. When inputting the plate making process (C) and the plate making process (D), the plate making roll R is not a recycle roll but a roll used for the first time after the roll is manufactured, and the plate making roll which is not required to be polished and immediately enters from the cell forming step. Therefore, it is assumed that there is no roll of inappropriate data.

【0016】製版室へ被製版ロールRを搬入してロール
計測器4に人為的に取り付ける場合、コントローラ18
に製版工程の種別を入力する場合、不適正データの被製
版ロールRをロール計測器4から取り除く場合、及び製
版工程を全て完了して被製版ロールRをロール搬出装置
5から取り除く場合以外は人為的な作業はない。
When the plate making roll R is loaded into the plate making room and is artificially attached to the roll measuring device 4, the controller 18
Except for the case where the type of the plate making process is input to the machine, the case where the plate making roll R of inappropriate data is removed from the roll measuring device 4 and the case where the plate making process R is completed and the plate making roll R is removed from the roll unloading device 5. There is no typical work.

【0017】[0017]

【発明の効果】以上説明してきたように、本願発明のグ
ラビア製版装置は、以下の効果を有する。 (1)製版室に搬入する際にロールデータの抽出と不適
正ロールの除外が行える。リサイクルロールであって、
セルの形成を食刻による場合は製版工程(A)を、又は
彫刻による場合は製版工程(B)をそれぞれコントロー
ラ18へ入力すると、被製版ロールの全長、外径、孔
径、ロール端から一定ピッチ離れる毎の外径等のロール
データを抽出してコントローラにデータ入力できて、ロ
ール端から一定ピッチ離れる毎の外径についてロールデ
ータを抽出した結果、不適正データのロールであれば人
為的に除外でき、いずれの製版工程(A)、(B)を入
力指定しても、落版研磨から鏡面研磨まで全自動で精密
な研磨を行った後に、食刻又は彫刻によりセルの形成を
行ってクロムメッキできる。リサイクルロールではなく
て、ロール製作後初めて使用するロールであり研磨が必
要でなく直ぐにセルの形成工程から入れる被製版ロール
であって、セルの形成を食刻による場合は製版工程
(C)を、又は彫刻による場合は製版工程(D)をそれ
ぞれコントローラ18へ入力すると、被製版ロールの全
長、外径、孔径をコントローラ18にデータ入力でき
て、いずれの製版工程(C)、(D)を入力指定して
も、研磨を行なわないで食刻又は彫刻によりセルの形成
を行ってクロムメッキできる。 (2)本願発明のグラビア製版装置を設備すれば、夕方
に20本ないし40本の被製版ロールを次々に計測して
製版の方法とコンテンツをコントローラにデータ入力し
て製版室内にストックしておいて、夜間に無人で全自動
製版を行うことができる。セルの形成を食刻により行う
製版方法と、セルの形成を彫刻により行う製版方法のい
ずれでも自由に選択できるトータルライン装置を提供で
きる。 (3)研磨工程が大幅に短縮できてしかも今までよりも
円筒精度が高く、バフ研磨に依らない鏡面研磨を実現で
きる。本願発明のグラビア製版装置に依れば、例えば、
#320と#1000と#6000の三種類の研磨砥石により、補正研
磨−落版−表面粗さ微小化研磨―表面粗さ微小化中仕上
げ研磨−鏡面研磨ができる。 (4)ニッケルメッキの上に付ける銅メッキの付着強度
を強力に確保できる。
As described above, the gravure plate making apparatus of the present invention has the following effects. (1) Roll data can be extracted and improper rolls can be eliminated when the roll is carried into the plate making room. A recycle roll,
The plate making process (A) when the cell is formed by etching or the plate making process (B) when the cell is formed by engraving are input to the controller 18, and the full length, outer diameter, hole diameter, and constant pitch from the roll end of the plate making roll. The roll data such as the outer diameter at each separation can be extracted and input to the controller, and the roll data is extracted for the outer diameter at every constant pitch from the roll end. No matter which plate-making process (A) or (B) is input and specified, after fully automatic and precise polishing from plate drop polishing to mirror surface polishing, cells are formed by etching or engraving to form chromium. Can be plated. It is not a recycle roll, but a roll to be used for the first time after roll production. It is a plate making roll that does not require polishing and is immediately inserted from the cell forming process. If the cell formation is performed by etching, the plate making process (C) Alternatively, in the case of engraving, when the plate making process (D) is input to the controller 18, the total length, outer diameter, and hole diameter of the plate making roll can be input to the controller 18, and any of the plate making processes (C) and (D) can be input. Even if specified, chromium plating can be performed by forming cells by etching or engraving without polishing. (2) If the gravure plate making apparatus of the present invention is installed, 20 to 40 plate making rolls are measured one after another in the evening, and the plate making method and contents are input to the controller and stored in the plate making room. In this way, full automatic plate making can be performed unattended at night. It is possible to provide a total line device that can freely select either a plate making method in which cells are formed by etching or a plate making method in which cells are formed by engraving. (3) The polishing process can be greatly shortened, the cylindrical accuracy is higher than before, and mirror polishing that does not depend on buff polishing can be realized. According to the gravure plate-making apparatus of the present invention, for example,
With three types of grinding wheels # 320, # 1000 and # 6000, it is possible to perform correction polishing, plate dropping, surface roughness miniaturization polishing, surface roughness miniaturization finish polishing, and mirror polishing. (4) The adhesion strength of the copper plating applied on the nickel plating can be strongly secured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】グラビア製版装置の概略平面図FIG. 1 is a schematic plan view of a gravure plate making apparatus.

【図2】グラビア製版方法の工程図FIG. 2 is a process diagram of a gravure plate making method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

H1・・・製版室、H2・・・製版室、1・・・産業ロ
ボット、1a・・・ロボットアーム、1b・・・ロボット
ハンド、2・・・スタッカクレーン、R・・・被製版ロ
ール、3・・・ロール脱着回転装置、4・・・ロール計
測装置、5・・・ロール搬出装置、6・・・レーザアブ
レーション膜塗布装置、7・・・アブレーション用レー
ザ装置、8・・・彫刻機、9・・・研磨機、9a、9b・
・・粗仕上げ研磨砥石、9c・・・中仕上げ研磨砥石、
9d・・・精密研磨砥石、10・・・ロールストック装
置、11・・・脱クロム装置、12・・・表面活性化装
置、13・・・ニッケルメッキ装置、14・・・銅メッ
キ装置、15・・・クロムメッキ装置、16・・・腐食
装置、17・・・ストック装置、18・・・システム全
体を制御するコントローラ、19・・・ハンドリング装
置、
H1: plate making room, H2: plate making room, 1 ... industrial robot, 1a ... robot arm, 1b ... robot hand, 2 ... stacker crane, R ... plate making roll, Reference numeral 3 denotes a roll removing / rotating device, 4 a roll measuring device, 5 a roll unloading device, 6 a laser ablation film coating device, 7 a laser ablation device, and 8 an engraving machine. , 9 ... polishing machine, 9a, 9b
..Rough finish polishing wheels, 9c ... medium finish polishing wheels,
9d: precision polishing whetstone, 10: roll stock device, 11: chromium removal device, 12: surface activation device, 13: nickel plating device, 14: copper plating device, 15 ... Chrome plating device, 16 ... Corrosion device, 17 ... Stock device, 18 ... Controller for controlling the whole system, 19 ... Handling device,

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 製版室を、走行型の産業ロボットのハン
ドリングエリアと、ロール脱着回転装置を吊り上げて搬
送し得るスタッカクレーンの搬送エリアに分け、 産業ロボットのハンドリングエリアに、ロール搬入口に
位置するロール計測装置と、レーザアブレーション膜塗
布装置と、アブレーション用レーザ装置と、彫刻機と、
粗仕上げ研磨と中仕上げ研磨と鏡面研磨が行なえる複数
の研磨ヘッドを有する単一の又は複数の研磨機と、ロー
ルストック装置を備えるとともに、 スタッカクレーンのロール搬送エリアに、脱クロム装置
と、表面活性化装置と、ニッケルメッキ装置と、銅メッ
キ装置と、クロムメッキ装置と、腐食装置と、ロール脱
着回転装置をストックするストック装置を配設し、 システム全体を制御するコントローラに、 搬入−ロール計測−脱クロム処理−粗仕上げ砥石による
補正研磨−粗仕上げ研磨による落版−粗仕上げ砥石によ
る表面粗さ微少化研磨−表面活性化処理−ニッケルメッ
キ−銅メッキ−中仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨
−精密仕上げ砥石による鏡面研磨−レーザアブレーショ
ン膜塗布−レーザアブレーション・レジスト画像形成−
腐食−クロムメッキ−搬出からなる製版工程(A)と、 搬入−ロール計測−脱クロム処理−粗仕上げ砥石による
補正研磨−粗仕上げ研磨による落版−粗仕上げ砥石によ
る表面粗さ微少化研磨−表面活性化処理−ニッケルメッ
キ−銅メッキ−中仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨
−精密仕上げ砥石による鏡面研磨−画像彫刻−クロムメ
ッキ−搬出からなる製版工程(B)と、 搬入−ロール計測−レーザアブレーション膜塗布−レー
ザアブレーション・レジスト画像形成−腐食−クロムメ
ッキ−搬出からなる製版工程(C)と、 搬入−ロール計測−画像彫刻−クロムメッキ−搬出から
なる製版工程(D)、の四種類の製版工程のプログラム
を格納しておいて、 最初に、製版室へ搬入する被製版ロールをロール計測器
に取り付けてロール計測を行なうように構成され、コン
トローラへ製版工程(A)、(B)、(C)、又は
(D)の種類別を入力し、製版工程(A)と製版工程
(B)のときは、被製版ロールの全長、外径、孔径、ロ
ール端から一定ピッチ離れる毎の外径等のロールデータ
を抽出してコントローラにデータ入力するとともに、不
適正データのロールを除外し、製版工程(C)と製版工
程(D)のときは、被製版ロールの全長、外径、孔径の
ロールデータを抽出してコントローラにデータ入力する
ように構成されていることを特徴とするグラビア製版装
置。
1. A plate making room is divided into a handling area for a traveling industrial robot and a transport area for a stacker crane capable of lifting and transporting a roll detachable rotating device, and is located at a roll carry-in port in the handling area of the industrial robot. Roll measuring device, laser ablation film coating device, laser device for ablation, engraving machine,
Equipped with a single or multiple polishing machines having multiple polishing heads capable of performing rough finish polishing, medium finish polishing, and mirror polishing, and a roll stock device, and a roll transport area of a stacker crane, a dechroming device, and a surface. An activation device, a nickel plating device, a copper plating device, a chrome plating device, a corrosion device, and a stock device for stocking a roll removing / rotating device are provided, and a controller for controlling the entire system is provided. -Dechrome treatment-Correction polishing with rough finishing stone-Plate drop by rough finishing grinding-Surface roughness miniaturization polishing with rough finishing wheel-Surface activation treatment-Nickel plating-Copper plating-Surface finishing miniaturization with semi-finishing wheel Polishing-Mirror polishing with precision finishing whetstone-Laser ablation film coating-Laser ablation / resist image formation
Plate making process (A) consisting of corrosion-chrome plating-carry-out, carry-in-roll measurement-chromium removal treatment-correction polishing with rough finish grindstone-plate removal by rough finish grind-surface roughness miniaturization grinding with rough finish grindstone-surface Activation treatment-Nickel plating-Copper plating-Surface roughness miniaturization polishing with medium finishing whetstone-Mirror polishing with precision finishing whetstone-Image engraving-Chrome plating-Plate making process (B) consisting of unloading, Loading-Roll measurement-Laser Four types of plate making process (C) consisting of ablation film coating, laser ablation, resist image formation, corrosion, chrome plating, and unloading, and plate making process (D) consisting of loading, roll measurement, image engraving, chrome plating, and unloading. The program for the plate making process is stored, and the plate making roll to be carried into the plate making room is first attached to the roll measuring device to measure the roll. The type of the plate making process (A), (B), (C) or (D) is input to the controller, and the plate making process (A) and the plate making process (B) Roll data such as the total length, outer diameter, hole diameter, and outer diameter of the roll at every fixed pitch from the roll end are extracted and input to the controller. Rolls with inappropriate data are excluded, and the plate making process (C) and plate making In the step (D), a gravure plate making apparatus characterized in that roll data of the total length, outer diameter and hole diameter of the plate making roll are extracted and input to a controller.
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