JP2001179628A - ラップ液供給装置及びラップ液供給方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 大量のラップ液を消費することなく、低コス
トで、常に一定の処理能力が維持されたラップ液をラッ
プ装置に供給することのできるラップ液供給装置を提供
する。 【解決手段】 ラップ装置１にラップ液を循環供給する
ラップ液供給装置３において、貯留槽５の底部５ａをテ
ーパー状に形成し、底部５ａの下端にラップ液をラップ
装置１に導くラップ液供給通路６を連通する。ラップ液
をラップ装置１から貯留槽５に導くラップ液リターン通
路７を構成するスラッジ捕捉通路７ｂの下流端を貯留槽
５の中心から一側寄りに偏倚させて貯留槽５内に臨ませ
る。スラッジ捕捉通路７ｂの底部に磁性体を吸着するた
めの磁石９を埋設する。スラッジ捕捉通路７ｂに捕捉さ
れたスラッジを適宜掻き出し除去可能なするへら部材１
３と、新たなラップ液を貯留槽５に適宜補充可能な補充
容器１２とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、貯留槽に貯留され
たラップ液をラップ装置に循環供給するラップ液供給装
置及びラップ液供給方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、ハイポイドギヤ等のワークに
は、その仕上げ工程において、ラップ装置によるラップ
処理が施される。ところで、このようなラップ装置に
は、油等にラップ剤（砥粒）が含有されてなるラップ液
が、ラップ液供給装置によって供給される。

【０００３】ラップ液供給装置としては、例えば図７に
示すものが従来より多く採用されている。すなわち、ラ
ップ液供給装置１００は、ラップ液を貯留する貯留槽１
０１と、この貯留槽１０１に貯留されたラップ液をラッ
プ装置１０５に導くラップ液供給通路１０２と、このラ
ップ液供給通路１０２の中途に設けられラップ液をラッ
プ装置１０５に圧送するポンプ１０３と、ラップ装置１
０５で使用されたラップ液を貯留槽１０１に導くラップ
液リターン通路１０４と、を備えて構成されている。

【０００４】このようなラップ液供給装置１００は、複
数のワーク１０６がラップ装置１０５によって順次ラッ
プ処理される間、貯留槽１０１に貯留されたラップ液を
ラップ装置１０５に循環供給する。そして、所定個数の
ワーク１０６に対するラップ処理に用いられた後のラッ
プ液は、回収され廃棄処分される。

【０００５】ここで、一般にラップ液中の砥粒の沈殿を
防ぐため、上記ラップ液供給装置１００では、上記貯留
槽１０１の底面１０１ａを傾斜させ、この傾斜の下流側
にラップ液供給通路１０２の上流側を連通することによ
って、ラップ液中の砥粒が貯留槽１０１に残留すること
を防止している。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ように所定個数のワークに対するラップ処理を行う毎
に、全てのラップ液を廃棄処分して新たなラップ液と交
換することは、大量のラップ液を必要とし、同時に大量
のラップ液を廃棄処分する必要があるため、ラップ処理
における経済性を悪化させる一因となる。

【０００７】また、上述のように貯留槽の底面を傾斜さ
せ、この傾斜の下流側にラップ液供給通路を連通しただ
けの構成では、貯留槽内での沈殿砥粒の残留を確実に防
止することは困難であり、ラップ装置に対するラップ液
の循環供給が繰り返される間に貯留槽内に多量の砥粒が
残留して、ラップ装置に供給されるラップ液中の砥粒の
割合が低下する虞がある。これに対処し、モータ等を備
えたラップ液の撹拌手段を貯留槽に設けて貯留槽内での
砥粒の残留を防止することが考えられるが、このような
撹拌手段を増設することは構造を複雑化し、ラップ液供
給装置のコストを高騰させる要因となる。

【０００８】また、上述のようにラップ液を繰り返し循
環供給して複数のワークにラップ処理を行うと、ラップ
液中に微細な砥粒が発生し、この発生した微細砥粒はラ
ップ処理の妨げとなるため、ラップ液の処理性能が徐々
に低下する。これに対処し、ラップ液の交換サイクルを
短くするとラップ液を多量に消費することとなり、ラッ
プ処理コストを高騰させる要因となる。

【０００９】また、上述のラップ液供給装置は、ラップ
処理によって発生した鉄粉等を除去するための対策が施
されておらず、これらの鉄粉や微細砥粒がラップ液中に
混入されたままの状態でラップ処理を行うと、その処理
能力が著しく低下する虞がある。

【００１０】このように、上述のような従来のラップ液
供給装置およびラップ液供給方法では、ラップ装置に供
給するラップ液を低コストで常に適切な状態にコントロ
ールすることが困難であった。

【００１１】本発明は上記事情に鑑みてなされたもの
で、大量のラップ液を消費することなく、低コストで、
常に一定の処理能力が維持されたラップ液をラップ装置
に供給することのできるラップ液供給装置及びラップ液
供給方法を提供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項１に記載の本発明によるラップ液供給装置
は、ラップ液を貯留する貯留槽と、上記貯留槽に貯留さ
れたラップ液をラップ装置に導くラップ液供給通路と、
上記ラップ装置で使用されたラップ液を上記貯留槽に導
くラップ液リターン通路と、を備え、ラップ液を上記ラ
ップ装置に循環供給するラップ液供給装置において、上
記貯留槽の底部をテーパー状に形成し、この底部の下端
に上記ラップ液供給通路を連通したことを特徴とする。

【００１３】すなわち、上記貯留槽に貯留されたラップ
液を、テーパー状に形成された上記底部に沿って該底部
の下端から上記ラップ液供給通路に吐出することによっ
て、たとえラップ液中の砥粒が沈殿した場合において
も、この沈殿砥粒が上記貯留槽内に残留することを防止
する。

【００１４】また、請求項２に記載の本発明によるラッ
プ液供給装置は、請求項１に記載のラップ液供給装置に
おいて、上記ラップ液リターン通路は、ラップ液中の磁
性体を吸着して捕捉可能なスラッジ捕捉通路を備えたこ
とを特徴とする。

【００１５】すなわち、上記スラッジ捕捉通路によっ
て、上記ラップ装置から排出される磁性体をスラッジと
して吸着し捕捉する。このとき、微細化された砥粒も磁
性体とともにスラッジとして捕捉される。

【００１６】また、請求項３に記載の本発明によるラッ
プ液供給装置は、ラップ液を貯留する貯留槽と、上記貯
留槽に貯留されたラップ液をラップ装置に導くラップ液
供給通路と、上記ラップ装置で使用されたラップ液を上
記貯留槽に導くラップ液リターン通路と、を備え、ラッ
プ液を上記ラップ装置に循環供給するラップ液供給装置
において、上記ラップ液リターン通路は、ラップ液中の
磁性体を吸着して捕捉可能なスラッジ捕捉通路を備えた
ことを特徴とする。

【００１７】すなわち、上記スラッジ捕捉通路によっ
て、上記ラップ装置から排出される磁性体をスラッジと
して吸着し捕捉する。このとき、微細化された砥粒も磁
性体とともにスラッジとして捕捉される。

【００１８】また、請求項４に記載の本発明によるラッ
プ液供給装置は、請求項２または請求項３に記載のラッ
プ液供給装置において、上記スラッジ捕捉通路は、底部
に、ラップ液中の磁性体を吸着可能な磁石を備えたこと
を特徴とする。

【００１９】また、請求項５に記載の本発明によるラッ
プ液供給装置は、請求項２または請求項３に記載のラッ
プ液供給装置において、上記スラッジ捕捉通路は、ラッ
プ液を流通可能な通路本体と、ラップ液中の磁性体を吸
着可能な磁石が設けられた台部と、を備え、上記通路本
体を、上記台部の上部に接離自在に配設したことを特徴
とする。

【００２０】すなわち、上記スラッジ捕捉通路は、上記
通路本体が上記台部に当接さされた際に、上記台部に設
けられた磁石によってラップ液中の磁性体を捕捉する。
一方、上記スラッジ捕捉通路は、上記通路本体が上記台
部から離間された際に、上記通路本体に捕捉されたスラ
ッジを磁場から解放する。

【００２１】また、請求項６に記載の本発明によるラッ
プ液供給装置は、請求項２乃至請求項５の何れかに記載
のラップ液供給装置において、上記スラッジ捕捉通路
は、該スラッジ捕捉通路の傾斜角度を調整可能な角度調
整手段を備えたことを特徴とする。

【００２２】すなわち角度調整手段によってスラッジ捕
捉通路の傾斜角度を変更することにより、該スラッジ捕
捉通路を流れるラップ液の流速を変化させ、磁性体とと
もにスラッジとして捕捉される微細砥粒の最大粒径を変
化させる。

【００２３】また、請求項７に記載の本発明によるラッ
プ液供給装置は、請求項２乃至請求項６の何れかに記載
のラップ液供給装置において、上記スラッジ捕捉通路に
捕捉された磁性体及び微細砥粒を適宜除去可能なスラッ
ジ除去手段を備えたことを特徴とする。

【００２４】すなわち、上記スラッジ除去手段によっ
て、上記スラッジ捕捉通路に捕捉された磁性体及び微細
砥粒を適宜除去する。

【００２５】また、請求項８に記載の本発明によるラッ
プ液供給装置は、請求項１乃至請求項７の何れかに記載
のラップ液供給装置において、上記貯留槽に対して新た
なラップ液を適宜補充可能な補充手段を備えたことを特
徴とする。

【００２６】すなわち、上記補充手段によって、上記貯
留槽に対して新たなラップ液を適宜補充する。

【００２７】また、請求項９に記載の本発明によるラッ
プ液供給装置は、請求項１乃至請求項８の何れかに記載
のラップ液供給装置において、上記ラップ液リターン通
路の下流端を上記貯留槽の上部であって上記貯留槽の一
側寄りに偏倚して臨ませたことを特徴とする。

【００２８】すなわち、上記ラップ液リターン通路から
上記貯留槽に戻されるラップ液によって、貯留槽内に貯
留されているラップ液に渦流を発生させ、ラップ液を撹
拌する。

【００２９】また、請求項１０に記載の本発明によるラ
ップ液供給装置は、請求項１乃至請求項９の何れかに記
載のラップ液供給装置において、上記ラップ液リターン
通路から上記貯留槽に戻されるラップ液を上記貯留槽の
一側寄りに導くガイド手段を、上記ラップ液リターン通
路或いは上記貯留槽のうちの少なくとも何れか一方に設
けたことを特徴とする。

【００３０】すなわち、上記ラップ液リターン通路から
上記貯留槽に戻されるラップ液によって、貯留槽内に貯
留されているラップ液に渦流を発生させ、ラップ液を撹
拌する。

【００３１】また、請求項１１に記載の本発明によるラ
ップ液供給方法は、貯留槽に貯留されたラップ液を上記
貯留槽のテーパー状の底部に沿って該底部の下端からラ
ップ液供給通路に吐出するラップ液吐出手順と、上記ラ
ップ液供給通路に吐出されたラップ液をラップ装置に導
くラップ液供給手順と、上記ラップ装置で使用されたラ
ップ液を上記貯留槽の一側寄りに偏倚させて上記貯留槽
内に導くラップ液リターン手順と、上記ラップ液リター
ン手順の中途で上記ラップ液中に含まれる磁性体を微細
砥粒とともに吸着して捕捉するスラッジ捕捉手順と、を
備え、ラップ液を上記ラップ装置に循環供給することを
特徴とする。

【００３２】また、請求項１２に記載の本発明によるラ
ップ液供給方法は、請求項１１に記載のラップ液供給方
法において、上記スラッジ捕捉手順で捕捉された磁性体
及び微細砥粒を適宜除去するスラッジ除去手順を備えた
ことを特徴とする。

【００３３】また、請求項１３に記載の本発明によるラ
ップ液供給方法は、請求項１１または請求項１２に記載
のラップ液供給方法において、上記貯留槽に対して新た
なラップ液を適宜補充する補充手順を備えたことを特徴
とする。

【００３４】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図１乃至図４は本発明の第１の実
施の形態に係わり、図１はラップ装置及びラップ液供給
装置の概略を示す要部断面側面図、図２は図１の要部断
面上面図、図３はラップ処理時間と砥粒の粒径との関係
を示す図表、図４は貯留槽及びリターン通路の要部を示
す上面図、である。

【００３５】図１，２において符号１は、例えばハイポ
イドギヤ２をワークとしてラップ処理するラップ装置を
示す。このラップ装置１は、ハイポイドギヤ２のドライ
ブギヤ２ａとドリブンギヤ２ｂとを互いに噛合させた状
態で装着可能なラップ室１ａと、これらドライブギヤ２
ａ及びドリブンギヤ２ｂを回動させるギヤ駆動部（図示
せず）とを備えて構成されている。そして、ラップ装置
１は、ラップ液供給装置３（後述する）から供給される
ラップ液を滴下しながら、ギヤ駆動部によってドライブ
ギヤ２ａ及びドリブンギヤ２ｂを回動させることによっ
て、ハイポイドギヤ２のラップ処理を行う。ここで、上
記ラップ液としては、油等に所定の割合でラップ剤（砥
粒）が含有されたものが用いられる。

【００３６】上記ラップ液供給装置３は、ラップ液を貯
留する貯留槽５と、貯留槽５に貯留されたラップ液をラ
ップ装置１に導くラップ液供給通路６と、ラップ装置１
で使用されたラップ液を貯留槽５に導くラップ液リター
ン通路７と、を備えて構成されている。

【００３７】貯留槽５は、所定量のラップ液（例えば８
ｌのラップ液）を貯留可能に形成され、その上面が開口
されているとともに、底部５ａがテーパー状に形成され
ている。

【００３８】この貯留槽５には、テーパー状に形成され
た底部５ａの下端に、ラップ液供給通路６が連通されて
いる。このラップ液供給通路６の下流側は、ラップ室１
ａの内部に配管され、その下流端がハイポイドギヤ２の
上方に臨まされている。また、ラップ液供給通路６の中
途には、ラップ液をラップ装置１側に圧送するためのポ
ンプ８が設けられている。

【００３９】一方、ラップ液リターン通路７は、ドレー
ン通路７ａと、スラッジ捕捉通路７ｂと、を備えて構成
されている。ドレーン通路７ａの上流端は、ラップ室１
ａの底面でラップ室１ａ内部に連通されている。また、
ドレーン通路７ａの下流端はスラッジ捕捉通路７ｂの上
流側上方に臨まされている。

【００４０】スラッジ捕捉通路７ｂは樋状に形成され、
その底部には、ラップ装置１から排出される鉄粉等の磁
性体を吸着するための磁石９が複数埋設されている。ま
た、スラッジ捕捉通路７ｂの下流端は、貯留槽５の上部
であって該貯留槽５の中心から一側寄りに偏倚した位置
に臨まされている（図２参照）。

【００４１】ここで、スラッジ捕捉通路７ｂの下部に
は、該スラッジ捕捉通路７ｂの傾斜角度を調整可能な角
度調整手段としての角度調整機構部１０が設けられてい
る。この角度調整機構部１０は、スラッジ捕捉通路７ｂ
の下流側を軸支する支持部１０ａと、スラッジ捕捉通路
７ｂの上流側の高さ調整を行う高さ調整部１０ｂとを備
えて構成されている。

【００４２】上記支持部１０ａは、スラッジ捕捉通路７
ｂの下流側を例えば貯留タンク５の上部に軸支するもの
で、この支持部１０ａによって、スラッジ捕捉通路７ｂ
は揺動自在に支持されている。

【００４３】また、上記高さ調整部１０ｂは、スラッジ
捕捉通路７ｂの底部に揺動自在に軸支された第１の雄ね
じ部材１０ｃと、この第１の雄ねじ部材１０ｃの下方で
台座１１に揺動自在に軸支され、第１の雄ねじ部材１０
ｃとは逆方向のねじ山が形成された第２の雄ねじ部材１
０ｄと、これら第１，第２の雄ねじ部材１０ｃ，１０ｄ
を連結する連結部材１０ｅと、を備えて構成されてい
る。

【００４４】上記連結部材１０ｅは、互いに所定間隔離
間して連結された一対のナットを備え、各ナットには雄
ねじ部材１０ｃ，１０ｄがそれぞれ螺合されている。

【００４５】そして、作業者が連結部材１０ｅを回動さ
せることにより、スラッジ捕捉通路７ｂ上流側の高さ調
整が行われ、これにより、支持部１０ａを支点としたス
ラッジ捕捉通路７ｂの傾斜角度が調整されるようになっ
ている。

【００４６】ここで、図中符号１２は、新しいラップ液
を貯留槽５に補充するための補充手段としての補充容器
であり、符号１３は、スラッジ捕捉通路７ｂに捕捉され
たスラッジ（磁性体や微細砥粒等）を掻き出し除去する
ためのスラッジ除去手段としてのへら部材である。

【００４７】次に、上記構成によるラップ液供給装置３
の作用について説明する。ポンプ８がＯＮされると、貯
留槽５に貯留されたラップ液は、ラップ液供給通路６を
介してラップ室１ａ内部に導かれ、ハイポイドギヤ２に
供給される。

【００４８】このとき、テーパー状に形成された貯留槽
５の底部５ａ下端からラップ液をラップ液供給通路６に
吐出することにより、たとえ貯留槽５内でラップ液中の
砥粒が沈殿した場合にも、この沈殿砥粒は貯留槽５内に
残留されることなくラップ液とともにラップ液供給通路
６に吐出される。

【００４９】一方、ハイポイドギヤ２に供給され、ハイ
ポイドギヤ２のラップ処理を行った後のラップ液は、ド
レーン通路７ａを介してラップ室１ａの底部から排出さ
れる。そして、このラップ液は、スラッジ捕捉通路７ｂ
を介して貯留槽５に戻される。

【００５０】このとき、ラップ処理によって発生しラッ
プ液とともに排出された鉄粉等の磁性体は、スラッジ捕
捉通路７ｂを通過する際に、磁石９により吸着され、ス
ラッジ捕捉通路７ｂに捕捉される。同時に、ラップ処理
によって摩滅される等して微細化された砥粒は、磁性体
に付着した油分の表面張力等によって磁性体とともにス
ラッジ捕捉通路７ｂに残留する（捕捉される）。

【００５１】ここで、磁性体とともにスラッジ捕捉通路
７ｂで捕捉される砥粒の最大粒径は、角度調整機構部１
０によって可変設定されるものである。すなわち、角度
調整機構部１０によって設定されるスラッジ捕捉通路７
ｂの傾斜角度が小さくなるにしたがって、スラッジ捕捉
通路７ｂを流れるラップ液の流速が弱まり、スラッジ捕
捉通路７ｂで捕捉される微細砥粒の最大粒径は大きくな
る。

【００５２】スラッジ捕捉通路７ｂを通過したラップ液
は、貯留槽５内に流れ込む。このとき、スラッジ捕捉通
路７ｂの下流端が貯留槽５の中心に対して一側寄りに偏
倚されているため、貯留槽５に流れ込むラップ液は、そ
の流速によって貯留槽５内のラップ液に渦流を発生させ
る。そして、この渦流によって貯留槽５内のラップ液は
撹拌され、この撹拌により、ラップ液中に含まれる砥粒
の沈殿が抑制される。

【００５３】ところで、このようなラップ液の循環供給
によって、ラップ装置１が所定個数のハイポイドギヤ２
をラップ処理したとき（ラップ処理を所定時間行ったと
き）、作業者は、補充容器１２にストックされた新しい
ラップ液を貯留槽５に補充する。また、作業者は、スラ
ッジ捕捉通路７ｂで捕捉された磁性体や微細砥粒等のス
ラッジを、へら部材１３によって、適宜掻き出し除去す
る。なお、上記ラップ液の補充作業は、例えばラップ装
置１がハイポイドギヤ２のラップ処理を５０セット行う
毎に行われるもので、このとき補充されるラップ液の量
は、例えば６００ｃｃである。

【００５４】このような実施の形態によれば、貯留槽５
の底部５ａをテーパー状に形成し、この底部５ａの下端
からラップ液供給通路６にラップ液を吐出することによ
り、たとえ貯留槽５内に砥粒が沈殿された場合において
も、この沈殿砥粒をラップ液とともに吐出することがで
きる。従って、簡単な構成で、砥粒が貯留槽５内に残留
することを防止でき、貯留槽５内に砥粒が残留すること
に起因するラップ液中の砥粒の割合の変化を防止するこ
とができる。

【００５５】また、スラッジ捕捉通路７ｂ（ラップ液リ
ターン通路７）の下流端を貯留槽５の中心から一側寄り
に偏倚させることにより、簡単な構成で貯留槽５内に渦
流を発生させてラップ液を撹拌することができる。従っ
て、貯留槽５内で多量の砥粒が沈殿することを防止する
ことができ、貯留槽５内での砥粒の残留防止をより効果
的に行うことができる。

【００５６】また、ラップ処理によって発生した鉄粉等
の磁性体や微細化された砥粒を、スラッジ捕捉通路７ｂ
に埋設された磁石９によって捕捉することにより、ラッ
プ液中に磁性体や微細砥流が混入されることに起因する
ラップ液の処理能力の低下を防止することができる。具
体的には、鉄粉や微細砥粒によってラップ液の粘度が上
昇することに起因するラップ液の処理能力低下や、鉄粉
等の磁性体がラップ液中で腐敗することに起因するラッ
プ液の処理能力低下等を防止できる。

【００５７】このとき、角度調整機構部１０によってス
ラッジ捕捉通路７ｂの傾斜角度を可変設定し、磁性体と
ともにスラッジ捕捉通路７ｂに残留する砥粒の最大粒径
を設定することにより、ラップ装置１に供給するラップ
液中の砥粒の最小粒径を任意に設定することができる。

【００５８】そして、上記各効果に加え、スラッジとし
て除去されたりハイポイドギヤ２に付着する等して目減
りした分のラップ液を所定処理時間毎に新たに補充する
ことにより、ラップ液を常に一定レベルの適切な状態に
維持することができる。

【００５９】すなわち、従来のように、単に所定処理時
間毎にラップ液を全て交換しながらラップ装置へのラッ
プ液供給を行った場合には、ラップ液の使用回数が増加
するにつれて、ラップ液中に混入される鉄粉等の影響に
よりラップ液の処理能力が低下するのみならず、ラップ
液交換前とその後とではラップ液中の砥粒の平均粒径が
大きく変動する（図３中一点鎖線）。これに対し、本実
施の形態によるラップ液供給装置３では、貯留槽５内で
の砥粒の残留を確実に防止するとともにラップ液中の鉄
粉や微細砥粒等を除去することができるので、貯留槽５
内のラップ液を全て交換することなく必要最小限の新た
なラップ液の補充を適宜行うだけで、ラップ液中の砥粒
を常に略一定の平均粒径に維持することができる（図３
中実線）。

【００６０】従って、複数のワークをラップ処理するた
めに必要なラップ液の総量を大幅に低減することができ
るとともに、廃棄されるラップ液の総量をも大幅に低減
することができ、ラップ処理における経済性を良好なも
のとすることができる。

【００６１】また、ラップ液の処理能力を常に略一定の
レベルで維持することができるので、作業者はラップ液
の状態を予測しながらラップ処理時間等を操作する必要
がなく、ワークの加工品質を高いレベルで一定に維持す
ることができる。

【００６２】また、ラップ液中から鉄粉や微細砥粒等を
除去することができるため、ラップ処理後のワーク洗浄
を容易なものとすることができる。

【００６３】また、ラップ装置１に供給するラップ液中
の砥粒の最小粒径を任意に設定することができるので、
ラップ時の作業性を向上することができる。

【００６４】ここで、ラップ液供給装置３は、上述の構
成に加え、図４に示すように、スラッジ捕捉通路７ｂの
下流側／貯留槽５内部に、貯留槽５に戻されるラップ液
を貯留槽５の一側寄りに導くガイド手段としてのガイド
板１５／ガイド板１６を設けてもよく、このガイド板１
５／ガイド板１６を設けることにより、貯留槽５内での
ラップ液の撹拌をより効果的に行うことができる。

【００６５】次に、図５は本発明の第２の実施の形態に
係わり、図５は貯留槽及びリターン通路の要部を示す側
面図である。なお、本実施の形態では、スラッジ捕捉通
路の構成が上述の第１の実施の形態と異なる。その他、
同様な構成については同符号を付して説明を省略する。

【００６６】図５に示すように、スラッジ捕捉通路２０
は、非磁性材（例えばステンレス材）からなりラップ液
を流通可能な通路本体２０ａと、この通路本体２０ａを
支持する台部２０ｂと、を備えて構成されている。

【００６７】上記通路本体２０ａは、樋状に形成され、
その下流端が支持部２１を介して台部２０ｂに揺動自在
に軸支されている。また、上記通路本体２０ａの上流側
には、台座１１に支持されたエアシリンダ２２の可動端
が連結されている。

【００６８】上記台部２０ｂは、通路本体２０ａの底部
と接離自在な面を有する板状部材であって、その下流側
が支持部１０ａによって貯留槽５に揺動自在に軸支され
ている。また、台部２０ｂの上流側は、高さ調整部１０
ｂによって台座１１に支持されている。また、台部２０
ｂには、鉄粉等の磁性体を吸着するための磁石９が複数
埋設されている。

【００６９】そして、通路本体２０ａの底部は、エアシ
リンダ２２の伸縮によって、台部２０ｂに対して接離自
在となっている。すなわち、エアシリンダ２２が伸長さ
れたとき、通路本体２０ａの底部は台部２０ｂから離間
され（図５中一点鎖線参照）、エアシリンダ２２が収縮
されたとき、通路本体２０ａの底部は台部２０ｂに当接
される（図５中実線参照）。

【００７０】次に、このスラッジ捕捉通路２０の作用に
ついて説明すると、ラップ液供給装置３がラップ装置１
にラップ液を循環供給するとき、通路本体２０ａを台部
２０ｂに当接させることにより、スラッジ捕捉通路２０
は、通路本体２０ａを流れるラップ液中のスラッジを吸
着して捕捉する。

【００７１】一方、通路本体２０ａに捕捉されたスラッ
ジを除去する際には、エアシリンダ２２を伸長させるこ
とによって、通路本体２０ａの上流側をリフトアップ
し、台部２０ｂから離間させる。これにより、通路本体
２０ａに捕捉されたスラッジは、台座１１に埋設された
磁石９の磁場から解放される。

【００７２】そして、磁場から解放されたスラッジは、
通路本体２０ａの傾斜に沿って通路本体２０ａの下流側
に滑り落ちる。このとき、作業者は、図示しないスラッ
ジ受け等を通路本体２０ａの下流側に設置することによ
り、スラッジの回収を行う。

【００７３】このような実施の形態によれば、上述の第
１の実施の形態で得られる効果に加え、スラッジ捕捉通
路２０からスラッジを除去する際の作業性を向上するこ
とができるという効果を得ることができる。すなわち、
スラッジ捕捉通路２０からスラッジを除去する際には、
スラッジを磁場から解放することができるので、その作
業性が良好なものとなる。

【００７４】次に、図６は本発明の第３の実施の形態に
係わり、図６は貯留槽及びリターン通路の要部を示す側
面図である。なお、本実施の形態では、スラッジ捕捉通
路の構成が上述の第１の実施の形態と異なる。その他、
同様な構成については同符号を付して説明を省略する。

【００７５】図６に示すように、スラッジ捕捉通路２５
は、非磁性材（例えばステンレス材）からなりラップ液
を流通可能な通路本体２５ａと、この通路本体２５ａを
支持する台部２５ｂと、を備えて構成されている。

【００７６】上記通路本体２５ａは樋状に形成され、こ
の通路本体２５ａの上流端には、円弧状のスラッジ受溝
２５ｃが設けられている。ここで、スラッジ受溝２５ｃ
は、通路本体２５ａの一側側に延設され、この延設され
たスラッジ受溝２５ｃの下方には図示しないスラッジ受
けが配設されている。

【００７７】上記通路本体２５ａの上流端は、支持部２
６を介して台部２５ｂに揺動自在に軸支されている。ま
た、通路本体２０ａの下流側には、台座１１に支持され
たエアシリンダ２２の可動端が連結されている。

【００７８】上記台部２５ｂは、通路本体２５ａの底部
と接離自在な面を有する板状部材であって、その下流側
が支持部１０ａによって貯留槽５に揺動自在に軸支され
ている。また、台部２５ｂの上流側は、高さ調整部１０
ｂによって台座１１に支持されている。また、台部２５
ｂには、鉄粉等の磁性体を吸着するための磁石９が複数
埋設されている。

【００７９】そして、通路本体２５ａの底部は、エアシ
リンダ２２の伸縮によって、台部２５ｂに対して接離自
在となっている。すなわち、エアシリンダ２２が伸長さ
れたとき、通路本体２５ａの底部は台部２５ｂから離間
され（図６中一点鎖線参照）、エアシリンダ２２が収縮
されたとき、通路本体２５ａの底部は台部２５ｂに当接
される（図６中実線参照）。

【００８０】次に、このスラッジ捕捉通路２５の作用に
ついて説明すると、ラップ液供給装置３がラップ装置１
にラップ液を循環供給するとき、通路本体２５ａを台部
２５ｂに当接させることにより、スラッジ捕捉通路２５
は、通路本体２５ａを流れるラップ液中のスラッジを吸
着して捕捉する。

【００８１】一方、通路本体２５ａに捕捉されたスラッ
ジを除去する際には、エアシリンダ２２を伸長させるこ
とによって、通路本体２５ａの下流側をリフトアップ
し、台部２５ｂから離間させる。これにより、通路本体
２５ａに捕捉されたスラッジは、台座１１に埋設された
磁石９の磁場から解放される。

【００８２】磁場から解放されたスラッジは、通路本体
２５ａの傾斜に沿ってスラッジ受溝２５ｃに滑り落ち
る。そして、作業者は、スラッジ受溝２５ｃに集められ
たスラッジをへら部材等によって掻き出し、スラッジ受
けに導くことにより、スラッジの回収を行う。

【００８３】このような実施の形態によれば、上述の第
２の実施の形態で得られる効果に加え、スラッジを通路
本体２５ａの上流側（スラッジ受溝２５ｃ側）に収集す
ることができるので、磁場から解放されたスラッジが貯
留槽５に落下することを防止できるという効果を得るこ
とができる。

【００８４】なお、上述した各実施の形態においては、
ハイポイドギヤ２をワークとしてラップ処理するラップ
装置１にラップ液供給装置３を接続した一例について説
明したが、本発明にはこれに限られるものではない。

【００８５】また、貯留槽５に貯留されるラップ液の
量、ラップ液を補充する量、および、ラップ液の補充サ
イクル等については、上述のものに限られるものではな
く、本ラップ液供給装置が接続されるラップ装置やラッ
プ処理条件などに応じて適宜設定可能なものである。

【００８６】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、大
量のラップ液を消費することなく、低コストで、常に一
定の処理能力が維持されたラップ液をラップ装置に供給
することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１乃至図４は本発明の第１の実施の形態に係
わり、図１はラップ装置及びラップ液供給装置の概略を
示す要部断面側面図

【図２】図１の要部断面上面図

【図３】ラップ処理時間と砥粒の粒径との関係を示す図
表

【図４】貯留槽及びリターン通路の要部を示す上面図

【図５】図５は本発明の第２の実施の形態に係わり、貯
留槽及びリターン通路の要部を示す側面図

【図６】図６は本発明の第３の実施の形態に係わり、貯
留槽及びリターン通路の要部を示す側面図

【図７】従来のラップ装置及びラップ液供給装置の概略
を示す側面図

【符号の説明】

１ … ラップ装置 ２ … ハイポイドギヤ（ワーク） ３ … ラップ液供給装置 ５ … 貯留槽 ５ａ… 底部 ６ … ラップ液供給通路 ７ … ラップ液リターン通路 ７ａ … ドレーン通路 ７ｂ … スラッジ捕捉通路 ９ … 磁石 １０ … 角度調整機構部（角度調整手段） １２ … 補充容器（補充手段） １３ … へら部材 １５ … ガイド板（ガイド手段） １６ … ガイド板（ガイド手段） ２０ … スラッジ捕捉通路 ２０ａ … 通路本体 ２０ｂ … 台部 ２５ … スラッジ捕捉通路 ２５ａ … 通路本体 ２５ｂ … 台部

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ラップ液を貯留する貯留槽と、上記貯留
   槽に貯留されたラップ液をラップ装置に導くラップ液供
   給通路と、上記ラップ装置で使用されたラップ液を上記
   貯留槽に導くラップ液リターン通路と、を備え、ラップ
   液を上記ラップ装置に循環供給するラップ液供給装置に
   おいて、 上記貯留槽の底部をテーパー状に形成し、この底部の下
   端に上記ラップ液供給通路を連通したことを特徴とする
   ラップ液供給装置。
2. 【請求項２】 上記ラップ液リターン通路は、ラップ液
   中の磁性体を吸着して捕捉可能なスラッジ捕捉通路を備
   えたことを特徴とする請求項２に記載のラップ液供給装
   置。
3. 【請求項３】 ラップ液を貯留する貯留槽と、上記貯留
   槽に貯留されたラップ液をラップ装置に導くラップ液供
   給通路と、上記ラップ装置で使用されたラップ液を上記
   貯留槽に導くラップ液リターン通路と、を備え、ラップ
   液を上記ラップ装置に循環供給するラップ液供給装置に
   おいて、 上記ラップ液リターン通路は、ラップ液中の磁性体を吸
   着して捕捉可能なスラッジ捕捉通路を備えたことを特徴
   とするラップ液供給装置。
4. 【請求項４】 上記スラッジ捕捉通路は、底部に、ラッ
   プ液中の磁性体を吸着可能な磁石を備えたことを特徴と
   する請求項２または請求項３に記載のラップ液供給装
   置。
5. 【請求項５】 上記スラッジ捕捉通路は、ラップ液を流
   通可能な通路本体と、ラップ液中の磁性体を吸着可能な
   磁石が設けられた台部と、を備え、 上記通路本体を、上記台部の上部に接離自在に配設した
   ことを特徴とする請求項２または請求項３に記載のラッ
   プ液供給装置。
6. 【請求項６】 上記スラッジ捕捉通路は、該スラッジ捕
   捉通路の傾斜角度を調整可能な角度調整手段を備えたこ
   とを特徴とする請求項２乃至請求項５の何れかに記載の
   ラップ液供給装置。
7. 【請求項７】 上記スラッジ捕捉通路に捕捉された磁性
   体及び微細砥粒を適宜除去可能なスラッジ除去手段を備
   えたことを特徴とする請求項２乃至請求項６の何れかに
   記載のラップ液供給装置。
8. 【請求項８】 上記貯留槽に対して新たなラップ液を適
   宜補充可能な補充手段を備えたことを特徴とする請求項
   １乃至請求項７の何れかに記載のラップ液供給装置。
9. 【請求項９】 上記ラップ液リターン通路の下流端を上
   記貯留槽の上部であって上記貯留槽の一側寄りに偏倚し
   て臨ませたことを特徴とする請求項１乃至請求項８の何
   れかに記載のラップ液供給装置。
10. 【請求項１０】 上記ラップ液リターン通路から上記貯
    留槽に戻されるラップ液を上記貯留槽の一側寄りに導く
    ガイド手段を、上記ラップ液リターン通路或いは上記貯
    留槽のうちの少なくとも何れか一方に設けたことを特徴
    とする請求項１乃至請求項９の何れかに記載のラップ液
    供給装置。
11. 【請求項１１】 貯留槽に貯留されたラップ液を上記貯
    留槽のテーパー状の底部に沿って該底部の下端からラッ
    プ液供給通路に吐出するラップ液吐出手順と、上記ラッ
    プ液供給通路に吐出されたラップ液をラップ装置に導く
    ラップ液供給手順と、上記ラップ装置で使用されたラッ
    プ液を上記貯留槽の一側寄りに偏倚させて上記貯留槽内
    に導くラップ液リターン手順と、上記ラップ液リターン
    手順の中途で上記ラップ液中に含まれる磁性体を微細砥
    粒とともに吸着して捕捉するスラッジ捕捉手順と、を備
    え、ラップ液を上記ラップ装置に循環供給することを特
    徴とするラップ液供給方法。
12. 【請求項１２】 上記スラッジ捕捉手順で捕捉された磁
    性体及び微細砥粒を適宜除去するスラッジ除去手順を備
    えたことを特徴とする請求項１１に記載のラップ液供給
    方法。
13. 【請求項１３】 上記貯留槽に対して新たなラップ液を
    適宜補充する補充手順を備えたことを特徴とする請求項
    １１または請求項１２に記載のラップ液供給方法。