JP2001179154A

JP2001179154A - 染色物および染色対象物の染色処理方法並びに装置

Info

Publication number: JP2001179154A
Application number: JP36711699A
Authority: JP
Inventors: Masamitsu Watanabe; 正光渡辺
Original assignee: Nippon Light Metal Co Ltd
Current assignee: Nippon Light Metal Co Ltd
Priority date: 1999-12-24
Filing date: 1999-12-24
Publication date: 2001-07-03

Abstract

(57)【要約】【課題】染色対象物が治具に引掛る箇所の染色ができ
る。【解決手段】透明基板に形成された回路パターンの全
面を覆うペリクル枠に加工されるアルミニウムを基体と
する染色対象物１０を治具１７に掛けて染色液３６に浸
漬し染色処理を行う染色対象物の染色処理方法におい
て、染色対象物１０を掛けた治具１７を揺動させて染色
処理を行う。さらに、染色液３６に浸漬された染色対象
物１０の周りの染色液を流動させ循環させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、治具に掛けて染色
された染色物および治具に掛け可能に形成された染色対
象物の染色処理方法およびその装置に係り、特に、染色
された染色物であるペリクルの枠体（ペリクル枠ともい
う）およびペリクル枠に加工される染色対象物の染色処
理方法およびその装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】染色対象物の一つとして、たとえば硬質
ガラスなどの透明板の表面に形成された回路配線図（回
路パターン）を覆うペリクルの枠体を挙げることができ
る。すなわち、ペリクルは、回路パターンを露光して半
導体基板に転写する転写装置（ステッパー）に使用さ
れ、透明板の表面に形成されたフォトレジストマスクの
ＩＣやＬＳＩの回路配線図（回路パターン）の原図全面
を覆い、回路配線図に塵が付着しないようにするもので
ある。

【０００３】回路配線図に塵が付着すると転写された配
線図は不鮮明なものとなる。このため、回路配線図に塵
が付着しないように、環状のペリクル枠に透光性のペリ
クル膜を張着したペリクルを回路配線図の原図全面を覆
うように貼着される。

【０００４】ペリクルが貼着されたフォトレジストマス
クは、塵がペリクル膜で遮られ回路配線図に付着するこ
とがない。また、ペリクル膜に塵が付着しても、塵は半
導体基板の上に焦点がぼけて結像され、回路配線図の方
は、原図通りの回路配線図が鮮明に転写される。

【０００５】ペリクル枠は、ペリクル膜が張着されるの
で形状を保持する機能、すなわち、たわみにくく、軽い
ことが求められる。さらに、腐食が発生しにくいことも
必要である。このため枠体を形成する基体の材質とし
て、高強度を有するアルミニウム合金、たとえばＪＩＳ
Ａ７０００系またはＡ６０００系のアルミニウム合金
が使用される。

【０００６】さらに、ペリクル枠は、上記の回路配線図
の転写工程において光源からの光の反射を防ぎ鮮明な転
写配線図を得るために黒色に処理される。すなわち、ペ
リクル枠に加工される染色対象物は、陽極酸化処理が施
された後に、染色するための治具に掛けられて染色液に
浸漬され黒色に染色処理が施される。染色液は、黒色の
染料を溶解した液である。この場合、染色対象物を治具
に掛けて染色処理を行うと、治具に接触している箇所は
染色されずに陽極酸化皮膜が露出する染色欠陥が発生す
る。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】近年、回路配線図にお
ける線幅が益々細くなり、たとえば線幅が０．１〜０．
０１μｍ程度と細線になるにつれて、上記染色欠陥は露
光に際して光の反射が転写配線図を不鮮明にする問題点
が顕在化してきた。また、回路配線図の転写工程におい
ては、転写装置の構成部材に付着している塵を目視ない
し機械検査で検出し取り除くことが行われる。この場
合、前記の陽極酸化皮膜が露出する染色欠陥は、塵と紛
らわしく、しかも近年の塵検査基準の厳しさから小さい
塵まで検出対象とされることとなり、誤認欠陥数が多く
なって作業進捗の妨げとなってきた。

【０００８】本発明は、染色対象物が治具に引掛る箇所
の染色ができることを課題とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記課題は、染色対象物
を染色液中で揺動させながら処理すると、上記の染色欠
陥が解消することを見出して本発明を完成したものであ
る。すなわち、本発明は、染色対象物を掛けた治具を揺
動させて染色処理を行うことを特徴とする。

【００１０】染色対象物を掛けた治具を染色液中で揺動
させると、染色対象物の治具に支持された箇所より下の
部分は、揺動の移動方向と反対の方向に傾斜する。した
がって、いままで治具に接触していた染色対象物の箇所
が治具から離れ、この箇所に染色液が供給される。揺動
の移動方向が反転すると、染色対象物は反転した揺動の
移動方向と反対の方向に傾斜する。したがって、いまま
で接触していた染色対象物の箇所が治具から離れ、この
箇所に染色液が供給される。このようにして、治具を揺
動させることにより、染色対象物の傾斜方向は交互に変
わり、傾斜方向が変わる度に治具に接触する箇所が変わ
る。したがって、染色対象物の引掛り箇所には染色液が
供給されるので、その箇所の陽極酸化皮膜の露出が無く
なる。

【００１１】上記治具を染色液中で揺動させる場合の治
具の染色対象物が掛る箇所の数は、染色対象物に対して
治具が上下動の場合は少なくとも１箇所の支点を設けれ
ば良い。これは治具の上下動によって染色対象物が治具
から離れるからである。染色対象物に対して治具が水平
動の場合には、染色対象物の接触部が曲率を有する形状
のときに、この接触部に治具が１箇所で接触していれば
良い。これは治具が水平揺動すると染色対象物の下部が
水平揺動の方向と反対方向に交互に傾斜すると同時に治
具の支持する点が移動するからである。

【００１２】しかしながら、上記何れかの染色対象物に
おいて、染色対象物を治具に掛けたときに、染色対象物
は揺動の方向の少なくとも２箇所の位置で治具に掛かる
とさらに良い。すなわち、このようにすると、治具の揺
動により、染色液の抵抗を受け染色対象物の下部が揺動
の方向と反対方向に傾斜し、染色対象物と治具との間に
隙間ができる。さらに、揺動の方向を変えると、染色対
象物の下部は、これまでと反対方向に傾斜し、染色対象
物と治具との間の今まで接していた側に隙間ができる。
このように、揺動方向を変えることにより染色対象物と
治具との接触位置が交互に治具から離れ、そこに染色液
が供給されるので、染色対象物の治具に引掛る箇所が染
色され、陽極酸化皮膜の露出が無くなる。この染色対象
物の揺動方向に２箇所の位置で治具に掛ける場合は、染
色対象物の形状から生ずる曲がり部分（曲率を有するコ
ーナー部分）と治具の厚さ部分を利用することができ
る。もちろん治具の支点形状は断面がＶ字状、Ｕ字状な
どに工夫加工したものでも良い。

【００１３】すなわち、本発明は、ペリクルの枠体に加
工されるアルミニウムを基体とする染色対象物と治具と
を相対的に接離させながら染色処理を行うことを特徴と
する。このようにすることにより、ペリクルの枠体に加
工される染色対象物と治具とが接離するので、染色対象
物と治具とが離れたときに隙間ができる。この隙間に染
色液が供給され、染色対象物と治具との接離する箇所が
染色されて陽極酸化皮膜の露出が無くなる。

【００１４】また、染色液に浸漬された染色対象物の周
りの染色液を流動させ循環させると良い。染色対象物の
周りの染色液を流動させ循環させると、染色剤が消費さ
れた染色液に代って染色剤の消費されていない濃度の高
い染色液が供給され、染色対象物の治具に引掛る箇所の
染色が促進される。さらに、染色液を流動させると染色
対象物は治具に接触する位置を中心に傾斜し易くなるの
で、傾斜することにより何れかの接触箇所が治具から離
れ、この離れた箇所に染色液が供給され染色が促進され
る。

【００１５】また、本発明は、染色液を保持する保持槽
と、染色対象物が掛け可能に形成された溝を有する治具
と、この治具を保持槽の染色液中で揺動させる手段とを
備えること特徴とする。

【００１６】治具の溝に染色対象物を掛け、保持槽の染
色液に浸漬して治具を染色液中で揺動させることによ
り、染色対象物は治具に対して傾斜し、染色対象物の治
具に掛けられた位置近傍に染色液が供給され染色され
る。この場合、染色対象物を浸漬する保持槽の染色液の
上部染色液を吸い込み保持槽の下部に供給する循環手段
を備えると良い。こうすると、染色対象物と治具との接
触箇所に染色液の流動が形成されるので、染色液が供給
され染色が促進される。また、染色液の流動を強くする
と染色対象物が液中で浮遊し、治具に対して該染色対象
物が接離を繰り返し、治具の支持位置の染色が促進され
る。

【００１７】上記いずれかの発明において、染色対象物
の材質であるアルミニウムは、純アルミニウムやアルミ
ニウム合金を意味するものとする。特に、枠体に加工さ
れる染色対象物の場合は、高強度のアルミニウム合金が
使用される。さらに、染色対象物の表面には、染色処理
される前に陽極酸化皮膜が形成されたものである。染色
処理においては陽極酸化皮膜の微細な穴（ポア）に染色
剤が侵入し染色される。染色後、封孔処理（たとえば６
０〜１００℃の湯水に２０分間程度浸漬）して染色剤を
陽極酸化皮膜のポア中にとじ込める。

【００１８】染色対象物の形状は、枠状、環状、リング
状などの形状をした、いわゆる閉断面部材や、これらの
一部が開口したＣ字形、コの字形などの形状のいわゆる
開断面部材を含む。さらに、染色対象物を正面からみて
円形、矩形、その他の形状が利用できる。また、染色対
象物自体の断面は、特に限定されないが、円形や矩形な
どが適用されるが、これらに限定されることはない。

【００１９】染色対象物を治具に支持する方法として
は、染色対象物が環状で閉断面部材の場合は、中央の中
空部の縁を利用して治具に形成された溝、たとえばＶ字
状、Ｕ字状などの溝に掛けると良い。染色対象物が開口
を持つ開断面部材の場合は、開断面の内側の縁を治具の
上記溝に掛けると良い。

【００２０】揺動の方向は、揺動前に接触していた箇所
が治具から離れ、かつ染色対象物が治具から外れなけれ
ば特に限定されない。たとえば治具を水平方向に揺動さ
せ、あるいは上下方向に揺動させるが、染色対象物同士
が揺動によって接触しない方向に揺動させる。また、染
色対象物を液流で浮遊させ治具と接離させることもでき
る。この場合、治具を静止させておいても染色対象物と
治具を接離させながら染色処理することができる。いず
れにしろ染色対象物と治具とを相対的に接離させながら
染色する方法である。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る染色物、染色
対象物の染色処理方法および装置の実施の形態を図面に
基づいて詳細に説明する。なお、図１〜7において、同
一または同等部分には同一符号を付けて示す。

【００２２】図７は、透明基板とペリクルを示し、
（Ａ）は透明基板にペリクルを貼着装備した状態の断面
図、（Ｂ）はペリクルの断面図、（Ｃ）はペリクルの平
面図、である。

【００２３】図７（Ａ）に示すように、透明基板である
硬質ガラス１３面に作図されたＩＣやＬＳＩなどの回路
配線図（回路パターン）１５が形成されたフォトレジス
トマスク１２は、図示していない転写装置（ステッパ
ー）に装備され、回路配線図１５を露光して図示してい
ない半導体基板に回路パターンを転写する。この場合、
回路配線図１５に塵が付着して転写された配線図が不鮮
明となることを防止するため光学機器部品であるペリク
ル３が貼着される。ペリクル３は、透光性のペリクル膜
９を染色物であるペリクル枠（枠体）５に張着したもの
で、回路配線図の原図全面をカバーするようにフォトレ
ジストマスク１２に貼着される。ペリクル枠の大きさ
は、フォトレジストマスク１２の大きさに対応してい
る。

【００２４】図７（Ｂ）に示すように、ペリクル枠５を
フォトレジストマスク１２に貼着装備する際は、ペリク
ル枠５に、前もって張られた貼着剤保護膜７を剥がして
貼着剤８の付いたペリクル枠５を、図７（Ａ）に示す硬
質ガラス１３面に貼着する。このようにペリクル枠５が
貼着された回路配線図面は、塵がペリクル膜９で遮られ
付着することがない。また、ペリクル膜９に塵が付着し
たとしても、塵はレンズを通過した外部光源からの光に
より焦点がぼけて結像されないから、半導体基板面上に
結像される像は、原図通りの回路配線図が転写される。

【００２５】このようなペリクル枠５は、ペリクル膜９
が張着される関係上、形状を保持する機能が求められ、
高強度を有するＪＩＳＡ７０００系アルミニウム合
金、たとえば７０１５、７０７５、７１５０などが使用
される。特に、上記の回路配線図の転写工程においては
光源からの光の反射を防ぎ鮮明な転写配線図を得るため
に、アルミニウム合金からなる染色対象物に黒色の染色
処理が施される。

【００２６】図１は、本発明の染色対象物の染色処理方
法を実施するための装置の概略縦断面図である。図２
は、図１の平面図である。本染色対象物の染色処理装置
は、染色液３６を保持する保持槽３３と、染色対象物１
０が掛け可能に形成された溝２４を有する治具１７と、
この治具１７を保持槽３３の染色液３６中で揺動させる
揺動装置（揺動させる手段）３７とを備える。さらに、
染色対象物１０を浸漬する保持槽３３の染色液の上部染
色液３６ａを吸い込み保持槽３３内の染色対象物の下方
に供給する循環装置（循環手段）４８を備える。

【００２７】保持槽３３は、仕切り３４を有し、治具１
７を浸漬する浸漬室３３ａと、オーバーフロー室３３ｂ
に仕切られる。浸漬室３３ａの上部染色液３６ａが仕切
り３４の上端を越えてオーバーフローし、オーバーフロ
ー室３３ｂに流入するように形成される。

【００２８】揺動装置３７は、保持槽３３の上部に設け
られ、片持ち支持台３５に設置された駆動機４１と、こ
の駆動機４１によって水平方向に往復直線移動をさせら
れ揺動する揺動ロッド４３と、この揺動ロッド４３に固
定され治具１７が係止される揺動金具４５とを有する。
揺動ロッド４３および揺動金具４５は、治具の歯形板１
９の長手方向に直交する方向である揺動の方向３８（図
２）に揺動する。

【００２９】循環装置４８は、オーバーフロー室３３ｂ
の染色液を吸込管４９を介して吸い込むポンプ５０と、
このポンプ５０から吐出管５１を介して染色液が供給さ
れ、ろ過するフィルター５２とを有する。さらに、フィ
ルター５２でろ過された染色液は、供給管５３、バルブ
５４を経て浸漬室３３ａの底近傍に設けられた噴出管５
６に供給される。噴出管５６は、治具１７の下方両側に
位置するように２箇所設けられる。噴出管５６には噴出
孔５７（図２）が上向きに複数設けられる。噴出管５６
やその噴出孔５７の数は保持槽３３の大きさに応じて適
宜の数とする。

【００３０】図３は、本装置で使用する治具の正面図で
ある。治具１７は、染色対象物を掛ける歯形板１９と、
この歯形板１９を固定する固定板２６と、固定板２６の
端に固定された側板２７を有する。固定板２６、側板２
７は、ステンレスで形成される。側板２７には、下方向
きにＬ字状の係止金具２８が設けられる。さらに、取手
２９が固定される。歯形板１９と固定板２６とは、適宜
の間隔で設けられたねじ３２により締結される。

【００３１】歯形板１９は、プラスチック、たとえばテ
フロン樹脂、ＰＥＩ（ポリエーテルイミド）などで形成
され、Ｖ字状の溝２４が適宜のピッチＰで複数設けられ
る。Ｖ字状の溝２４の角度αは、染色対象物の形状によ
り４５°〜６０°が良い。溝のピッチＰについても染色
対象物のサイズに応じ、染色処理中に接触しないように
設定される。

【００３２】図４は、図３の治具を揺動装置に係止する
箇所の要部斜視図である。治具の側板２７に設けられた
係止金具２８の係止片２８ａは、揺動金具４５の下部に
設けられた係止孔４６に挿入され係止される。

【００３３】図５は、染色対象物を図３の治具に支持さ
せた状態の斜視図である。染色対象物１０の一つのコー
ナー部を治具の歯形板の溝２４に図示のように掛けられ
る。すなわち、染色対象物１０の高さ方向１０ａ(図７
（Ｂ）)を歯形板の長手方向１９ａ（図３）に一致させ
て治具１７に掛けられる。

【００３４】次に、ペリクル枠５の一般的な製造方法に
ついて説明する。先ず枠素材を形成する。枠素材は、上
記アルミニウム合金で製造された板を環状に打ち抜く
か、加工（機械）中ぐりするか、中空押出形材を輪切り
にするかなどによって成形される。次に、この枠素材に
発生しているバリ取りが行われた後、規定形状、寸法に
精密加工される。精密加工された枠素材は、表面が清浄
にされた後、陽極酸化処理が行われ、表面に陽極酸化皮
膜が形成され、先の染色対象物となる。

【００３５】染色対象物に形成された陽極酸化皮膜は、
多数の微細な穴（ポア）を有する。この染色対象物を染
色液に浸漬し、染色処理を行い、陽極酸化皮膜の微細な
穴に黒色の染色剤を吸着させる。染色処理を行った染色
対象物は、先の微細な穴を塞ぐため熱水に漬けられ封孔
処理が行われ、最後に表面が清浄にされて完成品とな
る。

【００３６】陽極酸化処理は、たとえば硫酸濃度１０〜
２０％、電流密度１〜２Ａ／ｄｍ^２、電解液温度１５〜
３０℃、通電時間１０〜３０分の条件で行われる。陽極
酸化処理が行われると、表面には微細な穴（直径５０〜
２００Å、ピッチ５００〜３０００Å）が規則正しく多
数形成される。

【００３７】染色処理は、黒色の染料、たとえばサンド
社製商品名Sanodal Deep Black MLW Newが溶解した染
色液に染色対象物を浸漬することで、陽極酸化処理で形
成された微細な穴に染料を吸着させて黒色とする処理で
ある。治具１７にワークである染色対象物を掛ける。次
に、ワークの掛けた治具１７を揺動装置３７にセット
し、染色液保持槽３３に浸漬する。次に揺動装置３７を
起動し、治具１７を染色液内で左右または前後あるいは
上下に揺動させる。染色は、たとえば染料濃度３〜１０
ｇ／Ｌ、染色液温度５０〜６５℃で行われる。この際、
揺動の速度は、行き１秒間で５ｃｍ移動させ、帰り１秒
間で５ｃｍ移動させ、往復２秒で１０ｃｍ移動させる。
また、揺動のストロークは、リミットの位置を変えるこ
とにより変更する。スピードは無段変速である。

【００３８】封孔処理は、染料を吸着させた微細な穴を
塞ぐ処理で、封孔助剤６〜１２ｇ／Ｌを加えた高温度
水、たとえば６０〜１００℃、好ましくは７０〜９５℃
の間の温度の高温水に浸漬して行われる。

【００３９】黒色は、ペリクルの場合、ペリクル枠から
の光の反射を防止するために行うもので、光を反射しな
い、または光の反射が小さい色調であれば黒色に限らな
い。

【００４０】以上の構造を有する本実施形態の染色処理
装置は、次のように作用する。

【００４１】図１において、染色対象物１０を図５に示
したように掛けた治具１７を染色液３６中で、治具の歯
形板１９の長手方向と直交する方向(図２の揺動の方向
３８)に揺動装置３７によって揺動させる。このときの
揺動の作用を図６で説明する。

【００４２】図６は、染色対象物と治具の歯形板との相
対的位置関係を示し、（Ａ）は治具が揺動していない状
態、（Ｂ）は治具が左側に揺動した状態、（Ｃ）は治具
が右側に揺動した状態、をそれぞれ示す要部断面図であ
る。図６（Ａ）に示すように、揺動前の状態において
は、歯形板の上端の縁２０ａ、２０ｂは染色対象物１０
のコーナー内側面に接触して載っている。

【００４３】図６（Ｂ）に示すように、治具１０を左側
に揺動させると、染色対象物１０は揺動により染色液か
ら力を受けて歯形板の縁２０ａを中心に反時計回り方向
２２に回転して傾斜する。染色対象物１０が反時計回り
方向２２に傾斜すると、歯形板の縁２０ｂは染色対象物
１０のコーナー内側面から離れる。歯形板の縁２０ｂと
染色対象物１０のコーナー内側面が離れると、この隙間
に染色液が供給される。

【００４４】図６（Ｃ）に示すように、治具１０を右側
に揺動させると、染色対象物１０は、染色液から力を受
けて歯形板の縁２０ｂを中心に時計回り方向２１に回転
して傾斜する。染色対象物１０が時計回り方向２１に傾
斜すると、歯形板の縁２０ａは染色対象物１０のコーナ
ー内側面から離れる。歯形板の縁２０ａと染色対象物１
０のコーナー内側面が離れると、この隙間に染色液が供
給される。このようにして、治具１７が揺動することに
より、染色対象物１０は、その傾斜方向が交互に変わ
り、傾斜方向が変わる度に歯形板の縁に接触する箇所が
離れるので、そこに染色液が供給され、その箇所が染色
され、その箇所の陽極酸化皮膜の露出が無くなる。

【００４５】図１に示すように、循環装置４８により染
色対象物１０の周りの染色液３６を流動させ循環させる
と、染色剤が消費された染色液に代って染色剤の消費さ
れていない濃度の高い染色液３６が供給され、染色対象
物１０の治具１７に係止する箇所の染色が促進される。
さらに、染色液３６を流動させると染色対象物１０は歯
形板の上端縁を中心に傾斜し易くなるので、傾斜するこ
とにより何れかの接触していた位置が離れ、ここに染色
液が供給され染色が促進される。

【００４６】また、循環装置４８により染色液３６を循
環させることにより、治具１７に掛けられた染色対象物
１０は、動かされ、治具と接離し接触位置に染色液が供
給され易く、染色が促進される。また、染色液３６を循
環させる際に、浸漬室３３ａからオーバーフロー室３３
ｂにオーバーフローさせると、液表面に浮いたごみなど
もフィルターにより除去できる。

【００４７】上記の方法、装置により製造された染色対
象物をペリクル枠として使用することにより、陽極酸化
皮膜が露出しないので回路配線図の転写工程において自
然光ないし光源からの光の反射を防いだ鮮明な転写配線
図を得ることができる。

【００４８】

【実施例】次に、本発明の実施例について説明する。

【００４９】精密加工された高さＨ＝６ｍｍ、縦１２０
ｍｍ、横１５０ｍｍのＪＩＳＡ７０７５合金製の染色
対象物（ペリクル枠に処理される枠体）を陽極酸化処理
した後、図１に開示する染色装置を用い、Ｖ字状溝を多
数備えた厚さ１ｍｍの一つの治具に１５個掛けて染色対
象物を揺動させながら染色処理を施した。（１）陽極酸化処理条件電解液硫酸水電解液濃度１５％電流密度１.５Ａ／ｄｍ^２電解液温度１７〜１８℃ 通電時間２０分（２）染色条件染色剤サンド社製商品名Sanodal Deep Black MLW New 染料液濃度５ｇ／Ｌ染色液温度５７〜５８℃ 揺動速度行き１秒間で５ｃｍ帰り１秒間で５ｃｍ揺動ストロークは５ｃｍ染色時間１０分（３）封孔処理条件封孔助剤花見化学社製商品名シーリングＸ封孔助剤濃度９ｇ／Ｌ液温度９０〜９１℃ 処理時間２５分（４）観察方法目視による上記の陽極酸化処理、染色処理および封孔処理の条件と
揺動条件で行った結果、染色対象物の表面には、染色さ
れていない部分が観察されなかった。

【００５０】これに対して、揺動を行わなかった染色対
象物は、３０μｍ以上の染色されていない部分が全ての
ペリクル枠について治具の接触する部分に観察された。

【００５１】以上この発明を図示の実施例について詳し
く説明したが、それを以ってこの発明をそれらの実施例
のみに限定するものではなく、この発明の精神を逸脱せ
ずして種々改変を加えて多種多様の変形をなし得ること
は云うまでもない。

【００５２】

【発明の効果】本発明によれば、染色対象物が治具に引
掛る箇所の染色ができ、治具と接触する部分においても
他の部分と同様に染色されている染色対象物を得ること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の染色対象物の染色処理方法を実施する
ための装置の概略縦断面図である。

【図２】図１の平面図である。

【図３】本装置で使用する治具の正面図である。

【図４】図３の治具を揺動装置に係止する箇所の要部斜
視図である。

【図５】染色対象物を図３の治具に支持させた状態の斜
視図である。

【図６】染色対象物と治具の歯形板との相対的位置関係
を示し、（Ａ）は治具が揺動していない状態、（Ｂ）は
治具が左側に揺動した状態、（Ｃ）は治具が右側に揺動
した状態、をそれぞれ示す要部断面図である。

【図７】透明基板とペリクルを示し、（Ａ）は透明基板
にペリクルを貼着装備した状態の断面図、（Ｂ）はペリ
クルの断面図、（Ｃ）はペリクルの平面図、である。

【符号の説明】

３ペリクル５ペリクル枠（枠体）１０染色対象物１７治具２０ａ、２０ｂ歯形板の縁２４溝３３保持槽３６染色液３７揺動装置（揺動させる手段）３８揺動の方向４８循環装置（循環手段）

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】アルミニウムを基体とする染色対象物を
治具に掛けて染色液に浸漬し染色処理を行った染色物に
おいて、前記治具と接触した部分においても、該治具と
接触していなかった部分と同様に染色されてなる染色
物。
【請求項２】アルミニウムを基体とする染色対象物を
治具に掛けて染色液に浸漬し染色処理を行う染色対象物
の染色処理方法において、前記染色対象物を掛けた治具
を揺動させて前記染色処理を行うことを特徴とする染色
対象物の染色処理方法。
【請求項３】ペリクルの枠体に加工されるアルミニウ
ムを基体とする染色対象物を治具に掛けて染色液に浸漬
し染色処理を行う染色対象物の染色処理方法において、
前記染色対象物と前記治具とを相対的に接離させながら
前記染色処理を行うことを特徴とする染色対象物の染色
処理方法。
【請求項４】染色液を保持する保持槽と、染色対象物
が掛け可能に形成された溝を有する治具と、該治具を前
記保持槽の染色液中で揺動させる手段とを備えてなる染
色対象物の染色処理装置。
【請求項５】請求項４において、前記染色対象物を浸
漬する保持槽の染色液の上部染色液を吸い込み前記保持
槽の下部に供給する循環手段を備えてなる染色対象物の
染色処理装置。