JP2001176442A - 走査電子顕微鏡 - Google Patents
走査電子顕微鏡Info
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- JP2001176442A JP2001176442A JP35597399A JP35597399A JP2001176442A JP 2001176442 A JP2001176442 A JP 2001176442A JP 35597399 A JP35597399 A JP 35597399A JP 35597399 A JP35597399 A JP 35597399A JP 2001176442 A JP2001176442 A JP 2001176442A
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- Japan
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- scanning electron
- electron microscope
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は走査電子顕微鏡に関し、更に詳しく
は試料加工室を持つ走査電子顕微鏡に関し、一つの装置
でＳＥＭ観察と試料加工を同時進行で行なうことがで
き、かつ処理後の試料ホルダの位置を自動的にホームポ
ジションに戻すことができ、試料室への導入を速やかに
行なうことができる走査電子顕微鏡を提供することを目
的としている。 【解決手段】 走査電子顕微鏡であって、該走査電子顕
微鏡の試料室５とエアロックバルブ９を介して試料加工
室１０が設けられており、該試料加工室１０内に配置さ
れた試料を傾斜・回転駆動させて加工した後、加工され
た試料を走査電子顕微鏡の試料室５に導入して観察する
ように構成する。
は試料加工室を持つ走査電子顕微鏡に関し、一つの装置
でＳＥＭ観察と試料加工を同時進行で行なうことがで
き、かつ処理後の試料ホルダの位置を自動的にホームポ
ジションに戻すことができ、試料室への導入を速やかに
行なうことができる走査電子顕微鏡を提供することを目
的としている。 【解決手段】 走査電子顕微鏡であって、該走査電子顕
微鏡の試料室５とエアロックバルブ９を介して試料加工
室１０が設けられており、該試料加工室１０内に配置さ
れた試料を傾斜・回転駆動させて加工した後、加工され
た試料を走査電子顕微鏡の試料室５に導入して観察する
ように構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は走査電子顕微鏡（Ｓ
ＥＭ）に関し、更に詳しくは試料加工室を備えた走査電
子顕微鏡に関する。
ＥＭ）に関し、更に詳しくは試料加工室を備えた走査電
子顕微鏡に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、走査電子顕微鏡の試料作成技術、
及び試料加工技術として広く応用されている、イオンエ
ッチング、プラズマエッチング、コーティング、加熱、
冷却処理等の処理を効率的に行なうため、前記機能を単
独の装置や走査電子顕微鏡の試料予備排気室で行なう装
置が開発されてきている。
及び試料加工技術として広く応用されている、イオンエ
ッチング、プラズマエッチング、コーティング、加熱、
冷却処理等の処理を効率的に行なうため、前記機能を単
独の装置や走査電子顕微鏡の試料予備排気室で行なう装
置が開発されてきている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】単独の装置を用いる場
合、処理を行なった試料を改めて走査電子顕微鏡の試料
ホルダに移し替えしなければならないため、非効率的で
ある。また、処理を行なった試料が一旦大気中にさらさ
れるため、処理後の試料表面に酸化膜、不純物の付着が
生じるという問題がある。
合、処理を行なった試料を改めて走査電子顕微鏡の試料
ホルダに移し替えしなければならないため、非効率的で
ある。また、処理を行なった試料が一旦大気中にさらさ
れるため、処理後の試料表面に酸化膜、不純物の付着が
生じるという問題がある。
【０００４】また、走査電子顕微鏡の試料予備排気室で
試料作成、加工を行っている時、走査電子顕微鏡で他の
試料を導入して観察することができないという問題があ
る。更に、試料処理が終了すると、試料及び試料ホルダ
は、その位置（傾斜、回転がなされた状態）で停止して
いた。そのため、試料をすぐに走査電子顕微鏡の試料室
に導入することができず、試料ホルダの位置を試料交換
が行える傾斜／回転位置（ホームポジション）にわざわ
ざ戻していた。
試料作成、加工を行っている時、走査電子顕微鏡で他の
試料を導入して観察することができないという問題があ
る。更に、試料処理が終了すると、試料及び試料ホルダ
は、その位置（傾斜、回転がなされた状態）で停止して
いた。そのため、試料をすぐに走査電子顕微鏡の試料室
に導入することができず、試料ホルダの位置を試料交換
が行える傾斜／回転位置（ホームポジション）にわざわ
ざ戻していた。
【０００５】本発明はこのような課題に鑑みてなされた
ものであって、一つの装置でＳＥＭ観察と試料加工を同
時進行で行なうことができ、かつ処理後の試料ホルダの
位置を自動的にホームポジションに戻すことができ、試
料室への導入を速やかに行なうことができる走査電子顕
微鏡を提供することを目的としている。
ものであって、一つの装置でＳＥＭ観察と試料加工を同
時進行で行なうことができ、かつ処理後の試料ホルダの
位置を自動的にホームポジションに戻すことができ、試
料室への導入を速やかに行なうことができる走査電子顕
微鏡を提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】（１）請求項１記載の発
明は、走査電子顕微鏡であって、該走査電子顕微鏡の試
料室とエアロックバルブを介して試料加工室が設けられ
ており、該試料加工室内に配置された試料を傾斜・回転
駆動させて加工した後、加工された試料を走査電子顕微
鏡の試料室に導入して観察するように構成されたことを
特徴とする。
明は、走査電子顕微鏡であって、該走査電子顕微鏡の試
料室とエアロックバルブを介して試料加工室が設けられ
ており、該試料加工室内に配置された試料を傾斜・回転
駆動させて加工した後、加工された試料を走査電子顕微
鏡の試料室に導入して観察するように構成されたことを
特徴とする。
【０００７】このように構成することで、試料加工室を
予備排気室とは別に設けることができるので、ＳＥＭ観
察と試料加工を同時進行で行なうことができる。 （２）請求項２記載の発明は、試料加工室における試料
処理が終了すると、試料加工室ステージは自動的に試料
交換可能位置に戻り、試料を走査電子顕微鏡の試料室に
導入することができるように構成されることを特徴とす
る。
予備排気室とは別に設けることができるので、ＳＥＭ観
察と試料加工を同時進行で行なうことができる。 （２）請求項２記載の発明は、試料加工室における試料
処理が終了すると、試料加工室ステージは自動的に試料
交換可能位置に戻り、試料を走査電子顕微鏡の試料室に
導入することができるように構成されることを特徴とす
る。
【０００８】このように構成することで、試料加工が終
了したら、試料を自動的にホームポジション（試料移動
可能位置）に戻すことができ、試料室への導入を速やか
に行なうことができる。
了したら、試料を自動的にホームポジション（試料移動
可能位置）に戻すことができ、試料室への導入を速やか
に行なうことができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態例を詳細に説明する。図において、１は第１の
試料交換棒（試料交換棒１）、２は該試料交換棒１の先
端部に設けられた試料ホルダである。３は試料が導入さ
れる試料予備排気室である。該試料予備排気室３は例え
ば１０-4Ｐａ程度の真空状態まで引かれる。
施の形態例を詳細に説明する。図において、１は第１の
試料交換棒（試料交換棒１）、２は該試料交換棒１の先
端部に設けられた試料ホルダである。３は試料が導入さ
れる試料予備排気室である。該試料予備排気室３は例え
ば１０-4Ｐａ程度の真空状態まで引かれる。
【００１０】５は試料が配置されるＳＥＭ試料室、６は
試料が載置されるＳＥＭ試料ステージである。４はＳＥ
Ｍ試料室５と試料予備排気室３間を接続するエアロック
バルブである。７は試料室を排気するターボモレキュラ
ーポンプ（ＴＭＰ）又は拡散ポンプ（ＤＰ）、８は更に
試料室を排気するロータリポンプ（ＲＰ）である。この
ようなポンプで引いた結果、試料室５内は１０-6Ｐａ程
度に保持される。
試料が載置されるＳＥＭ試料ステージである。４はＳＥ
Ｍ試料室５と試料予備排気室３間を接続するエアロック
バルブである。７は試料室を排気するターボモレキュラ
ーポンプ（ＴＭＰ）又は拡散ポンプ（ＤＰ）、８は更に
試料室を排気するロータリポンプ（ＲＰ）である。この
ようなポンプで引いた結果、試料室５内は１０-6Ｐａ程
度に保持される。
【００１１】１０は加工用の試料を配置する試料加工
室、１１は除振機能を備えた試料加工室ステージで、加
工用の試料が載置されるものである。９は試料加工室１
０とＳＥＭ試料室５間を接続する第２のエアロックバル
ブ（エアロックバルブ２）、１２は第２の試料交換棒
（試料交換棒２）、１３は試料加工室蓋である。１４は
加工室１０内を排気して真空に引くＴＭＰ、１５は更に
真空に引くＲＰである。この結果、試料加工室１０内の
真空度は１０-4Ｐａ程度に保たれる。このように構成さ
れた装置を用いて、本実施の形態例の動作を説明すれ
ば、以下の通りである。
室、１１は除振機能を備えた試料加工室ステージで、加
工用の試料が載置されるものである。９は試料加工室１
０とＳＥＭ試料室５間を接続する第２のエアロックバル
ブ（エアロックバルブ２）、１２は第２の試料交換棒
（試料交換棒２）、１３は試料加工室蓋である。１４は
加工室１０内を排気して真空に引くＴＭＰ、１５は更に
真空に引くＲＰである。この結果、試料加工室１０内の
真空度は１０-4Ｐａ程度に保たれる。このように構成さ
れた装置を用いて、本実施の形態例の動作を説明すれ
ば、以下の通りである。
【００１２】試料を試料ホルダ２にセットし、試料予備
排気室３に装着する。そして、試料予備排気室３を図示
しない排気系により排気する。試料予備排気室３に必要
な真空度が得られた場合、エアロックバルブ４を開け、
試料交換棒１でＳＥＭ試料室５内のＳＥＭ試料ステージ
６に挿入する。ＳＥＭ試料試料ステージ６に試料が載置
された状態でＳＥＭによる像観察を行なう。
排気室３に装着する。そして、試料予備排気室３を図示
しない排気系により排気する。試料予備排気室３に必要
な真空度が得られた場合、エアロックバルブ４を開け、
試料交換棒１でＳＥＭ試料室５内のＳＥＭ試料ステージ
６に挿入する。ＳＥＭ試料試料ステージ６に試料が載置
された状態でＳＥＭによる像観察を行なう。
【００１３】像観察の結果、試料処理が必要となったも
のとする。この時、試料加工室１０では、試料加工室蓋
１３を閉めて、排気手段１４、１５により、試料加工室
１０内を例えば１０-4Ｐａ程度に真空度を保った後、エ
アロックバルブ９を開け、試料交換棒１２により、独立
の排気系によって排気されている試料加工室１０内の防
振機能を備えた試料加工室ステージ１１に試料ホルダを
挿入する。この結果、試料加工室１０の試料加工室ステ
ージ１１にＳＥＭ試料室５から導入された試料ば載置さ
れる。
のとする。この時、試料加工室１０では、試料加工室蓋
１３を閉めて、排気手段１４、１５により、試料加工室
１０内を例えば１０-4Ｐａ程度に真空度を保った後、エ
アロックバルブ９を開け、試料交換棒１２により、独立
の排気系によって排気されている試料加工室１０内の防
振機能を備えた試料加工室ステージ１１に試料ホルダを
挿入する。この結果、試料加工室１０の試料加工室ステ
ージ１１にＳＥＭ試料室５から導入された試料ば載置さ
れる。
【００１４】ここで、試料加工室１０内の図示しない手
段により、試料の加工（例えばエッチングやコーティン
グ）を行なう。この間、エアロックバルブ９は閉じてお
り、本来のＳＥＭ試料室５には、試料交換棒１と試料ホ
ルダ２を介してＳＥＭ試料室５に別の試料が導入され、
ＳＥＭ観察を行なうことができる。
段により、試料の加工（例えばエッチングやコーティン
グ）を行なう。この間、エアロックバルブ９は閉じてお
り、本来のＳＥＭ試料室５には、試料交換棒１と試料ホ
ルダ２を介してＳＥＭ試料室５に別の試料が導入され、
ＳＥＭ観察を行なうことができる。
【００１５】試料加工が終了した場合には、エアロック
バルブ９を開けて、試料交換棒１２で試料ホルダをＳＥ
Ｍ試料室５に移動させ、ＳＥＭ観察を行なう。この実施
の形態例によれば、試料加工室１０を試料予備排気室３
とは別に設けることにより、ＳＥＭ像観察と試料加工を
同時進行で行なうことができる。
バルブ９を開けて、試料交換棒１２で試料ホルダをＳＥ
Ｍ試料室５に移動させ、ＳＥＭ観察を行なう。この実施
の形態例によれば、試料加工室１０を試料予備排気室３
とは別に設けることにより、ＳＥＭ像観察と試料加工を
同時進行で行なうことができる。
【００１６】ＳＥＭ試料ステージ６と、試料加工室ステ
ージ１１は、互いに試料ホルダ交換可能位置を有してお
り、試料加工出力１０において、試料処理が終了する
と、試料加工室ステージ１１は、自動的にこの試料交換
可能位置（例えば回転／傾斜の初期位置）に戻る機能を
有している。
ージ１１は、互いに試料ホルダ交換可能位置を有してお
り、試料加工出力１０において、試料処理が終了する
と、試料加工室ステージ１１は、自動的にこの試料交換
可能位置（例えば回転／傾斜の初期位置）に戻る機能を
有している。
【００１７】試料加工中、ＳＥＭによる別のサンプルの
観察を行なう場合には、前述したように、試料ホルダ２
を試料予備排気室３からＳＥＭ試料室５に試料を導入
し、ＳＥＭ試料ステージ６上に試料を載置してＳＥＭ像
観察を行なうことができる。
観察を行なう場合には、前述したように、試料ホルダ２
を試料予備排気室３からＳＥＭ試料室５に試料を導入
し、ＳＥＭ試料ステージ６上に試料を載置してＳＥＭ像
観察を行なうことができる。
【００１８】試料加工室ステージ１１は、試料処理の時
に、通常試料を往復傾斜運動させるロッキング運動と、
自回転運動を同時に行なう。その理由は、試料を等方的
にエッチングしたり、コーティングするためである。
に、通常試料を往復傾斜運動させるロッキング運動と、
自回転運動を同時に行なう。その理由は、試料を等方的
にエッチングしたり、コーティングするためである。
【００１９】この実施の形態例では、これらの処理が終
了すると、試料ステージは試料交換が直ちに行なえるホ
ームポジション（例えば傾斜角／回転角０゜）に自動的
に戻る機能を有する。従って、試料処理が終了した試料
を、速やかにＳＥＭ試料室５に導入することができる。
了すると、試料ステージは試料交換が直ちに行なえるホ
ームポジション（例えば傾斜角／回転角０゜）に自動的
に戻る機能を有する。従って、試料処理が終了した試料
を、速やかにＳＥＭ試料室５に導入することができる。
【００２０】この実施の形態例によれば、試料加工が終
了したら、試料を自動的にホームポジションに戻すこと
ができ、試料室への導入を速やかに行なうことができ
る。図２は試料加工制御の説明図である。図１と同一の
ものは、同一の符号を付して示す。図において、２０は
試料加工制御を行なう試料加工制御装置である。該試料
加工制御装置において、２１はイオン銃の照射量を制御
するイオン銃制御回路、２２は試料ステージに傾斜、回
転の制御信号を送出する傾斜・回転駆動回路、２３はこ
れらイオン銃制御回路２１及び傾斜・回転駆動回路２２
にデータ、コマンド等を入力する操作部である。
了したら、試料を自動的にホームポジションに戻すこと
ができ、試料室への導入を速やかに行なうことができ
る。図２は試料加工制御の説明図である。図１と同一の
ものは、同一の符号を付して示す。図において、２０は
試料加工制御を行なう試料加工制御装置である。該試料
加工制御装置において、２１はイオン銃の照射量を制御
するイオン銃制御回路、２２は試料ステージに傾斜、回
転の制御信号を送出する傾斜・回転駆動回路、２３はこ
れらイオン銃制御回路２１及び傾斜・回転駆動回路２２
にデータ、コマンド等を入力する操作部である。
【００２１】１０は試料加工室である。該試料加工室１
０において、３０はイオンビームを照射するイオン銃、
３１はイオンビームが照射される試料、３２は該試料３
１を載置するホルダ、３３はホルダ３２を傾斜、回転さ
せる傾斜・回転駆動機構、３４はホームポジション位置
を検出するホーム位置検出器である。傾斜・回転駆動機
構３３は回転用のモータと傾斜用のモータを具備してい
る。ホーム位置検出器３４としては、例えばマイクロス
イッチが用いられる。
０において、３０はイオンビームを照射するイオン銃、
３１はイオンビームが照射される試料、３２は該試料３
１を載置するホルダ、３３はホルダ３２を傾斜、回転さ
せる傾斜・回転駆動機構、３４はホームポジション位置
を検出するホーム位置検出器である。傾斜・回転駆動機
構３３は回転用のモータと傾斜用のモータを具備してい
る。ホーム位置検出器３４としては、例えばマイクロス
イッチが用いられる。
【００２２】イオン銃制御回路２１の出力はイオン銃３
０に与えられ、傾斜・回転駆動回路２２の出力は傾斜・
回転駆動機構３３に与えられ、ホーム位置検出器３４の
出力は、傾斜・回転駆動回路２２に与えられている。こ
のように構成された装置の動作を説明すれば、以下の通
りである。
０に与えられ、傾斜・回転駆動回路２２の出力は傾斜・
回転駆動機構３３に与えられ、ホーム位置検出器３４の
出力は、傾斜・回転駆動回路２２に与えられている。こ
のように構成された装置の動作を説明すれば、以下の通
りである。
【００２３】先ず、操作部２３からイオン電流量、試料
の傾斜角、加工時間が設定される。次に、試料加工制御
装置２０により、イオン照射及び傾斜・回転駆動機構３
３を駆動して試料３１に対する加工動作が開始される。
試料３１の表面はエッチングされる。
の傾斜角、加工時間が設定される。次に、試料加工制御
装置２０により、イオン照射及び傾斜・回転駆動機構３
３を駆動して試料３１に対する加工動作が開始される。
試料３１の表面はエッチングされる。
【００２４】加工時間が終了すると、イオン銃制御回路
２１はイオン銃３０のイオンの照射をストップし、ま
た、傾斜・回転駆動回路２２は、傾斜回転駆動機構３３
を駆動してホームポジションに戻す。傾斜・回転駆動機
構３３がホームポジションに戻ったか否かはホーム位置
検出器３４で検出することができる。ホーム位置に戻っ
たことが検出されたら、傾斜・回転駆動回路２２は、傾
斜・回転駆動機構３３の動作を停止させる。この位置
で、傾斜・回転駆動機構３３は、ホームポジションに戻
っている。ホームポジションに戻った試料は、速やかに
ＳＥＭ試料室５に戻ることができる。
２１はイオン銃３０のイオンの照射をストップし、ま
た、傾斜・回転駆動回路２２は、傾斜回転駆動機構３３
を駆動してホームポジションに戻す。傾斜・回転駆動機
構３３がホームポジションに戻ったか否かはホーム位置
検出器３４で検出することができる。ホーム位置に戻っ
たことが検出されたら、傾斜・回転駆動回路２２は、傾
斜・回転駆動機構３３の動作を停止させる。この位置
で、傾斜・回転駆動機構３３は、ホームポジションに戻
っている。ホームポジションに戻った試料は、速やかに
ＳＥＭ試料室５に戻ることができる。
【００２５】なお、加工時間前に任意に加工停止する場
合も、前述と同様の動作により、停止する。このよう
に、本実施の形態例によれば、一つの装置でＳＥＭ観察
と試料化工を同時進行で行なうことができるようにな
り、かつ処理後の試料ホルダの位置を自動的にホームポ
ジションに戻すため、装置の稼働率が向上する。また、
試料加工室は、常に排気した状態に保つことができ、試
料化工までの時間を短縮することができる。
合も、前述と同様の動作により、停止する。このよう
に、本実施の形態例によれば、一つの装置でＳＥＭ観察
と試料化工を同時進行で行なうことができるようにな
り、かつ処理後の試料ホルダの位置を自動的にホームポ
ジションに戻すため、装置の稼働率が向上する。また、
試料加工室は、常に排気した状態に保つことができ、試
料化工までの時間を短縮することができる。
【００２６】本実施の形態例は、ＳＥＭ試料ホルダ挿入
用の試料予備排気室と試料加工室の２室を有している
が、構成の変形として、試料加工室のみを有し、通常の
試料ホルダの装着（試料加工を行なわない、通常のＳＥ
Ｍの試料交換）は、この試料加工室で兼用することがで
きる。
用の試料予備排気室と試料加工室の２室を有している
が、構成の変形として、試料加工室のみを有し、通常の
試料ホルダの装着（試料加工を行なわない、通常のＳＥ
Ｍの試料交換）は、この試料加工室で兼用することがで
きる。
【００２７】また、ＳＥＭ試料ステージは、複数の試料
ホルダが装着可能な機構とし、処理していないサンプ
ル、処理したサンプル等の同時装着を可能とすることが
できる。
ホルダが装着可能な機構とし、処理していないサンプ
ル、処理したサンプル等の同時装着を可能とすることが
できる。
【００２８】更に、試料予備排気室、試料加工室のステ
ージには、複数の試料を装着することが可能とし、予備
排気室においては挿入を行なう試料以外、試料加工室に
おいては処理を行なう試料以外はパーキングステージ
（スペース）に格納できるようにすることができる。
ージには、複数の試料を装着することが可能とし、予備
排気室においては挿入を行なう試料以外、試料加工室に
おいては処理を行なう試料以外はパーキングステージ
（スペース）に格納できるようにすることができる。
【００２９】
【発明の効果】以上、説明したように、本発明によれ
ば、以下のような効果が得られる。 （１）請求項１記載の発明によれば、試料加工室内に配
置された試料を傾斜・回転駆動させて加工した後、加工
された試料を走査電子顕微鏡の試料室に導入して観察す
るように構成することにより、試料加工室を予備排気室
とは別に設けることができるので、ＳＥＭ観察と試料加
工を同時進行で行なうことができる。
ば、以下のような効果が得られる。 （１）請求項１記載の発明によれば、試料加工室内に配
置された試料を傾斜・回転駆動させて加工した後、加工
された試料を走査電子顕微鏡の試料室に導入して観察す
るように構成することにより、試料加工室を予備排気室
とは別に設けることができるので、ＳＥＭ観察と試料加
工を同時進行で行なうことができる。
【００３０】（２）請求項２記載の発明によれば、試料
加工室における試料処理が終了すると、試料加工室ステ
ージは自動的に試料交換可能位置に戻り、試料を走査電
子顕微鏡の試料室に導入することができるように構成す
ることにより、試料加工が終了したら、試料を自動的に
ホームポジション（試料移動可能位置）に戻すことがで
き、試料室への導入を速やかに行なうことができる。
加工室における試料処理が終了すると、試料加工室ステ
ージは自動的に試料交換可能位置に戻り、試料を走査電
子顕微鏡の試料室に導入することができるように構成す
ることにより、試料加工が終了したら、試料を自動的に
ホームポジション（試料移動可能位置）に戻すことがで
き、試料室への導入を速やかに行なうことができる。
【００３１】このように、本発明によれば、一つの装置
でＳＥＭ観察と試料加工を同時進行で行なうことがで
き、かつ処理後の試料ホルダの位置を自動的にホームポ
ジションに戻すことができ、試料室への導入を速やかに
行なうことができる走査電子顕微鏡を提供することがで
きる。
でＳＥＭ観察と試料加工を同時進行で行なうことがで
き、かつ処理後の試料ホルダの位置を自動的にホームポ
ジションに戻すことができ、試料室への導入を速やかに
行なうことができる走査電子顕微鏡を提供することがで
きる。
【図１】本発明の一実施の形態例を示す構成図である。
【図２】試料加工制御の説明図である。
１，１２ 試料交換棒 ２ 試料ホルダ ３ 試料予備排気室 ４，９ エアロックバルブ ５ ＳＥＭ試料室 ６ ＳＥＭ試料ステージ ７ ＴＭＰ又はＤＰ ８ ＲＰ １０ 試料加工室 １１ 試料加工室ステージ １３ 試料加工室蓋 １４ ＴＭＰ １５ ＲＰ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 591003208 サンユー電子株式会社 東京都新宿区百人町２丁目24−12 (72)発明者 野久尾 毅 東京都昭島市武蔵野三丁目１番２号 日本 電子株式会社内 (72)発明者 斉藤 昌樹 東京都昭島市武蔵野三丁目１番２号 日本 電子株式会社内 (72)発明者 龍 康夫 神奈川県川崎市川崎区駅前本町25番地１号 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社 内 (72)発明者 後藤 勝人 東京都新宿区百人町１−22−６ サンユー 電子株式会社内 Ｆターム(参考） 5C001 AA02 5C033 FF10 JJ07 MM07 UU03 5C034 AA02
Claims (2)
- 【請求項１】 走査電子顕微鏡であって、該走査電子顕
微鏡の試料室とエアロックバルブを介して試料加工室が
設けられており、該試料加工室内に配置された試料を傾
斜・回転駆動させて加工した後、加工された試料を走査
電子顕微鏡の試料室に導入して観察するように構成され
た走査電子顕微鏡。 - 【請求項２】 試料加工室における試料処理が終了する
と、試料加工室ステージは自動的に試料交換可能位置に
戻り、試料を走査電子顕微鏡の試料室に導入することが
できるように構成されることを特徴とする請求項１記載
の走査電子顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35597399A JP2001176442A (ja) | 1999-12-15 | 1999-12-15 | 走査電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35597399A JP2001176442A (ja) | 1999-12-15 | 1999-12-15 | 走査電子顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001176442A true JP2001176442A (ja) | 2001-06-29 |
Family
ID=18446683
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35597399A Withdrawn JP2001176442A (ja) | 1999-12-15 | 1999-12-15 | 走査電子顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001176442A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006092975A1 (ja) * | 2005-03-04 | 2006-09-08 | Sii Nanotechnology Inc. | 加工用ステージ及び集束ビーム加工装置並びに集束ビーム加工方法 |
| JP2007014996A (ja) * | 2005-07-08 | 2007-01-25 | Hitachi High-Tech Science Systems Corp | イオンミリング装置およびイオンミリング方法 |
| CN103913389A (zh) * | 2014-04-14 | 2014-07-09 | 吉林大学 | 扫描电子显微镜内应变检测型原位划痕测试装置及方法 |
-
1999
- 1999-12-15 JP JP35597399A patent/JP2001176442A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006092975A1 (ja) * | 2005-03-04 | 2006-09-08 | Sii Nanotechnology Inc. | 加工用ステージ及び集束ビーム加工装置並びに集束ビーム加工方法 |
| US8598485B2 (en) | 2005-03-04 | 2013-12-03 | Sii Nano Technology Inc. | Stage for working, focused beam working apparatus and focused beam working method |
| JP2007014996A (ja) * | 2005-07-08 | 2007-01-25 | Hitachi High-Tech Science Systems Corp | イオンミリング装置およびイオンミリング方法 |
| JP4675701B2 (ja) * | 2005-07-08 | 2011-04-27 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | イオンミリング装置およびイオンミリング方法 |
| CN103913389A (zh) * | 2014-04-14 | 2014-07-09 | 吉林大学 | 扫描电子显微镜内应变检测型原位划痕测试装置及方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20070306 |