JP2001174506A - Method of manufacturing socket and semiconductor device - Google Patents

Method of manufacturing socket and semiconductor device

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JP2001174506A
JP2001174506A JP35717299A JP35717299A JP2001174506A JP 2001174506 A JP2001174506 A JP 2001174506A JP 35717299 A JP35717299 A JP 35717299A JP 35717299 A JP35717299 A JP 35717299A JP 2001174506 A JP2001174506 A JP 2001174506A
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Japan
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semiconductor device
lead
socket
flexible film
semiconductor chip
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JP35717299A
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Japanese (ja)
Inventor
Naohiro Makihira
尚宏 槇平
Akira Kiyofuji
彰 清藤
Hironori Watabe
広紀 渡部
Takatoshi Hagiwara
孝俊 萩原
Hiroshi Nakajima
寛 中嶋
Teruo Shoji
照雄 庄司
Kenya Ono
建也 大野
Yuji Wada
雄二 和田
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Hitachi Ltd
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent such a problem that a warpage occurs on a flexible film of a TCP type semiconductor device. SOLUTION: This socket for storing a semiconductor device is formed in a flexible film and comprises a lead with one end connected to the electrode pad of a semiconductor chip and the other end extracted to the outer peripheral side of the semiconductor chip. When the semiconductor device is stored, the connection part of a contact pin is connected to a part of the other end of the lead while rubbing against a part of the other end of the lead toward the tip of the other end of the lead.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ソケットに関し、
特に、TCP(ape arrier ackage )型半導体装
置のバーンイン試験で用いられるソケットに適用して有
効な技術に関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a socket,
In particular, it relates to a technique effectively applied to a socket for use in burn-in test of TCP (T ape C arrier P ackage ) type semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体装置として、例えばTCP型と呼
称される半導体装置が知られている。このTCP型半導
体装置は、可撓性フィルムの表面に貼り付けられた金属
箔にエッチング加工を施してリードを形成したテープキ
ャリアを用いて製造されるので、金属板にプレス加工又
はエッチング加工を施してリードを形成したリードフレ
ームを用いて製造される半導体装置と比べて薄型化及び
多ピン化を図ることができる。
2. Description of the Related Art As a semiconductor device, for example, a semiconductor device called a TCP type is known. Since this TCP type semiconductor device is manufactured by using a tape carrier in which leads are formed by etching a metal foil attached to the surface of a flexible film, a metal plate is subjected to a pressing or etching process. The thickness and the number of pins can be reduced as compared with a semiconductor device manufactured using a lead frame in which leads are formed.

【0003】TCP型半導体装置は、主に、回路形成面
に電極パッドが形成された半導体チップと、半導体チッ
プの電極パッドに電気的に接続されるリードが形成され
た可撓性フィルムと、半導体チップの回路形成面を覆う
樹脂とを有する構成になっている。リードの一端側は突
起状電極を介して半導体チップの電極パッドに接続さ
れ、リードの他端側は半導体チップの外周囲の外側に引
き出されている。リードの他端側の先端部分には、リー
ドの一部分からなる検査用パッドが設けられている。
A TCP type semiconductor device mainly includes a semiconductor chip having electrode pads formed on a circuit forming surface, a flexible film having leads electrically connected to the electrode pads of the semiconductor chip, and a semiconductor device. And a resin for covering the circuit forming surface of the chip. One end of the lead is connected to an electrode pad of the semiconductor chip via a protruding electrode, and the other end of the lead is drawn out of the outer periphery of the semiconductor chip. An inspection pad composed of a part of the lead is provided at the other end of the lead.

【0004】TCP型半導体装置は、その製造工程にお
いてバーンイン試験が施される。バーンイン試験は、顧
客での使用条件と比べて過酷な使用条件(付加を与えた
状態)で半導体装置の回路動作を行い、顧客での使用中
に欠陥になるもの、ある意味では欠陥を加速的に発生せ
しめ、顧客に出荷する前の初期段階において不良品の排
除を目的とするスクリーニング試験である。
A TCP type semiconductor device is subjected to a burn-in test in the manufacturing process. In the burn-in test, the circuit operation of the semiconductor device is performed under severe use conditions (in a state where an additional condition is applied) compared to the use conditions at the customer, and defects that become defective during use by the customer, in a sense, defects are accelerated. This is a screening test aimed at eliminating defective products in the initial stage before shipping to customers.

【0005】バーンイン試験において、TCP型半導体
装置は、キャリア治具に装着固定された状態でソケット
に収納され、このソケットを介してバーンインボードに
搭載される。ソケットは、TCP型半導体装置を収納す
る際、TCP型半導体装置のリードの一端側に向かって
そのリードの他端側の検査用パッドを擦りながらその検
査用パッドにコンタクトピンの接続部分が接続される内
ワイピング構造となっている。検査用パッドを擦りなが
らコンタクトピンの接続部分を接続させることにより、
検査用パッドの表面が酸化物等の異物によって被覆され
ていても、異物を除去して確実に電気的接続を得ること
がてきるので、電気的接続の安定性を確保することがで
きる。この種のソケットについては、例えば特開平5−
335786号公報(1993年、12月17日公開)
に記載されている。
In the burn-in test, the TCP type semiconductor device is housed in a socket while being fixedly mounted on a carrier jig, and is mounted on a burn-in board via the socket. When the socket accommodates the TCP type semiconductor device, the connection portion of the contact pin is connected to the test pad while rubbing the test pad on the other end side of the lead of the TCP type semiconductor device toward one end of the lead. It has a wiping structure. By connecting the connection part of the contact pin while rubbing the inspection pad,
Even if the surface of the inspection pad is covered with a foreign substance such as an oxide, the foreign substance can be removed and the electrical connection can be reliably obtained, so that the stability of the electrical connection can be ensured. For this type of socket, see, for example,
No. 335786 (published December 17, 1993)
It is described in.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、前述の
ソケットについて検討した結果、以下の問題点を見出し
た。
The present inventors have studied the above-mentioned socket and found the following problems.

【0007】TCP型半導体装置のバーンイン試験で用
いられる従来のソケットは、内ワイピング構造となって
いるため、検査用パッドにコンタクトピンの接続部分を
接続する時の擦りによって可撓性フィルムに反りが生じ
る。そして、このままの状態でバーンイン試験が施され
るため、バーンイン試験時の熱によって可撓性フィルム
の反りが固定されてしまう。このような可撓性フィルム
の反りは、バーンイン試験後のリード成形工程におい
て、リード成形不良の要因となり、TCP型半導体装置
の歩留まりが著しく低下する。
The conventional socket used in the burn-in test of the TCP type semiconductor device has an inner wiping structure, so that the flexible film is warped by rubbing when the connection portion of the contact pin is connected to the test pad. Occurs. Then, since the burn-in test is performed in this state, the warpage of the flexible film is fixed by the heat during the burn-in test. Such a warp of the flexible film causes a defective lead formation in a lead forming step after the burn-in test, and the yield of the TCP type semiconductor device is significantly reduced.

【0008】本発明の目的は、可撓性フィルムの反りを
抑制することが可能なソケットを提供することにある。
An object of the present invention is to provide a socket capable of suppressing warping of a flexible film.

【0009】本発明の他の目的は、半導体装置の歩留ま
りを高めることが可能な技術を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a technique capable of increasing the yield of semiconductor devices.

【0010】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らか
になるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記のとおりである。
SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, the outline of a representative one will be briefly described.
It is as follows.

【0012】(1)可撓性フィルムに形成され、一端側
が半導体チップの電極パッドに接続され、他端側が前記
半導体チップの外周囲の外側に引き出されたリードを有
する半導体装置を収納するソケットであって、前記半導
体装置を収納する際、前記リードの他端側の先端に向か
って前記リードの他端側の一部分を擦りながら前記リー
ドの他端側の一部分にコンタクトピンの接続部分が接続
される外ワイピング構造となっている。
(1) A socket for housing a semiconductor device having a lead formed on a flexible film, one end of which is connected to an electrode pad of a semiconductor chip, and the other end of which is led out to the outside of the outer periphery of the semiconductor chip. When accommodating the semiconductor device, a connection portion of a contact pin is connected to a portion of the other end of the lead while rubbing a portion of the other end of the lead toward the tip of the other end of the lead. Outside wiping structure.

【0013】(2)半導体装置の製造方法において、可
撓性フィルムに形成され、一端側が半導体チップの電極
パッドに接続され、他端側が前記半導体チップの外周囲
の外側に引き出されたリードを有する半導体装置を収納
するソケットであって、前記半導体装置を収納する際、
前記リードの他端側の先端に向かって前記リードの他端
側の一部分を擦りながら前記リードの他端側の一部分に
コンタクトピンの接続部分が接続される構造になってい
るソケットを準備し、前記ソケットに前記半導体装置を
収納した状態でバーンイン試験を施す工程を備える。
(2) In a method of manufacturing a semiconductor device, a lead formed on a flexible film, one end of which is connected to an electrode pad of a semiconductor chip, and the other end of which is drawn out of an outer periphery of the semiconductor chip. A socket for housing a semiconductor device, when housing the semiconductor device,
Prepare a socket having a structure in which a connection portion of a contact pin is connected to a part of the other end of the lead while rubbing a part of the other end of the lead toward the tip of the other end of the lead, Performing a burn-in test with the semiconductor device housed in the socket.

【0014】上述した手段(1)によれば、リードの他
端側の一部分(例えば検査用パッド)にコンタクトピン
の接続部を接続する時の擦りによって可撓性フィルムが
その外側に引っ張られるので、可撓性フィルムの反りを
抑制することができる。
According to the above-mentioned means (1), the flexible film is pulled outward by rubbing when connecting the connection portion of the contact pin to a part (for example, a test pad) on the other end side of the lead. In addition, warpage of the flexible film can be suppressed.

【0015】上述した手段(2)によれば、リードの他
端側の一部分(例えば検査用パッド)にコンタクトピン
の接続部を接続する時の擦りによって可撓性フィルムが
その外側に引っ張られるので、可撓性フィルムの反りを
抑制した状態でバーンイン試験を実施することができ、
バーンイン試験時の熱によって固定されてしまう可撓性
フィルムの反りを抑制することができる。
According to the above-mentioned means (2), the flexible film is pulled outward by rubbing when connecting the connection portion of the contact pin to a part (for example, an inspection pad) on the other end side of the lead. , A burn-in test can be performed in a state where warpage of the flexible film is suppressed,
Warpage of the flexible film fixed by heat during the burn-in test can be suppressed.

【0016】この結果、リード成形工程において、可撓
性フィルムの反りに起因するリード成形不良を抑制する
ことができるので、半導体装置の歩留まりを高めること
ができる。
As a result, in the lead forming step, lead forming defects due to warpage of the flexible film can be suppressed, so that the yield of semiconductor devices can be increased.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、本発明の構成について、T
CP型半導体装置のバーンイン試験に用いられるソケッ
トに本発明を適用した実施の形態とともに説明する。な
お、実施の形態を説明するための図面において、同一機
能を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明
は省略する。なお、発明の実施の形態を説明するための
全図において、同一機能を有するものは同一符号を付
け、その繰り返しの説明は省略する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the configuration of the present invention
A description will be given together with an embodiment in which the present invention is applied to a socket used for a burn-in test of a CP type semiconductor device. In the drawings for describing the embodiments, those having the same functions are denoted by the same reference numerals, and the repeated description thereof will be omitted. In all the drawings for describing the embodiments of the present invention, components having the same functions are denoted by the same reference numerals, and their repeated description will be omitted.

【0018】図1は本発明の一実施形態であるソケット
の模式的斜視図であり、図2は図1に示すソケットの模
式的断面図であり、図3は図1に示すソケットにおい
て、コンタクトピンの接続部の動作を説明するための模
式図であり、図4は図1に示すソケットに収納されるT
CP型半導体装置の模式的平面図であり、図5は図4に
示すTCP型半導体装置の模式的断面図である。なお、
図2において、紙面に向かって左側はソケットの昇降部
材を降下させた時の状態を示し、紙面に向かって右側は
ソケットの昇降部材を上昇させた時の状態を示してい
る。
FIG. 1 is a schematic perspective view of a socket according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a schematic sectional view of the socket shown in FIG. 1, and FIG. FIG. 4 is a schematic diagram for explaining the operation of a pin connecting portion, and FIG.
FIG. 5 is a schematic plan view of the CP semiconductor device, and FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of the TCP semiconductor device shown in FIG. In addition,
In FIG. 2, the left side of the drawing shows the state when the elevating member of the socket is lowered, and the right side of the drawing shows the state when the elevating member of the socket is raised.

【0019】図4及び図5に示すTCP型半導体装置1
0は、可撓性フィルムの表面に貼り付けられた金属箔を
エッチングしてリードを形成したテープキャリアを用い
て製造される。このTCP型半導体装置10の製造技術
は、その組み立て手段からTAB(ape utomated
onding)技術とも呼称されている。
The TCP type semiconductor device 1 shown in FIGS. 4 and 5
0 is the metal foil attached to the surface of the flexible film.
Using a tape carrier with leads formed by etching
Manufactured. Manufacturing technology of this TCP type semiconductor device 10
Is TAB (TapeAutomated
Bonding) technology.

【0020】TCP型半導体装置10は、主に、半導体
チップ1と、半導体チップ1の表裏面のうちの表面であ
る回路形面1Xを覆う樹脂7と、可撓性フィルム5の表
面に複数本のリード4が形成されたテープキャリア6と
を有する構成となっている。
The TCP type semiconductor device 10 mainly includes a semiconductor chip 1, a resin 7 for covering a circuit-shaped surface 1 X which is a surface of the front and back surfaces of the semiconductor chip 1, and a plurality of resin chips on a surface of the flexible film 5. And the tape carrier 6 on which the leads 4 are formed.

【0021】テープキャリア6は、一定幅の可撓性フィ
ルム5の表面に複数本のリード4から成る単位リードパ
ターンを可撓性フィルム5の長手方向に繰返し形成した
構成になっている。このテープキャリア6は、半導体装
置の製造工程において、単位リードパターン毎に切断さ
れる。リードパターンは、可撓性フィルム5の一表面に
接着材を介して金属箔を貼り付けた後、この金属箔をエ
ッチングすることによって形成される。可撓性フィルム
5としては、例えば厚さ75[μm]のポリイミド系樹
脂からなる可撓性フィルムを用いている。金属箔として
は、例えば厚さ35[μm]の銅箔を用いている。
The tape carrier 6 has a structure in which a unit lead pattern including a plurality of leads 4 is repeatedly formed in the longitudinal direction of the flexible film 5 on the surface of the flexible film 5 having a fixed width. The tape carrier 6 is cut for each unit lead pattern in a semiconductor device manufacturing process. The lead pattern is formed by attaching a metal foil to one surface of the flexible film 5 via an adhesive and then etching the metal foil. As the flexible film 5, a flexible film made of, for example, a polyimide resin having a thickness of 75 [μm] is used. As the metal foil, for example, a copper foil having a thickness of 35 [μm] is used.

【0022】可撓性フィルム5の両側には、テープキャ
リア6を移動操作するために使用されるパーフォレーシ
ョン孔5Aが一定間隔に設けられている。また、可撓性
フィルム5の両側には、製造工程において可撓性フィル
ム5を位置決めするために使用される位置決め孔5Bが
設けられている。
On both sides of the flexible film 5, perforation holes 5A used for moving the tape carrier 6 are provided at regular intervals. On both sides of the flexible film 5, positioning holes 5B used for positioning the flexible film 5 in a manufacturing process are provided.

【0023】半導体チップ1の平面形状は方形状で形成
され、本実施形態においては例えば8.4[mm]×1
3.4[mm]の長方形で形成されている。半導体チッ
プ1には、記憶回路として例えば64メガビットのDR
AMが搭載されている。
The planar shape of the semiconductor chip 1 is rectangular, and in the present embodiment, for example, 8.4 [mm] × 1
It is formed in a rectangle of 3.4 [mm]. The semiconductor chip 1 has, for example, a 64-megabit DR as a storage circuit.
AM is installed.

【0024】複数本のリード4の夫々は二つのリード群
に分割されている。一方のリード群のリード4は半導体
チップ1の互いに対向する二つの長辺のうちの一方の長
辺に沿って配列され、他方のリード群のリード4は半導
体チップ1の互いに対向する二つの長辺のうちの他方の
長辺に沿って配列されている。複数本のリード4の夫々
の一端側は可撓性フィルム5を介して半導体チップ1の
回路形成面1X上を延在し、複数本のリード4の夫々の
他端側は半導体チップ1の外周囲の外側に引き出されて
いる。複数本のリード4の夫々の他端側は半導体チップ
1の外側において可撓性フィルム5に設けられた長孔5
Cを横切るようにして延在し、夫々の他端側の先端部分
は可撓性フィルム5に支持されている。
Each of the plurality of leads 4 is divided into two lead groups. The leads 4 of one lead group are arranged along one of the two long sides of the semiconductor chip 1 facing each other, and the leads 4 of the other lead group are arranged along the two long sides of the semiconductor chip 1 facing each other. They are arranged along the other long side of the sides. One end of each of the plurality of leads 4 extends on the circuit forming surface 1 </ b> X of the semiconductor chip 1 via the flexible film 5, and the other end of each of the plurality of leads 4 is outside the semiconductor chip 1. It is pulled out to the outside of the surroundings. The other end of each of the plurality of leads 4 is connected to an elongated hole 5 provided in a flexible film 5 outside the semiconductor chip 1.
C, and each of the other end portions is supported by the flexible film 5.

【0025】複数本のリード4の夫々の他端側の先端部
分には、夫々の一部分からなる検査用パッド4Aが設け
られている。
An inspection pad 4A, which is a part of each of the leads 4, is provided at the other end of each of the plurality of leads 4.

【0026】半導体チップ1の回路形成面1Xの中央部
には、電極パッド2が形成されている。この電極パッド
2は、半導体チップ1の長辺方向に沿って複数個配列さ
れている。
An electrode pad 2 is formed at the center of the circuit forming surface 1X of the semiconductor chip 1. The plurality of electrode pads 2 are arranged along the long side direction of the semiconductor chip 1.

【0027】複数本のリード4の夫々の一端側の先端部
分は、半導体チップ1の各電極パッド2に突起状電極3
を介して電気的にかつ機械的に接続されている。突起状
電極3としては、これに限定されないが、例えば半導体
チップ1の電極パッド2上にボールボンディング法によ
って形成されたAuバンプを用いている。複数本のリー
ド4の夫々の一端側の先端部分と各電極パッド2との接
続は熱圧着にて行なわれている。電極パッド2は、半導
体チップ1の多層配線層のうちの最上層の配線層に形成
され、例えばアルミニウム(Al)膜又はアルミニウム
合金膜等の金属膜で形成されている。
The tip of each of the plurality of leads 4 at one end side is connected to each of the electrode pads 2 of the semiconductor chip 1 by the protruding electrodes 3.
Are electrically and mechanically connected to each other. As the protruding electrode 3, for example, an Au bump formed by a ball bonding method on the electrode pad 2 of the semiconductor chip 1 is used. The connection between each of the electrode pads 2 and the tip of one end of each of the plurality of leads 4 is performed by thermocompression bonding. The electrode pad 2 is formed on the uppermost wiring layer of the multilayer wiring layers of the semiconductor chip 1, and is formed of a metal film such as an aluminum (Al) film or an aluminum alloy film.

【0028】樹脂7は、例えばエポキシ系樹脂に有機溶
剤が添加された熱硬化性樹脂を半導体チップ1の回路形
成面1Xにポッテング法で塗布し、その後、熱処理を施
して熱硬化性樹脂を硬化させることによって形成され
る。
As the resin 7, for example, a thermosetting resin obtained by adding an organic solvent to an epoxy-based resin is applied to the circuit forming surface 1X of the semiconductor chip 1 by a potting method, and then heat-treated to cure the thermosetting resin. Formed.

【0029】なお、TCP型半導体装置においては、図
4及び図5に示す状態で製品出荷する場合と、図示して
いないが、リードを所定の形状(例えばガルウィング形
状)に成形し、実装基板に実装した状態で製品出荷する
場合とがある。図4及び図5に示す状態で出荷する場合
は、実装基板に実装する前の段階においてリード成形が
なされる。本実施形態では、実装基板に実装した状態で
製品出荷するTCP型半導体装置について説明してい
る。したがって、本実施形態のTCP型半導体装置の製
造はリード成形工程を含む。
In the TCP type semiconductor device, when the product is shipped in the state shown in FIGS. 4 and 5, the lead is formed into a predetermined shape (for example, a gull wing shape). The product may be shipped with it mounted. When shipping in the state shown in FIGS. 4 and 5, lead molding is performed before mounting on a mounting board. In the present embodiment, a TCP type semiconductor device that is shipped while mounted on a mounting board is described. Therefore, the manufacture of the TCP semiconductor device of the present embodiment includes a lead forming step.

【0030】本実施形態のTCP型半導体装置10は、
主に、半導体チップ1の電極パッド2上にボールボンデ
ィング法でAuバンプからなる突起状電極3を形成し、
その後、半導体チップ1の電極パッド2に突起状電極3
を介してテープキャリア6のリード4の一端側の先端部
分をボンディングツールで熱圧着して接続し、その後、
半導体チップ1の回路形成面1Xを樹脂7で覆い、その
後、テープキャリア6をリードパターン毎に切断し、そ
の後、バーンイン試験を施し、その後、電気的特性検査
を行い、その後、リードの他端側を切断し、その後、リ
ード4を例えばガルウィング形状に成形し、その後、テ
ープキャリア6の余分な部分を切り取ることによって製
造される。テープキャリア6をリードパターン毎に切断
する工程が施されることによって装置としての機能を備
える形になるので、その後の製造工程において本明細書
では便宜上TCP型半導体装置として説明する。
The TCP type semiconductor device 10 of the present embodiment is
A protruding electrode 3 made of an Au bump is mainly formed on an electrode pad 2 of a semiconductor chip 1 by a ball bonding method.
Then, the protruding electrodes 3 are formed on the electrode pads 2 of the semiconductor chip 1.
The tip of one end of the lead 4 of the tape carrier 6 is connected by thermocompression bonding with a bonding tool via
The circuit forming surface 1X of the semiconductor chip 1 is covered with the resin 7, the tape carrier 6 is cut for each lead pattern, thereafter, a burn-in test is performed, and then an electrical characteristic test is performed. , And thereafter, the lead 4 is formed into, for example, a gull wing shape, and thereafter, an excess portion of the tape carrier 6 is cut off. By performing the step of cutting the tape carrier 6 for each lead pattern, the tape carrier 6 has a function as a device. Therefore, in the following manufacturing process, the description will be made as a TCP type semiconductor device for convenience in this specification.

【0031】バーンイン試験において、TCP型半導体
装置10は、図1に示すように、キャリア治具15に装
着固定された状態でソケット20に収納される。即ち、
ソケット20は、TCP型半導体装置10が装着固定さ
れたキャリア治具15を収納する構造となっている。ソ
ケット20は、図1及び図2に示すように、外観的には
主に、ベース部材21と、枠構造の昇降部材22と、二
つの開閉部材23とを有する構造となっている。これら
の各部材は、絶縁性の樹脂等によって形成されている。
In the burn-in test, the TCP type semiconductor device 10 is housed in the socket 20 while being fixed to the carrier jig 15 as shown in FIG. That is,
The socket 20 has a structure in which the carrier jig 15 to which the TCP type semiconductor device 10 is mounted and fixed is housed. As shown in FIGS. 1 and 2, the socket 20 has an external appearance mainly including a base member 21, an elevating member 22 having a frame structure, and two opening / closing members 23. Each of these members is formed of an insulating resin or the like.

【0032】ベース部材21には、TCP型半導体装置
10のリードの他端側に設けられた検査用パッド4Aに
接続(接触する)されるコンタクトピン24が、向かい
合って二列に複数並んで取り付けられている。コンタク
トピン24は、図3に示すように、ベース部材21内を
上下に真っ直ぐ貫通するピン本体24Aと、ピン本体2
4Aに連なり、かつ側方に略Uの字状に突出する屈曲し
た撓み代部分24Bと、撓み代部分24Bの中間部から
上方に突出する接続部分24Cとを有する構造となって
いる。コンタクトピン24は、例えば、リン青銅等のバ
ネ鋼によって形成されている。コンタクトピン24は、
薄いバネ鋼の曲げ加工で形成してもよく、また、所望の
厚みをもった板材を打ち抜いて形成してもよい。なお、
コンタクトピン24は、その表面に金メッキが施されて
いる。
On the base member 21, a plurality of contact pins 24 connected to (contacting with) the test pads 4A provided on the other end side of the leads of the TCP type semiconductor device 10 are attached in a line in two rows. Have been. As shown in FIG. 3, the contact pin 24 includes a pin main body 24 </ b> A that penetrates vertically through the base member 21 and a pin main body 2.
4A, and has a bent bent portion 24B protruding laterally in a substantially U-shape, and a connecting portion 24C protruding upward from an intermediate portion of the bent portion 24B. The contact pins 24 are formed of, for example, spring steel such as phosphor bronze. The contact pin 24
It may be formed by bending a thin spring steel, or may be formed by punching a plate material having a desired thickness. In addition,
The contact pins 24 are plated with gold on the surface.

【0033】図1に示すように、ピン本体24Aの下端
は、ベース部材21の下面から一定長さ突出している。
また、撓み代部分24B及び接続部分24Cは、ベース
部材21の上面よりも突出し、昇降部材22をベース部
材21に向かって降下させた時、昇降部材22の下面に
よって下方に押し付けられて徐々に撓む。
As shown in FIG. 1, the lower end of the pin body 24A protrudes from the lower surface of the base member 21 by a predetermined length.
Further, the bending allowance portion 24B and the connection portion 24C protrude from the upper surface of the base member 21, and when the lifting member 22 is lowered toward the base member 21, it is pressed downward by the lower surface of the lifting member 22 and gradually bends. No.

【0034】二つの開閉部材23は互いに対向する位置
に設けられている。二つの開閉部材23は、昇降部材2
2を降下させた時に外側に開き、昇降部材22を上昇さ
せた時に閉じる。キャリア治具15の収納は二つの開閉
部材23が外側に開くことによって行われ、キャリア治
具15の保持固定は二つの開閉部材23が閉じることに
よっておこなわれる。
The two opening / closing members 23 are provided at positions facing each other. The two opening / closing members 23 are the lifting members 2
2 is opened outward when lowered, and closed when the lifting member 22 is raised. The storage of the carrier jig 15 is performed by opening the two opening and closing members 23 outward, and the holding and fixing of the carrier jig 15 is performed by closing the two opening and closing members 23.

【0035】コンタクトピン24の接続部分24Cは、
昇降部材22を上昇させることによって行われる。この
時、コンタクトピン24の接続部分24Cは、TCP型
半導体装置10のリード4の他端側の先端に向かってリ
ード4の他端側の検査用パッド4Aを擦りながら検査用
パッド4Aに接続される。即ち、ソケット20は、TC
P型半導体装置10を収納する際、リード4の他端側の
先端に向かってリード4の他端側の検査用パッド4Aを
擦りながらリード4の他端側の検査用パッド4Aにコン
タクトピン24の接続部分24Cが接続される外ワイピ
ング構造となっている。このような外ワイピング構造と
することにより、リード4の他端側の検査用パッド4A
にコンタクトピン24の接続部分24Cを接続する時の
擦りによって可撓性フィルム5がその外側に引っ張られ
るので、可撓性フィルム5の反りを抑制することができ
る。
The connecting portion 24C of the contact pin 24 is
This is performed by raising the elevating member 22. At this time, the connection portion 24C of the contact pin 24 is connected to the test pad 4A while rubbing the test pad 4A at the other end of the lead 4 toward the tip of the other end of the lead 4 of the TCP type semiconductor device 10. You. That is, the socket 20
When accommodating the P-type semiconductor device 10, the contact pins 24 are rubbed against the test pads 4A on the other end of the lead 4 while rubbing the test pads 4A on the other end of the lead 4 toward the other end of the lead 4. Has an outer wiping structure to which the connecting portion 24C is connected. With such an outer wiping structure, the inspection pad 4A on the other end side of the lead 4 is provided.
When the connecting portion 24C of the contact pin 24 is connected, the flexible film 5 is pulled outward by rubbing, so that warpage of the flexible film 5 can be suppressed.

【0036】また、このような外ワイピング構造のソケ
ット20を用いてTCP型半導体装置10のバーンイン
試験を行うことにより、リード4の他端側の検査用パッ
ド4Aにコンタクトピン24の接続部分24Cを接続す
る時の擦りによって可撓性フィルム5がその外側に引っ
張られるので、可撓性フィルム5の反りを抑制した状態
でバーンイン試験を実施することができ、バーンイン試
験時の熱によって固定されてしまう可撓性フィルム5の
反りを抑制することができる。
Further, by performing a burn-in test of the TCP type semiconductor device 10 using the socket 20 having such an outer wiping structure, the connection portion 24C of the contact pin 24 is connected to the test pad 4A at the other end of the lead 4. Since the flexible film 5 is pulled to the outside by the rubbing at the time of connection, the burn-in test can be performed in a state where the warp of the flexible film 5 is suppressed, and the flexible film 5 is fixed by heat during the burn-in test. Warpage of the flexible film 5 can be suppressed.

【0037】この結果、リード成形工程において、可撓
性フィルム5の反りに起因するリード成形不良を抑制す
ることができるので、TCP型半導体装置10の歩留ま
りを高めることができる。
As a result, in the lead forming step, lead forming defects due to warpage of the flexible film 5 can be suppressed, so that the yield of the TCP type semiconductor device 10 can be increased.

【0038】なお、本実施形態では、可撓性フィルム5
の反りを抑制する手段として、内ワイピング構造を用い
た例で説明したが、図6に示すように、ベース部材21
にTCP型半導体装置10のチップ部を押える押え部材
25をもうけた構造としてもよい。このような構造にす
ることにより、内ワイピング構造であっても、外ワイピ
ング構造と同様の効果が得られる。
In this embodiment, the flexible film 5
Although the example using the inner wiping structure has been described as means for suppressing the warpage of the base member 21, as shown in FIG.
Alternatively, a structure may be adopted in which a holding member 25 for holding the chip portion of the TCP semiconductor device 10 is provided. With such a structure, the same effect as the outer wiping structure can be obtained even with the inner wiping structure.

【0039】以上、本発明者によってなされた発明を、
前記実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は、
前記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸
脱しない範囲において種々変更可能であることは勿論で
ある。
As described above, the invention made by the present inventor is:
Although specifically described based on the embodiment, the present invention
It is needless to say that the present invention is not limited to the above-described embodiment, but can be variously modified without departing from the scope of the invention.

【0040】[0040]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。本発明によれば、可撓性フィルムの
反りを抑制することができる。本発明によれば、半導体
装置の歩留まりを高めることができる。
The effects obtained by the representative ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. According to the present invention, warpage of the flexible film can be suppressed. According to the present invention, the yield of semiconductor devices can be increased.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態であるソケットの模式的斜
視図である。
FIG. 1 is a schematic perspective view of a socket according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1に示すソケットの模式的断面図である。FIG. 2 is a schematic sectional view of the socket shown in FIG.

【図3】図1に示すソケットにおいて、コンタクトピン
の接続部の動作を説明するための模式図である。
FIG. 3 is a schematic diagram for explaining an operation of a connection portion of a contact pin in the socket shown in FIG.

【図4】図1に示すソケットに収納されるTCP型半導
体装置の模式的平面図である。
4 is a schematic plan view of a TCP type semiconductor device housed in the socket shown in FIG.

【図5】図4に示すTCP型半導体装置の模式的断面図
である。
5 is a schematic sectional view of the TCP type semiconductor device shown in FIG.

【図6】本発明の一実施形態の変形例を説明するための
模式図である。
FIG. 6 is a schematic diagram for explaining a modification of one embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…半導体チップ、2…電極パッド、3…突起状電極、
4…リード、4A…検査用パッド、5…可撓性フィル
ム、6…テープキャリア、7…樹脂、10…TCP型半
導体装置、15…キャリア治具、20…ソケット、21
…ベース部材、22…昇降部材、23…開閉部材、24
…コンタクトピン、25…押え部材。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Semiconductor chip, 2 ... Electrode pad, 3 ... Protruding electrode,
DESCRIPTION OF SYMBOLS 4 ... Lead, 4A ... Inspection pad, 5 ... Flexible film, 6 ... Tape carrier, 7 ... Resin, 10 ... TCP type semiconductor device, 15 ... Carrier jig, 20 ... Socket, 21
... Base member, 22 elevating member, 23 opening / closing member, 24
... contact pins, 25 ... holding members.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 清藤 彰 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体グループ内 (72)発明者 渡部 広紀 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体グループ内 (72)発明者 萩原 孝俊 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体グループ内 (72)発明者 中嶋 寛 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体グループ内 (72)発明者 庄司 照雄 東京都渋谷区東3丁目16番3号 日立電子 エンジニアリング株式会社内 (72)発明者 大野 建也 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体グループ内 (72)発明者 和田 雄二 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体グループ内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Akira Seito 5-20-1, Josuihoncho, Kodaira-shi, Tokyo Within the Semiconductor Group, Hitachi, Ltd. No. 20-1, Hitachi Semiconductor Co., Ltd. (72) Inventor Takatoshi Hagiwara 5-2-1, Josuihonmachi, Kodaira-shi, Tokyo Within Hitachi Semiconductor Co., Ltd. (72) Inventor Hiroshi Nakajima Tokyo 5-20-1, Josuihoncho, Kodaira-shi Hitachi Semiconductor Co., Ltd. (72) Inventor Teruo Shoji 3-16-3 Higashi, Shibuya-ku, Tokyo Hitachi Electronics Engineering Co., Ltd. YA 5-20-1, Josuihoncho, Kodaira-shi, Tokyo Within the Semiconductor Group, Hitachi, Ltd. (72) Inventor Yuji Wada East 5-20-1, Josuihonmachi, Kodaira-shi, Kyoto Within Hitachi, Ltd. Semiconductor Group

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 可撓性フィルムに形成され、一端側が半
導体チップの電極パッドに接続され、他端側が前記半導
体チップの外周囲の外側に引き出されたリードを有する
半導体装置を収納するソケットであって、 前記半導体装置を収納する際、前記リードの他端側の先
端に向かって前記リードの他端側の一部分を擦りながら
前記リードの他端側の一部分にコンタクトピンの接続部
分が接続される構造となっていることを特徴とするソケ
ット。
1. A socket for receiving a semiconductor device having a lead formed on a flexible film, one end of which is connected to an electrode pad of a semiconductor chip, and the other end of which is led out to the outer periphery of the semiconductor chip. When the semiconductor device is housed, the connection part of the contact pin is connected to a part of the other end of the lead while rubbing a part of the other end of the lead toward the other end of the lead. A socket characterized by having a structure.
【請求項2】 請求項1に記載のソケットにおいて、前
記半導体装置が装着されたキャリア治具を収納する構造
となっていることを特徴とするソケット。
2. The socket according to claim 1, wherein said socket has a structure for accommodating a carrier jig on which said semiconductor device is mounted.
【請求項3】 請求項1に記載のソケットにおいて、前
記コンタクトピンは、ピン本体と、前記ピン本体に連な
る屈曲した撓み代部分と、前記撓み代部分の中間部から
上方に突出する前記接続部分とを有する構造となってい
ることを特徴とするソケット。
3. The socket according to claim 1, wherein the contact pin has a pin main body, a bent allowance portion connected to the pin main body, and the connection portion protruding upward from an intermediate portion of the flex allowance portion. A socket having a structure having:
【請求項4】 一端側が半導体チップの電極パッドに接
続され、他端側が前記半導体チップの外周囲の外側に引
き出されたリードを有する半導体装置を収納するソケッ
トを用いて前記半導体装置の試験を行う工程を含む半導
体装置の製造方法であって、前記半導体装置を収納する
際、前記リードの他端側の先端に向かって前記リードの
他端側の一部分を擦りながら前記リードの他端側の一部
分にコンタクトピンの接続部分が接続される構造になっ
ているソケットを準備し、前記ソケットに前記半導体装
置を収納した状態でバーンイン試験を施す工程を備えた
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
4. A test of the semiconductor device is performed by using a socket for housing a semiconductor device having one end connected to an electrode pad of a semiconductor chip and the other end extending to the outside of the outer periphery of the semiconductor chip. A method of manufacturing a semiconductor device comprising the steps of: (a) when housing the semiconductor device, rubbing a part of the other end of the lead toward a tip of the other end of the lead; A method of preparing a socket having a structure in which a connection portion of a contact pin is connected to the socket, and performing a burn-in test with the semiconductor device housed in the socket.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108054455A (en) * 2018-01-15 2018-05-18 东莞阿李自动化股份有限公司 It is melted into hot-press equipment

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