JP2001166488A - Plate making method for planographic printing plate and automatic developing machine - Google Patents

Plate making method for planographic printing plate and automatic developing machine

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JP2001166488A
JP2001166488A JP35276499A JP35276499A JP2001166488A JP 2001166488 A JP2001166488 A JP 2001166488A JP 35276499 A JP35276499 A JP 35276499A JP 35276499 A JP35276499 A JP 35276499A JP 2001166488 A JP2001166488 A JP 2001166488A
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JP
Japan
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plate
propen
acid
water
developing
Prior art date
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Application number
JP35276499A
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Japanese (ja)
Inventor
Susumu Yoshida
進 吉田
Takashi Okuno
敬 奥野
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a plate making method for planographic printing plates which allows the always adequate setting of at least one regulation conditions among the replenishing amount of a removing liquid, temperature of the removing liquid and removing process time when removing an oxygen shielding layer according to the sizes and kinds of the PS plates provided with photopolymerization layers having the over-coating layers on the uppermost layers and eliminates the possibility of operation errors, etc., in the removing process of over-coating layers to be executed before the development processing of the PS plates. SOLUTION: A processor control section 30 of an automatic developing machine 16 online acquires various kinds of set information on the kinds, sizes, etc., of the PS plates inputted to a plate setter 14, determines the removal conditions for the over-coating layers in accordance with various kinds of the acquired set information and regulates the replenishing amount of the washing water, the temperature of the washing water and the process time in such a manner that the determined removal conditions may be attained.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷版の製版
方法、及び自動現像機にかかり、特に、コンピュータ等
のデジタル信号からレーザ等を用いて直接製版できる、
いわゆるダイレクト製版可能な平版印刷版の製版方法、
及び自動現像機に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for making a lithographic printing plate and to an automatic developing machine.
A method of making a lithographic printing plate capable of so-called direct plate making,
And an automatic developing machine.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、感光性平版印刷版(以下「PS
版」という)は、感光性平版印刷版処理装置(以下「P
S版プロセッサー」という)によって現像処理される。
このPS版プロセッサーにおける現像処理は、画像が記
録されたPS版を現像槽内に搬送しながら現像槽に貯留
された現像液に浸漬し、現像液中に設けた回転ブラシロ
ーラ等の擦り手段によってPS版の非画像部分の感光層
を除去することにより行われる。
2. Description of the Related Art In general, a photosensitive lithographic printing plate (hereinafter referred to as "PS
Plate) is a photosensitive lithographic printing plate processing apparatus (hereinafter referred to as “P”).
S "processor").
The developing process in the PS plate processor is performed by immersing the PS plate on which the image is recorded in the developing solution stored in the developing solution while transporting the PS plate into the developing solution, and rubbing with a rotating brush roller or the like provided in the developing solution. This is performed by removing the photosensitive layer in the non-image portion of the PS plate.

【0003】この現像液による処理が終了したPS版
は、水洗部で洗浄水によって水洗いされた後(水洗処
理)、不感脂化処理部でガム液が塗布されることにより
不感脂化処理が施され、その版面保護等の処理が連続し
て行われる。
[0003] The PS plate that has been processed with the developer is washed with washing water in a washing section (washing treatment), and then subjected to a desensitizing treatment by applying a gum solution in a desensitizing section. Then, the processing such as the plate surface protection is continuously performed.

【0004】PS版の感光層としては、ジアゾ樹脂や、
光架橋型や、光重合型が使用されている。中でも光重合
型の光重合性感光層は空気中の酸素により重合反応が阻
害されるので、一般に、光重合性感光層の上層に酸素遮
断性層を設けて重合反応が阻害されるのを防止してい
る。
As the photosensitive layer of the PS plate, diazo resin,
A photocrosslinking type and a photopolymerization type are used. Above all, the polymerization reaction of the photopolymerizable photosensitive layer is inhibited by oxygen in the air. Therefore, in general, an oxygen barrier layer is provided on the photopolymerizable photosensitive layer to prevent the polymerization reaction from being inhibited. are doing.

【0005】従来の技術では、現像と同時に酸素遮断性
層を除去するようにしているので、現像液の寿命が著し
く短くなってしまい、充分な現像処理を行うためには現
像層に補充される補充液の補充量を多くする必要があ
る、という難点がある。
In the prior art, since the oxygen-blocking layer is removed simultaneously with the development, the life of the developer is significantly shortened, and the developing layer is replenished in order to perform sufficient development processing. There is a disadvantage that it is necessary to increase the replenishment amount of the replenisher.

【0006】そのため、現像前にPS版の上層の酸素遮
断性層を除去する方法が提案されている。この方法で
は、PS版の現像前にPS版を水などの除去液に浸漬し
て、又は除去液に浸漬しながら回転ブラシローラ等の擦
り手段によってPS版の表面を擦ることで、酸素遮断性
層を除去する。
Therefore, there has been proposed a method of removing the oxygen barrier layer on the PS plate before development. In this method, before the development of the PS plate, the PS plate is immersed in a removing liquid such as water, or the surface of the PS plate is rubbed with a rubbing means such as a rotating brush roller while immersed in the removing liquid, so that the oxygen barrier property is improved. Remove the layer.

【0007】この方法によれば、現像前に酸素遮断性層
が除去されるので現像液の補充量を多くする必要がな
く、また、現像液の寿命が著しく短くなる恐れもないた
め、近年では主流となりつつある。
According to this method, since the oxygen-blocking layer is removed before development, it is not necessary to increase the replenishment amount of the developer, and there is no possibility that the life of the developer is significantly shortened. It is becoming mainstream.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来で
は、除去する酸素遮断性層の量に関わらず、一定の条件
で酸素遮断性層を除去している。そのため、版サイズが
小さく除去する酸素遮断性層の量も少ないにもかかわら
ず、版サイズの大きいPS版に合わせて除去液が補充さ
れ、その分除去液が無駄になったり、また、酸素遮断性
層が完全に除去されていなくても酸素遮断性層の除去処
理が終了してしまう不完全除去処理が行われるなどの場
合がある。
However, in the prior art, the oxygen barrier layer is removed under certain conditions regardless of the amount of the oxygen barrier layer to be removed. Therefore, although the plate size is small and the amount of the oxygen-blocking layer to be removed is small, the removing solution is replenished in accordance with the PS plate having a large plate size, and the removing solution is wasted by that amount. In some cases, an incomplete removal process in which the removal process of the oxygen-barrier layer is terminated even if the insulating layer is not completely removed.

【0009】過剰処理が行われる場合には、酸素遮断性
層を除去する必要のないPS版を多量の除去液を用いて
処理することになるため、除去液が無駄に使用されて廃
液量が不必要に多くなったり、除去槽内に回転ブラシロ
ーラなどの擦り部材が設けられている場合は、擦り部材
により酸素遮断性層の下層側の光重合層が擦られて版の
品質が劣化する恐れもある。また、不完全除去処理が行
われる場合には、除去されていない部分の酸素遮断性層
を後段の現像工程で除去することになるため、現像液の
寿命が短くなるという問題がある。
In the case of excessive treatment, the PS plate which does not need to remove the oxygen barrier layer is treated with a large amount of the removing liquid, so that the removing liquid is wasted and the amount of waste liquid is reduced. When the amount becomes unnecessary, or when a rubbing member such as a rotating brush roller is provided in the removal tank, the photopolymer layer on the lower layer side of the oxygen barrier layer is rubbed by the rubbing member, thereby deteriorating the quality of the plate. There is fear. In addition, when the incomplete removal treatment is performed, a portion of the oxygen-blocking layer that has not been removed is removed in a subsequent development step, so that there is a problem that the life of the developer is shortened.

【0010】さらに、近年では、省エネ化の要求が高ま
ってきており、除去液の無駄な使用をなくし、装置のラ
ンニングコストを下げることが重要な課題となってい
る。
Furthermore, in recent years, there has been an increasing demand for energy saving, and it has become an important issue to eliminate wasteful use of the removing liquid and to reduce the running cost of the apparatus.

【0011】以上のことから本発明は、現像前にPS版
に施す酸素遮断性層の除去処理における調整条件を、処
理対象となるPS版に応じて常に適切に設定できる平版
印刷版の製版方法、及び自動現像機を得ることを目的と
する。
From the above, the present invention provides a method of making a lithographic printing plate in which the conditions for adjusting the removal of the oxygen-blocking layer applied to the PS plate before development can always be appropriately set according to the PS plate to be processed. , And an automatic developing machine.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項1の発明は、酸素遮断性層を最上層に有し、そ
の下層側に光重合性感光層を有する平版印刷版を画像デ
ータに基いて露光した後、前記酸素遮断性層を除去液に
よって除去し、さらに現像を行う平版印刷版の製版方法
であって、前記酸素遮断性層を除去する際の除去液の補
充量、除去液の温度、及び、除去処理時間の少なくとも
1つの調整条件を、前段の工程で使用した版情報に基づ
いて決定する。
In order to achieve the above object, the invention of claim 1 is to provide a lithographic printing plate having an oxygen barrier layer on the uppermost layer and a photopolymerizable photosensitive layer on the lower side. After exposure based on the data, the oxygen-blocking layer is removed by a removing solution, and a plate-making method of a lithographic printing plate for further developing, wherein a replenishing amount of the removing solution when removing the oxygen-blocking layer, At least one condition for adjusting the temperature of the removal liquid and the removal processing time is determined based on the plate information used in the previous step.

【0013】また、請求項2の発明は、上記請求項1に
記載の平版印刷版の製版方法に適した自動現像機であ
り、酸素遮断性層を最上層に有し、その下層側に光重合
性感光層を有する平版印刷版の現像前に、前記平版印刷
版を除去槽内に搬送し、除去槽内に供給された除去液に
より前記酸素遮断性層を除去する除去手段と、前段の装
置で使用した版情報に基づいて酸素遮断性層を除去する
際の調整条件を決定する条件決定手段と、前記条件決定
手段によって決定された調整条件となるように、除去槽
に供給する除去液の補充量、除去液の温度、及び、処理
時間の少なくとも1つを調整する調整手段と、を備えて
いる。
According to a second aspect of the present invention, there is provided an automatic developing machine suitable for the method of making a lithographic printing plate according to the first aspect of the present invention. Before the development of the lithographic printing plate having a polymerizable photosensitive layer, the lithographic printing plate is transported into a removing tank, and a removing means for removing the oxygen barrier layer with a removing solution supplied into the removing tank; Condition determining means for determining adjustment conditions for removing the oxygen-barrier layer based on the plate information used in the apparatus, and a removing liquid supplied to the removing tank so that the adjusting conditions are determined by the condition determining means. Adjusting means for adjusting at least one of the replenishing amount, the temperature of the removing solution, and the processing time.

【0014】すなわち、請求項1及び請求項2の発明で
は、酸素遮断性層を最上層に有し、その下層側に光重合
性感光層を有する露光処理済みの平版印刷版を現像する
前に、前段の工程で使用した版情報に基づいて酸素遮断
性層を除去する際の除去槽に補充される除去液の補充
量、除去液の温度、及び、処理時間の少なくとも1つの
調整条件を決定する。そして、該調整条件となるように
調整した後、除去処理を行い、その後現像する。
In other words, according to the first and second aspects of the present invention, before developing an exposed lithographic printing plate having an oxygen-blocking layer on the uppermost layer and a photopolymerizable photosensitive layer below the oxygen-blocking layer, Determining at least one adjustment condition of the replenishing amount of the removing solution to be added to the removing tank, the temperature of the removing solution, and the processing time when removing the oxygen barrier layer based on the plate information used in the previous step. I do. Then, after adjustment is made so as to satisfy the adjustment conditions, a removal process is performed, and then development is performed.

【0015】版情報としては、版サイズ及び版種の少な
くとも1つを用いることができる。
As the plate information, at least one of a plate size and a plate type can be used.

【0016】版サイズが大きくなるほど酸素遮断性層の
量が多いので、除去液の補充量は、版サイズが大きくな
るにしたがって多くし、逆に版サイズが小さくなるにし
たがって少なくする等のように版サイズの大きさに応じ
て決定することができる。
Since the larger the plate size, the larger the amount of the oxygen-blocking layer, the replenishing amount of the removing solution is increased as the plate size increases, and conversely, decreased as the plate size decreases. It can be determined according to the size of the plate size.

【0017】これにより、実際に処理対象となっている
平板印刷板の酸素遮断性層を除去するために必要な除去
液の量に合わせた補充量の除去液が補充されるので、除
去液が無駄になることがなく、廃液量を減らすことがで
きる。
[0017] With this, the replenisher is replenished in a replenishing amount corresponding to the amount of the remover necessary for removing the oxygen-blocking layer of the lithographic printing plate to be actually processed. The amount of waste liquid can be reduced without wasting.

【0018】また、除去液の温度は、前段の工程で使用
した版種ごとに予め定めた温度を用いて決定することが
できる。
The temperature of the removing solution can be determined by using a predetermined temperature for each type of plate used in the preceding step.

【0019】さらに、除去処理時間は、予め版種毎に決
定することができる。除去処理時間の調整は平版印刷版
の搬送速度を制御することにより調整できる。
Further, the removal processing time can be determined in advance for each plate type. The removal processing time can be adjusted by controlling the transport speed of the lithographic printing plate.

【0020】このような調整条件は、前段の工程で使用
した版情報を用いて決定しているため、ユーザにより調
整条件を入力する必要がなく、よってユーザによる変更
のし忘れや入力ミスなどの操作ミスがなくなる。したが
って、常に除去対象の平版印刷版に最適な調整条件に決
定することができる。
Since such adjustment conditions are determined by using the version information used in the previous step, there is no need for the user to input the adjustment conditions, and therefore, the user is prevented from forgetting to change or input mistakes. Eliminate operation mistakes. Therefore, it is possible to always determine the optimum adjustment condition for the planographic printing plate to be removed.

【0021】このように請求項1及び請求項2の発明で
は、前段の工程で使用した版情報に基いて除去液の補充
量、除去液の温度、及び、除去処理時間の少なくとも1
つの調整条件を決定するため、実際に処理されている平
版印刷版に合わせて、酸素遮断性層の除去処理を行うこ
とができる。
As described above, according to the first and second aspects of the present invention, at least one of the replenishing amount of the removing solution, the temperature of the removing solution, and the removing processing time is determined based on the plate information used in the preceding step.
In order to determine the two adjustment conditions, the oxygen barrier layer can be removed in accordance with the lithographic printing plate that is actually being processed.

【0022】また、現在除去処理している平版印刷版の
種類と次に除去処理する平版印刷版の種類とが異なる場
合に、現在処理している平版印刷版の処理中又はそれよ
りも前に、次に処理する平版印刷版の種類に適した調整
条件を予め決定しておき、現在処理している平版印刷版
の処理終了後、調整条件をただちに次に処理する平版印
刷版の種類に適した調整条件に変更するように構成でき
る。これにより、待機時間を短縮できるので、効率的で
ある。
If the type of the lithographic printing plate currently being removed is different from the type of the lithographic printing plate to be removed next, the lithographic printing plate currently being processed is processed during or before the lithographic printing plate being processed. Adjustment conditions suitable for the type of lithographic printing plate to be processed next are determined in advance, and after the processing of the lithographic printing plate currently being processed, the adjustment conditions are immediately adjusted to the type of lithographic printing plate to be processed next. It can be configured to change to the adjusted condition. As a result, the waiting time can be reduced, which is efficient.

【0023】なお、「前段の工程」とは、酸素遮断性層
を除去する前の工程であり、酸素遮断性層を除去する前
の複数の工程の中から選択した1つ又は複数の工程であ
る。版情報は、前段の1つの工程で使用したものを使用
しても良いし、例えば、版種は露光工程で使用したもの
を用い、版サイズは露光工程の前の工程で使用したもの
を用いる等のように、前段の複数の工程で使用したもの
を使用しても良い。
The "previous step" is a step before removing the oxygen-blocking layer, and is one or more steps selected from a plurality of steps before removing the oxygen-blocking layer. is there. As the plate information, the information used in the previous step may be used. For example, the plate type used in the exposure step and the plate size used in the step before the exposure step may be used. Such as those used in a plurality of previous steps may be used.

【0024】また、酸素遮断性層の除去前に、前記平版
印刷版を加熱することもできる。この場合、現像処理前
の平版印刷版の表面温度が均一にされるので、露光後の
雰囲気温度や時間差による反応のムラを防止することが
でき、感光層の刷耐力を向上できるとともに、網点の大
きさを均一に形成できるので、より画像品質の良好な製
版が得られる。
Before removing the oxygen barrier layer, the lithographic printing plate may be heated. In this case, since the surface temperature of the lithographic printing plate before the development processing is made uniform, it is possible to prevent the reaction unevenness due to the ambient temperature and the time difference after the exposure, to improve the printing durability of the photosensitive layer, and to improve the halftone dot. Can be formed uniformly, so that plate making with better image quality can be obtained.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態の一例を詳細に説明する。本実施の形態では、
図1に示す様に、パソコン10、ワークステーション1
2、プレートセッター(露光装置)14、及びPS版プ
ロセッサー(自動現像機)16から構成された製版シス
テムに本発明を適用した場合について説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the present embodiment,
As shown in FIG. 1, a personal computer 10, a workstation 1
2. A case where the present invention is applied to a plate making system including a plate setter (exposure device) 14 and a PS plate processor (automatic developing machine) 16 will be described.

【0026】また、本実施の形態で用いる感光性平版印
刷板(以下、PS版と称す。)は、裏面にバックコート
層が設けられたアルミニウム支持体の表面に有機下塗
層、光重合性感光層、オーバーコート層(酸素遮断性
層)が順に設けられている。なお、PS版の詳細につい
ては後述する。
The photosensitive lithographic printing plate (hereinafter, referred to as PS plate) used in the present embodiment has an organic undercoat layer on the surface of an aluminum support having a back coat layer on the back surface, and a photopolymerizable photosensitive layer. An optical layer and an overcoat layer (oxygen barrier layer) are sequentially provided. The details of the PS plate will be described later.

【0027】本実施の形態の製版システムは、パソコン
10、ワークステーション12、プレートセッター1
4、及びPS版プロセッサー16が全てオンライン接続
されており、パソコン10に入力された画像データや、
版厚、版サイズ及びPS版の種類(版種)などの版情報
が各種設定情報として、オンラインでプレートセッター
14、及び、PS版プロセッサー16に出力可能であ
る。
The plate making system according to the present embodiment includes a personal computer 10, a work station 12, a plate setter 1
4 and the PS version processor 16 are all connected online, and the image data input to the personal computer 10 and the
Plate information such as plate thickness, plate size, and PS plate type (plate type) can be output online as various setting information to the plate setter 14 and the PS plate processor 16.

【0028】パソコン10には、例えば、スキャナーな
どの画像読取手段から読み込んだ画像をディスプレイに
表示しながら編集したり、ディスプレイ上に文字や画像
を新規に作成し、印刷対象の画像を作成するアプリケー
ションがインストールされている。
The personal computer 10 includes, for example, an application for editing an image read from an image reading means such as a scanner while displaying the image on a display, or creating a new character or image on the display and creating an image to be printed. Is installed.

【0029】このアプリケーションは、ユーザにより作
成された画像を、例えば、アウトラインや、塗りつぶし
領域の面積率及び塗りつぶし領域の透過率等を指示する
描画コマンド等のベクトル形式の画像データとしてワー
クステーション12に出力する。また、画像の作成と同
時にキーボードからユーザによって入力された、例え
ば、露光対象となるPS版の版種、版厚、及び版サイズ
等の各種設定情報を、前記ベクトル形式の画像データと
共にテキストデータとしてワークステーション12に出
力する。
This application outputs an image created by a user to the workstation 12 as vector-format image data such as an outline, a drawing command for designating an area ratio of a filled area, a transmittance of a filled area, and the like. I do. Further, various setting information such as the type, thickness and size of the PS plate to be exposed, which is input by the user from the keyboard at the same time as the creation of the image, is converted into text data together with the vector format image data. Output to the workstation 12.

【0030】ワークステーション12には、ラスタイメ
ージプロセッサ(以下、RIPと称す。)、プレートセ
ッター14のドライバーソフトがインストールされてい
る。
The workstation 12 has a raster image processor (hereinafter, referred to as RIP) and driver software for the platesetter 14 installed therein.

【0031】RIPは、ベクトル形式の画像データを解
釈して階調を持ったドットの並びとして展開した、TI
FF形式のファイル(以下、TIFFファイルと称す。)
やGIFファイル等のラスタ形式の画像データに変換す
るアプリケーションであり、本実施の形態では、ベクト
ル形式の画像データをタグ形式のヘッダ部とイメージデ
ータ部とから構成されたTIFFファイルに変換する。
The RIP interprets vector-format image data and develops it as an array of dots having gradations.
FF format file (hereinafter referred to as TIFF file)
In this embodiment, the image data is converted from a vector format image data into a TIFF file including a tag format header portion and an image data portion.

【0032】プレートセッター14のドライバーソフト
はTIFFファイル及びテキスト形式のPS版の版種、
版厚、及び版サイズ等の各種設定情報を、プレートセッ
ター14で解析できるイメージフォーマットに変換して
プレートセッター14に出力するソフトウエアである。
The driver software of the plate setter 14 is a TIFF file and a PS version in a text format.
This is software that converts various setting information such as plate thickness and plate size into an image format that can be analyzed by the platesetter 14, and outputs the image format to the platesetter 14.

【0033】したがって、ワークステーション12で
は、パソコン10から入力された描画コマンド等のベク
トル形式の画像データをTIFFファイルに変換した
後、このTIFFファイル及びPS版の版種、版厚、及
び版サイズなどの各種設定情報を、プレートセッター1
4のドライバーソフトが、プレートセッター14で解析
できるイメージフォーマットに変換した後、プレートセ
ッター14に出力する。
Therefore, the workstation 12 converts the vector-format image data such as the drawing command input from the personal computer 10 into a TIFF file, and then converts the TIFF file and the PS plate into a plate type, a plate thickness, a plate size, and the like. Various setting information of the plate setter 1
4 is converted into an image format that can be analyzed by the platesetter 14, and then output to the platesetter 14.

【0034】プレートセッター14は、ROM、RAM
及びCPUからなるセッター制御部18を含んでいる。
ROMにはプレートセッター14を制御するための各種
プログラムが記憶され、RAMには、プレートセッター
14で解析できるイメージフォーマット形式のTIFF
ファイル及び各種設定情報が一旦記憶される。
The plate setter 14 includes a ROM and a RAM.
And a setter control section 18 composed of a CPU.
Various programs for controlling the plate setter 14 are stored in the ROM, and a TIFF in an image format that can be analyzed by the plate setter 14 is stored in the RAM.
The file and various setting information are temporarily stored.

【0035】CPUは、ROMから各種プログラムを呼
び出し、該プログラムに基いてRAMから読み込んだT
IFFファイル及び前述した各種設定情報に基いて、例
えば、プレートセッター14の搬送手段(図示せず)の
搬送速度を制御するための制御信号やレーザ光源(図示
せず)のオンオフ駆動信号、及び光量の調整を行うため
のレーザ駆動信号などの各種制御信号を生成し、該各種
制御信号によるプレートセッター14の駆動制御を行
う。これにより、プレートセッター14は、パソコン1
0上で選択された画像に応じて最適な調整条件でPS版
の露光処理を行うこととなる。
The CPU calls various programs from the ROM, and reads T from the RAM based on the programs.
Based on the IFF file and the various kinds of setting information described above, for example, a control signal for controlling a transport speed of a transport unit (not shown) of the plate setter 14, an on / off drive signal of a laser light source (not shown), and a light amount A variety of control signals such as a laser drive signal for performing the adjustment are generated, and the driving of the platesetter 14 is controlled by the various control signals. As a result, the plate setter 14 can use the personal computer 1
The exposure processing of the PS plate is performed under the optimum adjustment condition according to the image selected on the image plane 0.

【0036】プレートセッター14としては、エクスタ
ーナルドラム(アウタードラム)型、フラットベット
型、及び、インナードラム型のものを用いることができ
る。中でも、紫外から可視光領域(360nm〜450
nm)の半導体レーザを用いたインナードラム型のプレ
ートセッターを用いることが好ましい。このインナード
ラム型のプレートセッターの半導体レーザとしては、I
nGaN系の半導体レーザが好ましい。このような構成
とすることで、インナードラム型のプレートセッターで
あってもかぶりの発生を少なくして、露光量を増加させ
ることができるので、耐刷性を向上できるという利点が
ある。
As the plate setter 14, an external drum (outer drum) type, a flat bed type, or an inner drum type can be used. Above all, an ultraviolet to visible light region (360 nm to 450 nm)
nm) of an inner drum type plate setter using a semiconductor laser. The semiconductor laser of this inner drum type plate setter includes I
An nGaN-based semiconductor laser is preferable. By adopting such a configuration, even in the case of an inner drum type plate setter, the occurrence of fog can be reduced and the exposure amount can be increased, so that there is an advantage that the printing durability can be improved.

【0037】その理由としては、明確ではないが、下記
のように推定できる。すなわち、PS版の感光層で吸収
しきれなかったレーザ光がPS版の表面から反射光とし
て射出されるが、この反射光の波長が長いほど正反射効
率が高く、反射光の波長が短いほど、散乱して正反射効
率が減少する。そのため、紫外から可視光領域の半導体
レーザを用いたインナードラム型のプレートセッターを
用いることにより、正反射効率が減少し、正反射光によ
るかぶりの発生が低く抑えられると考えられる。
Although the reason is not clear, it can be estimated as follows. That is, the laser light that cannot be absorbed by the photosensitive layer of the PS plate is emitted as reflected light from the surface of the PS plate. The longer the wavelength of the reflected light, the higher the regular reflection efficiency, and the shorter the wavelength of the reflected light, the shorter the wavelength. , And the specular reflection efficiency is reduced. Therefore, by using an inner drum type plate setter using a semiconductor laser in the ultraviolet to visible light region, it is considered that the regular reflection efficiency is reduced and the occurrence of fog due to the regular reflected light is suppressed to a low level.

【0038】また、使用する光源としては、上述したI
nGaN系の半導体レーザなどの紫外から可視光領域
(360nm〜450nm)の半導体レーザの他に、例え
ば、488nmや514.5nmのArレーザ、532
nmのFD−YAGレーザ等を用いたものが、出力、寿
命、安定性、及びコスト面などで好ましい。なお、プレ
ートセッター14の露光処理については公知のため、こ
こでは詳細な説明は省略する。
As a light source to be used, the above-mentioned I
Ultraviolet to visible light region such as nGaN semiconductor laser
(360 nm to 450 nm) semiconductor lasers, for example, 488 nm or 514.5 nm Ar lasers, 532
The use of an FD-YAG laser of nm or the like is preferable in terms of output, life, stability, cost, and the like. In addition, since the exposure processing of the plate setter 14 is publicly known, detailed description is omitted here.

【0039】さらに、セッター制御部18のROMに
は、PS版プロセッサー16のドライバーソフトがイン
ストールされており、版種、版厚、及び版サイズなどの
各種設定情報を、PS版プロセッサー16のドライバー
ソフトにより、PS版プロセッサー16で解析できるフ
ォーマットに変換した後、PPFデータと共にPS版プ
ロセッサー16に出力する。
Further, the driver software of the PS plate processor 16 is installed in the ROM of the setter control unit 18, and various setting information such as plate type, plate thickness, and plate size are stored in the driver software of the PS plate processor 16. After that, the data is converted into a format that can be analyzed by the PS plate processor 16 and output to the PS plate processor 16 together with the PPF data.

【0040】PS版プロセッサー16は、図2に示すよ
うに、大別して、加熱部20、第1水洗部22、現像部
24、第2水洗部26、フィニッシャー部28、乾燥部
29、及びプロセッサー制御部30から構成され、複数
対の搬送ローラから構成された搬送機構により、PS版
が加熱部20から第1水洗部22、現像部24、第2水
洗部26、フィニッシャー部28、及び乾燥部29の順
に搬送される。
As shown in FIG. 2, the PS plate processor 16 is roughly divided into a heating section 20, a first washing section 22, a developing section 24, a second washing section 26, a finisher section 28, a drying section 29, and a processor control section. The PS plate is moved from the heating unit 20 to the first washing unit 22, the developing unit 24, the second washing unit 26, the finisher unit 28, and the drying unit 29 by a transport mechanism including a plurality of pairs of transport rollers. Are transported in this order.

【0041】加熱部20は、図示しない駆動手段の駆動
力が伝達される引き込みローラ対31と、加熱装置32
とから構成され、引き込みローラ対31は、露光済みの
PS版110を挟持した状態でPS版110の搬送方向
に沿って回転することによってPS版110をPS版プ
ロセッサー16の内部に引き込む。加熱装置32は、P
S版プロセッサー16の内部に引き込まれたPS版11
0を加熱する。
The heating unit 20 includes a pair of pull-in rollers 31 to which the driving force of a driving unit (not shown) is transmitted, and a heating device 32.
The pull-in roller pair 31 pulls the PS plate 110 into the PS plate processor 16 by rotating along the transport direction of the PS plate 110 while holding the exposed PS plate 110 therebetween. The heating device 32
PS version 11 drawn inside S version processor 16
Heat 0.

【0042】現像処理前にPS版110を加熱すること
によって、PS版110の光重合性感光層における画像
形成領域(すなわち、露光領域)の硬化を促進させる。な
お、本実施の形態では、加熱部20の加熱条件を決定す
るための前記各種設定情報も前段の装置からオンライン
で取得して一旦RAMに記憶した後、記憶された前記各
種設定情報に基いてヒータの駆動電圧を制御している。
By heating the PS plate 110 before the development processing, the curing of the image forming area (that is, the exposed area) in the photopolymerizable photosensitive layer of the PS plate 110 is promoted. In the present embodiment, the various setting information for determining the heating condition of the heating unit 20 is also acquired online from the preceding device, temporarily stored in the RAM, and then based on the stored various setting information. The heater drive voltage is controlled.

【0043】これにより、PS版の表面温度を、PS版
110の版種、版厚、版サイズの組合せに最適な加熱条
件で、かつ、プレートセッター14の露光部内の温度又
は加熱処理する前のPS版110の温度に関わらず均一
にすることができ、熱処理不足や熱処理オーバー等の不
都合を解消でき、良好な加熱処理を行うことができる。
また、ユーザが各種設定情報を入力する必要がないた
め、操作ミス等による損失などの発生を回避でき、ま
た、つぎの加熱条件への切り換えが効率よく行えるの
で、露光処理から現像処理にわたっての処理効率も向上
できる。
As a result, the surface temperature of the PS plate is adjusted under the optimum heating conditions for the combination of the type, thickness and size of the PS plate 110, and the temperature in the exposed portion of the plate setter 14 or the temperature before the heat treatment. The uniformity can be achieved irrespective of the temperature of the PS plate 110, problems such as insufficient heat treatment and excessive heat treatment can be eliminated, and favorable heat treatment can be performed.
Further, since there is no need for the user to input various setting information, it is possible to avoid the occurrence of loss due to an operation error or the like, and it is possible to efficiently switch to the next heating condition. Efficiency can also be improved.

【0044】加熱部20において、加熱処理されたPS
版110は、後段に設けられた第1水洗部(除去手段)
22に搬送される。
In the heating section 20, the heat-treated PS
The plate 110 is provided with a first washing unit (removing means) provided at a later stage.
22.

【0045】第1水洗部22は、図2に示すように、第
1水洗槽(除去槽)60を備えている。第1水洗槽60
には、洗浄水(除去液)が貯留されており、槽内には洗浄
水の温度を調節する温度調整装置が設けられている。洗
浄水としては、ここでは、水(水道水、又は不純物含有
量の少ない純水等)を使用しているが、必要に応じて、
界面活性剤や防腐剤等を添加したものを使用することも
できる。
The first washing section 22 has a first washing tank (removal tank) 60 as shown in FIG. First washing tank 60
Contains cleaning water (removal liquid), and a temperature adjusting device for adjusting the temperature of the cleaning water is provided in the tank. As the washing water, here, water (tap water or pure water having a low impurity content) is used, but if necessary,
Those to which a surfactant, a preservative and the like are added can also be used.

【0046】温度調整装置は、ヒータ34a、チラー3
4b、及び温度センサ34cから構成され、温度センサ
34cが検出した温度に基いて後述するプロセッサー制
御部30から出された指示信号により、ヒータ34a又
はチラー34bのいずれか一方を駆動し、洗浄水の温度
が処理対象となるPS版110の版種に応じた最適な温
度となるように温度調節を行う。
The temperature control device includes a heater 34a, a chiller 3
4b, and a temperature sensor 34c. Based on the temperature detected by the temperature sensor 34c, one of the heater 34a and the chiller 34b is driven by an instruction signal output from the processor control unit 30 described later, and The temperature is adjusted so that the temperature becomes an optimum temperature according to the type of the PS plate 110 to be processed.

【0047】さらに、第1水洗槽60には、第1オーバ
ーフロー管61が設けられており、槽内に溜まった洗浄
水の液面レベルが所定レベルを超えたときに洗浄水が第
1オーバーフロー管61内に流れ込んで廃液タンク80
へ排水され、槽内の液面レベルが常に一定となるように
調整される。
Further, a first overflow pipe 61 is provided in the first washing tank 60, and when the liquid level of the washing water accumulated in the tank exceeds a predetermined level, the first overflow pipe 61 is provided. Waste liquid tank 80 flowing into 61
And adjusted so that the liquid level in the tank is always constant.

【0048】また、第1水洗槽60には、PS版110
の搬送方向に沿って上流側から順に、引き込みローラ対
62、補充筒64c、第1水供給ノズル64a、第1回
転ブラシローラ66、バックアップローラ67、第2水
供給ノズル64b、搬送ローラ対68及び送り出しロー
ラ対72が設けられている。
The first washing tank 60 has a PS plate 110
And a replenishing cylinder 64c, a first water supply nozzle 64a, a first rotating brush roller 66, a backup roller 67, a second water supply nozzle 64b, a conveyance roller pair 68, and a conveyance roller 68. A delivery roller pair 72 is provided.

【0049】第1水供給ノズル64a及び第2水供給ノ
ズル64bには、ポンプP4とフィルタFとで構成され
た循環装置が設けられた管路37から洗浄水が供給され
る。この管路37は、一端が第1水洗槽60の底部に開
口し、他端が二股に分かれて第1水供給ノズル64a及
び第2水供給ノズル64bに連結しており、第1水洗槽
60内の洗浄水をポンプP4により汲み上げて第1水供
給ノズル64a及び第2水供給ノズル64bに供給する
ことで洗浄水を循環させる。
Wash water is supplied to the first water supply nozzle 64a and the second water supply nozzle 64b from a pipe line 37 provided with a circulation device constituted by a pump P4 and a filter F. One end of the conduit 37 is open at the bottom of the first washing tank 60, and the other end is bifurcated and connected to the first water supply nozzle 64 a and the second water supply nozzle 64 b. The cleaning water is pumped up by the pump P4 and supplied to the first water supply nozzle 64a and the second water supply nozzle 64b to circulate the cleaning water.

【0050】また、補充筒64cは、後述する水貯留槽
84に連結されており、補充ポンプP1によって水貯留
槽84から清浄な洗浄水を第1水洗槽60内に補充す
る。なお、この補充ポンプP1は、プロセッサー制御部
30により駆動が制御されている。
The replenishing cylinder 64c is connected to a water storage tank 84 which will be described later, and replenishes the first washing tank 60 with clean washing water from the water storage tank 84 by a replenishing pump P1. The driving of the refill pump P1 is controlled by the processor control unit 30.

【0051】なお、本実施の形態では、水貯留層84か
らの清浄な水を補充用の洗浄水として使用しているが、
補充用の洗浄水を貯留した洗浄水補充層を別個に設けて
もよい。この補充用の洗浄水としては、第1水洗槽60
内の洗浄水と同様に、水(水道水、又は不純物含有量の
少ない純水等)や、水に界面活性剤や防腐剤等を添加し
たものを使用することができる。
In this embodiment, the clean water from the water storage layer 84 is used as the replenishing washing water.
A washing water replenishing layer storing the replenishing washing water may be separately provided. The replenishing washing water includes a first washing tank 60
Water (tap water or pure water having a small content of impurities) or water obtained by adding a surfactant, a preservative, or the like can be used in the same manner as the washing water in the above.

【0052】二対の搬送ローラ対62、68は、第1水
洗槽60の上方に設けられ、PS版110の搬送路を形
成しており、図示しない駆動手段の駆動力を受けて回転
し、加熱部20から送り込まれたPS版110を挟持搬
送する。
The two pairs of transport rollers 62 and 68 are provided above the first washing tank 60 and form a transport path for the PS plate 110. The transport rollers 62 and 68 rotate under the driving force of a driving unit (not shown). The PS plate 110 sent from the heating unit 20 is nipped and conveyed.

【0053】第1水供給ノズル64aは、洗浄水を第1
回転ブラシローラ66に擦られる前のPS版110に供
給する。第1回転ブラシローラ66は、第1バックアッ
プローラ67と対となっており、搬送されているPS版
110表面を研磨して最上層のオーバーコート層を取り
除く。さらに、第2水供給ノズル64bは、第1回転ブ
ラシローラ66に擦られた後のPS版110に洗浄水を
供給する。
The first water supply nozzle 64a supplies cleaning water to the first water supply nozzle 64a.
It is supplied to the PS plate 110 before being rubbed by the rotating brush roller 66. The first rotating brush roller 66 is paired with the first backup roller 67, and removes the uppermost overcoat layer by polishing the surface of the PS plate 110 being transported. Further, the second water supply nozzle 64b supplies cleaning water to the PS plate 110 after being rubbed by the first rotating brush roller 66.

【0054】また、水貯留槽84には補充用の清浄な水
が貯留されており、第2水供給ノズル64bの他に、希
釈用の水を現像槽70内に補充する希釈水噴射ノズル7
6と、第2水洗槽90内に水を補充する第2スプレーパ
イプ96とが連結されている。
In addition, clean water for replenishment is stored in the water storage tank 84. In addition to the second water supply nozzle 64b, the dilution water injection nozzle 7 for replenishing water for dilution into the developing tank 70 is provided.
6 and a second spray pipe 96 for refilling water in the second washing tank 90 are connected.

【0055】プロセッサー制御部30(条件決定手段、
調整手段)は、CPU、ROM及びRAMから構成され
ている。RAMにはプレートセッター14からオンライ
ンで取得した各種設定情報とPPFデータが一旦記憶さ
れる。ROMには、各種設定情報に含まれる版サイズ及
び版種の少なくとも一方に基いて第1水洗部22に供給
する洗浄水の補充量、前記洗浄水の温度、及び洗浄時間
(除去時間)を制御する条件調整プログラムと、版サイ
ズに対応した補充量Q、版種に対応する処理温度、及び
版種に対応する処理時間が記憶されている。
The processor control unit 30 (condition determining means,
The adjusting means) includes a CPU, a ROM, and a RAM. Various setting information and PPF data obtained online from the plate setter 14 are temporarily stored in the RAM. The ROM controls the replenishment amount of the washing water to be supplied to the first washing section 22, the temperature of the washing water, and the washing time (removal time) based on at least one of the plate size and the plate type included in the various setting information. A condition adjustment program, a replenishment amount Q corresponding to the plate size, a processing temperature corresponding to the plate type, and a processing time corresponding to the plate type are stored.

【0056】ROMに記憶された補充量Qは、例えば、
縦×横が650mm×550mmの中版であれば標準の
補充量Q1、縦×横が254mm×391mmの小版で
あれば補充量Q2(但し、Q1>Q2)、縦×横が113
0mm×930mmの大版であれば補充量Q3(但し、
Q3>Q1)、…というように版サイズ毎に定められて
いる。なお、これらの版サイズと補充量Qは一例であ
り、本発明は、これらに限るものではない。
The replenishment amount Q stored in the ROM is, for example,
The standard replenishment amount Q1 for a medium plate of 650 mm × 550 mm in height and width, the replenishment amount Q2 (Q1> Q2) for a small plate of 254 mm × 391 mm in height and width, and 113 for height and width.
For a large plate of 0 mm x 930 mm, the replenishment amount Q3 (however,
Q3> Q1),... Are determined for each plate size. The plate size and the replenishment amount Q are examples, and the present invention is not limited to these.

【0057】また、処理温度は、例えば、高耐刷品であ
る版種Aは30℃、通常品の版種Bは25℃、…という
ように版種毎に予めROMに記憶されている。なお、処
理温度は、一般的に使用されているフォトポリマーCT
Pでは20℃以上45℃以下の温度範囲、好ましくは2
5℃以上35℃以下の温度範囲の間に定めることができ
る。
The processing temperature is stored in the ROM in advance for each plate type, for example, 30 ° C. for plate type A, which is a high printing life product, 25 ° C. for plate type B, which is a normal product. The processing temperature is the same as that of commonly used photopolymer CT.
For P, a temperature range of 20 ° C. to 45 ° C., preferably 2 ° C.
It can be set within a temperature range of 5 ° C. or more and 35 ° C. or less.

【0058】処理時間は、例えば、高耐刷品である版種
Aは搬送速度を760mm/分として30秒間、通常品
である版種Bは搬送速度を1000mm/分として20
秒間、…というように版種毎に予めROMに記憶されて
いる。なお、処理時間は、一般的に使用されているフォ
トポリマーCTPは5秒以上120秒以下の範囲、好ま
しくは7秒以上60秒以下の範囲の間に定めることがで
きる。
The processing time is, for example, 30 seconds for plate type A, which is a high printing durability product, at a transport speed of 760 mm / min, and 20 seconds for plate type B, which is a normal product, at a transport speed of 1000 mm / min.
For example, seconds,... Are stored in the ROM in advance for each version type. The processing time of the commonly used photopolymer CTP can be determined in the range of 5 seconds to 120 seconds, preferably in the range of 7 seconds to 60 seconds.

【0059】なお、版種としては、例えば、新聞用PS
版、高耐刷用PS版及び高画質用PS版等があり、本発
明は、上記で説明した版種A及び版種Bに対応する処理
温度及び処理時間のみに限るものではなく、これらの版
種毎に定めてもよい。
As the plate type, for example, a newspaper PS
Plate, a high printing plate, a high quality PS plate, and the like. The present invention is not limited to only the processing temperature and the processing time corresponding to the plate type A and the plate type B described above. It may be determined for each version type.

【0060】CPUは、ROMに記憶された条件調整プ
ログラムを呼び出し、前段の装置であるプレートセッタ
ー14からオンラインで各種設定情報を取得してRAM
に記憶した後、RAMに記憶された各種設定情報に含ま
れる版サイズに基いて洗浄水の補充量を決定すると共
に、RAMに記憶された版種に基いて、洗浄水の温度、
洗浄時間(除去時間)の各調整条件を決定し、決定した
調整条件となるように補充ポンプP1、温度調整装置、
及び搬送機構を制御する。
The CPU calls the condition adjustment program stored in the ROM, obtains various setting information online from the plate setter 14, which is the apparatus at the preceding stage, and acquires the various setting information in the RAM.
After that, the replenishment amount of the washing water is determined based on the plate size included in the various setting information stored in the RAM, and the temperature of the washing water is determined based on the plate type stored in the RAM.
Each adjustment condition of the cleaning time (removal time) is determined, and the replenishing pump P1, the temperature adjusting device,
And the transport mechanism.

【0061】ここで、プロセッサー制御部30のCPU
により実行される制御について図3のフローチャートを
参照しながら説明する。まず、ステップ100では、R
AMから各種設定情報を読み込む。次のステップ102
では、各種設定情報に版サイズが含まれるかを判断す
る。各種設定情報に版サイズが含まれると判断された場
合はステップ104に移行し、版サイズが含まれないと
判断された場合はステップ112に移行する。
Here, the CPU of the processor control unit 30
Will be described with reference to the flowchart of FIG. First, in step 100, R
Read various setting information from AM. Next step 102
Then, it is determined whether or not the various setting information includes the plate size. When it is determined that the plate size is included in the various setting information, the process proceeds to step 104, and when it is determined that the plate size is not included, the process proceeds to step 112.

【0062】ステップ104では、版サイズに対応する
補充量をROMから読み出してステップ106に移行す
る。前段の装置から読み出した版サイズが中版であれば
Q1、小版であればQ2、大版であればQ3を、ROM
から読み出す。一方、各種設定情報に版サイズが含まれ
無い場合はステップ112で、標準の補充量Q1をRO
Mから読み出してステップ106に移行する。
At step 104, the replenishment amount corresponding to the plate size is read from the ROM, and the routine proceeds to step 106. If the size of the plate read from the preceding device is medium, Q1 is read, if it is small, Q2, if it is large, Q3, ROM
Read from On the other hand, if the plate size is not included in the various setting information, the standard replenishment amount Q1 is
After reading from M, the process proceeds to step 106.

【0063】ステップ106では、ROMから読み出し
た補充量の洗浄水が第2水供給ノズル64bから供給さ
れるように、補充ポンプP1の駆動信号を生成して補充
ポンプP1に出力する。
In step 106, a drive signal for the replenishing pump P1 is generated and output to the replenishing pump P1 so that the replenishing amount of washing water read from the ROM is supplied from the second water supply nozzle 64b.

【0064】また、次のステップ108では、各種設定
情報に版種が含まれるかを判断する。各種設定情報に版
種が含まれると判断された場合はステップ110に移行
し、版種が含まれないと判断された場合はステップ11
4に移行する。
In the next step 108, it is determined whether or not the various kinds of setting information include the version type. If it is determined that the version type is included in the various setting information, the process proceeds to step 110, and if it is determined that the version type is not included, step 11 is performed.
Move to 4.

【0065】ステップ110では、まず、版種に対応す
る処理温度及び処理時間をROMから読み出す。すなわ
ち、前段の装置から読み出した版種が高耐刷品であるA
であれば、処理温度は30℃、搬送速度は760mm/
分、処理時間は30秒間、また、通常品である版種Bで
あれば、処理温度は25℃、搬送速度は1000mm/
分、処理時間は20秒間となる。
In step 110, first, the processing temperature and processing time corresponding to the plate type are read from the ROM. In other words, the plate type read from the preceding device is a high printing
, The processing temperature is 30 ° C. and the transport speed is 760 mm /
Minutes and a processing time of 30 seconds, and for plate type B which is a normal product, the processing temperature is 25 ° C. and the transport speed is 1000 mm /
Minutes and processing time are 20 seconds.

【0066】その後、第1水洗槽60内の洗浄水が読み
出した温度となるように第1水洗槽60内に設けられた
温度センサ34cからの温度に基いて温度調整装置(ヒ
ータ34a及びチラー34b)を制御すると共に、PS
版が読み出した処理時間洗浄水に浸漬されるように、搬
送機構によるPS版110の搬送速度、すなわち、各搬
送ローラの回転数を制御した後、本ルーチンを終了す
る。
Thereafter, the temperature adjusting device (the heater 34a and the chiller 34b) is controlled based on the temperature from the temperature sensor 34c provided in the first washing tank 60 so that the washing water in the first washing tank 60 becomes the read temperature. ) And PS
After the transport speed of the PS plate 110 by the transport mechanism, that is, the number of rotations of each transport roller, is controlled so that the plate is immersed in the cleaning water for the read processing time, the routine ends.

【0067】また、ステップ114では、標準の処理温
度(25℃)及び処理時間(1000mm/分で20秒間)
をROMから読み出して、該温度となるように第1水洗
槽60内の温度調整装置(ヒータ34a及びチラー34
b)を制御すると共に、PS版が前記版種に応じた処理
時間洗浄水に浸漬されるように搬送機構によるPS版1
10の搬送速度を制御した後、本ルーチンを終了する。
In step 114, a standard processing temperature (25 ° C.) and processing time (20 seconds at 1000 mm / min)
Is read from the ROM, and a temperature adjusting device (the heater 34a and the chiller 34a) in the first washing tank 60 is adjusted so as to reach the temperature.
b) and controlling the PS plate 1 by the transport mechanism so that the PS plate is immersed in the cleaning water for a treatment time corresponding to the type of the plate.
After controlling the transfer speed of No. 10, the present routine ends.

【0068】なお、ここでは標準の処理温度を25℃と
しているが、標準の処理温度は、一般的にオーバーコー
トの除去処理が可能な温度である。また、標準の処理時
間を1000mm/分で20秒間としているが、標準の
処理時間は一般的にオーバーコートの除去処理が可能な
時間である。
Although the standard processing temperature is set at 25 ° C. here, the standard processing temperature is generally a temperature at which the overcoat can be removed. The standard processing time is 1000 mm / min for 20 seconds, but the standard processing time is generally a time during which overcoat removal processing is possible.

【0069】このように第1水洗部22では、プレート
セッター14からオンラインで各種設定情報を取得した
版情報に基づいて、処理対象のPS版に最適な温度とな
るように温度調整装置を制御すると共に、浸漬時間とな
るように各搬送ローラの回転数を制御して、引き込みロ
ーラ対62によりPS版110を引き込み、第1水供給
ノズル64aから洗浄水をPS版110表面に供給し、
第1回転ブラシローラ66で擦った後、第2水供給ノズ
ル64bから供給される清浄な洗浄水によりブラシロー
ラ66で擦り取られたカスなどをPS版110から取り
除き、搬送ローラ対68により洗浄水を絞ってPS版1
10を送り出しローラ対72に送り出す。送り出しロー
ラ対72は、第1水洗部22の後段に設けられた現像部
24に水洗処理済みのPS版110を送り出す。
As described above, the first water washing section 22 controls the temperature adjusting device based on the plate information obtained from the plate setter 14 to obtain various setting information online so that the temperature becomes optimum for the PS plate to be processed. At the same time, the number of rotations of each transport roller is controlled so that the immersion time is reached, the PS plate 110 is drawn in by the pull-in roller pair 62, and the washing water is supplied from the first water supply nozzle 64a to the surface of the PS plate 110,
After rubbing with the first rotating brush roller 66, scum and the like rubbed off by the brush roller 66 are removed from the PS plate 110 with clean cleaning water supplied from the second water supply nozzle 64 b, and the cleaning water is transferred by the transport roller pair 68. And PS version 1
10 is delivered to the delivery roller pair 72. The feed roller pair 72 sends out the PS plate 110 that has been subjected to the water-washing process to the developing unit 24 provided at a stage subsequent to the first water-washing unit 22.

【0070】現像部24は、図2に示すように、現像槽
70内に、PS版110の搬送方向に沿って上流側から
順に、現像補充原液噴射ノズル74、希釈水噴射ノズル
76、第1スプレーパイプ78、第2回転ブラシローラ
71a、第3回転ブラシローラ71b、及び、送り出し
ローラ対75を備え、PS版110を現像液に浸漬する
ことによって現像処理を行う。
As shown in FIG. 2, the developing section 24 includes a developing replenisher stock solution injection nozzle 74, a dilution water injection nozzle 76, and a first The developing device includes a spray pipe 78, a second rotating brush roller 71a, a third rotating brush roller 71b, and a delivery roller pair 75, and performs development processing by immersing the PS plate 110 in a developing solution.

【0071】第1水洗部22の送り出しローラ対72に
より送り出されたPS版110は、水平方向に対して約
15°から31°の範囲の角度で現像部24に引き込ま
れる。現像補充原液噴射ノズル74は、現像補充原液補
充ポンプP2によって現像補充原液貯留槽82から汲み
上げられた現像補充原液を現像槽70内に噴射する。な
お、この現像補充原液補充ポンプP2は、プロセッサー
制御部30により駆動が制御されている。
The PS plate 110 delivered by the delivery roller pair 72 of the first washing section 22 is drawn into the developing section 24 at an angle in the range of about 15 ° to 31 ° with respect to the horizontal direction. The developing replenisher stock injection nozzle 74 injects the developing replenisher stock pumped up from the developing replenisher stock reservoir 82 by the developing replenisher stock pump P2 into the developing tank 70. The drive of the developing replenisher stock solution replenishing pump P2 is controlled by the processor controller 30.

【0072】同様に、希釈水噴射ノズル76は、水補充
ポンプP3によって水貯留槽84から汲み上げられた希
釈水を現像槽70内に噴射する。なお、この水補充ポン
プP3も、プロセッサー制御部30により駆動が制御さ
れている。
Similarly, the dilution water injection nozzle 76 injects the dilution water pumped up from the water storage tank 84 by the water replenishing pump P3 into the developing tank 70. The drive of the water replenishment pump P3 is also controlled by the processor control unit 30.

【0073】プロセッサー制御部30は、現像補充原液
噴射ノズル74から噴射される現像補充原液の量と希釈
水噴射ノズル76から噴射される希釈水の量の割合が予
め定められた割合となるように現像補充原液補充ポンプ
P2と水補充ポンプP3の駆動を制御する。
The processor control unit 30 controls the ratio of the amount of the developing replenisher stock solution jetted from the developing replenisher stock jet nozzle 74 to the amount of the dilution water jetted from the dilution water jetting nozzle 76 to a predetermined ratio. The drive of the development replenisher stock solution replenishment pump P2 and the water replenishment pump P3 is controlled.

【0074】また、現像部24の現像液液面には、液面
蓋73が配置されている。この液面蓋73は、下面が現
像槽70に貯留される現像液の液面より下方となるよう
に配置されている。この液面蓋73により、現像槽70
内の現像液の液面が空気と接触する面積を狭め、空気中
の炭酸ガスによる現像液の劣化と現像液中の水分の蒸発
を抑えている。
A liquid surface cover 73 is arranged on the developer liquid surface of the developing section 24. The liquid surface cover 73 is arranged so that the lower surface is lower than the liquid surface of the developer stored in the developing tank 70. The liquid level cover 73 allows the developing tank 70
The area where the liquid level of the developing solution in the inside comes into contact with air is narrowed, thereby suppressing the deterioration of the developing solution and the evaporation of moisture in the developing solution due to carbon dioxide in the air.

【0075】現像槽70内には、現像槽70からオーバ
ーフローした現像液を回収する第2オーバーフロー管7
9が設けられており、現像槽70内に溜まった現像液の
液面レベルが所定レベルを超えたときに現像液が第2オ
ーバーフロー管79内に流れ込み、廃液タンク80へ案
内され、現像槽70内に常に一定量の現像液が保持され
るように調整している。
In the developing tank 70, a second overflow pipe 7 for collecting the developing solution overflowing from the developing tank 70 is provided.
When the liquid level of the developer accumulated in the developing tank 70 exceeds a predetermined level, the developing liquid flows into the second overflow pipe 79, is guided to the waste liquid tank 80, and the developing tank 70 is provided. Is adjusted so that a constant amount of the developing solution is always held in the inside.

【0076】また、現像槽70内部の現像液中には、底
部中央部が下方に向けて突出する内面が略逆山形状のガ
イド板77がされている。このガイド板77は、複数の
自由回転するコロ(小型のローラ;図示せず)が回転軸
をPS版110の搬送方向と直交する方向に並列して配
置された構成であり、現像部24へ送り込まれたPS版
110をコロによって案内しながら搬送する。このと
き、コロが回転するため、PS版110に摺動による傷
付きが発生しない。
In the developing solution in the developing tank 70, there is provided a guide plate 77 having a substantially inverted mountain shape with an inner surface protruding downward at the center of the bottom. The guide plate 77 has a configuration in which a plurality of freely rotating rollers (small rollers; not shown) are arranged with their rotating shafts arranged in parallel in a direction orthogonal to the transport direction of the PS plate 110. The fed PS plate 110 is transported while being guided by rollers. At this time, since the rollers rotate, the PS plate 110 is not damaged by sliding.

【0077】また、ガイド板77の最低位置に向かう途
中の現像液中に、第1スプレーパイプ78が設けられて
いる。第1スプレーパイプ78は、PS版110の搬送
方向と直交する方向に沿って配置された複数のスプレー
パイプにより構成され、各スプレーパイプから現像液を
PS版110の表面へ噴射することにより、PS版11
0の現像処理を促進すると同時に、現像槽70内の現像
液を循環させる役割を果たす。
A first spray pipe 78 is provided in the developing solution on the way to the lowest position of the guide plate 77. The first spray pipe 78 is composed of a plurality of spray pipes arranged along a direction orthogonal to the transport direction of the PS plate 110, and sprays a developer from each spray pipe onto the surface of the PS plate 110, thereby forming a PS. Edition 11
In addition to promoting the development process of No. 0, it plays a role of circulating the developer in the developing tank 70.

【0078】また、ガイド板77の最低位置から下流側
に沿って、PS版110の上面に対応する位置には、第
2回転ブラシローラ71a、第3回転ブラシローラ71
bが設けられており、第2回転ブラシローラ71a及び
第3回転ブラシローラ71bは、それぞれ図示しない駆
動手段により駆動されて、PS版110の搬送方向に回
転する。
The second rotary brush roller 71a and the third rotary brush roller 71a are located at positions corresponding to the upper surface of the PS plate 110 along the downstream side from the lowest position of the guide plate 77.
The second rotating brush roller 71a and the third rotating brush roller 71b are driven by driving means (not shown) to rotate in the transport direction of the PS plate 110.

【0079】現像部24の最終段位置には、現像液の液
面よりも上方の位置に挟持部が配置された送り出しロー
ラ対75が設けられており、この送り出しローラ対75
は、現像液中に設けられたガイド板77に沿って搬送さ
れたPS版110を挟持して現像部24から送り出す。
このとき、PS版110の表面に付着した現像液が絞り
落とされる。
At the final stage position of the developing section 24, there is provided a pair of delivery rollers 75 having a clamping section disposed above the liquid level of the developing solution.
, Sandwiches the PS plate 110 conveyed along the guide plate 77 provided in the developing solution and sends it out from the developing unit 24.
At this time, the developer adhering to the surface of the PS plate 110 is squeezed.

【0080】すなわち、第1水洗部22から送り出され
たPS版110は、現像部24の送り出しローラ対72
により水平方向に対して約15°から31°の範囲の角
度で現像部24に引き込まれ、現像液中に設けられたガ
イド板77の表面に沿って搬送される。このとき、PS
版110は現像液に浸漬されて、続いてガイド板77の
最低位置に向かう途中に設けられた第1スプレーパイプ
78によって噴射された現像液により光重合性感光層の
未現像部分が確実に膨潤(すなわち現像)される。
That is, the PS plate 110 sent out from the first rinsing section 22 is supplied to the delivery roller pair 72 of the developing section 24.
Is drawn into the developing unit 24 at an angle in the range of about 15 ° to 31 ° with respect to the horizontal direction, and is conveyed along the surface of the guide plate 77 provided in the developing solution. At this time, PS
The plate 110 is immersed in the developing solution, and then the undeveloped portion of the photopolymerizable photosensitive layer is reliably swollen by the developing solution sprayed by the first spray pipe 78 provided on the way to the lowest position of the guide plate 77. (Ie, developed).

【0081】PS版110はガイド板77の最低位置か
ら下流側に向かう際に、第2回転ブラシローラ71a、
第3回転ブラシローラ71bの順に表面が擦られて、膨
潤した光重合性感光層の未現像部分が擦り落される。さ
らに、PS版110はガイド板77の最終端位置から送
り出しローラ対75に保持されることにより現像液中か
ら引出され、送り出しローラ対75に送り出される際に
表裏面に付着した現像液が絞り落とされて、現像部24
の後段に設けられた第2水洗部26に送り出される。
When the PS plate 110 moves downstream from the lowest position of the guide plate 77, the second rotating brush roller 71a,
The surface is rubbed in the order of the third rotating brush roller 71b, and the undeveloped portion of the swollen photopolymerizable photosensitive layer is rubbed off. Further, the PS plate 110 is pulled out from the developing solution by being held by the feed roller pair 75 from the final end position of the guide plate 77, and the developing solution attached to the front and back surfaces when being sent to the feed roller pair 75 is squeezed. And the developing unit 24
To the second washing section 26 provided at the subsequent stage.

【0082】ここで、本発明において好適な現像液につ
いて以下に説明する。
Here, the developer suitable for the present invention will be described below.

【0083】(アルカリ剤)現像工程で使用する現像液
および現像補充液は、pH9.0〜13.5、より好ま
しくは10.0〜13.3のアルカリ水溶液が好適であ
る。
(Alkali agent) The developer and the developing replenisher used in the developing step are preferably an alkaline aqueous solution having a pH of 9.0 to 13.5, more preferably 10.0 to 13.3.

【0084】かかる現像液および現像補充液としては従
来より知られているアルカリ水溶液が使用できる。例え
ば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、第二リン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、重炭酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同
カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カ
リウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウ
ム、同カリウムおよび同リチウムなどの無機アルカリ剤
が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジ
イソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブ
チルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチ
レンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いら
れる。
As such a developing solution and a developing replenishing solution, conventionally known alkaline aqueous solutions can be used. For example, sodium silicate, potassium, tribasic sodium, potassium, ammonium, dibasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, potassium Inorganic alkaline agents such as ammonium, sodium bicarbonate, potassium, ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium, and lithium. Also, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine and pyridine are also used.

【0085】これらのアルカリ剤の中で好ましいのはケ
イ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のケイ酸塩水溶液で
ある。その理由はケイ酸塩の成分である酸化ケイ素Si
2とアルカリ金属酸化物M2Oの比率(一般に[SiO
2]/[M2O]のモル比で表す)と濃度によってpHや
現像性の調節が可能とされるためである。例えば、Si
2/ K2Oのモル比が0.5〜2.0(即ち[Si
2]/[K2O]が0.5〜2.0)であって、SiO
2の含有量が1〜4重量%のケイ酸カリウムの水溶液か
らなるアルカリ金属ケイ酸塩が本発明に好適に用いられ
る更に他の好ましいアルカリ剤としては弱酸と強塩基か
らなる緩衝液が挙げられる。かかる緩衝液として用いら
れる弱酸としては、酸解離定数(pKa)10.0〜1
3.3を有するものが好ましく、特にpKaが11.0〜
13.1のものが好ましい。また、例えばスルホサリチ
ル酸の場合、第3解離定数は11.7であり、本発明に
好適に使用できる。即ち、多塩基酸の場合、少なくとも
1つの酸解離定数が上記範囲内にあれば本発明に使用で
きる。
Preferred among these alkaline agents are aqueous solutions of silicates such as sodium silicate and potassium silicate. The reason is that silicon oxide Si
The ratio of O 2 to alkali metal oxide M 2 O (generally [SiO 2
2 ] / [M 2 O] molar ratio) and the concentration allow adjustment of pH and developability. For example, Si
When the molar ratio of O 2 / K 2 O is 0.5 to 2.0 (that is, [Si
O 2 ] / [K 2 O] is 0.5 to 2.0) and SiO 2
Alkali metal silicate comprising an aqueous solution of potassium silicate having a content of 2 to 4% by weight is suitably used in the present invention. Still another preferred alkaline agent includes a buffer solution comprising a weak acid and a strong base. . The weak acid used as such a buffer includes an acid dissociation constant (pKa) of 10.0 to 1
Those having 3.3 are preferred, and particularly those having a pKa of 11.0 to 1.0.
13.1 is preferred. In the case of sulfosalicylic acid, for example, the third dissociation constant is 11.7, which can be suitably used in the present invention. That is, in the case of a polybasic acid, it can be used in the present invention if at least one acid dissociation constant is within the above range.

【0086】このような弱酸としては、Pergamo
n Press社発行のIONISATION CON
STANTS OF ORGANIC ACIDS I
NAQUEOUS SOLUTIONなどに記載されて
いるものから選ばれ、例えば2,2,3,3,−テトラ
フルオロプロパノール−1(pKa 12.74)、トリ
フルオロエタノール(同12.37)、トリクロロエタ
ノール(同12.24)などのアルコール類、ピリジン
−2−アルデヒド(同12.68)、ピリジン−4−ア
ルデヒド(同12.05)などのアルデヒド類、ソルビ
トール(同13.0)、サッカロース(同12.7)、2
−デオキシリボース(同12.61)、2−デオキシグ
ルコース(同12.51)、グルコース(同12.4
6)、ガラクトース(同12.35)、アラビノース
(同12.34)、キシロース(同12.29)、フラク
トース(同12.27)、リボース(同12.22)、マ
ンノース(同12.08)、L−アスコルビン酸(同1
1.34)などの糖類、サリチル酸(同13.0)、3−
ヒドロキシ−2−ナフトエ酸(同12.84)、カテコ
ール(同12.6)、没食子酸(同12.4)、スルホサ
リチル酸(同11.7)、3,4−ジヒドロキシベンゼン
スルホン酸(同12.2)、3,4−ジヒドロキシ安息
香酸(同11.94)、1,2,4−トリヒドロキシベ
ンゼン(同11.82)、ハイドロキノン(同11.5
6)、ピロガロール(同11.34)およびレゾルシノ
ール(同11.27)などのフェノール性水酸基を有す
る化合物、2−ブタノンオキシム(同12.45)、ア
セトキシム(同12.42)、1,2−シクロヘプタン
ジオンヂオキシム(同12.3)、2−ヒドロキシベン
ズアルデヒドオキシム(同12.10)、ジメチルグリ
オキシム(同11.9)、エタンジアミドジオキシム
(同11.37)、アセトフェノンオキシム(同11.3
5)などのオキシム類、2−キノロン(同11.7
6)、2−ピリドン(同11.65)、4−キノロン
(同11.28)、4−ピリドン(同11.12)、5−
アミノ吉草酸(同10.77)、2−メルカプトキノリ
ン(同10.25)、3−アミノプロピオン酸(同10.
24)などのアミノ酸類、フルオロウラシル(同13.
0)、グアノシン(同12.6)、ウリジン(同12.
6)、アデノシン(同12.56)、イノシン(同12.
5)、グアニン(同12.3)、シティジン(同12.
2)、シトシン(同12.2)、ヒポキサンチン(同1
2.1)、キサンチン(同11.9)などの核酸関連物
質、他に、ジエチルアミノメチルホスホン酸(同12.
32)、1−アミノ−3,3,3−トリフルオロ安息香
酸(同12.29)、イソプロピリデンジホスホン酸
(同12.10)、1,1,−エチリデンジホスホン酸
(同11.54)、1,1−エチリデンジホスホン酸1
−ヒドロキシ(同11.52)、ベンズイミダゾール
(同12.86)、チオベンズアミド(同12.8)、ピ
コリンチオアミド(同12.55)、バルビツル酸(同
12.5)などの弱酸が挙げられる。
[0086] Such weak acids include Pergamo.
IONISATION CON issued by nPress
STANTS OF ORGANIC ACIDS I
Selected from those described in NAQUEOUS SOLUTION, etc., for example, 2,2,3,3-tetrafluoropropanol-1 (pKa 12.74), trifluoroethanol (12.37), and trichloroethanol (12 .24), aldehydes such as pyridine-2-aldehyde (12.68) and pyridine-4-aldehyde (12.05), sorbitol (13.0), and saccharose (12.7). ), 2
-Deoxyribose (12.61), 2-deoxyglucose (12.51), glucose (12.4)
6), galactose (12.35), arabinose (12.34), xylose (12.29), fructose (12.27), ribose (12.22), mannose (12.08) , L-ascorbic acid (1)
Saccharides such as 1.34), salicylic acid (13.0), 3-
Hydroxy-2-naphthoic acid (12.84), catechol (12.6), gallic acid (12.4), sulfosalicylic acid (11.7), 3,4-dihydroxybenzenesulfonic acid (12) .2), 3,4-dihydroxybenzoic acid (11.94), 1,2,4-trihydroxybenzene (11.82), hydroquinone (11.5)
6), compounds having a phenolic hydroxyl group such as pyrogallol (11.34) and resorcinol (11.27), 2-butanone oxime (12.45), acetoxime (12.42), 1,2- Cycloheptanedione dioxime (12.3), 2-hydroxybenzaldehyde oxime (12.10), dimethylglyoxime (11.9), ethanediamide dioxime (11.37), acetophenone oxime (11) .3
Oximes such as 5) and 2-quinolones (11.7
6), 2-pyridone (11.65), 4-quinolone (11.28), 4-pyridone (11.12), 5-
Aminovaleric acid (10.77), 2-mercaptoquinoline (10.25), 3-aminopropionic acid (10.77)
Amino acids such as 24), fluorouracil (13.
0), guanosine (12.6), uridine (12.6).
6), adenosine (12.56) and inosine (12.56).
5), Guanine (12.3), Citizin (12.4)
2), cytosine (12.2), hypoxanthine (1)
2.1), nucleic acid-related substances such as xanthine (11.9), and diethylaminomethylphosphonic acid (11.2).
32), 1-amino-3,3,3-trifluorobenzoic acid (12.29), isopropylidene diphosphonic acid (12.10), 1,1, -ethylidene diphosphonic acid (11.54) ), 1,1-ethylidene diphosphonic acid 1
-Hydroxy (11.52), benzimidazole (12.86), thiobenzamide (12.8), picoline thioamide (12.55), barbituric acid (12.5) and the like. .

【0087】これらの弱酸に組み合わせる強塩基として
は、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウムお
よび同リチウムが用いられる。
As the strong base to be combined with these weak acids, sodium hydroxide, ammonium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide are used.

【0088】これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以
上を組み合わせて用いられる。
These alkaline agents are used alone or in combination of two or more.

【0089】これらのアルカリ緩衝剤の中で好ましいの
は、スルホサリチル酸、サリチル酸、サッカロースおよ
びソルビトールと水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウ
ムとを組み合わせたものである。中でも好ましい組み合
わせはソルビトールと水酸化カリウムまたは水酸化ナト
リウムである。
Preferred among these alkaline buffers are those obtained by combining sulfosalicylic acid, salicylic acid, saccharose and sorbitol with sodium hydroxide and potassium hydroxide. Among them, a preferred combination is sorbitol and potassium hydroxide or sodium hydroxide.

【0090】上記の各種アルカリ剤は濃度および組み合
わせによりpHを好ましい範囲内に調整して使用され
る。
The above-mentioned various alkaline agents are used after adjusting the pH within a preferred range by the concentration and combination.

【0091】(界面活性剤)本発明に好適な現像液およ
び補充液には、現像性の促進や現像カスの分散および印
刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて種
々界面活性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活
性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系お
よび両性界面活性剤が挙げられる。
(Surfactant) The developer and replenisher suitable for the present invention may contain various surfactants as necessary for the purpose of accelerating developability, dispersing development scum, and increasing the ink affinity of the printing plate image area. Agents and organic solvents can be added. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants.

【0092】界面活性剤の好ましい例としては、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
スチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
オキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪
酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、
ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレ
ングリコールモノ脂肪酸エステル類、しょ糖脂肪酸部分
エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分
エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部
分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル
類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシ
エチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン
脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、
N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリ
オキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン
脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシドなどの非
イオン性界面活性剤、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、
ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン
酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖ア
ルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼ
ンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩
類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルス
ルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェ
ニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリン
ナトリウム塩、N−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二
ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂
肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫
酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル
硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル
塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫
酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニル
エーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩
類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステ
ル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル
リン酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合
物の部分鹸化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合
物の部分鹸化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン
縮合物類などのアニオン界面活性剤、アルキルアミン塩
類、テトラブチルアンモニウムブロミド等の第四級アン
モニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩
類、ポリエチレンポリアミン誘導体などのカチオン性界
面活性剤、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸
類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミダ
ゾリン類などの両性界面活性剤が挙げられる。以上挙げ
た界面活性剤の中でポリオキシエチレンとあるものは、
ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキ
シブチレンなどのポリオキシアルキレンに読み替えるこ
ともでき、それらの界面活性剤もまた包含される。
Preferred examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, and glycerin fatty acid partial esters. , Sorbitan fatty acid partial esters,
Pentaerythritol fatty acid partial esters, propylene glycol monofatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters , Polyoxyethylenated castor oils, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides,
Nonionic surfactants such as N, N-bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid esters, and trialkylamine oxides, fatty acid salts, abietic acid salts,
Hydroxyalkanesulfonates, alkanesulfonates, dialkylsulfosuccinates, linear alkylbenzenesulfonates, branched alkylbenzenesulfonates, alkylnaphthalenesulfonates, alkylphenoxypolyoxyethylenepropylsulfonates, polyoxy Ethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyltaurine sodium salt, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated tallow oil, sulfate salts of fatty acid alkyl esters, alkyl sulfates Salts, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfates, Oxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphates, partially saponified styrene / maleic anhydride copolymers, Partially saponified olefin / maleic anhydride copolymers, anionic surfactants such as naphthalene sulfonate formalin condensates, quaternary ammonium salts such as alkylamine salts, tetrabutylammonium bromide, polyoxyethylene alkylamine Salts, cationic surfactants such as polyethylene polyamine derivatives, amphoteric surfactants such as carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfates, and imidazolines. . Among the surfactants listed above, those with polyoxyethylene,
It can be read as a polyoxyalkylene such as polyoxymethylene, polyoxypropylene, polyoxybutylene, and their surfactants are also included.

【0093】更に好ましい界面活性剤は分子内にパーフ
ルオロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤であ
る。かかるフッ素系界面活性剤としては、パーフルオロ
アルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン
酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニ
オン型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性型、
パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などの
カチオン型およびパーフルオロアルキルアミンオキサイ
ド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パ
ーフルオロアルキル基および親水性基含有オリゴマー、
パーフルオロアルキル基および親油性基含有オリゴマ
ー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基
含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性
基含有ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。
More preferred surfactants are fluorine-based surfactants containing a perfluoroalkyl group in the molecule. Such fluorosurfactants include perfluoroalkyl carboxylate, perfluoroalkyl sulfonate, anionic type such as perfluoroalkyl phosphate, amphoteric type such as perfluoroalkyl betaine,
Cationic and perfluoroalkylamine oxides such as perfluoroalkyltrimethylammonium salts, perfluoroalkylethylene oxide adducts, oligomers containing perfluoroalkyl and hydrophilic groups,
Non-ionic forms such as oligomers containing perfluoroalkyl groups and lipophilic groups, oligomers containing perfluoroalkyl groups, hydrophilic groups and lipophilic groups, and urethanes containing perfluoroalkyl groups and lipophilic groups.

【0094】上記の界面活性剤は、単独もしくは2種以
上を組み合わせて使用することができ、現像液中に0.
001〜10重量%、より好ましくは0.01〜5重量
%の範囲で添加される。
The above surfactants can be used alone or in combination of two or more.
001 to 10% by weight, more preferably 0.01 to 5% by weight.

【0095】(現像安定化剤)本発明に好適な現像液お
よび補充液には、種々現像安定化剤が用いられる。それ
らの好ましい例として、特開平6−282079号公報
記載の糖アルコールのポリエチレングリコール付加物、
テトラブチルアンモニウムヒドロキシドなどのテトラア
ルキルアンモニウム塩、テトラブチルホスホニウムブロ
マイドなどのホスホニウム塩およびジフェニルヨードニ
ウムクロライドなどのヨードニウム塩が好ましい例とし
て挙げられる。
(Development Stabilizer) Various development stabilizers are used in the developer and replenisher suitable for the present invention. As preferred examples thereof, polyethylene glycol adducts of sugar alcohols described in JP-A-6-282079,
Preferred examples include tetraalkylammonium salts such as tetrabutylammonium hydroxide, phosphonium salts such as tetrabutylphosphonium bromide, and iodonium salts such as diphenyliodonium chloride.

【0096】更には、特開昭50−51324号公報記
載のアニオン界面活性剤または両性界面活性剤、また特
開昭55−95946号公報記載の水溶性カチオニック
ポリマー、特開昭56−142528号公報に記載され
ている水溶性の両性高分子電解質がある。
Further, anionic or amphoteric surfactants described in JP-A-50-51324, water-soluble cationic polymers described in JP-A-55-95946, and JP-A-56-142528 are disclosed. There is a water-soluble amphoteric polyelectrolyte described in the gazette.

【0097】更に、特開昭59−84241号公報のア
ルキレングリコールが付加された有機ホウ素化合物、特
開昭60−111246号公報記載のポリオキシエチレ
ン・ポリオキシプロピレンブロック重合型の水溶性界面
活性剤、特開昭60−129750号公報のポリオキシ
エチレン・ポリオキシプロピレンを置換したアルキレン
ジアミン化合物、特開昭61−215554号公報記載
の重量平均分子量300以上のポリエチレングリコー
ル、特開昭63−175858号公報のカチオン性基を
有する含フッ素界面活性剤、特開平2−39157号公
報の酸またはアルコールに4モル以上のエチレンオキシ
ドを付加して得られる水溶性エチレンオキシド付加化合
物と、水溶性ポリアルキレン化合物などが挙げられる。
Further, an organic boron compound to which an alkylene glycol has been added described in JP-A-59-84241, and a polyoxyethylene / polyoxypropylene block polymerization type water-soluble surfactant described in JP-A-60-111246. Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 60-129750, polyoxyethylene / polyoxypropylene-substituted alkylenediamine compounds, Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 61-215554, polyethylene glycol having a weight average molecular weight of 300 or more, and Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 63-175858. JP-A-2-39157 discloses a fluorine-containing surfactant having a cationic group, a water-soluble ethylene oxide addition compound obtained by adding 4 mol or more of ethylene oxide to an acid or alcohol, and a water-soluble polyalkylene compound. No.

【0098】(有機溶剤)現像液および現像補充液には
更に必要により有機溶剤が加えられる。かかる有機溶剤
としては、水に対する溶解度が約10重量%以下のもの
が適しており、好ましくは5重量%以下のものから選ば
れる。例えば、1−フェニルエタノール、2−フェニル
エタノール、3−フェニル−1−プロパノール、4−フ
ェニル−1−ブタノール、4−フェニル−2−ブタノー
ル、2−フェニル−1−ブタノール、2−フェノキシエ
タノール、2−ベンジルオキシエタノール、o−メトキ
シベンジルアルコール、m−メトキシベンジルアルコー
ル、p−メトキシベンジルアルコール、ベンジルアルコ
ール、シクロヘキサノール、2−メチルシクロヘキサノ
ール、3−メチルシクロヘキサノールおよび4−メチル
シクロヘキサノール、N−フェニルエタノールアミンお
よびN−フェニルジエタノールアミンなどを挙げること
ができる。有機溶剤の含有量は使用液の総重量に対して
0.1〜5重量%である。その使用量は界面活性剤の使
用量と密接な関係があり、有機溶剤の量が増すにつれ、
界面活性剤の量は増加させることが好ましい。これは界
面活性剤の量が少なく、有機溶剤の量を多く用いると有
機溶剤が完全に溶解せず、従って、良好な現像性の確保
が期待できなくなるからである。
(Organic Solvent) An organic solvent is further added to the developing solution and the developing replenisher, if necessary. As such an organic solvent, those having a solubility in water of about 10% by weight or less are suitable, and preferably selected from those having a solubility of 5% by weight or less. For example, 1-phenylethanol, 2-phenylethanol, 3-phenyl-1-propanol, 4-phenyl-1-butanol, 4-phenyl-2-butanol, 2-phenyl-1-butanol, 2-phenoxyethanol, 2-phenoxyethanol, Benzyloxyethanol, o-methoxybenzyl alcohol, m-methoxybenzyl alcohol, p-methoxybenzyl alcohol, benzyl alcohol, cyclohexanol, 2-methylcyclohexanol, 3-methylcyclohexanol and 4-methylcyclohexanol, N-phenylethanol Examples include amines and N-phenyldiethanolamine. The content of the organic solvent is 0.1 to 5% by weight based on the total weight of the used solution. The amount used is closely related to the amount of surfactant used, and as the amount of organic solvent increases,
Preferably, the amount of surfactant is increased. This is because when the amount of the surfactant is small and the amount of the organic solvent is large, the organic solvent is not completely dissolved, and therefore, it is impossible to expect good developing property.

【0099】(還元剤)本発明に好適な現像液および補
充液には更に還元剤が加えられる。これは印刷版の汚れ
を防止するものであり、特に感光性ジアゾニウム塩化合
物を含むネガ型感光性平版印刷版を現像する際に有効で
ある。好ましい有機還元剤としては、チオサリチル酸、
ハイドロキノン、メトール、メトキシキノン、レゾルシ
ン、2−メチルレゾルシンなどのフェノール化合物、フ
ェニレンジアミン、フェニルヒドラジンなどのアミン化
合物が挙げられる。更に好ましい無機の還元剤として
は、亜硫酸、亜硫酸水素酸、亜リン酸、亜リン酸水素
酸、亜リン酸二水素酸、チオ硫酸および亜ジチオン酸な
どの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム
塩などを挙げることができる。これらの還元剤のうち汚
れ防止効果が特に優れているのは亜硫酸塩である。これ
らの還元剤は使用時の現像液に対して好ましくは、0.
05〜5重量%の範囲で含有される。
(Reducing Agent) A reducing agent is further added to the developer and replenisher suitable for the present invention. This is to prevent stains on the printing plate, and is particularly effective when developing a negative photosensitive lithographic printing plate containing a photosensitive diazonium salt compound. Preferred organic reducing agents include thiosalicylic acid,
Examples thereof include phenol compounds such as hydroquinone, metol, methoxyquinone, resorcin and 2-methylresorcin, and amine compounds such as phenylenediamine and phenylhydrazine. Further preferred inorganic reducing agents include sodium salts, potassium salts, and ammonium salts of inorganic acids such as sulfurous acid, bisulfite, phosphorous acid, bisulfite, diphosphite, thiosulfate and dithionite. Salts and the like can be mentioned. Among these reducing agents, sulfites are particularly excellent in the stain prevention effect. These reducing agents are preferably used in a developing solution at the time of use.
It is contained in the range of 0.5 to 5% by weight.

【0100】(有機カルボン酸)本発明に好適な現像液
および補充液には更に有機カルボン酸を加えることもで
きる。好ましい有機カルボン酸は炭素原子数6〜20の
脂肪族カルボン酸および芳香族カルボン酸である。脂肪
族カルボン酸の具体的な例としては、カプロン酸、エナ
ンチル酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パ
ルミチン酸およびステアリン酸などがあり、特に好まし
いのは炭素数8〜12のアルカン酸である。また炭素鎖
中に二重結合を有する不飽和脂肪酸でも、枝分かれした
炭素鎖のものでもよい。
(Organic Carboxylic Acid) The developing solution and replenisher suitable for the present invention may further contain an organic carboxylic acid. Preferred organic carboxylic acids are aliphatic and aromatic carboxylic acids having 6 to 20 carbon atoms. Specific examples of the aliphatic carboxylic acid include caproic acid, enantiic acid, caprylic acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid and stearic acid, and particularly preferred are alkanoic acids having 8 to 12 carbon atoms. . Further, unsaturated fatty acids having a double bond in the carbon chain or branched fatty acids may be used.

【0101】芳香族カルボン酸としてはベンゼン環、ナ
フタレン環、アントラセン環などにカルボキシル基が置
換された化合物で、具体的には、o−クロロ安息香酸、
p−クロロ安息香酸、o−ヒドロキシ安息香酸、p−ヒ
ドロキシ安息香酸、o−アミノ安息香酸、p−アミノ安
息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、2,5−ジヒ
ドロキシ安息香酸、2,6−ジヒドロキシ安息香酸、
2,3−ジヒドロキシ安息香酸、3,5−ジヒドロキシ
安息香酸、没食子酸、1−ヒドロキシ−2−ナフトエ
酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、2−ヒドロキシ
−1−ナフトエ酸、1−ナフトエ酸、2−ナフトエ酸な
どがあるがヒドロキシナフトエ酸は特に有効である。
The aromatic carboxylic acid is a compound in which a carboxyl group is substituted on a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring or the like, and specifically, o-chlorobenzoic acid,
p-chlorobenzoic acid, o-hydroxybenzoic acid, p-hydroxybenzoic acid, o-aminobenzoic acid, p-aminobenzoic acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid, 2,5-dihydroxybenzoic acid, 2,6- Dihydroxybenzoic acid,
2,3-dihydroxybenzoic acid, 3,5-dihydroxybenzoic acid, gallic acid, 1-hydroxy-2-naphthoic acid, 3-hydroxy-2-naphthoic acid, 2-hydroxy-1-naphthoic acid, 1-naphthoic acid And 2-naphthoic acid, and hydroxynaphthoic acid is particularly effective.

【0102】上記脂肪族および芳香族カルボン酸は水溶
性を高めるためにナトリウム塩やカリウム塩またはアン
モニウム塩として用いるのが好ましい。本発明で用いる
現像液の有機カルボン酸の含有量は格別な制限はない
が、0.1重量%より低いと効果が十分でなく、また1
0重量%以上ではそれ以上の効果の改善が計れないばか
りか、別の添加剤を併用する時に溶解を妨げることがあ
る。従って、好ましい添加量は使用時の現像液に対して
0.1〜10重量%であり、よりこのましくは0.5〜
4重量%である。
The above aliphatic and aromatic carboxylic acids are preferably used as a sodium salt, a potassium salt or an ammonium salt in order to enhance water solubility. The content of the organic carboxylic acid in the developer used in the present invention is not particularly limited, but if the content is less than 0.1% by weight, the effect is not sufficient.
If it is 0% by weight or more, not only the effect cannot be further improved but also dissolution may be hindered when another additive is used in combination. Therefore, the preferred amount of addition is 0.1 to 10% by weight, more preferably 0.5 to 10% by weight, based on the developer used.
4% by weight.

【0103】(その他)本発明に好適な現像液および補
充液には、更に必要に応じて、消泡剤および硬水軟化剤
などを含有させることもできる。硬水軟化剤としては例
えば、ポリリン酸およびそのナトリウム塩、カリウム塩
およびアンモニウム塩、エチレンジアミンテトラ酢酸、
ジエチレントリアミンペンタ酢酸、トリエチレンテトラ
ミンヘキサ酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミント
リ酢酸、ニトリロトリ酢酸、1,2−ジアミノシクロヘ
キサンテトラ酢酸および1,3−ジアミノ−2−プロパ
ノールテトラ酢酸などのアミノポリカルボン酸およびそ
れらのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム
塩、アミノトリ(メチレンホスホン酸)、エチレンジア
ミンテトラ(メチレンホスホン酸)、ジエチレントリア
ミンペンタ(メチレンホスホン酸)、トリエチレンテト
ラミンヘキサ(メチレンホスホン酸)、ヒドロキシエチ
ルエチレンジアミントリ(メチレンホスホン酸)および
1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸やそれら
のナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩を挙
げることができる。
(Others) The developer and replenisher suitable for the present invention may further contain an antifoaming agent and a water softener, if necessary. Examples of water softeners include polyphosphoric acid and its sodium, potassium and ammonium salts, ethylenediaminetetraacetic acid,
Aminopolycarboxylic acids such as diethylenetriaminepentaacetic acid, triethylenetetraminehexaacetic acid, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, nitrilotriacetic acid, 1,2-diaminocyclohexanetetraacetic acid and 1,3-diamino-2-propanoltetraacetic acid and their sodium salts , Potassium and ammonium salts, aminotri (methylenephosphonic acid), ethylenediaminetetra (methylenephosphonic acid), diethylenetriaminepenta (methylenephosphonic acid), triethylenetetraminehexa (methylenephosphonic acid), hydroxyethylethylenediaminetri (methylenephosphonic acid) and Examples thereof include 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid and their sodium, potassium and ammonium salts.

【0104】このような硬水軟化剤はそのキレート化力
と使用される硬水の硬度および硬水の量によって最適値
が変化するが、一般的な使用量を示せば、使用時の現像
液に0.01〜5重量%、より好ましくは0.01〜
0.5重量%の範囲である。この範囲より少ない添加量
では所期の目的が十分に達成されず、添加量がこの範囲
より多い場合は、色抜けなど、画像部への悪影響がでて
くる。
The optimum value of such a water softener varies depending on the chelating power, the hardness of the hard water used, and the amount of the hard water. 01 to 5% by weight, more preferably 0.01 to 5% by weight
It is in the range of 0.5% by weight. If the added amount is less than this range, the intended purpose is not sufficiently achieved, and if the added amount is larger than this range, an adverse effect on an image portion such as color omission appears.

【0105】現像液および補充液の残余の成分は水であ
るが、更に必要に応じて当業界で知られた種々の添加剤
を含有させることができる。
The remaining component of the developer and replenisher is water, but may further contain various additives known in the art, if necessary.

【0106】また、現像液および補充液は使用時よりも
水の含有量を少なくした濃縮液としておき、使用時に水
で希釈するようにしておくことが運搬上有利である。こ
の場合の濃縮度は各成分が分離や析出を起こさない程度
が適当である。
Further, it is advantageous from the viewpoint of transportation that the developing solution and the replenishing solution are prepared as concentrated solutions in which the content of water is smaller than at the time of use, and are diluted with water at the time of use. The degree of concentration in this case is suitably such that each component does not cause separation or precipitation.

【0107】現像液温度は15〜40℃が好ましく、更
に好ましくは20〜35℃である。現像時間は5〜60
秒が好ましく、更に好ましくは7〜40秒である。
The temperature of the developing solution is preferably from 15 to 40 ° C., more preferably from 20 to 35 ° C. Development time is 5-60
Seconds are preferred, and more preferably 7 to 40 seconds.

【0108】現像部24で現像され、第2水洗部26に
送り出されたPS版110は、第2水洗部26におい
て、水洗処理される。第2水洗部26は、図2に示すよ
うに、第2水洗槽90、二対の搬送ローラ対92、9
4、第2スプレーパイプ96、及び第3スプレーパイプ
98を備え、現像処理されたPS版110を洗浄水によ
り洗浄してPS版110に付着した現像液を完全に除去
する。
The PS plate 110 developed in the developing section 24 and sent to the second washing section 26 is subjected to a washing process in the second washing section 26. As shown in FIG. 2, the second washing section 26 includes a second washing tank 90 and two pairs of transport rollers 92 and 9.
4, a second spray pipe 96 and a third spray pipe 98 are provided, and the developed PS plate 110 is washed with cleaning water to completely remove the developer adhering to the PS plate 110.

【0109】二対の搬送ローラ対92、94は、第2水
洗槽90の上方で、かつ、第2水洗部26のPS版11
0引き込み位置と送り出し位置とに設けられている。こ
れらの搬送ローラ対92、94は、PS版110の搬送
路を形成しており、図示しない駆動手段の駆動力を受け
て回転し、現像部24から送り込まれたPS版110を
挟持搬送する。
The two transport roller pairs 92 and 94 are located above the second washing tank 90 and in the PS plate 11 of the second washing section 26.
It is provided at the zero retract position and the feed position. The transport roller pairs 92 and 94 form a transport path for the PS plate 110, rotate by receiving a driving force of a driving unit (not shown), and pinch and transport the PS plate 110 sent from the developing unit 24.

【0110】二対の搬送ローラ対92、94の間には、
PS版110の搬送路を挟んで上方と下方とのそれぞれ
に、第2スプレーパイプ96、第3スプレーパイプ98
が配設されている。
Between the two pairs of transport rollers 92 and 94,
A second spray pipe 96 and a third spray pipe 98 are provided above and below the PS plate 110 conveyance path, respectively.
Are arranged.

【0111】第2スプレーパイプ96は、前述した水貯
留槽84からポンプPによって水を汲み上げ、第2水洗
槽90内に水を補給する。第3スプレーパイプ98は、
PS版110の搬送方向と直交する方向に沿って配置さ
れた複数のスプレーパイプにより構成され、それぞれP
S版110の搬送に同期して洗浄水をPS版110の表
面へ噴射することにより、PS版110の幅方向にわた
って洗浄水を噴射する。
The second spray pipe 96 pumps up water from the water storage tank 84 by the pump P, and replenishes the water in the second washing tank 90. The third spray pipe 98
It is constituted by a plurality of spray pipes arranged along a direction orthogonal to the transport direction of the PS plate 110,
By injecting the cleaning water onto the surface of the PS plate 110 in synchronization with the transport of the S plate 110, the cleaning water is jetted across the width of the PS plate 110.

【0112】この第3スプレーパイプ98は、後述する
貯留タンク93からポンプPによって汲み上げられた洗
浄水をPS版110の表面側に向かって噴射する。これ
によってPS版110が水洗され、現像液が完全に除去
される。
The third spray pipe 98 injects washing water pumped up by the pump P from a storage tank 93 described later toward the surface of the PS plate 110. As a result, the PS plate 110 is washed with water, and the developer is completely removed.

【0113】なお、第3スプレーパイプ98から噴射さ
れた洗浄水は、PS版110の表面を速やかに広がっ
て、PS版110を水洗すると、PS版110が搬送ロ
ーラ対94によって後段のフィニッシャー部に送り出さ
れる際に、PS版110から絞り落とされる。
The cleaning water sprayed from the third spray pipe 98 spreads quickly on the surface of the PS plate 110, and when the PS plate 110 is washed with water, the PS plate 110 is transported by the conveying roller pair 94 to the finisher at the subsequent stage. When it is sent out, it is squeezed from the PS plate 110.

【0114】また、第2水洗槽90には、第3オーバー
フロー管91が設けられている。この第3オーバーフロ
ー管91は、第2水洗槽90内の水位が上がって管内に
流れ込んだ洗浄水を貯留タンク93に導くことにより、
第2水洗槽90内の水位を常に一定に保つ。貯留タンク
93には、ポンプPが設けられており、このポンプPに
より貯留した洗浄水を汲み上げて、第3スプレーパイプ
98に供給する。
The second washing tank 90 is provided with a third overflow pipe 91. The third overflow pipe 91 guides the washing water flowing into the pipe by raising the water level in the second washing tank 90 to the storage tank 93,
The water level in the second washing tank 90 is always kept constant. The storage tank 93 is provided with a pump P, and the stored cleaning water is pumped up by the pump P and supplied to the third spray pipe 98.

【0115】すなわち、現像部24から送り出されたP
S版110は、第2水洗部26の引き込み位置に設けら
れた搬送ローラ対92により第2水洗部26に引き込ま
れ、第2水洗漕の上層に形成された搬送路を通過する際
に、第2スプレーパイプ96及び第3スプレーパイプ9
8から噴射された洗浄水により両面が洗浄され、第2水
洗部26の送り出し位置に設けられた搬送ローラ対94
により付着する洗浄水が絞り落されて、第2水洗部26
から送り出される。
That is, P sent from the developing unit 24
The S plate 110 is drawn into the second washing unit 26 by the pair of conveying rollers 92 provided at the position where the second washing unit 26 is drawn in, and passes through the conveying path formed in the upper layer of the second washing tank. 2 spray pipe 96 and third spray pipe 9
8 is washed on both sides by the washing water sprayed from the second washing unit 26, and a pair of transport rollers 94 provided at the delivery position of the second washing unit 26.
The washing water that adheres to the second washing section 26
Sent out from.

【0116】第2水洗部26の後段には、フィニッシャ
ー部28が設けられている。このフィニッシャー部28
は、ガム液槽100とガム液をPS版110の表面に噴
射するガム液噴射ノズル102及び、搬送ローラ対10
4とを備え、水洗後のPS版110にガム液を塗布して
不感脂化処理する。ガム液槽100も他の槽と同様にオ
ーバーフロー管が設けられており、槽内の水位が常に一
定に保たれるように調整されている。
A finisher unit 28 is provided at a stage subsequent to the second washing unit 26. This finisher section 28
Are a gum solution tank 100 and a gum solution spray nozzle 102 for spraying the gum solution onto the surface of the PS plate 110;
The gum solution is applied to the PS plate 110 after washing with water to desensitize it. The gum solution tank 100 is provided with an overflow pipe similarly to the other tanks, and is adjusted so that the water level in the tank is always kept constant.

【0117】第2水洗部26から送り出されたPS版1
10は、フィニッシャー部28を通過する際に、ガム液
噴射ノズル102から表面の画像形成側にガム液が噴射
された後、フィニッシャー部28の送り出し位置に設け
られた搬送ローラ対104により付着するガム液が絞り
落されて、フィニッシャー部28から送り出される。
The PS plate 1 sent from the second washing section 26
Reference numeral 10 denotes a gum that is ejected from the gum solution ejecting nozzle 102 to the image forming side of the surface when passing through the finisher unit 28, and then adheres to the conveying roller pair 104 provided at the delivery position of the finisher unit 28. The liquid is squeezed and sent out from the finisher unit 28.

【0118】フィニッシャー部28の後段には、乾燥部
29が設けられており、PS版110が乾燥部29を通
過する際に、乾燥処理されて外部に排出される。なお、
乾燥部29としては公知の構成を適用できるためここで
は説明は省略する。
A drying section 29 is provided downstream of the finisher section 28. When the PS plate 110 passes through the drying section 29, the PS plate 110 is dried and discharged to the outside. In addition,
Since a known configuration can be applied to the drying unit 29, the description is omitted here.

【0119】なお、本実施の形態の製版システムに使用
するPS版は、光重合性の感光層と該感光層を保護する
オーバーコート層(酸素遮断性層)を含むものであればよ
いが、好ましくは、アルミニウム板に親水化処理を施し
た支持体上に、付加重合可能なエチレン性二重結合を有
する化合物と波長450nm以上の光で活性化する光重
合開始系と架橋性基を側鎖に有する重合体とを含有する
光重合性感光層を有するものを使用すると良い。
The PS plate used in the plate making system of the present embodiment may be any as long as it includes a photopolymerizable photosensitive layer and an overcoat layer (oxygen barrier layer) for protecting the photosensitive layer. Preferably, a compound having an addition-polymerizable ethylenic double bond, a photopolymerization initiation system activated by light having a wavelength of 450 nm or more, and a crosslinkable group are provided on a support obtained by subjecting an aluminum plate to a hydrophilic treatment. It is preferable to use a material having a photopolymerizable photosensitive layer containing the polymer having the above.

【0120】以下、好適なPS版について詳細に説明す
る。
Hereinafter, a preferred PS plate will be described in detail.

【0121】〔アルミニウム支持体〕まず、PS版のア
ルミニウム支持体は、寸度的に安定なアルミニウムを主
成分とする金属であり、アルミニウムまたはアルミニウ
ム合金からなる。純アルミニウム板の他、アルミニウム
を主成分とし、微量の異元素を含む合金板、又はアルミ
ニウム(合金)がラミネートもしくは蒸着されたプラス
チックフィルム又は紙の中から選ばれる。更に、特公昭
48−18327号に記載されているようなポリエチレ
ンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシー卜が結
合された複合体シートでもかまわない。
[Aluminum Support] The aluminum support of the PS plate is a dimensionally stable metal containing aluminum as a main component, and is made of aluminum or an aluminum alloy. In addition to a pure aluminum plate, it is selected from an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element, or a plastic film or paper on which aluminum (alloy) is laminated or evaporated. Further, a composite sheet in which an aluminum sheet is bonded to a polyethylene terephthalate film as described in JP-B-48-18327 may be used.

【0122】以下の説明において、上記に挙げたアルミ
ニウムまたはアルミニウム合金からなる基板をアルミニ
ウム基板と総称して用いる。前記アルミニウム合金に含
まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネ
シウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンな
どがあり、合金中の異元素の含有量は10重量%以下で
ある。本発明では純アルミニウム板が好適であるが、完
全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難である
ので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このよう
に本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特
定されるものではなく、従来より公知公用の素材のも
の、例えばJIS A 1050、JISA 110
0、JIS A 3103、JIS A 3005など
を適宜利用することができる。
In the following description, the above-mentioned substrates made of aluminum or aluminum alloy are collectively used as aluminum substrates. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel and titanium, and the content of the foreign elements in the alloy is 10% by weight or less. In the present invention, a pure aluminum plate is preferable, but completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and any of conventionally known and used materials such as JIS A 1050 and JISA 110 can be used.
0, JIS A 3103, JIS A 3005, and the like can be used as appropriate.

【0123】また、本発明に用いられるアルミニウム基
板の厚みは、およそ0.1mm〜0.6mm程度であ
る。この厚みは印刷機の大きさ、印刷版の大きさ及びユ
ーザーの希望により適宜変更することができる。
The thickness of the aluminum substrate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm. This thickness can be appropriately changed according to the size of the printing press, the size of the printing plate, and the user's request.

【0124】〔親水化処理〕上述したアルミニウム基板
には、後述する砂目立て等の処理が適宜施された後、基
板表面にシリケート、またはポリビエルホスホン酸等に
よる親水化処理が施される。皮膜はSi、またはP元素
量として2〜40mg/m2、より好ましくは4〜30
mg/m2形成される。なお、塗布量は蛍光X線分析法
により測定できる。
[Hydrophilic treatment] The above-mentioned aluminum substrate is appropriately subjected to a treatment such as graining, which will be described later, and then the surface of the substrate is subjected to a hydrophilic treatment with silicate or polyvinylphosphonic acid or the like. The film has a Si or P element content of 2 to 40 mg / m 2 , more preferably 4 to 30 mg / m 2 .
mg / m 2 . In addition, the coating amount can be measured by a fluorescent X-ray analysis method.

【0125】上記の親水化処理は、アルカリ金属ケイ酸
塩、またはポリビニルホスホン酸が1〜30重量%、好
ましくは2〜15重量%であり、25℃のpHが10〜
13である水溶液に、陽極酸化皮膜が形成されたアルミ
ニウム基板を、例えば15〜80℃で0.5〜120秒
浸漬する。
In the above-mentioned hydrophilization treatment, the alkali metal silicate or polyvinylphosphonic acid is 1 to 30% by weight, preferably 2 to 15% by weight, and the pH at 25 ° C. is 10 to 10% by weight.
The aluminum substrate on which the anodized film is formed is immersed in the aqueous solution of No. 13 at, for example, 15 to 80 ° C. for 0.5 to 120 seconds.

【0126】また、アルカリ金属ケイ酸塩としては、ケ
イ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムなど
が使用できる。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液のpHを高
くするために使用される水酸化物としては水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがある。
As the alkali metal silicate, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate and the like can be used. Hydroxides used to increase the pH of the aqueous alkali metal silicate solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and lithium hydroxide.

【0127】なお、上記の処理液にアルカリ土類金属塩
もしくは第IVB族金属塩を配合してもよい。アルカリ
土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ストロレン
チウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのような硝酸
塩や、硫酸塩、塩酸塩、リン酸塩、酢酸塩、シュウ酸
塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。
Incidentally, an alkaline earth metal salt or a Group IVB metal salt may be added to the above-mentioned treatment liquid. Alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strolentium nitrate, magnesium nitrate and barium nitrate, and aqueous solutions such as sulfates, hydrochlorides, phosphates, acetates, oxalates and borates. Salts.

【0128】第IVB族金属塩として、四塩化チタン、
三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ酸チタン
カリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジル
コニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウ
ム、四塩化ジルコニウムなどを挙げることができる。
As a Group IVB metal salt, titanium tetrachloride,
Examples thereof include titanium trichloride, potassium titanium fluoride, potassium potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, zirconium dioxide, zirconium oxychloride, and zirconium tetrachloride.

【0129】アルカリ土類金属塩もしくは、第IVB族
金属塩は単独又は2以上組み合わせて使用することがで
きる。これらの金属塩の好ましい範囲は0.01〜10
重量%であり、更に好ましい範囲は0.05〜5.0重
量%である。
The alkaline earth metal salts or Group IVB metal salts can be used alone or in combination of two or more. The preferred range of these metal salts is 0.01 to 10
% By weight, and a more preferred range is 0.05 to 5.0% by weight.

【0130】また、米国特許第3,658,662号明
細書に記載されているようなシリケート電着も有効であ
る。更に、特公昭46−27481号、特開昭52−5
8602号、特開昭52−30503号に開示されてい
るような電解グレインを施した支持体と、上記陽極酸化
処理および親水化処理を組合せた表面処理も有用であ
る。
Electrodeposition of silicate as described in US Pat. No. 3,658,662 is also effective. Further, JP-B-46-27481 and JP-A-52-5
No. 8602 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-30503 are also useful in combination with a support provided with electrolytic grains and a surface treatment combining the above-described anodic oxidation treatment and hydrophilic treatment.

【0131】〔親水性下塗り層〕このようにしてシリケ
ート処理されたアルミニウム基板上には必要に応じて下
記親水性下塗り層を設けることができる。
[Hydrophilic undercoat layer] The following hydrophilic undercoat layer can be provided on the silicate-treated aluminum substrate as needed.

【0132】水溶性の樹脂、例えばポリビニルホスホン
酸、スルホン酸基を側鎖に有する重合体および共重合
体、ポリアクリル酸、水溶性金属塩(例えば硼酸亜鉛)
もしくは、黄色染料、アミン塩等を下塗りしたものも好
適である。
Water-soluble resins, for example, polyvinylphosphonic acid, polymers and copolymers having a sulfonic acid group in the side chain, polyacrylic acid, water-soluble metal salts (for example, zinc borate)
Alternatively, a primer coated with a yellow dye, an amine salt or the like is also suitable.

【0133】この有機(樹脂)下塗層に用いられる有機
化合物としては例えば、カルボキシメチルセルロース、
デキストリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホ
ン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有
してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、
アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジ
ホスホン酸およびエチレンジホスホン酸などの有機ホス
ホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチ
ルリン酸、アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの
有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン
酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およ
びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン殿、グリ
シンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、およびトリエタ
ノールアミンの塩酸塩などのとドロキンル基を有するア
ミンの塩酸塩などから選ばれるが、二種以上混合して用
いてもよい。
Examples of the organic compound used in the organic (resin) undercoat layer include carboxymethyl cellulose and
Dextrin, gum arabic, phosphonic acids having an amino group such as 2-aminoethylphosphonic acid, phenylphosphonic acid which may have a substituent, naphthylphosphonic acid,
Organic phosphonic acids such as alkyl phosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylene diphosphonic acid and ethylene diphosphonic acid, phenylphosphoric acid which may have a substituent, naphthyl phosphoric acid, organic phosphoric acid such as alkyl phosphoric acid and glycerophosphoric acid, Organic phosphines such as phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid which may have a substituent, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydroquinol such as triethanolamine hydrochloride It is selected from hydrochlorides of amines having a group, but may be used as a mixture of two or more kinds.

【0134】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことができる。即ち、水またはメタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれら
の混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアル
ミニウム基板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水また
はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの
有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物
を溶解させた溶液に、アルミニウム基板を浸漬して上記
有機化合物を吸着させ、しかる後、水などによって洗
浄、乾燥して有機下塗層を設ける方法である。前者の方
法では、上記の有機化合物の0.005〜10重量%の
濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコ
ーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布な
どいずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法で
は、溶液の濃度は0.01〜20重量%、好ましくは
0.05〜5重量%であり、浸漬温度は20〜90℃、
好ましくは25〜50℃であり、浸債時間は0.1秒〜
20分、好ましくは2秒〜1分である。
The organic undercoat layer can be provided by the following method. That is, a method in which a solution obtained by dissolving the above organic compound in water or an organic solvent such as methanol, ethanol, or methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is applied to an aluminum substrate and dried to form a solution, and water or methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or the like. An aluminum substrate is immersed in a solution obtained by dissolving the above organic compound in an organic solvent or a mixed solvent thereof to adsorb the organic compound, and then washed with water and dried to form an organic undercoat layer. Is the way. In the former method, a solution of the above organic compound having a concentration of 0.005 to 10% by weight can be applied by various methods. For example, any method such as bar coater coating, spin coating, spray coating, and curtain coating may be used. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight, and the immersion temperature is 20 to 90 ° C.
Preferably, the temperature is 25 to 50 ° C., and the immersion time is 0.1 second to
20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute.

【0135】これに用いる溶液はアンモニア、トリエチ
ルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、
リン酸などの酸性物質によりpHを調節し、pH1〜1
2の範囲で使用することもできる。また、光重合性平版
印刷版の調子再現性改良のために、黄色染料を添加する
こともできる。
The solution used for this may be a basic substance such as ammonia, triethylamine or potassium hydroxide, hydrochloric acid,
The pH is adjusted with an acidic substance such as phosphoric acid,
2 can be used. Further, a yellow dye can be added for improving the tone reproducibility of the photopolymerizable lithographic printing plate.

【0136】有機下塗層の乾燥後の被覆量は、2〜20
0mg/m2が適当であり、好ましくは5〜100mg
/m2である。上記の被覆量が2mg/m2より少ないと
十分な耐刷性が得られない。また、200mg/m2
り大きくても同様である。
The coated amount of the organic undercoat layer after drying is from 2 to 20.
0 mg / m 2 is suitable, preferably 5 to 100 mg.
/ M 2 . If the coating amount is less than 2 mg / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. The same is true even if it is larger than 200 mg / m 2 .

【0137】またアルミニウム支持体は、途中更にフッ
化ジルコニウム酸カリウム、リン酸塩等の水溶液への浸
漬処理などの表面処理がなされてもかまわない。
The aluminum support may be further subjected to a surface treatment such as immersion in an aqueous solution of potassium fluorozirconate, phosphate or the like.

【0138】〔光重合性感光層〕本発明で用いられる光
重合性感光層の主な成分は、付加重合可能なエチレン性
二重結合を含む化合物、光重合開始剤、有機高分子結合
剤等であり、必要に応じ、着色剤、可塑剤、熱重合禁止
剤等の種々の化合物が添加される。
[Photopolymerizable Photosensitive Layer] The main components of the photopolymerizable photosensitive layer used in the present invention include compounds containing an addition-polymerizable ethylenic double bond, a photopolymerization initiator, an organic polymer binder and the like. Various compounds such as a coloring agent, a plasticizer, and a thermal polymerization inhibitor are added as necessary.

【0139】付加重合可能な二重結合を含む化合物は、
末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましく
は2個以上有する化合物の中から任意に選択することが
できる。
The compound containing a double bond capable of addition polymerization is
It can be arbitrarily selected from compounds having at least one, preferably two or more terminal ethylenically unsaturated bonds.

【0140】例えばモノマー、プレポリマー、すなわち
2量体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合
物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつも
のである。
For example, those having a chemical form such as a monomer, a prepolymer, ie, a dimer, a trimer and an oligomer, or a mixture thereof and a copolymer thereof.

【0141】モノマーおよびその共重合体の例として
は、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリ
ル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレ
イン酸など)と脂肪族多価アルコール化合物とのエステ
ル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのア
ミド等が挙げられる。
Examples of monomers and copolymers thereof include esters of unsaturated carboxylic acids (eg, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.) and aliphatic polyhydric alcohol compounds. And amides of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyamine compounds.

【0142】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソル
ビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリ
レート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトー
ルヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチ
ル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリ
ゴマー等がある。
Specific examples of the monomer of the ester of the aliphatic polyhydric alcohol compound and the unsaturated carboxylic acid include ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3
-Butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate 1,4-cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol Triacry Over DOO, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer.

【0143】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペシタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレー
ト、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールナ
トラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキ
シ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメ
タン、ビス〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニ
ル〕ジメチルメタン等がある。
Examples of the methacrylate include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, and 1,3-butanediol. Dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipesitaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol natramethacrylate , There is bis [p- (3--methacryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl] dimethyl methane, bis [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

【0144】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。
Examples of itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate,
There are 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate, sorbitol tetritaconate and the like.

【0145】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。
The crotonates include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate,
Sorbitol tetradicrotonate and the like.

【0146】イソクロトン酸エステルとしては、エチレ
ングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトー
ルジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロト
ネート等がある。
Examples of the isocrotonic acid ester include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.

【0147】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。
Examples of the maleic acid ester include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

【0148】さらに、前述のエステルモノマーの混合物
も挙げることができる。
Further, a mixture of the above-mentioned ester monomers can also be mentioned.

【0149】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。
Specific examples of the amide monomer of the aliphatic polyamine compound and the unsaturated carboxylic acid include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6- Hexamethylene bis-methacrylamide,
Examples include diethylenetriaminetrisacrylamide, xylylenebisacrylamide, xylylenebismethacrylamide, and the like.

【0150】その他の例としては、特公昭48−417
08号公報中に記載されている1分子中に2個以上のイ
ソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、
下記の一般式(A)で示される水酸基を含有するビニル
モノマーを付加せしめた1分子中に2個以上の重合性ビ
ニル基を含有するビエルウレタン化合物等が挙げられ
る。
Another example is described in JP-B-48-417.
08 polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule described in
A bierurethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule to which a hydroxyl group-containing vinyl monomer represented by the following general formula (A) is added is exemplified.

【0151】 CH2=C(R5)COOCH2CH(R6)OH……(A) (ただし、R5およびR6はHまたはCH3を示す。)CH 2 CC (R 5 ) COO 2 CH (R 6 ) OH (A) (where R 5 and R 6 represent H or CH 3 )

【0152】また、特開昭51−37193号に記載さ
れているようなウレタンアクリレート類、特開昭48−
64183号、特公昭49−43191号、特公昭52
−30490号各公報に記載されているようなポリエス
テルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル
酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のア
クリレートやメタクリレートを挙げることができる。さ
らに日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜
308ページ(1984年)に光硬化性モノマーおよび
オリゴマーとして紹介されているものも使用することが
できる。なお、これらの使用量は、全成分に対して5〜
70重量%(以下%と略称する。)、好ましくは10〜
50%である。
Also, urethane acrylates described in JP-A-51-37193,
64183, JP-B-49-43191, JP-B-52
And polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid as described in JP-A-30490. Further, the Journal of the Adhesion Society of Japan vol. 20, no. 7, 300-
Those introduced as photocurable monomers and oligomers on page 308 (1984) can also be used. In addition, these usage amounts are 5 to all components.
70% by weight (hereinafter abbreviated as%), preferably 10 to
50%.

【0153】光重合開始剤としては、使用する光源の波
長により、特許、文献等で公知である種々の光開始剤、
あるいは2種以上の光開始剤の併用系(光開始系)を適
宜選択して使用することができる。
Examples of the photopolymerization initiator include various photoinitiators known in patents and literatures, depending on the wavelength of the light source used.
Alternatively, a combination system (photoinitiating system) of two or more photoinitiators can be appropriately selected and used.

【0154】450nm以上の可視光線、Arレーザ
ー、半導体レーザーの第2高調波、SHG−YAGレー
ザーを光源とする場合にも、種々の光開始系が提案され
ており、例えば米国特許第2,850,445号に記載
のある種の光還元性染料、例えばローズベンガル、エオ
シン、エリスロシンなど、あるいは、染料と開始剤との
組み合わせによる系、例えば染料とアミンの複合開始系
(特公昭44−20189号)、ヘキサアリールビイミ
ダゾールとラジカル発生剤と染料との併用系(特公昭4
5−37377号)、ヘキサアリールビイミダゾールと
p−ジアルキルアミノベンジリデンケトンの系(特公昭
47−2528号、特開昭54−155292号)、環
状シス−α−ジカルボニル化合物と染料の系(特開昭4
8−84183号)、環状トリアジンとメロシアニン色
素の系(特開昭54−151024号)、3−ケトクマ
リンと活性剤の系(時開昭52−112681号、特開
昭58−15503号)、ビイミダゾール、スチレン誘
導体、チオールの系(特開昭59−140203号)、
Various light-initiating systems have also been proposed when using visible light of 450 nm or more, an Ar laser, the second harmonic of a semiconductor laser, or an SHG-YAG laser as a light source. For example, US Pat. No. 2,850. Certain photoreducing dyes, for example, rose bengal, eosin, erythrosine, and the like, or a system using a combination of a dye and an initiator, for example, a complex starting system of a dye and an amine (Japanese Patent Publication No. 44-20189). ), A combination of hexaarylbiimidazole, a radical generator and a dye (Japanese Patent Publication No. Sho 4)
5-37377), a system of hexaarylbiimidazole and p-dialkylaminobenzylidene ketone (JP-B-47-2528, JP-A-54-155292), and a system of a cyclic cis-α-dicarbonyl compound and a dye ( Kaisho 4
8-84183), a system of a cyclic triazine and a merocyanine dye (JP-A-54-151024), a system of 3-ketocoumarin and an activator (Tokikai Sho 52-112681, JP-A 58-15503), A system of imidazole, a styrene derivative, and a thiol (JP-A-59-140203);

【0155】有機過酸化物と色素の系(特開昭59−1
504号、特開昭59−140203号、特開昭59−
189340号、特開昭62−174203号、特公昭
62−1641号、米国特許第4766055号)、染
料と活性ハロゲン化合物の系(特開昭63−17181
05号、特開昭63−258903号、特願平2−63
054号など)、染料とボレート化合物の系(特開昭6
2−143044号、特開昭62−150242号、特
開昭64−13140号、特開昭64−13141号、
特開昭64−13142号、特開昭64−13143
号、特開昭64−13144号、特開昭64−1704
8号、特開平1−229003号、特開平1−2983
48号、特開平1−138204号など)、ローダニン
環を有する色素とラジカル発生剤の系(特開平2−17
9643号、特開平2−244050号)、チタノセン
と3−ケトクマリン色素の系(特開昭63−22111
0号)、チタノセンとキサンテン色素さらにアミノ基あ
るいはウレタン基を含む付加重合可能なエチレン性不飽
和化合物を組み合わせた系(特開平4−221958
号、特開平4−219756号)、チタノセンと特定の
メロシアニン色素の系(特開平6−295061号)、
チタノセンとベンゾピラン環を有する色素の系(特願平
7−164583)等を挙げることができる。
Organic peroxide and dye system (Japanese Unexamined Patent Publication No.
No. 504, JP-A-59-140203, JP-A-59-140203
No. 189340, JP-A-62-174203, JP-B-62-1641, U.S. Pat. No. 4,766,055), a system of a dye and an active halogen compound (JP-A-63-17181).
No. 05, JP-A-63-258903, Japanese Patent Application No. 2-63
No. 054), a system of a dye and a borate compound (JP-A-6
2-143044, JP-A-62-150242, JP-A-64-13140, JP-A-64-13141,
JP-A-64-13142, JP-A-64-13143
JP-A-64-13144, JP-A-64-1704
8, JP-A-1-229003, JP-A-1-2983
No. 48, JP-A-1-138204, etc., and a system of a dye having a rhodanine ring and a radical generator (JP-A No. 2-17)
No. 9643, JP-A-2-244050), a system of titanocene and 3-ketocoumarin dye (JP-A-63-22111).
No. 0), a system in which a titanocene is combined with a xanthene dye and an addition-polymerizable ethylenically unsaturated compound containing an amino group or a urethane group (JP-A-4-221958)
JP-A-4-219756), a system of titanocene and a specific merocyanine dye (JP-A-6-295061),
A dye system having a titanocene and a benzopyran ring (Japanese Patent Application No. Hei 7-164585) can be exemplified.

【0156】本発明において光重合性開始系として用い
られるチタノセン化合物は、前記した増感色素との共存
下で光照射した場合、活性ラジカルを発生し得るチタノ
セン化合物であればいずれであってもよく、例えば、特
開昭59−152396号、特開昭61−151197
号公報に記載されている公知の化合物を適宜に選択して
用いることができる。
The titanocene compound used as a photopolymerizable initiation system in the present invention may be any titanocene compound which can generate an active radical when irradiated with light in the presence of the above-mentioned sensitizing dye. For example, JP-A-59-152396, JP-A-61-151197
A known compound described in JP-A No. 5-211 can be appropriately selected and used.

【0157】さらに具体的には、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニ
ル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル
−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフ
ェニ−1−イル(以下「A−1」ともいう。)、ジ−シ
クロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テ
トラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−
1−イル、ジ−シクロペンタジフェニル−Ti−ビス−
2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペン
タジエニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニ−
1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビ
ス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−
イル(以下「A−2」ともいう。)、ジ−メチルシクロ
ペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラ
フルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジ
エニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニ−1−
イル、ビス(シクロペンタジエエル)−ビス(2,6−
ジフルオロ−3−(ピリ−1−イル)フェニル)チタニ
ウム(以下「A−3」ともいう。)等を挙げることがで
きる。
More specifically, di-cyclopentadienyl-Ti-di-chloride, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,3 4,5,6-pentafluorophenyl-1-yl (hereinafter also referred to as “A-1”), di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophenyl-1- Yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluorophenyl
1-yl, di-cyclopentadiphenyl-Ti-bis-
2,6-difluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-difluorophenyl
1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophenyl-1-
Yl (hereinafter also referred to as “A-2”), di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophenyl-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti -Bis-2,4-difluorophenyl-1-
Il, bis (cyclopentadieel) -bis (2,6-
And difluoro-3- (pyrid-1-yl) phenyl) titanium (hereinafter also referred to as “A-3”).

【0158】光重合性組成物に用いられるチタノセン化
合物は単独でまたは2種以上併用して用いることができ
る。
The titanocene compounds used in the photopolymerizable composition can be used alone or in combination of two or more.

【0159】これらの光重合開始剤の使用量は、エチレ
ン性不飽和化合物100重量部に対し、0.05〜10
0重量部、好ましくは0.1〜70重量部、更に好まし
くは0.2〜50重量部の範囲で用いることができる。
These photopolymerization initiators are used in an amount of 0.05 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the ethylenically unsaturated compound.
0 parts by weight, preferably 0.1 to 70 parts by weight, and more preferably 0.2 to 50 parts by weight.

【0160】光重合性組成物は、通常、バインダーとし
て有機高分子重合体を含有するが、本発明では架橋性基
を側鎖に有する重合体を用いる。このような有機高分子
重合体(以下、単にポリマーともいう)としては、それ
自身が架橋性基(不飽和基ともいう)およびカルボキシ
ル基を側鎖に有し、且つ架橋性基が下記一般式〔I〕
The photopolymerizable composition usually contains an organic polymer as a binder. In the present invention, a polymer having a crosslinkable group in a side chain is used. Such an organic high molecular polymer (hereinafter also simply referred to as a polymer) itself has a crosslinkable group (also referred to as an unsaturated group) and a carboxyl group in a side chain, and the crosslinkable group has the following general formula: [I]

【0161】[0161]

【化1】 Embedded image

【0162】〔式中R1〜R5は水素、ハロゲノ、カルボ
キシル、スルホ、ニトロ、シアノ、アミド、アミノやそ
れぞれ置換基を有していてもよいアルキル、アリール、
アルコキン、アリーロキン、アルキルアミノ、アリール
アミノ、環状アルキル、アルキルスルホニル、アリール
スルホニルから選ばれた基であり、Zは酸素、硫黄、N
HまたはNR(Rはアルキル基)から選ばれる〕で表わ
されるところに特徴がある。
[Wherein R 1 to R 5 are hydrogen, halogeno, carboxyl, sulfo, nitro, cyano, amide, amino, alkyl, aryl, each of which may have a substituent,
Alcoquin, aryloquin, alkylamino, arylamino, cyclic alkyl, alkylsulfonyl, arylsulfonyl, wherein Z is oxygen, sulfur, N
H or NR (R is an alkyl group)].

【0163】更に、光重合性感光層のバインダーとして
用いられる、架橋性基を側鎖に有するポリマーは、米国
特許第3,376,138号、第3,556,792
号、第3,556,793号各明細書により公知である
が、開示されているポリマーは、ポリマーそのものが、
光架橋性レジストとして使われており、本実施の形態で
述べる光重合性組成物のバインターとしての使用方法と
は明白な相異がある。
Further, polymers having a crosslinkable group in a side chain used as a binder for the photopolymerizable photosensitive layer are described in US Pat. Nos. 3,376,138 and 3,556,792.
No. 3,556,793, the disclosed polymer is a polymer itself,
It is used as a photocrosslinkable resist, and has a clear difference from the method of using the photopolymerizable composition described in this embodiment as a binder.

【0164】上記ポリマーの合成方法には、大別して次
の2つの方法がある。
The methods for synthesizing the above polymers are roughly classified into the following two methods.

【0165】(A法):カルボン酸、カルボン酸ハライ
ド、カルボン酸無水物基を側鎖として有する幹ポリマー
に対して、後記一般式〔I−a〕で示される化合物を高
分子反応させて、
(Method A): A compound represented by the following general formula [Ia] is subjected to a polymer reaction with a carboxylic acid, a carboxylic acid halide, and a backbone polymer having a carboxylic anhydride group as a side chain.

【0166】[0166]

【化2】 Embedded image

【0167】(式中、R1〜R5は一般式〔I〕:の場合
と同義)で示される架橋性基を−COO−、−COS
−、−CONH−または−CONR−の各連結基を介し
て導入する方法。
(Wherein, R 1 to R 5 have the same meanings as in the general formula [I]).
-, -CONH- or -CONR- a method of introducing via each connecting group.

【0168】(B法):前記一般式〔I〕で示される架
橋性基とさらに該架橋性基よりも付加重合反応性に富ん
だエチレン性不飽和基とを有するモノマーを不飽和カル
ボン酸と共重合させて、ポリマーを得る方法。
(Method B): A monomer having a crosslinkable group represented by the above general formula [I] and an ethylenically unsaturated group having a higher addition polymerization reactivity than the crosslinkable group is converted into an unsaturated carboxylic acid. A method of obtaining a polymer by copolymerization.

【0169】[0169]

【化3】 Embedded image

【0170】〔式中、R1〜R5は一般式〔I〕の場合と
同義であり、YはOH、−SH、−NH2、−NHR
(Rはアルキル基)またはハロゲン原子を示す。〕 上記一般式〔I−a〕におけR1〜R5のアルキル基は、
直鎖、分枝、または環状であってもよく、炭素数1〜7
のものが好ましく、これらのアルキル基には更に炭素数
1〜2のアルコキシ基、炭素数1〜3のアルコキシカル
ボニル基、フェニル基、ヒドロキシ基などの置換基を有
していてもよく、R1〜R5のアリール基としてはフェニ
ル基、フリル基が好ましく、これにはハロゲノ基(例え
ばクロロ、ブロモなど)、ヒドロキシ基、炭素数1〜7
のアルキル基、アリール基(例えばフェニル、メトキン
フェニルなど)、炭素数1〜7個のアルコキシ基、ニト
ロ基、アミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基などの置
換基を有していてもよい。R1〜R5のアルコキシ基とし
ては炭素数1〜7のものが好ましく、アリールオキシ基
としてはフェニルオキン基が好ましく、これには炭素数
1〜7のアルキルもしくはアルコキシ基などの置換基を
有していてもよい。R1〜R5のアルキルアミノ基として
は、炭素故1〜15のものが好ましく、アリールアミノ
基としてはフェニルアミノ基、ナフチルアミノ基が好ま
しい。R1〜R5のアルキルスルホニル基としては炭素数
1〜15のものが好ましく、アリールスルホニル基とし
てはフェニルスルホニル基などが好ましく、これには炭
素数1〜15のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ
基、アミノ基などの置換基を有していてもよい。
[Wherein, R 1 to R 5 have the same meanings as in formula [I], and Y is OH, —SH, —NH 2 , —NHR
(R is an alkyl group) or a halogen atom. The alkyl group of R 1 to R 5 in the general formula [Ia] is
It may be linear, branched, or cyclic, and has 1 to 7 carbon atoms.
Preferably has, even in these alkyl group, an alkoxy group having from 1 to 2 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 1 to 3 carbon atoms, a phenyl group may have a substituent such as hydroxy group, R 1 As the aryl group represented by R 5 to R 5, a phenyl group and a furyl group are preferable, including a halogeno group (eg, chloro, bromo, etc.), a hydroxy group,
May have a substituent such as an alkyl group, an aryl group (e.g., phenyl and methkinphenyl), an alkoxy group having 1 to 7 carbon atoms, a nitro group, an amino group, and an N, N-dialkylamino group. . The alkoxy group of R 1 to R 5 is preferably a group having 1 to 7 carbon atoms, and the aryloxy group is preferably a phenyl okine group, which has a substituent such as an alkyl or alkoxy group having 1 to 7 carbon atoms. May be. The alkylamino group of R 1 to R 5 is preferably a group having 1 to 15 carbon atoms, and the arylamino group is preferably a phenylamino group or a naphthylamino group. The alkylsulfonyl group represented by R 1 to R 5 is preferably a group having 1 to 15 carbon atoms, and the arylsulfonyl group is preferably a phenylsulfonyl group. May have a substituent such as an alkoxy group and an amino group.

【0171】上記A法をさらに詳しく示すと、幹ポリマ
ーとしてはアクリル酸又はメタアクリル酸の共重合体お
よび当該共重合体を高分子反応により酸ハロゲン化物と
した共重合体があげられる。又、マレイン酸無水物、イ
タコン酸無水物等の共重合体があげられる。共重合する
コモノマーとしては、スチレンまたはそのアルキル置換
誘導体、アクリル酸アルキルエステル、アクリル酸アリ
ールエステル、メタクリル酸アルキルエステル、メタク
リル酸アリールエステル、または脂肪族ビニルエステル
があげられる。好ましくはアクリル酸またはメタアクリ
ル酸とアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸ブチル、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸メチル、
メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル
酸ベンジルとの共重合体があげられる。これらの共重合
体に架橋性基を導入するには一般式〔I−a〕で示され
る架橋性アルコール、アミン、チオール、ハロゲン化物
を所定反応条件下、反応溶媒中に前述の共重合体と混合
溶解し、反応触媒および重合禁止剤とを加え加熱するこ
とによって得られる。具体的にはメタクリル酸とメタク
リル酸ベンジルの共重合体を例にとって以下に示す。
If the method A is described in more detail, examples of the trunk polymer include a copolymer of acrylic acid or methacrylic acid and a copolymer in which the copolymer is an acid halide by a polymer reaction. Further, copolymers such as maleic anhydride and itaconic anhydride can be used. Examples of the comonomer to be copolymerized include styrene or an alkyl-substituted derivative thereof, an alkyl acrylate, an aryl acrylate, an alkyl methacrylate, an aryl methacrylate, or an aliphatic vinyl ester. Preferably acrylic acid or methacrylic acid and methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, benzyl acrylate, methyl methacrylate,
Copolymers with ethyl methacrylate, butyl methacrylate, and benzyl methacrylate are exemplified. In order to introduce a crosslinkable group into these copolymers, a crosslinkable alcohol, an amine, a thiol, or a halide represented by the general formula [Ia] is reacted with the above copolymer in a reaction solvent under predetermined reaction conditions. It is obtained by mixing and dissolving, adding a reaction catalyst and a polymerization inhibitor, and heating. Specifically, a copolymer of methacrylic acid and benzyl methacrylate is shown below as an example.

【0172】攪拌棒および攪拌羽根、還流冷却器および
温度計を備えつけた300mlの三つ口フラスコ中にポ
リ(メタクリル酸/メタクリル酸ベンジル=27/73
モル比)19.8g、反応溶媒として酢酸エチレングリ
コールモノメチルエーテルを40.2g、架橋性基を含
有する試薬としてアリル臭素化物6.0g、触媒として
トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド10.4
gおよび重合禁止剤としてパラメトキシフェノール0.
01gを加え混合溶解し、窒素雰囲気下70℃にて13
時間加熱攪拌を行った。冷却後メチルエチルケトンを加
え遊離する四級塩を除去する。さらにメタノールを加え
て希釈し希塩酸中に注いで沈殿させる。水洗し後吸引濾
過をし、真空乾燥させると得られるポリマーの収量は1
3.6gであった。アリル基は幹ポリマーのカルボン酸
に対して35%導入された。
A poly (methacrylic acid / benzyl methacrylate = 27/73) was placed in a 300 ml three-necked flask equipped with a stirring rod and stirring blades, a reflux condenser and a thermometer.
19.8 g), 40.2 g of ethylene glycol monomethyl ether acetate as a reaction solvent, 6.0 g of allyl bromide as a reagent containing a crosslinkable group, and 10.4 g of trimethylbenzylammonium hydroxide as a catalyst.
g of paramethoxyphenol and 0.1 g of paramethoxyphenol as a polymerization inhibitor.
And mixed and dissolved at 70 ° C. in a nitrogen atmosphere.
Heating and stirring were performed for hours. After cooling, methyl ethyl ketone is added to remove free quaternary salts. Further, the mixture is diluted with methanol and poured into dilute hydrochloric acid to precipitate. After washing with water, suction filtration and vacuum drying, the yield of polymer obtained is 1
It was 3.6 g. Allyl groups were introduced at 35% relative to the carboxylic acid of the backbone polymer.

【0173】[0173]

【化4】 Embedded image

【0174】無水マレイン酸の共重合体に該架橋性基を
導入する合成例は米国特許第2,047,398号明細
書に記載された方法で行なうことができ、これにより無
水マレイン酸部が開環した不飽和エステル、アミド、チ
オエステル等が導入される。なお、無水マレイン酸共重
体への架橋性基の導入方法としては、特開昭48−82
902号公報に記載の類似例があげられるが、この方法
による架橋性基はマレイン酸イミドの窒素原子に結合し
ており、明白に前述のポリマーとは異なった化合物であ
り、本発明に使用される架橋性基を側鎖に有するポリマ
ーとは区別される。
A synthesis example in which the crosslinkable group is introduced into a copolymer of maleic anhydride can be carried out by the method described in US Pat. No. 2,047,398, whereby the maleic anhydride moiety is formed. A ring-opened unsaturated ester, amide, thioester or the like is introduced. As a method for introducing a crosslinkable group into a maleic anhydride copolymer, JP-A-48-82
A similar example described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 902/1990 is mentioned, but the crosslinkable group by this method is bonded to the nitrogen atom of maleic imide, and is clearly a compound different from the above-mentioned polymer, and is used in the present invention. Polymer having a crosslinkable group in the side chain.

【0175】一方、B法をさらに詳しく示すと、該架橋
性基を有する少なくとも2つ以上の炭素−炭素二重結合
を含むモノマーは、既知合成法により該架橋性基を有す
るアルコール、アミン、チオールと不飽和カルボン酸、
好ましくはアクリル酸またはメタクリル酸との縮合反応
により合成される。この少なくとも2つ以上の不飽和基
を含むモノマーを不飽和カルボン酸、好ましくはアクリ
ル酸またはメタクリル酸と共重合させることにより該架
橋性基を有する共重合体を得る。共重合するモノマー
は、不飽和カルボン酸に付け加えてさらに他のモノマー
が共重合されてもよく、例えばアクリル酸アルキル、メ
タクリル酸アルキル、メタクリル酸ベンジル、メタクリ
ル酸−2−ヒドロキンエチル、アクリロニトリル等が挙
げられる。
On the other hand, the method B will be described in more detail. A monomer containing at least two carbon-carbon double bonds having a crosslinkable group can be obtained by a known synthesis method using an alcohol, amine or thiol having the crosslinkable group. And unsaturated carboxylic acids,
Preferably, it is synthesized by a condensation reaction with acrylic acid or methacrylic acid. By copolymerizing the monomer containing at least two or more unsaturated groups with an unsaturated carboxylic acid, preferably acrylic acid or methacrylic acid, a copolymer having the crosslinkable group is obtained. The monomer to be copolymerized may further be copolymerized with another monomer in addition to the unsaturated carboxylic acid, for example, alkyl acrylate, alkyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-hydroquinethyl methacrylate, acrylonitrile, and the like. No.

【0176】以下、メタクリル酸アリルとメタクリル酸
との共重合例を示す。類似の合成法として、米国特許第
2,047,398号明細書に記載の方法があげられ
る。
The following is an example of copolymerization of allyl methacrylate and methacrylic acid. As a similar synthesis method, a method described in US Pat. No. 2,047,398 can be mentioned.

【0177】攪拌棒および攪拌羽根、還流冷却器、滴下
漏斗および温度計を設置した3リットルの4口フラスコ
に反応溶媒として1,2−ジクロルエタン1.68リッ
トルを入れ窒素置換しながら70℃に加熱した。滴下漏
斗にメタクリル酸アリル100.8g、メタクリル酸
7.6gおよび重合開始剤として2,2’−アゾビス
(2,4−ジメチルバレロニトリル)1.68gを0.
44リットルの1,2−ジクロルエタンに溶解して入れ
ておき、2時間かけてこの混合溶液をフラスコ中に撹拌
しながら滴下した。
1.68 liters of 1,2-dichloroethane as a reaction solvent was placed in a 3 liter four-necked flask equipped with a stirring rod and a stirring blade, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer, and heated to 70 ° C. while purging with nitrogen. did. 100.8 g of allyl methacrylate, 7.6 g of methacrylic acid, and 1.68 g of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as a polymerization initiator were added to a dropping funnel in an amount of 0.1 g.
The mixture was dissolved in 44 liters of 1,2-dichloroethane, and the mixed solution was dropped into the flask over 2 hours with stirring.

【0178】滴下終了後さらに反応温度70℃で5時間
攪拌し反応を完結した。加熱終了後重合禁止剤としてパ
ラメトキンフェノール0.04gを加え反応溶液を50
0mlまで濃縮し、この濃縮液を4リットルのヘキサン
に加えて沈殿させ、真空乾燥後61g(収率56%)の
共重合ポリマーを得た。このとき粘度は80℃のメチル
エチルケトンで〔η〕=0.068であった。
After completion of the dropwise addition, the mixture was further stirred at a reaction temperature of 70 ° C. for 5 hours to complete the reaction. After the completion of heating, 0.04 g of paramethokine phenol was added as a polymerization inhibitor, and the reaction solution was added to 50 parts.
The solution was concentrated to 0 ml, and the concentrated solution was added to 4 liters of hexane to precipitate. After vacuum drying, 61 g (yield 56%) of a copolymer was obtained. At this time, the viscosity was [η] = 0.068 for methyl ethyl ketone at 80 ° C.

【0179】前記一般式〔I−a〕で示される代表的な
化合物は、アリルアルコール、2−メチルアリルアルコ
ール、クロチルアルコール、3−クロル−2−プロペン
−1−オール、3−フェニル−2−プロペン−1−オー
ル、3−(ヒドロキンフェニル)−2−プロペン−1−
オール、3−(2−ヒドロキシフェニル)−2−プロペ
ン−1−オール、3−(3・4−ジヒドロキシフェニ
ル)−2−プロペン−1−オール、3−(2・4−ジヒ
ドロキシフェニル−2−プロペン−1−オール、3−
(3・4・5−トリヒドロキンフェニル)−2−プロペ
ン−1−オール、3−(3−メトキシ−4−ヒドロキン
フェニル)−2−プロペン−1−オール、3−(3・4
−ジヒドロキシ−5−メトキシフェニル)−2−プロペ
ン−1−オール、3−(3・5−ジメトキシ−4−ヒド
ロキシフェニル)−2−プロペン−1−オール、3−
(2−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)−2−プロペ
ン−1−オール、3−(4−メトキシフェニル)−2−
プロペン−1−オール、3−(4―エトキンフェニル)
−2−プロペン−1−オール、3−(2−メトキシフェ
ニル)−2−プロペン−1−オール、3−(3・4−ジ
メトキシフェニル)−2−プロペン−1−オール、3−
(3−メトキシ−4−プロポキシフェニル)−2−プロ
ペン−1−オール、
Representative compounds represented by the above general formula [Ia] include allyl alcohol, 2-methylallyl alcohol, crotyl alcohol, 3-chloro-2-propen-1-ol, and 3-phenyl-2. -Propen-1-ol, 3- (hydroquinphenyl) -2-propen-1-
All, 3- (2-hydroxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3.4-dihydroxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (2.4-dihydroxyphenyl-2-ol Propen-1-ol, 3-
(3,4-5-trihydroquinphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3-methoxy-4-hydroquinphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3.4
-Dihydroxy-5-methoxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3.5-dimethoxy-4-hydroxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3-
(2-hydroxy-4-methylphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (4-methoxyphenyl) -2-
Propen-1-ol, 3- (4-ethoxyquinphenyl)
-2-propen-1-ol, 3- (2-methoxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3-4-dimethoxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3-
(3-methoxy-4-propoxyphenyl) -2-propen-1-ol,

【0180】3−(2・4・6−トリメトキシフェニ
ル)−2−プロペン−1−オール、3−(3−メトキシ
−4−ベンジルオキシフェニル)−2−プロペン−1−
オール、3−1−(3’−メトキンフェニル)−4−ベ
ンジルオキシフェニル)−2−プロペン−1−オール、
3−フェノキシ−3−フェニル−2−プロペン−1−オ
ール、3−(3・4・5−トリメトキシフェニル)−2
−プロペン−1−オール、3−(4−メチルフェニル)
−2−プロペン−1−オール、3−フェニル−3−(2
・4・6−トリメチルフェニル)−2−プロペン−1−
オール、3・3−{ジ−(2・4・6−トリメチルフェ
ニル)}−2−プロペン−1−オール、3−フェニル−
3−(4−メチルフェニル)−2−プロペン−1−オー
ル、3・3−ジフェニル−2−プロペン−1−オール、
3−(2−クロルフェニル)−2−プロペン−1−オー
ル、3−(3−クロルフェニル)−2−プロペン−1−
オール、3−(4−クロルフェニル)−2−プロペン−
1−オール、3−(2・4−ジクロルフェニル)−2−
プロペン−1−オール、3−(2−ブロムフェニル)−
2−プロペン−1−オール、3−ブロム−3−フェニル
−2−プロペン−1−オール、3−クロル−3−フェニ
ル−2−プロペン−1−オール、3−(4−ニトロフェ
ニル)−2−プロペン−1−オール、
3- (2-4,6-trimethoxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3-methoxy-4-benzyloxyphenyl) -2-propen-1-
All, 3-1- (3′-methokinphenyl) -4-benzyloxyphenyl) -2-propen-1-ol,
3-phenoxy-3-phenyl-2-propen-1-ol, 3- (3.4.5-trimethoxyphenyl) -2
-Propen-1-ol, 3- (4-methylphenyl)
-2-propen-1-ol, 3-phenyl-3- (2
* 4,6-trimethylphenyl) -2-propene-1-
All, 3,3- {di- (2,4,6-trimethylphenyl)}-2-propen-1-ol, 3-phenyl-
3- (4-methylphenyl) -2-propen-1-ol, 3,3-diphenyl-2-propen-1-ol,
3- (2-chlorophenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3-chlorophenyl) -2-propen-1-
All, 3- (4-chlorophenyl) -2-propene-
1-ol, 3- (2.4-dichlorophenyl) -2-
Propen-1-ol, 3- (2-bromophenyl)-
2-propen-1-ol, 3-bromo-3-phenyl-2-propen-1-ol, 3-chloro-3-phenyl-2-propen-1-ol, 3- (4-nitrophenyl) -2 -Propen-1-ol,

【0181】3−(2−ニトロフェニル)−2−プロペ
ン−1−オール、3−(3−ニトロフェニル)−2−プ
ロペン−1−オール、2−メチル−3−フェニル−2−
プロペン−1−オール、2−メチル−3−(4−クロル
フェニル)−2−プロペン−1−オール、2−メチル−
3−(4−ニトロフェニル)−2−プロペン−1−オー
ル、2−メチル−3−(4−アミノフェニル)−2−プ
ロペン−1−オール、2−メチル−3・3−ジフェニル
−2−プロペン−1−オール、2−エチル−1・3−ジ
フェニル−2−プロペン−1−オール、2−エトキシメ
チレン−3−フェニル−2−プロペン−1−オール、2
−フェノキシ−3−フェニル−2−プロペン−1−オー
ル、2−メチル−3−(4−メトキシフェニル)−2−
プロペン−1−オール、2・3−ジフェニル−2−プロ
ペン−1−オール、1・2・3−トリフェニル−2−プ
ロペン−1−オール、2・3・3−トリフェニル−2−
プロペン−1−オール、2−エトキシ−3−フェニル−
2−プロペン−1−オール、1.3−ジフェニル−2−
プロペン−1−オール、1−(4−メチルフェニル)−
3−フェニル−2−プロペン−1−オール、1−フェニ
ル−3−(4−メチルフェニル)−2−プロペン−1−
オール、1−フェニル−3−(4−メトキシフェニル)
−2−プロペン−1−オール、1−(4−メトキシフェ
ニル)−3−フェニル−2−プロペン−1−オール、
3- (2-nitrophenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3-nitrophenyl) -2-propen-1-ol, 2-methyl-3-phenyl-2-
Propen-1-ol, 2-methyl-3- (4-chlorophenyl) -2-propen-1-ol, 2-methyl-
3- (4-nitrophenyl) -2-propen-1-ol, 2-methyl-3- (4-aminophenyl) -2-propen-1-ol, 2-methyl-3-3.3-diphenyl-2- Propen-1-ol, 2-ethyl-1 / 3-diphenyl-2-propen-1-ol, 2-ethoxymethylene-3-phenyl-2-propen-1-ol, 2
-Phenoxy-3-phenyl-2-propen-1-ol, 2-methyl-3- (4-methoxyphenyl) -2-
Propen-1-ol, 2,3-diphenyl-2-propen-1-ol, 1,2,3-triphenyl-2-propen-1-ol, 2,3,3-triphenyl-2-
Propen-1-ol, 2-ethoxy-3-phenyl-
2-propen-1-ol, 1.3-diphenyl-2-
Propen-1-ol, 1- (4-methylphenyl)-
3-phenyl-2-propen-1-ol, 1-phenyl-3- (4-methylphenyl) -2-propen-1-
All, 1-phenyl-3- (4-methoxyphenyl)
-2-propen-1-ol, 1- (4-methoxyphenyl) -3-phenyl-2-propen-1-ol,

【0182】1・3−ジ(4−クロルフェニル)−2−
プロペン−1−オール、1−(4−ブロムフェニル)−
3−フェニル−2−プロペン−1−オール、1−フェニ
ル−3−(4−ニトロフェニル)−2−プロペン−1−
オール、1・3−ジ(2−ニトロフェニル)−2−プロ
ペン−1−オール、1−(4−ジメチルアミノフェニ
ル)−3−フェニル−2−プロペン−1−オール、1−
フェニル−3−(4−ジメチルアミノフェニル)−2−
プロペン−1−オール、1・1−ジ(4−ジメチルアミ
ノフェニル)−3−フェニル−2−プロペン−1−オー
ル、1・1・3−トリフェニル−2−プロペン−1−オ
ール、1・1・3・3−テトラフェニル−2−プロペン
−1−オール、1−(4−メチルフェニル)−3−フェ
ニル−2−プロペン−1−オール、1−(ドデシルスル
ホニル)−3−フェニル−2−プロペン−1−オール、
1−フェニル−2−プロペン−1−オール、1・2−ジ
フェニル−2−プロペン−1−オール、1−フェニル−
2−メチル−2−プロペン−1−オール、1−シクロヘ
キシル−2−プロペン−1−オール、1−フェノキシ−
2−プロペン−1−オール、2−ベンジル−2−プロペ
ン−1−オール、1・1−ジ(4−クロルフェニル)−
2−プロペン−1−オール、1−カルボキシ−2−プロ
ペン−1−オール、
1,3-di (4-chlorophenyl) -2-
Propen-1-ol, 1- (4-bromophenyl)-
3-phenyl-2-propen-1-ol, 1-phenyl-3- (4-nitrophenyl) -2-propen-1-
All, 1,3-di (2-nitrophenyl) -2-propen-1-ol, 1- (4-dimethylaminophenyl) -3-phenyl-2-propen-1-ol, 1-
Phenyl-3- (4-dimethylaminophenyl) -2-
Propen-1-ol, 1,1-di (4-dimethylaminophenyl) -3-phenyl-2-propen-1-ol, 1.1,3-triphenyl-2-propen-1-ol, 1. 1,3,3-tetraphenyl-2-propen-1-ol, 1- (4-methylphenyl) -3-phenyl-2-propen-1-ol, 1- (dodecylsulfonyl) -3-phenyl-2 -Propen-1-ol,
1-phenyl-2-propen-1-ol, 1,2-diphenyl-2-propen-1-ol, 1-phenyl-
2-methyl-2-propen-1-ol, 1-cyclohexyl-2-propen-1-ol, 1-phenoxy-
2-propen-1-ol, 2-benzyl-2-propen-1-ol, 1.1-di (4-chlorophenyl)-
2-propen-1-ol, 1-carboxy-2-propen-1-ol,

【0183】1−カルボキシアミド−2−プロペン−1
−オール、1−シアノ−2−プロペン−1−オール、1
−スルホ−2−プロペン−1−オール、2−エトキシ−
2−プロペン−1−オール、2−アミノ−2−プロペン
−1−オール、3−(3−アミノ−4−メトキシフェニ
ルスルホニル)−2−プロペン−1−オール、3−(4
−メチルフェニルスルホニル)−2−プロペン−1−オ
ール、3−フェニルスルホニル−2−プロペン−1−オ
ール、3−ベンジルスルホニル−2−プロペン−1−オ
ール、3−アニリノスルホニル−2−プロペン−1−オ
ール、3−(4−メトキシアニリノスルホニル)−2−
プロペン−1−オール、8−アニリノ−2−プロペン−
1−オール、3−ナフチルアミノ−2−プロペン−1−
オール、3−フェノキシ−2−プロペン−1−オール、
3−(2−メチルフェニル)−2−プロペン−1−オー
ル、3−(3−メチルフェノキン)−2−プロペン−1
−オール、3−(2・4−ジメチルフェニル)−2−プ
ロペン−1−オール、1−メチル−3−カルボキシ−2
−プロペン−1−オール、3−カルボキシ−2−プロペ
ン−1−オール、3−ブロム−3−カルボキシ−2−プ
ロペン−1−オール、1−カルボキシ−3−クロル−3
−メチル−2−プロペン−1−オール、1−カルボキシ
−3−メチル−2−プロペン−1−オール、
1-carboxamido-2-propene-1
-Ol, 1-cyano-2-propen-1-ol, 1
-Sulfo-2-propen-1-ol, 2-ethoxy-
2-propen-1-ol, 2-amino-2-propen-1-ol, 3- (3-amino-4-methoxyphenylsulfonyl) -2-propen-1-ol, 3- (4
-Methylphenylsulfonyl) -2-propen-1-ol, 3-phenylsulfonyl-2-propen-1-ol, 3-benzylsulfonyl-2-propen-1-ol, 3-anilinosulfonyl-2-propene- 1-ol, 3- (4-methoxyanilinosulfonyl) -2-
Propen-1-ol, 8-anilino-2-propene-
1-ol, 3-naphthylamino-2-propene-1-
All, 3-phenoxy-2-propen-1-ol,
3- (2-methylphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3-methylphenokine) -2-propen-1
-Ol, 3- (2,4-dimethylphenyl) -2-propen-1-ol, 1-methyl-3-carboxy-2
-Propen-1-ol, 3-carboxy-2-propen-1-ol, 3-bromo-3-carboxy-2-propen-1-ol, 1-carboxy-3-chloro-3
-Methyl-2-propen-1-ol, 1-carboxy-3-methyl-2-propen-1-ol,

【0184】1−(2−カルベトキシイソプロピル)−
3−メチル−2−プロペン−1−オール、1−(1−カ
ルベトキシプロピル)−2−プロペン−1−オール、1
−(1−カルベトキシエチル)−3−メチル−2−プロ
ペン−1−オール、1−カルベトキシ−3−クロルー3
−メチル−2−プロペン−1−オール、1−カルベトキ
シメチレン−3−メチル−2−プロペン−1−オール、
1−アミド−2・3−ジメチル−2−プロペン−1−オ
ール、1−シアノ−3−メチル−2−プロペン−1−オ
ール、3−スルホ−2−プロペン−1−オール、3−ブ
トキシ−2−プロペン−1−オール、1−シクロへキン
ル−3−(2−ヒドロキシシクロヘキシル)−2−プロ
ペン−1−オール、3−シクロベンジル−2−プロペン
−1−オール、3−フリル−2−プロペン−1−オー
ル、3−クロム−2−プロペン−1−オール、3−ブロ
ム−2−プロペン−1−オール、2−メチル−3−クロ
ル−2−プロペン−1−オール、2−メチル−3−ブロ
ム−2−プロペン−1−オール、1−カルボイソブトキ
シ−3−クロル−3−メチル−2−プロペン−1−オー
ル、2−クロル−3−フェニル−2−プロペン−1−オ
ール(2−クロルシンナミルアルコール)、2−ブロム
−3−フェニル−2−プロペン−1−オール(2−ブロ
ムシンナミルアルコール)、
1- (2-carbethoxyisopropyl)-
3-methyl-2-propen-1-ol, 1- (1-carbethoxypropyl) -2-propen-1-ol,
-(1-carbethoxyethyl) -3-methyl-2-propen-1-ol, 1-carbethoxy-3-chloro-3
-Methyl-2-propen-1-ol, 1-carbethoxymethylene-3-methyl-2-propen-1-ol,
1-amido-2 / 3-dimethyl-2-propen-1-ol, 1-cyano-3-methyl-2-propen-1-ol, 3-sulfo-2-propen-1-ol, 3-butoxy- 2-propen-1-ol, 1-cyclohexyl-3- (2-hydroxycyclohexyl) -2-propen-1-ol, 3-cyclobenzyl-2-propen-1-ol, 3-furyl-2- Propen-1-ol, 3-chrom-2-propen-1-ol, 3-bromo-2-propen-1-ol, 2-methyl-3-chloro-2-propen-1-ol, 2-methyl- 3-bromo-2-propen-1-ol, 1-carboisobutoxy-3-chloro-3-methyl-2-propen-1-ol, 2-chloro-3-phenyl-2-propen-1-ol ( 2-chlorosi Cinnamyl alcohol), 2-bromo-3-phenyl-2-propen-1-ol (2-bromo cinnamyl alcohol),

【0185】2−ブロム−3−(4−ニトロフェニル)
−2−プロペン−1−オール、2−フルオロ−3−フェ
ニル−2−プロペン−1−オール(2−フルオロシンナ
ミルアルコール)、2−フルオロ−3−(4−メトキシ
フェニル)−2−プロペン−1−オール、2−ニトロ−
3−クロル−3−フェニル−2−プロペン−1−オー
ル、2−ニトロ−3−フェニル−2−プロペン−1−オ
ール(2−ニトロシンナミルアルコール)、2−シアノ
−3−フェニル−2−プロペン−1−オール(2−シア
ノシンナミルアルコール)、2−クロル−2−プロペン
−1−オール(2−クロルアリルアルコール)、2−ブ
ロム−2−プロペン−1−オール(2−ブロムアリルア
ルコール)、2−カルボキシ−2−プロペン−1−オー
ル(2−カルボキシアリルアルコール)、2−カルベト
キシ−2−プロペン−1−オール(2−カルベトキシア
リルアルコール)、2−スルホン酸−2−プロペン−1
−オール(2−スルホン酸アリルアルコール)、2−ニ
トロ−2−プロペン−1−オール(2−ニトロアリルア
ルコール)、2−ブロム−3・3−ジフルオロ−2−プ
ロペン−1−オール、2−クロル−3・3−ジフルオロ
−2−プロペン−1−オール、2−フルオロ−3−クロ
ル−2−プロペン−1−オール、2・3−ジブロム−3
−カルボキシ−2−プロペン−1−オール、
2-bromo-3- (4-nitrophenyl)
-2-propen-1-ol, 2-fluoro-3-phenyl-2-propen-1-ol (2-fluorocinnamyl alcohol), 2-fluoro-3- (4-methoxyphenyl) -2-propene- 1-ol, 2-nitro-
3-chloro-3-phenyl-2-propen-1-ol, 2-nitro-3-phenyl-2-propen-1-ol (2-nitrocinnamyl alcohol), 2-cyano-3-phenyl-2-ol Propen-1-ol (2-cyanocinnamyl alcohol), 2-chloro-2-propen-1-ol (2-chloroallyl alcohol), 2-bromo-2-propen-1-ol (2-bromoallyl alcohol) ), 2-carboxy-2-propen-1-ol (2-carboxyallyl alcohol), 2-carbethoxy-2-propen-1-ol (2-carbethoxyallyl alcohol), 2-sulfonic acid-2-propene- 1
-Ol (2-allyl alcohol sulfonate), 2-nitro-2-propen-1-ol (2-nitroallyl alcohol), 2-bromo-3 / 3-difluoro-2-propen-1-ol, 2- Chlor-3-3-difluoro-2-propen-1-ol, 2-fluoro-3-chloro-2-propen-1-ol, 2,3-dibromo-3
-Carboxy-2-propen-1-ol,

【0186】2・3−ジヨード−3−カルボキシ−2−
プロペン−1−オール、2・3−ジブロム−2−プロペ
ン−1−オール、2−クロル−3−メチル−2−プロペ
ン−1ーオールが挙げられる。また上記具体例におい
て、1位のアルコールをチオアルコールやアミン、ハロ
ゲンで置き換えた化合物も勿論使用できる。
2,3-diiodo-3-carboxy-2-
Propen-1-ol, 2,3-dibromo-2-propen-1-ol, 2-chloro-3-methyl-2-propen-1-ol. In the above specific examples, a compound in which the alcohol at the 1-position is replaced with a thioalcohol, an amine or a halogen can of course be used.

【0187】ポリマー中の架橋性基含有量の好ましい範
囲はそれぞれ共重合モル比で、10〜90モル%、5〜
60モル%、より好ましい範囲は20〜70モル%、1
0〜40モル%である。
The preferable range of the crosslinkable group content in the polymer is 10 to 90 mol%,
60 mol%, a more preferable range is 20 to 70 mol%,
0 to 40 mol%.

【0188】また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸
性セルロース誘導体がある。この外に水酸基を有する付
加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用で
ある。特にこれらの中で〔ベンジル(メタ)アクリレー
ト/(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重
合性ビニルモノマー〕共重合体及び〔アリル(メタ)ア
クリレート(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の
付加重合性ビニルモノマー)共重合体が好適である。こ
の他に水溶性有機高分子として、ポリビエルピロリドン
やポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮
膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ポリアミドや
2,2−ビス−(4−ヒドロキンフェニル)−プロパン
とエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。
これらの有機高分子重合体は全組成中に任意な量を混和
させることができる。しかし90重量%を超える場合に
は形成される画像強度等の点で好ましい結果を与えな
い。好ましくは10〜90%、より好ましくは30〜8
0%である。また光重合可能なエチレン性不飽和化合物
と有機高分子重合体は、重量比で1/9〜9/1の範囲
とするのが好ましい。より好ましい範囲は2/8〜8/
2であり、更に好ましくは3/7〜7/3である。
Similarly, there are acidic cellulose derivatives having a carboxylic acid group in the side chain. In addition, those obtained by adding a cyclic acid anhydride to an addition polymer having a hydroxyl group are useful. In particular, among these, [benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / optionally other addition-polymerizable vinyl monomers] copolymer and [allyl (meth) acrylate (meth) acrylic acid / optionally Other addition-polymerizable vinyl monomers) copolymers are preferred. In addition, as the water-soluble organic polymer, polybierpyrrolidone, polyethylene oxide and the like are useful. In order to increase the strength of the cured film, alcohol-soluble polyamides and polyethers of 2,2-bis- (4-hydroquinphenyl) -propane and epichlorohydrin are also useful.
These organic high-molecular polymers can be mixed in an arbitrary amount in the entire composition. However, if it exceeds 90% by weight, no favorable result is obtained in view of the strength of the formed image and the like. Preferably 10 to 90%, more preferably 30 to 8
0%. The weight ratio of the photopolymerizable ethylenically unsaturated compound and the organic high molecular weight polymer is preferably in the range of 1/9 to 9/1. A more preferred range is 2/8 to 8 /
2, more preferably 3/7 to 7/3.

【0189】また、本発明においては以上の基本成分の
他に感光性組成物の製造中あるいは保存中において重合
可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止す
るために少量の熱重合禁止剤を添加することが望まし
い。適当な熱重合禁止剤としてはハロイドキノン、p−
メトキンフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾー
ル、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノ
ン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチル
フェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−
6−t―ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒ
ドロキシルアミン第一セリウム塩、N−ニトロソフェニ
ルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられる。
熱重合禁止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約
0.01%〜約5%が好ましい。また必要に応じて、酸
素による重合阻害を防止するためたべヘン酸やベヘン酸
アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後
の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級
脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約0.5%〜約1
0%が好ましい。
In the present invention, in addition to the above basic components, a small amount of thermal polymerization is inhibited in order to prevent unnecessary thermal polymerization of a polymerizable ethylenically unsaturated compound during the production or storage of the photosensitive composition. It is desirable to add an agent. Suitable thermal polymerization inhibitors include haloid quinone, p-
Methkinphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4- Methyl-
6-t-butylphenol), cerium N-nitrosophenylhydroxylamine, aluminum aluminum N-nitrosophenylhydroxylamine and the like.
The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably from about 0.01% to about 5% based on the weight of the whole composition. Further, if necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide may be added to prevent polymerization inhibition by oxygen, and may be unevenly distributed on the surface of the photosensitive layer in a drying process after coating. . The amount of the higher fatty acid derivative added is about 0.5% to about 1% of the total composition.
0% is preferred.

【0190】更に感光層の着色を目的として、着色剤を
添加してもよい。着色剤としては、例えば、フタロシア
ニン系顔料(C.I.Pigment Blue15:
3,15:4,15:6など)、アゾ系顔料、カーボン
ブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレッ
ト、クリスタルバイオレット、アゾ染料、アントラキノ
ン系染料、シアニン系染料がある。染料および顔料の添
加量は全組成物の約0.5%〜約20%が好ましい。
Further, a coloring agent may be added for the purpose of coloring the photosensitive layer. As the colorant, for example, a phthalocyanine-based pigment (CI Pigment Blue 15:
3, 15: 4, 15: 6), azo pigments, carbon black, pigments such as titanium oxide, ethyl violet, crystal violet, azo dyes, anthraquinone dyes, and cyanine dyes. The amount of dye and pigment added is preferably about 0.5% to about 20% of the total composition.

【0191】加えて、硬化皮膜の物性を改良するため
に、無機充填剤やジオクチルフタレート、ジメチルフタ
レート、トリクレジルホスフェート等の可塑剤等の添加
剤を加えてもよい。
In addition, additives such as inorganic fillers and plasticizers such as dioctyl phthalate, dimethyl phthalate and tricresyl phosphate may be added to improve the physical properties of the cured film.

【0192】これらの添加量は全組成物の10%以下が
好ましい。
The amount of these additives is preferably 10% or less of the total composition.

【0193】光重合性組成物を支持体上に塗布する際に
は種々の有機溶剤に溶かして使用に供される。ここで使
用する溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、
シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、
テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエー
テル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコー
ルモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキ
サノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチ
ルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプ
ロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテ
ルアセテート、3−メトキシプロパノール、メトキシメ
トキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリ
コールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメ
チルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエ
チルエーテルアセテート、3−メトキンプロピルアセテ
ート、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチル
などがある。これらの溶媒は、単独あるいは混合して使
用することができる。そして、塗布溶液中の固形分の濃
度は、1〜50重量%が適当である。
When the photopolymerizable composition is coated on a support, it is used after being dissolved in various organic solvents. As the solvent used here, acetone, methyl ethyl ketone,
Cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride,
Tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, Ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether Ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-meth Kin-propyl acetate, N, N- dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, .gamma.-butyrolactone, methyl lactate and ethyl lactate. These solvents can be used alone or as a mixture. The appropriate concentration of the solid content in the coating solution is 1 to 50% by weight.

【0194】本発明における光重合性組成物には、塗布
面質を向上するために界面活性剤を添加することができ
る。
A surfactant can be added to the photopolymerizable composition of the present invention to improve the coated surface quality.

【0195】その被覆量は乾燥後の重量で約0.lg/
2〜約10g/m2の範囲が適当である。より好ましく
は0.3〜5g/m2である。更に好ましくは0.5〜
3g/m2である。
The coating amount is about 0. lg /
range of m 2 ~ about 10 g / m 2 are suitable. More preferably, it is 0.3 to 5 g / m 2 . More preferably 0.5 to
3 g / m 2 .

【0196】〔オーバーコート層〕本発明(C)のオー
バーコート層は酸素遮断性のオーバーコート層であり、
このオーバーコート層は水溶性ビニル重合体を含有す
る。オーバーコート層に含まれる水溶性ビニル重合体と
しては,ポリビニルアルコール、およびその部分エステ
ル、エーテルおよびアセタール、またはそれらに必要な
水溶性を有せしめるような実質的量の末置換ビニルアル
コール単位を含有するその共重合体が挙げられる。ポリ
ビニルアルコールとしては、71〜100%加水分解さ
れ、重合度が300〜2400の範囲のものが挙げられ
る。具体的には株式会社クラレ製PVA−105、Pv
A−110、PVA−117、PVA−117H、PV
A−120、PVA−124、PVA−124H、PV
A−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−2
03、PVA−204、PVA−205、PVA−21
0、PVA−217、PVA−220、PVA−22
4、PVA−217EE、PVA−220、PVA−2
24、PVA−217EE、PVA−217E、PVA
−220E、PVA−224、PVA−405、PVA
−420、PVA−613、L−8等が挙げられる。上
記の共重合体としては、88〜100%加水分解された
ポリビニルアセテートクロロアセテートまたはプロピオ
ネート、ポリビエルホルマールおよびポリビエルアセタ
ールおよびそれらの共重合体が挙げられる。その他有用
な重合体としてはポリビニルピロリドン、ゼラチンおよ
びアラビアゴムが挙げられ、これらは単独または、併用
して用いても良い。
[Overcoat layer] The overcoat layer of the present invention (C) is an oxygen-blocking overcoat layer.
This overcoat layer contains a water-soluble vinyl polymer. The water-soluble vinyl polymer contained in the overcoat layer contains polyvinyl alcohol and its partial esters, ethers and acetal, or a substantial amount of terminally substituted vinyl alcohol units that have the necessary water solubility. The copolymer is mentioned. Examples of the polyvinyl alcohol include those having a hydrolysis degree of 71 to 100% and a polymerization degree of 300 to 2400. Specifically, Kuraray's PVA-105, Pv
A-110, PVA-117, PVA-117H, PV
A-120, PVA-124, PVA-124H, PV
A-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-2
03, PVA-204, PVA-205, PVA-21
0, PVA-217, PVA-220, PVA-22
4, PVA-217EE, PVA-220, PVA-2
24, PVA-217EE, PVA-217E, PVA
-220E, PVA-224, PVA-405, PVA
-420, PVA-613, L-8 and the like. The above-mentioned copolymers include polyvinyl acetate chloroacetate or propionate, polybierformal and polybieracetal hydrolyzed 88 to 100%, and copolymers thereof. Other useful polymers include polyvinylpyrrolidone, gelatin and gum arabic, which may be used alone or in combination.

【0197】オーバーコート層を塗布する際用いる溶媒
としては、純水が好ましいが、メタノール、エタノール
などのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトンな
どのケトン類を純水と混合しても良い。そして塗布溶液
中の固形分の濃度は1〜20重量%が適当である。
The solvent used for applying the overcoat layer is preferably pure water, but alcohols such as methanol and ethanol, and ketones such as acetone and methyl ethyl ketone may be mixed with the pure water. The concentration of the solid content in the coating solution is suitably from 1 to 20% by weight.

【0198】また、オーバーコート層にはさらに塗布性
を向上させるための界面活性剤、皮膜の物性を改良する
ための水溶性の可塑剤等の公知の添加剤を加えても良
い。水溶性の可塑剤としてはたとえばプロピオンアミ
ド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトー
ル等がある。また、水溶性の(メタ)アクリル系ポリマ
ーなどを添加しても良い。
In addition, known additives such as a surfactant for improving coating properties and a water-soluble plasticizer for improving physical properties of the film may be added to the overcoat layer. Examples of the water-soluble plasticizer include propionamide, cyclohexanediol, glycerin, and sorbitol. Further, a water-soluble (meth) acrylic polymer or the like may be added.

【0199】その被覆量は乾燥後の重量で約0.1/m
2〜約15/m2の範囲が適当である。より好ましくは
1.0/m2〜約5.0/m2である。
The amount of the coating was about 0.1 / m 2 after drying.
A range from 2 to about 15 / m 2 is suitable. More preferably, it is 1.0 / m 2 to about 5.0 / m 2 .

【0200】なお、本実施の形態では説明のため、ワー
クステーション12に1つのパソコンをオンライン接続
した構成としているが、もちろん1つに限らず、複数の
パソコンをオンライン接続することができる。同様に、
本実施の形態では説明のため、プレートセッター14に
1つのPS版プロセッサー16をオンライン接続した構
成としているが、もちろん1つに限らず、プレートセッ
ター14に複数のパソコンをオンライン接続することが
できる。
In this embodiment, for the sake of explanation, one personal computer is connected to the workstation 12 online. However, the number of personal computers is not limited to one, and a plurality of personal computers can be connected online. Similarly,
In the present embodiment, for the sake of explanation, one PS plate processor 16 is connected online to the plate setter 14, but the present invention is not limited to one, and a plurality of personal computers can be connected online to the plate setter 14.

【0201】プレートセッター14に複数のパソコンを
オンライン接続した場合は、調整条件を変える場合など
の条件設定をより効率的に行えるので、ロス時間を少な
くすることができ、効率的である。
When a plurality of personal computers are connected to the plate setter 14 online, conditions such as changing adjustment conditions can be set more efficiently, so that the loss time can be reduced and the efficiency is improved.

【0202】また、本実施の形態では、ワークステーシ
ョンから出力する画像データをTIFFファイルとした
が、もちろん、本発明はTIFFファイルに限定するも
のではなく、例えば、低解像度の画像データとフィルム
と版の転移特性カーブとトンボの種類と位置データ品質
管理のための色彩濃度情報と裁ちトンボと断裁のための
情報とから構成されるPPFファイルや、GIFファイ
ル等のようにイメージデータを含む標準的なフォーマッ
ト形式の画像データを使用することができる。
In the present embodiment, the image data output from the workstation is a TIFF file. However, the present invention is not limited to a TIFF file. A standard PPF file containing image data such as a PPF file composed of transfer characteristic curves, types of registration marks, color density information for quality control of position data, and information of trimming marks and cutting. Formatted image data can be used.

【0203】また、本実施の形態では、プレートセッタ
ー14とPS版プロセッサー16とをオンラインで接続
した構成としたが、本発明ではオンラインに限らず、通
信回線を介して接続する構成としたり、記憶媒体にプレ
ートセッター14の情報をセッター情報として記憶さ
せ、この記憶媒体をPS版プロセッサー16が読込むこ
とによりセッター情報の受け渡しを行う様に構成するこ
ともできる。
In the present embodiment, the plate setter 14 and the PS plate processor 16 are connected online. However, the present invention is not limited to the online connection. The information of the plate setter 14 may be stored on the medium as setter information, and the storage medium may be read by the PS version processor 16 to transfer the setter information.

【0204】また、本実施の形態では、条件調整プログ
ラムをプロセッサー制御部30のROMに記憶している
が、本発明はこれに限定されず、条件調整プログラムを
セッター制御部18のROMや前段のパソコンのROM
に記憶するようにしてもよい。
Further, in the present embodiment, the condition adjustment program is stored in the ROM of the processor control unit 30, but the present invention is not limited to this, and the condition adjustment program may be stored in the ROM of the setter control unit 18 or in the preceding stage. PC ROM
May be stored.

【0205】また、条件調整プログラムをフロッピィデ
ィスクに記憶すると共に、コンピュータ本体にハードデ
ィスクを備え、フロッピィディスクから前記条件調整プ
ログラムを読み取り、ハードディスクにインストールし
ても良い。また、前記条件調整プログラムを有線または
無線のネットワークに電話回線などの伝送手段により伝
送してインストールしても良い。
Further, the condition adjusting program may be stored on a floppy disk, a hard disk may be provided in the computer main body, and the condition adjusting program may be read from the floppy disk and installed on the hard disk. Further, the condition adjustment program may be transmitted to a wired or wireless network by a transmission means such as a telephone line and installed.

【0206】なお、前記条件調整プログラムはフロッピ
ィディスクに記憶することに限定されず、CD−RO
M、磁気テープに該プログラムを格納し、該CD−RO
M、磁気テープからパソコンのハードディスクにインス
トールしても良い。また、前記条件調整プログラムを格
納したハードディスクを備えるようにしてもよい。さら
にパソコンのハードディスクやRAMに直接条件調整プ
ログラムを書き込むようにしてもよい。このように上記
条件調整プログラムは、有形の記録媒体及び伝送手段の
少なくとも一方により流通することができる。
The condition adjusting program is not limited to being stored on a floppy disk, but may be stored on a CD-RO.
M, the program is stored on a magnetic tape, and the CD-RO
M, a magnetic tape may be installed on the hard disk of the personal computer. Further, a hard disk storing the condition adjustment program may be provided. Further, the condition adjustment program may be directly written in the hard disk or RAM of the personal computer. As described above, the condition adjustment program can be distributed by at least one of a tangible recording medium and a transmission unit.

【0207】なお、上記では、現像補充原液と希釈水と
を別々に現像槽に供給する構成としたが、現像補充原液
と希釈水とを一旦混合槽において混合し、この混合液を
現像槽に供給するように構成することもできる。
In the above description, the stock solution for developing replenishment and the dilution water are separately supplied to the developing tank. However, the stock solution for developing replenishment and the diluting water are once mixed in the mixing tank, and the mixed solution is supplied to the developing tank. It can also be configured to supply.

【0208】[0208]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、現
像前にPS版に施す酸素遮断性層の除去処理における調
整条件を、処理対象となるPS版に応じて常に適切に設
定できる、という効果がある。
As described above, according to the present invention, it is possible to always appropriately set the adjustment conditions in the removal process of the oxygen-blocking layer applied to the PS plate before development, according to the PS plate to be processed. This has the effect.

【0209】また、前段の工程で使用したデータを用い
て調整条件を決定しているため、操作ミス等により設定
した温度調整条件が不適切となる恐れがなく、処理効率
も向上できる、という効果がある。
Further, since the adjustment condition is determined using the data used in the previous step, there is no possibility that the temperature adjustment condition set by an operation error or the like becomes inappropriate, and the processing efficiency can be improved. There is.

【0210】さらに、除去液の無駄な使用をなくし、装
置のランニングコストを下げることができる、という効
果がある。
Further, there is an effect that the use of the removing liquid can be eliminated and the running cost of the apparatus can be reduced.

【0211】また、除去液が適切な温度とするまでの時
間を効率的に切り替えることができるので、ロス時間を
短縮して処理効率を上げることができ、これにより、省
エネ化することができる、という効果がある。
[0211] Further, since the time until the temperature of the removal liquid reaches an appropriate temperature can be switched efficiently, the loss time can be shortened, and the processing efficiency can be increased. As a result, energy saving can be achieved. This has the effect.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本実施の形態の製版システムのデータの流れを
示す概略説明図である。
FIG. 1 is a schematic explanatory diagram showing a data flow of a plate making system according to an embodiment.

【図2】図1に示した自動現像機の概略構成を示す説明
図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing a schematic configuration of the automatic developing machine shown in FIG.

【図3】図2に示したプロセッサー制御部のCPUの作
用を示すフローチャートである。
FIG. 3 is a flowchart illustrating an operation of a CPU of a processor control unit illustrated in FIG. 2;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 パソコン 12 ワークステーション 14 プレートセッター 16 PS版プロセッサー 18 セッター制御部 20 加熱部 22 第1水洗部 24 現像部 26 第2水洗部 28 フィニッシャー部 29 乾燥部 30 プロセッサー制御部 31 引き込みローラ対 32 加熱装置 34b チラー 34a ヒータ 34c 温度センサ 37 管路 60 第1水洗槽(除去槽) 61、79、91 オーバーフロー管 62、68、92、94、104 搬送ローラ対 63、80 廃液タンク 64a 第1水供給ノズル 64b 第2水供給ノズル 64c 補充筒 66、71a、71b 回転ブラシローラ 67 バックアップローラ 68 搬送ローラ対 70 現像槽 72、75 送り出しローラ対 73 液面蓋 74 現像補充原液噴射ノズル 76 希釈水噴射ノズル 77 ガイド板 78、96、98 スプレーパイプ 82 現像補充原液貯留槽 84 水貯留槽 90 第2水洗槽 93 貯留タンク 110 PS版 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Personal computer 12 Workstation 14 Plate setter 16 PS plate processor 18 Setter control part 20 Heating part 22 First rinsing part 24 Developing part 26 Second rinsing part 28 Finisher part 29 Drying part 30 Processor control part 31 Pull-in roller pair 32 Heating device 34b Chiller 34a Heater 34c Temperature sensor 37 Pipeline 60 First washing tank (removal tank) 61, 79, 91 Overflow pipe 62, 68, 92, 94, 104 Transport roller pair 63, 80 Waste liquid tank 64a First water supply nozzle 64b First 2 water supply nozzle 64c replenishing cylinder 66, 71a, 71b rotating brush roller 67 backup roller 68 transport roller pair 70 developing tank 72, 75 delivery roller pair 73 liquid level cover 74 development replenisher stock solution injection nozzle 76 dilution water injection nozzle 77 guy Plate 78, 96, 98 Spray pipe 82 Developing replenisher stock tank 84 Water tank 90 Second washing tank 93 Storage tank 110 PS plate

フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA04 AB03 AC01 AC08 AD01 BC13 BC34 BC43 DA04 FA12 FA17 2H096 AA07 BA05 EA02 EA04 EA23 FA05 FA10 GA08 Continued on the front page F term (reference) 2H025 AA04 AB03 AC01 AC08 AD01 BC13 BC34 BC43 DA04 FA12 FA17 2H096 AA07 BA05 EA02 EA04 EA23 FA05 FA10 GA08

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 酸素遮断性層を最上層に有し、その下層
側に光重合性感光層を有する平版印刷版を画像データに
基いて露光した後、前記酸素遮断性層を除去液によって
除去し、さらに現像を行う平版印刷版の製版方法であっ
て、 前記酸素遮断性層を除去する際の除去液の補充量、除去
液の温度、及び、除去処理時間の少なくとも1つの調整
条件を、前段の工程で使用した版情報に基づいて決定す
る平版印刷版の製版方法。
1. A lithographic printing plate having an oxygen barrier layer on the uppermost layer and a photopolymerizable photosensitive layer on the lower side thereof is exposed based on image data, and the oxygen barrier layer is removed by a remover. And a plate making method of a lithographic printing plate for further developing, wherein at least one adjustment condition of a replenishing amount of a removing solution, a removing solution temperature, and a removing treatment time when removing the oxygen barrier layer, A lithographic printing plate making method determined based on the plate information used in the previous step.
【請求項2】 酸素遮断性層を最上層に有し、その下層
側に光重合性感光層を有する平版印刷版の現像前に、前
記平版印刷版を除去槽内に搬送し、除去槽内に供給され
た除去液により前記酸素遮断性層を除去する除去手段
と、 前段の装置で使用した版情報に基づいて前記酸素遮断性
層を除去する際の除去液の補充量、除去液の温度、及
び、除去処理時間の少なくとも1つの調整条件を決定す
る条件決定手段と、 前記条件決定手段によって決定された調整条件となるよ
うに調整する調整手段と、 を備えた自動現像機。
2. Prior to development of a lithographic printing plate having an oxygen-blocking layer as an uppermost layer and a photopolymerizable photosensitive layer below the lithographic printing plate, transporting the lithographic printing plate into a removal tank, Removing means for removing the oxygen-blocking layer with the removing liquid supplied to the apparatus, and a replenishing amount of the removing liquid when removing the oxygen-blocking layer based on the plate information used in the preceding apparatus, a temperature of the removing liquid. An automatic developing machine comprising: a condition determining unit that determines at least one adjustment condition of the removal processing time; and an adjusting unit that performs adjustment so as to satisfy the adjustment condition determined by the condition determining unit.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP1341047A2 (en) * 2002-03-01 2003-09-03 Creo Inc. Apparatus and methods for development of resist patterns

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