JP2001075269A - Method for plate-making of planographic plate, and automatic devdeloping machine - Google Patents
Method for plate-making of planographic plate, and automatic devdeloping machineInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷版の製版
方法、及び、自動現像機に係り、特に、光重合性感光層
を有する平版印刷版の製版方法、及び、自動現像機に関
する。The present invention relates to a method for making a lithographic printing plate and an automatic developing machine, and more particularly to a method for making a lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer and an automatic developing machine.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般に、感光性平版印刷版(以下「PS
版」という)は、感光性平版印刷版処理装置(以下「P
S版プロセッサー」という)によって現像処理される。
このPS版プロセッサーにおける現像処理は、画像が記
録されたPS版を現像槽内に搬送し、現像槽内で搬送し
ながら現像槽内に貯留された現像液に浸漬し、現像液中
に設けた回転ブラシローラ等の擦り手段によってPS版
の非画像部分の感光層を除去することによりなされる。
このPS版プロセッサーでは、現像液による処理が終了
したPS版は、水洗部で洗浄水によって水洗された後
(水洗処理)、不感脂化処理部でガム液が塗布されるこ
とにより不感脂化処理が施された後、版面保護等の処理
が連続して行われる。2. Description of the Related Art In general, a photosensitive lithographic printing plate (hereinafter referred to as "PS
Plate) is a photosensitive lithographic printing plate processing apparatus (hereinafter referred to as “P”).
S "processor").
The development processing in this PS plate processor was carried out by transporting the PS plate on which the image was recorded into the developing tank, immersing it in the developing solution stored in the developing tank while transporting it in the developing tank, and providing the PS plate in the developing solution. This is performed by removing the photosensitive layer in the non-image portion of the PS plate using a rubbing means such as a rotating brush roller.
In this PS plate processor, the PS plate that has been processed with the developing solution is washed with washing water in a washing section (washing treatment), and then subjected to a desensitizing process by applying a gum solution in a desensitizing section. Is performed, processing such as plate surface protection is continuously performed.
【0003】一般に、PS版の感光層としては、ジアゾ
樹脂や、光架橋型や、光重合型が使用されている。光重
合性感光層は、ラジカル重合であるため、露光終了後も
感光層内に存在するラジカルにより反応が進んでしまう
傾向にある。そのため、露光後の雰囲気や時間差で反応
にムラが生じ、感光層の刷耐力及びPS版に形成した画
像を形成する網点の大きさが変わってしまい、得られた
画質が悪化してしまうことが従来より問題となってい
る。Generally, a diazo resin, a photocrosslinking type, or a photopolymerization type is used as a photosensitive layer of a PS plate. Since the photopolymerizable photosensitive layer is radical polymerization, the reaction tends to proceed due to radicals present in the photosensitive layer even after the exposure is completed. As a result, the reaction becomes uneven due to the atmosphere and time difference after exposure, and the printing durability of the photosensitive layer and the size of the halftone dots forming the image formed on the PS plate are changed, and the obtained image quality is deteriorated. Has been a problem.
【0004】そのため、PS版の現像前に加熱装置によ
りPS版を加熱して(プレ加熱)、PS版の表面温度を均
一化することにより、反応にムラが生じるのを防いで、
画像品質を一定にすることが提案されている。[0004] Therefore, before the development of the PS plate, the PS plate is heated by a heating device (preheating) to make the surface temperature of the PS plate uniform, thereby preventing the reaction from becoming uneven.
It has been proposed to make the image quality constant.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、設定し
た温度条件が不適切であったり、操作ミス等により設定
した温度条件が異なると、所望の画質の版が得られない
ため、新たに露光処理からしなおさねばならず、多大な
損失が出てしまうという問題がある。また、一般に加熱
条件等はユーザが手動でPS版プロセッサーに入力する
ため、適切な加熱条件を露光領域に対して与えることは
難しく、また、変更のし忘れや入力ミスなどの操作ミス
が生じることは避けられない。However, if the set temperature conditions are inappropriate or the set temperature conditions are different due to an operation error or the like, a plate having a desired image quality cannot be obtained. There is a problem that a large loss must be re-started. In addition, since the heating conditions are generally manually input by the user into the PS plate processor, it is difficult to provide appropriate heating conditions to the exposure area, and operation errors such as forgetting to change or inputting errors may occur. Is inevitable.
【0006】さらに、近年では、省エネ化の要求が高ま
ってきており、装置のランニングコストを下げることが
重要な課題となっている。Further, in recent years, the demand for energy saving has been increasing, and reducing the running cost of the apparatus has become an important issue.
【0007】以上のことから本発明では、設定した温度
条件が不適切であったり、操作ミス等により設定した温
度条件が異なることによる損失を生じる恐れがなく、処
理効率も向上できる平版印刷版の製版方法、及び、自動
現像機を得ることを目的とする。In view of the above, according to the present invention, there is no possibility that the set temperature condition is inappropriate, or there is no risk of a loss due to a difference in the set temperature condition due to an operation error or the like, and the processing efficiency of the lithographic printing plate can be improved. It is an object to obtain a plate making method and an automatic developing machine.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項1の発明の平版印刷版の製版方法は、以下の工
程(1)〜(4)を有する。;(1)光重合性感光層を
有する平版印刷版に画像データに基いて露光を行い、露
光画像を形成する工程。(2)上記(1)の工程の前、
若しくは後に、前記画像データから露光画像の画像領域
の面積分布情報を求め、該面積分布情報に基いて加熱分
布を決定する工程。(3)上記(1)の工程、及び
(2)の工程の後に、上記(2)の工程で決定した加熱
分布で、前記露光画像が形成された平版印刷版を加熱す
る工程。(4)上記(3)の工程の後に、前記平版印刷
版を現像する工程。To achieve the above object, a method of making a lithographic printing plate according to the first aspect of the present invention comprises the following steps (1) to (4). (1) a step of exposing a lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer based on image data to form an exposed image; (2) Before the step (1),
Alternatively, a step of obtaining area distribution information of an image area of the exposed image from the image data, and determining a heating distribution based on the area distribution information. (3) a step of heating the lithographic printing plate on which the exposure image is formed with the heating distribution determined in the step (2) after the steps (1) and (2). (4) A step of developing the lithographic printing plate after the step (3).
【0009】すなわち、請求項1に記載の平版印刷版の
製版方法では、(1)の工程で露光処理された光重合性
感光層を有する平版印刷版の現像を行う前の前処理とし
て、(1)の工程の前、若しくは後に、前記平版印刷版
に形成した画像形成領域の面積分布情報に基いて加熱分
布を決定し((2)の工程)、該決定した加熱分布が前
記平版印刷版に与えられるように前記平版印刷版を加熱
し((3)の工程)、その後、現像する((4)の工
程)。That is, in the method of making a lithographic printing plate according to the first aspect of the present invention, the pretreatment before developing the lithographic printing plate having the photopolymerizable photosensitive layer exposed in the step (1) is as follows: Before or after the step 1), a heating distribution is determined based on the area distribution information of the image forming area formed on the lithographic printing plate (step (2)), and the determined heating distribution is determined by the lithographic printing plate. Is heated (step (3)), and then developed (step (4)).
【0010】すなわち、画像を形成しない部分は露光さ
れておらず、よって光重合反応も起こっていないため、
加熱の必要がない。したがって、請求項1に記載の平版
印刷版の製版方法では、画像形成領域の面積分布情報に
基いて加熱の必要がない部分は加熱せず、加熱の必要な
画像形成領域(すなわち、露光領域)を重点的に加熱する
ように感光性平版印刷版に与える加熱分布を制御する。That is, the portion where no image is formed is not exposed, and hence no photopolymerization reaction occurs.
There is no need for heating. Therefore, in the lithographic printing plate making method according to the first aspect, the portion that does not need to be heated is not heated based on the area distribution information of the image forming region, and the image forming region that needs to be heated (that is, the exposure region) The heating distribution to be applied to the photosensitive lithographic printing plate is controlled so as to focus on heating.
【0011】これにより、画像形成領域となる露光領域
の反応を一様に揃えることができるので、画像品質を落
すことがなく、かつ、画像形成領域以外の未露光部分に
は加熱を行わない様に制御することにより、形成した画
像の形状に合わせて適切な条件で加熱処理を施すことが
できると共に、画像形成領域以外の未露光部分には加熱
を行わない様に制御することから加熱に必要なエネルギ
ーを全面一様に加熱する場合と比較して低く抑えること
ができる。[0011] This makes it possible to make the reactions of the exposed areas, which are the image forming areas, uniform, so that the image quality is not degraded and that the unexposed parts other than the image forming areas are not heated. In this way, heat treatment can be performed under appropriate conditions in accordance with the shape of the formed image, and heating is necessary because heating is performed so that unexposed parts other than the image forming area are not heated. Energy can be suppressed lower than in the case where the entire surface is uniformly heated.
【0012】請求項2の発明の発明の自動現像機は、上
記請求項1に記載の平版印刷版の製版方法に適切な自動
現像装置であり、光重合性感光層を有する露光処理済み
の平版印刷版の現像を行う前に、前記平版印刷版を加熱
する加熱手段と、前記加熱手段により前記光重合性感光
層を有する露光処理済みの平版印刷版を加熱するとき
に、前記平版印刷版に形成した画像形成領域の面積分布
情報に基いて前記平版印刷版に与える加熱分布を制御す
る加熱制御手段と、を備えている。According to a second aspect of the present invention, there is provided an automatic developing apparatus suitable for the method for making a lithographic printing plate according to the first aspect, wherein the lithographic printing plate has a photopolymerizable photosensitive layer and has been exposed. Before performing development of the printing plate, heating means for heating the lithographic printing plate, and when heating the exposed lithographic printing plate having the photopolymerizable photosensitive layer by the heating means, the lithographic printing plate, Heating control means for controlling a heating distribution applied to the planographic printing plate based on area distribution information of the formed image forming area.
【0013】すなわち、請求項2の発明では、自動現像
機の加熱制御手段が前記感光性平版印刷版に形成した画
像形成領域の面積分布情報に基いて前記感光性平版印刷
版に与える加熱分布を制御するため、実際に形成されて
いる画像形成領域に対して適切な温度条件にすることが
でき、また、変更のし忘れや入力ミスなどの操作ミスが
生じることなく加熱処理を施すことができる。In other words, in the invention according to claim 2, the heating control means of the automatic developing machine determines the heating distribution given to the photosensitive lithographic printing plate based on the area distribution information of the image forming area formed on the photosensitive lithographic printing plate. Because of the control, an appropriate temperature condition can be set for the actually formed image forming area, and the heat treatment can be performed without an operation error such as forgetting to change or input error. .
【0014】すなわち、光重合性感光層を有する感光性
平版印刷版を用いる場合、露光された領域は光重合反応
が完全に終結していないため、本発明では、自動現像機
の加熱制御手段が少なくとも画像形成領域となる露光領
域が充分加熱される様に感光性平版印刷版に与える加熱
分布を制御する。That is, when a photosensitive lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer is used, since the photopolymerization reaction is not completely terminated in the exposed area, the heating control means of the automatic developing machine is used in the present invention. The distribution of heating applied to the photosensitive lithographic printing plate is controlled so that at least the exposed area serving as an image forming area is sufficiently heated.
【0015】感光性平版印刷版に与える加熱分布を制御
する方法としては、例えば、加熱手段の駆動のオンオフ
を切り替えたり、加熱手段の駆動電力値を変更すること
により、感光性平版印刷版の搬送方に沿った方向に加熱
分布を変更することができ、加熱手段と感光性平版印刷
版のとの間に断熱部材より構成されたシャッター機構を
設け、このシャッター機構を開閉することにより、少な
くとも感光性平版印刷版の搬送方に直交する方向、及び
感光性平版印刷版の搬送方に沿った方向の一方の加熱分
布を変更することができる。As a method of controlling the heating distribution applied to the photosensitive lithographic printing plate, for example, by turning on / off the driving of the heating means or changing the driving power value of the heating means, the transport of the photosensitive lithographic printing plate is performed. The heating distribution can be changed in the direction along the direction, and a shutter mechanism composed of a heat insulating member is provided between the heating means and the photosensitive lithographic printing plate, and by opening and closing this shutter mechanism, at least the photosensitive It is possible to change one of the heating distributions in a direction orthogonal to the way of transporting the photosensitive lithographic printing plate and in a direction along the way of transporting the photosensitive lithographic printing plate.
【0016】なお、加熱手段の駆動のオンオフを切り替
えたり、加熱手段の駆動電力値を変更して加熱分布を変
更する場合は、装置の消費電力を抑えることができるの
で、装置のランニングコストを下げ、省エネ化すること
ができるという利点がある。When the heating distribution is changed by switching on / off of the driving of the heating means or by changing the driving power value of the heating means, the power consumption of the apparatus can be suppressed, so that the running cost of the apparatus is reduced. There is an advantage that energy can be saved.
【0017】また、加熱条件を変えたときも、自動現像
機の加熱制御手段が感光性平版印刷版に形成した画像形
成領域の面積分布情報に基いて前記平版印刷版に与える
加熱分布を制御するため、手動で変更する場合と比較し
て加熱装置内の温度が適切な温度となるまでの時間を短
縮でき、処理効率を向上できる。Even when the heating conditions are changed, the heating control means of the automatic developing machine controls the heating distribution applied to the lithographic printing plate based on the area distribution information of the image forming area formed on the photosensitive lithographic printing plate. Therefore, the time required for the temperature in the heating device to reach an appropriate temperature can be reduced as compared with a case where the temperature is manually changed, and the processing efficiency can be improved.
【0018】このような加熱分布の制御は、光重合性感
光層を有する露光処理済みの平版印刷版の現像を行う前
に、前記平版印刷版に形成した画像の画像形成領域の面
積分布情報に基いて加熱分布を決定し、該決定した加熱
分布が前記平版印刷版に与えられるように前記平版印刷
版を加熱するプログラムにより行うように構成すること
が可能である。このプログラムは、予め自動現像機の記
録媒体に記録させていても良いし、自動現像機とは別体
の記録媒体に記憶させ、該記録媒体からインストールし
てもよい。[0018] Such control of the heating distribution is carried out by, before the development of the exposed lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer, the area distribution information of the image forming area of the image formed on the lithographic printing plate. The heating distribution may be determined based on the heating distribution based on a program for heating the lithographic printing plate so that the determined heating distribution is given to the lithographic printing plate. This program may be recorded in advance on a recording medium of the automatic developing machine, or may be stored on a recording medium separate from the automatic developing machine and installed from the recording medium.
【0019】また、加熱分布を制御するための前記画像
形成領域の面積分布情報は、前記平版印刷版を加熱する
加熱手段の前段に設けられた装置からオンライン又はオ
フラインで取得または入力したものを用いたり、前記平
版印刷版を加熱する加熱手段の前段に設けられた装置か
らオンライン又はオフラインで取得または入力した画像
データから算出したものを用いることができる。The area distribution information of the image forming area for controlling the heating distribution may be obtained or input on-line or off-line from a device provided before the heating means for heating the lithographic printing plate. Alternatively, it is possible to use a value calculated from image data obtained or input online or offline from a device provided in a stage preceding the heating means for heating the lithographic printing plate.
【0020】さらに、本発明で用いる光重合性感光層を
有する平版印刷版としては、支持体上に、光重合性感光
層と、該感光層を保護するための保護層とが順に積層さ
れた感光性平版印刷版が好適である。Further, as a lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer used in the present invention, a photopolymerizable photosensitive layer and a protective layer for protecting the photosensitive layer are sequentially laminated on a support. Photosensitive lithographic printing plates are preferred.
【0021】[0021]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態の一例を詳細に説明する。本実施の形態では、
図1に示す様に、パソコン10、ワークステーション1
2、プレートセッター(露光装置)14、及びPS版プ
ロセッサー(自動現像装置)16から構成された製版シ
ステムに本発明を適用した場合について説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the present embodiment,
As shown in FIG. 1, a personal computer 10, a workstation 1
2. A case where the present invention is applied to a plate making system including a plate setter (exposure device) 14 and a PS plate processor (automatic developing device) 16 will be described.
【0022】また、本実施の形態で用いるPS版として
は、裏面にバックコート層が設けられたアルミニウム支
持体の表面に有機下塗層、光重合性感光層、オーバーコ
ート層が順に設けられた構成のものとすることができ
る。なお、PS版の詳細については後述する。In the PS plate used in the present embodiment, an organic undercoat layer, a photopolymerizable photosensitive layer, and an overcoat layer are sequentially provided on the surface of an aluminum support having a back coat layer on the back surface. It can be of a configuration. The details of the PS plate will be described later.
【0023】本実施の形態の製版システムは、パソコン
10、ワークステーション12、プレートセッター1
4、及びPS版プロセッサー16が全てオンライン接続
されており、パソコン10に入力された画像データ、P
S版の種類(版種)、版厚、及び版サイズなどの各種設
定情報がオンラインでPS版プロセッサー16にまで出
力可能である。The plate making system according to the present embodiment comprises a personal computer 10, a work station 12, a plate setter 1
4 and the PS plate processor 16 are all connected online, and the image data and P
Various setting information such as the type (plate type), plate thickness, and plate size of the S plate can be output to the PS plate processor 16 online.
【0024】パソコン10には、例えば、スキャナーな
どの画像読取手段から読み込んだ画像をディスプレイに
表示しながら編集したり、ディスプレイ上に文字や画像
を新規に作成し、印刷対象の画像を作成するアプリケー
ションがインストールされている。The personal computer 10 includes an application for editing an image read from an image reading means such as a scanner while displaying the image on a display, creating characters and images on the display, and creating an image to be printed. Is installed.
【0025】このアプリケーションは、ユーザにより作
成された画像を、例えば、アウトラインや、塗りつぶし
領域の面積率及び塗りつぶし領域の透過率等を指示する
描画コマンド等のベクトル形式の画像データとしてワー
クステーション12に出力する。また、画像の作成と同
時にキーボードからユーザによって入力された、例え
ば、露光対象となるPS版の版種、版厚、及び版サイズ
などの各種設定情報を、前記ベクトル形式の画像データ
と共にテキストデータとしてワークステーション12に
出力する。This application outputs an image created by a user to the workstation 12 as vector-format image data such as an outline, a drawing command for designating an area ratio of a filled area, a transmittance of a filled area, and the like. I do. Further, various setting information such as the type, thickness, and size of the PS plate to be exposed, which is input by the user from the keyboard at the same time as the creation of the image, as text data together with the vector format image data. Output to the workstation 12.
【0026】ワークステーション12には、ラスタイメ
ージプロセッサ(以下、RIPと称す。)、プレートセ
ッター14のドライバーソフトがインストールされてい
る。The workstation 12 has a raster image processor (hereinafter referred to as RIP) and driver software for the platesetter 14 installed therein.
【0027】RIPは、ベクトル形式の画像データを解
釈して階調を持ったドットの並びとして展開した、TI
FF形式のファイル(以下、TIFFファイルと称す。)
やGIFファイル等のラスタ形式の画像データに変換す
るアプリケーションであり、本実施の形態では、ベクト
ル形式の画像データをタグ形式のヘッダ部とイメージデ
ータ部とから構成されたTIFFファイルに変換する。The RIP interprets vector-format image data and develops it as a row of dots having gradations.
FF format file (hereinafter referred to as TIFF file)
In this embodiment, the image data is converted from a vector format image data into a TIFF file including a tag format header portion and an image data portion.
【0028】プレートセッター14のドライバーソフト
はTIFFファイル及びテキスト形式の版種、版厚、及
び版サイズなどの各種設定情報を、プレートセッター1
4で解析できるイメージフォーマットに変換してプレー
トセッター14に出力するソフトウエアである。The driver software of the plate setter 14 stores various setting information such as a TIFF file and a plate type, a plate thickness, and a plate size in a text format.
4 is software that converts the image data into an image format that can be analyzed in step 4 and outputs it to the platesetter 14.
【0029】したがって、ワークステーション12で
は、パソコン10から入力された描画コマンド等のベク
トル形式の画像データをTIFFファイルに変換した
後、このTIFFファイル、版種、版厚、及び版サイズ
などの各種設定情報を、プレートセッター14のドライ
バーソフトが、プレートセッター14で解析できるイメ
ージフォーマットに変換した後、プレートセッター14
に出力する。Therefore, the workstation 12 converts the vector-format image data such as the drawing command input from the personal computer 10 into a TIFF file, and then sets various settings such as the TIFF file, plate type, plate thickness, and plate size. After converting the information into an image format that can be analyzed by the plate setter 14 driver software, the plate setter 14
Output to
【0030】プレートセッター14は、ROM、RAM
及びCPUからなるセッター制御部18を含んでいる。
ROMにはプレートセッター14を制御するための各種
プログラムが記憶され、RAMには、プレートセッター
14で解析できるイメージフォーマット形式のTIFF
ファイル及び各種設定情報が一旦記憶される。The plate setter 14 includes a ROM and a RAM.
And a setter control section 18 composed of a CPU.
Various programs for controlling the plate setter 14 are stored in the ROM, and a TIFF in an image format that can be analyzed by the plate setter 14 is stored in the RAM.
The file and various setting information are temporarily stored.
【0031】CPUは、ROMから各種プログラムを呼
び出し、該プログラムに基いてRAMから読み込んだT
IFFファイル及び各種設定情報に基いて、例えば、プ
レートセッター14の搬送手段(図示せず)の搬送速度
を制御するための制御信号やレーザ光源(図示せず)の
オンオフ駆動信号、及び光量の調整を行うためのレーザ
駆動信号などの各種制御信号を生成し、該各種制御信号
によるプレートセッター14の駆動制御を行う。これに
より、プレートセッター14は、パソコン10上で選択
された画像に応じて最適な条件でPS版110の露光処
理を行うこととなる。なお、プレートセッター14の露
光処理については公知のため、ここでは詳細な説明は省
略する。The CPU calls various programs from the ROM and reads T from the RAM based on the programs.
Based on the IFF file and various setting information, for example, a control signal for controlling the transport speed of a transport unit (not shown) of the plate setter 14, an on / off drive signal of a laser light source (not shown), and adjustment of light amount And various control signals such as a laser drive signal for performing the control, and drive control of the platesetter 14 by the various control signals. As a result, the plate setter 14 performs the exposure processing of the PS plate 110 under optimal conditions according to the image selected on the personal computer 10. In addition, since the exposure processing of the plate setter 14 is publicly known, detailed description is omitted here.
【0032】さらに、セッター制御部18のROMに
は、TIFFファイルに含まれるイメージデータ部から
画像形成領域の面積分布(又は非画像部の面積分布)を面
積分布情報として抽出する面積分布抽出プログラムが記
憶されており、CPUは、ROMから面積分布抽出プロ
グラムを呼び出し、該面積分布抽出プログラムに基いて
RAMから読み込んだTIFFファイルのイメージデー
タ部から画像形成領域の面積分布(又は非画像部の面積
分布)を面積分布情報として抽出し、各種設定情報と共
にPS版プロセッサー16に出力する。Further, in the ROM of the setter controller 18, an area distribution extraction program for extracting the area distribution of the image forming area (or the area distribution of the non-image area) from the image data section included in the TIFF file as area distribution information. The CPU calls the area distribution extraction program from the ROM, and reads the area distribution of the image forming area (or the area distribution of the non-image area) from the image data portion of the TIFF file read from the RAM based on the area distribution extraction program. ) Is extracted as area distribution information and output to the PS plate processor 16 together with various setting information.
【0033】PS版プロセッサー16は、図2に示すよ
うに、大別して、加熱部20、第1水洗部22、現像部
24、第2水洗部26、フィニッシャー部28、乾燥部
29及びプロセッサー制御部30から構成され、複数対
の搬送ローラから構成された搬送機構により、PS版が
加熱部20から第1水洗部22、現像部24、第2水洗
部26、フィニッシャー部28及び乾燥部29の順に搬
送される構成である。As shown in FIG. 2, the PS plate processor 16 is roughly divided into a heating unit 20, a first washing unit 22, a developing unit 24, a second washing unit 26, a finisher unit 28, a drying unit 29, and a processor control unit. The PS plate is heated from the heating unit 20 to the first rinsing unit 22, the developing unit 24, the second rinsing unit 26, the finisher unit 28, and the drying unit 29 in this order by a transport mechanism composed of a plurality of pairs of transport rollers. It is a configuration to be transported.
【0034】加熱部20は、一対のローラでPS版を挟
持した状態で回転することによって露光済みのPS版1
10をPS版プロセッサー16の内部に引き込む引き込
みローラ対31と、加熱装置32とから構成され、現像
処理前にPS版110を加熱することによって、PS版
110の光重合性感光層における画像形成領域(すなわ
ち、露光領域)の硬化を促進させる。The heating unit 20 rotates the PS plate 1 while holding the PS plate between a pair of rollers, thereby rotating the exposed PS plate 1.
An image forming area in the photopolymerizable photosensitive layer of the PS plate 110 is constituted by a pair of draw-in rollers 31 for pulling the PS plate 10 into the interior of the PS plate processor 16 and a heating device 32. (I.e., accelerate the curing of the exposed areas).
【0035】加熱装置32は、PS版先端検出センサ3
3、加熱手段34、PS版110の下面側でPS版11
0を搬送する複数の搬送ローラ36、加熱制御部38、
及び、シャッター機構40を含んで構成されている。The heating device 32 includes a PS plate front end detection sensor 3
3, heating means 34, PS plate 11 on the lower side of PS plate 110
0, a plurality of transport rollers 36, a heating control unit 38,
And a shutter mechanism 40.
【0036】加熱手段34は、図3に示すように、遠赤
外線を放射する遠赤外線ヒータ42と、該遠赤外線ヒー
タ42を覆う傘状のリフレクター44とから構成されて
いる。遠赤外線ヒータ42は後述する加熱制御部38に
よりオンオフの切り替え及び駆動電圧が制御され、遠赤
外線ヒータ42のオンオフの切り替え及び駆動電圧の制
御により下方の照射領域を通過するPS版110の表面
に与える熱量が部分的に変更できるように構成されてい
る。As shown in FIG. 3, the heating means 34 comprises a far-infrared heater 42 for emitting far-infrared rays, and an umbrella-shaped reflector 44 for covering the far-infrared heater 42. The far-infrared heater 42 is turned on and off and the driving voltage is controlled by a heating control unit 38 described later, and is applied to the surface of the PS plate 110 passing through the lower irradiation area by on-off switching and the driving voltage control of the far-infrared heater 42. It is configured so that the amount of heat can be partially changed.
【0037】このような遠赤外線ヒータ42としては、
例えば、表面をセラミックでブラックコーティングした
ハロゲンランプヒータを用いることができる。なお、本
実施の形態では、一例として、ヒーター出力は最大出力
600W、標準電圧200Vに設定されている。但し、
駆動電圧は、後述する加熱制御部38により画像形成領
域の面積分布に対応して制御される。また、遠赤外線ヒ
ータ42の駆動電圧値は、ここでは、例えば、特開平8
−286389号公報に開示されたように決定される。As such a far infrared heater 42,
For example, a halogen lamp heater whose surface is black-coated with ceramic can be used. In the present embodiment, as an example, the heater output is set to a maximum output of 600 W and a standard voltage of 200 V. However,
The drive voltage is controlled by a heating control unit 38 described later in accordance with the area distribution of the image forming area. The driving voltage value of the far-infrared heater 42 is, for example, as disclosed in
-286389.
【0038】さらに、加熱手段34とPS版110との
間にはシャッター機構40が設けられている。このシャ
ッター機構40は、図3に示すように、第1と第2の2
つの断熱板46a、46bと、2つの断熱板のそれぞれ
に設けられた移動機構48a、48bとから構成されて
いる。これら第1の断熱板46a及び第2の断熱板46
bはそれぞれ単独でPS版110の幅全域を覆って上方
の加熱手段34からの熱を遮断できる長さとされてい
る。Further, a shutter mechanism 40 is provided between the heating means 34 and the PS plate 110. As shown in FIG. 3, the shutter mechanism 40 includes first and second two shutters.
It is composed of two heat insulating plates 46a, 46b and moving mechanisms 48a, 48b provided on each of the two heat insulating plates. These first heat insulating plate 46a and second heat insulating plate 46
b is a length that can independently cover the entire width of the PS plate 110 and block heat from the upper heating means 34.
【0039】第1の断熱板46aのPS版110の搬送
路と逆側の側面にはラック50aが設けられており、こ
のラック50aにはピニオン52aが歯合されている。
ピニオン52aはモータ54aの駆動により回転してラ
ック50aをPS版110の搬送方向と直交する方向に
移動させる。A rack 50a is provided on the side of the first heat insulating plate 46a on the side opposite to the transport path of the PS plate 110, and a pinion 52a meshes with the rack 50a.
The pinion 52a is rotated by the drive of the motor 54a to move the rack 50a in a direction orthogonal to the transport direction of the PS plate 110.
【0040】モータ54aは、後述する加熱制御部38
により制御されており、画像形成領域の面積分布情報に
基づいた距離だけ第1の断熱板46aが移動するように
駆動が制御される。なお、第2の断熱板46bの移動機
構48bも同様の構成であるので説明は省略する。The motor 54a is connected to a heating control unit 38 described later.
The driving is controlled such that the first heat insulating plate 46a moves by a distance based on the area distribution information of the image forming area. Since the moving mechanism 48b of the second heat insulating plate 46b has the same configuration, the description is omitted.
【0041】このシャッター機構40は、後述する加熱
制御部38により駆動が制御される。なお、詳細は後述
する。また、シャッター機構40の構成はこの構成に限
定されるものではなく、例えば、モータとギア、カム、
リンク等との組み合わせ機構、更にプランジャーソレノ
イド等の駆動手段を適用することができ、要は加熱手段
34からの遠赤外線を遮断して、PS版110に与えら
れる遠赤外線の照射量を制御し得るものであればよい。The drive of the shutter mechanism 40 is controlled by a heating control unit 38 described later. The details will be described later. Further, the configuration of the shutter mechanism 40 is not limited to this configuration. For example, a motor and a gear, a cam,
A driving mechanism such as a combination mechanism with a link or the like, or a plunger solenoid or the like can be applied. In short, the far infrared rays from the heating means 34 are cut off, and the irradiation amount of the far infrared rays given to the PS plate 110 is controlled. Anything can be obtained.
【0042】加熱制御部38は、RAM、ROM及びC
PUから構成され、PS版先端検出センサ33からの検
出結果、プレートセッター14から入力された面積分布
情報、及び各種設定情報が入力される。The heating control unit 38 includes a RAM, a ROM, and a C
A detection result from the PS plate front end detection sensor 33, area distribution information input from the plate setter 14, and various setting information are input.
【0043】RAMにはプレートセッター14から入力
された面積分布情報及び各種設定情報が記憶される。R
OMには面積分布情報に基いて画像形成領域の面積分布
を演算し、画像形成領域の面積分布から加熱対象となる
加熱領域の分布を演算した後、PS版先端検出センサ3
3の先端検出結果、加熱領域の分布、及びPS版110
の搬送速度により第1の断熱板46a及び第2の断熱板
46bのそれぞれの移動開始までの時間及び移動距離を
演算し、該移動開始までの時間及び移動距離に基いてモ
ータを駆動制御すると共に、PS版先端検出センサ33
の検出結果、加熱領域の分布、PS版110の搬送速
度、及び各種設定情報に含まれるPS版110の厚さ
(版厚)に基いて遠赤外線ヒータ42の駆動を制御するプ
ログラムが記憶されている。The RAM stores area distribution information and various setting information input from the plate setter 14. R
The OM calculates the area distribution of the image forming area based on the area distribution information, calculates the distribution of the heating area to be heated from the area distribution of the image forming area, and then detects the PS plate tip detection sensor 3.
3 tip detection result, distribution of heating area, and PS plate 110
Calculates the time and moving distance until the start of the movement of each of the first heat insulating plate 46a and the second heat insulating plate 46b based on the transfer speed, and drives and controls the motor based on the time and the moving distance until the start of the movement. , PS plate tip detection sensor 33
, The distribution of the heating area, the transport speed of the PS plate 110, and the thickness of the PS plate 110 included in various setting information
A program for controlling the driving of the far infrared heater 42 based on (plate thickness) is stored.
【0044】また、ROMには、PS版の厚さに応じた
駆動電圧のテーブルが記憶されている。駆動電圧は、ハ
ロゲンランプヒータを用いる場合、例えば、PS版のア
ルミニウム基板の厚さが0.15mmの場合98V、
0.24mmの場合137V、0.3mmの場合165
V、0.4mmの場合200Vであり、アルミニウム基
板の厚みが厚くなるに従って高くなるように制御され
る。The ROM stores a table of driving voltages corresponding to the thickness of the PS plate. The driving voltage is 98 V when a halogen lamp heater is used, for example, when the thickness of the PS plate aluminum substrate is 0.15 mm,
137V for 0.24mm, 165 for 0.3mm
V, which is 200 V in the case of 0.4 mm, and is controlled to increase as the thickness of the aluminum substrate increases.
【0045】ここで、加熱制御部38のCPUにより実
行される加熱分布制御について図4のフローチャートを
参照しながら説明する。ステップ200では、まず、R
AMに記憶された面積分布情報及び各種設定情報を読み
込む。Here, the heating distribution control executed by the CPU of the heating control unit 38 will be described with reference to the flowchart of FIG. In step 200, first, R
The area distribution information and various setting information stored in the AM are read.
【0046】次のステップ202では、面積分布情報か
ら画像形成領域の面積分布を演算し、さらに、ステップ
204では、得られた画像形成領域の面積分布から加熱
対象となる加熱領域の分布を演算する。In the next step 202, the area distribution of the image forming area is calculated from the area distribution information. In step 204, the distribution of the heating area to be heated is calculated from the obtained area distribution of the image forming area. .
【0047】次のステップ205では、RAMから読込
んだ各種設定情報の中に含まれる処理対象のPS版11
0の厚さ(版厚)に応じて決定される駆動電圧をROMの
テーブルから読み出し、読み出した駆動電圧よりも低い
駆動電圧を省エネのために遠赤外線ヒータ42に供給す
る。In the next step 205, the PS plate 11 to be processed included in the various setting information read from the RAM
A driving voltage determined according to the thickness of 0 (plate thickness) is read from the ROM table, and a driving voltage lower than the read driving voltage is supplied to the far-infrared heater 42 for energy saving.
【0048】次のステップ206では、PS版先端検出
センサ33の先端検出結果、PS版の搬送速度、及び加
熱領域の分布に基いて、PS版110の先端を検出して
から搬送方向と交差する方向に沿った加熱対象領域の最
初のエッジが遠赤外線ヒータ42の直下に到達するまで
の時間を演算し、前記加熱対象領域の最初のエッジが遠
赤外線ヒータ42の直下に到達する時間になったかを判
断する。In the next step 206, based on the detection result of the leading edge of the PS plate leading edge detection sensor 33, the transport speed of the PS plate, and the distribution of the heating area, the leading edge of the PS plate 110 is detected and then intersects the transport direction. Calculate the time until the first edge of the heating target area along the direction reaches directly below the far-infrared heater 42, and determine whether the time when the first edge of the heating target area reaches directly below the far-infrared heater 42 is reached. Judge.
【0049】ステップ206において、前記時間になっ
たと判断されると、次のステップ208に移行し、前記
ROMから読込んだPS版110の厚さ(版厚)に応じて
決定される駆動電圧が遠赤外線ヒータ42に供給される
ように制御すると共に、次のステップ210に移行し
て、第1の断熱板46a及び第2の断熱板46bのそれ
ぞれのモータ54a、54bを加熱領域の分布に応じて
非加熱対象領域を覆うように駆動する。このモータ54
a、54bの駆動により、厚さ(版厚)に応じて決定され
る駆動電圧が供給された遠赤外線ヒータ42の直下の非
加熱対象領域が覆われ、加熱対象領域が加熱されるよう
に制御される。In step 206, when it is determined that the time has come, the process proceeds to the next step 208, in which the drive voltage determined according to the thickness (plate thickness) of the PS plate 110 read from the ROM is set. Control is performed so as to be supplied to the far-infrared heater 42, and the process proceeds to the next step 210, in which the motors 54a and 54b of the first heat insulating plate 46a and the second heat insulating plate 46b are controlled according to the distribution of the heating area. To cover the non-heating target area. This motor 54
The non-heating target area immediately below the far-infrared heater 42 to which the driving voltage determined according to the thickness (plate thickness) is supplied by the driving of the a and 54b is controlled so that the heating target area is heated. Is done.
【0050】次のステップ212では、PS版110の
先端を検出してから搬送方向と交差する方向に沿った加
熱対象領域の最後のエッジが遠赤外線ヒータ42の直下
に到達する時間が経過したかを判断する。In the next step 212, it is determined whether or not the time has elapsed since the end of the PS plate 110 was detected and the last edge of the heating target area along the direction intersecting with the transport direction arrives immediately below the far-infrared heater 42. Judge.
【0051】ステップ212において最後のエッジが遠
赤外線ヒータ42の直下に到達する時間が経過していな
いと判断されると、ステップ210に戻り加熱対象領域
のみが加熱されるように加熱対象領域の分布に応じた第
1の断熱板46a及び第2の断熱板46bの移動制御を
継続する。If it is determined in step 212 that the time for the last edge to reach immediately below the far-infrared heater 42 has not elapsed, the process returns to step 210 so that only the heating target area is heated. The movement control of the first heat insulating plate 46a and the second heat insulating plate 46b according to the above is continued.
【0052】また、ステップ212において最後のエッ
ジが遠赤外線ヒータ42の直下に到達する時間が経過し
たと判断されると、最後のエッジよりも下流側には加熱
対象領域が存在しないため、ステップ214に移行し
て、PS版110の厚さ(版厚)に応じて決定される駆動
電圧よりも低い駆動電圧を省エネのために遠赤外線ヒー
タ42に供給する。If it is determined in step 212 that the time for the last edge to reach immediately below the far-infrared heater 42 has elapsed, there is no area to be heated downstream of the last edge. Then, a drive voltage lower than the drive voltage determined according to the thickness (plate thickness) of the PS plate 110 is supplied to the far-infrared heater 42 for energy saving.
【0053】次のステップ216では、全ての加熱処理
が終了したかを判断し、終了していないと判断される
と、ステップ200に戻り次の加熱対象領域について上
述した処理を繰り返す。また、終了したと判断されると
本ルーチンを終了する。In the next step 216, it is determined whether or not all the heating processes have been completed. If it is determined that all the heating processes have not been completed, the process returns to step 200 and the above-described process is repeated for the next heating target area. When it is determined that the processing has been completed, the present routine ends.
【0054】上記の加熱制御を、例えば、図5(A)に
示す様に、画像形成領域102aがPS版110の中央
より若干一方側に偏った位置に形成されている場合を例
にとって説明する。PS版先端検出センサ33によりP
S版110の先端が検出されてから、前記加熱対象領域
である画像形成領域102aの最初のエッジであるO線
位置のエッジが遠赤外線ヒータ42の直下の位置に到達
する時間になると、第1の断熱板46aが距離A分、第
2の断熱板46bが距離B分、それぞれPS版110の
縁側部から中央に向かう方向に入り込んだ位置に配置さ
れる様にモータ54a、54bが駆動される。The above-described heating control will be described by taking as an example a case where the image forming area 102a is formed at a position slightly deviated to one side from the center of the PS plate 110 as shown in FIG. . P by the PS plate tip detection sensor 33
When the edge of the O-line position, which is the first edge of the image forming area 102a to be heated, reaches the position immediately below the far-infrared heater 42 after the leading end of the S plate 110 is detected, the first The motors 54a and 54b are driven such that the heat insulating plate 46a is disposed at a distance A and the second heat insulating plate 46b is positioned at a distance B from the edge side of the PS plate 110 toward the center. .
【0055】その後、PS版先端検出センサ33により
PS版110の先端が検出されてから、次のエッジであ
るP線位置のエッジが遠赤外線ヒータ42の直下の位置
に到達する時間が経過すると、このP線位置のエッジは
画像形成領域102aの最後のエッジであるので、第1
の断熱板46a及び第2の断熱板46bを退避させ、遠
赤外線ヒータ42の駆動電圧値が低くなる様に制御され
る。Thereafter, after the leading edge of the PS plate 110 is detected by the PS plate leading edge detection sensor 33, the time when the edge of the next line, the P-line position, reaches the position immediately below the far infrared heater 42 has elapsed. Since the edge at this P-line position is the last edge of the image forming area 102a,
The heat insulating plate 46a and the second heat insulating plate 46b are retracted, and the drive voltage value of the far infrared heater 42 is controlled to be low.
【0056】また、別の例として、図5(B)に示す形
状に画像形成領域102bが形成されている場合につい
て説明する。PS版先端検出センサ33によりPS版1
10の先端が検出されてから、前記加熱対象領域である
画像形成領域102bの最初のエッジであるQ線位置の
エッジが遠赤外線ヒータ42の直下の位置に到達する時
間になると、ここでは画像形成領域102bはPS版1
10の幅全体にあるため、第1の断熱板46a及び第2
の断熱板46bの移動距離はそれぞれ0であり、第1の
断熱板46a及び第2の断熱板46bをそれぞれ退避さ
せた状態に制御される。As another example, a case where the image forming area 102b is formed in the shape shown in FIG. 5B will be described. PS plate 1 by PS plate tip detection sensor 33
When the time at which the edge of the Q-ray position, which is the first edge of the image forming area 102b to be heated, reaches the position immediately below the far-infrared heater 42 after the detection of the front end of the image forming area 102, the image forming here is performed. Area 102b is PS version 1
10, the first heat insulating plate 46a and the second heat insulating plate 46a.
The moving distance of each of the heat insulating plates 46b is 0, and the first heat insulating plate 46a and the second heat insulating plate 46b are controlled to be retracted.
【0057】その後、PS版先端検出センサ33により
PS版110の先端が検出されてから、次のエッジであ
るR線位置のエッジが遠赤外線ヒータ42の直下の位置
に到達する時間になると、このR線位置のエッジは最後
のエッジではないので、第1の断熱板46aが距離C
分、第2の断熱板46bが距離D分、それぞれPS版1
10の縁側部から中央に向かう方向に入り込んだ位置に
配置される様にモータ54a、54bが駆動される。Thereafter, when the leading edge of the PS plate 110 is detected by the leading edge detection sensor 33 of the PS plate 110 and the next edge, ie, the edge of the R-line position, reaches the position immediately below the far-infrared heater 42, this time is reached. Since the edge at the R-line position is not the last edge, the first heat insulating plate 46a has a distance C
And the second heat insulating plate 46b has a distance D and the PS plate 1 respectively.
The motors 54a and 54b are driven so as to be arranged at positions where they enter the direction from the edge side portion toward the center of the motor 10.
【0058】その後、PS版先端検出センサ33により
PS版110の先端が検出されてから、R線位置のエッ
ジの次のエッジであるS線位置のエッジが遠赤外線ヒー
タ42の直下の位置に到達する時間になると、このS線
位置のエッジは最後のエッジであるので、第1の断熱板
46a及び第2の断熱板46bを退避させ、遠赤外線ヒ
ータ42の駆動電圧値が低くなる様に制御される。Thereafter, after the leading edge of the PS plate 110 is detected by the leading edge detection sensor 33 of the PS plate, the edge of the S line position, which is the next edge after the edge of the R line position, reaches the position immediately below the far infrared heater 42. At this time, since the edge at the S-line position is the last edge, the first heat insulating plate 46a and the second heat insulating plate 46b are retracted, and the drive voltage value of the far-infrared heater 42 is reduced. Is done.
【0059】なお、加熱対象領域を加熱しないときには
遠赤外線ヒータ42の駆動電圧値を版厚に応じた駆動電
圧値より低くすることにより、消費電力を抑えることが
できるのでランニングコストを下げ、省エネ化すること
ができる。なお、遠赤外線ヒータ42の駆動電圧値を低
くする代わりに遠赤外線ヒータ42をオフにすることに
よっても同様の効果が得られる。When the region to be heated is not heated, the power consumption can be reduced by lowering the driving voltage value of the far-infrared heater 42 below the driving voltage value corresponding to the plate thickness. can do. The same effect can be obtained by turning off the far infrared heater 42 instead of lowering the drive voltage value of the far infrared heater 42.
【0060】なお、遠赤外線ヒータ42をオンした状態
で、第1の断熱板46a及び第2の断熱板46bの両方
で又は一方でPS版110の全域を覆い、遠赤外線ヒー
タ42からの放射熱が届かないようにしても良い。When the far-infrared heater 42 is turned on, the entire area of the PS plate 110 is covered by both or one of the first heat-insulating plate 46a and the second heat-insulating plate 46b. May not reach.
【0061】本実施の形態の加熱手段は、プレートセッ
ター14から入力された面積分布情報に基いて画像形成
領域の面積分布を演算し、得られた面積分布から加熱分
布を決定し、PS版110の表面に与える熱量を加熱分
布に応じて変更するため、ユーザが面積分布情報を入力
する必要がない。そのため操作ミス等による損失などの
発生を回避でき、露光処理から及び現像処理にわたって
の処理効率も向上できる。The heating means of the present embodiment calculates the area distribution of the image forming area based on the area distribution information input from the platesetter 14, determines the heating distribution from the obtained area distribution, Since the amount of heat applied to the surface of the object is changed according to the heating distribution, the user does not need to input area distribution information. Therefore, it is possible to avoid the occurrence of a loss due to an operation error or the like, and to improve the processing efficiency from the exposure processing to the development processing.
【0062】それに加えて、必要な箇所だけが充分加熱
されれば良いことから、遠赤外線ヒータ42の直下が非
加熱対象領域である場合に、遠赤外線ヒータ42の駆動
電圧値を低く制御したり、オフする制御を行うことがで
きるので、画像品質を下げることなく、装置の消費電力
をすくなくしてランニングコストを抑え、省エネ化する
ことができる。In addition, since only the necessary portions need to be sufficiently heated, the drive voltage value of the far-infrared heater 42 may be controlled to be low when the area immediately below the far-infrared heater 42 is a non-heating target area. , Can be controlled, so that the image quality is not reduced, the power consumption of the apparatus is reduced, the running cost is reduced, and the energy can be saved.
【0063】このように加熱部20において、画像形成
領域(すなわち露光部)が加熱されたPS版110は、後
段に設けられた第1水洗部22に搬送される。The PS plate 110 in which the image forming area (ie, the exposure section) has been heated in the heating section 20 as described above is conveyed to the first washing section 22 provided at the subsequent stage.
【0064】第1水洗部22は、図2に示すように、第
1水洗層60内に、PS版110の搬送方向に沿って上
流側から順に、引き込みローラ対62、第1洗浄水供給
ノズル64a、第1回転ブラシローラ66及びバックア
ップローラ67、第2洗浄水供給ノズル64b、送り出
しローラ対68を備え、現像前に水洗することによって
PS版110最表面に形成されているオーバーコート層
を除去する。As shown in FIG. 2, the first washing section 22 includes a pair of drawing rollers 62 and a first washing water supply nozzle in the first washing layer 60 in order from the upstream side along the transport direction of the PS plate 110 in the first washing layer 60. 64b, a first rotating brush roller 66 and a backup roller 67, a second cleaning water supply nozzle 64b, and a pair of delivery rollers 68. The overcoat layer formed on the outermost surface of the PS plate 110 is removed by washing with water before development. I do.
【0065】また、第1水洗層60内には第1オーバー
フロー管61が設けられ、第1水洗層60内に溜まった
洗浄水の液面レベルが所定レベルを超えたときに洗浄水
が第1オーバーフロー管61内に流れ込み、洗浄水タン
ク63へ案内され、第1水洗層60内に常に一定量の洗
浄水が保持されるように調整している。Further, a first overflow pipe 61 is provided in the first washing layer 60, and when the liquid level of the washing water accumulated in the first washing layer 60 exceeds a predetermined level, the first flushing water is discharged. It is adjusted so that it flows into the overflow pipe 61 and is guided to the washing water tank 63 so that a constant amount of washing water is always held in the first washing layer 60.
【0066】洗浄水タンク63には、ポンプPが設けら
れており、ポンプPにより内部の洗浄水を汲み上げて第
1洗浄水供給ノズル64a及び第2洗浄水供給ノズル6
4bに供給している。The cleaning water tank 63 is provided with a pump P. The cleaning water is pumped up by the pump P and the first cleaning water supply nozzle 64a and the second cleaning water supply nozzle 6 are pumped.
4b.
【0067】引き込みローラ対62により第1水洗部2
2に引き込まれた加熱済みのPS版110は、第1洗浄
水供給ノズル64aにより表面に洗浄水が供給された状
態で、第1第1回転ブラシローラ66及びバックアップ
ローラ67の間に挟持されて搬送されるときに、第1回
転ブラシローラ66によって表面が研磨されて、PS版
110の最上層のオーバーコート層が取り除かれる。The first rinsing section 2 is driven by the pull-in roller pair 62.
The heated PS plate 110 drawn into 2 is sandwiched between the first first rotating brush roller 66 and the backup roller 67 with the cleaning water supplied to the surface by the first cleaning water supply nozzle 64a. When transported, the surface is polished by the first rotating brush roller 66, and the uppermost overcoat layer of the PS plate 110 is removed.
【0068】第1回転ブラシローラ66の後段には第2
洗浄水供給ノズル64bが設けられており、第2洗浄水
供給ノズル64bからPS版110の表面に供給された
洗浄水によって、PS版110の表面に付着した第1回
転ブラシローラ66により取り除かれたオーバーコート
層のカスが除去される。これにより、PS版110の表
面からオーバーコート層が除去され、PS版110は、
送り出しローラ対68により第1水洗部22の後段に設
けられた現像部24に送り出される。A second stage is provided after the first rotating brush roller 66.
A cleaning water supply nozzle 64b is provided, and the cleaning water supplied from the second cleaning water supply nozzle 64b to the surface of the PS plate 110 is removed by the first rotating brush roller 66 attached to the surface of the PS plate 110. The residue of the overcoat layer is removed. Thereby, the overcoat layer is removed from the surface of the PS plate 110, and the PS plate 110
The toner is sent out to the developing unit 24 provided at the subsequent stage of the first washing unit 22 by the sending roller pair 68.
【0069】現像部24は、図2に示すように、現像槽
70内に、PS版110の搬送方向に沿って上流側から
順に、引き込みローラ対72、現像液噴射ノズル74、
希釈水噴射ノズル76、第1スプレーパイプ78、第1
回転ブラシローラ71a、第2回転ブラシローラ71b
及び送り出しローラ対75を備え、PS版110を現像
液に浸漬することによって現像処理を行う。As shown in FIG. 2, the developing section 24 includes, in the developing tank 70, a drawing roller pair 72, a developer injection nozzle 74,
Dilution water injection nozzle 76, first spray pipe 78, first
Rotating brush roller 71a, second rotating brush roller 71b
And a delivery roller pair 75, and performs development processing by immersing the PS plate 110 in a developer.
【0070】引き込みローラ対72は、第1水洗部22
により送り出されたPS版110を水平方向に対して約
15°から31°の範囲の角度で現像部24に引き込
む。現像液噴射ノズル74は、ポンプPによって現像液
貯留層82から汲み上げられた現像液を現像層内に噴射
する。なお、このポンプPは、プロセッサー制御部30
により駆動が制御されている。同様に、希釈水噴射ノズ
ル76は、ポンプPによって水貯留層84から汲み上げ
られた希釈水を現像層内に噴射する。なお、このポンプ
Pも、プロセッサー制御部30により駆動が制御されて
いる。The pull-in roller pair 72 is connected to the first washing section 22.
Is drawn into the developing unit 24 at an angle in the range of about 15 ° to 31 ° with respect to the horizontal direction. The developing solution spray nozzle 74 injects the developing solution pumped up from the developing solution storage layer 82 by the pump P into the developing layer. This pump P is connected to the processor control unit 30.
The driving is controlled by. Similarly, the dilution water injection nozzle 76 injects the dilution water pumped up from the water storage layer 84 by the pump P into the development layer. The drive of the pump P is also controlled by the processor control unit 30.
【0071】プロセッサー制御部30は、画像形成領域
の面積率に応じて供給する現像液の量及び希釈水の量を
制御する。すなわち、現像領域が大きければ、その分現
像液の劣化は速まるため、希釈水を少なくして現像液を
多くなる様に供給し、現像領域が小さければ、その分現
像液の劣化は遅くなるため、希釈水を少なくして現像液
を多くなる様に供給するなどの現像液の濃度調整を行っ
ている。The processor control unit 30 controls the amount of the developer and the amount of the dilution water to be supplied according to the area ratio of the image forming area. In other words, the larger the developing area, the faster the deterioration of the developing solution. Therefore, the dilution water is reduced and the developing solution is supplied so as to increase, and the smaller the developing area, the slower the deterioration of the developing solution. The concentration of the developing solution is adjusted by reducing the dilution water and supplying the developing solution so as to increase.
【0072】また、現像槽70内には、現像槽70から
オーバーフローした現像液を回収する第2オーバーフロ
ー管79が設けられており、現像槽70内に溜まった現
像液の液面レベルが所定レベルを超えたときに現像液が
第2オーバーフロー管79内に流れ込み、廃液タンク8
0へ案内され、現像槽70内に常に一定量の現像液が保
持されるように調整している。A second overflow pipe 79 for collecting the developing solution overflowing from the developing tank 70 is provided in the developing tank 70 so that the liquid level of the developing solution accumulated in the developing tank 70 is maintained at a predetermined level. Is exceeded, the developer flows into the second overflow pipe 79 and the waste liquid tank 8
The developing tank 70 is adjusted so that a constant amount of the developing solution is always held in the developing tank 70.
【0073】なお、本発明において使用される現像液は
以下の成分を含んでいる。The developer used in the present invention contains the following components.
【0074】(アルカリ剤)本発明の現像方法に用いら
れる現像液及び現像補充液は、pH9.0〜13.5、
より好ましくは10.0〜13.3のアルカリ水溶液であ
る。(Alkali agent) The developing solution and the developing replenisher used in the developing method of the present invention have a pH of 9.0 to 13.5.
More preferably, it is an alkaline aqueous solution of 10.0 to 13.3.
【0075】かかる現像液および現像補充液としては従
来より知られているアルカリ水溶液が使用できる。例え
ば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、第二リン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、重炭酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同
カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カ
リウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウ
ム、同カリウムおよび同リチウムなどの無機アルカリ剤
が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジ
イソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブ
チルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチ
レンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いら
れる。As such a developing solution and a developing replenishing solution, conventionally known aqueous alkaline solutions can be used. For example, sodium silicate, potassium, tribasic sodium, potassium, ammonium, dibasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, potassium Inorganic alkaline agents such as ammonium, sodium bicarbonate, potassium, ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium, and lithium. Also, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine and pyridine are also used.
【0076】これらのアルカリ剤の中で好ましいのはケ
イ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のケイ酸塩水溶液で
ある。その理由はケイ酸塩の成分である酸化ケイ素Si
O2とアルカリ金属酸化物M2Oの比率(一般に[SiO
2]/[M2O]のモル比で表す)と濃度によってpHや
現像性の調節が可能とされるためである。例えば、Si
O2/ Na2Oのモル比が1.0〜1.5(即ち[Si
O2]/[Na2O]が1.0〜1.5)であって、Si
O2の含有量が1〜4重量%のケイ酸ナトリウムの水溶
液からなるアルカリ金属ケイ酸塩が本発明に好適に用い
られる。Among these alkaline agents, preferred are aqueous silicate solutions such as sodium silicate and potassium silicate. The reason is that silicon oxide Si
The ratio of O 2 to alkali metal oxide M 2 O (generally [SiO 2
2 ] / [M 2 O] molar ratio) and the concentration allow adjustment of pH and developability. For example, Si
When the molar ratio of O 2 / Na 2 O is 1.0 to 1.5 (that is, [Si
O 2 ] / [Na 2 O] is 1.0 to 1.5), and Si
An alkali metal silicate composed of an aqueous solution of sodium silicate having an O 2 content of 1 to 4% by weight is suitably used in the present invention.
【0077】更に他の好ましいアルカリ剤としては弱酸
と強塩基からなる緩衝液が挙げられる。かかる緩衝液と
して用いられる弱酸としては、酸解離定数(pKa)1
0.0〜13.3を有するものが好ましく、特にpKaが
11.0〜13.1のものが好ましい。また、例えばスル
ホサリチル酸の場合、第3解離定数は11.7であり、
本発明に好適に使用できる。即ち、多塩基酸の場合、少
なくとも1つの酸解離定数が上記範囲内にあれば本発明
に使用できる。Still another preferred alkaline agent is a buffer solution comprising a weak acid and a strong base. Weak acids used as such buffers include an acid dissociation constant (pKa) of 1
Those having a pKa of from 10.0 to 13.3 are preferred, and those having a pKa of from 11.0 to 13.1 are particularly preferred. For example, in the case of sulfosalicylic acid, the third dissociation constant is 11.7,
It can be suitably used in the present invention. That is, in the case of a polybasic acid, it can be used in the present invention if at least one acid dissociation constant is within the above range.
【0078】このような弱酸としては、Pergamo
n Press社発行のIONISATION CO
NSTANTS OF ORGANIC ACIDS
INAQUEOUS SOLUTIONなどに記載され
ているものから選ばれ、例えば2,2,3,3,−テト
ラフルオロプロパノール−1(pKa 12.74)、ト
リフルオロエタノール(同12.37)、トリクロロエ
タノール(同12.24)などのアルコール類、ピリジ
ン−2−アルデヒド(同12.68)、ピリジン−4−
アルデヒド(同12.05)などのアルデヒド類、ソル
ビトール(同13.0)、サッカロース(同12.7)、
2−デオキシリボース(同12.61)、2−デオキシ
グルコース(同12.51)、グルコース(同12.4
6)、ガラクトース(同12.35)、アラビノース
(同12.34)、キシロース(同12.29)、フラク
トース(同12.27)、リボース(同12.22)、マ
ンノース(同12.08)、L−アスコルビン酸(同1
1.34)などの糖類、サリチル酸(同13.0)、3−
ヒドロキシ−2−ナフトエ酸(同12.84)、カテコ
ール(同12.6)、没食子酸(同12.4)、スルホサ
リチル酸(同11.7)、3,4−ジヒドロキシスルホン
酸(同12.2)、3,4−ジヒドロキシ安息香酸(同
11.94)、1,2,4−トリヒドロキシベンゼン
(同11.82)、ハイドロキノン(同11.56)、ピ
ロガロール(同11.34)およびレゾルシノール(同
11.27)などのフェノール性水酸基を有する化合
物、2−ブタノンオキシム(同12.45)、アセトキ
シム(同12.42)、1,2−シクロヘプタンジオン
ヂオキシム(同12.3)、2−ヒドロキシベンズアル
デヒドオキシム(同12.10)、ジメチルグリオキシ
ム(同11.9)、エタンジアミドジオキシム(同11.
37)、アセトフェノンオキシム(同11.35)など
のオキシム類、2−キノロン(同11.76)、2−ピ
リドン(同11.65)、4−キノロン(同11.2
8)、4−ピリドン(同11.12)、5−アミノ吉草
酸(同10.77)、2−メルカプトキノリン(同10.
25)、3−アミノプロピオン酸(同10.24)など
のアミノ酸類、フルオロウラシル(同13.0)、グア
ノシン(同12.6)、ウリジン(同12.6)、アデノ
シン(同12.56)、イノシン(同12.5)、グアニ
ン(同12.3)、シティジン(同12.2)、シトシン
(同12.2)、ヒポキサンチン(同12.1)、キサン
チン(同11.9)などの核酸関連物質、他に、ジエチ
ルアミノメチルホスホン酸(同12.32)、1−アミ
ノ−3,3,3−トリフルオロ安息香酸(同12.2
9)、イソプロピリデンジホスホン酸(同12.1
0)、1,1,−エチリデンジホスホン酸(同11.5
4)、1,1−エチリデンジホスホン酸1−ヒドロキシ
(同11.52)、ベンズイミダゾール(同12.8
6)、チオベンズアミド(同12.8)、ピコリンチオ
アミド(同12.55)、バルビツル酸(同12.5)な
どの弱酸が挙げられる。[0078] Such weak acids include Pergamo.
IONISATION CO issued by nPress
NSTANS OF ORGANIC ACIDS
Selected from those described in INAQUEOSUS SOLUTION and the like, for example, 2,2,3,3-tetrafluoropropanol-1 (pKa 12.74), trifluoroethanol (12.37), trichloroethanol (12 .24), pyridine-2-aldehyde (12.68), pyridine-4-
Aldehydes such as aldehyde (12.5), sorbitol (13.0), saccharose (12.7),
2-deoxyribose (12.61), 2-deoxyglucose (12.51), glucose (12.4)
6), galactose (12.35), arabinose (12.34), xylose (12.29), fructose (12.27), ribose (12.22), mannose (12.08) , L-ascorbic acid (1)
Saccharides such as 1.34), salicylic acid (13.0), 3-
Hydroxy-2-naphthoic acid (12.84), catechol (12.6), gallic acid (12.4), sulfosalicylic acid (11.7), 3,4-dihydroxysulfonic acid (12.84) 2), 3,4-dihydroxybenzoic acid (11.94), 1,2,4-trihydroxybenzene (11.82), hydroquinone (11.56), pyrogallol (11.34) and resorcinol Compounds having a phenolic hydroxyl group such as (11.27), 2-butanone oxime (12.45), acetoxime (12.42), 1,2-cycloheptanediondioxime (12.3), 2-hydroxybenzaldehyde oxime (12.10), dimethylglyoxime (11.9), ethanediamide dioxime (11.1)
37), oximes such as acetophenone oxime (11.35), 2-quinolone (11.76), 2-pyridone (11.65) and 4-quinolone (11.2)
8), 4-pyridone (11.12), 5-aminovaleric acid (10.77), 2-mercaptoquinoline (10.77)
25), amino acids such as 3-aminopropionic acid (10.24), fluorouracil (13.0), guanosine (12.6), uridine (12.6), adenosine (12.56) , Inosine (12.5), guanine (12.3), citidine (12.2), cytosine (12.2), hypoxanthine (12.1), xanthine (11.9), etc. In addition, diethylaminomethylphosphonic acid (12.32), 1-amino-3,3,3-trifluorobenzoic acid (12.2)
9), isopropylidene diphosphonic acid (12.1)
0), 1,1, -ethylidene diphosphonic acid (11.5)
4), 1-hydroxy 1,1-ethylidene diphosphonic acid (11.52) and benzimidazole (12.8).
6), thiobenzamide (12.8), picoline thioamide (12.55), barbituric acid (12.5) and the like.
【0079】これらの弱酸に組み合わせる強塩基として
は、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウムお
よび同リチウムが用いられる。As the strong base to be combined with these weak acids, sodium hydroxide, ammonium hydroxide, potassium and lithium are used.
【0080】これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以
上を組み合わせて用いられる。These alkaline agents may be used alone or in combination of two or more.
【0081】これらのアルカリ緩衝剤の中で好ましいの
は、スルホサリチル酸、サリチル酸、サッカロースおよ
びソルビトールと水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウ
ムとを組み合わせたものである。中でも好ましい組み合
わせはソルビトールと水酸化カリウムまたは水酸化ナト
リウムである。Preferred among these alkaline buffers are those obtained by combining sulfosalicylic acid, salicylic acid, saccharose and sorbitol with sodium hydroxide and potassium hydroxide. Among them, a preferred combination is sorbitol and potassium hydroxide or sodium hydroxide.
【0082】上記の各種アルカリ剤は濃度および組み合
わせによりpHを好ましい範囲内に調整して使用され
る。The above-mentioned various alkaline agents are used by adjusting the pH within a preferred range depending on the concentration and combination.
【0083】(界面活性剤)本発明に用いられる現像液お
よび補充液には、現像性の促進や現像カスの分散および
印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて
種々界面活性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面
活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系
および両性界面活性剤が挙げられる。(Surfactant) The developing solution and the replenisher used in the present invention may contain various surfactants, if necessary, for the purpose of accelerating the developing property, dispersing the developing scum and improving the ink affinity of the printing plate image area. Agents and organic solvents can be added. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants.
【0084】界面活性剤の好ましい例としては、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
スチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
オキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪
酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、
ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレ
ングリコールモノ脂肪酸エステル類、しょ糖脂肪酸部分
エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分
エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部
分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル
類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシ
エチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン
脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、
N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリ
オキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン
脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシドなどの非
イオン性界面活性剤、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、
ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン
酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖ア
ルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼ
ンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩
類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルス
ルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェ
ニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリン
ナトリウム塩、N−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二
ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂
肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫
酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル
硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル
塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫
酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニル
エーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩
類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステ
ル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル
リン酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合
物の部分鹸化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合
物の部分鹸化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン
縮合物類などのアニオン界面活性剤、アルキルアミン塩
類、テトラブチルアンモニウムブロミド等の第四級アン
モニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩
類、ポリエチレンポリアミン誘導体などのカチオン性界
面活性剤、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸
類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミダ
ゾリン類などの両性界面活性剤が挙げられる。以上挙げ
た界面活性剤の中でポリオキシエチレンとあるものは、
ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキ
シブチレンなどのポリオキシアルキレンに読み替えるこ
ともでき、それらの界面活性剤もまた包含される。Preferred examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, and glycerin fatty acid partial esters. , Sorbitan fatty acid partial esters,
Pentaerythritol fatty acid partial esters, propylene glycol monofatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters , Polyoxyethylenated castor oils, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides,
Nonionic surfactants such as N, N-bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid esters, and trialkylamine oxides, fatty acid salts, abietic acid salts,
Hydroxyalkanesulfonates, alkanesulfonates, dialkylsulfosuccinates, linear alkylbenzenesulfonates, branched alkylbenzenesulfonates, alkylnaphthalenesulfonates, alkylphenoxypolyoxyethylenepropylsulfonates, polyoxy Ethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyltaurine sodium salt, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated tallow oil, sulfate salts of fatty acid alkyl esters, alkyl sulfates Salts, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfates, Oxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphates, partially saponified styrene / maleic anhydride copolymers, Partially saponified olefin / maleic anhydride copolymers, anionic surfactants such as naphthalene sulfonate formalin condensates, quaternary ammonium salts such as alkylamine salts, tetrabutylammonium bromide, polyoxyethylene alkylamine Salts, cationic surfactants such as polyethylene polyamine derivatives, amphoteric surfactants such as carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfates, and imidazolines. . Among the surfactants listed above, those with polyoxyethylene,
It can be read as a polyoxyalkylene such as polyoxymethylene, polyoxypropylene, polyoxybutylene, and their surfactants are also included.
【0085】更に好ましい界面活性剤は分子内にパーフ
ルオロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤であ
る。かかるフッ素系界面活性剤としては、パーフルオロ
アルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン
酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニ
オン型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性型、
パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などの
カチオン型およびパーフルオロアルキルアミンオキサイ
ド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パ
ーフルオロアルキル基および親水性基含有オリゴマー、
パーフルオロアルキル基および親油性基含有オリゴマ
ー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基
含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性
基含有ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。Further preferred surfactants are fluorine-based surfactants containing a perfluoroalkyl group in the molecule. Such fluorosurfactants include perfluoroalkyl carboxylate, perfluoroalkyl sulfonate, anionic type such as perfluoroalkyl phosphate, amphoteric type such as perfluoroalkyl betaine,
Cationic and perfluoroalkylamine oxides such as perfluoroalkyltrimethylammonium salts, perfluoroalkylethylene oxide adducts, oligomers containing perfluoroalkyl and hydrophilic groups,
Non-ionic forms such as oligomers containing perfluoroalkyl groups and lipophilic groups, oligomers containing perfluoroalkyl groups, hydrophilic groups and lipophilic groups, and urethanes containing perfluoroalkyl groups and lipophilic groups.
【0086】上記の界面活性剤は、単独もしくは2種以
上を組み合わせて使用することができ、現像液中に0.
001〜10重量%、より好ましくは0.01〜5重量
%の範囲で添加される。The above-mentioned surfactants can be used alone or in combination of two or more.
001 to 10% by weight, more preferably 0.01 to 5% by weight.
【0087】(現像安定化剤)本発明に用いられる現像
液および補充液には、種々現像安定化剤が用いられる。
それらの好ましい例として、特開平6−282079号
公報記載の糖アルコールのポリエチレングリコール付加
物、テトラブチルアンモニウムヒドロキシドなどのテト
ラアルキルアンモニウム塩、テトラブチルホスホニウム
ブロマイドなどのホスホニウム塩およびジフェニルヨー
ドニウムクロライドなどのヨードニウム塩が好ましい例
として挙げられる。(Development Stabilizer) Various development stabilizers are used in the developer and replenisher used in the present invention.
Preferred examples thereof include polyethylene glycol adducts of sugar alcohols described in JP-A-6-282079, tetraalkylammonium salts such as tetrabutylammonium hydroxide, phosphonium salts such as tetrabutylphosphonium bromide, and iodonium such as diphenyliodonium chloride. Salts are mentioned as preferred examples.
【0088】更には、特開昭50−51324号公報記
載のアニオン界面活性剤または両性界面活性剤、また特
開昭55−95946号公報記載の水溶性カチオニック
ポリマー、特開昭56−142528号公報に記載され
ている水溶性の両性高分子電解質がある。Further, anionic or amphoteric surfactants described in JP-A-50-51324, water-soluble cationic polymers described in JP-A-55-95946, and JP-A-56-142528 are disclosed. There is a water-soluble amphoteric polyelectrolyte described in the gazette.
【0089】更に、特開昭59−84241号公報のア
ルキレングリコールが付加された有機ホウ素化合物、特
開昭60−111246号公報記載のポリオキシエチレ
ン・ポリオキシプロピレンブロック重合型の水溶性界面
活性剤、特開昭60−129750号公報のポリオキシ
エチレン・ポリオキシプロピレンを置換したアルキレン
ジアミン化合物、特開昭61−215554号公報記載
の重量平均分子量300以上のポリエチレングリコー
ル、特開昭63−175858号公報のカチオン性基を
有する含フッ素界面活性剤、特開平2−39157号公
報の酸またはアルコールに4モル以上のエチレンオキシ
ドを付加して得られる水溶性エチレンオキシド付加化合
物と、水溶性ポリアルキレン化合物などが挙げられる。Further, an organic boron compound to which an alkylene glycol has been added described in JP-A-59-84241, and a polyoxyethylene / polyoxypropylene block polymerization type water-soluble surfactant described in JP-A-60-111246. Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 60-129750, polyoxyethylene / polyoxypropylene-substituted alkylenediamine compounds, Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 61-215554, polyethylene glycol having a weight average molecular weight of 300 or more, and Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 63-175858. JP-A-2-39157 discloses a fluorine-containing surfactant having a cationic group, a water-soluble ethylene oxide addition compound obtained by adding 4 mol or more of ethylene oxide to an acid or alcohol, and a water-soluble polyalkylene compound. No.
【0090】(有機溶剤)現像液および現像補充液には
更に必要により有機溶剤が加えられる。かかる有機溶剤
としては、水に対する溶解度が約10重量%以下のもの
が適しており、好ましくは5重量%以下のものから選ば
れる。例えば、1−フェニルエタノール、2−フェニル
エタノール、3−フェニル−1−プロパノール、4−フ
ェニル−1−ブタノール、4−フェニル−2−ブタノー
ル、2−フェニル−1−ブタノール、2−フェノキシエ
タノール、2−ベンジルオキシエタノール、o−メトキ
シベンジルアルコール、m−メトキシベンジルアルコー
ル、p−メトキシベンジルアルコール、ベンジルアルコ
ール、シクロヘキサノール、2−メチルシクロヘキサノ
ール、3−メチルシクロヘキサノールおよび4−メチル
シクロヘキサノール、N−フェニルエタノールアミンお
よびN−フェニルジエタノールアミンなどを挙げること
ができる。有機溶剤の含有量は使用液の総重量に対して
0.1〜5重量%である。その使用量は界面活性剤の使
用量と密接な関係があり、有機溶剤の量が増すにつれ、
界面活性剤の量は増加させることが好ましい。これは界
面活性剤の量が少なく、有機溶剤の量を多く用いると有
機溶剤が完全に溶解せず、従って、良好な現像性の確保
が期待できなくなるからである。(Organic Solvent) An organic solvent is further added to the developing solution and the developing replenisher, if necessary. As such an organic solvent, those having a solubility in water of about 10% by weight or less are suitable, and preferably selected from those having a solubility of 5% by weight or less. For example, 1-phenylethanol, 2-phenylethanol, 3-phenyl-1-propanol, 4-phenyl-1-butanol, 4-phenyl-2-butanol, 2-phenyl-1-butanol, 2-phenoxyethanol, 2-phenoxyethanol, Benzyloxyethanol, o-methoxybenzyl alcohol, m-methoxybenzyl alcohol, p-methoxybenzyl alcohol, benzyl alcohol, cyclohexanol, 2-methylcyclohexanol, 3-methylcyclohexanol and 4-methylcyclohexanol, N-phenylethanol Examples include amines and N-phenyldiethanolamine. The content of the organic solvent is 0.1 to 5% by weight based on the total weight of the used solution. The amount used is closely related to the amount of surfactant used, and as the amount of organic solvent increases,
Preferably, the amount of surfactant is increased. This is because when the amount of the surfactant is small and the amount of the organic solvent is large, the organic solvent is not completely dissolved, and therefore, it is impossible to expect good developing property.
【0091】(還元剤)本発明に用いられる現像液およ
び補充液には更に還元剤が加えられる。これは印刷版の
汚れを防止するものであり、特に感光性ジアゾニウム塩
化合物を含むネガ型感光性平版印刷版を現像する際に有
効である。好ましい有機還元剤としては、チオサリチル
酸、ハイドロキノン、メトール、メトキシキノン、レゾ
ルシン、2−メチルレゾルシンなどのフェノール化合
物、フェニレンジアミン、フェニルヒドラジンなどのア
ミン化合物が挙げられる。更に好ましい無機の還元剤と
しては、亜硫酸、亜硫酸水素酸、亜リン酸、亜リン酸水
素酸、亜リン酸二水素酸、チオ硫酸および亜ジチオン酸
などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウ
ム塩などを挙げることができる。これらの還元剤のうち
汚れ防止効果が特に優れているのは亜硫酸塩である。こ
れらの還元剤は使用時の現像液に対して好ましくは、
0.05〜5重量%の範囲で含有される。(Reducing Agent) A reducing agent is further added to the developer and replenisher used in the present invention. This is to prevent stains on the printing plate, and is particularly effective when developing a negative photosensitive lithographic printing plate containing a photosensitive diazonium salt compound. Preferred organic reducing agents include phenolic compounds such as thiosalicylic acid, hydroquinone, methol, methoxyquinone, resorcin, and 2-methylresorcin; and amine compounds such as phenylenediamine and phenylhydrazine. Further preferred inorganic reducing agents include sodium salts, potassium salts, and ammonium salts of inorganic acids such as sulfurous acid, bisulfite, phosphorous acid, bisulfite, diphosphite, thiosulfate and dithionite. Salts and the like can be mentioned. Among these reducing agents, sulfites are particularly excellent in the stain prevention effect. These reducing agents are preferably used in the developer during use,
It is contained in the range of 0.05 to 5% by weight.
【0092】(有機カルボン酸)本発明に用いられる現
像液および補充液には更に有機カルボン酸を加えること
もできる。好ましい有機カルボン酸は炭素原子数6〜2
0の脂肪族カルボン酸および芳香族カルボン酸である。
脂肪族カルボン酸の具体的な例としては、カプロン酸、
エナンチル酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン
酸、パルミチン酸およびステアリン酸などがあり、特に
好ましいのは炭素数8〜12のアルカン酸である。また
炭素鎖中に二重結合を有する不飽和脂肪酸でも、枝分か
れした炭素鎖のものでもよい。(Organic Carboxylic Acid) The developing solution and replenisher used in the present invention may further contain an organic carboxylic acid. Preferred organic carboxylic acids are those having 6 to 2 carbon atoms.
0 aliphatic carboxylic acids and aromatic carboxylic acids.
Specific examples of aliphatic carboxylic acids include caproic acid,
Examples include enanthylic acid, caprylic acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid and stearic acid, and particularly preferred are alkanoic acids having 8 to 12 carbon atoms. Further, unsaturated fatty acids having a double bond in the carbon chain or branched fatty acids may be used.
【0093】芳香族カルボン酸としてはベンゼン環、ナ
フタレン環、アントラセン環などにカルボキシル基が置
換された化合物で、具体的には、o−クロロ安息香酸、
p−クロロ安息香酸、o−ヒドロキシ安息香酸、p−ヒ
ドロキシ安息香酸、o−アミノ安息香酸、p−アミノ安
息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、2,5−ジヒ
ドロキシ安息香酸、2,6−ジヒドロキシ安息香酸、
2,3−ジヒドロキシ安息香酸、3,5−ジヒドロキシ
安息香酸、没食子酸、1−ヒドロキシ−2−ナフトエ
酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、2−ヒドロキシ
−1−ナフトエ酸、1−ナフトエ酸、2−ナフトエ酸な
どがあるがヒドロキシナフトエ酸は特に有効である。The aromatic carboxylic acid is a compound in which a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring or the like is substituted with a carboxyl group, specifically, o-chlorobenzoic acid,
p-chlorobenzoic acid, o-hydroxybenzoic acid, p-hydroxybenzoic acid, o-aminobenzoic acid, p-aminobenzoic acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid, 2,5-dihydroxybenzoic acid, 2,6- Dihydroxybenzoic acid,
2,3-dihydroxybenzoic acid, 3,5-dihydroxybenzoic acid, gallic acid, 1-hydroxy-2-naphthoic acid, 3-hydroxy-2-naphthoic acid, 2-hydroxy-1-naphthoic acid, 1-naphthoic acid And 2-naphthoic acid, and hydroxynaphthoic acid is particularly effective.
【0094】上記脂肪族および芳香族カルボン酸は水溶
性を高めるためにナトリウム塩やカリウム塩またはアン
モニウム塩として用いるのが好ましい。本発明で用いる
現像液の有機カルボン酸の含有量は格別な制限はない
が、0.1重量%より低いと効果が十分でなく、また1
0重量%以上ではそれ以上の効果の改善が計れないばか
りか、別の添加剤を併用する時に溶解を妨げることがあ
る。従って、好ましい添加量は使用時の現像液に対して
0.1〜10重量%であり、よりこのましくは0.5〜
4重量%である。The aliphatic and aromatic carboxylic acids are preferably used as a sodium salt, a potassium salt or an ammonium salt in order to increase the water solubility. The content of the organic carboxylic acid in the developer used in the present invention is not particularly limited, but if the content is less than 0.1% by weight, the effect is not sufficient.
If it is 0% by weight or more, not only the effect cannot be further improved but also dissolution may be hindered when another additive is used in combination. Therefore, the preferred amount of addition is 0.1 to 10% by weight, more preferably 0.5 to 10% by weight, based on the developer used.
4% by weight.
【0095】(その他)本発明で用いられる現像液およ
び補充液には、更に必要に応じて、消泡剤および硬水軟
化剤などを含有させることもできる。硬水軟化剤として
は例えば、ポリリン酸およびそのナトリウム塩、カリウ
ム塩およびアンモニウム塩、エチレンジアミンテトラ酢
酸、ジエチレントリアミンペンタ酢酸、トリエチレンテ
トラミンヘキサ酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミ
ントリ酢酸、ニトリロトリ酢酸、1,2−ジアミノシク
ロヘキサンテトラ酢酸および1,3−ジアミノ−2−プ
ロパノールテトラ酢酸などのアミノポリカルボン酸およ
びそれらのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウ
ム塩、アミノトリ(メチレンホスホン酸)、エチレンジ
アミンテトラ(メチレンホスホン酸)、ジエチレントリ
アミンペンタ(メチレンホスホン酸)、トリエチレンテ
トラミンヘキサ(メチレンホスホン酸)、ヒドロキシエ
チルエチレンジアミントリ(メチレンホスホン酸)およ
び1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸やそれ
らのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩を
挙げることができる。(Others) The developer and replenisher used in the present invention may further contain an antifoaming agent and a water softener, if necessary. Examples of water softeners include polyphosphoric acid and its sodium, potassium, and ammonium salts, ethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, triethylenetetraminehexaacetic acid, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, nitrilotriacetic acid, 1,2-diaminocyclohexanetetraacetic acid. Aminopolycarboxylic acids such as acetic acid and 1,3-diamino-2-propanoltetraacetic acid and their sodium, potassium and ammonium salts, aminotri (methylenephosphonic acid), ethylenediaminetetra (methylenephosphonic acid), diethylenetriaminepenta (methylene Phosphonic acid), triethylenetetraminehexa (methylenephosphonic acid), hydroxyethylethylenediaminetri (methylenephosphonic acid) and 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid and their sodium salts, potassium salts and ammonium salts.
【0096】このような硬水軟化剤はそのキレート化力
と使用される硬水の硬度および硬水の量によって最適値
が変化するが、一般的な使用量を示せば、使用時の現像
液に0.01〜5重量%、より好ましくは0.01〜
0.5重量%の範囲である。この範囲より少ない添加量
では所期の目的が十分に達成されず、添加量がこの範囲
より多い場合は、色抜けなど、画像部への悪影響がでて
くる。The optimum value of such a water softener varies depending on the chelating power, the hardness of the hard water used and the amount of the hard water. 01 to 5% by weight, more preferably 0.01 to 5% by weight
It is in the range of 0.5% by weight. If the added amount is less than this range, the intended purpose is not sufficiently achieved, and if the added amount is larger than this range, an adverse effect on an image portion such as color omission appears.
【0097】現像液および補充液の残余の成分は水であ
るが、更に必要に応じて当業界で知られた種々の添加剤
を含有させることができる。The remaining component of the developer and replenisher is water, but may further contain various additives known in the art, if necessary.
【0098】本発明に用いられる現像液および補充液は
使用時よりも水の含有量を少なくした濃縮液としてお
き、使用時に水で希釈するようにしておくことが運搬上
有利である。この場合の濃縮度は各成分が分離や析出を
起こさない程度が適当である。It is advantageous from the viewpoint of transportation that the developing solution and the replenishing solution used in the present invention are concentrated solutions in which the content of water is smaller than that at the time of use, and are diluted with water at the time of use. The degree of concentration in this case is suitably such that each component does not cause separation or precipitation.
【0099】現像液温度は15〜40℃が好ましく、更
に好ましくは20〜35℃である。現像時間は5〜60
秒が好ましく、更に好ましくは7〜40秒である。The temperature of the developing solution is preferably from 15 to 40 ° C., more preferably from 20 to 35 ° C. Development time is 5-60
Seconds are preferred, and more preferably 7 to 40 seconds.
【0100】また、現像部24の現像液液面には、液面
蓋73が配置されている。この液面蓋73は、下面が現
像槽70に貯留される現像液の液面より下方となるよう
に配置されている。この液面蓋73により、現像槽70
内の現像液の液面が空気と接触する面積を狭め、空気中
の炭酸ガスによる現像液の劣化と現像液中の水分の蒸発
を抑えている。A liquid surface cover 73 is disposed on the developer liquid surface of the developing section 24. The liquid surface cover 73 is arranged so that the lower surface is lower than the liquid surface of the developer stored in the developing tank 70. The liquid level cover 73 allows the developing tank 70
The area where the liquid level of the developing solution in the inside comes into contact with air is narrowed, thereby suppressing the deterioration of the developing solution and the evaporation of moisture in the developing solution due to carbon dioxide in the air.
【0101】また、現像槽70の内部の現像液中には、
底部中央部が下方に向けて突出する内面が略逆山形状の
ガイド板77がされている。このガイド板77は、複数
の自由回転するコロ(小型のローラ;図示せず)が回転
軸をPS版110の搬送方向と直交する方向に並列して
配置された構成であり、現像部24へ送り込まれたPS
版110をコロによって案内しながら搬送する。このと
き、コロが回転するため、PS版110に摺動による傷
付きが発生しない。In the developing solution inside the developing tank 70,
A guide plate 77 having a substantially inverted mountain shape is formed on the inner surface of which the bottom center portion projects downward. The guide plate 77 has a configuration in which a plurality of freely rotating rollers (small rollers; not shown) are arranged with their rotating shafts arranged in parallel in a direction orthogonal to the transport direction of the PS plate 110. PS sent
The plate 110 is transported while being guided by rollers. At this time, since the rollers rotate, the PS plate 110 is not damaged by sliding.
【0102】また、ガイド板77の最低位置に向かう途
中の現像液中に、第1スプレーパイプ78が設けられて
いる。第1スプレーパイプ78は、PS版110の搬送
方向と直交する方向に沿って配置された複数のスプレー
パイプにより構成され、各スプレーパイプから現像液を
PS版110の表面へ噴射することにより、PS版11
0の現像処理を促進すると同時に、現像槽70内の現像
液を循環させる役割を果たす。A first spray pipe 78 is provided in the developing solution on the way to the lowest position of the guide plate 77. The first spray pipe 78 is composed of a plurality of spray pipes arranged along a direction orthogonal to the transport direction of the PS plate 110, and sprays a developer from each spray pipe onto the surface of the PS plate 110, thereby forming a PS. Edition 11
In addition to promoting the development process of No. 0, it plays a role of circulating the developer in the developing tank 70.
【0103】また、ガイド板77の最低位置から下流側
に沿って、PS版110の上面に対応する位置には、第
1回転ブラシローラ71a、第2回転ブラシローラ71
bが設けられており、第1回転ブラシローラ71a及び
第2回転ブラシローラ71bは、それぞれ図示しない駆
動手段により駆動されて、PS版110の搬送方向に回
転する。Along the downstream side from the lowest position of the guide plate 77, the first rotating brush roller 71a and the second rotating brush roller 71 are located at positions corresponding to the upper surface of the PS plate 110.
The first rotating brush roller 71a and the second rotating brush roller 71b are driven by driving means (not shown) to rotate in the transport direction of the PS plate 110.
【0104】現像部24の最終段位置には、現像液の液
面よりも上方の位置に挟持部が配置された送り出しロー
ラ対75が設けられており、この送り出しローラ対75
は、現像液中に設けられたガイド板77に沿って搬送さ
れたPS版110を挟持して現像部24から送り出す。
このとき、PS版110の表面に付着した現像液が絞り
落とされる。At the final stage position of the developing section 24, there is provided a delivery roller pair 75 in which a holding section is disposed above the liquid level of the developing solution.
, Sandwiches the PS plate 110 conveyed along the guide plate 77 provided in the developing solution and sends it out from the developing unit 24.
At this time, the developer adhering to the surface of the PS plate 110 is squeezed.
【0105】すなわち、第1水洗部22から送り出され
たPS版110は、現像部24の引き込みローラ対72
により水平方向に対して約15°から31°の範囲の角
度で現像部24に引き込まれ、現像液中に設けられたガ
イド板77の表面に沿って搬送される。このとき、PS
版110は現像液に浸漬されて、続いてガイド板77の
最低位置に向かう途中に設けられた第1スプレーパイプ
78によって噴射された現像液により光重合性感光層の
未現像部分が確実に膨潤(すなわち現像)される。That is, the PS plate 110 sent out from the first washing section 22 is supplied to the draw roller pair 72 of the developing section 24.
Is drawn into the developing unit 24 at an angle in the range of about 15 ° to 31 ° with respect to the horizontal direction, and is conveyed along the surface of the guide plate 77 provided in the developing solution. At this time, PS
The plate 110 is immersed in the developing solution, and then the undeveloped portion of the photopolymerizable photosensitive layer is reliably swollen by the developing solution sprayed by the first spray pipe 78 provided on the way to the lowest position of the guide plate 77. (Ie, developed).
【0106】PS版110はガイド板77の最低位置か
ら下流側に向かう際に、第1回転ブラシローラ71a、
第2回転ブラシローラ71bの順に表面が擦られて、膨
潤した光重合性感光層の未現像部分が擦り落される。さ
らに、PS版110はガイド板77の最終端位置から送
り出しローラ対75に保持されることにより現像液中か
ら引出され、送り出しローラ対75に送り出される際に
表裏面に付着した現像液が絞り落とされて、現像部24
の後段に設けられた第2水洗部26に送り出される。When the PS plate 110 moves downstream from the lowest position of the guide plate 77, the first rotating brush roller 71a,
The surface is rubbed in the order of the second rotating brush roller 71b, and the undeveloped portion of the swollen photopolymerizable photosensitive layer is rubbed off. Further, the PS plate 110 is pulled out from the developing solution by being held by the feed roller pair 75 from the final end position of the guide plate 77, and the developing solution attached to the front and back surfaces when being sent to the feed roller pair 75 is squeezed. And the developing unit 24
To the second washing section 26 provided at the subsequent stage.
【0107】第2水洗部26は、図2に示すように、第
2水洗槽90、二対の搬送ローラ対92、94、第2ス
プレーパイプ96、及び第3スプレーパイプ98を備
え、現像処理されたPS版110を洗浄水により洗浄し
てPS版110に付着した現像液を完全に除去する。As shown in FIG. 2, the second washing section 26 includes a second washing tank 90, two pairs of conveying rollers 92 and 94, a second spray pipe 96, and a third spray pipe 98. The PS plate 110 thus washed is washed with washing water to completely remove the developer adhering to the PS plate 110.
【0108】二対の搬送ローラ対92、94は、第2水
洗槽90の上方で、かつ、第2水洗部26のPS版11
0引き込み位置と送り出し位置とに設けられている。こ
れらの搬送ローラ対92、94は、PS版110の搬送
路を形成しており、図示しない駆動手段の駆動力を受け
て回転し、現像部24から送り込まれたPS版110を
挟持搬送する。The two pairs of transport rollers 92 and 94 are located above the second washing tank 90 and in the PS plate 11 of the second washing section 26.
It is provided at the zero retract position and the feed position. The transport roller pairs 92 and 94 form a transport path for the PS plate 110, rotate by receiving a driving force of a driving unit (not shown), and pinch and transport the PS plate 110 sent from the developing unit 24.
【0109】二対の搬送ローラ対92、94の間には、
PS版110の搬送路を挟んで上方と下方とのそれぞれ
に、第2スプレーパイプ96、第3スプレーパイプ98
が配設されている。Between the two pairs of transport rollers 92 and 94,
A second spray pipe 96 and a third spray pipe 98 are provided above and below the PS plate 110 conveyance path, respectively.
Are arranged.
【0110】第2スプレーパイプ96は、前述した水貯
留層84からポンプPによって水を汲み上げ、第2水洗
槽90内に水を補給する。第3スプレーパイプ98は、
PS版110の搬送方向と直交する方向に沿って配置さ
れた複数のスプレーパイプにより構成され、それぞれP
S版110の搬送に同期して洗浄水をPS版110の表
面へ噴射することにより、PS版110の幅方向にわた
って洗浄水を噴射する。The second spray pipe 96 pumps up water from the water storage layer 84 by the pump P, and replenishes the second washing tank 90 with water. The third spray pipe 98
It is constituted by a plurality of spray pipes arranged along a direction orthogonal to the transport direction of the PS plate 110,
By injecting the cleaning water onto the surface of the PS plate 110 in synchronization with the transport of the S plate 110, the cleaning water is jetted across the width of the PS plate 110.
【0111】この第3スプレーパイプ98は、後述する
貯留タンク93からポンプPによって汲み上げられた洗
浄水をPS版110の表面側に向かって噴射する。これ
によってPS版110が水洗され、現像液が完全に除去
される。The third spray pipe 98 injects washing water pumped up by a pump P from a storage tank 93 described later toward the surface of the PS plate 110. As a result, the PS plate 110 is washed with water, and the developer is completely removed.
【0112】なお、第3スプレーパイプ98から噴射さ
れた洗浄水は、PS版110の表面を速やかに広がっ
て、PS版110を水洗すると、PS版110が搬送ロ
ーラ94によって後段のフィニッシャー部に送り出され
る際に、PS版110から絞り落とされる。The washing water sprayed from the third spray pipe 98 spreads quickly on the surface of the PS plate 110, and when the PS plate 110 is washed with water, the PS plate 110 is sent out to the finisher section at the subsequent stage by the transport roller 94. At the same time, it is squeezed from the PS plate 110.
【0113】また、第2水洗槽90には、第3オーバー
フロー管91が設けられている。この第3オーバーフロ
ー管91は、第2水洗槽90内の水位が上がって管内に
流れ込んだ洗浄水を貯留タンク93に導くことにより、
第2水洗槽90内の水位を常に一定に保つ。貯留タンク
93には、ポンプPが設けられており、このポンプPに
より貯留した洗浄水を汲み上げて、第3スプレーパイプ
98に供給する。The second washing tank 90 is provided with a third overflow pipe 91. The third overflow pipe 91 guides the washing water flowing into the pipe by raising the water level in the second washing tank 90 to the storage tank 93,
The water level in the second washing tank 90 is always kept constant. The storage tank 93 is provided with a pump P, and the stored cleaning water is pumped up by the pump P and supplied to the third spray pipe 98.
【0114】すなわち、現像部24から送り出されたP
S版110は、第2水洗部26の引き込み位置に設けら
れた搬送ローラ対92により第2水洗部26に引き込ま
れ、第2水洗漕の上層に形成された搬送路を通過する際
に、第2スプレーパイプ96及び第3スプレーパイプ9
8から噴射された洗浄水により両面が洗浄され、第2水
洗部26の送り出し位置に設けられた搬送ローラ対94
により付着する洗浄水が絞り落されて、第2水洗部26
から送り出される。That is, P sent from the developing unit 24
The S plate 110 is drawn into the second washing unit 26 by the pair of conveying rollers 92 provided at the position where the second washing unit 26 is drawn in, and passes through the conveying path formed in the upper layer of the second washing tank. 2 spray pipe 96 and third spray pipe 9
8 is washed on both sides by the washing water sprayed from the second washing unit 26, and a pair of transport rollers 94 provided at the delivery position of the second washing unit 26.
The washing water that adheres to the second washing section 26
Sent out from.
【0115】第2水洗部26の後段には、フィニッシャ
ー部28が設けられている。このフィニッシャー部28
は、ガム液槽100とガム液をPS版110の表面に噴
射するガム液噴射ノズル102及び、搬送ローラ対10
4とを備え、水洗後のPS版110にガム液を塗布して
不感脂化処理する。ガム液槽100も他の槽と同様にオ
ーバーフロー管が設けられており、槽内の水位が常に一
定に保たれるように調整されている。A finisher section 28 is provided at a stage subsequent to the second water washing section 26. This finisher section 28
Are a gum solution tank 100 and a gum solution spray nozzle 102 for spraying the gum solution onto the surface of the PS plate 110;
The gum solution is applied to the PS plate 110 after washing with water to desensitize it. The gum solution tank 100 is provided with an overflow pipe similarly to the other tanks, and is adjusted so that the water level in the tank is always kept constant.
【0116】第2水洗部26から送り出されたPS版1
10は、フィニッシャー部28を通過する際に、ガム液
噴射ノズル102から表面の画像形成側にガム液が噴射
された後、フィニッシャー部28の送り出し位置に設け
られた搬送ローラ対104により付着するガム液が絞り
落されて、フィニッシャー部28から送り出される。The PS plate 1 sent out from the second washing section 26
Reference numeral 10 denotes a gum that is ejected from the gum solution ejecting nozzle 102 to the image forming side of the surface when passing through the finisher unit 28, and then adheres to the conveying roller pair 104 provided at the delivery position of the finisher unit 28. The liquid is squeezed and sent out from the finisher unit 28.
【0117】フィニッシャー部28の後段には、乾燥部
29が設けられており、PS版110が乾燥部29を通
過する際に、乾燥処理されて外部に排出される。なお、
乾燥部29としては公知の構成を適用できるためここで
は説明は省略する。A drying section 29 is provided downstream of the finisher section 28. When the PS plate 110 passes through the drying section 29, the PS plate 110 is dried and discharged to the outside. In addition,
Since a known configuration can be applied to the drying unit 29, the description is omitted here.
【0118】なお、本実施の形態の製版システムに使用
するPS版は、光重合性の感光層と該感光層を保護する
オーバーコート層(保護層)を含むものであればよいが、
好ましくは、アルミニウム板に親水化処理を施した支持
体上に、付加重合可能なエチレン性二重結合を有する化
合物と波長450nm以上の光で活性化する光重合開始
系と架橋性基を側鎖に有する重合体とを含有する光重合
性感光層を有するものを使用すると良い。The PS plate used in the plate making system of the present embodiment may be any as long as it includes a photopolymerizable photosensitive layer and an overcoat layer (protective layer) for protecting the photosensitive layer.
Preferably, a compound having an addition-polymerizable ethylenic double bond, a photopolymerization initiation system activated by light having a wavelength of 450 nm or more, and a crosslinkable group are provided on a support obtained by subjecting an aluminum plate to a hydrophilic treatment. It is preferable to use a material having a photopolymerizable photosensitive layer containing the polymer having the above.
【0119】以下、好適なPS版について詳細に説明す
る。 〔アルミニウム支持体〕まず、PS版のアルミニウム支
持体は、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とする金
属であり、アルミニウムまたはアルミニウム合金からな
る。純アルミニウム板の他、アルミニウムを主成分と
し、微量の異元素を含む合金板、又はアルミニウム(合
金)がラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィ
ルム又は紙の中から選ばれる。更に、特公昭48−18
327号に記載されているようなポリエチレンテレフタ
レートフィルム上にアルミニウムシー卜が結合された複
合体シートでもかまわない。Hereinafter, a preferred PS plate will be described in detail. [Aluminum Support] First, the aluminum support of the PS plate is a dimensionally stable metal containing aluminum as a main component, and is made of aluminum or an aluminum alloy. In addition to a pure aluminum plate, it is selected from an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element, or a plastic film or paper on which aluminum (alloy) is laminated or evaporated. Furthermore, Japanese Patent Publication No. 48-18
No. 327, a composite sheet in which an aluminum sheet is bonded on a polyethylene terephthalate film may be used.
【0120】以下の説明において、上記に挙げたアルミ
ニウムまたはアルミニウム合金からなる基板をアルミニ
ウム基板と総称して用いる。前記アルミニウム合金に含
まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネ
シウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンな
どがあり、合金中の異元素の含有量は10重量%以下で
ある。本発明では純アルミニウム板が好適であるが、完
全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難である
ので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このよう
に本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特
定されるものではなく、従来より公知公用の素材のも
の、例えばJIS A 1050、JISA 110
0、JIS A 3103、JIS A 3005など
を適宜利用することができる。In the following description, the above-mentioned substrates made of aluminum or aluminum alloy are collectively used as aluminum substrates. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel and titanium, and the content of the foreign elements in the alloy is 10% by weight or less. In the present invention, a pure aluminum plate is preferable, but completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and any of conventionally known and used materials such as JIS A 1050 and JISA 110 can be used.
0, JIS A 3103, JIS A 3005, and the like can be used as appropriate.
【0121】また、本発明に用いられるアルミニウム基
板の厚みは、およそ0.1mm〜0.6mm程度であ
る。この厚みは印刷機の大きさ、印刷版の大きさ及びユ
ーザーの希望により適宜変更することができる。 〔親水化処理〕上述したアルミニウム基板には、後述す
る砂目立て等の処理が適宜施された後、基板表面にシリ
ケート、またはポリビエルホスホン酸等による親水化処
理が施される。皮膜はSi、またはP元素量として2〜
40mg/m2、より好ましくは4〜30mg/m2形成
される。なお、塗布量は蛍光X線分析法により測定でき
る。The thickness of the aluminum substrate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm. This thickness can be appropriately changed according to the size of the printing press, the size of the printing plate, and the user's request. [Hydrophilic treatment] The above-mentioned aluminum substrate is appropriately subjected to a treatment such as graining described later, and then the surface of the substrate is subjected to a hydrophilic treatment with silicate or polyvinylphosphonic acid or the like. The film has a Si or P element content of 2 to
40 mg / m 2, more preferably from 4 to 30 mg / m 2 formed. In addition, the coating amount can be measured by a fluorescent X-ray analysis method.
【0122】上記の親水化処理は、アルカリ金属ケイ酸
塩、またはポリビニルホスホン酸が1〜30重量%、好
ましくは2〜15重量%であり、25℃のpHが10〜
13である水溶液に、陽極酸化皮膜が形成されたアルミ
ニウム基板を、例えば15〜80℃で0.5〜120秒
浸漬する。In the above-mentioned hydrophilization treatment, the alkali metal silicate or polyvinylphosphonic acid is 1 to 30% by weight, preferably 2 to 15% by weight, and the pH at 25 ° C. is 10 to 10% by weight.
The aluminum substrate on which the anodized film is formed is immersed in the aqueous solution of No. 13 at, for example, 15 to 80 ° C. for 0.5 to 120 seconds.
【0123】また、アルカリ金属ケイ酸塩としては、ケ
イ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムなど
が使用できる。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液のpHを高
くするために使用される水酸化物としては水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがある。As the alkali metal silicate, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate and the like can be used. Hydroxides used to increase the pH of the aqueous alkali metal silicate solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and lithium hydroxide.
【0124】なお、上記の処理液にアルカリ土類金属塩
もしくは第IVB族金属塩を配合してもよい。アルカリ
土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ストロレン
チウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのような硝酸
塩や、硫酸塩、塩酸塩、リン酸塩、酢酸塩、シュウ酸
塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。Incidentally, an alkaline earth metal salt or a Group IVB metal salt may be added to the above-mentioned treatment liquid. Alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strolentium nitrate, magnesium nitrate and barium nitrate, and aqueous solutions such as sulfates, hydrochlorides, phosphates, acetates, oxalates and borates. Salts.
【0125】第IVB族金属塩として、四塩化チタン、
三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ酸チタン
カリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジル
コニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウ
ム、四塩化ジルコニウムなどを挙げることができる。As the Group IVB metal salt, titanium tetrachloride,
Examples thereof include titanium trichloride, potassium titanium fluoride, potassium potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, zirconium dioxide, zirconium oxychloride, and zirconium tetrachloride.
【0126】アルカリ土類金属塩もしくは、第IVB族
金属塩は単独又は2以上組み合わせて使用することがで
きる。これらの金属塩の好ましい範囲は0.01〜10
重量%であり、更に好ましい範囲は0.05〜5.0重
量%である。The alkaline earth metal salts or Group IVB metal salts can be used alone or in combination of two or more. The preferred range of these metal salts is 0.01 to 10
% By weight, and a more preferred range is 0.05 to 5.0% by weight.
【0127】また、米国特許第3,658,662号明
細書に記載されているようなシリケート電着も有効であ
る。更に、特公昭46−27481号、特開昭52−5
8602号、特開昭52−30503号に開示されてい
るような電解グレインを施した支持体と、上記陽極酸化
処理および親水化処理を組合せた表面処理も有用であ
る。Further, silicate electrodeposition as described in US Pat. No. 3,658,662 is also effective. Further, JP-B-46-27481 and JP-A-52-5
No. 8602 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-30503 are also useful in combination with a support provided with electrolytic grains and a surface treatment combining the above-described anodic oxidation treatment and hydrophilic treatment.
【0128】〔親水性下塗り層〕このようにしてシリケ
ート処理されたアルミニウム基板上には必要に応じて下
記親水性下塗り層を設けることができる。[Hydrophilic undercoat layer] The following hydrophilic undercoat layer can be provided on the silicate-treated aluminum substrate as needed.
【0129】水溶性の樹脂、例えばポリビニルホスホン
酸、スルホン酸基を側鎖に有する重合体および共重合
体、ポリアクリル酸、水溶性金属塩(例えば硼酸亜鉛)
もしくは、黄色染料、アミン塩等を下塗りしたものも好
適である。Water-soluble resins, for example, polyvinylphosphonic acid, polymers and copolymers having a sulfonic acid group in the side chain, polyacrylic acid, water-soluble metal salts (for example, zinc borate)
Alternatively, a primer coated with a yellow dye, an amine salt or the like is also suitable.
【0130】この有機(樹脂)下塗層に用いられる有機
化合物としては例えば、カルボキシメチルセルロース、
デキストリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホ
ン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有
してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、
アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジ
ホスホン酸およびエチレンジホスホン酸などの有機ホス
ホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチ
ルリン酸、アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの
有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン
酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およ
びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン殿、グリ
シンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、およびトリエタ
ノールアミンの塩酸塩などのとドロキンル基を有するア
ミンの塩酸塩などから選ばれるが、二種以上混合して用
いてもよい。Examples of the organic compound used in the organic (resin) undercoat layer include carboxymethyl cellulose,
Dextrin, gum arabic, phosphonic acids having an amino group such as 2-aminoethylphosphonic acid, phenylphosphonic acid which may have a substituent, naphthylphosphonic acid,
Organic phosphonic acids such as alkyl phosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylene diphosphonic acid and ethylene diphosphonic acid, phenylphosphoric acid which may have a substituent, naphthyl phosphoric acid, organic phosphoric acid such as alkyl phosphoric acid and glycerophosphoric acid, Organic phosphines such as phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid which may have a substituent, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydroquinol such as triethanolamine hydrochloride It is selected from hydrochlorides of amines having a group, but may be used as a mixture of two or more kinds.
【0131】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことができる。即ち、水またはメタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれら
の混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアル
ミニウム基板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水また
はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの
有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物
を溶解させた溶液に、アルミニウム基板を浸漬して上記
有機化合物を吸着させ、しかる後、水などによって洗
浄、乾燥して有機下塗層を設ける方法である。前者の方
法では、上記の有機化合物の0.005〜10重量%の
濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコ
ーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布な
どいずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法で
は、溶液の濃度は0.01〜20重量%、好ましくは
0.05〜5重量%であり、浸漬温度は20〜90℃、
好ましくは25〜50℃であり、浸債時間は0.1秒〜
20分、好ましくは2秒〜1分である。The organic undercoat layer can be provided by the following method. That is, a method in which a solution obtained by dissolving the above organic compound in water or an organic solvent such as methanol, ethanol, or methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is applied to an aluminum substrate and dried to form a solution, and water or methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or the like. An aluminum substrate is immersed in a solution obtained by dissolving the above organic compound in an organic solvent or a mixed solvent thereof to adsorb the organic compound, and then washed with water and dried to form an organic undercoat layer. Is the way. In the former method, a solution of the above organic compound having a concentration of 0.005 to 10% by weight can be applied by various methods. For example, any method such as bar coater coating, spin coating, spray coating, and curtain coating may be used. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight, and the immersion temperature is 20 to 90 ° C.
Preferably, the temperature is 25 to 50 ° C., and the immersion time is 0.1 second to
20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute.
【0132】これに用いる溶液はアンモニア、トリエチ
ルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、
リン酸などの酸性物質によりpHを調節し、pH1〜1
2の範囲で使用することもできる。また、光重合性平版
印刷版の調子再現性改良のために、黄色染料を添加する
こともできる。The solution used here may be a basic substance such as ammonia, triethylamine or potassium hydroxide, hydrochloric acid,
The pH is adjusted with an acidic substance such as phosphoric acid,
2 can be used. Further, a yellow dye can be added for improving the tone reproducibility of the photopolymerizable lithographic printing plate.
【0133】有機下塗層の乾燥後の被覆量は、2〜20
0mg/m2が適当であり、好ましくは5〜100mg
/m2である。上記の被覆量が2mg/m2より少ないと
十分な耐刷性が得られない。また、200mg/m2よ
り大きくても同様である。The coating amount of the organic undercoat layer after drying is from 2 to 20.
0 mg / m 2 is suitable, preferably 5 to 100 mg.
/ M 2 . If the coating amount is less than 2 mg / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. The same is true even if it is larger than 200 mg / m 2 .
【0134】またアルミニウム支持体は、途中更にフッ
化ジルコニウム酸カリウム、リン酸塩等の水溶液への浸
漬処理などの表面処理がなされてもかまわない。 〔光重合性感光層〕本発明で用いられる光重合性感光層
の主な成分は、付加重合可能なエチレン性二重結合を含
む化合物、光重合開始剤、有機高分子結合剤等であり、
必要に応じ、着色剤、可塑剤、熱重合禁止剤等の種々の
化合物が添加される。The aluminum support may be further subjected to a surface treatment such as immersion in an aqueous solution of potassium fluorozirconate, phosphate or the like. (Photopolymerizable photosensitive layer) The main components of the photopolymerizable photosensitive layer used in the present invention is a compound containing an addition-polymerizable ethylenic double bond, a photopolymerization initiator, an organic polymer binder and the like,
If necessary, various compounds such as a coloring agent, a plasticizer, and a thermal polymerization inhibitor are added.
【0135】付加重合可能な二重結合を含む化合物は、
末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましく
は2個以上有する化合物の中から任意に選択することが
できる。The compound containing an addition-polymerizable double bond is
It can be arbitrarily selected from compounds having at least one, preferably two or more terminal ethylenically unsaturated bonds.
【0136】例えばモノマー、プレポリマー、すなわち
2量体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合
物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつも
のである。For example, they have a chemical form such as a monomer, a prepolymer, ie, a dimer, a trimer and an oligomer, or a mixture thereof and a copolymer thereof.
【0137】モノマーおよびその共重合体の例として
は、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリ
ル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレ
イン酸など)と脂肪族多価アルコール化合物とのエステ
ル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのア
ミド等が挙げられる。Examples of monomers and copolymers thereof include esters of unsaturated carboxylic acids (eg, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.) and aliphatic polyhydric alcohol compounds. And amides of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyamine compounds.
【0138】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソル
ビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリ
レート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトー
ルヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチ
ル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリ
ゴマー等がある。Specific examples of the ester monomer of the aliphatic polyhydric alcohol compound and the unsaturated carboxylic acid include acrylates such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, and 1,3.
-Butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate 1,4-cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol Triacry Over DOO, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer.
【0139】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペシタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレー
ト、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールナ
トラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキ
シ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェエル〕ジメチルメ
タン、ビス〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニ
ル〕ジメチルメタン等がある。Examples of the methacrylate include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, and 1,3-butanediol. Dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipesitaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol natramethacrylate , There is bis [p- (3--methacryloxy-2-hydroxypropoxy) Feeru] dimethyl methane, bis [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.
【0140】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。Examples of itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate,
There are 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate, sorbitol tetritaconate and the like.
【0141】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。The crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate,
Sorbitol tetradicrotonate and the like.
【0142】イソクロトン酸エステルとしては、エチレ
ングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトー
ルジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロト
ネート等がある。Examples of the isocrotonic acid ester include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.
【0143】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。Examples of the maleic acid ester include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.
【0144】さらに、前述のエステルモノマーの混合物
も挙げることができる。Further, a mixture of the above-mentioned ester monomers can also be mentioned.
【0145】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。Specific examples of the amide monomer of the aliphatic polyamine compound and the unsaturated carboxylic acid include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6- Hexamethylene bis-methacrylamide,
Examples include diethylenetriaminetrisacrylamide, xylylenebisacrylamide, xylylenebismethacrylamide, and the like.
【0146】その他の例としては、特公昭48−417
08号公報中に記載されている1分子中に2個以上のイ
ソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、
下記の一般式(A)で示される水酸基を含有するビニル
モノマーを付加せしめた1分子中に2個以上の重合性ビ
ニル基を含有するビエルウレタン化合物等が挙げられ
る。Other examples are described in JP-B-48-417.
08 polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule described in
A bierurethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule to which a hydroxyl group-containing vinyl monomer represented by the following general formula (A) is added is exemplified.
【0147】 CH2=C(R5)COOCH2CH(R6)OH……(A) (ただし、R5およびR6はHまたはCH3を示す。) また、特開昭51−37193号に記載されているよう
なウレタンアクリレート類、特開昭48−64183
号、特公昭49−43191号、特公昭52−3049
0号各公報に記載されているようなポリエステルアクリ
レート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応さ
せたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレート
やメタクリレートを挙げることができる。さらに日本接
着協会誌vol.20、No.7、300〜308ペー
ジ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマー
として紹介されているものも使用することができる。な
お、これらの使用量は、全成分に対して5〜70重量%
(以下%と略称する。)、好ましくは10〜50%であ
る。CH 2 CC (R 5 ) COO 2 CH (R 6 ) OH (A) (where R 5 and R 6 represent H or CH 3 ). Urethane acrylates described in JP-A-48-64183.
No., JP-B-49-43191, JP-B-52-3049
Polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid as described in JP-A Nos. 0-104, and 2005-112, respectively. Further, the Journal of the Adhesion Society of Japan vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984) as photocurable monomers and oligomers can also be used. In addition, the amount of these used is 5-70 weight% with respect to all components.
(Hereinafter abbreviated as%), preferably 10 to 50%.
【0148】光重合開始剤としては、使用する光源の波
長により、特許、文献等で公知である種々の光開始剤、
あるいは2種以上の光開始剤の併用系(光開始系)を適
宜選択して使用することができる。Examples of the photopolymerization initiator include various photoinitiators known in patents and literatures, depending on the wavelength of the light source used.
Alternatively, a combination system (photoinitiating system) of two or more photoinitiators can be appropriately selected and used.
【0149】450nm以上の可視光線、Arレーザ
ー、半導体レーザーの第2高調波、SHG−YAGレー
ザーを光源とする場合にも、種々の光開始系が提案され
ており、例えば米国特許第2,850,445号に記載
のある種の光還元性染料、例えばローズベンガル、エオ
シン、エリスロシンなど、あるいは、染料と開始剤との
組み合わせによる系、例えば染料とアミンの複合開始系
(特公昭44−20189号)、ヘキサアリールビイミ
ダゾールとラジカル発生剤と染料との併用系(特公昭4
5−37377号)、ヘキサアリールビイミダゾールと
p−ジアルキルアミノベンジリデンケトンの系(特公昭
47−2528号、特開昭54−155292号)、環
状シス−α−ジカルボニル化合物と染料の系(特開昭4
8−84183号)、環状トリアジンとメロシアニン色
素の系(特開昭54−151024号)、3−ケトクマ
リンと活性剤の系(時開昭52−112681号、特開
昭58−15503号)、ビイミダゾール、スチレン誘
導体、チオールの系(特開昭59−140203号)、Various light-initiating systems have been proposed when using visible light of 450 nm or more, an Ar laser, the second harmonic of a semiconductor laser, or an SHG-YAG laser as a light source. For example, US Pat. No. 2,850. Certain photoreducing dyes, for example, rose bengal, eosin, erythrosine, and the like, or a system using a combination of a dye and an initiator, for example, a complex starting system of a dye and an amine (Japanese Patent Publication No. 44-20189). ), A combination of hexaarylbiimidazole, a radical generator and a dye (Japanese Patent Publication No. Sho 4)
5-37377), a system of hexaarylbiimidazole and p-dialkylaminobenzylidene ketone (JP-B-47-2528, JP-A-54-155292), and a system of a cyclic cis-α-dicarbonyl compound and a dye ( Kaisho 4
8-84183), a system of a cyclic triazine and a merocyanine dye (JP-A-54-151024), a system of 3-ketocoumarin and an activator (Tokikai Sho 52-112681, JP-A 58-15503), A system of imidazole, a styrene derivative, and a thiol (JP-A-59-140203);
【0150】有機過酸化物と色素の系(特開昭59−1
504号、特開昭59−140203号、特開昭59−
189340号、特開昭62−174203号、特公昭
62−1641号、米国特許第4766055号)、染
料と活性ハロゲン化合物の系(特開昭63−17181
05号、特開昭63−258903号、特願平2−63
054号など)、染料とボレート化合物の系(特開昭6
2−143044号、特開昭62−150242号、特
開昭64−13140号、特開昭64−13141号、
特開昭64−13142号、特開昭64−13143
号、特開昭64−13144号、特開昭64−1704
8号、特開平1−229003号、特開平1−2983
48号、特開平1−138204号など)、ローダニン
環を有する色素とラジカル発生剤の系(特開平2−17
9643号、特開平2−244050号)、チタノセン
と3−ケトクマリン色素の系(特開昭63−22111
0号)、チタノセンとキサンテン色素さらにアミノ基あ
るいはウレタン基を含む付加重合可能なエチレン性不飽
和化合物を組み合わせた系(特開平4−221958
号、特開平4−219756号)、チタノセンと特定の
メロシアニン色素の系(特開平6−295061号)、
チタノセンとベンゾピラン環を有する色素の系(特願平
7−164583)等を挙げることができる。Organic peroxide and dye system (Japanese Unexamined Patent Publication No.
No. 504, JP-A-59-140203, JP-A-59-140203
No. 189340, JP-A-62-174203, JP-B-62-1641, U.S. Pat. No. 4,766,055), a system of a dye and an active halogen compound (JP-A-63-17181).
No. 05, JP-A-63-258903, Japanese Patent Application No. 2-63
No. 054), a system of a dye and a borate compound (JP-A-6
2-143044, JP-A-62-150242, JP-A-64-13140, JP-A-64-13141,
JP-A-64-13142, JP-A-64-13143
JP-A-64-13144, JP-A-64-1704
8, JP-A-1-229003, JP-A-1-2983
No. 48, JP-A-1-138204, etc., and a system of a dye having a rhodanine ring and a radical generator (JP-A No. 2-17)
No. 9643, JP-A-2-244050), a system of titanocene and 3-ketocoumarin dye (JP-A-63-22111).
No. 0), a system in which a titanocene is combined with a xanthene dye and an addition-polymerizable ethylenically unsaturated compound containing an amino group or a urethane group (JP-A-4-221958)
JP-A-4-219756), a system of titanocene and a specific merocyanine dye (JP-A-6-295061),
A dye system having a titanocene and a benzopyran ring (Japanese Patent Application No. Hei 7-164585) can be exemplified.
【0151】本発明において光重合性開始系として用い
られるチタノセン化合物は、前記した増感色素との共存
下で光照射した場合、活性ラジカルを発生し得るチタノ
セン化合物であればいずれであってもよく、例えば、特
開昭59−152396号、特開昭61−151197
号公報に記載されている公知の化合物を適宜に選択して
用いることができる。The titanocene compound used as a photopolymerizable initiation system in the present invention may be any titanocene compound capable of generating an active radical when irradiated with light in the presence of the above-described sensitizing dye. For example, JP-A-59-152396, JP-A-61-151197
A known compound described in JP-A No. 5-211 can be appropriately selected and used.
【0152】さらに具体的には、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニ
ル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル
−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフ
ェニ−1−イル(以下「A−1」ともいう。)、ジ−シ
クロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テ
トラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−
1−イル、ジ−シクロペンタジフェニル−Ti−ビス−
2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペン
タジエニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニ−
1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビ
ス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−
イル(以下「A−2」ともいう。)、ジ−メチルシクロ
ペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラ
フルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジ
エニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニ−1−
イル、ビス(シクロペンタジエエル)−ビス(2,6−
ジフルオロ−3−(ピリ−1−イル)フェエル)チタニ
ウム(以下「A−3」ともいう。)等を挙げることがで
きる。More specifically, di-cyclopentadienyl-Ti-di-chloride, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,3 4,5,6-pentafluorophenyl-1-yl (hereinafter also referred to as “A-1”), di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophenyl-1- Yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluorophenyl
1-yl, di-cyclopentadiphenyl-Ti-bis-
2,6-difluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-difluorophenyl
1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophenyl-1-
Yl (hereinafter also referred to as “A-2”), di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophenyl-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti -Bis-2,4-difluorophenyl-1-
Il, bis (cyclopentadieel) -bis (2,6-
And difluoro-3- (pyrid-1-yl) pheel) titanium (hereinafter also referred to as “A-3”).
【0153】光重合性組成物に用いられるチタノセン化
合物は単独でまたは2種以上併用して用いることができ
る。The titanocene compounds used in the photopolymerizable composition can be used alone or in combination of two or more.
【0154】これらの光重合開始剤の使用量は、エチレ
ン性不飽和化合物100重量部に対し、0.05〜10
0重量部、好ましくは0.1〜70重量部、更に好まし
くは0.2〜50重量部の範囲で用いることができる。The amount of the photopolymerization initiator used is 0.05 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the ethylenically unsaturated compound.
0 parts by weight, preferably 0.1 to 70 parts by weight, and more preferably 0.2 to 50 parts by weight.
【0155】光重合性組成物は、通常、バインダーとし
て有機高分子重合体を含有するが、本発明では架橋性基
を側鎖に有する重合体を用いる。このような有機高分子
重合体(以下、単にポリマーともいう)としては、それ
自身が架橋性基(不飽和基ともいう)およびカルボキシ
ル基を側鎖に有し、且つ架橋性基が下記一般式〔I〕The photopolymerizable composition usually contains an organic polymer as a binder. In the present invention, a polymer having a crosslinkable group in a side chain is used. Such an organic high molecular polymer (hereinafter also simply referred to as a polymer) itself has a crosslinkable group (also referred to as an unsaturated group) and a carboxyl group in a side chain, and the crosslinkable group has the following general formula: [I]
【0156】[0156]
【化1】 Embedded image
【0157】〔式中R1〜R5は水素、ハロゲノ、カルボ
キシル、スルホ、ニトロ、シアノ、アミド、アミノやそ
れぞれ置換基を有していてもよいアルキル、アリール、
アルコキン、アリーロキン、アルキルアミノ、アリール
アミノ、環状アルキル、アルキルスルホニル、アリール
スルホニルから選ばれた基であり、Zは酸素、硫黄、N
HまたはNR(Rはアルキル基)から選ばれる〕で表わ
されるところに特徴がある。[Wherein R 1 to R 5 are hydrogen, halogeno, carboxyl, sulfo, nitro, cyano, amide, amino, alkyl, aryl, each of which may have a substituent,
Alcoquin, aryloquin, alkylamino, arylamino, cyclic alkyl, alkylsulfonyl, arylsulfonyl, wherein Z is oxygen, sulfur, N
H or NR (R is an alkyl group)].
【0158】更に、光重合性感光層のバインダーとして
用いられる、架橋性基を側鎖に有するポリマーは、米国
特許第3,376,138号、第3,556,792
号、第3,556,793号各明細書により公知である
が、開示されているポリマーは、ポリマーそのものが、
光架橋性レジストとして使われており、本実施の形態で
述べる光重合性組成物のバインターとしての使用方法と
は明白な相異がある。Further, polymers having a crosslinkable group in a side chain used as a binder for the photopolymerizable photosensitive layer are described in US Pat. Nos. 3,376,138 and 3,556,792.
No. 3,556,793, the disclosed polymer is a polymer itself,
It is used as a photocrosslinkable resist, and has a clear difference from the method of using the photopolymerizable composition described in this embodiment as a binder.
【0159】上記ポリマーの合成方法には、大別して次
の2つの方法がある。The methods for synthesizing the above polymers are roughly classified into the following two methods.
【0160】(A法):カルボン酸、カルボン酸ハライ
ド、カルボン酸無水物基を側鎖として有する幹ポリマー
に対して、後記一般式〔I−a〕で示される化合物を高
分子反応させて、(Method A): A compound represented by the following general formula [Ia] is subjected to a polymer reaction with a carboxylic acid, a carboxylic acid halide, and a backbone polymer having a carboxylic anhydride group as a side chain.
【0161】[0161]
【化2】 Embedded image
【0162】(式中、R1〜R5は一般式〔I〕:の場合
と同義)で示される架橋性基を−COO−、−COS
−、−CONH−または−CONR−の各連結基を介し
て導入する方法。(Wherein, R 1 to R 5 have the same meanings as in the case of the general formula [I]): -COO-, -COS
-, -CONH- or -CONR- a method of introducing via each connecting group.
【0163】(B法):前記一般式〔I〕で示される架
橋性基とさらに該架橋性基よりも付加重合反応性に富ん
だエチレン性不飽和基とを有するモノマーを不飽和カル
ボン酸と共重合させて、ポリマーを得る方法。(Method B): A monomer having a crosslinkable group represented by the above general formula [I] and an ethylenically unsaturated group having a higher addition polymerization reactivity than the crosslinkable group is converted to an unsaturated carboxylic acid. A method of obtaining a polymer by copolymerization.
【0164】[0164]
【化3】 Embedded image
【0165】〔式中、R1〜R5は一般式〔I〕の場合と
同義であり、YはOH、−SH、−NH2、−NHR
(Rはアルキル基)またはハロゲン原子を示す。〕 上記一般式〔I−a〕におけR1〜R5のアルキル基は、
直鎖、分枝、または環状であってもよく、炭素数1〜7
のものが好ましく、これらのアルキル基には更に炭素数
1〜2のアルコキシ基、炭素数1〜3のアルコキシカル
ボニル基、フェニル基、ヒドロキシ基などの置換基を有
していてもよく、R1〜R5のアリール基としてはフェニ
ル基、フリル基が好ましく、これにはハロゲノ基(例え
ばクロロ、ブロモなど)、ヒドロキシ基、炭素数1〜7
のアルキル基、アリール基(例えばフェニル、メトキン
フェニルなど)、炭素数1〜7個のアルコキシ基、ニト
ロ基、アミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基などの置
換基を有していてもよい。R1〜R5のアルコキシ基とし
ては炭素数1〜7のものが好ましく、アリールオキシ基
としてはフェニルオキン基が好ましく、これには炭素数
1〜7のアルキルもしくはアルコキシ基などの置換基を
有していてもよい。R1〜R5のアルキルアミノ基として
は、炭素故1〜15のものが好ましく、アリールアミノ
基としてはフェニルアミノ基、ナフチルアミノ基が好ま
しい。R1〜R5のアルキルスルホニル基としては炭素数
1〜15のものが好ましく、アリールスルホニル基とし
てはフェニルスルホニル基などが好ましく、これには炭
素数1〜15のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ
基、アミノ基などの置換基を有していてもよい。[Wherein, R 1 to R 5 have the same meanings as in formula [I], and Y represents OH, —SH, —NH 2 , —NHR
(R is an alkyl group) or a halogen atom. The alkyl group of R 1 to R 5 in the general formula [Ia] is
It may be linear, branched, or cyclic, and has 1 to 7 carbon atoms.
Preferably has, even in these alkyl group, an alkoxy group having from 1 to 2 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 1 to 3 carbon atoms, a phenyl group may have a substituent such as hydroxy group, R 1 As the aryl group represented by R 5 to R 5, a phenyl group and a furyl group are preferable, including a halogeno group (eg, chloro, bromo, etc.), a hydroxy group,
May have a substituent such as an alkyl group, an aryl group (e.g., phenyl and methkinphenyl), an alkoxy group having 1 to 7 carbon atoms, a nitro group, an amino group, and an N, N-dialkylamino group. . The alkoxy group of R 1 to R 5 is preferably a group having 1 to 7 carbon atoms, and the aryloxy group is preferably a phenyl okine group, which has a substituent such as an alkyl or alkoxy group having 1 to 7 carbon atoms. May be. The alkylamino group of R 1 to R 5 is preferably a group having 1 to 15 carbon atoms, and the arylamino group is preferably a phenylamino group or a naphthylamino group. The alkylsulfonyl group represented by R 1 to R 5 is preferably a group having 1 to 15 carbon atoms, and the arylsulfonyl group is preferably a phenylsulfonyl group. May have a substituent such as an alkoxy group and an amino group.
【0166】上記A法をさらに詳しく示すと、幹ポリマ
ーとしてはアクリル酸又はメタアクリル酸の共重合体お
よび当該共重合体を高分子反応により酸ハロゲン化物と
した共重合体があげられる。又、マレイン酸無水物、イ
タコン酸無水物等の共重合体があげられる。共重合する
コモノマーとしては、スチレンまたはそのアルキル置換
誘導体、アクリル酸アルキルエステル、アクリル酸アリ
ールエステル、メタクリル酸アルキルエステル、メタク
リル酸アリールエステル、または脂肪族ビニルエステル
があげられる。好ましくはアクリル酸またはメタアクリ
ル酸とアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸ブチル、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸メチル、
メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル
酸ベンジルとの共重合体があげられる。これらの共重合
体に架橋性基を導入するには一般式〔I−a〕で示され
る架橋性アルコール、アミン、チオール、ハロゲン化物
を所定反応条件下、反応溶媒中に前述の共重合体と混合
溶解し、反応触媒および重合禁止剤とを加え加熱するこ
とによって得られる。具体的にはメタクリル酸とメタク
リル酸ベンジルの共重合体を例にとって以下に示す。When the method A is described in more detail, examples of the backbone polymer include a copolymer of acrylic acid or methacrylic acid and a copolymer in which the copolymer is an acid halide by a polymer reaction. Further, copolymers such as maleic anhydride and itaconic anhydride can be used. Examples of the comonomer to be copolymerized include styrene or an alkyl-substituted derivative thereof, an alkyl acrylate, an aryl acrylate, an alkyl methacrylate, an aryl methacrylate, or an aliphatic vinyl ester. Preferably acrylic acid or methacrylic acid and methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, benzyl acrylate, methyl methacrylate,
Copolymers with ethyl methacrylate, butyl methacrylate, and benzyl methacrylate are exemplified. In order to introduce a crosslinkable group into these copolymers, a crosslinkable alcohol, an amine, a thiol, or a halide represented by the general formula [Ia] is reacted with the above copolymer in a reaction solvent under predetermined reaction conditions. It is obtained by mixing and dissolving, adding a reaction catalyst and a polymerization inhibitor, and heating. Specifically, a copolymer of methacrylic acid and benzyl methacrylate is shown below as an example.
【0167】攪拌棒および攪拌羽根、還流冷却器および
温度計を備えつけた300mlの三つ口フラスコ中にポ
リ(メタクリル酸/メタクリル酸ベンジル=27/73
モル比)19.8g、反応溶媒として酢酸エチレングリ
コールモノメチルエーテルを40.2g、架橋性基を含
有する試薬としてアリル臭素化物6.0g、触媒として
トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド10.4
gおよび重合禁止剤としてパラメトキシフェノール0.
01gを加え混合溶解し、窒素雰囲気下70℃にて13
時間加熱攪拌を行った。冷却後メチルエチルケトンを加
え遊離する四級塩を除去する。さらにメタノールを加え
て希釈し希塩酸中に注いで沈殿させる。水洗し後吸引濾
過をし、真空乾燥させると得られるポリマーの収量は1
3.6gであった。アリル基は幹ポリマーのカルボン酸
に対して35%導入された。A poly (methacrylic acid / benzyl methacrylate = 27/73) was placed in a 300 ml three-necked flask equipped with a stirring rod and stirring blades, a reflux condenser and a thermometer.
19.8 g), 40.2 g of ethylene glycol monomethyl ether acetate as a reaction solvent, 6.0 g of allyl bromide as a reagent containing a crosslinkable group, and 10.4 g of trimethylbenzylammonium hydroxide as a catalyst.
g of paramethoxyphenol and 0.1 g of paramethoxyphenol as a polymerization inhibitor.
And mixed and dissolved at 70 ° C. in a nitrogen atmosphere.
Heating and stirring were performed for hours. After cooling, methyl ethyl ketone is added to remove free quaternary salts. Further, the mixture is diluted with methanol and poured into dilute hydrochloric acid to precipitate. After washing with water, suction filtration and vacuum drying, the yield of polymer obtained is 1
It was 3.6 g. Allyl groups were introduced at 35% relative to the carboxylic acid of the backbone polymer.
【0168】[0168]
【化4】 Embedded image
【0169】無水マレイン酸の共重合体に該架橋性基を
導入する合成例は米国特許第2,047,398号明細
書に記載された方法で行なうことができ、これにより無
水マレイン酸部が開環した不飽和エステル、アミド、チ
オエステル等が導入される。なお、無水マレイン酸共重
体への架橋性基の導入方法としては、特開昭48−82
902号公報に記載の類似例があげられるが、この方法
による架橋性基はマレイン酸イミドの窒素原子に結合し
ており、明白に前述のポリマーとは異なった化合物であ
り、本発明に使用される架橋性基を側鎖に有するポリマ
ーとは区別される。A synthesis example in which the crosslinkable group is introduced into a copolymer of maleic anhydride can be carried out by the method described in US Pat. No. 2,047,398, whereby the maleic anhydride moiety is formed. A ring-opened unsaturated ester, amide, thioester or the like is introduced. As a method for introducing a crosslinkable group into a maleic anhydride copolymer, JP-A-48-82
A similar example described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 902/1990 is mentioned, but the crosslinkable group by this method is bonded to the nitrogen atom of maleic imide, and is clearly a compound different from the above-mentioned polymer, and is used in the present invention. Polymer having a crosslinkable group in the side chain.
【0170】一方、B法をさらに詳しく示すと、該架橋
性基を有する少なくとも2つ以上の炭素−炭素二重結合
を含むモノマーは、既知合成法により該架橋性基を有す
るアルコール、アミン、チオールと不飽和カルボン酸、
好ましくはアクリル酸またはメタクリル酸との縮合反応
により合成される。この少なくとも2つ以上の不飽和基
を含むモノマーを不飽和カルボン酸、好ましくはアクリ
ル酸またはメタクリル酸と共重合させることにより該架
橋性基を有する共重合体を得る。共重合するモノマー
は、不飽和カルボン酸に付け加えてさらに他のモノマー
が共重合されてもよく、例えばアクリル酸アルキル、メ
タクリル酸アルキル、メタクリル酸ベンジル、メタクリ
ル酸−2−ヒドロキンエチル、アクリロニトリル等が挙
げられる。On the other hand, the method B will be described in more detail. The monomer containing at least two carbon-carbon double bonds having a crosslinkable group can be obtained by a known synthesis method using an alcohol, amine, or thiol having the crosslinkable group. And unsaturated carboxylic acids,
Preferably, it is synthesized by a condensation reaction with acrylic acid or methacrylic acid. By copolymerizing the monomer containing at least two or more unsaturated groups with an unsaturated carboxylic acid, preferably acrylic acid or methacrylic acid, a copolymer having the crosslinkable group is obtained. The monomer to be copolymerized may further be copolymerized with another monomer in addition to the unsaturated carboxylic acid, for example, alkyl acrylate, alkyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-hydroquinethyl methacrylate, acrylonitrile, and the like. No.
【0171】以下、メタクリル酸アリルとメタクリル酸
との共重合例を示す。類似の合成法として、米国特許第
2,047,398号明細書に記載の方法があげられ
る。Hereinafter, an example of copolymerization of allyl methacrylate and methacrylic acid will be described. As a similar synthesis method, a method described in US Pat. No. 2,047,398 can be mentioned.
【0172】攪拌棒および攪拌羽根、還流冷却器、滴下
漏斗および温度計を設置した3リットルの4口フラスコ
に反応溶媒として1,2−ジクロルエタン1.68リッ
トルを入れ窒素置換しながら70℃に加熱した。滴下漏
斗にメタクリル酸アリル100.8g、メタクリル酸
7.6gおよび重合開始剤として2,2’−アゾビス
(2,4−ジメチルバレロニトリル)1.68gを0.
44リットルの1,2−ジクロルエタンに溶解して入れ
ておき、2時間かけてこの混合溶液をフラスコ中に撹拌
しながら滴下した。1.68 liters of 1,2-dichloroethane as a reaction solvent was placed in a 3 liter 4-neck flask equipped with a stirring rod and a stirring blade, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer, and heated to 70 ° C. while purging with nitrogen. did. 100.8 g of allyl methacrylate, 7.6 g of methacrylic acid, and 1.68 g of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as a polymerization initiator were added to a dropping funnel in an amount of 0.1 g.
The mixture was dissolved in 44 liters of 1,2-dichloroethane, and the mixed solution was dropped into the flask over 2 hours with stirring.
【0173】滴下終了後さらに反応温度70℃で5時間
攪拌し反応を完結した。加熱終了後重合禁止剤としてパ
ラメトキンフェノール0.04gを加え反応溶液を50
0mlまで濃縮し、この濃縮液を4リットルのヘキサン
に加えて沈殿させ、真空乾燥後61g(収率56%)の
共重合ポリマーを得た。このとき粘度は80℃のメチル
エチルケトンで〔η〕=0.068であった。After the completion of the dropwise addition, the mixture was further stirred at a reaction temperature of 70 ° C. for 5 hours to complete the reaction. After the completion of heating, 0.04 g of paramethokine phenol was added as a polymerization inhibitor, and the reaction solution was added to 50 parts.
The solution was concentrated to 0 ml, and the concentrated solution was added to 4 liters of hexane to precipitate. After vacuum drying, 61 g (yield 56%) of a copolymer was obtained. At this time, the viscosity was [η] = 0.068 for methyl ethyl ketone at 80 ° C.
【0174】前記一般式〔I−a〕で示される代表的な
化合物は、アリルアルコール、2−メチルアリルアルコ
ール、クロチルアルコール、3−クロル−2−プロペン
−1−オール、3−フェニル−2−プロペン−1−オー
ル、3−(ヒドロキンフェニル)−2−プロペン−1−
オール、3−(2−ヒドロキシフェニル)−2−プロペ
ン−1−オール、3−(3・4−ジヒドロキシフェニ
ル)−2−プロペン−1−オール、3−(2・4−ジヒ
ドロキシフェニル−2−プロペン−1−オール、3−
(3・4・5−トリヒドロキンフェニル)−2−プロペ
ン−1−オール、3−(3−メトキシ−4−ヒドロキン
フェニル)−2−プロペン−1−オール、3−(3・4
−ジヒドロキシ−5−メトキシフェニル)−2−プロペ
ン−1−オール、3−(3・5−ジメトキシ−4−ヒド
ロキシフェニル)−2−プロペン−1−オール、3−
(2−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)−2−プロペ
ン−1−オール、3−(4−メトキシフェニル)−2−
プロペン−1−オール、3−(4―エトキンフェニル)
−2−プロペン−1−オール、3−(2−メトキシフェ
ニル)−2−プロペン−1−オール、3−(3・4−ジ
メトキシフェニル)−2−プロペン−1−オール、3−
(3−メトキシ−4−プロポキシフェニル)−2−プロ
ペン−1−オール、Representative compounds represented by the general formula [Ia] include allyl alcohol, 2-methylallyl alcohol, crotyl alcohol, 3-chloro-2-propen-1-ol, and 3-phenyl-2. -Propen-1-ol, 3- (hydroquinphenyl) -2-propen-1-
All, 3- (2-hydroxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3.4-dihydroxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (2.4-dihydroxyphenyl-2-ol Propen-1-ol, 3-
(3,4-5-trihydroquinphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3-methoxy-4-hydroquinphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3.4
-Dihydroxy-5-methoxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3.5-dimethoxy-4-hydroxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3-
(2-hydroxy-4-methylphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (4-methoxyphenyl) -2-
Propen-1-ol, 3- (4-ethoxyquinphenyl)
-2-propen-1-ol, 3- (2-methoxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3-4-dimethoxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3-
(3-methoxy-4-propoxyphenyl) -2-propen-1-ol,
【0175】3−(2・4・6−トリメトキシフェニ
ル)−2−プロペン−1−オール、3−(3−メトキシ
−4−ベンジルオキシフェニル)−2−プロペン−1−
オール、3−1−(3’−メトキンフェニル)−4−ベ
ンジルオキシフェニル)−2−プロペン−1−オール、
3−フェノキシ−3−フェニル−2−プロペン−1−オ
ール、3−(3・4・5−トリメトキシフェニル)−2
−プロペン−1−オール、3−(4−メチルフェニル)
−2−プロペン−1−オール、3−フェニル−3−(2
・4・6−トリメチルフェニル)−2−プロペン−1−
オール、3・3−{ジ−(2・4・6−トリメチルフェ
ニル)}−2−プロペン−1−オール、3−フェニル−
3−(4−メチルフェニル)−2−プロペン−1−オー
ル、3・3−ジフェニル−2−プロペン−1−オール、
3−(2−クロルフェニル)−2−プロペン−1−オー
ル、3−(3−クロルフェニル)−2−プロペン−1−
オール、3−(4−クロルフェニル)−2−プロペン−
1−オール、3−(2・4−ジクロルフェニル)−2−
プロペン−1−オール、3−(2−ブロムフェニル)−
2−プロペン−1−オール、3−ブロム−3−フェニル
−2−プロペン−1−オール、3−クロル−3−フェニ
ル−2−プロペン−1−オール、3−(4−ニトロフェ
ニル)−2−プロペン−1−オール、3- (2-4,6-trimethoxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3-methoxy-4-benzyloxyphenyl) -2-propen-1-
All, 3-1- (3′-methokinphenyl) -4-benzyloxyphenyl) -2-propen-1-ol,
3-phenoxy-3-phenyl-2-propen-1-ol, 3- (3.4.5-trimethoxyphenyl) -2
-Propen-1-ol, 3- (4-methylphenyl)
-2-propen-1-ol, 3-phenyl-3- (2
* 4,6-trimethylphenyl) -2-propene-1-
All, 3,3- {di- (2,4,6-trimethylphenyl)}-2-propen-1-ol, 3-phenyl-
3- (4-methylphenyl) -2-propen-1-ol, 3,3-diphenyl-2-propen-1-ol,
3- (2-chlorophenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3-chlorophenyl) -2-propen-1-
All, 3- (4-chlorophenyl) -2-propene-
1-ol, 3- (2.4-dichlorophenyl) -2-
Propen-1-ol, 3- (2-bromophenyl)-
2-propen-1-ol, 3-bromo-3-phenyl-2-propen-1-ol, 3-chloro-3-phenyl-2-propen-1-ol, 3- (4-nitrophenyl) -2 -Propen-1-ol,
【0176】3−(2−ニトロフェニル)−2−プロペ
ン−1−オール、3−(3−ニトロフェニル)−2−プ
ロペン−1−オール、2−メチル−3−フェニル−2−
プロペン−1−オール、2−メチル−3−(4−クロル
フェニル)−2−プロペン−1−オール、2−メチル−
3−(4−ニトロフェニル)−2−プロペン−1−オー
ル、2−メチル−3−(4−アミノフェニル)−2−プ
ロペン−1−オール、2−メチル−3・3−ジフェニル
−2−プロペン−1−オール、2−エチル−1・3−ジ
フェニル−2−プロペン−1−オール、2−エトキシメ
チレン−3−フェニル−2−プロペン−1−オール、2
−フェノキシ−3−フェニル−2−プロペン−1−オー
ル、2−メチル−3−(4−メトキシフェニル)−2−
プロペン−1−オール、2・3−ジフェニル−2−プロ
ペン−1−オール、1・2・3−トリフェニル−2−プ
ロペン−1−オール、2・3・3−トリフェニル−2−
プロペン−1−オール、2−エトキシ−3−フェニル−
2−プロペン−1−オール、1.3−ジフェニル−2−
プロペン−1−オール、1−(4−メチルフェニル)−
3−フェニル−2−プロペン−1−オール、1−フェニ
ル−3−(4−メチルフェニル)−2−プロペン−1−
オール、1−フェニル−3−(4−メトキシフェニル)
−2−プロペン−1−オール、1−(4−メトキシフェ
ニル)−3−フェニル−2−プロペン−1−オール、3- (2-nitrophenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3-nitrophenyl) -2-propen-1-ol, 2-methyl-3-phenyl-2-
Propen-1-ol, 2-methyl-3- (4-chlorophenyl) -2-propen-1-ol, 2-methyl-
3- (4-nitrophenyl) -2-propen-1-ol, 2-methyl-3- (4-aminophenyl) -2-propen-1-ol, 2-methyl-3-3.3-diphenyl-2- Propen-1-ol, 2-ethyl-1 / 3-diphenyl-2-propen-1-ol, 2-ethoxymethylene-3-phenyl-2-propen-1-ol, 2
-Phenoxy-3-phenyl-2-propen-1-ol, 2-methyl-3- (4-methoxyphenyl) -2-
Propen-1-ol, 2,3-diphenyl-2-propen-1-ol, 1,2,3-triphenyl-2-propen-1-ol, 2,3,3-triphenyl-2-
Propen-1-ol, 2-ethoxy-3-phenyl-
2-propen-1-ol, 1.3-diphenyl-2-
Propen-1-ol, 1- (4-methylphenyl)-
3-phenyl-2-propen-1-ol, 1-phenyl-3- (4-methylphenyl) -2-propen-1-
All, 1-phenyl-3- (4-methoxyphenyl)
-2-propen-1-ol, 1- (4-methoxyphenyl) -3-phenyl-2-propen-1-ol,
【0177】1・3−ジ(4−クロルフェニル)−2−
プロペン−1−オール、1−(4−ブロムフェニル)−
3−フェニル−2−プロペン−1−オール、1−フェニ
ル−3−(4−ニトロフェニル)−2−プロペン−1−
オール、1・3−ジ(2−ニトロフェニル)−2−プロ
ペン−1−オール、1−(4−ジメチルアミノフェニ
ル)−3−フェニル−2−プロペン−1−オール、1−
フェニル−3−(4−ジメチルアミノフェニル)−2−
プロペン−1−オール、1・1−ジ(4−ジメチルアミ
ノフェニル)−3−フェニル−2−プロペン−1−オー
ル、1・1・3−トリフェニル−2−プロペン−1−オ
ール、1・1・3・3−テトラフェニル−2−プロペン
−1−オール、1−(4−メチルフェニル)−3−フェ
ニル−2−プロペン−1−オール、1−(ドデシルスル
ホニル)−3−フェニル−2−プロペン−1−オール、
1−フェニル−2−プロペン−1−オール、1・2−ジ
フェニル−2−プロペン−1−オール、1−フェニル−
2−メチル−2−プロペン−1−オール、1−シクロヘ
キシル−2−プロペン−1−オール、1−フェノキシ−
2−プロペン−1−オール、2−ベンジル−2−プロペ
ン−1−オール、1・1−ジ(4−クロルフェニル)−
2−プロペン−1−オール、1−カルボキシ−2−プロ
ペン−1−オール、1,3-di (4-chlorophenyl) -2-
Propen-1-ol, 1- (4-bromophenyl)-
3-phenyl-2-propen-1-ol, 1-phenyl-3- (4-nitrophenyl) -2-propen-1-
All, 1,3-di (2-nitrophenyl) -2-propen-1-ol, 1- (4-dimethylaminophenyl) -3-phenyl-2-propen-1-ol, 1-
Phenyl-3- (4-dimethylaminophenyl) -2-
Propen-1-ol, 1,1-di (4-dimethylaminophenyl) -3-phenyl-2-propen-1-ol, 1.1,3-triphenyl-2-propen-1-ol, 1. 1,3,3-tetraphenyl-2-propen-1-ol, 1- (4-methylphenyl) -3-phenyl-2-propen-1-ol, 1- (dodecylsulfonyl) -3-phenyl-2 -Propen-1-ol,
1-phenyl-2-propen-1-ol, 1,2-diphenyl-2-propen-1-ol, 1-phenyl-
2-methyl-2-propen-1-ol, 1-cyclohexyl-2-propen-1-ol, 1-phenoxy-
2-propen-1-ol, 2-benzyl-2-propen-1-ol, 1.1-di (4-chlorophenyl)-
2-propen-1-ol, 1-carboxy-2-propen-1-ol,
【0178】1−カルボキシアミド−2−プロペン−1
−オール、1−シアノ−2−プロペン−1−オール、1
−スルホ−2−プロペン−1−オール、2−エトキシ−
2−プロペン−1−オール、2−アミノ−2−プロペン
−1−オール、3−(3−アミノ−4−メトキシフェニ
ルスルホニル)−2−プロペン−1−オール、3−(4
−メチルフェニルスルホニル)−2−プロペン−1−オ
ール、3−フェニルスルホニル−2−プロペン−1−オ
ール、3−ベンジルスルホニル−2−プロペン−1−オ
ール、3−アニリノスルホニル−2−プロペン−1−オ
ール、3−(4−メトキシアニリノスルホニル)−2−
プロペン−1−オール、8−アニリノ−2−プロペン−
1−オール、3−ナフチルアミノ−2−プロペン−1−
オール、3−フェノキシ−2−プロペン−1−オール、
3−(2−メチルフェニル)−2−プロペン−1−オー
ル、3−(3−メチルフェノキン)−2−プロペン−1
−オール、3−(2・4−ジメチルフェニル)−2−プ
ロペン−1−オール、1−メチル−3−カルボキシ−2
−プロペン−1−オール、3−カルボキシ−2−プロペ
ン−1−オール、3−ブロム−3−カルボキシ−2−プ
ロペン−1−オール、1−カルボキシ−3−クロル−3
−メチル−2−プロペン−1−オール、1−カルボキシ
−3−メチル−2−プロペン−1−オール、1-carboxamido-2-propene-1
-Ol, 1-cyano-2-propen-1-ol, 1
-Sulfo-2-propen-1-ol, 2-ethoxy-
2-propen-1-ol, 2-amino-2-propen-1-ol, 3- (3-amino-4-methoxyphenylsulfonyl) -2-propen-1-ol, 3- (4
-Methylphenylsulfonyl) -2-propen-1-ol, 3-phenylsulfonyl-2-propen-1-ol, 3-benzylsulfonyl-2-propen-1-ol, 3-anilinosulfonyl-2-propene- 1-ol, 3- (4-methoxyanilinosulfonyl) -2-
Propen-1-ol, 8-anilino-2-propene-
1-ol, 3-naphthylamino-2-propene-1-
All, 3-phenoxy-2-propen-1-ol,
3- (2-methylphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3-methylphenokine) -2-propen-1
-Ol, 3- (2,4-dimethylphenyl) -2-propen-1-ol, 1-methyl-3-carboxy-2
-Propen-1-ol, 3-carboxy-2-propen-1-ol, 3-bromo-3-carboxy-2-propen-1-ol, 1-carboxy-3-chloro-3
-Methyl-2-propen-1-ol, 1-carboxy-3-methyl-2-propen-1-ol,
【0179】1−(2−カルベトキシイソプロピル)−
3−メチル−2−プロペン−1−オール、1−(1−カ
ルベトキシプロピル)−2−プロペン−1−オール、1
−(1−カルベトキシエチル)−3−メチル−2−プロ
ペン−1−オール、1−カルベトキシ−3−クロルー3
−メチル−2−プロペン−1−オール、1−カルベトキ
シメチレン−3−メチル−2−プロペン−1−オール、
1−アミド−2・3−ジメチル−2−プロペン−1−オ
ール、1−シアノ−3−メチル−2−プロペン−1−オ
ール、3−スルホ−2−プロペン−1−オール、3−ブ
トキシ−2−プロペン−1−オール、1−シクロへキン
ル−3−(2−ヒドロキシシクロヘキシル)−2−プロ
ペン−1−オール、3−シクロベンジル−2−プロペン
−1−オール、3−フリル−2−プロペン−1−オー
ル、3−クロム−2−プロペン−1−オール、3−ブロ
ム−2−プロペン−1−オール、2−メチル−3−クロ
ル−2−プロペン−1−オール、2−メチル−3−ブロ
ム−2−プロペン−1−オール、1−カルボイソブトキ
シ−3−クロル−3−メチル−2−プロペン−1−オー
ル、2−クロル−3−フェニル−2−プロペン−1−オ
ール(2−クロルシンナミルアルコール)、2−ブロム
−3−フェニル−2−プロペン−1−オール(2−ブロ
ムシンナミルアルコール)、1- (2-carbethoxyisopropyl)-
3-methyl-2-propen-1-ol, 1- (1-carbethoxypropyl) -2-propen-1-ol,
-(1-carbethoxyethyl) -3-methyl-2-propen-1-ol, 1-carbethoxy-3-chloro-3
-Methyl-2-propen-1-ol, 1-carbethoxymethylene-3-methyl-2-propen-1-ol,
1-amido-2 / 3-dimethyl-2-propen-1-ol, 1-cyano-3-methyl-2-propen-1-ol, 3-sulfo-2-propen-1-ol, 3-butoxy- 2-propen-1-ol, 1-cyclohexyl-3- (2-hydroxycyclohexyl) -2-propen-1-ol, 3-cyclobenzyl-2-propen-1-ol, 3-furyl-2- Propen-1-ol, 3-chrom-2-propen-1-ol, 3-bromo-2-propen-1-ol, 2-methyl-3-chloro-2-propen-1-ol, 2-methyl- 3-bromo-2-propen-1-ol, 1-carboisobutoxy-3-chloro-3-methyl-2-propen-1-ol, 2-chloro-3-phenyl-2-propen-1-ol ( 2-chlorosi Cinnamyl alcohol), 2-bromo-3-phenyl-2-propen-1-ol (2-bromo cinnamyl alcohol),
【0180】2−ブロム−3−(4−ニトロフェニル)
−2−プロペン−1−オール、2−フルオロ−3−フェ
ニル−2−プロペン−1−オール(2−フルオロシンナ
ミルアルコール)、2−フルオロ−3−(4−メトキシ
フェニル)−2−プロペン−1−オール、2−ニトロ−
3−クロル−3−フェニル−2−プロペン−1−オー
ル、2−ニトロ−3−フェニル−2−プロペン−1−オ
ール(2−ニトロシンナミルアルコール)、2−シアノ
−3−フェニル−2−プロペン−1−オール(2−シア
ノシンナミルアルコール)、2−クロル−2−プロペン
−1−オール(2−クロルアリルアルコール)、2−ブ
ロム−2−プロペン−1−オール(2−ブロムアリルア
ルコール)、2−カルボキシ−2−プロペン−1−オー
ル(2−カルボキシアリルアルコール)、2−カルベト
キシ−2−プロペン−1−オール(2−カルベトキシア
リルアルコール)、2−スルホン酸−2−プロペン−1
−オール(2−スルホン酸アリルアルコール)、2−ニ
トロ−2−プロペン−1−オール(2−ニトロアリルア
ルコール)、2−ブロム−3・3−ジフルオロ−2−プ
ロペン−1−オール、2−クロル−3・3−ジフルオロ
−2−プロペン−1−オール、2−フルオロ−3−クロ
ル−2−プロペン−1−オール、2・3−ジブロム−3
−カルボキシ−2−プロペン−1−オール、2-bromo-3- (4-nitrophenyl)
-2-propen-1-ol, 2-fluoro-3-phenyl-2-propen-1-ol (2-fluorocinnamyl alcohol), 2-fluoro-3- (4-methoxyphenyl) -2-propene- 1-ol, 2-nitro-
3-chloro-3-phenyl-2-propen-1-ol, 2-nitro-3-phenyl-2-propen-1-ol (2-nitrocinnamyl alcohol), 2-cyano-3-phenyl-2-ol Propen-1-ol (2-cyanocinnamyl alcohol), 2-chloro-2-propen-1-ol (2-chloroallyl alcohol), 2-bromo-2-propen-1-ol (2-bromoallyl alcohol) ), 2-carboxy-2-propen-1-ol (2-carboxyallyl alcohol), 2-carbethoxy-2-propen-1-ol (2-carbethoxyallyl alcohol), 2-sulfonic acid-2-propene- 1
-Ol (2-allyl alcohol sulfonate), 2-nitro-2-propen-1-ol (2-nitroallyl alcohol), 2-bromo-3 / 3-difluoro-2-propen-1-ol, 2- Chlor-3-3-difluoro-2-propen-1-ol, 2-fluoro-3-chloro-2-propen-1-ol, 2,3-dibromo-3
-Carboxy-2-propen-1-ol,
【0181】2・3−ジヨード−3−カルボキシ−2−
プロペン−1−オール、2・3−ジブロム−2−プロペ
ン−1−オール、2−クロル−3−メチル−2−プロペ
ン−1ーオールが挙げられる。また上記具体例におい
て、1位のアルコールをチオアルコールやアミン、ハロ
ゲンで置き換えた化合物も勿論使用できる。2 / 3-diiodo-3-carboxy-2-
Propen-1-ol, 2,3-dibromo-2-propen-1-ol, 2-chloro-3-methyl-2-propen-1-ol. In the above specific examples, a compound in which the alcohol at the 1-position is replaced with a thioalcohol, an amine or a halogen can of course be used.
【0182】ポリマー中の架橋性基含有量の好ましい範
囲はそれぞれ共重合モル比で、10〜90モル%、5〜
60モル%、より好ましい範囲は20〜70モル%、1
0〜40モル%である。The preferred range of the crosslinkable group content in the polymer is 10 to 90 mol%,
60 mol%, a more preferable range is 20 to 70 mol%,
0 to 40 mol%.
【0183】また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸
性セルロース誘導体がある。この外に水酸基を有する付
加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用で
ある。特にこれらの中で〔ベンジル(メタ)アクリレー
ト/(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重
合性ビニルモノマー〕共重合体及び〔アリル(メタ)ア
クリレート(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の
付加重合性ビニルモノマー)共重合体が好適である。こ
の他に水溶性有機高分子として、ポリビエルピロリドン
やポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮
膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ポリアミドや
2,2−ビス−(4−ヒドロキンフェニル)−プロパン
とエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。
これらの有機高分子重合体は全組成中に任意な量を混和
させることができる。しかし90重量%を超える場合に
は形成される画像強度等の点で好ましい結果を与えな
い。好ましくは10〜90%、より好ましくは30〜8
0%である。また光重合可能なエチレン性不飽和化合物
と有機高分子重合体は、重量比で1/9〜9/1の範囲
とするのが好ましい。より好ましい範囲は2/8〜8/
2であり、更に好ましくは3/7〜7/3である。Similarly, there is an acidic cellulose derivative having a carboxylic acid group in the side chain. In addition, those obtained by adding a cyclic acid anhydride to an addition polymer having a hydroxyl group are useful. In particular, among these, [benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / optionally other addition-polymerizable vinyl monomers] copolymer and [allyl (meth) acrylate (meth) acrylic acid / optionally Other addition-polymerizable vinyl monomers) copolymers are preferred. In addition, as the water-soluble organic polymer, polybierpyrrolidone, polyethylene oxide and the like are useful. In order to increase the strength of the cured film, alcohol-soluble polyamides and polyethers of 2,2-bis- (4-hydroquinphenyl) -propane and epichlorohydrin are also useful.
These organic high-molecular polymers can be mixed in an arbitrary amount in the entire composition. However, if it exceeds 90% by weight, no favorable result is obtained in view of the strength of the formed image and the like. Preferably 10 to 90%, more preferably 30 to 8
0%. The weight ratio of the photopolymerizable ethylenically unsaturated compound and the organic high molecular weight polymer is preferably in the range of 1/9 to 9/1. A more preferred range is 2/8 to 8 /
2, more preferably 3/7 to 7/3.
【0184】また、本発明においては以上の基本成分の
他に感光性組成物の製造中あるいは保存中において重合
可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止す
るために少量の熱重合禁止剤を添加することが望まし
い。適当な熱重合禁止剤としてはハロイドキノン、p−
メトキンフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾー
ル、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノ
ン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチル
フェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−
6−t―ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒ
ドロキシルアミン第一セリウム塩、N−ニトロソフェニ
ルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられる。
熱重合禁止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約
0.01%〜約5%が好ましい。また必要に応じて、酸
素による重合阻害を防止するためたべヘン酸やベヘン酸
アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後
の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級
脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約0.5%〜約1
0%が好ましい。In the present invention, in addition to the above basic components, a small amount of thermal polymerization is inhibited in order to prevent unnecessary thermal polymerization of a polymerizable ethylenically unsaturated compound during the production or storage of the photosensitive composition. It is desirable to add an agent. Suitable thermal polymerization inhibitors include haloid quinone, p-
Methkinphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4- Methyl-
6-t-butylphenol), cerium N-nitrosophenylhydroxylamine, aluminum aluminum N-nitrosophenylhydroxylamine and the like.
The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably from about 0.01% to about 5% based on the weight of the whole composition. Further, if necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide may be added to prevent polymerization inhibition by oxygen, and may be unevenly distributed on the surface of the photosensitive layer in a drying process after coating. . The amount of the higher fatty acid derivative added is about 0.5% to about 1% of the total composition.
0% is preferred.
【0185】更に感光層の着色を目的として、着色剤を
添加してもよい。着色剤としては、例えば、フタロシア
ニン系顔料(C.I.Pigment Blue15:
3,15:4,15:6など)、アゾ系顔料、カーボン
ブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレッ
ト、クリスタルバイオレット、アゾ染料、アントラキノ
ン系染料、シアニン系染料がある。染料および顔料の添
加量は全組成物の約0.5%〜約20%が好ましい。Further, a coloring agent may be added for the purpose of coloring the photosensitive layer. As the colorant, for example, a phthalocyanine-based pigment (CI Pigment Blue 15:
3, 15: 4, 15: 6), azo pigments, carbon black, pigments such as titanium oxide, ethyl violet, crystal violet, azo dyes, anthraquinone dyes, and cyanine dyes. The amount of dye and pigment added is preferably about 0.5% to about 20% of the total composition.
【0186】加えて、硬化皮膜の物性を改良するため
に、無機充填剤やジオクチルフタレート、ジメチルフタ
レート、トリクレジルホスフェート等の可塑剤等の添加
剤を加えてもよい。In addition, additives such as inorganic fillers and plasticizers such as dioctyl phthalate, dimethyl phthalate and tricresyl phosphate may be added to improve the physical properties of the cured film.
【0187】これらの添加量は全組成物の10%以下が
好ましい。The addition amount of these is preferably 10% or less of the total composition.
【0188】光重合性組成物を支持体上に塗布する際に
は種々の有機溶剤に溶かして使用に供される。ここで使
用する溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、
シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、
テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエー
テル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコー
ルモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキ
サノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチ
ルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプ
ロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテ
ルアセテート、3−メトキシプロパノール、メトキシメ
トキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリ
コールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメ
チルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエ
チルエーテルアセテート、3−メトキンプロピルアセテ
ート、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチル
などがある。これらの溶媒は、単独あるいは混合して使
用することができる。そして、塗布溶液中の固形分の濃
度は、1〜50重量%が適当である。When the photopolymerizable composition is coated on a support, it is used after being dissolved in various organic solvents. As the solvent used here, acetone, methyl ethyl ketone,
Cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride,
Tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, Ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether Ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-meth Kin-propyl acetate, N, N- dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, .gamma.-butyrolactone, methyl lactate and ethyl lactate. These solvents can be used alone or as a mixture. The appropriate concentration of the solid content in the coating solution is 1 to 50% by weight.
【0189】本発明における光重合性組成物には、塗布
面質を向上するために界面活性剤を添加することができ
る。A surfactant can be added to the photopolymerizable composition of the present invention in order to improve the coated surface quality.
【0190】その被覆量は乾燥後の重量で約0.lg/
m2〜約10g/m2の範囲が適当である。より好ましく
は0.3〜5g/m2である。更に好ましくは0.5〜
3g/m2である。The amount of the coating is about 0. lg /
range of m 2 ~ about 10 g / m 2 are suitable. More preferably, it is 0.3 to 5 g / m 2 . More preferably 0.5 to
3 g / m 2 .
【0191】〔オーバーコート層〕本発明(C)のオー
バーコート層は酸素遮断性のオーバーコート層であり、
このオーバーコート層は水溶性ビニル重合体を含有す
る。オーバーコート層に含まれる水溶性ビニル重合体と
しては,ポリビニルアルコール、およびその部分エステ
ル、エーテルおよびアセタール、またはそれらに必要な
水溶性を有せしめるような実質的量の末置換ビニルアル
コール単位を含有するその共重合体が挙げられる。ポリ
ビニルアルコールとしては、71〜100%加水分解さ
れ、重合度が300〜2400の範囲のものが挙げられ
る。具体的には株式会社クラレ製PVA−105、Pv
A−110、PVA−117、PVA−117H、PV
A−120、PVA−124、PVA−124H、PV
A−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−2
03、PVA−204、PVA−205、PVA−21
0、PVA−217、PVA−220、PVA−22
4、PVA−217EE、PVA−220、PVA−2
24、PVA−217EE、PVA−217E、PVA
−220E、PVA−224、PVA−405、PVA
−420、PVA−613、L−8等が挙げられる。上
記の共重合体としては、88〜100%加水分解された
ポリビニルアセテートクロロアセテートまたはプロピオ
ネート、ポリビエルホルマールおよびポリビエルアセタ
ールおよびそれらの共重合体が挙げられる。その他有用
な重合体としてはポリビニルピロリドン、ゼラチンおよ
びアラビアゴムが挙げられ、これらは単独または、併用
して用いても良い。[Overcoat layer] The overcoat layer of the present invention (C) is an oxygen-blocking overcoat layer.
This overcoat layer contains a water-soluble vinyl polymer. The water-soluble vinyl polymer contained in the overcoat layer contains polyvinyl alcohol and its partial esters, ethers and acetal, or a substantial amount of terminally substituted vinyl alcohol units that have the necessary water solubility. The copolymer is mentioned. Examples of the polyvinyl alcohol include those having a hydrolysis degree of 71 to 100% and a polymerization degree of 300 to 2400. Specifically, Kuraray's PVA-105, Pv
A-110, PVA-117, PVA-117H, PV
A-120, PVA-124, PVA-124H, PV
A-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-2
03, PVA-204, PVA-205, PVA-21
0, PVA-217, PVA-220, PVA-22
4, PVA-217EE, PVA-220, PVA-2
24, PVA-217EE, PVA-217E, PVA
-220E, PVA-224, PVA-405, PVA
-420, PVA-613, L-8 and the like. The above-mentioned copolymers include polyvinyl acetate chloroacetate or propionate, polybierformal and polybieracetal hydrolyzed 88 to 100%, and copolymers thereof. Other useful polymers include polyvinylpyrrolidone, gelatin and gum arabic, which may be used alone or in combination.
【0192】オーバーコート層を塗布する際用いる溶媒
としては、純水が好ましいが、メタノール、エタノール
などのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトンな
どのケトン類を純水と混合しても良い。そして塗布溶液
中の固形分の濃度は1〜20重量%が適当である。As a solvent used for applying the overcoat layer, pure water is preferable, but alcohols such as methanol and ethanol, and ketones such as acetone and methyl ethyl ketone may be mixed with the pure water. The concentration of the solid content in the coating solution is suitably from 1 to 20% by weight.
【0193】また、オーバーコート層にはさらに塗布性
を向上させるための界面活性剤、皮膜の物性を改良する
ための水溶性の可塑剤等の公知の添加剤を加えても良
い。水溶性の可塑剤としてはたとえばプロピオンアミ
ド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトー
ル等がある。また、水溶性の(メタ)アクリル系ポリマ
ーなどを添加しても良い。Further, known additives such as a surfactant for further improving the coating property and a water-soluble plasticizer for improving the physical properties of the film may be added to the overcoat layer. Examples of the water-soluble plasticizer include propionamide, cyclohexanediol, glycerin, and sorbitol. Further, a water-soluble (meth) acrylic polymer or the like may be added.
【0194】その被覆量は乾燥後の重量で約0.1/m
2〜約15/m2の範囲が適当である。より好ましくは
1.0/m2〜約5.0/m2である。The amount of the coating was about 0.1 / m 2 after drying.
A range from 2 to about 15 / m 2 is suitable. More preferably, it is 1.0 / m 2 to about 5.0 / m 2 .
【0195】なお、本実施の形態では説明のため、ワー
クステーション12に1つのパソコンをオンライン接続
した構成としているが、もちろん1つに限らず、複数の
パソコンをオンライン接続することができる。同様に、
本実施の形態では説明のため、プレートセッター14に
1つのPS版プロセッサー16をオンライン接続した構
成としているが、もちろん1つに限らず、プレートセッ
ター14に複数のパソコンをオンライン接続することが
できる。In this embodiment, one personal computer is connected online to the workstation 12 for the sake of explanation. However, the number of personal computers is not limited to one, and a plurality of personal computers can be connected online. Similarly,
In the present embodiment, for the sake of explanation, one PS plate processor 16 is connected online to the plate setter 14, but the present invention is not limited to one, and a plurality of personal computers can be connected online to the plate setter 14.
【0196】プレートセッター14に複数のパソコンを
オンライン接続した場合は、加熱条件を変える場合など
の条件設定をより効率的に行えるので、ロス時間を少な
くすることができ、効率的である。When a plurality of personal computers are connected online to the plate setter 14, conditions such as changing heating conditions can be set more efficiently, so that the loss time can be reduced and the efficiency is improved.
【0197】また、本実施の形態では、プレートセッタ
ー14のセッター制御部18において面積分布情報を抽
出しているが、PS版プロセッサー16においてTIF
Fファイルに含まれるイメージデータ部から画像形成領
域の面積分布(又は非画像部の面積分布)を面積分布情報
として抽出する様に構成してもよい。この場合、PS版
プロセッサー16にTIFFファイルに含まれるイメー
ジデータ部から画像形成領域の面積分布(又は非画像部
の面積分布)を面積分布情報として抽出するするプログ
ラムをインストールすると良い。Further, in this embodiment, the area distribution information is extracted by the setter control unit 18 of the plate setter 14.
The image data area included in the F file may be configured to extract the area distribution of the image forming area (or the area distribution of the non-image area) as the area distribution information. In this case, a program for extracting the area distribution of the image forming area (or the area distribution of the non-image area) from the image data section included in the TIFF file as area distribution information may be installed in the PS plate processor 16.
【0198】また、本実施の形態では、ワークステーシ
ョンから出力する画像データをTIFFファイルとした
が、もちろん、本発明はTIFFファイルに限定するも
のではなく、例えば、低解像度の画像データとフィルム
と版の転移特性カーブとトンボの種類と位置データ品質
管理のための色彩濃度情報と裁ちトンボと断裁のための
情報とから構成されるPPF(Print Production Forma
t)データや、GIFファイル等のようにイメージデータ
を含む標準的なフォーマット形式の画像データを使用す
ることができる。Further, in the present embodiment, the image data output from the workstation is a TIFF file. However, the present invention is not limited to the TIFF file. PPF (Print Production Forma) which consists of transfer characteristic curve, color density information for registration mark type and position data quality control, trimming mark and cutting information
t) It is possible to use image data of a standard format including image data such as data and GIF files.
【0199】また、本実施の形態では、プレートセッタ
ー14とPS版プロセッサー16とをオンラインで接続
した構成としたが、本発明ではオンラインに限らず、通
信回線を介して接続する構成としたり、記憶媒体にプレ
ートセッター14の情報をセッター情報として記憶さ
せ、この記憶媒体をPS版プロセッサー16が読込むこ
とによりセッター情報の受け渡しを行う様に構成するこ
ともできる。In the present embodiment, the plate setter 14 and the PS plate processor 16 are connected online. However, the present invention is not limited to the online connection. The information of the plate setter 14 may be stored on the medium as setter information, and the storage medium may be read by the PS version processor 16 to transfer the setter information.
【0200】また、本実施の形態では、面積分布抽出プ
ログラムをセッター制御部18のROMに記憶している
が、本発明はこれに限定されず、該面積分布抽出プログ
ラムをフロッピィディスクに記憶すると共に、コンピュ
ータ本体にハードディスクを備え、フロッピィディスク
から該面積分布抽出プログラムを読み取り、ハードディ
スクにインストールしても良い。また、該面積分布抽出
プログラムを有線または無線のネットワークに電話回線
などの伝送手段により伝送してインストールしても良
い。In the present embodiment, the area distribution extraction program is stored in the ROM of the setter control unit 18. However, the present invention is not limited to this, and the area distribution extraction program is stored on a floppy disk. Alternatively, the computer may be provided with a hard disk, read out the area distribution extraction program from the floppy disk, and installed on the hard disk. Further, the area distribution extraction program may be transmitted to a wired or wireless network by a transmission means such as a telephone line and installed.
【0201】なお、該面積分布抽出プログラムはフロッ
ピィディスクに記憶することに限定されず、CD−RO
M、磁気テープに該プログラムを格納し、該CD−RO
M、磁気テープからパソコンのハードディスクにインス
トールしても良い。また、該面積分布抽出プログラムを
格納したハードディスクを備えるようにしてもよい。さ
らにパソコンのハードディスクやRAMに直接面積分布
抽出プログラムを書き込むようにしてもよい。このよう
に上記面積分布抽出プログラムは、有形の記録媒体及び
伝送手段の少なくとも一方により流通することができ
る。Note that the area distribution extraction program is not limited to being stored on a floppy disk, but may be stored on a CD-RO.
M, the program is stored on a magnetic tape, and the CD-RO
M, a magnetic tape may be installed on the hard disk of the personal computer. Further, a hard disk storing the area distribution extraction program may be provided. Further, the area distribution extraction program may be directly written in the hard disk or RAM of the personal computer. As described above, the area distribution extraction program can be distributed by at least one of a tangible recording medium and a transmission unit.
【0202】[0202]
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、実
際に形成されている画像形成領域に対して適切な温度条
件にすることができ、また、変更のし忘れや入力ミスな
どの操作ミスが生じることなく加熱処理を施すことがで
きる、という効果がある。As described above, according to the present invention, it is possible to set an appropriate temperature condition for an actually formed image forming area, and to perform operations such as forgetting to change or input error. There is an effect that heat treatment can be performed without making a mistake.
【0203】また、画像形成領域以外の未露光部分には
加熱を行わない様に制御する場合は加熱に必要なエネル
ギーを全面一様に加熱する場合と比較して低く抑えるこ
とができ、装置の消費電力を抑えることができるので、
装置のランニングコストを下げ、省エネ化することがで
きる、という効果がある。Further, in the case of controlling not to heat the unexposed portion other than the image forming area, the energy required for heating can be suppressed lower than in the case where the entire surface is uniformly heated. As it can reduce power consumption,
There is an effect that the running cost of the device can be reduced and energy can be saved.
【図1】 本実施の形態の製版システムの概略の流れを
示す説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram showing a schematic flow of a plate making system according to an embodiment.
【図2】 図1に示した自動現像機の概略構成を示す説
明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram showing a schematic configuration of the automatic developing machine shown in FIG.
【図3】 図2に示した自動現像機に含まれる加熱装置
の概略構成を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing a schematic configuration of a heating device included in the automatic developing machine shown in FIG.
【図4】 図3に示した加熱制御部のCPUの作用を示
すフローチャートである。FIG. 4 is a flowchart illustrating an operation of a CPU of a heating control unit illustrated in FIG. 3;
【図5】 図3に示した加熱装置のシャッター機構の移
動状態と加熱対象領域との関係を説明する上面図であ
る。5 is a top view illustrating a relationship between a moving state of a shutter mechanism of the heating device shown in FIG. 3 and a heating target area.
10 パソコン 12 ワークステーション 14 プレートセッター 16 PS版プロセッサー 18 セッター制御部 20 加熱部 22 水洗部 24 現像部 26 水洗部 28 フィニッシャー部 29 乾燥部 30 プロセッサー制御部 31、62、68、72、75、92、94、104
ローラ対 32 加熱装置 34 加熱手段 36 搬送ローラ 38 加熱制御部 40 シャッター機構 42 遠赤外線ヒータ 44 リフレクター 46a、46b 断熱板 48a、48b 移動機構 50a ラック 52a ピニオン 54a、54b モータ 60 水洗層 61、79、91 オーバーフロー管 63 洗浄水タンク 64a、64b 洗浄水供給ノズル 66、71a、71b 回転ブラシローラ 67 バックアップローラ 70 現像槽 73 液面蓋 74 現像液噴射ノズル 76 希釈水噴射ノズル 77 ガイド板 78、96、98 スプレーパイプ 80 廃液タンク 82 現像液貯留層 84 水貯留層 90 水洗槽 93 貯留タンク 100 ガム液槽 102 ガム液噴射ノズル 102a 画像形成領域 102b 画像形成領域 110 PS版DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Personal computer 12 Workstation 14 Plate setter 16 PS plate processor 18 Setter control part 20 Heating part 22 Washing part 24 Developing part 26 Washing part 28 Finisher part 29 Drying part 30 Processor control part 31, 62, 68, 72, 75, 92, 94, 104
Roller pair 32 Heating device 34 Heating means 36 Conveying roller 38 Heating control unit 40 Shutter mechanism 42 Far-infrared heater 44 Reflector 46a, 46b Heat insulating plate 48a, 48b Moving mechanism 50a Rack 52a Pinion 54a, 54b Motor 60 Rinsing layer 61, 79, 91 Overflow pipe 63 Cleaning water tank 64a, 64b Cleaning water supply nozzle 66, 71a, 71b Rotary brush roller 67 Backup roller 70 Developing tank 73 Liquid level cover 74 Developer injection nozzle 76 Dilution water injection nozzle 77 Guide plate 78, 96, 98 spray Pipe 80 Waste liquid tank 82 Developer storage layer 84 Water storage layer 90 Rinse tank 93 Storage tank 100 Gum liquid tank 102 Gum liquid injection nozzle 102a Image forming area 102b Image forming area 110 PS plate
Claims (2)
印刷版の製版方法。 (1)光重合性感光層を有する平版印刷版に画像データ
に基いて露光を行い、露光画像を形成する工程。 (2)上記(1)の工程の前、若しくは後に、 前記画像データから露光画像の画像領域の面積分布情報
を求め、該面積分布情報に基いて加熱分布を決定する工
程。 (3) 上記(1)の工程、及び(2)の工程の後に、 上記(2)の工程で決定した加熱分布で、前記露光画像
が形成された平版印刷版を加熱する工程。 (4) 上記(3)の工程の後に、前記平版印刷版を現
像する工程。1. A method of making a lithographic printing plate comprising the following steps (1) to (4). (1) A step of exposing a lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer based on image data to form an exposed image. (2) A step of obtaining area distribution information of an image area of an exposed image from the image data before or after the step (1), and determining a heating distribution based on the area distribution information. (3) A step of heating the lithographic printing plate on which the exposure image is formed with the heating distribution determined in the step (2) after the steps (1) and (2). (4) A step of developing the lithographic printing plate after the step (3).
平版印刷版の現像を行う前に、前記平版印刷版を加熱す
る加熱手段と、 前記加熱手段により前記光重合性感光層を有する露光処
理済みの平版印刷版を加熱するときに、前記平版印刷版
に形成した画像形成領域の面積分布情報に基いて前記平
版印刷版に与える加熱分布を制御する加熱制御手段と、 を備えた自動現像機。2. A heating means for heating the lithographic printing plate before development of an exposed lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer, and an exposure comprising the photopolymerizable photosensitive layer by the heating means. A heating control means for controlling a heating distribution given to the lithographic printing plate based on area distribution information of an image forming area formed on the lithographic printing plate when heating the processed lithographic printing plate; Machine.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25394399A JP2001075269A (en) | 1999-09-08 | 1999-09-08 | Method for plate-making of planographic plate, and automatic devdeloping machine |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25394399A JP2001075269A (en) | 1999-09-08 | 1999-09-08 | Method for plate-making of planographic plate, and automatic devdeloping machine |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001075269A true JP2001075269A (en) | 2001-03-23 |
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ID=17258159
Family Applications (1)
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JP25394399A Pending JP2001075269A (en) | 1999-09-08 | 1999-09-08 | Method for plate-making of planographic plate, and automatic devdeloping machine |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001075269A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1341047A2 (en) * | 2002-03-01 | 2003-09-03 | Creo Inc. | Apparatus and methods for development of resist patterns |
-
1999
- 1999-09-08 JP JP25394399A patent/JP2001075269A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1341047A2 (en) * | 2002-03-01 | 2003-09-03 | Creo Inc. | Apparatus and methods for development of resist patterns |
EP1341047A3 (en) * | 2002-03-01 | 2005-04-06 | Creo Inc. | Apparatus and methods for development of resist patterns |
US7300728B2 (en) | 2002-03-01 | 2007-11-27 | Kodak Graphic Communications Canada Company | Processor unit with provision for automated control of processing parameters |
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