JP2001109166A - Plate making method for planographic printing plate, automatic developing machine and recording medium - Google Patents

Plate making method for planographic printing plate, automatic developing machine and recording medium

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JP2001109166A
JP2001109166A JP29118299A JP29118299A JP2001109166A JP 2001109166 A JP2001109166 A JP 2001109166A JP 29118299 A JP29118299 A JP 29118299A JP 29118299 A JP29118299 A JP 29118299A JP 2001109166 A JP2001109166 A JP 2001109166A
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JP
Japan
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developing
plate
acid
propen
printing plate
Prior art date
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Application number
JP29118299A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Susumu Yoshida
進 吉田
Takashi Okuno
敬 奥野
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a plate making method for planographic printing plates (PS plates) which is capable of efficiently subjecting the PS plates of different kinds to development processing under developing conditions optimum for the kinds of the respective PS plates without varying the developing conditions regulated by an operation error, etc., and the actual developing conditions in continuously developing the PS plates, an automatic developing machine and a recording medium. SOLUTION: A processor control section 30 of the automatic developing machine 16 online acquires various kinds of set information including at least one of the kinds, thicknesses, sizes, etc., of the plates inputted to a plate setter 14, determines at least one conditions among the temperature of the developer in a developing tank, developing time, the sliding pressure and sliding density of the planographic printing plates by using at least one of the acquired kinds and thicknesses of the PS plates and controls a PS plate processor 16 in such a manner that the determined conditions are attained.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷版の製版
方法、自動現像機、及び記録媒体に係り、特に、感光層
として光重合反応性感光層を備えた平版印刷版の製版方
法、自動現像機、及び記録媒体に関する。
The present invention relates to a method for making a lithographic printing plate, an automatic developing machine, and a recording medium. More particularly, the present invention relates to a method for making a lithographic printing plate having a photopolymerization-sensitive photosensitive layer as a photosensitive layer, and an automatic plate making method. The present invention relates to a developing machine and a recording medium.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、感光性平版印刷版(以下「PS
版」という)は、感光性平版印刷版処理装置(以下「P
S版プロセッサー」という)によって現像処理される。
このPS版プロセッサーにおいて現像処理は、画像が記
録されたPS版を現像槽内に複数対の挟持ローラ及びガ
イド板により搬送しながら現像槽に貯留された現像液に
浸漬し、現像液中に設けた回転ブラシローラ等の擦り手
段によってPS版の非画像形成領域分の感光層を除去す
ることによりなされる。このPS版プロセッサーでは、
現像液による処理が終了したPS版は、水洗部で洗浄水
によって水洗いされた後(水洗処理)、不感脂化処理部
でガム液が塗布されることにより不感脂化処理が施され
た後、版面保護等の処理が連続して行われる。
2. Description of the Related Art In general, a photosensitive lithographic printing plate (hereinafter referred to as "PS
Plate) is a photosensitive lithographic printing plate processing apparatus (hereinafter referred to as “P”).
S "processor").
In this PS plate processor, the developing process is carried out by immersing the PS plate on which the image is recorded in the developer stored in the developer tank while transporting the PS plate into the developer tank by a plurality of pairs of nipping rollers and guide plates, and providing the PS plate in the developer. This is done by removing the photosensitive layer in the non-image forming area of the PS plate by rubbing means such as a rotating brush roller. In this PS version processor,
The PS plate that has been processed with the developer is washed with washing water in a washing section (washing treatment), and then subjected to a degreasing treatment by applying a gum solution in a desensitizing treatment section. Processing such as plate surface protection is continuously performed.

【0003】PS版を現像槽内で搬送しながら擦って非
画像形成領域分の感光層を除去する回転ブラシローラ
は、PS版の幅方向両端部でPS版プロセッサーの側板
に支持されている。PS版を挟んで回転ブラシローラと
対向する側には、PS版を回転ブラシローラに押し付け
るバックアップローラが設けられている。バックアップ
ローラの両端は、軸受を介して前記側板に回転可能に支
持されており、駆動手段の駆動力で回転し、回転ブラシ
ローラでPS版の表面を処理している。
A rotating brush roller for removing the photosensitive layer in the non-image forming area by rubbing the PS plate while transporting the PS plate in a developing tank is supported by side plates of a PS plate processor at both ends in the width direction of the PS plate. A backup roller that presses the PS plate against the rotating brush roller is provided on the side facing the rotating brush roller with the PS plate interposed therebetween. Both ends of the backup roller are rotatably supported by the side plates via bearings, rotate by the driving force of a driving unit, and treat the surface of the PS plate with a rotating brush roller.

【0004】この回転ブラシローラとバックアップロー
ラの軸受は、PS版の搬送方向に対して垂直方向にPS
版に対し所定のニップ圧や相当するブラシ圧を加える位
置で側板にビス止めされている。このため、回転ブラシ
ローラとバックアップローラとの間をPS版が通過する
ときに適度な擦り圧が加えられ、PS版を確実に処理す
ることができる。
[0004] The bearings of the rotating brush roller and the backup roller are arranged in a direction perpendicular to the PS plate transport direction.
The plate is screwed to the side plate at a position where a predetermined nip pressure or a corresponding brush pressure is applied. Therefore, when the PS plate passes between the rotating brush roller and the backup roller, an appropriate rubbing pressure is applied, and the PS plate can be reliably processed.

【0005】なお、PS版には、版厚、版サイズ、版種
等の様々な組合せによる多数の種類があり、それぞれの
PS版毎に最適な現像液の温度、現像時間、及び回転ブ
ラシローラ等の擦り部材による擦り圧等の現像条件も、
それぞれ異なる。そのため、従来より、現像を開始する
前に、現像液を加熱するヒータの温度、PS版の搬送速
度、回転ブラシローラ等の擦り部材によるニップ圧や回
転数等をそれぞれ手動で調整して、現像するPS版の種
類に合わせた現像液の温度、現像時間、擦り圧、及び擦
り密度となるようにPS版プロセッサーを調整してか
ら、現像を開始するようにしている。
There are many types of PS plates according to various combinations of plate thickness, plate size, plate type, and the like. The optimum developer temperature, developing time, and rotating brush roller for each PS plate are selected. Developing conditions such as rubbing pressure by rubbing members such as
Each is different. Therefore, conventionally, before the development is started, the temperature of the heater for heating the developer, the conveying speed of the PS plate, the nip pressure and the number of rotations of the rubbing member such as a rotating brush roller, etc. are manually adjusted, and the development is performed. The development is started after the PS plate processor is adjusted so that the temperature, development time, rubbing pressure, and rubbing density of the developer correspond to the type of PS plate to be used.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、異なる
種類のPS版の現像を連続して行う場合、次に現像する
PS版に適した現像条件となるようにその都度手動でP
S版プロセッサーを調整する必要があるため、変更のし
忘れや調整ミスなどの操作ミスが生じることは避けられ
ず、操作ミス等により設定した現像条件が異なると、所
望の画質の版が得られないため、新たに露光処理からし
なおさねばならず、多大な損失が出てしまうという問題
がある。
However, in the case of successively developing different types of PS plates, the P plates must be manually adjusted each time so that the developing conditions suitable for the next PS plate are developed.
Since it is necessary to adjust the S-plate processor, it is inevitable that operation mistakes such as forgetting to make changes or adjustment mistakes will occur.If the development conditions set due to operation mistakes and the like differ, a plate with the desired image quality can be obtained. Therefore, there is a problem that the exposure process has to be newly performed, resulting in a large loss.

【0007】また、ユーザが手動でPS版プロセッサー
を調整してから、PS版プロセッサーが調整された条件
となるまでの時間待機してから現像を行わなければなら
ず、作業効率が悪いという問題もある。
In addition, the user must manually adjust the PS plate processor, wait for a time until the PS plate processor reaches the adjusted condition, and then perform development. is there.

【0008】さらに、一般に、PS版の感光層として
は、ジアゾ樹脂や、光架橋型や、光重合型が使用されて
いる。光重合性感光層は、ラジカル重合であるため、露
光中に散乱光によりかぶりを受けやすい。この散乱光か
ぶりはインナードラム型の露光装置において顕著であ
る。
Further, generally, a diazo resin, a photocrosslinking type, or a photopolymerization type is used as a photosensitive layer of a PS plate. The photopolymerizable photosensitive layer is susceptible to fogging due to scattered light during exposure because it is radical polymerization. This scattered light fog is remarkable in an inner drum type exposure apparatus.

【0009】散乱光により生じたかぶり部分は、若干感
光層が硬化した状態であるため、現像温度の振れや、補
充液量の振れ、及び現像液中でPS版を擦って現像を促
進させる回転ブラシローラなどの現像促進手段の条件の
振れなどにより、現像ムラとして残ってしまい、版の品
質を落す大きな要因となっている。
The fogged portion caused by the scattered light is a state in which the photosensitive layer is slightly cured, so that the fluctuation of the developing temperature, the fluctuation of the amount of the replenisher, and the rotating brush which accelerates the development by rubbing the PS plate in the developer. Due to fluctuations in the conditions of the development accelerating means such as a roller, the unevenness remains as development unevenness, which is a major factor in lowering the quality of the plate.

【0010】以上のことから、本発明は、異なる種類の
PS版を連続的に現像する際に、操作ミス等により調整
した現像条件と実際の現像条件とが異なることなく、そ
れぞれのPS版の種類に最適な現像条件で効率よく現像
処理が可能な平版印刷版の製版方法、自動現像機、及び
記録媒体を得ることを目的とする。
In view of the above, the present invention provides a method of continuously developing different types of PS plates without changing the development conditions adjusted due to an operation error or the like and the actual development conditions. It is an object of the present invention to obtain a lithographic printing plate making method, an automatic developing machine, and a recording medium capable of efficiently performing development processing under development conditions optimal for the type.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1の発明の平版印刷版の製版方法は、光重合
性感光層を有する平版印刷版を画像データに基いて露光
する露光工程と、該露光工程の前又は後に、前段の工程
で使用した版情報に基づき、前記露光工程で露光された
平版印刷版を現像する際の現像条件を決定する現像条件
決定工程と、該現像条件決定工程で決定された現像条件
となるように、現像槽内の現像液の温度、現像時間、平
版印刷版の擦り圧、及び擦り密度の少なくとも1つを調
整する現像条件調整工程と、前記現像条件調整工程の後
に、現像する現像工程と、を含んでいる。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a lithographic printing plate making method comprising the steps of: exposing a lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer to light based on image data. Before or after the exposure step, based on the plate information used in the previous step, a development condition determination step of determining development conditions when developing the lithographic printing plate exposed in the exposure step, A developing condition adjusting step of adjusting at least one of the temperature of the developing solution in the developing tank, the developing time, the rubbing pressure of the lithographic printing plate, and the rubbing density so that the developing conditions determined in the condition determining step are satisfied; A developing step of developing after the developing condition adjusting step.

【0012】すなわち、請求項1の発明では、露光工程
で露光処理された光重合性感光層を有する平版印刷版を
現像する際に、現像条件を、平版印刷版の露光処理前又
は後に、前段の工程で使用した版情報に基いて決定し
(現像条件決定工程)、該決定された現像条件となるよ
うに、現像槽内の現像液の温度、現像時間、平版印刷版
の擦り圧、及び擦り密度の少なくとも1つを調整した
(現像条件調整工程)後、前記平版印刷版を現像する(現
像工程)。
That is, according to the first aspect of the invention, when developing a lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer that has been exposed in the exposure step, the developing conditions are changed before or after the exposure processing of the lithographic printing plate. Is determined based on the plate information used in the step (development condition determining step), and the temperature of the developer in the developing tank, the development time, the rub pressure of the lithographic printing plate, and Adjusted at least one of the rub densities
After the (developing condition adjusting step), the lithographic printing plate is developed (developing step).

【0013】版情報は、版厚及び版種の少なくとも一方
を含んでおり、現像条件決定工程では、前段の工程で使
用した版情報に含まれる版厚及び版種の少なくとも一方
を用いて現像槽内の現像液の温度、現像時間、平版印刷
版の擦り圧、及び擦り密度の少なくとも1つの現像条件
を決定する。
The plate information includes at least one of a plate thickness and a plate type. In the developing condition determining step, a developing tank is used by using at least one of the plate thickness and the plate type included in the plate information used in the previous step. At least one developing condition of the temperature of the developing solution, the developing time, the rub pressure of the lithographic printing plate, and the rub density is determined.

【0014】なお、現像槽内の現像液の温度は、現像液
を加熱するヒータなどの加熱手段や、現像液を冷却する
チラーなどの冷却手段、さらに、加熱手段と冷却手段と
からなる温度調整手段などの温度を制御することにより
調整できる。また、現像時間は平版印刷版の搬送速度を
制御することにより調整できる。さらに、平版印刷版の
擦り圧は擦り部材による平版印刷版のニップ圧を制御す
ることにより調整でき、擦り密度は、例えば、回転ブラ
シローラの回転数などの平版印刷版の表面を擦る擦り部
材の移動速度を制御することにより調整できる。
The temperature of the developing solution in the developing tank is controlled by a heating means such as a heater for heating the developing solution, a cooling means such as a chiller for cooling the developing solution, and a temperature control comprising a heating means and a cooling means. It can be adjusted by controlling the temperature of the means. The development time can be adjusted by controlling the transport speed of the lithographic printing plate. Further, the rubbing pressure of the lithographic printing plate can be adjusted by controlling the nip pressure of the lithographic printing plate by the rubbing member, and the rubbing density is, for example, a rubbing member for rubbing the surface of the lithographic printing plate such as the number of rotations of a rotating brush roller. It can be adjusted by controlling the moving speed.

【0015】例えば、版情報が版種を含む場合は、版種
に応じた現像液の温度、現像時間を決定し、該決定した
温度の現像液中に平版印刷版が決定した現像時間現像液
中に浸漬されるように、現像液を加熱するヒータなどの
加熱手段の温度、及び、平版印刷版の搬送速度を調整す
る。なお、加熱手段の温度、及び、平版印刷版の搬送速
度を版種に応じて直接決定するように構成することもで
きる。
For example, when the plate information includes the type of plate, the temperature and development time of the developer according to the type of plate are determined, and the development time of the lithographic printing plate determined in the developer of the determined temperature is determined. The temperature of a heating means such as a heater for heating the developer and the transport speed of the lithographic printing plate are adjusted so that the lithographic printing plate is immersed in the lithographic printing plate. The temperature of the heating means and the transport speed of the lithographic printing plate may be directly determined according to the type of the plate.

【0016】また、版情報が版厚を含む場合は、版厚に
よって擦り圧を決定し、該決定した擦り圧となるよう
に、平版印刷版のニップ圧や、回転ブラシローラなどの
擦り部材の移動速度を調整する。なお、平版印刷版のニ
ップ圧や、回転ブラシローラなどの擦り部材の移動速度
を版厚に応じて直接決定するように構成することもでき
る。
When the plate information includes the plate thickness, the rubbing pressure is determined according to the plate thickness, and the nip pressure of the planographic printing plate or the rubbing member such as a rotary brush roller is determined so as to achieve the determined rubbing pressure. Adjust the moving speed. The nip pressure of the lithographic printing plate and the moving speed of a rubbing member such as a rotating brush roller may be directly determined in accordance with the plate thickness.

【0017】好ましくは、版情報が、版厚と版種の両方
を含み、これら版厚と版種の両方を用いて現像槽内の現
像液の温度、現像時間、平版印刷版の擦り圧、及び平版
印刷版の擦り密度の条件を決定し、それぞれの条件とな
るように現像液の温度制御、搬送手段の搬送速度、擦り
部材のニップ圧及び移動速度などを調整するとよい。こ
れにより、より最適な現像条件でPS版の現像処理を行
える。
Preferably, the plate information includes both the plate thickness and the plate type, and using both the plate thickness and the plate type, the temperature of the developer in the developing tank, the developing time, the rub pressure of the lithographic printing plate, The conditions of the rub density of the lithographic printing plate may be determined, and the temperature control of the developer, the transport speed of the transport unit, the nip pressure and the moving speed of the rubbing member, etc. may be adjusted to satisfy the respective conditions. This allows the PS plate to be developed under more optimal developing conditions.

【0018】また、現像条件決定工程では、版情報を前
段の工程で使用したものを用いているため、ユーザによ
り入力する必要がなく、よってユーザによる変更のし忘
れや入力ミスなどの操作ミスが生じることがない。した
がって、常に現像対象の平版印刷版に最適な現像条件に
調整することができる。
Further, in the development condition determination step, since the plate information used in the previous step is used, it is not necessary for the user to input the information. Will not occur. Therefore, it is always possible to adjust the developing conditions to the optimum for the planographic printing plate to be developed.

【0019】なお、「前段の工程」とは、前記現像条件
決定工程が露光工程の前である場合は、露光工程より前
の複数の工程の中から選択した工程であり、前記現像条
件決定工程が露光工程の後である場合は、その前に露光
工程を含む複数の工程の中から選択した工程である。
Note that the "previous step" is a step selected from a plurality of steps before the exposure step when the development condition determination step is before the exposure step. Is a step selected from a plurality of steps including an exposure step before the exposure step.

【0020】また、現在現像している平版印刷版の種類
と次に現像する平版印刷版の種類とが異なる場合に、現
像条件決定工程で、次に現像する平版印刷版の露光中又
はそれよりも前に次に現像する平版印刷版の種類に適し
た現像条件を予め決定しておき、現在現像している平版
印刷版の現像処理の終了後、ただちに現像条件を次に現
像する平版印刷版の種類適した現像条件に変更するよう
に構成できる。これにより、待機時間を短縮できるの
で、効率的である。
In the case where the type of the lithographic printing plate currently being developed is different from the type of the lithographic printing plate to be developed next, the developing condition determining step may be performed during or after the exposure of the lithographic printing plate to be developed next. Developing conditions suitable for the type of lithographic printing plate to be developed next are determined in advance, and after the development process of the lithographic printing plate currently being developed is completed, the developing conditions are immediately changed to the next lithographic printing plate. It can be configured to change to the development conditions suitable for the type. As a result, the waiting time can be reduced, which is efficient.

【0021】また、現像工程の前に、露光画像が形成さ
れた平版印刷版を加熱する加熱工程を設けることもでき
る。この場合、現像処理前の平版印刷版の表面温度が均
一化されるので、露光後の雰囲気や時間差による反応の
ムラを押さえることができ、感光層の刷耐力を向上でき
るとともに、網点の大きさを均一に形成できるので、よ
り画像品質の良好な製版が得られる。
Before the developing step, a heating step of heating the lithographic printing plate on which the exposed image has been formed can be provided. In this case, since the surface temperature of the lithographic printing plate before the development treatment is made uniform, it is possible to suppress the unevenness of the reaction due to the atmosphere and the time difference after the exposure, to improve the printing durability of the photosensitive layer, and to increase the dot size. Since the uniformity can be formed, plate making with better image quality can be obtained.

【0022】また、請求項2に記載した発明は、上記請
求項1に記載の平版印刷版の製版方法に適した自動現像
機であり、露光処理済みの光重合性感光層を有する平版
印刷版を現像槽内に搬送し、現像槽内に充填された現像
液に浸漬させて現像処理を行う現像手段と、前段の装置
が使用した版情報に基づいて現像する際の現像条件を決
定する現像条件決定手段と、前記現像条件決定手段によ
って決定された現像条件となるように、現像槽内の現像
液の温度、平版印刷版の搬送速度、平版印刷版の擦り
圧、及び擦り密度の少なくとも1つを調整する調整手段
と、を備えている。
According to a second aspect of the present invention, there is provided an automatic developing machine suitable for the method of making a lithographic printing plate according to the first aspect, wherein the lithographic printing plate has an exposed photopolymerizable photosensitive layer. Transporting the developer into the developing tank and immersing it in the developing solution filled in the developing tank to perform the developing process, and developing the developing device to determine the developing conditions when developing based on the plate information used by the preceding apparatus. At least one of a temperature of a developer in a developing tank, a conveying speed of a lithographic printing plate, a rubbing pressure of the lithographic printing plate, and a rubbing density such that the developing conditions determined by the condition determining means and the developing condition determining means are satisfied. Adjusting means for adjusting one of the two.

【0023】すなわち、請求項2の発明では、自動現像
機の現像条件決定手段が前段の工程で使用した版情報に
基いて現像する際の現像条件を決定し、調整手段が決定
した現像条件となるように現像槽内の現像液の温度、平
版印刷版の搬送速度、平版印刷版の擦り圧、及び擦り密
度の少なくとも1つを調整するため、常に現像対象とな
る平版印刷版に最適な現像条件とすることができ、画像
ムラのない均一な刷版を得ることができる。もちろん、
散乱光により生じたかぶり部分もきれいに現像でき、版
の品質を損なうことを防止できる。
That is, according to the second aspect of the invention, the developing condition determining means of the automatic developing machine determines the developing condition for developing based on the plate information used in the preceding step, and the adjusting condition determines the developing condition. In order to adjust at least one of the temperature of the developer in the developing tank, the transport speed of the lithographic printing plate, the rubbing pressure of the lithographic printing plate, and the rubbing density, optimal development is always performed for the lithographic printing plate to be developed. The conditions can be satisfied, and a uniform printing plate without image unevenness can be obtained. of course,
The fogged portion caused by the scattered light can also be developed neatly, and the quality of the plate can be prevented from being impaired.

【0024】また、現像条件決定手段は前段の工程で使
用した版情報を用いているため、自動現像装置にユーザ
が非画像形成領域の面積情報及び版情報を入力する必要
がなく、よってユーザによる変更のし忘れや入力ミスな
どの操作ミスが生じることがない。
Further, since the developing condition determining means uses the plate information used in the preceding step, the user does not need to input the area information and the plate information of the non-image forming area to the automatic developing apparatus, and therefore, the user does not need to input the information. Operation errors such as forgetting to make changes and input errors do not occur.

【0025】このような現像条件の調整は、請求項3に
記載したように、露光処理済みの光重合性感光層を有す
る平版印刷版を搬送しながら現像処理する際の現像条件
を前段の工程で使用した版情報に基いて決定し、該決定
した現像条件となるように、現像槽内の現像液の温度、
平版印刷版の搬送速度、平版印刷版の擦り圧、及び擦り
密度の少なくとも1つを調整する現像条件調整プログラ
ムにより行う。この現像条件調整プログラムは、予め自
動現像機の記録媒体に記録させていても良いし、自動現
像機とは別体の記録媒体に記憶させ、該記録媒体からイ
ンストールしてもよい。
As described in claim 3, the adjustment of the developing conditions is carried out by adjusting the developing conditions when developing the lithographic printing plate having the exposed photopolymerizable photosensitive layer while transporting the lithographic printing plate. Determined on the basis of the plate information used in the above, the temperature of the developer in the developing tank,
This is performed by a developing condition adjusting program for adjusting at least one of the transport speed of the lithographic printing plate, the rubbing pressure of the lithographic printing plate, and the rubbing density. The developing condition adjusting program may be recorded in advance on a recording medium of an automatic developing machine, or may be stored on a recording medium separate from the automatic developing machine and installed from the recording medium.

【0026】また、前記版情報は、前段の工程の装置か
らオンライン又は記録媒体などに一旦記憶させ、該記録
媒体から取得する等のように、オフラインで取得または
入力したものを使用することができる。
The version information may be obtained or input off-line, such as by temporarily storing the version information online or in a recording medium from the apparatus in the preceding step, and acquiring the version information from the recording medium. .

【0027】また、本発明で用いる光重合性感光層を有
する平版印刷版は、支持体上に、光重合性感光層と、該
感光層を保護するための保護層とが順に積層された感光
性平板印刷版が好適である。
Further, the lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer used in the present invention has a photosensitive composition in which a photopolymerizable photosensitive layer and a protective layer for protecting the photosensitive layer are sequentially laminated on a support. A lithographic printing plate is preferred.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態の一例を詳細に説明する。本実施の形態では、
図1に示す様に、パソコン10、ワークステーション1
2、プレートセッター(露光装置)14、及びPS版プ
ロセッサー(自動現像装置)16から構成された製版シ
ステムに本発明を適用した場合について説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the present embodiment,
As shown in FIG. 1, a personal computer 10, a workstation 1
2. A case where the present invention is applied to a plate making system including a plate setter (exposure device) 14 and a PS plate processor (automatic developing device) 16 will be described.

【0029】また、本実施の形態で用いる感光性平版印
刷板(以下、PS版と称す。)としては、裏面にバック
コート層が設けられたアルミニウム支持体の表面に有機
下塗層、光重合性感光層、オーバーコート層が順に設け
られた構成のものとすることができる。なお、PS版の
詳細については後述する。
The photosensitive lithographic printing plate (hereinafter, referred to as PS plate) used in the present embodiment includes an organic undercoat layer on the surface of an aluminum support provided with a back coat layer on the back surface, and a photopolymerization. And a layer in which a photosensitive layer and an overcoat layer are sequentially provided. The details of the PS plate will be described later.

【0030】本実施の形態の製版システムは、パソコン
10、ワークステーション12、プレートセッター1
4、及びPS版プロセッサー16が全てオンライン接続
されており、パソコン10に入力された画像データ、版
厚、及び版種などの各種設定情報(版情報)がオンライン
でPS版プロセッサー16にまで出力可能である。
The plate making system according to the present embodiment comprises a personal computer 10, a work station 12, a plate setter 1
4 and the PS plate processor 16 are all connected online, and various setting information (plate information) such as image data, plate thickness, and plate type input to the personal computer 10 can be output to the PS plate processor 16 online. It is.

【0031】パソコン10には、例えば、スキャナーな
どの画像読取手段から読み込んだ画像をディスプレイに
表示しながら編集したり、ディスプレイ上に文字や画像
を新規に作成し、印刷対象の画像を作成するアプリケー
ションがインストールされている。
The personal computer 10 includes, for example, an application that edits an image read from image reading means such as a scanner while displaying the image on a display, creates a new character or image on the display, and creates an image to be printed. Is installed.

【0032】このアプリケーションは、ユーザにより作
成された画像を、例えば、アウトラインや、塗りつぶし
領域の面積率及び塗りつぶし領域の透過率等を指示する
描画コマンド等のベクトル形式の画像データとしてワー
クステーション12に出力する。また、画像の作成と同
時にキーボードからユーザによって入力された、例え
ば、露光対象となるPS版の版種、版厚、及び版サイズ
等の各種設定情報と、PPF(Print Production Forma
t)データを、前記ベクトル形式の画像データと共にワー
クステーション12に出力する。なお、PPFデータ
は、CIP3(International Cooperation for Integr
ation of Prepress, Press and Postpress)の核となる
ファイル形式であり、低解像度の画像データ、フィルム
と版の転移特性カーブ、トンボの種類と位置データ、品
質管理のための色彩濃度情報、及び裁ちトンボと断裁の
ための情報を含む国際標準規格の共通フォーマットであ
る。
This application outputs the image created by the user to the workstation 12 as vector-format image data such as an outline, a drawing command for designating the area ratio of the filled area, the transmittance of the filled area, and the like. I do. In addition, various setting information such as a plate type, a plate thickness, and a plate size of a PS plate to be exposed, which is input by a user from a keyboard at the same time as the creation of an image, and a PPF (Print Production Format).
t) Output the data to the workstation 12 together with the vector format image data. The PPF data is based on CIP3 (International Cooperation for Integr
This is the core file format of the ation of Prepress, Press and Postpress), including low-resolution image data, film and plate transition characteristic curves, registration mark type and position data, color density information for quality control, and trimming registration marks. It is a common format of international standards including information for cutting and cutting.

【0033】ワークステーション12には、ラスタイメ
ージプロセッサー(以下、RIPと称す。)、プレート
セッター14のドライバーソフトがインストールされて
いる。
The workstation 12 has a raster image processor (hereinafter referred to as RIP) and driver software for the platesetter 14 installed therein.

【0034】RIPは、ベクトル形式の画像データを解
釈して階調を持ったドットの並びとして展開するプログ
ラムであり、TIFF形式のファイル(以下、TIFF
ファイルと称す。)やGIFファイル等のラスタ形式の
画像データに変換するアプリケーションであり、本実施
の形態では、ベクトル形式の画像データをタグ形式のヘ
ッダ部とイメージデータ部とから構成されたTIFFフ
ァイルに変換する。
The RIP is a program that interprets vector-format image data and develops it as an array of dots having gradations. A TIFF-format file (hereinafter, TIFF)
Called a file. ) Or a GIF file or the like, and in this embodiment, converts vector-format image data into a TIFF file composed of a tag-format header section and an image data section.

【0035】プレートセッター14のドライバーソフト
はTIFFファイル、上述した各種設定情報、及びPP
Fデータを、プレートセッター14で解析できるイメー
ジフォーマットに変換してプレートセッター14に出力
するソフトウエアである。
The driver software of the plate setter 14 includes a TIFF file, the various setting information described above,
This is software that converts F data into an image format that can be analyzed by the platesetter 14 and outputs it to the platesetter 14.

【0036】したがって、ワークステーション12で
は、パソコン10から入力された描画コマンド等のベク
トル形式の画像データをTIFFファイルに変換した
後、このTIFFファイル、各種設定情報を、プレート
セッター14のドライバーソフトが、プレートセッター
14で解析できるイメージフォーマットに変換した後、
PPFデータと共にプレートセッター14に出力する。
Therefore, in the workstation 12, after converting vector-format image data such as a drawing command input from the personal computer 10 into a TIFF file, the TIFF file and various setting information are converted by the driver software of the plate setter 14 into After converting to an image format that can be analyzed by the platesetter 14,
The data is output to the platesetter 14 together with the PPF data.

【0037】プレートセッター14は、ROM、RAM
及びCPUからなるセッター制御部18を含んでいる。
ROMにはプレートセッター14を制御するための各種
プログラムが記憶され、RAMには、プレートセッター
14で解析できるイメージフォーマット形式のTIFF
ファイル、各種設定情報、及びPPFデータが一旦記憶
される。
The plate setter 14 includes a ROM and a RAM.
And a setter control section 18 composed of a CPU.
Various programs for controlling the plate setter 14 are stored in the ROM, and a TIFF in an image format that can be analyzed by the plate setter 14 is stored in the RAM.
Files, various setting information, and PPF data are temporarily stored.

【0038】CPUは、ROMから各種プログラムを呼
び出し、該プログラムに基いてRAMから読み込んだT
IFFファイル及び前述した各種設定情報、及びPPF
データに基いて、例えば、プレートセッター14の搬送
手段(図示せず)の搬送速度を制御するための制御信号
やレーザ光源(図示せず)のオンオフ駆動信号、及び光
量の調整を行うためのレーザ駆動信号などの各種制御信
号を生成し、該各種制御信号によるプレートセッター1
4の駆動制御を行う。これにより、プレートセッター1
4は、パソコン10上で選択された画像に応じて最適な
条件でPS版110の露光処理を行うこととなる。
The CPU calls various programs from the ROM, and reads T from the RAM based on the programs.
IFF file, various setting information described above, and PPF
Based on the data, for example, a control signal for controlling a transport speed of a transport unit (not shown) of the plate setter 14, an on / off driving signal of a laser light source (not shown), and a laser for adjusting the light amount It generates various control signals such as drive signals, and generates a plate setter 1 based on the various control signals.
4 is performed. Thereby, the plate setter 1
In step 4, exposure processing of the PS plate 110 is performed under optimum conditions according to the image selected on the personal computer 10.

【0039】プレートセッター14としては、エクスタ
ードラム(アウタードラム)型、フラットベット型、及
び、インナードラム型のものを用いることができる。ま
た、使用する光源としては、例えば、InGaN系の半
導体レーザなどの紫外から可視光領域(360nm〜4
50nm)の半導体レーザや、488nmや514.5
nmのArレーザ、532nmのFD−YAGレーザ等
を用いたものが、出力、寿命、安定性、及びコスト面な
どで好ましい。
As the plate setter 14, an outer drum (outer drum) type, a flat bed type, and an inner drum type can be used. The light source used is, for example, an ultraviolet to visible light region (360 nm to 4 nm) such as an InGaN semiconductor laser.
50 nm) semiconductor laser, 488 nm or 514.5.
A laser using an Ar laser of 532 nm, a FD-YAG laser of 532 nm, or the like is preferable in terms of output, life, stability, cost, and the like.

【0040】なお、光源として、例えば、InGaN系
の半導体レーザなどの紫外から可視光領域(360nm
〜450nm)の半導体レーザを用いた構成とすること
で、インナードラム型のプレートセッターであってもか
ぶりの発生が少なく、露光量を増加させることができる
ので、耐刷性を向上できるという利点がある。
As a light source, for example, an ultraviolet to visible light region (360 nm
With the use of a semiconductor laser having a thickness of up to 450 nm, fogging can be reduced even with an inner drum type plate setter, and the exposure amount can be increased, so that the printing durability can be improved. is there.

【0041】その理由としては、明確ではないが、下記
のように推定できる。すなわち、PS版の感光層で吸収
しきれなかったレーザ光がPS版の表面から反射光とな
って出てくるが、この反射光の波長が長いほど正反射効
率が高く、反射光の波長が短いほど、散乱して正反射効
率が減少する。そのため、紫外から可視光領域(360
nm〜450nm)の半導体レーザを用いたインナード
ラム型のプレートセッターを用いることにより、正反射
効率が減少し、正反射光によるかぶりの発生が低く抑え
られると考えられる。
Although the reason is not clear, it can be estimated as follows. That is, the laser light that cannot be absorbed by the photosensitive layer of the PS plate emerges as reflected light from the surface of the PS plate. The longer the wavelength of the reflected light, the higher the regular reflection efficiency, and the longer the wavelength of the reflected light. As the length is shorter, the light is scattered and the regular reflection efficiency is reduced. Therefore, from the ultraviolet to the visible light region (360
It is considered that the use of an inner drum type plate setter using a semiconductor laser of (nm to 450 nm) reduces the regular reflection efficiency and suppresses the occurrence of fog due to regular reflection light.

【0042】勿論、インナードラム型のプレートセッタ
ーに限らず、エクストラドラム(アウタードラム)型のプ
レートセッター、フラッドヘッド型のプレートセッター
等種々の露光処理方法を採用することも可能である。な
お、プレートセッター14の露光処理については公知の
ため、ここでは詳細な説明は省略する。
Of course, not only the inner drum type plate setter but also various exposure processing methods such as an extra drum (outer drum) type plate setter and a flood head type plate setter can be adopted. In addition, since the exposure processing of the plate setter 14 is publicly known, detailed description is omitted here.

【0043】さらに、セッター制御部18のROMに
は、PS版プロセッサー16のドライバーソフトがイン
ストールされており、版種、版厚、及び版サイズなどの
各種設定情報を、PS版プロセッサー16のドライバー
ソフトが、PS版プロセッサー16で解析できるフォー
マットに変換した後、PPFデータと共にPS版プロセ
ッサー16に出力する。
Further, a driver software for the PS plate processor 16 is installed in the ROM of the setter control unit 18, and various setting information such as a plate type, a plate thickness, and a plate size are stored in the ROM of the PS plate processor 16. Is converted into a format that can be analyzed by the PS version processor 16 and then output to the PS version processor 16 together with the PPF data.

【0044】PS版プロセッサー16は、図2に示すよ
うに、大別して、加熱部20、第1水洗部22、現像部
24、第2水洗部26、フィニッシャー部28、乾燥部
29及びプロセッサー制御部30から構成され、複数対
の搬送ローラから構成された搬送機構により、PS版が
加熱部20から第1水洗部22、現像部24、第2水洗
部26、フィニッシャー部28及び乾燥部29の順に搬
送される構成である。
As shown in FIG. 2, the PS plate processor 16 is roughly divided into a heating unit 20, a first washing unit 22, a developing unit 24, a second washing unit 26, a finisher unit 28, a drying unit 29, and a processor control unit. The PS plate is heated from the heating unit 20 to the first rinsing unit 22, the developing unit 24, the second rinsing unit 26, the finisher unit 28, and the drying unit 29 in this order by a transport mechanism composed of a plurality of pairs of transport rollers. It is a configuration to be transported.

【0045】加熱部20は、図示しない駆動手段の駆動
力が伝達される引き込みローラ対31と、加熱装置32
とから構成され、引き込みローラ対31は、露光済みの
PS版110を挟持した状態でPS版110の搬送方向
に沿って回転することによってPS版110をPS版プ
ロセッサー16の内部に引き込む。
The heating unit 20 includes a pair of pull-in rollers 31 to which a driving force of a driving unit (not shown) is transmitted, and a heating device 32.
The pull-in roller pair 31 pulls the PS plate 110 into the PS plate processor 16 by rotating along the transport direction of the PS plate 110 while holding the exposed PS plate 110 therebetween.

【0046】加熱装置32は、PS版プロセッサー16
の内部に引き込まれたPS版110を加熱する。現像処
理前にPS版110を加熱することによって、PS版1
10の光重合性感光層における画像形成領域(すなわ
ち、露光領域)の硬化を促進させる。なお、本実施の形
態では、加熱部20の加熱条件を決定するための前記各
種設定情報も前段の装置からオンラインで取得して一旦
RAMに記憶した後、記憶された前記各種設定情報に基
いてヒータの駆動電圧を制御している。
The heating device 32 is provided with the PS plate processor 16.
The PS plate 110 drawn inside is heated. By heating the PS plate 110 before the development processing, the PS plate 1 is heated.
The curing of the image forming area (that is, the exposed area) in the photopolymerizable photosensitive layer is accelerated. In the present embodiment, the various setting information for determining the heating condition of the heating unit 20 is also acquired online from the preceding device, temporarily stored in the RAM, and then based on the stored various setting information. The heater drive voltage is controlled.

【0047】これにより、PS版の表面温度を、PS版
110の版種、版厚、版サイズの組合せに最適な加熱条
件で、かつ、プレートセッター14の露光部内の温度又
は加熱処理する前のPS版110の温度に関わらず均一
にすることができ、熱処理不足や熱処理オーバー等の不
都合を解消でき、良好な加熱処理を行うことができる。
また、ユーザが各種設定情報を入力する必要がないた
め、操作ミス等による損失などの発生を回避でき、ま
た、つぎの加熱条件への切り換えが効率よく行えるの
で、露光処理から及び現像処理にわたっての処理効率も
向上できる。
Thus, the surface temperature of the PS plate is adjusted under the optimum heating conditions for the combination of the type, thickness and size of the PS plate 110, and the temperature in the exposed portion of the plate setter 14 or the temperature before the heat treatment. The uniformity can be achieved irrespective of the temperature of the PS plate 110, problems such as insufficient heat treatment and excessive heat treatment can be eliminated, and favorable heat treatment can be performed.
Further, since there is no need for the user to input various setting information, it is possible to avoid occurrence of a loss due to an operation error or the like, and it is possible to efficiently switch to the next heating condition. Processing efficiency can also be improved.

【0048】加熱部20において、加熱処理されたPS
版110は、後段に設けられた第1水洗部22に搬送さ
れる。
In the heating section 20, the heat-treated PS
The plate 110 is transported to a first washing section 22 provided at a later stage.

【0049】第1水洗部22は、図2に示すように、第
1水洗槽60内に、PS版110の搬送方向に沿って上
流側から順に、図示しない駆動手段の駆動力が伝達され
る引き込みローラ対62、第1水供給ノズル64a、第
1回転ブラシローラ66及び第1バックアップローラ6
7、第2水供給ノズル64b、第3水供給ノズル64
c、図示しない駆動手段の駆動力が伝達される搬送ロー
ラ対68、及び送り出しローラ対72を備え、現像前に
水洗することによってPS版110最表面に形成されて
いるオーバーコート層を除去する。
As shown in FIG. 2, the first rinsing unit 22 transmits the driving force of a driving unit (not shown) to the first rinsing tank 60 in order from the upstream side along the transport direction of the PS plate 110. Pull-in roller pair 62, first water supply nozzle 64a, first rotating brush roller 66, and first backup roller 6
7. Second water supply nozzle 64b, third water supply nozzle 64
c, a pair of transport rollers 68 and a pair of delivery rollers 72 to which a driving force of a driving unit (not shown) is transmitted, and the overcoat layer formed on the outermost surface of the PS plate 110 is removed by washing with water before development.

【0050】また、第1水洗槽60内には第1オーバー
フロー管61が設けられ、第1水洗槽60内に溜まった
洗浄水の液面レベルが所定レベルを超えたときに洗浄水
が第1オーバーフロー管61内に流れ込んで循環水タン
ク63へ案内され、第1水洗槽60内に常に一定量の洗
浄水が保持されるように調整している。
Further, a first overflow pipe 61 is provided in the first washing tank 60, and when the liquid level of the washing water accumulated in the first washing tank 60 exceeds a predetermined level, the first washing water is discharged. It is adjusted so that it flows into the overflow pipe 61 and is guided to the circulating water tank 63 so that a constant amount of washing water is always held in the first washing tank 60.

【0051】循環水タンク63には、ポンプPが設けら
れており、ポンプPにより内部の洗浄水を汲み上げて第
1水供給ノズル64a及び第2水供給ノズル64bに供
給している。
The circulating water tank 63 is provided with a pump P. The pump P pumps up the internal washing water and supplies it to the first water supply nozzle 64a and the second water supply nozzle 64b.

【0052】第3水供給ノズル64cは、清浄な洗浄水
が貯留された水貯留槽84から水供給ポンプP3によっ
て汲み上げられた水を第1水洗槽60内に供給し、これ
によって第1水洗槽60内の洗浄水を一定の清浄度に保
っている。なお、この水供給ポンプP3は、プロセッサ
ー制御部30により駆動が制御されている。
The third water supply nozzle 64c supplies the water pumped by the water supply pump P3 from the water storage tank 84 in which the clean washing water is stored into the first washing tank 60, and thereby the first washing tank 64c. The cleaning water in 60 is kept at a certain degree of cleanliness. The drive of the water supply pump P3 is controlled by the processor control unit 30.

【0053】引き込みローラ対62により第1水洗部2
2に引き込まれた加熱済みのPS版110は、第1水供
給ノズル64aにより表面に洗浄水が供給された状態
で、第1回転ブラシローラ66及び第1バックアップロ
ーラ67の間に挟持されて搬送されるときに、第1回転
ブラシローラ66によって表面が研磨されて、PS版1
10の最上層のオーバーコート層が取り除かれる。
The first washing section 2 is driven by the pair of draw-in rollers 62.
The heated PS plate 110 drawn into 2 is transported while being sandwiched between the first rotating brush roller 66 and the first backup roller 67 in a state where the cleaning water is supplied to the surface by the first water supply nozzle 64a. The surface is polished by the first rotating brush roller 66, and the PS plate 1
The top 10 overcoat layers are removed.

【0054】第1回転ブラシローラ66の後段には第2
水供給ノズル64bが設けられており、第2水供給ノズ
ル64bからPS版110の表面に供給された洗浄水に
よって、PS版110の表面に付着した第1回転ブラシ
ローラ66により取り除かれたオーバーコート層のカス
が除去される。これにより、PS版110の表面からオ
ーバーコート層が除去され、PS版110は、搬送ロー
ラ対68により送り出しローラ対72に引き渡され、第
1水洗部22の後段に設けられた現像部24に送り出さ
れる。
A second stage is provided after the first rotating brush roller 66.
A water supply nozzle 64b is provided, and the overcoat removed by the first rotating brush roller 66 attached to the surface of the PS plate 110 by the washing water supplied to the surface of the PS plate 110 from the second water supply nozzle 64b. The layer debris is removed. As a result, the overcoat layer is removed from the surface of the PS plate 110, and the PS plate 110 is delivered to the delivery roller pair 72 by the transport roller pair 68, and is delivered to the developing unit 24 provided after the first washing unit 22. It is.

【0055】現像部24は、図2に示すように、現像槽
70内に、PS版110の搬送方向に沿って上流側から
順に、現像補充原液噴射ノズル74、希釈水噴射ノズル
76、第1スプレーパイプ78、第2回転ブラシローラ
71a、第3回転ブラシローラ71b、第2バックアッ
プローラ81a、第3バックアップローラ81b及び、
送り出しローラ対75を備え、さらに現像液液面には液
面蓋73が配置され、現像液中には底部中央部が下方に
向けて突出する内面が略逆山形状のガイド板77と現像
液の温度を調節するための温度調整装置が設けられてい
る。
As shown in FIG. 2, the developing unit 24 includes a developing replenisher stock solution injection nozzle 74, a dilution water injection nozzle 76, and a first Spray pipe 78, second rotating brush roller 71a, third rotating brush roller 71b, second backup roller 81a, third backup roller 81b,
A feed roller pair 75 is provided, and a liquid level cover 73 is further disposed on the liquid level of the developing solution. A guide plate 77 having a substantially inverted mountain shape with an inner surface protruding downward at the bottom center portion is provided in the developing solution. Is provided with a temperature adjusting device for adjusting the temperature.

【0056】液面蓋73は、下面が現像槽70に貯留さ
れる現像液の液面より下方となるように配置され、現像
槽70内の現像液の液面が空気と接触する面積を狭め、
空気中の炭酸ガスによる現像液の劣化と現像液中の水分
の蒸発を抑えている。温度調整装置は、ヒータ34a、
チラー34b及び温度センサ34cから構成され、温度
センサ34cが検出した温度に基いて後述するプロセッ
サー制御部30から出された指示によりヒータ34a又
はチラー34bのいずれか一方を駆動し、現像液の温度
が現像対象となるPS版110の種類に最適な温度とな
るように温度調節を行う。
The liquid level cover 73 is arranged so that the lower surface is lower than the liquid level of the developer stored in the developing tank 70, and narrows the area where the liquid level of the developing solution in the developing tank 70 comes into contact with air. ,
Deterioration of the developer due to carbon dioxide in the air and evaporation of water in the developer are suppressed. The temperature control device includes a heater 34a,
It comprises a chiller 34b and a temperature sensor 34c, and based on the temperature detected by the temperature sensor 34c, drives either the heater 34a or the chiller 34b in accordance with an instruction issued from the processor control unit 30 described later, and the temperature of the developing solution is reduced. The temperature is adjusted so that the temperature becomes optimal for the type of the PS plate 110 to be developed.

【0057】現像補充原液噴射ノズル74は、現像補充
ポンプP1によって現像液貯留槽82から汲み上げられ
た現像液を現像槽70内に噴射する。なお、この現像補
充原液補充ポンプP1は、後述するプロセッサー制御部
30により駆動が制御されている。同様に、希釈水噴射
ノズル76は、水補充ポンプP2によって水貯留槽84
から汲み上げられた希釈水を現像槽70内に噴射する。
なお、この水補充ポンプP2も、後述するプロセッサー
制御部30により駆動が制御されている。
The developing replenishing stock solution jet nozzle 74 jets the developing solution pumped up from the developing solution storage tank 82 by the developing replenishing pump P1 into the developing tank 70. The driving of the developing replenisher stock solution replenishing pump P1 is controlled by a processor controller 30 described later. Similarly, the dilution water injection nozzle 76 is connected to the water storage tank 84 by the water replenishment pump P2.
The dilution water pumped up from the spray tank is injected into the developing tank 70.
The drive of the water replenishment pump P2 is also controlled by a processor control unit 30 described later.

【0058】ガイド板77は、複数の自由回転するコロ
(小型のローラ;図示せず)が回転軸をPS版110の
搬送方向と直交する方向に並列して配置された構成であ
り、現像部24へ送り込まれたPS版110をコロによ
って案内しながら搬送する。このとき、コロが回転する
ため、PS版110に摺動による傷付きが発生しない。
The guide plate 77 has a structure in which a plurality of freely rotating rollers (small rollers; not shown) are arranged with their rotating shafts arranged in parallel in a direction perpendicular to the direction in which the PS plate 110 is transported. The PS plate 110 sent to 24 is conveyed while being guided by rollers. At this time, since the rollers rotate, the PS plate 110 is not damaged by sliding.

【0059】また、ガイド板77の最低位置に向かう途
中の現像液中には、第1スプレーパイプ78が設けられ
ている。第1スプレーパイプ78は、PS版110の搬
送方向と直交する方向に沿って配置された複数のスプレ
ーパイプにより構成され、各スプレーパイプから現像液
をPS版110の表面へ噴射することにより、PS版1
10の現像処理を促進すると同時に、現像槽70内の現
像液を循環させる役割を果たす。
A first spray pipe 78 is provided in the developing solution on the way to the lowest position of the guide plate 77. The first spray pipe 78 is composed of a plurality of spray pipes arranged along a direction orthogonal to the transport direction of the PS plate 110, and sprays a developer from each spray pipe onto the surface of the PS plate 110, thereby forming a PS. Edition 1
At the same time as promoting the development processing of No. 10, it plays a role of circulating the developer in the developing tank 70.

【0060】また、ガイド板77の最低位置から下流側
に沿って、PS版110の上面に対応する位置には、第
2回転ブラシローラ71a、第3回転ブラシローラ71
bが設けられている。第2回転ブラシローラ71aは第
2バックアップローラ81aと対となってガイド板77
に沿って搬送されたPS版110を挟持するように設け
られており、第3回転ブラシローラ71bは第3バック
アップローラ81bと対となってガイド板77に沿って
搬送されたPS版110を挟持するように設けられてい
る。
The second rotating brush roller 71a and the third rotating brush roller 71a are located at positions corresponding to the upper surface of the PS plate 110 along the downstream side from the lowest position of the guide plate 77.
b is provided. The second rotating brush roller 71a is paired with the second backup roller 81a to form a guide plate 77.
The third rotating brush roller 71b is paired with the third backup roller 81b to pinch the PS plate 110 conveyed along the guide plate 77. It is provided to be.

【0061】これら第2回転ブラシローラ71aと第3
回転ブラシローラ71bは、図示しない駆動手段の駆動
力が伝達されて、10rpm以上500rpm以下の回
転数で回転速度で回転する。なお、10rpmよりも小
さい回転数であると、最低限必要な擦り密度が得られな
いため好ましくなく、500rpmよりも大きな回転数
であると、擦り密度が大きくなりすぎて製版の品質を損
ねるため好ましくない。より好ましくは、50rpm以
上300rpm以下の回転数とするとよい。この範囲内
とすることにより、充分な擦り密度が得られる。
The second rotating brush roller 71a and the third
The rotating brush roller 71b is rotated at a rotational speed of 10 rpm or more and 500 rpm or less by transmitting a driving force of a driving unit (not shown). In addition, when the rotation speed is less than 10 rpm, it is not preferable because the minimum required rubbing density cannot be obtained, and when the rotation speed is more than 500 rpm, the rubbing density becomes too large and the quality of plate making is deteriorated. Absent. More preferably, the number of rotations should be 50 rpm or more and 300 rpm or less. By setting it within this range, a sufficient rubbing density can be obtained.

【0062】現像部24の最終段位置に設けられた送り
出しローラ対75は、PS版110を挟持する挟持部が
現像液の液面よりも上方の位置となるように設けられて
おり、現像液中から引き上げられたPS版110を挟持
して現像部24から送り出すときに、PS版110の表
面に付着した現像液を絞り落とす。
The delivery roller pair 75 provided at the last stage position of the developing section 24 is provided such that the holding section for holding the PS plate 110 is at a position above the liquid level of the developing solution. When the PS plate 110 pulled up from the inside is sandwiched and sent out from the developing unit 24, the developer adhering to the surface of the PS plate 110 is squeezed.

【0063】また、現像槽70内には、現像槽70から
オーバーフローした現像液を回収する第2オーバーフロ
ー管79が設けられており、現像槽70内に溜まった現
像液の液面レベルが所定レベルを超えたときに現像液が
第2オーバーフロー管79内に流れ込み、廃液タンク8
0へ案内され、現像槽70内に常に一定量の現像液が保
持されるように調整している。
In the developing tank 70, a second overflow pipe 79 for collecting the developing solution overflowing from the developing tank 70 is provided, and the level of the developing solution accumulated in the developing tank 70 is maintained at a predetermined level. Is exceeded, the developer flows into the second overflow pipe 79 and the waste liquid tank 8
The developing tank 70 is adjusted so that a constant amount of the developing solution is always held in the developing tank 70.

【0064】すなわち、第1水洗部22の送り出しロー
ラ対72により送り出されたPS版110は、水平方向
に対して約15°から31°の範囲の角度で現像部24
に引き込まれ、現像液中に設けられたガイド板77の表
面に沿って搬送される。このとき、PS版110は現像
液に浸漬されて、続いてガイド板77の最低位置に向か
う途中に設けられた第1スプレーパイプ78によって噴
射された現像液により光重合性感光層の未現像部分が確
実に膨潤される。
That is, the PS plate 110 delivered by the delivery roller pair 72 of the first washing section 22 is rotated at an angle in the range of about 15 ° to 31 ° with respect to the horizontal direction.
And transported along the surface of the guide plate 77 provided in the developer. At this time, the PS plate 110 is immersed in the developing solution, and subsequently the undeveloped portion of the photopolymerizable photosensitive layer is developed by the developing solution sprayed by the first spray pipe 78 provided on the way to the lowest position of the guide plate 77. Are reliably swelled.

【0065】PS版110はガイド板77の最低位置か
ら下流側に向かう際に、第2回転ブラシローラ71a、
第3回転ブラシローラ71bの順に表面が擦られて、膨
潤した光重合性感光層の未現像部分が擦り落されること
により現像される。さらに、PS版110はガイド板7
7の最終端位置から送り出しローラ対75に保持される
ことにより現像液中から引出され、送り出しローラ対7
5に送り出される際に表裏面に付着した現像液が絞り落
とされて、現像部24の後段に設けられた第2水洗部2
6に送り出される。
When the PS plate 110 moves downstream from the lowest position of the guide plate 77, the second rotating brush roller 71a,
The surface is rubbed in the order of the third rotating brush roller 71b, and the undeveloped portion of the swollen photopolymerizable photosensitive layer is rubbed off to be developed. Further, the PS plate 110 is provided on the guide plate 7.
7 is pulled out from the developer by being held by the delivery roller pair 75 from the final end position of the delivery roller pair 75,
The developer adhering to the front and back surfaces when being sent to the developing unit 5 is squeezed out, and the second washing unit 2 provided at the subsequent stage of the developing unit 24
It is sent to 6.

【0066】ここで、第2回転ブラシローラ71a及び
第2バックアップローラ81aにより構成される一対の
ローラの軸受構造を説明する。図3(A)の部分破断斜
視図及び図3(B)の側面図に示すように、第2回転ブ
ラシローラ71a及び第2バックアップローラ81a
は、軸受部材36により回動可能に軸支されている。
Here, the bearing structure of a pair of rollers constituted by the second rotating brush roller 71a and the second backup roller 81a will be described. As shown in a partially broken perspective view of FIG. 3A and a side view of FIG. 3B, a second rotating brush roller 71a and a second backup roller 81a.
Is rotatably supported by a bearing member 36.

【0067】軸受部材36は、大別して、第1支持部4
0a、第2支持部40b、輪状の付勢部材42、第1滑
車44a、及び第2滑車44bから構成されている。第
1支持部40aは第2回転ブラシローラ71aの回転軸
86aを回転可能に軸支し、第2支持部40bは第2バ
ックアップローラ81aの回転軸86bを回転可能に軸
支する。また、第1支持部40a及び第2支持部40b
はそれぞれ外形が方形に形成され、現像部24の側板に
形成された切欠部(図3では想像線で図示)に、第2回転
ブラシローラ71aの回転軸86aと第2バックアップ
ローラ81aの回転軸86bを軸支した状態で嵌入され
る。
The bearing member 36 is roughly divided into the first support 4
0a, a second support portion 40b, a ring-shaped urging member 42, a first pulley 44a, and a second pulley 44b. The first support portion 40a rotatably supports the rotation shaft 86a of the second rotating brush roller 71a, and the second support portion 40b rotatably supports the rotation shaft 86b of the second backup roller 81a. Further, the first support portion 40a and the second support portion 40b
Are respectively formed in a notch (illustrated by imaginary lines in FIG. 3) formed in a side plate of the developing unit 24, and a rotating shaft 86a of the second rotating brush roller 71a and a rotating shaft of the second backup roller 81a are formed. 86b is inserted in a state where it is pivotally supported.

【0068】また、第1支持部40aには、輪状の付勢
部材42を巻き掛ける溝が側面に設けられた第1滑車4
4aが回転不能に設けられており、第2支持部40bに
も、輪状の付勢部材42を巻き掛ける溝が側面に設けら
れた第2滑車44bが回転不能に設けられている。ま
た、輪状の付勢部材42は、例えば、ゴムやコイルバネ
等の弾性部材より構成されており、第1円筒部46aと
第2円筒部46bの間に後述するカム板48が入り込む
ことにより伸張して第1支持部40aと第2支持部40
bとの距離が広げられるようになっている。
The first pulley 4 is provided with a groove on the side surface of the first support portion 40a around which the ring-shaped urging member 42 is wound.
4a is provided so as to be non-rotatable, and a second pulley 44b provided with a groove on the side surface around which the ring-shaped urging member 42 is provided is also non-rotatably provided in the second support portion 40b. Further, the ring-shaped urging member 42 is made of, for example, an elastic member such as rubber or a coil spring, and is extended by a cam plate 48 described later entering between the first cylindrical portion 46a and the second cylindrical portion 46b. The first support portion 40a and the second support portion 40
The distance from b can be widened.

【0069】第1滑車44aには、第1滑車44aの側
面から軸端方向へ延出した第1円筒部46aが回転不能
に軸支されており、この第1円筒部46aは、内周円に
第2回転ブラシローラ71aの回転軸86aが挿入さ
れ、該回転軸86aを回転可能に軸支する。第2滑車4
4bも第1滑車44aと同様に第2円筒部46bが回転
不能に軸支されており、第2バックアップローラ81a
の回転軸86bを回転可能に軸支する。
The first pulley 44a is non-rotatably supported by a first cylindrical portion 46a extending from the side surface of the first pulley 44a in the axial direction. The first cylindrical portion 46a has an inner circumferential circle. The rotary shaft 86a of the second rotary brush roller 71a is inserted into the second rotary brush roller 71a, and rotatably supports the rotary shaft 86a. Second pulley 4
4b, similarly to the first pulley 44a, the second cylindrical portion 46b is rotatably supported on the second cylindrical portion 46b.
Is rotatably supported.

【0070】第1円筒部46aと第2円筒部46bの間
には、偏心した位置に回動軸(すなわち、偏心軸)50を
有する円形のカム板48が介在されている。偏心軸50
は、モータMの回転を正逆可能に回転するように変換す
る駆動機構52により予め定めた角度範囲内で回転可能
に構成されている。
A circular cam plate 48 having a rotating shaft (that is, an eccentric shaft) 50 is eccentrically located between the first cylindrical portion 46a and the second cylindrical portion 46b. Eccentric shaft 50
Is configured to be rotatable within a predetermined angle range by a drive mechanism 52 that converts the rotation of the motor M so that the motor M can rotate forward and backward.

【0071】カム板48が、第1円筒部46aと第2円
筒部46bの間に入り込む量を変えることで、第2回転
ブラシローラ71aの回転軸86aと、第2バックアッ
プローラ81aの回転軸86bとの距離を変え、第2回
転ブラシローラ71aと第2バックアップローラ81a
の間に挟持された状態で搬送されるPS版にかかるニッ
プ圧、すなわちブラシ圧を調整することができる。
By changing the amount of the cam plate 48 entering between the first cylindrical portion 46a and the second cylindrical portion 46b, the rotating shaft 86a of the second rotating brush roller 71a and the rotating shaft 86b of the second backup roller 81a are changed. Between the second rotating brush roller 71a and the second backup roller 81a.
It is possible to adjust the nip pressure applied to the PS plate conveyed while being held between them, that is, the brush pressure.

【0072】すなわち、第1円筒部46aと第2円筒部
46bの間に入り込む量を増加させると、第1円筒部4
6aと第2円筒部46bの距離、すなわち、第2回転ブ
ラシローラ71aと第2バックアップローラ81aの間
が広がるため、第2回転ブラシローラ71aと第2バッ
クアップローラ81aの間を通過するPS版にかかるブ
ラシ圧が低く調整されることとなる。逆に、カム板48
の第1円筒部46aと第2円筒部46bの間に入り込む
量を減少させると、輪状の付勢部材42の付勢力で第1
円筒部46aと第2円筒部46bの距離が縮まり、これ
により、第2回転ブラシローラ71aと第2バックアッ
プローラ81aの間が狭まるため、第2回転ブラシロー
ラ71aと第2バックアップローラ81aの間を通過す
るPS版にかかるブラシ圧が高く調整されることとな
る。
In other words, when the amount of infiltration between the first cylindrical portion 46a and the second cylindrical portion 46b is increased, the first cylindrical portion 4a
Since the distance between the second rotary brush roller 71a and the second backup roller 81a is increased, the distance between the second rotary brush roller 71a and the second backup roller 81a increases. The brush pressure is adjusted to be low. Conversely, the cam plate 48
When the amount of intrusion between the first cylindrical portion 46a and the second cylindrical portion 46b is reduced, the first urging force of the annular urging member 42 causes the first
Since the distance between the cylindrical portion 46a and the second cylindrical portion 46b is reduced, and the distance between the second rotating brush roller 71a and the second backup roller 81a is reduced, the distance between the second rotating brush roller 71a and the second backup roller 81a is reduced. The brush pressure applied to the passing PS plate is adjusted to be high.

【0073】カム板48の第1円筒部46aと第2円筒
部46bの間に入り込む量は、駆動機構52による偏心
軸50の回転量及び回転方向により調整されており、駆
動機構52は、プロセッサー制御部30により駆動が制
御されている。なお、プロセッサー制御部30について
は後述する。
The amount of the cam plate 48 entering between the first cylindrical portion 46a and the second cylindrical portion 46b is adjusted by the amount and direction of rotation of the eccentric shaft 50 by the drive mechanism 52. Driving is controlled by the control unit 30. Note that the processor control unit 30 will be described later.

【0074】なお、第3回転ブラシローラ71bと第3
バックアップローラ81bも上記第2回転ブラシローラ
71aと第2バックアップローラ81aと同様の構成で
取り付けられているので、説明は省略する。
Note that the third rotating brush roller 71b and the third
The backup roller 81b is also mounted in the same configuration as the second rotating brush roller 71a and the second backup roller 81a, and thus the description is omitted.

【0075】プロセッサー制御部30は、CPU、RO
M及びRAMから構成され、RAMにはプレートセッタ
ー14からオンラインで取得した各種設定情報とPPF
データが一旦記憶される。ROMには、各種設定情報に
含まれる版厚、版サイズ、及び版種に基いて現像槽70
内の現像液の温度、PS版の搬送速度、PS版の擦り圧
及び第2回転ブラシローラ71aと第3回転ブラシロー
ラ71bの回転速度の少なくとも1つを制御する現像条
件調整プログラムが記憶されている。
The processor control unit 30 includes a CPU, an RO,
M and RAM, and various setting information and PPF obtained online from the platesetter 14 are stored in RAM.
The data is stored once. The ROM stores the developing tank 70 based on the plate thickness, plate size, and plate type included in various setting information.
A developing condition adjusting program for controlling at least one of the temperature of the developer in the inside, the transport speed of the PS plate, the rubbing pressure of the PS plate, and the rotational speed of the second rotating brush roller 71a and the third rotating brush roller 71b is stored. I have.

【0076】CPUは、ROMに記憶された現像条件調
整プログラムを呼び出し、前段の装置であるセッターか
らオンラインで取得してRAMに記憶された各種設定情
報を読み込み、該各種設定情報に含まれる版種、又は、
版種と版サイズに基いて、現像時の温度条件、現像時間
を決定すると共に、版種と各種設定情報に含まれる版厚
に基いて、PS版に掛けるブラシ圧及び第2回転ブラシ
ローラ71aと第3回転ブラシローラ71bの回転速度
を決定する。
The CPU calls the development condition adjustment program stored in the ROM, reads online various setting information obtained from the setter, which is the preceding apparatus, and stores it in the RAM, and reads the version type included in the various setting information. Or
Based on the plate type and the plate size, the temperature condition and the development time during development are determined, and based on the plate type and the plate thickness included in the various setting information, the brush pressure applied to the PS plate and the second rotating brush roller 71a And the rotation speed of the third rotating brush roller 71b.

【0077】次に、決定した温度条件となるように現像
槽70内に設けられた温度センサ34cからの温度に基
いて温度調整装置の駆動信号を生成し、温度調整装置に
出力する。同時に、PS版が決定した現像時間現像液中
に浸漬されるように搬送ローラを回転させるモータ(図
示せず)の回転数を決定してモータの駆動信号を生成
し、モータに出力する。
Next, a drive signal for the temperature controller is generated based on the temperature from the temperature sensor 34c provided in the developing tank 70 so as to satisfy the determined temperature condition, and is output to the temperature controller. At the same time, the number of rotations of a motor (not shown) for rotating the transport roller is determined so that the PS plate is immersed in the developing solution for the determined developing time, and a drive signal of the motor is generated and output to the motor.

【0078】さらに、上記決定したブラシ圧となるよう
に、駆動機構52による偏心軸50の回転量、及び回転
方向を決定して駆動信号を生成し、駆動機構52に出力
する。駆動機構52は、プロセッサー制御部30から入
力された駆動信号に基いて、偏心軸50を回転させる。
これにより、カム板48が所定量分だけ第1円筒部46
aと第2円筒部46bの間に入り込み、該カム板48の
入り込み量に対応した距離、第2回転ブラシローラ71
aと第2バックアップローラ81aの間が離れて所望の
ブラシ圧とすることができる。また、プロセッサー制御
部30は、上記決定した回転速度となるように、図示し
ない駆動手段の駆動力を決定して駆動信号を生成し、図
示しない駆動手段に出力することによりモータの回転数
も調整している。
Further, the amount of rotation and the direction of rotation of the eccentric shaft 50 by the drive mechanism 52 are determined so that the determined brush pressure is obtained, a drive signal is generated, and the drive signal is output to the drive mechanism 52. The drive mechanism 52 rotates the eccentric shaft 50 based on a drive signal input from the processor control unit 30.
As a result, the cam plate 48 is moved by a predetermined amount to the first cylindrical portion 46.
a between the first rotating brush roller 71 and the second cylindrical portion 46b.
a and the second backup roller 81a are separated from each other, and a desired brush pressure can be obtained. Further, the processor control unit 30 determines the driving force of the driving unit (not shown) to generate a driving signal and outputs the driving signal to the driving unit (not shown) so that the rotation speed becomes the determined rotation speed, thereby adjusting the rotation speed of the motor. are doing.

【0079】例えば、現在、一般的に使用されているフ
ォトポリマーCTPの場合、現像可能温度は15℃以上
45℃以下であり、好ましくは20℃以上35℃以下で
あるが、例えば、版種が高耐刷品である版種Aであれば
30℃、通常品の版種Bであれば25℃に決定し、決定
した温度となるようにヒータの温度を制御する。ヒータ
の温度制御については公知であるので詳細な説明は省略
する。
For example, in the case of the photopolymer CTP generally used at present, the developable temperature is 15 ° C. or more and 45 ° C. or less, preferably 20 ° C. or more and 35 ° C. or less. The plate temperature is determined to be 30 ° C. for plate type A, which is a high printing plate, and 25 ° C. for plate type B, which is a normal product. The detailed description of the temperature control of the heater is omitted because it is known.

【0080】また、現像時間は、5秒以上60秒以下で
あり、好ましくは7秒以上40秒以下であるが、例え
ば、版種が高耐刷品である版種Aであれば搬送速度を7
60mm/分として28秒間現像し、版種が通常品であ
る版種Bであれば搬送速度を1000mm/分として2
0秒間現像するなどのように決定し、該決定した搬送速
度でPS版が搬送されるように第2回転ブラシローラ7
1aと第3回転ブラシローラ71bの回転速度を制御す
る。
The development time is 5 seconds or more and 60 seconds or less, and preferably 7 seconds or more and 40 seconds or less. 7
Development is performed at 60 mm / min for 28 seconds. If the plate type is a plate type B which is a normal product, the transport speed is set to 1000 mm / min.
The second rotating brush roller 7 is determined so that the PS plate is transported at the determined transport speed.
The rotation speed of the first and third rotating brush rollers 71b is controlled.

【0081】なお、版種としては、例えば、新聞用PS
版、高耐刷用PS版及び高画質用PS版等があり、版厚
としては、例えば、0.12mm、0.15mm、0.
2mm、0.24mm、0.3mm、0.4mm等の種
類がある。
As the plate type, for example, a newspaper PS
There are a printing plate, a PS plate for high printing durability, a PS plate for high image quality, and the like, and the plate thickness is, for example, 0.12 mm, 0.15 mm, 0.
There are types such as 2 mm, 0.24 mm, 0.3 mm, and 0.4 mm.

【0082】ここで、プロセッサー制御部30のCPU
により実行される制御について図4のフローチャートを
参照しながら説明する。まず、ステップ400では、R
AMから各種設定情報を読み込む。次のステップ402
では、読み込んだ各種設定情報の中に版種が含まれてい
るかを判断し、含まれていると判断された場合はステッ
プ404に移行する。
Here, the CPU of the processor control unit 30
Will be described with reference to the flowchart of FIG. First, in step 400, R
Read various setting information from AM. Next step 402
Then, it is determined whether or not the read various setting information includes a version type. If it is determined that the version type is included, the process proceeds to step 404.

【0083】ステップ404では、版種に応じた現像温
度及び現像時間に設定し、該温度となるように現像槽7
0内の温度調整装置(ヒータ34a及びチラー34b)
を制御すると共に、前記版種に応じた現像時間PS版が
現像層70内に浸漬されるようにPS版プロセッサによ
るPS版110の搬送速度、すなわち、各搬送ローラの
回転数を制御した後、ステップ406に移行する。
In step 404, the developing temperature and the developing time are set in accordance with the type of plate, and the developing tank
Temperature adjustment device within 0 (heater 34a and chiller 34b)
And controlling the transport speed of the PS plate 110 by the PS plate processor so that the PS plate is immersed in the developing layer 70, that is, the rotation speed of each transport roller, Move to step 406.

【0084】また、ステップ402において、版種が含
まれていないと判断された場合は、ステップ410に移
行して、標準の現像温度及び現像時間に設定し、該温度
となるように現像槽70内の温度調整装置(ヒータ34
a及びチラー34b)を制御すると共に、前記標準の現
像時間PS版が現像層70内に浸漬されるようにPS版
プロセッサによるPS版の搬送速度、すなわち、各搬送
ローラの回転数を制御した後、ステップ406に移行す
る。
If it is determined in step 402 that the plate type is not included, the process proceeds to step 410, in which a standard developing temperature and a developing time are set, and the developing tank 70 is set to the standard temperature. Temperature control device (heater 34)
a) and the chiller 34b) and controlling the transport speed of the PS plate by the PS plate processor, that is, the rotation speed of each transport roller, so that the standard development time PS plate is immersed in the developing layer 70. , To step 406.

【0085】ステップ406では、読み込んだ各種設定
情報の中に版厚が含まれているかを判断し、含まれてい
ると判断された場合はステップ408に移行して版厚に
応じたブラシ圧及びブラシローラの回転数を設定し、該
ブラシ圧となるように、偏心軸を回転させ、カム板48
を対応する量だけ第1円筒部46aと第2円筒部46b
の間に入り込ませると共に、版厚に応じた回転数となる
ように第2回転ブラシローラ71aと第3回転ブラシロ
ーラ71bの回転速度を制御し、本ルーチンを終了す
る。これにより、該カム板48の入り込み量に対応した
距離、第2回転ブラシローラ71aと第2バックアップ
ローラ81aの間が離れて設定した版厚に応じたブラシ
圧となると共に、版厚に応じた擦り密度となる。
In step 406, it is determined whether the read setting information includes the plate thickness. If it is determined that the setting information is included, the process proceeds to step 408, where the brush pressure and the brush pressure corresponding to the plate thickness are determined. The number of rotations of the brush roller is set, and the eccentric shaft is rotated so that the brush pressure becomes equal to the brush pressure.
By the corresponding amounts of the first cylindrical portion 46a and the second cylindrical portion 46b.
And the rotation speeds of the second rotating brush roller 71a and the third rotating brush roller 71b are controlled so that the number of rotations is in accordance with the plate thickness, and this routine ends. As a result, the brush pressure becomes the distance corresponding to the amount of the cam plate 48 entering, the brush pressure according to the plate thickness set apart from the second rotary brush roller 71a and the second backup roller 81a, and the brush pressure according to the plate thickness. It becomes the rubbing density.

【0086】また、ステップ406において、版厚が含
まれていないと判断された場合はステップ412に移行
して標準のブラシ圧及び標準のブラシローラの回転数を
設定し、該ブラシ圧となるように、偏心軸を回転させ、
カム板48を対応する量だけ第1円筒部46aと第2円
筒部46bの間に入り込ませると共に、標準の回転数と
なるように第2回転ブラシローラ71aと第3回転ブラ
シローラ71bの回転速度を制御し、本ルーチンを終了
する。これにより、該カム板48の入り込み量に対応し
た距離、第2回転ブラシローラ71aと第2バックアッ
プローラ81aの間が離れて設定した標準のブラシ圧と
なると共に、標準の擦り密度となる。
If it is determined in step 406 that the plate thickness is not included, the flow shifts to step 412 to set the standard brush pressure and the number of rotations of the standard brush roller so that the brush pressure is set. Then, rotate the eccentric shaft,
The cam plate 48 is inserted by a corresponding amount between the first cylindrical portion 46a and the second cylindrical portion 46b, and the rotation speed of the second rotation brush roller 71a and the third rotation brush roller 71b is set to a standard rotation speed. Is controlled, and this routine ends. As a result, a standard brush pressure set at a distance corresponding to the amount of the cam plate 48 entering the space between the second rotating brush roller 71a and the second backup roller 81a and a standard rubbing density are obtained.

【0087】なお、標準の現像温度とは、一般的に現像
可能とされている温度であり、標準の現像時間とは一般
的に現像可能とされている浸漬時間であり、標準のブラ
シ圧、及び、標準の擦り密度とは、一般的に非画像形成
領域の感光層が取り除くことができるとされるブラシ
圧、及び擦り密度である。
The standard development temperature is a temperature at which development is generally possible, and the standard development time is an immersion time at which development is generally possible. In addition, the standard rub density is a brush pressure and a rub density which are generally considered to be able to remove a photosensitive layer in a non-image forming area.

【0088】なお、CPUは、RAMに記憶された各種
設定情報に含まれる版種に基いて現像補充原液の希釈率
を決定し、該決定した希釈率となるように、単位時間に
おける供給ポンプP1の流量に対する水供給ポンプP2
の流量の割合も決定している。さらに、非画像形成領域
の面積と処理補充単位量とに基いて処理補充量を算出
し、前回算出した処理補充量に加算して、演算した処理
補充量を累積し、累積加算した処理補充量が予め定めた
一定量を越えたら該累積加算した量の補充液が現像槽7
0内に補充されるように、供給ポンプP1及び水供給ポ
ンプP2を駆動する制御も行っている。このような現像
液の補充制御を行うことにより、現像液の活性状態をほ
ぼ一定に保って常に良好な現像処理が行われるようにし
ている。
The CPU determines the dilution ratio of the stock solution for development replenishment based on the plate type included in the various setting information stored in the RAM, and sets the supply pump P1 per unit time so as to reach the determined dilution ratio. Water supply pump P2 for the flow rate of water
The flow rate ratio is also determined. Further, the processing replenishment amount is calculated based on the area of the non-image forming area and the processing replenishment unit amount, added to the previously calculated processing replenishment amount, accumulates the calculated processing replenishment amount, and cumulatively added. When the amount of the replenisher exceeds a predetermined amount, the replenisher of the accumulated amount is supplied to the developing tank 7.
Control for driving the supply pump P1 and the water supply pump P2 is also performed so that the water is refilled within zero. By performing such replenishment control of the developing solution, the active state of the developing solution is kept almost constant so that a good developing process is always performed.

【0089】なお、本発明において使用される現像液は
以下の成分を含んでいる。
The developer used in the present invention contains the following components.

【0090】(アルカリ剤)本発明の現像方法に用いら
れる現像液及び現像補充液は、pH9.0〜13.5、
より好ましくは10.0〜13.3のアルカリ水溶液であ
る。
(Alkali agent) The developing solution and the developing replenisher used in the developing method of the present invention have a pH of 9.0 to 13.5.
More preferably, it is an alkaline aqueous solution of 10.0 to 13.3.

【0091】かかる現像液および現像補充液としては従
来より知られているアルカリ水溶液が使用できる。例え
ば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、第二リン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、重炭酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同
カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カ
リウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウ
ム、同カリウムおよび同リチウムなどの無機アルカリ剤
が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジ
イソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブ
チルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチ
レンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いら
れる。
As such a developing solution and a developing replenishing solution, conventionally known aqueous alkaline solutions can be used. For example, sodium silicate, potassium, tribasic sodium, potassium, ammonium, dibasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, potassium Inorganic alkaline agents such as ammonium, sodium bicarbonate, potassium, ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium, and lithium. Also, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine and pyridine are also used.

【0092】これらのアルカリ剤の中で好ましいのはケ
イ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のケイ酸塩水溶液で
ある。その理由はケイ酸塩の成分である酸化ケイ素Si
2とアルカリ金属酸化物M2Oの比率(一般に[SiO
2]/[M2O]のモル比で表す)と濃度によってpHや
現像性の調節が可能とされるためである。例えば、Si
2/ Na2Oのモル比が1.0〜1.5(即ち[Si
2]/[Na2O]が1.0〜1.5)であって、Si
2の含有量が1〜4重量%のケイ酸ナトリウムの水溶
液からなるアルカリ金属ケイ酸塩が本発明に好適に用い
られる。
Preferred among these alkaline agents are aqueous silicate solutions such as sodium silicate and potassium silicate. The reason is that silicon oxide Si
The ratio of O 2 to alkali metal oxide M 2 O (generally [SiO 2
2 ] / [M 2 O] molar ratio) and the concentration allow adjustment of pH and developability. For example, Si
When the molar ratio of O 2 / Na 2 O is 1.0 to 1.5 (that is, [Si
O 2 ] / [Na 2 O] is 1.0 to 1.5), and Si
An alkali metal silicate composed of an aqueous solution of sodium silicate having an O 2 content of 1 to 4% by weight is suitably used in the present invention.

【0093】更に他の好ましいアルカリ剤としては弱酸
と強塩基からなる緩衝液が挙げられる。かかる緩衝液と
して用いられる弱酸としては、酸解離定数(pKa)1
0.0〜13.3を有するものが好ましく、特にpKaが
11.0〜13.1のものが好ましい。また、例えばスル
ホサリチル酸の場合、第3解離定数は11.7であり、
本発明に好適に使用できる。即ち、多塩基酸の場合、少
なくとも1つの酸解離定数が上記範囲内にあれば本発明
に使用できる。
Still another preferred alkali agent includes a buffer solution comprising a weak acid and a strong base. Weak acids used as such buffers include an acid dissociation constant (pKa) of 1
Those having a pKa of from 10.0 to 13.3 are preferred, and those having a pKa of from 11.0 to 13.1 are particularly preferred. For example, in the case of sulfosalicylic acid, the third dissociation constant is 11.7,
It can be suitably used in the present invention. That is, in the case of a polybasic acid, it can be used in the present invention if at least one acid dissociation constant is within the above range.

【0094】このような弱酸としては、Pergamo
n Press社発行のIONISATION CON
STANTS OF ORGANIC ACIDS I
NAQUEOUS SOLUTIONなどに記載されて
いるものから選ばれ、例えば2,2,3,3,−テトラ
フルオロプロパノール−1(pKa 12.74)、トリ
フルオロエタノール(同12.37)、トリクロロエタ
ノール(同12.24)などのアルコール類、ピリジン
−2−アルデヒド(同12.68)、ピリジン−4−ア
ルデヒド(同12.05)などのアルデヒド類、ソルビ
トール(同13.0)、サッカロース(同12.7)、2
−デオキシリボース(同12.61)、2−デオキシグ
ルコース(同12.51)、グルコース(同12.4
6)、ガラクトース(同12.35)、アラビノース
(同12.34)、キシロース(同12.29)、フラク
トース(同12.27)、リボース(同12.22)、マ
ンノース(同12.08)、L−アスコルビン酸(同1
1.34)などの糖類、サリチル酸(同13.0)、3−
ヒドロキシ−2−ナフトエ酸(同12.84)、カテコ
ール(同12.6)、没食子酸(同12.4)、スルホサ
リチル酸(同11.7)、3,4−ジヒドロキシスルホン
酸(同12.2)、3,4−ジヒドロキシ安息香酸(同
11.94)、1,2,4−トリヒドロキシベンゼン
(同11.82)、ハイドロキノン(同11.56)、ピ
ロガロール(同11.34)およびレゾルシノール(同
11.27)などのフェノール性水酸基を有する化合
物、2−ブタノンオキシム(同12.45)、アセトキ
シム(同12.42)、1,2−シクロヘプタンジオン
ヂオキシム(同12.3)、2−ヒドロキシベンズアル
デヒドオキシム(同12.10)、ジメチルグリオキシ
ム(同11.9)、エタンジアミドジオキシム(同11.
37)、アセトフェノンオキシム(同11.35)など
のオキシム類、2−キノロン(同11.76)、2−ピ
リドン(同11.65)、4−キノロン(同11.2
8)、4−ピリドン(同11.12)、5−アミノ吉草
酸(同10.77)、2−メルカプトキノリン(同10.
25)、3−アミノプロピオン酸(同10.24)など
のアミノ酸類、フルオロウラシル(同13.0)、グア
ノシン(同12.6)、ウリジン(同12.6)、アデノ
シン(同12.56)、イノシン(同12.5)、グアニ
ン(同12.3)、シティジン(同12.2)、シトシン
(同12.2)、ヒポキサンチン(同12.1)、キサン
チン(同11.9)などの核酸関連物質、他に、ジエチ
ルアミノメチルホスホン酸(同12.32)、1−アミ
ノ−3,3,3−トリフルオロ安息香酸(同12.2
9)、イソプロピリデンジホスホン酸(同12.1
0)、1,1,−エチリデンジホスホン酸(同11.5
4)、1,1−エチリデンジホスホン酸1−ヒドロキシ
(同11.52)、ベンズイミダゾール(同12.8
6)、チオベンズアミド(同12.8)、ピコリンチオ
アミド(同12.55)、バルビツル酸(同12.5)な
どの弱酸が挙げられる。
Such weak acids include Pergamo.
IONISATION CON issued by nPress
STANTS OF ORGANIC ACIDS I
Selected from those described in NAQUEOUS SOLUTION, etc., for example, 2,2,3,3-tetrafluoropropanol-1 (pKa 12.74), trifluoroethanol (12.37), and trichloroethanol (12 .24), aldehydes such as pyridine-2-aldehyde (12.68) and pyridine-4-aldehyde (12.05), sorbitol (13.0), and saccharose (12.7). ), 2
-Deoxyribose (12.61), 2-deoxyglucose (12.51), glucose (12.4)
6), galactose (12.35), arabinose (12.34), xylose (12.29), fructose (12.27), ribose (12.22), mannose (12.08) , L-ascorbic acid (1)
Saccharides such as 1.34), salicylic acid (13.0), 3-
Hydroxy-2-naphthoic acid (12.84), catechol (12.6), gallic acid (12.4), sulfosalicylic acid (11.7), 3,4-dihydroxysulfonic acid (12.84) 2), 3,4-dihydroxybenzoic acid (11.94), 1,2,4-trihydroxybenzene (11.82), hydroquinone (11.56), pyrogallol (11.34) and resorcinol Compounds having a phenolic hydroxyl group such as (11.27), 2-butanone oxime (12.45), acetoxime (12.42), 1,2-cycloheptanediondioxime (12.3), 2-hydroxybenzaldehyde oxime (12.10), dimethylglyoxime (11.9), ethanediamide dioxime (11.1)
37), oximes such as acetophenone oxime (11.35), 2-quinolone (11.76), 2-pyridone (11.65) and 4-quinolone (11.2)
8), 4-pyridone (11.12), 5-aminovaleric acid (10.77), 2-mercaptoquinoline (10.77)
25), amino acids such as 3-aminopropionic acid (10.24), fluorouracil (13.0), guanosine (12.6), uridine (12.6), adenosine (12.56) , Inosine (12.5), guanine (12.3), citidine (12.2), cytosine (12.2), hypoxanthine (12.1), xanthine (11.9), etc. In addition, diethylaminomethylphosphonic acid (12.32), 1-amino-3,3,3-trifluorobenzoic acid (12.2)
9), isopropylidene diphosphonic acid (12.1)
0), 1,1, -ethylidene diphosphonic acid (11.5)
4), 1-hydroxy 1,1-ethylidene diphosphonic acid (11.52) and benzimidazole (12.8).
6), thiobenzamide (12.8), picoline thioamide (12.55), barbituric acid (12.5) and the like.

【0095】これらの弱酸に組み合わせる強塩基として
は、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウムお
よび同リチウムが用いられる。
As a strong base to be combined with these weak acids, sodium hydroxide, ammonium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide are used.

【0096】これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以
上を組み合わせて用いられる。
These alkali agents are used alone or in combination of two or more.

【0097】これらのアルカリ緩衝剤の中で好ましいの
は、スルホサリチル酸、サリチル酸、サッカロースおよ
びソルビトールと水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウ
ムとを組み合わせたものである。中でも好ましい組み合
わせはソルビトールと水酸化カリウムまたは水酸化ナト
リウムである。
Preferred among these alkaline buffers are those obtained by combining sulfosalicylic acid, salicylic acid, saccharose and sorbitol with sodium hydroxide and potassium hydroxide. Among them, a preferred combination is sorbitol and potassium hydroxide or sodium hydroxide.

【0098】上記の各種アルカリ剤は濃度および組み合
わせによりpHを好ましい範囲内に調整して使用され
る。
The above-mentioned various alkaline agents are used after adjusting the pH within a preferred range depending on the concentration and combination.

【0099】(界面活性剤)本発明に用いられる現像液お
よび補充液には、現像性の促進や現像カスの分散および
印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて
種々界面活性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面
活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系
および両性界面活性剤が挙げられる。
(Surfactant) The developer and replenisher used in the present invention may contain various surfactants, if necessary, for the purpose of accelerating developability, dispersing developed scum, and enhancing ink affinity of the printing plate image area. Agents and organic solvents can be added. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants.

【0100】界面活性剤の好ましい例としては、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
スチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
オキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪
酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、
ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレ
ングリコールモノ脂肪酸エステル類、しょ糖脂肪酸部分
エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分
エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部
分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル
類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシ
エチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン
脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、
N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリ
オキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン
脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシドなどの非
イオン性界面活性剤、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、
ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン
酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖ア
ルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼ
ンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩
類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルス
ルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェ
ニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリン
ナトリウム塩、N−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二
ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂
肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫
酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル
硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル
塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫
酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニル
エーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩
類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステ
ル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル
リン酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合
物の部分鹸化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合
物の部分鹸化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン
縮合物類などのアニオン界面活性剤、アルキルアミン塩
類、テトラブチルアンモニウムブロミド等の第四級アン
モニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩
類、ポリエチレンポリアミン誘導体などのカチオン性界
面活性剤、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸
類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミダ
ゾリン類などの両性界面活性剤が挙げられる。以上挙げ
た界面活性剤の中でポリオキシエチレンとあるものは、
ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキ
シブチレンなどのポリオキシアルキレンに読み替えるこ
ともでき、それらの界面活性剤もまた包含される。
Preferred examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, and glycerin fatty acid partial esters. , Sorbitan fatty acid partial esters,
Pentaerythritol fatty acid partial esters, propylene glycol monofatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters , Polyoxyethylenated castor oils, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides,
Nonionic surfactants such as N, N-bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid esters, and trialkylamine oxides, fatty acid salts, abietic acid salts,
Hydroxyalkanesulfonates, alkanesulfonates, dialkylsulfosuccinates, linear alkylbenzenesulfonates, branched alkylbenzenesulfonates, alkylnaphthalenesulfonates, alkylphenoxypolyoxyethylenepropylsulfonates, polyoxy Ethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyltaurine sodium salt, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated tallow oil, sulfate salts of fatty acid alkyl esters, alkyl sulfates Salts, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfates, Oxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphates, partially saponified styrene / maleic anhydride copolymers, Partially saponified olefin / maleic anhydride copolymers, anionic surfactants such as naphthalene sulfonate formalin condensates, quaternary ammonium salts such as alkylamine salts, tetrabutylammonium bromide, polyoxyethylene alkylamine Salts, cationic surfactants such as polyethylene polyamine derivatives, amphoteric surfactants such as carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfates, and imidazolines. . Among the surfactants listed above, those with polyoxyethylene,
It can be read as a polyoxyalkylene such as polyoxymethylene, polyoxypropylene, polyoxybutylene, and their surfactants are also included.

【0101】更に好ましい界面活性剤は分子内にパーフ
ルオロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤であ
る。かかるフッ素系界面活性剤としては、パーフルオロ
アルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン
酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニ
オン型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性型、
パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などの
カチオン型およびパーフルオロアルキルアミンオキサイ
ド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パ
ーフルオロアルキル基および親水性基含有オリゴマー、
パーフルオロアルキル基および親油性基含有オリゴマ
ー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基
含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性
基含有ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。
More preferred surfactants are fluorine-based surfactants containing a perfluoroalkyl group in the molecule. Such fluorosurfactants include perfluoroalkyl carboxylate, perfluoroalkyl sulfonate, anionic type such as perfluoroalkyl phosphate, amphoteric type such as perfluoroalkyl betaine,
Cationic and perfluoroalkylamine oxides such as perfluoroalkyltrimethylammonium salts, perfluoroalkylethylene oxide adducts, oligomers containing perfluoroalkyl and hydrophilic groups,
Non-ionic forms such as oligomers containing perfluoroalkyl groups and lipophilic groups, oligomers containing perfluoroalkyl groups, hydrophilic groups and lipophilic groups, and urethanes containing perfluoroalkyl groups and lipophilic groups.

【0102】上記の界面活性剤は、単独もしくは2種以
上を組み合わせて使用することができ、現像液中に0.
001〜10重量%、より好ましくは0.01〜5重量
%の範囲で添加される。
The above surfactants can be used alone or in combination of two or more.
001 to 10% by weight, more preferably 0.01 to 5% by weight.

【0103】(現像安定化剤)本発明に用いられる現像
液および補充液には、種々現像安定化剤が用いられる。
それらの好ましい例として、特開平6−282079号
公報記載の糖アルコールのポリエチレングリコール付加
物、テトラブチルアンモニウムヒドロキシドなどのテト
ラアルキルアンモニウム塩、テトラブチルホスホニウム
ブロマイドなどのホスホニウム塩およびジフェニルヨー
ドニウムクロライドなどのヨードニウム塩が好ましい例
として挙げられる。
(Development Stabilizer) Various development stabilizers are used in the developer and replenisher used in the present invention.
Preferred examples thereof include polyethylene glycol adducts of sugar alcohols described in JP-A-6-282079, tetraalkylammonium salts such as tetrabutylammonium hydroxide, phosphonium salts such as tetrabutylphosphonium bromide, and iodonium such as diphenyliodonium chloride. Salts are mentioned as preferred examples.

【0104】更には、特開昭50−51324号公報記
載のアニオン界面活性剤または両性界面活性剤、また特
開昭55−95946号公報記載の水溶性カチオニック
ポリマー、特開昭56−142528号公報に記載され
ている水溶性の両性高分子電解質がある。
Further, anionic or amphoteric surfactants described in JP-A-50-51324, water-soluble cationic polymers described in JP-A-55-95946, and JP-A-56-142528 are disclosed. There is a water-soluble amphoteric polyelectrolyte described in the gazette.

【0105】更に、特開昭59−84241号公報のア
ルキレングリコールが付加された有機ホウ素化合物、特
開昭60−111246号公報記載のポリオキシエチレ
ン・ポリオキシプロピレンブロック重合型の水溶性界面
活性剤、特開昭60−129750号公報のポリオキシ
エチレン・ポリオキシプロピレンを置換したアルキレン
ジアミン化合物、特開昭61−215554号公報記載
の重量平均分子量300以上のポリエチレングリコー
ル、特開昭63−175858号公報のカチオン性基を
有する含フッ素界面活性剤、特開平2−39157号公
報の酸またはアルコールに4モル以上のエチレンオキシ
ドを付加して得られる水溶性エチレンオキシド付加化合
物と、水溶性ポリアルキレン化合物などが挙げられる。
Further, an organic boron compound to which an alkylene glycol has been added described in JP-A-59-84241, and a water-soluble surfactant of the polyoxyethylene / polyoxypropylene block polymerization type described in JP-A-60-111246. Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 60-129750, polyoxyethylene / polyoxypropylene-substituted alkylenediamine compounds, Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 61-215554, polyethylene glycol having a weight average molecular weight of 300 or more, and Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 63-175858. JP-A-2-39157 discloses a fluorine-containing surfactant having a cationic group, a water-soluble ethylene oxide addition compound obtained by adding 4 mol or more of ethylene oxide to an acid or alcohol, and a water-soluble polyalkylene compound. No.

【0106】(有機溶剤)現像液および現像補充液には
更に必要により有機溶剤が加えられる。かかる有機溶剤
としては、水に対する溶解度が約10重量%以下のもの
が適しており、好ましくは5重量%以下のものから選ば
れる。例えば、1−フェニルエタノール、2−フェニル
エタノール、3−フェニル−1−プロパノール、4−フ
ェニル−1−ブタノール、4−フェニル−2−ブタノー
ル、2−フェニル−1−ブタノール、2−フェノキシエ
タノール、2−ベンジルオキシエタノール、o−メトキ
シベンジルアルコール、m−メトキシベンジルアルコー
ル、p−メトキシベンジルアルコール、ベンジルアルコ
ール、シクロヘキサノール、2−メチルシクロヘキサノ
ール、3−メチルシクロヘキサノールおよび4−メチル
シクロヘキサノール、N−フェニルエタノールアミンお
よびN−フェニルジエタノールアミンなどを挙げること
ができる。有機溶剤の含有量は使用液の総重量に対して
0.1〜5重量%である。その使用量は界面活性剤の使
用量と密接な関係があり、有機溶剤の量が増すにつれ、
界面活性剤の量は増加させることが好ましい。これは界
面活性剤の量が少なく、有機溶剤の量を多く用いると有
機溶剤が完全に溶解せず、従って、良好な現像性の確保
が期待できなくなるからである。
(Organic Solvent) An organic solvent is further added to the developing solution and the developing replenisher, if necessary. As such an organic solvent, those having a solubility in water of about 10% by weight or less are suitable, and preferably selected from those having a solubility of 5% by weight or less. For example, 1-phenylethanol, 2-phenylethanol, 3-phenyl-1-propanol, 4-phenyl-1-butanol, 4-phenyl-2-butanol, 2-phenyl-1-butanol, 2-phenoxyethanol, 2-phenoxyethanol, Benzyloxyethanol, o-methoxybenzyl alcohol, m-methoxybenzyl alcohol, p-methoxybenzyl alcohol, benzyl alcohol, cyclohexanol, 2-methylcyclohexanol, 3-methylcyclohexanol and 4-methylcyclohexanol, N-phenylethanol Examples include amines and N-phenyldiethanolamine. The content of the organic solvent is 0.1 to 5% by weight based on the total weight of the used solution. The amount used is closely related to the amount of surfactant used, and as the amount of organic solvent increases,
Preferably, the amount of surfactant is increased. This is because when the amount of the surfactant is small and the amount of the organic solvent is large, the organic solvent is not completely dissolved, and therefore, it is impossible to expect good developing property.

【0107】(還元剤)本発明に用いられる現像液およ
び補充液には更に還元剤が加えられる。これは印刷版の
汚れを防止するものであり、特に感光性ジアゾニウム塩
化合物を含むネガ型感光性平版印刷版を現像する際に有
効である。好ましい有機還元剤としては、チオサリチル
酸、ハイドロキノン、メトール、メトキシキノン、レゾ
ルシン、2−メチルレゾルシンなどのフェノール化合
物、フェニレンジアミン、フェニルヒドラジンなどのア
ミン化合物が挙げられる。更に好ましい無機の還元剤と
しては、亜硫酸、亜硫酸水素酸、亜リン酸、亜リン酸水
素酸、亜リン酸二水素酸、チオ硫酸および亜ジチオン酸
などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウ
ム塩などを挙げることができる。これらの還元剤のうち
汚れ防止効果が特に優れているのは亜硫酸塩である。こ
れらの還元剤は使用時の現像液に対して好ましくは、
0.05〜5重量%の範囲で含有される。
(Reducing Agent) A reducing agent is further added to the developer and replenisher used in the present invention. This is to prevent stains on the printing plate, and is particularly effective when developing a negative photosensitive lithographic printing plate containing a photosensitive diazonium salt compound. Preferred organic reducing agents include phenolic compounds such as thiosalicylic acid, hydroquinone, methol, methoxyquinone, resorcin, and 2-methylresorcin; and amine compounds such as phenylenediamine and phenylhydrazine. Further preferred inorganic reducing agents include sodium salts, potassium salts, and ammonium salts of inorganic acids such as sulfurous acid, bisulfite, phosphorous acid, bisulfite, diphosphite, thiosulfate and dithionite. Salts and the like can be mentioned. Among these reducing agents, sulfites are particularly excellent in the stain prevention effect. These reducing agents are preferably used in the developer during use,
It is contained in the range of 0.05 to 5% by weight.

【0108】(有機カルボン酸)本発明に用いられる現
像液および補充液には更に有機カルボン酸を加えること
もできる。好ましい有機カルボン酸は炭素原子数6〜2
0の脂肪族カルボン酸および芳香族カルボン酸である。
脂肪族カルボン酸の具体的な例としては、カプロン酸、
エナンチル酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン
酸、パルミチン酸およびステアリン酸などがあり、特に
好ましいのは炭素数8〜12のアルカン酸である。また
炭素鎖中に二重結合を有する不飽和脂肪酸でも、枝分か
れした炭素鎖のものでもよい。
(Organic carboxylic acid) The developing solution and replenisher used in the present invention may further contain an organic carboxylic acid. Preferred organic carboxylic acids are those having 6 to 2 carbon atoms.
0 aliphatic carboxylic acids and aromatic carboxylic acids.
Specific examples of aliphatic carboxylic acids include caproic acid,
Examples include enanthylic acid, caprylic acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid and stearic acid, and particularly preferred are alkanoic acids having 8 to 12 carbon atoms. Further, unsaturated fatty acids having a double bond in the carbon chain or branched fatty acids may be used.

【0109】芳香族カルボン酸としてはベンゼン環、ナ
フタレン環、アントラセン環などにカルボキシル基が置
換された化合物で、具体的には、o−クロロ安息香酸、
p−クロロ安息香酸、o−ヒドロキシ安息香酸、p−ヒ
ドロキシ安息香酸、o−アミノ安息香酸、p−アミノ安
息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、2,5−ジヒ
ドロキシ安息香酸、2,6−ジヒドロキシ安息香酸、
2,3−ジヒドロキシ安息香酸、3,5−ジヒドロキシ
安息香酸、没食子酸、1−ヒドロキシ−2−ナフトエ
酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、2−ヒドロキシ
−1−ナフトエ酸、1−ナフトエ酸、2−ナフトエ酸な
どがあるがヒドロキシナフトエ酸は特に有効である。
The aromatic carboxylic acid is a compound in which a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, or the like is substituted with a carboxyl group, specifically, o-chlorobenzoic acid,
p-chlorobenzoic acid, o-hydroxybenzoic acid, p-hydroxybenzoic acid, o-aminobenzoic acid, p-aminobenzoic acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid, 2,5-dihydroxybenzoic acid, 2,6- Dihydroxybenzoic acid,
2,3-dihydroxybenzoic acid, 3,5-dihydroxybenzoic acid, gallic acid, 1-hydroxy-2-naphthoic acid, 3-hydroxy-2-naphthoic acid, 2-hydroxy-1-naphthoic acid, 1-naphthoic acid And 2-naphthoic acid, and hydroxynaphthoic acid is particularly effective.

【0110】上記脂肪族および芳香族カルボン酸は水溶
性を高めるためにナトリウム塩やカリウム塩またはアン
モニウム塩として用いるのが好ましい。本発明で用いる
現像液の有機カルボン酸の含有量は格別な制限はない
が、0.1重量%より低いと効果が十分でなく、また1
0重量%以上ではそれ以上の効果の改善が計れないばか
りか、別の添加剤を併用する時に溶解を妨げることがあ
る。従って、好ましい添加量は使用時の現像液に対して
0.1〜10重量%であり、よりこのましくは0.5〜
4重量%である。
The aliphatic and aromatic carboxylic acids are preferably used as a sodium salt, a potassium salt or an ammonium salt in order to increase the water solubility. The content of the organic carboxylic acid in the developer used in the present invention is not particularly limited, but if the content is less than 0.1% by weight, the effect is not sufficient.
If it is 0% by weight or more, not only the effect cannot be further improved but also dissolution may be hindered when another additive is used in combination. Therefore, the preferred amount of addition is 0.1 to 10% by weight, more preferably 0.5 to 10% by weight, based on the developer used.
4% by weight.

【0111】(その他)本発明で用いられる現像液およ
び補充液には、更に必要に応じて、消泡剤および硬水軟
化剤などを含有させることもできる。硬水軟化剤として
は例えば、ポリリン酸およびそのナトリウム塩、カリウ
ム塩およびアンモニウム塩、エチレンジアミンテトラ酢
酸、ジエチレントリアミンペンタ酢酸、トリエチレンテ
トラミンヘキサ酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミ
ントリ酢酸、ニトリロトリ酢酸、1,2−ジアミノシク
ロヘキサンテトラ酢酸および1,3−ジアミノ−2−プ
ロパノールテトラ酢酸などのアミノポリカルボン酸およ
びそれらのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウ
ム塩、アミノトリ(メチレンホスホン酸)、エチレンジ
アミンテトラ(メチレンホスホン酸)、ジエチレントリ
アミンペンタ(メチレンホスホン酸)、トリエチレンテ
トラミンヘキサ(メチレンホスホン酸)、ヒドロキシエ
チルエチレンジアミントリ(メチレンホスホン酸)およ
び1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸やそれ
らのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩を
挙げることができる。
(Others) The developer and replenisher used in the present invention may further contain an antifoaming agent and a water softener, if necessary. Examples of water softeners include polyphosphoric acid and its sodium, potassium, and ammonium salts, ethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, triethylenetetraminehexaacetic acid, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, nitrilotriacetic acid, 1,2-diaminocyclohexanetetraacetic acid. Aminopolycarboxylic acids such as acetic acid and 1,3-diamino-2-propanoltetraacetic acid and their sodium, potassium and ammonium salts, aminotri (methylenephosphonic acid), ethylenediaminetetra (methylenephosphonic acid), diethylenetriaminepenta (methylene Phosphonic acid), triethylenetetraminehexa (methylenephosphonic acid), hydroxyethylethylenediaminetri (methylenephosphonic acid) and 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid and their sodium salts, potassium salts and ammonium salts.

【0112】このような硬水軟化剤はそのキレート化力
と使用される硬水の硬度および硬水の量によって最適値
が変化するが、一般的な使用量を示せば、使用時の現像
液に0.01〜5重量%、より好ましくは0.01〜
0.5重量%の範囲である。この範囲より少ない添加量
では所期の目的が十分に達成されず、添加量がこの範囲
より多い場合は、色抜けなど、画像部への悪影響がでて
くる。
The optimum value of such a water softening agent varies depending on the chelating power, the hardness of the hard water used and the amount of the hard water. 01 to 5% by weight, more preferably 0.01 to 5% by weight
It is in the range of 0.5% by weight. If the added amount is less than this range, the intended purpose is not sufficiently achieved, and if the added amount is larger than this range, an adverse effect on an image portion such as color omission appears.

【0113】現像液および補充液の残余の成分は水であ
るが、更に必要に応じて当業界で知られた種々の添加剤
を含有させることができる。
The remaining component of the developer and replenisher is water, but may further contain various additives known in the art, if necessary.

【0114】本発明に用いられる現像液および補充液は
使用時よりも水の含有量を少なくした濃縮液としてお
き、使用時に水で希釈するようにしておくことが運搬上
有利である。この場合の濃縮度は各成分が分離や析出を
起こさない程度が適当である。
It is advantageous from the viewpoint of transportation that the developing solution and the replenisher used in the present invention are concentrated solutions having a smaller water content than at the time of use, and are diluted with water at the time of use. The degree of concentration in this case is suitably such that each component does not cause separation or precipitation.

【0115】現像液温度は15〜40℃が好ましく、更
に好ましくは20〜35℃である。現像時間は5〜60
秒が好ましく、更に好ましくは7〜40秒である。
The temperature of the developer is preferably from 15 to 40 ° C, more preferably from 20 to 35 ° C. Development time is 5-60
Seconds are preferred, and more preferably 7 to 40 seconds.

【0116】現像部24で現像され、第2水洗部26に
送り出されたPS版110は、第2水洗部26におい
て、水洗処理される。第2水洗部26は、図2に示すよ
うに、第2水洗槽90、二対の搬送ローラ対92、9
4、第2スプレーパイプ96、及び第3スプレーパイプ
98を備え、現像処理されたPS版110を洗浄水によ
り洗浄してPS版110に付着した現像液を完全に除去
する。
The PS plate 110 developed in the developing unit 24 and sent to the second washing unit 26 is subjected to a washing process in the second washing unit 26. As shown in FIG. 2, the second washing section 26 includes a second washing tank 90 and two pairs of transport rollers 92 and 9.
4, a second spray pipe 96 and a third spray pipe 98 are provided, and the developed PS plate 110 is washed with cleaning water to completely remove the developer adhering to the PS plate 110.

【0117】二対の搬送ローラ対92、94は、第2水
洗槽90の上方で、かつ、第2水洗部26のPS版11
0引き込み位置と送り出し位置とに設けられている。こ
れらの搬送ローラ対92、94は、PS版110の搬送
路を形成しており、図示しない駆動手段の駆動力を受け
て回転し、現像部24から送り込まれたPS版110を
挟持搬送する。
The two transport roller pairs 92 and 94 are located above the second washing tank 90 and in the PS plate 11 of the second washing section 26.
It is provided at the zero retract position and the feed position. The transport roller pairs 92 and 94 form a transport path for the PS plate 110, rotate by receiving a driving force of a driving unit (not shown), and pinch and transport the PS plate 110 sent from the developing unit 24.

【0118】二対の搬送ローラ対92、94の間には、
PS版110の搬送路を挟んで上方と下方とのそれぞれ
に、第2スプレーパイプ96、第3スプレーパイプ98
が配設されている。
Between the two pairs of transport rollers 92 and 94,
A second spray pipe 96 and a third spray pipe 98 are provided above and below the PS plate 110 conveyance path, respectively.
Are arranged.

【0119】第2スプレーパイプ96は、前述した水貯
留槽84からポンプPによって水を汲み上げ、第2水洗
槽90内に水を補給する。第3スプレーパイプ98は、
PS版110の搬送方向と直交する方向に沿って配置さ
れた複数のスプレーパイプにより構成され、それぞれP
S版110の搬送に同期して洗浄水をPS版110の表
面へ噴射することにより、PS版110の幅方向にわた
って洗浄水を噴射する。
The second spray pipe 96 draws water from the water storage tank 84 by the pump P, and replenishes the water in the second washing tank 90. The third spray pipe 98
It is constituted by a plurality of spray pipes arranged along a direction orthogonal to the transport direction of the PS plate 110,
By injecting the cleaning water onto the surface of the PS plate 110 in synchronization with the transport of the S plate 110, the cleaning water is jetted across the width of the PS plate 110.

【0120】この第3スプレーパイプ98は、後述する
貯留タンク93からポンプPによって汲み上げられた洗
浄水をPS版110の表面側に向かって噴射する。これ
によってPS版110が水洗され、現像液が完全に除去
される。
The third spray pipe 98 injects washing water pumped up by the pump P from a storage tank 93 described later toward the surface of the PS plate 110. As a result, the PS plate 110 is washed with water, and the developer is completely removed.

【0121】なお、第3スプレーパイプ98から噴射さ
れた洗浄水は、PS版110の表面を速やかに広がっ
て、PS版110を水洗すると、PS版110が搬送ロ
ーラ対94によって後段のフィニッシャー部に送り出さ
れる際に、PS版110から絞り落とされる。
The washing water sprayed from the third spray pipe 98 quickly spreads on the surface of the PS plate 110, and when the PS plate 110 is washed with water, the PS plate 110 is transferred to the finisher section at the subsequent stage by the pair of conveying rollers 94. When it is sent out, it is squeezed from the PS plate 110.

【0122】また、第2水洗槽90には、第3オーバー
フロー管91が設けられている。この第3オーバーフロ
ー管91は、第2水洗槽90内の水位が上がって管内に
流れ込んだ洗浄水を貯留タンク93に導くことにより、
第2水洗槽90内の水位を常に一定に保つ。貯留タンク
93には、ポンプPが設けられており、このポンプPに
より貯留した洗浄水を汲み上げて、第3スプレーパイプ
98に供給する。
The second washing tank 90 is provided with a third overflow pipe 91. The third overflow pipe 91 guides the washing water flowing into the pipe by raising the water level in the second washing tank 90 to the storage tank 93,
The water level in the second washing tank 90 is always kept constant. The storage tank 93 is provided with a pump P, and the stored cleaning water is pumped up by the pump P and supplied to the third spray pipe 98.

【0123】すなわち、現像部24から送り出されたP
S版110は、第2水洗部26の引き込み位置に設けら
れた搬送ローラ対92により第2水洗部26に引き込ま
れ、第2水洗漕の上層に形成された搬送路を通過する際
に、第2スプレーパイプ96及び第3スプレーパイプ9
8から噴射された洗浄水により両面が洗浄され、第2水
洗部26の送り出し位置に設けられた搬送ローラ対94
により付着する洗浄水が絞り落されて、第2水洗部26
から送り出される。
That is, P sent from the developing unit 24
The S plate 110 is drawn into the second washing unit 26 by the pair of conveying rollers 92 provided at the position where the second washing unit 26 is drawn in, and passes through the conveying path formed in the upper layer of the second washing tank. 2 spray pipe 96 and third spray pipe 9
8 is washed on both sides by the washing water sprayed from the second washing unit 26, and a pair of transport rollers 94 provided at the delivery position of the second washing unit 26.
The washing water that adheres to the second washing section 26
Sent out from.

【0124】第2水洗部26の後段には、フィニッシャ
ー部28が設けられている。このフィニッシャー部28
は、ガム液槽100とガム液をPS版110の表面に噴
射するガム液噴射ノズル102及び、搬送ローラ対10
4とを備え、水洗後のPS版110にガム液を塗布して
不感脂化処理する。ガム液槽100も他の槽と同様にオ
ーバーフロー管が設けられており、槽内の水位が常に一
定に保たれるように調整されている。
A finisher section 28 is provided at a stage subsequent to the second washing section 26. This finisher section 28
Are a gum solution tank 100 and a gum solution spray nozzle 102 for spraying the gum solution onto the surface of the PS plate 110;
The gum solution is applied to the PS plate 110 after washing with water to desensitize it. The gum solution tank 100 is provided with an overflow pipe similarly to the other tanks, and is adjusted so that the water level in the tank is always kept constant.

【0125】第2水洗部26から送り出されたPS版1
10は、フィニッシャー部28を通過する際に、ガム液
噴射ノズル102から表面の画像形成側にガム液が噴射
された後、フィニッシャー部28の送り出し位置に設け
られた搬送ローラ対104により付着するガム液が絞り
落されて、フィニッシャー部28から送り出される。
The PS plate 1 sent out from the second washing section 26
Reference numeral 10 denotes a gum that is ejected from the gum solution ejecting nozzle 102 to the image forming side of the surface when passing through the finisher unit 28, and then adheres to the conveying roller pair 104 provided at the delivery position of the finisher unit 28. The liquid is squeezed and sent out from the finisher unit 28.

【0126】フィニッシャー部28の後段には、乾燥部
29が設けられており、PS版110が乾燥部29を通
過する際に、乾燥処理されて外部に排出される。なお、
乾燥部29としては公知の構成を適用できるためここで
は説明は省略する。
A drying section 29 is provided downstream of the finisher section 28. When the PS plate 110 passes through the drying section 29, the PS plate 110 is dried and discharged to the outside. In addition,
Since a known configuration can be applied to the drying unit 29, the description is omitted here.

【0127】なお、本実施の形態の製版システムに使用
するPS版は、光重合性の感光層と該感光層を保護する
オーバーコート層(保護層)を含むものであればよいが、
好ましくは、アルミニウム板に親水化処理を施した支持
体上に、付加重合可能なエチレン性二重結合を有する化
合物と波長450nm以上の光で活性化する光重合開始
系と架橋性基を側鎖に有する重合体とを含有する光重合
性感光層を有するものを使用すると良い。
The PS plate used in the plate making system of the present embodiment may be any as long as it includes a photopolymerizable photosensitive layer and an overcoat layer (protective layer) for protecting the photosensitive layer.
Preferably, a compound having an addition-polymerizable ethylenic double bond, a photopolymerization initiation system activated by light having a wavelength of 450 nm or more, and a crosslinkable group are provided on a support obtained by subjecting an aluminum plate to a hydrophilic treatment. It is preferable to use a material having a photopolymerizable photosensitive layer containing the polymer having the above.

【0128】以下、好適なPS版について詳細に説明す
る。
Hereinafter, a preferred PS plate will be described in detail.

【0129】〔アルミニウム支持体〕まず、PS版のア
ルミニウム支持体は、寸度的に安定なアルミニウムを主
成分とする金属であり、アルミニウムまたはアルミニウ
ム合金からなる。純アルミニウム板の他、アルミニウム
を主成分とし、微量の異元素を含む合金板、又はアルミ
ニウム(合金)がラミネートもしくは蒸着されたプラス
チックフィルム又は紙の中から選ばれる。更に、特公昭
48−18327号に記載されているようなポリエチレ
ンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシー卜が結
合された複合体シートでもかまわない。
[Aluminum Support] The aluminum support of the PS plate is a dimensionally stable metal containing aluminum as a main component, and is made of aluminum or an aluminum alloy. In addition to a pure aluminum plate, it is selected from an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element, or a plastic film or paper on which aluminum (alloy) is laminated or evaporated. Further, a composite sheet in which an aluminum sheet is bonded to a polyethylene terephthalate film as described in JP-B-48-18327 may be used.

【0130】以下の説明において、上記に挙げたアルミ
ニウムまたはアルミニウム合金からなる基板をアルミニ
ウム基板と総称して用いる。前記アルミニウム合金に含
まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネ
シウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンな
どがあり、合金中の異元素の含有量は10重量%以下で
ある。本発明では純アルミニウム板が好適であるが、完
全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難である
ので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このよう
に本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特
定されるものではなく、従来より公知公用の素材のも
の、例えばJIS A 1050、JISA 110
0、JIS A 3103、JIS A 3005など
を適宜利用することができる。
In the following description, the above-mentioned substrates made of aluminum or aluminum alloy are collectively used as aluminum substrates. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel and titanium, and the content of the foreign elements in the alloy is 10% by weight or less. In the present invention, a pure aluminum plate is preferable, but completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and any of conventionally known and used materials such as JIS A 1050 and JISA 110 can be used.
0, JIS A 3103, JIS A 3005, and the like can be used as appropriate.

【0131】また、本発明に用いられるアルミニウム基
板の厚みは、およそ0.1mm〜0.6mm程度であ
る。この厚みは印刷機の大きさ、印刷版の大きさ及びユ
ーザーの希望により適宜変更することができる。
The thickness of the aluminum substrate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm. This thickness can be appropriately changed according to the size of the printing press, the size of the printing plate, and the user's request.

【0132】〔親水化処理〕上述したアルミニウム基板
には、後述する砂目立て等の処理が適宜施された後、基
板表面にシリケート、またはポリビエルホスホン酸等に
よる親水化処理が施される。皮膜はSi、またはP元素
量として2〜40mg/m2、より好ましくは4〜30
mg/m2形成される。なお、塗布量は蛍光X線分析法
により測定できる。
[Hydrophilic Treatment] The above-described aluminum substrate is appropriately subjected to a graining treatment, which will be described later, and then the substrate surface is subjected to a hydrophilizing treatment with silicate or polyvinylphosphonic acid or the like. The film has a Si or P element content of 2 to 40 mg / m 2 , more preferably 4 to 30 mg / m 2 .
mg / m 2 . In addition, the coating amount can be measured by a fluorescent X-ray analysis method.

【0133】上記の親水化処理は、アルカリ金属ケイ酸
塩、またはポリビニルホスホン酸が1〜30重量%、好
ましくは2〜15重量%であり、25℃のpHが10〜
13である水溶液に、陽極酸化皮膜が形成されたアルミ
ニウム基板を、例えば15〜80℃で0.5〜120秒
浸漬する。
In the above-mentioned hydrophilization treatment, the alkali metal silicate or polyvinylphosphonic acid is 1 to 30% by weight, preferably 2 to 15% by weight, and the pH at 25 ° C. is 10 to 10% by weight.
The aluminum substrate on which the anodized film is formed is immersed in the aqueous solution of No. 13 at, for example, 15 to 80 ° C. for 0.5 to 120 seconds.

【0134】また、アルカリ金属ケイ酸塩としては、ケ
イ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムなど
が使用できる。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液のpHを高
くするために使用される水酸化物としては水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがある。
As the alkali metal silicate, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate and the like can be used. Hydroxides used to increase the pH of the aqueous alkali metal silicate solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and lithium hydroxide.

【0135】なお、上記の処理液にアルカリ土類金属塩
もしくは第IVB族金属塩を配合してもよい。アルカリ
土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ストロレン
チウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのような硝酸
塩や、硫酸塩、塩酸塩、リン酸塩、酢酸塩、シュウ酸
塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。
It is to be noted that an alkaline earth metal salt or a Group IVB metal salt may be added to the above-mentioned treatment liquid. Alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strolentium nitrate, magnesium nitrate and barium nitrate, and aqueous solutions such as sulfates, hydrochlorides, phosphates, acetates, oxalates and borates. Salts.

【0136】第IVB族金属塩として、四塩化チタン、
三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ酸チタン
カリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジル
コニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウ
ム、四塩化ジルコニウムなどを挙げることができる。
As Group IVB metal salts, titanium tetrachloride,
Examples thereof include titanium trichloride, potassium titanium fluoride, potassium potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, zirconium dioxide, zirconium oxychloride, and zirconium tetrachloride.

【0137】アルカリ土類金属塩もしくは、第IVB族
金属塩は単独又は2以上組み合わせて使用することがで
きる。これらの金属塩の好ましい範囲は0.01〜10
重量%であり、更に好ましい範囲は0.05〜5.0重
量%である。
The alkaline earth metal salts or Group IVB metal salts can be used alone or in combination of two or more. The preferred range of these metal salts is 0.01 to 10
% By weight, and a more preferred range is 0.05 to 5.0% by weight.

【0138】また、米国特許第3,658,662号明
細書に記載されているようなシリケート電着も有効であ
る。更に、特公昭46−27481号、特開昭52−5
8602号、特開昭52−30503号に開示されてい
るような電解グレインを施した支持体と、上記陽極酸化
処理および親水化処理を組合せた表面処理も有用であ
る。
Further, silicate electrodeposition as described in US Pat. No. 3,658,662 is also effective. Further, JP-B-46-27481 and JP-A-52-5
No. 8602 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-30503 are also useful in combination with a support provided with electrolytic grains and a surface treatment combining the above-described anodic oxidation treatment and hydrophilic treatment.

【0139】〔親水性下塗り層〕このようにしてシリケ
ート処理されたアルミニウム基板上には必要に応じて下
記親水性下塗り層を設けることができる。
[Hydrophilic undercoat layer] The following hydrophilic undercoat layer can be provided on the silicate-treated aluminum substrate as needed.

【0140】水溶性の樹脂、例えばポリビニルホスホン
酸、スルホン酸基を側鎖に有する重合体および共重合
体、ポリアクリル酸、水溶性金属塩(例えば硼酸亜鉛)
もしくは、黄色染料、アミン塩等を下塗りしたものも好
適である。
Water-soluble resins, for example, polyvinylphosphonic acid, polymers and copolymers having a sulfonic acid group in the side chain, polyacrylic acid, water-soluble metal salts (for example, zinc borate)
Alternatively, a primer coated with a yellow dye, an amine salt or the like is also suitable.

【0141】この有機(樹脂)下塗層に用いられる有機
化合物としては例えば、カルボキシメチルセルロース、
デキストリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホ
ン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有
してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、
アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジ
ホスホン酸およびエチレンジホスホン酸などの有機ホス
ホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチ
ルリン酸、アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの
有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン
酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およ
びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン殿、グリ
シンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、およびトリエタ
ノールアミンの塩酸塩などのとドロキンル基を有するア
ミンの塩酸塩などから選ばれるが、二種以上混合して用
いてもよい。
Examples of the organic compound used in the organic (resin) undercoat layer include carboxymethyl cellulose and
Dextrin, gum arabic, phosphonic acids having an amino group such as 2-aminoethylphosphonic acid, phenylphosphonic acid which may have a substituent, naphthylphosphonic acid,
Organic phosphonic acids such as alkyl phosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylene diphosphonic acid and ethylene diphosphonic acid, phenylphosphoric acid which may have a substituent, naphthyl phosphoric acid, organic phosphoric acid such as alkyl phosphoric acid and glycerophosphoric acid, Organic phosphines such as phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid which may have a substituent, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydroquinol such as triethanolamine hydrochloride It is selected from hydrochlorides of amines having a group, but may be used as a mixture of two or more kinds.

【0142】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことができる。即ち、水またはメタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれら
の混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアル
ミニウム基板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水また
はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの
有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物
を溶解させた溶液に、アルミニウム基板を浸漬して上記
有機化合物を吸着させ、しかる後、水などによって洗
浄、乾燥して有機下塗層を設ける方法である。前者の方
法では、上記の有機化合物の0.005〜10重量%の
濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコ
ーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布な
どいずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法で
は、溶液の濃度は0.01〜20重量%、好ましくは
0.05〜5重量%であり、浸漬温度は20〜90℃、
好ましくは25〜50℃であり、浸債時間は0.1秒〜
20分、好ましくは2秒〜1分である。
The organic undercoat layer can be provided by the following method. That is, a method in which a solution obtained by dissolving the above organic compound in water or an organic solvent such as methanol, ethanol, or methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is applied to an aluminum substrate and dried to form a solution, and water or methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or the like. An aluminum substrate is immersed in a solution obtained by dissolving the above organic compound in an organic solvent or a mixed solvent thereof to adsorb the organic compound, and then washed with water and dried to form an organic undercoat layer. Is the way. In the former method, a solution of the above organic compound having a concentration of 0.005 to 10% by weight can be applied by various methods. For example, any method such as bar coater coating, spin coating, spray coating, and curtain coating may be used. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight, and the immersion temperature is 20 to 90 ° C.
Preferably, the temperature is 25 to 50 ° C., and the immersion time is 0.1 second to
20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute.

【0143】これに用いる溶液はアンモニア、トリエチ
ルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、
リン酸などの酸性物質によりpHを調節し、pH1〜1
2の範囲で使用することもできる。また、光重合性平版
印刷版の調子再現性改良のために、黄色染料を添加する
こともできる。
The solution used here may be a basic substance such as ammonia, triethylamine or potassium hydroxide, hydrochloric acid,
The pH is adjusted with an acidic substance such as phosphoric acid,
2 can be used. Further, a yellow dye can be added for improving the tone reproducibility of the photopolymerizable lithographic printing plate.

【0144】有機下塗層の乾燥後の被覆量は、2〜20
0mg/m2が適当であり、好ましくは5〜100mg
/m2である。上記の被覆量が2mg/m2より少ないと
十分な耐刷性が得られない。また、200mg/m2
り大きくても同様である。
The coating amount of the organic undercoat layer after drying is from 2 to 20.
0 mg / m 2 is suitable, preferably 5 to 100 mg.
/ M 2 . If the coating amount is less than 2 mg / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. The same is true even if it is larger than 200 mg / m 2 .

【0145】またアルミニウム支持体は、途中更にフッ
化ジルコニウム酸カリウム、リン酸塩等の水溶液への浸
漬処理などの表面処理がなされてもかまわない。
The aluminum support may be further subjected to a surface treatment such as immersion in an aqueous solution of potassium fluorozirconate, phosphate or the like.

【0146】〔光重合性感光層〕本発明で用いられる光
重合性感光層の主な成分は、付加重合可能なエチレン性
二重結合を含む化合物、光重合開始剤、有機高分子結合
剤等であり、必要に応じ、着色剤、可塑剤、熱重合禁止
剤等の種々の化合物が添加される。
[Photopolymerizable Photosensitive Layer] The main components of the photopolymerizable photosensitive layer used in the present invention include compounds containing an addition-polymerizable ethylenic double bond, a photopolymerization initiator, an organic polymer binder and the like. Various compounds such as a coloring agent, a plasticizer, and a thermal polymerization inhibitor are added as necessary.

【0147】付加重合可能な二重結合を含む化合物は、
末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましく
は2個以上有する化合物の中から任意に選択することが
できる。
The compound containing a double bond capable of addition polymerization is
It can be arbitrarily selected from compounds having at least one, preferably two or more terminal ethylenically unsaturated bonds.

【0148】例えばモノマー、プレポリマー、すなわち
2量体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合
物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつも
のである。
For example, those having a chemical form such as a monomer, a prepolymer, ie, a dimer, a trimer and an oligomer, or a mixture thereof and a copolymer thereof.

【0149】モノマーおよびその共重合体の例として
は、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリ
ル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレ
イン酸など)と脂肪族多価アルコール化合物とのエステ
ル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのア
ミド等が挙げられる。
Examples of monomers and copolymers thereof include esters of unsaturated carboxylic acids (eg, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.) and aliphatic polyhydric alcohol compounds. And amides of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyamine compounds.

【0150】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソル
ビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリ
レート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトー
ルヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチ
ル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリ
ゴマー等がある。
Specific examples of the ester monomer of the aliphatic polyhydric alcohol compound and the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, and 1,3.
-Butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate 1,4-cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol Triacry Over DOO, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer.

【0151】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペシタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレー
ト、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールナ
トラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキ
シ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメ
タン、ビス〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニ
ル〕ジメチルメタン等がある。
Examples of the methacrylate include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, and 1,3-butanediol. Dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipesitaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol natramethacrylate , There is bis [p- (3--methacryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl] dimethyl methane, bis [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

【0152】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。
Examples of itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate,
There are 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate, sorbitol tetritaconate and the like.

【0153】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。
The crotonates include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate,
Sorbitol tetradicrotonate and the like.

【0154】イソクロトン酸エステルとしては、エチレ
ングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトー
ルジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロト
ネート等がある。
Examples of the isocrotonic acid ester include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.

【0155】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。
Examples of the maleic acid ester include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate and sorbitol tetramaleate.

【0156】さらに、前述のエステルモノマーの混合物
も挙げることができる。
Further, a mixture of the above-mentioned ester monomers can also be mentioned.

【0157】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。
Specific examples of the amide monomer of the aliphatic polyamine compound and the unsaturated carboxylic acid include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6- Hexamethylene bis-methacrylamide,
Examples include diethylenetriaminetrisacrylamide, xylylenebisacrylamide, xylylenebismethacrylamide, and the like.

【0158】その他の例としては、特公昭48−417
08号公報中に記載されている1分子中に2個以上のイ
ソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、
下記の一般式(A)で示される水酸基を含有するビニル
モノマーを付加せしめた1分子中に2個以上の重合性ビ
ニル基を含有するビエルウレタン化合物等が挙げられ
る。
Another example is described in JP-B-48-417.
08 polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule described in
A bierurethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule to which a hydroxyl group-containing vinyl monomer represented by the following general formula (A) is added is exemplified.

【0159】 CH2=C(R5)COOCH2CH(R6)OH……(A) (ただし、R5およびR6はHまたはCH3を示す。) また、特開昭51−37193号に記載されているよう
なウレタンアクリレート類、特開昭48−64183
号、特公昭49−43191号、特公昭52−3049
0号各公報に記載されているようなポリエステルアクリ
レート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応さ
せたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレート
やメタクリレートを挙げることができる。さらに日本接
着協会誌vol.20、No.7、300〜308ペー
ジ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマー
として紹介されているものも使用することができる。な
お、これらの使用量は、全成分に対して5〜70重量%
(以下%と略称する。)、好ましくは10〜50%であ
る。
CH 2 CC (R 5 ) COOCH 2 CH (R 6 ) OH (A) (where R 5 and R 6 represent H or CH 3 ). Urethane acrylates described in JP-A-48-64183.
No., JP-B-49-43191, JP-B-52-3049
Polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid as described in JP-A Nos. 0-104, and 2005-112, respectively. Further, the Journal of the Adhesion Society of Japan vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984) as photocurable monomers and oligomers can also be used. In addition, the amount of these used is 5-70 weight% with respect to all components.
(Hereinafter abbreviated as%), preferably 10 to 50%.

【0160】光重合開始剤としては、使用する光源の波
長により、特許、文献等で公知である種々の光開始剤、
あるいは2種以上の光開始剤の併用系(光開始系)を適
宜選択して使用することができる。
As the photopolymerization initiator, various photoinitiators known in patents and literatures can be used depending on the wavelength of the light source used.
Alternatively, a combination system (photoinitiating system) of two or more photoinitiators can be appropriately selected and used.

【0161】450nm以上の可視光線、Arレーザ
ー、半導体レーザーの第2高調波、SHG−YAGレー
ザーを光源とする場合にも、種々の光開始系が提案され
ており、例えば米国特許第2,850,445号に記載
のある種の光還元性染料、例えばローズベンガル、エオ
シン、エリスロシンなど、あるいは、染料と開始剤との
組み合わせによる系、例えば染料とアミンの複合開始系
(特公昭44−20189号)、ヘキサアリールビイミ
ダゾールとラジカル発生剤と染料との併用系(特公昭4
5−37377号)、ヘキサアリールビイミダゾールと
p−ジアルキルアミノベンジリデンケトンの系(特公昭
47−2528号、特開昭54−155292号)、環
状シス−α−ジカルボニル化合物と染料の系(特開昭4
8−84183号)、環状トリアジンとメロシアニン色
素の系(特開昭54−151024号)、3−ケトクマ
リンと活性剤の系(時開昭52−112681号、特開
昭58−15503号)、ビイミダゾール、スチレン誘
導体、チオールの系(特開昭59−140203号)、
有機過酸化物と色素の系(特開昭59−1504号、特
開昭59−140203号、特開昭59−189340
号、特開昭62−174203号、特公昭62−164
1号、米国特許第4766055号)、染料と活性ハロ
ゲン化合物の系(特開昭63−1718105号、特開
昭63−258903号、特願平2−63054号な
ど)、染料とボレート化合物の系(特開昭62−143
044号、特開昭62−150242号、特開昭64−
13140号、特開昭64−13141号、特開昭64
−13142号、特開昭64−13143号、特開昭6
4−13144号、特開昭64−17048号、特開平
1−229003号、特開平1−298348号、特開
平1−138204号など)、ローダニン環を有する色
素とラジカル発生剤の系(特開平2−179643号、
特開平2−244050号)、チタノセンと3−ケトク
マリン色素の系(特開昭63−221110号)、チタ
ノセンとキサンテン色素さらにアミノ基あるいはウレタ
ン基を含む付加重合可能なエチレン性不飽和化合物を組
み合わせた系(特開平4−221958号、特開平4−
219756号)、チタノセンと特定のメロシアニン色
素の系(特開平6−295061号)、チタノセンとベ
ンゾピラン環を有する色素の系(特願平7−16458
3)等を挙げることができる。
Various light-initiating systems have also been proposed when using visible light of 450 nm or more, an Ar laser, the second harmonic of a semiconductor laser, or a SHG-YAG laser as a light source. For example, US Pat. No. 2,850. Certain photoreducing dyes, for example, rose bengal, eosin, erythrosine, and the like, or a system using a combination of a dye and an initiator, for example, a complex starting system of a dye and an amine (Japanese Patent Publication No. 44-20189). ), A combination of hexaarylbiimidazole, a radical generator and a dye (Japanese Patent Publication No. Sho 4)
5-37377), a system of hexaarylbiimidazole and p-dialkylaminobenzylidene ketone (JP-B-47-2528, JP-A-54-155292), and a system of a cyclic cis-α-dicarbonyl compound and a dye ( Kaisho 4
8-84183), a system of a cyclic triazine and a merocyanine dye (JP-A-54-151024), a system of 3-ketocoumarin and an activator (Tokikai Sho 52-112681, JP-A 58-15503), A system of imidazole, a styrene derivative, and a thiol (JP-A-59-140203);
Organic peroxide and dye system (JP-A-59-1504, JP-A-59-140203, JP-A-59-189340)
No., JP-A-62-174203, JP-B-62-164
No. 1, U.S. Pat. No. 4,766,055), a system of a dye and an active halogen compound (JP-A-63-1718105, JP-A-63-258903, Japanese Patent Application No. 2-63054), a system of a dye and a borate compound (Japanese Unexamined Patent Publication No. Sho 62-143)
No. 044, JP-A-62-150242, JP-A-64-142.
No. 13140, JP-A-64-13141, JP-A-64
-13142, JP-A-64-13143, JP-A-6-142
4-1144, JP-A-64-17048, JP-A-1-229003, JP-A-1-298348, JP-A-1-138204, etc., and a system comprising a dye having a rhodanine ring and a radical generator (JP-A-Hei. No. 2-196443,
JP-A-2-244050), a system of titanocene and 3-ketocoumarin dye (JP-A-63-221110), a combination of titanocene and a xanthene dye, and an addition-polymerizable ethylenically unsaturated compound containing an amino group or a urethane group. System (JP-A-4-221958, JP-A-4-221958)
No. 219756), a system of titanocene and a specific merocyanine dye (JP-A-6-295061), and a system of titanocene and a dye having a benzopyran ring (Japanese Patent Application No. 7-16458).
3) and the like.

【0162】本発明において光重合性開始系として用い
られるチタノセン化合物は、前記した増感色素との共存
下で光照射した場合、活性ラジカルを発生し得るチタノ
セン化合物であればいずれであってもよく、例えば、特
開昭59−152396号、特開昭61−151197
号公報に記載されている公知の化合物を適宜に選択して
用いることができる。
The titanocene compound used as the photopolymerizable initiation system in the present invention may be any titanocene compound capable of generating an active radical when irradiated with light in the presence of the above-described sensitizing dye. For example, JP-A-59-152396, JP-A-61-151197
A known compound described in JP-A No. 5-211 can be appropriately selected and used.

【0163】さらに具体的には、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニ
ル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル
−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフ
ェニ−1−イル(以下「A−1」ともいう。)、ジ−シ
クロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テ
トラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−
1−イル、ジ−シクロペンタジフェニル−Ti−ビス−
2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペン
タジエニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニ−
1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビ
ス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−
イル(以下「A−2」ともいう。)、ジ−メチルシクロ
ペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラ
フルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジ
エニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニ−1−
イル、ビス(シクロペンタジエエル)−ビス(2,6−
ジフルオロ−3−(ピリ−1−イル)フェニル)チタニ
ウム(以下「A−3」ともいう。)等を挙げることがで
きる。
More specifically, di-cyclopentadienyl-Ti-di-chloride, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,3 4,5,6-pentafluorophenyl-1-yl (hereinafter also referred to as “A-1”), di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophenyl-1- Yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluorophenyl
1-yl, di-cyclopentadiphenyl-Ti-bis-
2,6-difluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-difluorophenyl
1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophenyl-1-
Yl (hereinafter also referred to as “A-2”), di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophenyl-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti -Bis-2,4-difluorophenyl-1-
Il, bis (cyclopentadieel) -bis (2,6-
And difluoro-3- (pyrid-1-yl) phenyl) titanium (hereinafter also referred to as “A-3”).

【0164】光重合性組成物に用いられるチタノセン化
合物は単独でまたは2種以上併用して用いることができ
る。
The titanocene compounds used in the photopolymerizable composition can be used alone or in combination of two or more.

【0165】これらの光重合開始剤の使用量は、エチレ
ン性不飽和化合物100重量部に対し、0.05〜10
0重量部、好ましくは0.1〜70重量部、更に好まし
くは0.2〜50重量部の範囲で用いることができる。
The amount of the photopolymerization initiator used is 0.05 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the ethylenically unsaturated compound.
0 parts by weight, preferably 0.1 to 70 parts by weight, and more preferably 0.2 to 50 parts by weight.

【0166】光重合性組成物は、通常、バインダーとし
て有機高分子重合体を含有するが、本発明では架橋性基
を側鎖に有する重合体を用いる。このような有機高分子
重合体(以下、単にポリマーともいう)としては、それ
自身が架橋性基(不飽和基ともいう)およびカルボキシ
ル基を側鎖に有し、且つ架橋性基が下記一般式〔I〕
The photopolymerizable composition usually contains an organic polymer as a binder. In the present invention, a polymer having a crosslinkable group in a side chain is used. Such an organic high molecular polymer (hereinafter also simply referred to as a polymer) itself has a crosslinkable group (also referred to as an unsaturated group) and a carboxyl group in a side chain, and the crosslinkable group has the following general formula: [I]

【0167】[0167]

【化1】 Embedded image

【0168】〔式中R1〜R5は水素、ハロゲノ、カルボ
キシル、スルホ、ニトロ、シアノ、アミド、アミノやそ
れぞれ置換基を有していてもよいアルキル、アリール、
アルコキン、アリーロキン、アルキルアミノ、アリール
アミノ、環状アルキル、アルキルスルホニル、アリール
スルホニルから選ばれた基であり、Zは酸素、硫黄、N
HまたはNR(Rはアルキル基)から選ばれる〕で表わ
されるところに特徴がある。
[Wherein R 1 to R 5 are hydrogen, halogeno, carboxyl, sulfo, nitro, cyano, amide, amino, and alkyl, aryl,
Alcoquin, aryloquin, alkylamino, arylamino, cyclic alkyl, alkylsulfonyl, arylsulfonyl, wherein Z is oxygen, sulfur, N
H or NR (R is an alkyl group)].

【0169】更に、光重合性感光層のバインダーとして
用いられる、架橋性基を側鎖に有するポリマーは、米国
特許第3,376,138号、第3,556,792
号、第3,556,793号各明細書により公知である
が、開示されているポリマーは、ポリマーそのものが、
光架橋性レジストとして使われており、本実施の形態で
述べる光重合性組成物のバインターとしての使用方法と
は明白な相異がある。
Further, polymers having a crosslinkable group in a side chain used as a binder for the photopolymerizable photosensitive layer are described in US Pat. Nos. 3,376,138 and 3,556,792.
No. 3,556,793, the disclosed polymer is a polymer itself,
It is used as a photocrosslinkable resist, and has a clear difference from the method of using the photopolymerizable composition described in this embodiment as a binder.

【0170】上記ポリマーの合成方法には、大別して次
の2つの方法がある。
The methods for synthesizing the above polymers are roughly classified into the following two methods.

【0171】(A法):カルボン酸、カルボン酸ハライ
ド、カルボン酸無水物基を側鎖として有する幹ポリマー
に対して、後記一般式〔I−a〕で示される化合物を高
分子反応させて、
(Method A): A compound represented by the following general formula [Ia] is subjected to a high molecular reaction with a carboxylic acid, a carboxylic acid halide, and a backbone polymer having a carboxylic anhydride group as a side chain.

【0172】[0172]

【化2】 Embedded image

【0173】(式中、R1〜R5は一般式〔I〕:の場合
と同義)で示される架橋性基を−COO−、−COS
−、−CONH−または−CONR−の各連結基を介し
て導入する方法。
(Wherein, R 1 to R 5 have the same meanings as in formula (I)): —COO—, —COS
-, -CONH- or -CONR- a method of introducing via each connecting group.

【0174】(B法):前記一般式〔I〕で示される架
橋性基とさらに該架橋性基よりも付加重合反応性に富ん
だエチレン性不飽和基とを有するモノマーを不飽和カル
ボン酸と共重合させて、ポリマーを得る方法。
(Method B): A monomer having a crosslinkable group represented by the above general formula [I] and an ethylenically unsaturated group having a higher addition polymerization reactivity than the crosslinkable group is converted into an unsaturated carboxylic acid. A method of obtaining a polymer by copolymerization.

【0175】[0175]

【化3】 Embedded image

【0176】〔式中、R1〜R5は一般式〔I〕の場合と
同義であり、YはOH、−SH、−NH2、−NHR
(Rはアルキル基)またはハロゲン原子を示す。〕 上記一般式〔I−a〕におけR1〜R5のアルキル基は、
直鎖、分枝、または環状であってもよく、炭素数1〜7
のものが好ましく、これらのアルキル基には更に炭素数
1〜2のアルコキシ基、炭素数1〜3のアルコキシカル
ボニル基、フェニル基、ヒドロキシ基などの置換基を有
していてもよく、R1〜R5のアリール基としてはフェニ
ル基、フリル基が好ましく、これにはハロゲノ基(例え
ばクロロ、ブロモなど)、ヒドロキシ基、炭素数1〜7
のアルキル基、アリール基(例えばフェニル、メトキン
フェニルなど)、炭素数1〜7個のアルコキシ基、ニト
ロ基、アミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基などの置
換基を有していてもよい。R1〜R5のアルコキシ基とし
ては炭素数1〜7のものが好ましく、アリールオキシ基
としてはフェニルオキン基が好ましく、これには炭素数
1〜7のアルキルもしくはアルコキシ基などの置換基を
有していてもよい。R1〜R5のアルキルアミノ基として
は、炭素故1〜15のものが好ましく、アリールアミノ
基としてはフェニルアミノ基、ナフチルアミノ基が好ま
しい。R1〜R5のアルキルスルホニル基としては炭素数
1〜15のものが好ましく、アリールスルホニル基とし
てはフェニルスルホニル基などが好ましく、これには炭
素数1〜15のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ
基、アミノ基などの置換基を有していてもよい。
[Wherein, R 1 to R 5 have the same meanings as in formula [I], and Y represents OH, —SH, —NH 2 , —NHR
(R is an alkyl group) or a halogen atom. The alkyl group of R 1 to R 5 in the general formula [Ia] is
It may be linear, branched, or cyclic, and has 1 to 7 carbon atoms.
Preferably has, even in these alkyl group, an alkoxy group having from 1 to 2 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 1 to 3 carbon atoms, a phenyl group may have a substituent such as hydroxy group, R 1 As the aryl group represented by R 5 to R 5, a phenyl group and a furyl group are preferable, including a halogeno group (eg, chloro, bromo, etc.), a hydroxy group,
May have a substituent such as an alkyl group, an aryl group (e.g., phenyl and methkinphenyl), an alkoxy group having 1 to 7 carbon atoms, a nitro group, an amino group, and an N, N-dialkylamino group. . The alkoxy group of R 1 to R 5 is preferably a group having 1 to 7 carbon atoms, and the aryloxy group is preferably a phenyl okine group, which has a substituent such as an alkyl or alkoxy group having 1 to 7 carbon atoms. May be. The alkylamino group of R 1 to R 5 is preferably a group having 1 to 15 carbon atoms, and the arylamino group is preferably a phenylamino group or a naphthylamino group. The alkylsulfonyl group represented by R 1 to R 5 is preferably a group having 1 to 15 carbon atoms, and the arylsulfonyl group is preferably a phenylsulfonyl group. May have a substituent such as an alkoxy group and an amino group.

【0177】上記A法をさらに詳しく示すと、幹ポリマ
ーとしてはアクリル酸又はメタアクリル酸の共重合体お
よび当該共重合体を高分子反応により酸ハロゲン化物と
した共重合体があげられる。又、マレイン酸無水物、イ
タコン酸無水物等の共重合体があげられる。共重合する
コモノマーとしては、スチレンまたはそのアルキル置換
誘導体、アクリル酸アルキルエステル、アクリル酸アリ
ールエステル、メタクリル酸アルキルエステル、メタク
リル酸アリールエステル、または脂肪族ビニルエステル
があげられる。好ましくはアクリル酸またはメタアクリ
ル酸とアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸ブチル、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸メチル、
メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル
酸ベンジルとの共重合体があげられる。これらの共重合
体に架橋性基を導入するには一般式〔I−a〕で示され
る架橋性アルコール、アミン、チオール、ハロゲン化物
を所定反応条件下、反応溶媒中に前述の共重合体と混合
溶解し、反応触媒および重合禁止剤とを加え加熱するこ
とによって得られる。具体的にはメタクリル酸とメタク
リル酸ベンジルの共重合体を例にとって以下に示す。
When the method A is described in more detail, examples of the backbone polymer include a copolymer of acrylic acid or methacrylic acid and a copolymer in which the copolymer is an acid halide by a polymer reaction. Further, copolymers such as maleic anhydride and itaconic anhydride can be used. Examples of the comonomer to be copolymerized include styrene or an alkyl-substituted derivative thereof, an alkyl acrylate, an aryl acrylate, an alkyl methacrylate, an aryl methacrylate, or an aliphatic vinyl ester. Preferably acrylic acid or methacrylic acid and methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, benzyl acrylate, methyl methacrylate,
Copolymers with ethyl methacrylate, butyl methacrylate, and benzyl methacrylate are exemplified. In order to introduce a crosslinkable group into these copolymers, a crosslinkable alcohol, an amine, a thiol, or a halide represented by the general formula [Ia] is reacted with the above copolymer in a reaction solvent under predetermined reaction conditions. It is obtained by mixing and dissolving, adding a reaction catalyst and a polymerization inhibitor, and heating. Specifically, a copolymer of methacrylic acid and benzyl methacrylate is shown below as an example.

【0178】攪拌棒および攪拌羽根、還流冷却器および
温度計を備えつけた300mlの三つ口フラスコ中にポ
リ(メタクリル酸/メタクリル酸ベンジル=27/73
モル比)19.8g、反応溶媒として酢酸エチレングリ
コールモノメチルエーテルを40.2g、架橋性基を含
有する試薬としてアリル臭素化物6.0g、触媒として
トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド10.4
gおよび重合禁止剤としてパラメトキシフェノール0.
01gを加え混合溶解し、窒素雰囲気下70℃にて13
時間加熱攪拌を行った。冷却後メチルエチルケトンを加
え遊離する四級塩を除去する。さらにメタノールを加え
て希釈し希塩酸中に注いで沈殿させる。水洗し後吸引濾
過をし、真空乾燥させると得られるポリマーの収量は1
3.6gであった。アリル基は幹ポリマーのカルボン酸
に対して35%導入された。
In a 300 ml three-necked flask equipped with a stirring rod and stirring blade, a reflux condenser and a thermometer, poly (methacrylic acid / benzyl methacrylate = 27/73).
19.8 g), 40.2 g of ethylene glycol monomethyl ether acetate as a reaction solvent, 6.0 g of allyl bromide as a reagent containing a crosslinkable group, and 10.4 g of trimethylbenzylammonium hydroxide as a catalyst.
g of paramethoxyphenol and 0.1 g of paramethoxyphenol as a polymerization inhibitor.
And mixed and dissolved at 70 ° C. in a nitrogen atmosphere.
Heating and stirring were performed for hours. After cooling, methyl ethyl ketone is added to remove free quaternary salts. Further, the mixture is diluted with methanol and poured into dilute hydrochloric acid to precipitate. After washing with water, suction filtration and vacuum drying, the yield of polymer obtained is 1
It was 3.6 g. Allyl groups were introduced at 35% relative to the carboxylic acid of the backbone polymer.

【0179】[0179]

【化4】 Embedded image

【0180】無水マレイン酸の共重合体に該架橋性基を
導入する合成例は米国特許第2,047,398号明細
書に記載された方法で行なうことができ、これにより無
水マレイン酸部が開環した不飽和エステル、アミド、チ
オエステル等が導入される。なお、無水マレイン酸共重
体への架橋性基の導入方法としては、特開昭48−82
902号公報に記載の類似例があげられるが、この方法
による架橋性基はマレイン酸イミドの窒素原子に結合し
ており、明白に前述のポリマーとは異なった化合物であ
り、本発明に使用される架橋性基を側鎖に有するポリマ
ーとは区別される。
A synthesis example in which the crosslinkable group is introduced into a copolymer of maleic anhydride can be carried out by the method described in US Pat. No. 2,047,398, whereby the maleic anhydride moiety is formed. A ring-opened unsaturated ester, amide, thioester or the like is introduced. As a method for introducing a crosslinkable group into a maleic anhydride copolymer, JP-A-48-82
A similar example described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 902/1990 is mentioned, but the crosslinkable group by this method is bonded to the nitrogen atom of maleic imide, and is clearly a compound different from the above-mentioned polymer, and is used in the present invention. Polymer having a crosslinkable group in the side chain.

【0181】一方、B法をさらに詳しく示すと、該架橋
性基を有する少なくとも2つ以上の炭素−炭素二重結合
を含むモノマーは、既知合成法により該架橋性基を有す
るアルコール、アミン、チオールと不飽和カルボン酸、
好ましくはアクリル酸またはメタクリル酸との縮合反応
により合成される。この少なくとも2つ以上の不飽和基
を含むモノマーを不飽和カルボン酸、好ましくはアクリ
ル酸またはメタクリル酸と共重合させることにより該架
橋性基を有する共重合体を得る。共重合するモノマー
は、不飽和カルボン酸に付け加えてさらに他のモノマー
が共重合されてもよく、例えばアクリル酸アルキル、メ
タクリル酸アルキル、メタクリル酸ベンジル、メタクリ
ル酸−2−ヒドロキンエチル、アクリロニトリル等が挙
げられる。
On the other hand, the method B is described in more detail. The monomer containing at least two or more carbon-carbon double bonds having a crosslinkable group can be obtained by a known synthesis method using an alcohol, amine, thiol or the like having the crosslinkable group. And unsaturated carboxylic acids,
Preferably, it is synthesized by a condensation reaction with acrylic acid or methacrylic acid. By copolymerizing the monomer containing at least two or more unsaturated groups with an unsaturated carboxylic acid, preferably acrylic acid or methacrylic acid, a copolymer having the crosslinkable group is obtained. The monomer to be copolymerized may further be copolymerized with another monomer in addition to the unsaturated carboxylic acid, for example, alkyl acrylate, alkyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-hydroquinethyl methacrylate, acrylonitrile, and the like. No.

【0182】以下、メタクリル酸アリルとメタクリル酸
との共重合例を示す。類似の合成法として、米国特許第
2,047,398号明細書に記載の方法があげられ
る。
The following is an example of copolymerization of allyl methacrylate and methacrylic acid. As a similar synthesis method, a method described in US Pat. No. 2,047,398 can be mentioned.

【0183】攪拌棒および攪拌羽根、還流冷却器、滴下
漏斗および温度計を設置した3リットルの4口フラスコ
に反応溶媒として1,2−ジクロルエタン1.68リッ
トルを入れ窒素置換しながら70℃に加熱した。滴下漏
斗にメタクリル酸アリル100.8g、メタクリル酸
7.6gおよび重合開始剤として2,2’−アゾビス
(2,4−ジメチルバレロニトリル)1.68gを0.
44リットルの1,2−ジクロルエタンに溶解して入れ
ておき、2時間かけてこの混合溶液をフラスコ中に撹拌
しながら滴下した。
1.68 liters of 1,2-dichloroethane as a reaction solvent was placed in a 3 liter four-necked flask equipped with a stirring rod and a stirring blade, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer, and heated to 70 ° C. while purging with nitrogen. did. 100.8 g of allyl methacrylate, 7.6 g of methacrylic acid, and 1.68 g of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as a polymerization initiator were added to a dropping funnel in an amount of 0.1 g.
The mixture was dissolved in 44 liters of 1,2-dichloroethane, and the mixed solution was dropped into the flask over 2 hours with stirring.

【0184】滴下終了後さらに反応温度70℃で5時間
攪拌し反応を完結した。加熱終了後重合禁止剤としてパ
ラメトキンフェノール0.04gを加え反応溶液を50
0mlまで濃縮し、この濃縮液を4リットルのヘキサン
に加えて沈殿させ、真空乾燥後61g(収率56%)の
共重合ポリマーを得た。このとき粘度は80℃のメチル
エチルケトンで〔η〕=0.068であった。
After the completion of the dropwise addition, the mixture was further stirred at a reaction temperature of 70 ° C. for 5 hours to complete the reaction. After the completion of heating, 0.04 g of paramethokine phenol was added as a polymerization inhibitor, and the reaction solution was added to 50 parts.
The solution was concentrated to 0 ml, and the concentrated solution was added to 4 liters of hexane to precipitate. After vacuum drying, 61 g (yield 56%) of a copolymer was obtained. At this time, the viscosity was [η] = 0.068 for methyl ethyl ketone at 80 ° C.

【0185】前記一般式〔I−a〕で示される代表的な
化合物は、アリルアルコール、2−メチルアリルアルコ
ール、クロチルアルコール、3−クロル−2−プロペン
−1−オール、3−フェニル−2−プロペン−1−オー
ル、3−(ヒドロキンフェニル)−2−プロペン−1−
オール、3−(2−ヒドロキシフェニル)−2−プロペ
ン−1−オール、3−(3・4−ジヒドロキシフェニ
ル)−2−プロペン−1−オール、3−(2・4−ジヒ
ドロキシフェニル−2−プロペン−1−オール、3−
(3・4・5−トリヒドロキンフェニル)−2−プロペ
ン−1−オール、3−(3−メトキシ−4−ヒドロキン
フェニル)−2−プロペン−1−オール、3−(3・4
−ジヒドロキシ−5−メトキシフェニル)−2−プロペ
ン−1−オール、3−(3・5−ジメトキシ−4−ヒド
ロキシフェニル)−2−プロペン−1−オール、3−
(2−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)−2−プロペ
ン−1−オール、3−(4−メトキシフェニル)−2−
プロペン−1−オール、3−(4―エトキンフェニル)
−2−プロペン−1−オール、3−(2−メトキシフェ
ニル)−2−プロペン−1−オール、3−(3・4−ジ
メトキシフェニル)−2−プロペン−1−オール、3−
(3−メトキシ−4−プロポキシフェニル)−2−プロ
ペン−1−オール、3−(2・4・6−トリメトキシフ
ェニル)−2−プロペン−1−オール、3−(3−メト
キシ−4−ベンジルオキシフェニル)−2−プロペン−
1−オール、3−1−(3’−メトキンフェニル)−4
−ベンジルオキシフェニル)−2−プロペン−1−オー
ル、3−フェノキシ−3−フェニル−2−プロペン−1
−オール、3−(3・4・5−トリメトキシフェニル)
−2−プロペン−1−オール、3−(4−メチルフェニ
ル)−2−プロペン−1−オール、3−フェニル−3−
(2・4・6−トリメチルフェニル)−2−プロペン−
1−オール、3・3−{ジ−(2・4・6−トリメチル
フェニル)}−2−プロペン−1−オール、3−フェニ
ル−3−(4−メチルフェニル)−2−プロペン−1−
オール、3・3−ジフェニル−2−プロペン−1−オー
ル、3−(2−クロルフェニル)−2−プロペン−1−
オール、3−(3−クロルフェニル)−2−プロペン−
1−オール、3−(4−クロルフェニル)−2−プロペ
ン−1−オール、3−(2・4−ジクロルフェニル)−
2−プロペン−1−オール、3−(2−ブロムフェニ
ル)−2−プロペン−1−オール、3−ブロム−3−フ
ェニル−2−プロペン−1−オール、3−クロル−3−
フェニル−2−プロペン−1−オール、3−(4−ニト
ロフェニル)−2−プロペン−1−オール、3−(2−
ニトロフェニル)−2−プロペン−1−オール、3−
(3−ニトロフェニル)−2−プロペン−1−オール、
2−メチル−3−フェニル−2−プロペン−1−オー
ル、2−メチル−3−(4−クロルフェニル)−2−プ
ロペン−1−オール、2−メチル−3−(4−ニトロフ
ェニル)−2−プロペン−1−オール、2−メチル−3
−(4−アミノフェニル)−2−プロペン−1−オー
ル、2−メチル−3・3−ジフェニル−2−プロペン−
1−オール、2−エチル−1・3−ジフェニル−2−プ
ロペン−1−オール、2−エトキシメチレン−3−フェ
ニル−2−プロペン−1−オール、2−フェノキシ−3
−フェニル−2−プロペン−1−オール、2−メチル−
3−(4−メトキシフェニル)−2−プロペン−1−オ
ール、2・3−ジフェニル−2−プロペン−1−オー
ル、1・2・3−トリフェニル−2−プロペン−1−オ
ール、2・3・3−トリフェニル−2−プロペン−1−
オール、2−エトキシ−3−フェニル−2−プロペン−
1−オール、1.3−ジフェニル−2−プロペン−1−
オール、1−(4−メチルフェニル)−3−フェニル−
2−プロペン−1−オール、1−フェニル−3−(4−
メチルフェニル)−2−プロペン−1−オール、1−フ
ェニル−3−(4−メトキシフェニル)−2−プロペン
−1−オール、1−(4−メトキシフェニル)−3−フ
ェニル−2−プロペン−1−オール、1・3−ジ(4−
クロルフェニル)−2−プロペン−1−オール、1−
(4−ブロムフェニル)−3−フェニル−2−プロペン
−1−オール、1−フェニル−3−(4−ニトロフェニ
ル)−2−プロペン−1−オール、1・3−ジ(2−ニ
トロフェニル)−2−プロペン−1−オール、1−(4
−ジメチルアミノフェニル)−3−フェニル−2−プロ
ペン−1−オール、1−フェニル−3−(4−ジメチル
アミノフェニル)−2−プロペン−1−オール、1・1
−ジ(4−ジメチルアミノフェニル)−3−フェニル−
2−プロペン−1−オール、1・1・3−トリフェニル
−2−プロペン−1−オール、1・1・3・3−テトラ
フェニル−2−プロペン−1−オール、1−(4−メチ
ルフェニル)−3−フェニル−2−プロペン−1−オー
ル、1−(ドデシルスルホニル)−3−フェニル−2−
プロペン−1−オール、1−フェニル−2−プロペン−
1−オール、1・2−ジフェニル−2−プロペン−1−
オール、1−フェニル−2−メチル−2−プロペン−1
−オール、1−シクロヘキシル−2−プロペン−1−オ
ール、1−フェノキシ−2−プロペン−1−オール、2
−ベンジル−2−プロペン−1−オール、1・1−ジ
(4−クロルフェニル)−2−プロペン−1−オール、
1−カルボキシ−2−プロペン−1−オール、1−カル
ボキシアミド−2−プロペン−1−オール、1−シアノ
−2−プロペン−1−オール、1−スルホ−2−プロペ
ン−1−オール、2−エトキシ−2−プロペン−1−オ
ール、2−アミノ−2−プロペン−1−オール、3−
(3−アミノ−4−メトキシフェニルスルホニル)−2
−プロペン−1−オール、3−(4−メチルフェニルス
ルホニル)−2−プロペン−1−オール、3−フェニル
スルホニル−2−プロペン−1−オール、3−ベンジル
スルホニル−2−プロペン−1−オール、3−アニリノ
スルホニル−2−プロペン−1−オール、3−(4−メ
トキシアニリノスルホニル)−2−プロペン−1−オー
ル、8−アニリノ−2−プロペン−1−オール、3−ナ
フチルアミノ−2−プロペン−1−オール、3−フェノ
キシ−2−プロペン−1−オール、3−(2−メチルフ
ェニル)−2−プロペン−1−オール、3−(3−メチ
ルフェノキン)−2−プロペン−1−オール、3−(2
・4−ジメチルフェニル)−2−プロペン−1−オー
ル、1−メチル−3−カルボキシ−2−プロペン−1−
オール、3−カルボキシ−2−プロペン−1−オール、
3−ブロム−3−カルボキシ−2−プロペン−1−オー
ル、1−カルボキシ−3−クロル−3−メチル−2−プ
ロペン−1−オール、1−カルボキシ−3−メチル−2
−プロペン−1−オール、1−(2−カルベトキシイソ
プロピル)−3−メチル−2−プロペン−1−オール、
1−(1−カルベトキシプロピル)−2−プロペン−1
−オール、1−(1−カルベトキシエチル)−3−メチ
ル−2−プロペン−1−オール、1−カルベトキシ−3
−クロルー3−メチル−2−プロペン−1−オール、1
−カルベトキシメチレン−3−メチル−2−プロペン−
1−オール、1−アミド−2・3−ジメチル−2−プロ
ペン−1−オール、1−シアノ−3−メチル−2−プロ
ペン−1−オール、3−スルホ−2−プロペン−1−オ
ール、3−ブトキシ−2−プロペン−1−オール、1−
シクロへキンル−3−(2−ヒドロキシシクロヘキシ
ル)−2−プロペン−1−オール、3−シクロベンジル
−2−プロペン−1−オール、3−フリル−2−プロペ
ン−1−オール、3−クロム−2−プロペン−1−オー
ル、3−ブロム−2−プロペン−1−オール、2−メチ
ル−3−クロル−2−プロペン−1−オール、2−メチ
ル−3−ブロム−2−プロペン−1−オール、1−カル
ボイソブトキシ−3−クロル−3−メチル−2−プロペ
ン−1−オール、2−クロル−3−フェニル−2−プロ
ペン−1−オール(2−クロルシンナミルアルコー
ル)、2−ブロム−3−フェニル−2−プロペン−1−
オール(2−ブロムシンナミルアルコール)、2−ブロ
ム−3−(4−ニトロフェニル)−2−プロペン−1−
オール、2−フルオロ−3−フェニル−2−プロペン−
1−オール(2−フルオロシンナミルアルコール)、2
−フルオロ−3−(4−メトキシフェニル)−2−プロ
ペン−1−オール、2−ニトロ−3−クロル−3−フェ
ニル−2−プロペン−1−オール、2−ニトロ−3−フ
ェニル−2−プロペン−1−オール(2−ニトロシンナ
ミルアルコール)、2−シアノ−3−フェニル−2−プ
ロペン−1−オール(2−シアノシンナミルアルコー
ル)、2−クロル−2−プロペン−1−オール(2−ク
ロルアリルアルコール)、2−ブロム−2−プロペン−
1−オール(2−ブロムアリルアルコール)、2−カル
ボキシ−2−プロペン−1−オール(2−カルボキシア
リルアルコール)、2−カルベトキシ−2−プロペン−
1−オール(2−カルベトキシアリルアルコール)、2
−スルホン酸−2−プロペン−1−オール(2−スルホ
ン酸アリルアルコール)、2−ニトロ−2−プロペン−
1−オール(2−ニトロアリルアルコール)、2−ブロ
ム−3・3−ジフルオロ−2−プロペン−1−オール、
2−クロル−3・3−ジフルオロ−2−プロペン−1−
オール、2−フルオロ−3−クロル−2−プロペン−1
−オール、2・3−ジブロム−3−カルボキシ−2−プ
ロペン−1−オール、2・3−ジヨード−3−カルボキ
シ−2−プロペン−1−オール、2・3−ジブロム−2
−プロペン−1−オール、2−クロル−3−メチル−2
−プロペン−1ーオールが挙げられる。また上記具体例
において、1位のアルコールをチオアルコールやアミ
ン、ハロゲンで置き換えた化合物も勿論使用できる。
Representative compounds represented by the general formula [Ia] include allyl alcohol, 2-methylallyl alcohol, crotyl alcohol, 3-chloro-2-propen-1-ol, and 3-phenyl-2. -Propen-1-ol, 3- (hydroquinphenyl) -2-propen-1-
All, 3- (2-hydroxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3.4-dihydroxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (2.4-dihydroxyphenyl-2-ol Propen-1-ol, 3-
(3,4-5-trihydroquinphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3-methoxy-4-hydroquinphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3.4
-Dihydroxy-5-methoxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3.5-dimethoxy-4-hydroxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3-
(2-hydroxy-4-methylphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (4-methoxyphenyl) -2-
Propen-1-ol, 3- (4-ethoxyquinphenyl)
-2-propen-1-ol, 3- (2-methoxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3-4-dimethoxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3-
(3-methoxy-4-propoxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (2.4-6-trimethoxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3-methoxy-4- Benzyloxyphenyl) -2-propene-
1-ol, 3-1- (3′-methokinephenyl) -4
-Benzyloxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3-phenoxy-3-phenyl-2-propen-1
-All, 3- (3.4-5-trimethoxyphenyl)
-2-propen-1-ol, 3- (4-methylphenyl) -2-propen-1-ol, 3-phenyl-3-
(2,4,6-trimethylphenyl) -2-propene-
1-ol, 3,3- {di- (2,4,6-trimethylphenyl)}-2-propen-1-ol, 3-phenyl-3- (4-methylphenyl) -2-propen-1-
All, 3,3-diphenyl-2-propen-1-ol, 3- (2-chlorophenyl) -2-propen-1-
All, 3- (3-chlorophenyl) -2-propene-
1-ol, 3- (4-chlorophenyl) -2-propen-1-ol, 3- (2.4-dichlorophenyl)-
2-propen-1-ol, 3- (2-bromophenyl) -2-propen-1-ol, 3-bromo-3-phenyl-2-propen-1-ol, 3-chloro-3-
Phenyl-2-propen-1-ol, 3- (4-nitrophenyl) -2-propen-1-ol, 3- (2-
Nitrophenyl) -2-propen-1-ol, 3-
(3-nitrophenyl) -2-propen-1-ol,
2-methyl-3-phenyl-2-propen-1-ol, 2-methyl-3- (4-chlorophenyl) -2-propen-1-ol, 2-methyl-3- (4-nitrophenyl)- 2-propen-1-ol, 2-methyl-3
-(4-aminophenyl) -2-propen-1-ol, 2-methyl-3-3.3-diphenyl-2-propene-
1-ol, 2-ethyl-1,3-diphenyl-2-propen-1-ol, 2-ethoxymethylene-3-phenyl-2-propen-1-ol, 2-phenoxy-3
-Phenyl-2-propen-1-ol, 2-methyl-
3- (4-methoxyphenyl) -2-propen-1-ol, 2,3-diphenyl-2-propen-1-ol, 1,2,3-triphenyl-2-propen-1-ol, 2. 3.3-triphenyl-2-propene-1-
All, 2-ethoxy-3-phenyl-2-propene-
1-ol, 1.3-diphenyl-2-propene-1-
All, 1- (4-methylphenyl) -3-phenyl-
2-propen-1-ol, 1-phenyl-3- (4-
Methylphenyl) -2-propen-1-ol, 1-phenyl-3- (4-methoxyphenyl) -2-propen-1-ol, 1- (4-methoxyphenyl) -3-phenyl-2-propen- 1-ol, 1,3-di (4-
(Chlorophenyl) -2-propen-1-ol, 1-
(4-bromophenyl) -3-phenyl-2-propen-1-ol, 1-phenyl-3- (4-nitrophenyl) -2-propen-1-ol, 1,3-di (2-nitrophenyl ) -2-Propen-1-ol, 1- (4
-Dimethylaminophenyl) -3-phenyl-2-propen-1-ol, 1-phenyl-3- (4-dimethylaminophenyl) -2-propen-1-ol, 1.1
-Di (4-dimethylaminophenyl) -3-phenyl-
2-propen-1-ol, 1,1.3-triphenyl-2-propen-1-ol, 1,1.3,3-tetraphenyl-2-propen-1-ol, 1- (4-methyl Phenyl) -3-phenyl-2-propen-1-ol, 1- (dodecylsulfonyl) -3-phenyl-2-
Propen-1-ol, 1-phenyl-2-propene-
1-ol, 1,2-diphenyl-2-propene-1-
All, 1-phenyl-2-methyl-2-propene-1
-Ol, 1-cyclohexyl-2-propen-1-ol, 1-phenoxy-2-propen-1-ol, 2
-Benzyl-2-propen-1-ol, 1.1-di (4-chlorophenyl) -2-propen-1-ol,
1-carboxy-2-propen-1-ol, 1-carboxamido-2-propen-1-ol, 1-cyano-2-propen-1-ol, 1-sulfo-2-propen-1-ol, 2 -Ethoxy-2-propen-1-ol, 2-amino-2-propen-1-ol, 3-
(3-amino-4-methoxyphenylsulfonyl) -2
-Propen-1-ol, 3- (4-methylphenylsulfonyl) -2-propen-1-ol, 3-phenylsulfonyl-2-propen-1-ol, 3-benzylsulfonyl-2-propen-1-ol 3-anilinosulfonyl-2-propen-1-ol, 3- (4-methoxyanilinosulfonyl) -2-propen-1-ol, 8-anilino-2-propen-1-ol, 3-naphthylamino -2-propen-1-ol, 3-phenoxy-2-propen-1-ol, 3- (2-methylphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3-methylphenokin) -2- Propen-1-ol, 3- (2
* 4-dimethylphenyl) -2-propen-1-ol, 1-methyl-3-carboxy-2-propen-1-
All, 3-carboxy-2-propen-1-ol,
3-bromo-3-carboxy-2-propen-1-ol, 1-carboxy-3-chloro-3-methyl-2-propen-1-ol, 1-carboxy-3-methyl-2
-Propen-1-ol, 1- (2-carbethoxyisopropyl) -3-methyl-2-propen-1-ol,
1- (1-carbethoxypropyl) -2-propene-1
-Ol, 1- (1-carbethoxyethyl) -3-methyl-2-propen-1-ol, 1-carbethoxy-3
-Chloro-3-methyl-2-propen-1-ol, 1
-Carbethoxymethylene-3-methyl-2-propene-
1-ol, 1-amido-2 / 3-dimethyl-2-propen-1-ol, 1-cyano-3-methyl-2-propen-1-ol, 3-sulfo-2-propen-1-ol, 3-butoxy-2-propen-1-ol, 1-
Cyclohexyl-3- (2-hydroxycyclohexyl) -2-propen-1-ol, 3-cyclobenzyl-2-propen-1-ol, 3-furyl-2-propen-1-ol, 3-chromium- 2-propen-1-ol, 3-bromo-2-propen-1-ol, 2-methyl-3-chloro-2-propen-1-ol, 2-methyl-3-bromo-2-propen-1- All, 1-carboisobutoxy-3-chloro-3-methyl-2-propen-1-ol, 2-chloro-3-phenyl-2-propen-1-ol (2-chlorocinnamyl alcohol), 2- Brom-3-phenyl-2-propene-1-
All (2-bromocinnamyl alcohol), 2-bromo-3- (4-nitrophenyl) -2-propene-1-
All, 2-fluoro-3-phenyl-2-propene-
1-ol (2-fluorocinnamyl alcohol), 2
-Fluoro-3- (4-methoxyphenyl) -2-propen-1-ol, 2-nitro-3-chloro-3-phenyl-2-propen-1-ol, 2-nitro-3-phenyl-2-ol Propen-1-ol (2-nitrocinnamyl alcohol), 2-cyano-3-phenyl-2-propen-1-ol (2-cyanocinnamyl alcohol), 2-chloro-2-propen-1-ol ( 2-chloroallyl alcohol), 2-bromo-2-propene-
1-ol (2-bromoallyl alcohol), 2-carboxy-2-propen-1-ol (2-carboxyallyl alcohol), 2-carbethoxy-2-propene
1-ol (2-carbethoxyallyl alcohol), 2
-Sulfonic acid-2-propen-1-ol (2-allylsulfonic acid allyl alcohol), 2-nitro-2-propene-
1-ol (2-nitroallyl alcohol), 2-bromo-3 / 3-difluoro-2-propen-1-ol,
2-chloro-3 / 3-difluoro-2-propene-1-
All, 2-fluoro-3-chloro-2-propene-1
-Ol, 2,3-dibromo-3-carboxy-2-propen-1-ol, 2,3-diiodo-3-carboxy-2-propen-1-ol, 2,3-dibromo-2
-Propen-1-ol, 2-chloro-3-methyl-2
-Propen-1-ol. In the above specific examples, a compound in which the alcohol at the 1-position is replaced with a thioalcohol, an amine or a halogen can of course be used.

【0186】ポリマー中の架橋性基含有量の好ましい範
囲はそれぞれ共重合モル比で、10〜90モル%、5〜
60モル%、より好ましい範囲は20〜70モル%、1
0〜40モル%である。
The preferred range of the crosslinkable group content in the polymer is 10 to 90 mol%,
60 mol%, a more preferable range is 20 to 70 mol%,
0 to 40 mol%.

【0187】また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸
性セルロース誘導体がある。この外に水酸基を有する付
加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用で
ある。特にこれらの中で〔ベンジル(メタ)アクリレー
ト/(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重
合性ビニルモノマー〕共重合体及び〔アリル(メタ)ア
クリレート(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の
付加重合性ビニルモノマー)共重合体が好適である。こ
の他に水溶性有機高分子として、ポリビエルピロリドン
やポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮
膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ポリアミドや
2,2−ビス−(4−ヒドロキンフェニル)−プロパン
とエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。
これらの有機高分子重合体は全組成中に任意な量を混和
させることができる。しかし90重量%を超える場合に
は形成される画像強度等の点で好ましい結果を与えな
い。好ましくは10〜90%、より好ましくは30〜8
0%である。また光重合可能なエチレン性不飽和化合物
と有機高分子重合体は、重量比で1/9〜9/1の範囲
とするのが好ましい。より好ましい範囲は2/8〜8/
2であり、更に好ましくは3/7〜7/3である。
Similarly, there is an acidic cellulose derivative having a carboxylic acid group in the side chain. In addition, those obtained by adding a cyclic acid anhydride to an addition polymer having a hydroxyl group are useful. In particular, among these, [benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / optionally other addition-polymerizable vinyl monomers] copolymer and [allyl (meth) acrylate (meth) acrylic acid / optionally Other addition-polymerizable vinyl monomers) copolymers are preferred. In addition, as the water-soluble organic polymer, polybierpyrrolidone, polyethylene oxide and the like are useful. In order to increase the strength of the cured film, alcohol-soluble polyamides and polyethers of 2,2-bis- (4-hydroquinphenyl) -propane and epichlorohydrin are also useful.
These organic high-molecular polymers can be mixed in an arbitrary amount in the entire composition. However, if it exceeds 90% by weight, no favorable result is obtained in view of the strength of the formed image and the like. Preferably 10 to 90%, more preferably 30 to 8
0%. The weight ratio of the photopolymerizable ethylenically unsaturated compound and the organic high molecular weight polymer is preferably in the range of 1/9 to 9/1. A more preferred range is 2/8 to 8 /
2, more preferably 3/7 to 7/3.

【0188】また、本発明においては以上の基本成分の
他に感光性組成物の製造中あるいは保存中において重合
可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止す
るために少量の熱重合禁止剤を添加することが望まし
い。適当な熱重合禁止剤としてはハロイドキノン、p−
メトキンフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾー
ル、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノ
ン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチル
フェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−
6−t―ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒ
ドロキシルアミン第一セリウム塩、N−ニトロソフェニ
ルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられる。
熱重合禁止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約
0.01%〜約5%が好ましい。また必要に応じて、酸
素による重合阻害を防止するためたべヘン酸やベヘン酸
アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後
の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級
脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約0.5%〜約1
0%が好ましい。
In the present invention, in addition to the above basic components, a small amount of thermal polymerization is inhibited in order to prevent unnecessary thermal polymerization of a polymerizable ethylenically unsaturated compound during the production or storage of the photosensitive composition. It is desirable to add an agent. Suitable thermal polymerization inhibitors include haloid quinone, p-
Methkinphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4- Methyl-
6-t-butylphenol), cerium N-nitrosophenylhydroxylamine, aluminum aluminum N-nitrosophenylhydroxylamine and the like.
The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably from about 0.01% to about 5% based on the weight of the whole composition. Further, if necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide may be added to prevent polymerization inhibition by oxygen, and may be unevenly distributed on the surface of the photosensitive layer in a drying process after coating. . The amount of the higher fatty acid derivative added is about 0.5% to about 1% of the total composition.
0% is preferred.

【0189】更に感光層の着色を目的として、着色剤を
添加してもよい。着色剤としては、例えば、フタロシア
ニン系顔料(C.I.Pigment Blue15:
3,15:4,15:6など)、アゾ系顔料、カーボン
ブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレッ
ト、クリスタルバイオレット、アゾ染料、アントラキノ
ン系染料、シアニン系染料がある。染料および顔料の添
加量は全組成物の約0.5%〜約20%が好ましい。
A coloring agent may be added for the purpose of coloring the photosensitive layer. As the colorant, for example, a phthalocyanine-based pigment (CI Pigment Blue 15:
3, 15: 4, 15: 6), azo pigments, carbon black, pigments such as titanium oxide, ethyl violet, crystal violet, azo dyes, anthraquinone dyes, and cyanine dyes. The amount of dye and pigment added is preferably about 0.5% to about 20% of the total composition.

【0190】加えて、硬化皮膜の物性を改良するため
に、無機充填剤やジオクチルフタレート、ジメチルフタ
レート、トリクレジルホスフェート等の可塑剤等の添加
剤を加えてもよい。
In addition, additives such as inorganic fillers and plasticizers such as dioctyl phthalate, dimethyl phthalate and tricresyl phosphate may be added to improve the physical properties of the cured film.

【0191】これらの添加量は全組成物の10%以下が
好ましい。
The amount of these additives is preferably 10% or less of the total composition.

【0192】光重合性組成物を支持体上に塗布する際に
は種々の有機溶剤に溶かして使用に供される。ここで使
用する溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、
シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、
テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエー
テル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコー
ルモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキ
サノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチ
ルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプ
ロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテ
ルアセテート、3−メトキシプロパノール、メトキシメ
トキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリ
コールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメ
チルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエ
チルエーテルアセテート、3−メトキンプロピルアセテ
ート、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチル
などがある。これらの溶媒は、単独あるいは混合して使
用することができる。そして、塗布溶液中の固形分の濃
度は、1〜50重量%が適当である。
When the photopolymerizable composition is coated on a support, it is used after being dissolved in various organic solvents. As the solvent used here, acetone, methyl ethyl ketone,
Cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride,
Tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, Ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether Ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-meth Kin-propyl acetate, N, N- dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, .gamma.-butyrolactone, methyl lactate and ethyl lactate. These solvents can be used alone or as a mixture. The appropriate concentration of the solid content in the coating solution is 1 to 50% by weight.

【0193】本発明における光重合性組成物には、塗布
面質を向上するために界面活性剤を添加することができ
る。
A surfactant can be added to the photopolymerizable composition of the present invention in order to improve the coated surface quality.

【0194】その被覆量は乾燥後の重量で約0.lg/
2〜約10g/m2の範囲が適当である。より好ましく
は0.3〜5g/m2である。更に好ましくは0.5〜
3g/m2である。
The amount of the coating is about 0.5 by weight after drying. lg /
range of m 2 ~ about 10 g / m 2 are suitable. More preferably, it is 0.3 to 5 g / m 2 . More preferably 0.5 to
3 g / m 2 .

【0195】〔オーバーコート層〕本発明(C)のオー
バーコート層は酸素遮断性のオーバーコート層であり、
このオーバーコート層は水溶性ビニル重合体を含有す
る。オーバーコート層に含まれる水溶性ビニル重合体と
しては,ポリビニルアルコール、およびその部分エステ
ル、エーテルおよびアセタール、またはそれらに必要な
水溶性を有せしめるような実質的量の末置換ビニルアル
コール単位を含有するその共重合体が挙げられる。ポリ
ビニルアルコールとしては、71〜100%加水分解さ
れ、重合度が300〜2400の範囲のものが挙げられ
る。具体的には株式会社クラレ製PVA−105、Pv
A−110、PVA−117、PVA−117H、PV
A−120、PVA−124、PVA−124H、PV
A−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−2
03、PVA−204、PVA−205、PVA−21
0、PVA−217、PVA−220、PVA−22
4、PVA−217EE、PVA−220、PVA−2
24、PVA−217EE、PVA−217E、PVA
−220E、PVA−224、PVA−405、PVA
−420、PVA−613、L−8等が挙げられる。上
記の共重合体としては、88〜100%加水分解された
ポリビニルアセテートクロロアセテートまたはプロピオ
ネート、ポリビエルホルマールおよびポリビエルアセタ
ールおよびそれらの共重合体が挙げられる。その他有用
な重合体としてはポリビニルピロリドン、ゼラチンおよ
びアラビアゴムが挙げられ、これらは単独または、併用
して用いても良い。
[Overcoat layer] The overcoat layer of the present invention (C) is an oxygen-blocking overcoat layer.
This overcoat layer contains a water-soluble vinyl polymer. The water-soluble vinyl polymer contained in the overcoat layer contains polyvinyl alcohol and its partial esters, ethers and acetal, or a substantial amount of terminally substituted vinyl alcohol units that have the necessary water solubility. The copolymer is mentioned. Examples of the polyvinyl alcohol include those having a hydrolysis degree of 71 to 100% and a polymerization degree of 300 to 2400. Specifically, Kuraray's PVA-105, Pv
A-110, PVA-117, PVA-117H, PV
A-120, PVA-124, PVA-124H, PV
A-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-2
03, PVA-204, PVA-205, PVA-21
0, PVA-217, PVA-220, PVA-22
4, PVA-217EE, PVA-220, PVA-2
24, PVA-217EE, PVA-217E, PVA
-220E, PVA-224, PVA-405, PVA
-420, PVA-613, L-8 and the like. The above-mentioned copolymers include polyvinyl acetate chloroacetate or propionate, polybierformal and polybieracetal hydrolyzed 88 to 100%, and copolymers thereof. Other useful polymers include polyvinylpyrrolidone, gelatin and gum arabic, which may be used alone or in combination.

【0196】オーバーコート層を塗布する際用いる溶媒
としては、純水が好ましいが、メタノール、エタノール
などのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトンな
どのケトン類を純水と混合しても良い。そして塗布溶液
中の固形分の濃度は1〜20重量%が適当である。
As a solvent used for applying the overcoat layer, pure water is preferable, but alcohols such as methanol and ethanol, and ketones such as acetone and methyl ethyl ketone may be mixed with the pure water. The concentration of the solid content in the coating solution is suitably from 1 to 20% by weight.

【0197】また、オーバーコート層にはさらに塗布性
を向上させるための界面活性剤、皮膜の物性を改良する
ための水溶性の可塑剤等の公知の添加剤を加えても良
い。水溶性の可塑剤としてはたとえばプロピオンアミ
ド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトー
ル等がある。また、水溶性の(メタ)アクリル系ポリマ
ーなどを添加しても良い。
The overcoat layer may further contain known additives such as a surfactant for improving coating properties and a water-soluble plasticizer for improving physical properties of the film. Examples of the water-soluble plasticizer include propionamide, cyclohexanediol, glycerin, and sorbitol. Further, a water-soluble (meth) acrylic polymer or the like may be added.

【0198】その被覆量は乾燥後の重量で約0.1/m
2〜約15/m2の範囲が適当である。より好ましくは
1.0/m2〜約5.0/m2である。
The amount of the coating is about 0.1 / m 2 after drying.
A range from 2 to about 15 / m 2 is suitable. More preferably, it is 1.0 / m 2 to about 5.0 / m 2 .

【0199】なお、本実施の形態では説明のため、ワー
クステーション12に1つのパソコンをオンライン接続
した構成としているが、もちろん1つに限らず、複数の
パソコンをオンライン接続することができる。同様に、
本実施の形態では説明のため、プレートセッター14に
1つのPS版プロセッサー16をオンライン接続した構
成としているが、もちろん1つに限らず、プレートセッ
ター14に複数のパソコンをオンライン接続することが
できる。
In this embodiment, for explanation, one personal computer is connected to the workstation 12 online. However, the number of personal computers is not limited to one, and a plurality of personal computers can be connected online. Similarly,
In the present embodiment, for the sake of explanation, one PS plate processor 16 is connected online to the plate setter 14, but the present invention is not limited to one, and a plurality of personal computers can be connected online to the plate setter 14.

【0200】プレートセッター14に複数のパソコンを
オンライン接続した場合は、現像液の温度条件や回転ブ
ラシローラの回転速度、及びブラシ圧を変える場合の各
変更量などの条件設定をより効率的に行えるので、ロス
時間を少なくすることができ、効率的である。
When a plurality of personal computers are connected online to the plate setter 14, conditions such as the temperature condition of the developer, the rotation speed of the rotating brush roller, and the amount of each change when the brush pressure is changed can be set more efficiently. Therefore, the loss time can be reduced and efficiency is improved.

【0201】また、本実施の形態では、ワークステーシ
ョンから出力する画像データをTIFFファイルとした
が、もちろん、本発明はTIFFファイルに限定するも
のではなく、例えば、低解像度の画像データとフィルム
と版の転移特性カーブとトンボの種類と位置データ品質
管理のための色彩濃度情報と裁ちトンボと断裁のための
情報とから構成されるPPFファイルや、GIFファイ
ル等のようにイメージデータを含む標準的なフォーマッ
ト形式の画像データを使用することができる。
In the present embodiment, the image data output from the workstation is a TIFF file. However, the present invention is not limited to a TIFF file. A standard PPF file containing image data such as a PPF file composed of transfer characteristic curves, types of registration marks, color density information for quality control of position data, and information of trimming marks and cutting. Formatted image data can be used.

【0202】また、本実施の形態では、プレートセッタ
ー14とPS版プロセッサー16とをオンラインで接続
した構成としたが、本発明ではオンラインに限らず、通
信回線を介して接続する構成としたり、記憶媒体にプレ
ートセッター14の情報をセッター情報として記憶さ
せ、この記憶媒体をPS版プロセッサー16が読込むこ
とによりセッター情報の受け渡しを行う様に構成するこ
ともできる。
In the present embodiment, the plate setter 14 and the PS plate processor 16 are connected online. However, the present invention is not limited to the online connection, and the plate setter 14 and the PS plate processor 16 may be connected via a communication line. The information of the plate setter 14 may be stored on the medium as setter information, and the storage medium may be read by the PS version processor 16 to transfer the setter information.

【0203】また、本実施の形態では、現像条件調整プ
ログラムをプロセッサー制御部30のROMに記憶して
いるが、本発明はこれに限定されず、現像条件調整プロ
グラムをセッター制御部18のROMや前段のパソコン
のROMに記憶するようにしてもよい。
Further, in the present embodiment, the development condition adjustment program is stored in the ROM of the processor control unit 30. However, the present invention is not limited to this, and the development condition adjustment program is stored in the ROM of the setter control unit 18 or the like. It may be stored in the ROM of the personal computer in the preceding stage.

【0204】また、現像条件調整プログラムをフロッピ
ィディスクに記憶すると共に、コンピュータ本体にハー
ドディスクを備え、フロッピィディスクから前記現像条
件調整プログラムを読み取り、ハードディスクにインス
トールしても良い。また、前記現像条件調整プログラム
を有線または無線のネットワークに電話回線などの伝送
手段により伝送してインストールしても良い。
Further, the developing condition adjusting program may be stored on a floppy disk, a hard disk may be provided in the computer main body, and the developing condition adjusting program may be read from the floppy disk and installed on the hard disk. Further, the developing condition adjusting program may be transmitted and installed on a wired or wireless network by a transmission means such as a telephone line.

【0205】なお、前記現像条件調整プログラムはフロ
ッピィディスクに記憶することに限定されず、CD−R
OM、磁気テープに該プログラムを格納し、該CD−R
OM、磁気テープからパソコンのハードディスクにイン
ストールしても良い。また、前記現像条件調整プログラ
ムを格納したハードディスクを備えるようにしてもよ
い。さらにパソコンのハードディスクやRAMに直接現
像条件調整プログラムを書き込むようにしてもよい。こ
のように上記現像条件調整プログラムは、有形の記録媒
体及び伝送手段の少なくとも一方により流通することが
できる。
The developing condition adjusting program is not limited to being stored on a floppy disk, but may be a CD-R.
OM, the program is stored on a magnetic tape, and the CD-R
It may be installed on the hard disk of the personal computer from OM or magnetic tape. Further, a hard disk storing the development condition adjusting program may be provided. Further, the developing condition adjusting program may be directly written in the hard disk or RAM of the personal computer. As described above, the developing condition adjusting program can be distributed by at least one of a tangible recording medium and a transmission unit.

【0206】なお、本実施の形態では、第1水洗部、及
び現像部に設ける擦り部材としてブラシローラを使用し
ている。このようなブラシローラとしては、チャンネル
ブラシ、植え込みブラシなど種々のものを使用すること
ができる。
In this embodiment, a brush roller is used as a rubbing member provided in the first washing section and the developing section. Various brush rollers and the like can be used as such a brush roller.

【0207】また、第1水洗部、及び現像部のブラシロ
ーラのうち、少なくとも現像部のブラシローラは、材質
としては、例えば、ナイロン6、ナイロン66、ナイロ
ン610、ナイロン612、ナイロン12、及びナイロ
ン616等のポリアミド類、ポリブチレンテレフタラー
ト、及びポリエチレンテレフタラートなどのポリエステ
ル類、ポリアクリルニトリル、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニール、ポリ塩化ビ
ニリデン、セルロース類、ポリウレタン類、エチレン、
4フッ化エチレン共重合体などのフッ素樹脂、ポリエチ
レンサルファイド(PPS)等から選択したものを使用
することができる。
Of the brush rollers of the first washing section and the developing section, at least the brush roller of the developing section is made of, for example, nylon 6, nylon 66, nylon 610, nylon 612, nylon 12, and nylon 12. Polyamides such as 616, polyesters such as polybutylene terephthalate and polyethylene terephthalate, polyacrylonitrile, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, celluloses, polyurethanes, ethylene,
A material selected from a fluororesin such as a tetrafluoroethylene copolymer and polyethylene sulfide (PPS) can be used.

【0208】もちろん、ブラシローラの他にも、モルト
ンローラなどの他の構成の擦り部材を使用することもで
きる。モルトンローラを使用する場合、例えば、アクリ
ル、ナイロン、レーヨン、ポリプロピレン、ポリエチレ
ン、ポリアミド、ポリ塩化ビニール、及びビニロン等の
合成樹脂、綿、麻などの繊維や、合成樹脂と繊維との混
合物等から選択した材料をモルトン(ローラ基体)の材
質として使用できる。また、モルトンが被覆される摺接
材としては、例えば、繊維状態を用いて不繊布、編織物
すなわち織物及び編物として用いることが望ましい。織
物は、表面に短いパイルを有するものであってもよい。
この摺接材は筒状に形成され、モルトンを挿入した後そ
の両端が縛られてモルトンローラを形成する。
Of course, in addition to the brush roller, a rubbing member having another configuration such as a Molton roller can be used. When using a Molton roller, for example, select from acrylic, nylon, rayon, polypropylene, polyethylene, polyamide, polyvinyl chloride, synthetic resin such as vinylon, fiber such as cotton, hemp, or a mixture of synthetic resin and fiber. The material thus obtained can be used as a material for the molton (roller base). Further, as the sliding contact material coated with the moleton, for example, it is desirable to use a nonwoven fabric, a knitted woven fabric, that is, a woven fabric and a knitted fabric by using a fiber state. The woven fabric may have a short pile on the surface.
This sliding contact material is formed in a cylindrical shape, and after inserting the mole, both ends thereof are tied up to form a Molton roller.

【0209】また、本実施の形態では、現像部には2つ
の擦り部材を設ける構成としたが、2つに限らず、1つ
又は3つ以上の擦り部材を設けるように構成できる。擦
り部材を2つ以上設ける構成とする場合は、例えば、ブ
ラシローラやモルトンローラの場合は、少なくとも1つ
が逆回転する等のように、複数の擦り部材のうちの少な
くとも1つが他の擦り部材の移動方向と逆方向に移動す
るように設けることにより、より効率的に非画像形成領
域の光重合性感光層の未現像部分を取り除くことができ
る。
In this embodiment, the developing unit is provided with two rubbing members. However, the number of rubbing members is not limited to two, and one or three or more rubbing members may be provided. In a case where two or more rubbing members are provided, for example, in the case of a brush roller or a Molton roller, at least one of the plurality of rubbing members is used as another rubbing member, such as at least one rotating in reverse. By providing the photopolymerizable photosensitive layer so as to move in the direction opposite to the moving direction, the undeveloped portion of the photopolymerizable photosensitive layer in the non-image forming area can be more efficiently removed.

【0210】本実施の形態では、ブラシ圧を調整する機
構として、偏心カムにより回転ブラシローラとバックア
ップローラとの間隔を変える構成としたが、勿論、この
構成に限るものではなく、電気的な制御によってブラシ
圧が調整できる構成であれば、本発明を適用できる。
In this embodiment, the mechanism for adjusting the brush pressure is such that the distance between the rotating brush roller and the backup roller is changed by an eccentric cam. However, the present invention is not limited to this structure, and it is not limited to this structure. The present invention can be applied to any configuration that can adjust the brush pressure.

【0211】なお、上記では、現像補充原液と希釈水と
を別々に現像槽に供給する構成としたが、現像補充原液
と希釈水とを一旦混合槽において混合し、この混合液を
現像槽に供給するように構成することもできる。
In the above description, the stock solution for developing replenishment and the dilution water are separately supplied to the developing tank. However, the stock solution for developing replenishment and the diluting water are once mixed in the mixing tank, and the mixed solution is supplied to the developing tank. It can also be configured to supply.

【0212】[0212]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1の発明に
よれば、常に現像対象となる平版印刷版に最適な現像条
件とすることができ、画像ムラのない均一な刷版を得る
ことができる、という効果がある。また、散乱光により
生じたかぶり部分もきれいに現像でき、版の品質を損な
うことを防止できる、という効果がある。
As described above, according to the first aspect of the present invention, it is possible to always set optimum development conditions for a lithographic printing plate to be developed and to obtain a uniform printing plate without image unevenness. There is an effect that can be. Further, there is an effect that the fogged portion caused by the scattered light can be developed neatly and the quality of the plate can be prevented from being impaired.

【0213】さらに、請求項2及び請求項3の発明によ
れば、異なる種類のPS版を連続的に現像する際に、操
作ミス等により調整した現像条件と実際の現像条件とが
異なることなく、それぞれのPS版の種類に最適な現像
条件で効率よく現像処理ができる、という効果がある。
According to the second and third aspects of the present invention, when continuously developing different types of PS plates, the developing conditions adjusted due to operational mistakes and the like do not differ from the actual developing conditions. In addition, there is an effect that the developing process can be efficiently performed under the optimum developing conditions for each type of PS plate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本実施の形態の製版システムの概略の流れを
示す説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing a schematic flow of a plate making system according to an embodiment.

【図2】 図1に示した自動現像機の概略構成を示す説
明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing a schematic configuration of the automatic developing machine shown in FIG.

【図3】 図3(A)は、回転ブラシローラ及びバック
アップローラにより構成される一対のローラの軸受構造
を説明する部分破断斜視図であり、図3(B)は、図3
(A)に示した軸受構造の側面側から見た正面図であ
る。
FIG. 3A is a partially broken perspective view illustrating a bearing structure of a pair of rollers constituted by a rotating brush roller and a backup roller, and FIG. 3B is a perspective view of FIG.
It is the front view seen from the side of the bearing structure shown in (A).

【図4】 図2に示したプロセッサー制御部のCPUの
作用を示すフローチャートである。
FIG. 4 is a flowchart illustrating an operation of a CPU of a processor control unit illustrated in FIG. 2;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 パソコン 12 ワークステーション 14 プレートセッター 16 PS版プロセッサー 18 セッター制御部 20 加熱部 22 第1水洗部 24 現像部 26 第2水洗部 28 フィニッシャー部 29 乾燥部 30 プロセッサー制御部 31 引き込みローラ対 32 加熱装置 34a ヒータ 34b チラー 34c 温度センサ 36 軸受部材 40a 第1支持部 40b 第2支持部 42 付勢部材 44a 第1滑車 44b 第2滑車 46a 第1円筒部 46b 第2円筒部 48 カム板 50 偏心軸 52 駆動機構 60 水洗槽 61 オーバーフロー管 62 引き込みローラ対 63 循環水タンク 64a 第1水供給ノズル 64b 第2水供給ノズル 64c 第3水供給ノズル 66 第1回転ブラシローラ 67 第1バックアップローラ 68 搬送ローラ対 70 現像槽 71a 第2回転ブラシローラ 71b 第3回転ブラシローラ 72 送り出しローラ対 73 液面蓋 74 現像補充原液噴射ノズル 75 ローラ対 76 希釈水噴射ノズル 77 ガイド板 78 第1スプレーパイプ 79 オーバーフロー管 80 廃液タンク 81a 第2バックアップローラ 81b 第3バックアップローラ 82 現像液貯留槽 84 水貯留槽 86a、86b 回転軸 90 水洗槽 91 オーバーフロー管 92 搬送ローラ対 93 貯留タンク 94 搬送ローラ対 96 第2スプレーパイプ 98 第3スプレーパイプ 100 ガム液槽 102 ガム液噴射ノズル 104 搬送ローラ対 110 PS版 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Personal computer 12 Workstation 14 Plate setter 16 PS plate processor 18 Setter control part 20 Heating part 22 First rinsing part 24 Developing part 26 Second rinsing part 28 Finisher part 29 Drying part 30 Processor control part 31 Pull-in roller pair 32 Heating device 34a Heater 34b Chiller 34c Temperature sensor 36 Bearing member 40a First support portion 40b Second support portion 42 Biasing member 44a First pulley 44b Second pulley 46a First cylindrical portion 46b Second cylindrical portion 48 Cam plate 50 Eccentric shaft 52 Drive mechanism Reference Signs List 60 Rinse bath 61 Overflow pipe 62 Pull-in roller pair 63 Circulating water tank 64a First water supply nozzle 64b Second water supply nozzle 64c Third water supply nozzle 66 First rotating brush roller 67 First backup roller 68 Transport roller pair 70 Developing tank 71a Second rotating brush roller 71b Third rotating brush roller 72 Delivery roller pair 73 Liquid level cover 74 Developing replenishing solution injection nozzle 75 Roller pair 76 Dilution water injection nozzle 77 Guide plate 78 First spray pipe 79 Overflow pipe 80 Waste liquid tank 81a Second backup roller 81b Third backup roller 82 Developer storage tank 84 Water storage tank 86a, 86b Rotating shaft 90 Rinse tank 91 Overflow pipe 92 Transport roller pair 93 Storage tank 94 Transport roller pair 96 Second spray pipe 98 Third spray Pipe 100 Gum liquid tank 102 Gum liquid injection nozzle 104 Transport roller pair 110 PS plate

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Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光重合性感光層を有する平版印刷版を画
像データに基いて露光する露光工程と、 該露光工程の前又は後に、前段の工程で使用した版情報
に基づき、前記露光工程で露光された平版印刷版を現像
する際の現像条件を決定する現像条件決定工程と、 該現像条件決定工程で決定された現像条件となるよう
に、現像槽内の現像液の温度、現像時間、平版印刷版の
擦り圧、及び擦り密度の少なくとも1つを調整する現像
条件調整工程と、 前記現像条件調整工程の後に、現像する現像工程と、 を含む平版印刷版の製版方法。
An exposure step of exposing a lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer based on image data; and before or after the exposure step, based on the plate information used in the preceding step, the exposure step. A developing condition determining step of determining developing conditions for developing the exposed lithographic printing plate; and a temperature of a developer in a developing tank, a developing time, a developing time, so that the developing conditions determined in the developing condition determining step are satisfied. A plate making method for a lithographic printing plate, comprising: a developing condition adjusting step of adjusting at least one of a rub pressure and a rub density of the lithographic printing plate; and a developing step of developing after the developing condition adjusting step.
【請求項2】 露光処理済みの光重合性感光層を有する
平版印刷版を現像槽内に搬送し、現像槽内に充填された
現像液に浸漬させて現像処理を行う現像手段と、 前段の装置が使用した版情報に基づいて現像する際の現
像条件を決定する現像条件決定手段と、 前記現像条件決定手段によって決定された現像条件とな
るように、現像槽内の現像液の温度、現像時間、平版印
刷版の擦り圧、及び擦り密度の少なくとも1つを調整す
る調整手段と、 を備えた自動現像機。
2. A developing means for transporting a lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer having been subjected to an exposure treatment into a developing tank and immersing the lithographic printing plate in a developing solution filled in the developing tank to perform a developing treatment; Developing condition determining means for determining developing conditions when developing based on the plate information used by the apparatus; developing temperature and developing solution in a developing tank so that the developing conditions are determined by the developing condition determining means. Adjusting means for adjusting at least one of the time, the rub pressure of the lithographic printing plate, and the rub density.
【請求項3】 露光処理済みの光重合性感光層を有する
平版印刷版を搬送しながら現像処理する際の現像条件を
前段の工程で使用した版情報に基いて決定し、該決定し
た現像条件となるように、現像槽内の現像液の温度、現
像時間、平版印刷版の擦り圧、及び擦り密度の少なくと
も1つを調整する現像条件調整プログラムを記録したコ
ンピュータ読み取り可能な記録媒体。
3. Developing conditions for developing a lithographic printing plate having an exposed photopolymerizable photosensitive layer while transporting the lithographic printing plate are determined based on plate information used in the preceding step, and the determined developing conditions A computer-readable recording medium on which a developing condition adjusting program for adjusting at least one of the temperature of the developer in the developing tank, the developing time, the rubbing pressure of the lithographic printing plate, and the rubbing density is recorded.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007079536A (en) * 2005-03-22 2007-03-29 Fujifilm Corp Plate-making method of lithographic printing plate precursor
US7300728B2 (en) 2002-03-01 2007-11-27 Kodak Graphic Communications Canada Company Processor unit with provision for automated control of processing parameters
JP2008233660A (en) * 2007-03-22 2008-10-02 Fujifilm Corp Automatic development device for immersion type lithographic printing plate and method thereof
JP2020046544A (en) * 2018-09-19 2020-03-26 旭化成株式会社 Development device and method for controlling the same, and program

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7300728B2 (en) 2002-03-01 2007-11-27 Kodak Graphic Communications Canada Company Processor unit with provision for automated control of processing parameters
JP2007079536A (en) * 2005-03-22 2007-03-29 Fujifilm Corp Plate-making method of lithographic printing plate precursor
JP2008233660A (en) * 2007-03-22 2008-10-02 Fujifilm Corp Automatic development device for immersion type lithographic printing plate and method thereof
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