JP2001175001A - Original plate for planographic printing plate - Google Patents

Original plate for planographic printing plate

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JP2001175001A
JP2001175001A JP32264199A JP32264199A JP2001175001A JP 2001175001 A JP2001175001 A JP 2001175001A JP 32264199 A JP32264199 A JP 32264199A JP 32264199 A JP32264199 A JP 32264199A JP 2001175001 A JP2001175001 A JP 2001175001A
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polymer
acid
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康仁 大島
Tadahiro Sorori
忠弘 曽呂利
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an original plate for planographic printing plate suitable for exposure by laser beam and having both high adhesion and excellent fouling property. SOLUTION: The original plate for planographic printing plate is formed by providing an intermediate layer containing a polymer having a cationic group and a radical reactive group and a photopolymerizable photosensitive layer containing a photopolymerization initiator, a compound having an addition polymerizable ethylenic unsaturated bond and a high polymer binder on an aluminum supporting body treated for hydrophilicity impartation.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷版用原版に
関し、特にレーザ光による描画に適した平版印刷版用原
版に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lithographic printing plate precursor, and more particularly to a lithographic printing plate precursor suitable for drawing with a laser beam.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、平版印刷版用原版としては親水性
支持体上に親油性の感光性樹脂層を設けた構成を有する
PS版が広く用いられ、その製版方法として、通常は、
リスフイルムを介してマスク露光(面露光)後、非画像
部を溶解除去することにより所望の印刷版を得ていた。
近年、画像情報をコンピュータを用いて電子的に処理、
蓄積、出力する、ディジタル化技術が広く普及してきて
いる。そして、その様なディジタル化技術に対応した新
しい画像出力方式が種々実用される様になってきた。そ
の結果レーザ光のような指向性の高い光をディジタル化
された画像情報に従って走査し、リスフイルムを介す事
無く、直接印刷版を製造するコンピュータ トゥ プレ
ート(CTP)技術が切望されており、これに適応した
印刷版用原版を得ることが重要な技術課題となってい
る。
2. Description of the Related Art Heretofore, as a lithographic printing plate precursor, a PS plate having a structure in which a lipophilic photosensitive resin layer is provided on a hydrophilic support has been widely used.
After exposure with a mask (surface exposure) through a lith film, the non-image portion was dissolved and removed to obtain a desired printing plate.
In recent years, electronically processing image information using a computer,
Digitization technology for storing and outputting is becoming widespread. Then, various new image output systems corresponding to such digitizing technology have come to be practically used. As a result, computer-to-plate (CTP) technology that scans highly directional light such as laser light in accordance with digitized image information and directly manufactures a printing plate without passing through a lithographic film has been desired. It is an important technical problem to obtain a printing plate precursor adapted to this.

【0003】このような走査露光可能な平版印刷版用原
版を得る方式の一つとして、従来より、親水性支持体上
に設ける親油性感光性樹脂層(以下、感光層ともいう)
として、感光スピードに優れた光重合性組成物を含有す
る層を設け、さらに酸素遮断性の保護層を設けた構成が
提案され、既に上市されている。該構成の平版印刷版用
原版は、現像処理が簡便であり、さらに解像度、着肉
性、耐刷性に優れるといった望ましい印刷性能を有する
刷版となり得る。しかしながら、従来のこうした高感度
の光重合型の平版印刷版用原版から製版された平版印刷
版は、画像部と支持体との密着性が十分でないため、使
用条件にもよるが、大部数の印刷を行う際に、画像部の
欠落、細りを生じるという問題を有していた。
As one method for obtaining such a lithographic printing plate precursor capable of being scanned and exposed, a lipophilic photosensitive resin layer (hereinafter, also referred to as a photosensitive layer) provided on a hydrophilic support has conventionally been used.
As an example, there has been proposed a configuration in which a layer containing a photopolymerizable composition having excellent photosensitivity is provided, and a protective layer having an oxygen-blocking property is further provided. The lithographic printing plate precursor having the above configuration can be a printing plate having a desirable printing performance such that the developing process is simple and the resolution, the inking property and the printing durability are excellent. However, lithographic printing plates prepared from such conventional high-sensitivity photopolymerization type lithographic printing plate precursors do not have sufficient adhesion between the image area and the support. When printing, there was a problem that the image portion was missing or thinned.

【0004】従来、平版印刷版用原版の支持体と光重合
性感光層の密着性を改良する方法としては、有機リン酸
系化合物を含む中間層を設ける方法が広く知られてい
る。しかし、耐刷性という観点では未だ充分ではない。
特開平7−159983号には重合性基を含有するゾル
ゲル中間層が、特開平9−269593号にはこれにさ
らにフェノール性化合物やリン酸化合物を添加したゾル
ゲル中間層が開示されている。これらは、確かに良好な
密着性を与えるが、現像条件等によっては、なお非画像
部の汚れを生じるという問題があった。この様に、レー
ザー露光用の光重合型の平版印刷版用原版では、画像部
の十分な密着性すなわち耐刷性と、非画像部の汚れ性の
両立が困難であるという問題があった。
Heretofore, as a method for improving the adhesion between a support of a lithographic printing plate precursor and a photopolymerizable photosensitive layer, a method of providing an intermediate layer containing an organic phosphoric acid compound has been widely known. However, it is not yet sufficient in terms of printing durability.
JP-A-7-159983 discloses a sol-gel intermediate layer containing a polymerizable group, and JP-A-9-269593 discloses a sol-gel intermediate layer further added with a phenolic compound or a phosphoric acid compound. These certainly give good adhesion, but there is a problem that the non-image area is still stained depending on the development conditions and the like. As described above, the photopolymerization type lithographic printing plate precursor for laser exposure has a problem that it is difficult to achieve sufficient adhesion of the image area, that is, printing durability, and contamination of the non-image area.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、上記従来の技術の欠点を克服し、高い密着性と優れ
た汚れ性を併せ持つ平版印刷版用原版、特にレーザー光
による描画に適した平版印刷版用原版を提供することで
ある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to overcome the above-mentioned drawbacks of the prior art and to provide a lithographic printing plate precursor having both high adhesion and excellent stainability, particularly suitable for drawing by laser light. To provide a lithographic printing plate precursor.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成すべく鋭意検討を重ねた結果、平版印刷版用原版
の支持体と光重合性感光層との間に、カチオン性基およ
びラジカル反応性基を有するポリマーを含有する中間層
を設けることにより上記目的が達成されることを見出
し、本発明を成すに至った。すなわち本発明は、親水化
処理を施したアルミニウム支持体上に、カチオン性基及
びラジカル反応性基を有するポリマーを含有する中間層
と、光重合開始剤、付加重合可能なエチレン性不飽和結
合を有する化合物、及び高分子バインダーを含有する光
重合性感光層を設けてなる平版印刷版用原版である。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to achieve the above object, and as a result, a cationic group was formed between the support of the lithographic printing plate precursor and the photopolymerizable photosensitive layer. The inventors have found that the above object can be achieved by providing an intermediate layer containing a polymer having a radical reactive group, and have accomplished the present invention. That is, the present invention provides an intermediate layer containing a polymer having a cationic group and a radical reactive group, a photopolymerization initiator, and an addition-polymerizable ethylenically unsaturated bond on an aluminum support subjected to a hydrophilic treatment. It is a lithographic printing plate precursor provided with a photopolymerizable photosensitive layer containing a compound having a polymer binder.

【0007】本発明の平版印刷版用原版の特徴の一つ
は、感光層と支持体との密着性を改善する方法として、
カチオン性基およびラジカル反応性基を有するポリマー
を含有する中間層を設けることにある。本発明の平版印
刷版原版より得られる印刷版は、従来の有機リン酸系化
合物などを含有する中間層を用いた印刷版と比較して、
耐刷性と汚れ性を両立した優れた印刷版が得られる。カ
チオン性基およびラジカル反応性基を有するポリマーの
効果については未だ明確ではないが、理由として以下の
ことが考えられる。すなわち、中間層に用いられるポリ
マーはカチオン性基を有しているため、基版表面のアニ
オン性無機物と相互作用し、基版と強固な密着性を発現
する。しかし、カチオン性基はそれ自身親水性であり、
本質的には水性現像液によって除去可能であるため、未
露光部においては完全に除去され、汚れを生じない。一
方、露光部では、露光により発生するラジカルの作用に
よって、ラジカル反応性基が光重合性感光層および/ま
たはそれ自身と分子間で結合を形成し、ゲル化するた
め、現像液では除去されなくなり、カチオン性基の高い
密着性によって充分な耐刷性を与える。また、本発明に
おいては、充分な密着性と耐刷性を付与するという観点
から、カチオン性基およびラジカル反応性基を有する化
合物を低分子やオリゴマーではなく、ポリマーとして用
いることが重要である。
One of the features of the lithographic printing plate precursor according to the present invention is as a method for improving the adhesion between the photosensitive layer and the support.
An object of the present invention is to provide an intermediate layer containing a polymer having a cationic group and a radical reactive group. The printing plate obtained from the lithographic printing plate precursor according to the invention is compared with a printing plate using an intermediate layer containing a conventional organic phosphoric acid compound or the like,
An excellent printing plate having both printing durability and stain resistance can be obtained. Although the effect of the polymer having a cationic group and a radical reactive group is not yet clear, the following may be considered as the reason. That is, since the polymer used for the intermediate layer has a cationic group, the polymer interacts with the anionic inorganic substance on the surface of the substrate, and exhibits strong adhesion to the substrate. However, cationic groups are themselves hydrophilic,
Since it is essentially removable with an aqueous developer, it is completely removed in the unexposed areas and does not cause stains. On the other hand, in the exposed area, the radical-reactive group forms a bond between the photopolymerizable photosensitive layer and / or itself and the molecule due to the action of radicals generated by the exposure, and gels, so that it is not removed by the developer. And sufficient printing durability is provided by the high adhesion of the cationic group. In the present invention, from the viewpoint of imparting sufficient adhesion and printing durability, it is important to use a compound having a cationic group and a radical reactive group as a polymer, not as a low molecular or oligomer.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】〈中間層〉最初に、本発明の平版
印刷版用原版の特徴部分である中間層について説明す
る。本発明の平版印刷版用原版の中間層には、カチオン
性基およびラジカル反応性基を有するポリマーを少くと
も1種含有する。本発明のポリマーは、その主鎖構造が
好ましくはアクリル系樹脂、スチレン系樹脂、または
それらの共重合体、ウレタン樹脂、ポリエステル樹
脂、もしくはポリアミド樹脂である。耐刷性、および
合成適性の点から好ましくはアクリル系樹脂、スチレ
ン系樹脂、またはそれらの共重合体である。また、分子
量については平版印刷版用原版の性能設計により任意に
設定できる。重量平均分子量が低いと汚れ性の点で好ま
しい結果を与え、高いと耐刷性が良くなる。好ましい重
量平均分子量としては、2,000〜1,000,000、
より好ましくは、5,000〜100,000である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION <Intermediate Layer> First, an intermediate layer which is a characteristic part of the lithographic printing plate precursor according to the present invention will be described. The intermediate layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention contains at least one polymer having a cationic group and a radical reactive group. The polymer of the present invention preferably has an acrylic resin, a styrene resin, or a copolymer thereof, a urethane resin, a polyester resin, or a polyamide resin. An acrylic resin, a styrene resin, or a copolymer thereof is preferable from the viewpoints of printing durability and synthesis suitability. The molecular weight can be arbitrarily set according to the performance design of the lithographic printing plate precursor. If the weight average molecular weight is low, favorable results are obtained in terms of stain resistance, and if the weight average molecular weight is high, printing durability is improved. Preferred weight average molecular weight is 2,000 to 1,000,000,
More preferably, it is 5,000 to 100,000.

【0009】カチオン性基としては、周期律表第V族あ
るいは第VI族の原子からなるカチオン性基が挙げられ、
好ましくは窒素原子、リン原子あるいは硫黄原子からな
るカチオン性基であり、より好ましくは窒素原子からな
るカチオン性基である。ラジカル反応性基としては、付
加重合可能な不飽和結合(例えば(メタ)アクリロイル
基、(メタ)アクリルアミド基、(メタ)アクリロニト
リル基、アリル基、スチレン構造、ビニルエーテル構造
や、アセチレン構造等)、−SH、−PH、SiH、−
GeH、ジスルフィド構造等が挙げられる。好ましくは
耐刷性の点から、付加重合可能な不飽和結合である。こ
こで、(メタ)アクリル基とは、アクリル基またはメタ
クリル基を表す。
Examples of the cationic group include a cationic group comprising an atom belonging to Group V or Group VI of the periodic table.
It is preferably a cationic group consisting of a nitrogen atom, a phosphorus atom or a sulfur atom, and more preferably a cationic group consisting of a nitrogen atom. Examples of the radical reactive group include an unsaturated bond capable of addition polymerization (for example, a (meth) acryloyl group, a (meth) acrylamide group, a (meth) acrylonitrile group, an allyl group, a styrene structure, a vinyl ether structure, and an acetylene structure), SH, -PH, SiH,-
GeH, a disulfide structure and the like. Preferably, it is an unsaturated bond capable of addition polymerization from the viewpoint of printing durability. Here, the (meth) acryl group represents an acryl group or a methacryl group.

【0010】本発明における本発明におけるカチオン性
基およびラジカル反応性基を有するポリマーの具体的な
合成法を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。 アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、またはそれらの
共重合体 アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、またはそれらの共重
合体にカチオン性基およびラジカル反応性基を導入する
方法としては、下記−1)〜−5)等が挙げられ
る。
A specific method for synthesizing a polymer having a cationic group and a radical reactive group according to the present invention in the present invention is shown below, but the present invention is not limited thereto. Acrylic resin, styrene resin, or copolymer thereof Acrylic resin, styrene resin, or a method for introducing a cationic group and a radical reactive group into a copolymer thereof include the following -1) to- 5) and the like.

【0011】−1)カチオン性基を有するアクリルま
たはスチレン系モノマーと、反応性官能基を少なくとも
1個有するアクリルまたはスチレン系モノマーを共重合
し、該反応性基を側鎖に有するポリマーとした後、得ら
れたポリマーに、該反応性官能基と反応しうる基とラジ
カル反応性基を同時に有する化合物を高分子反応させ、
ラジカル反応性基を導入する方法。カチオン性基を有す
るアクリルまたはスチレン系モノマーとしては下記一般
式(1)〜(3)で表される化合物が挙げられる
-1) An acrylic or styrene monomer having a cationic group and an acrylic or styrene monomer having at least one reactive functional group are copolymerized to form a polymer having the reactive group in a side chain. The obtained polymer is subjected to a polymer reaction with a compound having a group reactive with the reactive functional group and a radical reactive group at the same time,
A method of introducing a radical reactive group. Examples of the acrylic or styrene-based monomer having a cationic group include compounds represented by the following general formulas (1) to (3).

【0012】[0012]

【化1】 Embedded image

【0013】式中、R1は水素原子またはメチル基、R2
は置換基を表す。R3は炭素原子数が1〜20までの置
換基を有していてもよいアルキル基、またはアラルキル
基を表す。Aは酸素原子、またはNR4を表す。(R4
水素原子、または炭素原子数が1〜10までの置換基を
有していてもよい炭化水素基を表す。)Jは単結合、ま
たは二価の連結基を、Dはカチオン性基を表す。Z-
ハロゲンイオン、ClO4 -、BF4 -、PF6 -、SbF6 -、AsF6 -、S
O3 -、アルキルスルホン酸イオン、およびアリールスル
ホン酸イオンからなる群から選ばれる一価の陰イオンを
表す。pは0〜4までの整数を表すが、2〜4である場
合にはR2は同一であってもよいし、互いに異なってい
てもよい。
Wherein R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, R 2
Represents a substituent. R 3 represents an alkyl group which may have a substituent having 1 to 20 carbon atoms, or an aralkyl group. A represents an oxygen atom or NR 4,. (R 4 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may have a substituent having 1 to 10 carbon atoms.) J represents a single bond or a divalent linking group, and D represents a cationic group. Represents a group. Z - is a halogen ion, ClO 4 -, BF 4 - , PF 6 -, SbF 6 -, AsF 6 -, S
O 3 represents a monovalent anion selected from the group consisting of alkylsulfonate ions and arylsulfonate ions. p represents an integer from 0 to 4, and when p is 2 to 4, R 2 may be the same or different.

【0014】R2としては、非金属原子からなる任意の
置換基を挙げることができるが、より好ましい置換基と
しては、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子)、炭素原子数が1〜5までの置換基を
有していてもよいアルキル基、アルコキシル基が挙げら
れる。
As R 2 , any substituent consisting of a nonmetallic atom can be mentioned. More preferred substituents are a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom) and a carbon atom number. Is an alkyl group or an alkoxyl group which may have 1 to 5 substituents.

【0015】R3は炭素原子数が1〜20までの置換基
を有していてもよいアルキル基、またはアラルキル基を
表すが、好ましい具体例としては、メチル基、エチル
基、n−ペンチル基、i−ペンチル基、ネオペンチル
基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、メトキシエチ
ル基、2−ヒドロキシプロピル基、カルボキシメチル
基、1,2−エポキシプルピル基、2−メチルチオエチ
ル基、2−(メトキシカルボニル)エチル基、4−クロ
ロヘキシル基、2−メチル−2−ペンテニル基、パーフ
ルオロヘキシル基、-CH2CH2SO3 -基(この場合、Z-は不
要)、テトラヒドロフルフリル基、ベンジル基、4−
(t−ブチル)ベンジル基、3,5−ビス(トリフルオ
ロメチル)ベンジル基、ナフト−2−イル−メチル基、
フエネチル基等が挙げられる。
R 3 represents an alkyl group which may have a substituent having 1 to 20 carbon atoms, or an aralkyl group. Preferred examples thereof include a methyl group, an ethyl group and an n-pentyl group. I-pentyl group, neopentyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, methoxyethyl group, 2-hydroxypropyl group, carboxymethyl group, 1,2-epoxypropyl group, 2-methylthioethyl group, 2- (methoxy Carbonyl) ethyl group, 4-chlorohexyl group, 2-methyl-2-pentenyl group, perfluorohexyl group, -CH 2 CH 2 SO 3 - group (in this case, Z - is unnecessary), tetrahydrofurfuryl group, benzyl Group, 4-
(T-butyl) benzyl group, 3,5-bis (trifluoromethyl) benzyl group, naphth-2-yl-methyl group,
And a phenethyl group.

【0016】Jは単結合、または二価の連結基であり、
二価の連結基としては非金属原子からなる任意の連結基
を挙げることができる。より好ましい連結基としては、
−O−、−S−、−NR4−、−CO−、−SO2−、−
NR4CO−、−NR4COO−、または−NR4CON
4−(R4は一般式(1)におけると同義である。ただ
し、R4が複数個存在する場合には、それらは同一であ
ってもよいし、異なっていてもよい。)からなる群から
選ばれる基によって1回以上中断されていてもよく、ま
た、置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20まで
の二価の炭化水素基を挙げることができる。より好まし
くは、中断も置換もされていない炭素原子数1〜20ま
での炭化水素基である。
J is a single bond or a divalent linking group,
As the divalent linking group, any linking group consisting of a non-metallic atom can be exemplified. More preferred linking groups include
-O -, - S -, - NR 4 -, - CO -, - SO 2 -, -
NR 4 CO -, - NR 4 COO-, or -NR 4 CON
R 4 - (. R 4 has the same meaning as in general formula (1) where, if R 4 is present in plurality, they may be the same or different.) Consisting of It may be interrupted one or more times by a group selected from the group, and may be a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent. More preferably, it is an uninterrupted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.

【0017】Dはカチオン性基を表し、具体的には下記
一般式(4)〜(6)で表されるカチオン性基である。
D represents a cationic group, specifically, a cationic group represented by the following general formulas (4) to (6).

【0018】[0018]

【化2】 Embedded image

【0019】式中、R5〜R7はそれぞれ独立に水素原
子、または炭素原子数1〜20までの置換基を有してい
てもよいアルキル基、アリール基、アラルキル基を表
し、R8は炭素原子数1〜20までの置換基を有してい
てもよいアルキリデン基を表す。R4〜R8は互いに連結
して、またはJの一部分と結合して環を形成してもよ
い。Y1は窒素原子またはリン原子を表し、Y2は硫黄原
子を表す。Z-は一般式(3)におけると同義である。
一般式(4)〜(6)で表されるカチオン性基の中で
も、合成が容易であることから、一般式(4)または
(5)で表され、さらにY1が窒素原子であるカチオン
性基が特に好ましい。
In the formula, R 5 to R 7 each independently represent a hydrogen atom, or an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group which may have a substituent having 1 to 20 carbon atoms, and R 8 represents Represents an alkylidene group which may have a substituent having 1 to 20 carbon atoms. R 4 to R 8 may be linked to each other or to a part of J to form a ring. Y 1 represents a nitrogen atom or a phosphorus atom, and Y 2 represents a sulfur atom. Z - has the same meaning as in formula (3).
Among the cationic groups represented by the general formulas (4) to (6), the cationic group represented by the general formula (4) or (5), furthermore, Y 1 is a nitrogen atom because of easy synthesis. Groups are particularly preferred.

【0020】カチオン性基を有するアクリル、およびス
チレン系モノマーの具体例を以下に示すが、本発明はこ
れらに限定されるものではない。(カチオン性基を有す
る単量体の具体例)
Specific examples of the acrylic and styrene monomers having a cationic group are shown below, but the present invention is not limited to these. (Specific examples of monomers having a cationic group)

【0021】[0021]

【化3】 Embedded image

【0022】[0022]

【化4】 Embedded image

【0023】[0023]

【化5】 Embedded image

【0024】[0024]

【化6】 Embedded image

【0025】反応性官能基を少なくとも1個有するアク
リルまたはスチレン系モノマーとしては、下記一般式
(7)または(8)で表されるアクリル酸エステル、メ
タクリル酸エステル、アクリルアミド、メタクリルアミ
ドまたはスチレンの各誘導体を挙げることができる。
The acrylic or styrenic monomer having at least one reactive functional group includes acrylate, methacrylate, acrylamide, methacrylamide or styrene represented by the following general formula (7) or (8). Derivatives can be mentioned.

【0026】[0026]

【化7】 Embedded image

【0027】式中、Eはヒドロキシル基、ハロゲン化カ
ルボニル基、カルボキシル基またはその塩、アミノ基、
エポキシ基、およびハロアルキル基からなる群から選ば
れる反応性官能基を表す。A、R1、R2、Jおよびpは
一般式(1)および(2)におけると同義である。
In the formula, E is a hydroxyl group, a carbonyl halide group, a carboxyl group or a salt thereof, an amino group,
It represents a reactive functional group selected from the group consisting of an epoxy group and a haloalkyl group. A, R 1 , R 2 , J and p have the same meanings as in formulas (1) and (2).

【0028】このような反応性官能基を少なくとも1個
有するアクリルまたはスチレン系モノマーの具体例とし
ては、「高分子データ・ハンドブック−基礎編−(高分
子学会編、培風館、1986)」記載のヒドロキシル
基、ハロゲン化カルボニル基、カルボキシル基またはそ
の塩、アミノ基、エポキシ基、およびハロアルキル基か
らなる群から選ばれる反応性官能基を有するアクリル
酸、メタクリル酸誘導体、アクリル酸エステル誘導体、
メタクリル酸エステル誘導体、アクリルアミド、メタク
リルアミド誘導体が挙げられる。
Specific examples of such an acrylic or styrene-based monomer having at least one reactive functional group include hydroxyl groups described in "Polymer Data Handbook-Basic Edition-(Polymer Society, Baifukan, 1986)". Group, a carbonyl halide group, a carboxyl group or a salt thereof, an amino group, an epoxy group, and an acrylic acid having a reactive functional group selected from the group consisting of a haloalkyl group, a methacrylic acid derivative, an acrylate derivative,
Examples include methacrylic acid ester derivatives, acrylamide, and methacrylamide derivatives.

【0029】反応性官能基を少なくとも1個有するアク
リルまたはスチレン系モノマーと、カチオン性基を有す
るアクリルまたはスチレン系モノマーを共重合し、該反
応性官能基を側鎖に有するポリマーとする場合には、反
応性官能基を少なくとも1個有するアクリルまたはスチ
レン系モノマーを単独で用いてもよいし、2種以上を組
み合わせて使用してもよい。また、カチオン性基を有す
るアクリルまたはスチレン系モノマーについても単独で
用いてもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよ
い。
When an acrylic or styrene monomer having at least one reactive functional group and an acrylic or styrene monomer having a cationic group are copolymerized to form a polymer having the reactive functional group in a side chain, Alternatively, an acrylic or styrene monomer having at least one reactive functional group may be used alone, or two or more kinds may be used in combination. Further, an acrylic or styrene monomer having a cationic group may be used alone or in combination of two or more.

【0030】また、必要に応じて他のモノマーを1種以
上さらに組み合わせて共重合させ、3元以上のコポリマ
ーとすることができる。このようなモノマーとしては、
中間層にアルカリ現像性を付与するという観点から、酸
基を有するモノマーを用いることが好ましい。酸基とし
て好ましいのは、酸解離定数(pKa)が7以下の酸基
であり、より好ましくは、−COOH、−SO3H、−
OSO3H、−PO32、−OPO32、−CONHS
2−または−SO2NHSO2−である。このようなモ
ノマーの具体例としては、特開平11−84674号記
載のものを挙げることができる。共重合の方法としては
従来公知の重合法が使用でき、ポリマーの形態としては
ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合
体が好ましい。
If necessary, one or more other monomers may be further combined and copolymerized to obtain a tertiary or higher copolymer. Such monomers include:
From the viewpoint of imparting alkali developability to the intermediate layer, it is preferable to use a monomer having an acid group. Preferred as acid groups, an acid dissociation constant (pKa) of 7 or less of the acid groups, more preferably, -COOH, -SO 3 H, -
OSO 3 H, -PO 3 H 2 , -OPO 3 H 2, -CONHS
O 2 — or —SO 2 NHSO 2 —. Specific examples of such a monomer include those described in JP-A-11-84674. As the copolymerization method, a conventionally known polymerization method can be used, and the form of the polymer is preferably a random copolymer, a block copolymer, or a graft copolymer.

【0031】前述の方法により得た反応性官能基を側鎖
に有するポリマーに、該反応性官能基と反応しうる基と
ラジカル反応性基を同時に有する化合物を、下記反応か
ら選択される方法によって高分子反応し、ラジカル反応
性基を導入することによって、本発明におけるカチオン
性基およびラジカル反応性基を有するポリマーが得られ
る。
A compound having a group reactive with the reactive functional group and a radical reactive group at the same time is added to the polymer having a reactive functional group in the side chain obtained by the above method by a method selected from the following reactions. The polymer having a cationic group and a radical-reactive group in the present invention can be obtained by polymer reaction and introducing a radical-reactive group.

【0032】a)ポリマー側鎖のヒドロキシル基と、ラ
ジカル反応性基を有するイソシアネート類を用いたウレ
タン化反応 b)ポリマー側鎖のヒドロキシル基と、ラジカル反応性
基を有するカルボン酸、カルボン酸ハライド、スルホン
酸ハライド、またはカルボン酸無水物を用いたエステル
化反応 c)ポリマー側鎖のカルボキシル基またはその塩と、ラ
ジカル反応性基を有するイソシアネート類を用いたエス
テル化反応 d)ポリマー側鎖のハロゲン化カルボニル基、カルボキ
シル基またはその塩と、ラジカル反応性基を有するアル
コール類を用いたエステル化反応
A) a urethanization reaction using a hydroxyl group in the polymer side chain and an isocyanate having a radical reactive group; b) a carboxylic acid or carboxylic acid halide having a hydroxyl group in the polymer side chain and a radical reactive group; Esterification reaction using sulfonic acid halide or carboxylic acid anhydride c) Esterification reaction using carboxyl group or its salt of polymer side chain and isocyanate having radically reactive group d) Halogenation of polymer side chain Esterification reaction using carbonyl group, carboxyl group or its salt and alcohol having radical reactive group

【0033】e)ポリマー側鎖のハロゲン化カルボニル
基、カルボキシル基またはその塩と、ラジカル反応性基
を有するアミン類を用いたアミド化反応 f)ポリマー側鎖のアミノ基と、ラジカル反応性基を有
するイソシアネート類を用いたウレア化反応 g)ポリマー側鎖のアミノ基と、ラジカル反応性基を有
するカルボン酸、カルボン酸ハロゲン化物、スルホン酸
ハロゲン化物、またはカルボン酸無水物を用いたアミド
化反応 h)ポリマー側鎖のエポキシ基と、ラジカル反応性基を
有する各種求核性化合物との開環反応 i)ポリマー側鎖のハロアルキル基と、ラジカル反応性
基を有するアルコール類とのエーテル化反応
E) Amidation reaction using a carbonyl group, a carboxyl group or a salt thereof on the polymer side chain and an amine having a radical reactive group. F) The amino group on the polymer side chain and the radical reactive group G) Amidation reaction using a carboxylic acid, a carboxylic acid halide, a sulfonic acid halide or a carboxylic anhydride having a radical-reactive group and an amino group in a polymer side chain. ) Ring-opening reaction between epoxy group in polymer side chain and various nucleophilic compounds having radical reactive group i) Etherification reaction between haloalkyl group in polymer side chain and alcohols having radical reactive group

【0034】−2)下記一般式(9)〜(11)で表
されるモノマーを重合しポリマーとした後、ハロアルキ
ル基とラジカル反応性基を同時に有する化合物を反応さ
せ、カチオン性基とラジカル反応性基を同時に導入する
方法。
-2) After polymerizing monomers represented by the following general formulas (9) to (11) to form a polymer, a compound having a haloalkyl group and a radical-reactive group at the same time is reacted to form a radical reaction with a cationic group. A method of simultaneously introducing a functional group.

【0035】[0035]

【化8】 Embedded image

【0036】式中、R1、R2、A、J、およびpは一般
式(1)および(2)におけると同義である。Gは下記
一般式(12)または(13)で表される基を表す。
In the formula, R 1 , R 2 , A, J and p have the same meanings as in formulas (1) and (2). G represents a group represented by the following general formula (12) or (13).

【0037】[0037]

【化9】 Embedded image

【0038】式中、R5、R6、Y1およびY2は一般式
(4)〜(6)におけると同義である。R5およびR6
互いに連結して、またはJの一部分と結合して環を形成
してもよい。
In the formula, R 5 , R 6 , Y 1 and Y 2 have the same meanings as in formulas (4) to (6). R 5 and R 6 may be linked to each other or to a part of J to form a ring.

【0039】一般式(12)または(13)で表される
基の中でも、合成が容易であることからY1が窒素原子
である基が特に好ましい。
Among the groups represented by the general formulas (12) and (13), a group in which Y 1 is a nitrogen atom is particularly preferable because of easy synthesis.

【0040】一般式(9)〜(11)で表されるモノマ
ー具体例としては、7−アミノ−3,7−ジメチルオク
チルメタクリレート、2−(5−エチル−2−ピリジ
ル)エチルアクリレート、2−(ジメチルアミノ)エチ
ルアクリレート、3−(ジメチルアミノ)フェニルアク
リレート、2−(ジメチルアミノ)−2−メチルプロピ
ルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−ピペリジノプロ
ピルアクリレート、(2−ジエチルアミノ)エチルメタ
クリレート、(ジシクロヘキシルアミノ)エチルメタク
リレート、N−(2−ジメチルアミノエチル)アクリル
アミド、N−2−(モルホリノエチル)アクリルアミ
ド、N−(3−ジエチルアミノプロピル)アクリルアミ
ド、N−(1,1−ジメチル−3−ジメチルアミノプロ
ピル)アクリルアミド、N−(1,3−ジメチルモルホ
リノブチル)アクリルアミド、N−(1,3−ジメチルピ
ロリジノブチル)アクリルアミド、N−〔4−(フェニ
ルアミノ)フェニル〕アクリルアミド、N−(2−ジメ
チルアミノエチル)メタクリルアミド、N−(2,2−
ジメチル−3−ジメチルアミノプロピル)メタクリルア
ミド、アミノスチレン、N,N−ジメチルアミノスチレ
ン、4−アミノ−3−ニトロスチレン、(アミノメチ
ル)スチレン、ビニルベンジルジアリルアミン、N−
(ビニルベンジル)ピペリジン、N−(ビニルベンジ
ル)モルホリン、(2−アミノエチル)スチレン、(ジ
エチルアミノエチル)スチレン、(ビニルフェニル)メ
チルスルフィド、(ビニルフェニル)メチルスルフィ
ド、ビニルピリジン、2−ビニル−5−メチルピリジ
ン、5−エチル−2−ビニルピリジン、5−ブロモ−3
−ビニルピリジン等が挙げられる。
Specific examples of the monomers represented by the general formulas (9) to (11) include 7-amino-3,7-dimethyloctyl methacrylate, 2- (5-ethyl-2-pyridyl) ethyl acrylate, (Dimethylamino) ethyl acrylate, 3- (dimethylamino) phenyl acrylate, 2- (dimethylamino) -2-methylpropyl acrylate, 2-hydroxy-3-piperidinopropyl acrylate, (2-diethylamino) ethyl methacrylate, Dicyclohexylamino) ethyl methacrylate, N- (2-dimethylaminoethyl) acrylamide, N-2- (morpholinoethyl) acrylamide, N- (3-diethylaminopropyl) acrylamide, N- (1,1-dimethyl-3-dimethylamino) Propyl) acrylamide N- (1,3-dimethylmorpholinobutyl) acrylamide, N- (1,3-dimethylpyrrolidinobutyl) acrylamide, N- [4- (phenylamino) phenyl] acrylamide, N- (2-dimethylaminoethyl) methacryl Amide, N- (2,2-
Dimethyl-3-dimethylaminopropyl) methacrylamide, aminostyrene, N, N-dimethylaminostyrene, 4-amino-3-nitrostyrene, (aminomethyl) styrene, vinylbenzyldiallylamine, N-
(Vinylbenzyl) piperidine, N- (vinylbenzyl) morpholine, (2-aminoethyl) styrene, (diethylaminoethyl) styrene, (vinylphenyl) methylsulfide, (vinylphenyl) methylsulfide, vinylpyridine, 2-vinyl-5 -Methylpyridine, 5-ethyl-2-vinylpyridine, 5-bromo-3
-Vinyl pyridine and the like.

【0041】一般式(8)または(9)で表されるモノ
マーは単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせ
て使用してもよい。また、必要に応じて他のモノマーを
1種以上さらに組み合わせて共重合させ、2元以上のコ
ポリマーとすることができる。このようなモノマーとし
ては、前述の酸基を有するモノマーが好ましい。
The monomers represented by formula (8) or (9) may be used alone or in combination of two or more. If necessary, one or more other monomers may be further combined and copolymerized to form a binary or more copolymer. As such a monomer, the aforementioned monomer having an acid group is preferable.

【0042】このように一般式(9)〜(11)で表さ
れるモノマーを重合することによって得たポリマーに対
し、ハロアルキル基とラジカル反応性基を同時に有する
化合物を反応させることによって、カチオン性基および
ラジカル反応性基を同時に導入することができ、本発明
におけるカチオン性基およびラジカル反応性基を有する
ポリマーが得られる。この時、ハロアルキル基とラジカ
ル反応性基を同時に有する化合物は単独で用いてもよい
し、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
By reacting the polymer obtained by polymerizing the monomers represented by the general formulas (9) to (11) with a compound having both a haloalkyl group and a radical reactive group, the cationic A group and a radical-reactive group can be introduced simultaneously, and a polymer having a cationic group and a radical-reactive group in the present invention can be obtained. At this time, the compound having a haloalkyl group and a radical reactive group simultaneously may be used alone or in combination of two or more.

【0043】ハロアルキル基とラジカル反応性基を同時
に有する化合物の具体例としては、3−ブロモ−1−プ
ロピン、1−ブロモ−2−ブチン、6−ブロモ−1−ヘ
キシン、2−ブロモエチルビニルエーテル、3−ヨード
プロピルビニルエーテル、6−ヨードヘキシルビニルエ
ーテル、2−ブロモエチルアクリレート、シンナミルブ
ロミド、クロロメチルスチレン、ビニルベンジルブロミ
ド、臭化アリル、ヨウ化アリル等が挙げられる。
Specific examples of the compound having a haloalkyl group and a radical-reactive group at the same time include 3-bromo-1-propyne, 1-bromo-2-butyne, 6-bromo-1-hexyne, 2-bromoethyl vinyl ether, 3-Iodopropyl vinyl ether, 6-iodohexyl vinyl ether, 2-bromoethyl acrylate, cinnamyl bromide, chloromethylstyrene, vinylbenzyl bromide, allyl bromide, allyl iodide and the like.

【0044】−3)下記一般式(14)または(1
5)で表されるモノマーを重合し−CH 2X基を側鎖に
有するポリマーとした後、下記一般式(16)〜(1
8)に表される化合物を反応させ、カチオン性基とラジ
カル反応性基を同時に導入する方法。
-3) The following general formula (14) or (1)
Polymerizing the monomer represented by 5) to form -CH TwoX group to side chain
After having a polymer having, the following general formulas (16) to (1)
Reacting the compound represented by 8) with the cationic group
A method of simultaneously introducing a cal-reactive group.

【0045】[0045]

【化10】 Embedded image

【0046】式中、R1、R2、R5、R6、A、J、
1、Y2、およびpは一般式(1)〜(6)におけると
同義である。Xは塩素、臭素およびヨウ素よりなる群か
ら選ばれる原子を表す。Mはラジカル反応性基を表す。
Wherein R 1 , R 2 , R 5 , R 6 , A, J,
Y 1 , Y 2 and p have the same meanings as in formulas (1) to (6). X represents an atom selected from the group consisting of chlorine, bromine and iodine. M represents a radical reactive group.

【0047】一般式(14)または(15)で表される
化合物の具体例としては、2−ブロモエチルアクリレー
ト、クロロメチルスチレン、ブロモメチルスチレン等が
挙げられる。一般式(14)または(15)で表される
モノマーは単独で使用してもよいし、2種以上を組み合
わせて使用してもよい。また、必要に応じて他のモノマ
ーを1種以上さらに組み合わせて共重合させ、2元以上
のコポリマーとすることができる。このようなモノマー
としては、前述の酸基を有するモノマーが好ましい。
Specific examples of the compound represented by the general formula (14) or (15) include 2-bromoethyl acrylate, chloromethylstyrene, bromomethylstyrene and the like. The monomers represented by the general formula (14) or (15) may be used alone or in combination of two or more. If necessary, one or more other monomers may be further combined and copolymerized to form a binary or more copolymer. As such a monomer, the aforementioned monomer having an acid group is preferable.

【0048】一般式(14)または(15)で表される
モノマーを重合することによって得た−CH2X基を側
鎖に有するポリマーに対し、該−CH2X基と反応しカ
チオン性基を発現する基とラジカル反応性基を同時に有
する一般式(16)〜(18)で表される化合物を反応
させることによって、カチオン性基およびラジカル反応
性基が同時にポリマー中に導入され、本発明におけるカ
チオン性基およびラジカル反応性基を有するポリマーが
得られる。
The polymer having a —CH 2 X group in a side chain obtained by polymerizing a monomer represented by the general formula (14) or (15) reacts with the —CH 2 X group to form a cationic group. Is reacted with the compounds represented by the general formulas (16) to (18) having both a group that expresses a group and a radical-reactive group, whereby a cationic group and a radical-reactive group are simultaneously introduced into the polymer, A polymer having a cationic group and a radical reactive group in the above is obtained.

【0049】一般式(16)〜(18)で表される化合
物の具体例としては、一般式(9)〜(11)で表され
るモノマーの具体例として示した化合物の他、1−ジエ
チルアミノ−1−ヘキシン、2−ジメチルアミノエチル
ビニルエーテル、ジエタノールアミンモノビニルエーテ
ル、2−フェニルアミノエチルビニルエーテル、2−ピ
ロリジルエチルモノビニルエーテル、2−メチルチオエ
チルビニルエーテル、2−アリルチオエチルビニルエー
テル、3−ネオペンチルチオプロピルビニルエーテル、
3−ベンジルチオプロピルビニルエーテル、2−フェニ
ルチオエチルビニルエーテル、トリアリルアミン、3−
(4−ジメチルアミノフェニル)−2−(4−メトキシ
フェニル)アクリロニトリル、ジアリルスルフィド、ピ
リジルアセチレン等が挙げられる。
Specific examples of the compounds represented by the general formulas (16) to (18) include, in addition to the compounds shown as specific examples of the monomers represented by the general formulas (9) to (11), 1-diethylamino -1-hexyne, 2-dimethylaminoethyl vinyl ether, diethanolamine monovinyl ether, 2-phenylaminoethyl vinyl ether, 2-pyrrolidylethyl monovinyl ether, 2-methylthioethyl vinyl ether, 2-allylthioethyl vinyl ether, 3-neopentylthiopropyl Vinyl ether,
3-benzylthiopropyl vinyl ether, 2-phenylthioethyl vinyl ether, triallylamine, 3-
(4-dimethylaminophenyl) -2- (4-methoxyphenyl) acrylonitrile, diallyl sulfide, pyridylacetylene and the like.

【0050】一般式(16)〜(18)で表される化合
物の中でも、合成が容易であることから、一般式(1
6)または(17)で表され、さらにY1が窒素原子で
ある化合物、あるいは一般式(18)で表される化合物
が特に好ましい。また、一般式(16)または(17)
で表される化合物は単独で使用してもよいし、2種以上
を組み合わせて使用してもよい。
Among the compounds represented by the general formulas (16) to (18), the compounds represented by the general formula (1)
A compound represented by formula (6) or (17), wherein Y 1 is a nitrogen atom, or a compound represented by formula (18) is particularly preferred. The general formula (16) or (17)
May be used alone or in combination of two or more.

【0051】−4)カチオン性基を有するモノマー
と、反応速度が比較的遅いラジカル反応性基を有するア
クリルまたはスチレン系モノマーを共重合する方法。カ
チオン性基を有するモノマーとしては、前述の一般式
(1)〜(3)で表されるものを挙げることができる。
反応速度が比較的遅いラジカル反応性基を有するアクリ
ルまたはスチレン系モノマーとしては、重合により主鎖
骨格を形成するアクリルまたはスチレン構造と、それよ
りも付加重合性の低い不飽和結合(例えば、アリル基、
アセチレン構造等)を有するモノマーが挙げられる。
-4) A method of copolymerizing a monomer having a cationic group and an acrylic or styrene monomer having a radically reactive group having a relatively slow reaction rate. Examples of the monomer having a cationic group include those represented by the aforementioned general formulas (1) to (3).
An acrylic or styrene monomer having a radically reactive group having a relatively slow reaction rate includes an acrylic or styrene structure that forms a main chain skeleton by polymerization, and an unsaturated bond having a lower addition polymerization property (for example, an allyl group). ,
Monomer having an acetylene structure).

【0052】該モノマーは、分子中に反応性の異なる少
なくとも2個のラジカル反応性基を有するが、カチオン
性基を有するモノマーとの共重合においては、アクリル
またはスチレン構造のラジカル反応性が高いため、反応
速度が比較的遅いラジカル反応性基は重合に与らない。
したがって、ゲル化を起こすことなく側鎖にラジカル反
応性基を導入でき、本発明におけるカチオン性基および
ラジカル反応性を有するポリマーが得られる。
The monomer has at least two radical reactive groups having different reactivities in the molecule. However, in the copolymerization with a monomer having a cationic group, the radical reactivity of an acrylic or styrene structure is high. A radically reactive group having a relatively slow reaction rate does not affect the polymerization.
Therefore, a radical reactive group can be introduced into a side chain without causing gelation, and a polymer having a cationic group and radical reactivity in the present invention can be obtained.

【0053】反応速度が比較的遅いラジカル反応性基を
有するアクリルまたはスチレン系モノマーの好ましい具
体例としては、アリルアクリレート、アリルメタクリレ
ート、アリルオキシメチルメタクリレート、アセチルメ
チルメタクリレート、2−プロピニルアクリレート、2
−メチル−2−プロピニルアクリレート、3−ブチニル
アクリレート、N−アリルアクリルアミド、N−アリル
メタクリルアミド、アリルスチレン、(ビニルフェニ
ル)アリルエーテル、(ビニルフェニル)アセチレン等
が挙げられる。
Preferred specific examples of the acrylic or styrenic monomer having a radically reactive group having a relatively slow reaction rate include allyl acrylate, allyl methacrylate, allyloxymethyl methacrylate, acetylmethyl methacrylate, 2-propynyl acrylate,
-Methyl-2-propynyl acrylate, 3-butynyl acrylate, N-allylacrylamide, N-allylmethacrylamide, allylstyrene, (vinylphenyl) allyl ether, (vinylphenyl) acetylene and the like.

【0054】カチオン性基を有するモノマーと、反応速
度が比較的遅いラジカル反応性基を有するモノマーは、
それぞれ単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせ
て使用してもよい。また、必要に応じて他のモノマーを
1種以上さらに組み合わせて共重合させ、3元以上のコ
ポリマーとすることができる。このようなモノマーとし
ては、中間層にアルカリ現像性を付与するという観点か
ら、前述の酸基を有するモノマーを用いることが好まし
い。
The monomer having a cationic group and the monomer having a radically reactive group having a relatively slow reaction rate are
Each may be used alone, or two or more kinds may be used in combination. If necessary, one or more other monomers may be further combined and copolymerized to form a tertiary or higher copolymer. As such a monomer, it is preferable to use the above-described monomer having an acid group from the viewpoint of imparting alkali developability to the intermediate layer.

【0055】−5)反応速度が比較的遅いラジカル反
応性基とカチオン性基を同時に有するモノマーを重合さ
せる方法。反応速度が比較的遅いラジカル反応性基とカ
チオン性基を同時に有するモノマーとしては、一般式
(19)〜(21)で表される化合物を挙げることがで
きる。
-5) A method of polymerizing a monomer having a radically reactive group and a cationic group having a relatively low reaction rate at the same time. Examples of the monomer having a radically reactive group and a cationic group having a relatively low reaction rate at the same time include compounds represented by formulas (19) to (21).

【0056】[0056]

【化11】 Embedded image

【0057】式中、R1、R2、A、J、Z-、およびp
は一般式(1)〜(3)におけると同義である。R2
主鎖骨格を成すスチレン構造よりも反応性の低いラジカ
ル重合性基を有しているアルキル基、アラルキル基を表
す。D’は下記一般式(22)〜(24)で表されるカ
チオン性基を表す。
Wherein R 1 , R 2 , A, J, Z , and p
Has the same meaning as in formulas (1) to (3). R 2 represents an alkyl group or an aralkyl group having a radical polymerizable group having lower reactivity than the styrene structure forming the main chain skeleton. D ′ represents a cationic group represented by the following general formulas (22) to (24).

【0058】[0058]

【化12】 Embedded image

【0059】式中、Y1、Y2、およびZ-は一般式
(4)〜(6)におけると同義である。R11〜R12はそ
れぞれ独立に水素原子、または炭素原子数1〜20まで
の置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、
アラルキル基を表し、R13は炭素原子数1〜20までの
置換基を有していてもよいアルキリデン基を表す。ただ
し、一般式(22)においてはR10〜R12、一般式(2
3)においてはR10またはR13、一般式(24)におい
てはR10またはR11のうち少なくとも1つに主鎖骨格を
成すアクリルまたはスチレン構造よりも反応性の低いラ
ジカル重合性基を有している。また、可能であるなら
ば、R10〜R13は互いに結合して、またはJのいずれか
の部分と結合して環を形成してもよい。
In the formula, Y 1 , Y 2 , and Z have the same meanings as in formulas (4) to (6). R 11 to R 12 each independently represent a hydrogen atom, or an alkyl group or an aryl group which may have a substituent having 1 to 20 carbon atoms,
R 13 represents an aralkyl group, and R 13 represents an alkylidene group which may have a substituent having 1 to 20 carbon atoms. However, in the general formula (22), R 10 to R 12 and the general formula (2)
R 10 or R 13 in 3), in the general formula (24) has a low radical polymerizable group reactive than acrylic or styrene structure forms a main chain skeleton to at least one of R 10 or R 11 ing. If possible, R 10 to R 13 may be bonded to each other or to any part of J to form a ring.

【0060】一般式(22)〜(24)で表されるカチ
オン性基の中でも、合成が容易であることから、一般式
(22)または(23)で表され、さらにY1が窒素原
子である基が特に好ましい。以下に反応速度が比較的遅
いラジカル反応性基とカチオン性基を同時に有するモノ
マーの具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。
Among the cationic groups represented by the general formulas (22) to (24), the compound is represented by the general formula (22) or (23) because of easy synthesis, and Y 1 is a nitrogen atom. Certain groups are particularly preferred. Specific examples of the monomer having a radically reactive group and a cationic group having a relatively low reaction rate at the same time are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0061】[0061]

【化13】 Embedded image

【0062】本発明の平版印刷版用原版における中間層
は、次のような方法で設けることができる。すなわち、
水もしくはメタノール、エタノールなどの有機溶剤また
はそれらの混合溶剤に上記カチオン性基及びラジカル反
応性基を有するポリマーを溶解させた溶液を、親水化処
理を施したアルミニウム支持体上に塗布、乾燥して中間
層を設ける方法と、水又はメタノール、エタノールなど
の有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記カチオン性
基及びラジカル反応性基を有するポリマーを溶解させた
溶液に、親水化処理を施したアルミニウム支持体を浸漬
して該カチオン性基及びラジカル反応性基を有するポリ
マーを吸着させ、しかる後、水などによって、洗浄、乾
燥して中間層を設ける方法である。前者の方法では、上
記カチオン性基及びラジカル反応性基を0.005〜1
0重量%の濃度で溶解した塗布液を種々の方法で塗布で
きる。例えばバーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗
布、カーテン塗布等のいずれの方法を用いてもよい。ま
た、本発明の化合物を溶解した溶液に浸漬後、水などに
よって洗浄する方法では、溶液の濃度は0.01〜20
重量%、好ましくは0.05〜5重量%であり、浸漬温
度は20℃〜90℃、好ましくは25℃〜50℃であ
り、浸漬時間は、0.1秒〜20分、好ましくは2秒〜
1分である。
The intermediate layer in the lithographic printing plate precursor according to the present invention can be provided by the following method. That is,
A solution obtained by dissolving a polymer having the above-mentioned cationic group and radical-reactive group in water or an organic solvent such as methanol or ethanol or a mixed solvent thereof is coated on a hydrophilized aluminum support, and dried. A method of providing an intermediate layer, and an aluminum support obtained by subjecting a solution obtained by dissolving a polymer having a cationic group and a radical reactive group to water or an organic solvent such as methanol or ethanol or a mixed solvent thereof to a hydrophilic treatment. By dipping the polymer having the cationic group and the radical-reactive group, followed by washing and drying with water or the like to form an intermediate layer. In the former method, the cationic group and the radical reactive group are added in an amount of 0.005 to 1
The coating solution dissolved at a concentration of 0% by weight can be applied by various methods. For example, any method such as bar coater coating, spin coating, spray coating, and curtain coating may be used. In the method of washing with water or the like after immersion in a solution in which the compound of the present invention is dissolved, the concentration of the solution is 0.01 to 20.
%, Preferably 0.05 to 5% by weight, the immersion temperature is 20 ° C. to 90 ° C., preferably 25 ° C. to 50 ° C., and the immersion time is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds. ~
One minute.

【0063】該中間層の乾燥後の被覆量は、2mg/m2
200mg/m2が適当であり、好ましくは5mg/m2〜100
mg/m2、さらに好ましくは5mg/m2〜50mg/m2である。
上記の被覆量が2mg/m2より少ないと充分な耐刷性能が
得られない。また、200mg/m2より多くても、充分な
耐刷性能が得られない。本発明の平版印刷版用原版にお
ける中間層を設ける際に使用する溶液は、アンモニア、
トリエチルアミン、水酸化カリウム等の塩基性物質や、
塩酸、硫酸、リン酸、スルホン酸、カルボン酸等の酸性
物質によりpHを調節し、pH1〜12の範囲で使用す
ることもできる。特開平7−314937号や特開平5
−278362号に記載される中間層の酸性条件での塗
設や、シリケートをあらかじめ酸処理しておくことで密
着性を一層高める事ができる。また、平版印刷版用原版
の調子再現性改良のため、黄色染料を添加することもで
きる。
The coating amount of the intermediate layer after drying is 2 mg / m 2 to
200 mg / m 2 is suitable, preferably 5 mg / m 2 to 100 mg / m 2.
mg / m 2, more preferably from 5mg / m 2 ~50mg / m 2 .
If the coating amount is less than 2 mg / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. Also, if the amount is more than 200 mg / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. The solution used when providing the intermediate layer in the lithographic printing plate precursor of the present invention is ammonia,
Basic substances such as triethylamine and potassium hydroxide,
The pH can be adjusted with an acidic substance such as hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, sulfonic acid, and carboxylic acid, and the pH can be used in the range of 1 to 12. JP-A-7-314937 and JP-A-5-314937
The adhesion can be further enhanced by applying the intermediate layer described in -278362 under acidic conditions or by previously treating the silicate with an acid. In order to improve the tone reproducibility of the lithographic printing plate precursor, a yellow dye may be added.

【0064】また本発明の平版印刷版用原版における中
間層には、公知の、例えばカルボキシメチルセルロー
ス、デキストリン、アラビアゴム、2−アミノエチルホ
スホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、グリシ
ンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、トリエタノールア
ミンの塩酸塩等のヒドロキシル基を有するアミンの塩酸
塩等を混合させることができる。本発明の中間層は、先
述のカチオン性基及びラジカル反応性基を有するポリマ
ーを少なくとも20重量%以上含むことが望ましく、よ
り好ましくは50重量%以上、最も好ましくは80重量
%以上である。該中間層は、特開平9−34104や特
開平10−260536号に記載される様な他の成分
(バインダーポリマーや光重合性化合物、光開始剤)と
の混合物であっても良い。
In the intermediate layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention, there may be used a known phosphonic acid having an amino group such as carboxymethylcellulose, dextrin, gum arabic, 2-aminoethylphosphonic acid, glycine or β-alanine. And a hydrochloride of an amine having a hydroxyl group such as a hydrochloride of triethanolamine. The intermediate layer of the present invention desirably contains at least 20% by weight or more of the above-mentioned polymer having a cationic group and a radical reactive group, more preferably 50% by weight or more, and most preferably 80% by weight or more. The intermediate layer may be a mixture with other components (binder polymer, photopolymerizable compound, photoinitiator) as described in JP-A-9-34104 and JP-A-10-260536.

【0065】次に、本発明の平版印刷版用原版の、前記
中間層以外の部分について説明する。 〈光重合性感光層〉本発明の平版印刷版用原版におい
て、前記中間層の上に設けられる光重合性感光層(以
下、単に感光層ともいう)は、光重合開始剤、付加重合
可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物および高分
子バインダーを必須成分とし、必要に応じ、共増感剤、
着色剤、可塑剤、熱重合禁止剤等の種々の添加剤を含
む。
Next, portions of the lithographic printing plate precursor according to the present invention other than the intermediate layer will be described. <Photopolymerizable photosensitive layer> In the lithographic printing plate precursor according to the present invention, a photopolymerizable photosensitive layer (hereinafter, also simply referred to as a photosensitive layer) provided on the intermediate layer includes a photopolymerization initiator, A compound having an ethylenically unsaturated bond and a polymer binder as essential components, if necessary, a co-sensitizer,
It contains various additives such as coloring agents, plasticizers, and thermal polymerization inhibitors.

【0066】[(1)付加重合性化合物]本発明の平版
印刷版用原版の感光層に使用される、少なくとも一個の
エチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物
は、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ま
しくは2個以上有する化合物から選ばれる。この様な化
合物群は当該産業分野において広く知られるものであ
り、本発明においてはこれらを特に限定無く用いる事が
できる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、す
なわち2量体、3量体およびオリゴマー、またはそれら
の混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態を
もつ。モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽
和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イ
タコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸な
ど)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好まし
くは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物
とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化
合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基
やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不
飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もし
くは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類との付
加反応物、および単官能もしくは、多官能のカルボン酸
との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソ
シアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有す
る不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能
もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類
との付加反応物、さらにハロゲン基や、トシルオキシ基
等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあ
るいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール
類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適であ
る。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代
わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル
等に置き換えた化合物群を使用する事も可能である。
[(1) Addition-Polymerizable Compound] The addition-polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, which is used in the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention, has a terminal ethylenically unsaturated compound. It is selected from compounds having at least one, preferably two or more, saturated bonds. Such compounds are widely known in the industrial field, and they can be used in the invention without any particular limitation. These have chemical forms such as, for example, monomers, prepolymers, ie, dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of the monomer and its copolymer include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.) and esters and amides thereof, and are preferred. As the ester, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound and an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyamine compound are used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, an amino group or a mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and a monofunctional or polyfunctional A dehydration-condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an isocyanate group, or an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine, or thiol, and further, a halogen group or Also, a substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is preferable. As another example, it is also possible to use a group of compounds in which unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like is substituted for the above unsaturated carboxylic acid.

【0067】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテト
ラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソ
ルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオ
キシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレ
ートオリゴマー等がある。
Specific examples of the ester monomer of the aliphatic polyhydric alcohol compound and the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, and 1,3.
-Butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate 1,4-cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate , So Bi penta acrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer.

【0068】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリ
ルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキ
シ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。
Examples of methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, and 1,3-butanediol. Dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3- Methacryloxy-2-hi Rokishipuropokishi) phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

【0069】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコール
ジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネ
ート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビト
ールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エ
ステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネー
ト、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビ
トールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エ
ステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリ
エチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトール
ジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。
Examples of itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate,
There are 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate, sorbitol tetritaconate and the like. Crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, sorbitol tetradicrotonate and the like. Examples of the isocrotonic acid ester include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. Examples of the maleic acid ester include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

【0070】その他のエステルの例として、例えば、特
公昭46−27926、特公昭51−47334、特開
昭57−196231記載の脂肪族アルコール系エステ
ル類や、特開昭59−5240、特開昭59−524
1、特開平2−226149記載の芳香族系骨格を有す
るもの、特開平1−165613記載のアミノ基を含有
するもの等も好適に用いられる。さらに、前述のエステ
ルモノマーは混合物としても使用することができる。
Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-46-27926, JP-B-51-47334, and JP-A-57-196231, and JP-A-59-5240 and JP-A-59-5240. 59-524
1, those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used. Further, the above-mentioned ester monomers can be used as a mixture.

【0071】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例と
しては、特公昭54−21726記載のシクロへキシレ
ン構造を有すものをあげる事ができる。
Specific examples of the amide monomer of the aliphatic polyamine compound and the unsaturated carboxylic acid include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6- Hexamethylene bis-methacrylamide,
Examples include diethylenetriaminetrisacrylamide, xylylenebisacrylamide, xylylenebismethacrylamide, and the like. Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.

【0072】また、イソシアネートと水酸基の付加反応
を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適
であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭4
8−41708号公報中に記載されている1分子に2個
以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記一般式(I)で示される水酸基を含有する
ビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合
性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げら
れる。
A urethane-based addition-polymerizable compound produced by an addition reaction between an isocyanate and a hydroxyl group is also suitable.
JP-A-8-41708 discloses a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups per molecule, to which a hydroxyl-containing vinyl monomer represented by the following general formula (I) is added. Examples include vinyl urethane compounds containing two or more polymerizable vinyl groups.

【0073】 CH2=C(R14)COOCH2CH(R15)OH 一般式(I) (ただし、R14およびR15は、HまたはCH3を示
す。)
CH 2 CC (R 14 ) COOCH 2 CH (R 15 ) OH Formula (I) (where R 14 and R 15 represent H or CH 3 )

【0074】また、特開昭51−37193号、特公平
2−32293号、特公平2−16765号に記載され
ているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−
49860号、特公昭56−17654号、特公昭62
−39417、特公昭62−39418号記載のエチレ
ンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適で
ある。さらに、特開昭63−277653,特開昭63
−260909号、特開平1−105238号に記載さ
れる、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付
加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光
スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。
Further, urethane acrylates described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, and JP-B-2-16765, and
No. 49860, No. 56-17654, No. 62
Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable. Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-277653,
-260909 and JP-A-1-105238, by using an addition polymerizable compound having an amino structure or a sulfide structure in a molecule, a photopolymerizable composition having a very high photosensitive speed can be obtained. be able to.

【0075】その他の例としては、特開昭48−641
83号、特公昭49−43191号、特公昭52−30
490号、各公報に記載されているようなポリエステル
アクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を
反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリ
レートやメタクリレートを挙げることができる。また、
特公昭46−43946号、特公平1−40337号、
特公平1−40336号記載の特定の不飽和化合物や、
特開平2−25493号記載のビニルホスホン酸系化合
物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開
昭61−22048号記載のペルフルオロアルキル基を
含有する構造が好適に使用される。さらに日本接着協会
誌 vol. 20、No. 7、300〜308ページ(198
4年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介
されているものも使用することができる。
As another example, see JP-A-48-641.
No. 83, JP-B-49-43191, JP-B-52-30
No. 490, and polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid as described in each publication. Also,
JP-B-46-43946, JP-B-1-40337,
Specific unsaturated compounds described in JP-B-1-40336,
Vinyl phosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493 can also be mentioned. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Japan Adhesion Association Journal vol. 20, No. 7, pages 300-308 (198
(4 years) as photocurable monomers and oligomers can also be used.

【0076】これらの付加重合性化合物について、どの
様な構造を用いるか、単独で使用するか併用するか、添
加量はどうかといった、使用方法の詳細は、最終的な平
版印刷版用原版の性能設計にあわせて任意に設定でき
る。例えば、次のような観点から選択される。感光スピ
ードの点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が
好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、
画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官
能以上のものが良く、さらに、異なる官能数・異なる重
合性基(例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エス
テル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)の
ものを併用することで、感光性と強度の両方を調節する
方法も有効である。大きな分子量の化合物や疎水性の高
い化合物は、感光スピードや膜強度に優れる反面、現像
スピードや現像液中での析出といった点で好ましく無い
場合がある。また、感光層中の他の成分(例えばバイン
ダーポリマー、開始剤、着色剤等)との相溶性、分散性
に対しても、付加重合化合物の選択・使用法は重要な要
因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の
併用により相溶性を向上させうる事がある。また、前述
の中間層、後述のオーバーコート層等の密着性を向上せ
しめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。感
光層中の付加重合性化合物の配合比に関しては、多い方
が感度的に有利であるが、多すぎる場合には、好ましく
無い相分離が生じたり、感光層の粘着性による製造工程
上の問題(例えば、感光層成分の転写、粘着に由来する
製造不良)や、現像液からの析出が生じる等の問題を生
じうる。これらの観点から、好ましい配合比は、多くの
場合、感光層組成物全成分に対して5〜80重量%、好
ましくは25〜75重量%である。また、これらは単独
で用いても2種以上併用してもよい。そのほか、付加重
合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、
解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点か
ら適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、さらに
場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方
法も実施しうる。
Details of the method of using these addition-polymerizable compounds, such as what kind of structure is used, whether they are used alone or in combination, and how much is added, are based on the performance of the final lithographic printing plate precursor. Can be set arbitrarily according to the design. For example, it is selected from the following viewpoints. From the viewpoint of the photosensitive speed, a structure having a large unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or more functional structure is preferable. Also,
In order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, those having three or more functional groups are preferable, and further, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylates, methacrylates, styrene compounds, vinyl ether compounds). It is also effective to adjust both the photosensitivity and the intensity by using these in combination. A compound having a large molecular weight or a compound having high hydrophobicity is excellent in photosensitive speed and film strength, but may not be preferable in terms of developing speed and precipitation in a developing solution. Also, the selection and use of the addition polymerization compound is an important factor for compatibility and dispersibility with other components (for example, a binder polymer, an initiator, and a colorant) in the photosensitive layer. The compatibility may be improved by using a low-purity compound or by using two or more compounds in combination. In addition, a specific structure may be selected for the purpose of improving the adhesion of the above-mentioned intermediate layer, an overcoat layer described below, and the like. Regarding the compounding ratio of the addition polymerizable compound in the photosensitive layer, the larger the proportion, the more advantageous in sensitivity. However, if the ratio is too large, undesired phase separation occurs or a problem in the production process due to the stickiness of the photosensitive layer. (Eg, poor production resulting from transfer of the photosensitive layer components and adhesion) and problems such as precipitation from the developer. From these viewpoints, the preferred compounding ratio is, in many cases, from 5 to 80% by weight, and preferably from 25 to 75% by weight, based on all components of the photosensitive layer composition. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, the use of the addition-polymerizable compound depends on the degree of
From the viewpoints of resolution, fogging property, change in refractive index, surface tackiness, etc., an appropriate structure, blending and addition amount can be arbitrarily selected, and in some cases, a layer structure and a coating method such as undercoating and overcoating may be performed.

【0077】[(2)光重合開始剤]光重合開始剤とし
ては、使用する光源の波長により、特許、文献等で公知
である種々の光重合開始剤、または2種以上の光重合開
始剤の併用系(光重合開始系)を適宜選択して使用する
ことができる。可視光線、Arレーザー、半導体レーザ
ーの第2高調波、SHG−YAGレーザーを光源とする
場合には、種々の光重合開始剤(系)が提案されてお
り、例えば米国特許第2,850,445号に記載のあ
る種の光還元性染料、例えばローズべンガル、エオシ
ン、エリスロシンなど、あるいは染料と開始剤との組み
合わせによる系、例えば染料とアミンの複合開始系(特
公昭44−20189号)、ヘキサアリールビイミダゾ
ールとラジカル発生剤と染料との併用系(特公昭45−
37377号)、ヘキサアリールビイミダゾールとp−
ジアルキルアミノベンジリデンケトンの系(特公昭47
−2528号、特開昭54−155292号)、環状シ
ス−α−ジカルボニル化合物と染料の系(特開昭48−
84183号)、環状トリアジンとメロシアニン色素の
系(特開昭54−151024号)、3−ケトクマリン
と活性剤の系(特開昭52−112681号、特開昭5
8−15503号)、ビイミダゾール、スチレン誘導
体、チオールの系(特開昭59−140203号)、有
機過酸化物と色素の系(特開昭59−1504号、特開
昭59−140203号、特開昭59−189340
号、特開昭62−174203号、特公昭62−164
1号、米国特許第4766055号)、染料と活性ハロ
ゲン化合物の系(特開昭63−1718105号、特開
昭63−258903号、特願平2−63054号な
ど)、染料とボレート化合物の系(特開昭62−143
044号、特開昭62−150242号、特開昭64−
13140号、特開昭64−13141号、特開昭64
−13142号、特開昭64−13143号、特開昭6
4−13144号、特開昭64−17048号、特開平
1−229003号、特開平1−298348号、特開
平1−138204号など)、ローダニン環を有する色
素とラジカル発生剤の系(特開平2−179643号、
特開平2−244050号)、チタノセンと3−ケトク
マリン色素の系(特開昭63−221110号)、チタ
ノセンとキサンテン色素さらにアミノ基あるいはウレタ
ン基を含む付加重合可能なエチレン性不飽和化合物を組
み合わせた系(特開平4−221958号、特開平4−
219756号)、チタノセンと特定のメロシアニン色
素の系(特開平6−295061号)、チタノセンとベ
ンゾピラン環を有する色素の系(特開平8−33489
7号)等を挙げることができる。
[(2) Photopolymerization initiator] As the photopolymerization initiator, various photopolymerization initiators known in patents and literatures, or two or more photopolymerization initiators may be used depending on the wavelength of the light source used. Can be used by appropriately selecting a combination system (photopolymerization initiation system). When a visible light, an Ar laser, a second harmonic of a semiconductor laser, or an SHG-YAG laser is used as a light source, various photopolymerization initiators (systems) have been proposed. For example, US Pat. No. 2,850,445. Certain photoreducing dyes described in (1), for example, Rose Bengal, Eosin, Erythrosine and the like, or a system using a combination of a dye and an initiator, for example, a complex initiation system of a dye and an amine (Japanese Patent Publication No. 44-20189), A combination system of hexaarylbiimidazole, a radical generator and a dye (Japanese Patent Publication No. 45-
37377), hexaarylbiimidazole and p-
Dialkylaminobenzylidene ketone system
No. 2528, JP-A-54-155292), and a system of a cyclic cis-α-dicarbonyl compound and a dye (JP-A-48-155292).
84183), a system of a cyclic triazine and a merocyanine dye (Japanese Patent Application Laid-Open No. 54-151024), a system of a 3-ketocoumarin and an activator (Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 52-112681 and 5).
8-155503), a system of biimidazole, a styrene derivative, and a thiol (JP-A-59-140203), and a system of an organic peroxide and a dye (JP-A-59-1504, JP-A-59-140203). JP-A-59-189340
No., JP-A-62-174203, JP-B-62-164
No. 1, U.S. Pat. No. 4,766,055), a system of a dye and an active halogen compound (JP-A-63-1718105, JP-A-63-258903, Japanese Patent Application No. 2-63054), a system of a dye and a borate compound (Japanese Unexamined Patent Publication No. Sho 62-143)
No. 044, JP-A-62-150242, JP-A-64-142.
No. 13140, JP-A-64-13141, JP-A-64
-13142, JP-A-64-13143, JP-A-6-142
4-1144, JP-A-64-17048, JP-A-1-229003, JP-A-1-298348, JP-A-1-138204, etc., and a system comprising a dye having a rhodanine ring and a radical generator (JP-A-Hei. No. 2-196443,
JP-A-2-244050), a system of titanocene and 3-ketocoumarin dye (JP-A-63-221110), a combination of titanocene and a xanthene dye, and an addition-polymerizable ethylenically unsaturated compound containing an amino group or a urethane group. System (JP-A-4-221958, JP-A-4-221958)
No. 219756), a system of titanocene and a specific merocyanine dye (JP-A-6-295061), a system of titanocene and a dye having a benzopyran ring (JP-A-8-33489).
No. 7).

【0078】本発明の平版印刷版用原版の感光層におい
て、特に好ましい光重合開始剤(系)は、少なくとも1
種のチタノセンを含有する。本発明において光重合性開
始剤(系)として用いられるチタノセン化合物は、その
他の増感色素との共存下で光照射した場合、活性ラジカ
ルを発生し得るチタノセン化合物であればいずれであっ
てもよく、例えば、特開昭59−152396号、特開
昭61−151197号、特開昭63−41483号、
特開昭63−41484号、特開平2−249号、特開
平2−291号、特開平3−27393号、特開平3−
12403号、特開平6−41170号公報に記載され
ている公知の化合物を適宜に選択して用いることができ
る。
In the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention, at least one photopolymerization initiator (system) is preferably used.
Contains the species titanocene. The titanocene compound used as the photopolymerizable initiator (system) in the present invention may be any titanocene compound that can generate an active radical when irradiated with light in the presence of another sensitizing dye. For example, JP-A-59-152396, JP-A-61-151197, JP-A-63-41483,
JP-A-63-41484, JP-A-2-249, JP-A-2-291, JP-A-3-27393, JP-A-3-27
Known compounds described in JP-A-12403 and JP-A-6-41170 can be appropriately selected and used.

【0079】さらに具体的には、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニ
ル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル
−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフ
ェニ−1−イル(以下「T−1」ともいう。)、ジ−シ
クロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テ
トラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−
1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−
2,6−ジフルオロフエニ−1−イル、ジ−シクロペン
タジエニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフエニ−
1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビ
ス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフエニ−1−
イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−
2,3,5,6−テトラフルオロフエニ−1−イル、ジ
−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−
ジフルオロフエニ−1−イル、ビス(シクロペンタジエ
ニル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(ピル−1−
イル)フェニル)チタニウム(以下「T−2」ともい
う。)等を挙げることができる。
More specifically, di-cyclopentadienyl-Ti-di-chloride, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,3 4,5,6-pentafluorophenyl-1-yl (hereinafter also referred to as “T-1”), di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophenyl-1- Yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluorophenyl
1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-
2,6-difluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-difluorophenyl
1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophenyl-1-
Yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-
2,3,5,6-tetrafluorophenyl-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-
Difluorophenyl-1-yl, bis (cyclopentadienyl) -bis (2,6-difluoro-3- (pyr-1-
Yl) phenyl) titanium (hereinafter also referred to as “T-2”).

【0080】これらのチタノセン化合物は、さらに、感
光層の特性を改良するための様々な化学修飾を行うこと
も可能である。例えば、増感色素や、付加重合性不飽和
化合物その他のラジカル発生パートとの結合、親水性部
位の導入、相溶性向上、結晶析出抑制のための置換基導
入、密着性を向上させる置換基導入、ポリマー化等の方
法が利用できる。これらのチタノセン化合物の使用法に
関しても、先述の付加重合性化合物同様、平版印刷版用
原版の性能設計により適宜、任意に設定できる。例え
ば、2種以上併用することで、感光層への相溶性を高め
る事ができる。チタノセン化合物の使用量は通常多い方
が感光性の点で有利であり、感光層成分100重量部に
対し、0. 5〜80重量部、好ましくは1〜50重量部
の範囲で用いることで十分な感光性が得られる。一方、
本発明の主要な目的である、黄色等、白色灯化での使用
に際しては、500nm付近の光によるカブリ性の点か
らチタノセンの使用量は少ない事が好ましいが、その他
の増感色素との組み合わせによりチタノセンの使用量は
6重量部以下、さらに1.9重量部以下、さらには1.
4重量部以下にまで下げても十分な感光性を得ることが
できる。
These titanocene compounds can be further subjected to various chemical modifications to improve the properties of the photosensitive layer. For example, binding with sensitizing dyes, addition-polymerizable unsaturated compounds and other radical-generating parts, introduction of hydrophilic sites, improvement of compatibility, introduction of substituents for suppressing crystal precipitation, introduction of substituents for improving adhesion And methods such as polymerization. The method of using these titanocene compounds can be appropriately set as appropriate according to the performance design of the lithographic printing plate precursor, similarly to the above-mentioned addition polymerizable compound. For example, by using two or more kinds, the compatibility with the photosensitive layer can be enhanced. The larger the amount of the titanocene compound used, the more advantageous in terms of photosensitivity, and it is sufficient to use 0.5 to 80 parts by weight, preferably 1 to 50 parts by weight, per 100 parts by weight of the photosensitive layer component. High photosensitivity is obtained. on the other hand,
The main object of the present invention is to use a small amount of titanocene from the viewpoint of fogging due to light near 500 nm when used in white lighting such as yellow light, but in combination with other sensitizing dyes. , The amount of titanocene used is 6 parts by weight or less, further 1.9 parts by weight or less, more preferably 1.
Even if it is reduced to 4 parts by weight or less, sufficient photosensitivity can be obtained.

【0081】[(3)高分子バインダー]本発明の平版
印刷版用原版の感光層に使用する高分子バインダー(バ
インダーポリマーともいう)としては、線状有機高分子
重合体が好ましい。このような「線状有機高分子重合
体」としては、どれを使用しても構わない。好ましくは
水現像あるいは弱アルカリ水現像を可能とする水あるい
は弱アルカリ水可溶性または膨潤性である線状有機高分
子重合体が選択される。線状有機高分子重合体は、組成
物の皮膜形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水あ
るいは有機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用さ
れる。例えば、水可溶性有機高分子重合体を用いると水
現像が可能になる。このような線状有機高分子重合体と
しては、側鎖にカルボン酸基を有する付加重合体、例え
ば特開昭59−44615号、特公昭54−34327
号、特公昭58−12577号、特公昭54−2595
7号、特開昭54−92723号、特開昭59−538
36号、特開昭59−71048号に記載されているも
の、すなわち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重
合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレ
イン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等
がある。また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セ
ルロース誘導体がある。この他に水酸基を有する付加重
合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用であ
る。
[(3) Polymer Binder] As the polymer binder (also referred to as a binder polymer) used in the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention, a linear organic polymer is preferable. Any of such “linear organic high molecular polymers” may be used. Preferably, a water- or weakly alkaline water-soluble or swellable linear organic high molecular polymer that enables water development or weakly alkaline water development is selected. The linear organic high molecular polymer is selected and used not only as a film forming agent of the composition but also as a water, weakly alkaline water or organic solvent developing agent. For example, when a water-soluble organic high molecular polymer is used, water development becomes possible. Examples of such a linear organic high molecular polymer include addition polymers having a carboxylic acid group in a side chain, for example, JP-A-59-44615 and JP-B-54-34327.
No., JP-B-58-12577, JP-B-54-2595
7, JP-A-54-92723, JP-A-59-538.
No. 36, JP-A-59-71048, namely, methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, There are esterified maleic acid copolymers and the like. Similarly, there is an acidic cellulose derivative having a carboxylic acid group in the side chain. In addition, those obtained by adding a cyclic acid anhydride to an addition polymer having a hydroxyl group are useful.

【0082】特にこれらの中で〔ベンジル(メタ)アク
リレート/(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の
付加重合性ビニルモノマー〕共重合体および〔アリル
(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/必要に応
じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体は、
膜強度、感度、現像性のバランスに優れており、好適で
ある。また、特公平7−12004号、特公平7−12
0041号、特公平7−120042号、特公平8−1
2424号、特開昭63−287944号、特開昭63
−287947号、特開平1−271741号、特願平
10−116232号の明細書等に記載される、酸基を
含有するウレタン系バインダーポリマーは、非常に強度
に優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。
また特願平9−363195記載のアミド基を有するバ
インダーは、優れた現像性と膜強度とを併せ持ち好まし
い。
In particular, among these, [benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / optionally other addition-polymerizable vinyl monomers] copolymer and [allyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / Other addition-polymerizable vinyl monomers as needed) copolymer,
It is suitable because it has an excellent balance of film strength, sensitivity and developability. In addition, Japanese Patent Publication No. 7-12004, Japanese Patent Publication No. 7-12
No. 0041, No. 7-120042, No. 8-1
No. 2424, JP-A-63-287944, JP-A-63-287944
Urethane-based binder polymers containing an acid group described in JP-A-287947, JP-A-1-271741, Japanese Patent Application No. 10-116232 and the like have extremely high strength, and therefore have high printing durability and low printing durability. This is advantageous in terms of exposure suitability.
Further, the binder having an amide group described in Japanese Patent Application No. 9-363195 is preferable because it has both excellent developability and film strength.

【0083】さらにこの他に水溶性線状有機高分子とし
て、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等
が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアル
コール可溶性ナイロンや2,2−ビス−(4−ヒドロキ
シフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエ
ーテル等も有用である。
Further, as the water-soluble linear organic polymer, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide and the like are useful. In order to increase the strength of the cured film, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, and the like are also useful.

【0084】本発明において、最も好ましいバインダー
ポリマーは、それ自身が架橋性基(不飽和基ともいう)
およびカルボキシル基を側鎖に有し、且つ架橋性基(不
飽和基ともいう)が下記一般式〔II〕
In the present invention, the most preferred binder polymer is itself a crosslinkable group (also referred to as an unsaturated group).
And a carboxyl group in the side chain, and a crosslinkable group (also referred to as an unsaturated group) having the following general formula [II]

【0085】[0085]

【化14】 Embedded image

【0086】〔式中、R16〜R20は、水素、ハロゲノ、
カルボキシル、スルホ、ニトロ、シアノ、アミド、アミ
ノやそれぞれ置換基を有していてもよいアルキル、アリ
ール、アルコキシ、アリーロキシ、アルキルアミノ、ア
リールアミノ、環状アルキル、アルキルスルホニル、ア
リールスルホニルから選ばれた基であり、Lは酸素、硫
黄、NHまたはNR21(R21はアルキル基)から選ばれ
る〕で表わされるところに特徴がある。
Wherein R 16 to R 20 are hydrogen, halogeno,
A group selected from carboxyl, sulfo, nitro, cyano, amide, amino and optionally substituted alkyl, aryl, alkoxy, aryloxy, alkylamino, arylamino, cyclic alkyl, alkylsulfonyl, arylsulfonyl And L is selected from oxygen, sulfur, NH or NR 21 (R 21 is an alkyl group)].

【0087】なお、上記一般式〔II〕におけるR16〜R
20のアルキル基は、直鎖、分枝または環状であってもよ
く、炭素数1〜7のものが好ましく、これらのアルキル
基には更に炭素数1〜2のアルコキシ基、炭素数1〜3
のアルコキシカルボニル基、フェニル基、ヒドロキシ基
などの置換基を有していてもよく、R16〜R20のアリー
ル基としてはフェニル基、フリル基が好ましく、これに
はハロゲノ基(例えばクロロ、ブロモなど)、ヒドロキ
シ基、炭素数1〜7のアルキル基、アリール基(例えば
フェニル、メトキシフェニルなど)、炭素数1〜7個の
アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、N,N−ジアルキ
ルアミノ基などの置換基を有していてもよい。R16〜R
20のアルコキシ基としては炭素数1〜7のものが好まし
く、アリールオキシ基としてはフェニルオキシ基が好ま
しく、これには炭素数1〜7のアルキルもしくはアルコ
キシ基などの置換基を有していてもよい。R16〜R20
アルキルアミノ基としては、炭素数1〜15のものが好
ましく、アリールアミノ基としてはフェニルアミノ基、
ナフチルアミノ基が好ましい。R16〜R20のアルキルス
ルホニル基としては炭素数1〜15のものが好ましく、
アリールスルホニル基としてはフェニルスルホニル基な
どが好ましく、これには炭素数1〜15のアルキル基、
炭素数1〜5のアルコキシ基、アミノ基などの置換基を
有していてもよい。
In the above general formula [II], R 16 to R 16
The 20 alkyl groups may be linear, branched or cyclic, and preferably have 1 to 7 carbon atoms. These alkyl groups further include an alkoxy group having 1 to 2 carbon atoms and 1 to 3 carbon atoms.
May have a substituent such as an alkoxycarbonyl group, a phenyl group, or a hydroxy group. As the aryl group of R 16 to R 20, a phenyl group or a furyl group is preferable. ), A hydroxy group, an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, an aryl group (for example, phenyl, methoxyphenyl, etc.), an alkoxy group having 1 to 7 carbon atoms, a nitro group, an amino group, an N, N-dialkylamino group, and the like. May have a substituent. R 16 to R
The alkoxy group having 20 is preferably a group having 1 to 7 carbon atoms, and the aryloxy group is preferably a phenyloxy group, which may have a substituent such as an alkyl or alkoxy group having 1 to 7 carbon atoms. Good. As the alkylamino group for R 16 to R 20 , those having 1 to 15 carbon atoms are preferable, and as the arylamino group, a phenylamino group,
A naphthylamino group is preferred. As the alkylsulfonyl group for R 16 to R 20 , those having 1 to 15 carbon atoms are preferable,
As the arylsulfonyl group, a phenylsulfonyl group and the like are preferable, and these include an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms,
It may have a substituent such as an alkoxy group or an amino group having 1 to 5 carbon atoms.

【0088】更に本発明の平版印刷版用原版の感光層の
バインダーとして用いられる、架橋性基を側鎖に有する
ポリマーは、米国特許第3,376,138号、第3,
556,792号、第3,556,793号各明細書に
より公知であるが、開示されているポリマーは、ポリマ
ーそのものが、光架橋性レジストとして使われており、
本発明の平版印刷版用原版の感光層組成物のバインター
としての使用方法とは明白な相異がある。
Further, the polymer having a crosslinkable group in the side chain, which is used as a binder for the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention, is disclosed in US Pat.
Nos. 556,792 and 3,556,793, each of which is disclosed in the specification. As for the disclosed polymer, the polymer itself is used as a photocrosslinkable resist,
There is a clear difference from the method of using the photosensitive layer composition of the lithographic printing plate precursor according to the invention as a binder.

【0089】上記ポリマーの合成方法には、大別して次
の2つの方法がある。 (A法):カルボン酸、カルボン酸ハライド、カルボン
酸無水物基を側鎖として有する幹ポリマーに対して、下
記一般式〔II−a〕
The methods for synthesizing the above polymers are roughly classified into the following two methods. (Method A): For a backbone polymer having a carboxylic acid, a carboxylic acid halide, or a carboxylic anhydride group as a side chain, the following general formula [II-a]

【0090】[0090]

【化15】 Embedded image

【0091】〔式中、R16〜R20は一般式〔II〕の場合
と同義であり、MはOH、−SH、−NH2、−NHR
21(R21はアルキル基)またはハロゲン原子を示す。〕
で示される化合物を高分子反応させて、下記一般式〔II
−b〕
Wherein R 16 to R 20 have the same meanings as in formula [II], and M is OH, —SH, —NH 2 , —NHR
21 (R 21 is an alkyl group) or a halogen atom. ]
The polymer represented by the following general formula [II
-B]

【0092】[0092]

【化16】 Embedded image

【0093】(式中、R16〜R20は一般式〔II〕の場合
と同義)で示される架橋性基を−COO−、−COS
−、−CONH−または−CONR21−(R21はアルキ
ル基)の各連結基を介して導入する方法。 (B法):前記一般式〔II〕で示される架橋性基とさら
に該架橋性基よりも付加重合反応性に富んだエチレン性
不飽和基とを有するモノマーを不飽和カルボン酸と共重
合させて、ポリマーを得る方法。
(Wherein R 16 to R 20 have the same meanings as in the case of the general formula [II]).
-, - CONH-, or -CONR 21 - method (R 21 is an alkyl group) is introduced through each linking group. (Method B): A monomer having a crosslinkable group represented by the general formula [II] and an ethylenically unsaturated group having a higher addition polymerization reactivity than the crosslinkable group is copolymerized with an unsaturated carboxylic acid. To obtain a polymer.

【0094】上記A法をさらに詳しく示すと、幹ポリマ
ーとしてはアクリル酸又はメタアクリル酸の共重合体お
よび当該共重合体を高分子反応により酸ハロゲン化物と
した共重合体が挙げられる。また、マレイン酸無水物、
イタコン酸無水物等の共重合体が挙げられる。共重合す
るコモノマーとしては、スチレンまたはそのアルキル置
換誘導体、アクリル酸アルキルエステル、アクリル酸ア
リールエステル、メタクリル酸アルキルエステル、メタ
クリル酸アリールエステル、または脂肪族ビニルエステ
ルが挙げられる。好ましくはアクリル酸またはメタアク
リル酸とアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリ
ル酸ブチル、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸メチ
ル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタク
リル酸ベンジルとの共重合体が挙げられる。これらの共
重合体に架橋性基を導入するには一般式〔II−a〕で示
される架橋性アルコール、アミン、チオール、ハロゲン
化物を所定反応条件下、反応溶媒中に前述の共重合体と
混合溶解し、反応触媒および重合禁止剤とを加え加熱す
ることによつて得られる。具体的にはメタクリル酸とメ
タクリル酸ベンジルの共重合体を例にとって以下に示
す。
When the method A is described in more detail, examples of the trunk polymer include a copolymer of acrylic acid or methacrylic acid and a copolymer in which the copolymer is an acid halide by a polymer reaction. Also, maleic anhydride,
And copolymers such as itaconic anhydride. Examples of the comonomer to be copolymerized include styrene or an alkyl-substituted derivative thereof, an alkyl acrylate, an aryl acrylate, an alkyl methacrylate, an aryl methacrylate, or an aliphatic vinyl ester. Preferred are copolymers of acrylic acid or methacrylic acid with methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, benzyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, and benzyl methacrylate. In order to introduce a crosslinkable group into these copolymers, a crosslinkable alcohol, amine, thiol, or halide represented by the general formula [II-a] is mixed with the above-described copolymer in a reaction solvent under predetermined reaction conditions. It is obtained by mixing and dissolving, adding a reaction catalyst and a polymerization inhibitor, and heating. Specifically, a copolymer of methacrylic acid and benzyl methacrylate is shown below as an example.

【0095】攪拌棒および攪拌羽根、還流冷却器および
温度計を備えつけた300mlの三つ口フラスコ中にポ
リ(メタクリル酸/メタクリル酸ベンジル=27/73
モル比)19.8g、反応溶媒として酢酸エチレングリ
コールモノメチルエーテルを40.2g、架橋性基を含
有する試薬としてアリル臭素化物6.0g、触媒として
トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド10.4
gおよび重合禁止剤としてパラメトキシフェノール0.
01gを加え混合溶解し、窒素雰囲気下70℃にて13
時間加熱攪拌を行った。冷却後メチルエチルケトンを加
え遊離する四級塩を除去する。さらにメタノールを加え
て希釈し希塩酸中に注いで沈殿させる。水洗した後吸引
濾過し、真空乾燥させると得られるポリマーの収量は1
3.6gであった。アリル基は幹ポリマーのカルボン酸
に対して35%導入された。このとき粘度は30℃のメ
チルエチルケトンで〔η〕=0.161であった。
Poly (methacrylic acid / benzyl methacrylate = 27/73) was placed in a 300 ml three-necked flask equipped with a stirring rod and stirring blades, a reflux condenser and a thermometer.
19.8 g), 40.2 g of ethylene glycol monomethyl ether acetate as a reaction solvent, 6.0 g of allyl bromide as a reagent containing a crosslinkable group, and 10.4 g of trimethylbenzylammonium hydroxide as a catalyst.
g of paramethoxyphenol and 0.1 g of paramethoxyphenol as a polymerization inhibitor.
And mixed and dissolved at 70 ° C. in a nitrogen atmosphere.
Heating and stirring were performed for hours. After cooling, methyl ethyl ketone is added to remove free quaternary salts. Further, the mixture is diluted with methanol and poured into dilute hydrochloric acid to precipitate. After washing with water, suction filtration and vacuum drying, the yield of the polymer obtained is 1
It was 3.6 g. Allyl groups were introduced at 35% relative to the carboxylic acid of the backbone polymer. At this time, the viscosity was [η] = 0.161 for methyl ethyl ketone at 30 ° C.

【0096】無水マレイン酸の共重合体に該架橋性基を
導入する合成例は米国特許第2,047,398号明細
書に記載された方法で行なうことができ、これにより無
水マレイン酸部が開環した不飽和エステル、アミド、チ
オエステル等が導入される。なお、無水マレイン酸共重
体への架橋性基の導入方法としては、特開昭48−82
902号公報に記載の類似例が挙げられるが、この方法
による架橋性基はマレイン酸イミドの窒素原子に結合し
ており、明白に前述のポリマーとは異なった化合物であ
り、本発明に使用される架橋性基を側鎖に有するポリマ
ーとは区別される。
A synthesis example in which the crosslinkable group is introduced into a copolymer of maleic anhydride can be carried out by the method described in US Pat. No. 2,047,398, whereby the maleic anhydride moiety is formed. A ring-opened unsaturated ester, amide, thioester or the like is introduced. As a method for introducing a crosslinkable group into a maleic anhydride copolymer, JP-A-48-82
No. 902, there is a similar example, but the crosslinkable group by this method is bonded to the nitrogen atom of maleic imide, and is clearly a compound different from the above-mentioned polymer, and is used in the present invention. Polymer having a crosslinkable group in the side chain.

【0097】一方、B法をさらに詳しく示すと、該架橋
性基を有する少なくとも2つ以上の炭素−炭素二重結合
を含むモノマーは、既知合成法により該架橋性基を有す
るアルコール、アミン、チオールと不飽和カルボン酸、
好ましくはアクリル酸またはメタクリル酸との縮合反応
により合成される。この少なくとも2つ以上の不飽和基
を含むモノマーを不飽和カルボン酸、好ましくはアクリ
ル酸またはメタクリル酸と共重合させることにより該架
橋性基を有する共重合体を得る。共重合するモノマー
は、不飽和カルボン酸に付け加えてさらに他のモノマー
が共重合されてもよく、例えばアクリル酸アルキル、メ
タクリル酸アルキル、メタクリル酸べンジル、メタクリ
ル酸−2−ヒドロキシエチル、アクリロニトリル等が挙
げられる。
On the other hand, the method B is described in more detail. The monomer containing at least two carbon-carbon double bonds having a crosslinkable group can be prepared by a known synthesis method using an alcohol, amine, thiol or the like having the crosslinkable group. And unsaturated carboxylic acids,
Preferably, it is synthesized by a condensation reaction with acrylic acid or methacrylic acid. By copolymerizing the monomer containing at least two or more unsaturated groups with an unsaturated carboxylic acid, preferably acrylic acid or methacrylic acid, a copolymer having the crosslinkable group is obtained. The monomer to be copolymerized may be further copolymerized with another monomer in addition to the unsaturated carboxylic acid, for example, alkyl acrylate, alkyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, acrylonitrile, and the like. No.

【0098】以下、メタクリル酸アリルとメタクリル酸
との共重合例を示す。類似の合成法として、米国特許第
2,047,398号明細書に記載の方法が挙げられ
る。攪拌棒および攪拌羽根、還流冷却器、滴下漏斗およ
び温度計を設置した3リットルの4口フラスコに反応溶
媒として1,2−ジクロルエタン1.68リットルを入
れ窒素置換しながら70℃に加熱した。滴下漏斗にメタ
クリル酸アリル100.8g、メタクリル酸7.6gお
よび重合開始剤として2,2'−アゾビス(2,4−ジ
メチルバレロニトリル)1.68gを0.44リットル
の1,2−ジクロルエタンに溶解して入れておき、2時
間かけてこの混合溶液をフラスコ中に攪拌しながら滴下
した。滴下終了後さらに反応温度70℃で5時間攪拌し
反応を完結した。加熱終了後重合禁止剤としてパラメト
キシフェノール0.04gを加え反応溶液を500ml
まで濃縮し、この濃縮液を4リットルのヘキサンに加え
て沈殿させ、真空乾燥後61g(収率56%)の共重合
ポリマーを得た。このとき粘度は30℃のメチルエチル
ケトンで〔η〕=0.068であった。
Hereinafter, examples of copolymerization of allyl methacrylate and methacrylic acid will be described. A similar synthetic method includes the method described in U.S. Pat. No. 2,047,398. 1.68 l of 1,2-dichloroethane as a reaction solvent was placed in a 3-liter 4-neck flask equipped with a stirring rod and a stirring blade, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer, and heated to 70 ° C while purging with nitrogen. In a dropping funnel, 100.8 g of allyl methacrylate, 7.6 g of methacrylic acid, and 1.68 g of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as a polymerization initiator were added to 0.44 liter of 1,2-dichloroethane. The mixed solution was dropped into the flask over 2 hours with stirring. After completion of the dropwise addition, the mixture was further stirred at a reaction temperature of 70 ° C. for 5 hours to complete the reaction. After completion of the heating, 0.04 g of paramethoxyphenol was added as a polymerization inhibitor, and 500 ml of the reaction solution was added.
The concentrated liquid was added to 4 liters of hexane to precipitate, and dried under vacuum to obtain 61 g (yield 56%) of a copolymer. At this time, the viscosity was [η] = 0.068 in methyl ethyl ketone at 30 ° C.

【0099】前記一般式〔II−a〕で示される代表的な
化合物は、アリルアルコール、2−メチルアリルアルコ
ール、クロチルアルコール、3−クロル−2−プロペン
−1−オール、3−フェニル−2−プロペン−1−オー
ル、3−(ヒドロキシフェニル)−2−プロペン−1−
オール、3−(2−ヒドロキシフェニル)−2−プロペ
ン−1−オール、3−(3,4−ジヒドロキシフエニ
ル)−2−プロペン−1−オール、3−(2,4−ジヒ
ドロキシフェニル−2−プロペン−1−オール、3−
(3,4,5−トリヒドロキシフェニル)−2−プロペ
ン−1−オール、3−(3−メトキシ−4−ヒドロキシ
フエニル)−2−プロペン−1−オール、3−(3,4
−ジヒドロキシ−5−メトキシフェニル)−2−プロペ
ン−1−オール、3−(3,5−ジメトキシ−4−ヒド
ロキシフェニル)−2−プロペン−1−オール、3−
(2−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)−2−プロペ
ン−1−オール、3−(4−メトキシフェニル)−2−
プロペン−1−オール、3−(4−エトキシフェニル)
−2−プロペン−1−オール、3−(2−メトキシフェ
ニル)−2−プロペン−1−オール、3−(3,4−ジ
メトキシフェニル)−2−プロペン−1−オール、3−
(3−メトキシ−4−プロポキシフェニル)−2−プロ
ペン−1−オール、
Representative compounds represented by the general formula [II-a] include allyl alcohol, 2-methylallyl alcohol, crotyl alcohol, 3-chloro-2-propen-1-ol, and 3-phenyl-2. -Propen-1-ol, 3- (hydroxyphenyl) -2-propen-1-
All, 3- (2-hydroxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3,4-dihydroxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (2,4-dihydroxyphenyl-2 -Propen-1-ol, 3-
(3,4,5-trihydroxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3-methoxy-4-hydroxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3,4
-Dihydroxy-5-methoxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3,5-dimethoxy-4-hydroxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3-
(2-hydroxy-4-methylphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (4-methoxyphenyl) -2-
Propen-1-ol, 3- (4-ethoxyphenyl)
-2-propen-1-ol, 3- (2-methoxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3,4-dimethoxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3-
(3-methoxy-4-propoxyphenyl) -2-propen-1-ol,

【0100】3−(2,4,6−トリメトキシフェニ
ル)−2−プロペン−1−オール、3−(3−メトキシ
−4−ベンジルオキシフェニル)−2−プロペン−1−
オール、3−1−(3'−メトキシフェニル)−4−ベ
ンジルオキシフェニル)−2−プロペン−1−オール、
3−フェノキシ−3−フェニル−2−プロペン−1−オ
ール、3−(3,4,5−トリメトキシフェニル)−2
−プロペン−1−オール、3−(4−メチルフェニル)
−2−プロペン−1−オール、3−フェニル−3−
(2,4,6−トリメチルフェニル)−2−プロペン−
1−オール、3,3−{ジ−(2,4,6−トリメチル
フェニル)}−2−プロペン−1−オール、3−フェニ
ル−3−(4−メチルフェニル)−2−プロペン−1−
オール、3,3−ジフェニル−2−プロペン−1−オー
ル、3−(2−クロルフェニル)−2−プロペン−1−
オール、3−(3−クロルフェニル)−2−プロペン−
1−オール、3−(4−クロルフェニル)−2−プロペ
ン−1−オール、3−(2,4−ジクロルフェニル)−
2−プロペン−1−オール、3−(2−ブロムフェニ
ル)−2−プロペン−1−オール、3−ブロム−3−フ
ェニル−2−プロペン−1−オール、3−クロル−3−
フェニル−2−プロペン−1−オール、3−(4−ニト
ロフェニル)−2−プロペン−1−オール、
3- (2,4,6-trimethoxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3-methoxy-4-benzyloxyphenyl) -2-propen-1-
All, 3-1- (3′-methoxyphenyl) -4-benzyloxyphenyl) -2-propen-1-ol,
3-phenoxy-3-phenyl-2-propen-1-ol, 3- (3,4,5-trimethoxyphenyl) -2
-Propen-1-ol, 3- (4-methylphenyl)
-2-propen-1-ol, 3-phenyl-3-
(2,4,6-trimethylphenyl) -2-propene-
1-ol, 3,3- {di- (2,4,6-trimethylphenyl)}-2-propen-1-ol, 3-phenyl-3- (4-methylphenyl) -2-propen-1-
All, 3,3-diphenyl-2-propen-1-ol, 3- (2-chlorophenyl) -2-propen-1-
All, 3- (3-chlorophenyl) -2-propene-
1-ol, 3- (4-chlorophenyl) -2-propen-1-ol, 3- (2,4-dichlorophenyl)-
2-propen-1-ol, 3- (2-bromophenyl) -2-propen-1-ol, 3-bromo-3-phenyl-2-propen-1-ol, 3-chloro-3-
Phenyl-2-propen-1-ol, 3- (4-nitrophenyl) -2-propen-1-ol,

【0101】3−(2−ニトロフェニル)−2−プロペ
ン−1−オール、3−(3−ニトロフェニル)−2−プ
ロペン−1−オール、2−メチル−3−フェニル−2−
プロペン−1−オール、2−メチル−3−(4−クロル
フェニル)−2−プロペン−1−オール、2−メチル−
3−(4−ニトロフェニル)−2−プロペン−1−オー
ル、2−メチル−3−(4−アミノフェニル)−2−プ
ロペン−1−オール、2−メチル−3,3−ジフェニル
−2−プロペン−1−オール、2−エチル−1,3−ジ
フェニル−2−プロペン−1−オール、2−エトキシメ
チレン−3−フェニル−2−プロペン−1−オール、2
−フェノキシ−3−フェニル−2−プロペン−1−オー
ル、2−メチル−3−(4−メトキシフェニル)−2−
プロペン−1−オール、2,3−ジフェニル−2−プロ
ペン−1−オール、1,2,3−トリフェニル−2−プ
ロペン−1−オール、2,3,3−トリフェニル−2−
プロペン−1−オール、2−エトキシ−3−フェニル−
2−プロペン−1−オール、1,3−ジフェニル−2−
プロペン−1−オール、1−(4−メチルフェニル)−
3−フェニル−2−プロペン−1−オール、1−フェニ
ル−3−(4−メチルフェニル)−2−プロペン−1−
オール、1−フェニル−3−(4−メトキシフェニル)
−2−プロペン−1−オール、1−(4−メトキシフェ
ニル)−3−フェニル−2−プロペン−1−オール、
3- (2-nitrophenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3-nitrophenyl) -2-propen-1-ol, 2-methyl-3-phenyl-2-ol
Propen-1-ol, 2-methyl-3- (4-chlorophenyl) -2-propen-1-ol, 2-methyl-
3- (4-nitrophenyl) -2-propen-1-ol, 2-methyl-3- (4-aminophenyl) -2-propen-1-ol, 2-methyl-3,3-diphenyl-2- Propen-1-ol, 2-ethyl-1,3-diphenyl-2-propen-1-ol, 2-ethoxymethylene-3-phenyl-2-propen-1-ol, 2
-Phenoxy-3-phenyl-2-propen-1-ol, 2-methyl-3- (4-methoxyphenyl) -2-
Propen-1-ol, 2,3-diphenyl-2-propen-1-ol, 1,2,3-triphenyl-2-propen-1-ol, 2,3,3-triphenyl-2-
Propen-1-ol, 2-ethoxy-3-phenyl-
2-propen-1-ol, 1,3-diphenyl-2-
Propen-1-ol, 1- (4-methylphenyl)-
3-phenyl-2-propen-1-ol, 1-phenyl-3- (4-methylphenyl) -2-propen-1-
All, 1-phenyl-3- (4-methoxyphenyl)
-2-propen-1-ol, 1- (4-methoxyphenyl) -3-phenyl-2-propen-1-ol,

【0102】1,3−ジ(4−クロルフェニル)−2−
プロペン−1−オール、1−(4−ブロムフェニル)−
3−フェニル−2−プロペン−1−オール、1−フェニ
ル−3−(4−ニトロフェニル)−2−プロペン−1−
オール、1,3−ジ(2−ニトロフェニル)−2−プロ
ペン−1−オール、1−(4−ジメチルアミノフェニ
ル)−3−フェニル−2−プロペン−1−オール、1−
フェニル−3−(4−ジメチルアミノフェニル)−2−
プロペン−1−オール、1,1−ジ(4−ジメチルアミ
ノフェニル)−3−フェニル−2−プロペン−1−オー
ル、1,1,3−トリフェニル−2−プロペン−1−オ
ール、1,1,3,3−テトラフェニル−2−プロペン
−1−オール、1−(4−メチルフェニル)−3−フェ
ニル−2−プロペン−1−オール、1−(ドデシルスル
ホニル)−3−フェニル−2−プロペン−1−オール、
1−フェニル−2−プロペン−1−オール、1,2−ジ
フェニル−2−プロペン−1−オール、1−フェニル−
2−メチル−2−プロペン−1−オール、1−シクロへ
キシル−2−プロペン−1−オール、1−フェノキシ−
2−プロペン−1−オール、2−ベンジル−2−プロペ
ン−1−オール、1,1−ジ(4−クロルフェニル)−
2−プロペン−1−オール、1−カルボキシ−2−プロ
ペン−1−オール、
1,3-di (4-chlorophenyl) -2-
Propen-1-ol, 1- (4-bromophenyl)-
3-phenyl-2-propen-1-ol, 1-phenyl-3- (4-nitrophenyl) -2-propen-1-
All, 1,3-di (2-nitrophenyl) -2-propen-1-ol, 1- (4-dimethylaminophenyl) -3-phenyl-2-propen-1-ol, 1-
Phenyl-3- (4-dimethylaminophenyl) -2-
Propen-1-ol, 1,1-di (4-dimethylaminophenyl) -3-phenyl-2-propen-1-ol, 1,1,3-triphenyl-2-propen-1-ol, 1, 1,3,3-tetraphenyl-2-propen-1-ol, 1- (4-methylphenyl) -3-phenyl-2-propen-1-ol, 1- (dodecylsulfonyl) -3-phenyl-2 -Propen-1-ol,
1-phenyl-2-propen-1-ol, 1,2-diphenyl-2-propen-1-ol, 1-phenyl-
2-methyl-2-propen-1-ol, 1-cyclohexyl-2-propen-1-ol, 1-phenoxy-
2-propen-1-ol, 2-benzyl-2-propen-1-ol, 1,1-di (4-chlorophenyl)-
2-propen-1-ol, 1-carboxy-2-propen-1-ol,

【0103】1−カルボキシアミド−2−プロペン−1
−オール、1−シアノ−2−プロペン−1−オール、1
−スルホ−2−プロペン−1−オール、2−エトキシ−
2−プロペン−1−オール、2−アミノ−2−プロペン
−1−オール、3−(3−アミノ−4−メトキシフェニ
ルスルホニル)−2−プロペン−1−オール、3−(4
−メチルフェニルスルホニル)−2−プロペン−1−オ
ール、3−フェニルスルホニル−2−プロペン−1−オ
ール、3−ベンジルスルホニル−2−プロペン−1−オ
ール、3−アニリノスルホニル−2−プロペン−1−オ
ール、3−(4−メトキシアニリノスルホニル)−2−
プロペン−1−オール、3−アニリノ−2−プロペン−
1−オール、3−ナフチルアミノ−2−プロペン−1−
オール、3−フェノキシ−2−プロペン−1−オール、
3−(2−メチルフェニル)−2−プロペン−1−オー
ル、3−(3−メチルフェノキシ)−2−プロペン−1
−オール、3−(2,4−ジメチルフェニル)−2−プ
ロペン−1−オール、1−メチル−3−カルボキシ−2
−プロペン−1−オール、3−カルボキシ−2−プロペ
ン−1−オール、3−ブロム−3−カルボキシ−2−プ
ロペン−1−オール、1−カルボキシ−3−クロル−3
−メチル−2−プロペン−1−オール、1−カルボキシ
−3−メチル−2−プロペン−1−オール、
1-carboxamido-2-propene-1
-Ol, 1-cyano-2-propen-1-ol, 1
-Sulfo-2-propen-1-ol, 2-ethoxy-
2-propen-1-ol, 2-amino-2-propen-1-ol, 3- (3-amino-4-methoxyphenylsulfonyl) -2-propen-1-ol, 3- (4
-Methylphenylsulfonyl) -2-propen-1-ol, 3-phenylsulfonyl-2-propen-1-ol, 3-benzylsulfonyl-2-propen-1-ol, 3-anilinosulfonyl-2-propene- 1-ol, 3- (4-methoxyanilinosulfonyl) -2-
Propen-1-ol, 3-anilino-2-propene-
1-ol, 3-naphthylamino-2-propene-1-
All, 3-phenoxy-2-propen-1-ol,
3- (2-methylphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3-methylphenoxy) -2-propen-1
-Ol, 3- (2,4-dimethylphenyl) -2-propen-1-ol, 1-methyl-3-carboxy-2
-Propen-1-ol, 3-carboxy-2-propen-1-ol, 3-bromo-3-carboxy-2-propen-1-ol, 1-carboxy-3-chloro-3
-Methyl-2-propen-1-ol, 1-carboxy-3-methyl-2-propen-1-ol,

【0104】1−(2−カルベトキシイソプロピル)−
3−メチル−2−プロペン−1−オール、1−(1−カ
ルベトキシプロピル)−2−プロペン−1−オール、1
−(1−カルベトキシエチル)−3−メチル−2−プロ
ペン−1−オール、1−カルベトキシ−3−クロル−3
−メチル−2−プロペン−1−オール、1−カルベトキ
シメチレン−3−メチル−2−プロペン−1−オール、
1−アミド−2,3−ジメチル−2−プロペン−1−オ
ール、1−シアノ−3−メチル−2−プロペン−1−オ
ール、3−スルホ−2−プロペン−1−オール、3−ブ
トキシ−2−プロペン−1−オール、1−シクロへキシ
ル−3−(2−ヒドロキシシクロへキシル)−2−プロ
ペン−1−オール、3−シクロベンジル−2−プロペン
−1−オール、3−フリル−2−プロペン−1−オー
ル、3−クロム−2−プロペン−1−オール、3−ブロ
ム−2−プロペン−1−オール、2−メチル−3−クロ
ル−2−プロペン−1−オール、2−メチル−3−ブロ
ム−2−プロペン−1−オール、1−カルボイソブトキ
シ−3−クロル−3−メチル−2−プロペン−1−オー
ル、2−クロル−3−フェニル−2−プロペン−1−オ
ール(2−クロルシンナミルアルコール)、2−ブロム
−3−フェニル−2−プロペン−1−オール(2−ブロ
ムシンナミルアルコール)、
1- (2-carbethoxyisopropyl)-
3-methyl-2-propen-1-ol, 1- (1-carbethoxypropyl) -2-propen-1-ol,
-(1-carbethoxyethyl) -3-methyl-2-propen-1-ol, 1-carbethoxy-3-chloro-3
-Methyl-2-propen-1-ol, 1-carbethoxymethylene-3-methyl-2-propen-1-ol,
1-amido-2,3-dimethyl-2-propen-1-ol, 1-cyano-3-methyl-2-propen-1-ol, 3-sulfo-2-propen-1-ol, 3-butoxy- 2-propen-1-ol, 1-cyclohexyl-3- (2-hydroxycyclohexyl) -2-propen-1-ol, 3-cyclobenzyl-2-propen-1-ol, 3-furyl- 2-propen-1-ol, 3-chrom-2-propen-1-ol, 3-bromo-2-propen-1-ol, 2-methyl-3-chloro-2-propen-1-ol, 2- Methyl-3-bromo-2-propen-1-ol, 1-carboisobutoxy-3-chloro-3-methyl-2-propen-1-ol, 2-chloro-3-phenyl-2-propen-1- Oar (2-chlorosi Cinnamyl alcohol), 2-bromo-3-phenyl-2-propen-1-ol (2-bromo cinnamyl alcohol),

【0105】2−ブロム−3−(4−ニトロフェニル)
−2−プロペン−1−オール、2−フルオロ−3−フェ
ニル−2−プロペン−1−オール(2−フルオロシンナ
ミルアルコール)、2−フルオロ−3−(4−メトキシ
フェニル)−2−プロペン−1−オール、2−ニトロ−
3−クロル−3−フェニル−2−プロペン−1−オー
ル、2−ニトロ−3−フェニル−2−プロペン−1−オ
ール(2−ニトロシンナミルアルコール)、2−シアノ
−3−フェニル−2−プロペン−1−オール(2−シア
ノシンナミルアルコール)、2−クロル−2−プロペン
−1−オール(2−クロルアリルアルコール)、2−ブ
ロム−2−プロペン−1−オール(2−ブロムアリルア
ルコール)、2−カルボキシ−2−プロペン−1−オー
ル(2−カルボキシアリルアルコール)、2−カルベト
キシ−2−プロペン−1−オール(2−カルベトキシア
リルアルコール)、2−スルホン酸−2−プロペン−1
−オール(2−スルホン酸アリルアルコール)、2−ニ
トロ−2−プロペン−1−オール(2−ニトロアリルア
ルコール)、2−ブロム−3,3−ジフルオロ−2−プ
ロペン−1−オール、2−クロル−3,3−ジフルオロ
−2−プロペン−1−オール、2−フルオロ−3−クロ
ル−2−プロペン−1−オール、2,3−ジブロム−3
−カルボキシ−2−プロペン−1−オール、
2-bromo-3- (4-nitrophenyl)
-2-propen-1-ol, 2-fluoro-3-phenyl-2-propen-1-ol (2-fluorocinnamyl alcohol), 2-fluoro-3- (4-methoxyphenyl) -2-propene- 1-ol, 2-nitro-
3-chloro-3-phenyl-2-propen-1-ol, 2-nitro-3-phenyl-2-propen-1-ol (2-nitrocinnamyl alcohol), 2-cyano-3-phenyl-2-ol Propen-1-ol (2-cyanocinnamyl alcohol), 2-chloro-2-propen-1-ol (2-chloroallyl alcohol), 2-bromo-2-propen-1-ol (2-bromoallyl alcohol) ), 2-carboxy-2-propen-1-ol (2-carboxyallyl alcohol), 2-carbethoxy-2-propen-1-ol (2-carbethoxyallyl alcohol), 2-sulfonic acid-2-propene- 1
2-ol (allyl alcohol 2-sulfonate), 2-nitro-2-propen-1-ol (2-nitroallyl alcohol), 2-bromo-3,3-difluoro-2-propen-1-ol, 2- Chlor-3,3-difluoro-2-propen-1-ol, 2-fluoro-3-chloro-2-propen-1-ol, 2,3-dibromo-3
-Carboxy-2-propen-1-ol,

【0106】2,3−ジヨード−3−カルボキシ−2−
プロペン−1−オール、2,3−ジブロム−2−プロペ
ン−1−オール、2−クロル−3−メチル−2−プロペ
ン−1−オールが挙げられる。また上記具体例におい
て、1位のアルコールをチオアルコールやアミン、ハロ
ゲンで置き換えた化合物も勿論使用できる。ポリマー中
の架橋性基含有量の好ましい範囲はそれぞれ共重合モル
比で、10〜90モル%、5〜60モル%、より好まし
い範囲は20〜70モル%、10〜40モル%である。
2,3-diiodo-3-carboxy-2-
Examples include propen-1-ol, 2,3-dibromo-2-propen-1-ol, and 2-chloro-3-methyl-2-propen-1-ol. In the above specific examples, a compound in which the alcohol at the 1-position is replaced with a thioalcohol, an amine or a halogen can of course be used. The preferable range of the crosslinkable group content in the polymer is 10 to 90 mol% and 5 to 60 mol%, respectively, and the more preferable range is 20 to 70 mol% and 10 to 40 mol% in copolymerization molar ratio.

【0107】これらの有機高分子重合体は感光層成分の
全組成中に任意な量を混和させることができる。しかし
90重量%を超える場合には形成される画像強度等の点
で好ましい結果を与えない。好ましくは10〜90%、
より好ましくは30〜80%である。また光重合可能な
エチレン性不飽和化合物と有機高分子重合体は、重量比
で1/9〜9/1の範囲とするのが好ましい。より好ま
しい範囲は2/8〜8/2であり、更に好ましくは3/
7〜7/3である。バインダーポリマーの酸価/分子量
は画像強度、現像性に大きな影響を及ぼすが、本発明に
おいて好ましい領域は酸価が0.4〜1.6meq/
g、分子量が1.0万〜30万の範囲であり、さらには
酸価0.6〜1.3meq/g、分子量が2〜20万の
範囲である。
These organic high-molecular polymers can be mixed in an arbitrary amount in the total composition of the photosensitive layer components. However, if it exceeds 90% by weight, no favorable result is obtained in view of the strength of the formed image and the like. Preferably 10-90%,
More preferably, it is 30 to 80%. The weight ratio of the photopolymerizable ethylenically unsaturated compound and the organic high molecular weight polymer is preferably in the range of 1/9 to 9/1. A more preferred range is 2/8 to 8/2, and still more preferably 3/8.
7 to 7/3. Although the acid value / molecular weight of the binder polymer has a large effect on image strength and developability, a preferred region in the present invention has an acid value of 0.4 to 1.6 meq /.
g, the molecular weight is in the range of 10,000 to 300,000, the acid value is 0.6 to 1.3 meq / g, and the molecular weight is in the range of 20,000 to 200,000.

【0108】本発明の平版印刷版用原版の感光層には、
以上の基本成分の他に、さらにその用途、製造方法等に
適したその他の成分を適宜添加することができる。以
下、好ましい添加剤に関し例示する。 [(4)共増感剤]本発明の平版印刷版用原版の感光層
には、共増感剤を用いることで、該感光層の感度をさら
に向上させる事ができる。これらの作用機構は、明確で
はないが、多くは次のような化学プロセスに基づくもの
と考えられる。即ち、先述の光重合開始剤(系)の光吸
収により開始される光反応と、それに引き続く付加重合
反応の過程で生じる様々な中間活性種(ラジカル、過酸
化物、酸化剤、還元剤等)と、共増感剤が反応し、新た
な活性ラジカルを生成するものと推定される。これら
は、大きくは、(a)還元されて活性ラジカルを生成し
うるもの、(b)酸化されて活性ラジカルを生成しうる
もの、(c)活性の低いラジカルと反応し、より活性の
高いラジカルに変換するか、もしくは連鎖移動剤として
作用するもの、に分類できるが、個々の化合物がこれら
のどれに属するかに関しては、通説がない場合も多い。
In the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention,
In addition to the above basic components, other components suitable for the use, the production method, and the like can be added as appropriate. Hereinafter, preferred additives will be exemplified. [(4) Co-sensitizer] By using a co-sensitizer in the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention, the sensitivity of the photosensitive layer can be further improved. Although their mechanism of action is not clear, most are thought to be based on the following chemical processes. That is, various intermediate active species (radicals, peroxides, oxidizing agents, reducing agents, etc.) generated during the photoreaction initiated by the above-mentioned photopolymerization initiator (system) and the subsequent addition polymerization reaction. And the co-sensitizer reacts to generate a new active radical. These are largely (a) those that can be reduced to form active radicals, (b) those that can be oxidized to form active radicals, and (c) those that react with less active radicals and are more active radicals. Or acting as a chain transfer agent, but there is often no myth as to which of these compounds each belongs to.

【0109】(a)還元されて活性ラジカルを生成する
化合物 炭素−ハロゲン結合を有する化合物:還元的に炭素−ハ
ロゲン結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えら
れる。具体的には、例えば、トリハロメチル−s−トリ
アジン類や、トリハロメチルオキサジアゾール類等が好
適に使用できる。 窒素−窒素結合を有する化合物:還元的に窒素−窒素結
合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具
体的にはヘキサアリールビイミダゾール類等が好適に使
用される。 酸素−酸素結合を有する化合物:還元的に酸素−酸素結
合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具
体的には、例えば、有機過酸化物類等が好適に使用され
る。 オニウム化合物:還元的に炭素−ヘテロ結合や、酸素−
窒素結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられ
る。具体的には例えば、ジアリールヨードニウム塩類、
トリアリールスルホニウム塩類、N−アルコキシピリジ
ニウム(アジニウム)塩類等が好適に使用される。 フェロセン、鉄アレーン錯体類:還元的に活性ラジカル
を生成しうる。
(A) Compound that generates an active radical upon being reduced Compound having a carbon-halogen bond: It is considered that the carbon-halogen bond is reductively cleaved to generate an active radical. Specifically, for example, trihalomethyl-s-triazines and trihalomethyloxadiazoles can be suitably used. Compound having a nitrogen-nitrogen bond: It is considered that the nitrogen-nitrogen bond is cleaved reductively to generate an active radical. Specifically, hexaarylbiimidazoles and the like are preferably used. Compound having an oxygen-oxygen bond: It is considered that an oxygen-oxygen bond is cleaved reductively to generate an active radical. Specifically, for example, organic peroxides and the like are preferably used. Onium compounds: carbon-hetero bond or oxygen-
It is thought that the nitrogen bond is cleaved to generate an active radical. Specifically, for example, diaryliodonium salts,
Triarylsulfonium salts, N-alkoxypyridinium (azinium) salts and the like are preferably used. Ferrocene, iron arene complexes: Active radicals can be generated reductively.

【0110】(b)酸化されて活性ラジカルを生成する
化合物 アルキルアート錯体:酸化的に炭素−ヘテロ結合が解裂
し、活性ラジカルを生成すると考えられる。具体的には
例えば、トリアリールアルキルボレート類が好適に使用
される。 アルキルアミン化合物:酸化により窒素に隣接した炭素
上のC−X結合が解裂し、活性ラジカルを生成するもの
と考えられる。Xとしては、水素原子、カルボキシル
基、トリメチルシリル基、ベンジル基等が好適である。
具体的には、例えば、エタノールアミン類、N−フェニ
ルグリシン類、N−トリメチルシリルメチルアニリン類
等が挙げられる。 含硫黄、含錫化合物:上述のアミン類の窒素原子を硫黄
原子、錫原子に置き換えたものが、同様の作用により活
性ラジカルを生成しうる。また、S−S結合を有する化
合物もS−S解裂による増感が知られる。
(B) Compound which is oxidized to generate an active radical Alkyl ate complex: It is considered that a carbon-hetero bond is oxidatively cleaved to generate an active radical. Specifically, for example, triarylalkyl borates are preferably used. Alkylamine compound: It is considered that the CX bond on carbon adjacent to nitrogen is cleaved by oxidation to generate an active radical. X is preferably a hydrogen atom, a carboxyl group, a trimethylsilyl group, a benzyl group, or the like.
Specifically, for example, ethanolamines, N-phenylglycine, N-trimethylsilylmethylaniline, and the like can be mentioned. Sulfur-containing and tin-containing compounds: The above-mentioned amines in which the nitrogen atom is replaced with a sulfur atom or a tin atom can generate an active radical by the same action. Compounds having an SS bond are also known to be sensitized by SS cleavage.

【0111】α−置換メチルカルボニル化合物:酸化に
より、カルボニル−α炭素間の結合解裂により、活性ラ
ジカルを生成しうる。また、カルボニルをオキシムエー
テルに変換したものも同様の作用を示す。具体的には、
2−アルキル−1−[4−(アルキルチオ)フェニル]
−2−モルフォリノプロノン−1類、並びに、これらと
ヒドロキシアミン類とを反応したのち、N−OHをエー
テル化したオキシムエーテル類を挙げる事ができる。 スルフィン酸塩類:還元的に活性ラジカルを生成しう
る。具体的は、アリールスルフィン酸ナトリウム等を挙
げる事ができる。
Α-Substituted methylcarbonyl compound: An active radical can be generated by the cleavage of carbonyl-α carbon bond by oxidation. In addition, those obtained by converting carbonyl to oxime ether also show the same action. In particular,
2-alkyl-1- [4- (alkylthio) phenyl]
Examples thereof include -2-morpholinopronones-1 and oxime ethers obtained by reacting these with hydroxyamines and then etherifying N-OH. Sulfinates: Active radicals can be generated reductively. Specific examples include sodium arylsulfinate and the like.

【0112】(c)ラジカルと反応し高活性ラジカルに
変換、もしくは連鎖移動剤として作用する化合物:例え
ば、分子内にSH、PH、SiH、GeHを有する化合
物群が用いられる。これらは、低活性のラジカル種に水
素供与して、ラジカルを生成するか、もしくは、酸化さ
れた後、脱プロトンする事によりラジカルを生成しう
る。具体的には、例えば、2−メルカプトベンズイミダ
ゾール類等が挙げられる。これらの共増感剤のより具体
的な例は、例えば、特開昭9−236913号中に、感
度向上を目的とした添加剤として、多く記載されてい
る。以下に、その一部を例示するが、本発明の平版印刷
版用原版の感光層に用いられるものは、これらに限定さ
れるものはない。
(C) Compounds that react with radicals to convert them to highly active radicals or act as chain transfer agents: For example, compounds having SH, PH, SiH, and GeH in the molecule are used. These can generate a radical by donating hydrogen to a low-activity radical species, or can generate a radical by being oxidized and then deprotonated. Specific examples include 2-mercaptobenzimidazoles. More specific examples of these co-sensitizers are described in, for example, JP-A-9-236913 as additives for the purpose of improving sensitivity. The following are some examples, but the materials used for the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention are not limited thereto.

【0113】[0113]

【化17】 Embedded image

【0114】これらの共増感剤に関しても、さらに、感
光層の特性を改良するための様々な化学修飾を行うこと
も可能である。例えば、増感色素やチタノセン、付加重
合性不飽和化合物その他のラジカル発生パートとの結
合、親水性部位の導入、相溶性向上、結晶析出抑制のた
めの置換基導入、密着性を向上させる置換基導入、ポリ
マー化等の方法が利用できる。これらの共増感剤は、単
独または2種以上併用して用いることができる。使用量
はエチレン性不飽和二重結合を有する化合物100重量
部に対し0.05〜100重量部、好ましくは1〜80
重量部、さらに好ましくは3〜50重量部の範囲が適当
である。
These co-sensitizers can be further subjected to various chemical modifications for improving the characteristics of the photosensitive layer. For example, binding with sensitizing dyes, titanocene, addition-polymerizable unsaturated compounds and other radical-generating parts, introduction of hydrophilic sites, improvement of compatibility, introduction of substituents for suppressing crystal precipitation, and substituents for improving adhesion Methods such as introduction and polymerization can be used. These co-sensitizers can be used alone or in combination of two or more. The amount used is 0.05 to 100 parts by weight, preferably 1 to 80 parts by weight, per 100 parts by weight of the compound having an ethylenically unsaturated double bond.
A suitable range is 3 parts by weight, more preferably 3 to 50 parts by weight.

【0115】[(5)重合禁止剤]また、本発明の平版
印刷版用原版の感光層においては、感光性組成物の製造
中あるいは保存中において、重合可能なエチレン性不飽
和二重結合を有する化合物の不要な熱重合を阻止するた
めに少量の熱重合防止剤を添加することが望ましい。適
当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、p−メトキ
シフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロ
ガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,
4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノー
ル)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−
ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシ
アミン第一セリウム塩等が挙げられる。熱重合防止剤の
添加量は、全組成物の重量に対して約0.01重量%〜
約5重量%が好ましい。また必要に応じて、酸素による
重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドの
ような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の
過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘
導体の添加量は、全組成物の約0.5重量%〜約10重
量%が好ましい。
[(5) Polymerization Inhibitor] In the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention, a polymerizable ethylenically unsaturated double bond is added during the production or storage of the photosensitive composition. It is desirable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the compound having the compound. Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-tert-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone,
4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-
Butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine cerium salt and the like. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is about 0.01% by weight to the weight of the total composition.
About 5% by weight is preferred. If necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide may be added to prevent polymerization inhibition by oxygen, and may be unevenly distributed on the surface of the photosensitive layer in a drying process after coating. . The added amount of the higher fatty acid derivative is preferably about 0.5% by weight to about 10% by weight of the whole composition.

【0116】[(6)着色剤]さらに、本発明の平版印
刷版用原版の感光層に、その着色を目的として染料もし
くは顔料を添加してもよい。これにより、印刷版として
の、製版後の視認性や、画像濃度測定機適性といったい
わゆる検版性を向上させる事ができる。着色剤として
は、多くの染料は光重合系感光層の感度の低下を生じる
ので、着色剤としては、特に顔料の使用が好ましい。具
体例としては例えばフタロシアニン系顔料、アゾ系顔
料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エチル
バイオレット、クリスタルバイオレット、アゾ系染料、
アントラキノン系染料、シアニン系染料などの染料があ
る。染料および顔料の添加量は全組成物の約0.5重量
%〜約5重量%が好ましい。
[(6) Colorant] Further, a dye or pigment may be added to the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention for the purpose of coloring the same. As a result, it is possible to improve the so-called plate inspection, such as the visibility of the printing plate after plate making and the suitability for an image density measuring device. As a coloring agent, a pigment is particularly preferable because many dyes lower the sensitivity of the photopolymerizable photosensitive layer. Specific examples include, for example, phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, pigments such as titanium oxide, ethyl violet, crystal violet, azo dyes,
There are dyes such as anthraquinone dyes and cyanine dyes. The amount of dyes and pigments added is preferably from about 0.5% to about 5% by weight of the total composition.

【0117】[(7)その他の添加剤]さらに、硬化皮
膜の物性を改良するために無機充填剤や、その他可塑
剤、感光層表面のインク着肉性を向上させうる感脂化剤
等の公知の添加剤を加えてもよい。可塑剤としては例え
ばジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリ
エチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコー
ルフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチル
アジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセ
リン等があり、結合剤を使用した場合、エチレン性不飽
和二重結合を有する化合物と結合剤との合計重量に対し
10重量%以下添加することができる。また、後述する
膜強度(耐刷性)向上を目的とした、現像後の加熱・露
光の効果を強化するための、UV開始剤や、熱架橋剤等
の添加もできる。
[(7) Other Additives] Further, inorganic fillers and other plasticizers for improving the physical properties of the cured film, oil-sensitizing agents capable of improving the ink adhesion of the photosensitive layer surface, and the like. Known additives may be added. Examples of the plasticizer include dioctyl phthalate, didodecyl phthalate, triethylene glycol dicaprylate, dimethyl glycol phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl adipate, dibutyl sebacate, triacetyl glycerin, and the like.When a binder is used, ethylene is used. It can be added in an amount of 10% by weight or less based on the total weight of the compound having an unsaturated double bond and the binder. Further, a UV initiator, a thermal crosslinking agent, and the like can be added to enhance the effect of heating and exposure after development for the purpose of improving the film strength (printing durability) described later.

【0118】上記の感光層を前記中間層の上に設ける際
には、該感光層成分の光重合性組成物を種々の有機溶剤
に溶かして、該中間層上に塗布するように供される。こ
こで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチルケ
トン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロラ
イド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレング
リコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シク
ロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコー
ルエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ
イソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチル
エーテルアセテート、3−メトキシプロパノール、メト
キシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメ
チルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコール
モノエチルエーテルアセテート、3−メトキシプロピル
アセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸
エチルなどがある。これらの溶媒は、単独あるいは混合
して使用することができる。そして、塗布溶液中の固形
分の濃度は、2〜50重量%が適当である。
When the above-mentioned photosensitive layer is provided on the intermediate layer, the photopolymerizable composition of the photosensitive layer component is dissolved in various organic solvents, and the mixture is applied so as to be coated on the intermediate layer. . As the solvent used here, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, Acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, Ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, methyl lactate, methyl lactic acid Ethyl and the like. These solvents can be used alone or as a mixture. The appropriate concentration of the solid content in the coating solution is 2 to 50% by weight.

【0119】前記感光層の被覆量は、主に、感光層の感
度、現像性、露光膜の強度・耐刷性に影響しうるもの
で、用途に応じ適宜選択することが望ましい。被覆量が
少なすぎる場合には、耐刷性が十分でなくなる。一方多
すぎる場合には、感度が下がり、露光に時間がかかる
上、現像処理にもより長い時間を要するため好ましくな
い。本発明の主要な目的である走査露光用平版印刷版用
原版としては、その被覆量は乾燥後の重量で約0.1g/
m2〜約10g/m2の範囲が適当である。より好ましくは
0.5〜5g/m2である。
The coating amount of the photosensitive layer mainly affects the sensitivity, developability of the photosensitive layer, and the strength and printing durability of the exposed film, and is desirably appropriately selected according to the application. If the coating amount is too small, the printing durability will be insufficient. On the other hand, if the amount is too large, the sensitivity is lowered, and it takes a long time for exposure, and a longer time is required for the developing process, which is not preferable. The main object of the present invention, as a lithographic printing plate precursor for scanning exposure, the coating amount is about 0.1 g / dry weight.
range of m 2 ~ about 10 g / m 2 are suitable. More preferably, it is 0.5 to 5 g / m 2 .

【0120】〈支持体〉本発明の平版印刷版用原版の支
持体としては、従来公知の、平版印刷版用原版に使用さ
れる親水性化処理を施したアルミニウム支持体を限定無
く使用することができる。使用されるアルミニウム支持
体は寸度的に安定な板状物であることが好ましく、好適
なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウ
ムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、さ
らにアルミニウムがラミネート又は蒸着されたプラスチ
ックフィルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異
元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、
クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。
合金中の異元素の含有量は高々10重量%以下である。
本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニ
ウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上
製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するもので
もよい。このように本発明に適用されるアルミニウム板
は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知
公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することがで
きる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよ
そ0.1mm〜0.6mm程度、好ましくは0.15m
m〜0.4mm、特に好ましくは0.2mm〜0.3m
mである。
<Support> As the support of the lithographic printing plate precursor of the present invention, a conventionally known aluminum support subjected to a hydrophilic treatment and used for a lithographic printing plate precursor can be used without limitation. Can be. The aluminum support used is preferably a dimensionally stable plate-like material, and a suitable aluminum plate is a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element. Aluminum may be a laminated or vapor-deposited plastic film. The foreign elements contained in aluminum alloys include silicon, iron, manganese, copper, magnesium,
There are chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like.
The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by weight or less.
Particularly preferred aluminum in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 m.
m to 0.4 mm, particularly preferably 0.2 mm to 0.3 m
m.

【0121】本発明におけるアルミニウム支持体は、粗
面化(砂目立て)処理、あるいは陽極酸化処理などの表
面処理がなされていることが好ましい。アルミニウム板
の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、
例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を
溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる
方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨
法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公
知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗
面化法としては塩酸、硝酸等の電解液中で交流又は直流
により行う方法がある。特開昭54−63902号に開
示されているように両者を組み合わせた方法も利用する
こともできる。また、アルミニウム板を粗面化するに先
立ち、所望により、表面の圧延油を除去するために、例
えば、界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液等に
よる脱脂処理が行われる。陽極酸化処理は、例えば、燐
酸、クロム酸、硫酸、硼酸等の無機酸、もしくは蓚酸、
スルファミン酸等の有機酸、またはそれらの塩の水溶液
あるいは非水溶液の単独もしくは二種以上を組み合わせ
た電解液中でアルミニウム板を陽極として電流を流すこ
とにより実施される。さらに、特公昭46−27481
号、特開昭52−58602号、特開昭52−3050
3号に開示されているような電解グレインを施した支持
体と、上記陽極酸化処理を組合せた表面処理も有用であ
る。さらに、特開昭56−28893号に開示されてい
るような機械的粗面化、化学的エッチング、電解グレイ
ン、陽極酸化処理を順に行ったものも好適である。
The aluminum support in the present invention is preferably subjected to surface treatment such as surface roughening (graining) or anodic oxidation. The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods.
For example, it is performed by a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving and roughening the surface, and a method of chemically selectively dissolving the surface. Known mechanical methods such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used as the mechanical method. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating or direct current in an electrolytic solution such as hydrochloric acid or nitric acid. As disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can also be used. Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution is performed to remove rolling oil on the surface. Anodizing treatment, for example, phosphoric acid, chromic acid, sulfuric acid, inorganic acids such as boric acid, or oxalic acid,
It is carried out by passing a current in an electrolytic solution of an organic acid such as sulfamic acid or a salt thereof or an aqueous solution or a non-aqueous solution alone or in combination of two or more with an aluminum plate as an anode. Furthermore, Japanese Patent Publication No. 46-27481
JP-A-52-58602, JP-A-52-3050
No. 3, a surface treatment obtained by combining a support provided with electrolytic grains and the above-described anodic oxidation treatment is also useful. Further, those subjected to mechanical roughening, chemical etching, electrolytic graining, and anodizing treatment in this order as disclosed in JP-A-56-28893 are also suitable.

【0122】前記支持体表面の親水化処理としては、広
く公知の方法が適用できる。特に好ましい処理として
は、シリケートまたはポリビニルホスホン酸等による親
水化処理が施される。皮膜はSi、またはP元素量とし
て2〜40mg/m2、より好ましくは4〜30mg/m2で形成
される。塗布量はケイ光X線分析法により測定できる。
上記の親水化処理は、アルカリ金属ケイ酸塩、またはポ
リビニルホスホン酸が1〜30重量%、好ましくは2〜
15重量%であり、25℃のpHが10〜13である水
溶液に、陽極酸化皮膜が形成されたアルミニウム基板
を、例えば15〜80℃で0.5〜120秒浸漬するこ
とにより実施される。
As the treatment for hydrophilizing the surface of the support, widely known methods can be applied. As a particularly preferred treatment, a hydrophilic treatment with a silicate or polyvinyl phosphonic acid is performed. The coating is formed at a Si or P element content of 2 to 40 mg / m 2 , more preferably 4 to 30 mg / m 2 . The coating amount can be measured by fluorescent X-ray analysis.
In the above-mentioned hydrophilization treatment, alkali metal silicate or polyvinylphosphonic acid is contained in an amount of 1 to 30% by weight, preferably 2 to 30% by weight.
This is carried out by immersing the aluminum substrate on which the anodized film is formed in an aqueous solution having a pH of 10 to 13 at 25 ° C. at a temperature of 15 to 80 ° C. for 0.5 to 120 seconds.

【0123】前記親水化処理に用いられるアルカリ金属
ケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウ
ム、ケイ酸リチウムなどが使用される。アルカリ金属ケ
イ酸塩水溶液のpHを高くするために使用される水酸化
物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化リチウムなどがある。なお、上記の処理液にアルカリ
土類金属塩もしくは第IVB族金属塩を配合してもよい。
アルカリ土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ス
トロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのよう
な硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、リン酸塩、酢酸塩、シュ
ウ酸塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。第IV
B族金属塩としては、四塩化チタン、三塩化チタン、フ
ッ化チタンカリウム、シュウ酸チタンカリウム、硫酸チ
タン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化
ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコ
ニウムなどを挙げることができる。
As the alkali metal silicate used in the hydrophilization treatment, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate and the like are used. Hydroxides used to raise the pH of the alkali metal silicate aqueous solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide and the like. In addition, an alkaline earth metal salt or a Group IVB metal salt may be added to the above-mentioned processing solution.
Alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate and barium nitrate, and water-soluble salts such as sulfate, hydrochloride, phosphate, acetate, oxalate and borate. Salts. IV
Examples of the group B metal salt include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium titanium fluoride, titanium potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, zirconium dioxide, zirconium oxychloride, zirconium tetrachloride, and the like. be able to.

【0124】アルカリ土類金属塩もしくは、第IVB族金
属塩は単独又は2種以上組み合わせて使用することがで
きる。これらの金属塩の好ましい範囲は0.01〜10
重量%であり、さらに好ましい範囲は0.05〜5.0
重量%である。また、米国特許第3,658,662号
明細書に記載されているようなシリケート電着も有効で
ある。特公昭46−27481号、特開昭52−586
02号、特開昭52−30503号に開示されているよ
うな電解グレインを施した支持体と、上記陽極酸化処理
および親水化処理を組合せた表面処理も有用である。
The alkaline earth metal salts or Group IVB metal salts can be used alone or in combination of two or more. The preferred range of these metal salts is 0.01 to 10
% By weight, and a more preferred range is 0.05 to 5.0.
% By weight. Further, silicate electrodeposition as described in U.S. Pat. No. 3,658,662 is also effective. JP-B-46-27481, JP-A-52-586
No. 02, Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-30503, and a surface treatment obtained by combining an anodizing treatment and a hydrophilizing treatment with a support provided with electrolytic grains are also useful.

【0125】〈保護層〉本発明の平版印刷版用原版の望
ましい様態としては、通常、露光を大気中で行うため、
前述の感光層の上に、さらに、保護層を設ける事が好ま
しい。保護層は、感光層中で露光により生じる画像形成
反応を阻害する大気中に存在する酸素や塩基性物質等の
低分子化合物の感光層への混入を防止し、大気中での露
光を可能とする。従って、この様な保護層に望まれる特
性は、酸素等の低分子化合物の透過性が低いことであ
り、さらに、露光に用いる光の透過は実質阻害せず、感
光層との密着性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易
に除去できる事が望ましい。この様な、保護層に関する
工夫が従来よりなされており、米国特許第3、458、
311号、特開昭55−49729号に詳しく記載され
ている。保護層に使用できる材料としては、例えば、比
較的結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いる事がよ
く、具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピ
ロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴ
ム、ポリアクリル酸などのような水溶性ポリマーが知ら
れているが、これらの内、ポリビニルアルコールを主成
分として用いる事が、酸素遮断性、現像除去性といった
基本特性的にもっとも良好な結果を与える。保護層に使
用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水
溶性を有するための、未置換ビニルアルコール単位を含
有する限り、一部がエステル、エーテルおよびアセター
ルで置換されていても良い。また、同様に一部が他の共
重合成分を有していても良い。ポリビニルアルコールの
具体例としては71〜100%加水分解され、分子量が
300から2400の範囲のものを挙げる事ができる。
具体的には、株式会社クラレ製のPVA−105、PV
A−110、PVA−117、PVA−117H、PV
A−120、PVA−124、PVA−124H、PV
A−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−2
03、PVA−204、PVA−205、PVA−21
0、PVA−217、PVA−220、PVA−22
4、PVA−217EE、PVA−217E、PVA−
220E、PVA−224E、PVA−405、PVA
−420、PVA−613、L−8等が挙げられる。
<Protective Layer> As a desirable mode of the lithographic printing plate precursor according to the invention, usually, exposure is performed in the air.
It is preferable to further provide a protective layer on the above-mentioned photosensitive layer. The protective layer prevents exposure of the photosensitive layer to low-molecular compounds such as oxygen and basic substances present in the atmosphere that inhibit the image forming reaction caused by exposure in the photosensitive layer. I do. Therefore, a desired property of such a protective layer is that the permeability of low molecular compounds such as oxygen is low, and further, the transmission of light used for exposure is not substantially inhibited, and the adhesion to the photosensitive layer is excellent. In addition, it is desirable that it can be easily removed in a developing step after exposure. Such a device for the protective layer has been conventionally devised, and US Pat.
No. 311 and JP-A-55-49729. As a material that can be used for the protective layer, for example, a water-soluble polymer compound having relatively excellent crystallinity is preferably used, and specifically, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, and polystyrene. Water-soluble polymers such as acrylic acid are known. Of these, use of polyvinyl alcohol as a main component gives the best results in terms of basic properties such as oxygen barrier properties and development removability. The polyvinyl alcohol used for the protective layer may be partially substituted with an ester, an ether or an acetal as long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit for obtaining necessary oxygen barrier properties and water solubility. Similarly, a part thereof may have another copolymer component. Specific examples of polyvinyl alcohol include those having a hydrolysis of 71 to 100% and a molecular weight of 300 to 2,400.
Specifically, Kuraray's PVA-105, PV
A-110, PVA-117, PVA-117H, PV
A-120, PVA-124, PVA-124H, PV
A-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-2
03, PVA-204, PVA-205, PVA-21
0, PVA-217, PVA-220, PVA-22
4, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-
220E, PVA-224E, PVA-405, PVA
-420, PVA-613, L-8 and the like.

【0126】保護層の成分(PVAの選択、添加剤の使
用)、塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性の他、カブ
リ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。一般には
使用するPVAの加水分解率が高い程(保護層中の未置
換ビニルアルコール単位含率が高い程)、膜厚が厚い程
酸素遮断性が高くなり、感度の点で有利である。しかし
ながら、極端に酸素遮断性を高めると、製造時・生保存
時に不要な重合反応が生じたり、また画像露光時に、不
要なカブリ、画線の太りが生じたりという問題を生じ
る。また、画像部との密着性や、耐傷性も版の取り扱い
上極めて重要である。即ち、水溶性ポリマーからなる親
水性の層を親油性の感光層に積層すると、接着力不足に
よる膜剥離が発生しやすく、剥離部分が酸素の重合阻害
により膜硬化不良などの欠陥を引き起こす。これに対
し、これら2層間の接着性を改善すべく種々の提案がな
されている。たとえば米国特許第292,501号、米
国特許第44,563号には、主にポリビニルアルコー
ルからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルジョ
ンまたは水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート
共重合体などを20〜60重量%混合し、感光層の上に
積層することにより、十分な接着性が得られることが記
載されている。本発明における保護層に対しては、これ
らの公知の技術をいずれも適用することができる。この
ような保護層の塗布方法については、例えば米国特許第
3,458,311号、特開昭55−49729号に詳し
く記載されている。
The components of the protective layer (selection of PVA, use of additives), coating amount, etc. are selected in consideration of fogging properties, adhesion, and scratch resistance in addition to oxygen blocking properties and development removal properties. Generally, the higher the hydrolysis rate of the PVA used (the higher the content of unsubstituted vinyl alcohol units in the protective layer) and the thicker the film thickness, the higher the oxygen barrier properties, which is advantageous in terms of sensitivity. However, when the oxygen barrier property is extremely increased, there arises a problem that an unnecessary polymerization reaction occurs at the time of production or raw storage, and that unnecessary fogging and thickening of an image occur at the time of image exposure. Further, the adhesion to the image area and the scratch resistance are also extremely important in handling the plate. That is, when a hydrophilic layer made of a water-soluble polymer is laminated on a lipophilic photosensitive layer, film peeling due to insufficient adhesive force tends to occur, and the peeled portion causes defects such as poor film curing due to inhibition of polymerization of oxygen. On the other hand, various proposals have been made to improve the adhesion between these two layers. For example, U.S. Pat. No. 292,501 and U.S. Pat. No. 44,563 disclose an acrylic emulsion or a water-insoluble vinylpyrrolidone-vinyl acetate copolymer or the like in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol. It is described that sufficient adhesiveness can be obtained by mixing by weight% and laminating on a photosensitive layer. Any of these known techniques can be applied to the protective layer in the present invention. The method of applying such a protective layer is described in detail in, for example, U.S. Pat. No. 3,458,311 and JP-A-55-49729.

【0127】その他、本発明の平版印刷版用原版から平
版印刷版を製版するための製版プロセスとしては、必要
に応じ、露光前、露光中、露光から現像までの間に、全
面を加熱しても良い。この様な加熱により、感光層中の
画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上、感度の
安定化といった利点が生じ得る。さらに、画像強度・耐
刷性の向上を目的として、現像後の画像に対し、全面後
加熱もしくは、全面露光を行う事も有効である。通常現
像前の加熱は150℃以下の穏和な条件で行う事が好ま
しい。温度が高すぎると、非画像部迄がかぶってしまう
等の問題を生じる。現像後の加熱には非常に強い条件を
利用する。通常は200〜500℃の範囲である。温度
が低いと十分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合
には支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を生じ
る。
In addition, as a plate making process for making a lithographic printing plate from the lithographic printing plate precursor of the present invention, if necessary, the entire surface may be heated before exposure, during exposure, or between exposure and development. Is also good. By such heating, an image forming reaction in the photosensitive layer is promoted, and advantages such as improvement in sensitivity and printing durability and stabilization of sensitivity can be obtained. Further, for the purpose of improving image strength and printing durability, it is also effective to post-heat or expose the entire surface of the developed image. Usually, heating before development is preferably performed under mild conditions of 150 ° C. or less. If the temperature is too high, there arises a problem that the non-image portion is covered. Very strong conditions are used for heating after development. Usually, it is in the range of 200 to 500 ° C. If the temperature is too low, a sufficient image strengthening effect cannot be obtained.

【0128】本発明の平版印刷版用原版の露光方法は、
公知の方法を制限なく用いる事ができる。望ましい、光
源の波長は350nmから650nmであり、具体的に
はレーザ各種の光源が好適である。露光機構は、内面ド
ラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式等の何
れでも良い。また、本発明の平版印刷版用原版の感光層
成分は、高い水溶性のものを使用する事で、中性の水や
弱アルカリ水に可溶とすることもできるが、この様な構
成の平版印刷版用原版は印刷機上に装填後、機上で露光
−現像といった方式を行う事もできる。
The method of exposing a lithographic printing plate precursor according to the present invention comprises:
Known methods can be used without limitation. Desirable wavelength of the light source is 350 nm to 650 nm, and specifically, various laser light sources are suitable. The exposure mechanism may be any of an internal drum type, an external drum type, a flat bed type, and the like. The photosensitive layer component of the lithographic printing plate precursor according to the invention can be made soluble in neutral water or weakly alkaline water by using a highly water-soluble one. After the lithographic printing plate precursor is loaded on a printing press, a system such as exposure-development can be performed on the printing press.

【0129】また、本発明の平版印刷版用原版に対する
その他の露光光線としては、超高圧、高圧、中圧、低圧
の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセ
ノン灯、メタルハライド灯、可視および紫外の各種レー
ザーランプ、蛍光灯、タングステン灯、太陽光等も使用
できる。
Other exposure light rays for the lithographic printing plate precursor according to the present invention include ultrahigh-pressure, high-pressure, medium-pressure and low-pressure mercury lamps, chemical lamps, carbon arc lamps, xenon lamps, metal halide lamps, visible and ultraviolet lamps. Various laser lamps, fluorescent lamps, tungsten lamps, sunlight and the like can also be used.

【0130】本発明の平版印刷版用原版は、露光された
後、現像処理される。かかる現像処理に使用される現像
液としては、pH14以下のアルカリ水溶液が特に好ま
しく、より好ましくはアニオン系界面活性剤を含有する
pH8〜12のアルカリ水溶液が使用される。例えば、
第三リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、
第二リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、
炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水
素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ホウ酸ナ
トリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリ
ウム、同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウムな
どの無機アルカリ剤が挙げられる。また、モノメチルア
ミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチル
アミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソ
プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロ
ピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノ
イソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、
エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有
機アルカリ剤も用いられる。これらのアルカリ剤は、単
独もしくは2種以上を組み合わせて用いられる。
The lithographic printing plate precursor according to the invention is exposed and then developed. As a developer used for such a development treatment, an aqueous alkali solution having a pH of 14 or less is particularly preferred, and an alkaline aqueous solution having a pH of 8 to 12 containing an anionic surfactant is more preferably used. For example,
Tribasic sodium, potassium, ammonium,
Dibasic sodium, potassium, ammonium,
Inorganic alkali agents such as sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium, and lithium. Also, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine,
Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine and pyridine are also used. These alkaline agents are used alone or in combination of two or more.

【0131】また本発明の平版印刷版用原版の現像処理
においては、現像液中にアニオン界面活性剤1〜20w
t%加えるが、より好ましくは、3〜10wt%で使用
される。少なすぎると現像性が悪化し、多すぎると画像
の耐摩耗性などの強度が劣化するなどの弊害が出る。ア
ニオン界面活性剤としては、例えばラウリルアルコール
サルフェートのナトリウム塩、ラウリルアルコールサル
フェートのアンモニウム塩、オクチルアルコールサルフ
ェートのナトリウム塩、例えばイソプロピルナフタレン
スルホン酸のナトリウム塩、イソブチルナフタレンスル
ホン酸のナトリウム塩、ポリオキシエチレングリコール
モノナフチルエーテル硫酸エステルのナトリウム塩、ド
デシルベンゼンスルホン酸のナトリウム塩、メタニトロ
ベンゼンスルホン酸のナトリウム塩などのようなアルキ
ルアリールスルホン酸塩、第2ナトリウムアルキルサル
フェートなどの炭素数8〜22の高級アルコール硫酸エ
ステル類、セチルアルコールリン酸エステルのナトリウ
ム塩などの様な脂肪族アルコールリン酸エステル塩類、
たとえばC1733CON(CH3)CH2CH2SO3Na
などのようなアルキルアミドのスルホン酸塩類、例えば
ナトリウムスルホコハク酸ジオクチルエステル、ナトリ
ウムスルホコハク酸ジヘキシルエステルなどの二塩基性
脂肪族エステルのスルホン酸塩類などが含まれる。
In the development of the lithographic printing plate precursor according to the present invention, anionic surfactants 1 to 20 w
Although t% is added, it is more preferably used at 3 to 10% by weight. If the amount is too small, the developability deteriorates. If the amount is too large, adverse effects such as deterioration of the image, such as abrasion resistance, occur. As the anionic surfactant, for example, sodium salt of lauryl alcohol sulfate, ammonium salt of lauryl alcohol sulfate, sodium salt of octyl alcohol sulfate, for example, sodium salt of isopropylnaphthalenesulfonic acid, sodium salt of isobutylnaphthalenesulfonic acid, polyoxyethylene glycol Alkyl aryl sulfonates such as sodium salt of mononaphthyl ether sulfate, sodium salt of dodecylbenzenesulfonic acid, sodium salt of metanitrobenzenesulfonic acid, higher alcohol sulfuric acid having 8 to 22 carbon atoms such as secondary sodium alkyl sulfate Esters, aliphatic alcohol phosphates such as sodium salt of cetyl alcohol phosphate,
For example, C 17 H 33 CON (CH 3 ) CH 2 CH 2 SO 3 Na
And sulfonates of dibasic aliphatic esters such as dioctyl sodium sulfosuccinate and dihexyl sodium sulfosuccinate.

【0132】必要に応じてベンジルアルコール等の水と
混合するような有機溶媒を現像液に加えてもよい。有機
溶媒としては、水に対する溶解度が約10重量%以下の
ものが適しており、好ましくは5重量%以下のものから
選ばれる。たとえば、1−フェニルエタノール、2−フ
ェニルエタノール、3−フェニルプロパノール、1,4
−フェニルブタノール、2,2−フェニルブタノール、
1,2−フェノキシエタノール、2−ベンジルオキシエ
タノール、o−メトキシベンジルアルコール、m−メト
キシベンジルアルコール、p−メトキシベンジルアルコ
ール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、2−
メチルシクロヘクサノール、4−メチルシクロヘクサノ
ール及び3−メチルシクロヘクサノール等を挙げること
ができる。有機溶媒の含有量は、使用時の現像液の総重
量に対して1〜5重量%が好適である。その使用量は界
面活性剤の使用量と密接な関係があり、有機溶媒の量が
増すにつれ、アニオン界面活性剤の量は増加させること
が好ましい。これはアニオン界面活性剤の量が少ない状
態で、有機溶媒の量を多く用いると有機溶媒が溶解せ
ず、従って良好な現像性の確保が期待できなくなるから
である。
If necessary, an organic solvent such as benzyl alcohol which is mixed with water may be added to the developer. As the organic solvent, those having a solubility in water of about 10% by weight or less are suitable, and preferably selected from those having a solubility of 5% by weight or less. For example, 1-phenylethanol, 2-phenylethanol, 3-phenylpropanol, 1,4
-Phenylbutanol, 2,2-phenylbutanol,
1,2-phenoxyethanol, 2-benzyloxyethanol, o-methoxybenzyl alcohol, m-methoxybenzyl alcohol, p-methoxybenzyl alcohol, benzyl alcohol, cyclohexanol, 2-
Methylcyclohexanol, 4-methylcyclohexanol, 3-methylcyclohexanol and the like can be mentioned. The content of the organic solvent is preferably from 1 to 5% by weight based on the total weight of the developer at the time of use. The amount used is closely related to the amount used of the surfactant, and it is preferable to increase the amount of the anionic surfactant as the amount of the organic solvent increases. This is because if the amount of the organic solvent is large when the amount of the anionic surfactant is small, the organic solvent does not dissolve, so that it is impossible to expect good developability.

【0133】また、さらに必要に応じ、消泡剤及び硬水
軟化剤のような添加剤を含有させることもできる。硬水
軟化剤としては、例えば、Na227、Na533、N
a3 39、Na24P(NaO3P)PO3Na2、カルゴン
(ポリメタリン酸ナトリウム)などのポリリン酸塩、例
えばエチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そ
のナトリウム塩;ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そ
のカリウム塩、ナトリウム塩;トリエチレンテトラミン
ヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ヒド
ロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム
塩、そのナトリウム塩;ニトリロトリ酢酸、そのカリウ
ム塩、そのナトリウム塩;1,2−ジアミノシクロヘキ
サンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;
1,3−ジアミノ−2−プロパノールテトラ酢酸、その
カリウム塩、そのナトリウム塩などのようなアミノポリ
カルボン酸類の他2−ホスホノブタントリカルボン酸−
1,2,4、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;2一
ホスホノブタノントリカルボン酸−2,3,4、そのカ
リウム塩、そのナトリウム塩;1−ホスホノエタントリ
カルボン酸−1,2、2、そのカリウム塩、そのナトリ
ウム塩;1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン
酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;アミノトリ
(メチレンホスホン酸)、そのカリウム塩、そのナトリ
ウム塩などのような有機ホスホン酸類を挙げることがで
きる。このような硬水軟化剤の最適量は使用される硬水
の硬度およびその使用量に応じて変化するが、一般的に
は、使用時の現像液中に0.01〜5重量%、より好ま
しくは0.01〜0.5重量%の範囲で含有させられ
る。
Further, if necessary, an antifoaming agent and hard water
Additives such as softeners can also be included. hard water
As the softener, for example, NaTwoPTwoO7, NaFivePThreeOThree, N
aThreeP ThreeO9, NaTwoOFourP (NaOThreeP) POThreeNaTwo, Calgon
Polyphosphates such as (sodium polymetaphosphate), eg
For example, ethylenediaminetetraacetic acid, its potassium salt,
Sodium salt of diethylenetriaminepentaacetic acid;
Potassium and sodium salts of triethylenetetramine
Hexaacetic acid, its potassium salt, its sodium salt;
Roxyethylethylenediaminetriacetic acid, potassium
Salt, its sodium salt; nitrilotriacetic acid, its potassium
Salt, sodium salt thereof; 1,2-diaminocyclohexene
Suntetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt;
1,3-diamino-2-propanoltetraacetic acid, the
Aminopoly such as potassium salt, its sodium salt, etc.
Other than carboxylic acids 2-phosphonobutanetricarboxylic acid-
1, 2, 4, its potassium salt, its sodium salt;
Phosphonobtanone tricarboxylic acid-2,3,4,
Lithium salt, its sodium salt; 1-phosphonoethanetri
Carboxylic acid-1,2,2, its potassium salt, its sodium
Salt; 1-hydroxyethane-1,1-diphosphone
Acid, its potassium salt, its sodium salt;
(Methylene phosphonic acid), its potassium salt, its sodium
Organic phosphonic acids such as um salts
Wear. The optimal amount of such a water softener depends on the hard water used.
Varies depending on the hardness of
Is 0.01 to 5% by weight in the developer at the time of use, more preferably
Or 0.01 to 0.5% by weight.
You.

【0134】更に、自動現像機を用いて、該平版印刷版
用原版を現像する場合には、処理量に応じて現像液が疲
労してくるので、補充液または新鮮な現像液を用いて処
理能力を回復させてもよい。この場合米国特許第4,8
82,246号に記載されている方法で補充することが
好ましい。また、特開昭50−26601号、同58−
54341号、特公昭56−39464号、同56−4
2860号、同57−7427号の各公報に記載されて
いる現像液も好ましい。
Further, when the lithographic printing plate precursor is developed using an automatic developing machine, the developer becomes fatigued according to the processing amount. Therefore, the processing is performed using a replenisher or a fresh developer. You may restore your abilities. In this case, U.S. Pat.
Replenishment is preferably carried out by the method described in U.S. Pat. Also, JP-A-50-26601 and JP-A-58-26601.
No. 54341, JP-B-56-39464, No. 56-4
The developing solutions described in JP-A Nos. 2860 and 57-7427 are also preferable.

【0135】このようにして現像処理された平版印刷版
用原版は、特開昭54−8002号、同55−1150
45号、同59−58431号等の各公報に記載されて
いるように、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス
液、アラビアガムや澱粉誘導体等を含む不感脂化液で後
処理される。本発明の平版印刷版用原版の後処理にはこ
れらの処理を種々組み合わせて用いることができる。こ
のような処理によって得られた平版印刷版はオフセット
印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられる。印刷
時、版上の汚れ除去のため使用するプレートクリーナー
としては、従来より知られているPS版用プレートクリ
ーナーが使用され、例えば、CL−1,CL−2,C
P,CN−4,CN,CG−1,PC−1,SR,IC
(富士写真フイルム株式会社製)等が挙げられる。
The lithographic printing plate precursor thus developed is described in JP-A-54-8002 and JP-A-55-1150.
As described in JP-A Nos. 45 and 59-58431 and the like, post-treatment is carried out with washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, and a desensitizing solution containing gum arabic and a starch derivative. . In the post-treatment of the lithographic printing plate precursor according to the invention, these treatments can be used in various combinations. The lithographic printing plate obtained by such a process is set on an offset printing machine and used for printing a large number of sheets. As a plate cleaner used for removing stains on the plate at the time of printing, a conventionally known plate cleaner for PS plate is used. For example, CL-1, CL-2, C
P, CN-4, CN, CG-1, PC-1, SR, IC
(Manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.).

【0136】[0136]

【実施例】以下、実施例によって本発明を説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 (合成例1、−1法)攪拌棒および攪拌羽根、還流冷
却器、および温度計を設置した200mlの三つ口フラス
コに、反応溶媒として2−メトキシエタノール70g、
(4−ビニルベンジル)トリエチルアンモニウムクロリ
ド21.3g、および4−ビニル安息香酸8.3gを入
れ、窒素気流下、50℃で30分攪拌し、均一溶液とし
た。そこへ重合開始剤として2,2′−アゾビス(2,
4−ジメチルバレロニトリル)1.04gを加え、80
℃で7時間攪拌し、重合を行った。この溶液を酢酸エチ
ル500mlに投入し、得られた沈殿物を真空乾燥し、カ
チオン性基と反応性基を有するポリマーを29.5g得
た。このポリマーの酸価は、1.85meq/gであった。
Hereinafter, the present invention will be described with reference to Examples.
The present invention is not limited to these examples. (Synthesis Example 1, Method -1) 70 g of 2-methoxyethanol was used as a reaction solvent in a 200 ml three-necked flask equipped with a stirring rod and a stirring blade, a reflux condenser, and a thermometer.
21.3 g of (4-vinylbenzyl) triethylammonium chloride and 8.3 g of 4-vinylbenzoic acid were added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 30 minutes under a nitrogen stream to obtain a homogeneous solution. There, 2,2'-azobis (2,2
1.04 g of 4-dimethylvaleronitrile) was added, and 80
The mixture was stirred at 7 ° C. for 7 hours to carry out polymerization. This solution was poured into 500 ml of ethyl acetate, and the obtained precipitate was dried in vacuo to obtain 29.5 g of a polymer having a cationic group and a reactive group. The acid value of this polymer was 1.85 meq / g.

【0137】攪拌棒および攪拌羽根、還流冷却器、およ
び温度計を設置した300mlの三つ口フラスコに、反応
溶媒としてメタノール150ml、得られたカチオン性基
と反応性基を有するポリマー9.5gを加え溶解した。
そこへグリシジルメタクリレート1.3gを加え、5時
間加熱還流した。この溶液を酢酸エチル1000mlに投
入し、得られた沈殿物を真空乾燥することにより、本発
明におけるカチオン性基およびラジカル反応性基を有す
るポリマー(P−1)を10.1g得た。このポリマー
の酸価は0.79meq/gであった。
In a 300 ml three-necked flask equipped with a stirring rod and a stirring blade, a reflux condenser and a thermometer, 150 ml of methanol as a reaction solvent and 9.5 g of the obtained polymer having a cationic group and a reactive group were placed. Added and dissolved.
1.3 g of glycidyl methacrylate was added thereto, and the mixture was heated under reflux for 5 hours. This solution was poured into 1,000 ml of ethyl acetate, and the obtained precipitate was dried in vacuo to obtain 10.1 g of a polymer (P-1) having a cationic group and a radical reactive group in the present invention. The acid value of this polymer was 0.79 meq / g.

【0138】(合成例2、−1法)攪拌棒および攪拌
羽根、還流冷却器、および温度計を設置した300mlの
三つ口フラスコに、反応溶媒としてジメチルスルホキシ
ド150ml、合成例1で得られたカチオン性基と反応性
基を有するポリマー9.5gを加え溶解した。そこへ2
−(メタクリロイロキシ)エチルイソシアネート1.4
g及びジラウリン酸ジ-n−ブチルスズ3滴を加え、50
℃で5時間加熱攪拌した。この溶液を酢酸エチル100
0mlに投入し、得られた沈殿物を真空乾燥することによ
り、本発明におけるカチオン性基およびラジカル反応性
基を有するポリマー(P−2)を10.3g得た。この
ポリマーの酸価は0.84meq/gであった。
(Synthesis Example 2, Method -1) In a 300 ml three-necked flask equipped with a stirring rod and a stirring blade, a reflux condenser, and a thermometer, 150 ml of dimethyl sulfoxide as a reaction solvent was obtained in Synthesis Example 1. 9.5 g of a polymer having a cationic group and a reactive group was added and dissolved. There 2
-(Methacryloyloxy) ethyl isocyanate 1.4
g and 3 drops of di-n-butyltin dilaurate.
The mixture was heated and stirred at 5 ° C. for 5 hours. This solution is diluted with ethyl acetate 100
The resulting precipitate was dried under vacuum to obtain 10.3 g of a polymer (P-2) having a cationic group and a radical reactive group in the present invention. The acid value of this polymer was 0.84 meq / g.

【0139】(合成例3、−2法)攪拌棒および攪拌
羽根、還流冷却器、および温度計を設置した200mlの
三つ口フラスコに、反応溶媒としてメタノール50g、
ポリ(4−ビニルピリジン)(重量平均分子量20,00
0)10.5gを入れ溶解した。そこへ4−(クロロメチ
ル)スチレン6.1gを加え、8時間加熱還流した。この
溶液を酢酸エチル8000mlに投入し、得られた沈殿物
を真空乾燥することにより、本発明におけるカチオン性
基およびラジカル反応性基を有するポリマー(P−3)
を15.4g得た。
(Synthesis Example 3, Method 2) A 200 ml three-necked flask equipped with a stirring rod and stirring blade, a reflux condenser, and a thermometer was charged with 50 g of methanol as a reaction solvent.
Poly (4-vinylpyridine) (weight average molecular weight 20,000
0) 10.5 g was added and dissolved. Thereto was added 6.1 g of 4- (chloromethyl) styrene, and the mixture was refluxed for 8 hours. This solution was poured into 8000 ml of ethyl acetate, and the resulting precipitate was dried under vacuum to obtain a polymer (P-3) having a cationic group and a radical reactive group in the present invention.
Was obtained in an amount of 15.4 g.

【0140】(合成例4、−2法)攪拌棒および攪拌
羽根、還流冷却器、および温度計を設置した200mlの
三つ口フラスコに、反応溶媒としてメタノール50g、
ポリ〔(ジメチルアミノ)エチルメタクリレート〕(重
量平均分子量78,000)15.7gを入れ溶解した。そ
こへプロパルギルブロミド12.0gを加え、8時間加熱
還流した。この溶液を酢酸エチル800mlに投入し、得
られた沈殿物を真空乾燥することにより、本発明におけ
るカチオン性基およびラジカル反応性基を有するポリマ
ー(P−4)を21.3g得た。
(Synthesis Example 4, Method -2) In a 200 ml three-necked flask equipped with a stirring rod and a stirring blade, a reflux condenser, and a thermometer, 50 g of methanol was used as a reaction solvent.
15.7 g of poly [(dimethylamino) ethyl methacrylate] (weight average molecular weight 78,000) was added and dissolved. Thereto was added 12.0 g of propargyl bromide, and the mixture was heated under reflux for 8 hours. This solution was poured into 800 ml of ethyl acetate, and the resulting precipitate was dried under vacuum to obtain 21.3 g of a polymer (P-4) having a cationic group and a radical reactive group in the present invention.

【0141】(合成例5、−3法)攪拌棒および攪拌
羽根、還流冷却器、および温度計を設置した200mlの
三つ口フラスコに、反応溶媒としてメタノール80mlと
アセトン20ml、およびポリ(クロロメチルスチレン)
(重量平均分子量24,000)7.6gを入れ溶解した。
2−(ジメチルアミノ)エチルメタクリレート1.6gを
加え、40℃で3時間加熱した。そこへN−n−ブチル
アミン6.6gを加え、さらに40℃で3時間加熱した。
この溶液を酢酸エチル500mlに投入し、得られた沈殿
物を真空乾燥することにより、本発明におけるカチオン
性基およびラジカル反応性基を有するポリマー(P−
5)を12.4g得た。
(Synthesis Example 5, Method -3) In a 200 ml three-necked flask equipped with a stirring rod and a stirring blade, a reflux condenser and a thermometer, 80 ml of methanol, 20 ml of acetone and poly (chloromethyl) were used as reaction solvents. styrene)
7.6 g (weight average molecular weight 24,000) was added and dissolved.
1.6 g of 2- (dimethylamino) ethyl methacrylate was added and heated at 40 ° C. for 3 hours. 6.6 g of Nn-butylamine was added thereto, and the mixture was further heated at 40 ° C. for 3 hours.
This solution was poured into 500 ml of ethyl acetate, and the obtained precipitate was dried under vacuum to obtain a polymer having a cationic group and a radical reactive group (P-
5) was obtained in an amount of 12.4 g.

【0142】(合成例6、−4法)攪拌棒および攪拌
羽根、還流冷却器、および温度計を設置した200mlの
三つ口フラスコに、反応溶媒として2−メトキシエタノ
ール90g、〔2−(メタクリロイロキシ)エチル〕ト
リメチルアンモニウムメチルスルフェート(80重量%
簾水溶液)17.7g、アリルメタクリレート3.8g、お
よびメタクリル酸1.7gを入れ、窒素気流下、50℃で
30分攪拌し、均一溶液とした。そこへ重合開始剤とし
て2,2′−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリ
ル)1.24gを加え、80℃で8時間攪拌して重合を行
った。この溶液を酢酸エチル1000mlに投入し、得ら
れた沈殿物を真空乾燥することにより、本発明における
カチオン性基およびラジカル反応性基を有するポリマー
(P−6)を19.6g得た。このポリマーの酸価は0.9
6meq/gであった。
(Synthesis Example 6, Method -4) In a 200 ml three-necked flask equipped with a stirring rod and stirring blades, a reflux condenser, and a thermometer, 90 g of 2-methoxyethanol as a reaction solvent and [2- (methacrylic acid) were used. Loyloxy) ethyl] trimethylammonium methyl sulfate (80% by weight
17.7 g of a mat solution, 3.8 g of allyl methacrylate, and 1.7 g of methacrylic acid were added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 30 minutes under a nitrogen stream to obtain a uniform solution. Thereto was added 1.24 g of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as a polymerization initiator, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 8 hours to perform polymerization. This solution was poured into 1,000 ml of ethyl acetate, and the obtained precipitate was dried in vacuo to obtain 19.6 g of a polymer (P-6) having a cationic group and a radical reactive group in the present invention. The acid value of this polymer is 0.9
It was 6 meq / g.

【0143】(合成例7、−5法)攪拌棒および攪拌
羽根、還流冷却器、および温度計を設置した200mlの
三つ口フラスコに、反応媒体としてN,N−ジメチルア
セトアミド50g、および(4−ビニルベンジル)トリ
アリルアンモニウムヘキサフルオロホスフェート12.0
gを50℃で30分攪拌し、均一溶液とした。そこへ重
合開始剤として2,2′−アゾビス(2,4−ジメチル
バレロニトリル)0.15gを加え、80℃で7時間攪拌
して重合を行った。この溶液を水1000mlに投入し、
得られた沈殿物を真空乾燥することにより、本発明にお
けるカチオン性基およびラジカル反応性基を有するポリ
マー(P−7)を10.3g得た。
(Synthesis Example 7, Method -5) 50 g of N, N-dimethylacetamide as a reaction medium, and 200 g of a three-necked flask equipped with a stirring rod and a stirring blade, a reflux condenser, and a thermometer, and (4) -Vinylbenzyl) triallylammonium hexafluorophosphate 12.0
g was stirred at 50 ° C. for 30 minutes to obtain a homogeneous solution. Thereto was added 0.15 g of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as a polymerization initiator, and the mixture was stirred at 80 ° C for 7 hours to carry out polymerization. This solution is poured into 1000 ml of water,
The obtained precipitate was dried under vacuum to obtain 10.3 g of a polymer (P-7) having a cationic group and a radical reactive group in the present invention.

【0144】(実施例1〜6、比較例1〜3)以下の手
順で平版印刷版用原版を作製し、印刷性能を評価した。
結果を表2に示す。 〈支持体の前処理〉厚さ0.3mmの材質1Sのアルミニ
ウム板を8号ナイロンブラシと800メッシュのパミス
トンの水懸濁液を用いその表面を砂目立てした後、よく
水で洗浄した。10重量%水酸化ナトリウムに70℃で
60秒間浸漬してエッチングした後、流水で水洗後20
重量%硝酸で中和洗浄し、次いで水洗した。これをVA
=12.7Vの条件で、正弦波の交番波形電流を用いて
1重量%硝酸水溶液中で300クーロン/dm2の陽極時
電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測定
したところ、0.45μm(JIS B0601による
Ra表示)であった。
(Examples 1 to 6, Comparative Examples 1 to 3) A lithographic printing plate precursor was prepared by the following procedure, and the printing performance was evaluated.
Table 2 shows the results. <Pretreatment of Support> A surface of a 1S aluminum plate having a thickness of 0.3 mm was grained with a No. 8 nylon brush and an 800 mesh aqueous suspension of pamistone, and then washed thoroughly with water. After being immersed in 10% by weight of sodium hydroxide at 70 ° C. for 60 seconds for etching, washed with running water for 20 minutes.
It was neutralized and washed with weight% nitric acid and then washed with water. This is V A
Under the condition of = 12.7 V, an electrolytic surface roughening treatment was carried out in a 1% by weight nitric acid aqueous solution at an anode electricity of 300 coulomb / dm 2 using a sinusoidal alternating current. When the surface roughness was measured, it was 0.45 μm (Ra display according to JIS B0601).

【0145】〈支持体表面の親水化処理〉上記の支持体
を、3号ケイ酸ソーダ(SiO2=28〜30%、Na2
O=9〜10%、Fe=0.02%以下)の2.5重量
%、pH=11.2、70℃の水溶液に13秒浸漬し、
続いて水洗した。表面の蛍光X線分析により求めたSi
元素量から、表面シリケート量は10mg/m2であっ
た。
<Hydrophilic Treatment of Support Surface> The above support was treated with No. 3 sodium silicate (SiO 2 = 28 to 30%, Na 2
O = 9-10%, Fe = 0.02% or less) 2.5% by weight, pH = 11.2, immersed in 70 ° C. aqueous solution for 13 seconds,
Subsequently, it was washed with water. Si determined by X-ray fluorescence analysis of the surface
From the amount of elements, the amount of surface silicate was 10 mg / m 2 .

【0146】〈中間層の塗設〉上記の親水化支持体表面
上に、不揮発性成分の塗布量が10mg〜35mg/m
2となるようにように、下記(A)または(B)の組成
の塗布液を調製し、ホイラーにて180rpmの条件で
塗布後、80℃で30秒間乾燥させた。
<Coating of Intermediate Layer> On the surface of the above-mentioned hydrophilized support, the applied amount of the non-volatile component was 10 mg to 35 mg / m 2.
A coating solution having the following composition (A) or (B) was prepared so as to be 2 , applied by a wheeler at 180 rpm, and dried at 80 ° C. for 30 seconds.

【0147】 (中間層塗布液A) 合成例1〜7で合成した本発明のカチオン性基及びラジカル反応性基を有する ポリマー(下記表1中に記載の化合物) 0.07〜1.4 g 添加剤(下記表1中に記載の化合物)(カチオン性基及びラジカル反応性基を 有するポリマーに対して) 2〜100 重量% メタノール 200 g(Intermediate Layer Coating Solution A) The polymer having a cationic group and a radical reactive group of the present invention synthesized in Synthesis Examples 1 to 7 (compounds described in Table 1 below) 0.07 to 1.4 g Additives (compounds listed in Table 1 below) (based on polymer having cationic group and radical reactive group) 2 to 100% by weight methanol 200 g

【0148】 (中間層塗布液B) 合成例1〜7で合成した本発明のカチオン性基及びラジカル反応性基を有する ポリマー(表1中に記載の化合物) 0.07〜1.4 g 添加剤(下記表1中に記載の化合物)(カチオン性基及びラジカル反応性基を 有するポリマーに対して 20〜100 重量% メタノール 100 g 水 100 g(Intermediate Layer Coating Solution B) The polymer having the cationic group and the radical reactive group of the present invention synthesized in Synthesis Examples 1 to 7 (the compound described in Table 1) was added in an amount of 0.07 to 1.4 g. Agent (compound described in Table 1 below) (20 to 100% by weight based on polymer having cationic group and radical reactive group) 100 g of methanol 100 g of water

【0149】〈感光層の塗設〉上記中間層を設けた支持
体上に、下記組成の感光液を調製し、不揮発性成分の塗
布量が1.0〜2.0g/m2になるように、ホイラー
で塗布し、100℃で1分間乾燥させた。
<Coating of photosensitive layer> A photosensitive solution having the following composition was prepared on a support provided with the above-mentioned intermediate layer, and the coating amount of the non-volatile component was adjusted to 1.0 to 2.0 g / m 2. Was applied with a wheeler and dried at 100 ° C. for 1 minute.

【0150】 (感光液) 付加重合性化合物(表1中に記載の化合物) 1.5 g バインダーポリマー(表1中に記載の化合物) 2.0 g 増感色素(表1中に記載の化合物) 0.2 g 光重合開始剤(表1中に記載の化合物) 0.4 g 共増感剤(表1中に記載の化合物) 0.4 g 着色顔料分散物(下記組成) 2.0 g 熱重合禁止剤(N−ニトロソフェニル ヒドロキシルアミンアルミニウム塩) 0.01g 界面活性剤(大日本インキ化学工業(株)製、 メガファックF−177) 0.02g メチルエチルケトン 20.0 g プロピレングリコールモノメチルエーテル 20.0 g(Photosensitive solution) Addition polymerizable compound (compound described in Table 1) 1.5 g Binder polymer (compound described in Table 1) 2.0 g Sensitizing dye (compound described in Table 1) 0.2 g Photopolymerization initiator (compound described in Table 1) 0.4 g Co-sensitizer (compound described in Table 1) 0.4 g Color pigment dispersion (the following composition) 2.0 g Thermal polymerization inhibitor (N-nitrosophenyl hydroxylamine aluminum salt) 0.01 g Surfactant (Megafac F-177, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.02 g Methyl ethyl ketone 20.0 g Propylene glycol monomethyl ether 20.0 g

【0151】 上記着色顔料分散物の組成 Pigment Blue15:6 15重量部 アリルメタクリレート/メタクリル酸共重合体 10重量部 (共重合モル比83/17)熱重合 シクロヘキサノン 15重量部 メトキシプロピルアセテート 20重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 40重量部Composition of the Color Pigment Dispersion Pigment Blue 15: 6 15 parts by weight Allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer 10 parts by weight (copolymerization molar ratio 83/17) Thermal polymerization Cyclohexanone 15 parts by weight Methoxypropyl acetate 20 parts by weight propylene Glycol monomethyl ether 40 parts by weight

【0152】〈保護層の塗設〉上記感光層上にポリビニ
ルアルコール(ケン化度98モル%、重合度550)の
3重量%の水溶液を乾燥塗布重量が2g/m2となるように
塗布し、100℃で2分間乾燥した。
<Coating of Protective Layer> A 3% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (degree of saponification: 98 mol%, degree of polymerization: 550) was coated on the above photosensitive layer so that the dry coating weight was 2 g / m 2. And dried at 100 ° C. for 2 minutes.

【0153】〈平版印刷版用原版の露光〉上記のように
して得られた平版印刷版用原版をFD−YAG(532
nm)レーザ露光機(ハイデルベルグ社製プレートセッ
ター:グーテンベルグ)を用い、版面露光エネルギー密
度200μJ/cm2となる様に露光パワーを調節し、
ベタ画像露光および、2540dpi、175線/イン
チ、1%刻みで1から99%となる網点画像露光を行っ
た。
<Exposure of Lithographic Printing Plate Precursor> The lithographic printing plate precursor thus obtained was subjected to FD-YAG (532
nm) using a laser exposure machine (Heidelberg plate setter: Gutenberg), adjusting the exposure power so that the plate surface exposure energy density becomes 200 μJ / cm 2 ;
Solid image exposure and halftone image exposure at 2540 dpi, 175 lines / inch, 1% to 99% in 1% increments were performed.

【0154】〈現像/製版〉富士写真フイルム(株)製
自動現像機LP−850に所定の現像液と富士写真フイ
ルム(株)製フィニッシャーFP−2Wをそれぞれ仕込
み現像液温度30℃、現像時間18秒の条件で露光済み
の版を、現像/製版し、平版印刷版を得た。
<Development / Plate Making> A predetermined developing solution and a finisher FP-2W manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. were charged into an automatic developing machine LP-850 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., respectively. The plate that had been exposed under the conditions of seconds was developed / plate-making to obtain a lithographic printing plate.

【0155】〈耐刷性試験〉印刷機としてローランド社
製R201を使用し、インキとして大日本インキ社製G
EOS−G(N)を使用した。ベタ画像部の印刷物を観
察し、画像がかすれはじめた枚数によって耐刷性を調べ
た。数字が大きいほど耐刷性が良い。
<Printing durability test> R201 manufactured by Roland was used as a printing machine, and G was manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd. as an ink.
EOS-G (N) was used. The printed matter in the solid image area was observed, and the printing durability was examined based on the number of sheets at which the image began to fade. The higher the number, the better the printing durability.

【0156】〈網点耐刷性強制試験〉印刷機としてロー
ランド社製R201を使用し、インキとして大日本イン
キ社製GEOS−G(N)を使用した。印刷開始から5
000枚目に富士写真フイルム(株)製PSプレートク
リーナーCL−2を印刷用スポンジにしみこませ、網点
部を拭き、版面のインキを洗浄した。その後、10,0
00枚印刷を行い、印刷物における網点の版飛びの有無
を目視で観察した。
<Dot Printing Durability Compulsory Test> R201 manufactured by Roland was used as a printing machine, and GEOS-G (N) manufactured by Dainippon Ink was used as an ink. 5 from the start of printing
On the 000 th sheet, PS plate cleaner CL-2 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was soaked into a printing sponge, halftone dots were wiped off, and the ink on the plate surface was washed. Then, 10,0
The printing of 00 sheets was performed, and the presence or absence of halftone dot skipping in the printed matter was visually observed.

【0157】〈汚れ性試験〉印刷機としてローランド社
製R201を使用し、インキとして大日本インキ社製G
EOS−G(S)を使用した。印刷物の非画像部を観察
し、汚れ性を評価した。
<Stain test> R201 manufactured by Roland was used as a printing machine, and G was manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.
EOS-G (S) was used. The non-image portion of the printed matter was observed, and the stain property was evaluated.

【0158】[0158]

【表1】 [Table 1]

【0159】[0159]

【表2】 [Table 2]

【0160】(実施例7〜15、比較例4〜6)実施例
1〜6と同様に表3に示す平版印刷版用原版に関し性能
を評価した。
(Examples 7 to 15, Comparative Examples 4 to 6) The performance of the lithographic printing plate precursors shown in Table 3 was evaluated in the same manner as in Examples 1 to 6.

【0161】[0161]

【表3】 [Table 3]

【0162】[0162]

【表4】 [Table 4]

【0163】表2および表4から明らかなように、カチ
オン性基及びラジカル反応性基を有するポリマーを含有
する中間層を設けた平版印刷版用原版は、非常に優れた
耐刷性と汚れ性を与えた。
As is clear from Tables 2 and 4, a lithographic printing plate precursor provided with an intermediate layer containing a polymer having a cationic group and a radical-reactive group has extremely excellent press life and stain resistance. Gave.

【0164】以下に、表1および表3の中に記載された
各化合物を示す。
The compounds shown in Tables 1 and 3 are shown below.

【0165】[0165]

【化18】 Embedded image

【0166】〔表1および表3中の付加重合性化合物〕 (M−1) ペンタエリスリトールテトラアクリレート (新中村化学工業(株)製;NKエステルA−TMM
T) (M−2) グリセリンジメタクリレートヘキサメチレンジイソシア
ネートウレタンプレポリマー (共栄社化学(株)製;UA101H) 〔表1および表3中の光重合開始剤用素材〕
[Addition polymerizable compounds in Tables 1 and 3] (M-1) Pentaerythritol tetraacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .; NK ester A-TMM)
T) (M-2) Glycerin dimethacrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .; UA101H) [Materials for photopolymerization initiator in Tables 1 and 3]

【0167】[0167]

【化19】 Embedded image

【0168】〔表1および表3中のバインダーポリマ
ー〕 (B−1) アリルメタクリレート/メタクリル酸/N−イソプロピ
ルアクリルアミド(共重合モル比67/13/20) NaOH滴定により求めた実測酸価1.15meq/g GPC測定より求めた重量平均分子量13万 (B−2) アリルメタクリレート/メタクリル酸共重合体(共重合
モル比83/17) NaOH滴定により求めた実測酸価1.55meq/g GPC測定より求めた重量平均分子量12.5万
[Binder Polymers in Tables 1 and 3] (B-1) Allyl methacrylate / methacrylic acid / N-isopropylacrylamide (copolymerization molar ratio: 67/13/20) Actually measured acid value determined by NaOH titration. Weight average molecular weight 130,000 determined by 15 meq / g GPC measurement (B-2) Allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymer molar ratio 83/17) Actual measured acid value 1.55 meq / g GPC measurement determined by NaOH titration Weight average molecular weight of 125,000

【0169】(B−3) 下記ジイソシアネートとジオールの縮重合物であるポリ
ウレタン樹脂 4,4'−ジフェニルメタンジイソイソシネート(MD
I) ヘキサメチレンジイソシアネート(HMDI) ポリプロピレングリコール、重量平均分子量1000
(PPG1000) 2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオニックアシ
ッド(DMPA) 共重合モル比(MDI/HMDI/PPG1000/D
MPA)40/10/15/35 NaOH滴定により求めた実測酸価1.05meq/g GPC測定より求めた重量平均分子量4.5万
(B-3) Polyurethane resin 4,4'-diphenylmethane diisoisonate (MD) which is a condensation polymer of the following diisocyanate and diol
I) Hexamethylene diisocyanate (HMDI) polypropylene glycol, weight average molecular weight 1000
(PPG1000) 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid (DMPA) copolymer molar ratio (MDI / HMDI / PPG1000 / D
MPA) 40/10/15/35 Acid value measured by NaOH titration 1.05 meq / g Weight average molecular weight determined by GPC measurement 45,000

【0170】〔表1および表3中の現像液〕 (D−1) 下記組成からなるpH10の水溶液 モノエタノールアミン 0.1 重量部 トリエタノールアミン 1.5 重量部 下記式1の化合物 4.0 重量部 下記式2の化合物 2.5 重量部 下記式3の化合物 0.2 重量部 水 91.7 重量部[Developers in Tables 1 and 3] (D-1) Aqueous solution having the following composition and having a pH of 10: 0.1 parts by weight of monoethanolamine 1.5 parts by weight of triethanolamine Compound of the following formula 1 4.0 Parts by weight Compound of the following formula 2 2.5 parts by weight Compound of the following formula 3 0.2 parts by weight Water 91.7 parts by weight

【0171】[0171]

【化20】 Embedded image

【0172】上記(式1)中、R21は水素原子またはブ
チル基を表す。
In the above (formula 1), R 21 represents a hydrogen atom or a butyl group.

【0173】(D−2) 下記組成からなる水溶液 1Kケイ酸カリウム 3.0 重量部 水酸化カリウム 1.5 重量部 前記式3の化合物 0.2 重量部 水 95.3 重量部(D-2) Aqueous solution having the following composition 1 K potassium silicate 3.0 parts by weight Potassium hydroxide 1.5 parts by weight 0.2 part by weight of compound of formula 3 0.2 parts by weight 95.3 parts by weight of water

【0174】[0174]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の平版印刷
版用原版は、支持体と感光層の間にカチオン性基及びラ
ジカル反応性基を有するポリマーを含有する中間層を有
することにより、耐刷性と汚れ性に極めて優れたものと
することができた。また、本発明による平版印刷版用原
版はレーザ光による走査露光に十分な実用感度を有して
いる。
As described above, the lithographic printing plate precursor according to the present invention has an intermediate layer containing a polymer having a cationic group and a radical reactive group between a support and a photosensitive layer. The printing durability and stain resistance were extremely excellent. The lithographic printing plate precursor according to the present invention has sufficient practical sensitivity for scanning exposure with laser light.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA01 AA02 AA12 AA14 AB03 AC08 AD01 BC13 BC31 CB00 CB48 DA35 DA36 DA40 FA10 2H096 AA06 BA05 CA03 CA05 EA03 EA05 EA23  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page F term (reference) 2H025 AA01 AA02 AA12 AA14 AB03 AC08 AD01 BC13 BC31 CB00 CB48 DA35 DA36 DA40 FA10 2H096 AA06 BA05 CA03 CA05 EA03 EA05 EA23

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 親水化処理を施したアルミニウム支持体
上に、カチオン性基及びラジカル反応性基を有するポリ
マーを含有する中間層と、光重合開始剤、付加重合可能
なエチレン性不飽和結合を有する化合物、及び高分子バ
インダーを含有する光重合性感光層を設けてなる平版印
刷版用原版。
1. An intermediate layer containing a polymer having a cationic group and a radical reactive group, a photopolymerization initiator, and an addition-polymerizable ethylenically unsaturated bond are formed on an aluminum support subjected to a hydrophilic treatment. A lithographic printing plate precursor comprising a photopolymerizable photosensitive layer containing a compound having a polymer binder.
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