JP4288123B2 - Photopolymerization planographic printing plate making machine - Google Patents

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Description

本発明は、光重合性平版印刷版の製版方法及び製版装置に関するものである。   The present invention relates to a plate making method and a plate making apparatus for a photopolymerizable lithographic printing plate.

従来、特許文献1(特開2000−35673号公報)に記載のような平版印刷版の製版方法が知られているが、光重合性平版印刷版は、露光、現像などの製版条件により、網点再現性が変動するという問題があった。
例えば、露光直後に現像処理した場合には、3%(175線/インチ)に再現される小点が、露光後3分後に現像処理すると1%に細ってしまうというような現象があった。
光重合性平版印刷版の製版において網点再現性を安定させることが望まれていた。
特開2000−35673号公報
Conventionally, a method for making a lithographic printing plate as described in Patent Document 1 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-35673) is known. However, a photopolymerizable lithographic printing plate can be used depending on plate making conditions such as exposure and development. There was a problem that the point reproducibility fluctuated.
For example, when development processing is performed immediately after exposure, there is a phenomenon that a small dot reproduced at 3% (175 lines / inch) is reduced to 1% when development processing is performed 3 minutes after exposure.
It has been desired to stabilize halftone dot reproducibility in plate making of a photopolymerizable lithographic printing plate.
JP 2000-35673 A

本発明は、安定して良好な網点再現性を可能とする光重合性平版印刷版の製版装置を提供する。 The present invention provides a plate making apparatus for a photopolymerizable lithographic printing plate that enables stable and good halftone dot reproducibility.

本発明者は、光重合性平版印刷版の製版において、露光後、一定時間後に加熱処理を開始することで、網点再現性を良好にすることができることを見出した。
即ち、本発明は、酸素遮断層を有する光重合性平版印刷版に光照射によって潜像形成完了後、一定時間後に、加熱処理を開始することを特徴とする光重合性平版印刷版の製版方法、及び、酸素遮断層を有する光重合性平版印刷版に光によって潜像を形成し、現像を行い平版印刷版を作製する装置であって、潜像形成完了後、加熱処理を開始するまでの時間を制御することが可能な製版装置を提供するものである。
The inventor of the present invention has found that halftone dot reproducibility can be improved by starting a heat treatment after a certain time after exposure in plate making of a photopolymerizable lithographic printing plate.
That is, the present invention relates to a method for making a photopolymerizable lithographic printing plate, characterized in that after the completion of latent image formation by light irradiation on a photopolymerizable lithographic printing plate having an oxygen blocking layer, heat treatment is started after a certain time. And an apparatus for forming a latent image by light on a photopolymerizable lithographic printing plate having an oxygen blocking layer and developing it to produce a lithographic printing plate until the heat treatment is started after the latent image formation is completed. A plate making apparatus capable of controlling time is provided.

光重合性平版印刷版の製版において、露光直後と経時後での現像処理における網点再現性の変動は、次のように考えられる。
露光直後では、露光時に光重合性感光層中に発生したラジカルが生き残っており、現像部における加熱においても、残存しているラジカルがモノマーの重合に寄与し、網点を太らせる。一方、露光後、経時とともに、酸素遮断層(OC層)を透過してくる大気中の酸素や、感光層中の溶存酸素が、小点の上部からやサイドから、露光によって生じたラジカルを消滅させていく。そのため、経時後では現像部において加熱されても、残存しているラジカルが少なく、モノマーの重合が進まず、網点が細いままに留まる。特に、小点の周囲は、未露光部が多いため、溶存酸素が多く、小点再現性が著しく劣化しやい。
In plate making of a photopolymerizable lithographic printing plate, fluctuations in halftone dot reproducibility in development processing immediately after exposure and after aging are considered as follows.
Immediately after the exposure, radicals generated in the photopolymerizable photosensitive layer at the time of exposure survive, and the remaining radicals contribute to the polymerization of the monomer even during heating in the developing portion, and thicken the halftone dots. On the other hand, over time, after exposure, oxygen in the atmosphere that permeates the oxygen blocking layer (OC layer) and dissolved oxygen in the photosensitive layer extinguishes radicals generated by exposure from the top of the small dots and from the side. I will let you. For this reason, even when heated in the developing section after the passage of time, the remaining radicals are few, the polymerization of the monomers does not proceed, and the halftone dots remain thin. In particular, since there are many unexposed portions around the small dots, there is a large amount of dissolved oxygen, and the reproducibility of the small dots is likely to deteriorate significantly.

このような現象を踏まえ、本発明の酸素遮断層を有する光重合性平版印刷版の製版方法においては、酸素遮断層を有する光重合性平版印刷版に光照射によって潜像形成完了後、30秒後に、好ましくは30〜210秒後に、より好ましくは45〜180秒後に、更に好ましくは60〜150秒後に、加熱処理を開始することを特徴とする方法である。
潜像形成完了とは、版全体の光照射が完了し、版全体における潜像形成の完了を意味する。走査露光の場合、走査の完了が潜像形成完了に対応する。
潜像形成完了後、加熱処理を開始するまでの間に、所定の時間をとることにより、露光後の印刷版の感光層中の露光により発生したラジカルの濃度が安定し、良好な網点再現が可能となり、得られる印刷版が安定した品質を有するものとなる。
Based on such a phenomenon, in the plate making method of the photopolymerizable lithographic printing plate having an oxygen blocking layer of the present invention, 30 seconds after completion of latent image formation by light irradiation on the photopolymerizable lithographic printing plate having an oxygen blocking layer. The method is characterized in that the heat treatment is started later, preferably after 30 to 210 seconds, more preferably after 45 to 180 seconds, and still more preferably after 60 to 150 seconds.
Completion of latent image formation means completion of light irradiation on the entire plate and completion of latent image formation on the entire plate. In the case of scanning exposure, completion of scanning corresponds to completion of latent image formation.
By taking a predetermined time after the latent image is formed and before the heat treatment is started, the concentration of radicals generated by exposure in the photosensitive layer of the printing plate after exposure is stabilized, and good halftone dot reproduction is achieved. And the obtained printing plate has a stable quality.

良好な網点再現性で、光重合性平版印刷版からの製版ができる。   Plate making from a photopolymerizable lithographic printing plate can be performed with good halftone dot reproducibility.

上記の本発明の製版方法は、例えば、酸素遮断層を有する光重合性平版印刷版に光によって潜像を形成し、現像を行い平版印刷版を作製する装置であって、潜像形成完了後、現像を開始するまでの時間を制御することが可能な製版装置により行うことができる。
更に、本発明の製版装置は、以下のような機構を有することが好ましい。
(a)潜像形成完了後、加熱部における加熱処理を開始するまでの時間を制御して遅らせる場合と遅らせない場合を選択できる機構。
(b)潜像形成完了後、加熱処理開始までの時間を30秒以上に制御できる機構。
(c)潜像形成完了後、現像部に搬送する途中で、待機部で版を待機させることにより潜像形成完了後、加熱処理を開始するまでの時間を制御する機構、
(d)センサーで版を検知して待機部で版を停止するとともに、検知から所定時間経過した後に停止を解除して現像部に版を送ることにより潜像形成完了後、加熱処理を開始するまでの時間を制御する機構。
The plate-making method of the present invention is an apparatus for forming a lithographic printing plate by forming a latent image by light on a photopolymerizable lithographic printing plate having an oxygen blocking layer, and developing the latent image. The plate making apparatus can control the time until development is started.
Furthermore, the plate making apparatus of the present invention preferably has the following mechanism.
(A) A mechanism capable of selecting whether to delay by controlling the time until the heating process in the heating unit is started after the latent image formation is completed.
(B) A mechanism that can control the time from the completion of latent image formation to the start of heat treatment to 30 seconds or more.
(C) a mechanism for controlling the time from the completion of the latent image formation to the start of the heat treatment by waiting the plate in the standby unit during conveyance to the developing unit after completion of the latent image formation;
(D) The plate is detected by the sensor, the plate is stopped by the standby unit, and after a predetermined time has elapsed from the detection, the stop is released and the plate is sent to the developing unit to start the heating process after the latent image formation is completed. A mechanism to control the time until.

本発明の製版装置として、より具体的には、例えば、露光部、バッファー部、加熱部及び現像部を設けた製版装置により行うことができる。
本発明の製版装置は、例えば、図1に示すように、給版部1より版が供給され、露光を行う露光部2、露光後の光重合性平版印刷版(印刷版)を一時的に指定された時間だけ保持する機能/機構を有し搬送を行うバッファー部3、加熱部4、現像部5からなる。
More specifically, the plate making apparatus of the present invention can be carried out, for example, by a plate making apparatus provided with an exposure unit, a buffer unit, a heating unit, and a developing unit.
In the plate making apparatus of the present invention, for example, as shown in FIG. 1, a plate is supplied from a plate feeding unit 1, an exposure unit 2 that performs exposure, and a photopolymerizable planographic printing plate (printing plate) after exposure is temporarily stored. It consists of a buffer unit 3, a heating unit 4 and a developing unit 5 that have a function / mechanism for holding for a specified time and carry them.

以下、露光部、バッファー部、加熱部、現像部について詳細に説明する。
〔露光部〕
露光部の主要構成部位は、レーザー光源、レーザービームの走査機構、露光中の印刷版の固定機構、印刷版の搬入搬出機構、データ記憶装置、及びこれらの制御装置、制御/監視/入出力のためのコントロールパネル等がある。
レーザー光源の種類は主に発振波長で分けられ、赤外線、可視光線、紫外線等の光源があり、本発明では可視光線および紫外線レーザーが好適である。
レーザービームの走査機構には、被露光体である印刷版の固定形態により、フラットベッド型、インナードラム型、アウタードラム型等があり、例えば、インナードラム型は、円筒内面に印刷版を装着/固定し、円筒の中心軸上にレーザー光源及び高速回転するスピナーミラーを配して、スピナーミラーを軸上で移動させる。この時、レーザービームを画像データに従って点滅させることにより、潜像画像が印刷版に形成され露光が行われる。
これらの場合、最初に露光された部位と最後に露光された部位では一般的に30〜120秒の時間差が生じる。
本発明においては、版における最後に露光される部位の露光終了後(潜像形成完了後)、30秒以上後、好ましくは30〜210秒後、より好ましくは45〜180秒後、更に好ましくは60〜150秒後に、版の加熱処理を開始する。この時間は生産性の点からは短い方が好ましい。
Hereinafter, the exposure unit, the buffer unit, the heating unit, and the developing unit will be described in detail.
[Exposure part]
The main components of the exposure unit are a laser light source, a laser beam scanning mechanism, a printing plate fixing mechanism during exposure, a printing plate loading / unloading mechanism, a data storage device, and a control device for these, control / monitoring / input / output There is a control panel for that.
The types of laser light sources are mainly classified by the oscillation wavelength, and there are light sources such as infrared rays, visible rays, and ultraviolet rays. In the present invention, visible rays and ultraviolet lasers are suitable.
The laser beam scanning mechanism includes a flat bed type, an inner drum type, an outer drum type, etc., depending on the fixed form of the printing plate as the object to be exposed. For example, the inner drum type has a printing plate mounted on the inner surface of a cylinder. The laser light source and the spinner mirror rotating at high speed are arranged on the central axis of the cylinder, and the spinner mirror is moved on the axis. At this time, by flashing the laser beam according to the image data, a latent image is formed on the printing plate and exposure is performed.
In these cases, there is generally a time difference of 30 to 120 seconds between the first exposed part and the last exposed part.
In the present invention, after the exposure of the last exposed portion of the plate (after completion of latent image formation), after 30 seconds or more, preferably after 30 to 210 seconds, more preferably after 45 to 180 seconds, still more preferably. After 60 to 150 seconds, the plate heat treatment is started. This time is preferably shorter from the viewpoint of productivity.

〔バッファー部〕
潜像形成完了後、加熱処理開始までの時間を上述の30秒以上の所定時間とする制御は、露光後加熱処理までの印刷版の搬送速度を制御することによりできるが、露光部と加熱部の間にバッファー部を設けることにより印刷版の搬送速度を制御することが好ましい。
バッファー部は、図1示すように、露光部と加熱部の間に印刷版を一時的に静置保持するに必要なスペース空間を形成し、前述の潜像形成完了後、加熱処理開始までの時間を考慮し、バッファー部内で停止を含む搬送速度の制御によりバッファー部において所定の時間(バッファー時間)の間、印刷版を留めておき、バッファー時間を経過した後に印刷版を加熱部に導入させればよい。
[Buffer part]
The control to set the time from the completion of latent image formation to the start of the heat treatment to the above-described predetermined time of 30 seconds or more can be performed by controlling the conveyance speed of the printing plate until the heat treatment after the exposure. It is preferable to control the conveying speed of the printing plate by providing a buffer portion between them.
As shown in FIG. 1, the buffer unit forms a space necessary for temporarily holding the printing plate between the exposure unit and the heating unit, and after the latent image formation is completed, the heating process is started. In consideration of time, the printing plate is kept in the buffer unit for a predetermined time (buffer time) by controlling the conveyance speed including stopping in the buffer unit, and after the buffer time has passed, the printing plate is introduced into the heating unit. Just do it.

バッファー時間(印刷版がバッファー部内に存在する時間)は、印刷版が露光により潜像形成完了後バッファー部に入るまでの時間及びバッファー部を出て加熱処理開始までの時間を考慮し、潜像形成完了後加熱処理までの時間が30秒以上となるよう設定する。
即ち、潜像形成完了後加熱処理までの時間=印刷版が露光により潜像形成完了後バッファー部に入るまでの時間+印刷版がバッファー部内に存在する時間(バッファー時間)+バッファー部を出て加熱処理開始までの時間である。
また、バッファー時間不要の他種の印刷版を用いる場合に応じる、あるいは露光画像がバッファー時間不要の場合のために、バッファー時間を取らない設定も可能にしても良いことは言うまでもない。
The buffer time (time for which the printing plate exists in the buffer part) is determined by taking into account the time until the printing plate enters the buffer part after completion of latent image formation by exposure and the time from the buffer part to the start of heat treatment. The time from the completion of formation to the heat treatment is set to be 30 seconds or longer.
That is, the time from the completion of latent image formation to the heat treatment = the time until the printing plate enters the buffer portion after completion of the latent image formation by exposure + the time that the printing plate exists in the buffer portion (buffer time) + exit the buffer portion This is the time until the heat treatment starts.
Further, it goes without saying that it is possible to make a setting that does not take a buffer time in accordance with the case of using another type of printing plate that does not require a buffer time or when the exposure image does not require a buffer time.

バッファー部の構造の例を図2に示す、露光部2から印刷版を搬入する入り口と加熱部4へ搬出する出口を有する箱状体6の内部に、印刷版の搬入搬出用の搬送ロール7及び/または搬送ベルト8を配置し、駆動モーター9に連結させ、印刷版を搬送する。
印刷版の先端を検出する版検出センサー10を設置し、版検出センサー10が印刷版の先端を検出したらその信号を制御装置11に送り、制御装置11は搬送ロールの駆動モーター9を停止させると共にタイマーを作動させ予め設定した時間を経過した後に駆動モーター9を駆動し、搬送を再開すればよい。制御装置11は露光部などの他の制御装置内に配置することができる。
An example of the structure of the buffer unit is shown in FIG. 2. A transport roll 7 for loading and unloading the printing plate is provided inside a box-like body 6 having an entrance for loading the printing plate from the exposure unit 2 and an outlet for unloading the printing plate to the heating unit 4. And / or the conveyance belt 8 is arrange | positioned, it connects with the drive motor 9, and a printing plate is conveyed.
A plate detection sensor 10 for detecting the leading edge of the printing plate is installed, and when the plate detection sensor 10 detects the leading edge of the printing plate, the signal is sent to the control device 11, and the control device 11 stops the drive motor 9 of the transport roll. It is only necessary to operate the timer and drive the drive motor 9 after a preset time has elapsed to resume conveyance. The control device 11 can be arranged in another control device such as an exposure unit.

バッファー部内を所定の搬送速度で通過させること、また、必要により途中で停止させることにより、潜像形成完了後、加熱処理開始までの時間を30秒以上、好ましくは30〜210秒、より好ましくは45〜180秒、更に好ましくは60〜150秒に制御する。   By passing through the buffer section at a predetermined transport speed, and stopping as necessary, the time from completion of latent image formation to the start of heat treatment is 30 seconds or more, preferably 30 to 210 seconds, more preferably It is controlled to 45 to 180 seconds, more preferably 60 to 150 seconds.

また、露光装置の搬出口付近に余裕スペースがある場合には、露光終了後、露光ドラムからは搬出させ余裕スペースにバッファー時間だけ待機させてもよい。
この場合は装置全体の省スペースにも役立つ。以上のようにすれば、待機している間に次の露光操作しても露光ドラムが占有されていないので製版効率を低下させることはない。
また、露光装置の搬出口付近に余裕スペースが無い場合は、設定されたバッファー時間だけ印刷版を露光ドラム上に静置させておく方法も採ることが出来る。
Further, when there is a marginal space near the exit of the exposure apparatus, it may be unloaded from the exposure drum after the exposure is completed and wait for the buffer time in the marginal space.
In this case, it is useful for saving the space of the entire apparatus. In this way, even if the next exposure operation is performed while waiting, the exposure drum is not occupied, so the plate-making efficiency is not lowered.
In addition, when there is no surplus space in the vicinity of the carry-out port of the exposure apparatus, it is possible to adopt a method in which the printing plate is allowed to stand on the exposure drum for a set buffer time.

〔加熱部〕
加熱部では、印刷版の加熱処理、例えば50℃〜150℃の温度(好ましくは70〜130℃、更に好ましくは80〜120℃)で1秒〜5分の時間(好ましくは3秒〜2分、更に好ましくは5〜30秒)の加熱処理を行うところであり、一般的な自動現像機における現像前の加熱部も本発明における加熱部に相当する。例えば、後述の図3の自動現像機における加熱部13が本発明の方法における加熱部に相当する。
[Heating section]
In the heating unit, the printing plate is heat-treated, for example, at a temperature of 50 ° C. to 150 ° C. (preferably 70 to 130 ° C., more preferably 80 to 120 ° C.) for 1 second to 5 minutes (preferably 3 seconds to 2 minutes). Further, more preferably 5 to 30 seconds), and a heating part before development in a general automatic developing machine corresponds to the heating part in the present invention. For example, the heating unit 13 in the automatic processor shown in FIG. 3 described later corresponds to the heating unit in the method of the present invention.

〔現像部〕
現像部では、アルカリ現像液により光重合性感光性平版印刷版の未露光部の除去を行うが、一般的な自動現像機における現像部を使用することができる。例えば、後述の図3の自動現像機における現像槽15が本発明における現像部に相当する。
[Development part]
In the developing part, the unexposed part of the photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate is removed with an alkali developer, but the developing part in a general automatic developing machine can be used. For example, the developing tank 15 in the automatic processor shown in FIG. 3 described later corresponds to the developing unit in the present invention.

本発明における加熱部及び現像部を有する自動現像機の一例を図3に示す。
光重合性感光性平版印刷版用の自動現像機12は、例えば、順次に加熱部13、プレ水洗槽14、現像槽15、水洗槽16、ガム槽17及び乾燥部18より成る。
An example of an automatic developing machine having a heating section and a developing section in the present invention is shown in FIG.
The automatic developing machine 12 for the photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate comprises, for example, a heating part 13, a pre-washing tank 14, a developing tank 15, a washing tank 16, a gum tank 17, and a drying part 18 in this order.

加熱部13では、画像露光後、現像までの間に、光重合性感光層の硬化率を高める目的で50℃〜150℃の温度で1秒〜5分の時間の加熱プロセスである。
プレ水洗槽14では、光重合性感光性平版印刷版の酸素遮断層を水洗除去する。現像処理が進むにつれて、プレ水洗槽14に溶解した水溶性樹脂濃度が増加し、溶解除去性が劣り、カスが発生するために、水の補充が必要である。尚、自動現像機12の電源をONにしている場合やOFFにしている場合に、プレ水洗槽14から水が自然に揮発するために、光重合性感光性平版印刷版の処理量とは別に揮発する水と同じ量の水を補充することが好ましい。
The heating unit 13 is a heating process for 1 second to 5 minutes at a temperature of 50 ° C. to 150 ° C. for the purpose of increasing the curing rate of the photopolymerizable photosensitive layer between image exposure and development.
In the pre-water washing tank 14, the oxygen blocking layer of the photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate is removed by washing with water. As the development process proceeds, the concentration of the water-soluble resin dissolved in the pre-water washing tank 14 increases, so that the dissolution and removal properties are inferior and waste is generated. Therefore, it is necessary to replenish water. In addition, when the power of the automatic processor 12 is turned on or off, water is volatilized spontaneously from the pre-washing tank 14, so that it is different from the processing amount of the photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate. It is preferable to replenish the same amount of water as the volatilizing water.

現像槽15では、アルカリ現像液により光重合性感光性平版印刷版の未露光部を除去する。本発明に於いては、光重合性感光性平版印刷版の版材の処理量に応じて水、現像補充原液等の補充量を変更することにより、現像槽15のpH等を適正な状態に維持することができる。尚、自動現像機12の電源をONにしている場合やOFFにしている場合、大気中の炭酸ガスでpHが自然に低下するので、光重合性感光性平版印刷版の処理量とは別に炭酸ガスで低下したpHを一定に回復させる為の補充を行うことが好ましい。   In the developing tank 15, the unexposed portion of the photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate is removed with an alkali developer. In the present invention, the pH of the developing tank 15 is adjusted to an appropriate state by changing the replenishment amount of water, development replenishment stock solution, etc. according to the processing amount of the plate material of the photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate. Can be maintained. In addition, when the power of the automatic processor 12 is turned on or off, the pH is naturally lowered by carbon dioxide gas in the atmosphere, so that the carbon dioxide is separated from the processing amount of the photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate. It is preferable to perform replenishment for recovering the pH lowered by the gas to a constant level.

水洗槽16では、現像後の版の表面に残っているアルカリ現像液を除去し、次工程のガム槽17へのアルカリ液持ち込みを減少させる目的で、版を水洗する。尚、自動現像機1の電源をONにしている場合やOFFにしている場合、水が自然に揮発する分を補うように、揮発する分と同じ量の水を別に補充することが好ましい。   In the water washing tank 16, the plate is washed with water for the purpose of removing the alkali developer remaining on the surface of the developed plate and reducing the amount of alkali solution brought into the gum bath 17 in the next step. When the power of the automatic developing machine 1 is turned on or off, it is preferable to replenish the same amount of water as the volatilized amount so as to compensate for the volatilized water naturally.

ガム槽17では、ガムを塗布し、アルカリ性となった感材の樹脂を酸に戻して現像による画像部のダメージを抑制するとともに非画像部の汚れや傷を防止する。尚、自動現像機の電源をONにしている場合やOFFにしている場合、
自然に水が揮発するために、光重合性感光性平版印刷版の処理量とは別に揮発した水と同じ量の水を補充することが好ましい。
In the gum tank 17, the gum is applied and the alkaline resin is returned to the acid to suppress damage to the image area due to development and to prevent stains and scratches on the non-image area. If the automatic processor is turned on or off,
In order for water to volatilize naturally, it is preferable to replenish the same amount of water as the volatilized water separately from the processing amount of the photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate.

〔その他の構成〕
なお、製版装置は、より作業効率を向上させるため、露光部の前段には給版部を設けて少なくとも1種類以上の印刷版を分別/貯載しておくと共に、合紙を除去し製版作動時には所定の印刷版を1枚ずつ分離/取り出して露光部に供給する機能及び機構を有することが好ましい。給版部が無い場合には、作業者が1枚ずつ露光装置に供給する場合もある。また、現像部の後段には通常はストッカーを設け、現像処理後の印刷版を集積しておくことが好ましい。
[Other configurations]
In order to further improve the work efficiency, the plate-making apparatus is provided with a plate-feeding unit at the front stage of the exposure unit to sort / store at least one type of printing plate, and to remove the interleaf and make the plate-making operation. Sometimes it is preferable to have a function and mechanism for separating / removing predetermined printing plates one by one and supplying them to the exposure unit. When there is no plate feeding unit, the worker may supply the exposure apparatus one by one. Further, it is preferable that a stocker is usually provided at the subsequent stage of the developing section, and the printing plates after the development processing are accumulated.

製版装置のその他の構成についても、従来の製版装置におけるものを適宜応用することができる。   As for other configurations of the plate making apparatus, those in the conventional plate making apparatus can be applied as appropriate.

〔光重合性平版印刷版〕
次に、本発明において使用される光重合性平版印刷版について説明する。
本発明において製版される光重合性平版印刷版は、酸素遮断層を有する光重合性平版印刷版である限りとくに限定されない。
以下に、好ましい光重合性平版印刷版について説明する。
[Photopolymerizable planographic printing plate]
Next, the photopolymerizable lithographic printing plate used in the present invention will be described.
The photopolymerizable lithographic printing plate produced in the present invention is not particularly limited as long as it is a photopolymerizable lithographic printing plate having an oxygen blocking layer.
Hereinafter, preferred photopolymerizable lithographic printing plates will be described.

〔酸素遮断層〕
酸素遮断層は、光重合性感光層が酸素による重合禁止作用をうけるのを防止するために、保護層として設けられる。
好ましい酸素遮断層として、少なくともポリビニルアルコールを含有する保護層を挙げることができる。
(Oxygen barrier layer)
The oxygen blocking layer is provided as a protective layer in order to prevent the photopolymerizable photosensitive layer from undergoing a polymerization inhibiting action due to oxygen.
A preferable oxygen barrier layer includes a protective layer containing at least polyvinyl alcohol.

ポリビニルアルコールとしては、ポリビニルアルコール、及びその部分エステル、エーテル、及びアセタール(これらを総称してポリビニルアルコール誘導体ともいう)、又はそれらに必要な水溶性を有しせしめるような実質的量の未置換ビニルアルコール単位を含有するその共重合体等が挙げられる。ポリビニルアルコールとしては、例えば71〜100%加水分解され、重合度が300〜2400の範囲のもの等が挙げられる。具体的には株式会社クラレ製PVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−117H、PVA−120、PVA−124、PVA−124H、PVA−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−203、PVA−204、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−217EE、PVA−220、PVA−224、PVA−217EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−224E、PVA−405、PVA−420、PVA−613、L−8等が挙げられる。上記の共重合体としては、88〜100%加水分解されたポリビニルアセテートクロロアセテート又はプロピオネート、ポリビニルホルマール及びポリビニルアセタール及びそれらの共重合体、ポリビニルアルコールを4級アンモニウム塩によりカチオン変性したもの、スルホン酸ソーダ等によりアニオン変性したもの等が挙げられる。   Polyvinyl alcohol includes polyvinyl alcohol and its partial esters, ethers, and acetals (collectively also referred to as polyvinyl alcohol derivatives), or a substantial amount of unsubstituted vinyl that makes them necessary water-soluble. Examples thereof include a copolymer containing an alcohol unit. Examples of polyvinyl alcohol include those having a hydrolysis degree of 71 to 100% and a polymerization degree in the range of 300 to 2400. Specifically, Kuraray Co., Ltd. PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA- 203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA-420, PVA-613, L-8, etc. are mentioned. Examples of the copolymer include polyvinyl acetate chloroacetate or propionate hydrolyzed 88 to 100%, polyvinyl formal and polyvinyl acetal and copolymers thereof, polyvinyl alcohol cation-modified with quaternary ammonium salt, sulfonic acid Examples include anion-modified with soda.

場合によっては、ビニルピロリドン系樹脂を添加してもよい。
ビニルピロリドン系樹脂としては、ビニルピロリドンと他のモノマー成分との共重合体であってもかまわない。他のモノマー成分としては、特に限定されないが、後述の光重合性感光層における、付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物と同様のものが挙げられる。
本発明に使用されるビニルピロリドン系樹脂の具体例としては、例えば、ルビテックVA 37E、37I、55I、64P、64W、73E、73W(以上、ビーエスエフジャパン製)等を挙げることができる。
In some cases, a vinylpyrrolidone resin may be added.
The vinyl pyrrolidone resin may be a copolymer of vinyl pyrrolidone and other monomer components. Although it does not specifically limit as another monomer component, The thing similar to the compound which has the ethylenically unsaturated bond which can be addition-polymerized in the photopolymerizable photosensitive layer mentioned later is mentioned.
Specific examples of the vinylpyrrolidone-based resin used in the present invention include, for example, Rubitec VA 37E, 37I, 55I, 64P, 64W, 73E, 73W (above, manufactured by BSF Japan).

本発明においてビニルピロリドン系樹脂は、その重量平均分子量は、10000〜500000、好ましくは15000〜200000、更に好ましくは20000〜100000である。
ポリビニルアルコールとビニルピロリドン系樹脂の合計に対するビニルピロリドン系樹脂の割合は0〜20質量%であり、より好ましくは1〜15質量%である。
In the present invention, the vinylpyrrolidone-based resin has a weight average molecular weight of 10,000 to 500,000, preferably 15,000 to 200,000, and more preferably 20,000 to 100,000.
The ratio of the vinyl pyrrolidone resin to the total of the polyvinyl alcohol and the vinyl pyrrolidone resin is 0 to 20% by mass, more preferably 1 to 15% by mass.

保護層は、後述される通り、感光層上に設けられるが、その設け方としては塗布が挙げられ、塗布する場合には、溶媒が用いられるのが一般的である。塗布する際用いる溶媒としては、水が好ましいが、メタノール、エタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類を水と混合したもの等が挙げられる。そして塗布溶液中の固形分の濃度は1〜20質量%が適当である。
本発明の保護層には更に塗布性を向上させるための界面活性剤、皮膜の物性を改良するための水溶性の可塑剤等の公知の添加剤を加えてもよい。
水溶性の可塑剤としては例えば、プロピオンアミド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトール等が挙げられる。また、水溶性の(メタ)アクリル系ポリマー等を添加してもよい。
その被覆量は乾燥後の質量で約0.1/m2〜約15/m2の範囲が適当である。より好ましくは1.0/m2〜約5.0/m2である。
As will be described later, the protective layer is provided on the photosensitive layer. Examples of the method for providing the protective layer include coating. In the case of coating, a solvent is generally used. The solvent used for coating is preferably water, but examples thereof include alcohols such as methanol and ethanol, and ketones such as acetone and methyl ethyl ketone mixed with water. The concentration of the solid content in the coating solution is suitably 1 to 20% by mass.
The protective layer of the present invention may further contain known additives such as a surfactant for improving the coating property and a water-soluble plasticizer for improving the physical properties of the film.
Examples of the water-soluble plasticizer include propionamide, cyclohexanediol, glycerin, sorbitol and the like. Further, a water-soluble (meth) acrylic polymer or the like may be added.
The coating amount is suitably in the range of about 0.1 / m 2 to about 15 / m 2 in terms of the mass after drying. More preferably, it is 1.0 / m 2 to about 5.0 / m 2 .

次に、本発明の光重合性平版印刷版を構成する、光重合性感光層について説明する。光重合性感光層は、下記i)〜iii)成分を含有する光重合性感光層組成物からなるのが好ましい。
i)少なくとも一種の付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物
ii)光重合開始剤
iii)高分子バインダー
Next, the photopolymerizable photosensitive layer constituting the photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention will be described. The photopolymerizable photosensitive layer is preferably composed of a photopolymerizable photosensitive layer composition containing the following components i) to iii).
i) At least one compound having addition-polymerizable ethylenically unsaturated bond ii) Photopolymerization initiator iii) Polymer binder

〔付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物〕
本発明の光重合性感光層に含有される付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物は、光重合末端であるエチレン性不飽和二重結合基を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物の中から任意に選択することができる。
例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、またはこれらの混合物ならびにこれらの共重合体等の化学的形態をもつものである。
モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等)と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド等が挙げられる。
[Compound having an ethylenically unsaturated bond capable of addition polymerization]
The compound having an addition-polymerizable ethylenically unsaturated bond contained in the photopolymerizable photosensitive layer of the present invention has at least one, preferably two or more ethylenically unsaturated double bond groups as photopolymerization terminals. Any one of the compounds can be selected.
For example, it has a chemical form such as a monomer, a prepolymer, that is, a dimer, a trimer and an oligomer, or a mixture thereof and a copolymer thereof.
Examples of monomers and copolymers thereof include esters of unsaturated carboxylic acids (eg, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.) with aliphatic polyhydric alcohol compounds, unsaturated Examples include amides of carboxylic acids and aliphatic polyvalent amine compounds.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。   Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, Examples include polyester acrylate oligomers.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p (3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。   Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate.

クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。
イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。
マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。
更に、前述のエステルモノマーの混合物もあげることができる。
Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate.
Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.
Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.
Furthermore, the mixture of the above-mentioned ester monomer can also be mention | raise | lifted.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等が挙げられる。
その他の例としては、特公昭48−41708号公報中に記載されている1分子中に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記の一般式(A)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加せしめた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
CH2=C(Q1)COOCH2CH(Q2)OH(A)
(ただし、Q1及びQ2は、独立してHあるいはCH3を示す。)
Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like.
As another example, the polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule described in JP-B-48-41708 contains a hydroxyl group represented by the following general formula (A). Examples thereof include a vinyl urethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule to which a vinyl monomer is added.
CH 2 = C (Q 1 ) COOCH 2 CH (Q 2 ) OH (A)
(However, Q 1 and Q 2 independently represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号の各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。更に日本接着協会誌Vol.20、No.7、300〜308頁(1984年)に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも、使用することができる。   Further, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490 are described. Polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid can be used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association Vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), those introduced as photocurable monomers and oligomers can also be used.

具体的には、NKオリゴ U−4HA、U−4H、U−6HA、U−108A、U−1084A、U−200AX、U−122A、U−340A、U−324A、UA−100(以上、新中村化学工業製)、UA−306H、AI−600、UA−101T、UA−101I、UA−306T、UA−306I(以上、共栄社油脂製)、アートレジン UN−9200A、UN−3320HA、UN−3320HB、UN−3320HC、SH−380G、SH−500、SH−9832(以上、根上工業製)等を挙げることができる。   Specifically, NK oligo U-4HA, U-4H, U-6HA, U-108A, U-1084A, U-200AX, U-122A, U-340A, U-324A, UA-100 (above, new Nakamura Chemical Co., Ltd.), UA-306H, AI-600, UA-101T, UA-101I, UA-306T, UA-306I (above, manufactured by Kyoeisha Yushi), Art Resin UN-9200A, UN-3320HA, UN-3320HB , UN-3320HC, SH-380G, SH-500, SH-9832 (manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.) and the like.

なお、これらエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の使用量は、光重合感光層の全成分の5〜90質量%、好ましくは10〜80質量%の範囲で使用される。   In addition, the usage-amount of the compound which has these ethylenically unsaturated double bonds is 5-90 mass% of all the components of a photopolymerization photosensitive layer, Preferably it is used in the range of 10-80 mass%.

〔光重合開始剤〕
次いで、本発明の光重合性感光層中に含有される光重合開始剤について説明する。
本発明の感光性平版印刷版の光重合性感光層中に含有される光重合開始剤としては、使用する光源の波長により、特許、文献等で公知である種々の光重合開始剤、あるいは2種以上の光重合開始剤の併用系(光重合開始系)を適宜選択して使用することができる。なお、本発明においては単独で用いる光重合開始剤、2種以上の光重合開始剤を併用した系を総括して単に光重合開始剤または光開始剤ともいう。
例えば400nm付近の光を光源として用いる場合、ベンジル、ベンゾイルエーテル、ミヒラーズケトン、アントラキノン、チオキサントン、アクリジン、フェナジン、ベンゾフェノン等が広く使用されている。
(Photopolymerization initiator)
Next, the photopolymerization initiator contained in the photopolymerizable photosensitive layer of the present invention will be described.
As the photopolymerization initiator contained in the photopolymerizable photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention, various photopolymerization initiators known in patents, literatures, etc., depending on the wavelength of the light source used, or 2 A combined system (photopolymerization initiation system) of two or more kinds of photopolymerization initiators can be appropriately selected and used. In the present invention, a system using a photopolymerization initiator used alone or two or more photopolymerization initiators is collectively referred to simply as a photopolymerization initiator or a photoinitiator.
For example, when light near 400 nm is used as a light source, benzyl, benzoyl ether, Michler's ketone, anthraquinone, thioxanthone, acridine, phenazine, benzophenone, and the like are widely used.

また、400nm以上の可視光線、Arレーザー、半導体レーザーの第2高調波、SHG−YAGレーザーを光源とする場合にも、種々の光開始剤が提案されており、例えば、米国特許第2,850,445号に記載の、ある種の光還元性染料、例えばローズベンガル、エオシン、エリスロシン等、あるいは、染料と光開始剤との組み合わせによる系、例えば、染料とアミンの複合開始系(特公昭44−20189号)、ヘキサアリールビイミダゾールとラジカル発生剤と染料との併用系(特公昭45−37377号)、ヘキサアリールビイミダゾールとp−ジアルキルアミノベンジリデンケトンの系(特公昭47−2528号、特開昭54−155292号)、環状シス−α−ジカルボニル化合物と染料の系(特開昭48−84183号)、環状トリアジンとメロシアニン色素の系(特開昭54−151024号)、3−ケトクマリンと活性剤の系(特開昭52−112681号、特開昭58−15503号)、ビイミダゾール、スチレン誘導体、チオールの系(特開昭59−140203号)、有機過酸化物と色素の系(特開昭59−1504号、特開昭59−140203号、特開昭59−189340号、特開昭62−174203号、特公昭62−1641号、米国特許第4,766,055号)、染料と活性ハロゲン化合物の系(特開昭63−178105号、特開昭63−258903号、特開平2−63054号等)、染料とボレート化合物の系(特開昭62−143044号、特開昭62−150242号、特開昭64−13140号、特開昭64−13141号、特開昭64−13142号、特開昭64−13143号、特開昭64−13144号、特開昭64−17048号、特開平1−229003号、特開平1−298348号、特開平1−138204号等)、ローダニン環を有する色素とラジカル発生剤の系(特開平2−179643号、特開平2−244050号)、チタノセンと3−ケトクマリン色素の系(特開昭63−221110号)、チタノセンとキサンテン色素更にアミノ基あるいはウレタン基を含む付加重合可能なエチレン性不飽和化合物を組み合わせた系(特開平4−221958号、特開平4−219756号)、チタノセンと特定のメロシアニン色素の系(特開平6−295061号)、チタノセンとベンゾピラン環を有する色素の系(特開平8−334897号)等を挙げることができる。   Various photoinitiators have also been proposed in the case of using visible light of 400 nm or more, Ar laser, second harmonic of a semiconductor laser, or SHG-YAG laser as a light source, for example, US Pat. No. 2,850. 445, a certain photoreducible dye, such as rose bengal, eosin, erythrosine, or the like, or a combination of a dye and a photoinitiator, such as a complex initiator system of a dye and an amine (Japanese Patent Publication No. 44). -20189), a combination system of hexaarylbiimidazole, a radical generator and a dye (Japanese Patent Publication No. 45-37377), a system of hexaarylbiimidazole and p-dialkylaminobenzylidene ketone (Japanese Patent Publication No. 47-2528, No. 54-155292), a system of a cyclic cis-α-dicarbonyl compound and a dye (Japanese Patent Laid-Open No. 48-84183) Cyclic triazine and merocyanine dye systems (Japanese Patent Laid-Open No. 54-151024), 3-ketocoumarin and activator systems (Japanese Patent Laid-Open Nos. 52-111261, 58-15503), biimidazole, styrene derivatives, thiols System (Japanese Patent Laid-Open No. 59-140203), organic peroxide and dye system (Japanese Patent Laid-Open Nos. 59-1504, 59-140203, 59-189340, 62-62) No. 174203, Japanese Patent Publication No. 62-1641, US Pat. No. 4,766,055), dyes and active halogen compounds (Japanese Patent Laid-Open Nos. 63-178105, 63-258903, and 2-63054). Etc.), dye and borate compound systems (JP-A-62-143044, JP-A-62-1050242, JP-A-64-13140, JP-A-64-13141) JP-A-64-13142, JP-A-64-13143, JP-A-64-13144, JP-A-64-17048, JP-A-1-229003, JP-A-1-298348, JP-A-1 138204), dyes having a rhodanine ring and radical generators (Japanese Patent Laid-Open Nos. 2-179643 and 2-244050), titanocene and 3-ketocoumarin dyes (Japanese Patent Laid-Open No. 63-221110) , Titanocenes and xanthene dyes, and systems comprising addition-polymerizable ethylenically unsaturated compounds containing amino groups or urethane groups (JP-A-4-221958, JP-A-4-219756), systems of titanocene and specific merocyanine dyes (Japanese Patent Laid-Open No. 6-295061), a dye system having a titanocene and a benzopyran ring (Japanese Patent Laid-Open No. 8-3344897), etc. It can be mentioned.

好ましい光開始剤は、色素として、シアニン系、メロシアニン系、キサンテン系、ケトクマリン系、ベンゾピラン系色素を用い、開始剤としてチタノセン化合物、トリアジン化合物を用いた組合せである。
シアニン系色素として好ましくは下記の構造を有するものが挙げられるが、特に限定されない。
A preferred photoinitiator is a combination using a cyanine-based, merocyanine-based, xanthene-based, ketocoumarin-based, or benzopyran-based pigment as the pigment, and a titanocene compound or a triazine compound as the initiator.
Preferred cyanine dyes include those having the following structure, but are not particularly limited.

Figure 0004288123
Figure 0004288123

(式中、Z1およびZ2はベンゾイミダゾールまたはナフトイミダゾール環を形成するのに必要な非金属原子群を表わし、同一でも異なっていてもよい。R24、R25、R26およびR27はそれぞれ置換されていてもよいアルキル基を表わす。X-は対アニオンを表わし、nは0または1である。) (In the formula, Z 1 and Z 2 represent a group of nonmetallic atoms necessary for forming a benzimidazole or naphthimidazole ring, and may be the same or different. R 24 , R 25 , R 26 and R 27 represent Each represents an optionally substituted alkyl group, X represents a counter anion, and n is 0 or 1.)

下の表1にシアニン系色素の具体例を示す。   Table 1 below shows specific examples of cyanine dyes.

Figure 0004288123
Figure 0004288123

メロシアニン系色素として好ましくは下記の構造を有するものが挙げられるが、特に限定されない。   The merocyanine dye preferably has the following structure, but is not particularly limited.

Figure 0004288123
Figure 0004288123

(式中、Z1、Z2はそれぞれシアニン色素で通常用いられる5員環及び/又は6員環の含窒素複素環を形成するに必要な非金属原子群を表わす。R28、R29はそれぞれアルキル基を表わす。Q1とQ2は組み合わせることにより、4−チアゾリジノン環、5−チアゾリジノン環、4−イミダゾリジノン環、4−オキサゾリジノン環、5−オキサゾリジノン環、5−イミダゾリジノン環または4−ジチオラノン環を形成するに必要な原子群を表わす。L1、L2、L3、L4及びL5はそれぞれメチン基を表わす。mは1又は2を表わす。i、hはそれぞれ0又は1を表わす。lは1又は2を表わす。j、kはそれぞれ0、1、2又は3を表わす。X-は、対アニオンを表わす。) (Wherein Z 1 and Z 2 each represent a nonmetallic atom group necessary for forming a 5-membered ring and / or a 6-membered nitrogen-containing heterocycle usually used in a cyanine dye. R 28 and R 29 are Each represents an alkyl group, wherein Q 1 and Q 2 are combined to form a 4-thiazolidinone ring, a 5-thiazolidinone ring, a 4-imidazolidinone ring, a 4-oxazolidinone ring, a 5-oxazolidinone ring, a 5-imidazolidinone ring, or A group of atoms necessary to form a 4-dithiolanone ring, L 1 , L 2 , L 3 , L 4 and L 5 each represents a methine group, m represents 1 or 2, i and h each represents 0 or .j represents .l is representing one or 2 1, k represents each 0, 1, 2 or 3 .X - represents a counter anion).

Figure 0004288123
Figure 0004288123

(式中R30およびR31は各々独立して水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アルコキシカルボニル基、アリール基、置換アリール基またはアラルキル基を表わす。Aは酸素原子、イオウ原子、セレン原子、テルル原子、アルキルないしはアリール置換された窒素原子、またはジアルキル置換された炭素原子を表わす。Xは含窒素ヘテロ五員環を形成するのに必要な非金属原子群を表わす。Yは置換フェニル基、無置換ないしは置換された多核芳香環、または無置換ないしは置換されたヘテロ芳香環を表わす。Zは水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、置換アミノ基、アシル基、またはアルコキシカルボニル基を表わし、Yと互いに結合して環を形成していてもよい。) Wherein R 30 and R 31 are each independently a hydrogen atom, alkyl group, substituted alkyl group, alkenyl group, substituted alkenyl group, alkynyl group, substituted alkynyl group, alkoxycarbonyl group, aryl group, substituted aryl group or aralkyl group. A represents an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, a tellurium atom, an alkyl or aryl-substituted nitrogen atom, or a dialkyl-substituted carbon atom, and X is necessary to form a nitrogen-containing hetero five-membered ring. Y represents a substituted phenyl group, an unsubstituted or substituted polynuclear aromatic ring, or an unsubstituted or substituted heteroaromatic ring, and Z represents a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl Group, substituted aryl group, aralkyl group, alkoxy group, alkylthio group, arylthio group, substituted amino group An acyl group or an alkoxycarbonyl group,, Y and may be bonded to each other to form a ring.)

以下にメロシアニン系色素の具体例を示す。   Specific examples of merocyanine dyes are shown below.

Figure 0004288123
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Figure 0004288123
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キサンテン系色素としては、ローダミンB、ローダミン6G、エチルエオシン、アルコール可溶性エオシン、ピロニンY、ピロニンB等を挙げることができる。   Examples of the xanthene dye include rhodamine B, rhodamine 6G, ethyl eosin, alcohol-soluble eosin, pyronin Y, and pyronin B.

ケトクマリン系色素として好ましくは下記の構造を有するものが挙げられるが、特に限定されない。   Ketocoumarin dyes preferably include those having the following structure, but are not particularly limited.

Figure 0004288123
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(式中、R32、R33およびR34はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はアルコキシ基を表わし、R35およびR36はそれぞれアルキル基を表わすが、少なくとも一方が炭素数4〜16個のアルキル基を表わし、R37は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、シアノ基、カルボキシル基、もしくはそれのエステル誘導体またはアミド誘導体の基を表わし;R38は炭素原子の総数が3〜17個の複素環残基−CO−R39を表わし、R33とR34、R35とR36は互いに結合して環を形成してもよい。ここでR39は下に示す基である。) (In the formula, R 32 , R 33 and R 34 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, and R 35 and R 36 each represent an alkyl group, at least one of which has 4 to 16 carbon atoms. R 37 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an acyl group, a cyano group, a carboxyl group, or a group of an ester derivative or an amide derivative thereof; R 38 represents a total number of carbon atoms of 3 to 3; Represents 17 heterocyclic residues -CO-R 39 , R 33 and R 34 , R 35 and R 36 may be bonded to each other to form a ring, wherein R 39 is a group shown below; .)

Figure 0004288123
Figure 0004288123

以下にケトクマリン系色素の具体例を示す。   Specific examples of ketocoumarin dyes are shown below.

Figure 0004288123
Figure 0004288123

ベンゾピラン系色素として好ましくは下記の構造を有するものが挙げられるが、特に限定されない。   Preferred benzopyran dyes include those having the following structure, but are not particularly limited.

Figure 0004288123
Figure 0004288123

(式中、R3〜R5はお互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、水酸基、アルコキシ基またはアミノ基を表す。また、R3〜R5はそれらが各々結合できる炭素原子と共に非金属原子から成る環を形成していても良い。
7は、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ芳香族基、シアノ基、アルコキシ基、カルボキシ基またはアルケニル基を表す。R5は、R7で表される基または−Z−R7であり、Zはカルボニル基、スルホニル基、スルフィニル基またはアリーレンジカルボニル基を表す。またR7およびR8は共に非金属原子から成る環を形成しても良い。
AはO、S、NHまたは置換基を有する窒素原子を表す。
Bは、基
(In the formula, R 3 to R 5 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, or an amino group. Also, R 3 to R 5 are bonded to each other. You may form the ring which consists of a nonmetallic atom with the carbon atom which can be formed.
R 7 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heteroaromatic group, a cyano group, an alkoxy group, a carboxy group, or an alkenyl group. R 5 is a group represented by R 7 or —Z—R 7 , and Z represents a carbonyl group, a sulfonyl group, a sulfinyl group or an arylene carbonyl group. R 7 and R 8 may both form a ring composed of a nonmetallic atom.
A represents O, S, NH, or a nitrogen atom having a substituent.
B is a group

Figure 0004288123
Figure 0004288123

であり、G1、G2は同一でも異なっていても良く、水素原子、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アリールカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基またはフルオロスルホニル基を表す。但しG1とG2は同時に水素原子となることはない。またG1およびG2は炭素原子と共に非金属原子から成る環を形成していても良い。) G 1 and G 2 may be the same or different, and are a hydrogen atom, cyano group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyl group, arylcarbonyl group, alkylthio group, arylthio group, alkylsulfonyl group, aryl Represents a sulfonyl group or a fluorosulfonyl group. However, G 1 and G 2 do not become hydrogen atoms at the same time. G 1 and G 2 may form a ring composed of a nonmetallic atom together with a carbon atom. )

以下にベンゾピラン系色素の具体例を示す。   Specific examples of benzopyran dyes are shown below.

Figure 0004288123
Figure 0004288123

光重合開始剤としてのトリアジン化合物としては、次式の化合物を挙げることができる。   Examples of the triazine compound as a photopolymerization initiator include compounds represented by the following formula.

Figure 0004288123
Figure 0004288123

(式中、Halはハロゲン原子を表わす。Y2は−C(Hal)3、−NH2、−NHR21、−N(R21)2、−OR21を表わす。ここでR21はアルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基を表わす。またR20は−C(Hal)3、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、置換アルケニル基を表わす。)で表わされる化合物。 (In the formula, Hal represents a halogen atom. Y 2 represents —C (Hal) 3 , —NH 2 , —NHR 21 , —N (R 21 ) 2 , —OR 21 , where R 21 represents an alkyl group. And a substituted alkyl group, an aryl group, and a substituted aryl group, and R 20 represents —C (Hal) 3 , an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, and a substituted alkenyl group. .

以下にトリアジン化合物の具体例を示す。   Specific examples of the triazine compound are shown below.

Figure 0004288123
Figure 0004288123

また、好ましい光重合開始剤としては、チタノセン化合物が挙げられる。
チタノセン化合物としては、例えば、特開昭59−152396号、特開昭61−151197号公報に記載されている公知の化合物を適宜に選択して用いることができる。
Moreover, a titanocene compound is mentioned as a preferable photoinitiator.
As the titanocene compound, for example, known compounds described in JP-A Nos. 59-152396 and 61-151197 can be appropriately selected and used.

更に具体的には、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル(以下A−1と記す)、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル(以下A−2と記す)、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニ−1−イル、ビス(シクロペンタジエニル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(ピリ−1−イル)フェニル)チタニウム(以下A−3と記す)等を挙げることができる。   More specifically, di-cyclopentadienyl-Ti-di-chloride, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5 , 6-pentafluorophen-1-yl (hereinafter referred to as A-1), di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-cyclopenta Dienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl- Ti-bis-2,4-difluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophen-1-yl (hereinafter referred to as A-2) ), Di-methyl Pentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-difluorophen-1-yl, bis (cyclopentadi And enyl) -bis (2,6-difluoro-3- (pyridinyl) phenyl) titanium (hereinafter referred to as A-3).

本発明の感光性平版印刷版の光重合層中のこれらの光重合開始剤の含有濃度は通常わずかなものである。また、不適当に多い場合には有効光線の遮断等好ましくない結果を生じる。本発明における光重合開始剤の量は、バインダー成分と付加重合性モノマー成分との合計に対して0.01質量%から70質量%の範囲で使用するのが好ましい。より好ましくは、1質量%から50質量%で良好な結果を得る。   The concentration of these photopolymerization initiators in the photopolymerization layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is usually slight. Further, when the amount is inappropriately large, an unfavorable result such as blocking of an effective ray is produced. The amount of the photopolymerization initiator in the present invention is preferably used in the range of 0.01% by mass to 70% by mass with respect to the total of the binder component and the addition polymerizable monomer component. More preferably, good results are obtained at 1% to 50% by weight.

また、開始剤にはアミン化合物、チオール化合物等の助剤を加えてもよく、特に好ましいものは下記一般式で表されるアミン化合物及びアミノ酸類である。   Further, auxiliary agents such as amine compounds and thiol compounds may be added to the initiator, and particularly preferred are amine compounds and amino acids represented by the following general formula.

Figure 0004288123
Figure 0004288123

(式中、R8〜R18はそれぞれアルキル基を表わす。) (In the formula, R 8 to R 18 each represents an alkyl group.)

Figure 0004288123
Figure 0004288123

(式中、R19〜R22は、アルキル、アルコキシを表し、R21とR22は環を形成してもよく、R23は複素環、アルキルチオを表す。) (In the formula, R 19 to R 22 represent alkyl or alkoxy, R 21 and R 22 may form a ring, and R 23 represents a heterocycle or alkylthio.)

Figure 0004288123
Figure 0004288123

(式中、R28、R29は同一または異なり、置換基を有していても良く不飽和結合を含んでいても良い炭化水素基、あるいはヘテロ環基を表す。
26、R27は同一または異なり、水素原子、置換基を有していても良く不飽和結合を含んでいても良い炭化水素基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、置換オキシ基、メルカプト基、置換チオ基を表わす。また、R26、R27は互いに結合して環を形成し、−O−、−NR24−、−O−CO−、−NH−CO−、−S−、及び/又は、−SO2−を環の連結主鎖に含んでいても良い炭素数2から8のアルキレン基を表す。
24、R25は水素原子、置換基を有していても良く不飽和結合を含んでいても良い炭化水素基、或いは置換カルボニル基を表す。)
(Wherein R 28 and R 29 are the same or different and each represents a hydrocarbon group which may have a substituent and may contain an unsaturated bond, or a heterocyclic group.
R 26 and R 27 are the same or different and are each a hydrogen atom, a hydrocarbon group which may have a substituent and may contain an unsaturated bond, a heterocyclic group, a hydroxyl group, a substituted oxy group, a mercapto group, a substituted group Represents a thio group. R 26 and R 27 are bonded to each other to form a ring, and —O—, —NR 24 —, —O—CO—, —NH—CO—, —S—, and / or —SO 2 — Represents an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms, which may be contained in the main chain of the ring.
R 24 and R 25 each represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group which may have a substituent and may contain an unsaturated bond, or a substituted carbonyl group. )

また、p−ジエチルアミノ安息香酸エチル等のジアルキル安息香酸エステル、4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン等のビスアミノベンゾフェノン、4,4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンジル等のビスアミノベンジル、   In addition, dialkylbenzoic acid esters such as ethyl p-diethylaminobenzoate, bisaminobenzophenones such as 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, bisaminobenzyl such as 4,4′-bis (diethylamino) benzyl,

Figure 0004288123
Figure 0004288123

N−フェニルグリン、N−フェニルグリシンナトリウム塩が挙げられる。 N-phenylglycine, N-phenylglycine sodium salt can be mentioned.

〔高分子バインダー〕
次いで、本発明の光重合性感光層中に含有される高分子バインダーについて説明する。
本発明の光重合性感光層中に含有される高分子バインダーとしては、感光層の皮膜形成剤としてだけでなく、アルカリ現像液に溶解する必要があるため、アルカリ水に可溶性又は膨潤性である有機高分子重合体が使用される。
有機高分子重合体としては、種々のものが挙げられるが、水現像を望む場合には、例えば水可溶性有機高分子重合体を用いる。この様な有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸基を有する付加重合体、例えば特開昭59−44615号、特公昭54−34327号、特公昭58−12577号、特公昭54−25957号、特開昭54−92723号、特開昭59−53836号、特開昭59−71048号の各公報に記載されているもの、即ちメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等や、側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体、水酸基を有する付加重合体に環状酸無水物を付加させたもの、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキサイド、並びに、硬化皮膜の強度を上げ得るアルコール可溶性ポリアミドや2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等が挙げられる。
これらの中で、〔ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体及び〔アリル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体が、特に好ましい。
更には、特公平7−120040号、特公平7−120041号、特公平7−120042号、特公平8−12424号、特開昭63−287944号、特開昭63−287947号、特開平1−271741号、特開平11−352691号の各公報に記載のポリウレタン樹脂も本発明の用途に使用できる。
[Polymer binder]
Next, the polymer binder contained in the photopolymerizable photosensitive layer of the present invention will be described.
The polymer binder contained in the photopolymerizable photosensitive layer of the present invention is soluble or swellable in alkaline water because it needs to be dissolved in an alkaline developer as well as a film-forming agent for the photosensitive layer. An organic polymer is used.
Examples of the organic polymer include various polymers. When water development is desired, for example, a water-soluble organic polymer is used. Examples of such an organic polymer include addition polymers having a carboxylic acid group in the side chain, such as JP 59-44615, JP-B 54-34327, JP-B 58-12577, JP-B 54-. No. 25957, JP 54-92723, JP 59-53836, JP 59-71048, ie, methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itacon Cyclic acid anhydrides for acid copolymers, crotonic acid copolymers, maleic acid copolymers, partially esterified maleic acid copolymers, acidic cellulose derivatives having a carboxylic acid group in the side chain, and addition polymers having a hydroxyl group Products, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide, and alcohol-soluble polyamide or 2,2-bis- (4-hydride) that can increase the strength of the cured film Kishifeniru) - and a polyether of propane and epichlorohydrin.
Among these, [benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / other addition polymerizable vinyl monomer as required] copolymer and [allyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / as required Other addition polymerizable vinyl monomers] copolymers are particularly preferred.
Furthermore, JP-B-7-120040, JP-B-7-120041, JP-B-7-120042, JP-B-8-12424, JP-A-63-287944, JP-A-63-287947, JP-A-1 Polyurethane resins described in JP-A Nos. -271741 and JP-A No. 11-352691 can also be used in the application of the present invention.

これら高分子重合体は、側鎖にラジカル反応性基を導入することにより硬化皮膜の強度を向上させることができる。付加重合反応し得る官能基としては、エチレン性不飽和結合基、アミノ基、エポキシ基等が挙げられ、また光照射によりラジカルになり得る官能基としては、メルカプト基、チオール基、ハロゲン原子、トリアジン構造、オニウム塩構造等が、又極性基としてカルボキシル基、イミド基等が挙げられる。上記付加重合友応し得る官能基としては、アクリル基、メタクリル基、アリル基、スチリル基等のエチレン性不飽和結合基が特に好ましいが、アミノ基、ヒドロキシ基、ホスホン酸基、燐酸基、カルバモイル基、イソシアネート基、ウレイド基、ウレイレン基、スルフォン酸基、アンモニオ基から選ばれる官能基も使用し得る。   These polymer polymers can improve the strength of the cured film by introducing a radical reactive group into the side chain. Examples of functional groups capable of undergoing addition polymerization include ethylenically unsaturated bond groups, amino groups, and epoxy groups, and examples of functional groups that can become radicals upon irradiation with light include mercapto groups, thiol groups, halogen atoms, and triazines. Structure, onium salt structure and the like, and polar groups include a carboxyl group and an imide group. The functional group capable of addition polymerization is particularly preferably an ethylenically unsaturated bond group such as an acryl group, a methacryl group, an allyl group, or a styryl group, but an amino group, a hydroxy group, a phosphonic acid group, a phosphoric acid group, or a carbamoyl group. A functional group selected from a group, an isocyanate group, a ureido group, a ureylene group, a sulfonic acid group, and an ammonio group can also be used.

光重合性感光層の現像性を維持するためには、使用される高分子バインダーは適当な分子量、酸価を有することが好ましく、重量平均分子量で5000〜30万、酸価20〜200の高分子重合体が特に好ましい。
これらの高分子バインダーは、光重合性感光層中に任意な量で含有させることができるが、90質量%を超える場合には形成される画像強度等の点で好ましい結果を与えない場合があるので、好ましくは10〜90質量%、より好ましくは30〜80質量%である。
また前記した付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物と高分子バインダーの使用割合は、質量比で1/9〜9/1の範囲とするのが好ましく、より好ましくは2/8〜8/2てあり、最も好ましくは3/7〜7/3である。
In order to maintain the developability of the photopolymerizable photosensitive layer, the polymer binder used preferably has an appropriate molecular weight and acid value, and has a weight average molecular weight of 5000 to 300,000 and an acid value of 20 to 200. Molecular polymers are particularly preferred.
These polymer binders can be contained in an arbitrary amount in the photopolymerizable photosensitive layer. However, when the content exceeds 90% by mass, there may be cases where favorable results are not obtained in terms of image strength to be formed. Therefore, Preferably it is 10-90 mass%, More preferably, it is 30-80 mass%.
Further, the use ratio of the compound having an ethylenically unsaturated double bond capable of addition polymerization and the polymer binder is preferably in the range of 1/9 to 9/1, more preferably 2/8. ˜8 / 2, most preferably 3/7 to 7/3.

また、本発明の光重合性平版印刷版の光重合性感光層においては、以上の基本成分の他に、光重合性感光層ための組成物の製造中あるいは保存中において付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物の不要な熱重合を阻止するために、少量の熱重合禁止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合禁止剤としては、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられる。熱重合禁止剤の添加量は、光重合性感光性組成物の全成分の約0.01質量%〜約5質量%が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するために、ベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で光重合性感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、光重合性感光性組成物の全成分の約0.5質量%〜約10質量%が好ましい。   In addition, in the photopolymerizable photosensitive layer of the photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention, in addition to the above basic components, an ethylenic polymer capable of addition polymerization during the production or storage of the composition for the photopolymerizable photosensitive layer. In order to prevent unnecessary thermal polymerization of a compound having an unsaturated bond, it is desirable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor. Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t- Butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxylamine cerium salt, N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt and the like. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01% by mass to about 5% by mass of the total components of the photopolymerizable photosensitive composition. Also, if necessary, in order to prevent polymerization inhibition by oxygen, higher fatty acid derivatives such as behenic acid and behenamide are added and unevenly distributed on the surface of the photopolymerizable photosensitive layer in the process of drying after coating. You may let them. The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.5% by mass to about 10% by mass of the total components of the photopolymerizable photosensitive composition.

更に光重合性感光層の着色を目的として、着色剤を添加してもよい。着色剤としては、例えば、フタロシアニン系顔料(C.I.Pigment Blue 15:3、15:4、15:6等)、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタン等の顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイオレット、アゾ染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料がある。染料及び顔料の添加量は、光重合性感光性組成物の全成分の約0.1質量%〜約10質量%が好ましく、0.5〜5質量%がより好ましい。
加えて、硬化皮膜の物性を改良するために、無機充填剤やジオクチルフタレート、ジメチルフタレート、トリクレジルホスフェート等の可塑剤等の添加剤を加えてもよい。これらの添加剤は、光重合性感光性組成物の全成分の10質量%以下が好ましい。
また、光重合性感光性組成物には、塗布面質を向上するために界面活性剤を添加することができる。
Further, a colorant may be added for the purpose of coloring the photopolymerizable photosensitive layer. Examples of the colorant include phthalocyanine pigments (CI Pigment Blue 15: 3, 15: 4, 15: 6, etc.), azo pigments, pigments such as carbon black and titanium oxide, ethyl violet, crystal violet, There are azo dyes, anthraquinone dyes, and cyanine dyes. About 0.1 mass%-about 10 mass% of all the components of a photopolymerizable photosensitive composition are preferable, and, as for the addition amount of dye and a pigment, 0.5-5 mass% is more preferable.
In addition, in order to improve the physical properties of the cured film, an additive such as an inorganic filler or a plasticizer such as dioctyl phthalate, dimethyl phthalate, or tricresyl phosphate may be added. These additives are preferably 10% by mass or less based on the total components of the photopolymerizable photosensitive composition.
In addition, a surfactant can be added to the photopolymerizable photosensitive composition in order to improve the coating surface quality.

本発明において、光重合性感光性組成物は、後に詳述する所望により各種表面処理を施された支持体上に、塗工されることになるが、光重合性感光性組成物を支持体上に塗工する際には種々の有機溶剤に溶かして使用に供される。ここで使用し得る溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメーチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、3−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3−メトキシプロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチル等がある。これらの溶媒は、単独あるいは混合して使用することができる。尚、塗布溶液中の固形分濃度は、1〜50質量%が適当である。
本発明の光重合性平版印刷版において光重合性感光層の被覆量は、塗布乾燥後の質量で約0.1g/m2〜約10g/m2の範囲が適当であり、より好ましくは0.3〜5g/m2であり、更に好ましくは0.5〜3g/m2である。
In the present invention, the photopolymerizable photosensitive composition is applied onto a support that has been subjected to various surface treatments as desired, which will be described in detail later. When coated on top, it is dissolved in various organic solvents for use. Solvents that can be used here include acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether. , Acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether , Diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, methyl lactate, lactic acid There are ethyl and the like. These solvents can be used alone or in combination. In addition, 1-50 mass% is suitable for solid content concentration in a coating solution.
The coverage of the photopolymerizable photosensitive layer in the photopolymerizable planographic printing plate of the present invention, is suitably ranges from about 0.1 g / m 2 ~ about 10 g / m 2 in weight after coating and drying, and more preferably 0 .3 to 5 g / m 2 , more preferably 0.5 to 3 g / m 2 .

〔支持体〕
次に、本発明において使用される支持体について説明する。
本発明で使用され得る支持体は、表面が親水性であれば如何なるものでも使用され得るが、寸度的に安定な板状物が好ましく、例えば、紙、プラスチック(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、また、例えばアルミニウム(アルミニウム合金も含む。)、亜鉛、銅等のような金属またはその合金(例えばケイ素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルとの合金)の板、更に、例えば二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酪酸酢酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等のようなプラスチックのフィルム、上記の如き金属又は合金がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはプラスチックフィルム等が挙げられる。これらの支持体のうち、アルミニウム板は寸度的に著しく安定であり、しかも安価であるので特に好ましい。更に、特公昭48−18327号に記載されているようなポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複合体シートも好ましい。通常その厚さは0.05mm〜1mm程度である。
[Support]
Next, the support used in the present invention will be described.
As the support that can be used in the present invention, any material can be used as long as the surface is hydrophilic, but a dimensionally stable plate-like material is preferable, for example, paper, plastic (for example, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc. ) Laminated paper, and also metals such as aluminum (including aluminum alloys), zinc, copper etc. or alloys thereof (eg silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, nickel Alloy) plates, and plastics such as cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose butyrate acetate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc. the film The above-described metal or alloy include laminated or vapor-deposited paper or plastic films. Of these supports, the aluminum plate is particularly preferred because it is dimensionally remarkably stable and inexpensive. Further, a composite sheet in which an aluminum sheet is bonded on a polyethylene terephthalate film as described in JP-B-48-18327 is also preferable. Usually, the thickness is about 0.05 mm to 1 mm.

また金属、特にアルミニウムの表面を有する支持体の場合には、後述する砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは隔極酸化処理等の表面処理がなされていることが好ましい。
[砂目立て処理]
砂目立て処理方法は、特開昭56−28893号公報に開示されているような機械的砂目立て、化学的エッチング、電解グレイン等がある。更に塩酸又は硝酸電解液中で電気化学的に砂目立てする電気化学的砂目立て方法、及びアルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立てするボールグレイン法、ナイロンブラシと研磨剤で表面を砂目立てするブラシグレイン法のような機械的砂目立て法を用いることができ、上記砂目立て方法を単独あるいは組み合わせて用いることもできる。
その中でも本発明において有用に使用される表面粗さを作る方法は、塩酸又は硝酸電解液中で化学的に砂目たてする電気化学的方法であり、適する電流密度は100C/dm2〜400C/dm2の範囲である。さらに具体的には、0.1〜50%の塩酸又は硝酸を含む電解液中、温度20〜100℃、時間1秒〜30分、電流密度100C/dm2〜400C/dm2の条件で電解を行うことが好ましい。
Further, in the case of a support having a surface of metal, particularly aluminum, surface treatment such as graining treatment described later, immersion treatment in an aqueous solution of sodium silicate, potassium fluoride zirconate, phosphate or the like, or bipolar oxidation treatment, etc. It is preferable that
[Graining process]
Examples of the graining method include mechanical graining, chemical etching, and electrolytic grain as disclosed in JP-A-56-28893. Further, electrochemical graining method that electrochemically grains in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte, and wire brush grain method that scratches aluminum surface with metal wire, and ball grain method that graines aluminum surface with polishing ball and abrasive. Further, a mechanical graining method such as a brush grain method in which the surface is grained with a nylon brush and an abrasive can be used, and the above graining methods can be used alone or in combination.
Among them, the method for making the surface roughness usefully used in the present invention is an electrochemical method in which the surface roughness is chemically ground in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte, and a suitable current density is 100 C / dm 2 to 400 C. / Dm 2 range. More specifically, in the electrolytic solution containing from 0.1 to 50% hydrochloric acid or nitric acid, the temperature 20 to 100 ° C., for 1 second to 30 minutes, electrolysis at a current density of 100C / dm 2 ~400C / dm 2 It is preferable to carry out.

このように砂目立て処理されたアルミニウム支持体は、酸又はアルカリにより化学的にエッチングされる。酸をエッチング剤として用いる場合は、微細構造を破壊するのに時間がかかり、工業的に本発明を適用するに際しては不利であるが、アルカリをエッチング剤として用いることにより改善できる。
本発明において好適に用いられるアルカリ剤は、苛性ソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソーダ、リン酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等が挙げられ、濃度と温度の好ましい範囲はそれぞれ1〜50%、20〜100℃であり、アルミニウムの溶解量が5〜20g/m3となるような条件が好ましい。
エッチングの後、表面に残留する汚れ(スマット)を除去するために酸洗いが行われる。用いられる酸としては、硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸等が挙げられる。特に電気化学的粗面化処理後のスマット除去処理方法としては、好ましくは特開昭53−12739号公報に記載されているような50〜90℃の温度の15〜65質量%の硫酸と接触させる方法、及び、特公昭48−28123号公報に記載されているアルカリエッチングする方法が挙げられる。
尚、本発明において好ましいアルミニウム支持体の表面粗さ(Ra)は、0.3〜0.7μmである。
The grained aluminum support is chemically etched with acid or alkali. When an acid is used as an etching agent, it takes time to destroy the fine structure, which is disadvantageous when the present invention is applied industrially, but it can be improved by using an alkali as the etching agent.
Examples of the alkali agent suitably used in the present invention include caustic soda, sodium carbonate, sodium aluminate, sodium metasilicate, sodium phosphate, potassium hydroxide, lithium hydroxide and the like. The conditions are 50%, 20 to 100 ° C., and the aluminum dissolution amount is 5 to 20 g / m 3 .
After etching, pickling is performed to remove dirt (smut) remaining on the surface. Examples of the acid used include nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, and borohydrofluoric acid. In particular, as a method for removing smut after the electrochemical surface roughening treatment, contact with 15 to 65 mass% sulfuric acid at a temperature of 50 to 90 ° C. as described in JP-A-53-12739 is preferable. And the alkali etching method described in Japanese Patent Publication No. 48-28123.
In addition, the surface roughness (Ra) of the aluminum support preferable in the present invention is 0.3 to 0.7 μm.

[陽極酸化処理]
以上のようにして処理されたアルミニウム支持体は、さらに陽極酸化処理が施される。
陽極酸化処理は、当該技術分野において従来より行われている方法で行うことができる。具体的には、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルフォン酸等あるいはこれらの二種以上を組み合わせて、水溶液又は非水溶液中でアルミニウムに直流又は交流を流すと、アルミニウム支持体表面に陽極酸化皮膜を形成することができる。
陽極酸化処理の条件は、使用される電解液によって種々変化するので一概に決定され得ないが、一般的には電解液の濃度が1〜80%、液温5〜70℃、電流密度0.5〜60アンペア/dm2、電圧1〜100V、電解時間10〜100秒の範囲が適当である。
これらの陽極酸化処理のうちでも特に英国特許第1,412,768号明細書に記載されている、硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法、及び、米国特許第3,511,661号明細書に記載されているリン酸を電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。
本発明においては、陽極酸化皮膜は1〜10g/m2であることが好ましく、1g/m2未満であると版に傷が入りやすく、10g/m2を超えると製造に多大な電力が必要となり、経済的に不利である。好ましくは、1.5〜7g/m2であり、更に好ましくは、2〜5g/m2である。
[Anodic oxidation treatment]
The aluminum support treated as described above is further anodized.
The anodizing treatment can be performed by a method conventionally performed in this technical field. Specifically, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, oxalic acid, sulfamic acid, benzenesulfonic acid, etc., or a combination of two or more of these, and when direct current or alternating current is applied to aluminum in an aqueous solution or non-aqueous solution, aluminum is supported. An anodized film can be formed on the body surface.
The conditions of the anodizing treatment cannot be determined unconditionally because they vary depending on the electrolytic solution used. In general, the concentration of the electrolytic solution is 1 to 80%, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., the current density is 0.00. The range of 5 to 60 amperes / dm 2 , voltage of 1 to 100 V, and electrolysis time of 10 to 100 seconds is appropriate.
Among these anodizing treatments, in particular, the method of anodizing at high current density in sulfuric acid described in British Patent 1,412,768, and US Pat. No. 3,511,661. A method of anodizing phosphoric acid described in the book as an electrolytic bath is preferred.
In the present invention, the anodized film is preferably from 1~10g / m 2, 1g / m 2 less than the plate to easily enter the wound to be, requires significant power production exceeds 10 g / m 2 It is economically disadvantageous. Preferably, it is 1.5-7 g / m < 2 >, More preferably, it is 2-5 g / m < 2 >.

更に、本発明においては、支持体は、砂目立て処理及び陽極酸化後に、封孔処理を施されてもよい。かかる封孔処理は、熱水及び無機塩又は有機塩を含む熱水溶液への基板の浸漬並びに水蒸気浴などによって行われる。また本発明で使用される支持体には、アルカリ金属珪酸塩によるシリケート処理以外の処理、たとえば弗化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理などの表面処理が施されてもよい。   Furthermore, in the present invention, the support may be subjected to a sealing treatment after graining treatment and anodizing. Such sealing treatment is performed by immersing the substrate in a hot aqueous solution containing hot water and an inorganic salt or an organic salt, a steam bath, or the like. Further, the support used in the present invention may be subjected to a surface treatment such as a treatment other than a silicate treatment with an alkali metal silicate, for example, an immersion treatment in an aqueous solution of potassium fluoride zirconate, phosphate or the like.

本発明においては、支持体(アルミニウムの場合には、上記の如く適宜表面処理を施されたアルミニウムが好ましい)上に、前記した光重合性感光性組成物からなる光重合性感光層を塗工し、次いで保護層を塗工することで、光重合性平版印刷版が形成されるが、光重合性感光層を塗工する前に必要に応じて有機又は無機の下塗り層を設けてもよいし、特開平7−159983号に開示されているようなラジカルによって付加反応を起こし得る官能基を共有結合させたゾル−ゲル処理を施してもよい。   In the present invention, a photopolymerizable photosensitive layer comprising the above-mentioned photopolymerizable photosensitive composition is coated on a support (in the case of aluminum, aluminum that has been appropriately surface-treated as described above is preferable). Then, a protective layer is applied to form a photopolymerizable lithographic printing plate, but an organic or inorganic undercoat layer may be provided as necessary before applying the photopolymerizable photosensitive layer. Then, a sol-gel treatment in which a functional group capable of causing an addition reaction by a radical is disclosed as disclosed in JP-A-7-159983 may be applied.

有機下塗層を形成する物質としては、水溶性の樹脂、例えばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有する重合体及び共重合体、ポリアクリル酸、水溶性金属塩(例えば硼酸亜鉛)もしくは、黄色染料、アミン塩等が挙げられる。
更に具体的には、有機下塗層に用いられる有機化合物としては例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸等のアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸等の有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸等の有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸等の有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニン等のアミノ酸類、及びトリエタノールアミンの塩酸塩等のヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれるが、二種以上混合して用いてもよい。
Substances forming the organic undercoat layer include water-soluble resins such as polyvinylphosphonic acid, polymers and copolymers having sulfonic acid groups in the side chain, polyacrylic acid, water-soluble metal salts (for example, zinc borate) or , Yellow dyes, amine salts and the like.
More specifically, examples of the organic compound used in the organic undercoat layer may include phosphonic acids having an amino group such as carboxymethylcellulose, dextrin, gum arabic, and 2-aminoethylphosphonic acid, and a substituent. Organic phosphonic acids such as phenylphosphonic acid, naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, optionally substituted phenylphosphoric acid, naphthylphosphonic acid, alkylphosphoric acid and Organic phosphoric acids such as glycerophosphoric acid, optionally substituted phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, organic phosphinic acids such as alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and triethanol Has hydroxyl group such as amine hydrochloride -Alanine, and hydrochlorides of amines that may be used as a mixture of two or more.

この有機下塗層は次のような方法で設けることが出来る。即ち、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトン等の有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液を支持体上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトン等の有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液に、支持体を浸漬して上記有機化合物を吸着させ、しかる後、水等によって洗浄、乾燥して有機下塗層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化合物の0.005〜10質量%の濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布等いずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法では、溶液の濃度は0.01〜20質量%、好ましくは0.05〜5質量%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは2秒〜1分である。
これに用いる溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウム等の塩基性物質や、塩酸、リン酸等の酸性物質によりpHを調節し、pH1〜12の範囲で使用することもできる。また、光重合性平版印刷版の調子再現性改良のために、黄色染料を添加することもできる。
有機下塗層の乾燥後の被覆量は、2〜200mg/m2が適当であり、好ましくは5〜100mg/m2である。上記の被覆量が2mg/m2より少ないと十分な耐刷性が得られない。また、200mg/m2より大きくても同様である。
This organic undercoat layer can be provided by the following method. That is, a method in which water or an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone or the like, or a mixed solvent thereof is dissolved on the support and dried, and water, methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, etc. The organic compound is dissolved in a solution of the above organic compound or a mixed solvent thereof to immerse the support so that the organic compound is adsorbed, and then washed with water and dried to provide an organic undercoat layer. Is the method. In the former method, a solution having a concentration of 0.005 to 10% by mass of the above organic compound can be applied by various methods. For example, any method such as bar coater coating, spin coating, spray coating, or curtain coating may be used. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by mass, preferably 0.05 to 5% by mass, the immersion temperature is 20 to 90 ° C., preferably 25 to 50 ° C., and the immersion time. Is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute.
The solution used for this can be used in a pH range of 1 to 12 by adjusting the pH with a basic substance such as ammonia, triethylamine or potassium hydroxide, or an acidic substance such as hydrochloric acid or phosphoric acid. A yellow dye can also be added to improve the tone reproducibility of the photopolymerizable lithographic printing plate.
The coating amount after drying of the organic undercoat layer is suitably 2 to 200 mg / m 2 , preferably 5 to 100 mg / m 2 . If the coating amount is less than 2 mg / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. It is the same even if it is larger than 200 mg / m 2 .

また、無機下塗り層に用いられる物質としては、酢酸コバルト、酢酸ニッケル、フッ化チタン酸カリウム等の無機塩等が挙げられ、この無機下塗り層の設け方は、上記した有機下塗り層と同様である。   Examples of the material used for the inorganic undercoat layer include inorganic salts such as cobalt acetate, nickel acetate, and potassium fluorotitanate. The method of providing the inorganic undercoat layer is the same as the organic undercoat layer described above. .

〔露光方法〕
光重合性平版印刷版の露光は、Arレーザー、半導体レーザーの第2高調波(SHG−LD、350〜600nm)、半導体レーザー(350〜1000nm)、特に405nm、630、650、680、785、830、860nm等、Arレーザー488、514.5nm、YAGレーザー532nm(第二高調波)、355nm(第三高調波)、266nm(第四高調波)、He−Neレーザー543、633nm等により行われる。
[Exposure method]
The exposure of the photopolymerizable lithographic printing plate is performed using Ar laser, second harmonic of a semiconductor laser (SHG-LD, 350 to 600 nm), semiconductor laser (350 to 1000 nm), particularly 405 nm, 630, 650, 680, 785, 830. 860 nm, Ar laser 488, 514.5 nm, YAG laser 532 nm (second harmonic), 355 nm (third harmonic), 266 nm (fourth harmonic), He—Ne laser 543, 633 nm, etc.

〔現像方法〕
現像処理に使用される現像液としては、従来より知られているアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第二リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及び同リチウム等の無機アルカリ剤が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン等の有機アルカリ剤を併用してもよい。
これらのアルカリ剤は単独もしくは2種以上を組み合わせて用いられる。
[Development method]
As a developing solution used in the development processing, a conventionally known alkaline aqueous solution can be used. For example, sodium silicate, potassium, tribasic sodium phosphate, potassium, ammonium, dibasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium Examples include inorganic alkali agents such as ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium, and lithium. Moreover, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, An organic alkali agent such as ethyleneimine, ethylenediamine, or pyridine may be used in combination.
These alkali agents are used alone or in combination of two or more.

また更に現像液に、以下に記すその他の界面活性剤を加えてもよい。
その他の界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、ポリオキシエチレンステアレート等のポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタンセスキオレエート、ソルビタントリオレエート等のソルビタンアルキルエステル類、グリセロールモノステアレート、グリセロールモノオレート等のモノグリセリドアルキルエステル類等のノニオン界面活性剤;ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等のアルキルベンゼンスルホン酸塩類、ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ペンチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ヘキシルナフタレンスルホン酸ナトリウム、オクチルナフタレンスルホン酸ナトリウム等のアルキルナフタレンスルホン酸塩類、ラウリル硫酸ナトリウム等のアルキル硫酸塩類、ドデシルスルホン酸ソーダ等のアルキルスルホン酸塩類、ジラウリルスルホコハク酸ナトリウム等のスルホコハク酸エステル塩類等のアニオン界面活性剤;ラウリルベタイン、ステアリルベタイン等のアルキルベタイン類、アミノ酸類等の両性界面活性剤が使用可能であるが、特に好ましいのはアルキルナフタレンスルホン酸塩類等のアニオン界面活性剤、アルキルベタイン類、式(1)で示されるポリオキシアルキレンエーテル基を有するノニオン界面活性剤である。
Further, other surfactants described below may be added to the developer.
Examples of other surfactants include polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, and the like. Polyoxyethylene alkyl allyl ethers, polyoxyethylene alkyl esters such as polyoxyethylene stearate, sorbitan monolaurate, sorbitan monostearate, sorbitan distearate, sorbitan monooleate, sorbitan sesquioleate, sorbitan trioleate Monoglyceride alkyl esters such as sorbitan alkyl esters such as glycerol, glycerol monostearate and glycerol monooleate Nonionic surfactants such as alkylbenzenes; alkylbenzene sulfonates such as sodium dodecylbenzenesulfonate; alkylnaphthalene sulfonates such as sodium butylnaphthalenesulfonate, sodium pentylnaphthalenesulfonate, sodium hexylnaphthalenesulfonate, sodium octylnaphthalenesulfonate Anionic surfactants such as alkyl sulfates such as sodium lauryl sulfate, alkyl sulfonates such as sodium dodecyl sulfonate, sulfosuccinic acid ester salts such as sodium dilauryl sulfosuccinate; alkyl betaines such as lauryl betaine and stearyl betaine; Amphoteric surfactants such as amino acids can be used, but anionic surfactants such as alkylnaphthalene sulfonates, alkyls are particularly preferable. Tines such a nonionic surfactant having a polyoxyalkylene ether group represented by the formula (1).

1−O−(R2−O)n H (1) R 1 —O— (R 2 —O) n H (1)

式(1)中、R1は置換基を有してもよい炭素数3〜15のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数6〜15の芳香族炭化水素基、又は置換基を有してもよい炭素数4〜15の複素芳香族環基(該置換基としては炭素数1〜20のアルキル基、Br、Cl、I等のハロゲン原子、炭素数6〜15の芳香族炭化水素基、炭素数7〜17のアラルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシ−カルボニル基、炭素数2〜15のアシル基が挙げられる。)を示し、R2は置換基を有してもよい炭素数1〜10のアルキレン基(該置換基としては、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜15の芳香族炭化水素基が挙げられる)を示し、nは1から100の整数を表す。
また式(1)の(R2−O)nの部分は、上記範囲であれば、2種、又は3種の基であってもよい。具体的にはエチレンオキシ基とプロピレンオキシ基、エチレンオキシ基とイソプロピルオキシ基、エチレンオキシ基とブチレンオキシ基、エチレンオキシ基とイソブチレン基等の組み合わせのランダム又はブロック状に連なったものが挙げられる。
In Formula (1), R 1 represents an alkyl group having 3 to 15 carbon atoms which may have a substituent, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 15 carbon atoms which may have a substituent, or a substituent. C4-C15 heteroaromatic ring group which may have (the substituent is a C1-C20 alkyl group, a halogen atom such as Br, Cl, I, etc., a C6-C15 aromatic carbonization A hydrogen group, an aralkyl group having 7 to 17 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy-carbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, and an acyl group having 2 to 15 carbon atoms), and R 2. Represents an optionally substituted alkylene group having 1 to 10 carbon atoms (the substituent includes an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 15 carbon atoms). , N represents an integer of 1 to 100.
In addition, the (R 2 —O) n portion of the formula (1) may be two or three groups within the above range. Specific examples include random or block combinations of ethyleneoxy group and propyleneoxy group, ethyleneoxy group and isopropyloxy group, ethyleneoxy group and butyleneoxy group, ethyleneoxy group and isobutylene group, and the like.

これら界面活性剤は単独、もしくは組み合わせて使用することが出来る。また、これら界面活性剤の現像液中における含有量は有効成分換算で0.1〜20重量%が好ましい。   These surfactants can be used alone or in combination. Further, the content of these surfactants in the developer is preferably from 0.1 to 20% by weight in terms of active ingredients.

本発明において、前記現像液には上記の成分の他に、必要に応じて以下の様な成分を併用することができる。例えば安息香酸、フタル酸、p−エチル安息香酸、p−n−プロピル安息香酸、p−イソプロピル安息香酸、p−n−ブチル安息香酸、p−t−ブチル安息香酸、p−2−ヒドロキシエチル安息香酸、デカン酸、サリチル酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸等の有機カルボン酸;イソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、プロピレングリコール、ジアセトンアルコール等の有機溶剤;この他、キレート剤、還元剤、染料、顔料、硬水軟化剤、防腐剤、消泡剤等が挙げられる。本発明における現像液のpHは一般的に10〜13、好ましくは11〜12.8、より好ましくは11.2〜12.5である。   In the present invention, in addition to the above components, the following components can be used in combination in the developer as required. For example, benzoic acid, phthalic acid, p-ethylbenzoic acid, pn-propylbenzoic acid, p-isopropylbenzoic acid, pn-butylbenzoic acid, pt-butylbenzoic acid, p-2-hydroxyethylbenzoic acid Organic carboxylic acids such as acid, decanoic acid, salicylic acid, 3-hydroxy-2-naphthoic acid; organic solvents such as isopropyl alcohol, benzyl alcohol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, phenyl cellosolve, propylene glycol, diacetone alcohol; Agents, reducing agents, dyes, pigments, water softeners, preservatives, antifoaming agents and the like. The pH of the developer in the present invention is generally from 10 to 13, preferably from 11 to 12.8, more preferably from 11.2 to 12.5.

本発明の光重合性平版印刷版の前記現像液による現像は、常法に従って、通常0〜60℃、好ましくは15〜40℃程度、より好ましくは20〜30℃の温度で、例えば、露光処理した光重合性平版印刷版を現像液に浸漬してブラシで擦る等により行う。
更には自動現像機を用いた現像処理においては、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液又は新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させても良い。
尚、本発明においては、光重合性感光層の上に保護層が設けられているが、前記した現像液を用いて、保護層の除去と感光層の未露光部の除去を同時に行ってもよいし、又は、水、温水で保護層を先に除外し、その後未露光部の感光層を現像液で除去してもよい。これらの水又は温水には、例えば特開平10−10754号公報に記載の防腐剤、特開平8−278636号公報に記載の有機溶剤等を含有させることができる。
The development of the photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention with the developer is usually 0 to 60 ° C., preferably about 15 to 40 ° C., more preferably 20 to 30 ° C. according to a conventional method, for example, exposure treatment. The photopolymerizable lithographic printing plate is immersed in a developer and rubbed with a brush.
Furthermore, in the developing process using an automatic developing machine, the developing solution becomes fatigued according to the processing amount. Therefore, the replenishing solution or a fresh developing solution may be used to restore the processing capability.
In the present invention, a protective layer is provided on the photopolymerizable photosensitive layer. However, the above-described developer may be used to remove the protective layer and remove the unexposed portion of the photosensitive layer at the same time. Alternatively, the protective layer may be removed first with water or warm water, and then the unexposed photosensitive layer may be removed with a developer. These water or warm water can contain, for example, a preservative described in JP-A-10-10754, an organic solvent described in JP-A-8-278636, and the like.

このようにして現像処理された光重合性平版印刷版は、特開昭54−8002号、同55−115045号、同59−58431号等の各公報に記載されているように、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体等を含む不感脂化液で後処理される。本発明の光重合性平版印刷版の後処理にはこれらの処理を種々組み合わせて用いることができる。
上記のような処理により得られた印刷版は、特開2000−89478号公報に記載の方法による後露光処理やバーニング等の加熱処理により、耐刷性を向上させることができる。
次いで、以上のような処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられる。
The photopolymerizable lithographic printing plate thus developed is washed with water as described in JP-A Nos. 54-8002, 55-11545, 59-58431, and the like. It is post-treated with a desensitizing solution containing a rinsing solution containing a surfactant or the like, gum arabic or a starch derivative. These treatments can be used in various combinations for the post-treatment of the photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention.
The printing plate obtained by the above treatment can be improved in printing durability by post-exposure treatment or heating treatment such as burning according to the method described in JP-A-2000-89478.
Next, the lithographic printing plate obtained by the above processing is loaded on an offset printing machine and used for printing a large number of sheets.

以下実施例をもって本発明を説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

〔重合性感光性平版印刷版の作成〕
厚さ0.30mmの材質1Sのアルミニウム板を8号ナイロンブラシと800メッシュのバミストンの水懸濁液を用い、その表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。10質量%水酸化ナトリウムに70℃で60秒間浸漬してエッチングした後、流水で水洗後、20質量%HNO3で中和洗浄、水洗した。これをVA=12.7Vの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて1質量%硝酸水溶液中で300クーロン/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測定したところ0.45μm(Ra表示)であった。引き続いて30質量%のH2SO4水溶液中に浸漬し、55℃で2分間デスマットした後、33℃、20質量%H2SO4水溶液中で、砂目立てした面に陰極を配置して、電流密度5A/dm2において50秒間陽極酸化したところ厚さが2.7g/m2であった。
[Preparation of polymerizable photosensitive lithographic printing plate]
An aluminum plate of material 1S having a thickness of 0.30 mm was used with a No. 8 nylon brush and an 800 mesh Bamiston water suspension, and the surface was grained and washed thoroughly with water. After being etched by being immersed in 10% by mass sodium hydroxide at 70 ° C. for 60 seconds, washed with running water, neutralized with 20% by mass HNO 3 and washed with water. This was subjected to an electrolytic surface-roughening treatment in a 1% by mass nitric acid aqueous solution using a sinusoidal alternating waveform current under the condition of VA = 12.7 V at an anode time electricity of 300 coulomb / dm 2 . When the surface roughness was measured, it was 0.45 μm (Ra indication). Subsequently, it was immersed in a 30% by mass H 2 SO 4 aqueous solution, desmutted at 55 ° C. for 2 minutes, and then placed on a grained surface in a 33 ° C., 20% by mass H 2 SO 4 aqueous solution. When anodized for 50 seconds at a current density of 5 A / dm 2 , the thickness was 2.7 g / m 2 .

このように処理されたアルミニウム板上に、下記の手順で下塗り層を設けた。   On the aluminum plate thus treated, an undercoat layer was provided by the following procedure.

(下塗り用液状組成物1)
下記化合物 Mw=約5万 酸価1.00meq/g 0.19質量部
(Liquid composition for undercoat 1)
The following compound Mw = about 50,000 Acid value 1.00 meq / g 0.19 mass part

Figure 0004288123
メタノール 550質量部
水 35質量部
Figure 0004288123
Methanol 550 parts by weight Water 35 parts by weight

この塗布液を、上記の処理されたアルミニウム板上に、2mg/m2となるように4番バーコーターで塗布し、100℃で10秒間乾燥させた。
このようにして得られた下塗り層上に、下記組成の重合性感光性組成物1を乾燥塗布質量が1.4g/m2となるように塗布し、95℃で50秒間乾燥させ、感光層を形成した。
This coating solution was applied onto the treated aluminum plate with a No. 4 bar coater so as to be 2 mg / m 2, and dried at 100 ° C. for 10 seconds.
On the undercoat layer thus obtained, a polymerizable photosensitive composition 1 having the following composition was applied so that the dry coating mass was 1.4 g / m 2, and dried at 95 ° C. for 50 seconds to obtain a photosensitive layer. Formed.

(重合性感光性組成物1)
・NKエステル A−TMMT(テトラメチロールメタンテトラアクリレート、
新中村化学(株)) 1.7質量部
・バインダー(分子量13万)
1.9質量部
(Polymerizable photosensitive composition 1)
NK ester A-TMMT (tetramethylol methane tetraacrylate,
Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 1.7 parts by mass / binder (molecular weight 130,000)
1.9 parts by mass

Figure 0004288123
Figure 0004288123

・増感剤(下記C1) 0.15質量部
・重合開始剤(下記D1) 0.13質量部
・増感助剤(下記E1) 0.53質量部
・着色剤 下記3種の分散物 1.7質量部
ε−フタロシアニン15質量%(下記F1)/下記バインダー10質量%(分子量10万)/プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート75質量%
Sensitizer (C1 below) 0.15 parts by weight Polymerization initiator (D1 below) 0.13 parts by weight Sensitizer (E1 below) 0.53 parts by weight Colorant Below 3 types of dispersion 1 0.7 part by mass ε-phthalocyanine 15% by mass (F1 below) / 10% by mass of the following binder (molecular weight 100,000) / 75% by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate

Figure 0004288123
Figure 0004288123

・フッ素系ノニオン界面活性剤 メガファックF176 0.06質量部
(大日本インキ化学工業(株)製)
・重合禁止剤 クペロンAL(和光純薬)10質量%の可塑剤、リン酸トリクレシル(TCP)90質量%による分散物 0.06質量部
・ Fluoro-based nonionic surfactant Megafac F176 0.06 parts by mass (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.)
・ Polymerization inhibitor Cuperon AL (Wako Pure Chemical Industries) 10 mass% plasticizer, dispersion of tricresyl phosphate (TCP) 90 mass% 0.06 mass parts

Figure 0004288123
Figure 0004288123

・溶媒 メチルエチルケトン 20.0質量部
・溶媒 プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 20.0質量部
・ Solvent Methyl ethyl ketone 20.0 mass parts ・ Solvent Propylene glycol monomethyl ether acetate 20.0 mass parts

Figure 0004288123
Figure 0004288123

(重合性感光性組成物2)
増感色素C1の代わりに下記Dye1を使用した以外は重合性感光性組成物1と同様にして調製した。
(Polymerizable photosensitive composition 2)
It was prepared in the same manner as the polymerizable photosensitive composition 1 except that the following Dye1 was used instead of the sensitizing dye C1.

Figure 0004288123
Figure 0004288123

(酸素遮断性保護層組成物)
・ポリビニルアルコール(PVA−105、クラレ(株)製
(ケン化度98モル%、重合度500) 6.0質量部
・EMALEX710(日本エマルジョン(株)製、界面活性剤) 0.1質量部
・ポリビニルピロリドンK30 0.2質量部
・ルビッテクVA64(BASF製ビニルピロリドンとビニルアセテート
の6:4比の共重合体) 0.2質量部
・水 100.0質量部
この塗布液を乾燥質量で2.5g/m2となるように塗布し、100℃で90秒間乾燥させた。
(Oxygen barrier protective layer composition)
Polyvinyl alcohol (PVA-105, manufactured by Kuraray Co., Ltd. (saponification degree 98 mol%, polymerization degree 500) 6.0 parts by mass EMALEX 710 (manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd., surfactant) 0.1 parts by mass Polyvinylpyrrolidone K30 0.2 parts by mass · Rubitech VA64 (6: 4 ratio copolymer of vinyl pyrrolidone and vinyl acetate manufactured by BASF) 0.2 parts by mass · water 100.0 parts by mass It apply | coated so that it might become 5 g / m < 2 >, and it was dried at 100 degreeC for 90 second.

〔製版条件〕
版サイズ: 80×103cm
〔評価画像〕
2540dpi、175線/インチ、全面3%の網点画像
[Prepress conditions]
Version size: 80x103cm
[Evaluation image]
2540 dpi, 175 lines / inch, 3% halftone dot image

〔露光条件1〕
FD−YAGレーザー(532nm)を搭載した富士写真フイルム(株)製Luxel Plate Setter P−9600CTPを用い、0.2mJ/cm2で露光。露光にのみに要する時間は80秒。
〔露光条件2〕
半導体レーザー405nmを搭載した富士写真フイルム(株)製Luxel V9600CTPを用い、90μJ/cm2で露光。露光にのみに要する時間は70秒。
[Exposure condition 1]
Using a Luxe Plate Setter P-9600CTP manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. equipped with an FD-YAG laser (532 nm), exposure was performed at 0.2 mJ / cm 2 . The time required for exposure only is 80 seconds.
[Exposure condition 2]
Exposure is performed at 90 μJ / cm 2 using Luxel V9600CTP manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. equipped with a semiconductor laser of 405 nm. The time required only for exposure is 70 seconds.

〔バッファー部〕
図2に示すように、長さ100×幅180×高さ30cmの遮光された箱内にモーターで駆動するベルトコンベアーにより版をセッターから自現機に搬送する装置で、自現機側にキーエンス(株)の投光部と受光部をひとつのヘッドに有するセンサーヘッドLV−H42(650nm、出力3mW)とアンプユニットLV−21Aの組み合わせを取り付け、感材の有無をセッター本体に信号を送るシーケンスを組んだ。搬送モーターは、タイマーによってセンサーで感材を検出するとともに、一定時間停止し、その後また駆動させる回路を組んだ。
バッファー部で一定時間停止することなく、露光部から現像部へ連続して平版印刷版を移動させると、露光終了直後から加熱部へ入るまでに25秒を要した。
[Buffer part]
As shown in Fig. 2, a device that transports a plate from a setter to an automatic machine by a belt conveyor driven by a motor in a light-shielded box of length 100 x width 180 x height 30 cm. A sequence of sending a signal to the setter body by attaching a combination of sensor head LV-H42 (650 nm, output 3 mW) and amplifier unit LV-21A having a light projecting unit and a light receiving unit in one head. Assembled. The transport motor detects a sensitive material with a sensor by a timer, and has a circuit that stops for a certain time and then drives again.
When the lithographic printing plate was continuously moved from the exposure section to the development section without stopping for a certain period of time in the buffer section, it took 25 seconds from the end of exposure to entering the heating section.

〔現像条件1〕
富士写真フイルム(株)製自動現像機LP1250PIIを用い、プレヒート部に於いて版面温度が版裏面中央部で100℃になるように後加熱し、プレ水洗槽に於いて約23℃の水で酸素遮断性保護層を水洗除去した。その後、現像槽に於いて富士写真フイルム(株)製現像液DV−2:水=1:4(28℃でのpH11.95)を用い、28℃で19秒間現像した。その後、水洗槽に於いて水洗し、ガム槽に於いて富士写真フイルム(株)製フィニッシングガムFP−2W:水=1:1で標準処理を行い、加熱部に於いて50℃の温風で乾燥した。
[Development condition 1]
Using an automatic processor LP1250PII manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., post-heating is performed so that the plate surface temperature becomes 100 ° C. at the center of the back surface of the plate in the preheating portion, and oxygen is added at about 23 ° C. water in the pre-washing tank. The blocking protective layer was removed by washing with water. Thereafter, development was performed at 28 ° C. for 19 seconds using a developer DV-2: water = 1: 4 (pH 11.95 at 28 ° C.) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. in a developing tank. After that, it was washed with water in a water tank, finished in a gum tank with Fuji Photo Film Co., Ltd. finishing gum FP-2W: water = 1: 1, and heated at 50 ° C. in the heating section. Dried.

〔重合性平版印刷版の評価〕
〔小点再現性〕
Centurfax社製Ccdotにて印刷版を約20×20cmで区切り、20箇所の網点面積を測定した。
[Evaluation of polymerizable lithographic printing plate]
[Small point reproducibility]
The printing plate was divided into approximately 20 × 20 cm with Ccdot manufactured by Centurfax, and 20 dot areas were measured.

Figure 0004288123
Figure 0004288123

バッファー部で10秒以上停止させ、本発明の製版方法による潜像形成完了後、加熱処理開始までの時間30秒以上の場合が、バラツキが顕著に小さく安定していることがわかる。   It can be seen that the dispersion is remarkably small and stable when the buffer portion is stopped for 10 seconds or longer and the time from the completion of latent image formation by the plate making method of the present invention to the time of the heat treatment being 30 seconds or longer.

本発明で使用される製版装置の概略図である。It is the schematic of the plate-making apparatus used by this invention. 本発明で使用される製版装置におけるバッファー部の概略図である。It is the schematic of the buffer part in the plate-making apparatus used by this invention. 本発明で使用される加熱部を有する自動現像機の一形態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows one form of the automatic processor which has a heating part used by this invention.

Claims (2)

光重合性平版印刷版に光照射して潜像を形成する露光部、潜像形成完了後の光重合性平版印刷版を加熱処理する加熱部、加熱処理後の光重合性平版印刷版を現像処理する現像部を備えた製版装置において、光照射により光重合性平版印刷版上に潜像形成完了後30秒以上経過後に加熱部における加熱処理を行うよう制御するバッファー部を備えたことを特徴とする製版装置。Develop the exposure part that forms a latent image by irradiating the photopolymerizable lithographic printing plate, the heating part that heats the photopolymerizable lithographic printing plate after the latent image formation is completed, and develops the photopolymerizable lithographic printing plate after the heat treatment A plate making apparatus having a developing unit for processing is provided with a buffer unit for controlling heat treatment in a heating unit after 30 seconds or more after the completion of latent image formation on a photopolymerizable lithographic printing plate by light irradiation. A plate making device. 該バッファー部が、該露光部から該加熱部へ潜像形成完了後の光重合性平版印刷版を搬送する送り機構を備え、該送り機構における搬送停止及び/又は搬送速度の増減により、光照射により光重合性平版印刷版上に潜像形成完了後30秒以上経過後に加熱部における加熱処理を行うよう制御することを特徴とする請求項1に記載の製版装置。The buffer unit includes a feed mechanism that transports the photopolymerizable lithographic printing plate after the completion of latent image formation from the exposure unit to the heating unit, and light irradiation is performed by stopping transport and / or increasing or decreasing the transport speed in the feed mechanism. 2. The plate making apparatus according to claim 1, wherein a heat treatment in the heating unit is controlled after 30 seconds or more after the completion of latent image formation on the photopolymerizable lithographic printing plate.
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