JP2001166309A - 液晶表示素子の製造方法 - Google Patents

液晶表示素子の製造方法

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JP2001166309A
JP2001166309A JP34745099A JP34745099A JP2001166309A JP 2001166309 A JP2001166309 A JP 2001166309A JP 34745099 A JP34745099 A JP 34745099A JP 34745099 A JP34745099 A JP 34745099A JP 2001166309 A JP2001166309 A JP 2001166309A
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JP34745099A
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English (en)
Inventor
Teiji Saito
禎司 斉藤
Takahiro Nishioka
孝博 西岡
Tetsuya Satake
徹也 佐竹
Hiroyuki Fuchigami
宏幸 渕上
Kazuko Wakita
佳寿子 脇田
Tetsuyuki Kurata
哲之 蔵田
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 広視野角液晶表示素子が得られる配向分割処
理工程数及びタクト時間の削減ができ、且つ高プレチル
ト角及び高コントラストの液晶表示素子の製造方法を提
供する。 【解決手段】 透明基板2上に成膜された液晶分子が配
向可能な膜1に、任意方向から1回目のラビング処理を
行った後、マスク3を介して部分的に光照射を行うこと
で第1の配向処理部分4と第2の配向処理部分5を形成
し、1回目のラビング方向とは異なる方向から2回目の
ラビングを行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は配向分割処理を用い
た液晶表示素子の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、画素内で分割された領域に異なる
方向のプレチルト角を発現させる配向分割方法として
は、特開平5−196942号公報、特開平9−339
28号公報などに記載のフォトリソグラフィー工程を利
用する方法がある。
【0003】このフォトリソグラフィー工程を用いた配
向分割方法は、液晶分子が配向可能な膜に1回目のラビ
ング処理を行った後、フォトレジストを配向膜上に形成
し、マスクを介して部分的に露光しエッチングを行い、
その後1回目とは逆方向からラビングを行い、フォトレ
ジストを剥離することで、部分的にプレチルト角が異な
る領域の配向膜が形成され、配向分割を行うことができ
るといった方法である。しかし、このようなフォトリソ
グラフィー工程を用いた配向分割方法は、工程数及びタ
クト時間が増大するといった問題がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】以上のように、従来の
配向分割方法では、フォトリソグラフィー工程を用いる
ため工程数及びタクト時間が増大するといった課題があ
った。
【0005】本発明は、かかる課題を解決するためにな
されたもので、配向処理工程数の削減、タクト時間の短
縮ができ且つ配向分割を容易に行うことができる液晶表
示素子の製造方法を得ることを目的とするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】この発明に係る液晶表示
素子の製造方法は、透明基板上に液晶分子が配向可能な
配向膜を形成する工程と、上記配向膜に任意の方向から
1回目のラビングを行う工程と、上記1回目のラビング
が施された配向膜に、マスクを介して部分的に光照射を
行う工程と、上記光照射を施された配向膜に、上記1回
目のラビング方向とは異なる方向から2回目のラビング
を行う工程とを含むものである。
【0007】又、1回目のラビングを行う工程の前工程
として、配向膜に光照射を行うものである。
【0008】又、2回目のラビングを行う工程の後工程
として、配向膜に光照射を行うものである。
【0009】又、光照射が無偏光で行われるものであ
る。
【0010】又、光照射が偏光光で行われるものであ
る。
【0011】又、光照射の照射角度が10°以上170
°以下の範囲であるものである。
【0012】又、マスクを介して部分的に光照射を施さ
れた配向膜は、該光照射の施された部分に2回目のラビ
ング方向のプレチルト角が発現し、光の照射されない部
分に1回目のラビング方向のプレチルト角が発現するも
のである。
【0013】又、マスクを介して部分的に光照射を施さ
れた配向膜は、該光照射の施された部分に1回目のラビ
ング方向のプレチルト角が発現し、光が照射されない部
分に2回目のラビング方向のプレチルト角が発現するも
のである。
【0014】
【発明の実施の形態】図1は、本発明で対象とする液晶
表示素子の製造方法を説明するための図であり、1は液
晶分子が配向可能な膜が成膜された配向膜、2は透明基
板、3はマスク、4はマスク3を用いた光照射工程にお
いて光が照射されない第1の配向処理部分、5は上記工
程において光が照射される第2の配向処理部分、6は光
源である。図1を参照しながら、この実施の形態に係わ
る液晶表示素子の製造方法について説明する。
【0015】まず、透明基板2に、液晶分子が配向可能
な膜1を塗布する。この液晶分子が配向可能な膜(以
下、配向膜と呼ぶ。)1は、透明基板2上にスピンコー
トなどにより配向剤を塗布し、加熱による焼成により形
成する。このとき室温〜100℃の温度で予備乾燥して
もよい。
【0016】尚、ここで用いる配向膜1は、特に限定さ
れるものではなく、ラビング処理によって液晶分子が配
向し、光照射により膜の分子構造内に光分解、光異性化
または光重合する成分があればよい。
【0017】次に、図1(a)に示すように、透明基板
2上に成膜された配向膜1に、1回目のラビング処理を
行い、1回目のラビング方向にプレチルト角を発現させ
る。以下、この1回目のラビング処理工程を製造工程1
と呼ぶ。
【0018】次に、図1(b)に示すように、マスク3
を介してDeep−UV、UVまたはHe−Neレーザ
ーなどの光源6から光照射を行い、配向膜1に、光の照
射されない部分である第1の配向処理部分4と、光の照
射された部分である第2の配向処理部分5を形成する。
以下、このマスク3を用いた光照射工程を製造工程2と
呼ぶ。
【0019】ここで、第1の配向処理部分4は、光が照
射されていないため、1回目のラビングで発現したプレ
チルト角を保持しているが、第2の配向処理部分5は、
光が照射されるため、配向膜1の分子鎖が分解、重合ま
たは異性化を起こしプレチルト角が変化する。ここで用
いる光源6は、特に限定されるものではなく、配向膜1
の感度波長に対応したものであればよい。
【0020】又、ここで用いるマスク3は、特に限定さ
れるものではなく、少なくとも一部が遮光する部分を備
えていればよい。
【0021】次に、図1(c)に示すように、製造工程
1のラビング方向と異なる方向から2回目のラビング処
理を行う。以下、この2回目のラビング処理工程を製造
工程3と呼ぶ。
【0022】ここで、異なるプレチルト角を持った第1
の配向処理部分4及び第2の配向処理部分5に、1回目
と異なるラビング条件で2回目のラビング処理を行うこ
とで、第1の配向処理部分4と第2の配向処理部分5の
プレチルト角発現方向が異なり、プレチルト角の変化に
よって配向分割処理が可能となる。
【0023】尚、本発明を用いて作製した液晶表示素子
は、少なくとも一つの透明基板が本発明の方法によって
配向分割処理されたものであればよい。
【0024】
【実施例】以下、本発明の具体的な実施例をさらに詳細
に説明する。 実施例1.大きさ30mm×24mm、厚さ1.1mm
の透明電極付きガラス基板の透明電極面に、溶媒に対し
4.0%の配向剤溶液{商品名:AL5046、JSR
(株)製}をスピナーにより塗布し(スピンコート条
件:3000rpm/30sec)、80℃で1分間予
備乾燥した後、本乾燥として180℃で60分間焼成
し、約100nmの塗膜を形成した。
【0025】次に、製造工程1として、配向膜1にラビ
ングマシーン{商品名:RSYN−8、飯沼ゲージ製作
所(株)製}を用いて、ローラー速度250rpm、ス
テージ速度10mm/s、毛先押し込み長さ0.1mm
の条件で、1回目のラビング処理を行った。
【0026】次に、製造工程2として、石英基板に一部
アルミテープを貼り付けたマスク3を介して、光源6の
UV照射装置{商品名:UIS−5011DUB8、ウ
シオ電機(株)製}を用いて、配向膜1に対して法線方
向から照射エネルギーが10J/cm2(500se
c)の無偏光照射を行い、第1の配向処理部分4と第2
の配向処理部分5を形成した。
【0027】ここで、本実施例において用いる光照射方
法は、無偏光(非偏光)を基板に対し法線方向から照射
するものであり、斜め方向から照射する方法や偏光光を
照射する方法より配向膜1の光反応効率が良く、短い照
射時間で配向処理を行えるといった効果が期待できる。
【0028】次に、製造工程3として、配向膜1にラビ
ングマシーンを用いて、ローラー速度250rpm、ス
テージ速度10mm/s、毛先押し込み長さ0.04m
mの条件で、1回目のラビング方向とは逆の方向から2
回目のラビング処理を行った。
【0029】上記の方法で配向処理された配向膜1が成
膜されている透明基板2を互いに配向処理面を対向させ
て配置し、4.50μmのギャップを保つように張り合
わせ、複屈折率(Δn)が0.079{商品名:ZLI
−4792、メルク・ジャパン(株)製}のネマチック
性液晶を等方相またはネマチック相で注入し液晶表示素
子を得た。
【0030】液晶表示素子の初期配向は良好に配向分割
が出来ており、コントラストは100で、第1の配向処
理部分4は1回目のラビング方向にプレチルト角が1°
程度発現し、第2の配向処理部分5は2回目のラビング
方向にプレチルト角が1°程度発現した。
【0031】実施例2〜4.実施例1においては無偏光
を用いたが、偏光した光を照射することにより、照射時
間は無偏光よりは浪費するが、配向膜1の分子鎖を選択
的に分解、重合または異性化させることができ配向秩序
が向上するといった効果により、高プレチルト角及び高
コントラストを得ることができるといった効果が期待で
きる。
【0032】又、実施例1においては基板に対し法線方
向から照射していたが、斜め方向から照射することで照
射時間は浪費するが、配向膜の分子鎖を選択的に分解、
重合または異性化させることができ配向秩序が向上する
といった効果により、高プレチルト角及び高コントラス
トを得ることができるといった効果が期待できる。
【0033】そこで、実施例1の製造工程2について、
照射される光を偏光光に変え、もしくは、光の照射角度
を変えて、他は実施例1と同様にして液晶表示素子を作
製した。
【0034】製造工程2において、偏光板7としてグラ
ンレーザープリズムを用いて偏光光とした光を法線方向
から照射し作製した素子を実施例2とした。
【0035】また、製造工程2において、無偏光の光を
斜め45°方向から照射し作製した素子を実施例3とし
た。また、製造工程2において、上記偏光光を斜め45
°方向から照射し作製した素子を実施例4とした。
【0036】実施例2〜4のそれぞれにおいて、液晶表
示素子の初期配向は良好に配向分割が出来ており、第1
の配向処理部分4は1回目のラビング方向にプレチルト
角が発現し、第2の配向処理部分5は2回目のラビング
方向にプレチルト角が発現し、高プレチルト角と高コン
トラストが得られた。その結果を表1に示す。
【0037】
【表1】
【0038】なお、表記中の二重丸は、上記液晶の配向
の乱れがなく、良好に配向分割ができていることを示
す。
【0039】実施例5〜8.実施例1〜4のそれぞれに
対応して、製造工程1における1回目のラビング条件
が、ローラー速度250rpm、ステージ速度10mm
/s、毛先押し込み長さ0.04mmで、製造工程3に
おける2回目のラビング条件が、ローラー速度250r
pm、ステージ速度10mm/s、毛先押し込み長さ
0.1mmで、各ラビング処理を行う以外は、実施例1
〜4のそれぞれと同様にして実施例5〜8の液晶表示素
子を作製した。
【0040】これらの実施例においては、液晶表示素子
の初期配向は良好に配向分割が出来ており、第1の配向
処理部分4は2回目のラビング方向にプレチルト角が発
現し、第2の配向処理部分5は1回目のラビング方向に
プレチルト角が発現し、高プレチルト角と高コントラス
トが得られた。その結果を表1に示す。
【0041】実施例9.実施例1で用いた配向膜1とは
異なる配向膜1aを用いた以外は、実施例1と同様にし
て液晶表示素子を作製した。図2は本実施例の製造方法
を示す説明図である。
【0042】配向膜1aは、溶媒に対し2.0%の配向
剤溶液をスピナーにより塗布し(スピンコート条件:1
300rpm/30sec)、80℃で1分間予備乾燥
した後、本乾燥として150℃で10分間焼成し、約5
0nmの膜を形成したものである。
【0043】液晶表示素子の初期配向は良好に配向分割
が出来ており、コントラストは100で、第1の配向処
理部分4は1回目のラビング方向にプレチルト角が1°
程度発現し、第2の配向処理部分5は2回目のラビング
方向にプレチルト角が1°程度発現した。
【0044】又、実施例2〜8のそれぞれにおいて、実
施例9の配向膜1aを用いた以外は、実施例2〜8のそ
れぞれと同様に液晶表示素子を作製しても、実施例2〜
8のそれぞれとほぼ同様の効果が得られた。
【0045】実施例10.大きさ30mm×24mm、
厚さ1.1mmの透明電極付きガラス基板の透明電極面
に、溶媒に対し2.0%の配向剤溶液をスピナーにより
塗布し(スピンコート条件:1300rpm/30se
c)、80℃で1分間予備乾燥した後、本乾燥として1
50℃で10分間焼成し、約50nmの塗膜を形成し
た。
【0046】次に、図3(a)のように製造工程1の前
工程として、配向膜1aに光源6のUV照射装置{商品
名:UIS−5011DUB8、ウシオ電機(株)製}
を用いて、配向膜1aに対して法線方向から照射エネル
ギーが5mJ/cm2の無偏光照射をおこなった。
【0047】ここで、実施例9に前工程を入れることに
よって、配向膜1aの組成をあらかじめ変化させておく
ことができるため、配向秩序が向上し、高プレチルト角
の発現及び高コントラストが期待できる。
【0048】ここで、前工程を入れる場合、配向膜1a
は光照射により重合または異性化する分子構造を持つ
と、より好ましい。
【0049】次に、図3(b)のように製造工程1とし
て、配向膜1aに、ラビングマシーン{商品名:RSY
N−8、飯沼ゲージ製作所(株)製}を用いて、ローラ
ー速度250rpm、ステージ速度10mm/s、毛先
押し込み長さ0.1mmの条件で、1回目のラビング処
理を行った。
【0050】次に、図3(c)のように製造工程2とし
て、配向膜1aに、石英基板に一部アルミテープを貼り
付けたマスク3を介して、光源6のUV照射装置{商品
名:UIS−5011DUB8、ウシオ電機(株)製}
を用いて、配向膜1aに対して法線方向から照射エネル
ギーが10mJ/cm2の無偏光照射を行い、第1の配
向処理部分4と第2の配向処理部分5を形成した。
【0051】次に、図3(d)のように製造工程3とし
て、配向膜1aに、ラビングマシーンを用いて、ローラ
ー速度250rpm、ステージ速度10mm/s、毛先
押し込み長さ0.04mmの条件で、1回目のラビング
方向とは逆方向から2回目のラビング処理を行った。
【0052】上記の方法で配向処理された配向膜1aが
成膜されている透明基板2を互いに配向処理面を対向さ
せて配置し、4.50μmのギャップを保つように張り
合わせ、複屈折率(Δn)が0.079{商品名:ZL
I−4792、メルク・ジャパン(株)製}のネマチッ
ク性液晶を等方相またはネマチック相で注入し、本発明
を用いた液晶表示素子を得た。
【0053】液晶表示素子の初期配向は良好に配向分割
が出来ており、第1の配向処理部分4は1回目のラビン
グ方向にプレチルト角が3°程度発現し、第2の配向処
理部分5は2回目のラビング方向にプレチルト角が3°
程度発現し、コントラストは200であり、高プレチル
ト角と高コントラストが得られた。
【0054】実施例11.実施例10において、前工程
の光照射を、偏光板7としてグランレーザープリズムを
用いて偏光光として照射した以外は、実施例10と同様
に液晶表示素子を作製した。
【0055】ここで、前工程を偏光光にすることによっ
て配向膜1aの分子鎖の分解、重合または異性化を選択
的に行えるため、より配向秩序が向上し、実施例10よ
り高コントラストが期待できる。
【0056】液晶表示素子の初期配向は良好に配向分割
が出来ており、第1の配向処理部分4は1回目のラビン
グ方向にプレチルト角が発現し、第2の配向処理部分5
は2回目のラビング方向にプレチルト角が発現し、コン
トラストは250に向上した。その結果を表2に示す。
【0057】
【表2】
【0058】なお、表記中の二重丸は上記液晶の配向の
乱れがなく、良好に配向分割ができていることを示す。
【0059】実施例12〜13.実施例10〜11のそ
れぞれにおいて、前工程として行った工程を、後工程と
して製造工程3の後に行った以外は、実施例10〜11
のそれぞれと同様に液晶表示素子を作製した。図4に本
実施例の製造方法を示す。
【0060】後工程として、無偏光の光を法線方向から
照射し作製した素子を実施例12とした。また、後工程
として、グランレーザープリズムを用いて偏光光とした
光を法線方向から照射し作製した素子を実施例13とし
た。
【0061】ここで、後工程を入れることにより、前工
程の時と同様に配向処理された部分の配向膜組成を変化
させることで配向秩序が向上し、高コントラストが期待
できる。
【0062】また、後工程を入れる場合、配向膜は光照
射により重合または異性化する分子構造を持つと、より
好ましい。
【0063】液晶表示素子の初期配向は良好に配向分割
が出来ており、第1の配向処理部分4は1回目のラビン
グ方向にプレチルト角が発現し、第2の配向処理部分5
は2回目のラビング方向にプレチルト角が発現し、高コ
ントラストが得られた。その結果を表2に示す。
【0064】実施例14〜15.実施例10〜11のそ
れぞれにおいて、前工程の光照射角度を斜め45°方向
から照射した以外は、実施例10〜11のそれぞれと同
様に液晶表示素子を作製した。
【0065】前工程の光照射を斜めから行うことで配向
膜1aの分子鎖の分解、重合または異性化を選択的に行
えるため、より配向秩序が向上し、高コントラスト及び
高プレチルト角が期待できる。
【0066】液晶表示素子の初期配向は良好に配向分割
が出来ており、第1の配向処理部分4は1回目のラビン
グ方向にプレチルト角が発現し、第2の配向処理部分5
は2回目のラビング方向にプレチルト角が発現し、高プ
レチルト角と高コントラストが得られた。その結果を表
2に示す。
【0067】実施例16〜17.実施例12〜13のそ
れぞれにおいて、後工程の光照射角度を斜め45°方向
から照射した以外は、実施例12〜13のそれぞれと同
様に液晶表示素子を作製した。
【0068】後工程の光照射を斜めから行うことで配向
膜1aの分子鎖の分解、重合または異性化を選択的に行
えるため、より配向秩序が向上し、高コントラスト及び
高プレチルト角が期待できる。
【0069】液晶表示素子の初期配向は良好に配向分割
が出来ており、第1の配向処理部分4は1回目のラビン
グ方向にプレチルト角が発現し、第2の配向処理部分5
は2回目のラビング方向にプレチルト角が発現し、高プ
レチルト角と高コントラストが得られた。その結果を表
2に示す。
【0070】実施例18.実施例10において、製造工
程2のマスク3を介して行われる光照射が斜め45°方
向から行われる以外は、実施例10と同様にして液晶表
示素子を作製した。
【0071】ここで、製造工程2のマスク3を介して行
われる光照射が斜め45°方向から行われることによっ
て、実施例3同様、配向膜1aの分子鎖の分解、重合ま
たは異性化を選択的に行えるため、より配向秩序が向上
し高コントラスト、高プレチルト角が期待出来る。
【0072】液晶表示素子の初期配向は良好に配向分割
が出来ており、第1の配向処理部分4は1回目のラビン
グ方向にプレチルト角が発現し、第2の配向処理部分5
は2回目のラビング方向にプレチルト角が発現し、高コ
ントラストと高プレチルト角が得られた。その結果を表
2に示す。
【0073】また、実施例11〜17のぞれぞれにおい
て、実施例18と同様に行ってもほぼ同様の効果が得ら
れた。
【0074】実施例19.実施例10において、製造工
程2のマスク3を介して行われる光照射が偏光光である
こと以外は、実施例10と同様にして液晶表示素子を作
製した。
【0075】ここで、製造工程2のマスク3を介して行
われる光照射が偏光光にすることによって、実施例2同
様、配向膜1aの分子鎖の分解、重合または異性化を選
択的に行えるため、より配向秩序が向上し高コントラス
ト、高プレチルト角が期待出来る。
【0076】液晶表示素子の初期配向は良好に配向分割
が出来ており、第1の配向処理部分4は1回目のラビン
グ方向にプレチルト角が発現し、第2の配向処理部分5
は2回目のラビング方向にプレチルト角が発現し、高コ
ントラストと高プレチルト角が得られた。その結果を表
2に示す。
【0077】また、実施例11〜17のぞれぞれにおい
て、実施例19と同様に行ってもほぼ同様の効果が得ら
れた。
【0078】実施例20.実施例10において、製造工
程2のマスク3を介して行われる光照射が偏光光で斜め
45°方向から行われる以外は、実施例10と同様にし
て液晶表示素子を作製した。
【0079】ここで、製造工程2のマスク3を介して行
われる光照射が偏光光で斜め45°方向から行われるこ
とによって、実施例4同様、配向膜1aの分子鎖の分
解、重合または異性化を選択的に行えるため、より配向
秩序が向上し高コントラスト、高プレチルト角が期待出
来る。
【0080】液晶表示素子の初期配向は良好に配向分割
が出来ており、第1の配向処理部分4は1回目のラビン
グ方向にプレチルト角が発現し、第2の配向処理部分5
は2回目のラビング方向にプレチルト角が発現し、高コ
ントラストと高プレチルト角が得られた。その結果を表
2に示す。
【0081】また、実施例11〜17のぞれぞれにおい
て、実施例20と同様に行ってもほぼ同様の効果が得ら
れた。
【0082】実施例21.実施例10において、1回目
のラビング条件がローラー速度250rpm、ステージ
速度10mm/s、毛先押し込み長さ0.04mmで、
2回目のラビング条件がローラー速度250rpm、ス
テージ速度10mm/s、毛先押し込み長さ0.1mm
である以外は、実施例10と同様にして液晶表示素子を
作製した。
【0083】ここで、1回目と2回目のラビング条件を
入れ替えることにより、実施例10における第1の配向
処理部分4及び第2の配向処理部分5のプレチルト角発
現方向を反転させることができる。
【0084】液晶表示素子の初期配向は良好に配向分割
が出来ており、第1の配向処理部分4は2回目のラビン
グ方向にプレチルト角が3°程度発現し、第2の配向処
理部分5は1回目のラビング方向にプレチルト角が3°
程度発現し、プレチルト角発現方向が反転させることが
できた。その結果を表2に示す。
【0085】また、実施例11〜20のぞれぞれにおい
て、ラビング条件を実施例21と同様に行ってもほぼ同
様の効果が得られた。
【0086】尚、上記実施の形態においては、光照射の
照射角度θは45°もしくは90°(法線方向)に限定
されるものではなく、10°<θ<170°の範囲であ
ればよく、望ましくは30°〜60°、120°〜15
0°の範囲であればよい。
【0087】比較例.比較例として、例えば特開平5−
196942号公報に示される従来法を用いて液晶表示
素子を作成した。
【0088】まず、大きさ30mm×24mm、厚さ
1.1mmの透明電極付きガラス基板12の透明電極面
に、溶媒に対し4.0%の配向剤溶液{商品名:AL5
046、JSR(株)製}をスピナーにより塗布し(ス
ピンコート条件:3000rpm/30sec)、80
℃で1分間予備乾燥した後、本乾燥として180℃で6
0分間焼成し、約100nmの配向膜11を形成した。
【0089】次に、図5(a)のように、配向膜11
に、ラビングマシーン{商品名:RSYN−8、飯沼ゲ
ージ製作所(株)製}を用いて、ローラー速度250r
pm、ステージ速度10mm/s、毛先押し込み長さ
0.1mmの条件で、1回目のラビング処理を行った。
【0090】次に、図5(b)のように、1回目のラビ
ング処理をされた配向膜11上に、ポジ型レジスト{商
品名:JALS−381−R9、JSR(株)製}18
をスピナーにより塗布し(スピンコート条件:1st−
500rpm/5sec、2nd−1500rpm/2
5sec)、90℃で10分間乾燥させた。
【0091】次に、図5(c)のように、マスク13を
介して光源6のUV照射装置{商品名:UIS−501
1DUB8、ウシオ電機(株)製}を用いて、275m
J/cm2の照射エネルギーになるように照射し、第1
の配向処理部分14及び第2の配向処理部分15を形成
した。
【0092】次に、図5(d)のように、現像液{商品
名:CD−902、JSR(株)製}を用いて、エッチ
ングのためのdippingを1分間、純水リンスを5
分間、90℃で10分間の乾燥といった条件下で行っ
た。
【0093】次に、図5(e)のように、1回目のラビ
ング方向とは逆方向から、ローラー速度250rpm、
ステージ速度10mm/s、毛先押し込み長さ0.1m
mの条件で、2回目のラビング処理を行った。
【0094】次に、図5(f)のように、専用剥離液
{商品名:CS−1001、JSR(株)製}を用い
て、レジスト剥離のためのdippingを4分間、イ
ソプロピルアルコールによるリンスを1分間行い、90
℃で1分間の乾燥といった条件下で行った。
【0095】上記の方法で配向処理された配向膜11が
成膜されている透明基板12を互いに配向処理面を対向
させて配置し、4.50μmのギャップを保つように張
り合わせ、複屈折率(Δn)が0.079{商品名:Z
LI−4792、メルク・ジャパン(株)製}のネマチ
ック性液晶を等方相またはネマチック相で注入し、本発
明を用いた液晶表示素子を得た。
【0096】液晶表示素子の初期配向は良好に配向分割
が出来ており、コントラストは100で、第1の配向処
理部分4は1回目のラビング方向にプレチルト角が1°
程度発現し、第2の配向処理部分5は2回目のラビング
方向にプレチルト角が1°程度発現した。
【0097】初期配向は良好で配向分割もできていた
が、実施例1では3つの製造工程で配向分割処理が行
え、共通のラビング処理時間以外は最大で500sec
のタクト時間だったのに対し、比較例1では、6つの製
造工程が必要で、ラビング処理時間エッチングやレジス
ト剥離といった工程では約40分もの時間を浪費した。
【0098】
【発明の効果】この発明に係る液晶表示素子の製造方法
は、透明基板上に液晶分子が配向可能な配向膜を形成す
る工程と、上記配向膜に任意の方向から1回目のラビン
グを行う工程と、上記1回目のラビングが施された配向
膜に、マスクを介して部分的に光照射を行う工程と、上
記光照射を施された配向膜に、上記1回目のラビング方
向とは異なる方向から2回目のラビングを行う工程とを
含むので、配向分割処理の工程数削減及びタクト時間の
短縮ができ、簡略な方法で配向分割処理ができるという
効果がある。
【0099】又、1回目のラビングを行う工程の前工程
として、配向膜に光照射を行うので、配向膜の組成をあ
らかじめ変化させておくことで配向秩序が向上し、高プ
レチルト角の発現、高コントラストを得ることができる
という効果がある。
【0100】又、2回目のラビングを行う工程の後工程
として、配向膜に光照射を行うので、配向処理された部
分の配向膜組成を変化させることで配向秩序が向上し、
高プレチルト角、高コントラストを得ることができると
いう効果がある。
【0101】又、光照射が無偏光で行われるので、配向
膜の光反応効率が良く、偏光光で行われるより照射時間
が短縮できるという効果がある。
【0102】又、光照射が偏光光で行われるので、配向
膜の分子鎖の分解、重合または異性化を選択的に行える
ため、配向秩序が向上し高コントラスト、高プレチルト
角を得ることができるという効果がある。
【0103】又、光照射の照射角度が10°以上170
°以下の範囲であるので、配向膜の分子鎖の分解、重合
または異性化を選択的に行えるため、配向秩序が向上し
高コントラスト、高プレチルト角を得ることができると
いう効果がある。
【0104】又、マスクを介して部分的に光照射を施さ
れた配向膜は、該光照射の施された部分に2回目のラビ
ング方向のプレチルト角が発現し、光の照射されない部
分に1回目のラビング方向のプレチルト角が発現するの
で、所望の方向にプレチルト角を発現させることが可能
となり、良好な配向分割ができるという効果を有する。
【0105】又、マスクを介して部分的に光照射を施さ
れた配向膜は、該光照射の施された部分に1回目のラビ
ング方向のプレチルト角が発現し、光が照射されない部
分に2回目のラビング方向のプレチルト角が発現するの
で、所望の方向にプレチルト角を発現させることが可能
となり、良好な配向分割ができるという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係る液晶表示素子の製造方法の実施
の形態を示す説明図である。
【図2】 本発明に係る液晶表示素子の製造方法の実施
の形態を示す説明図である。
【図3】 本発明に係る液晶表示素子の製造方法におい
て、前工程として光照射工程を加えた場合の実施例を示
す説明図である。
【図4】 本発明に係る液晶表示素子の製造方法におい
て、後工程として光照射工程を加えた場合の実施例を示
す説明図である。
【図5】 従来の液晶表示素子の製造方法を示す説明図
である。
【符号の説明】
1、1a、11 配向膜、 2、12 透明基板、
3、13 マスク、4、14 第1の配向処理部分、
5、15 第2の配向処理部分、6、16 光源、 7
偏光板、 8、18 レジスト。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐竹 徹也 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 渕上 宏幸 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 脇田 佳寿子 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 蔵田 哲之 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 Fターム(参考) 2H090 HC05 HD14 LA09 LA16 MA10 MA15 MB02 MB03 MB14

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 透明基板上に液晶分子が配向可能な配向
    膜を形成する工程と、 上記配向膜に任意の方向から1回目のラビングを行う工
    程と、 上記1回目のラビングが施された配向膜に、マスクを介
    して部分的に光照射を行う工程と、 上記マスクを介して部分的に光照射を施された配向膜
    に、上記1回目のラビング方向とは異なる方向から2回
    目のラビングを行う工程とを含む液晶表示素子の製造方
    法。
  2. 【請求項2】 1回目のラビングを行う工程の前工程と
    して、配向膜に光照射を行うことを特徴とする請求項1
    記載の液晶表示素子の製造方法。
  3. 【請求項3】 2回目のラビングを行う工程の後工程と
    して、配向膜に光照射を行うことを特徴とする請求項1
    記載の液晶表示素子の製造方法。
  4. 【請求項4】 光照射が無偏光で行われることを特徴と
    する請求項1記載の液晶表示素子の製造方法。
  5. 【請求項5】 光照射が偏光光で行われることを特徴と
    する請求項1記載の液晶表示素子の製造方法。
  6. 【請求項6】 光照射の照射角度が10°以上170°
    以下の範囲であることを特徴とする請求項1記載の液晶
    表示素子の製造方法。
  7. 【請求項7】 マスクを介して部分的に光照射を施され
    た配向膜は、該光照射の施された部分に2回目のラビン
    グ方向のプレチルト角が発現し、光の照射されない部分
    に1回目のラビング方向のプレチルト角が発現すること
    を特徴とする請求項1記載の液晶表示素子の製造方法。
  8. 【請求項8】 マスクを介して部分的に光照射を施され
    た配向膜は、該光照射の施された部分に1回目のラビン
    グ方向のプレチルト角が発現し、光が照射されない部分
    に2回目のラビング方向のプレチルト角が発現すること
    を特徴とする請求項1記載の液晶表示素子の製造方法。
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