JP2001165445A - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
- Publication number
- JP2001165445A JP2001165445A JP35129499A JP35129499A JP2001165445A JP 2001165445 A JP2001165445 A JP 2001165445A JP 35129499 A JP35129499 A JP 35129499A JP 35129499 A JP35129499 A JP 35129499A JP 2001165445 A JP2001165445 A JP 2001165445A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heated
- temperature
- mounting table
- heating
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- Pending
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- Control Of High-Frequency Heating Circuits (AREA)
- Electric Ovens (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 簡単な構成で食品の仕上がり温度が均一にで
きる高周波加熱装置を提供すること。 【解決手段】 赤外線センサにより加熱中の載置台７上
の被加熱物１の温度分布を検出し、温度の高い位置と低
い位置を認識し、温度の低い位置を加熱室２内の電界強
度の強い位置で停止して加熱するように載置台７の回転
機構８を制御するようにしたものである。したがって被
加熱物１の各部分の温度差を小さくでき、より均一に被
加熱物１を加熱することが出来る。
きる高周波加熱装置を提供すること。 【解決手段】 赤外線センサにより加熱中の載置台７上
の被加熱物１の温度分布を検出し、温度の高い位置と低
い位置を認識し、温度の低い位置を加熱室２内の電界強
度の強い位置で停止して加熱するように載置台７の回転
機構８を制御するようにしたものである。したがって被
加熱物１の各部分の温度差を小さくでき、より均一に被
加熱物１を加熱することが出来る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、食品などの被加熱
物を加熱する高周波加熱装置に関し、被加熱物の温度を
検知して被加熱物を効率的に加熱し、加熱分布の均一化
をはかり、また加熱の自動化に関するものである。
物を加熱する高周波加熱装置に関し、被加熱物の温度を
検知して被加熱物を効率的に加熱し、加熱分布の均一化
をはかり、また加熱の自動化に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図３に示すように従来の加熱装置は、例
えば特開平９−２７３８９号公報に記載のように被加熱
物１を収納する加熱室２と、前記被加熱物１を加熱する
高周波発生手段３と、前記被加熱物１の温度分布を検出
する温度分布検出手段４と、前記加熱室内の電磁波分布
を変更する分布可変手段５と、前記物理量検出手段によ
って検出した物理量により前記分布可変手段５を制御す
る制御手段５１を備えた構成としている。また、分布可
変手段５は加熱室に万遍なく電磁波を分布させる均一加
熱制御手段と、一部分に電磁波を集中させる局所加熱制
御手段と、被加熱物の加熱途中に前記均一加熱制御手段
と前記局所加熱制御手段とを切り替える構成としている
ので、被加熱物１の状態に応じて最適な電磁波分布で加
熱することができる。また、被加熱物１の温度分布検に
より分布可変手段５を制御するので、被加熱物１の温度
分布に応じて最適な電磁波分布で加熱することができ
る。
えば特開平９−２７３８９号公報に記載のように被加熱
物１を収納する加熱室２と、前記被加熱物１を加熱する
高周波発生手段３と、前記被加熱物１の温度分布を検出
する温度分布検出手段４と、前記加熱室内の電磁波分布
を変更する分布可変手段５と、前記物理量検出手段によ
って検出した物理量により前記分布可変手段５を制御す
る制御手段５１を備えた構成としている。また、分布可
変手段５は加熱室に万遍なく電磁波を分布させる均一加
熱制御手段と、一部分に電磁波を集中させる局所加熱制
御手段と、被加熱物の加熱途中に前記均一加熱制御手段
と前記局所加熱制御手段とを切り替える構成としている
ので、被加熱物１の状態に応じて最適な電磁波分布で加
熱することができる。また、被加熱物１の温度分布検に
より分布可変手段５を制御するので、被加熱物１の温度
分布に応じて最適な電磁波分布で加熱することができ
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
構成では、加熱室２内に高周波を導入する導波管６１を
設け、前記導波管６１を移動させる導波管移動手段６を
有したり、加熱室２内に高周波を導入する開口部を設
け、前記開口部の位置を変化させる開口位置可変手段を
有する分布制御手段５を設ける必要がある。導波管６
１、開口位置などは、高周波発生手段３に直結した位置
にあり、非常に電界強度の強い場所である。このよう
に、電界強度の強い位置で金属で構成された導波管６１
や開口を移動させるには、電界集中による発熱やスパー
クなどの現象が発生しやすい。また、導波管６１や開口
を移動するための駆動機構等も必要となり、構成が複雑
となるという課題を有していた。
構成では、加熱室２内に高周波を導入する導波管６１を
設け、前記導波管６１を移動させる導波管移動手段６を
有したり、加熱室２内に高周波を導入する開口部を設
け、前記開口部の位置を変化させる開口位置可変手段を
有する分布制御手段５を設ける必要がある。導波管６
１、開口位置などは、高周波発生手段３に直結した位置
にあり、非常に電界強度の強い場所である。このよう
に、電界強度の強い位置で金属で構成された導波管６１
や開口を移動させるには、電界集中による発熱やスパー
クなどの現象が発生しやすい。また、導波管６１や開口
を移動するための駆動機構等も必要となり、構成が複雑
となるという課題を有していた。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、赤外線センサにより加熱中の載置台上の被
加熱物の温度分布を検出し、温度の高い位置と低い位置
を認識し、温度の低い位置を加熱室内の電界強度の強い
位置で停止して加熱するように前記載置台の回転機構を
制御するようにしたものである。
するために、赤外線センサにより加熱中の載置台上の被
加熱物の温度分布を検出し、温度の高い位置と低い位置
を認識し、温度の低い位置を加熱室内の電界強度の強い
位置で停止して加熱するように前記載置台の回転機構を
制御するようにしたものである。
【０００５】上記発明によれば、電波の吸収率等の違い
により加熱中の被加熱物の各部分で温度差が生じたと
き、温度の低い位置を電界強度の強い位置で停止して、
被加熱物の温度の低い場所をより強く加熱するため被加
熱物の各部分の温度差を小さくでき、より均一に被加熱
物を加熱することが出来る。
により加熱中の被加熱物の各部分で温度差が生じたと
き、温度の低い位置を電界強度の強い位置で停止して、
被加熱物の温度の低い場所をより強く加熱するため被加
熱物の各部分の温度差を小さくでき、より均一に被加熱
物を加熱することが出来る。
【０００６】
【発明の実施の形態】請求項１の発明は、被加熱物を収
納する加熱室と、前記被加熱物を載置する載置台と、前
記載置台を回転させる回転機構と、前記加熱室に高周波
電波を供給する高周波発生装置と、前記被加熱物からの
赤外線エネルギーの放射を検出する赤外線センサにより
前記被加熱物の温度を検出する温度検出手段と、前記載
置台の回転機構を制御する制御手段とを備え、前記温度
検出手段によって検出した温度に基づき前記載置台の回
転を制御して被加熱物を加熱する構成としたものであ
る。
納する加熱室と、前記被加熱物を載置する載置台と、前
記載置台を回転させる回転機構と、前記加熱室に高周波
電波を供給する高周波発生装置と、前記被加熱物からの
赤外線エネルギーの放射を検出する赤外線センサにより
前記被加熱物の温度を検出する温度検出手段と、前記載
置台の回転機構を制御する制御手段とを備え、前記温度
検出手段によって検出した温度に基づき前記載置台の回
転を制御して被加熱物を加熱する構成としたものであ
る。
【０００７】そして、赤外線センサと被加熱物を回転さ
せる回転機構により加熱中の被加熱物の各部の温度分布
を検出することができ、被加熱物の最も温度低い位置を
あらかじめ決められた最も電界強度の強い位置で停止す
るように載置台を制御し、被加熱物の最も温度低い位置
をより強く加熱できるため被加熱物の各部分の温度差を
小さくでき、より均一に被加熱物を加熱することが出来
る。
せる回転機構により加熱中の被加熱物の各部の温度分布
を検出することができ、被加熱物の最も温度低い位置を
あらかじめ決められた最も電界強度の強い位置で停止す
るように載置台を制御し、被加熱物の最も温度低い位置
をより強く加熱できるため被加熱物の各部分の温度差を
小さくでき、より均一に被加熱物を加熱することが出来
る。
【０００８】また請求項２の発明は、温度検出手段が赤
外線を検出する複数の素子を備え、複数箇所の温度を検
出する構成としたものである。
外線を検出する複数の素子を備え、複数箇所の温度を検
出する構成としたものである。
【０００９】そして、複数箇所の温度を同時に検出でき
るため短時間に多数の箇所の温度を検出することが出
来、温度分布をより正確に検出することが出来る。
るため短時間に多数の箇所の温度を検出することが出
来、温度分布をより正確に検出することが出来る。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を用いて
説明する。
説明する。
【００１１】図１は本発明の実施例の高周波加熱装置の
構成を示すブロック図である。また、図２は同高周波加
熱装置の温度検出手段の要部断面図である。
構成を示すブロック図である。また、図２は同高周波加
熱装置の温度検出手段の要部断面図である。
【００１２】図１において、１は食品などの被加熱物で
あり加熱室２内の載置台７上に載置されている。載置台
７は回転機構８により加熱室２内で回転し、被加熱物１
を回転させる構成である。高周波発生装置９は導波管２
１を介して加熱室２に結合し、給電開口部１１から給電
される構成となっている。導波管２１の上部には温度検
出手段１２が設けられている。温度検出手段１２は加熱
室２の壁面に設けられた開口部１３を通過する被加熱物
１からの赤外線等を検知して被加熱物の温度を検出す
る。温度検出手段１２は複数の素子を備え載置台７の半
径上の４点からの赤外線等を検出するように設けられて
いる。制御手段１４は温度検知手段１２からの信号をも
とに高周波発生装置９及び、回転機構８を制御する。
あり加熱室２内の載置台７上に載置されている。載置台
７は回転機構８により加熱室２内で回転し、被加熱物１
を回転させる構成である。高周波発生装置９は導波管２
１を介して加熱室２に結合し、給電開口部１１から給電
される構成となっている。導波管２１の上部には温度検
出手段１２が設けられている。温度検出手段１２は加熱
室２の壁面に設けられた開口部１３を通過する被加熱物
１からの赤外線等を検知して被加熱物の温度を検出す
る。温度検出手段１２は複数の素子を備え載置台７の半
径上の４点からの赤外線等を検出するように設けられて
いる。制御手段１４は温度検知手段１２からの信号をも
とに高周波発生装置９及び、回転機構８を制御する。
【００１３】図２の温度検出手段１２の要部断面図にお
いて、金属ケース１５内に赤外線を検出する素子１６が
４個設けられており、シリコンなどで構成された窓１７
を通過する赤外線を検出する。窓１７の外側には赤外線
を透過するプラスチックなどで構成されたレンズ１８が
設けられており、このレンズ１８により素子１６のそれ
ぞれが載置台の半径上の４点の温度を検出するように構
成されている。
いて、金属ケース１５内に赤外線を検出する素子１６が
４個設けられており、シリコンなどで構成された窓１７
を通過する赤外線を検出する。窓１７の外側には赤外線
を透過するプラスチックなどで構成されたレンズ１８が
設けられており、このレンズ１８により素子１６のそれ
ぞれが載置台の半径上の４点の温度を検出するように構
成されている。
【００１４】次に動作、作用について説明すると温度検
出手段１２は載置台７の半径上の４点からの赤外線等を
検出することにより、載置台７が１回転すれば載置台７
のほぼ全面からの赤外線を検出することが可能となり、
載置台７上におかれた被加熱物１の加熱中の温度分布を
検出することが出来る。制御手段１４は検出された被加
熱物１の温度分布の信号に基づいて、被加熱物１の最も
温度の高い位置と低い位置が検出でき、最も温度の高い
位置と低い位置の温度差が所定の温度以上になったと
き、あらかじめ決められた最も電界強度の強い位置に被
加熱物１の最も温度が低い位置が来たときに停止するよ
うに載置台７の回転機構８を制御する。
出手段１２は載置台７の半径上の４点からの赤外線等を
検出することにより、載置台７が１回転すれば載置台７
のほぼ全面からの赤外線を検出することが可能となり、
載置台７上におかれた被加熱物１の加熱中の温度分布を
検出することが出来る。制御手段１４は検出された被加
熱物１の温度分布の信号に基づいて、被加熱物１の最も
温度の高い位置と低い位置が検出でき、最も温度の高い
位置と低い位置の温度差が所定の温度以上になったと
き、あらかじめ決められた最も電界強度の強い位置に被
加熱物１の最も温度が低い位置が来たときに停止するよ
うに載置台７の回転機構８を制御する。
【００１５】これにより、被加熱物１の最も温度低い位
置をより強く加熱できるため被加熱物の各部分の温度差
を小さくでき、より均一に被加熱物を加熱することが出
来る。
置をより強く加熱できるため被加熱物の各部分の温度差
を小さくでき、より均一に被加熱物を加熱することが出
来る。
【００１６】また、複数箇所の温度を同時に検出できる
ため短時間に多数の箇所の温度を検出することが出来、
温度分布をより正確に検出することが出来る。
ため短時間に多数の箇所の温度を検出することが出来、
温度分布をより正確に検出することが出来る。
【００１７】なお、本実施例では被加熱物１の温度を検
出する温度検出手段１２は赤外線を検出する複数の素子
１２は４個のものについて説明したが４個に限定するも
のでなく載置台７の大きさ等から最適な個数の素子を選
択すればよいことは言うまでもない。
出する温度検出手段１２は赤外線を検出する複数の素子
１２は４個のものについて説明したが４個に限定するも
のでなく載置台７の大きさ等から最適な個数の素子を選
択すればよいことは言うまでもない。
【００１８】
【発明の効果】以上のように、請求項１の発明によれ
ば、赤外線センサと被加熱物を回転させる回転機構によ
り加熱中の被加熱物の各部の温度分布を検出することが
でき、被加熱物の最も温度低い位置をあらかじめ決めら
れた最も電界強度の強い位置で停止するように載置台を
制御し、被加熱物の最も温度低い位置をより強く加熱で
きるため、導波管移動手段、開口位置可変手段などの複
雑な機構なしに、被加熱物の各部分の温度差を小さくで
き、より均一に被加熱物を加熱することが出来る。
ば、赤外線センサと被加熱物を回転させる回転機構によ
り加熱中の被加熱物の各部の温度分布を検出することが
でき、被加熱物の最も温度低い位置をあらかじめ決めら
れた最も電界強度の強い位置で停止するように載置台を
制御し、被加熱物の最も温度低い位置をより強く加熱で
きるため、導波管移動手段、開口位置可変手段などの複
雑な機構なしに、被加熱物の各部分の温度差を小さくで
き、より均一に被加熱物を加熱することが出来る。
【００１９】また請求項２の発明によれば、複数箇所の
温度を同時に検出できるため短時間に多数の箇所の温度
を検出することが出来、温度分布をより正確に検出する
ことが出来る。
温度を同時に検出できるため短時間に多数の箇所の温度
を検出することが出来、温度分布をより正確に検出する
ことが出来る。
【図１】本発明の高周波加熱装置のブロック図
【図２】同高周波加熱装置の温度検知手段の要部断面図
【図３】従来例の加熱装置のブロック図
１ 被加熱物 ２ 加熱室 ７ 載置台 ８ 回転機構 ９ 高周波発生装置 １２ 温度検出手段 １４ 制御手段 １６ 素子
Claims (2)
- 【請求項１】被加熱物を収納する加熱室と、前記被加熱
物を載置する載置台と、前記載置台を回転させる回転機
構と、前記加熱室に高周波電波を供給する高周波発生装
置と、前記被加熱物からの赤外線エネルギーの放射を検
出する赤外線センサにより前記被加熱物の温度を検出す
る温度検出手段と、前記載置台の回転機構を制御する制
御手段とを備え、前記温度検出手段によって検出した温
度に基づき前記載置台の回転を制御して被加熱物を加熱
する構成とした高周波加熱装置。 - 【請求項２】温度検出手段は赤外線を検出する複数の素
子を備え、複数箇所の温度を検出する構成とした請求項
１記載の高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35129499A JP2001165445A (ja) | 1999-12-10 | 1999-12-10 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35129499A JP2001165445A (ja) | 1999-12-10 | 1999-12-10 | 高周波加熱装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001165445A true JP2001165445A (ja) | 2001-06-22 |
Family
ID=18416343
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35129499A Pending JP2001165445A (ja) | 1999-12-10 | 1999-12-10 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001165445A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001201057A (ja) * | 2000-01-18 | 2001-07-27 | Mitsubishi Electric Corp | 高周波加熱装置 |
| CN101943430A (zh) * | 2009-07-10 | 2011-01-12 | 乐金电子(天津)电器有限公司 | 微波炉的传感器结构 |
-
1999
- 1999-12-10 JP JP35129499A patent/JP2001165445A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001201057A (ja) * | 2000-01-18 | 2001-07-27 | Mitsubishi Electric Corp | 高周波加熱装置 |
| CN101943430A (zh) * | 2009-07-10 | 2011-01-12 | 乐金电子(天津)电器有限公司 | 微波炉的传感器结构 |
| CN101943430B (zh) * | 2009-07-10 | 2014-03-12 | 乐金电子(天津)电器有限公司 | 微波炉的传感器结构 |
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