JP2001163920A - 重合体および重合体の製造方法 - Google Patents
重合体および重合体の製造方法Info
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- JP2001163920A JP2001163920A JP35052599A JP35052599A JP2001163920A JP 2001163920 A JP2001163920 A JP 2001163920A JP 35052599 A JP35052599 A JP 35052599A JP 35052599 A JP35052599 A JP 35052599A JP 2001163920 A JP2001163920 A JP 2001163920A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F8/00—Chemical modification by after-treatment
- C08F8/08—Epoxidation
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Polymers & Plastics (AREA)
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 エポキシシクロヘキシル基と珪素原子を有
する光架橋性の（共）重合体とその製造方法を提供す
る。 【解決手段】 一般式（１）で示される繰り返し単位を
有する、側鎖に−Ｓｉ（Ｑ1）（Ｑ2）Ｈ基を有する
（共）重合体に、エポキシシクロヘキシル基を有するビ
ニル化合物を高分子反応させて重量平均分子量１，００
０〜１，０００，０００の（共）重合体を製造する。 【化１】 （式中、Ｒ1およびＲ2はＨまたはメチル基、Ｑ1、Ｑ2は
Ｈ、アルキル基、アルコキシ基、Ｐ1はアルキレン基、
アルキレンエーテル基、単結合、Ｐ2はアルキレン基、
アルキレンエーテル基から選ばれる原子または有機基を
表す。）
する光架橋性の（共）重合体とその製造方法を提供す
る。 【解決手段】 一般式（１）で示される繰り返し単位を
有する、側鎖に−Ｓｉ（Ｑ1）（Ｑ2）Ｈ基を有する
（共）重合体に、エポキシシクロヘキシル基を有するビ
ニル化合物を高分子反応させて重量平均分子量１，００
０〜１，０００，０００の（共）重合体を製造する。 【化１】 （式中、Ｒ1およびＲ2はＨまたはメチル基、Ｑ1、Ｑ2は
Ｈ、アルキル基、アルコキシ基、Ｐ1はアルキレン基、
アルキレンエーテル基、単結合、Ｐ2はアルキレン基、
アルキレンエーテル基から選ばれる原子または有機基を
表す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、エポキシシクロヘ
キシル基と珪素原子を有する重合体に関する。さらに詳
しくは、芳香族系重合体のベンゼン環に珪素原子を介し
てエポキシシクロヘキシルアルキル基が結合した構造を
有する重合体とその製造方法に関する。
キシル基と珪素原子を有する重合体に関する。さらに詳
しくは、芳香族系重合体のベンゼン環に珪素原子を介し
てエポキシシクロヘキシルアルキル基が結合した構造を
有する重合体とその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】炭素炭素二重結合を有する不飽和モノマ
ーをラジカルを用いて重合して得られる重合体は、種々
の用途に広く使用されている。この重合体は光や熱によ
り架橋できれば、機能性高分子としての用途にも使用さ
れている。エポキシ基を有するラジカル重合体は、ラジ
カル重合性基を有するエポキシ化合物、すなわち不飽和
エポキシ化合物を、ラジカル重合性モノマーと共重合す
ることにより容易に製造できる。この重合体は、オニウ
ム塩系の光酸発生剤存在下での紫外線照射により生じる
カチオンにより、エポキシ基が開環して架橋反応するこ
とが知られている。脂環式エポキシ化合物の架橋物は、
誘電率が低く、かつ、光学的透明性も優れている。この
紫外線照射により架橋する材料は、半導体集積回路製造
用レジストとして、また、電子部品の絶縁膜や保護膜形
成材料として広く利用されている。
ーをラジカルを用いて重合して得られる重合体は、種々
の用途に広く使用されている。この重合体は光や熱によ
り架橋できれば、機能性高分子としての用途にも使用さ
れている。エポキシ基を有するラジカル重合体は、ラジ
カル重合性基を有するエポキシ化合物、すなわち不飽和
エポキシ化合物を、ラジカル重合性モノマーと共重合す
ることにより容易に製造できる。この重合体は、オニウ
ム塩系の光酸発生剤存在下での紫外線照射により生じる
カチオンにより、エポキシ基が開環して架橋反応するこ
とが知られている。脂環式エポキシ化合物の架橋物は、
誘電率が低く、かつ、光学的透明性も優れている。この
紫外線照射により架橋する材料は、半導体集積回路製造
用レジストとして、また、電子部品の絶縁膜や保護膜形
成材料として広く利用されている。
【０００３】集積回路、バブルメモリー素子などの製造
において、パターンの微細化に伴い、レジストパターン
を精度よく基板に転写するため、従来のウエットエッチ
ングに代ってガスプラズマ、イオンシャワーなどを用い
たドライエッチングが行われるようになった。このため
ドライエッチングに対して耐性があるレジスト材料が求
められている。ドライエッチング耐性を有する材料とし
て、ポリジメチルシロキサンが知られているが、このポ
リマーは常温で液体であるのでほこりが付着しやすいな
どの欠点があり、レジスト材料としては適さない。特開
昭６０−１９６７５０号公報には、珪素原子を有する有
機重合体であるポリジアルキルシリルスチレンを、ドラ
イエッチング耐性があるレジスト材料として開示してい
る。しかしながら、このポリマーは、架橋性官能基を有
していないので、紫外線照射などによる架橋が十分でな
い問題がある。
において、パターンの微細化に伴い、レジストパターン
を精度よく基板に転写するため、従来のウエットエッチ
ングに代ってガスプラズマ、イオンシャワーなどを用い
たドライエッチングが行われるようになった。このため
ドライエッチングに対して耐性があるレジスト材料が求
められている。ドライエッチング耐性を有する材料とし
て、ポリジメチルシロキサンが知られているが、このポ
リマーは常温で液体であるのでほこりが付着しやすいな
どの欠点があり、レジスト材料としては適さない。特開
昭６０−１９６７５０号公報には、珪素原子を有する有
機重合体であるポリジアルキルシリルスチレンを、ドラ
イエッチング耐性があるレジスト材料として開示してい
る。しかしながら、このポリマーは、架橋性官能基を有
していないので、紫外線照射などによる架橋が十分でな
い問題がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、エポ
キシ基を有し、かつ、珪素原子を有する新規な重合体お
よび共重合体（以下、両者を併せて「（共）重合体」と
いう。）とその製造方法を提供するものである。本発明
の（共）重合体は、光や熱により容易に架橋するエポキ
シ基を側鎖の末端に有するので、光硬化性および熱硬化
性を有し、また珪素原子を有するので、ドライエッチン
グ耐性がある機能性高分子材料として期待されるもので
ある。
キシ基を有し、かつ、珪素原子を有する新規な重合体お
よび共重合体（以下、両者を併せて「（共）重合体」と
いう。）とその製造方法を提供するものである。本発明
の（共）重合体は、光や熱により容易に架橋するエポキ
シ基を側鎖の末端に有するので、光硬化性および熱硬化
性を有し、また珪素原子を有するので、ドライエッチン
グ耐性がある機能性高分子材料として期待されるもので
ある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記の課題
を解決するために、ジアルキルシリル基を有するスチレ
ンのシリル基に、エポキシシクロヘキシル基を有する化
合物を結合した構造を有するモノマーを合成して、これ
をラジカル重合することを研究中に、ジアルキルシリル
基を有するスチレン重合体またはスチレン共重合体に、
高分子反応によりエポキシシクロヘキシル基を有する化
合物を結合させると容易に目的のポリマーが得られるこ
とを見出し、本発明を完成した。
を解決するために、ジアルキルシリル基を有するスチレ
ンのシリル基に、エポキシシクロヘキシル基を有する化
合物を結合した構造を有するモノマーを合成して、これ
をラジカル重合することを研究中に、ジアルキルシリル
基を有するスチレン重合体またはスチレン共重合体に、
高分子反応によりエポキシシクロヘキシル基を有する化
合物を結合させると容易に目的のポリマーが得られるこ
とを見出し、本発明を完成した。
【０００６】すなわち本発明の１は、一般式（１）で示
される繰り返し単位を有する重量平均分子量１，０００
〜１，０００，０００の重合体を提供する。
される繰り返し単位を有する重量平均分子量１，０００
〜１，０００，０００の重合体を提供する。
【０００７】
【化１０】
【０００８】（式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に水
素原子またはメチル基を、Ｑ1、Ｑ2はそれぞれ独立に水
素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、アルコキシ基か
ら選ばれる原子または有機基を、Ｐ1は炭素数1〜１０の
アルキレン基、アルキレンエーテル基から選ばれる有機
基または単結合を、Ｐ2は炭素数２〜１０のアルキレン
基、アルキレンエーテル基から選ばれる有機基を表
す。） 本発明の２は、重合体を製造する手段として、一般式
（２）で示される繰り返し単位を有する重合体と一般式
（３）で示される化合物を反応させることよりなる一般
式（４）に記載の繰り返し単位を有する重合体の製造方
法を提供する。
素原子またはメチル基を、Ｑ1、Ｑ2はそれぞれ独立に水
素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、アルコキシ基か
ら選ばれる原子または有機基を、Ｐ1は炭素数1〜１０の
アルキレン基、アルキレンエーテル基から選ばれる有機
基または単結合を、Ｐ2は炭素数２〜１０のアルキレン
基、アルキレンエーテル基から選ばれる有機基を表
す。） 本発明の２は、重合体を製造する手段として、一般式
（２）で示される繰り返し単位を有する重合体と一般式
（３）で示される化合物を反応させることよりなる一般
式（４）に記載の繰り返し単位を有する重合体の製造方
法を提供する。
【０００９】
【化１１】
【００１０】（式中、Ｒ1、Ｑ1、Ｑ2およびＰ1は、前記
式（１）の記載と同じである。）
式（１）の記載と同じである。）
【００１１】
【化１２】
【００１２】（式中Ｒ2は、前記式（１）の記載と同じ
である。式中Ｒ3は、水素原子またはメチル基を、Ｐ3は
炭素数１〜８のアルキレン基、アルキレンエーテル基か
ら選ばれる有機基または単結合を表す。）
である。式中Ｒ3は、水素原子またはメチル基を、Ｐ3は
炭素数１〜８のアルキレン基、アルキレンエーテル基か
ら選ばれる有機基または単結合を表す。）
【００１３】
【化１３】
【００１４】（式中の記号は、前記式（２）、（３）の
記載と同じである。）
記載と同じである。）
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の重合体は、前記の一般式（１）で示され
る繰り返し単位（以下「繰り返し単位（Ａ）」と略す）
を有する。式中Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に水素原
子またはメチル基であり、Ｒ1は重合の容易さから好ま
しくは水素原子である。
する。本発明の重合体は、前記の一般式（１）で示され
る繰り返し単位（以下「繰り返し単位（Ａ）」と略す）
を有する。式中Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に水素原
子またはメチル基であり、Ｒ1は重合の容易さから好ま
しくは水素原子である。
【００１６】Ｐ1は、炭素数０〜１０の直鎖状または分
岐状のアルキレン基、炭素数１〜１０の直鎖状または分
岐状のアルキレンエーテル基から選ばれる２価の有機基
（−ＣｎＨ２ｎ−）である。炭素数０とは、何もない単
結合（−）を意味する。アルキレン基の例としては、メ
チレン基、エチレン基、トリメチレン基、ヘキサメチレ
ン基などの直鎖状のもの、プロピレン基、エチルエチレ
ン基などの分岐状のものがある。
岐状のアルキレン基、炭素数１〜１０の直鎖状または分
岐状のアルキレンエーテル基から選ばれる２価の有機基
（−ＣｎＨ２ｎ−）である。炭素数０とは、何もない単
結合（−）を意味する。アルキレン基の例としては、メ
チレン基、エチレン基、トリメチレン基、ヘキサメチレ
ン基などの直鎖状のもの、プロピレン基、エチルエチレ
ン基などの分岐状のものがある。
【００１７】アルキレンエーテル基は、−ＣnＨ2nＯＣm
Ｈ2m−（ｎ+ｍは２〜１０、ｎ、ｍは１以上の整数から
選ばれる）の化学式で表されるものであって、好ましく
は、ｎが１〜５、ｍが１〜５である。これらのＰ1の
中、好ましくは、単結合または炭素数６以下のアルキレ
ン基、炭素数２から６のアルキレンエーテル基から選ば
れる基である
Ｈ2m−（ｎ+ｍは２〜１０、ｎ、ｍは１以上の整数から
選ばれる）の化学式で表されるものであって、好ましく
は、ｎが１〜５、ｍが１〜５である。これらのＰ1の
中、好ましくは、単結合または炭素数６以下のアルキレ
ン基、炭素数２から６のアルキレンエーテル基から選ば
れる基である
【００１８】Ｐ2は、炭素数２〜１０の直鎖状または分
岐状のアルキレン基（−ＣnＨ2n −）、炭素数３〜１０
の直鎖状または分岐状のアルキレンエーテル基（−Ｃm
Ｈ2 m−Ｏ−ＣkＨ2k−）（ ｍ+ｋ＝３〜１０）から選ば
れる２価の有機基である。Ｐ2のアルキレン基の例とし
ては、エチレン基、トリメチレン基、ヘキサメチレン基
などの直鎖状のもの、プロピレン基、エチルエチレン基
などの分岐状のものがある。Ｐ2の好ましい例はＰ1と同
じであるが、前記の条件を満たせば、Ｐ1とＰ2とは同じ
ものであってもよく、異なったものであってもよいが、
特に好ましくは −ＣＨ2ＣＨ2Ｒ3−Ｐ3− である（こ
こで、Ｒ3は、水素原子またはメチル基を、Ｐ3は炭素数
１〜８のアルキレン基、アルキレンエーテル基から選ば
れる有機基または単結合を表す。）。
岐状のアルキレン基（−ＣnＨ2n −）、炭素数３〜１０
の直鎖状または分岐状のアルキレンエーテル基（−Ｃm
Ｈ2 m−Ｏ−ＣkＨ2k−）（ ｍ+ｋ＝３〜１０）から選ば
れる２価の有機基である。Ｐ2のアルキレン基の例とし
ては、エチレン基、トリメチレン基、ヘキサメチレン基
などの直鎖状のもの、プロピレン基、エチルエチレン基
などの分岐状のものがある。Ｐ2の好ましい例はＰ1と同
じであるが、前記の条件を満たせば、Ｐ1とＰ2とは同じ
ものであってもよく、異なったものであってもよいが、
特に好ましくは −ＣＨ2ＣＨ2Ｒ3−Ｐ3− である（こ
こで、Ｒ3は、水素原子またはメチル基を、Ｐ3は炭素数
１〜８のアルキレン基、アルキレンエーテル基から選ば
れる有機基または単結合を表す。）。
【００１９】Ｑ1、Ｑ2はそれぞれ独立に水素原子、炭素
数１〜１０のアルキル基、アルコキシ基から選ばれる２
価の有機基である。アルキル基の例としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘ
キシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基などが挙げ
られるが、メチル基、エチル基が好ましく、特にメチル
基が好ましい。アルコキシ基の例としては、メトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などが挙げ
られるが、メトキシ基、エトキシ基が好ましく、特にメ
トキシ基が好ましい。
数１〜１０のアルキル基、アルコキシ基から選ばれる２
価の有機基である。アルキル基の例としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘ
キシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基などが挙げ
られるが、メチル基、エチル基が好ましく、特にメチル
基が好ましい。アルコキシ基の例としては、メトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などが挙げ
られるが、メトキシ基、エトキシ基が好ましく、特にメ
トキシ基が好ましい。
【００２０】Ｐ1は、スチレン重合体のフェニル基のｏ
−位、ｍ−位、ｐ−位のどこに結合してもよいが、好ま
しくはｍ−位またはｐ−位であり、特に好ましくはｐ−
位である。エポキシシクロヘキシル基のエポキシは、有
機基Ｐ2に対して２，３位あるいは３,４位が選択可能で
あり、好ましくは３,４位である。一般式（１）の重合
体中特に好ましいものは、式（６）で示される繰り返し
単位からなる重合体である。
−位、ｍ−位、ｐ−位のどこに結合してもよいが、好ま
しくはｍ−位またはｐ−位であり、特に好ましくはｐ−
位である。エポキシシクロヘキシル基のエポキシは、有
機基Ｐ2に対して２，３位あるいは３,４位が選択可能で
あり、好ましくは３,４位である。一般式（１）の重合
体中特に好ましいものは、式（６）で示される繰り返し
単位からなる重合体である。
【００２１】
【化１４】
【００２２】ここで、Ｓｉは好ましくはフェニル基のｐ
−位に結合したものであり、エポキシシクロヘキシル基
のエポキシ基は、好ましくは３,４位に結合したもので
ある本発明の（共）重合体は、一般式（１）で示される
繰り返し単位（Ａ）１〜１００モル％と、他のラジカル
重合可能なビニルモノマー（以下、「ビニルモノマー
（Ｂ）と略す」の重合性炭素炭素二重結合が開裂した構
造の繰り返し単位（以下「繰り返し単位（Ｂ）」と略
す）９９〜０モル％（合計１００％）とから構成され
る。繰り返し単位（Ａ）と繰り返し単位（Ｂ）とは、重
合方法により、ランダムに結合した共重合体と、ブロッ
クに結合した共重合体とがある。
−位に結合したものであり、エポキシシクロヘキシル基
のエポキシ基は、好ましくは３,４位に結合したもので
ある本発明の（共）重合体は、一般式（１）で示される
繰り返し単位（Ａ）１〜１００モル％と、他のラジカル
重合可能なビニルモノマー（以下、「ビニルモノマー
（Ｂ）と略す」の重合性炭素炭素二重結合が開裂した構
造の繰り返し単位（以下「繰り返し単位（Ｂ）」と略
す）９９〜０モル％（合計１００％）とから構成され
る。繰り返し単位（Ａ）と繰り返し単位（Ｂ）とは、重
合方法により、ランダムに結合した共重合体と、ブロッ
クに結合した共重合体とがある。
【００２３】繰り返し単位（Ａ）／繰り返し単位（Ｂ）
のモル％は、好ましくは１〜１００／９９〜０、より好
ましくは５〜９０／９５〜１０、さらに好ましくは１０
〜８０／９０〜２０である。繰り返し単位（Ａ）が１モ
ル％未満では架橋性などの効果が不十分となる。繰り返
し単位（Ｂ）は、炭素炭素二重結合を有するラジカル重
合性あるいはアニオン重合性のモノマーの炭素炭素二重
結合が開裂した構造を有する単位であり、式（５）で表
される。
のモル％は、好ましくは１〜１００／９９〜０、より好
ましくは５〜９０／９５〜１０、さらに好ましくは１０
〜８０／９０〜２０である。繰り返し単位（Ａ）が１モ
ル％未満では架橋性などの効果が不十分となる。繰り返
し単位（Ｂ）は、炭素炭素二重結合を有するラジカル重
合性あるいはアニオン重合性のモノマーの炭素炭素二重
結合が開裂した構造を有する単位であり、式（５）で表
される。
【００２４】
【化１５】
【００２５】（式中Ｒ4は、水素原子またはメチル基、
Ｘは、１価の有機基を表す。） 繰り返し単位（Ｂ）に用いられるビニルモノマー（Ｂ）
の例として、スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−メチ
ルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレ
ン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−メトキシメチルスチレ
ン、ｐ−ｔ−ブトキシスチレン、ｐ−クロロメチルスチ
レン等のスチレン類；ブタジエン、イソプレン、２，３
−ジメチルブタジエン等のジエン類；（メタ）アクリル
酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリ
ル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｉ−プロピル、
（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｉ
−ブチル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、（メ
タ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘ
キシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メ
タ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸ｎ−ドデ
シル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル
酸トリフェニルメチル、（メタ）アクリル酸クミル、
（メタ）アクリル酸シクロペンチル、（メタ）アクリル
酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸２−メチルシク
ロヘキシル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、
（メタ）アクリル酸４−メチルシクロヘキシル、（メ
タ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸クレジル
等の（メタ）アクリル酸エステル類、アクリル酸、メタ
クリル酸、マレイン酸、イタコン酸等を挙げることがで
きる。モノマーは、これらに限定されるものではない
が、重合体の目的に応じて１種または２種以上が適宜選
択される。
Ｘは、１価の有機基を表す。） 繰り返し単位（Ｂ）に用いられるビニルモノマー（Ｂ）
の例として、スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−メチ
ルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレ
ン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−メトキシメチルスチレ
ン、ｐ−ｔ−ブトキシスチレン、ｐ−クロロメチルスチ
レン等のスチレン類；ブタジエン、イソプレン、２，３
−ジメチルブタジエン等のジエン類；（メタ）アクリル
酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリ
ル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｉ−プロピル、
（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｉ
−ブチル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、（メ
タ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘ
キシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メ
タ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸ｎ−ドデ
シル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル
酸トリフェニルメチル、（メタ）アクリル酸クミル、
（メタ）アクリル酸シクロペンチル、（メタ）アクリル
酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸２−メチルシク
ロヘキシル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、
（メタ）アクリル酸４−メチルシクロヘキシル、（メ
タ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸クレジル
等の（メタ）アクリル酸エステル類、アクリル酸、メタ
クリル酸、マレイン酸、イタコン酸等を挙げることがで
きる。モノマーは、これらに限定されるものではない
が、重合体の目的に応じて１種または２種以上が適宜選
択される。
【００２６】これらの他の単量体（ビニルモノマー
（Ｂ））のうち、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−
ｔ−ブトキシスチレン、ブタジエン、イソプレン、（メ
タ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、
（メタ）アクリル酸ブチル等が好ましい。式（５）中の
１価の有機基Ｘは、ビニルモノマー（Ｂ）からビニル
基、またはメチルビニル基を除いた残りの有機基であっ
て、例えば、繰り返し単位（Ｂ）がスチレンの場合、Ｘ
はフェニル基−Ｃ6Ｈ5を、繰り返し単位（Ｂ）がメタク
リル酸の場合、Ｘはメトキシカルボニル基 −ＣＯＯＣ
Ｈ3 を表す。
（Ｂ））のうち、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−
ｔ−ブトキシスチレン、ブタジエン、イソプレン、（メ
タ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、
（メタ）アクリル酸ブチル等が好ましい。式（５）中の
１価の有機基Ｘは、ビニルモノマー（Ｂ）からビニル
基、またはメチルビニル基を除いた残りの有機基であっ
て、例えば、繰り返し単位（Ｂ）がスチレンの場合、Ｘ
はフェニル基−Ｃ6Ｈ5を、繰り返し単位（Ｂ）がメタク
リル酸の場合、Ｘはメトキシカルボニル基 −ＣＯＯＣ
Ｈ3 を表す。
【００２７】本発明の（共）重合体は、ＧＰＣ法で測定
したポリスチレン換算重量平均分子量で、１，０００〜
１，０００，０００、好ましくは２，０００〜５００，
０００である。１，０００未満では、硬化膜としての性
能が悪くなり、１，０００，０００を超えると溶媒に溶
解し難くなり、塗布して使用することが出来ない問題が
ある。本発明の一般式（１）の繰り返し単位を有する
（共）重合体は、一般式（１）の開裂した部分−ＣＨ2
−ＣＹＲ1−（Ｙは側鎖部分）が、ＣＨ2＝ＣＹＲ1の構
造であるビニルモノマーを単独で、あるいは他の共重合
可能なモノマーと共重合して製造可能であるが、本発明
では、高分子反応による製造方法を提供する。
したポリスチレン換算重量平均分子量で、１，０００〜
１，０００，０００、好ましくは２，０００〜５００，
０００である。１，０００未満では、硬化膜としての性
能が悪くなり、１，０００，０００を超えると溶媒に溶
解し難くなり、塗布して使用することが出来ない問題が
ある。本発明の一般式（１）の繰り返し単位を有する
（共）重合体は、一般式（１）の開裂した部分−ＣＨ2
−ＣＹＲ1−（Ｙは側鎖部分）が、ＣＨ2＝ＣＹＲ1の構
造であるビニルモノマーを単独で、あるいは他の共重合
可能なモノマーと共重合して製造可能であるが、本発明
では、高分子反応による製造方法を提供する。
【００２８】一般式（４）の繰り返し単位を有する重合
体は、一般式（２）の繰り返し単位を有する重合体に一
般式（３）のビニルエポキシシクロヘキシル化合物（以
下「ＶＥＰ化合物」と略す）を高分子反応（ヒドロシリ
ル化反応）させて製造される。このＳｉＨの付加反応
は、条件を選べば反応率ほぼ１００％で可能であり、本
発明の重合体を製造する極めて効率の良い製造方法であ
る。一般式（２）の繰り返し単位を有する（共）重合体
は、一般式（２）の開裂した部分−ＣＨ2−ＣＺＲ1−
（Ｚは側鎖部分）が、ＣＨ2＝ＣＺＲ1の構造であるビニ
ルモノマー（以下「ビニルモノマー（Ｂ）」と略す）を
単独で、あるいは他の共重合可能なモノマー（以下「他
モノマー」と略す）と共重合して製造可能である。ＶＰ
Ｓモノマーの単独重合あるいはＶＰＳモノマーとビニル
モノマー（Ｂ）との共重合は、ラジカル重合あるいはア
ニオン重合により容易に行うことができる。
体は、一般式（２）の繰り返し単位を有する重合体に一
般式（３）のビニルエポキシシクロヘキシル化合物（以
下「ＶＥＰ化合物」と略す）を高分子反応（ヒドロシリ
ル化反応）させて製造される。このＳｉＨの付加反応
は、条件を選べば反応率ほぼ１００％で可能であり、本
発明の重合体を製造する極めて効率の良い製造方法であ
る。一般式（２）の繰り返し単位を有する（共）重合体
は、一般式（２）の開裂した部分−ＣＨ2−ＣＺＲ1−
（Ｚは側鎖部分）が、ＣＨ2＝ＣＺＲ1の構造であるビニ
ルモノマー（以下「ビニルモノマー（Ｂ）」と略す）を
単独で、あるいは他の共重合可能なモノマー（以下「他
モノマー」と略す）と共重合して製造可能である。ＶＰ
Ｓモノマーの単独重合あるいはＶＰＳモノマーとビニル
モノマー（Ｂ）との共重合は、ラジカル重合あるいはア
ニオン重合により容易に行うことができる。
【００２９】重合反応は、溶媒存在下または不存在下で
行えるが、溶媒不存在下では分子量が大きくなりやす
く、扱いの難しい重合体となりやすいので、溶媒に希釈
して重合するのが好ましい。希釈倍率は、好ましくは１
００倍以下、より好ましくは０．１〜３０倍である。重
合溶媒は乾燥したものが好ましく、特にアニオン重合の
場合は乾燥は必須条件である。重合の雰囲気は真空また
は不活性ガス存在下である。重合温度は、通常０〜１０
０℃であり、好ましくは５〜８０℃である。重合開始剤
は、ラジカル重合開始剤あるいはアニオン重合開始剤が
使用できる。アニオン重合開始剤を使用すると単分散の
重合体が得られるので、重合体の使用目的に応じて選択
する。重合時間は通常０．１〜１００時間である。
行えるが、溶媒不存在下では分子量が大きくなりやす
く、扱いの難しい重合体となりやすいので、溶媒に希釈
して重合するのが好ましい。希釈倍率は、好ましくは１
００倍以下、より好ましくは０．１〜３０倍である。重
合溶媒は乾燥したものが好ましく、特にアニオン重合の
場合は乾燥は必須条件である。重合の雰囲気は真空また
は不活性ガス存在下である。重合温度は、通常０〜１０
０℃であり、好ましくは５〜８０℃である。重合開始剤
は、ラジカル重合開始剤あるいはアニオン重合開始剤が
使用できる。アニオン重合開始剤を使用すると単分散の
重合体が得られるので、重合体の使用目的に応じて選択
する。重合時間は通常０．１〜１００時間である。
【００３０】前記重合溶媒としては、ラジカル重合の場
合、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノー
ル、ｎ−ブタノール等のアルコール類；テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン等の環状エーテル類；ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のアミ
ド系プロトン性極性溶媒；酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチ
ル、酢酸ｉ−アミル、乳酸エチル等のエステル類；３−
メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン
酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、２−メト
キシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸エ
チル、２−エトキシプロピオン酸エチル等のアルコキシ
エステル類；エチレングリコールジメチルエーテル、エ
チレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチル
エーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテ
ル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピ
レングリコールジメチルエーテル、エチレングリコール
モノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレング
リコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチル
エーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル
等の多価アルコールのアルキルエーテル類；エチルセロ
ソルブアセテート、カルビトールアセテート、３−メト
キシプロピルアセテート等の多価アルコールのアルキル
エーテルアセテート類；シクロヘキサノン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、２−ヘプタノン等
のケトン類等を挙げることができる。アニオン重合の場
合は、アニオン開始剤と反応する官能基を有する溶媒は
使用できないので、上記溶媒中、アニオン開始剤と反応
する官能基を有しない溶媒を選択して使用する。これら
の重合溶媒は、単独でまたは２種以上を混合して使用す
ることができる。
合、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノー
ル、ｎ−ブタノール等のアルコール類；テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン等の環状エーテル類；ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のアミ
ド系プロトン性極性溶媒；酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチ
ル、酢酸ｉ−アミル、乳酸エチル等のエステル類；３−
メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン
酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、２−メト
キシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸エ
チル、２−エトキシプロピオン酸エチル等のアルコキシ
エステル類；エチレングリコールジメチルエーテル、エ
チレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチル
エーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテ
ル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピ
レングリコールジメチルエーテル、エチレングリコール
モノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレング
リコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチル
エーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル
等の多価アルコールのアルキルエーテル類；エチルセロ
ソルブアセテート、カルビトールアセテート、３−メト
キシプロピルアセテート等の多価アルコールのアルキル
エーテルアセテート類；シクロヘキサノン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、２−ヘプタノン等
のケトン類等を挙げることができる。アニオン重合の場
合は、アニオン開始剤と反応する官能基を有する溶媒は
使用できないので、上記溶媒中、アニオン開始剤と反応
する官能基を有しない溶媒を選択して使用する。これら
の重合溶媒は、単独でまたは２種以上を混合して使用す
ることができる。
【００３１】前記ラジカル重合開始剤としては、例え
ば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（以下「Ａ
ＩＢＮ」と略す）、２，２’−アゾビス−（２，４−メ
チルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メト
キシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合
物；ベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシ
ド、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、１，１−ビス−
（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン等の有機過酸
化物、過酸化水素等を挙げることができる。これらのラ
ジカル重合開始剤は、単独でまたは２種以上を混合して
使用することができる。
ば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（以下「Ａ
ＩＢＮ」と略す）、２，２’−アゾビス−（２，４−メ
チルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メト
キシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合
物；ベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシ
ド、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、１，１−ビス−
（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン等の有機過酸
化物、過酸化水素等を挙げることができる。これらのラ
ジカル重合開始剤は、単独でまたは２種以上を混合して
使用することができる。
【００３２】前記アニオン重合開始剤としては、例えば
ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウムなどが挙
げられるがこれに限定されるものではない。重合反応終
了後、反応物あるいは反応溶液は、多量の低級アルコー
ル中に入れて沈殿させ、必要に応じて再度溶媒に溶解後
再沈殿させて精製することができる。こうして製造した
ＶＰＳモノマーの単独重合体あるいはＶＰＳモノマーと
ビニルモノマー（Ｂ）との共重合体を、前記一般式
（３）のビニルエポキシシクロヘキシル化合物（以下
「ＶＥＰ化合物」と略す）と反応させて、本発明の一般
式（１）の繰り返し単位を有する（共）重合体を製造で
きる。
ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウムなどが挙
げられるがこれに限定されるものではない。重合反応終
了後、反応物あるいは反応溶液は、多量の低級アルコー
ル中に入れて沈殿させ、必要に応じて再度溶媒に溶解後
再沈殿させて精製することができる。こうして製造した
ＶＰＳモノマーの単独重合体あるいはＶＰＳモノマーと
ビニルモノマー（Ｂ）との共重合体を、前記一般式
（３）のビニルエポキシシクロヘキシル化合物（以下
「ＶＥＰ化合物」と略す）と反応させて、本発明の一般
式（１）の繰り返し単位を有する（共）重合体を製造で
きる。
【００３３】ＶＥＰ化合物は、前記一般式（３）で示さ
れる化合物であって、例えば、４−ビニルシクロヘキセ
ン−１，２−エポキシド（以下「ＶＣＥＰ」と略す）、
１−メチル−４−ビニルシクロヘキセン−１，２−エポ
キシド、２−メチル−４−ビニルシクロヘキセン−１，
２−エポキシド、４−アリルシクロヘキセン−１，２−
エポキシド、４-（１−ブテニル）シクロヘキセン−
１，２−エポキシド、４-（１−ペンテニル）シクロヘ
キセン−１，２−エポキシド、３−ビニルシクロヘキセ
ン−１，２−エポキシド、１−メチル−３−ビニルシク
ロヘキセン−１，２−エポキシド、２−メチル−３−ビ
ニルシクロヘキセン−１，２−エポキシド、３−アリル
シクロヘキセン−１，２−エポキシド、３-（１−ブテ
ニル）シクロヘキセン−１，２−エポキシド、３-（１
−ペンテニル）シクロヘキセン−１，２−エポキシド、
４−ビニルオキシメチルシクロヘキセン−１，２−エポ
キシド、４−アリルオキシメチルシクロヘキセン−１，
２−エポキシド、４−（１−ブテニルオキシメチル）シ
クロヘキセン−１，２−エポキシド、３−ビニルオキシ
メチルシクロヘキセン−１，２−エポキシド、３−アリ
ルオキシメチルシクロヘキセン−１，２−エポキシド、
３−（１−ブテニルオキシメチル）シクロヘキセン−
１，２−エポキシド、等を挙げることができる。好まし
くは４−ビニルシクロヘキセン−１，２−エポキシドで
ある。
れる化合物であって、例えば、４−ビニルシクロヘキセ
ン−１，２−エポキシド（以下「ＶＣＥＰ」と略す）、
１−メチル−４−ビニルシクロヘキセン−１，２−エポ
キシド、２−メチル−４−ビニルシクロヘキセン−１，
２−エポキシド、４−アリルシクロヘキセン−１，２−
エポキシド、４-（１−ブテニル）シクロヘキセン−
１，２−エポキシド、４-（１−ペンテニル）シクロヘ
キセン−１，２−エポキシド、３−ビニルシクロヘキセ
ン−１，２−エポキシド、１−メチル−３−ビニルシク
ロヘキセン−１，２−エポキシド、２−メチル−３−ビ
ニルシクロヘキセン−１，２−エポキシド、３−アリル
シクロヘキセン−１，２−エポキシド、３-（１−ブテ
ニル）シクロヘキセン−１，２−エポキシド、３-（１
−ペンテニル）シクロヘキセン−１，２−エポキシド、
４−ビニルオキシメチルシクロヘキセン−１，２−エポ
キシド、４−アリルオキシメチルシクロヘキセン−１，
２−エポキシド、４−（１−ブテニルオキシメチル）シ
クロヘキセン−１，２−エポキシド、３−ビニルオキシ
メチルシクロヘキセン−１，２−エポキシド、３−アリ
ルオキシメチルシクロヘキセン−１，２−エポキシド、
３−（１−ブテニルオキシメチル）シクロヘキセン−
１，２−エポキシド、等を挙げることができる。好まし
くは４−ビニルシクロヘキセン−１，２−エポキシドで
ある。
【００３４】ＶＰＳモノマーの（共）重合体とＶＥＰ化
合物との反応、すなわちヒドロシリル化反応は、不活性
ガス雰囲気下、乾燥した不活性溶媒中で、ヒドロシリル
化触媒存在のもとで、通常１０〜１００℃で行う。ヒド
ロシリル化触媒としては、（η5−シクロペンタジエニ
ル）トリアルキル白金錯体、トリメチル（β−ジカルボ
ニル）白金（ＩＶ）錯体、１，３−ジビニルテトタメチ
ルジシロキサンの白金錯体、[ＲｈＣｌ（ＣＯ）2]2、
[ＲｈＣｌ（Ｃ2Ｈ4）2]2、ＲｈＣｌ（ＰＰｈ3）3、[Ｒ
ｈＣｌ（ＣＯＤ）]2、[ＲｈＣｌ（ＮＢＤ）]2 、（こ
こで、Ｐｈ:フェニル基、ＣＯＤ：１，５−シクロオク
タジエン、ＮＢＤ：ノルボルナジエンである。）などが
ある。これらの中、１，３−ジビニルテトタメチルジシ
ロキサンの白金錯体は、オキシランでは有効であるが、
シクロヘキセンエポキシドでは、開環重合してしまい用
いることができない。また、[ＲｈＣｌ（ＣＯ）2]2、
[ＲｈＣｌ（Ｃ2Ｈ4）2]2、ＲｈＣｌ（ＰＰｈ3）3、Ｒｈ
Ｃｌ（ＣＯ）（ＰＰｈ3）2、[ＲｈＣｌ（ＣＯＤ）]2、
[ＲｈＣｌ（ＮＢＤ）]2 についてもＳｉ−Ｈ基が開始
剤となり開環重合してしまう。しかし、ウイルキンソン
触媒と呼ばれているＲｈＣｌ（ＰＰｈ3）3だけは開環重
合せずにヒドロシリル化が行えることを見出した。
合物との反応、すなわちヒドロシリル化反応は、不活性
ガス雰囲気下、乾燥した不活性溶媒中で、ヒドロシリル
化触媒存在のもとで、通常１０〜１００℃で行う。ヒド
ロシリル化触媒としては、（η5−シクロペンタジエニ
ル）トリアルキル白金錯体、トリメチル（β−ジカルボ
ニル）白金（ＩＶ）錯体、１，３−ジビニルテトタメチ
ルジシロキサンの白金錯体、[ＲｈＣｌ（ＣＯ）2]2、
[ＲｈＣｌ（Ｃ2Ｈ4）2]2、ＲｈＣｌ（ＰＰｈ3）3、[Ｒ
ｈＣｌ（ＣＯＤ）]2、[ＲｈＣｌ（ＮＢＤ）]2 、（こ
こで、Ｐｈ:フェニル基、ＣＯＤ：１，５−シクロオク
タジエン、ＮＢＤ：ノルボルナジエンである。）などが
ある。これらの中、１，３−ジビニルテトタメチルジシ
ロキサンの白金錯体は、オキシランでは有効であるが、
シクロヘキセンエポキシドでは、開環重合してしまい用
いることができない。また、[ＲｈＣｌ（ＣＯ）2]2、
[ＲｈＣｌ（Ｃ2Ｈ4）2]2、ＲｈＣｌ（ＰＰｈ3）3、Ｒｈ
Ｃｌ（ＣＯ）（ＰＰｈ3）2、[ＲｈＣｌ（ＣＯＤ）]2、
[ＲｈＣｌ（ＮＢＤ）]2 についてもＳｉ−Ｈ基が開始
剤となり開環重合してしまう。しかし、ウイルキンソン
触媒と呼ばれているＲｈＣｌ（ＰＰｈ3）3だけは開環重
合せずにヒドロシリル化が行えることを見出した。
【００３５】すなわち、本発明における一般式（２）の
繰り返し単位を有するＶＰＳモノマーの（共）重合体と
ＶＥＰ化合物との高分子反応の触媒としては、ウイルキ
ンソン触媒、特にＲｈＣｌ（ＰＰｈ3）3が好ましい。こ
の触媒は、エポキシド、エーテル、酸無水物、アルコー
ル、アミン、イソシアナートなどの基と反応せずにヒド
ロキシル化が行える。また、生成物はすべてβ付加物と
なる。ウイルキンソン触媒は、ポリマーに固定化したも
のも使用可能である。
繰り返し単位を有するＶＰＳモノマーの（共）重合体と
ＶＥＰ化合物との高分子反応の触媒としては、ウイルキ
ンソン触媒、特にＲｈＣｌ（ＰＰｈ3）3が好ましい。こ
の触媒は、エポキシド、エーテル、酸無水物、アルコー
ル、アミン、イソシアナートなどの基と反応せずにヒド
ロキシル化が行える。また、生成物はすべてβ付加物と
なる。ウイルキンソン触媒は、ポリマーに固定化したも
のも使用可能である。
【００３６】本発明の（共）重合体は、単独で、また
は、必要に応じて公知の光ラジカル重合開始剤、光カチ
オン重合開始剤、光酸発生剤、架橋性化合物、充填剤、
粘度調整剤、染料、顔料、可塑剤、溶剤などを加えた感
放射線性樹脂組成物として、紫外線、電子線、または放
射線の照射あるいは加熱により架橋し、硬化可能であ
る。本発明の（共）重合体は、エポキシシクロヘキシル
基を有するものであるから、誘電率が低く、かつ、光学
的透明性に優れている。また、珪素原子を導入したこと
により、誘電率や光学的透明性を低下さすことなく、ド
ライエッチング耐性を向上させることが期待できる。こ
れらの特性を生かして本発明の（共）重合体はレジス
ト、ドライエッチングマスク材料、感光性絶縁層間膜材
料、パッシベーション膜、反射防止膜、低誘電絶縁材料
などに応用できる。
は、必要に応じて公知の光ラジカル重合開始剤、光カチ
オン重合開始剤、光酸発生剤、架橋性化合物、充填剤、
粘度調整剤、染料、顔料、可塑剤、溶剤などを加えた感
放射線性樹脂組成物として、紫外線、電子線、または放
射線の照射あるいは加熱により架橋し、硬化可能であ
る。本発明の（共）重合体は、エポキシシクロヘキシル
基を有するものであるから、誘電率が低く、かつ、光学
的透明性に優れている。また、珪素原子を導入したこと
により、誘電率や光学的透明性を低下さすことなく、ド
ライエッチング耐性を向上させることが期待できる。こ
れらの特性を生かして本発明の（共）重合体はレジス
ト、ドライエッチングマスク材料、感光性絶縁層間膜材
料、パッシベーション膜、反射防止膜、低誘電絶縁材料
などに応用できる。
【００３７】
【実施例】以下実施例により、本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。なお、以下において、％、部は特に断りのな
い限り重量％、重量部を意味する。
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。なお、以下において、％、部は特に断りのな
い限り重量％、重量部を意味する。
【００３８】合成例１ ジメチル−４−ビニルフェニル
シラン（ＤＭＶＳ）の合成 窒素吹き込み管、還流冷却管、温度計および滴下ロート
を取り付けた５００ｍｌ四つ口フラスコ中に、マグネシ
ウム17.11ｇ（704ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（Ｔ
ＨＦ）15ｍｌ、ジブロモエタン6.19ｇ（33ｍｍｏｌ）を
加えた。ｐ−クロロスチレン55.44ｇ（400ｍｍｏｌ）、
ＴＨＦ140ｍｌ溶液を還流を保ちながら１時間かけて滴
下した。さらに１時間還流を続け、その後水浴で冷却し
た。その後、ジメチルクロロシラン（ＣｌＳｉ（Ｃ
Ｈ3）2Ｈ）76.08ｇ（804ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ60ｍｌ溶液
を２時間かけて滴下した。滴下後、室温で終夜撹拌し
た。この反応物を氷水中に投入し、エーテルで抽出を行
い、エーテル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。そ
の後、エバポレートし、減圧蒸留を行った。沸点は78−
81℃／10ｔｏｒｒ.、収率は73.2％で、次の式（８）で
示すジメチル−４−ビニルフェニルシラン（ＤＭＶＳ）
を得た。構造はＩＲと1Ｈ ＮＭＲで確認した。
シラン（ＤＭＶＳ）の合成 窒素吹き込み管、還流冷却管、温度計および滴下ロート
を取り付けた５００ｍｌ四つ口フラスコ中に、マグネシ
ウム17.11ｇ（704ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（Ｔ
ＨＦ）15ｍｌ、ジブロモエタン6.19ｇ（33ｍｍｏｌ）を
加えた。ｐ−クロロスチレン55.44ｇ（400ｍｍｏｌ）、
ＴＨＦ140ｍｌ溶液を還流を保ちながら１時間かけて滴
下した。さらに１時間還流を続け、その後水浴で冷却し
た。その後、ジメチルクロロシラン（ＣｌＳｉ（Ｃ
Ｈ3）2Ｈ）76.08ｇ（804ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ60ｍｌ溶液
を２時間かけて滴下した。滴下後、室温で終夜撹拌し
た。この反応物を氷水中に投入し、エーテルで抽出を行
い、エーテル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。そ
の後、エバポレートし、減圧蒸留を行った。沸点は78−
81℃／10ｔｏｒｒ.、収率は73.2％で、次の式（８）で
示すジメチル−４−ビニルフェニルシラン（ＤＭＶＳ）
を得た。構造はＩＲと1Ｈ ＮＭＲで確認した。
【００３９】
【化１６】
【００４０】ＩＲ（ｃｍ-1）：2110（Ｓｉ−Ｈ） １Ｈ ＮＭＲ（δ）（ｐｐｍ）： 0.4（６Ｈ、Ｓ、Ｓｉ−ＣＨ3） 4.4〜4.5（１Ｈ、ｍ、Ｓｉ−Ｈ） 5.2〜6.7（３Ｈ、ｍ、ＣＨ2＝ＣＨ−） 7.3〜7.6（４Ｈ、ｍ、フェニレン基）
【００４１】重合例１ ＤＭＶＳ重合体の製造 ガラス重合管に、ジメチル−４−ビニルフェニルシラン
（ＤＭＶＳ）6.49ｇ（40.0ｍｍｏｌ、アゾビスイソブチ
ロニトリル（以下「ＡＩＢＮ」と略す） 0.302ｇ、ベ
ンゼン10ｍｌを仕込み、反応液をドライアイス/メタノ
ールにより凝固させ、減圧脱気を行った。ガラス重合管
をシール後、70℃で24時間反応させた。反応終了後、メ
タノール中に投入し、残存する開始剤とモノマーを取り
除いた。得られたポリマーを減圧乾燥器で60℃/16時間
乾燥させ、白色粉末の重合体（以下「Ｈ１」と略す）が
得られた。収率は93.0％であった。ＧＰＣにより測定し
たポリスチレン換算平均分子量は、Ｍｎ＝43，000、Ｍ
ｗ＝83，000、Ｍｗ/Ｍｎ＝1.9、示差走査熱量分析装置
により測定したガラス転移温度（Ｔｇ）は84℃であっ
た。構造は次の式（９）であり、ＩＲと1Ｈ ＮＭＲで
確認した。
（ＤＭＶＳ）6.49ｇ（40.0ｍｍｏｌ、アゾビスイソブチ
ロニトリル（以下「ＡＩＢＮ」と略す） 0.302ｇ、ベ
ンゼン10ｍｌを仕込み、反応液をドライアイス/メタノ
ールにより凝固させ、減圧脱気を行った。ガラス重合管
をシール後、70℃で24時間反応させた。反応終了後、メ
タノール中に投入し、残存する開始剤とモノマーを取り
除いた。得られたポリマーを減圧乾燥器で60℃/16時間
乾燥させ、白色粉末の重合体（以下「Ｈ１」と略す）が
得られた。収率は93.0％であった。ＧＰＣにより測定し
たポリスチレン換算平均分子量は、Ｍｎ＝43，000、Ｍ
ｗ＝83，000、Ｍｗ/Ｍｎ＝1.9、示差走査熱量分析装置
により測定したガラス転移温度（Ｔｇ）は84℃であっ
た。構造は次の式（９）であり、ＩＲと1Ｈ ＮＭＲで
確認した。
【００４２】
【化１７】
【００４３】ＩＲ（ｃｍ-1）：2110（Ｓｉ−Ｈ） １Ｈ ＮＭＲ（δ）（ｐｐｍ）： 0.2〜0.4（６Ｈ、Ｓ、Ｓｉ−ＣＨ3） 1.2〜2.0（３Ｈ、ｍ、ポリマー主鎖メチレン、メチン
基） 4.2〜4.5（１Ｈ、Ｓ、Ｓｉ−Ｈ） 6.2〜7.4（４Ｈ、ｍ、フェニレン基）
基） 4.2〜4.5（１Ｈ、Ｓ、Ｓｉ−Ｈ） 6.2〜7.4（４Ｈ、ｍ、フェニレン基）
【００４４】重合例２ ＤＭＶＳ／スチレン共重合体の
製造（その１） ガラス重合管に、スチレン（Ｓｔ）1.90ｇ（18.2ｍｍｏ
ｌ）、ジメチル−４−ビニルフェニルシラン（ＤＭＶ
Ｓ）2.92ｇ（18.0ｍｍｏｌ）、ＡＩＢＮ 0.302ｇ、ベ
ンゼン10ｍｌを仕込み、反応液をドライアイス/メタノ
ールにより凝固させ、減圧脱気を行った。ガラス重合管
をシール後、70℃で24時間反応させた。反応終了後、メ
タノール中に投入し、残存する開始剤とモノマーを取り
除いた。得られたポリマーを減圧乾燥器で60℃/16時間
乾燥させ、白色粉末の共重合体（以下「Ｃ１」と略す）
が得られた。収率は93.2％であった。1Ｈ ＮＭＲによ
る結合ＤＭＶＳ/Ｓｔのモル比は0.45/0.55。ＧＰＣによ
り測定したしたポリスチレン換算平均分子量は、Ｍｎ＝
31，000、Ｍｗ＝53，000、Ｍｗ/Ｍｎ＝1.7、示差走査熱
量分析装置により測定したガラス転移温度（Ｔｇ）は76
℃であった。構造は次の式（１０）であり、ＩＲと1Ｈ
ＮＭＲで確認した。
製造（その１） ガラス重合管に、スチレン（Ｓｔ）1.90ｇ（18.2ｍｍｏ
ｌ）、ジメチル−４−ビニルフェニルシラン（ＤＭＶ
Ｓ）2.92ｇ（18.0ｍｍｏｌ）、ＡＩＢＮ 0.302ｇ、ベ
ンゼン10ｍｌを仕込み、反応液をドライアイス/メタノ
ールにより凝固させ、減圧脱気を行った。ガラス重合管
をシール後、70℃で24時間反応させた。反応終了後、メ
タノール中に投入し、残存する開始剤とモノマーを取り
除いた。得られたポリマーを減圧乾燥器で60℃/16時間
乾燥させ、白色粉末の共重合体（以下「Ｃ１」と略す）
が得られた。収率は93.2％であった。1Ｈ ＮＭＲによ
る結合ＤＭＶＳ/Ｓｔのモル比は0.45/0.55。ＧＰＣによ
り測定したしたポリスチレン換算平均分子量は、Ｍｎ＝
31，000、Ｍｗ＝53，000、Ｍｗ/Ｍｎ＝1.7、示差走査熱
量分析装置により測定したガラス転移温度（Ｔｇ）は76
℃であった。構造は次の式（１０）であり、ＩＲと1Ｈ
ＮＭＲで確認した。
【００４５】
【化１８】
【００４６】ＩＲ（ｃｍ-1）：2110（Ｓｉ−Ｈ） １Ｈ ＮＭＲ（δ）（ｐｐｍ）：0.2〜0.4（Ｓ、Ｓｉ−
ＣＨ3）、1.2〜2.0（ｍ、ポリマー主鎖メチレン、メチ
ン基）、4.2〜4.5（Ｓ、Ｓｉ−Ｈ）、6.2〜7.4（ｍ、フ
ェニルおよびフェニレン基）
ＣＨ3）、1.2〜2.0（ｍ、ポリマー主鎖メチレン、メチ
ン基）、4.2〜4.5（Ｓ、Ｓｉ−Ｈ）、6.2〜7.4（ｍ、フ
ェニルおよびフェニレン基）
【００４７】重合例３ ＤＭＶＳ／スチレン共重合体の
製造（その２） ガラス重合管に、スチレン（Ｓｔ）2.99ｇ（28.6ｍｍｏ
ｌ）、ＤＭＶＳ 2.97ｇ（18.3ｍｍｏｌ）、ＡＩＢＮ
0.236ｇ（0.39ｍｏｌ％）、ベンゼン10ｍｌを仕込み、
反応液をドライアイス/メタノールにより凝固させ、減
圧脱気を行った。ガラス重合管をシール後、70℃で24時
間反応させた。反応終了後、メタノール中に投入し、残
存する開始剤とモノマーを取り除いた。得られたポリマ
ーを減圧乾燥器で60℃/16時間乾燥させ、白色粉末の共
重合体（以下「Ｃ２」と略す）が得られた。収率は94.5
％であった。1Ｈ ＮＭＲによる結合ＤＭＶＳ/Ｓｔのモ
ル比は0.38/0.62。ＧＰＣにより測定したポリスチレン
換算平均分子量は、Ｍｎ＝29，000、Ｍｗ＝51，000、Ｍ
ｗ/Ｍｎ＝1.８、示差走査熱量分析装置により測定した
ガラス転移温度（Ｔｇ）は80℃であった。構造は、ＩＲ
と1Ｈ ＮＭＲで確認した。
製造（その２） ガラス重合管に、スチレン（Ｓｔ）2.99ｇ（28.6ｍｍｏ
ｌ）、ＤＭＶＳ 2.97ｇ（18.3ｍｍｏｌ）、ＡＩＢＮ
0.236ｇ（0.39ｍｏｌ％）、ベンゼン10ｍｌを仕込み、
反応液をドライアイス/メタノールにより凝固させ、減
圧脱気を行った。ガラス重合管をシール後、70℃で24時
間反応させた。反応終了後、メタノール中に投入し、残
存する開始剤とモノマーを取り除いた。得られたポリマ
ーを減圧乾燥器で60℃/16時間乾燥させ、白色粉末の共
重合体（以下「Ｃ２」と略す）が得られた。収率は94.5
％であった。1Ｈ ＮＭＲによる結合ＤＭＶＳ/Ｓｔのモ
ル比は0.38/0.62。ＧＰＣにより測定したポリスチレン
換算平均分子量は、Ｍｎ＝29，000、Ｍｗ＝51，000、Ｍ
ｗ/Ｍｎ＝1.８、示差走査熱量分析装置により測定した
ガラス転移温度（Ｔｇ）は80℃であった。構造は、ＩＲ
と1Ｈ ＮＭＲで確認した。
【００４８】重合例４ ＤＭＶＳ／スチレン共重合体の
製造（その３） ガラス重合管に、スチレン2.47ｇ（23.7ｍｍｏｌ）、Ｄ
ＭＶＳ 2.13ｇ（13.1ｍｍｏｌ）、ＡＩＢＮ 0.242
ｇ、（ベンゼンはなし）を仕込み、反応液をドライアイ
ス/メタノールにより凝固させ、減圧脱気を行った。ガ
ラス重合管をシール後、70℃で24時間反応させた。反応
終了後、メタノール中に投入し、残存する開始剤とモノ
マーを取り除いた。得られたポリマーを減圧乾燥器で60
℃/16時間乾燥させ、白色粉末の共重合体（以下「Ｃ
３」と略す）が得られた。収率は81.6％であった。。1
Ｈ ＮＭＲによる結合ＤＭＶＳ/Ｓｔのモル比は0.34/0.
66。ＧＰＣにより測定したポリスチレン換算平均分子量
は、Ｍｎ＝124，000、Ｍｗ＝554，000、Ｍｗ/Ｍｎ＝4.
5、示差走査熱量分析装置により測定したガラス転移温
度（Ｔｇ）は１０３℃であった。構造は、ＩＲと1Ｈ
ＮＭＲで確認した
製造（その３） ガラス重合管に、スチレン2.47ｇ（23.7ｍｍｏｌ）、Ｄ
ＭＶＳ 2.13ｇ（13.1ｍｍｏｌ）、ＡＩＢＮ 0.242
ｇ、（ベンゼンはなし）を仕込み、反応液をドライアイ
ス/メタノールにより凝固させ、減圧脱気を行った。ガ
ラス重合管をシール後、70℃で24時間反応させた。反応
終了後、メタノール中に投入し、残存する開始剤とモノ
マーを取り除いた。得られたポリマーを減圧乾燥器で60
℃/16時間乾燥させ、白色粉末の共重合体（以下「Ｃ
３」と略す）が得られた。収率は81.6％であった。。1
Ｈ ＮＭＲによる結合ＤＭＶＳ/Ｓｔのモル比は0.34/0.
66。ＧＰＣにより測定したポリスチレン換算平均分子量
は、Ｍｎ＝124，000、Ｍｗ＝554，000、Ｍｗ/Ｍｎ＝4.
5、示差走査熱量分析装置により測定したガラス転移温
度（Ｔｇ）は１０３℃であった。構造は、ＩＲと1Ｈ
ＮＭＲで確認した
【００４９】実施例１ 100ｍｌ四つ口フラスコに、前記重合例１で得たジメチ
ル−４−ビニルフェニルシラン（ＤＭＶＳ）の単独重合
体（Ｈ１）1.0ｇ、４−ビニル−シクロヘキセン−１，
２−エポキシド（以下「ＶＣＥＰ」と略す）1.70ｇ（1
3.7ｍｍｏｌ）、ＲｈＣｌ（ＰＰｈ3）3 0.0250g (0.02
70ｍｍｏｌ)、乾燥トルエン30ｍｌを加え、窒素気流下6
0℃に加熱し24時間撹拌した。反応終了後、メタノール
中に投入し、得られた重合体を減圧乾燥機で60℃/16時
間乾燥させ、白色粉末のエポキシ基含有重合体(以下
「ＮＲＨ１」と略す)が１．８０ｇ得られた。ＤＭＶＳ
重合体を基準としてＶＣＥＰの付加率１００％（ＳｉＨ
の反応率100％）であった。ＧＰＣにより測定したした
ポリスチレン換算平均分子量は、Ｍｗ＝330,000、Ｍｎ
＝75，000、Ｍｗ/Ｍｎ＝4.4、示差走査熱量分析装置に
より測定したガラス転移温度（Ｔｇ）は５８℃であっ
た。得られた重合体（ＮＲＨ１）の構造は、次の化学式
（１１）で示す。構造は、ＩＲと1Ｈ ＮＭＲで確認し
た。
ル−４−ビニルフェニルシラン（ＤＭＶＳ）の単独重合
体（Ｈ１）1.0ｇ、４−ビニル−シクロヘキセン−１，
２−エポキシド（以下「ＶＣＥＰ」と略す）1.70ｇ（1
3.7ｍｍｏｌ）、ＲｈＣｌ（ＰＰｈ3）3 0.0250g (0.02
70ｍｍｏｌ)、乾燥トルエン30ｍｌを加え、窒素気流下6
0℃に加熱し24時間撹拌した。反応終了後、メタノール
中に投入し、得られた重合体を減圧乾燥機で60℃/16時
間乾燥させ、白色粉末のエポキシ基含有重合体(以下
「ＮＲＨ１」と略す)が１．８０ｇ得られた。ＤＭＶＳ
重合体を基準としてＶＣＥＰの付加率１００％（ＳｉＨ
の反応率100％）であった。ＧＰＣにより測定したした
ポリスチレン換算平均分子量は、Ｍｗ＝330,000、Ｍｎ
＝75，000、Ｍｗ/Ｍｎ＝4.4、示差走査熱量分析装置に
より測定したガラス転移温度（Ｔｇ）は５８℃であっ
た。得られた重合体（ＮＲＨ１）の構造は、次の化学式
（１１）で示す。構造は、ＩＲと1Ｈ ＮＭＲで確認し
た。
【００５０】
【化１９】
【００５１】ＩＲ（ｃｍ-1）：885（エポキシ基） １Ｈ ＮＭＲ（δ）（ｐｐｍ）： 0.2〜0.4（６Ｈ、Ｓ、Ｓｉ−ＣＨ3） 0.6〜0.8（２Ｈ、ｍ、Ｓｉ−ＣＨ2） 0.8〜2.3（１２Ｈ、ｍ、ポリマー主鎖メチレン、メチン
基およびシクロヘキシル残基のメチレン、メチン基） 3.1〜3.2（２Ｈ、Ｓ、エポキシメチレン基） 6.2〜7.3（４Ｈ、ｍ、フェニレン基）
基およびシクロヘキシル残基のメチレン、メチン基） 3.1〜3.2（２Ｈ、Ｓ、エポキシメチレン基） 6.2〜7.3（４Ｈ、ｍ、フェニレン基）
【００５２】実施例２ 100ｍｌ四つ口フラスコに、前記の重合例２で得たＤＭ
ＶＳ/Ｓｔ共重合体（Ｃ１）0.95ｇ、ＶＣＥＰ 0.89ｇ
（7.17ｍｍｏｌ）、ＲｈＣｌ（ＰＰｈ3）3 0.0133g
(0.0144ｍｍｏｌ)、乾燥トルエン30ｍｌを加え、窒素気
流下60℃に加熱し24時間撹拌した。反応終了後、メタノ
ール中に投入し、得られた重合体を減圧乾燥機で60℃/1
6時間乾燥させ、白色粉末のエポキシ基含有重合体(以
下、「ＮＲＣ１」と略す)が得られた。収率はＣ１を基
準にして100％であった。ＧＰＣにより測定したポリス
チレン換算平均分子量は、Ｍｗ＝104，000、Ｍｎ＝45，
000、Ｍｗ/Ｍｎ＝2.3、示差走査熱量分析装置により測
定したガラス転移温度（Ｔｇ）は76℃であった。この重
合体のＤＭＶＳ／Ｓｔのモル比は、0.45／0.55であっ
た。構造は次の式（１２）であり、ＩＲと1Ｈ ＮＭＲ
で確認した。
ＶＳ/Ｓｔ共重合体（Ｃ１）0.95ｇ、ＶＣＥＰ 0.89ｇ
（7.17ｍｍｏｌ）、ＲｈＣｌ（ＰＰｈ3）3 0.0133g
(0.0144ｍｍｏｌ)、乾燥トルエン30ｍｌを加え、窒素気
流下60℃に加熱し24時間撹拌した。反応終了後、メタノ
ール中に投入し、得られた重合体を減圧乾燥機で60℃/1
6時間乾燥させ、白色粉末のエポキシ基含有重合体(以
下、「ＮＲＣ１」と略す)が得られた。収率はＣ１を基
準にして100％であった。ＧＰＣにより測定したポリス
チレン換算平均分子量は、Ｍｗ＝104，000、Ｍｎ＝45，
000、Ｍｗ/Ｍｎ＝2.3、示差走査熱量分析装置により測
定したガラス転移温度（Ｔｇ）は76℃であった。この重
合体のＤＭＶＳ／Ｓｔのモル比は、0.45／0.55であっ
た。構造は次の式（１２）であり、ＩＲと1Ｈ ＮＭＲ
で確認した。
【００５３】
【化２０】
【００５４】ＩＲ（ｃｍ-1）：2110（Ｓｉ−Ｈ） １Ｈ ＮＭＲ（δ）（ｐｐｍ）： 0.2〜0.4（Ｓ、Ｓｉ−ＣＨ3） 0.6〜0.8（Ｓ、Ｓｉ−ＣＨ2） 0.8〜2.3（ｍ、ポリマー主鎖メチレン、メチン基および
シクロヘキシル残基のメチレン、メチン基） 3.1〜3.2（Ｓ、エポキシメチレン基） 6.3〜7.4（ｍ、フェニルおよびフェニレン基）
シクロヘキシル残基のメチレン、メチン基） 3.1〜3.2（Ｓ、エポキシメチレン基） 6.3〜7.4（ｍ、フェニルおよびフェニレン基）
【００５５】実施例３ 100ｍｌ四つ口フラスコに、前記の重合例で得たＤＭＶ
Ｓ/Ｓｔ共重合体（Ｃ２）0.95ｇ、ＶＣＥＰ 0.75ｇ
（6.04ｍｍｏｌ）、ＲｈＣｌ（ＰＰｈ3）3 0.0109g
(0.0118ｍｍｏｌ)、乾燥トルエン30ｍｌを加え、窒素気
流下60℃に加熱し24時間撹拌した。反応終了後、メタノ
ール中に投入し、得られた重合体を減圧乾燥機で60℃/1
6時間乾燥させ、白色粉末のエポキシ基含有重合体(以
下、「ＮＲＣ２」と略す)が得られた。収率はＣ２を基
準にして100％であった。ＧＰＣにより測定したポリス
チレン換算平均分子量は、Ｍｗ＝104,000、Ｍｎ＝45，0
00、Ｍｗ/Ｍｎ＝2.3、示差走査熱量分析装置により測定
したガラス転移温度（Ｔｇ）は88℃であった。この重合
体のＤＭＶＳ／Ｓｔのモル比は、0.38／0.62であった。
構造は、ＩＲと1Ｈ ＮＭＲで確認した。
Ｓ/Ｓｔ共重合体（Ｃ２）0.95ｇ、ＶＣＥＰ 0.75ｇ
（6.04ｍｍｏｌ）、ＲｈＣｌ（ＰＰｈ3）3 0.0109g
(0.0118ｍｍｏｌ)、乾燥トルエン30ｍｌを加え、窒素気
流下60℃に加熱し24時間撹拌した。反応終了後、メタノ
ール中に投入し、得られた重合体を減圧乾燥機で60℃/1
6時間乾燥させ、白色粉末のエポキシ基含有重合体(以
下、「ＮＲＣ２」と略す)が得られた。収率はＣ２を基
準にして100％であった。ＧＰＣにより測定したポリス
チレン換算平均分子量は、Ｍｗ＝104,000、Ｍｎ＝45，0
00、Ｍｗ/Ｍｎ＝2.3、示差走査熱量分析装置により測定
したガラス転移温度（Ｔｇ）は88℃であった。この重合
体のＤＭＶＳ／Ｓｔのモル比は、0.38／0.62であった。
構造は、ＩＲと1Ｈ ＮＭＲで確認した。
【００５６】
【発明の効果】珪素原子とシクロヘキシルエポキシ基を
有する新規な重合体およびこの重合体の製造方法を提供
する。この重合体は、シクロヘキシルエポキシ基を有す
るために熱架橋性、光架橋性と共に低誘電率と光学的透
明性が期待でき、さらに珪素原子を有するためにこの重
合体の架橋物はドライエッチング耐性が期待できる。こ
のため半導体集積回路製造用レジスト、電子部品の絶縁
膜、保護膜などの形成材料として利用できる。
有する新規な重合体およびこの重合体の製造方法を提供
する。この重合体は、シクロヘキシルエポキシ基を有す
るために熱架橋性、光架橋性と共に低誘電率と光学的透
明性が期待でき、さらに珪素原子を有するためにこの重
合体の架橋物はドライエッチング耐性が期待できる。こ
のため半導体集積回路製造用レジスト、電子部品の絶縁
膜、保護膜などの形成材料として利用できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4J100 AB02Q AB03Q AB04Q AB07P AB08Q AJ02Q AJ08Q AJ09Q AL03Q AL04Q AS01Q AS02Q AS03Q BA02P BA04Q BA05Q BA71P BC03Q BC04Q BC43Q BC54H BC54P CA01 CA04 CA31 HA29 JA38 JA44
Claims (5)
- 【請求項１】一般式（１）で示される繰り返し単位を有
する重量平均分子量１，０００〜１，０００，０００の
重合体。 【化１】 （式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に水素原子または
メチル基を、Ｑ1、Ｑ2はそれぞれ独立に水素原子、炭素
数１〜１０のアルキル基、アルコキシ基から選ばれる原
子または有機基を、Ｐ1は炭素数1〜１０のアルキレン
基、アルキレンエーテル基から選ばれる有機基または単
結合を、Ｐ2は炭素数２〜１０のアルキレン基、アルキ
レンエーテル基から選ばれる有機基を表す。） - 【請求項２】一般式（２）で示される繰り返し単位を有
する重合体と一般式（３）で示される化合物を反応させ
ることよりなる一般式（４）に記載の繰り返し単位を有
する重合体の製造方法。 【化２】 （式中、Ｒ1、Ｑ1、Ｑ2およびＰ1は、請求項１記載と同
じである。） 【化３】 （式中Ｒ2は、請求項１記載と同じである。式中Ｒ3は、
水素原子またはメチル基を、Ｐ3は炭素数１〜８のアル
キレン基、アルキレンエーテル基から選ばれる有機基ま
たは単結合を表す。） 【化４】 （式中の記号は、式（２）、（３）の記載と同じであ
る。） - 【請求項３】一般式（４）および（５）で示される繰り
返し単位が、モル％で（４）／（５）＝１〜１００／９
９〜０（合計１００モル％）の割合で含有されてなる重
量平均分子量１，０００〜１，０００，０００の重合
体。 【化５】 （式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に水素原
子またはメチル基を、Ｑ1、Ｑ2はそれぞれ独立に水素原
子、炭素数１〜１０のアルキル基、アルコキシ基から選
ばれる原子または有機基を、Ｐ1は炭素数１〜１０のア
ルキレン基、アルキレンエーテル基から選ばれる有機基
または単結合を、Ｐ3は、炭素数１〜８のアルキレン
基、アルキレンエーテル基から選ばれる有機基または単
結合を表す。） 【化６】 （式中Ｒ4は、水素原子またはメチル基、Ｘは、１価の
有機基を表す。） - 【請求項４】式（６）で示される繰り返し単位からなる
重合体。 【化７】 - 【請求項５】式（６）および式（７）で示される繰り返
し単位が、モル％で（６）／（７）＝５〜９０／９５〜
１０含有されてなる共重合体。 【化８】 【化９】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35052599A JP2001163920A (ja) | 1999-12-09 | 1999-12-09 | 重合体および重合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35052599A JP2001163920A (ja) | 1999-12-09 | 1999-12-09 | 重合体および重合体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001163920A true JP2001163920A (ja) | 2001-06-19 |
Family
ID=18411097
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35052599A Pending JP2001163920A (ja) | 1999-12-09 | 1999-12-09 | 重合体および重合体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001163920A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010540558A (ja) * | 2007-09-28 | 2010-12-24 | シグナ・ケミストリー・インコーポレイテッド | アニオン重合においてそれらを用いるための溶媒およびモノマーの乾燥および精製におけるアルカリ金属−シリカゲル（ｍ−ｓｇ）材料の使用 |
-
1999
- 1999-12-09 JP JP35052599A patent/JP2001163920A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010540558A (ja) * | 2007-09-28 | 2010-12-24 | シグナ・ケミストリー・インコーポレイテッド | アニオン重合においてそれらを用いるための溶媒およびモノマーの乾燥および精製におけるアルカリ金属−シリカゲル（ｍ−ｓｇ）材料の使用 |
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