JP2001159811A - 平版印刷版の製版方法、及び、後露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光重合層を備えたＰＳ版の現像処理後に露光
と同時に加熱する後露光処理時の後露光条件をＰＳ版の
厚みやサイズ、版種等に応じて常に適切に設定でき、操
作ミス等により設定した後露光条件が異なることによる
損失が生じる恐れがなく、処理効率も向上できる平版印
刷版の製版方法、及び、後露光装置を得る。 【解決手段】 後露光装置１７の後露光制御部３４が、
プレートセッター１４に入力された各種設定情報をオン
ラインで取得し、該取得した各種設定情報に基いて、Ｐ
Ｓ版の版種、版厚、及び版サイズの組合せに応じた紫外
線照射量のテーブルから紫外線照射量を選択し、前記選
択した紫外線照射量となるように後露光部３２及び搬送
機構を制御する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷版の製版
方法及び後露光装置にかかり、特に、コンピュータ等の
デジタル信号からレーザ等を用いて直接製版できる、い
わゆるダイレクト製版可能な平版印刷版の製版方法及び
後露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、感光性平版印刷版（以下「ＰＳ
版」という）は、感光性平版印刷版処理装置（以下「Ｐ
Ｓ版プロセッサー」という）によって現像処理される。
このＰＳ版プロセッサーにおいて現像処理は、画像が記
録されたＰＳ版を現像槽内に搬送しながら現像槽に貯留
された現像液に浸漬し、現像液中に設けた回転ブラシロ
ーラ等の擦り手段によってＰＳ版の非画像部分の感光層
を除去することによりなされる。このＰＳ版プロセッサ
ーでは、現像液による処理が終了したＰＳ版は、水洗部
で洗浄水によって水洗いされた後（水洗処理）、不感脂
化処理部でガム液が塗布されることにより不感脂化処理
が施された後、版面保護等の処理が連続して行われる。

【０００３】一般に、ＰＳ版の感光層としては、ジアゾ
樹脂や、光架橋型や、光重合型が使用されている。中で
も光重合型の光重合性感光層は、露光・現像後に紫外線
と熱によりさらに重合反応を起こさせることができる。
そのため、高耐刷用のＰＳ版では、より均一な網点再現
を得るために、紫外線照射と同時に加熱して光重合層硬
化処理を行う後露光装置により、現像後のＰＳ版をさら
に重合させて版の強度を上げ、小点の耐刷性を向上させ
ることが知られている。

【０００４】現像後のＰＳ版をさらに重合させるための
後露光処理時の後露光条件は、ＰＳ版の厚みや版サイ
ズ、ＰＳ版の種類(以下、版種と称す。)によって異な
る。一般には、１台の後露光装置によって複数種類のＰ
Ｓ版の後露光処理を行うため、ＰＳ版の後露光処理を開
始する前に後露光処理対象となるＰＳ版の厚みや、版サ
イズ、版種等の条件を手動で後露光装置に入力して、適
した後露光条件となるまで待ってから後露光処理を開始
するように制御している。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、設定し
た温度条件が不適切であったり、操作ミス等により設定
した条件が異なると、所望の画質の版が得られないた
め、新たに露光処理からしなおさねばならず、多大な損
失が出てしまうという問題がある。また、一般に後露光
処理時の後露光条件等はユーザが手動で入力するため、
常に後露光処理対象となるＰＳ版に適切な後露光条件と
なるように後露光装置を調整することは難しく、また、
条件の変更のし忘れや入力ミスなどの操作ミスが生じる
ことは避けられない。

【０００６】また、後露光装置の光源として、例えば、
水銀ランプを使用した場合、紫外線露光による紫外線
と、露光時に水銀ランプから発生した熱エネルギーによ
って、光重合層の重合を促進させることができるが、露
光時に水銀ランプから発生した熱エネルギーによってＰ
Ｓ版はかなりの高温（約１４０℃〜１８０℃）になる。
そのため、現像処理（乾燥処理）後の比較的低温のＰＳ
版を直ちに後露光装置内に送り込むと、ＰＳ版に反りが
発生することがあり、問題である。

【０００７】さらに、近年では、省エネ化の要求が高ま
ってきており、装置のランニングコストを下げることも
重要な課題となっている。

【０００８】以上のことから本発明では、現像後のＰＳ
版に施す後露光処理をＰＳ版の厚みやサイズ、版種等に
応じて常に適切に設定でき、操作ミス等により設定した
温度条件が異なることによる損失が生じる恐れがなく、
処理効率も向上できる平版印刷版の製版方法及び後露光
装置を得ることを目的とする。また、画像品質を下げる
ことなく消費電力が抑えられる平版印刷版の製版方法及
び後露光装置を得ることも目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項１の発明は、光重合性感光層を有する平版印刷
原版を露光、現像後、全面を露光と同時に加熱する後露
光処理を施す平版印刷版の製版方法であって、前記後露
光処理の条件を前段の工程で使用した版情報に基づいて
決定し、該決定された条件となるように、前記現像処理
済みの平版印刷版を後露光する。

【００１０】すなわち、請求項１の発明の平版印刷版の
製版方法では、現像工程で現像された光重合性感光層を
有する露光処理済みの平版印刷版に対し、現像工程の前
又は後に、前段の工程で使用した版情報に基づいて後露
光条件を決定し、該決定した後露光条件により前記平版
印刷版を露光と同時に加熱することにより得る。

【００１１】なお、後露光工程の前段の工程は、後露光
工程の前段にある工程のうち、少なくとも、パソコン上
で原稿を作成する編集工程、編集工程において作成され
た原稿をＰＳ版に焼き付ける露光工程、及び露光工程で
焼き付けられた原稿を現像する現像工程を含む工程の中
の少なくとも１つの工程であり、１つの工程で使用した
版情報を用いるように構成してもよいし、複数の前段の
工程の各工程で使用した版情報の１部を選択して又は全
てを用いるように構成してもよい。

【００１２】版情報は、版の厚みや、版サイズ、及び版
種の少なくとも１つを含んでおり、請求項１の発明で
は、このような版情報をユーザが手動で入力するのでは
なく、後露光工程の前段の工程の装置にインプットされ
た版情報に基づいて後露光条件を決定しているので、変
更のし忘れや入力ミスなどの操作ミスが生じることな
く、処理対象となる平版印刷版に対して常に最適な後露
光条件で確実に後露光処理することができる。

【００１３】版種としては、例えば、新聞用ＰＳ版、高
耐刷用ＰＳ版及び高画質用ＰＳ版等があり、版厚として
は、例えば、０．１２ｍｍ、０．１５ｍｍ、０．２ｍ
ｍ、０．２４ｍｍ、０．３ｍｍ、０．４ｍｍ等の種類が
あり、版サイズとしては、小版が、例えば、２５４ｍｍ
×３９１ｍｍ、中版が、例えば、縦×横が６５０ｍｍ×
５５０ｍｍ、大版が、例えば、縦×横が１０３０ｍｍ×
８００ｍｍや１１３０ｍｍ×９３０ｍｍ等がある。

【００１４】また、版サイズと厚さとの代表的なものと
しては、版サイズが２５４ｍｍ×３９１ｍｍで厚さ０．
１２ｍｍの平板印刷板や、版サイズが６５０ｍｍ×５５
０ｍｍで厚さ０．２４ｍｍの平板印刷板や、版サイズが
１０３０ｍｍ×８００ｍｍ又は１１３０ｍｍ×９３０ｍ
ｍで厚さ０．３ｍｍの平板印刷板等である。勿論これら
の版サイズ、厚さに限るものではない。

【００１５】版情報として平版印刷版の厚さが入力され
ている場合、平版印刷版の厚さが厚いと支持体であるア
ルミ板の厚さも厚くなるので、熱が支持体を伝わって外
部に逃げ易く、平版印刷版に付与される露光量及び加熱
容量が大きくなるように制御する。

【００１６】また、平版印刷版の厚さが薄いと支持体で
あるアルミ板の厚さも薄くなるので、アルミ板の厚さが
厚い場合と比較して熱が支持体を伝わって外部に逃げ難
く、かつ、感光層の厚さも薄くなるため、平版印刷版に
付与される露光量及び加熱容量が平版印刷版の厚さが厚
い場合よりも小さくなるように制御する。これにより、
平版印刷版の表面温度が厚さに関わりなく均一化でき
る。

【００１７】なお、露光量は、光源の出力と照射時間と
の積であり、加熱容量は、加熱温度と加熱時間との積に
より決定される値である。また、露光量は、例えば、光
源を版面に対して垂直な方向に移動させて光源から版面
までの距離を変更することによっても制御することが可
能である。

【００１８】また、版情報として版サイズが入力されて
いる場合、幅が大きく、かつ、長さが長いサイズ（以
下、Ｌサイズと称す。）の平版印刷版であれば、アルミ
板の面積が大きくなるので熱容量が大きく、後露光手段
から平版印刷版に付与される露光量及び加熱容量が大き
くなるように制御し、幅が小さく、かつ、長さが短いサ
イズ（以下、Ｓサイズと称す。）の平版印刷版であれ
ば、面積及び熱容量は小さいので、Ｌサイズの平版印刷
版と比較して平版印刷版に付与される露光量及び加熱容
量が小さくなるように制御する。

【００１９】具体的には、例えば、複数の光源により平
版印刷版を露光と同時に加熱して後露光熱処理を行う構
成の場合、Ｌサイズのときは全ての光源を点灯し、Ｓサ
イズのときは、半分の数の光源を点灯し、ＬサイズとＳ
サイズの中間のＭサイズのときは、３／４の数の光源を
点灯するなどのように制御すると良い。

【００２０】この場合、単位面積あたりに必要な光源数
(すなわち、露光量及び加熱量)を求めておくことで、種
々の版サイズに応じて必要な光源数(すなわち、露光量
及び加熱量)を決定できる。なお、版サイズに応じて光
源の点灯数を変更する構成とした場合、予め定めた温度
以下とならないように制御するすスタンバイモードを設
けるのが好ましい。このような構成とすることにより、
光源の点灯による消費電力が少なくなり、省エネルギー
化を図れるので好ましい。

【００２１】さらに、版情報として版種が入力されてい
る場合、例えば、版種が新聞用ＰＳ版である場合は、露
光量を多く、かつ、加熱温度を高くして加熱時間を短く
なるように後露光条件を決定し、耐刷性を向上させるた
めに充分に大きな露光量及び加熱容量が与えられるよう
に制御する。また、版種が高耐刷用ＰＳ版である場合、
耐刷性を向上させるために充分な露光量及び加熱量が必
要であるが、温度を高くしすぎると好ましくないため、
温度をそれほど高くせずに露光時間を長くして必要な露
光量及び加熱容量を確保するように後露光条件を決定
し、耐刷性を向上させるために充分に大きな露光量及び
加熱容量が与えられるように制御するとよい。

【００２２】例えば、版種Ａでは、版表面の温度（以
下、版面温度と称す。）が８０℃以上２００℃以下で２
０秒以上１２０秒以下の範囲が好適な露光量及び加熱容
量の範囲であり、より好ましくは、１００℃以上１５０
℃以下で３０秒以上９０秒以下の範囲である。したがっ
て、実際に必要な最低の露光量及び加熱容量は１１０℃
で６０秒又は１４０℃で２０秒となる。上述したよう
に、加熱温度を高くしすぎると好ましくないため、加熱
温度を比較的高くできる場合でも、１４０℃で２０秒程
度とし、通常は１２０℃で５０秒程度とするとよい。勿
論、版種の種類によってそれぞれ適正な温度範囲がある
ので上記値に限定するものではない。

【００２３】また、版種が高画質用ＰＳ版である場合
は、中程度の露光量及び加熱容量となるように又は後露
光なしとなるように露光温度及び露光時間を決定して、
全面に均一に後露光されるようにすることで網点品質を
揃えるように制御する。なお、版種としては、上記で述
べた新聞用ＰＳ版、高耐刷用ＰＳ版及び高画質用ＰＳ版
等の他に種々のものがあるが、それぞれに最適な後露光
条件となるように制御される。

【００２４】このように、版情報として版種が入力され
ている場合、後露光処理が必要な版種と不要な版種との
判別が明確にでき、さらに後露光処理が必要な版種のう
ち加熱温度を比較的高くできるものとできないものなど
のように、詳細な情報が得られるので、後露光処理対象
となるＰＳ版に応じてより一層適切な設定が可能とな
る。

【００２５】更に、平板印刷板の厚さと版サイズ、版種
の全ての情報が版情報として入力されている場合には、
それぞれの厚さと版サイズ、版種の組合せに応じて最適
となるように決定される後露光条件とする。例えば、版
情報として、平板印刷板の厚さ、版サイズ及び版種が入
力されている場合の代表的な例について簡単に説明す
る。

【００２６】例えば、版厚が０．４ｍｍで、版サイズが
１１３０ｍｍ×９３０ｍｍの大判高耐刷用ＰＳ版の場
合、重合度（硬化率）を高めるため、露光量及び加熱容
量が最大となるように後露光条件を決定する。また、例
えば、版厚が０．２４ｍｍで、版サイズが６５０ｍｍ×
５５０ｍｍの中判高耐刷用ＰＳ版の場合、画質重視のた
め均一に後露光し、網点品質をそろえるため、露光量及
び加熱容量が中程度となるように後露光条件を決定す
る。さらに、例えば、線画のものであまり耐刷を必要と
しないＰＳ版（高耐刷用又は高画質用の版種でユーザが
高耐刷不要と判断したＰＳ版）や、版厚が０．１２ｍｍ
で、版サイズが２５４ｍｍ×３９１ｍｍの小判高耐刷用
ＰＳ版の場合、露光量及び加熱容量が最小（加熱しない
場合も含む）となるように後露光条件を決定する。

【００２７】また、請求項２に記載した発明は、上記請
求項１に記載の光重合性感光層を有する露光処理済みの
平版印刷版の現像前処理方法を実現する後露光装置であ
り、光重合性感光層を有する平版印刷版の現像後に、前
記平版印刷版を露光と同時に加熱する後露光手段と、前
記後露光手段により前記光重合性感光層を有する現像処
理済みの平版印刷版を露光と同時に加熱する際に、前段
に設けられた装置から入力された版情報に基づいて後露
光条件を決定し、該決定した後露光条件となるように前
記後露光手段を制御する制御手段と、を備えている。

【００２８】すなわち、請求項２の発明では、後露光装
置の制御手段が、前段に設けられた装置から入力された
版情報に基づいて前記平版印刷版に与える後露光条件を
決定し、該決定された後露光条件で後露光手段が前記平
版印刷版を加熱するため、実際に加熱対象となる平板印
刷板の版の厚み、版サイズ、及び版種に合わせて適切な
後露光条件にすることができ、また、変更のし忘れや入
力ミスなどの操作ミスが生じることなく加熱処理を施す
ことができる。

【００２９】また、前段の装置に版情報が入力され、前
段の装置が処理を開始する前の時点で制御手段が前記版
情報を取得し、前記平版印刷版に最適な後露光条件を決
定するように構成することもでき、このような構成とす
ることで、現在後露光している版の処理が終了後、直ち
に次に処理する版に適した後露光条件となるように後露
光装置の後露光条件を変更できるので、次の後露光条件
となるまでの時間を短縮でき、処理効率を向上できる。
これは、特に、異なる種類の版が次にセットされ後露光
条件が大幅に変更される場合に有利である。

【００３０】このような加熱分布の制御は、光重合性感
光層を有する現像処理済みの平版印刷版に対し、前段に
設けられた装置から入力された版情報に基づいて後露光
条件を決定し、該決定した後露光条件で前記平版印刷版
が加熱されるように前記平版印刷版を加熱する後露光プ
ログラムにより行う。この後露光プログラムは、予め後
露光装置の記録媒体に記録させていても良いし、後露光
装置とは別体の記録媒体に記憶させ、該記録媒体からイ
ンストールしてもよい。

【００３１】また、後露光条件を決定する為の版情報
は、前記平版印刷版を加熱する後露光手段の前段に設け
られた装置からオンライン又はオフラインで取得または
入力したものを用いることができる。

【００３２】さらに、本発明で用いる光重合性感光層を
有する平版印刷版は、支持体上に、光重合性感光層と、
該感光層を保護するための保護層とが順に積層された感
光性平板印刷版が好適である。

【００３３】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態の一例を詳細に説明する。本実施の形態では、
図１に示す様に、パソコン１０、ワークステーション１
２、プレートセッター（露光装置）１４、及びＰＳ版プ
ロセッサー１６、後露光装置１７から構成された製版シ
ステムに本発明を適用した場合について説明する。

【００３４】また、本実施の形態で用いる感光性平版印
刷板（以下、ＰＳ版と称す。）としては、裏面にバック
コート層が設けられたアルミニウム支持体の表面に有機
下塗層、光重合性感光層、オーバーコート層が順に設け
られた構成のものとすることができる。なお、ＰＳ版の
詳細については後述する。

【００３５】本実施の形態の製版システムは、パソコン
１０、ワークステーション１２、プレートセッター１
４、ＰＳ版プロセッサー１６、及び後露光装置１７が全
てオンライン接続されており、パソコン１０に入力され
た画像データ、版厚、版サイズ及びＰＳ版の種類（版
種）などの各種設定情報が、オンラインでプレートセッ
ター１４、ＰＳ版プロセッサー１６及び後露光装置１７
に出力可能である。

【００３６】パソコン１０には、例えば、スキャナーな
どの画像読取手段から読み込んだ画像をディスプレイに
表示しながら編集したり、ディスプレイ上に文字や画像
を新規に作成し、印刷対象の画像を作成するアプリケー
ションがインストールされている。

【００３７】このアプリケーションは、ユーザにより作
成された画像を、例えば、アウトラインや、塗りつぶし
領域の面積率及び塗りつぶし領域の透過率等を指示する
描画コマンド等のベクトル形式の画像データとしてワー
クステーション１２に出力する。また、画像の作成と同
時にキーボードからユーザによって入力された、例え
ば、露光対象となるＰＳ版の版種、版厚、及び版サイズ
等の各種設定情報を、前記ベクトル形式の画像データと
共にテキストデータとしてワークステーション１２に出
力する。

【００３８】ワークステーション１２には、ラスタイメ
ージプロセッサ（以下、ＲＩＰと称す。）、プレートセ
ッター１４のドライバーソフトがインストールされてい
る。

【００３９】ＲＩＰは、ベクトル形式の画像データを解
釈して階調を持ったドットの並びとして展開した、ＴＩ
ＦＦ形式のファイル(以下、ＴＩＦＦファイルと称す。)
やＧＩＦファイル等のラスタ形式の画像データに変換す
るアプリケーションであり、本実施の形態では、ベクト
ル形式の画像データをタグ形式のヘッダ部とイメージデ
ータ部とから構成されたＴＩＦＦファイルに変換する。

【００４０】プレートセッター１４のドライバーソフト
はＴＩＦＦファイル及びテキスト形式のＰＳ版の版種、
版厚、及び版サイズ等の各種設定情報を、プレートセッ
ター１４で解析できるイメージフォーマットに変換して
プレートセッター１４に出力するソフトウエアである。

【００４１】したがって、ワークステーション１２で
は、パソコン１０から入力された描画コマンド等のベク
トル形式の画像データをＴＩＦＦファイルに変換した
後、このＴＩＦＦファイル及びＰＳ版の版種、版厚、及
び版サイズなどの各種設定情報を、プレートセッター１
４のドライバーソフトが、プレートセッター１４で解析
できるイメージフォーマットに変換した後、プレートセ
ッター１４に出力する。

【００４２】プレートセッター１４は、ＲＯＭ、ＲＡＭ
及びＣＰＵからなるセッター制御部１８を含んでいる。
ＲＯＭにはプレートセッター１４を制御するための各種
プログラムが記憶され、ＲＡＭには、プレートセッター
１４で解析できるイメージフォーマット形式のＴＩＦＦ
ファイル及び各種設定情報が一旦記憶される。

【００４３】ＣＰＵは、ＲＯＭから各種プログラムを呼
び出し、該プログラムに基いてＲＡＭから読み込んだＴ
ＩＦＦファイル及び前述した各種設定情報に基いて、例
えば、プレートセッター１４の搬送手段（図示せず）の
搬送速度を制御するための制御信号やレーザ光源（図示
せず）のオンオフ駆動信号、及び露光量の調整を行うた
めのレーザ駆動信号などの各種制御信号を生成し、該各
種制御信号によるプレートセッター１４の駆動制御を行
う。これにより、プレートセッター１４は、パソコン１
０上で選択された画像に応じて最適な条件でＰＳ版の露
光処理を行うこととなる。

【００４４】プレートセッター１４としては、エクスタ
ーナルドラム（アウタードラム）型、フラットベット
型、及び、インナードラム型のものを用いることができ
る。また、使用する光源としては、例えば、ＩｎＧａＮ
系の半導体レーザなどの紫外から可視光領域(３６０ｎ
ｍ〜４５０ｎｍ)の半導体レーザや、４８８ｎｍや５１
４．５ｎｍのＡｒレーザ、５３２ｎｍのＦＤ−ＹＡＧレ
ーザ等を用いたものが、出力、寿命、安定性、及びコス
ト面などで好ましい。なお、プレートセッター１４の露
光処理については公知のため、ここでは詳細な説明は省
略する。

【００４５】さらに、セッター制御部１８のＲＯＭに
は、ＰＳ版プロセッサー１６のドライバーソフト及び後
露光装置１７のドライバーソフトがインストールされて
おり、処理対象のＰＳ版の版種、版厚、及び版サイズな
どの各種設定情報は、ＰＳ版プロセッサー１６と後露光
装置１７に並列して出力される。

【００４６】すなわち、ＰＳ版プロセッサー１６のドラ
イバーソフトは、版種、版厚、及び版サイズなどの各種
設定情報を、ＰＳ版プロセッサー１６で解析できるフォ
ーマットに変換した後、ＰＳ版プロセッサー１６に出力
し、また、後露光装置１７のドライバーソフトは、版
種、版厚、及び版サイズなどの各種設定情報を、後露光
装置１７で解析できるフォーマットに変換した後、後露
光装置１７に出力する。なお、後露光装置１７について
は後述する。

【００４７】ＰＳ版プロセッサー１６は、大別して、加
熱部、第１水洗部、現像部、第２水洗部、フィニッシャ
ー部、乾燥部及びプロセッサー制御部３０から構成さ
れ、複数対の搬送ローラから構成された搬送機構によ
り、ＰＳ版が加熱部から第１水洗部、現像部、第２水洗
部、フィニッシャー部及び乾燥部の順に搬送され、ＰＳ
版が各部を通過中に各部において処理される構成であ
る。

【００４８】すなわち、加熱部は、加熱制御を開始する
前に、プレートセッター１４からオンライン入力された
各種設定情報に基いて加熱条件を決定し、処理対象のＰ
Ｓ版に適した加熱条件で現像処理前にＰＳ版を加熱する
ことによって、熱処理不足や熱処理オーバー等の不都合
なく、ＰＳ版の光重合性感光層における画像形成領域
(すなわち、露光領域)の硬化を促進させる。

【００４９】加熱部において加熱処理されたＰＳ版は第
１水洗部に搬送され、第１水洗部を通過中に水洗及びブ
ラッシング等により最上層のオーバーコート層が取り除
かれる。その後、現像部に送り出され、現像部を通過中
に現像処理されて非露光領域の不要な感光層が取り除か
れる。

【００５０】さらに、現像処理されたＰＳ版は第２水洗
部に導かれ、第２水洗部においてＰＳ版表面に付着する
現像液が除去された後、フィニッシャー部においてガム
液が塗布されてから、乾燥部で乾燥処理される。なお、
その他のＰＳ版プロセッサー１６の処理については、公
知であるため、ここでは詳細な説明は省略する。

【００５１】ここで、本発明において好適な現像液につ
いて以下に説明する。

【００５２】（アルカリ剤）現像工程で使用する現像液
および現像補充液は、ｐＨ９.０〜１３．５、より好ま
しくは１０.０〜１３.３のアルカリ水溶液が好適であ
る。

【００５３】かかる現像液および現像補充液としては従
来より知られているアルカリ水溶液が使用できる。例え
ば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第３リン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、第二リン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、重炭酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同
カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カ
リウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウ
ム、同カリウムおよび同リチウムなどの無機アルカリ剤
が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジ
イソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブ
チルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチ
レンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いら
れる。

【００５４】これらのアルカリ剤の中で好ましいのはケ
イ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のケイ酸塩水溶液で
ある。その理由はケイ酸塩の成分である酸化ケイ素Ｓｉ
Ｏ₂とアルカリ金属酸化物Ｍ₂Ｏの比率（一般に［ＳｉＯ
₂］／［Ｍ₂Ｏ］のモル比で表す）と濃度によってｐＨや
現像性の調節が可能とされるためである。例えば、Ｓｉ
Ｏ₂／ Ｋ₂Ｏのモル比が０.５〜２．０（即ち［Ｓｉ
Ｏ₂］／［Ｋ₂Ｏ］が０．５〜２．０）であって、ＳｉＯ
₂の含有量が１〜４重量％のケイ酸カリウムの水溶液か
らなるアルカリ金属ケイ酸塩が本発明に好適に用いられ
る 更に他の好ましいアルカリ剤としては弱酸と強塩基から
なる緩衝液が挙げられる。かかる緩衝液として用いられ
る弱酸としては、酸解離定数（ｐＫa）１０.０〜１３.
３を有するものが好ましく、特にｐＫaが１１.０〜１
３.１のものが好ましい。また、例えばスルホサリチル
酸の場合、第３解離定数は１１.７であり、本発明に好
適に使用できる。即ち、多塩基酸の場合、少なくとも１
つの酸解離定数が上記範囲内にあれば本発明に使用でき
る。

【００５５】このような弱酸としては、Ｐｅｒｇａｍｏ
ｎ Ｐｒｅｓｓ社発行のＩＯＮＩＳＡＴＩＯＮ ＣＯＮ
ＳＴＡＮＴＳ ＯＦ ＯＲＧＡＮＩＣ ＡＣＩＤＳ Ｉ
ＮＡＱＵＥＯＵＳ ＳＯＬＵＴＩＯＮなどに記載されて
いるものから選ばれ、例えば２，２，３，３，−テトラ
フルオロプロパノール−１（ｐＫa １２.７４）、トリ
フルオロエタノール（同１２.３７）、トリクロロエタ
ノール（同１２.２４）などのアルコール類、ピリジン
−２−アルデヒド（同１２.６８）、ピリジン−４−ア
ルデヒド（同１２.０５）などのアルデヒド類、ソルビ
トール（同１３.０）、サッカロース（同１２.７）、２
−デオキシリボース（同１２.６１）、２−デオキシグ
ルコース（同１２.５１）、グルコース（同１２.４
６）、ガラクトース（同１２.３５）、アラビノース
（同１２.３４）、キシロース（同１２.２９）、フラク
トース（同１２.２７）、リボース（同１２.２２）、マ
ンノース（同１２.０８）、Ｌ−アスコルビン酸（同１
１.３４）などの糖類、サリチル酸（同１３.０）、３−
ヒドロキシ−２−ナフトエ酸（同１２.８４）、カテコ
ール（同１２.６）、没食子酸（同１２.４）、スルホサ
リチル酸（同１１.７）、３,４−ジヒドロキシベンゼン
スルホン酸（同１２.２）、３，４−ジヒドロキシ安息
香酸（同１１.９４）、１，２，４−トリヒドロキシベ
ンゼン（同１１.８２）、ハイドロキノン（同１１.５
６）、ピロガロール（同１１.３４）およびレゾルシノ
ール（同１１.２７）などのフェノール性水酸基を有す
る化合物、２−ブタノンオキシム（同１２.４５）、ア
セトキシム（同１２.４２）、１，２−シクロヘプタン
ジオンヂオキシム（同１２.３）、２−ヒドロキシベン
ズアルデヒドオキシム（同１２.１０）、ジメチルグリ
オキシム（同１１.９）、エタンジアミドジオキシム
（同１１.３７）、アセトフェノンオキシム（同１１.３
５）などのオキシム類、２−キノロン（同１１.７
６）、２−ピリドン（同１１.６５）、４−キノロン
（同１１.２８）、４−ピリドン（同１１.１２）、５−
アミノ吉草酸（同１０.７７）、２−メルカプトキノリ
ン（同１０.２５）、３−アミノプロピオン酸（同１０.
２４）などのアミノ酸類、フルオロウラシル（同１３.
０）、グアノシン（同１２.６）、ウリジン（同１２.
６）、アデノシン（同１２.５６）、イノシン（同１２.
５）、グアニン（同１２.３）、シティジン（同１２.
２）、シトシン（同１２.２）、ヒポキサンチン（同１
２.１）、キサンチン（同１１.９）などの核酸関連物
質、他に、ジエチルアミノメチルホスホン酸（同１２.
３２）、１−アミノ−３，３，３−トリフルオロ安息香
酸（同１２.２９）、イソプロピリデンジホスホン酸
（同１２.１０）、１，１，−エチリデンジホスホン酸
（同１１.５４）、１，１−エチリデンジホスホン酸１
−ヒドロキシ（同１１.５２）、ベンズイミダゾール
（同１２.８６）、チオベンズアミド（同１２.８）、ピ
コリンチオアミド（同１２.５５）、バルビツル酸（同
１２.５）などの弱酸が挙げられる。

【００５６】これらの弱酸に組み合わせる強塩基として
は、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウムお
よび同リチウムが用いられる。

【００５７】これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以
上を組み合わせて用いられる。

【００５８】これらのアルカリ緩衝剤の中で好ましいの
は、スルホサリチル酸、サリチル酸、サッカロースおよ
びソルビトールと水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウ
ムとを組み合わせたものである。中でも好ましい組み合
わせはソルビトールと水酸化カリウムまたは水酸化ナト
リウムである。

【００５９】上記の各種アルカリ剤は濃度および組み合
わせによりｐＨを好ましい範囲内に調整して使用され
る。

【００６０】（界面活性剤)本発明に好適な現像液およ
び補充液には、現像性の促進や現像カスの分散および印
刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて種
々界面活性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活
性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系お
よび両性界面活性剤が挙げられる。

【００６１】界面活性剤の好ましい例としては、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
スチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
オキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪
酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、
ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレ
ングリコールモノ脂肪酸エステル類、しょ糖脂肪酸部分
エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分
エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部
分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル
類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシ
エチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン
脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、
Ｎ，Ｎ−ビス−２−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリ
オキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン
脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシドなどの非
イオン性界面活性剤、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、
ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン
酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖ア
ルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼ
ンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩
類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルス
ルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェ
ニルエーテル塩類、Ｎ−メチル−Ｎ−オレイルタウリン
ナトリウム塩、Ｎ−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二
ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂
肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫
酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル
硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル
塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫
酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニル
エーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩
類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステ
ル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル
リン酸エステル塩類、スチレン／無水マレイン酸共重合
物の部分鹸化物類、オレフィン／無水マレイン酸共重合
物の部分鹸化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン
縮合物類などのアニオン界面活性剤、アルキルアミン塩
類、テトラブチルアンモニウムブロミド等の第四級アン
モニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩
類、ポリエチレンポリアミン誘導体などのカチオン性界
面活性剤、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸
類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミダ
ゾリン類などの両性界面活性剤が挙げられる。以上挙げ
た界面活性剤の中でポリオキシエチレンとあるものは、
ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキ
シブチレンなどのポリオキシアルキレンに読み替えるこ
ともでき、それらの界面活性剤もまた包含される。

【００６２】更に好ましい界面活性剤は分子内にパーフ
ルオロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤であ
る。かかるフッ素系界面活性剤としては、パーフルオロ
アルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン
酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニ
オン型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性型、
パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などの
カチオン型およびパーフルオロアルキルアミンオキサイ
ド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パ
ーフルオロアルキル基および親水性基含有オリゴマー、
パーフルオロアルキル基および親油性基含有オリゴマ
ー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基
含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性
基含有ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。

【００６３】上記の界面活性剤は、単独もしくは２種以
上を組み合わせて使用することができ、現像液中に０．
００１〜１０重量％、より好ましくは０．０１〜５重量
％の範囲で添加される。

【００６４】（現像安定化剤）本発明に好適な現像液お
よび補充液には、種々現像安定化剤が用いられる。それ
らの好ましい例として、特開平６−２８２０７９号公報
記載の糖アルコールのポリエチレングリコール付加物、
テトラブチルアンモニウムヒドロキシドなどのテトラア
ルキルアンモニウム塩、テトラブチルホスホニウムブロ
マイドなどのホスホニウム塩およびジフェニルヨードニ
ウムクロライドなどのヨードニウム塩が好ましい例とし
て挙げられる。

【００６５】更には、特開昭５０−５１３２４号公報記
載のアニオン界面活性剤または両性界面活性剤、また特
開昭５５−９５９４６号公報記載の水溶性カチオニック
ポリマー、特開昭５６−１４２５２８号公報に記載され
ている水溶性の両性高分子電解質がある。

【００６６】更に、特開昭５９−８４２４１号公報のア
ルキレングリコールが付加された有機ホウ素化合物、特
開昭６０−１１１２４６号公報記載のポリオキシエチレ
ン・ポリオキシプロピレンブロック重合型の水溶性界面
活性剤、特開昭６０−１２９７５０号公報のポリオキシ
エチレン・ポリオキシプロピレンを置換したアルキレン
ジアミン化合物、特開昭６１−２１５５５４号公報記載
の重量平均分子量３００以上のポリエチレングリコー
ル、特開昭６３−１７５８５８号公報のカチオン性基を
有する含フッ素界面活性剤、特開平２−３９１５７号公
報の酸またはアルコールに４モル以上のエチレンオキシ
ドを付加して得られる水溶性エチレンオキシド付加化合
物と、水溶性ポリアルキレン化合物などが挙げられる。

【００６７】（有機溶剤）現像液および現像補充液には
更に必要により有機溶剤が加えられる。かかる有機溶剤
としては、水に対する溶解度が約１０重量％以下のもの
が適しており、好ましくは５重量％以下のものから選ば
れる。例えば、１−フェニルエタノール、２−フェニル
エタノール、３−フェニル−１−プロパノール、４−フ
ェニル−１−ブタノール、４−フェニル−２−ブタノー
ル、２−フェニル−１−ブタノール、２−フェノキシエ
タノール、２−ベンジルオキシエタノール、ｏ−メトキ
シベンジルアルコール、ｍ−メトキシベンジルアルコー
ル、ｐ−メトキシベンジルアルコール、ベンジルアルコ
ール、シクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノ
ール、３−メチルシクロヘキサノールおよび４−メチル
シクロヘキサノール、Ｎ−フェニルエタノールアミンお
よびＮ−フェニルジエタノールアミンなどを挙げること
ができる。有機溶剤の含有量は使用液の総重量に対して
０．１〜５重量％である。その使用量は界面活性剤の使
用量と密接な関係があり、有機溶剤の量が増すにつれ、
界面活性剤の量は増加させることが好ましい。これは界
面活性剤の量が少なく、有機溶剤の量を多く用いると有
機溶剤が完全に溶解せず、従って、良好な現像性の確保
が期待できなくなるからである。

【００６８】（還元剤）本発明に好適な現像液および補
充液には更に還元剤が加えられる。これは印刷版の汚れ
を防止するものであり、特に感光性ジアゾニウム塩化合
物を含むネガ型感光性平版印刷版を現像する際に有効で
ある。好ましい有機還元剤としては、チオサリチル酸、
ハイドロキノン、メトール、メトキシキノン、レゾルシ
ン、２−メチルレゾルシンなどのフェノール化合物、フ
ェニレンジアミン、フェニルヒドラジンなどのアミン化
合物が挙げられる。更に好ましい無機の還元剤として
は、亜硫酸、亜硫酸水素酸、亜リン酸、亜リン酸水素
酸、亜リン酸二水素酸、チオ硫酸および亜ジチオン酸な
どの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム
塩などを挙げることができる。これらの還元剤のうち汚
れ防止効果が特に優れているのは亜硫酸塩である。これ
らの還元剤は使用時の現像液に対して好ましくは、０．
０５〜５重量％の範囲で含有される。

【００６９】（有機カルボン酸）本発明に好適な現像液
および補充液には更に有機カルボン酸を加えることもで
きる。好ましい有機カルボン酸は炭素原子数６〜２０の
脂肪族カルボン酸および芳香族カルボン酸である。脂肪
族カルボン酸の具体的な例としては、カプロン酸、エナ
ンチル酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パ
ルミチン酸およびステアリン酸などがあり、特に好まし
いのは炭素数８〜１２のアルカン酸である。また炭素鎖
中に二重結合を有する不飽和脂肪酸でも、枝分かれした
炭素鎖のものでもよい。

【００７０】芳香族カルボン酸としてはベンゼン環、ナ
フタレン環、アントラセン環などにカルボキシル基が置
換された化合物で、具体的には、ｏ−クロロ安息香酸、
ｐ−クロロ安息香酸、ｏ−ヒドロキシ安息香酸、ｐ−ヒ
ドロキシ安息香酸、ｏ−アミノ安息香酸、ｐ−アミノ安
息香酸、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、２，５−ジヒ
ドロキシ安息香酸、２，６−ジヒドロキシ安息香酸、
２，３−ジヒドロキシ安息香酸、３，５−ジヒドロキシ
安息香酸、没食子酸、１−ヒドロキシ−２−ナフトエ
酸、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、２−ヒドロキシ
−１−ナフトエ酸、１−ナフトエ酸、２−ナフトエ酸な
どがあるがヒドロキシナフトエ酸は特に有効である。

【００７１】上記脂肪族および芳香族カルボン酸は水溶
性を高めるためにナトリウム塩やカリウム塩またはアン
モニウム塩として用いるのが好ましい。本発明で用いる
現像液の有機カルボン酸の含有量は格別な制限はない
が、０．１重量％より低いと効果が十分でなく、また１
０重量％以上ではそれ以上の効果の改善が計れないばか
りか、別の添加剤を併用する時に溶解を妨げることがあ
る。従って、好ましい添加量は使用時の現像液に対して
０．１〜１０重量％であり、よりこのましくは０．５〜
４重量％である。

【００７２】（その他）本発明に好適な現像液および補
充液には、更に必要に応じて、消泡剤および硬水軟化剤
などを含有させることもできる。硬水軟化剤としては例
えば、ポリリン酸およびそのナトリウム塩、カリウム塩
およびアンモニウム塩、エチレンジアミンテトラ酢酸、
ジエチレントリアミンペンタ酢酸、トリエチレンテトラ
ミンヘキサ酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミント
リ酢酸、ニトリロトリ酢酸、１，２−ジアミノシクロヘ
キサンテトラ酢酸および１，３−ジアミノ−２−プロパ
ノールテトラ酢酸などのアミノポリカルボン酸およびそ
れらのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム
塩、アミノトリ（メチレンホスホン酸）、エチレンジア
ミンテトラ（メチレンホスホン酸）、ジエチレントリア
ミンペンタ（メチレンホスホン酸）、トリエチレンテト
ラミンヘキサ（メチレンホスホン酸）、ヒドロキシエチ
ルエチレンジアミントリ（メチレンホスホン酸）および
１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸やそれら
のナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩を挙
げることができる。

【００７３】このような硬水軟化剤はそのキレート化力
と使用される硬水の硬度および硬水の量によって最適値
が変化するが、一般的な使用量を示せば、使用時の現像
液に０．０１〜５重量％、より好ましくは０．０１〜
０．５重量％の範囲である。この範囲より少ない添加量
では所期の目的が十分に達成されず、添加量がこの範囲
より多い場合は、色抜けなど、画像部への悪影響がでて
くる。

【００７４】現像液および補充液の残余の成分は水であ
るが、更に必要に応じて当業界で知られた種々の添加剤
を含有させることができる。

【００７５】また、現像液および補充液は使用時よりも
水の含有量を少なくした濃縮液としておき、使用時に水
で希釈するようにしておくことが運搬上有利である。こ
の場合の濃縮度は各成分が分離や析出を起こさない程度
が適当である。

【００７６】現像液温度は１５〜４０℃が好ましく、更
に好ましくは２０〜３５℃である。現像時間は５〜６０
秒が好ましく、更に好ましくは７〜４０秒である。

【００７７】このようにＰＳ版プロセッサー１６により
処理が施されたＰＳ版は、続いて、後露光装置１７に導
かれる。

【００７８】後露光装置１７は、大別して、後露光部
（後露光手段）３２、後露光制御部（制御手段）３４及
び搬送機構３６から構成され、複数対の搬送ローラから
構成された搬送機構３６により、処理後のＰＳ版が搬送
されている間に、ＰＳ版を紫外線と熱に晒すことによっ
て画像形成領域(すなわち、露光領域)の感光層にさらに
光重合反応を起こさせて、露光領域の硬化を促進させ
る。

【００７９】後露光部３２は、ヒータとして水銀ランプ
４０を備え、水銀ランプ４０により、処理済みのＰＳ版
に対して紫外線を照射すると同時に、紫外線の照射時に
発生した熱エネルギーにより処理済みのＰＳ版を加熱す
る。この水銀ランプ４０は、後露光装置１７内のＰＳ版
の搬送路の略中央位置に、光軸が搬送路に対して垂直と
なるように設けられている。また、水銀ランプ４０は、
拡散光を照射するため、等速度で搬送されるＰＳ版の全
面（搬送方向及び幅方向）に対して均等な量の熱及び紫
外線を付与することができる。

【００８０】なお、好適な水銀ランプ４０の仕様を、以
下に示す。

【００８１】 軸光度 ：１０００〜３３００（ｃｄ） ビームの開き ：１２０〜１４０（°） ビーム光束 ：３３００〜２６０００（ｌｍ） 全光束 ：４１００〜６４０００（ｌｍ） 相関色温度 ：３７００（Ｋ） 平均清色評価数 ：５８（Ｒａ） また、好適な水銀ランプ４０の外形寸法は、全長Ｌが３
１５ｍｍ、外径φが１８０ｍｍとされ、図２に示される
ような波長スペクトル分布となっている。

【００８２】この水銀ランプ４０は、照射範囲中央の光
軸付近が最も露光量（熱量）が多く、この光軸付近を中
心に輪状に拡がるように徐々に低下していく。そのた
め、図３に示すように、搬送路の中央部が最も露光量
（熱量）が多く、挿入側及び排出側にかけて徐々に小さ
くなる。なお、一般にヒータとして使用できる光源（又
は光熱源）は、照射範囲中央の光軸付近が最も露光量
（又は光熱量）が多く、この光軸付近を中心に輪状に拡
がるように徐々に低下していくので、ヒータとして使用
できる全ての光源（又は光熱源）についても同様の現象
が生じている。

【００８３】本実施の形態では、挿入口から所定長さま
での領域を予熱領域ＨＰ、搬送経路の中央部の領域を実
加熱領域ＨＭ、及び実加熱領域ＨＭから排出口までの領
域を除熱領域ＨＣとし、予熱領域ＨＰ及び除熱領域ＨＣ
のそれぞれが５０℃以上１００℃以下の温度範囲、か
つ、実加熱領域ＨＭが１００℃以上１８０℃以下の温度
範囲となるように、水銀ランプ４０の出力を制御する
る。

【００８４】これにより、後露光装置１７内の搬送経路
を通過するＰＳ版は、まず、予熱領域ＨＰにおいて予熱
され、実加熱領域ＨＭにおいて充分に加熱された後、除
熱領域ＨＣにおいて所熱されてから排出されることな
る。このような温度分布とすることにより、ＰＳ版の急
加熱及び急冷却を緩和することができ（ＰＳ版の反りの
防止）、かつ、搬送中に必要な紫外線を照射（本来の後
露光の目的であるフォトポリマー版の表面の硬質化）す
ることができるので、好ましい。

【００８５】また、後露光制御部３４は、ＲＡＭ、ＲＯ
Ｍ及びＣＰＵから構成され、プレートセッター１４から
入力された各種設定情報が入力される。

【００８６】ＲＡＭにはプレートセッター１４から入力
された各種設定情報が記憶される。ＲＯＭには、ＰＳ版
の版種、版厚、及び版サイズの組合せに応じてＰＳ版に
与える紫外線照射量(水銀ランプ４０の出力と照射時間
との積；すなわち、露光量）のテーブルが記憶されてい
る。なお、紫外線と同時に発生した熱もＰＳ版に与えら
れるがこの加熱量は紫外線照射量と相関関係があるた
め、紫外線照射量を決定することにより加熱量も決定さ
れる。そのため、ここでは、紫外線照射量Ｑを選択する
ことで、露光量及び加熱量を決定するものとする。紫外
線照射量のテーブルとしては、例えば、表１及び表２に
示すように、ショートランの場合（表１）とロングラン
の場合（表２）とで分け、厚みとサイズとの組合せに応
じて紫外線照射量Ｑを定めている。

【００８７】

【表１】

【００８８】

【表２】

【００８９】なお、表１及び表２において各紫外線照射
量Ｑの関係は、以下のようになっている。すなわち、表
１において、サイズが大きくなればなるほど必要な紫外
線照射量も多くなるため、Ｑ１＜Ｑ２＜Ｑ３、Ｑ４＜Ｑ
５＜Ｑ６、Ｑ７＜Ｑ８＜Ｑ９であり、また、厚みが厚く
なるほど必要な紫外線照射量も多くなるため、Ｑ１＜Ｑ
４＜Ｑ７、Ｑ２＜Ｑ５＜Ｑ８、Ｑ３＜Ｑ６＜Ｑ９であ
る。表２も同様の理由から、Ｑ１１＜Ｑ１２＜Ｑ１３、
Ｑ１４＜Ｑ１５＜Ｑ１６、Ｑ１７＜Ｑ１８＜Ｑ１９であ
り、また、Ｑ１１＜Ｑ１４＜Ｑ１７、Ｑ１２＜Ｑ１５＜
Ｑ１８、Ｑ１３＜Ｑ１６＜Ｑ１９である。

【００９０】さらに、ショートランよりもロングランの
方が必要な紫外線照射量も多くなるため、表１において
最も大きな紫外線照射量であるＱ９よりも表２において
最も小さな紫外線照射量であるＱ１１の方が大きいとい
う関係となっている。

【００９１】また、ＲＯＭには、ＲＡＭに記憶された前
記各種設定情報に基いて、例えば、上述したような紫外
線照射量のテーブルから、読み込んだ設定情報に最適な
紫外線照射量を選択し、該選択した紫外線照射量に基い
てヒータ(水銀ランプ)の駆動電圧を制御する制御信号Ｖ
ｃを生成する後露光プログラムが記憶されている。

【００９２】ここで、後露光プログラムにより後露光制
御部３４のＣＰＵで実行されるヒータの駆動電圧の制御
について図４のフローチャートを参照しながら説明す
る。ステップ１００では、まず、ＲＡＭに記憶された各
種設定情報を読み込む。

【００９３】次のステップ１０２では、ＲＡＭから読み
込んだ各種設定情報に基づき紫外線照射量のテーブルか
ら紫外線照射量を選択する。例えば、上述した紫外線照
射量のテーブルを用いる場合、版種がショートランで、
版サイズがＭサイズ、厚みがｄ２であれば、表１からＱ
５を選択する。

【００９４】次のステップ１０４では、選択された後露
光条件となるようにヒータ駆動回路（図示せず）に与え
る制御信号Ｖｃ及び搬送機構によるＰＳ版の搬送速度を
制御する搬送制御信号を生成し、本ルーチンを終了す
る。この制御信号Ｖｃにより後露光部３２のヒータ出力
及び搬送速度が調整された後露光条件となるように制御
されることとなる。

【００９５】なお、紫外線照射量のテーブルを記憶する
代わりに各種設定情報に応じて個別に決定される紫外線
照射量の変換特性のグラフを記憶し、読み込んだ各種設
定情報に対応する紫外線照射量の変換特性のグラフを読
出し、該グラフにより紫外線照射量を算出するように構
成することもできる。また、紫外線照射量の代わりに加
熱容量を指標として紫外線照射量及び加熱量を決定する
ことも可能である。

【００９６】このように後露光装置１７は、プレートセ
ッターで使用した厚み、サイズ及び版種等の版情報をオ
ンラインで取得し、該取得した版情報に基いて後露光処
理時の温度条件を決定し、該温度条件となるように後露
光制御部３４が後露光部３２の出力を制御している。そ
のため、後露光処理時の温度条件をＰＳ版の厚みやサイ
ズ、版種等に応じて常に適切に設定でき、操作ミス等に
より設定した温度条件が異なることによる損失が生じる
恐れがなく、処理効率も向上できる。

【００９７】また、ユーザが各種設定情報を入力する必
要がないため、操作ミス等による損失などの発生を回避
でき、また、つぎの後露光条件への切り換えが効率よく
行えるので、ＰＳ版プロセッサー１６による処理から後
露光装置１７による処理にわたっての処理効率も向上で
きる。

【００９８】なお、本実施の形態では、後露光装置１７
は、プレートセッター１４で使用した版情報に基いて後
露光条件を決定するように構成したが、ＰＳ版プロセッ
サー１６で使用した版情報に基いて後露光条件を決定す
るように構成したり、プレートセッター１４で使用した
版情報の１部又は全部及びＰＳ版プロセッサー１６で使
用した版情報１部又は全部の版情報に基いて後露光条件
を決定するように構成することもできる。

【００９９】なお、本実施の形態の製版システムに好適
なＰＳ版としては、光重合性の感光層と該感光層を保護
するオーバーコート層(保護層)を含むものであればよい
が、好ましくは、アルミニウム板に親水化処理を施した
支持体上に、付加重合可能なエチレン性二重結合を有す
る化合物と波長４５０ｎｍ以上の光で活性化する光重合
開始系と架橋性基を側鎖に有する重合体とを含有する光
重合性感光層を有するものを使用すると良い。

【０１００】以下、好適なＰＳ版について詳細に説明す
る。 〔アルミニウム支持体〕まず、ＰＳ版のアルミニウム支
持体は、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とする金
属であり、アルミニウムまたはアルミニウム合金からな
る。純アルミニウム板の他、アルミニウムを主成分と
し、微量の異元素を含む合金板、又はアルミニウム（合
金）がラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィ
ルム又は紙の中から選ばれる。更に、特公昭４８−１８
３２７号に記載されているようなポリエチレンテレフタ
レートフィルム上にアルミニウムシー卜が結合された複
合体シートでもかまわない。

【０１０１】以下の説明において、上記に挙げたアルミ
ニウムまたはアルミニウム合金からなる基板をアルミニ
ウム基板と総称して用いる。前記アルミニウム合金に含
まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネ
シウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンな
どがあり、合金中の異元素の含有量は１０重量％以下で
ある。本発明では純アルミニウム板が好適であるが、完
全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難である
ので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このよう
に本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特
定されるものではなく、従来より公知公用の素材のも
の、例えばＪＩＳ Ａ １０５０、ＪＩＳＡ １１０
０、ＪＩＳ Ａ ３１０３、ＪＩＳ Ａ ３００５など
を適宜利用することができる。

【０１０２】また、本発明に用いられるアルミニウム基
板の厚みは、およそ０．１ｍｍ〜０．６ｍｍ程度であ
る。この厚みは印刷機の大きさ、印刷版の大きさ及びユ
ーザーの希望により適宜変更することができる。

【０１０３】〔親水化処理〕上述したアルミニウム基板
には、後述する砂目立て等の処理が適宜施された後、基
板表面にシリケート、またはポリビエルホスホン酸等に
よる親水化処理が施される。皮膜はＳｉ、またはＰ元素
量として２〜４０ｍｇ／ｍ²、より好ましくは４〜３０
ｍｇ／ｍ²形成される。なお、塗布量は蛍光Ｘ線分析法
により測定できる。

【０１０４】上記の親水化処理は、アルカリ金属ケイ酸
塩、またはポリビニルホスホン酸が１〜３０重量％、好
ましくは２〜１５重量％であり、２５℃のｐＨが１０〜
１３である水溶液に、陽極酸化皮膜が形成されたアルミ
ニウム基板を、例えば１５〜８０℃で０．５〜１２０秒
浸漬する。

【０１０５】また、アルカリ金属ケイ酸塩としては、ケ
イ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムなど
が使用できる。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液のｐＨを高
くするために使用される水酸化物としては水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがある。

【０１０６】なお、上記の処理液にアルカリ土類金属塩
もしくは第ＩＶＢ族金属塩を配合してもよい。アルカリ
土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ストロレン
チウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのような硝酸
塩や、硫酸塩、塩酸塩、リン酸塩、酢酸塩、シュウ酸
塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。

【０１０７】第ＩＶＢ族金属塩として、四塩化チタン、
三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ酸チタン
カリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジル
コニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウ
ム、四塩化ジルコニウムなどを挙げることができる。

【０１０８】アルカリ土類金属塩もしくは、第ＩＶＢ族
金属塩は単独又は２以上組み合わせて使用することがで
きる。これらの金属塩の好ましい範囲は０．０１〜１０
重量％であり、更に好ましい範囲は０．０５〜５．０重
量％である。

【０１０９】また、米国特許第３，６５８，６６２号明
細書に記載されているようなシリケート電着も有効であ
る。更に、特公昭４６−２７４８１号、特開昭５２−５
８６０２号、特開昭５２−３０５０３号に開示されてい
るような電解グレインを施した支持体と、上記陽極酸化
処理および親水化処理を組合せた表面処理も有用であ
る。

【０１１０】〔親水性下塗り層〕このようにしてシリケ
ート処理されたアルミニウム基板上には必要に応じて下
記親水性下塗り層を設けることができる。

【０１１１】水溶性の樹脂、例えばポリビニルホスホン
酸、スルホン酸基を側鎖に有する重合体および共重合
体、ポリアクリル酸、水溶性金属塩（例えば硼酸亜鉛）
もしくは、黄色染料、アミン塩等を下塗りしたものも好
適である。

【０１１２】この有機（樹脂）下塗層に用いられる有機
化合物としては例えば、カルボキシメチルセルロース、
デキストリン、アラビアガム、２−アミノエチルホスホ
ン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有
してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、
アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジ
ホスホン酸およびエチレンジホスホン酸などの有機ホス
ホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチ
ルリン酸、アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの
有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン
酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およ
びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン殿、グリ
シンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、およびトリエタ
ノールアミンの塩酸塩などのとドロキンル基を有するア
ミンの塩酸塩などから選ばれるが、二種以上混合して用
いてもよい。

【０１１３】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことができる。即ち、水またはメタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれら
の混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアル
ミニウム基板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水また
はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの
有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物
を溶解させた溶液に、アルミニウム基板を浸漬して上記
有機化合物を吸着させ、しかる後、水などによって洗
浄、乾燥して有機下塗層を設ける方法である。前者の方
法では、上記の有機化合物の０．００５〜１０重量％の
濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコ
ーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布な
どいずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法で
は、溶液の濃度は０．０１〜２０重量％、好ましくは
０．０５〜５重量％であり、浸漬温度は２０〜９０℃、
好ましくは２５〜５０℃であり、浸債時間は０．１秒〜
２０分、好ましくは２秒〜１分である。

【０１１４】これに用いる溶液はアンモニア、トリエチ
ルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、
リン酸などの酸性物質によりｐＨを調節し、ｐＨ１〜１
２の範囲で使用することもできる。また、光重合性平版
印刷版の調子再現性改良のために、黄色染料を添加する
こともできる。

【０１１５】有機下塗層の乾燥後の被覆量は、２〜２０
０ｍｇ／ｍ²が適当であり、好ましくは５〜１００ｍｇ
／ｍ²である。上記の被覆量が２ｍｇ／ｍ²より少ないと
十分な耐刷性が得られない。また、２００ｍｇ／ｍ²よ
り大きくても同様である。

【０１１６】またアルミニウム支持体は、途中更にフッ
化ジルコニウム酸カリウム、リン酸塩等の水溶液への浸
漬処理などの表面処理がなされてもかまわない。

【０１１７】〔光重合性感光層〕本発明で用いられる光
重合性感光層の主な成分は、付加重合可能なエチレン性
二重結合を含む化合物、光重合開始剤、有機高分子結合
剤等であり、必要に応じ、着色剤、可塑剤、熱重合禁止
剤等の種々の化合物が添加される。

【０１１８】付加重合可能な二重結合を含む化合物は、
末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましく
は２個以上有する化合物の中から任意に選択することが
できる。

【０１１９】例えばモノマー、プレポリマー、すなわち
２量体、３量体およびオリゴマー、またはそれらの混合
物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつも
のである。

【０１２０】モノマーおよびその共重合体の例として
は、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリ
ル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレ
イン酸など）と脂肪族多価アルコール化合物とのエステ
ル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのア
ミド等が挙げられる。

【０１２１】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソル
ビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリ
レート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトー
ルヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチ
ル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリ
ゴマー等がある。

【０１２２】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペシタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレー
ト、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールナ
トラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリルオキ
シ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメ
タン、ビス〔ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フェニ
ル〕ジメチルメタン等がある。

【０１２３】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、
１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。

【０１２４】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。

【０１２５】イソクロトン酸エステルとしては、エチレ
ングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトー
ルジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロト
ネート等がある。

【０１２６】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。

【０１２７】さらに、前述のエステルモノマーの混合物
も挙げることができる。

【０１２８】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。

【０１２９】その他の例としては、特公昭４８−４１７
０８号公報中に記載されている１分子中に２個以上のイ
ソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、
下記の一般式（Ａ）で示される水酸基を含有するビニル
モノマーを付加せしめた１分子中に２個以上の重合性ビ
ニル基を含有するビエルウレタン化合物等が挙げられ
る。

【０１３０】 ＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ⁵）ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｒ⁶）ＯＨ……（Ａ） （ただし、Ｒ⁵およびＲ⁶はＨまたはＣＨ₃を示す。）

【０１３１】また、特開昭５１−３７１９３号に記載さ
れているようなウレタンアクリレート類、特開昭４８−
６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２
−３０４９０号各公報に記載されているようなポリエス
テルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル
酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のア
クリレートやメタクリレートを挙げることができる。さ
らに日本接着協会誌ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜
３０８ページ（１９８４年）に光硬化性モノマーおよび
オリゴマーとして紹介されているものも使用することが
できる。なお、これらの使用量は、全成分に対して５〜
７０重量％（以下％と略称する。）、好ましくは１０〜
５０％である。

【０１３２】光重合開始剤としては、使用する光源の波
長により、特許、文献等で公知である種々の光開始剤、
あるいは２種以上の光開始剤の併用系（光開始系）を適
宜選択して使用することができる。

【０１３３】４５０ｎｍ以上の可視光線、Ａｒレーザ
ー、半導体レーザーの第２高調波、ＳＨＧ−ＹＡＧレー
ザーを光源とする場合にも、種々の光開始系が提案され
ており、例えば米国特許第２，８５０，４４５号に記載
のある種の光還元性染料、例えばローズベンガル、エオ
シン、エリスロシンなど、あるいは、染料と開始剤との
組み合わせによる系、例えば染料とアミンの複合開始系
（特公昭４４−２０１８９号）、ヘキサアリールビイミ
ダゾールとラジカル発生剤と染料との併用系（特公昭４
５−３７３７７号）、ヘキサアリールビイミダゾールと
ｐ−ジアルキルアミノベンジリデンケトンの系（特公昭
４７−２５２８号、特開昭５４−１５５２９２号）、環
状シス−α−ジカルボニル化合物と染料の系（特開昭４
８−８４１８３号）、環状トリアジンとメロシアニン色
素の系（特開昭５４−１５１０２４号）、３−ケトクマ
リンと活性剤の系（時開昭５２−１１２６８１号、特開
昭５８−１５５０３号）、ビイミダゾール、スチレン誘
導体、チオールの系（特開昭５９−１４０２０３号）、

【０１３４】有機過酸化物と色素の系（特開昭５９−１
５０４号、特開昭５９−１４０２０３号、特開昭５９−
１８９３４０号、特開昭６２−１７４２０３号、特公昭
６２−１６４１号、米国特許第４７６６０５５号）、染
料と活性ハロゲン化合物の系（特開昭６３−１７１８１
０５号、特開昭６３−２５８９０３号、特願平２−６３
０５４号など）、染料とボレート化合物の系（特開昭６
２−１４３０４４号、特開昭６２−１５０２４２号、特
開昭６４−１３１４０号、特開昭６４−１３１４１号、
特開昭６４−１３１４２号、特開昭６４−１３１４３
号、特開昭６４−１３１４４号、特開昭６４−１７０４
８号、特開平１−２２９００３号、特開平１−２９８３
４８号、特開平１−１３８２０４号など）、ローダニン
環を有する色素とラジカル発生剤の系（特開平２−１７
９６４３号、特開平２−２４４０５０号）、チタノセン
と３−ケトクマリン色素の系（特開昭６３−２２１１１
０号）、チタノセンとキサンテン色素さらにアミノ基あ
るいはウレタン基を含む付加重合可能なエチレン性不飽
和化合物を組み合わせた系（特開平４−２２１９５８
号、特開平４−２１９７５６号）、チタノセンと特定の
メロシアニン色素の系（特開平６−２９５０６１号）、
チタノセンとベンゾピラン環を有する色素の系（特願平
７−１６４５８３）等を挙げることができる。

【０１３５】本発明において光重合性開始系として用い
られるチタノセン化合物は、前記した増感色素との共存
下で光照射した場合、活性ラジカルを発生し得るチタノ
セン化合物であればいずれであってもよく、例えば、特
開昭５９−１５２３９６号、特開昭６１−１５１１９７
号公報に記載されている公知の化合物を適宜に選択して
用いることができる。

【０１３６】さらに具体的には、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ｔｉ−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニ
ル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル
−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフ
ェニ−１−イル（以下「Ａ−１」ともいう。）、ジ−シ
クロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テ
トラフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−
１−イル、ジ−シクロペンタジフェニル−Ｔｉ−ビス−
２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペン
タジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニ−
１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビ
ス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−
イル（以下「Ａ−２」ともいう。）、ジ−メチルシクロ
ペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラ
フルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジ
エニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニ−１−
イル、ビス（シクロペンタジエエル）−ビス（２，６−
ジフルオロ−３−（ピリ−１−イル）フェニル）チタニ
ウム（以下「Ａ−３」ともいう。）等を挙げることがで
きる。

【０１３７】光重合性組成物に用いられるチタノセン化
合物は単独でまたは２種以上併用して用いることができ
る。

【０１３８】これらの光重合開始剤の使用量は、エチレ
ン性不飽和化合物１００重量部に対し、０．０５〜１０
０重量部、好ましくは０．１〜７０重量部、更に好まし
くは０．２〜５０重量部の範囲で用いることができる。

【０１３９】光重合性組成物は、通常、バインダーとし
て有機高分子重合体を含有するが、本発明では架橋性基
を側鎖に有する重合体を用いる。このような有機高分子
重合体（以下、単にポリマーともいう）としては、それ
自身が架橋性基（不飽和基ともいう）およびカルボキシ
ル基を側鎖に有し、且つ架橋性基が下記一般式〔Ｉ〕

【０１４０】

【化１】

【０１４１】〔式中Ｒ₁〜Ｒ₅は水素、ハロゲノ、カルボ
キシル、スルホ、ニトロ、シアノ、アミド、アミノやそ
れぞれ置換基を有していてもよいアルキル、アリール、
アルコキン、アリーロキン、アルキルアミノ、アリール
アミノ、環状アルキル、アルキルスルホニル、アリール
スルホニルから選ばれた基であり、Ｚは酸素、硫黄、Ｎ
ＨまたはＮＲ（Ｒはアルキル基）から選ばれる〕で表わ
されるところに特徴がある。

【０１４２】更に、光重合性感光層のバインダーとして
用いられる、架橋性基を側鎖に有するポリマーは、米国
特許第３，３７６，１３８号、第３，５５６，７９２
号、第３，５５６，７９３号各明細書により公知である
が、開示されているポリマーは、ポリマーそのものが、
光架橋性レジストとして使われており、本実施の形態で
述べる光重合性組成物のバインターとしての使用方法と
は明白な相異がある。

【０１４３】上記ポリマーの合成方法には、大別して次
の２つの方法がある。

【０１４４】（Ａ法）：カルボン酸、カルボン酸ハライ
ド、カルボン酸無水物基を側鎖として有する幹ポリマー
に対して、後記一般式〔Ｉ−ａ〕で示される化合物を高
分子反応させて、

【０１４５】

【化２】

【０１４６】（式中、Ｒ₁〜Ｒ₅は一般式〔Ｉ〕：の場合
と同義）で示される架橋性基を−ＣＯＯ−、−ＣＯＳ
−、−ＣＯＮＨ−または−ＣＯＮＲ−の各連結基を介し
て導入する方法。

【０１４７】（Ｂ法）：前記一般式〔Ｉ〕で示される架
橋性基とさらに該架橋性基よりも付加重合反応性に富ん
だエチレン性不飽和基とを有するモノマーを不飽和カル
ボン酸と共重合させて、ポリマーを得る方法。

【０１４８】

【化３】

【０１４９】〔式中、Ｒ₁〜Ｒ₅は一般式〔Ｉ〕の場合と
同義であり、ＹはＯＨ、−ＳＨ、−ＮＨ₂、−ＮＨＲ
（Ｒはアルキル基）またはハロゲン原子を示す。〕 上記一般式〔Ｉ−ａ〕におけＲ₁〜Ｒ₅のアルキル基は、
直鎖、分枝、または環状であってもよく、炭素数１〜７
のものが好ましく、これらのアルキル基には更に炭素数
１〜２のアルコキシ基、炭素数１〜３のアルコキシカル
ボニル基、フェニル基、ヒドロキシ基などの置換基を有
していてもよく、Ｒ₁〜Ｒ₅のアリール基としてはフェニ
ル基、フリル基が好ましく、これにはハロゲノ基（例え
ばクロロ、ブロモなど）、ヒドロキシ基、炭素数１〜７
のアルキル基、アリール基（例えばフェニル、メトキン
フェニルなど）、炭素数１〜７個のアルコキシ基、ニト
ロ基、アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基などの置
換基を有していてもよい。Ｒ₁〜Ｒ₅のアルコキシ基とし
ては炭素数１〜７のものが好ましく、アリールオキシ基
としてはフェニルオキン基が好ましく、これには炭素数
１〜７のアルキルもしくはアルコキシ基などの置換基を
有していてもよい。Ｒ₁〜Ｒ₅のアルキルアミノ基として
は、炭素故１〜１５のものが好ましく、アリールアミノ
基としてはフェニルアミノ基、ナフチルアミノ基が好ま
しい。Ｒ₁〜Ｒ₅のアルキルスルホニル基としては炭素数
１〜１５のものが好ましく、アリールスルホニル基とし
てはフェニルスルホニル基などが好ましく、これには炭
素数１〜１５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ
基、アミノ基などの置換基を有していてもよい。

【０１５０】上記Ａ法をさらに詳しく示すと、幹ポリマ
ーとしてはアクリル酸又はメタアクリル酸の共重合体お
よび当該共重合体を高分子反応により酸ハロゲン化物と
した共重合体があげられる。又、マレイン酸無水物、イ
タコン酸無水物等の共重合体があげられる。共重合する
コモノマーとしては、スチレンまたはそのアルキル置換
誘導体、アクリル酸アルキルエステル、アクリル酸アリ
ールエステル、メタクリル酸アルキルエステル、メタク
リル酸アリールエステル、または脂肪族ビニルエステル
があげられる。好ましくはアクリル酸またはメタアクリ
ル酸とアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸ブチル、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸メチル、
メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル
酸ベンジルとの共重合体があげられる。これらの共重合
体に架橋性基を導入するには一般式〔Ｉ−ａ〕で示され
る架橋性アルコール、アミン、チオール、ハロゲン化物
を所定反応条件下、反応溶媒中に前述の共重合体と混合
溶解し、反応触媒および重合禁止剤とを加え加熱するこ
とによって得られる。具体的にはメタクリル酸とメタク
リル酸ベンジルの共重合体を例にとって以下に示す。

【０１５１】攪拌棒および攪拌羽根、還流冷却器および
温度計を備えつけた３００ｍｌの三つ口フラスコ中にポ
リ（メタクリル酸／メタクリル酸ベンジル＝２７／７３
モル比）１９．８ｇ、反応溶媒として酢酸エチレングリ
コールモノメチルエーテルを４０．２ｇ、架橋性基を含
有する試薬としてアリル臭素化物６．０ｇ、触媒として
トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド１０．４
ｇおよび重合禁止剤としてパラメトキシフェノール０．
０１ｇを加え混合溶解し、窒素雰囲気下７０℃にて１３
時間加熱攪拌を行った。冷却後メチルエチルケトンを加
え遊離する四級塩を除去する。さらにメタノールを加え
て希釈し希塩酸中に注いで沈殿させる。水洗し後吸引濾
過をし、真空乾燥させると得られるポリマーの収量は１
３．６ｇであった。アリル基は幹ポリマーのカルボン酸
に対して３５％導入された。

【０１５２】

【化４】

【０１５３】無水マレイン酸の共重合体に該架橋性基を
導入する合成例は米国特許第２，０４７，３９８号明細
書に記載された方法で行なうことができ、これにより無
水マレイン酸部が開環した不飽和エステル、アミド、チ
オエステル等が導入される。なお、無水マレイン酸共重
体への架橋性基の導入方法としては、特開昭４８−８２
９０２号公報に記載の類似例があげられるが、この方法
による架橋性基はマレイン酸イミドの窒素原子に結合し
ており、明白に前述のポリマーとは異なった化合物であ
り、本発明に使用される架橋性基を側鎖に有するポリマ
ーとは区別される。

【０１５４】一方、Ｂ法をさらに詳しく示すと、該架橋
性基を有する少なくとも２つ以上の炭素−炭素二重結合
を含むモノマーは、既知合成法により該架橋性基を有す
るアルコール、アミン、チオールと不飽和カルボン酸、
好ましくはアクリル酸またはメタクリル酸との縮合反応
により合成される。この少なくとも２つ以上の不飽和基
を含むモノマーを不飽和カルボン酸、好ましくはアクリ
ル酸またはメタクリル酸と共重合させることにより該架
橋性基を有する共重合体を得る。共重合するモノマー
は、不飽和カルボン酸に付け加えてさらに他のモノマー
が共重合されてもよく、例えばアクリル酸アルキル、メ
タクリル酸アルキル、メタクリル酸ベンジル、メタクリ
ル酸−２−ヒドロキンエチル、アクリロニトリル等が挙
げられる。

【０１５５】以下、メタクリル酸アリルとメタクリル酸
との共重合例を示す。類似の合成法として、米国特許第
２，０４７，３９８号明細書に記載の方法があげられ
る。

【０１５６】攪拌棒および攪拌羽根、還流冷却器、滴下
漏斗および温度計を設置した３リットルの４口フラスコ
に反応溶媒として１，２−ジクロルエタン１．６８リッ
トルを入れ窒素置換しながら７０℃に加熱した。滴下漏
斗にメタクリル酸アリル１００．８ｇ、メタクリル酸
７．６ｇおよび重合開始剤として２，２’−アゾビス
（２，４−ジメチルバレロニトリル）１．６８ｇを０．
４４リットルの１，２−ジクロルエタンに溶解して入れ
ておき、２時間かけてこの混合溶液をフラスコ中に撹拌
しながら滴下した。

【０１５７】滴下終了後さらに反応温度７０℃で５時間
攪拌し反応を完結した。加熱終了後重合禁止剤としてパ
ラメトキンフェノール０．０４ｇを加え反応溶液を５０
０ｍｌまで濃縮し、この濃縮液を４リットルのヘキサン
に加えて沈殿させ、真空乾燥後６１ｇ（収率５６％）の
共重合ポリマーを得た。このとき粘度は８０℃のメチル
エチルケトンで〔η〕＝０．０６８であった。

【０１５８】前記一般式〔Ｉ−ａ〕で示される代表的な
化合物は、アリルアルコール、２−メチルアリルアルコ
ール、クロチルアルコール、３−クロル−２−プロペン
−１−オール、３−フェニル−２−プロペン−１−オー
ル、３−（ヒドロキンフェニル）−２−プロペン−１−
オール、３−（２−ヒドロキシフェニル）−２−プロペ
ン−１−オール、３−（３・４−ジヒドロキシフェニ
ル）−２−プロペン−１−オール、３−（２・４−ジヒ
ドロキシフェニル−２−プロペン−１−オール、３−
（３・４・５−トリヒドロキンフェニル）−２−プロペ
ン−１−オール、３−（３−メトキシ−４−ヒドロキン
フェニル）−２−プロペン−１−オール、３−（３・４
−ジヒドロキシ−５−メトキシフェニル）−２−プロペ
ン−１−オール、３−（３・５−ジメトキシ−４−ヒド
ロキシフェニル）−２−プロペン−１−オール、３−
（２−ヒドロキシ−４−メチルフェニル）−２−プロペ
ン−１−オール、３−（４−メトキシフェニル）−２−
プロペン−１−オール、３−（４―エトキンフェニル）
−２−プロペン−１−オール、３−（２−メトキシフェ
ニル）−２−プロペン−１−オール、３−（３・４−ジ
メトキシフェニル）−２−プロペン−１−オール、３−
（３−メトキシ−４−プロポキシフェニル）−２−プロ
ペン−１−オール、

【０１５９】３−（２・４・６−トリメトキシフェニ
ル）−２−プロペン−１−オール、３−（３−メトキシ
−４−ベンジルオキシフェニル）−２−プロペン−１−
オール、３−１−（３’−メトキンフェニル）−４−ベ
ンジルオキシフェニル）−２−プロペン−１−オール、
３−フェノキシ−３−フェニル−２−プロペン−１−オ
ール、３−（３・４・５−トリメトキシフェニル）−２
−プロペン−１−オール、３−（４−メチルフェニル）
−２−プロペン−１−オール、３−フェニル−３−（２
・４・６−トリメチルフェニル）−２−プロペン−１−
オール、３・３−｛ジ−（２・４・６−トリメチルフェ
ニル）｝−２−プロペン−１−オール、３−フェニル−
３−（４−メチルフェニル）−２−プロペン−１−オー
ル、３・３−ジフェニル−２−プロペン−１−オール、
３−（２−クロルフェニル）−２−プロペン−１−オー
ル、３−（３−クロルフェニル）−２−プロペン−１−
オール、３−（４−クロルフェニル）−２−プロペン−
１−オール、３−（２・４−ジクロルフェニル）−２−
プロペン−１−オール、３−（２−ブロムフェニル）−
２−プロペン−１−オール、３−ブロム−３−フェニル
−２−プロペン−１−オール、３−クロル−３−フェニ
ル−２−プロペン−１−オール、３−（４−ニトロフェ
ニル）−２−プロペン−１−オール、

【０１６０】３−（２−ニトロフェニル）−２−プロペ
ン−１−オール、３−（３−ニトロフェニル）−２−プ
ロペン−１−オール、２−メチル−３−フェニル−２−
プロペン−１−オール、２−メチル−３−（４−クロル
フェニル）−２−プロペン−１−オール、２−メチル−
３−（４−ニトロフェニル）−２−プロペン−１−オー
ル、２−メチル−３−（４−アミノフェニル）−２−プ
ロペン−１−オール、２−メチル−３・３−ジフェニル
−２−プロペン−１−オール、２−エチル−１・３−ジ
フェニル−２−プロペン−１−オール、２−エトキシメ
チレン−３−フェニル−２−プロペン−１−オール、２
−フェノキシ−３−フェニル−２−プロペン−１−オー
ル、２−メチル−３−（４−メトキシフェニル）−２−
プロペン−１−オール、２・３−ジフェニル−２−プロ
ペン−１−オール、１・２・３−トリフェニル−２−プ
ロペン−１−オール、２・３・３−トリフェニル−２−
プロペン−１−オール、２−エトキシ−３−フェニル−
２−プロペン−１−オール、１．３−ジフェニル−２−
プロペン−１−オール、１−（４−メチルフェニル）−
３−フェニル−２−プロペン−１−オール、１−フェニ
ル−３−（４−メチルフェニル）−２−プロペン−１−
オール、１−フェニル−３−（４−メトキシフェニル）
−２−プロペン−１−オール、１−（４−メトキシフェ
ニル）−３−フェニル−２−プロペン−１−オール、

【０１６１】１・３−ジ（４−クロルフェニル）−２−
プロペン−１−オール、１−（４−ブロムフェニル）−
３−フェニル−２−プロペン−１−オール、１−フェニ
ル−３−（４−ニトロフェニル）−２−プロペン−１−
オール、１・３−ジ（２−ニトロフェニル）−２−プロ
ペン−１−オール、１−（４−ジメチルアミノフェニ
ル）−３−フェニル−２−プロペン−１−オール、１−
フェニル−３−（４−ジメチルアミノフェニル）−２−
プロペン−１−オール、１・１−ジ（４−ジメチルアミ
ノフェニル）−３−フェニル−２−プロペン−１−オー
ル、１・１・３−トリフェニル−２−プロペン−１−オ
ール、１・１・３・３−テトラフェニル−２−プロペン
−１−オール、１−（４−メチルフェニル）−３−フェ
ニル−２−プロペン−１−オール、１−（ドデシルスル
ホニル）−３−フェニル−２−プロペン−１−オール、
１−フェニル−２−プロペン−１−オール、１・２−ジ
フェニル−２−プロペン−１−オール、１−フェニル−
２−メチル−２−プロペン−１−オール、１−シクロヘ
キシル−２−プロペン−１−オール、１−フェノキシ−
２−プロペン−１−オール、２−ベンジル−２−プロペ
ン−１−オール、１・１−ジ（４−クロルフェニル）−
２−プロペン−１−オール、１−カルボキシ−２−プロ
ペン−１−オール、

【０１６２】１−カルボキシアミド−２−プロペン−１
−オール、１−シアノ−２−プロペン−１−オール、１
−スルホ−２−プロペン−１−オール、２−エトキシ−
２−プロペン−１−オール、２−アミノ−２−プロペン
−１−オール、３−（３−アミノ−４−メトキシフェニ
ルスルホニル）−２−プロペン−１−オール、３−（４
−メチルフェニルスルホニル）−２−プロペン−１−オ
ール、３−フェニルスルホニル−２−プロペン−１−オ
ール、３−ベンジルスルホニル−２−プロペン−１−オ
ール、３−アニリノスルホニル−２−プロペン−１−オ
ール、３−（４−メトキシアニリノスルホニル）−２−
プロペン−１−オール、８−アニリノ−２−プロペン−
１−オール、３−ナフチルアミノ−２−プロペン−１−
オール、３−フェノキシ−２−プロペン−１−オール、
３−（２−メチルフェニル）−２−プロペン−１−オー
ル、３−（３−メチルフェノキン）−２−プロペン−１
−オール、３−（２・４−ジメチルフェニル）−２−プ
ロペン−１−オール、１−メチル−３−カルボキシ−２
−プロペン−１−オール、３−カルボキシ−２−プロペ
ン−１−オール、３−ブロム−３−カルボキシ−２−プ
ロペン−１−オール、１−カルボキシ−３−クロル−３
−メチル−２−プロペン−１−オール、１−カルボキシ
−３−メチル−２−プロペン−１−オール、

【０１６３】１−（２−カルベトキシイソプロピル）−
３−メチル−２−プロペン−１−オール、１−（１−カ
ルベトキシプロピル）−２−プロペン−１−オール、１
−（１−カルベトキシエチル）−３−メチル−２−プロ
ペン−１−オール、１−カルベトキシ−３−クロルー３
−メチル−２−プロペン−１−オール、１−カルベトキ
シメチレン−３−メチル−２−プロペン−１−オール、
１−アミド−２・３−ジメチル−２−プロペン−１−オ
ール、１−シアノ−３−メチル−２−プロペン−１−オ
ール、３−スルホ−２−プロペン−１−オール、３−ブ
トキシ−２−プロペン−１−オール、１−シクロへキン
ル−３−（２−ヒドロキシシクロヘキシル）−２−プロ
ペン−１−オール、３−シクロベンジル−２−プロペン
−１−オール、３−フリル−２−プロペン−１−オー
ル、３−クロム−２−プロペン−１−オール、３−ブロ
ム−２−プロペン−１−オール、２−メチル−３−クロ
ル−２−プロペン−１−オール、２−メチル−３−ブロ
ム−２−プロペン−１−オール、１−カルボイソブトキ
シ−３−クロル−３−メチル−２−プロペン−１−オー
ル、２−クロル−３−フェニル−２−プロペン−１−オ
ール（２−クロルシンナミルアルコール）、２−ブロム
−３−フェニル−２−プロペン−１−オール（２−ブロ
ムシンナミルアルコール）、

【０１６４】２−ブロム−３−（４−ニトロフェニル）
−２−プロペン−１−オール、２−フルオロ−３−フェ
ニル−２−プロペン−１−オール（２−フルオロシンナ
ミルアルコール）、２−フルオロ−３−（４−メトキシ
フェニル）−２−プロペン−１−オール、２−ニトロ−
３−クロル−３−フェニル−２−プロペン−１−オー
ル、２−ニトロ−３−フェニル−２−プロペン−１−オ
ール（２−ニトロシンナミルアルコール）、２−シアノ
−３−フェニル−２−プロペン−１−オール（２−シア
ノシンナミルアルコール）、２−クロル−２−プロペン
−１−オール（２−クロルアリルアルコール）、２−ブ
ロム−２−プロペン−１−オール（２−ブロムアリルア
ルコール）、２−カルボキシ−２−プロペン−１−オー
ル（２−カルボキシアリルアルコール）、２−カルベト
キシ−２−プロペン−１−オール（２−カルベトキシア
リルアルコール）、２−スルホン酸−２−プロペン−１
−オール（２−スルホン酸アリルアルコール）、２−ニ
トロ−２−プロペン−１−オール（２−ニトロアリルア
ルコール）、２−ブロム−３・３−ジフルオロ−２−プ
ロペン−１−オール、２−クロル−３・３−ジフルオロ
−２−プロペン−１−オール、２−フルオロ−３−クロ
ル−２−プロペン−１−オール、２・３−ジブロム−３
−カルボキシ−２−プロペン−１−オール、２・３−ジ
ヨード−３−カルボキシ−２−プロペン−１−オール、
２・３−ジブロム−２−プロペン−１−オール、２−ク
ロル−３−メチル−２−プロペン−１ーオールが挙げら
れる。また上記具体例において、１位のアルコールをチ
オアルコールやアミン、ハロゲンで置き換えた化合物も
勿論使用できる。

【０１６５】ポリマー中の架橋性基含有量の好ましい範
囲はそれぞれ共重合モル比で、１０〜９０モル％、５〜
６０モル％、より好ましい範囲は２０〜７０モル％、１
０〜４０モル％である。

【０１６６】また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸
性セルロース誘導体がある。この外に水酸基を有する付
加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用で
ある。特にこれらの中で〔ベンジル（メタ）アクリレー
ト／（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の付加重
合性ビニルモノマー〕共重合体及び〔アリル（メタ）ア
クリレート（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の
付加重合性ビニルモノマー）共重合体が好適である。こ
の他に水溶性有機高分子として、ポリビエルピロリドン
やポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮
膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ポリアミドや
２，２−ビス−（４−ヒドロキンフェニル）−プロパン
とエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。
これらの有機高分子重合体は全組成中に任意な量を混和
させることができる。しかし９０重量％を超える場合に
は形成される画像強度等の点で好ましい結果を与えな
い。好ましくは１０〜９０％、より好ましくは３０〜８
０％である。また光重合可能なエチレン性不飽和化合物
と有機高分子重合体は、重量比で１／９〜９／１の範囲
とするのが好ましい。より好ましい範囲は２／８〜８／
２であり、更に好ましくは３／７〜７／３である。

【０１６７】また、本発明においては以上の基本成分の
他に感光性組成物の製造中あるいは保存中において重合
可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止す
るために少量の熱重合禁止剤を添加することが望まし
い。適当な熱重合禁止剤としてはハロイドキノン、ｐ−
メトキンフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾー
ル、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノ
ン、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）、２，２′−メチレンビス（４−メチル−
６−ｔ―ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒ
ドロキシルアミン第一セリウム塩、Ｎ−ニトロソフェニ
ルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられる。
熱重合禁止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約
０．０１％〜約５％が好ましい。また必要に応じて、酸
素による重合阻害を防止するためたべヘン酸やベヘン酸
アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後
の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級
脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約０．５％〜約１
０％が好ましい。

【０１６８】更に感光層の着色を目的として、着色剤を
添加してもよい。着色剤としては、例えば、フタロシア
ニン系顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ１５：
３，１５：４，１５：６など）、アゾ系顔料、カーボン
ブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレッ
ト、クリスタルバイオレット、アゾ染料、アントラキノ
ン系染料、シアニン系染料がある。染料および顔料の添
加量は全組成物の約０．５％〜約２０％が好ましい。

【０１６９】加えて、硬化皮膜の物性を改良するため
に、無機充填剤やジオクチルフタレート、ジメチルフタ
レート、トリクレジルホスフェート等の可塑剤等の添加
剤を加えてもよい。

【０１７０】これらの添加量は全組成物の１０％以下が
好ましい。

【０１７１】光重合性組成物を支持体上に塗布する際に
は種々の有機溶剤に溶かして使用に供される。ここで使
用する溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、
シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、
テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエー
テル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコー
ルモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキ
サノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチ
ルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプ
ロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテ
ルアセテート、３−メトキシプロパノール、メトキシメ
トキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリ
コールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメ
チルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエ
チルエーテルアセテート、３−メトキンプロピルアセテ
ート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチル
などがある。これらの溶媒は、単独あるいは混合して使
用することができる。そして、塗布溶液中の固形分の濃
度は、１〜５０重量％が適当である。

【０１７２】本発明における光重合性組成物には、塗布
面質を向上するために界面活性剤を添加することができ
る。

【０１７３】その被覆量は乾燥後の重量で約０．ｌｇ／
ｍ²〜約１０ｇ／ｍ²の範囲が適当である。より好ましく
は０．３〜５ｇ／ｍ²である。更に好ましくは０．５〜
３ｇ／ｍ²である。

【０１７４】〔オーバーコート層〕本発明（Ｃ）のオー
バーコート層は酸素遮断性のオーバーコート層であり、
このオーバーコート層は水溶性ビニル重合体を含有す
る。オーバーコート層に含まれる水溶性ビニル重合体と
しては，ポリビニルアルコール、およびその部分エステ
ル、エーテルおよびアセタール、またはそれらに必要な
水溶性を有せしめるような実質的量の末置換ビニルアル
コール単位を含有するその共重合体が挙げられる。ポリ
ビニルアルコールとしては、７１〜１００％加水分解さ
れ、重合度が３００〜２４００の範囲のものが挙げられ
る。具体的には株式会社クラレ製ＰＶＡ−１０５、Ｐｖ
Ａ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１１７Ｈ、ＰＶ
Ａ−１２０、ＰＶＡ−１２４、ＰＶＡ−１２４Ｈ、ＰＶ
Ａ−ＣＳ、ＰＶＡ−ＣＳＴ、ＰＶＡ−ＨＣ、ＰＶＡ−２
０３、ＰＶＡ−２０４、ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−２１
０、ＰＶＡ−２１７、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２２
４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２
２４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２１７Ｅ、ＰＶＡ
−２２０Ｅ、ＰＶＡ−２２４、ＰＶＡ−４０５、ＰＶＡ
−４２０、ＰＶＡ−６１３、Ｌ−８等が挙げられる。上
記の共重合体としては、８８〜１００％加水分解された
ポリビニルアセテートクロロアセテートまたはプロピオ
ネート、ポリビエルホルマールおよびポリビエルアセタ
ールおよびそれらの共重合体が挙げられる。その他有用
な重合体としてはポリビニルピロリドン、ゼラチンおよ
びアラビアゴムが挙げられ、これらは単独または、併用
して用いても良い。

【０１７５】オーバーコート層を塗布する際用いる溶媒
としては、純水が好ましいが、メタノール、エタノール
などのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトンな
どのケトン類を純水と混合しても良い。そして塗布溶液
中の固形分の濃度は１〜２０重量％が適当である。

【０１７６】また、オーバーコート層にはさらに塗布性
を向上させるための界面活性剤、皮膜の物性を改良する
ための水溶性の可塑剤等の公知の添加剤を加えても良
い。水溶性の可塑剤としてはたとえばプロピオンアミ
ド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトー
ル等がある。また、水溶性の（メタ）アクリル系ポリマ
ーなどを添加しても良い。

【０１７７】その被覆量は乾燥後の重量で約０．１／ｍ
²〜約１５／ｍ²の範囲が適当である。より好ましくは
１．０／ｍ²〜約５．０／ｍ²である。

【０１７８】なお、本実施の形態では説明のため、ワー
クステーション１２に１つのパソコンをオンライン接続
した構成としているが、もちろん１つに限らず、複数の
パソコンをオンライン接続することができる。同様に、
本実施の形態では説明のため、プレートセッター１４に
１つのＰＳ版プロセッサー１６と１つの後露光装置１７
をオンライン接続した構成としているが、もちろん１つ
に限らず、ＰＳ版プロセッサー１６と後露光装置１７の
うち、少なくとも一方が複数個プレートセッター１４に
オンライン接続する構成とすることができる。

【０１７９】なお、プレートセッター１４に複数のパソ
コン、複数のＰＳ版プロセッサー１６及び複数の後露光
装置１７をオンライン接続した場合は、後露光条件を変
える場合などの条件設定をより効率的に行えるので、ロ
ス時間を少なくすることができ、効率的である。

【０１８０】また、本実施の形態では、プレートセッタ
ー１４にＰＳ版プロセッサー１６と後露光装置１７とを
並列してオンライン接続し、プレートセッター１４で使
用した各種設定情報をパラレルでＰＳ版プロセッサー１
６と後露光装置１７に出力する構成について説明した
が、もちろんこの構成に限らず、例えば、プレートセッ
ター１４にＰＳ版プロセッサー１６をオンライン接続
し、ＰＳ版プロセッサー１６に後露光装置１７をオンラ
イン接続して、プレートセッター１４で使用した各種設
定情報をＰＳ版プロセッサー１６が使用し、ＰＳ版プロ
セッサー１６が使用した各種設定情報を後露光装置１７
が使用するように構成することも可能である。

【０１８１】また、本実施の形態では、ワークステーシ
ョンから出力する画像データをＴＩＦＦファイルとした
が、もちろん、本発明はＴＩＦＦファイルに限定するも
のではなく、例えば、低解像度の画像データとフィルム
と版の転移特性カーブとトンボの種類と位置データ品質
管理のための色彩濃度情報と裁ちトンボと断裁のための
情報とから構成されるＰＰＦファイルや、ＧＩＦファイ
ル等のようにイメージデータを含む標準的なフォーマッ
ト形式の画像データを使用することができる。

【０１８２】また、本実施の形態では、プレートセッタ
ー１４とＰＳ版プロセッサー１６とをオンラインで接続
した構成としたが、本発明ではオンラインに限らず、通
信回線を介して接続する構成としたり、記憶媒体にプレ
ートセッター１４の情報をセッター情報として記憶さ
せ、この記憶媒体をＰＳ版プロセッサー１６が読込むこ
とによりセッター情報の受け渡しを行う様に構成するこ
ともできる。

【０１８３】なお、本実施の形態では、ＲＯＭに、版
種、版厚、及び版サイズの組合せに応じた紫外線照射量
のテーブルが記憶された場合について述べたが、版種に
応じた紫外線照射量のテーブル、版厚に応じた紫外線照
射量のテーブル、及び版サイズに応じた紫外線照射量の
テーブルの少なくとも1つを記憶させ、記憶されたテー
ブルに基いて紫外線照射量及び加熱容量を決定するよう
にしても良い。

【０１８４】例えば、後露光部３２のヒータとして上述
した水銀ランプ４０を使用し、ＰＳ版を８０ｃｍの搬送
経路に１００ｃｍ／分の速度で搬送させる場合、版厚に
応じた紫外線照射量のテーブルとして、版厚が０．１５
ｍｍの場合は１９０Ｖ、０．２４ｍｍの場合は１９５
Ｖ、０．３ｍｍの場合は２００Ｖ、０．４ｍｍの場合は
２１０Ｖ等のように版厚に応じて厚くなるアルミニウム
基板の厚みが厚くなるに従って駆動電圧を大きくしたテ
ーブルとする。なお、この数値は一例であり、本発明は
この数値に限定するものではない。

【０１８５】また、本実施の形態では、後露光プログラ
ムを後露光制御部３４のＲＯＭに記憶しているが、本発
明はこれに限定されず、該後露光プログラムをフロッピ
ィディスクに記憶すると共に、コンピュータ本体にハー
ドディスクを備え、フロッピィディスクから該プログラ
ムを読み取り、ハードディスクにインストールしても良
い。また、前記後露光プログラムを有線または無線のネ
ットワークに電話回線などの伝送手段により伝送してイ
ンストールしても良い。

【０１８６】なお、前記後露光プログラムはフロッピィ
ディスクに記憶することに限定されず、ＣＤ−ＲＯＭ、
磁気テープに該プログラムを格納し、該ＣＤ−ＲＯＭ、
磁気テープからパソコンのハードディスクにインストー
ルしても良い。また、前記後露光プログラムを格納した
ハードディスクを備えるようにしてもよい。さらにパソ
コンのハードディスクやＲＡＭに直接後露光プログラム
を書き込むようにしてもよい。このように上記後露光プ
ログラムは、有形の記録媒体及び伝送手段の少なくとも
一方により流通することができる。

【０１８７】なお、上記では、ヒータの駆動電圧を制御
することによって、後露光条件を制御する例について説
明したが、ヒータの駆動電圧を一定とし、ＰＳ版の搬送
速度を制御することによって後露光条件を制御してもよ
く、断熱版を設けてヒータからの熱を遮断するシャッタ
ー機構により後露光条件を制御するようにしてもよい。

【０１８８】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、Ｐ
Ｓ版プロセットサーによる処理後に施す後露光処理時の
後露光装置の温度条件をＰＳ版の厚みやサイズ、版種等
に応じて常に適切に設定でき、操作ミス等により設定し
た温度条件が異なることによる損失を生じる恐れがな
く、処理効率も向上できる、という効果がある。

【０１８９】また、後露光装置内の温度が適切な温度と
するまでの時間を効率的に切り替えることができるの
で、ロス時間を短縮して処理効率を上げることができ、
これにより、省エネ化することができる、という効果が
ある。

【０１９０】また、後露光装置が複数の光源を使用する
場合、後露光処理条件に応じて光源の点灯数を変えるこ
とにより、消費電力を抑えることができるので、例え
ば、全ての光源を点灯状態として一定の条件で後露光処
理を行う場合に比較して省エネルギー化できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施の形態の製版システムのデータの流れを
示す概略説明図である。

【図２】後露光装置内に設けられた水銀ランプの波長−
強度特性図である。

【図３】後露光装置内の搬送経路での温度分布特性図で
ある。

【図４】図１の後露光装置内の後露光部のＣＰＵの作用
を示すフローチャートである。

【符号の説明】

１０ パソコン １２ ワークステーション １４ プレートセッター １６ ＰＳ版プロセッサー １７ 後露光装置 １８ セッター制御部 ３０ プロセッサー制御部 ３２ 後露光部 ３４ 後露光制御部 ３６ 搬送機構 ４０ 水銀ランプ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H084 AA30 AA36 BB13 CC05 2H096 AA00 AA07 EA02 EA04 GA08 HA01 HA03 JA04 2H097 JA05 LA03

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光重合性感光層を有する平版印刷原版を
   露光、現像後、全面を露光と同時に加熱する後露光処理
   を施す平版印刷版の製版方法であって、 前記後露光処理の条件を、前段の工程で使用した版情報
   に基づいて決定する平版印刷版の製版方法。
2. 【請求項２】 光重合性感光層を有する平版印刷版の現
   像後に、前記平版印刷版を露光と同時に加熱する後露光
   手段と、 前記後露光手段により前記光重合性感光層を有する現像
   処理済みの平版印刷版を後露光する際に、前段に設けら
   れた装置から入力された版情報に基づいて後露光条件を
   決定し、該決定した後露光条件となるように前記後露光
   手段を制御する制御手段と、 を備えた後露光装置。