JP2001153909A - Board inspecting device, board manufacturing method, and board with bump - Google Patents

Board inspecting device, board manufacturing method, and board with bump

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JP2001153909A
JP2001153909A JP33341599A JP33341599A JP2001153909A JP 2001153909 A JP2001153909 A JP 2001153909A JP 33341599 A JP33341599 A JP 33341599A JP 33341599 A JP33341599 A JP 33341599A JP 2001153909 A JP2001153909 A JP 2001153909A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a board inspecting device which inspects the electric resistance value, etc., of a wiring net on a printed wiring board such as a board with bumps, etc., with high precision and with general versatility, to provide a high-quality board product having a precise wiring net formed by using the inspecting device, and to provide a manufacturing method for the board. SOLUTION: In a resistance value inspecting device 1, a plurality of first terminal portions are arrayed and formed two-dimensionally on the rear of a board body 14, and solder bumps 6 are arrayed and formed two-dimensionally on the board surface as second terminal portions which correspond to the first terminal portions. A group of first measuring probes 13 is brought into contact with the group of first terminal portions. Besides, a second measuring probe 42 is brought into contact with a second terminal portion which correspond to a wiring net being an object of measurement selectively in such a way as to be attachable or detachable freely. It becomes possible to perform resistance measurement of the wiring net by a so-called four-terminal method, etc., on the basis of the level of voltage applied to the wiring net to be measured, causing measuring current to flow in the wiring net under that condition of contact. Accordingly, influence of contact resistance is excluded, and the specific electric resistance value of the wiring net can be grasped accurately, and consequently, a wiring net which is abnormal can be indentified precisely.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する分野】本発明は、パンプ付き基板等のプ
リント配線基板、その電気抵抗値等を検査する基板検査
方法及びその装置、基板製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a printed wiring board such as a board with a pump, a board inspection method and apparatus for inspecting an electric resistance value and the like, and a board manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】プリント基板において、配線パターンの
端子間に一定電圧を与え、導通・絶縁状態を抵抗値で判
断し、断線・短絡の有無を検査する電気式検査が一般的
に行われている。このような検査は、針状のコンタクト
ピンを有するプローブをプリント基板上下から近接させ
て当接し、両プローブ間における配線回路の抵抗値を測
定することにより、断線・ショート等が生じているか否
かを判定することとなる。このとき、正常な電気導通が
得られた場合、即ち正常な抵抗値が得られた場合には正
常な回路状態と判断でき、異常値を示した場合には断線
・ショート等の異常な回路状態であると判定できる。
2. Description of the Related Art On a printed circuit board, an electrical inspection is generally performed in which a constant voltage is applied between terminals of a wiring pattern, a conduction / insulation state is determined by a resistance value, and a disconnection / short circuit is inspected. . In such an inspection, a probe having needle-like contact pins is brought into close contact with the printed circuit board from above and below, and the resistance value of a wiring circuit between the probes is measured to determine whether a disconnection, a short circuit, or the like has occurred. Is determined. At this time, when normal electrical continuity is obtained, that is, when a normal resistance value is obtained, it can be determined that the circuit is in a normal state. Can be determined.

【0003】抵抗値検査において、基板に当接するプロ
ーブは、正確な検査位置で、かつ正確な当接状態(適正
範囲の荷重をもって基板に当接する状態)において行わ
れることが望まれる。そして、このような要望の一部を
解消するために、従来より、基板に対応し上下に設けら
れた治具において、その検査位置にプローブ(コンタク
トピン)が位置するように複数本のプローブを基板に対
し垂直に設けている。このコンタクトピンは治具に形成
された複数の孔内に納められ、導電性を有するスプリン
グによって基板方向に付勢して、当接状態を保ち、ピン
沈みを防止している。
In the resistance value inspection, it is desired that the probe that comes into contact with the substrate be inspected at an accurate inspection position and in an accurate contact state (a state in which the probe comes into contact with the substrate with an appropriate range of load). In order to solve some of such demands, conventionally, a plurality of probes are arranged on jigs provided up and down corresponding to a substrate so that probes (contact pins) are located at inspection positions. It is provided perpendicular to the substrate. The contact pins are accommodated in a plurality of holes formed in the jig, and are urged toward the substrate by a conductive spring to maintain the contact state and prevent the pins from sinking.

【0004】しかしながらこのような方法では、治具に
設けられる孔のピッチ(又はプローブの間隔)はその構
造上一定間隔以上とることを余儀なくされる。したがっ
て、ピッチの広いPGA、LGAパッドに治具、あるい
は複数本のプローブが当接するものであるならばよい
が、C4パッド等のピッチの狭いものは構造的にコンタ
クトピンを設けることができず、この方法では困難を極
める。また、この例によると、所謂2端子抵抗測定法が
提案されているが、この方法ではプローブと端子間の接
触抵抗が加算されてしまうため、正確な抵抗値測定が困
難であり、高精度の検査とは言えないものであった。
However, in such a method, the pitch of the holes provided in the jig (or the interval between the probes) must be set to a certain interval or more due to its structure. Therefore, a jig or a plurality of probes may be in contact with a PGA or LGA pad having a wide pitch, but a contact having a narrow pitch such as a C4 pad cannot have a contact pin structurally. This method is extremely difficult. According to this example, a so-called two-terminal resistance measuring method has been proposed. However, in this method, since the contact resistance between the probe and the terminal is added, accurate measurement of the resistance value is difficult, and high accuracy It was not an inspection.

【0005】特にビア根や不完全断線等の影響で、抵抗
値が多少高めに出ている配線を不良として除外したい場
合には、2端子法により閾値より高抵抗である否かを判
断するのみでは検査もれを免れない。この場合、閾値の
レベルを下げて対応することも考えられるが、2端子法
では接触抵抗の状態を受けやすいため、逆に良品を不良
と判定してしまうリスクが大きくなる。また、多数の配
線が組み込まれたパッケージ基板において、配線毎に固
有抵抗値が異なっている場合は、こうした対応は根本的
に不可能である。
In particular, when it is desired to exclude a wiring having a slightly higher resistance value due to the influence of a via root or an incomplete disconnection as a defect, it is only necessary to determine whether or not the resistance is higher than a threshold value by a two-terminal method. Then I can't escape inspection. In this case, it is conceivable to cope with the problem by lowering the threshold level. However, the two-terminal method is susceptible to the state of contact resistance, and consequently the risk of determining a non-defective product as defective is increased. Further, when a specific resistance value is different for each wiring in a package substrate in which a large number of wirings are incorporated, such a measure is basically impossible.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明の解決すべき課
題は、パンプ付き基板等のプリント配線基板における配
線ネットの電気抵抗値等を高精度に、かつ汎用性をもっ
て検査する基板検査装置を提供し、さらにその検査装置
を用いることにより正確な配線ネットを有する高品質な
基板製品、及びその製造方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a board inspection apparatus for inspecting the electric resistance value of a wiring net on a printed wiring board such as a board with a pump with high accuracy and versatility. Another object of the present invention is to provide a high-quality substrate product having an accurate wiring net by using the inspection device, and a method of manufacturing the same.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段及び作用・効果】上記のよ
うな課題を解決するために、本発明は、基板本体の一方
の板面上に複数の第一端子部が二次元的に配列・形成さ
れ、他方の板面上に第一端子部に対応する複数の第二端
子部が二次元的に配列・形成されるとともに、それら第
一端子部と第二端子部との互いに対応するもの同士が、
ビアを含む配線ネットにより個別に接続された構造を有
する基板の検査装置であって、電流通電用プローブ要素
と電圧測定用プローブ要素とを有し、それらプローブ要
素において第一端子部に着脱可能に当接する第一測定プ
ローブが、該第一端子部の二次元的な配列に対応して複
数配置された第一測定プローブ群と、電流通電用プロー
ブ要素と電圧測定用プローブ要素とを有し、それらプロ
ーブ要素において、複数の第二端子部のいずれかに選択
的かつ着脱可能に当接する第二測定プローブと、第一測
定プローブ群を第一端子部群に当接させ、また、測定対
象となる配線ネットに対応した第二端子部に第二測定プ
ローブを当接させ、その状態にて電流通電用プローブ要
素により配線ネットに測定用電流を通電しつつ、電圧測
定用プローブ要素にて測定される配線ネットへの印加電
圧レベルに基づいて、当該配線ネットの固有電気抵抗値
を反映した情報を生成する固有電気抵抗値情報生成手段
と、その生成された固有電気抵抗値情報を、配線ネット
毎に個別に定められた参照情報と比較することにより、
当該配線ネットの良否に関する検査情報を生成する検査
情報生成手段と、を備えたことを特徴とする。
Means for Solving the Problems and Actions / Effects In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a plurality of first terminals arranged two-dimensionally on one plate surface of a substrate body. A plurality of second terminal portions corresponding to the first terminal portion are formed and arranged two-dimensionally on the other plate surface, and the first terminal portion and the second terminal portion correspond to each other. Each other,
An inspection device for a substrate having a structure individually connected by a wiring net including a via, comprising a probe element for current flow and a probe element for voltage measurement, wherein the probe element is detachably attached to a first terminal portion. A first measurement probe that is in contact with the first measurement probe group, a plurality of first measurement probe group corresponding to the two-dimensional arrangement of the first terminal portion, having a probe element for current flow and a probe element for voltage measurement, In those probe elements, a second measurement probe that selectively and detachably abuts any of the plurality of second terminal portions, a first measurement probe group is brought into contact with the first terminal portion group, and The second measuring probe is brought into contact with the second terminal portion corresponding to the wiring net, and in this state, the measuring current is applied to the wiring net by the current applying probe element, and the voltage measuring probe element is Based on the applied voltage level to the wiring net measured by the above, the specific electric resistance information generation means for generating information reflecting the specific electric resistance of the wiring net, and the generated specific electric resistance information, By comparing with the reference information individually defined for each wiring net,
Inspection information generating means for generating inspection information on the quality of the wiring net.

【0008】一測定プローブ群を第一端子部群に当接さ
せ、また、測定対象となる配線ネットに対応した第二端
子部に選択的かつ着脱可能に当接する第二測定プローブ
を当接させ、その状態にて固有電気抵抗値情報生成手段
によって電流通電用プローブ要素により配線ネットに測
定用電流を通電しつつ、電圧測定用プローブ要素にて測
定される配線ネットへの印加電圧レベルに基づいて、当
該配線ネットの固有電気抵抗値を反映した情報を生成す
ることができる。
[0008] One measurement probe group is brought into contact with the first terminal section group, and a second measurement probe is selectively and detachably brought into contact with the second terminal section corresponding to the wiring net to be measured. In that state, the specific electric resistance value information generating means supplies a measuring current to the wiring net by the current supplying probe element, and based on the voltage level applied to the wiring net measured by the voltage measuring probe element. Thus, information reflecting the specific electric resistance value of the wiring net can be generated.

【0009】これは所謂四端子法(あるいは測定配線の
シールドを考慮した五端子法あるいは八端子法)の抵抗
測定原理を応用したもので、接触抵抗の影響を除外で
き、配線ネットの固有電気抵抗値を、例えば絶対値レベ
ルにより正確に把握でき、ひいては異常を生じた配線ネ
ットを的確に識別することができる。また、第二測定プ
ローブの移動のみで測定対象となる配線ネットを選択で
きる利点も合わせて生ずる。そして、生成された固有電
気抵抗値情報を、配線ネット毎に個別に定められた参照
情報と比較することにより、当該配線ネットの良否に関
する検査情報を検査情報生成手段によって生成すること
ができる。その結果、配線ネット毎に固有電気抵抗値が
異なる場合でも、個別の参照情報の使用により、各配線
ネットの良否を確実に検査・識別することができる。
This is based on the so-called four-terminal method (or the five-terminal method or the eight-terminal method in consideration of the shielding of the measurement wiring) and can eliminate the influence of the contact resistance, and can eliminate the specific electric resistance of the wiring net. The value can be accurately grasped, for example, by the absolute value level, and the wiring net in which an abnormality has occurred can be accurately identified. In addition, there is an advantage that a wiring net to be measured can be selected only by moving the second measurement probe. Then, by comparing the generated specific electric resistance value information with reference information individually determined for each wiring net, the test information generation unit can generate test information relating to the quality of the wiring net. As a result, even when the specific electric resistance value differs for each wiring net, the quality of each wiring net can be reliably inspected and identified by using the individual reference information.

【0010】第二測定プローブは、第二端子部の形成側
において、測定対象となる配線ネットに対応した第二端
子部を選択するために、基板本体の板面方向に相対的に
移動可能、かつ板厚方向において第二端子部に接近・離
間可能に設けることができる。
The second measurement probe is relatively movable in the direction of the plate surface of the substrate body on the side where the second terminal portion is formed, in order to select a second terminal portion corresponding to the wiring net to be measured. And it can be provided so as to be able to approach and separate from the second terminal portion in the thickness direction.

【0011】このようにすることで、第二測定プローブ
を基板本体の板面方向に移動可能となり、測定対象とな
る配線ネットにおける第二端子部の対応位置に二次元的
に測定プローブを移動できる。そして、接近・離間可能
とされていることで、選択された第二端子部に第二測定
プローブを当接することができ、固有電気抵抗値を反映
した情報を生成することが可能となる。また、離間可能
とされるため第二端子部の選択位置の変更が可能とな
る。
With this configuration, the second measurement probe can be moved in the direction of the plate surface of the substrate body, and the measurement probe can be two-dimensionally moved to a position corresponding to the second terminal portion in the wiring net to be measured. . And since it is possible to approach / separate, the second measurement probe can be brought into contact with the selected second terminal portion, and it is possible to generate information reflecting the specific electric resistance value. Further, since the second terminal portion can be separated, the selected position of the second terminal portion can be changed.

【0012】また、第一端子部側が下側となるように基
板を略水平に着脱可能に支持する基板支持部を備え、第
一測定プローブ群は、その支持された基板の下面側にて
各々第一端子部に当接する一方、第二測定プローブは、
該基板の上面側にて第二端子部に選択的に当接するよう
することができる。
A substrate supporting portion for detachably supporting the substrate substantially horizontally so that the first terminal portion side is on the lower side, and the first measurement probe group is provided on the lower surface side of the supported substrate, respectively. While contacting the first terminal portion, the second measurement probe is
The upper surface side of the substrate can selectively contact the second terminal portion.

【0013】このようにすると、検査に伴う基板の着脱
交換が可能になり、基板は略水平とされるため安定に保
持される。また、第二測定プローブが上面側に備えられ
るため、第二測定プローブに付随する機器、付属品等が
基板上部において設置可能となり、それら機器、付属品
等の設置やメンテナンスが行い易くなる。
[0013] In this case, the substrate can be attached and detached and exchanged with the inspection, and the substrate can be stably held because it is substantially horizontal. In addition, since the second measurement probe is provided on the upper surface side, devices and accessories attached to the second measurement probe can be installed on the upper part of the substrate, and installation and maintenance of those devices and accessories can be easily performed.

【0014】さらに、第一測定プローブ群から下向きに
導出される測定用配線群が、基板位置から横方向に外れ
た位置まで延伸された後、末端部が上向きに方向転換さ
れた状態にて保持され、当該末端部に形成された補助端
子部に対し、測定対象となる配線ネットに対応する補助
プローブを当接させるとともに、該補助プローブと、対
応する測定用配線ならびに第一測定用プローブを介し
て、第二測定プローブとの間で配線ネットの抵抗測定を
行うようにすることができる。
[0014] Further, after the measurement wiring group extending downward from the first measurement probe group is extended to a position deviated laterally from the substrate position, it is held in a state where the end is turned upward. Then, the auxiliary probe corresponding to the wiring net to be measured is brought into contact with the auxiliary terminal portion formed at the end portion, and the auxiliary probe, the corresponding measurement wiring and the first measurement probe are interposed. Thus, the resistance of the wiring net can be measured with the second measurement probe.

【0015】第一測定プローブ群から下向きに導出され
る測定用配線群が、基板位置から横方向に外れた位置ま
で延伸され、測定用配線群の末端に形成される補助端子
部が上向きとされるため、その補助端子部において選
択、当接等を行う補助プローブに付随する機器、付属品
を補助端子部上部位置に設置できるため、測定が容易で
あり、またそれらの設置やメンテナンスも行いやすくな
る。
The measurement wiring group extending downward from the first measurement probe group is extended to a position deviated laterally from the substrate position, and the auxiliary terminal formed at the end of the measurement wiring group is oriented upward. Therefore, the equipment and accessories attached to the auxiliary probe that performs selection, contact, etc. at the auxiliary terminal can be installed at the upper position of the auxiliary terminal, so that measurement is easy and their installation and maintenance are easy. Become.

【0016】各測定用配線からの補助端子部を、第一測
定プローブ群に対応した二次元配列にて保持する補助端
子保持板を設けるようにしてもよい。このようにする
と、補助端子部が二次元的に配置されるため、当接させ
るべき補助プローブに付随する補助端子選択機構をその
二次元的配列に対応して構成すればよいため(即ち、二
次元的に位置調整可能とされるような汎用的機構等によ
って補助プローブの位置調整が可能となるため)、機器
構成をより簡略化できる。
An auxiliary terminal holding plate for holding the auxiliary terminals from the respective measurement wires in a two-dimensional array corresponding to the first measurement probe group may be provided. In this case, since the auxiliary terminal portion is two-dimensionally arranged, the auxiliary terminal selection mechanism associated with the auxiliary probe to be brought into contact with the auxiliary terminal portion may be configured in accordance with the two-dimensional arrangement (ie, two-dimensional arrangement). Since the position of the auxiliary probe can be adjusted by a general-purpose mechanism capable of adjusting the position three-dimensionally, the configuration of the device can be further simplified.

【0017】第一測定プローブ群からの各測定用配線
は、対応する第一測定プローブの電流通電用プローブ要
素と電圧測定用プローブ要素とのそれぞれに導通する電
流通電用配線と電圧測定用配線とを含み、それら電圧測
定用配線と電流通電用配線との一方が補助端子部に接続
される一方、他方が共通結線とされるようにすることが
できる。このようにすることで、一方の配線を共通結線
とし、回路構成を簡易にしつつも、他方の配線によって
測定対象となる配線ネットを選択可能とでき、複雑な回
路構成をとらずに十分目的を達成し得る。
Each of the measurement wires from the first measurement probe group includes a current-carrying wire and a voltage-measurement wire which are respectively connected to the current-carrying probe element and the voltage-measuring probe element of the corresponding first measurement probe. And one of the voltage measurement wiring and the current conduction wiring is connected to the auxiliary terminal portion, and the other is connected to the common connection. In this way, one of the wirings can be used as a common connection, and the circuit configuration can be simplified, and the wiring net to be measured can be selected by the other wiring. Can be achieved.

【0018】上記構成では、電圧測定用配線が補助端子
部に接続される一方、電流通電用配線が共通の測定用定
電流電源につながれた構成とすることができる。この場
合、複数の第一測定プローブのうち、互いに隣接配置さ
れたものから個別に延びる電流通電用配線の各末端部
が、測定用定電流電源に向かう共通電源配線に対し互い
に異なる接続点にて隣接接続されるとともに、共通電源
配線の、それら隣接する接続点間に位置する配線セグメ
ントには、互いに異なる配線ネットに第二測定プローブ
と補助プローブとを誤って接続した場合に、当該配線セ
グメントへの測定用電流の漏洩を抑制する漏洩電流抑制
手段が設けるようにしてもよい。
In the above configuration, the voltage measurement wiring may be connected to the auxiliary terminal portion, while the current supply wiring may be connected to the common measurement constant current power supply. In this case, of the plurality of first measurement probes, each end of the current supply wiring extending individually from the one arranged adjacent to each other is connected to a different connection point with respect to the common power supply wiring toward the measurement constant current power supply. Wiring segments that are adjacently connected and located between the adjacent connection points of the common power supply wiring are connected to different wiring nets when the second measurement probe and the auxiliary probe are erroneously connected to the wiring segment. The leakage current suppressing means for suppressing the leakage of the measuring current may be provided.

【0019】互いに異なる配線ネットに第二測定プロー
ブと補助プローブとを誤って接続した場合には、漏洩電
流抑制手段によって当該配線セグメントへの測定用電流
が漏洩するが、上記構成によればその影響が軽減され誤
接続に由来した検査ミス発生の確率を低減することがで
きる。
If the second measuring probe and the auxiliary probe are erroneously connected to different wiring nets, the measuring current leaks to the wiring segment by the leakage current suppressing means. Is reduced, and the probability of occurrence of an inspection error resulting from an incorrect connection can be reduced.

【0020】漏洩電流抑制手段は、参照情報として定め
られた基準抵抗値よりも、少なくとも大きな抵抗値を有
する抵抗素子を含むようにすることができる。このよう
にすることで、互いに異なる配線ネットに接続した場合
に得られた固有電気抵抗値情報は参照情報、配線ネット
の不具合による情報と比較して過大な抵抗値を有する情
報となるため、容易に誤接続が判別できる。
[0020] The leakage current suppressing means may include a resistance element having at least a resistance value larger than a reference resistance value determined as reference information. By doing so, the specific electrical resistance value information obtained when the wiring nets are connected to different wiring nets becomes reference information and information having an excessively large resistance value as compared with the information due to the fault of the wiring net. Incorrect connection can be determined.

【0021】第一測定プローブは、電流通電用プローブ
要素と電圧測定用プローブ要素との一方を第一プローブ
要素、他方を第二プローブ要素として、少なくともその
第一プローブ要素が第一端子部との当接方向において進
退可能に設けられ、第一端子部との当接による第一プロ
ーブ要素の後退に伴い弾性変形し、その弾性復帰力によ
り該第一プローブ要素を第一端子部に向けて付勢する第
一弾性付勢部材が設けられるようにすることができる。
In the first measuring probe, one of the current carrying probe element and the voltage measuring probe element is a first probe element and the other is a second probe element, and at least the first probe element is connected to the first terminal. The first probe element is provided so as to be able to advance and retreat in the contact direction, elastically deforms with the retraction of the first probe element due to the contact with the first terminal section, and is attached to the first terminal section by the elastic return force. A first elastic biasing member for biasing may be provided.

【0022】このようにすることで、第一プローブ要素
を第一端子部に当接させた状態において、第一弾性付勢
部材によって当接方向に付勢し、良好な電気接触状態を
維持できることとなる。これによって第一プローブ要素
と第一端子部との間の接触抵抗を低い値に安定させるこ
とができる。
With this configuration, in a state where the first probe element is in contact with the first terminal portion, the first elastic urging member urges the first probe element in the contact direction to maintain a good electrical contact state. Becomes As a result, the contact resistance between the first probe element and the first terminal can be stabilized at a low value.

【0023】第二プローブ要素は、第一端子部との当接
方向において第一プローブ要素とは独立に進退可能に設
けられ、第一測定プローブと第一端子部とが当接方向に
相対接近するに伴い、第一プローブ要素と略同時に又は
それよりも遅れて第一端子部との間に当接状態を形成す
る構成とすることができる。また、第一端子部との当接
による第二プローブ要素の後退に伴い弾性変形し、その
弾性復帰力により該第二プローブ要素を第一端子部に向
けて付勢する第二弾性付勢部材を設けるようにできる。
The second probe element is provided so as to be able to advance and retreat independently of the first probe element in the contact direction with the first terminal portion, and the first measurement probe and the first terminal portion are relatively approached in the contact direction. Accordingly, the contact state can be formed between the first probe element and the first probe element substantially simultaneously with or later than the first probe element. Also, a second elastic urging member that elastically deforms with the retraction of the second probe element due to contact with the first terminal part and urges the second probe element toward the first terminal part by its elastic return force. Can be provided.

【0024】このようにすることで、第一プローブ要素
と第二プローブ要素とを独立して第一端子部に付勢する
ことができるため、両プローブ要素(第一プローブ要
素、第二プローブ要素)が第一端子部に当接した状態に
おいて当接方向に付勢されることとなる。従って、両プ
ローブ要素と第一端子部との接触状態が良好なものとな
り、それに伴う接触抵抗を低い値にて安定させることが
できる。
By doing so, the first probe element and the second probe element can be independently biased to the first terminal portion, so that both probe elements (the first probe element and the second probe element) ) Is urged in the contact direction in a state of contact with the first terminal portion. Therefore, the contact state between both probe elements and the first terminal portion becomes good, and the contact resistance associated therewith can be stabilized at a low value.

【0025】第一測定プローブは、筒状プローブ要素
と、その筒状プローブ要素の内側に同軸的に配置される
ピン状プローブ要素とを含み、それらプローブ要素の一
方が第一プローブ要素とされ、他方が第二プローブ要素
とされるようにできる。
The first measuring probe includes a cylindrical probe element and a pin-shaped probe element coaxially arranged inside the cylindrical probe element, one of the probe elements being the first probe element, The other can be a second probe element.

【0026】このようにすることで、筒状プローブ要素
の開口部に例えばPGA(ピングリッドアレイ)基板の
ように、第一端子部がピン状である場合、該第一端子部
としてのピンを筒状プローブ要素の筒内に挿入し位置決
めすることができる。従って、振動等が多少伴う場合に
おいても正確に位置決めできることとなる。
By doing so, when the first terminal is pin-shaped, such as a PGA (pin grid array) substrate, the pin as the first terminal is inserted into the opening of the cylindrical probe element. It can be inserted and positioned in the tube of the tubular probe element. Therefore, accurate positioning can be achieved even when some vibration or the like is involved.

【0027】筒状プローブ要素内に同軸的に配置される
とともに、ピン状プローブ要素を後方側から付勢する第
ニコイルばねと、該第ニコイルばねの外側に同軸的に配
置され、筒状プローブ要素を後方側から付勢する第一コ
イルばねを含み、それら第一コイルばね及び第二コイル
ばねの一方が第一弾性付勢部材として機能し、他方が第
二弾性付勢部材として機能するようにできる。
A second coil spring disposed coaxially within the cylindrical probe element and for urging the pin-shaped probe element from the rear side; So that one of the first coil spring and the second coil spring functions as a first elastic urging member, and the other functions as a second elastic urging member. it can.

【0028】このように、第一コイルばね及び第二コイ
ルばねによって筒状プローブ要素、ピン状プローブ要素
を付勢することで両プローブ要素と第一端子部との接触
状態を良好に保つことができる。また、コイルばねによ
って付勢されるため、接触時においてクッション性のあ
るプローブとなる。従って、基板等に生じる衝撃が少な
くなり、品質向上の一助となる。また、筒状プローブ要
素内に第一コイルばねを収容する構造のため、コンパク
トでありプローブ細化にも容易に対応できる。
As described above, the cylindrical probe element and the pin-shaped probe element are urged by the first coil spring and the second coil spring, so that the contact state between both probe elements and the first terminal portion can be kept good. it can. Further, since the probe is urged by the coil spring, the probe has a cushioning property at the time of contact. Therefore, the impact generated on the substrate or the like is reduced, which helps to improve the quality. In addition, since the first coil spring is housed in the cylindrical probe element, it is compact and can easily cope with a thin probe.

【0029】ピン状プローブ要素が第一プローブ要素と
され、該ピン状プローブ要素の先端部が第二プローブ要
素たる筒状プローブ要素の先端縁よりも所定量突出して
配置されるようにできる。このようにすることで、ピン
状プローブ要素の当接においてピン先に荷重を集中で
き、ピン状プローブ要素の当接状態を確実なものとする
ことができる。
The pin-shaped probe element may be a first probe element, and the tip of the pin-shaped probe element may be arranged to protrude by a predetermined amount from the tip edge of the cylindrical probe element as the second probe element. By doing so, the load can be concentrated on the tip of the pin when the pin-shaped probe element contacts, and the contact state of the pin-shaped probe element can be ensured.

【0030】一方、ピン状プローブ要素を第一プローブ
要素とする場合には、第二プローブ要素たる筒状プロー
ブ要素の先端面が、軸断面中心側にて引っ込むテーパー
面とされ、ピン状プローブ要素の先端縁位置は、テーパ
面の内縁位置よりも軸線方向において突出して位置する
ように構成できる。
On the other hand, when the pin-shaped probe element is used as the first probe element, the distal end surface of the cylindrical probe element, which is the second probe element, is formed as a tapered surface which is retracted at the center of the axial cross section. Can be configured to protrude in the axial direction from the inner edge position of the tapered surface.

【0031】このようにすることで、第一端子部がピン
状端子である場合には、筒状プローブ要素先端側が広く
形成されるテーパーであるためピンの挿入が容易とな
り、位置決めの精度(筒状プローブ要素と突起状端子と
の当接の精度)が向上する。また、針状プローブ要素の
先端位置がテーパー面の内縁位置より軸線方向に突出し
て位置することで、挿入された突起状端子と筒内に位置
するピン状プローブ要素との当接を確実に接触させるこ
とができる。また、ピン状端子の先端縁が筒状プローブ
要素とのテーパー面との間で周方向に線状の接触形態を
生ずるので、接触不良がより生じにくい。
By doing so, when the first terminal portion is a pin-shaped terminal, the distal end of the cylindrical probe element is tapered so as to be widely formed, so that the insertion of the pin becomes easy, and the positioning accuracy (the cylindrical shape) is improved. The accuracy of contact between the probe element and the protruding terminal is improved. In addition, since the tip position of the needle-shaped probe element protrudes in the axial direction from the inner edge position of the tapered surface, the contact between the inserted protruding terminal and the pin-shaped probe element located in the cylinder is ensured. Can be done. Further, since the leading edge of the pin-shaped terminal forms a linear contact form in the circumferential direction with the tapered surface with the cylindrical probe element, poor contact is less likely to occur.

【0032】ピン状プローブ要素の先端縁位置は、テー
パー面の外縁位置よりも軸線方向において引っ込んで位
置するようにすることができる。このようにすること
で、突起状端子(例えばピン)となる第一端子部を対象
とした場合は、突起状端子が筒内に挿入され、筒状プロ
ーブによって位置決めされた後にピン状プローブ要素が
当接することとなる。従って、当接の際に第一端子部と
第一測定プローブとを一度確実に接触させることができ
る。
[0032] The tip edge position of the pin-shaped probe element can be set so as to be retracted in the axial direction from the outer edge position of the tapered surface. By doing so, when targeting the first terminal portion to be a protruding terminal (for example, a pin), the protruding terminal is inserted into the cylinder, and after the positioning by the cylindrical probe, the pin-shaped probe element is Will be in contact. Therefore, at the time of contact, the first terminal portion and the first measurement probe can be reliably brought into contact once.

【0033】第二測定プローブは、第二端子部との当接
方向を先端側として、先端側が尖鋭に形成されるととも
に、一方が電流通電用プローブ要素とされ、他方が電圧
測定用プローブ要素とされる1対の針状プローブ要素を
含むとともに、それら針状プローブ要素が、先端側に向
かうほど配置間隔が狭幅となるように、当接方向に関し
て互いに逆向きに傾斜した状態にて配置されたものが使
用されるようにすることができる。このようにすること
で、第二測定プローブ先端における針状プローブの間隔
を挟幅とできるため第二測定プローブの当接範囲(当接
幅)を小さくでき、微小な第二端子部を有する場合や、
第二端子部間隔が挟幅の場合においても当接可能とな
る。
The second measuring probe is formed so that the tip side is sharp with the direction of contact with the second terminal portion being the tip side, and one is a probe element for conducting current and the other is a probe element for voltage measurement. And a pair of needle-like probe elements arranged in such a manner that they are inclined in directions opposite to each other with respect to the contact direction so that the arrangement interval becomes narrower toward the distal end side. Can be used. By doing so, the distance between the needle-shaped probes at the tip of the second measurement probe can be made a narrower width, so that the contact range (contact width) of the second measurement probe can be reduced, and the second probe has a minute second terminal portion. And
The contact is possible even when the second terminal portion interval is a narrow width.

【0034】また、本発明は、基板本体の一方の板面上
に、各々半田バンプからなる複数の第二端子部が二次元
的に配列・形成され、他方の板面上に各第二端子部に対
応する複数の第一端子部が二次元的に配列・形成される
とともに、それら第二端子部と第一端子部との互いに対
応するもの同士が、ビアを含む配線ネットにより個別に
接続された構造を有するバンプ付き基板を得る基板形成
工程と、上記基板検査装置を用い、検査対象となる配線
ネットに対応する半田バンプからなる第二端子部に対
し、該半田バンプに所定深さの測定孔が形成されるよう
に、第二測定プローブの先端部をこれに食い込ませる形
にて当接させ、また、その配線ネットに対応した第二端
子部に第二測定プローブを当接させ、その状態にて第二
測定プローブ及び第一測定プローブを介して配線ネット
に対し測定用電流を通電し、その配線ネットの電気抵抗
値の情報を生成する電気抵抗値情報生成工程と、その生
成された電気抵抗値情報に基づいて、配線ネットの良否
に関する検査情報を生成する検査情報生成工程と、その
生成された検査情報が所定の条件を満たす基板のみを選
別する選別工程と、を含むことを特徴とする基板製造方
法を提供する。
Further, according to the present invention, a plurality of second terminal portions each formed of a solder bump are two-dimensionally arranged and formed on one plate surface of the substrate body, and each second terminal portion is formed on the other plate surface. A plurality of first terminal portions corresponding to the portion are arranged and formed two-dimensionally, and the corresponding ones of the second terminal portion and the first terminal portion are individually connected by a wiring net including a via. A substrate forming step of obtaining a substrate with a bump having a structure, and a second terminal portion made of a solder bump corresponding to a wiring net to be inspected using the substrate inspection apparatus, the solder bump having a predetermined depth. As the measurement hole is formed, the tip of the second measurement probe is brought into contact with the second measurement probe, and the second measurement probe is brought into contact with the second terminal corresponding to the wiring net, In that state, the second measurement probe and the second measurement probe An electric resistance information generating step of applying a measuring current to the wiring net via the measurement probe and generating information on an electric resistance value of the wiring net; and forming the wiring net based on the generated electric resistance information. A test information generating step of generating test information relating to pass / fail of the test, and a selecting step of selecting only substrates for which the generated test information satisfies predetermined conditions.

【0035】このように、電気抵抗値情報生成工程にて
生成された電気抵抗値情報と参照情報を比較して検査情
報生成工程によって検査情報を生成し、その検査情報が
所定の基板のみを選別する選別工程を含むことで、良
品、不良品の区別等が容易に、かつ正確に行え、高品質
の製品が得られる基板製造方法が実現される。
As described above, the electric resistance value information generated in the electric resistance value information generating step is compared with the reference information to generate the inspection information in the inspection information generating step, and the inspection information selects only a predetermined substrate. By including the sorting step, a discrimination between a good product and a defective product can be easily and accurately performed, thereby realizing a substrate manufacturing method capable of obtaining a high quality product.

【0036】さらに、測定孔の深さをd1、半田バンプ
の高さをHとしたときに、d1/Hが0.1〜0.9の
範囲となるように、第二測定プローブを半田バンプに食
い込ませる基板製造方法とすることができる。
Further, when the depth of the measurement hole is d1 and the height of the solder bump is H, the second measurement probe is connected to the solder bump so that d1 / H is in the range of 0.1 to 0.9. A substrate manufacturing method can be provided.

【0037】電気抵抗値情報生成工程において、第二測
定プローブを半田バンプに食い込ませた時、半田バンプ
高さに対する孔深さの比率d1/Hがこの範囲より小さ
い場合には、十分な当接状態が維持できず接触抵抗が増
大又は不安定となる可能性があり、この範囲より大きい
場合には半田バンプに生じる負荷が大きくなり基板への
負担が増大する(半田バンプの圧壊、基板配線の断線等
につながる)。従って、この範囲の測定孔を形成するよ
うに第二測定プローブを半田バンプに食い込ませること
で、抵抗値測定を精度高く行うことが可能となり、ひい
ては高品質なバンプ付き基板を提供する基板製造方法と
なる。
In the electric resistance value information generation step, when the ratio d1 / H of the hole depth to the solder bump height is smaller than this range when the second measurement probe is cut into the solder bump, sufficient contact is made. If the state cannot be maintained, the contact resistance may increase or become unstable. If the contact resistance is larger than this range, the load generated on the solder bumps will increase and the load on the substrate will increase (crushing of the solder bumps, wiring of the substrate wiring, etc.). It leads to disconnection etc.). Therefore, by making the second measurement probe cut into the solder bump so as to form a measurement hole in this range, the resistance value can be measured with high accuracy, and thus a substrate manufacturing method for providing a high quality bumped substrate Becomes

【0038】平面視における測定孔の孔開口部の面積を
S1として、バンプ底面積S0に対する比率S1/S0
が0.002〜0.45となるように、第二測定プロー
ブを半田バンプに食い込ませる基板製造方法としてもよ
い。
Assuming that the area of the hole opening of the measurement hole in plan view is S1, the ratio S1 / S0 to the bump bottom area S0.
May be a substrate manufacturing method in which the second measurement probe is cut into the solder bumps so that the value is 0.002 to 0.45.

【0039】この範囲よりも比率S1/S0が小さい場
合には第二測定プローブと半田バンプとの良好な接触状
態とならず、接触抵抗が増大又は不安定となる。また、
この範囲より比率が大きい場合には、外観的に良くない
のみならず、半田バンプの圧壊、あるいは測定孔によっ
てバンプが基板配線の断線等が生じる可能性が高くな
る。従って、比率S1/S0がこの範囲となるように第
二測定プローブを半田バンプに食い込ませる基板製造方
法とすることで、検査精度を保ちつつ、良好な製品を提
供できることとなる。
When the ratio S1 / S0 is smaller than this range, a good contact state between the second measurement probe and the solder bump is not obtained, and the contact resistance increases or becomes unstable. Also,
If the ratio is larger than this range, not only the appearance is not good, but also the possibility of crushing of the solder bump or disconnection of the substrate wiring of the bump due to the measurement hole increases. Therefore, a good product can be provided while maintaining the inspection accuracy by employing a board manufacturing method in which the second measurement probe is cut into the solder bumps so that the ratio S1 / S0 is within this range.

【0040】第二測定プローブは、半田バンプとの当接
方向を先端側として、先端側が尖鋭に形成される1対の
針状プローブ要素を含むとともに、それら針状プローブ
要素が、先端側に向かうほど配置間隔が狭幅となるよう
に、当接方向に関して互いに逆向きに傾斜した状態にて
配置されたものが使用され、一方が電流通電用プローブ
要素とされ、他方が電圧測定用プローブ要素とされる一
対のプローブ要素を含み、電流通電用プローブ要素の第
二端子部との当接方向における先端と、電圧測定用プロ
ーブ要素の第二端子部との当接方向における距離をLと
し、半田バンプの径Rに対する比率L/Rが0.2〜
0.85である基板製造方法とすることができる。
The second measuring probe includes a pair of needle-shaped probe elements, each of which has a pointed end in the direction of contact with the solder bump and whose tip side is sharp, and the needle-shaped probe elements are directed toward the distal end. In such a way that the arrangement interval becomes narrower, those arranged in a state of being inclined in directions opposite to each other with respect to the contact direction are used, one is a probe element for current flow, and the other is a probe element for voltage measurement. And a distance between the tip of the current conducting probe element in the contact direction with the second terminal portion and the contact direction of the voltage measuring probe element with the second terminal portion is L, The ratio L / R to the bump diameter R is 0.2 to 0.2
The substrate manufacturing method may be 0.85.

【0041】第二測定プローブは、半田バンプとの当接
方向を先端側として、先端側が尖鋭に形成される1対の
針状プローブ要素を含むことにより、4端子法等の二本
の端子による抵抗値測定(接触抵抗の影響が極めて軽微
な抵抗値測定)が可能となる。これら端子となる一対の
針状プローブ要素の比率L/Rがこの範囲より小さい場
合、例えば先端部距離Lが短い場合には振動等の物理的
要因による両プローブ要素(電流通電用プローブ要素、
電圧測定用プローブ要素)の絶縁不良(導通)となる可
能性が高く、また、この範囲より大きい場合には両プロ
ーブ要素のいずれか一方又は両方のプローブ要素が当接
すべき半田バンプから外れる可能性が高い抵抗値検査と
なる。従って、比率L/Rをこのような範囲とすること
で良好な当接状態にて固有電気抵抗情報生成工程等が行
え、ひいては高品質な製品を製造可能とする基板製造方
法となる。
The second measuring probe includes a pair of needle-like probe elements, each of which has a tip in the direction of contact with the solder bump and whose tip is formed sharply. Resistance value measurement (resistance value measurement in which the influence of contact resistance is extremely small) becomes possible. When the ratio L / R of the pair of needle-like probe elements serving as the terminals is smaller than this range, for example, when the tip end distance L is short, both probe elements (current-feeding probe element,
It is highly probable that insulation failure (continuity) of the voltage measurement probe element) will occur, and if it is larger than this range, one or both of the two probe elements may come off from the solder bump to be abutted. This is a high resistance value inspection. Therefore, by setting the ratio L / R within such a range, a specific electrical resistance information generation step or the like can be performed in a good contact state, and a substrate manufacturing method capable of manufacturing a high-quality product can be achieved.

【0042】上記基板製造方法において第二測定プロー
ブの食込みにより、半田バンプの少なくとも一部のもの
の表層部に、該半田バンプの表面にそれぞれ開口する1
対の測定孔が形成され、それら一対の測定孔が、平面視
における孔開口部の幾何学的重心間距離として定義され
る孔間距離をrとして、半田バンプの径Rに対する比率
r/Rが0.2〜0.85となるように第二測定プロー
ブを半田バンプに食い込ませるようにしてもよい。
In the above-mentioned substrate manufacturing method, the second measurement probe cuts into the surface layer of at least a part of the solder bumps so that the openings are formed on the surface of the solder bumps.
A pair of measurement holes is formed, and the ratio r / R to the diameter R of the solder bump is defined as r, where r is the distance between the holes defined as the geometric distance between the centers of gravity of the hole openings in plan view. The second measurement probe may be cut into the solder bump so as to be 0.2 to 0.85.

【0043】半田バンプ径に対する孔間距離の比率r/
Rがこの範囲より小さい場合には電流通電用プローブ要
素と電圧測定プローブ要素との完全なる絶縁が困難とな
り(振動等によって両プローブ要素が当接し易くな
る)、この範囲より大きい場合には、第二測定プローブ
における一方の端子が半田バンプ外に外れる可能性が高
くなる。従って、この範囲をとるように測定孔を形成す
ることで、第二測定プローブと半田バンプとの良好な当
接状態にて電気抵抗値情報生成工程等が行えることとな
る。
Ratio of distance between holes to solder bump diameter r /
If R is smaller than this range, it is difficult to completely insulate the current-carrying probe element and the voltage-measuring probe element (the two probe elements are likely to come into contact with each other due to vibration or the like). There is a high possibility that one terminal of the two-measurement probe will fall outside the solder bump. Therefore, by forming the measurement hole so as to have this range, the electrical resistance value information generation step and the like can be performed in a good contact state between the second measurement probe and the solder bump.

【0044】第二測定プローブの食込みにより、半田バ
ンプの少なくとも一部のものの表層部に、該半田バンプ
の表面にそれぞれ開口する1対の測定孔が形成され、1
対の測定孔のそれぞれの深さをd2として、半田バンプ
の高さをHとしたときに、d2/Hが0.1〜0.9と
なるように第二測定プローブを半田バンプに食い込ませ
ることもできる。
Due to the bite of the second measurement probe, a pair of measurement holes respectively opened on the surface of the solder bump are formed in the surface layer of at least a part of the solder bump.
When the depth of each of the pair of measurement holes is d2 and the height of the solder bump is H, the second measurement probe is cut into the solder bump such that d2 / H is 0.1 to 0.9. You can also.

【0045】例えば、4端子法等によって二本の端子を
半田バンプに当接させて抵抗値測定を行った場合、半田
バンプ高さに対する一対の測定孔の深さの比率d2/H
がこの範囲より小さい場合には、当接する両端子におい
て十分な当接状態が維持できず接触抵抗が増大又は不安
定となる可能性がある。また、この範囲より大きい場合
には半田バンプに生じる負荷が大きくなり基板への負担
が増大する(半田バンプの圧壊、基板配線の断線等につ
ながる)。従って、この範囲の測定孔が形成されるよう
にすることで、バンプ付き基板において電気抵抗値情報
生成工程(例えば4端子法等による抵抗値検査工程)を
良好な状態にて行うことができ、その工程において半田
バンプの形状変化を微小なものとし、品質を保つことが
できる
For example, when two terminals are brought into contact with a solder bump by a four-terminal method or the like to measure the resistance value, the ratio of the depth of the pair of measurement holes to the height of the solder bump d2 / H
Is smaller than this range, a sufficient abutting state cannot be maintained at both abutting terminals, and there is a possibility that contact resistance increases or becomes unstable. On the other hand, if it is larger than this range, the load generated on the solder bumps increases and the load on the substrate increases (leading to crushing of the solder bumps, disconnection of the substrate wiring, etc.). Therefore, by forming the measurement holes in this range, the electrical resistance information generation step (for example, a resistance value inspection step by a four-terminal method or the like) can be performed in a favorable state on the substrate with bumps. In the process, the shape change of the solder bump can be made very small and quality can be maintained

【0046】1対の測定孔は、それぞれ底に向かうほど
軸断面積を縮小する略V字状の縦断面形状を有するとと
もに、V字底側にて互いに接近するように深さ方向に傾
斜して形成される基板製造方法としてもよい。
Each of the pair of measurement holes has a substantially V-shaped vertical cross-sectional shape in which the axial cross-sectional area is reduced toward the bottom, and is inclined in the depth direction so as to approach each other at the V-shaped bottom side. A method of manufacturing a substrate formed by using the method described above.

【0047】測定孔の底においては軸断面積が縮小され
る略V字状の軸断面形状が形成されるようにすること
で、孔底部においては半田バンプの傷が軽微となり、基
板配線への測定孔の影響を少なくすることができ、配線
の保護等につながる。また、V字底側にて互いに接近す
るように深さ方向に傾斜して形成されるようにすること
で、孔間隔を挟幅にでき、適正な範囲に保つことができ
る。従って、電気抵抗値情報生成工程にて抵抗値検査等
を確実に行いつつ、半田バンプの品質を維持できる。
At the bottom of the measurement hole, a substantially V-shaped axial cross-sectional shape having a reduced axial cross-sectional area is formed. The influence of the measurement hole can be reduced, which leads to protection of wiring and the like. In addition, by being formed so as to be inclined in the depth direction so as to approach each other at the V-shaped bottom side, the hole interval can be narrowed and can be kept in an appropriate range. Therefore, the quality of the solder bumps can be maintained while reliably performing the resistance value inspection and the like in the electrical resistance value information generation step.

【0048】上記基板製造方法は、一対の測定孔の平面
視における孔開口部の合計面積をS2として、バンプ底
面積S0に対する比率S2/S0が0.002〜0.4
5となるように、第二測定プローブを半田バンプに食い
込ませるようにすることもできる。
In the above substrate manufacturing method, the ratio S2 / S0 to the bump bottom area S0 is 0.002 to 0.4, where S2 is the total area of the pair of measurement holes as viewed in plan.
5 so that the second measuring probe can be cut into the solder bump.

【0049】この範囲よりも比率S2/S0が小さい場
合には、例えば、4端子法等において二本の端子と半田
バンプとの良好な接触状態とならず(二本の端子におい
て半田バンプと良好に導通するための十分な接触面積が
確保できず)接触抵抗が増大又は不安定となる。また、
この範囲より比率が大きい場合には、外観的に良くない
のみならず、半田バンプの圧壊、あるいは測定孔によっ
てバンプが基板配線の断線等が生じる可能性が高くな
る。従って、電気抵抗値情報生成工程においてこの範囲
をとるように第二測定プローブを半田バンプに食い込ま
せることで、検査を確実に行い、かつ高品質なバンプ付
き基板を提供できることとなる。
If the ratio S2 / S0 is smaller than this range, for example, in the four-terminal method or the like, good contact between the two terminals and the solder bumps is not obtained (the two terminals have good contact with the solder bumps). A sufficient contact area for conduction to the contact cannot be secured), or the contact resistance increases or becomes unstable. Also,
If the ratio is larger than this range, not only the appearance is not good, but also the possibility of crushing of the solder bump or disconnection of the substrate wiring of the bump due to the measurement hole increases. Therefore, by making the second measurement probe bite into the solder bump so as to take this range in the electric resistance value information generation step, the inspection can be performed reliably and a high-quality bumped substrate can be provided.

【0050】また、本発明は、導通検査用プローブを第
二測定用プローブとして半田バンプに対し、第二測定孔
を形成しつつ該プローブを食込み当接させることによ
り、そのときの電気抵抗情報に基づいて対応する配線ネ
ットの導通状態に関する第一検査情報を生成する第一検
査情報生成工程と、その生成された第一検査情報が所定
の条件を満たす基板のみを、良品として選別する第一選
別工程と、その第一選別工程において良品として選別さ
れた基板に対し、1対の針状プローブ要素を第二測定用
プローブとして用い、半田バンプに、該半田バンプの表
面にそれぞれ開口する1対の第一測定孔を形成しつつ、
これらプローブを食込み当接させ、その状態にて一方の
針状プローブを電流通電用プローブ要素として用いて配
線ネットに測定用電流を通電しつつ、他方の針状プロー
ブを電圧測定用プローブ要素として用いることにより配
線ネットへの印加電圧レベルを測定し、当該配線ネット
の固有電気抵抗値を反映した情報を生成する固有電気抵
抗値情報生成手段と、その生成された固有電気抵抗値情
報を、配線ネット毎に個別に定められた参照情報と比較
することにより、当該配線ネットの良否に関する第二検
査情報生成工程と、その生成された第二検査情報が所定
の条件を満たす基板のみを選別する第二選別工程と、を
含む基板製造方法を提供する。
Further, according to the present invention, the continuity inspection probe is used as a second measurement probe, and the second measurement hole is formed and the probe is cut into contact with the solder bump so that the electrical resistance information at that time can be obtained. A first inspection information generating step of generating first inspection information relating to a conduction state of a corresponding wiring net based on the first inspection information, and a first selection of selecting only a board for which the generated first inspection information satisfies a predetermined condition as a non-defective product Step and a pair of needle-like probe elements are used as second measurement probes for the substrate selected as non-defective in the first selection step, and a pair of solder bumps are formed on the surface of the solder bump. While forming the first measurement hole,
These probes are cut into contact with each other, and in that state, one needle probe is used as a current carrying probe element and a current for measurement is applied to the wiring net, while the other needle probe is used as a voltage measuring probe element. Means for measuring the voltage level applied to the wiring net and generating information reflecting the specific electric resistance value of the wiring net; and generating the specific electric resistance value information for the wiring net. A second inspection information generating step regarding the quality of the wiring net by comparing with reference information individually determined for each of the wiring nets, and a second step of selecting only a substrate for which the generated second inspection information satisfies a predetermined condition. And a sorting step.

【0051】このように、第一検査情報生成工程と第二
検査情報生成工程を有することで、相乗的に不良品の検
査もれを防止でき、極めて精度の高い不良品の除去が可
能となる。また、導通状態に関する第一検査情報を生成
する第一検査情報生成工程(例えば配線ネットが導通さ
れているか否かを検査する工程としての導通検査工程)
と配線ネットの良否に関する第二検査情報生成工程(例
えば配線ネット毎固有の抵抗値を計測する工程としての
抵抗値検査)が分離した工程とされ、それぞれの工程に
おいて独立して不良品の除去が可能となるため、不良品
の重複検査を削減できることとなる。例えば、導通検査
工程において検出された不良品を第一選別工程にて除去
し、残りの製品についてのみ抵抗値検査工程及び第二選
別工程を行えば良いため、抵抗値検査工程の検査時間を
短縮できることとなる。
As described above, by having the first inspection information generation step and the second inspection information generation step, it is possible to synergistically prevent omission of defective products, and to remove defective products with extremely high accuracy. . Also, a first inspection information generating step of generating first inspection information relating to the conduction state (for example, a continuity inspection step as a step of inspecting whether or not the wiring net is conductive)
And a second inspection information generating step (for example, a resistance value inspection as a step of measuring a resistance value unique to each wiring net) which is a separate step for removing defective products in each step independently. As a result, it is possible to reduce duplicate inspection of defective products. For example, it is only necessary to remove defective products detected in the continuity inspection process in the first screening process and perform the resistance testing process and the second screening process only on the remaining products, thereby shortening the testing time in the resistance testing process. You can do it.

【0052】第二検査情報生成工程において、第二測定
孔以外の半田バンプの表面に第二測定プローブを当接さ
せることができる。第一検査情報生成工程による第二測
定孔部分に、第二測定プローブを当接させた場合(例え
ば、第二測定プローブの一方のプローブ要素が第二測定
孔に挿入されたような場合)、当接面が平坦でないため
第二測定プローブが傾斜して当接され、不安定な接触状
態となる。従って、第二測定孔が形成されていない平坦
なバンプ表面において当接すると、安定した接触が維持
される良好な接触状態となり、精度の高い抵抗値測定が
可能な第二検査情報生成工程となる。
In the second inspection information generation step, the second measurement probe can be brought into contact with the surface of the solder bump other than the second measurement hole. When the second measurement probe is brought into contact with the second measurement hole portion by the first inspection information generation step (for example, when one probe element of the second measurement probe is inserted into the second measurement hole), Since the contact surface is not flat, the second measurement probe is contacted at an angle, resulting in an unstable contact state. Therefore, when the contact is made on the flat bump surface on which the second measurement hole is not formed, a stable contact is maintained and a good contact state is obtained, and the second inspection information generation step enables highly accurate resistance value measurement. .

【0053】さらに本発明は、基板本体の一方の板面上
に、各々半田バンプからなる複数の第ニ端子部が二次元
的に配列・形成され、他方の板面上に各第ニ端子部に対
応する複数の第一端子部が二次元的に配列・形成される
とともに、それら第一端子部と第二端子部との互いに対
応するもの同士が、ビアを含む配線ネットにより個別に
接続された構造を有し、かつ、半田バンプの少なくとも
一部のものの表層部に、該半田バンプの表面に開口する
所定深さの測定孔が形成されていることを特徴とするバ
ンプ付き基板を提供する。
Further, according to the present invention, a plurality of second terminal portions each formed of a solder bump are two-dimensionally arranged and formed on one plate surface of the substrate body, and each second terminal portion is formed on the other plate surface. Are arranged and formed two-dimensionally, and the corresponding ones of the first terminal portion and the second terminal portion are individually connected by a wiring net including a via. A substrate having a bumped structure, wherein a measurement hole having a predetermined depth is formed in a surface layer of at least a part of the solder bump, the measurement hole being opened on a surface of the solder bump. .

【0054】このように、半田バンプに形成される測定
孔を所定深さとすることで、半田バンプにおいて固有電
気情報生成工程が正常に行われたか否かを確認できる指
標となる。例えば、測定孔形成後においてバンプ表面を
検査(例えば、特許第2881146号等に示される検
査方法を用いる)し、測定孔が形成されていなければ測
定が異常であったととして再検査、又は製品除去等をす
ることができ、加えて検査状態の不具合をも検知できる
(検査装置、基板、検査環境等、検査に関連する要素の
いずれかに検査の異常を誘発する原因が存在するという
ことが判明する)こととなる。なお、形成される測定孔
が所定深さにて形成されていない場合には異常であると
判断するようにもできる。
As described above, by setting the measurement hole formed in the solder bump to a predetermined depth, the measurement hole serves as an index for confirming whether or not the unique electrical information generation step has been normally performed on the solder bump. For example, after the formation of the measurement hole, the surface of the bump is inspected (for example, using an inspection method disclosed in Japanese Patent No. 2881146), and if the measurement hole is not formed, it is determined that the measurement is abnormal, and the inspection is performed again or the product is removed. In addition, it is also possible to detect a defect in the inspection state (it is found that there is a cause that causes an inspection abnormality in any of the inspection-related elements such as an inspection apparatus, a board, and an inspection environment). Do). If the formed measurement hole is not formed at a predetermined depth, it may be determined that the measurement hole is abnormal.

【0055】上記バンプ付き基板は、測定孔の深さをd
1、バンプの基板表面からの高さをHとしたときに、d
1/Hが0.1〜0.9の範囲にて調整されるようにし
てもよい。半田バンプ高さに対する孔深さの比率d1/
Hがこの範囲より小さい場合には、十分な当接状態が維
持できず接触抵抗が増大又は不安定となる可能性があ
り、この範囲より大きい場合には半田バンプに生じる負
荷が大きくなり基板への負担が増大する(半田バンプの
圧壊、基板配線の断線等につながる)。従って、この範
囲の測定孔が形成された場合には良好な検査状態にて検
査が行われたことを示し、そうでない場合は検査状態の
異常を示すため、測定孔によって検査状態の異常を検知
するすることができる。
In the above-mentioned substrate with bumps, the depth of the measurement hole is set to d.
1. When the height of the bump from the substrate surface is H, d
1 / H may be adjusted in the range of 0.1 to 0.9. Ratio of hole depth to solder bump height d1 /
If H is smaller than this range, a sufficient contact state cannot be maintained, and the contact resistance may increase or become unstable. (Which leads to crushing of solder bumps, disconnection of substrate wiring, etc.). Therefore, when a measurement hole in this range is formed, it indicates that the inspection was performed in a good inspection state, and when not, it indicates an abnormality of the inspection state. Can be done.

【0056】平面視における測定孔の孔開口部の面積を
S1として、バンプ底面積S0に対する比率S1/S0
が0.002〜0.45の範囲となるようにバンプ付き
基板を形成してもよい。
Assuming that the area of the opening of the measurement hole in plan view is S1, the ratio S1 / S0 to the bump bottom area S0.
May be formed in the range of 0.002 to 0.45.

【0057】この範囲よりも比率S1/S0が小さい場
合には第二測定プローブと半田バンプとの良好な接触状
態とならず、接触抵抗が増大又は不安定となる。また、
この範囲より比率が大きい場合には、外観的に良くない
のみならず、半田バンプの圧壊、あるいは測定孔によっ
てバンプが基板配線の断線等が生じる可能性が高くな
る。従って、比率S/S0がこの範囲となっていれば良
好な検査が行われたことを示すため、測定孔によって検
査の良否を判断することができる。
When the ratio S1 / S0 is smaller than this range, a good contact state between the second measurement probe and the solder bump is not obtained, and the contact resistance increases or becomes unstable. Also,
If the ratio is larger than this range, not only the appearance is not good, but also the possibility of crushing of the solder bump or disconnection of the substrate wiring of the bump due to the measurement hole increases. Accordingly, if the ratio S / S0 is within this range, it indicates that a good inspection has been performed, and the quality of the inspection can be determined based on the measurement holes.

【0058】さらに上記バンプ付き基板において、測定
孔は、半田バンプの表面にそれぞれ開口する1対の測定
孔が形成されるようにすることができる。このように、
一対の測定孔が形成されるバンプ付き基板とすること
で、例えば4端子法等の2本の端子を半田バンプに当接
させる抵抗値測定法を用いた場合、その二本の端子が良
好に当接したかを判断できる。例えば、抵抗値測定完了
時に、形成されるべきバンプにおいて一対の測定孔が形
成されていない場合には、抵抗値測定が異常状態であっ
たということが確認でき、そのバンプは抵抗値測定検査
が不十分であるということが判明する。従って、測定が
異常であったととして再検査、又は製品除去等をするこ
とができ、加えて検査状態の不具合をも検知できる(検
査装置、基板、検査環境等、検査に関連する要素のいず
れかに検査の異常を誘発する原因が存在するということ
が判明する)こととなる。
Further, in the above-mentioned substrate with bumps, the measurement holes may be formed as a pair of measurement holes which are respectively opened on the surface of the solder bump. in this way,
By using a substrate with bumps in which a pair of measurement holes are formed, when using a resistance measurement method such as a four-terminal method in which two terminals are brought into contact with solder bumps, the two terminals are satisfactorily used. It can be determined whether or not the contact has been made. For example, when a pair of measurement holes are not formed in the bump to be formed at the time of completion of the resistance value measurement, it can be confirmed that the resistance value measurement was in an abnormal state, and the bump is subjected to the resistance value measurement inspection. It turns out to be insufficient. Therefore, re-inspection or product removal can be performed as an abnormal measurement, and a defect in the inspection state can be detected (in addition to any element related to inspection, such as an inspection apparatus, a board, or an inspection environment). It turns out that there is a cause that causes an abnormal test).

【0059】さらに、1対の測定孔のそれぞれの深さd
2、半田バンプの高さをHとしたときに、d2/Hが
0.1〜0.9の範囲にて調整されるようにできる。4
端子法等によって二本の端子を半田バンプに当接させて
抵抗値測定を行った場合、半田バンプ高さに対する一対
の測定孔の深さの比率d2/Hがこの範囲より小さい場
合には、当接する両端子において十分な当接状態が維持
できず接触抵抗が増大又は不安定となる可能性がある。
また、この範囲より大きい場合には半田バンプに生じる
負荷が大きくなり基板への負担が増大する(半田バンプ
の圧壊、基板配線の断線等につながる)。従って、この
範囲の測定孔が形成されるようにすることで、バンプ付
き基板において抵抗値測定(4端子法等)が精度高く行
われたことを証明でき(証明するマークを半田バンプに
形成することができ)、品質管理上有用なものとなる。
Further, each depth d of the pair of measurement holes
2. When the height of the solder bump is H, d2 / H can be adjusted in the range of 0.1 to 0.9. 4
When the resistance value is measured by bringing two terminals into contact with the solder bumps by a terminal method or the like, and when the ratio d2 / H of the depth of the pair of measurement holes to the solder bump height is smaller than this range, There is a possibility that a sufficient contact state cannot be maintained at both terminals to be contacted, and the contact resistance increases or becomes unstable.
On the other hand, if it is larger than this range, the load generated on the solder bumps increases and the load on the substrate increases (leading to crushing of the solder bumps, disconnection of the substrate wiring, etc.). Therefore, by forming the measurement holes in this range, it is possible to prove that the resistance value measurement (four-terminal method or the like) has been performed with high accuracy on the substrate with bumps (a mark to be proved is formed on the solder bumps). Can be useful for quality control.

【0060】平面視における一対の測定孔の孔開口部の
それぞれの合計の面積をS2として、バンプ底面積S0
に対する比率S2/S0が0.002〜0.45となる
ようにバンプ付き基板を形成してもよい。この範囲より
も比率S2/S0が小さい場合には、例えば、4端子法
等において二本の端子と半田バンプとの良好な接触状態
とならず(二本の端子において半田バンプと良好に導通
するための十分な接触面積が確保できず)接触抵抗が増
大又は不安定となる。また、この範囲より比率が大きい
場合には、外観的に良くないのみならず、半田バンプの
圧壊、あるいは測定孔によってバンプが基板配線の断線
等が生じる可能性が高くなる。従って、この範囲をとる
測定孔は良好な検査状態が行われたことの証明となり、
このような測定孔を有する半田バンプとすることで、品
質管理に寄与することとなる。
The total area of the opening portions of the pair of measurement holes in plan view is defined as S2, and the bump bottom area S0 is defined as S2.
The substrate with bumps may be formed so that the ratio S2 / S0 to 0.002 to 0.45. If the ratio S2 / S0 is smaller than this range, good contact between the two terminals and the solder bumps will not be obtained in, for example, the four-terminal method (the two terminals have good conduction with the solder bumps). The contact resistance increases or becomes unstable. When the ratio is larger than this range, not only is the appearance not good, but also the possibility of crushing of the solder bumps or disconnection of the substrate wiring of the bumps due to the measurement holes increases. Therefore, a measurement hole in this range proves that a good inspection condition was performed,
By using a solder bump having such a measurement hole, it contributes to quality control.

【0061】さらに、測定孔には、一対の測定孔として
の第一測定孔と、該第一測定孔とは別の第二測定孔と、
が含まれるようにできる。このように、一対の測定孔
と、それとは別の第二測定孔が形成されるようにするこ
とで、別々の検査工程(例えば、配線ネットの導通状態
の検査工程、及び配線ネットにおける固有抵抗値の検査
工程)が半田バンプにて行われたことの証明となる。従
って、一方でも測定孔の形成が不十分であれば、当該半
田バンプは検査工程を正常に通過していないものと判断
でき、第一の測定孔及び第二の測定孔はその判断の指標
としての価値を有することとなる。
Further, the measurement hole includes a first measurement hole as a pair of measurement holes, a second measurement hole different from the first measurement hole,
Can be included. In this way, by forming a pair of measurement holes and a second measurement hole different therefrom, separate inspection steps (for example, an inspection step of a conduction state of a wiring net, and a specific resistance of the wiring net) are performed. This is a proof that the value inspection process was performed on the solder bumps. Therefore, on the other hand, if the formation of the measurement hole is insufficient, it can be determined that the solder bump has not normally passed the inspection process, and the first measurement hole and the second measurement hole are used as indicators for the determination. Value.

【0062】また、第二測定孔は、第一測定孔よりも孔
開口部の面積及び深さが、いずれも大きい単一の孔部と
なるようにバンプ付き基板を形成することができる。こ
のように差をもたせて形成することで、第一測定孔と第
二測定孔とを検査終了後に明確に区別できることとな
り、各々の工程の当接状態が把握できることとなる。
The substrate with bumps can be formed so that the second measurement hole is a single hole having a hole opening area and a depth larger than that of the first measurement hole. By forming with such a difference, the first measurement hole and the second measurement hole can be clearly distinguished after the inspection, and the contact state of each process can be grasped.

【0063】平面視における第一測定孔及び第二測定孔
の孔開口部のそれぞれの面積の合計をS3として、バン
プ底面積S0に対する比率S3/S0が0.002〜
0.45となるようにバンプ付き基板を形成してもよ
い。この範囲よりも比率S3/S0が小さい場合には、
第一測定孔、又は第二測定孔を形成する工程の少なくと
もいずれか一方の工程において異常な当接となったこと
を示すこととなり、測定孔によって検査の異常を検知で
きる。また、この範囲より比率が大きい場合には、外観
的に良くないのみならず、半田バンプの圧壊、あるいは
測定孔によってバンプが基板配線の断線等が生じる可能
性が高くなる。従って、この範囲をとる測定孔は良好な
検査状態が行われたことの証明となり、このような測定
孔を有する半田バンプによって検査の確認ができること
となる。
The sum of the respective areas of the first measurement hole and the second measurement hole opening in plan view is defined as S3, and the ratio S3 / S0 to the bump bottom area S0 is 0.002 to 0.002.
A bumped substrate may be formed so as to be 0.45. If the ratio S3 / S0 is smaller than this range,
This indicates that abnormal contact has occurred in at least one of the steps of forming the first measurement hole or the second measurement hole, and the measurement hole can detect an abnormality in the inspection. When the ratio is larger than this range, not only is the appearance not good, but also the possibility of crushing of the solder bumps or disconnection of the substrate wiring of the bumps due to the measurement holes increases. Therefore, the measurement hole having this range proves that a good inspection state has been performed, and the inspection can be confirmed by the solder bump having such a measurement hole.

【0064】平面視における第一測定孔のそれぞれの孔
開口部の幾何学的重心間距離として定義される孔間距離
をrとして、半田バンプの径Rに対する比率r/Rが
0.2〜0.85の範囲をとるように形成してもよい。
The ratio r / R to the diameter R of the solder bump is defined as 0.2 to 0, where r is the distance between holes defined as the geometric distance between the centers of gravity of the openings of the first measurement holes in plan view. .85 may be formed.

【0065】半田バンプ径に対する孔間距離の比率r/
Rがこの範囲より小さい場合には電流通電用プローブ要
素と電圧測定プローブ要素との完全なる絶縁が困難とな
り(振動等によって両プローブ要素が当接し易くな
る)、この範囲より大きい場合には、第二測定プローブ
における一方の端子が半田バンプ外に外れる可能性が高
くなる。従って、この範囲をとる測定孔は良好な検査状
態が行われたことの証明となり、このような測定孔を有
する半田バンプによって検査の確認ができることとな
る。
Ratio of distance between holes to solder bump diameter r /
If R is smaller than this range, it is difficult to completely insulate the current-carrying probe element and the voltage-measuring probe element (the two probe elements are likely to come into contact with each other due to vibration or the like). There is a high possibility that one terminal of the two-measurement probe will fall outside the solder bump. Therefore, the measurement hole having this range proves that a good inspection state has been performed, and the inspection can be confirmed by the solder bump having such a measurement hole.

【0066】1対の測定孔が、それぞれ底に向かうほど
軸断面積を縮小する略V字状の縦断面形状を有するとと
もに、V字底側にて互いに接近するように深さ方向に傾
斜して形成されるようにバンプ付き基板を形成できる。
Each of the pair of measuring holes has a substantially V-shaped vertical cross-sectional shape in which the axial cross-sectional area is reduced toward the bottom, and is inclined in the depth direction so as to approach each other at the V-shaped bottom side. A substrate with bumps can be formed as if formed.

【0067】測定孔の底においては軸断面積が縮小され
る略V字状の軸断面形状が形成されるようにすること
で、孔底部においては半田バンプの傷が軽微となり、基
板配線への測定孔の影響を少なくすることができ、配線
の保護等につながる。また、V字底側にて互いに接近す
るように深さ方向に傾斜して形成されるようにすること
で、孔間隔を挟幅にでき、適正な範囲に保つことができ
る。従って、このように形成される測定孔は良好な検査
状態が行われたことの証明となり、このような測定孔を
有する半田バンプによって検査の確認ができることとな
る。
At the bottom of the measurement hole, by forming a substantially V-shaped axial cross-sectional shape in which the axial cross-sectional area is reduced, at the bottom of the hole, the damage of the solder bump becomes small, and the connection to the substrate wiring is reduced. The influence of the measurement hole can be reduced, which leads to protection of wiring and the like. In addition, by being formed so as to be inclined in the depth direction so as to approach each other at the V-shaped bottom side, the hole interval can be narrowed and can be kept in an appropriate range. Therefore, the measurement hole thus formed proves that a good inspection state has been performed, and the inspection can be confirmed by the solder bump having such a measurement hole.

【0068】[0068]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に示す実施例を参照しつつ説明する。抵抗値検査装置1
(以下、単に検査装置1とも言う)は、被抵抗検査体と
しての基板本体14(以下、単に基板14とも言う)の
一方の板面上(図1においては基板裏面)において複数
の第一端子部が2次元的に配列・形成され、他方の板面
上(図1においては基板表面)にその第一端子部に対応
する第二端子部としての半田バンプ6が二次元的に配列
・形成されて備えられている。そして、第一端子部と第
二端子部としての半田バンプ6との互いに対応するもの
同士が、基板に形成されるビアを含む配線ネットにより
個別に接続された構造を有している。この複数の第一端
子部としては、例えばランドグリッドアレイ(以下、単
にLGAとも言う)であればランド、ピングリッドアレ
イ(以下、単にPGAとも言う)であればピンが備えら
れる。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to embodiments shown in the drawings. Resistance value inspection device 1
(Hereinafter simply referred to as the inspection apparatus 1) includes a plurality of first terminals on one plate surface (in FIG. 1, the back surface of the substrate) of a substrate body 14 (hereinafter, also simply referred to as a substrate 14) as a resistance test object. Parts are two-dimensionally arranged and formed, and solder bumps 6 as second terminal parts corresponding to the first terminal parts are two-dimensionally arranged and formed on the other plate surface (the substrate surface in FIG. 1). Being provided. The first terminal portions and the solder bumps 6 as the second terminal portions have a structure in which the corresponding portions are individually connected by a wiring net including a via formed in the substrate. The plurality of first terminal portions include, for example, lands in a land grid array (hereinafter, also simply referred to as LGA), and pins in a pin grid array (hereinafter, also simply PGA).

【0069】被検査対象とされる基板本体14の構成例
としては図22及び図23に示されるようなものが挙げ
られる。図22には平面図、図23には断面構造を示し
その構造について以下に説明する。基板14は例えば約
25mm角、板厚約1mmであり、以下のような構造を
なす。即ち、耐熱性樹脂板(例えばビスマレイミド−ト
リアジン樹脂板)や繊維強化樹脂板(例えばガラス繊維
強化エポキシ樹脂)等で構成されたいた状のコア材80
の両表面に、所定のパターンにコア配線パターン層7
3,74がそれぞれ形成される。これらコア配線パター
ン層73,74はコア材80の表面の大部分を被覆する
ように形成され、電源層又は接地層として用いられるも
のである。他方コア材80には、ドリル等により穿設さ
れたスルーホール78が形成され、その内壁面にはコア
配線パターン層73,74を互いに導通させるスルーホ
ール7導体76が形成されている。また、スルーホール
78はエポキシ樹脂等の樹脂製穴埋め材により充填され
ている。
Examples of the configuration of the substrate body 14 to be inspected include those shown in FIGS. 22 and 23. FIG. 22 shows a plan view, and FIG. 23 shows a cross-sectional structure, which will be described below. The substrate 14 is, for example, about 25 mm square and about 1 mm thick, and has the following structure. That is, a core material 80 made of a heat-resistant resin plate (for example, a bismaleimide-triazine resin plate) or a fiber-reinforced resin plate (for example, a glass fiber-reinforced epoxy resin).
Core wiring pattern layer 7 in a predetermined pattern on both surfaces of
3, 74 are respectively formed. These core wiring pattern layers 73 and 74 are formed so as to cover most of the surface of the core material 80, and are used as power supply layers or ground layers. On the other hand, a through-hole 78 formed by a drill or the like is formed in the core member 80, and a through-hole 7 conductor 76 for conducting the core wiring pattern layers 73 and 74 to each other is formed on the inner wall surface. The through hole 78 is filled with a resin filling material such as epoxy resin.

【0070】また、コア配線パターン層73,74の上
層には、感光性エポキシ樹脂等の樹脂により第一ビルド
アップ層がそれぞれ形成されている。さらに、その表面
にはそれぞれ第一配線パターン層70,71がCuメッ
キにより形成されている。なお、コア配線パターン層7
3,74と第一配線パターン層70,71とはそれぞれ
ビア導体により層間接続がなされている。同様に、第一
配線パターンの上層には感光性エポキシ樹脂等の樹脂に
より第二樹脂ビルドアップ層がそれぞれ形成されてい
る。さらに、その表面にはそれぞれ第二配線パターン層
82,84がCuメッキにより形成されている。これら
第一配線パターン層70,71と第二配線パターン層8
2,84とも、それぞれビア導体により層間接続がなさ
れている。なお、コア配線パターン、第一配線パターン
層70,71及び第二配線パターン層82,84の各表
面は、上層の樹脂層との密着強度を上げるために表面粗
化処理(例えば化学的な処理に基づくもの)が施されて
いる。
On the upper layers of the core wiring pattern layers 73 and 74, first build-up layers are respectively formed by a resin such as a photosensitive epoxy resin. Further, first wiring pattern layers 70 and 71 are formed on the surface thereof by Cu plating. The core wiring pattern layer 7
3, 74 and the first wiring pattern layers 70, 71 are connected to each other by via conductors. Similarly, a second resin buildup layer is formed on the first wiring pattern by a resin such as a photosensitive epoxy resin. Further, second wiring pattern layers 82 and 84 are formed on the surfaces thereof by Cu plating. These first wiring pattern layers 70 and 71 and second wiring pattern layer 8
Both layers 2 and 84 are connected to each other by via conductors. Each surface of the core wiring pattern, the first wiring pattern layers 70 and 71, and the second wiring pattern layers 82 and 84 is subjected to a surface roughening treatment (for example, a chemical treatment) in order to increase the adhesion strength to the upper resin layer. That is based on).

【0071】さらに、第二樹脂ビルドアップ層上には第
二配線パターン層82,84と導通する下地導電性バッ
ド90が多数設けられている。これら下地導電性バッド
90は、無電解Ni−Pメッキ及びAuめっきにより基
板14ほぼ中央部分に正方形状に配列し、各々その上に
形成された半田バンプ6とともにチップ搭載部を形成し
ている。半田バンプ6は径133μm、高さ33μmで
ある。また、第二配線パターン層84は外部接続端子と
してのランドとして用いられる。このように、多数の配
線が組み込まれたパッケージ基板において、配線(例え
ば、半田バンプ6から対応するランドまでの基板内部配
線)毎に固有抵抗値を有して配線ネットが形成されるこ
ととなるため、その配線ネットが正常に形成されている
か否かを検査装置1によって検査することとなる。
Further, on the second resin build-up layer, a large number of underlying conductive pads 90 that are electrically connected to the second wiring pattern layers 82 and 84 are provided. The base conductive pads 90 are arranged in a square shape at substantially the center of the substrate 14 by electroless Ni-P plating and Au plating, and form a chip mounting portion together with the solder bumps 6 formed thereon. The solder bump 6 has a diameter of 133 μm and a height of 33 μm. The second wiring pattern layer 84 is used as a land as an external connection terminal. As described above, in the package board in which a large number of wirings are incorporated, a wiring net is formed with a specific resistance value for each wiring (for example, wiring inside the board from the solder bump 6 to the corresponding land). Therefore, the inspection apparatus 1 inspects whether or not the wiring net is formed normally.

【0072】上記装置1は上記構成例に示されるような
基板14の配線ネットを両面から挟んで接触するよう
に、各板面ごとに当接する抵抗センサ端子としてプロー
ブ(第一測定プローブ、第二測定プローブ)を有する。
そして、後述する位置調整手段による位置調整がされ、
基板14の特定位置(基板14におけるいずれかの半田
バンプ6)に設定可能とする位置調整手段を一方側(図
1においては上面側)に有する。その検査位置は基板上
面において形成され配線ネットに接続される複数の第二
端子部としての半田バンプ6のいずれかが位置調整手段
によって選択され、その選択された半田バンプ6と第二
測定プローブ42が当接されることとなる。
The device 1 has a probe (a first measurement probe, a second measurement probe, a second measurement probe, Measurement probe).
Then, the position is adjusted by a position adjusting unit described later,
Position adjustment means that can be set at a specific position on the substrate 14 (any of the solder bumps 6 on the substrate 14) is provided on one side (the upper surface side in FIG. 1). One of the plurality of solder bumps 6 as the second terminal portions formed on the upper surface of the substrate and connected to the wiring net is selected by the position adjusting means, and the selected solder bump 6 and the second measurement probe 42 Will be contacted.

【0073】また、他方側(図1においては基板14下
面側)には、基板14に備えられる第一端子部(例え
ば、ランド、ピン等)に当接可能とされる第一測定プロ
ーブ10が複数配置されている。各第一測定プローブ1
0は基板一方側(第一測定プローブ10側)に形成され
た第一端子部(例えば、ランド、ピン等)に対応した位
置において、基板側に突出して備えられ、第一測定プロ
ーブ群13を形成している。そして、後述する接近・当
接手段によって、第一測定プローブ群13における一部
又は全部の第一測定プローブ10と、それに対応する第
一端子部は当接し、当接位置においてはその第一端子部
を末端にもつ基板内配線と第一測定プローブ10との導
通が可能となる。
On the other side (the lower side of the substrate 14 in FIG. 1), a first measuring probe 10 which can be brought into contact with a first terminal portion (eg, land, pin, etc.) provided on the substrate 14 is provided. A plurality is arranged. Each first measurement probe 1
Reference numeral 0 denotes a first terminal portion (for example, a land, a pin, or the like) formed on one side of the substrate (the first measurement probe 10 side). Has formed. Then, a part or all of the first measurement probe 10 in the first measurement probe group 13 and the corresponding first terminal portion are brought into contact by the approach / contact means described later, and the first terminal is located at the contact position. Conduction between the in-substrate wiring having the portion at the end and the first measurement probe 10 becomes possible.

【0074】そして、第一測定プローブ10と第一端子
部の一部又は全部とが当接した状態において、その一部
又は全部の当接位置に対応する第二端子部位置(対応す
る半田バンプ6の位置)を第二測定プローブ42が選択
して当接することで、第二測定プローブ42とそれに対
応する基板内配線が第一測定プローブ10を介して電気
的に導通し、両プローブ間が電気的に導通可能となり第
二検査情報生成工程としての抵抗値検査を行うことがで
きる。
In a state where the first measuring probe 10 and a part or all of the first terminal part are in contact with each other, the position of the second terminal part (corresponding to the corresponding solder bump) corresponding to the part or all of the contact position 6) is brought into contact with the second measurement probe 42 and the second measurement probe 42 and the corresponding wiring in the substrate are electrically connected to each other via the first measurement probe 10, and the two probes are connected to each other. It becomes electrically conductive, and a resistance value test can be performed as a second test information generation step.

【0075】また、第二測定プローブ42及び第一測定
プローブ10は、4端子抵抗測定法におけるプラス端子
又はマイナス端子のいずれか一方の端子及び他方の端子
として被抵抗測定体となる基板14を挟んで配置され
る。そして、上下各プローブごとに、電流通電用プロー
ブ要素としてのソース端子と、及び電圧測定用プローブ
要素としてのセンス端子とを有する。その2つのプロー
ブは、絶縁体によるコーティング等により絶縁処理が施
されることによって互いに絶縁されている。そして上下
各プローブに備えられたソース端子、及びセンス端子に
はそれぞれ電流通電用配線21、及び電圧測定用配線2
2としての導線が上下においてそれぞれ接続され、4端
子抵抗測定等が可能となる回路構成をとる。この回路構
成は、上下においてそれぞれ備えられるソース端子が電
流通電用配線を介して測定装置26の内部に備えられた
測定用定電流電源48(図14参照)に接続され、セン
ス端子は電圧測定用配線を介して測定装置26内の電圧
測定装置50(図14)に接続されて4端子抵抗測定等
の抵抗測定を行う。
Further, the second measuring probe 42 and the first measuring probe 10 sandwich the substrate 14 serving as the resistance measurement object as one of the plus terminal and the minus terminal and the other terminal in the four-terminal resistance measurement method. It is arranged in. Each of the upper and lower probes has a source terminal as a current carrying probe element and a sense terminal as a voltage measuring probe element. The two probes are insulated from each other by being subjected to insulation treatment by coating with an insulator or the like. The source terminal and the sense terminal provided on each of the upper and lower probes have a current carrying wire 21 and a voltage measuring wire 2 respectively.
A circuit configuration is adopted in which conductors as 2 are connected at the top and bottom, respectively, and four-terminal resistance measurement and the like can be performed. In this circuit configuration, the source terminals provided on the upper and lower sides are connected to a constant current power supply for measurement 48 (see FIG. 14) provided inside the measuring device 26 via current supply wiring, and the sense terminal is connected to a voltage measurement terminal. It is connected to a voltage measuring device 50 (FIG. 14) in the measuring device 26 via a wire to perform resistance measurement such as four-terminal resistance measurement.

【0076】第一測定プローブ10が後述する接近・当
接手段によって移動されて、基板と当接する場合、第一
測定プローブ10は図2に示されるように第一端子部と
してのランド9に対応して位置するため、そのランド9
に当接することとなる。そして、接触開始時において、
第一センス端子10bの先端が、基板14によってラン
ド9位置で押下され、後述する付勢手段による付勢力に
抗して第一のソース端子10a内に移動する。所定距離
押下されると、第一センス端子10bの先端位置が第一
ソース端子10aにおける開口端に至り、その時点で第
一ソース端子10aがランド9に当接することとなる。
即ち、基板14における第一端子部としてのランド9
は、それぞれ付勢手段によって当接方向に付勢力を与え
られ互いに電気的に絶縁されている2つのプローブ(第
一ソース端子10a、第一センス端子10b)と個々に
同時に接触し、両プローブと導通可能となる。このよう
な作用をもたらす第一測定プローブ10の内部構成につ
いて以下に説明する。
When the first measurement probe 10 is moved by the approach / contact means described later and comes into contact with the substrate, the first measurement probe 10 corresponds to the land 9 as the first terminal as shown in FIG. Land 9
Will come into contact with. And at the start of contact,
The tip of the first sense terminal 10b is pressed at the land 9 position by the substrate 14, and moves into the first source terminal 10a against the urging force of the urging means described later. When depressed a predetermined distance, the tip position of the first sense terminal 10b reaches the opening end of the first source terminal 10a, at which point the first source terminal 10a comes into contact with the land 9.
That is, the land 9 as the first terminal on the substrate 14
Are simultaneously and individually brought into contact with two probes (first source terminal 10a, first sense terminal 10b) which are each given an urging force in the contact direction by the urging means and are electrically insulated from each other. Conduction becomes possible. The internal configuration of the first measurement probe 10 that provides such an operation will be described below.

【0077】図4には第一測定プローブ10の一例にお
ける拡大図を示し、図5(a)にはその断面図を示す。
図4の第一測定プローブ10は先端を針状に突出する導
電性を有するピン状プローブ要素としての第一センス端
子10bと、筒状に形成され、第一センス端子10bと
摺動可能に嵌合し導電性を有する筒状プローブ要素とし
ての第一ソース端子10aが備えられている。そして、
第一センス端子10bと、第一ソース端子10aは互い
の接触部分において絶縁体によってコーティング等の絶
縁処理が施され、互いに電気的に絶縁されている。そし
て、第一センス端子10bは基板方向に付勢可能とする
付勢手段として導電性を有する第二弾性付勢部材として
の第二コイルばね17が備えられ、さらに、第一ソース
端子10aにも基板方向に付勢可能とする付勢手段とし
て導電性を有する第一弾性付勢部材としての第一コイル
ばね16が備えられている。第一センス端子10bは第
二コイルばね17と導通可能に接続され、さらにその第
二コイルばね17は、導電性を有する土台部28と電気
的に絶縁された端子18に導通可能に接続される。従っ
て第一センス端子10bと電圧測定用配線22とは導通
可能となり、第一センス端子10bに導通可能に接続さ
れる要素(第二弾性付勢部材17、端子18等)は電圧
測定用配線22の一部を構成することとなる。
FIG. 4 is an enlarged view of an example of the first measurement probe 10, and FIG. 5A is a sectional view thereof.
The first measurement probe 10 of FIG. 4 has a first sense terminal 10b as a pin-like probe element having a conductive tip protruding in a needle shape, and is formed in a cylindrical shape, and is slidably fitted to the first sense terminal 10b. A first source terminal 10a is provided as a cylindrical probe element having combined conductivity. And
The first sense terminal 10b and the first source terminal 10a are electrically insulated from each other by applying an insulating treatment such as coating with an insulator at a contact portion with each other. The first sense terminal 10b is provided with a second coil spring 17 as a second elastic biasing member having conductivity as biasing means capable of biasing in the substrate direction. A first coil spring 16 as a first elastic urging member having conductivity is provided as urging means capable of urging in the direction of the substrate. The first sense terminal 10b is conductively connected to the second coil spring 17, and the second coil spring 17 is conductively connected to the terminal 18 that is electrically insulated from the conductive base 28. . Accordingly, the first sense terminal 10b and the voltage measurement wiring 22 can be conducted, and the elements (the second elastic biasing member 17, the terminal 18, and the like) that are conductively connected to the first sense terminal 10b are the voltage measurement wiring 22. To form a part of.

【0078】また、第一ソース端子10aの下端におい
ては付勢手段としての導電性を有する第一弾性付勢部材
としての第一コイルばね16が導通可能に接続され、そ
の第一コイルばね26の他端は導電性を有する材質(た
とえば、銅等)によって形成された導電性を有する土台
部28に導通可能に接続されている。従って、第一ソー
ス端子は土台部28を介して電流通電用配線21とも導
通可能となる。さらに、第一コイルばね16と第二コイ
ルばね17は電気的に絶縁される(絶縁体によるコーテ
ィング等によって絶縁処理を施してもよい)。なお、第
一ソース端子10aに導通可能に接続される要素(第一
弾性付勢部材16、土台部28)は電流通電用配線21
の一部を構成する要素となる。
At the lower end of the first source terminal 10a, a first coil spring 16 as a first elastic urging member having conductivity as urging means is connected in a conductive manner. The other end is conductively connected to a conductive base 28 formed of a conductive material (eg, copper or the like). Therefore, the first source terminal can also conduct with the current-carrying wiring 21 via the base 28. Further, the first coil spring 16 and the second coil spring 17 are electrically insulated (the insulating treatment may be performed by coating with an insulator or the like). Elements (the first elastic biasing member 16 and the base 28) that are conductively connected to the first source terminal 10 a are the current-carrying wires 21.
Is an element constituting a part of.

【0079】そして、第一測定プローブ10が基板14
の第一端子部(図5(b)においてはランド9)に当接
する場合、第一センス端子10bの先端、及び第一ソー
ス端子10aの先端が共に当接した状態で、両プローブ
に接続される弾性付勢部材(第一及び第二コイルばね1
6、17)の付勢力に抗してそれぞれ独立に所定距離押
下される。そして、抵抗値測定を行うときには、両プロ
ーブは共に基板に備えられる第一端子部(例えば図5
(b)におけるランド9)と当接した状態において、そ
れぞれ独立に当接方向に付勢される。また、第一ソース
端子10a及び第二センス端子10bは第一端子部と当
接する先端部(第一センス端子10bでは針状部の先
端、第一ソース端子10aでは開口端)においてプロー
ブ本体を構成する導電性物質(例えば銅等)が露出さ
れ、当接時においては第一端子部と両端子はそれぞれ導
通可能となっている。なお、両端子においては第一端子
部との接触部を基点として各配線までの間はそれぞれ独
立に導通可能とされるが、この間においては絶縁処理等
によって両端子及びそれに付随する要素(コイルばね
等)は電気的に絶縁される。
Then, the first measurement probe 10 is
5a, the tip of the first sense terminal 10b and the tip of the first source terminal 10a are connected to both probes in a state of contact. Elastic biasing member (first and second coil springs 1)
6, 17) are pressed independently of each other by a predetermined distance against the urging force. When measuring the resistance value, both probes are connected to the first terminal portion (for example, FIG.
In the state of contact with the land 9) in (b), they are urged independently in the contact direction. In addition, the first source terminal 10a and the second sense terminal 10b constitute a probe main body at a tip portion (tip of the needle portion in the first sense terminal 10b and an open end in the first source terminal 10a) in contact with the first terminal portion. The conductive material (eg, copper or the like) is exposed, and the first terminal portion and both terminals can be electrically connected at the time of contact. In addition, in each of the terminals, conduction can be made independently to each wiring from a contact portion with the first terminal portion as a base point, but in the meantime, both terminals and their accompanying elements (coil spring Etc.) are electrically insulated.

【0080】図2に示されるように、基板14の各第一
端子部に当接する複数の第一測定プローブ10は、第一
センス端子10bと導通する電圧測定用配線22がプロ
ーブごとに接続される。そして、各プローブにおける第
一ソース端子10aと導通する導電性の土台部28にお
いて全ての第一ソース端子10aと導通する共通結線と
なっており、その共通結線に電流通電用配線21が接続
されることとなる。また、各端子18に接続される電圧
測定用配線22は図1に示されるように基板14の別位
置に備えられた補助端子保持板25において下面側に備
えられた複数の下部補助端子33に接続されている。電
圧測定用配線22の下部補助端子33に接続する位置は
基板14において導通される位置と対応して備えられ
る。即ち、基板14の第一端子部の配置構成と同配置、
又はその配置構成と関連し得る配置をとって補助端子保
持板25上に展開される。なお、本実施例においては、
同配列構成として対応させている。
As shown in FIG. 2, a plurality of first measurement probes 10 in contact with each first terminal portion of the substrate 14 are connected to a voltage measurement wiring 22 electrically connected to the first sense terminal 10b for each probe. You. The conductive base 28 of each probe, which is electrically connected to the first source terminal 10a, has a common connection that is electrically connected to all the first source terminals 10a, and the current connection wiring 21 is connected to the common connection. It will be. The voltage measurement wiring 22 connected to each terminal 18 is connected to a plurality of lower auxiliary terminals 33 provided on the lower surface side of the auxiliary terminal holding plate 25 provided at another position on the substrate 14 as shown in FIG. It is connected. The position where the voltage measuring wiring 22 is connected to the lower auxiliary terminal 33 is provided corresponding to the position where the voltage is conducted on the substrate 14. That is, the same arrangement as the arrangement of the first terminal portion of the substrate 14,
Alternatively, it is deployed on the auxiliary terminal holding plate 25 in an arrangement related to the arrangement configuration. In this embodiment,
The arrangement is the same.

【0081】図3においては、被抵抗測定体としての基
板14の取り付け方法について説明する。図示しないワ
ーク取付機構によって基板14はワーク設置台34の所
定位置においてその基板14が嵌まり合うよう形成され
た凹部に載置されることで、ワーク設置台34上におい
て位置決めされる。そして、ワーク設置台34が嵌合可
能となるよう凹部が形成された治具36において、ワー
ク取付機構機構によってワーク設置台34が載置され
る。ワーク設置台34は治具36上に固定される第一測
定プローブ群13の各プローブ位置に対応して孔41が
形成され、ワーク設置台34を治具36上に載置する時
には、その孔41にそれぞれ対応する第一測定プローブ
10が挿入される。
Referring to FIG. 3, a description will be given of a method of attaching the substrate 14 as the resistance measurement object. The substrate 14 is positioned on the work mounting table 34 by being mounted on a concave portion formed so that the substrate 14 is fitted at a predetermined position of the work mounting table 34 by a work mounting mechanism (not shown). Then, the work mounting table 34 is placed by the work mounting mechanism mechanism on the jig 36 in which the concave portion is formed so that the work mounting table 34 can be fitted. A hole 41 is formed in the work mounting table 34 corresponding to each probe position of the first measurement probe group 13 fixed on the jig 36. When the work mounting table 34 is mounted on the jig 36, the holes 41 are formed. First measurement probes 10 corresponding to 41 are inserted.

【0082】挿入された各プローブは土台部28から各
プローブ先端までの突出長さが孔の長さよりも長く形成
されているため、ワーク設置台34の治具36へ取付時
において第一測定プローブ群13が孔41を貫通し、そ
の先端(図4における第一センス端子10bの針状部先
端)が基板14において形成される第一端子部(ランド
9)に接触する。なお、ワーク取付機構においてはワー
ク設置台34及び基板14を治具36方向に付勢する付
勢手段が備えられ、その付勢手段例として本実施例で
は、治具36下部を減圧状態とし、ワーク設置台34と
治具36との間の空気を治具36に形成された吸気孔3
8、及び土台部28において形成された吸気孔40を通
して吸引するような真空引き装置が備えられる。この真
空引き装置によってワーク設置台34及び基板14は吸
引され、治具36及び第一測定プローブ群13方向に付
勢力を与えられる。このように、治具36方向にワーク
設置台34が付勢されることにより、第一端子部(ラン
ド9)は第一測定プローブ10の先端と当接した後、引
き続いて第一測定プローブ10先端部を押下すること
で、図5(b)に示されるように第一センス端子10
b、第一ソース端子10aが共に第一端子部(ランド
9)方向に弾性付勢部材によって付勢されてその第一端
子部(ランド9)と当接した状態となる。
Each of the inserted probes has a projecting length from the base 28 to the tip of each probe formed longer than the length of the hole. The group 13 penetrates the hole 41, and the tip (the tip of the needle-like portion of the first sense terminal 10b in FIG. 4) contacts the first terminal portion (land 9) formed on the substrate 14. In the work mounting mechanism, there is provided an urging means for urging the work mounting table 34 and the substrate 14 in the direction of the jig 36. The air between the work setting table 34 and the jig 36 is supplied to the suction hole 3 formed in the jig 36.
8, and a vacuuming device for sucking through an air inlet 40 formed in the base portion 28 is provided. The work setting table 34 and the substrate 14 are sucked by the vacuuming device, and an urging force is applied to the jig 36 and the first measurement probe group 13. As described above, the work mounting table 34 is urged in the direction of the jig 36, so that the first terminal portion (land 9) comes into contact with the tip of the first measurement probe 10. By pressing the tip, the first sense terminal 10 is turned on as shown in FIG.
b, the first source terminal 10a is urged by the elastic urging member in the direction of the first terminal portion (land 9) to come into contact with the first terminal portion (land 9).

【0083】第一測定プローブ形状においては図6に示
されるような形状をとることもできる。図6には基板1
4下面においてピン12が突出するピングリッドアレイ
(以下、単にPGAとも言う)が示されており、第一測
定プローブ10はピン12を先端部における凹みに挿入
して位置決めする形態となる。図9に示されるように、
第一センス端子10bは第一ソース端子10aと摺動可
能に嵌合し、両端子10a、10bはホルダー11内に
て独立して上下動可能とされている。第一ソース端子1
0aは筒状に形成され、先端面において軸断面中心側に
て引っ込むテーパー面を有する。そして、第一センス端
子10bは先端部が尖鋭に形成され、その先端部は第一
ソース端子10aの開口端近傍に位置する。
The shape of the first measurement probe may be as shown in FIG. FIG. 6 shows the substrate 1
4 shows a pin grid array (hereinafter, also simply referred to as PGA) in which the pins 12 protrude from the lower surface, and the first measurement probe 10 has a form in which the pins 12 are inserted into the recesses at the tip and positioned. As shown in FIG.
The first sense terminal 10b is slidably fitted with the first source terminal 10a, and both terminals 10a and 10b are independently movable up and down in the holder 11. First source terminal 1
Reference numeral 0a is formed in a cylindrical shape, and has a tapered surface which is retracted on the center side of the axial cross section at the distal end surface. The tip end of the first sense terminal 10b is formed sharp, and the tip end is located near the opening end of the first source terminal 10a.

【0084】図9に示されるように、第一センス端子1
0bの先端が第一ソース端子10aの上端に位置するよ
うに両プローブの上端を揃えてもよいが、第一ソース端
子10aの先端が第一センス端子10bの先端よりも僅
かに被検査体側に近接する位置としてもよい。即ち、ピ
ン状プローブ要素としてのセンス端子10bの先端縁位
置は、筒状プローブ要素としての第一ソース端子のテー
パ面の外縁位置よりも軸線方向において引っ込んで位置
するようにできる。このようにすると、第一端子部とし
てのピン12が第一ソース端子10aの凹部に挿入され
て横方向のズレが拘束された後、第一センス端子10b
のテーパー面がピン12の先端面外縁に当接することと
なるため接触面積を大きくできるとともに、ピンのズレ
防止がなされ第一測定プローブ10のピンに対する位置
決めの精度が向上する。さらに、ピン状プローブ要素と
して第一センス端子10bの先端部が筒状プローブ要素
としての第一ソース端子10aの先端縁よりも所定量突
出して配置されるようにしてもよい。このようにするこ
とで、ピン状プローブ要素の当接においてピン先に荷重
を集中でき、ピン状プローブ要素の当接状態を確実なも
のとすることができる。
As shown in FIG. 9, the first sense terminal 1
Although the upper ends of both probes may be aligned so that the tip of the first source terminal 10a is located at the upper end of the first source terminal 10a, the tip of the first source terminal 10a is slightly closer to the test object than the tip of the first sense terminal 10b. The position may be close to the position. That is, the tip end position of the sense terminal 10b as the pin-shaped probe element can be set to be retracted in the axial direction from the outer edge position of the tapered surface of the first source terminal as the cylindrical probe element. In this way, after the pin 12 as the first terminal portion is inserted into the recess of the first source terminal 10a and the lateral displacement is restrained, the first sense terminal 10b
Since the tapered surface of the first probe abuts against the outer edge of the distal end surface of the pin 12, the contact area can be increased, the displacement of the pin can be prevented, and the positioning accuracy of the first measurement probe 10 with respect to the pin can be improved. Further, the tip of the first sense terminal 10b as the pin-shaped probe element may be arranged so as to protrude by a predetermined amount from the tip of the first source terminal 10a as the tubular probe element. By doing so, the load can be concentrated on the tip of the pin when the pin-shaped probe element contacts, and the contact state of the pin-shaped probe element can be ensured.

【0085】図10及び図11には図9に示される形状
をとる第一測定プローブ10の内部構成について示して
いる。図4及び図5に示される内部構成と同様に、第一
ソース端子10aは第一の弾性付勢部材としての導電性
を有する第一コイルばね16の一端において導通可能に
接続され、その第一コイルばね16の他端には導電性を
有する共通結線としての土台部28が接続されている。
また、図11に示されるように、第一ソース端子10a
と摺動可能に嵌合する第一センス端子10bにも第二の
弾性付勢部材としての導電性を有する第二コイルばね1
7が接続され、さらに第二コイルばね17の他端には電
圧測定用配線22と導通する端子18が接続される。従
って、第一センス端子10bは電圧測定用配線22と導
通可能となっている。そして、図11に示されるように
ピン12が第一測定プローブ10と当接し、第一ソース
端子10a及び第一センス端子10bが所定量押下され
た場合には、第一、第二コイルばね16、17によって
各端子10a、10bはピン12方向に付勢され、その
付勢された状態でピン12と第一測定プローブ10の当
接状態が維持されることとなる。このように当接するこ
とで、第一端子部としてのピン12と第一測定プローブ
10との良好な導通が可能となり、接触抵抗が低い値に
て安定することとなる。
FIGS. 10 and 11 show the internal structure of the first measuring probe 10 having the shape shown in FIG. Similar to the internal configuration shown in FIGS. 4 and 5, the first source terminal 10a is conductively connected at one end of a conductive first coil spring 16 as a first elastic biasing member. A base 28 as a common connection having conductivity is connected to the other end of the coil spring 16.
Further, as shown in FIG. 11, the first source terminal 10a
The second coil spring 1 having conductivity as a second elastic urging member is also provided on the first sense terminal 10b slidably fitted with the first sense terminal 10b.
7 is connected, and the other end of the second coil spring 17 is connected to a terminal 18 electrically connected to the voltage measurement wiring 22. Accordingly, the first sense terminal 10b can conduct with the voltage measurement wiring 22. As shown in FIG. 11, when the pin 12 comes into contact with the first measurement probe 10 and the first source terminal 10a and the first sense terminal 10b are pressed down by a predetermined amount, the first and second coil springs 16 , 17 urge each terminal 10a, 10b in the direction of the pin 12, and in this urged state, the contact state between the pin 12 and the first measurement probe 10 is maintained. By such contact, good conduction between the pin 12 as the first terminal portion and the first measurement probe 10 becomes possible, and the contact resistance is stabilized at a low value.

【0086】また、図8にはこのようなピン12を有す
る基板14(図6参照)の取り付け方法例について示し
ている。図3の場合と同様に、図示しないワーク取付機
構によって基板14はワーク設置台34の所定位置にお
いてその基板14が嵌まり合うよう形成された凹部に載
置されることで、ワーク設置台34上において位置決め
され、さらに、ワーク設置台34が嵌合可能となるよう
凹部が形成された治具36において、ワーク取付機構機
構によってワーク設置台34が載置される。ワーク設置
台34は、治具36上に固定される第一測定プローブ群
13の各プローブ位置及び基板14から突出するピン1
2の位置に対応して孔41が形成され、治具36設置前
においては図8に示されるように、ピン12が対応する
各孔41に挿入された状態で設置される。そして、ワー
ク設置台34を治具36上に載置する時には、その孔4
1にそれぞれ対応する第一測定プローブ10が挿入さ
れ、前述したように(図10、図11参照)第一測定プ
ローブ10とピン12が当接することとなる。また、ワ
ーク設置台34及び基板14の治具36上への設置は、
図3における設置と同様に真空引き装置等の付勢手段に
よってワーク設置台34及び基板14に治具36方向へ
の付勢力を与えることとしている。
FIG. 8 shows an example of a method of attaching the substrate 14 having such pins 12 (see FIG. 6). As in the case of FIG. 3, the substrate 14 is placed at a predetermined position on the work mounting table 34 by a work mounting mechanism (not shown) in a recess formed so that the substrate 14 is fitted to the work mounting table 34. In the jig 36 in which the recess is formed so that the work mounting table 34 can be fitted, the work mounting table 34 is placed by the work mounting mechanism mechanism. The work mounting table 34 includes a probe 1 fixed to a jig 36, a position of each probe of the first measurement probe group 13, and a pin 1 protruding from the substrate 14.
Holes 41 are formed corresponding to the positions 2, and before the jig 36 is installed, as shown in FIG. 8, the pins 12 are installed with the pins 12 inserted into the corresponding holes 41. When the work mounting table 34 is placed on the jig 36, the holes 4
The first measurement probe 10 corresponding to each of the first measurement probes 1 is inserted, and the first measurement probe 10 and the pin 12 come into contact with each other as described above (see FIGS. 10 and 11). In addition, the installation of the work mounting table 34 and the substrate 14 on the jig 36
Similar to the installation in FIG. 3, an urging force in the direction of the jig 36 is applied to the work mounting table 34 and the substrate 14 by urging means such as a vacuuming device.

【0087】また、第一測定プローブ群をマトリックス
状に配置することで、一定の外部端子マトリックス(図
6においてはピン間隔)を有する基板において共用でき
る汎用性の高いものとなる。ここで言う一定の外部端子
マトリックスを有する基板とは、基板に備えられる外部
端子が所定のマトリックスを基準としその格子点上のみ
に存在するような基板を意味する。なお、所定のマトリ
ックスとは、プローブ群によって構成されるプローブの
存在位置(プローブによる検査位置)を格子点とするマ
トリックスである。同一のマトリックスにおける格子点
に外部端子が位置するものの、僅かに外部端子存在位置
が違うような複数種の基板の場合、例えば、図6に示さ
れるピン配列をとる基板14に対し、図7(a)に示さ
れるような、基準となるピン配列は同じであるものの一
部においてピン存在位置が異なる基板14でも共用でき
る。
Further, by arranging the first measurement probe group in a matrix, it becomes highly versatile and can be shared by substrates having a fixed external terminal matrix (pin interval in FIG. 6). Here, the substrate having a fixed external terminal matrix means a substrate in which the external terminals provided on the substrate exist only on the lattice points based on a predetermined matrix. Note that the predetermined matrix is a matrix in which the existing positions (inspection positions by the probes) of the probes formed by the probe groups are grid points. In the case of a plurality of types of substrates in which external terminals are located at lattice points in the same matrix but the external terminal existence positions are slightly different, for example, a substrate 14 having a pin arrangement shown in FIG. Although the reference pin arrangement is the same as shown in FIG.

【0088】このように、基準となるマトリックスをも
って第一プローブ群13が構成されるため、そのマトリ
ックスの格子点上に配置される第一端子部は網羅でき、
格子点の一部において第一端子部が配置されないような
場合でも、配置される第一端子部がマトリックス上にあ
ればその第一端子部においては第一測定プローブ群13
を共用できることとなる。別例を挙げると、同一のマト
リックス構成をとるものであれば、図7(b)のように
ピン12の配置位置が図6又は図7(a)とは異なる場
合でもこれらと第一測定プローブ群13を共用できるこ
ととなる。従って、汎用性の高いものとなり、検査コス
ト、製造コストの削減の一助となる。なお、ここで言う
マトリックスとは、所定数の行、及び列を有する長方形
又は正方形配列としてもよいが、これに限定されるもの
ではない。第一端子部位置が異なる種々の基板におい
て、その第一端子部を網羅する第一測定プローブ群を構
成するようにすれば、それら基板において共用できる第
一測定プローブ群となり、汎用性をもたせることができ
る。
As described above, since the first probe group 13 is constituted by the matrix serving as the reference, the first terminals arranged on the lattice points of the matrix can be covered.
Even in the case where the first terminal portion is not arranged at a part of the lattice point, if the arranged first terminal portion is on the matrix, the first measuring probe group 13 is provided at the first terminal portion.
Can be shared. As another example, as long as they have the same matrix configuration, even if the arrangement position of the pins 12 is different from that shown in FIG. 6 or 7A as shown in FIG. The group 13 can be shared. Therefore, it becomes highly versatile, which helps to reduce inspection costs and manufacturing costs. Here, the matrix may be a rectangular or square array having a predetermined number of rows and columns, but is not limited to this. By configuring the first measurement probe group covering the first terminal portion on various substrates having different first terminal portion positions, it becomes a first measurement probe group that can be shared by those substrates, and has versatility. Can be.

【0089】次に検査装置における第二測定プローブ4
2及び補助測定プローブ27の位置調整方法の一例につ
いて説明する。図12にはその装置構成についてのブロ
ック図を示している。検査装置には入出力信号の制御等
をおこなうCPU101、検査プログラム等が格納され
るROM102、検査データ等を記憶するRAM103
を有し、更に、設定等を入力するマウス、キーボード等
の入力装置104、検査結果等を出力するディスプレ
ー、プリンター等の出力装置105、検査結果等を記憶
する外部記憶装置106を有している。また、検査装置
1における抵抗測定を可能とする測定装置26、測定装
置26からの測定データをデジタル化するA/D変換器
111、第二測定プローブ42の位置調整を可能とする
位置調整手段112、ワークとしての基板を治具に設置
するワーク取付機構115が備えられている。
Next, the second measurement probe 4 in the inspection device
2 and an example of a method of adjusting the position of the auxiliary measurement probe 27 will be described. FIG. 12 shows a block diagram of the device configuration. The inspection apparatus includes a CPU 101 for controlling input / output signals, a ROM 102 for storing an inspection program and the like, and a RAM 103 for storing inspection data and the like.
And an input device 104 such as a mouse and a keyboard for inputting settings and the like, a display for outputting test results and the like, an output device 105 such as a printer, and an external storage device 106 for storing test results and the like. . In addition, the measuring device 26 that enables the resistance measurement in the inspection device 1, the A / D converter 111 that digitizes the measurement data from the measuring device 26, and the position adjustment unit 112 that enables the position adjustment of the second measurement probe 42. And a work mounting mechanism 115 for mounting a substrate as a work on a jig.

【0090】検査が開始されると、ROM102に格納
される検査プログラムに従って指示が出され、CPU1
01がワーク取付機構に115にワークの設置の信号を
出し、ワークがワーク保持板34上に設置され、前述し
た真空引き装置等の付勢手段によってワーク保持板34
が治具36方向に付勢される。そして、CPU101か
らの信号を受けて位置調整手段112が駆動されること
となる。この時、サーボ駆動ユニットを介してX、Y、
Zの正負方向に移動可能とされる各方向の駆動モーター
44、45,46を所定の位置に駆動させることとな
る。なお、この時、治具36に設置された検査開始前の
ワークをCCDカメラ等の撮像装置によって画像を取り
込み、取得画像と登録画像(CADデータ等によって予
め登録され、基板の基準形状、基板の基準中心座標等の
情報を有する画像)とを比較することによって位置補正
を行う。X駆動モータ44及びY駆動モータ45はその
位置補正が考慮された中心位置座標を基準として所定の
方向に移動される。
When the inspection is started, an instruction is issued according to the inspection program stored in the ROM 102 and the CPU 1
01 sends a work setting signal to the work mounting mechanism 115, the work is set on the work holding plate 34, and the work holding plate 34 is urged by the above-described urging means such as a vacuum device.
Is urged toward the jig 36. Then, the position adjusting means 112 is driven in response to a signal from the CPU 101. At this time, X, Y,
The drive motors 44, 45, 46 in each direction that can be moved in the positive and negative Z directions are driven to predetermined positions. At this time, an image of the workpiece before the start of the inspection set on the jig 36 is captured by an imaging device such as a CCD camera, and the acquired image and the registered image (registered in advance by CAD data or the like, the reference shape of the substrate, The position is corrected by comparing the image with an image having information such as reference center coordinates. The X drive motor 44 and the Y drive motor 45 are moved in a predetermined direction with reference to the center position coordinates in which the position correction is considered.

【0091】図13に示されるように、第二測定プロー
ブ42はその駆動モーターによってXYZの正負方向に
移動可能とされ、X駆動モータ44、Y駆動モータ45
によって基板14平面における検査位置に対応させて平
面的に移動させた後、Z駆動モータ46によって基板1
4に接近・離間する。
As shown in FIG. 13, the second measuring probe 42 can be moved in the positive and negative directions of XYZ by its driving motor, and the X driving motor 44 and the Y driving motor 45
After being moved in a plane corresponding to the inspection position on the plane of the substrate 14 by the
Approach and move away from 4.

【0092】位置調整手段によって移動される第二測定
プローブ42が接触する検査位置は、基板上面における
第二端子部が存在する位置であって、かつ基板14内に
形成される基板内配線(配線ネット)によって下部に備
えられる第一測定プローブ10と導通可能とされる位置
が指定される。その指定された位置に第二測定プローブ
42は位置調整手段によって移動されることとなる。ま
た、その指定する検査位置は基板14上に存在する複数
の第二端子部(例えば複数の半田バンプ6)からランダ
ムに選択するようにしてもよいし、予め決められた検査
位置(決められた半田バンプ6)を測定するようにして
もよい。また、補助測定プローブ27においても同様の
位置調整方法によって補助端子保持板25の測定配線ネ
ットに対応する補助端子位置を選択し補助測定プローブ
27が当接することとなる。このように、第二測定プロ
ーブ42及び補助測定プローブ27が測定配線ネットに
対応した端子を選択し、配線ネットに生じる抵抗値を測
定装置26(図1)にて測定することとなる。
The inspection position where the second measurement probe 42 moved by the position adjusting means comes into contact is the position where the second terminal portion exists on the upper surface of the substrate, and the wiring within the substrate (wiring The position at which electrical connection with the first measurement probe 10 provided at the lower part is enabled by the net is specified. The second measuring probe 42 is moved to the designated position by the position adjusting means. Further, the designated inspection position may be randomly selected from a plurality of second terminal portions (for example, a plurality of solder bumps 6) existing on the substrate 14, or may be a predetermined inspection position (a predetermined inspection position). The solder bump 6) may be measured. Also, in the auxiliary measurement probe 27, an auxiliary terminal position corresponding to the measurement wiring net of the auxiliary terminal holding plate 25 is selected by the same position adjustment method, and the auxiliary measurement probe 27 comes into contact with the auxiliary measurement probe. Thus, the second measurement probe 42 and the auxiliary measurement probe 27 select the terminal corresponding to the measurement wiring net, and the resistance value generated in the wiring net is measured by the measuring device 26 (FIG. 1).

【0093】次に、基板14、第二測定プローブ42、
第一測定プローブ10及び検査装置26、補助端子保持
板25等の回路構成について説明する。図14は図1に
示される検査装置の回路構成を簡易的に示したものであ
る。図14では第一端子部としてのランド9が基板14
に複数設けられ第一端子部群を形成している。そして、
第一端子部には第一測定プローブ10が当接し、導通可
能とされており、各第一測定プローブ10に備えられる
電流通電用プローブ要素としての第一ソース端子10a
は電流通電用配線21によって共通結線とされる。その
電流通電用配線21は測定用定電流電源48の一方の端
子に接続され、他方の端子においても電流通電用配線2
1が接続され、さらにその配線には第二測定プローブ4
2における電流通電用プローブ要素としての第二ソース
端子42aが接続される。このようにして、配線される
ことで、被抵抗測定部としての基板内部配線7に定電流
を流している。
Next, the substrate 14, the second measurement probe 42,
The circuit configuration of the first measurement probe 10, the inspection device 26, the auxiliary terminal holding plate 25, and the like will be described. FIG. 14 schematically shows a circuit configuration of the inspection apparatus shown in FIG. In FIG. 14, the land 9 as the first terminal portion is
Are provided to form a first terminal section group. And
A first measurement probe 10 is in contact with the first terminal portion and is made conductive.
Are connected in common by the current supply wiring 21. The current supply line 21 is connected to one terminal of a constant current power supply 48 for measurement, and the other terminal is connected to the current supply line 2.
1 is connected, and the second measurement probe 4
2 is connected to the second source terminal 42a as a current passing probe element. By being wired in this manner, a constant current is applied to the substrate internal wiring 7 as the resistance measurement section.

【0094】そして、第二測定端子としての複数の半田
バンプ6のうち、第二測定プローブ42によって選択さ
れた位置(図14においては右端の半田バンプ8)にお
いて、電圧測定が可能となるように、電圧測定用プロー
ブ要素(第一センス端子10b、第二センス端子42
b)が第一及び第二端子部(ランド9、半田バンプ6)
にそれぞれ当接する。なお、第一センス端子10bから
の電圧測定用配線22は、補助端子32及び33とその
間の結線、及び補助プローブ27等を介して電圧測定装
置50に接続され、さらに、第二センス端子42bから
の電圧測定用配線22は同じく電圧測定装置50に接続
される。このように電流通電用配線21等による電流通
電用回路、電圧測定用配線22等による電圧測定用回路
が構成されることで被抵抗測定部としての基板内部配線
7(配線ネット)の4端子測定法等の抵抗測定が可能と
なる。
Then, the voltage can be measured at the position selected by the second measuring probe 42 (the rightmost solder bump 8 in FIG. 14) among the plurality of solder bumps 6 as the second measuring terminals. , Voltage measuring probe elements (first sense terminal 10b, second sense terminal 42
b) is the first and second terminal portions (lands 9, solder bumps 6)
Contact each other. Note that the voltage measurement wiring 22 from the first sense terminal 10b is connected to the voltage measurement device 50 via the auxiliary terminals 32 and 33 and the connection between them, the auxiliary probe 27 and the like, and further from the second sense terminal 42b. Are connected to the voltage measuring device 50 in the same manner. In this way, a current-carrying circuit such as the current-carrying wiring 21 and a voltage-measuring circuit such as the voltage-measuring wiring 22 are configured to measure four terminals of the board internal wiring 7 (wiring net) as a resistance measurement unit. It becomes possible to measure the resistance by the method.

【0095】なお、本検査装置においては第二測定プロ
ーブ42と補助プローブ27は位置調整手段によって位
置調整されて、それぞれ対応する端子に当接される。し
かしながら、図15に示されるように、誤った結線とな
ってしまった場合(図15では補助プローブ27が正し
くはA1の端子に接続するはずが誤ってB1に接続され
た例を示す)、測定される抵抗は測定すべき第一、第二
測定プローブ10、42間(図15においてはA1部
分)の抵抗値に加え、不必要な抵抗要素(矢印60a部
分のプローブ間配線を電流が流れる時のセグメント43
における抵抗、矢印60b部分を電流が流れる時の端子
とプローブとの接触抵抗等)が加算されてしまう。この
場合、セグメント43における抵抗、及びB1位置のラ
ンド9におけるプローブ10との接触抵抗は不安定であ
り、且つ全体の抵抗値の大半を占める値となる。このよ
うな場合、抵抗測定位置(図15ではA1位置)の基板
内部配線7の不具合等よるものなのか、それとも結線情
報が間違っているのか(第二測定プローブ42と補助プ
ローブ27が対応する位置でないのか)測定値からは判
断が困難となる。そこで、図16に示されるような回路
構成とし、漏洩電流抑制手段をもって問題を解消するこ
とができる。以下にその説明をする。
In the present inspection apparatus, the position of the second measuring probe 42 and the position of the auxiliary probe 27 are adjusted by the position adjusting means, and they are brought into contact with the corresponding terminals. However, as shown in FIG. 15, when an incorrect connection is made (FIG. 15 shows an example in which the auxiliary probe 27 is supposed to be correctly connected to the terminal of A1 but incorrectly connected to B1). The resistance to be measured is not only the resistance value between the first and second measurement probes 10 and 42 to be measured (A1 portion in FIG. 15), but also an unnecessary resistance element (when a current flows through the probe-to-probe wiring indicated by the arrow 60a). Segment 43 of
, The contact resistance between the terminal and the probe when a current flows through the portion of the arrow 60b). In this case, the resistance of the segment 43 and the contact resistance of the land 9 at the position B1 with the probe 10 are unstable and occupy most of the entire resistance value. In such a case, is it due to a defect of the wiring 7 inside the board at the resistance measurement position (position A1 in FIG. 15) or is the connection information incorrect (the position where the second measurement probe 42 and the auxiliary probe 27 correspond to each other)? Is it difficult to judge from measured values? Thus, the circuit configuration as shown in FIG. 16 can be adopted, and the problem can be solved by the leakage current suppressing means. This is described below.

【0096】図16に示されるように、第一測定プロー
ブ10に接続される共通結線において、プローブ間配線
となるセグメント43において、その配線セグメント4
3への測定用電流の漏洩を抑制する漏洩電流抑制手段と
しての抵抗体46を備えている。この抵抗体46は基板
内部配線7の抵抗値の参照情報よりも十分に大きい値を
有するものする(プローブと端子との間に生じる接触抵
抗より十分に大きくする)。そして、図16に示される
ように、互いに異なる配線ネットに第二測定プローブ4
2と補助測定プローブ27とを誤って接続した場合に
は、漏洩電流抑制手段となる抵抗体46によって測定用
電流の配線セグメント46への漏洩(矢印60a方向へ
の電流の漏洩)が抑制され、測定される抵抗値は参照情
報よりも十分に大きいものとなる(即ち、測定される抵
抗値の大半が抵抗体46によるものとなる)。なお、漏
洩電流抑制手段に抵抗体を用いずにダイオード、ダイア
ック等の素子を用いて行ってもよい。
As shown in FIG. 16, in the common connection connected to the first measurement probe 10, in the segment 43 serving as the inter-probe wiring, the segment 43
3 is provided with a resistor 46 as a leakage current suppressing means for suppressing leakage of the measuring current to 3. The resistor 46 has a value sufficiently larger than the reference information of the resistance value of the internal wiring 7 of the substrate (it is sufficiently larger than a contact resistance generated between the probe and the terminal). Then, as shown in FIG. 16, the second measurement probe 4 is connected to different wiring nets.
2 and the auxiliary measurement probe 27 are erroneously connected, the leakage of the measuring current to the wiring segment 46 (the leakage of the current in the direction of the arrow 60a) is suppressed by the resistor 46 serving as the leakage current suppressing means. The measured resistance will be much larger than the reference information (ie, the majority of the measured resistance will be due to resistor 46). Note that the leakage current suppression means may be performed using an element such as a diode or diac without using a resistor.

【0097】図17には第二測定プローブ42の形状に
ついて示す。第二測定プローブ42は半田バンプ6との
当接方向(図17における図面下方向)を先端側とし
て、先端側が尖鋭に形成されるとともに、一方が電流通
電用プローブ要素としての第ニソース端子42a、他方
が電圧測定用プローブ要素としての第二センス端子42
bとして、一対の針状プローブ要素として第二測定プロ
ーブ42とされる。そして、それら針状プローブ要素は
先端側を接近して配置される(なお、それら針状プロー
ブ要素が、先端側に向かうほど配置間隔が狭幅となるよ
うに配置しても良い)。
FIG. 17 shows the shape of the second measurement probe 42. The second measurement probe 42 is formed such that the tip side is the contact side with the solder bump 6 (downward in FIG. 17) and the tip side is sharp, and one of the second measurement probes 42 is a second source terminal 42a as a current passing probe element. The other is a second sense terminal 42 as a voltage measuring probe element.
As b, the second measurement probe 42 is used as a pair of needle probe elements. The needle-like probe elements are arranged closer to the distal end side (the needle-like probe elements may be arranged such that the arrangement interval becomes narrower toward the distal end side).

【0098】そして、針状プローブ要素としての第二ソ
ース端子42a及び第二センス端子42bは第二端子部
との接近・離間方向に移動可能とされ、その移動可能方
向に付勢する付勢手段としての弾性部材49(例えばコ
イルばね)が備えられる。そして、前述した位置調整手
段によって半田バンプ6当接した第二測定プローブ42
の各端子(第二ソース端子42a、第二センス端子42
b)は半田バンプ6との当接方向に付勢された状態にて
当接状態が維持される。なお、第二ソース端子42a及
び第二センス端子42bは半田バンプ6との当接位置
(針状部の先端近傍)以外においては絶縁体によるコー
ティング等の絶縁処理がなされ、互いに絶縁されてい
る。このように、先端側が互いに接近した状態にて配置
されることで、第二端子部(例えば、半田バンプ6)の
端子間隔、端子面積の小さいものでもソース端子及びセ
ンス端子がともに接触可能となり、4端子抵抗測定法等
を可能とすることができる。
The second source terminal 42a and the second sense terminal 42b as needle-like probe elements are movable in a direction of approaching / separating from the second terminal portion, and biasing means for biasing in the movable direction. An elastic member 49 (for example, a coil spring) is provided. Then, the second measuring probe 42 contacted with the solder bump 6 by the above-described position adjusting means.
Terminals (second source terminal 42a, second sense terminal 42
In (b), the contact state is maintained while being urged in the contact direction with the solder bump 6. The second source terminal 42a and the second sense terminal 42b are insulated from each other by coating with an insulator at locations other than the contact position with the solder bump 6 (near the tip of the needle-shaped portion). By arranging the distal ends close to each other, the source terminal and the sense terminal can both come into contact with each other even if the terminal interval of the second terminal portion (for example, solder bump 6) and the terminal area are small, A four-terminal resistance measurement method or the like can be performed.

【0099】また、電流通電用プローブ要素としての第
二ソース端子42aの第二端子部との当接方向における
先端と、電圧測定用プローブ要素としてのセンス端子4
2bの第二端子部との当接方向における距離をLとし、
半田バンプの径R(図18等参照)に対する比率L/R
が0.2〜0.85の範囲をとるように構成される。
Further, the tip of the second source terminal 42a as a current passing probe element in the contact direction with the second terminal portion, and the sense terminal 4 as a voltage measuring probe element.
Let L be the distance in the contact direction with the second terminal portion of 2b,
Ratio L / R to diameter R of solder bump (see FIG. 18 etc.)
Is in the range of 0.2 to 0.85.

【0100】上記第二測定プローブ42を用い、これら
を半田バンプ6に食い込ませて抵抗値検査を行うこと
で、図18に示されるような第一測定孔53,53の底
においては軸断面積が縮小される略V字状の軸断面形状
が形成されるようになる。そして、孔底部においては半
田バンプの傷が軽微となり、基板配線への測定孔の影響
を少なくすることができ、配線の保護等につながる。さ
らに、V字底側にて互いに接近するように深さ方向に傾
斜して形成されるようにすることで、孔間隔を挟幅にで
き、適正な範囲に保つことができる。なお、このように
形成される第一測定孔53,53は良好な検査状態が行
われたことの証明となるため、半田バンプ6にこのよう
な測定孔を形成することで検査後における抵抗値検査の
確認が容易になる。
By using the second measurement probe 42 and making it bite into the solder bumps 6 to perform a resistance value inspection, the bottom of the first measurement holes 53 and 53 as shown in FIG. , A substantially V-shaped axial cross-sectional shape is formed. At the bottom of the hole, the damage of the solder bump becomes small, and the influence of the measurement hole on the substrate wiring can be reduced, which leads to protection of the wiring and the like. Further, by being formed so as to be inclined in the depth direction so as to approach each other at the V-shaped bottom side, the hole interval can be made narrower and can be kept in an appropriate range. Since the first measurement holes 53 formed in this manner prove that a good inspection state has been performed, the formation of such measurement holes in the solder bump 6 allows the resistance value after the inspection to be performed. Confirmation of inspection becomes easy.

【0101】図18において半田バンプ6の形状をさら
に説明すると、基板14において複数設けられる半田バ
ンプ6の少なくとも一部のものの表層部に、半田バンプ
6の表面にそれぞれ開口する一対の第一測定孔53、5
3が形成され、その一対の第一測定孔53,53の平面
視(図18(b)参照)における孔開口部の幾何学的重
心間距離として定義される孔間距離(図18(b)にお
いてはr)が23〜96μmの範囲に形成され、かつ孔
深さ(図18(a)においてはd2)が3〜30μmの
範囲にて形成される。
The shape of the solder bump 6 will be further described with reference to FIG. 53, 5
3 is formed, and the distance between holes defined as the geometric distance between the centers of gravity of the hole openings in a plan view (see FIG. 18B) of the pair of first measurement holes 53 (FIG. 18B). In this case, r) is formed in the range of 23 to 96 μm, and the hole depth (d2 in FIG. 18A) is formed in the range of 3 to 30 μm.

【0102】それら測定孔は、平面視における孔開口部
の幾何学的重心間距離として定義される孔間距離をrと
して、半田バンプの径Rに対する比率r/Rが0.2〜
0.85であり、かつ孔深さをd2として、半田バンプ
の高さhに対する比率d2/hが0.1〜0.9となっ
ている。比率r/Rこの範囲より小さい場合には完全な
るプローブ間の絶縁(第二ソース端子42aと第二セン
ス端子42bとの絶縁)が困難となり、この範囲より大
きい場合には、第二測定プローブ42における一方の端
子が半田バンプ6外に外れる可能性が高くなる。また、
孔深さがこの範囲より小さい場合には、十分な当接状態
が維持できず接触抵抗が増大又は不安定となる可能性が
あり、この範囲より大きい場合には半田バンプ6に生じ
る負荷が大きくなり基板への負担が増大する(半田バン
プ6の圧壊、基板配線の断線等の原因となる)。従っ
て、第二検査情報生成工程を、この範囲をとる一対の第
一測定孔53、53を形成するように半田バンプ6に第
二測定プローブ42を食い込ませる工程とすることで抵
抗値検査が精度高く行え、かつ高品質な製品を提供でき
るバンプ付き基板の製造方法となる。なお、このような
範囲をとる第一測定孔53,53を有してバンプ付き基
板を形成することで抵抗値検査の良否を判断しやすくな
る(第一測定孔53,53を抵抗値検査の良否を証明す
るマークとして活用できる)。
Each of the measurement holes has a ratio r / R to the diameter R of the solder bump of 0.2 to 0.2, where r is the distance between holes defined as the geometric distance between the centers of gravity of the hole openings in plan view.
0.85, and the ratio d2 / h to the height h of the solder bumps is 0.1 to 0.9, where d2 is the hole depth. When the ratio r / R is smaller than this range, complete insulation between the probes (insulation between the second source terminal 42a and the second sense terminal 42b) becomes difficult. Is more likely to come off the solder bump 6. Also,
If the hole depth is smaller than this range, a sufficient contact state cannot be maintained and the contact resistance may increase or become unstable. If the hole depth is larger than this range, the load generated on the solder bump 6 may be large. This increases the load on the substrate (causing crushing of the solder bumps 6, disconnection of the substrate wiring, etc.). Accordingly, the second inspection information generation step is a step of making the second measurement probe 42 bite into the solder bump 6 so as to form a pair of first measurement holes 53 and 53 having this range. A method for manufacturing a substrate with bumps that can be performed at a high price and that can provide a high-quality product. By forming the substrate with bumps having the first measurement holes 53 having such a range, it is easy to judge the quality of the resistance value inspection. It can be used as a mark to prove the quality.)

【0103】また、図18(b)に示されるような平面
視において、第一測定孔53、53の孔開口部の合計面
積をS2として、半田バンプ6の底面積S0に対する比
率S2/S0が0.002〜0.45となるようにでき
る。(なお、孔開口部の面積は平面視において開口部外
縁にて仕切られる孔面積とすることができる。換言する
と、測定孔によって損失したバンプ表面の面積と言え
る。)この範囲よりも比率が小さい場合には第二測定プ
ローブ42と半田バンプ6との良好な接触状態となら
ず、接触抵抗が増大又は不安定となる。また、この範囲
より比率が大きい場合には、外観的に良くないのみなら
ず、半田バンプ6の圧壊、基板配線の断線等が生じる可
能性が高くなる。比率S2/S0がこの範囲をとるよう
に第二測定プローブ42を半田バンプ6食い込ませてバ
ンプ付き基板を形成する製造方法とすることが望まし
い。また、バンプ付き基板においてこのような第一測定
孔53,53が形成されることで、検査後においても抵
抗値検査の良否を判断しやすくなる(第一測定孔53,
53を抵抗値検査の良否を証明するマークとして活用で
きる)。
In a plan view as shown in FIG. 18B, the ratio S2 / S0 to the bottom area S0 of the solder bump 6 is defined as S2, where S2 is the total area of the openings of the first measurement holes 53. It can be set to 0.002 to 0.45. (Note that the area of the hole opening can be the area of the hole partitioned by the outer edge of the opening in a plan view. In other words, it can be said that the area of the bump surface lost by the measurement hole.) The ratio is smaller than this range. In this case, a good contact state between the second measurement probe 42 and the solder bump 6 is not obtained, and the contact resistance increases or becomes unstable. When the ratio is larger than this range, not only the appearance is not good, but also the possibility of crushing of the solder bumps 6 and disconnection of the substrate wiring increases. It is desirable to adopt a manufacturing method in which the second measurement probe 42 is cut into the solder bumps 6 so that the ratio S2 / S0 is in this range to form a substrate with bumps. Further, since the first measurement holes 53 are formed in the substrate with bumps, it is easy to determine whether the resistance value inspection is good or not even after the inspection (the first measurement holes 53, 53).
53 can be used as a mark proving the quality of the resistance value inspection).

【0104】図19には半田バンプ6の形状の別例につ
いて示している。基板14の一方の板面上に、各々半田
バンプ6からなる複数の第二端子部が二次元的に配列・
形成され、他方の板面上に各第二端子部に対応する複数
の第一端子部(ランド、ピン等)が二次元的に配列・形
成されるとともに、それら第一端子部と第二端子部との
互いに対応するもの同士が、ビアを含む配線ネットによ
り個別に接続された構造を有する。そして、基板14に
形成される配線ネットが導通しているかを判断するため
に、所定の抵抗値を閾値としその閾値よりも高抵抗であ
る否かを判断する第一検査情報生成工程としての導通検
査が行われる。この検査では、閾値以上の抵抗値を示す
配線ネットは絶縁状態とされ、閾値以下のものは導通状
態と判断するようにできる。このような、導通検査にお
いて配線ネットは、図21に示されるような導通検査用
プローブ55a、55bによって第一、第二端子部が当
接されることで抵抗測定(2端子法等)がされ、その当
接時に第二測定孔54が形成される。
FIG. 19 shows another example of the shape of the solder bump 6. A plurality of second terminal portions each composed of solder bumps 6 are two-dimensionally arranged and arranged on one plate surface of the substrate 14.
A plurality of first terminal portions (lands, pins, etc.) corresponding to each second terminal portion are two-dimensionally arranged and formed on the other plate surface, and the first terminal portion and the second terminal are formed. It has a structure in which parts corresponding to each other are individually connected by a wiring net including vias. Then, in order to determine whether or not the wiring net formed on the substrate 14 is conductive, a predetermined resistance value is set as a threshold value and a conduction as a first inspection information generating step of determining whether or not the resistance is higher than the threshold value. An inspection is performed. In this inspection, a wiring net having a resistance value equal to or higher than the threshold value is determined to be insulated, and a wiring net having a resistance value equal to or lower than the threshold value is determined to be conductive. In such a continuity test, the wiring net is subjected to resistance measurement (two-terminal method or the like) by bringing the first and second terminal portions into contact with the continuity test probes 55a and 55b as shown in FIG. The second measurement hole 54 is formed at the time of the contact.

【0105】この第二測定孔54の深さをd1、半田バ
ンプ6の高さをHとしたときに、d1/Hが0.1〜
0.9の範囲にて調整されている。さらに、平面視にお
ける測定孔の孔開口部の面積をS1として、バンプ底面
積S0に対する比率S1/S0が0.002〜0.45
となるように条件を付加してもよい。深さd1の半田バ
ンプ6の高さHに対する比率d1/Hがこの範囲より小
さいと導通検査用プローブ55aと半田バンプ6との十
分な当接状態が得られず、導通が不十分となり、ひいて
は検査ミスの一因となる。また、比率S1/S0がこの
範囲よりも小さい場合には導通検査を行う端子(導通検
査用プローブ55a、55b)と半田バンプ6との良好
な接触状態とならず、接触抵抗が増大又は不安定とな
る。さらに、この範囲より比率が大きい場合には、外観
的に良くないのみならず、半田バンプ6の圧壊、基板配
線の断線等が生じる可能性が高くなる。従って、比率d
1/Hにおける範囲、及び比率S1/S0における範囲
のいずれか一方又はともに満たすように導通検査用プロ
ーブ55aを半田バンプ6に食い込ませて導通検査を行
う工程を製造方法において設けることで、検査精度を高
精度なものとし、高品質な製品を提供できる。また、バ
ンプ付き基板においてこのような第二測定孔54が形成
されることで、検査後においても抵抗値検査の良否判断
が容易になる(第ニ測定孔54を導通検査の良否を証明
するマークとして活用できる)。
When the depth of the second measurement hole 54 is d1 and the height of the solder bump 6 is H, d1 / H is 0.1 to 0.1.
It is adjusted in the range of 0.9. Further, assuming that the area of the opening of the measurement hole in plan view is S1, the ratio S1 / S0 to the bump bottom area S0 is 0.002 to 0.45.
A condition may be added so that If the ratio d1 / H of the depth d1 to the height H of the solder bump 6 is smaller than this range, a sufficient contact state between the continuity inspection probe 55a and the solder bump 6 cannot be obtained, and the conduction becomes insufficient. This causes an inspection error. When the ratio S1 / S0 is smaller than this range, the terminals (continuity inspection probes 55a and 55b) for conducting the continuity inspection and the solder bumps 6 are not in a good contact state, and the contact resistance is increased or unstable. Becomes Further, when the ratio is larger than this range, not only the appearance is not good, but also the possibility of crushing of the solder bumps 6 and disconnection of the substrate wiring increases. Therefore, the ratio d
In the manufacturing method, a step of cutting the continuity test probe 55a into the solder bump 6 and performing a continuity test so as to satisfy one or both of the range at 1 / H and the range at the ratio S1 / S0 is provided in the manufacturing method. With high precision and provide high quality products. Further, since the second measurement hole 54 is formed in the substrate with bumps, it is easy to determine whether the resistance value inspection is good or not even after the inspection (the second measurement hole 54 is a mark for proving the continuity inspection. Can be used as).

【0106】このような導通検査等を行う第一検査情報
生成工程は、図1等に示される抵抗値検査工程等を有す
る第二検査情報生成工程の前段階に行うことができる。
導通検査は主として、各配線ネットが導通又は絶縁のい
ずれ状態にあるかを検査する方法であるため、この検査
工程において不良が判明した場合には、その時点で基板
を製品ラインから取り除くことが望ましい。しかしなが
ら、このような導通検査において良品と判断された基板
(導通検査を通過した基板)であっても、配線ネットの
抵抗値が個々に設定される許容範囲を外れる場合が存在
するため、導通検査後の別工程において、図1に示され
るような抵抗測定方法及び装置を用いて、第二検査情報
生成工程としての抵抗値検査を行うこととなる。このよ
うに、第一検査情報生成工程と第二検査情報生成工程を
有することで、相乗的に不良品の検査もれを防止でき、
極めて精度の高い不良品の除去が可能となる。また、導
通状態に関する第一検査情報を生成する第一検査情報生
成工程(例えば配線ネットが導通されているか否かを検
査する導通検査工程)と配線ネットの良否に関する第二
検査情報生成工程(例えば配線ネットの抵抗値を算出す
る抵抗値検査工程)が分離した工程とされ、それぞれの
工程において独立して不良品の除去が可能となるため、
不良品の重複検査を削減できることとなる。そして、導
通検査工程において検出された不良品を第一選別工程に
て除去し、残りの製品についてのみ抵抗値検査工程及び
第二選別工程を行えば良いため、抵抗値検査工程の検査
時間を短縮できることとなる。
The first inspection information generation step for performing such a continuity inspection or the like can be performed before the second inspection information generation step including the resistance value inspection step shown in FIG. 1 and the like.
Since the continuity test is mainly a method for checking whether each wiring net is in a continuity state or an insulation state, if a defect is found in this inspection process, it is desirable to remove the board from the product line at that time . However, even in the case of a board determined to be non-defective in such a continuity test (a board that has passed the continuity test), there is a case where the resistance value of the wiring net is out of an allowable range set individually, so that the continuity test is performed. In a later separate step, a resistance value test is performed as a second test information generation step using a resistance measuring method and apparatus as shown in FIG. In this way, by having the first inspection information generation step and the second inspection information generation step, it is possible to synergistically prevent the leakage of defective products,
It is possible to remove extremely defective defective products. Further, a first inspection information generating step of generating first inspection information relating to the conduction state (for example, a continuity inspection step of inspecting whether or not the wiring net is conductive) and a second inspection information generating step of determining whether the wiring net is good (for example, The resistance value inspection process for calculating the resistance value of the wiring net) is a separate process, and it is possible to independently remove defective products in each process.
Duplicate inspection of defective products can be reduced. Then, the defective products detected in the continuity inspection process are removed in the first screening process, and only the remaining products need to be subjected to the resistance testing process and the second screening process. You can do it.

【0107】また、導通検査は基板14に存在する半田
バンプ6の全てにおいて検査し(全数検査を行い)、そ
の後の抵抗値検査において半田バンプ6の一部を無作為
あるいは作為的に抜き取り検査するようにしてもよい。
このようにすると、検査時間の短縮しつつ十分な検査精
度を保つことができ、高品質な製品を短時間に製造でき
る製造方法となる。
In the continuity test, all the solder bumps 6 present on the substrate 14 are inspected (all the inspections are performed), and in the subsequent resistance value inspection, a part of the solder bumps 6 is inspected at random or at random. You may do so.
In this way, sufficient inspection accuracy can be maintained while shortening the inspection time, and a high-quality product can be manufactured in a short time.

【0108】図20においては、第一検査情報生成工程
(2端子測定法等による導通検査)による第二測定孔5
4及び、第二検査情報生成工程(4端子抵抗測定法等に
よる抵抗値検査)による一対の第一測定孔53,53が
共に形成された半田バンプ6を示している。一対の第一
測定孔53,53は上述した範囲(r/Rが0.2〜
0.85、かつd2/hが0.1〜0.9とされる範
囲)を満たし、第二測定孔54も上述した範囲(d1/
Hが0.1〜0.9の範囲)を満たして形成される。さ
らに、バンプ面積S0に対する孔の合計面積S3(一対
の第一測定孔53,53開口部面積及び第二測定孔54
の開口部面積の合計面積)の比率S3/S0が0.00
2〜0.45の値となるように各孔が形成されている。
この場合において、第二測定孔54は、第一測定孔5
3,53よりも孔開口部の面積及び深さが、いずれも大
きい単一の孔部となるようにバンプ付き基板を形成する
ようにしてもよい。このように差をもたせて形成するこ
とで、第一測定孔53,53と第二測定孔54とを検査
終了後に明確に区別できることとなり、各々の工程の当
接状態が把握できることとなる(例えば、第一測定孔5
3,53のみ孔形成が不十分であるならば第二検査情報
生成工程において異常が生じていると推測できる)。
In FIG. 20, the second measurement hole 5 in the first inspection information generation step (continuity inspection by a two-terminal measurement method or the like) is shown.
4 and a solder bump 6 in which a pair of first measurement holes 53 are formed together in a second inspection information generation step (resistance value inspection by a four-terminal resistance measurement method or the like). The pair of first measurement holes 53 is in the range described above (r / R is 0.2 to
0.85 and d2 / h is in the range of 0.1 to 0.9), and the second measurement hole 54 is also in the above-described range (d1 / h).
H is in the range of 0.1 to 0.9). Further, the total area S3 of the holes with respect to the bump area S0 (the pair of first measurement holes 53, 53 opening area and second measurement hole 54).
Ratio S3 / S0 is 0.00
Each hole is formed to have a value of 2 to 0.45.
In this case, the second measurement hole 54 is the first measurement hole 5
The bumped substrate may be formed such that the area and the depth of the hole opening are larger than the holes 3 and 53 in a single hole. By forming such a difference, the first measurement holes 53, 53 and the second measurement hole 54 can be clearly distinguished after the inspection is completed, and the contact state of each step can be grasped (for example, , First measurement hole 5
If only holes 3 and 53 are insufficiently formed, it can be assumed that an abnormality has occurred in the second inspection information generation step).

【0109】この範囲よりも比率S3/S0が小さい場
合には、第一測定孔53,53、又は第二測定孔54を
形成する工程(抵抗値検査等を行う第二検査情報生成工
程、導通検査等を行う第一検査情報生成工程)の少なく
ともいずれか一方の工程において不十分な当接となる可
能性が高く、測定孔によって検査の異常を検知できる。
また、この範囲より比率が大きい場合には、外観的に良
くないのみならず、半田バンプ6の圧壊、あるいは測定
孔によって半田バンプ6内部における基板配線の断線等
が生じる可能性が高くなる。従って、第一検査情報生成
工程及び第二検査情報生成工程においてこのような範囲
をとる測定孔を形成するように導通検査用プローブ55
a,55b、及び第二測定プローブ42を半田バンプ6
に食い込ませて導通検査、及び抵抗値検査をそれぞれ行
うことで、検査を精度高く実施でき、かつバンプの損傷
等が少ない高品質なバンプ付き基板の製造方法となる。
また、この範囲をとる第一測定孔53,53及び第二測
定孔54は良好な検査状態が行われたという証明マーク
としての役割を果たし、このような測定孔を有する半田
バンプ6によって検査の確認ができることとなる。
When the ratio S3 / S0 is smaller than this range, the step of forming the first measurement holes 53, 53 or the second measurement hole 54 (the second inspection information generation step of performing a resistance value inspection or the like, Insufficient contact is likely to occur in at least one of the first inspection information generation steps for performing an inspection or the like, and an abnormality in the inspection can be detected by the measurement hole.
If the ratio is larger than this range, not only the appearance is not good but also the possibility of crushing of the solder bump 6 or disconnection of the substrate wiring inside the solder bump 6 due to the measurement hole increases. Therefore, the continuity inspection probe 55 is formed so as to form a measurement hole having such a range in the first inspection information generation step and the second inspection information generation step.
a, 55b and the second measurement probe 42
By performing the continuity test and the resistance value test while making a cut, the inspection can be performed with high precision, and a method of manufacturing a high-quality bumped substrate with less damage to the bumps can be provided.
Further, the first measurement holes 53 and 53 and the second measurement hole 54 having this range serve as a proof mark that a good inspection state has been performed, and the solder bumps 6 having such measurement holes are used for the inspection. You will be able to confirm.

【0110】さらに、第二検査情報生成工程において、
第二測定孔54以外の半田バンプ6の表面に第二測定プ
ローブ42(図17)を当接させることができる。第一
検査情報生成工程による第二測定孔54部分に、第二測
定プローブ42を当接させた場合(例えば、第二測定プ
ローブ42の一方のプローブ要素が第二測定孔54に挿
入されたような場合)、当接面が平坦でないため第二測
定プローブ42が傾斜して当接され、不安定な接触状態
となる。従って、第二測定孔54が形成されていない平
坦なバンプ表面において当接すると、安定した接触が維
持される良好な接触状態となり、精度の高い抵抗値測定
が可能な第二検査情報生成工程となる。このような工程
を製造方法において設けることで高精度な検査が行え、
ひいては品質の向上に寄与する。
Further, in the second inspection information generation step,
The second measurement probe 42 (FIG. 17) can be brought into contact with the surface of the solder bump 6 other than the second measurement hole 54. When the second measurement probe 42 is brought into contact with the second measurement hole 54 in the first inspection information generation step (for example, one probe element of the second measurement probe 42 is inserted into the second measurement hole 54). In such a case, since the contact surface is not flat, the second measurement probe 42 comes into contact with the inclined surface, resulting in an unstable contact state. Therefore, when the contact is made on the flat bump surface where the second measurement hole 54 is not formed, a stable contact is maintained and a good contact state is obtained, and a second inspection information generation step capable of measuring a resistance value with high accuracy is provided. Become. By providing such a process in the manufacturing method, highly accurate inspection can be performed,
In turn, it contributes to quality improvement.

【0111】なお、このような半田バンプ6に生じる測
定孔の検査については特許第2881146号、特許第
2881147号、特許第2881148号に示される
ような検査方法を用いるとよい。
For the inspection of the measurement hole formed in the solder bump 6, such an inspection method as shown in Japanese Patent No. 2881146, Japanese Patent No. 2881147, and Japanese Patent No. 2881148 may be used.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の検査装置の一例を示す斜視説明図。FIG. 1 is a perspective explanatory view showing an example of an inspection device of the present invention.

【図2】第一端子部と第一測定プローブ群との接触状態
を示す要部拡大図。
FIG. 2 is an enlarged view of a main part showing a contact state between a first terminal portion and a first measurement probe group.

【図3】基板本体の取りつけ方法例を示す断面図。FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating an example of a method of attaching a substrate main body.

【図4】第一測定プローブの形状の一例を示す一部断面
図。
FIG. 4 is a partial cross-sectional view showing an example of the shape of a first measurement probe.

【図5】図4の端子の接触状態を示す説明図。FIG. 5 is an explanatory view showing a contact state of the terminal of FIG. 4;

【図6】図2において別形状を有する第一測定プローブ
を用いた図。
FIG. 6 is a view using a first measurement probe having a different shape in FIG. 2;

【図7】図6の第一測定プローブ群を種々の端子位置を
有する基板本体に使用した図。
FIG. 7 is a diagram in which the first measurement probe group of FIG. 6 is used for a substrate main body having various terminal positions.

【図8】図6の形状をとる基板本体の取り付け方法例を
示す図。
FIG. 8 is a diagram showing an example of a method of attaching a substrate main body having the shape shown in FIG. 6;

【図9】図6の第一測定プローブの形状を示す斜視拡大
図。
FIG. 9 is an enlarged perspective view showing the shape of the first measurement probe of FIG. 6;

【図10】図6の第一測定プローブの内部形状を示す一
部断面図。
FIG. 10 is a partial cross-sectional view showing the internal shape of the first measurement probe of FIG.

【図11】図10における当接状態を示す断面図。FIG. 11 is a sectional view showing a contact state in FIG. 10;

【図12】本発明の装置構成例を示すブロック図。FIG. 12 is a block diagram showing an example of a device configuration of the present invention.

【図13】第二測定プローブ及び補助測定プローブの位
置調整例を示す説明図。
FIG. 13 is an explanatory diagram showing an example of position adjustment of a second measurement probe and an auxiliary measurement probe.

【図14】図1の配線状態を簡易的に示す説明図。FIG. 14 is an explanatory diagram simply showing the wiring state of FIG. 1;

【図15】図14の誤配線状態を簡易的に示す説明図。FIG. 15 is an explanatory diagram simply showing an erroneous wiring state in FIG. 14;

【図16】図15に漏洩電流抑制手段を取り付けた説明
図。
FIG. 16 is an explanatory view in which a leakage current suppressing means is attached to FIG.

【図17】図1の第二測定プローブの端子形状例を示す
説明図。
FIG. 17 is an explanatory view showing an example of a terminal shape of the second measurement probe of FIG. 1;

【図18】半田バンプ形状の一例を示す説明図。FIG. 18 is an explanatory diagram showing an example of a solder bump shape.

【図19】半田バンプ形状の別例1を示す説明図。FIG. 19 is an explanatory view showing another example 1 of a solder bump shape.

【図20】半田バンプ形状の別例2を示す説明図。FIG. 20 is an explanatory view showing another example 2 of a solder bump shape.

【図21】導通検査例(第一検査情報生成工程例)を概
念的に説明する図。
FIG. 21 is a diagram conceptually illustrating a continuity test example (first test information generation step example).

【図22】基板本体の一例を示す平面図。FIG. 22 is a plan view showing an example of a substrate body.

【図23】図22の要部を示す側面断面図。FIG. 23 is a side sectional view showing a main part of FIG. 22;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

6 半田バンプ (第二測定端子) 7 基板内部配線(配線ネット) 9 ランド(第一端子部) 10 第一測定プローブ 10a 第一ソース端子 (第一プローブ要素、筒状プ
ローブ要素、電流通電用プローブ要素) 10b 第一センス端子 (第二プローブ要素、ピン状
プローブ要素、電圧測定用プローブ要素) 12 ピン(第一端子部) 13 第一測定プローブ群 14 基板本体 16 第一コイルばね (第一弾性付勢部材) 17 第ニコイルばね (第二弾性付勢部材) 21 電流通電用配線 22 電圧測定用配線 25 補助端子保持板 27 補助プローブ 32 上部補助端子 (補助端子部) 33 下部補助端子 (補助端子部) 42 第二測定プローブ 42a 第二ソース端子 (第一プローブ要素、電流通
電用プローブ要素) 42b 第二センス端子 (第二プローブ要素、電圧測
定用プローブ要素) 43 配線セグメント 46 抵抗体 (漏洩電流抑制手段) 48 測定用定電流電源0 53 第一測定孔 54 第二測定孔 55a,55b 導通検査用プローブ
Reference Signs List 6 Solder bump (second measurement terminal) 7 Internal wiring (wiring net) 9 Land (first terminal part) 10 First measurement probe 10a First source terminal (first probe element, cylindrical probe element, current-carrying probe Element) 10b first sense terminal (second probe element, pin-shaped probe element, probe element for voltage measurement) 12 pin (first terminal part) 13 first measurement probe group 14 substrate body 16 first coil spring (first elasticity) 17 Second coil spring (second elastic biasing member) 21 Wiring for current supply 22 Wiring for voltage measurement 25 Auxiliary terminal holding plate 27 Auxiliary probe 32 Upper auxiliary terminal (auxiliary terminal section) 33 Lower auxiliary terminal (auxiliary terminal) Part) 42 second measuring probe 42a second source terminal (first probe element, probe element for passing current) 42b second sense terminal (second Probe elements, the probe element for voltage measurement) 43 wire segment 46 resistor (leakage current suppressing means) 48 for measuring the constant current source 0 53 first measurement hole 54 second measurement hole 55a, 55b continuity test probe

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2G011 AA02 AA13 AA16 AB01 AC06 AC09 AC14 AE01 AF07 2G014 AA02 AA03 AA13 AA15 AB59 AC09 AC10 AC12 AC15 2G028 AA01 AA02 BC01 CG02 DH03 FK01 FK08 GL07 HN08 HN11 HN13 JP03 LR02 LR07  ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page F term (reference) 2G011 AA02 AA13 AA16 AB01 AC06 AC09 AC14 AE01 AF07 2G014 AA02 AA03 AA13 AA15 AB59 AC09 AC10 AC12 AC15 2G028 AA01 AA02 BC01 CG02 DH03 FK01 FK08 GL07 HN08 HN11 HN08 HN08 HN08 HN08

Claims (37)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板本体の一方の板面上に複数の第一端
子部が二次元的に配列・形成され、他方の板面上に前記
第一端子部に対応する複数の第二端子部が二次元的に配
列・形成されるとともに、それら第一端子部と第二端子
部との互いに対応するもの同士が、ビアを含む配線ネッ
トにより個別に接続された構造を有する基板の検査装置
であって、 電流通電用プローブ要素と電圧測定用プローブ要素とを
有し、それらプローブ要素において前記第一端子部に着
脱可能に当接する第一測定プローブが、該第一端子部の
二次元的な配列に対応して複数配置された第一測定プロ
ーブ群と、 電流通電用プローブ要素と電圧測定用プローブ要素とを
有し、それらプローブ要素において、複数の前記第二端
子部のいずれかに選択的かつ着脱可能に当接する第二測
定プローブと、 前記第一測定プローブ群を第一端子部群に当接させ、ま
た、測定対象となる配線ネットに対応した前記第二端子
部に前記第二測定プローブを当接させ、その状態にて前
記電流通電用プローブ要素により前記配線ネットに測定
用電流を通電しつつ、前記電圧測定用プローブ要素にて
測定される前記配線ネットへの印加電圧レベルに基づい
て、当該配線ネットの固有電気抵抗値を反映した情報を
生成する固有電気抵抗値情報生成手段と、 その生成された固有電気抵抗値情報を、配線ネット毎に
個別に定められた参照情報と比較することにより、当該
配線ネットの良否に関する検査情報を生成する検査情報
生成手段と、 を備えたことを特徴とする基板検査装置。
A plurality of first terminal portions are two-dimensionally arranged and formed on one plate surface of a substrate body, and a plurality of second terminal portions corresponding to the first terminal portions are formed on the other plate surface. Are two-dimensionally arranged and formed, and a board inspection device having a structure in which the corresponding ones of the first terminal portion and the second terminal portion are individually connected by a wiring net including vias. A first measurement probe having a current-carrying probe element and a voltage-measuring probe element, the first measurement probe detachably abutting on the first terminal part in the probe element, is a two-dimensional probe of the first terminal part. A plurality of first measurement probe groups arranged in accordance with the arrangement, comprising a current carrying probe element and a voltage measuring probe element, wherein the probe elements are selectively connected to any of the plurality of second terminal portions. And the detachable abutment The measurement probe, the first measurement probe group is brought into contact with the first terminal group, and the second measurement probe is brought into contact with the second terminal portion corresponding to the wiring net to be measured, and the state At the same time, a current for measurement is applied to the wiring net by the probe element for current supply, and based on a voltage level applied to the wiring net measured by the probe element for voltage measurement, a specific electric current of the wiring net is determined. A specific electric resistance value information generating means for generating information reflecting the resistance value; and comparing the generated specific electric resistance value information with reference information individually defined for each wiring net, to thereby obtain information on the wiring net. A board inspection apparatus, comprising: inspection information generation means for generating inspection information on pass / fail.
【請求項2】 前記第二測定プローブは、前記第二端子
部の形成側において、測定対象となる配線ネットに対応
した第二端子部を選択するために、前記基板本体の板面
方向に相対的に移動可能、かつ板厚方向において前記第
二端子部に接近・離間可能に設けられている請求項1記
載の基板検査装置。
2. The method according to claim 1, wherein the second measurement probe is positioned on a side of the substrate main body on a side where the second terminal is formed, in order to select a second terminal corresponding to a wiring net to be measured. The substrate inspection apparatus according to claim 1, wherein the substrate inspection apparatus is provided so as to be movable in a vertical direction and to be able to approach and separate from the second terminal portion in a thickness direction.
【請求項3】 前記第一端子部側が下側となるように前
記基板を略水平に着脱可能に支持する基板支持部を備
え、 前記第一測定プローブ群は、その支持された基板の下面
側にて各々前記第一端子部に当接する一方、前記第二測
定プローブは、該基板の上面側にて前記第二端子部に選
択的に当接するようになっている請求項1又は2に記載
の基板検査装置。
3. A substrate support portion for detachably supporting the substrate substantially horizontally so that the first terminal portion side is a lower side, wherein the first measurement probe group is a lower surface side of the supported substrate. The second measuring probe is configured to selectively contact the second terminal portion on the upper surface side of the substrate while each of the second measuring probes is in contact with the first terminal portion. Board inspection equipment.
【請求項4】 前記第一測定プローブ群から下向きに導
出される測定用配線群が、基板位置から横方向に外れた
位置まで延伸された後、末端部が上向きに方向転換され
た状態にて保持され、当該末端部に形成された補助端子
部に対し、測定対象となる配線ネットに対応する補助プ
ローブを当接させるとともに、該補助プローブと、対応
する測定用配線ならびに第一測定用プローブを介して、
前記第二測定プローブとの間で前記配線ネットの抵抗測
定を行うようにした請求項3記載の基板検査装置。
4. A wiring group for measurement led out downward from the first measurement probe group is extended to a position laterally deviated from a substrate position, and then the end is turned upward. Held, an auxiliary probe corresponding to the wiring net to be measured is brought into contact with the auxiliary terminal formed at the end, and the auxiliary probe, the corresponding measurement wiring and the first measurement probe are connected. Through,
4. The substrate inspection apparatus according to claim 3, wherein a resistance measurement of the wiring net is performed between the wiring net and the second measurement probe.
【請求項5】 各測定用配線からの補助端子部を、前記
第一測定プローブ群に対応した二次元配列にて保持する
補助端子保持板が設けられている請求項4記載の基板検
査装置。
5. The substrate inspection apparatus according to claim 4, further comprising an auxiliary terminal holding plate for holding auxiliary terminal portions from each measurement wiring in a two-dimensional array corresponding to the first measurement probe group.
【請求項6】 前記第一測定プローブ群からの各測定用
配線は、対応する第一測定プローブの電流通電用プロー
ブ要素と電圧測定用プローブ要素とのそれぞれに導通す
る電流通電用配線と電圧測定用配線とを含み、それら電
圧測定用配線と電流通電用配線との一方が前記補助端子
部に接続される一方、他方が共通結線される請求項4又
は5に記載の基板検査装置。
6. A current-carrying wire and a voltage-measurement wire which are respectively connected to a current-carrying probe element and a voltage-measurement probe element of a corresponding first measurement probe from the first measurement probe group. The substrate inspection apparatus according to claim 4, further comprising: a wiring for voltage measurement, wherein one of the wiring for voltage measurement and the wiring for current flow is connected to the auxiliary terminal portion, and the other is commonly connected.
【請求項7】 前記電圧測定用配線が前記補助端子部に
接続される一方、前記電流通電用配線が共通の測定用定
電流電源につながれており、 複数の前記第一測定プローブのうち、互いに隣接配置さ
れたものから個別に延びる電流通電用配線の各末端部
が、前記測定用定電流電源に向かう共通電源配線に対し
互いに異なる接続点にて隣接接続されるとともに、前記
共通電源配線の、それら隣接する接続点間に位置する配
線セグメントには、互いに異なる配線ネットに前記第二
測定プローブと前記補助プローブとを誤って接続した場
合に、当該配線セグメントへの測定用電流の漏洩を抑制
する漏洩電流抑制手段が設けられている請求項6記載の
基板検査装置。
7. The voltage measurement wiring is connected to the auxiliary terminal portion, while the current supply wiring is connected to a common measurement constant current power supply, and among the plurality of first measurement probes, Each end of the current supply wiring extending individually from the adjacently arranged one is connected adjacently to a common power supply wiring toward the measurement constant current power supply at different connection points, and the common power supply wiring has When the second measurement probe and the auxiliary probe are erroneously connected to different wiring nets in the wiring segments located between the adjacent connection points, the leakage of the measurement current to the wiring segment is suppressed. 7. The board inspection apparatus according to claim 6, further comprising a leakage current suppressing unit.
【請求項8】 前記漏洩電流抑制手段は、前記参照情報
として定められた基準抵抗値よりも、少なくとも大きな
抵抗値を有する抵抗素子を含む請求項7記載の基板検査
装置。
8. The substrate inspection apparatus according to claim 7, wherein said leakage current suppressing means includes a resistance element having at least a resistance value larger than a reference resistance value defined as said reference information.
【請求項9】 前記第一測定プローブは、前記電流通電
用プローブ要素と電圧測定用プローブ要素との一方を第
一プローブ要素、他方を第二プローブ要素として、少な
くともその第一プローブ要素が前記第一端子部との当接
方向において進退可能に設けられ、 前記第一端子部との当接による前記第一プローブ要素の
後退に伴い弾性変形し、その弾性復帰力により該第一プ
ローブ要素を前記第一端子部に向けて付勢する第一弾性
付勢部材が設けられている請求項1ないし8のいずれか
に記載の基板検査装置。
9. The first measurement probe, wherein one of the current-flowing probe element and the voltage-measuring probe element is a first probe element and the other is a second probe element, and at least the first probe element is the second probe element. The first probe element is provided so as to be able to advance and retreat in the contact direction with the one terminal part, and is elastically deformed with the retreat of the first probe element due to the contact with the first terminal part, and the first probe element is elastically restored by its elastic return force. The substrate inspection apparatus according to claim 1, further comprising a first elastic urging member that urges the first terminal portion.
【請求項10】 前記第二プローブ要素は、前記第一端
子部との当接方向において前記第一プローブ要素とは独
立に進退可能に設けられ、前記第一測定プローブと前記
第一端子部とが当接方向に相対接近するに伴い、前記第
一プローブ要素と略同時に又はそれよりも遅れて前記第
一端子部との間に当接状態を形成するものであり、 前記第一端子部との当接による前記第二プローブ要素の
後退に伴い弾性変形し、その弾性復帰力により該第二プ
ローブ要素を前記第一端子部に向けて付勢する第二弾性
付勢部材が設けられている請求項9記載の基板検査装
置。
10. The second probe element is provided so as to be able to advance and retreat independently of the first probe element in a contact direction with the first terminal section. Along with the relative approach in the contact direction, to form a contact state between the first terminal element and the first terminal element at substantially the same time or later than the first probe element, A second elastic biasing member that elastically deforms with the retraction of the second probe element due to the contact of the second probe element and biases the second probe element toward the first terminal portion by the elastic return force is provided. The substrate inspection apparatus according to claim 9.
【請求項11】 前記第一測定プローブは、筒状プロー
ブ要素と、その筒状プローブ要素の内側に同軸的に配置
されるピン状プローブ要素とを含み、それら筒状プロー
ブ要素の一方が前記第一プローブ要素とされ、他方が第
二プローブ要素とされる請求項9又は10に記載の基板
検査装置。
11. The first measurement probe includes a cylindrical probe element and a pin-shaped probe element arranged coaxially inside the cylindrical probe element, and one of the cylindrical probe elements is the second probe element. The substrate inspection apparatus according to claim 9, wherein one probe element is used and the other is a second probe element.
【請求項12】 前記筒状プローブ要素内に同軸的に配
置されるとともに、前記ピン状プローブ要素を後方側か
ら付勢する第ニコイルばねと、該第ニコイルばねの外側
に同軸的に配置され、前記筒状プローブ要素を後方側か
ら付勢する第一コイルばねを含み、それら第一コイルば
ね及び第二コイルばねの一方が前記第一弾性付勢部材と
して機能し、他方が第二弾性付勢部材として機能する請
求項11記載の基板検査装置。
12. A second coil spring that is disposed coaxially within the cylindrical probe element and biases the pin-shaped probe element from the rear side, and is coaxially disposed outside the second coil spring. A first coil spring for urging the cylindrical probe element from the rear side, one of the first coil spring and the second coil spring functions as the first elastic urging member, and the other is a second elastic urging member. The substrate inspection apparatus according to claim 11, which functions as a member.
【請求項13】 前記ピン状プローブ要素が前記第一プ
ローブ要素とされ、該ピン状プローブ要素の先端部が前
記第二プローブ要素たる筒状プローブ要素の先端縁より
も所定量突出して配置されている請求項11又は12に
記載の基板検査装置。
13. The method according to claim 1, wherein the pin-shaped probe element is the first probe element, and a tip end of the pin-shaped probe element is arranged so as to protrude by a predetermined amount from a tip end of the cylindrical probe element serving as the second probe element. The substrate inspection apparatus according to claim 11, wherein
【請求項14】 前記ピン状プローブ要素が前記第一プ
ローブ要素とされ、前記第二プローブ要素たる前記筒状
プローブ要素の先端面が、軸断面中心側にて引っ込むテ
ーパー面とされ、前記ピン状プローブ要素の先端縁位置
は、前記テーパ面の内縁位置よりも軸線方向において突
出して位置する請求項11又は12に記載の基板検査装
置。
14. The pin-shaped probe element is the first probe element, and the distal end surface of the cylindrical probe element, which is the second probe element, is a tapered surface that retracts at the center of the axial cross section. The substrate inspection apparatus according to claim 11, wherein a tip edge position of the probe element protrudes in an axial direction from an inner edge position of the tapered surface.
【請求項15】 前記ピン状プローブ要素の先端縁位置
は、前記テーパー面の外縁位置よりも軸線方向において
引っ込んで位置する請求項14記載の基板検査装置。
15. The substrate inspection apparatus according to claim 14, wherein a tip edge position of the pin-shaped probe element is located to be retracted in an axial direction from an outer edge position of the tapered surface.
【請求項16】 前記第二測定プローブは、前記第二端
子部との当接方向を先端側として、先端側が尖鋭に形成
されるとともに、一方が前記電流通電用プローブ要素と
され、他方が電圧測定用プローブ要素とされる1対の針
状プローブ要素を含むとともに、それら針状プローブ要
素が、先端側に向かうほど配置間隔が狭幅となるよう
に、前記当接方向に関して互いに逆向きに傾斜した状態
にて配置されたものが使用される請求項1ないし15の
いずれかに記載の基板検査装置。
16. The second measurement probe is formed such that a tip end side is sharp with a contact direction with the second terminal portion being a tip end side, one of which is the current conducting probe element, and the other is a voltage supply. Including a pair of needle-shaped probe elements to be measurement probe elements, the needle-shaped probe elements are inclined in opposite directions with respect to the contact direction so that the arrangement interval becomes narrower toward the distal end side. The substrate inspection apparatus according to any one of claims 1 to 15, wherein the substrate inspection apparatus is used in a state in which the substrate inspection is performed.
【請求項17】 基板本体の一方の板面上に、各々半田
バンプからなる複数の第二端子部が二次元的に配列・形
成され、他方の板面上に各第二端子部に対応する複数の
第一端子部が二次元的に配列・形成されるとともに、そ
れら第二端子部と第一端子部との互いに対応するもの同
士が、ビアを含む配線ネットにより個別に接続された構
造を有するバンプ付き基板を得る基板形成工程と、 請求項1ないし16のいずれかに記載の基板検査装置を
用い、検査対象となる配線ネットに対応する前記半田バ
ンプからなる第二端子部に対し、該半田バンプに所定深
さの測定孔が形成されるように、前記第二測定プローブ
の先端部をこれに食い込ませる形にて当接させ、また、
その配線ネットに対応した前記第一端子部に前記第一測
定プローブを当接させ、その状態にて前記第二測定プロ
ーブ及び第一測定プローブを介して前記配線ネットに対
し測定用電流を通電し、その配線ネットの電気抵抗値の
情報を生成する電気抵抗値情報生成工程と、 その生成された電気抵抗値情報に基づいて、前記配線ネ
ットの良否に関する検査情報を生成する検査情報生成工
程と、 その生成された検査情報が所定の条件を満たす基板のみ
を選別する選別工程と、 を含むことを特徴とする基板製造方法。
17. A plurality of second terminal portions each formed of a solder bump are two-dimensionally arranged and formed on one plate surface of the substrate body, and correspond to each second terminal portion on the other plate surface. A structure in which a plurality of first terminal portions are two-dimensionally arranged and formed, and the corresponding ones of the second terminal portion and the first terminal portion are individually connected by a wiring net including a via. A substrate forming step of obtaining a substrate having bumps, using the substrate inspection apparatus according to any one of claims 1 to 16, for a second terminal portion made of the solder bump corresponding to a wiring net to be inspected, The tip of the second measurement probe is brought into contact with the solder bump so that a measurement hole of a predetermined depth is formed therein, and
The first measurement probe is brought into contact with the first terminal portion corresponding to the wiring net, and a current for measurement is applied to the wiring net via the second measurement probe and the first measurement probe in that state. An electrical resistance value information generating step of generating information on the electrical resistance value of the wiring net; and an inspection information generating step of generating inspection information on the acceptability of the wiring net based on the generated electrical resistance value information. A selecting step of selecting only a substrate whose generated inspection information satisfies a predetermined condition.
【請求項18】 前記測定孔の深さをd1、前記半田バ
ンプの高さをHとしたときに、d1/Hが0.1〜0.
9の範囲となるように、前記第二測定プローブを前記半
田バンプに食い込ませる請求項17記載の基板製造方
法。
18. When the depth of the measurement hole is d1, and the height of the solder bump is H, d1 / H is 0.1 to 0.1.
18. The substrate manufacturing method according to claim 17, wherein the second measurement probe is made to bite into the solder bump so as to fall within a range of 9.
【請求項19】 平面視における前記測定孔の孔開口部
の面積をS1として、バンプ底面積S0に対する比率S
1/S0が0.002〜0.45となるように、前記第
二測定プローブを前記半田バンプに食い込ませる請求項
17又は18に記載の基板製造方法。
19. A ratio S to a bump bottom area S0, where S1 is an area of a hole opening of the measurement hole in a plan view.
19. The substrate manufacturing method according to claim 17, wherein the second measurement probe is cut into the solder bump such that 1 / S0 is 0.002 to 0.45.
【請求項20】 前記第二測定プローブは、前記半田バ
ンプとの当接方向を先端側として、先端側が尖鋭に形成
される1対の針状プローブ要素を含むとともに、それら
針状プローブ要素が、先端側に向かうほど配置間隔が狭
幅となるように、前記当接方向に関して互いに逆向きに
傾斜した状態にて配置されたものが使用され、一方が前
記電流通電用プローブ要素とされ、他方が電圧測定用プ
ローブ要素とされる一対のプローブ要素を含み、 前記電流通電用プローブ要素の前記第二端子部との当接
方向における先端と、電圧測定用プローブ要素の前記第
二端子部との当接方向における距離をLとし、 前記半田バンプの径Rに対する比率L/Rが0.2〜
0.85である請求項17に記載の基板製造方法。
20. The second measurement probe includes a pair of needle-like probe elements, each of which has a tip end in a contact direction with the solder bump and whose tip side is sharp. In order that the arrangement interval becomes narrower toward the distal end side, those arranged in a state where they are inclined in directions opposite to each other with respect to the contact direction are used. A voltage measuring probe element includes a pair of probe elements, a tip of the current applying probe element in a contact direction with the second terminal portion, and a contact between the tip of the voltage measuring probe element and the second terminal portion. The distance in the contact direction is L, and the ratio L / R to the diameter R of the solder bump is 0.2 to 0.2.
The substrate manufacturing method according to claim 17, wherein the value is 0.85.
【請求項21】 前記第二測定プローブの食込みによ
り、前記半田バンプの少なくとも一部のものの表層部
に、該半田バンプの表面にそれぞれ開口する1対の前記
測定孔が形成され、 それら一対の測定孔が、平面視における孔開口部の幾何
学的重心間距離として定義される孔間距離をrとして、
半田バンプの径Rに対する比率r/Rが0.2〜0.8
5となるように前記第二測定プローブを前記半田バンプ
に食い込ませる請求項20に記載の基板製造方法。
21. A pair of said measurement holes which are respectively opened on a surface of said solder bump are formed in a surface layer portion of at least a part of said solder bump by biting of said second measurement probe. A hole is defined as a distance between holes defined as a distance between geometric centers of gravity of hole openings in plan view, and
The ratio r / R to the diameter R of the solder bump is 0.2 to 0.8.
21. The substrate manufacturing method according to claim 20, wherein the second measurement probe is made to bite into the solder bump so as to be 5.
【請求項22】 前記第二測定プローブの食込みによ
り、前記半田バンプの少なくとも一部のものの表層部
に、該半田バンプの表面にそれぞれ開口する1対の前記
測定孔が形成され、 前記1対の測定孔のそれぞれの深さをd2として、前記
半田バンプの高さをHとしたときに、d2/Hが0.1
〜0.9となるように前記第二測定プローブを前記半田
バンプに食い込ませる請求項20又は21に記載の基板
製造方法。
22. A pair of the measurement holes which are respectively opened on the surface of the solder bump are formed in a surface layer of at least a part of the solder bump by the biting of the second measurement probe, When the depth of each measurement hole is d2 and the height of the solder bump is H, d2 / H is 0.1.
22. The substrate manufacturing method according to claim 20, wherein the second measurement probe is made to bite into the solder bump so as to be 0.9.
【請求項23】 前記1対の測定孔は、それぞれ底に向
かうほど軸断面積を縮小する略V字状の縦断面形状を有
するとともに、V字底側にて互いに接近するように深さ
方向に傾斜して形成される請求項20ないし22のいず
れかに記載の基板製造方法。
23. The pair of measurement holes each have a substantially V-shaped vertical cross-sectional shape whose axial cross-sectional area decreases toward the bottom, and have a depth direction so as to approach each other on the V-shaped bottom side. 23. The substrate manufacturing method according to claim 20, wherein the substrate is formed to be inclined.
【請求項24】 前記一対の測定孔の平面視における孔
開口部の合計面積をSとして、バンプ底面積S0に対す
る比率S/S0が0.002〜0.45となるように、
前記第二測定プローブを前記半田バンプに食い込ませる
請求項20ないし23のいずれかに記載の基板製造方
法。
24. Assuming that the total area of the hole openings of the pair of measurement holes in plan view is S, the ratio S / S0 to the bump bottom area S0 is 0.002 to 0.45.
24. The substrate manufacturing method according to claim 20, wherein the second measurement probe is made to bite into the solder bump.
【請求項25】 導通検査用プローブを前記第二測定用
プローブとして前記半田バンプに対し、第二測定孔を形
成しつつ該プローブを食込み当接させることにより、そ
のときの電気抵抗情報に基づいて対応する配線ネットの
導通状態に関する第一検査情報を生成する第一検査情報
生成工程と、 その生成された第一検査情報が所定の条件を満たす基板
のみを、良品として選別する第一選別工程と、 その第一選別工程において良品として選別された基板に
対し、1対の針状プローブ要素を前記第二測定用プロー
ブとして用い、前記半田バンプに、該半田バンプの表面
にそれぞれ開口する1対の第一測定孔を形成しつつ、こ
れらプローブを食込み当接させ、その状態にて一方の針
状プローブを電流通電用プローブ要素として用いて前記
配線ネットに測定用電流を通電しつつ、他方の針状プロ
ーブを電圧測定用プローブ要素として用いることにより
前記配線ネットへの印加電圧レベルを測定し、当該配線
ネットの固有電気抵抗値を反映した情報を生成する固有
電気抵抗値情報生成手段と、 その生成された固有電気抵抗値情報を、配線ネット毎に
個別に定められた参照情報と比較することにより、当該
配線ネットの良否に関する第二検査情報生成工程と、 その生成された第二検査情報が所定の条件を満たす基板
のみを選別する第二選別工程と、 を含む請求項17ないし24のいずれかに記載の基板製
造方法。
25. A continuity inspection probe is used as the second measurement probe, and the probe is bitten into contact with the solder bump while forming a second measurement hole, based on electrical resistance information at that time. A first inspection information generating step of generating first inspection information relating to a conduction state of a corresponding wiring net; and a first sorting step of selecting only substrates whose generated first inspection information satisfies predetermined conditions as non-defective products. A pair of needle-like probe elements are used as the second measurement probe for the substrate selected as a non-defective product in the first selection step, and the pair of solder bumps are opened on the surface of the solder bump. While forming the first measurement hole, these probes are bitten and abutted, and in that state, one of the needle-shaped probes is used as a current carrying probe element to connect to the wiring net. By applying the constant current and using the other needle probe as a voltage measuring probe element, the voltage level applied to the wiring net is measured, and information reflecting the specific electric resistance value of the wiring net is generated. A second test information generation step for determining whether or not the wiring net is good by comparing the generated specific electric resistance information with reference information individually defined for each wiring net; 25. The substrate manufacturing method according to claim 17, further comprising: a second sorting step of sorting only substrates for which the generated second inspection information satisfies a predetermined condition.
【請求項26】 前記第二検査情報生成工程において、
前記第二測定孔以外の前記半田バンプの表面に前記第二
測定プローブをを当接させることを特徴とする請求項2
5に記載の基板製造方法。
26. In the second inspection information generation step,
The second measurement probe is brought into contact with a surface of the solder bump other than the second measurement hole.
6. The substrate manufacturing method according to 5.
【請求項27】 基板本体の一方の板面上に、各々半田
バンプからなる複数の第ニ端子部が二次元的に配列・形
成され、他方の板面上に各第ニ端子部に対応する複数の
第一端子部が二次元的に配列・形成されるとともに、そ
れら第一端子部と第二端子部との互いに対応するもの同
士が、ビアを含む配線ネットにより個別に接続された構
造を有し、かつ、前記半田バンプの少なくとも一部のも
のの表層部に、該半田バンプの表面に開口する所定深さ
の測定孔が形成されていることを特徴とするバンプ付き
基板。
27. A plurality of second terminal portions each consisting of a solder bump are two-dimensionally arranged and formed on one plate surface of the substrate body, and correspond to each second terminal portion on the other plate surface. A structure in which a plurality of first terminal portions are two-dimensionally arranged and formed, and the corresponding ones of the first terminal portions and the second terminal portions are individually connected by a wiring net including vias. A substrate with bumps, wherein a measurement hole having a predetermined depth is formed in a surface layer of at least a part of the solder bumps, the measurement hole being opened on a surface of the solder bumps.
【請求項28】 前記測定孔の深さをd1、前記半田バ
ンプの高さをHとしたときに、d1/Hが0.1〜0.
9の範囲にて調整されている請求項27記載のバンプ付
き基板。
28. Assuming that the depth of the measurement hole is d1 and the height of the solder bump is H, d1 / H is 0.1-0.
28. The bumped substrate according to claim 27, wherein the substrate is adjusted in the range of 9.
【請求項29】 平面視における前記測定孔の孔開口部
の面積をS1として、バンプ底面積S0に対する比率S
1/S0が0.002〜0.45である請求項27又は
28に記載のバンプ付き基板。
29. Assuming that the area of the hole opening of the measurement hole in plan view is S1, the ratio S to the bump bottom area S0 is
29. The substrate with bumps according to claim 27, wherein 1 / S0 is 0.002 to 0.45.
【請求項30】 前記測定孔は、前記半田バンプの表面
にそれぞれ開口する1対の前記測定孔が形成されている
ことを特徴とする請求項27に記載のバンプ付き基板。
30. The bumped substrate according to claim 27, wherein the measurement hole is formed with a pair of the measurement holes that are respectively opened on a surface of the solder bump.
【請求項31】 前記1対の測定孔のそれぞれの深さを
d2として、前記半田バンプの高さをHとしたときに、
d2/Hが0.1〜0.9の範囲にて調整されているこ
とを特徴とする請求項30に記載のバンプ付き基板。
31. When the depth of each of the pair of measurement holes is d2 and the height of the solder bump is H,
31. The bumped substrate according to claim 30, wherein d2 / H is adjusted in a range of 0.1 to 0.9.
【請求項32】 平面視における前記一対の測定孔の孔
開口部のそれぞれの合計の面積をS2として、バンプ底
面積S0に対する比率S2/S0が0.002〜0.4
5である請求項30又は31に記載のバンプ付き基板。
32. A ratio S2 / S0 to a bump bottom area S0 is 0.002 to 0.4, where S2 is a total area of the hole openings of the pair of measurement holes in plan view.
The substrate with bumps according to claim 30, wherein the number is 5.
【請求項33】 前記測定孔には、前記一対の測定孔と
しての第一測定孔と、該第一測定孔とは別の第二測定孔
と、が含まれることを特徴とする請求項30ないし32
のいずれかに記載のバンプ付き基板。
33. The measurement hole includes a first measurement hole as the pair of measurement holes, and a second measurement hole different from the first measurement hole. Or 32
A substrate with bumps according to any one of the above.
【請求項34】 前記第二測定孔は、前記第一測定孔よ
りも孔開口部の面積及び深さが、いずれも大きい単一の
孔部よりなる請求項33に記載のバンプ付き基板。
34. The substrate with bumps according to claim 33, wherein the second measurement hole is a single hole having a hole opening area and a depth larger than the first measurement hole.
【請求項35】 平面視における前記第一測定孔及び第
二測定孔の孔開口部のそれぞれの面積の合計をS3とし
て、バンプ底面積S0に対する比率S3/S0が0.0
02〜0.45である請求項33又は34に記載のバン
プ付き基板。
35. Assuming that the sum of the respective areas of the apertures of the first measurement hole and the second measurement hole in plan view is S3, the ratio S3 / S0 to the bump bottom area S0 is 0.0.
35. The substrate with bumps according to claim 33, wherein the ratio is from 02 to 0.45.
【請求項36】 平面視における前記第一測定孔のそれ
ぞれの孔開口部の幾何学的重心間距離として定義される
孔間距離をrとして、半田バンプの径Rに対する比率r
/Rが0.2〜0.85であることを特徴とする請求項
30ないし35のいずれかに記載のバンプ付き基板。
36. A ratio r to a solder bump diameter R, where r is a distance between holes defined as a geometric distance between centers of gravity of respective hole openings of the first measurement hole in plan view.
36. The substrate with bumps according to claim 30, wherein / R is 0.2 to 0.85.
【請求項37】 前記1対の測定孔は、それぞれ底に向
かうほど軸断面積を縮小する略V字状の縦断面形状を有
するとともに、V字底側にて互いに接近するように深さ
方向に傾斜して形成されている請求項30ないし36の
いずれかに記載のバンプ付き基板。
37. The pair of measurement holes each have a substantially V-shaped vertical cross-sectional shape in which the axial cross-sectional area decreases toward the bottom, and each of the measurement holes has a depth direction so as to approach each other at the V-shaped bottom side. 37. The substrate with bumps according to claim 30, wherein the substrate is formed to be inclined.
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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002063314A1 (en) * 2001-02-02 2002-08-15 Tokyo Electron Limited Probe
JP2003057285A (en) * 2001-08-10 2003-02-26 Hioki Ee Corp Resistance-measuring apparatus and circuit board inspecting apparatus
JP2005127752A (en) * 2003-10-21 2005-05-19 Murata Mfg Co Ltd Characteristic measuring device of chip type electronic component
JP2006269404A (en) * 2005-02-22 2006-10-05 Fujitsu Ltd Contactor for electronic parts and contact method
US7292054B2 (en) 2005-03-17 2007-11-06 Nec Electronics Corporation Impedance measuring apparatus of package substrate and method for the same
KR101094411B1 (en) 2010-05-11 2011-12-15 주식회사 지.엠 Printed circuit board prosecuting attorney method
DE102010048036A1 (en) * 2010-05-14 2012-08-30 Häusermann GmbH Printed circuit board for use in electronic device, such as medical device or electronic component, has one or multiple wiring layers and protection device
CN103472304A (en) * 2013-09-17 2013-12-25 金魁 Elastic probe array multi-channel resistance measurement method and device
CN101191811B (en) * 2006-11-30 2014-07-30 日本电产理德株式会社 Substrate detecting device and substrate detecting method
JP2017015551A (en) * 2015-07-01 2017-01-19 日置電機株式会社 Probe unit and inspection device
JP7041376B1 (en) 2020-10-05 2022-03-24 イビデン株式会社 Inspection method of printed wiring board

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009111285A (en) * 2007-10-31 2009-05-21 Kyocer Slc Technologies Corp Manufacturing method of wiring board
JP5062899B2 (en) * 2008-06-30 2012-10-31 京セラSlcテクノロジー株式会社 Wiring board inspection method
CN105974198B (en) * 2016-06-17 2019-03-15 苏州华徕光电仪器有限公司 A kind of test device that can continuously measure resistance

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5741169U (en) * 1980-08-20 1982-03-05
JPH01131163U (en) * 1988-02-29 1989-09-06
JPH03291572A (en) * 1990-04-09 1991-12-20 Fujitsu Ltd Testing method for printed board
JPH0460471A (en) * 1990-06-28 1992-02-26 Hitachi Electron Eng Co Ltd Prober mechanism for inspecting pattern wiring
JPH04342150A (en) * 1991-05-20 1992-11-27 Hitachi Ltd Inspection of semiconductor device
JPH0580077A (en) * 1991-09-19 1993-03-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd Rf terminal probe
JPH0646382U (en) * 1992-11-25 1994-06-24 日本電気ホームエレクトロニクス株式会社 Contact pin
JPH0755885A (en) * 1993-06-30 1995-03-03 Hitachi Ltd Electrical characteristic inspection device of electrical circuit board
JPH10132895A (en) * 1996-10-25 1998-05-22 Furukawa Electric Co Ltd:The Electric characteristic inspection device of semiconductor device and its production method

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5741169U (en) * 1980-08-20 1982-03-05
JPH01131163U (en) * 1988-02-29 1989-09-06
JPH03291572A (en) * 1990-04-09 1991-12-20 Fujitsu Ltd Testing method for printed board
JPH0460471A (en) * 1990-06-28 1992-02-26 Hitachi Electron Eng Co Ltd Prober mechanism for inspecting pattern wiring
JPH04342150A (en) * 1991-05-20 1992-11-27 Hitachi Ltd Inspection of semiconductor device
JPH0580077A (en) * 1991-09-19 1993-03-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd Rf terminal probe
JPH0646382U (en) * 1992-11-25 1994-06-24 日本電気ホームエレクトロニクス株式会社 Contact pin
JPH0755885A (en) * 1993-06-30 1995-03-03 Hitachi Ltd Electrical characteristic inspection device of electrical circuit board
JPH10132895A (en) * 1996-10-25 1998-05-22 Furukawa Electric Co Ltd:The Electric characteristic inspection device of semiconductor device and its production method

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002063314A1 (en) * 2001-02-02 2002-08-15 Tokyo Electron Limited Probe
JP2003057285A (en) * 2001-08-10 2003-02-26 Hioki Ee Corp Resistance-measuring apparatus and circuit board inspecting apparatus
JP4588941B2 (en) * 2001-08-10 2010-12-01 日置電機株式会社 Resistance measuring device and circuit board inspection device
JP2005127752A (en) * 2003-10-21 2005-05-19 Murata Mfg Co Ltd Characteristic measuring device of chip type electronic component
JP2006269404A (en) * 2005-02-22 2006-10-05 Fujitsu Ltd Contactor for electronic parts and contact method
US7292054B2 (en) 2005-03-17 2007-11-06 Nec Electronics Corporation Impedance measuring apparatus of package substrate and method for the same
CN101191811B (en) * 2006-11-30 2014-07-30 日本电产理德株式会社 Substrate detecting device and substrate detecting method
KR101094411B1 (en) 2010-05-11 2011-12-15 주식회사 지.엠 Printed circuit board prosecuting attorney method
DE102010048036A1 (en) * 2010-05-14 2012-08-30 Häusermann GmbH Printed circuit board for use in electronic device, such as medical device or electronic component, has one or multiple wiring layers and protection device
CN103472304A (en) * 2013-09-17 2013-12-25 金魁 Elastic probe array multi-channel resistance measurement method and device
JP2017015551A (en) * 2015-07-01 2017-01-19 日置電機株式会社 Probe unit and inspection device
JP7041376B1 (en) 2020-10-05 2022-03-24 イビデン株式会社 Inspection method of printed wiring board
JP2022060731A (en) * 2020-10-05 2022-04-15 イビデン株式会社 Inspection method for printed board

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