JP2001150379A - 物品の真空吸着搬送装置 - Google Patents
物品の真空吸着搬送装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 物品解放時間を短縮することにより物品の搬
送に要する時間を短縮することのできる真空吸着搬送装
置を提供する。 【解決手段】 受渡テーブル２は、取り込み位置Ａで物
品Ｐを真空吸着すると１８０°回転して、この物品Ｐを
受渡位置Ｔに運ぶと、これに同期してカム５６によって
押し上げピン５０が上方動してエゼクターピン３０を押
し上げ、このエゼクターピン３０の上端を貫通垂直孔２
２を通じて吸着台１６から上方に突出させる。
送に要する時間を短縮することのできる真空吸着搬送装
置を提供する。 【解決手段】 受渡テーブル２は、取り込み位置Ａで物
品Ｐを真空吸着すると１８０°回転して、この物品Ｐを
受渡位置Ｔに運ぶと、これに同期してカム５６によって
押し上げピン５０が上方動してエゼクターピン３０を押
し上げ、このエゼクターピン３０の上端を貫通垂直孔２
２を通じて吸着台１６から上方に突出させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、物品の真空吸着搬
送装置に関するものである。
送装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来から、例えば半導体チップ、半導体
パッケージのような物品を例えば作業テーブル間で搬送
するのに、真空吸着法を用いた搬送装置が用いられてい
る。このような真空吸着搬送装置にあっては、被搬送物
を吸着し、これを解放するときには、真空の大気開放
（真空回路を大気と導通させて自然に大気圧に戻すこ
と）或いは真空解除（真空回路内に強制的に正圧のエア
ーを送り込み、短時間で真空を解除すること）すること
により行われている。
パッケージのような物品を例えば作業テーブル間で搬送
するのに、真空吸着法を用いた搬送装置が用いられてい
る。このような真空吸着搬送装置にあっては、被搬送物
を吸着し、これを解放するときには、真空の大気開放
（真空回路を大気と導通させて自然に大気圧に戻すこ
と）或いは真空解除（真空回路内に強制的に正圧のエア
ーを送り込み、短時間で真空を解除すること）すること
により行われている。
【０００３】しかしながら、それまで物品を吸着するの
に用いた真空を大気開放又は真空破壊するには、ある程
度の時間が物理的に必要であり、これが、物品の搬送に
要する時間の短縮に一種の制限要因になっていた。
に用いた真空を大気開放又は真空破壊するには、ある程
度の時間が物理的に必要であり、これが、物品の搬送に
要する時間の短縮に一種の制限要因になっていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる従来
技術の問題を解消し、より一層迅速な搬送を行うことの
できる真空吸着搬送装置を提供することをその課題とす
る。また、本発明は、物品解放時間を短縮することによ
り物品の搬送に要する時間を短縮することのできる真空
吸着搬送装置を提供することを別の課題とする。
技術の問題を解消し、より一層迅速な搬送を行うことの
できる真空吸着搬送装置を提供することをその課題とす
る。また、本発明は、物品解放時間を短縮することによ
り物品の搬送に要する時間を短縮することのできる真空
吸着搬送装置を提供することを別の課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記課
題を解決するため、吸着面を備えた真空吸着手段を備
え、該真空吸着手段により物品を吸着面に吸着してこれ
を物品解放位置まで搬送する真空吸着搬送装置におい
て、前記物品解放位置に配設され、前記真空吸着手段の
吸着面から突出して、該吸着面から物品を強制的に持ち
上げる強制解除手段と、前記真空吸着手段に吸着された
物品が前記物品解放位置まで搬送されてきたときに、こ
れに同期して前記強制解除手段を作動させて前記吸着面
から物品を強制的に持ち上げさせるための駆動手段とを
備えていることを特徴とする真空吸着搬送装置が提供さ
れる。
題を解決するため、吸着面を備えた真空吸着手段を備
え、該真空吸着手段により物品を吸着面に吸着してこれ
を物品解放位置まで搬送する真空吸着搬送装置におい
て、前記物品解放位置に配設され、前記真空吸着手段の
吸着面から突出して、該吸着面から物品を強制的に持ち
上げる強制解除手段と、前記真空吸着手段に吸着された
物品が前記物品解放位置まで搬送されてきたときに、こ
れに同期して前記強制解除手段を作動させて前記吸着面
から物品を強制的に持ち上げさせるための駆動手段とを
備えていることを特徴とする真空吸着搬送装置が提供さ
れる。
【０００６】また、本発明によれば、ほぼ水平面に沿っ
て配置された受渡側円形回転テーブルと、該受渡側円形
回転テーブルの上方に位置して、該受渡側円形テーブル
と平行に配置された受取側円形回転テーブルと、前記受
渡側回転テーブルの外周部分に配設された第１の真空吸
着手段と、前記受取側円形回転テーブルの外周部分に配
設された第２の真空吸着手段とを有し、前記受渡側回転
テーブルの前記第１の真空吸着手段によって物品を吸着
した状態で、該受渡側回転テーブルが回転して、該第１
の真空吸着手段で吸着した物品を受渡位置まで搬送し、
該受渡位置で、該物品を前記受取側回転テーブルの第２
の真空吸着手段に受渡し、次いで、該第２の真空吸着手
段で物品を吸着した後に前記受取側円形回転テーブルが
回転して、該物品を吸着した第２の真空吸着手段を解放
位置まで移動させて、該解放位置で、吸着した物品を第
２の真空吸着手段から解放させるようにした真空吸着装
置であって、前記受渡位置に配設され、前記第１の真空
吸着手段の吸着面から突出して、該吸着面から物品を強
制的に持ち上げる強制解除手段と、前記第１の真空吸着
手段に吸着された物品が前記受渡位置まで搬送されて来
たときに、これに同期して前記強制解除手段を作動させ
て前記吸着面から物品を強制的に持ち上げさせるための
駆動手段とを備えていることを特徴とする真空吸着搬送
装置が提供される。
て配置された受渡側円形回転テーブルと、該受渡側円形
回転テーブルの上方に位置して、該受渡側円形テーブル
と平行に配置された受取側円形回転テーブルと、前記受
渡側回転テーブルの外周部分に配設された第１の真空吸
着手段と、前記受取側円形回転テーブルの外周部分に配
設された第２の真空吸着手段とを有し、前記受渡側回転
テーブルの前記第１の真空吸着手段によって物品を吸着
した状態で、該受渡側回転テーブルが回転して、該第１
の真空吸着手段で吸着した物品を受渡位置まで搬送し、
該受渡位置で、該物品を前記受取側回転テーブルの第２
の真空吸着手段に受渡し、次いで、該第２の真空吸着手
段で物品を吸着した後に前記受取側円形回転テーブルが
回転して、該物品を吸着した第２の真空吸着手段を解放
位置まで移動させて、該解放位置で、吸着した物品を第
２の真空吸着手段から解放させるようにした真空吸着装
置であって、前記受渡位置に配設され、前記第１の真空
吸着手段の吸着面から突出して、該吸着面から物品を強
制的に持ち上げる強制解除手段と、前記第１の真空吸着
手段に吸着された物品が前記受渡位置まで搬送されて来
たときに、これに同期して前記強制解除手段を作動させ
て前記吸着面から物品を強制的に持ち上げさせるための
駆動手段とを備えていることを特徴とする真空吸着搬送
装置が提供される。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を好
ましい実施例に基づいて詳述する。図１は、本発明の実
施例に係る真空吸着搬送装置の概略図である。この実施
例の装置１は、ほぼ水平面に沿って配置された受渡側円
形回転テーブル２（以下、受渡テーブルという。）と、
その上方に位置して、受渡テーブル２と平行に配置され
た受取側円形回転テーブル４（以下、受取テーブルとい
う。）とを有し、これら受渡テーブル２と受取テーブル
４とは、平面視したときに、図面から理解できるよう
に、その外周部分が互いにオーバーラップする関係で配
置されている。
ましい実施例に基づいて詳述する。図１は、本発明の実
施例に係る真空吸着搬送装置の概略図である。この実施
例の装置１は、ほぼ水平面に沿って配置された受渡側円
形回転テーブル２（以下、受渡テーブルという。）と、
その上方に位置して、受渡テーブル２と平行に配置され
た受取側円形回転テーブル４（以下、受取テーブルとい
う。）とを有し、これら受渡テーブル２と受取テーブル
４とは、平面視したときに、図面から理解できるよう
に、その外周部分が互いにオーバーラップする関係で配
置されている。
【０００８】受渡テーブル２の下方には、この受渡テー
ブル２を間欠的に回転駆動して所定の回転位置で停止す
る受渡側駆動ユニットつまり受渡側インデックスユニッ
ト６が設けられており、このユニット６から上方且つ垂
直方向に延出する駆動軸８の上端が、受渡テーブル２の
中心部分に固定されている。
ブル２を間欠的に回転駆動して所定の回転位置で停止す
る受渡側駆動ユニットつまり受渡側インデックスユニッ
ト６が設けられており、このユニット６から上方且つ垂
直方向に延出する駆動軸８の上端が、受渡テーブル２の
中心部分に固定されている。
【０００９】受取テーブル４の下方には、この受取テー
ブル４を間欠的に回転駆動して所定の回転位置で停止す
る受取側駆動ユニットつまり受取側インデックスユニッ
ト１０が設けられており、このユニット１０から上方且
つ垂直方向に延出する駆動軸１２の上端が、受取テーブ
ル４の中心部分に固定されている。
ブル４を間欠的に回転駆動して所定の回転位置で停止す
る受取側駆動ユニットつまり受取側インデックスユニッ
ト１０が設けられており、このユニット１０から上方且
つ垂直方向に延出する駆動軸１２の上端が、受取テーブ
ル４の中心部分に固定されている。
【００１０】受渡テーブル２には、その外周部分に２つ
の第１の吸着手段１４が設けられ、この第１の吸着手段
１４は直径方向に離間して配置されている。すなわち、
受渡テーブル２には、その中心を通る直線（直径）上に
位置する一対の第１の吸着手段１４が取り付けられてい
る。第１の吸着手段１４は、受渡テーブル２の上面に固
設されて物品の吸着面を作る吸着台１６を有し、この吸
着台１６は、厚みを有する円盤状の形状を有し、共に平
らな上面及び下面を備えている。この吸着台１６の側面
には、図外の真空源に連なる第１の真空ライン１８に連
結される接続ポート２０を有し、この接続ポート２０は
半径方向に延びている。吸着台１６は、また、その中心
軸線に沿って延びる貫通垂直孔２２を備え、貫通垂直孔
２２はその途中で接続ポート２０に連通している。
の第１の吸着手段１４が設けられ、この第１の吸着手段
１４は直径方向に離間して配置されている。すなわち、
受渡テーブル２には、その中心を通る直線（直径）上に
位置する一対の第１の吸着手段１４が取り付けられてい
る。第１の吸着手段１４は、受渡テーブル２の上面に固
設されて物品の吸着面を作る吸着台１６を有し、この吸
着台１６は、厚みを有する円盤状の形状を有し、共に平
らな上面及び下面を備えている。この吸着台１６の側面
には、図外の真空源に連なる第１の真空ライン１８に連
結される接続ポート２０を有し、この接続ポート２０は
半径方向に延びている。吸着台１６は、また、その中心
軸線に沿って延びる貫通垂直孔２２を備え、貫通垂直孔
２２はその途中で接続ポート２０に連通している。
【００１１】受渡テーブル２には、吸着台１６の貫通垂
直孔２２と同軸に位置し且つほぼ同一径を有する第２の
貫通孔２４が設けられている。受渡テーブル２は、その
下面に、第２の貫通孔２４の開口の回りに有底円筒ケー
シング２６が固設され、有底円筒ケーシング２６の底壁
２６ａには、上記第２の貫通孔２４と同軸に位置する円
形孔２８が形成されている。有底円筒ケーシング２６に
は、円形孔２８を上下に貫通して、第２の貫通孔２４及
び垂直孔２２と同一の軸線上に配置されたエゼクターピ
ン３０と、このエゼクターピン３０の回りに配置された
スプリング３２とが収容されている。
直孔２２と同軸に位置し且つほぼ同一径を有する第２の
貫通孔２４が設けられている。受渡テーブル２は、その
下面に、第２の貫通孔２４の開口の回りに有底円筒ケー
シング２６が固設され、有底円筒ケーシング２６の底壁
２６ａには、上記第２の貫通孔２４と同軸に位置する円
形孔２８が形成されている。有底円筒ケーシング２６に
は、円形孔２８を上下に貫通して、第２の貫通孔２４及
び垂直孔２２と同一の軸線上に配置されたエゼクターピ
ン３０と、このエゼクターピン３０の回りに配置された
スプリング３２とが収容されている。
【００１２】エゼクターピン３０は、そのケーシング２
６の中に位置する部分に、ケーシング底壁２６ａと当接
可能なフランジ３４を備え、上記スプリング３２は、フ
ランジ３４と受渡テーブル２の下面との間に圧縮可能に
配置されている。すなわち、エゼクターピン３０は、ス
プリング３２によって、フランジ３４がケーシング底壁
２６ａと当接する方向に付勢されている。
６の中に位置する部分に、ケーシング底壁２６ａと当接
可能なフランジ３４を備え、上記スプリング３２は、フ
ランジ３４と受渡テーブル２の下面との間に圧縮可能に
配置されている。すなわち、エゼクターピン３０は、ス
プリング３２によって、フランジ３４がケーシング底壁
２６ａと当接する方向に付勢されている。
【００１３】このエゼクターピン３０は、そのフランジ
３４がケーシング底壁２６ａと当接した状態にあるとき
に、エゼクターピン３０の上端が吸着台１６の接続ポー
ト２０よりも下に位置して、この接続ポート２０を開放
することのできる長さ寸法を有している。換言すれば、
ケーシング２６の軸線方向の長さ寸法によって規定され
るエゼクターピン３０のストロークは、エゼクターピン
３０が上方動作することにより、吸着台１６の貫通垂直
孔２２を貫通して、この垂直孔２２の上端開口から若干
突出するように設定され、他方、スプリング３２の付勢
力によって、エゼクターピン３０が下方動作したとき
に、吸着台１６の貫通垂直孔２２の上端開口から退却す
ると共に、接続ポート２０を開くように設定されてい
る。
３４がケーシング底壁２６ａと当接した状態にあるとき
に、エゼクターピン３０の上端が吸着台１６の接続ポー
ト２０よりも下に位置して、この接続ポート２０を開放
することのできる長さ寸法を有している。換言すれば、
ケーシング２６の軸線方向の長さ寸法によって規定され
るエゼクターピン３０のストロークは、エゼクターピン
３０が上方動作することにより、吸着台１６の貫通垂直
孔２２を貫通して、この垂直孔２２の上端開口から若干
突出するように設定され、他方、スプリング３２の付勢
力によって、エゼクターピン３０が下方動作したとき
に、吸着台１６の貫通垂直孔２２の上端開口から退却す
ると共に、接続ポート２０を開くように設定されてい
る。
【００１４】受取テーブル４は、その外周部分に２つの
第２の吸着手段４０が設けられ、この第２の吸着手段４
０は直径方向に離間して配置されている。すなわち、受
取テーブル４には、その中心を通る直線（直径）上に位
置する一対の第２の吸着手段４０が取り付けられてい
る。第２の吸着手段４０は、受取テーブル４を貫通して
下方に延びる円筒体４２を有し、この円筒体４２の下端
には吸着パッド４４が取付られている。吸着パッド４４
は円筒体４２に対して若干上下動可能に取り付けられて
おり、この吸着パッド４４は円筒体４２の回りに配置さ
れた緩衝手段としてのスプリング４６によって下方に付
勢されている。円筒体４２の上端には接続ポート４８が
設けられており、この接続ポート４８は受取テーブル４
の上面に配置されている。この第２の吸着手段４０の接
続ポート４８は、図外の真空源に連なる第２の真空ライ
ン５０に連結されている。
第２の吸着手段４０が設けられ、この第２の吸着手段４
０は直径方向に離間して配置されている。すなわち、受
取テーブル４には、その中心を通る直線（直径）上に位
置する一対の第２の吸着手段４０が取り付けられてい
る。第２の吸着手段４０は、受取テーブル４を貫通して
下方に延びる円筒体４２を有し、この円筒体４２の下端
には吸着パッド４４が取付られている。吸着パッド４４
は円筒体４２に対して若干上下動可能に取り付けられて
おり、この吸着パッド４４は円筒体４２の回りに配置さ
れた緩衝手段としてのスプリング４６によって下方に付
勢されている。円筒体４２の上端には接続ポート４８が
設けられており、この接続ポート４８は受取テーブル４
の上面に配置されている。この第２の吸着手段４０の接
続ポート４８は、図外の真空源に連なる第２の真空ライ
ン５０に連結されている。
【００１５】受渡テーブル２及び受取テーブル４の停止
位置は、受渡側の第１の吸着手段１４と受取側の第２の
吸着手段４０とが互いに対面する位置に設定されてい
る。すなわち、この位置で物品Ｐの受け渡しが行われる
ものであり、この受渡位置Ｔで、第１の吸着手段１４の
エゼクターピン３０の軸線が第２の吸着手段４０の円筒
体４２の軸線と整合する位置で受渡テーブル２及び受取
テーブル４が互いに同期して回転停止するように、受渡
側及び受取側のインデックスユニット６、１０が設定さ
れている。
位置は、受渡側の第１の吸着手段１４と受取側の第２の
吸着手段４０とが互いに対面する位置に設定されてい
る。すなわち、この位置で物品Ｐの受け渡しが行われる
ものであり、この受渡位置Ｔで、第１の吸着手段１４の
エゼクターピン３０の軸線が第２の吸着手段４０の円筒
体４２の軸線と整合する位置で受渡テーブル２及び受取
テーブル４が互いに同期して回転停止するように、受渡
側及び受取側のインデックスユニット６、１０が設定さ
れている。
【００１６】受渡位置Ｔには、受渡テーブル２の下方に
位置して、受渡側の第１の吸着手段１４のエゼクターピ
ン３０と同軸となるように配置された押し上げピン５０
が設けられている。この押し上げピン５０は、真空吸着
搬送装置１のガイド孔５２に上下動可能に取り付けられ
ており、このピン５０の下端には、カムフォロア５４が
回転自在に取り付けられており、このカムフォロア５４
と係合するカム５６は、水平軸５８に取り付けられてお
り、この水平軸５８は、受取側インデックスユニット１
０の駆動源に連結されている。
位置して、受渡側の第１の吸着手段１４のエゼクターピ
ン３０と同軸となるように配置された押し上げピン５０
が設けられている。この押し上げピン５０は、真空吸着
搬送装置１のガイド孔５２に上下動可能に取り付けられ
ており、このピン５０の下端には、カムフォロア５４が
回転自在に取り付けられており、このカムフォロア５４
と係合するカム５６は、水平軸５８に取り付けられてお
り、この水平軸５８は、受取側インデックスユニット１
０の駆動源に連結されている。
【００１７】受渡テーブル２は、取り込み位置Ａで物品
Ｐを真空吸着すると１８０°回転して、この物品Ｐを受
渡位置Ｔに運ぶ。すると受取テーブル４は図示しない上
下駆動機構により下方動するとともに、カム５６によっ
て押し上げピン５０が上方動してエゼクターピン３０を
押し上げ、このエゼクターピン３０の上端を貫通垂直孔
２２を通じて吸着台１６から上方に突出させ、物品Ｐは
吸着パッド４４と吸着台１６の間に挟み込まれた状態と
なり、しかる後、吸着台１６による真空吸着が解除さ
れ、図示しない上下動駆動機構により受取テーブル４は
上方動し、それに伴い、物品Ｐも吸着パッド４４に吸着
されたまま上方動する。この一連の動作の間、受渡テー
ブル２は、取り込み位置Ａで、新たに物品Ｐを取り込ん
で吸着する。
Ｐを真空吸着すると１８０°回転して、この物品Ｐを受
渡位置Ｔに運ぶ。すると受取テーブル４は図示しない上
下駆動機構により下方動するとともに、カム５６によっ
て押し上げピン５０が上方動してエゼクターピン３０を
押し上げ、このエゼクターピン３０の上端を貫通垂直孔
２２を通じて吸着台１６から上方に突出させ、物品Ｐは
吸着パッド４４と吸着台１６の間に挟み込まれた状態と
なり、しかる後、吸着台１６による真空吸着が解除さ
れ、図示しない上下動駆動機構により受取テーブル４は
上方動し、それに伴い、物品Ｐも吸着パッド４４に吸着
されたまま上方動する。この一連の動作の間、受渡テー
ブル２は、取り込み位置Ａで、新たに物品Ｐを取り込ん
で吸着する。
【００１８】このエゼクターピン３０による物品Ｐの持
ち上げと同期して、受取テーブル４側の第２の吸着手段
４０による吸着が開始され、これにより受渡テーブル２
から受取テーブル４へとその受け渡しが完了する。その
後、受取テーブル４は１８０°回転した後、解放位置Ｂ
で第２の吸着手段４０への真空を大気に開放して、物品
Ｐを解放する。装置１は、以上の一連の動作を反復的に
行う。
ち上げと同期して、受取テーブル４側の第２の吸着手段
４０による吸着が開始され、これにより受渡テーブル２
から受取テーブル４へとその受け渡しが完了する。その
後、受取テーブル４は１８０°回転した後、解放位置Ｂ
で第２の吸着手段４０への真空を大気に開放して、物品
Ｐを解放する。装置１は、以上の一連の動作を反復的に
行う。
【００１９】以上の説明から理解できるとおり、受渡テ
ーブル２の第１の吸着手段１４による物品Ｐの吸着は、
受渡位置Ｔで、エゼクターピン３０によって強制解除さ
れるため、これを従来のように真空を大気に開放するよ
りも、短時間に物品Ｐを受渡テーブル２から解放するこ
とができる。
ーブル２の第１の吸着手段１４による物品Ｐの吸着は、
受渡位置Ｔで、エゼクターピン３０によって強制解除さ
れるため、これを従来のように真空を大気に開放するよ
りも、短時間に物品Ｐを受渡テーブル２から解放するこ
とができる。
【００２０】
【発明の効果】本発明によれば、真空吸着手段による物
品の吸着を、この真空吸着手段の吸着面から突出する強
制解除手段によって機械的に持ち上げられて、その真空
吸着が強制解除されることから、従来のように真空を大
気に開放する又は真空破壊するよりも短い時間で真空吸
着を解除することができる。そして、これにより、物品
の搬送に要する時間を大幅に短縮することができる。
品の吸着を、この真空吸着手段の吸着面から突出する強
制解除手段によって機械的に持ち上げられて、その真空
吸着が強制解除されることから、従来のように真空を大
気に開放する又は真空破壊するよりも短い時間で真空吸
着を解除することができる。そして、これにより、物品
の搬送に要する時間を大幅に短縮することができる。
【図１】本発明による実施例の真空吸着搬送装置の全体
構成図である。
構成図である。
１ 真空吸着搬送装置 ２ 受渡側円形回転テーブル ４ 受取側円形回転テーブル １４ 第１の吸着手段 １６ 第１の吸着手段の吸着台 ２２ 貫通垂直孔 ３０ エゼクターピン ４０ 第２の吸着手段 ５０ 押し上げピン ５６ カム Ｐ 物品 Ｔ 受渡位置
Claims (5)
- 【請求項１】 吸着面を備えた真空吸着手段を備え、該
真空吸着手段により物品を吸着面に吸着してこれを物品
解放位置まで搬送する真空吸着搬送装置において、 前記物品解放位置に配設され、前記真空吸着手段の吸着
面から突出して、該吸着面から物品を強制的に持ち上げ
る強制解除手段と、 前記真空吸着手段に吸着された物品が前記物品解放位置
まで搬送されてきたときに、これに同期して前記強制解
除手段を作動させて前記吸着面から物品を強制的に持ち
上げさせるための駆動手段とを備えていることを特徴と
する真空吸着搬送装置。 - 【請求項２】 前記真空吸着手段が、前記吸着面に開口
した貫通孔と、該貫通孔から出没自在に配設されたエゼ
クターピンとを有することを特徴とする請求項１に記載
の真空吸着搬送装置。 - 【請求項３】 前記真空吸着手段の前記貫通孔が真空源
に連結されていることを特徴とする請求項２に記載の真
空吸着搬送装置。 - 【請求項４】 前記駆動手段が、カム機構と、該カム機
構によって移動する持ち上げピンとを有し、 該持ち上げピンは、前記真空吸着手段が前記物品解放位
置まで来たときに、前記エゼクターピンと同一軸線上に
位置するように配設されていることを特徴とする請求項
１に記載の真空吸着搬送装置。 - 【請求項５】 ほぼ水平面に沿って配置された受渡側円
形回転テーブルと、 該受渡側円形回転テーブルの上方に位置して、該受渡側
円形テーブルと平行に配置された受取側円形回転テーブ
ルと、 前記受渡側回転テーブルの外周部分に配設された第１の
真空吸着手段と、 前記受取側円形回転テーブルの外周部分に配設された第
２の真空吸着手段とを有し、 前記受渡側回転テーブルの前記第１の真空吸着手段によ
って物品を吸着した状態で、該受渡側回転テーブルが回
転して、該第１の真空吸着手段で吸着した物品を受渡位
置まで搬送し、該受渡位置で、該物品を前記受取側回転
テーブルの第２の真空吸着手段に受渡し、次いで、該第
２の真空吸着手段で物品を吸着した後に前記受取側円形
回転テーブルが回転して、該物品を吸着した第２の真空
吸着手段を解放位置まで移動させて、該解放位置で、吸
着した物品を第２の真空吸着手段から解放させるように
した真空吸着装置であって、 前記受渡位置に配設され、前記第１の真空吸着手段の吸
着面から突出して、該吸着面から物品を強制的に持ち上
げる強制解除手段と、 前記第１の真空吸着手段に吸着された物品が前記受渡位
置まで搬送されて来たときに、これに同期して前記強制
解除手段を作動させて前記吸着面から物品を強制的に持
ち上げさせるための駆動手段とを備えていることを特徴
とする真空吸着搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33485799A JP2001150379A (ja) | 1999-11-25 | 1999-11-25 | 物品の真空吸着搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33485799A JP2001150379A (ja) | 1999-11-25 | 1999-11-25 | 物品の真空吸着搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001150379A true JP2001150379A (ja) | 2001-06-05 |
Family
ID=18282005
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33485799A Pending JP2001150379A (ja) | 1999-11-25 | 1999-11-25 | 物品の真空吸着搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001150379A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005102615A1 (ja) * | 2004-04-22 | 2005-11-03 | Ueno Seiki Co., Ltd. | 電子部品保持手段の駆動制御装置とその方法、及びそのためのプログラム |
| JP2009246273A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Tdk Corp | グリーンシート積層装置および積層型電子部品の製造装置 |
| JP2012244024A (ja) * | 2011-05-23 | 2012-12-10 | Fuji Mach Mfg Co Ltd | ダイ供給装置 |
| CN115241108A (zh) * | 2022-09-25 | 2022-10-25 | 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司 | 提高硅片加工速度的交接装置及快速交接方法 |
-
1999
- 1999-11-25 JP JP33485799A patent/JP2001150379A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005102615A1 (ja) * | 2004-04-22 | 2005-11-03 | Ueno Seiki Co., Ltd. | 電子部品保持手段の駆動制御装置とその方法、及びそのためのプログラム |
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| JP2012244024A (ja) * | 2011-05-23 | 2012-12-10 | Fuji Mach Mfg Co Ltd | ダイ供給装置 |
| CN115241108A (zh) * | 2022-09-25 | 2022-10-25 | 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司 | 提高硅片加工速度的交接装置及快速交接方法 |
| CN115241108B (zh) * | 2022-09-25 | 2023-02-03 | 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司 | 提高硅片加工速度的交接装置及快速交接方法 |
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|
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|
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