JP2001150309A - Grinding method and grinding device - Google Patents

Grinding method and grinding device

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Publication number
JP2001150309A
JP2001150309A JP33050799A JP33050799A JP2001150309A JP 2001150309 A JP2001150309 A JP 2001150309A JP 33050799 A JP33050799 A JP 33050799A JP 33050799 A JP33050799 A JP 33050799A JP 2001150309 A JP2001150309 A JP 2001150309A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polishing
disk
hole
shaft
outer diameter
Prior art date
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Pending
Application number
JP33050799A
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Japanese (ja)
Inventor
Shinichi Okuyama
真一 奥山
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System Seiko Co Ltd
Original Assignee
System Seiko Co Ltd
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To uniformly grinding-processing a whole surface of a disc at a high grinding accuracy. SOLUTION: A rotation shaft provided with a grinding tool 15 and a rotation shaft provided with a grinding tool 16 are rotated making a rotation center OG as a center. A disc W having a through hole H is supported and rotated by guide rollers 17, 18 contacted with an inner periphery Sa of the through hole H. A rotation center OW is deviated from the rotation center OG of the grinding tools 15, 16 by an eccentric amount E. The respective grinding tools 15, 16 have ring-like grinding surface 19 having a smaller outer diameter than that of the disc W and a larger inner diameter than that of the through hole H. The grinding surface 19 contacts the disc W so as to lay the through hole H and a slide movement direction of the grinding surface 19 becomes a direction approximated to a surface movement direction of the disc W accompanying with rotation.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は中心部に貫通孔が形
成された磁気ディスクをワークとして研磨具によりその
回転運動をワークの回転運動に変換しながらワークの両
面を研磨加工する研磨技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polishing technique for polishing both sides of a work while using a magnetic disk having a through hole formed in a central portion thereof as a work and converting the rotation of the work into the rotation of the work by a polishing tool.

【0002】[0002]

【従来の技術】コンピュータの記憶媒体として使用され
る磁気ディスクは、アルミニウム合金やガラスなどを用
いて、中心部に貫通孔を有する磁気ディスク基板つまり
サブストレートを形成した後に、両面に磁性膜を形成す
ることにより製造されている。磁気ディスク基板の製造
に際しては、表面を平坦に加工するために、砥石やバフ
などの研磨具により磁気ディスク基板を研磨加工してい
る。
2. Description of the Related Art A magnetic disk used as a storage medium for a computer is formed by forming a magnetic disk substrate having a through hole in the center, that is, a substrate, using an aluminum alloy or glass, and then forming a magnetic film on both surfaces. It is manufactured by doing. When manufacturing a magnetic disk substrate, the magnetic disk substrate is polished with a polishing tool such as a grindstone or a buff in order to flatten the surface.

【0003】このように中心部に貫通孔を有する円板形
状のディスクの両面を研磨加工するための研磨装置とし
ては、たとえば、特開昭54-81591号公報に開示されるよ
うなものがある。
As a polishing apparatus for polishing both surfaces of a disk-shaped disk having a through hole in the center as described above, there is, for example, one disclosed in JP-A-54-81591. .

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記従来の研磨装置の
ように、ディスクの回転中心が平面工具の回転中心から
ずれるようにして2つの平面工具の間にディスクを挟み
付けて平面工具を回転させると、平面工具の回転運動を
ディスクの回転運動に変換しながら平面工具の研磨面を
ディスクの表面に滑らせることができるが、ディスクの
径方向外部と内部との研磨精度が径方向中央部分よりも
低下してしまうことが判明した。
As in the above-mentioned conventional polishing apparatus, the disk is sandwiched between two plane tools so that the rotation center of the disk is deviated from the rotation center of the plane tool, and the plane tool is rotated. The grinding surface of the flat tool can be slid on the surface of the disk while converting the rotating motion of the flat tool into the rotating motion of the disk. Has also been found to decrease.

【0005】従来の研磨装置にあっては、平面工具の研
磨面がディスクの外方に大きく迫り出しており、研磨面
のディスクに対する滑り移動方向がディスクの表面の移
動方向に対して大きな角度となっていることから、ディ
スクの外周面と内周面のエッジ部分を平面工具の研磨面
が大きな角度で横切ることになり、特にディスクの外周
面に近い部分つまり径方向外部と、内周面に近い部分つ
まり径方向中央部分とでは他の部分に比して研磨精度が
低下するのであると考えられる。
In the conventional polishing apparatus, the polishing surface of the flat tool greatly protrudes to the outside of the disk, and the direction of sliding movement of the polishing surface with respect to the disk is large with respect to the direction of movement of the disk surface. As a result, the polished surface of the flat tool crosses the edge of the outer and inner peripheral surfaces of the disk at a large angle, especially at the part close to the outer peripheral surface of the disk, that is, at the radially outer and inner peripheral surfaces. It is considered that the polishing accuracy is lower at the near portion, that is, at the center portion in the radial direction, as compared with other portions.

【0006】ディスクのうち中心孔の内周面に近い部分
は、ディスクが使用される際に駆動軸のハブにより覆わ
れるのに対して、外周面に近い部分は記憶媒体の領域と
して使用されるために、特に研磨精度を高める必要があ
る。
The portion of the disk near the inner peripheral surface of the center hole is covered by the hub of the drive shaft when the disk is used, whereas the portion near the outer peripheral surface is used as a storage medium area. Therefore, it is particularly necessary to increase the polishing accuracy.

【0007】本発明の目的は、ディスクの表面全体を高
い研磨精度で均一に研磨加工し得るようにすることにあ
る。
An object of the present invention is to enable uniform polishing of the entire surface of a disk with high polishing accuracy.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の研磨方法は、中
心部に貫通孔が形成されたディスクの両面を研磨加工す
る研磨方法であって、それぞれ前記ディスクの外径より
も外径が小さく、かつ前記貫通孔の内径よりも内径が大
きいリング状の研磨面を有する研磨具が設けられ、同心
状態で回転する第1と第2の回転軸を回転駆動し、ワー
クの回転中心を前記回転軸の回転中心に対して偏心させ
るとともに、前記それぞれの研磨具の研磨面が前記貫通
孔を偏心方向に跨いで接触するように前記ワークを回転
自在に位置決め部材により支持し、前記研磨具の回転運
動を前記ディスクの回転運動に変換しながら前記それぞ
れの研磨面により前記ディスクの両面を研磨するように
したことを特徴とする。本発明にあっては、それぞれの
前記研磨面の外径が前記ディスクの外周面よりも外方に
迫り出さないように前記ディスクを前記位置決め部材に
より支持するようにしても良い。また、それぞれの前記
研磨面の外径が前記ディスクの外周面よりも外方に迫り
出さず、かつ前記研磨面の内径が前記貫通孔の内周面よ
りも内方に迫り出さず、それぞれの前記研磨面の全体が
前記ディスクに接触するようにしても良い。
SUMMARY OF THE INVENTION A polishing method according to the present invention is a polishing method for polishing both surfaces of a disk having a through hole formed in the center thereof, wherein the outer diameter is smaller than the outer diameter of the disk. A polishing tool having a ring-shaped polishing surface having an inner diameter larger than the inner diameter of the through hole is provided, and the first and second rotating shafts rotating concentrically are driven to rotate, and the rotation center of the work is rotated by the rotation. The workpiece is rotatably supported by a positioning member so that the polishing surface of each of the polishing tools is eccentric with respect to the rotation center of the shaft, and the polishing surface of each of the polishing tools straddles the through hole in an eccentric direction. The method is characterized in that both sides of the disk are polished by the respective polishing surfaces while converting the movement into a rotational movement of the disk. In the present invention, the disc may be supported by the positioning member such that the outer diameter of each of the polishing surfaces does not protrude outward from the outer peripheral surface of the disc. Also, the outer diameter of each of the polishing surfaces does not protrude outward from the outer peripheral surface of the disk, and the inner diameter of the polishing surface does not protrude inward than the inner peripheral surface of the through-hole. The entire polished surface may contact the disk.

【0009】本発明の研磨装置は、中心部に貫通孔が形
成されたディスクの両面を研磨加工する研磨装置であっ
て、前記ディスクの外径よりも外径が小さく、かつ前記
貫通孔の内径よりも内径が大きいリング状の研磨面を有
する第1の研磨具が設けられた第1の回転軸と、前記デ
ィスクの外径よりも外径が小さく、かつ前記貫通孔の内
径よりも内径が大きいリング状の研磨面を有し、前記第
1の研磨具とにより前記ディスクを挟持する第2の研磨
具が設けられた第2の回転軸と、ワークの回転中心を前
記回転軸の回転中心に対して偏心させるとともに、前記
それぞれの研磨具の研磨面が前記貫通孔を偏心方向に跨
いで接触するように前記ワークを回転自在に支持する位
置決め部材とを有し、前記研磨具の回転運動を前記ディ
スクの回転運動に変換しながら前記それぞれの研磨面に
より前記ディスクの両面を研磨するようにしたことを特
徴とする。本発明の研磨装置にあっては、それぞれの前
記研磨面の外径が前記ディスクの外径よりも外方に迫り
出さないように前記ディスクを前記位置決め部材により
支持するようにしても良い。また、それぞれの前記研磨
面の外径が前記ディスクの外周面よりも外方に迫り出さ
ず、かつ前記研磨面の内径が前記貫通孔の内周面よりも
内方に迫り出さず、それぞれの前記研磨面の全体が前記
ディスクに接触するようにしても良い。さらに、前記位
置決め部材を前記貫通孔の内周面に接触させるようにし
ても良い。
A polishing apparatus according to the present invention is a polishing apparatus for polishing both surfaces of a disk having a through hole formed in a center portion, wherein the outer diameter is smaller than the outer diameter of the disk, and the inner diameter of the through hole is smaller. A first rotating shaft provided with a first polishing tool having a ring-shaped polishing surface having a larger inner diameter than an outer diameter of the disk and an inner diameter smaller than an inner diameter of the through hole; A second rotating shaft having a large ring-shaped polishing surface, a second polishing tool provided for holding the disc with the first polishing tool, and a rotation center of the workpiece as a rotation center of the rotation shaft; And a positioning member for rotatably supporting the work so that the polishing surface of each of the polishing tools is in contact with the through hole in the eccentric direction. To the rotational movement of the disc And characterized in that the said respective polishing surface while conversion so as to polish both surfaces of the disk. In the polishing apparatus of the present invention, the disc may be supported by the positioning member such that the outer diameter of each of the polishing surfaces does not protrude outside the outer diameter of the disc. Also, the outer diameter of each of the polishing surfaces does not protrude outward from the outer peripheral surface of the disk, and the inner diameter of the polishing surface does not protrude inward than the inner peripheral surface of the through-hole. The entire polished surface may contact the disk. Further, the positioning member may be brought into contact with an inner peripheral surface of the through hole.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0011】図1(A)は本発明の一実施の形態である
研磨装置の外観を示す正面図であり、図1(B)は同図
(A)の右側面図であり、図2は図1に示された研磨装
置の要部を拡大して示す斜視図であり、図3は加工状態
における図2の拡大断面図である。
FIG. 1A is a front view showing the appearance of a polishing apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 1B is a right side view of FIG. 1A, and FIG. FIG. 3 is an enlarged perspective view showing a main part of the polishing apparatus shown in FIG. 1, and FIG. 3 is an enlarged sectional view of FIG. 2 in a processing state.

【0012】この研磨装置はベース部1とコラム部2と
ヘッド部3とからなる装置本体を有し、ヘッド部3には
加圧軸支持部材4と受圧軸支持部材5とが設けられてい
る。ベース部1には着脱ユニット6が設けられ、このユ
ニット6には所定枚数のワークであるディスクを収容し
たカセットが保持され、このユニット6から1枚ずつデ
ィスクWが研磨位置まで抜き上げられてローディングさ
れ、研磨後には元の位置に戻されてアンローディングさ
れるようになっている。ディスクWは中心部に貫通孔H
が形成され、その円形の内周面Sa と同心となった円形
の外周面Sb を有している。
This polishing apparatus has an apparatus main body composed of a base 1, a column 2 and a head 3, and the head 3 is provided with a pressure shaft supporting member 4 and a pressure receiving shaft supporting member 5. . A detachable unit 6 is provided on the base unit 1. A cassette accommodating a predetermined number of work disks is held in the unit 6. A disk W is pulled out from the unit 6 one by one to a polishing position and loaded. After polishing, it is returned to its original position and unloaded. The disc W has a through hole H at the center.
And has a circular outer peripheral surface Sb concentric with the circular inner peripheral surface Sa.

【0013】加圧軸支持部材4には、図2に示すよう
に、加圧軸11が設けられ、受圧軸支持部材5には受圧
軸12が設けられ、これらは相互にほぼ同心状となって
水平方向を向いている。ヘッド部3には駆動源としてサ
ーボモータからなる駆動モータ7が組み込まれており、
この駆動モータ7の回転が動力伝達機構8を介して加圧
軸11と受圧軸12とに伝達されるようになっている。
加圧軸11の先端には円板状のホルダー13が取り付け
られ、受圧軸12の先端には同様に円板状のホルダー1
4が取り付けられ、それぞれのホルダー13,14に
は、ディスクWの両面を同時にポリッシング加工するた
めに、不織布などからなり研磨パッドや研磨バフなどと
も言われる研磨具15,16が装着されている。加圧軸
11と受圧軸12の一方は第1の回転軸となり、他方は
第2の回転軸となり、2つの研磨具15,16の一方が
第1の研磨具となり、他方が第2の研磨具となってい
る。
As shown in FIG. 2, the pressure shaft supporting member 4 is provided with a pressure shaft 11, and the pressure receiving shaft supporting member 5 is provided with a pressure receiving shaft 12, which are substantially concentric with each other. Is oriented horizontally. A drive motor 7 composed of a servomotor is incorporated in the head unit 3 as a drive source.
The rotation of the drive motor 7 is transmitted to the pressure shaft 11 and the pressure receiving shaft 12 via the power transmission mechanism 8.
A disc-shaped holder 13 is attached to the tip of the pressure shaft 11, and the disc-shaped holder 1 is similarly attached to the tip of the pressure receiving shaft 12.
In order to simultaneously polish both surfaces of the disk W, polishing tools 15, 16 made of nonwoven fabric or the like and also called polishing pads or polishing buffs are mounted on the holders 13, 14, respectively. One of the pressing shaft 11 and the pressure receiving shaft 12 becomes a first rotating shaft, the other becomes a second rotating shaft, one of the two polishing tools 15 and 16 becomes a first polishing tool, and the other becomes a second polishing tool. It is a tool.

【0014】加圧軸11と受圧軸12はそれぞれ図2に
示すように、駆動モータ7により同一の方向に回転駆動
され、加圧軸11は受圧軸12に対して接近離反するよ
うに軸方向に往復動自在となっている。加圧軸11を受
圧軸12から離した状態のもとで、ディスクWを両方の
研磨具15,16の間にまで上昇移動させた後に、加圧
軸11を接近移動させると、ディスクWはその一部分が
両方の研磨具15,16の間で挟まれて支持つまり挟持
されることになる。
As shown in FIG. 2, the pressure shaft 11 and the pressure receiving shaft 12 are driven to rotate in the same direction by the drive motor 7, and the pressure shaft 11 is moved in the axial direction so as to approach and separate from the pressure receiving shaft 12. Reciprocating freely. When the disk W is moved up between the two polishing tools 15 and 16 in a state where the pressure shaft 11 is separated from the pressure receiving shaft 12 and then the pressure shaft 11 is moved closer, the disk W A part thereof is sandwiched and supported, that is, sandwiched between the two polishing tools 15 and 16.

【0015】図3に示すように、両方の研磨具15、1
6により挟持されて回転されるディスクWはその回転中
心OW が両方の加圧軸11と受圧軸12の回転中心OG
に対して偏心量Eだけずれるように位置決めされるよう
になっている。このように、偏心していることから、デ
ィスクWを両方の研磨具15、16により挟持した状態
で研磨具15、16を回転駆動すると、研磨具15、1
6の回転運動はディスクWの回転運動に変換されるとと
もに、研磨具15、16の研磨面はディスクWの表面に
対して滑り移動することになる。
As shown in FIG. 3, both polishing tools 15, 1
6, the rotation center OW of the disk W held between the pressure shaft 11 and the pressure receiving shaft 12 has the rotation center OW.
Relative to the eccentricity E. As described above, since the discs W are eccentric, when the polishing tools 15 and 16 are driven to rotate while the disk W is held between the polishing tools 15 and 16, the polishing tools 15, 1 are rotated.
The rotational movement of the disk 6 is converted into the rotational movement of the disk W, and the polishing surfaces of the polishing tools 15 and 16 slide with respect to the surface of the disk W.

【0016】ディスクWの回転中心OW が所定の位置と
なるように、受圧軸支持部材5には位置決め部材として
の2つのガイドローラ17,18が取り付けられ、これ
らのガイドローラ17、18は、図2に示されるよう
に、受圧軸12に形成された中空孔12a内に配置され
て貫通孔Hの内周面Sa に接触するようになっている。
したがって、研磨具15,16により挟まれた状態とな
って、ディスクWはガイドローラ17,18によって案
内されてその回転中心OW がずれないようにして矢印で
示す方向に回転駆動される。
Two guide rollers 17, 18 as positioning members are attached to the pressure receiving shaft support member 5 so that the rotation center OW of the disk W is at a predetermined position. As shown in FIG. 2, it is arranged in a hollow hole 12a formed in the pressure receiving shaft 12, and comes into contact with the inner peripheral surface Sa of the through hole H.
Therefore, the disc W is sandwiched by the polishing tools 15 and 16, and the disc W is guided by the guide rollers 17 and 18 and is driven to rotate in the direction shown by the arrow so that the rotation center OW does not shift.

【0017】図3に示すように、それぞれの研磨具1
5、16の外径はディスクWの外径よりも小さく、かつ
貫通孔Hの内径よりも大きい内径を有する環状つまりリ
ング状となっており、それぞれの研磨具15、16の端
面が平坦となった研磨面19となっている。研磨面19
の外径と内径は、ディスクWの回転中心OW と研磨具1
5、16の回転中心OG とが偏心量Eだけずれてそれぞ
れが回転したときに、研磨面19の外径がディスクWの
外周面Sb よりも外方に迫り出さすことなく、しかも、
研磨面19の内径がディスクWの内周面Sa よりも内方
に迫り出さない状態となって、貫通孔Hを偏心方向に跨
ぐ寸法に設定されている。
As shown in FIG. 3, each polishing tool 1
The outer diameters of the polishing tools 5 and 16 are smaller than the outer diameter of the disk W and larger than the inner diameter of the through-hole H in an annular or ring shape. Polished surface 19. Polished surface 19
The outer diameter and the inner diameter of the disk are the rotation center OW of the disk W and the polishing tool 1.
When the rotation centers OG of the rotation surfaces 5 and 16 are displaced from each other by the amount of eccentricity E and rotate, the outer diameter of the polishing surface 19 does not protrude outward from the outer peripheral surface Sb of the disk W, and
The inner diameter of the polishing surface 19 is set so as not to protrude more inward than the inner peripheral surface Sa of the disk W, and is set to a dimension that straddles the through hole H in the eccentric direction.

【0018】したがって、研磨加工時に研磨面19は外
周エッジと内周エッジのいずれにも交差するように滑り
移動することがないのみならず、研磨面19のディスク
Wに対する滑り移動方向がディスクの表面の移動方向に
近似した角度となる。特に、図3において矢印Ra 、R
b で示すように、ディスクWの外周面に近い部分および
内周面に近い部分に対しては、研磨面19の滑り移動方
向はディスクWの回転移動方向にほぼ等しい角度とな
る。これにより、研磨具15、16によってディスクW
は、内周部と外周部についてもそれ以外の部分と同様の
研磨精度として表面全体を均一に研磨加工することが可
能となる。
Therefore, during the polishing process, the polishing surface 19 does not slide so as to intersect both the outer peripheral edge and the inner peripheral edge, and the direction in which the polishing surface 19 slides with respect to the disk W is the surface of the disk. Is an angle approximating the moving direction of. In particular, in FIG.
As shown by b, the direction of sliding movement of the polishing surface 19 is substantially equal to the direction of rotation of the disk W with respect to the portion near the outer peripheral surface and the portion near the inner peripheral surface of the disk W. As a result, the disc W is
It is possible to uniformly polish the entire surface of the inner peripheral portion and the outer peripheral portion with the same polishing accuracy as the other portions.

【0019】それぞれの研磨具15、16の研磨面19
は、偏心方向に貫通孔Hを跨いでこれを囲むようになっ
ており、研磨面19のディスクWに対する滑り移動方向
がディスクWの表面の移動方向に近似した角度となるの
で、研磨面19の外径がディスクWの外周面Sbの外方
に迫り出したり、内径が内周面Saの内方に迫り出して
も、ディスクWの外周面に近い部分および内周面に近い
部分の研磨精度を他の部分とほぼ同様の精度に維持する
ことができるとともに、ディスクWの外周面全体を確実
に加工することができる。
The polishing surface 19 of each of the polishing tools 15 and 16
Is formed so as to straddle and surround the through hole H in the eccentric direction, and the sliding movement direction of the polishing surface 19 with respect to the disk W becomes an angle similar to the moving direction of the surface of the disk W. Even if the outer diameter protrudes outward of the outer peripheral surface Sb of the disk W, or the inner diameter protrudes inward of the inner peripheral surface Sa, the polishing accuracy of a portion near the outer peripheral surface and a portion near the inner peripheral surface of the disk W is improved. Can be maintained with substantially the same accuracy as the other parts, and the entire outer peripheral surface of the disk W can be reliably processed.

【0020】ポリッシング加工がなされる際には、図示
しないノズルからポリッシング砥粒を含む研磨液がディ
スクWに供給される。ノズルからの供給に代えるか、ノ
ズルからの供給とともに、受圧軸12に形成された中空
孔12a内および受圧軸11に形成された中空孔内に研
磨液供給用の流路を設け、その部分からディスクWの表
面に研磨液を供給するようにしても良い。
When the polishing process is performed, a polishing liquid containing polishing abrasive grains is supplied to the disk W from a nozzle (not shown). Instead of the supply from the nozzle, or together with the supply from the nozzle, a flow path for supplying the polishing liquid is provided in the hollow hole 12a formed in the pressure receiving shaft 12 and the hollow hole formed in the pressure receiving shaft 11, and The polishing liquid may be supplied to the surface of the disk W.

【0021】ガイドローラ17、18は前述した2つに
限定されるものではなく、この数および取付位置は適宜
設定できる。また、ガイドローラ17、18を中空孔1
2a内に配置して内周面Saに接触させることなく、図
3において二点鎖線で示すように、外側に配置してそれ
ぞれのガイドローラ17a,17bをディスクWの外周
面Sb に接触させるようにしても良い。ただし、内周面
Saにガイドローラ17、8が接触することに起因して
内周面Saおよびその近傍のディスク表面に傷が発生し
ても、ディスクWの使用時には貫通孔Hには駆動軸が嵌
合され、内周面近傍のディスク表面にはハブが取り付け
られるので、その傷の影響は製品として問題とならな
い。したがって、ガイドローラ17、18を内周面Sa
に接触させる方が好ましい。
The number of the guide rollers 17 and 18 is not limited to the two described above, and the number and the mounting position can be appropriately set. Further, the guide rollers 17 and 18 are inserted into the hollow holes 1.
3A, the guide rollers 17a and 17b are disposed on the outside and contact the outer peripheral surface Sb of the disk W without being brought into contact with the inner peripheral surface Sa, as shown by a two-dot chain line in FIG. You may do it. However, even if the inner peripheral surface Sa and the disk surface near the inner peripheral surface Sa are damaged due to the contact of the guide rollers 17 and 8 with the inner peripheral surface Sa, the drive shaft is inserted into the through hole H when the disk W is used. Are fitted, and a hub is attached to the disk surface near the inner peripheral surface, so that the influence of the scratch does not cause a problem as a product. Therefore, the guide rollers 17 and 18 are formed on the inner peripheral surface Sa.
It is more preferable to make contact.

【0022】図4および図5はヘッド部3と加圧軸支持
部材4を拡大して示す断面図であり、加圧軸11は加圧
軸支持部材4に回転自在かつ軸方向に往復動自在に支持
されている。この加圧軸11を駆動するために、加圧軸
11の後端部には駆動歯車21が固定され、加圧軸支持
部材4に固定された支持軸22には従動側プーリ23と
これに固定されたアイドル歯車24とが回転自在に装着
されている。図6に示すように、駆動モータ7により駆
動される駆動軸25に固定された駆動側プーリ26と、
従動側プーリ23との間にはタイミングベルト27が掛
け渡されており、これらの部材によって動力伝達機構8
が構成され、駆動モータ7の回転はアイドル歯車24を
介して加圧軸11に伝達される。
FIGS. 4 and 5 are enlarged sectional views showing the head portion 3 and the pressure shaft support member 4. The pressure shaft 11 is rotatable on the pressure shaft support member 4 and is reciprocally movable in the axial direction. It is supported by. In order to drive the pressing shaft 11, a driving gear 21 is fixed to a rear end of the pressing shaft 11, and a driven pulley 23 and a driven pulley 23 are mounted on a supporting shaft 22 fixed to the pressing shaft supporting member 4. The fixed idle gear 24 is rotatably mounted. As shown in FIG. 6, a drive pulley 26 fixed to a drive shaft 25 driven by the drive motor 7,
A timing belt 27 is stretched between the driven pulley 23 and the power transmission mechanism 8.
The rotation of the drive motor 7 is transmitted to the pressurizing shaft 11 via the idle gear 24.

【0023】加圧軸支持部材4と加圧軸11との間に
は、直動案内部材28が設けられており、この直動案内
部材28を拡大して示すと、図7の通りである。この直
動案内部材28は、図7に示すように、ケージないし保
持器とも言われる円筒体29を有し、この円筒体29に
は多数のボール30が回転自在に保持されている。ボー
ル30の径は円筒体29の厚みよりも大きな寸法となっ
ており、加圧軸11はその外周面がボール30にころが
り接触して直動案内部材28に対して回転かつ軸方向に
往復動自在に支持されている。
A linear motion guide member 28 is provided between the pressure shaft support member 4 and the pressure shaft 11, and FIG. 7 shows an enlarged view of the linear motion guide member 28. . As shown in FIG. 7, the linear guide member 28 has a cylindrical body 29 also called a cage or a retainer, and a large number of balls 30 are rotatably held in the cylindrical body 29. The diameter of the ball 30 is larger than the thickness of the cylindrical body 29, and the pressing shaft 11 rotates on the outer peripheral surface of the cylindrical member 29 and comes into contact with the ball 30 to rotate and reciprocate in the axial direction with respect to the linear guide member 28. It is freely supported.

【0024】したがって、静止した状態の加圧軸11を
回転させる際には、直動案内部材28のボール30によ
り静止摩擦力が加圧軸11に加わることになるが、回転
した状態のもとでは、ボール30から加圧軸11に対し
てはころがり接触の動摩擦力が加わることになり、静止
摩擦力よりも動摩擦力の方が格段と小さくなる。加圧軸
11を受圧軸12から離した状態から接近させてディス
クWを挟み付ける状態とする際には、まず、加圧軸11
を回転させた状態とし、静止摩擦力よりも格段と小さい
摩擦力である動摩擦力が加圧軸11に加わっている状態
のもとで、加圧軸11を軸方向に接近移動させる。これ
により、加圧軸11に加えられた押し付け力は摩擦力の
影響を受けることなく、設定された押し付け力が高精度
でディスクWに伝達されることになる。
Therefore, when rotating the pressurizing shaft 11 in a stationary state, the static friction force is applied to the pressurizing shaft 11 by the ball 30 of the linear motion guide member 28. In this case, the rolling frictional dynamic force is applied from the ball 30 to the pressing shaft 11, and the dynamic frictional force is much smaller than the static frictional force. When the pressing shaft 11 is moved away from the pressure receiving shaft 12 so as to approach the disk W, first, the pressing shaft 11
Is rotated, and the pressing shaft 11 is moved closer in the axial direction while a dynamic friction force, which is a friction force much smaller than the static friction force, is applied to the pressing shaft 11. As a result, the pressing force applied to the pressing shaft 11 is not affected by the frictional force, and the set pressing force is transmitted to the disk W with high accuracy.

【0025】ヘッド部3に固定されたブラケット31に
はピン32が設けられ、このピン32にはボール軸受3
3を介して揺動てこ部材34の一端部が取り付けられて
おり、この揺動てこ部材34はピン32を中心に揺動自
在となっている。この揺動てこ部材34の他端部は、加
圧軸11の後端面に形成された球面状突起部35に接触
するようになっている。ブラケット31には第1と第2
の2つの空気圧シリンダ36,37が取り付けられ、そ
れぞれの空気圧シリンダ36,37のピストンロッド3
8,39は、揺動てこ部材34に回転自在に設けられた
ローラ41,42にそれぞれに接触するようになってい
る。それぞれのローラ41,42はボール軸受を介して
揺動てこ部材34に設けられており、回転摩擦抵抗は小
さくなっている。これらの空気圧シリンダ36,37と
揺動てこ部材34によって加圧軸11に押し付け力を加
え、この加圧軸11を介してディスクWに所定の押し付
け力を加える押し付け力付与手段が構成される。
A pin 32 is provided on a bracket 31 fixed to the head portion 3.
One end of a swing lever member 34 is attached via 3, and the swing lever member 34 is swingable about the pin 32. The other end of the swing lever member 34 comes into contact with a spherical projection 35 formed on the rear end surface of the pressure shaft 11. The first and second brackets 31
Are mounted, and the piston rod 3 of each of the pneumatic cylinders 36, 37 is mounted.
The reference numerals 8 and 39 contact the rollers 41 and 42 rotatably provided on the swing lever member 34, respectively. Each of the rollers 41 and 42 is provided on the swing lever member 34 via a ball bearing, and the rotational friction resistance is reduced. The pneumatic cylinders 36 and 37 and the swing lever member 34 apply a pressing force to the pressing shaft 11 and constitute a pressing force applying means for applying a predetermined pressing force to the disk W via the pressing shaft 11.

【0026】図5に示すように、第1のピストンロッド
38がローラ41に接触する接触点とピン32の中心点
との間の距離をL1 とし、第2のピストンロッド39が
ローラ42に接触する接触点とピン32の中心点との間
の距離をL2 とし、揺動てこ部材34の他端部が加圧軸
11に接触する接触点とピン32の中心点との間の距離
をL3 とすると、L1 :L2 :L3 は1:2:4に設定
されている。
As shown in FIG. 5, the distance between the contact point where the first piston rod 38 contacts the roller 41 and the center point of the pin 32 is L 1, and the second piston rod 39 is connected to the roller 42. The distance between the contact point that makes contact and the center point of the pin 32 is L 2, and the distance between the contact point at which the other end of the swing lever member 34 contacts the pressing shaft 11 and the center point of the pin 32. When the the L 3, L 1: L 2 : L 3 is 1: 2: set to 4.

【0027】したがって、揺動てこ部材34の他端部か
ら加圧軸11に対して押し付け力fで押し付ける場合に
は、第1の空気圧シリンダ36によって揺動てこ部材3
4に対して加える押し付け力F1 はfの4倍となり、第
2の空気圧シリンダ37によって揺動てこ部材34に対
して加えられる押し付け力F2 はfの2倍となる。この
ように、それぞれの空気圧シリンダ36,37の押し付
け力は揺動てこ部材34を介して減少して加圧軸11に
伝達されるようになっている。
Therefore, when the other end of the swing lever member 34 is pressed against the pressing shaft 11 with the pressing force f, the swing lever member 3 is moved by the first pneumatic cylinder 36.
Pressing force F 1 added relative to 4 is four times the f, the pressing force F 2 exerted against the rocking lever member 34 by a second pneumatic cylinder 37 is twice the f. As described above, the pressing force of each of the pneumatic cylinders 36 and 37 is reduced via the swing lever member 34 and transmitted to the pressurizing shaft 11.

【0028】それぞれの空気圧シリンダ36,37内に
摺動自在となったピストンには、シリンダの内周面との
間からの空気の漏れを防止するシール材が設けられてお
り、シール材がシリンダの内周面に接触することから、
ピストンはシリンダの内周面から摩擦抵抗を受けること
になる。したがって、それぞれの空気圧シリンダ36,
37内にピストンの受圧面積に対応させて所定の圧力の
空気圧を供給するようにしても、摩擦抵抗に起因した押
し付け力の誤差が発生することになるが、その誤差が揺
動てこ部材34を介して減少して加圧軸11に伝達され
るので、高精度で加圧軸11に加えられる押し付け力を
調整することができる。つまり、L1 からL3 の長さ比
によって、第1の空気圧シリンダ36のピストンにおけ
る摩擦抵抗は4分の1に減少して加圧軸11に伝達さ
れ、第2の空気圧シリンダ37のピストンにおける摩擦
抵抗は2分の1に減少して加圧軸11に伝達されること
になる。これにより、加圧軸11に対して押し付け力を
加える2つの空気圧シリンダ36,37におけるピスト
ンの摩擦抵抗が減少して高精度での押し付け力の制御が
可能となる。なお、L1 :L2 :L3 の比は前述した場
合のみならず、任意の値に設定することができる。
The pistons slidable in the respective pneumatic cylinders 36 and 37 are provided with a seal member for preventing air from leaking from the inner peripheral surface of the cylinder. Contacting the inner peripheral surface of
The piston receives frictional resistance from the inner peripheral surface of the cylinder. Therefore, each pneumatic cylinder 36,
Even if an air pressure of a predetermined pressure is supplied in accordance with the pressure receiving area of the piston in 37, an error in the pressing force due to the frictional resistance will occur, but the error will cause the swing lever member 34 to swing. Since the pressure is reduced and transmitted to the pressure shaft 11, the pressing force applied to the pressure shaft 11 can be adjusted with high accuracy. In other words, the frictional resistance at the piston of the first pneumatic cylinder 36 is reduced to one-fourth and transmitted to the pressurizing shaft 11 by the length ratio of L 1 to L 3 , and is transmitted to the piston of the second pneumatic cylinder 37. The frictional resistance is reduced by half and transmitted to the pressure shaft 11. Thereby, the frictional resistance of the pistons in the two pneumatic cylinders 36 and 37 for applying the pressing force to the pressing shaft 11 is reduced, and the pressing force can be controlled with high accuracy. Note that the ratio of L 1 : L 2 : L 3 can be set to an arbitrary value as well as the case described above.

【0029】図8は空気圧シリンダ36,37に空気圧
を供給する空気圧回路を示す図であり、加圧軸11を受
圧軸12から離反させる方向に駆動するための空気圧シ
リンダ43が加圧軸支持部材4に設けられており、この
空気圧シリンダ43のピストンロッド44は直接あるい
はレバーなどを介して間接的に駆動歯車21に接触する
ようになっている。
FIG. 8 is a view showing a pneumatic circuit for supplying pneumatic pressure to the pneumatic cylinders 36 and 37. The pneumatic cylinder 43 for driving the pressurizing shaft 11 in a direction away from the pressure receiving shaft 12 includes a pressurizing shaft support member. The piston rod 44 of the pneumatic cylinder 43 comes into contact with the drive gear 21 directly or indirectly via a lever or the like.

【0030】空気圧ポンプ45に接続されたタンク46
には、空気圧シリンダ36に接続される空気圧配管47
と、空気圧シリンダ37に接続される空気圧配管48
と、空気圧シリンダ43に接続される空気圧配管49と
を有している。空気圧シリンダ36,37に供給される
空気圧を任意の圧力に制御するために、空気圧配管4
7,48には電空レギュレータなどからなる圧力調整器
51,52が設けられ、制御部からの電気信号によって
それぞれの空気圧シリンダ36,37に供給される押し
付け力が調整される。空気圧シリンダ43に供給される
空気圧を設定するために、空気圧配管49には圧力調整
弁53が設けられており、加圧軸11を受圧軸12に対
して離反移動する際にはこの空気圧シリンダ43が作動
することになる。それぞれの空気圧配管47〜49に
は、それぞれの流路を開閉するための電磁弁からなる切
換弁54〜56が設けられており、電気信号によって開
閉作動するようになっている。
Tank 46 connected to pneumatic pump 45
Includes a pneumatic pipe 47 connected to the pneumatic cylinder 36.
And a pneumatic pipe 48 connected to the pneumatic cylinder 37
And a pneumatic pipe 49 connected to the pneumatic cylinder 43. In order to control the air pressure supplied to the pneumatic cylinders 36 and 37 to an arbitrary pressure, the pneumatic piping 4
Each of the pressure regulators 7 and 48 is provided with a pressure regulator 51 or 52 composed of an electropneumatic regulator or the like, and the pressing force supplied to each of the pneumatic cylinders 36 and 37 is adjusted by an electric signal from a control unit. In order to set the air pressure supplied to the pneumatic cylinder 43, a pressure adjusting valve 53 is provided in the pneumatic pipe 49, and when the pressurizing shaft 11 is moved away from the pressure receiving shaft 12, the pneumatic cylinder 43 Will operate. The pneumatic pipes 47 to 49 are provided with switching valves 54 to 56, which are electromagnetic valves for opening and closing the respective flow paths, and are opened and closed by an electric signal.

【0031】揺動てこ部材34により加圧軸11に加え
られる押し付け力fを検出するために、揺動てこ部材3
4には荷重センサ57が設けられ、これにより検出され
た信号に基づいて制御部からの制御信号により圧力調整
器51,52が作動されて、所定の押し付け力が加圧軸
11に加えられる。
In order to detect the pressing force f applied to the pressing shaft 11 by the swing lever member 34, the swing lever member 3
4 is provided with a load sensor 57, and based on a signal detected by this, the pressure regulators 51 and 52 are operated by a control signal from the control unit, and a predetermined pressing force is applied to the pressing shaft 11.

【0032】第1の空気圧シリンダ36からピストンロ
ッド38により揺動てこ部材34に加えられる押し付け
力F1 を一定の基準押し付け力とし、荷重センサ57に
より検出された加圧軸11に加えられる実際に押し付け
力fと設定された押し付け力との偏差に応じて第2の空
気圧シリンダ37に加えられる空気圧を圧力調整器52
により制御するようにして、偏差分の押し付け力を第2
の空気圧シリンダ37により制御するようにしても良
く、逆に第1の空気圧シリンダ36により押し付け力を
制御するようにし、第2の空気圧シリンダ37により一
定の基準押し付け力を加えるようにしても良い。このよ
うに、一方の空気圧シリンダにより基準の押し付け力を
加え、他方の空気圧シリンダによって押し付け力の調整
を行うようにしても良い。
The pressing force F 1 applied to the lever member 34 by the piston rod 38 from the first pneumatic cylinder 36 is set to a constant reference pressing force, and is actually applied to the pressing shaft 11 detected by the load sensor 57. The air pressure applied to the second pneumatic cylinder 37 according to the deviation between the pressing force f and the set pressing force is adjusted by the pressure regulator 52.
The pressing force of the deviation is controlled by the second
Alternatively, the pressing force may be controlled by the first pneumatic cylinder 36 and a constant reference pressing force may be applied by the second pneumatic cylinder 37. Thus, the reference pressing force may be applied by one pneumatic cylinder, and the pressing force may be adjusted by the other pneumatic cylinder.

【0033】加圧軸11の回転中心を受圧軸12の回転
中心に対してほぼ同心状態あるいは平行な状態とする
と、ディスクWの両面全体には同一の押し付け力が加え
られた状態でポリッシング加工が行われることになる。
加圧軸11を傾斜させて両方の研磨具15,16により
ディスクWを挟み付けると、研磨具のディスクWに対す
る押し付け力の分布が変化することになり、ディスクW
の半径方向の位置に応じてポリッシング加工量つまり研
磨度を変化させることができる。
Assuming that the rotation center of the pressure shaft 11 is substantially concentric or parallel to the rotation center of the pressure receiving shaft 12, polishing is performed on both surfaces of the disk W with the same pressing force being applied. Will be done.
When the pressing shaft 11 is inclined and the disc W is sandwiched between the two polishing tools 15 and 16, the distribution of the pressing force of the polishing tool against the disc W changes, and the disc W
The amount of polishing, that is, the degree of polishing, can be changed in accordance with the position in the radial direction.

【0034】そのために、ヘッド部3と加圧軸支持部材
4との間には、面圧調整部材61が設けられている。こ
の面圧調整部材61はばね材により形成されており、ヘ
ッド部3に軸方向に延びて固定された固定片62と、加
圧軸支持部材4に軸方向に延びて固定された可動片63
とを有し、固定片62の軸方向一端部と可動片63の軸
方向他端部とが連結片64により一体となっており、全
体的にジグザグ形状となっている。可動片63の両端部
にそれぞれねじ結合される雄ねじ部が設けられたねじ軸
65,66がそれぞれヘッド部3に回転自在に取り付け
られ、さらに、ヘッド部3にねじ結合される雄ねじ部が
設けられて可動片63を押し付けるねじ部材67がヘッ
ド部3に回転自在に取り付けられている。
For this purpose, a surface pressure adjusting member 61 is provided between the head portion 3 and the pressing shaft support member 4. The surface pressure adjusting member 61 is formed of a spring material, and includes a fixed piece 62 that extends and is fixed to the head portion 3 in the axial direction, and a movable piece 63 that extends and is fixed to the pressing shaft support member 4 in the axial direction.
And one end in the axial direction of the fixed piece 62 and the other end in the axial direction of the movable piece 63 are integrated by the connecting piece 64, and have a zigzag shape as a whole. Screw shafts 65 and 66 having male screw portions screwed to both ends of the movable piece 63 are rotatably attached to the head portion 3, respectively, and further provided with a male screw portion screwed to the head portion 3. A screw member 67 for pressing the movable piece 63 is rotatably attached to the head portion 3.

【0035】したがって、それぞれのねじ軸65〜67
を面圧調整モータにより回転させることによって、加圧
軸11の回転中心Oは、図4に示すように、図において
左側を中心として矢印で示すように上下方向に傾けられ
る。図示する場合には、ねじ部材を用いて面圧調整部材
61を変形するようにしているが、これに代えて、電圧
に応じて変形するピエゾ素子を用いて面圧調整部材61
を変形させることにより、加圧軸11を傾けるようにし
ても良い。
Therefore, each of the screw shafts 65-67
Is rotated by the surface pressure adjusting motor, whereby the rotation center O of the pressing shaft 11 is tilted up and down as shown by the arrow in FIG. In the illustrated case, the surface pressure adjusting member 61 is deformed by using a screw member. Alternatively, the surface pressure adjusting member 61 is formed by using a piezo element that deforms according to a voltage.
By deforming, the pressure shaft 11 may be inclined.

【0036】図9は研磨装置の作動を制御するための制
御回路を示すブロック図であり、CPU(演算処理装
置)などを有する制御部71には、装置の起動を指令す
る入力キー、および押し付け力や面圧を入力するキーな
どが設けられた操作パネル72と、荷重センサ57から
の信号とが入力されるようになっている。加圧軸11を
受圧軸12とともに回転駆動する駆動モータ7と、それ
ぞれの圧力調整器51,52およびそれぞれの切換弁5
4,55および56とには、制御部71から作動信号が
送られるようになっている。
FIG. 9 is a block diagram showing a control circuit for controlling the operation of the polishing apparatus. A control unit 71 having a CPU (arithmetic processing unit) and the like are provided with an input key for instructing activation of the apparatus, and pressing. An operation panel 72 provided with keys and the like for inputting force and surface pressure, and a signal from the load sensor 57 are input. A drive motor 7 for rotatingly driving the pressurizing shaft 11 together with the pressure receiving shaft 12, respective pressure regulators 51 and 52 and respective switching valves 5
An operation signal is sent from the control unit 71 to 4, 55 and 56.

【0037】制御部71には、荷重センサ57などから
のアナログ信号を増幅するアンプやデジタル信号に変換
するA/D変換器、および圧力調整器56に出力される
デジタル信号をアナログ信号に変換するD/A変換器な
どが設けられている。また、制御部71にはROM7
3、RAM74が接続されており、荷重センサ57から
の信号に応じて圧力調整器51,52に出力される電圧
値との対応関係の演算式やマップデータがROM73に
格納されており、加圧軸11に加えられる押し付け力や
面圧の分布状態などは表示部75に表示されるようにな
っている。
The control unit 71 includes an amplifier for amplifying an analog signal from the load sensor 57 and the like, an A / D converter for converting the signal to a digital signal, and a digital signal output to the pressure regulator 56 for converting into an analog signal. A D / A converter and the like are provided. The control unit 71 has a ROM 7
3, a RAM 74 is connected, and an arithmetic expression and map data of a correspondence relationship with a voltage value output to the pressure regulators 51 and 52 in accordance with a signal from the load sensor 57 are stored in the ROM 73. The distribution of the pressing force and the surface pressure applied to the shaft 11 is displayed on the display unit 75.

【0038】さらに、制御部71からは図9に示すよう
に、図4および図5に示された面圧調整部材61をそれ
ぞれのねじ軸65〜67を介して作動させるための面圧
調整モータ76に制御信号が送られるようになってい
る。
Further, as shown in FIG. 9, the controller 71 controls the surface pressure adjusting member 61 shown in FIGS. 4 and 5 to operate via the respective screw shafts 65-67. A control signal is sent to 76.

【0039】このような研磨装置を用いてディスクWの
表面をポリッシング加工する手順について、図10を参
照しつつ説明する。
The procedure for polishing the surface of the disk W using such a polishing apparatus will be described with reference to FIG.

【0040】図10(A)に示すように、加圧軸11が
後退して両方の研磨具15,16の間に大きな隙間が形
成された状態のもとで、着脱ユニット6から治具6aに
よってディスクWは上昇して搬送される。次いで、ガイ
ドロッド17、18を前進移動させてそれぞれの先端部
を貫通孔H内に進入させる。図10(B)はガイドロッ
ド17、18が進入した状態を示す。
As shown in FIG. 10 (A), in a state where the pressing shaft 11 is retracted and a large gap is formed between the two polishing tools 15 and 16, the attachment / detachment unit 6 removes the jig 6a. As a result, the disk W is lifted and transported. Next, the guide rods 17 and 18 are moved forward so that the respective tips enter the through holes H. FIG. 10B shows a state where the guide rods 17 and 18 have entered.

【0041】この状態のもとで、まず、駆動モータ7に
より加圧軸11と受圧軸12とを同一の方向に回転駆動
すると、加圧軸11は直動案内部材28のボール30が
ころがり接触した状態で支持されることになり、加圧軸
11には動摩擦抵抗が加わった状態となる。このよう
に、静止摩擦よりも格段と摩擦抵抗力が小さい動摩擦が
加圧軸11と直動案内部材28との間に発生している状
態のもとで、切換弁54,55に通電して両方の空気圧
シリンダ36,37を作動させる。
In this state, when the pressure shaft 11 and the pressure receiving shaft 12 are first driven to rotate in the same direction by the drive motor 7, the pressure shaft 11 is brought into contact with the ball 30 of the linear motion guide member 28 by rolling contact. The pressing shaft 11 is in a state where dynamic frictional resistance is applied. In this manner, the switching valves 54 and 55 are energized under the condition that the dynamic friction, which is much smaller than the static friction, is generated between the pressurizing shaft 11 and the linear guide 28. Activate both pneumatic cylinders 36,37.

【0042】これにより、加圧軸11は空気圧シリンダ
36,37によって揺動てこ部材34を介して押し付け
られてディスクWに向けて前進移動し、図10(C)に
示すように、ディスクWは両方の研磨具15,16によ
って挟み付けられて支持された状態となる。このように
して、2つの研磨具15,16によりディスクWが挟持
された後には、図10(D)に示すように、治具6aを
ディスクWから図において下方に退避移動させることに
より、2つの研磨具15,16の回転運動がディスクW
の回転運動に変換されながら、研磨具15,16の表面
がディスクWの両面に滑り接触してポリッシング加工が
行われる。
Thus, the pressurizing shaft 11 is pushed by the pneumatic cylinders 36 and 37 via the lever member 34 and moves forward toward the disk W. As shown in FIG. The two polishing tools 15 and 16 sandwich and are supported. After the disk W is held between the two polishing tools 15 and 16 in this manner, the jig 6a is retracted downward from the disk W in the figure as shown in FIG. The rotational movement of the two polishing tools 15 and 16
While being converted into the rotational motion of the disk W, the surfaces of the polishing tools 15 and 16 are brought into sliding contact with both surfaces of the disk W to perform polishing.

【0043】それぞれの空気圧シリンダ36,37に供
給される圧力は圧力調整器51,52により制御され、
それぞれの空気圧シリンダ36,37により揺動てこ部
材34に加えられる押し付け力F1 ,F2 は、加圧軸1
1に加えられる押し付け力fよりも大きく設定されてお
り、それぞれの空気圧シリンダ36,37内を移動する
ピストンの摩擦抵抗は、揺動てこ部材34を介して減少
されて加圧軸11に伝達されることになり、高い精度で
加圧軸11の押し付け力を制御することが可能となる。
The pressure supplied to each of the pneumatic cylinders 36, 37 is controlled by pressure regulators 51, 52,
The pressing forces F 1 and F 2 applied to the swing lever member 34 by the respective pneumatic cylinders 36 and 37 are the
The frictional resistance of the pistons moving in the respective pneumatic cylinders 36 and 37 is reduced via the swing lever member 34 and transmitted to the pressurizing shaft 11. As a result, the pressing force of the pressing shaft 11 can be controlled with high accuracy.

【0044】加圧軸11によりディスクWに加えられる
押し付け力は、操作パネル72に設けられたキーなどを
操作することにより予め設定することができ、荷重セン
サ57は揺動てこ部材34により加圧軸11に加えられ
ている押し付け力を検出し、偏差が存在した場合には、
その偏差に対応する信号が圧力調整器51,52に送ら
れて、設定された押し付け力が維持される。
The pressing force applied to the disk W by the pressure shaft 11 can be set in advance by operating a key or the like provided on the operation panel 72, and the load sensor 57 is pressed by the swing lever member 34. The pressing force applied to the shaft 11 is detected, and if there is a deviation,
A signal corresponding to the deviation is sent to the pressure regulators 51 and 52, and the set pressing force is maintained.

【0045】ディスクWに両方の研磨具15,16によ
り加えられる面圧をディスクWの径方向で相違させる場
合には、作業者が操作パネル72を用いて面圧分布の入
力を行う。これにより、入力された分布指令に基づいて
面圧調整部材61により加圧軸11が傾き、所定の面圧
で研磨具15,16によりディスクWが挟み付けられる
ことになる。
When the surface pressure applied by the two polishing tools 15 and 16 to the disk W is made different in the radial direction of the disk W, the operator inputs the surface pressure distribution using the operation panel 72. Accordingly, the pressing shaft 11 is tilted by the surface pressure adjusting member 61 based on the input distribution command, and the disc W is sandwiched by the polishing tools 15 and 16 at a predetermined surface pressure.

【0046】ディスクに対するポリッシング加工が終了
すると、着脱ユニット6から治具6aが上昇してディス
クWが治具6aにより保持された状態となる。次いで、
切換弁54,55に対する通電を停止し、切換弁56に
対して通電を行うと、空気圧シリンダ43によって加圧
軸11は後退移動する。この状態のもとで、治具6aを
下降移動させることにより、加工後のディスクWは着脱
ユニット6に戻される。さらに、未加工のディスクWが
新たに装填されて上述した場合と同様にしてポリッシン
グ加工が行われる。
When the polishing of the disk is completed, the jig 6a rises from the detachable unit 6, and the disk W is held by the jig 6a. Then
When the energization of the switching valves 54 and 55 is stopped and the energization of the switching valve 56 is performed, the pressurizing shaft 11 is moved backward by the pneumatic cylinder 43. By moving the jig 6a downward in this state, the processed disk W is returned to the detachable unit 6. Further, an unprocessed disk W is newly loaded, and polishing is performed in the same manner as described above.

【0047】前述した実施の形態にあっては、それぞれ
の研磨具として不織布などからなる研磨パッドを加圧軸
11と受圧軸12とに取り付けてディスクのポリッシン
グ加工を行う場合について説明したが、他の磨き加工や
研削加工を行う場合にも図示する研磨装置を適用するこ
とができる。研削加工と磨き加工とを総称して研磨加工
と言われ、研削加工を行う場合には、加圧軸と受圧軸に
砥石が取り付けられる。磨き加工には、前述したように
ディスクの表面に高度の鏡面を形成するためのポリッシ
ング以外に、ディスクの寸法誤差を調整したり、表面仕
上げ状態を改善するために行うラッピングがあり、ラッ
ピングに際しては、ポリッシングと同様にアルミナ粉
末、炭化ケイ素粉末、ガラス粉末、あるいはダイヤモン
ド粉末などがラッピング砥粒として使用されるが、ラッ
ピング砥粒はポリッシング砥粒よりも粒度の粗いものが
使用される。
In the above-described embodiment, a case has been described in which a polishing pad made of a nonwoven fabric or the like is attached to the pressing shaft 11 and the pressure receiving shaft 12 as each polishing tool to perform polishing of the disk. The polishing apparatus shown in the figure can also be applied to the case where polishing or grinding is performed. Grinding and polishing are collectively referred to as polishing, and when performing grinding, a grindstone is attached to the pressing shaft and the pressure receiving shaft. Polishing includes lapping other than polishing to form a highly specular surface on the disk surface as described above, other than lapping performed to adjust the dimensional error of the disk or to improve the surface finish state. As in the case of polishing, alumina powder, silicon carbide powder, glass powder, diamond powder or the like is used as lapping abrasive grains, and lapping abrasive grains having a coarser grain size than polishing abrasive grains are used.

【0048】本発明は前記実施の形態に限定されるもの
ではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能で
あることはいうまでもない。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and it goes without saying that various changes can be made without departing from the scope of the invention.

【0049】たとえば、実施の形態にあっては、ディス
クWを両方の研磨具15,16の下方から上昇させて両
方の研磨具の間に搬送するようにしているが、上方から
下降させて搬入させるようにしても良い。また、図示す
る実施の形態では、加圧軸11と受圧軸12とがそれぞ
れ水平となっているが、垂直としても良い。さらに、空
気圧シリンダ35,45を使用したが、油圧シリンダな
ど流体を作動媒体としたシリンダであれば、どのような
流体をも使用することができる。
For example, in the embodiment, the disc W is lifted from below both the polishing tools 15 and 16 so as to be conveyed between the two polishing tools. You may make it do. In the illustrated embodiment, the pressing shaft 11 and the pressure receiving shaft 12 are respectively horizontal, but may be vertical. Further, although the pneumatic cylinders 35 and 45 are used, any fluid can be used as long as the cylinder is a fluid such as a hydraulic cylinder as a working medium.

【0050】[0050]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、2つの
リング状の研磨具によりリング状の研磨面がディスクの
中心孔を跨ぐようにしてディスクを挟持して研磨するよ
うにしたので、研磨具の回転運動をディスクの回転運動
に変換しながら、研磨加工する際に、研磨面のディスク
に対する滑り方向がディスクの回転方向に近似した方向
となり、ディスクの表面全体を均一の精度で研磨加工す
ることができる。これにより、研磨効率を向上させつつ
高精度でディスクの表面全体を研磨加工することができ
る。
As described above, according to the present invention, the disk is pinched and polished by the two ring-shaped polishing tools so that the ring-shaped polishing surface straddles the center hole of the disk. During polishing, while converting the rotational movement of the polishing tool into the rotational movement of the disk, the direction of sliding of the polishing surface with respect to the disk is in a direction similar to the rotational direction of the disk, and the entire surface of the disk is polished with uniform accuracy. Can be processed. Thus, the entire surface of the disk can be polished with high precision while improving the polishing efficiency.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(A)は本発明の一実施の形態である研磨装置
の外観を示す正面図であり、(B)は同図(A)の右側
面図である。
FIG. 1A is a front view showing an appearance of a polishing apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a right side view of FIG. 1A.

【図2】図1に示された研磨装置の要部を拡大して示す
斜視図である。
FIG. 2 is an enlarged perspective view showing a main part of the polishing apparatus shown in FIG. 1;

【図3】研磨加工がなされている状態における図2の拡
大断面図である。
FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view of FIG. 2 in a state where polishing is performed.

【図4】加圧軸が受圧軸から離れた状態における図1に
示された加圧軸支持部を拡大して示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing an enlarged view of the pressing shaft support shown in FIG. 1 in a state where the pressing shaft is separated from the pressure receiving shaft.

【図5】加圧軸が受圧軸に接近した状態における加圧軸
支持部を拡大して示す断面図である。
FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view showing a pressing shaft supporting portion in a state where the pressing shaft approaches the pressure receiving shaft.

【図6】(A)は動力伝達機構の一部を示す断面図であ
り、(B)は同図(A)におけるVIB −VIB 線に沿う断
面図である。
FIG. 6A is a cross-sectional view showing a part of the power transmission mechanism, and FIG. 6B is a cross-sectional view taken along the line VIB-VIB in FIG.

【図7】(A)は図4および図5に示された直動案内部
材を示す縦断面図であり、(B)は同図(A)の横断面
図である。
7A is a longitudinal sectional view showing the linear guide member shown in FIGS. 4 and 5, and FIG. 7B is a transverse sectional view of FIG.

【図8】空気圧シリンダを作動させるため空気圧配管を
示す空気圧回路図である。
FIG. 8 is a pneumatic circuit diagram showing pneumatic piping for operating a pneumatic cylinder.

【図9】研磨装置の制御回路を示すブロック図である。FIG. 9 is a block diagram illustrating a control circuit of the polishing apparatus.

【図10】(A)から(D)は研磨加工工程を示す工程
図である。
FIGS. 10A to 10D are process diagrams showing a polishing process.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

7 駆動モータ 8 動力伝達機構 11 加圧軸 12 受圧軸 15,16 研磨具 19 研磨面 21 駆動歯車 23 従動側プーリ 24 アイドル歯車 26 駆動側プーリ 28 直動案内部材 29 円筒体 E 偏心量 H 貫通孔 Sa 内周面 Sb 外周面 W ディスク Reference Signs List 7 drive motor 8 power transmission mechanism 11 pressure shaft 12 pressure receiving shaft 15, 16 polishing tool 19 polishing surface 21 drive gear 23 driven pulley 24 idle gear 26 drive pulley 28 linear guide member 29 cylindrical body E eccentric amount H through hole Sa inner peripheral surface Sb outer peripheral surface W disk

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 中心部に貫通孔が形成されたディスクの
両面を研磨加工する研磨方法であって、 それぞれ前記ディスクの外径よりも外径が小さく、かつ
前記貫通孔の内径よりも内径が大きいリング状の研磨面
を有する研磨具が設けられ、同心状態で回転する第1と
第2の回転軸を回転駆動し、 ワークの回転中心を前記回転軸の回転中心に対して偏心
させるとともに、前記それぞれの研磨具の研磨面が前記
貫通孔を偏心方向に跨いで接触するように前記ワークを
回転自在に位置決め部材により支持し、 前記研磨具の回転運動を前記ディスクの回転運動に変換
しながら前記それぞれの研磨面により前記ディスクの両
面を研磨するようにしたことを特徴とする研磨方法。
1. A polishing method for polishing both surfaces of a disk having a through hole formed in a center portion, wherein the outer diameter of the disk is smaller than the outer diameter of the disk, and the inner diameter of the disk is smaller than the inner diameter of the through hole. A polishing tool having a large ring-shaped polishing surface is provided, the first and second rotating shafts rotating concentrically are driven to rotate, and the center of rotation of the work is eccentric with respect to the center of rotation of the rotating shaft. The work is rotatably supported by a positioning member so that the polishing surface of each of the polishing tools straddles the through hole in the eccentric direction, and while converting the rotational motion of the polishing tool into the rotational motion of the disk. A polishing method, wherein both sides of the disk are polished by the respective polishing surfaces.
【請求項2】 請求項1記載の研磨方法において、それ
ぞれの前記研磨面の外径が前記ディスクの外周面よりも
外方に迫り出さないように前記ディスクを前記位置決め
部材により支持するようにしたことを特徴とする研磨方
法。
2. The polishing method according to claim 1, wherein the positioning member supports the disk so that an outer diameter of each of the polishing surfaces does not protrude outward from an outer peripheral surface of the disk. A polishing method characterized by the above-mentioned.
【請求項3】 請求項1または2記載の研磨方法におい
て、それぞれの前記研磨面の外径が前記ディスクの外周
面よりも外方に迫り出さず、かつ前記研磨面の内径が前
記貫通孔の内周面よりも内方に迫り出さず、それぞれの
前記研磨面の全体が前記ディスクに接触するようにした
ことを特徴とする研磨方法。
3. The polishing method according to claim 1, wherein an outer diameter of each of the polishing surfaces does not protrude outward from an outer peripheral surface of the disk, and an inner diameter of the polishing surface is smaller than that of the through hole. A polishing method, wherein each polishing surface is entirely in contact with the disk without protruding inward from an inner peripheral surface.
【請求項4】 中心部に貫通孔が形成されたディスクの
両面を研磨加工する研磨装置であって、 前記ディスクの外径よりも外径が小さく、かつ前記貫通
孔の内径よりも内径が大きいリング状の研磨面を有する
第1の研磨具が設けられた第1の回転軸と、 前記ディスクの外径よりも外径が小さく、かつ前記貫通
孔の内径よりも内径が大きいリング状の研磨面を有し、
前記第1の研磨具とにより前記ディスクを挟持する第2
の研磨具が設けられた第2の回転軸と、 ワークの回転中心を前記回転軸の回転中心に対して偏心
させるとともに、前記それぞれの研磨具の研磨面が前記
貫通孔を偏心方向に跨いで接触するように前記ワークを
回転自在に支持する位置決め部材とを有し、 前記研磨具の回転運動を前記ディスクの回転運動に変換
しながら前記それぞれの研磨面により前記ディスクの両
面を研磨するようにしたことを特徴とする研磨装置。
4. A polishing apparatus for polishing both surfaces of a disk having a through hole formed in a central portion, wherein the outer diameter is smaller than the outer diameter of the disk and the inner diameter is larger than the inner diameter of the through hole. A first rotating shaft provided with a first polishing tool having a ring-shaped polishing surface; and a ring-shaped polishing having an outer diameter smaller than an outer diameter of the disk and an inner diameter larger than an inner diameter of the through hole. Surface
A second polishing tool for holding the disc by the first polishing tool;
A second rotating shaft provided with a polishing tool, and a center of rotation of the workpiece being eccentric with respect to a center of rotation of the rotating shaft, and a polishing surface of each polishing tool straddling the through hole in an eccentric direction. A positioning member for rotatably supporting the work so as to come into contact with the polishing tool, wherein the respective polishing surfaces grind both surfaces of the disk while converting the rotation of the polishing tool into the rotation of the disk. A polishing apparatus characterized in that:
【請求項5】 請求項4記載の研磨装置において、それ
ぞれの前記研磨面の外径が前記ディスクの外径よりも外
方に迫り出さないように前記ディスクを前記位置決め部
材により支持するようにしたことを特徴とする研磨装
置。
5. A polishing apparatus according to claim 4, wherein said disc is supported by said positioning member such that an outer diameter of each of said polishing surfaces does not protrude outside an outer diameter of said disc. A polishing apparatus characterized in that:
【請求項6】 請求項4または5記載の研磨装置におい
て、それぞれの前記研磨面の外径が前記ディスクの外周
面よりも外方に迫り出さず、かつ前記研磨面の内径が前
記貫通孔の内周面よりも内方に迫り出さず、それぞれの
前記研磨面の全体が前記ディスクに接触するようにした
ことを特徴とする研磨装置。
6. The polishing apparatus according to claim 4, wherein an outer diameter of each of the polishing surfaces does not protrude outward from an outer peripheral surface of the disk, and an inner diameter of the polishing surface is smaller than that of the through hole. The polishing apparatus according to claim 1, wherein the entire polishing surface is in contact with the disk without protruding inward from an inner peripheral surface.
【請求項7】 請求項4、5または6のいずれか1項に
記載の研磨装置において、前記位置決め部材を前記貫通
孔の内周面に接触させるようにしたことを特徴とする研
磨装置。
7. The polishing apparatus according to claim 4, wherein the positioning member is brought into contact with an inner peripheral surface of the through hole.
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