JP2001148414A - ウェーハ回転保持装置 - Google Patents
ウェーハ回転保持装置Info
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- JP2001148414A JP2001148414A JP2000070063A JP2000070063A JP2001148414A JP 2001148414 A JP2001148414 A JP 2001148414A JP 2000070063 A JP2000070063 A JP 2000070063A JP 2000070063 A JP2000070063 A JP 2000070063A JP 2001148414 A JP2001148414 A JP 2001148414A
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
出現せしめ、ウェーハの背面側に接触することなくウェ
ーハの回転保持を行うことができ、薄いウェーハ(厚さ
0.1mm以下)であっても変形することなく回転保持す
ることができるウェーハ回転保持装置を提供する。 【解決手段】上面に媒体流路を形成した回転円板12
と、回転円板の中心部に穿設された貫通孔14と、回転
円板の上面に設けられた複数個のウェーハ受け部18と
を有し、ウェーハ受け部を介してウェーハを回転円板の
上方に間隔を介在させて載置し、回転円板を回転させる
と、媒体流路36内の媒体Aが、回転による遠心力によ
って外方に排出され、これによって該媒体流路内に減圧
状態を出現せしめ、この減圧状態の吸引力によって、ウ
ェーハを下方に吸引しウェーハ受け部によって回転保持
するようにした。
Description
の遠心力によって回転円板の上面の媒体を外方に排出す
ることによって発生する減圧状態を利用してウェーハ背
面側に接触することなくウェーハを支持することができ
るようにしたウェーハ支持装置に関する。
ッチング、スピン乾燥、スピンコーティング等のように
ウェーハを回転させつつ各種の処理を行う工程が増加し
てきている。具体的な装置としては、スピンエッチング
装置、スピン乾燥装置、スピンコーティング装置等が知
られている。従来のこれらの装置においては、真空源を
使用した吸着ベースにウェーハを吸着固定するか、空気
源からの加圧空気又はガスにより吸着ベース部で真空力
を発生させ、ウェーハを固定する方法が採用されてい
る。
置、加圧空気供給装置やガス供給装置等を別途具備する
必要があるのでそれだけコストがかかり、また減圧や加
圧の度合を調整するのが困難なため、圧の影響を受け易
い薄いウェーハ(例えば、厚さ0.1mm以下)を固定す
る場合には圧の影響によってウェーハが変形(例えば、
下方に垂れ下がる)してしまう等の不都合があった。
の薄いウェーハは自然にソリが発生している場合が多
く、このソリのあるウェーハを上記した従来の装置によ
ってそのまま吸着固定しようとしてもソリのために吸着
がうまくいかなかった。そのため、ソリのあるウェーハ
の場合にはソリを修正した後にウェーハを吸着固定させ
ていたためにソリを修正するという手間が必要であっ
た。
来技術の問題点に鑑みなされたもので、真空源装置、加
圧空気供給装置やガス供給装置等を必要とすることな
く、簡易な機構によって回転円板上面に減圧状態を出現
せしめ、ウェーハの背面側に接触することなくウェーハ
の回転保持を行うことができ、かつ減圧の度合を簡単に
調整でき、薄いウェーハ(厚さ0.1mm以下)であって
も変形することなく回転保持することができ、かつウェ
ーハのソリを修正することなくそのまま回転保持するこ
とができウェーハ回転保持装置を提供することを目的と
する。
に、本発明のウェーハ回転保持装置は、上面に媒体流路
を形成した回転円板と、該回転円板の中心部に穿設され
た貫通孔と、該回転円板の上面に設けられた複数個のウ
ェーハ受け部とを有し、該ウェーハ受け部を介してウェ
ーハを該回転円板の上方に間隔を介在させて載置し、該
回転円板を回転させると、該媒体流路内の媒体が、回転
による遠心力によって外方に排出され、これによって該
媒体流路内に減圧状態を出現せしめ、この減圧状態の吸
引力によって、該回転円板の下面側から該貫通孔を介し
て吸引された媒体が該回転円板の上面に供給され、該媒
体流路を通って連続的に外方に排出され、このようにし
て該回転円板が回転している限り該媒体流路内に減圧状
態を出現せしめ、この減圧状態の吸引力によって該ウェ
ーハを下方に吸引し該ウェーハ受け部によって回転保持
するようにしたことを特徴とする。
の薄いウェーハに自然にソリが発生している場合であっ
ても、本発明のウェーハ回転保持装置にそのまま載置し
て回転保持すると回転による遠心力によってウェーハの
ソリが解消し何の支障もなく回転保持することができる
利点がある。
転円板の下面側から上記貫通孔に媒体を強制供給する媒
体強制供給手段をさらに有し、上記減圧状態を維持しつ
つ該回転円板の下面側から該貫通孔に媒体を強制供給す
るのが好適である。このような構成とすることによっ
て、ウェーハ上面を処理するためにウェーハ上面側に供
給される薬液がウェーハ下面側に回り込むこのを防止す
ることができる利点がある。
旋状又は渦巻状に設け、上記媒体流路を該回転円板の上
面と相対向する羽根板とウェーハの下面との間に形成す
るのが好適である。
設した回転シャフトを上記回転円板の下面中央部に垂設
し、該回転シャフト及び該回転円板を回転させると該回
転シャフトの中空部の下端開口部から吸引された媒体が
該中空部及び貫通孔を通って該回転円板の上面に供給さ
れるようにすることも可能である。
れ上記中空部の開口度合を調整することによって上記媒
体流路の減圧状態を調整するようにした減圧調整手段を
さらに設ける構成とすれば、ウェーハ厚さに応じた減圧
状態を自在に設定できるので吸引力が強すぎてウェーハ
が変形する等の事故は皆無となる。
る下側ガイドピンとウェーハ外側面を受ける外側ガイド
ピンとによって構成することができる。また、上記ウェ
ーハ受け部は回転円板の上面であれば受け作用に支障の
ない限りどこに設置してもよいが、羽根板の上面に設け
れば、回転円板の上面スペースを有効利用できる利点が
ある。
の上方に邪魔板を設け、該貫通孔を介して該回転円盤の
上面に供給される媒体を該邪魔板によて羽根板方向に誘
導する構成とすれば、媒体中に不純物等が混入した場合
でも媒体がウェーハの下面に直接吹き付けられることは
ないので不純物等によって汚染されるという事故の防止
や操業中にウェーハが割れた場合の媒体の上方への吹き
出しを防止することができるという有利さがある。
フラット(オリフラ)部を受けるオリフラ受け部又はノ
ッチ部を受けるノッチ受け部を設けておけば、ウェーハ
は回転円板上面に係止されているので、両者は常に一緒
に回転することとなる。したがって、例えウェーハの回
転保持中にウェーハ上面に薬液等が注加されウェーハに
対して回転方向の反対方向への力が加わったとしてもウ
ェーハは常に回転円板とともに回転し、両者の間に回転
のズレが生ずることはなく、後述する両者の回転のズレ
による問題は発生しないという利点がある。
即ち気体単独、例えば空気や、液体単独、例えば純水、
薬液等の他に両者を混合して用いることができる。
付図面に基づいて説明するが、本発明の技術思想から逸
脱しない限り図示例以外にも種々の変形が可能なことは
いうまでもない。
つの実施の形態を示す斜視的説明図、図2は図1のウェ
ーハ回転保持装置にウェーハを回転保持させた状態を示
す斜視的説明図、図3は羽根板の他の例を示す上面図及
び図4は羽根板の別の例を示す上面図である。
持装置で、回転円板12を有している。該回転円板12
の中心部には貫通孔14が穿設されている。該回転円板
12の上面には、複数枚(図示例では16枚)の羽根板
16が所定間隔をおいて放射状に立設されている。
ェーハWの外周部を受けるウェーハ受け部18が設けら
れている。このウェーハ受け部18の形状はウェーハW
の外周部を受けることができれば特別の限定はないが、
図示例では受け段部とされている。このウェーハ受け部
18は必ずしも羽根板16に設ける必要性はなく、支障
がない限り、該回転円板12の上面に直接設けることも
可能である。また、このウェーハ受け部18の設置個数
は、ウェーハWが回転状態でも回転保持できる個数、例
えば3個以上であればよいが、図示例では4個のウェー
ハ受け部18を対称位置に設けた場合を示した。
された回転シャフトで、その内部には上記貫通孔14に
連通する中空部22が軸方向に穿設されている。該中空
部22は該回転シャフト20の下端で開口し、下端開口
部24となっている。
整手段26、図示例では減圧調整バルブが取りつけられ
ている。該減圧調整手段26は、該回転シャフト20の
中空部22の開口度合を調整することによって該中空部
22内を流れる空気量を制御することができる。図示例
では、この減圧調整手段26を回転シャフト20の下端
部に設けた場合を示したが、中空部22の開口度合を調
整できればよいもので、必ずしも下端部に設ける必要は
なく、中間部や上部など適宜位置に設置することができ
る。
れたプーリで、モータ30のモータプーリ32にプーリ
ベルト34を介して接続されている。該モータ30を駆
動するとモータプーリ32が回転し、その回転はプーリ
ベルト34を介してプーリ28に伝達され、該回転シャ
フト20が回転するように構成されている。
る。本発明のウェーハ回転保持装置10においては、媒
体としては、例えば空気等の気体や純水、薬液等の液体
の他に両者を混合したものも用いられるが、空気を媒体
とした場合を例として説明する。
部18を介してウェーハWを回転円板12の上面の上方
に、即ち間隔を介在させて、具体的には羽根板16の上
面の上方に間隔を介在させて配置する。さらに、減圧調
整手段26によって回転シャフト20の中空部22の開
口度合を該ウェーハWの厚さに対応して最適の減圧状態
となるように調整する。なお、該中空部22の開口を広
げれば減圧の度合が小となり、その開口を狭めれば減圧
の度合が大となる。
2の開口度合の他に、回転円板12の回転速度の調整に
よって行うことができる。回転円板12の回転を早くす
れば減圧度合は大となり、その回転を遅くすれば減圧度
合は小となる。
面への媒体、例えば空気の供給を不図示の媒体(空気)
補給手段によって行い、その補給媒体(空気)量を増減
することによって減圧度合を調整することができる。補
給媒体(空気)量が大となれば減圧度合は小となり、補
給媒体(空気)量が小となれば減圧度合は大となる。
ータプーリ32、プーリベルト34及びプーリ28を介
してモータ30の回転が回転シャフト20に伝達され、
該回転シャフト20に連結された回転円板12が回転す
る。この回転円板12が回転すると、回転による遠心力
によって、回転円板12上面の媒体(空気)が外方に排
出され、すなわち回転円板12の上面と一対の相対向す
る羽根板16,16とウェーハWの下面との間に形成さ
れた複数の媒体(空気)流路36を介して該回転円板1
2上の媒体(空気)Aが外方に排出される。
て該媒体(空気)流路36内は減圧状態となる。この減
圧状態の吸引力によって該回転シャフト20の中空部2
2の下端開口部24から吸気された媒体(空気)Aが該
中空部22及び貫通孔14を通って該回転円板12の上
面に供給され、引き続いて該媒体(空気)流路36内を
通って外方に連続的に排気され、該媒体(空気)流路3
6内は引き続いて減圧状態を維持する。
体(空気)流路36内は減圧状態となっている。この媒
体(空気)流路36の減圧状態の吸引力によって該ウェ
ーハWはその外周部がウェーハ受け部18に固定回転保
持される。この時、該ウェーハWの背面は羽根板16の
上面の上方に位置しており、該羽根板16の上面に接触
することはない。
薄いウェーハW(例えば、厚さ0.1mm以下)の場合に
は中央部分が垂れ下がるという不都合が生じる場合があ
る。しかし、本発明においては、減圧調整手段26によ
って回転シャフト20の中空部22の開口度合を自在に
制御できるので、薄いウェーハWの場合には中空部22
の開口を広げて減圧の度合を小さくして吸引力を弱くし
ウェーハが垂れ下がらずかつウェーハ受け部18には回
転保持固定されるようにすることができる。
薄いウェーハに自然にソリが発生している場合が多い
が、そのような場合であっても本発明のウェーハ回転保
持装置にソリの発生した状態のまま載置して回転保持す
ると回転による遠心力によってウェーハのソリが解消し
て何の支障もなく回転保持することができるので、従来
のように回転保持前にソリを修正する必要がなく、その
分の手間が解消する利点がある。この回転保持によって
ウェーハのソリが修正するものではないので回転を止め
ればソリが復活してしまうことはいうまでもない。
を回転円板12上面に放射状に立設した場合を示した
が、図3に示したように螺旋状又は図4に示したように
渦巻状に設けることもできる。放射状又は螺旋状に羽根
板16を設ける場合には、羽根板16を複数枚用いて複
数の媒体流路36を設ける必要があるが、渦巻状に羽根
板16を設ける場合には羽根板16を複数枚用いること
も勿論できるが、図4に示したように1枚の羽根板16
によって1個の媒体流路36を形成するようにしても同
様の作用効果を達成することができる。
12の上面に別体として立設する例を示したが、羽根板
16によって回転円板12の上面に媒体流路36が形成
されればよいもので、例えば媒体流路36の部分を溝状
に穿設して羽根板16の部分を隆起させた状態で残すこ
とによって、該回転円板12の上面に一体的に羽根板1
6を設けることも可能である。
た図示例以外にも種々の変形が可能であり、以下に説明
する。
の実施の形態を示す断面的側面概略説明図である。図6
は図5の回転円板の拡大上面図である。図7は図5の回
転円板の要部拡大図である。図8は図7の一部断面説明
図である。
空気を用いた場合を説明したが、その他の媒体が使用で
きることは既述した通りである。図5には、媒体Aとし
て純水と空気を混合した純水ミストを用いる場合が示さ
れている。混合室40において、純水槽42から供給さ
れる純水と別途供給される空気とが混合されて純水と空
気とからなる純水ミストAとなり、導管44を介して流
量調節器26Aに供給される。流量調節器26Aで流量
が調節された純水ミストAは回転シャフト20の中空部
22を通って図1〜図2の場合と同様に回転円板12の
上面側に導入される。
媒体流路36内に形成される減圧状態による吸引力によ
って吸引されるようにしてもよいが、本実施例において
は、コンプレッサーやモーター等の媒体強制供給手段3
8によって強制的に該混合室40に供給され、したがっ
て該混合室40において混合された純水ミストAも該媒
体強制供給手段14の影響を受けて導管44及び中空部
22を介して該貫通孔14に強制的に供給される。この
ような構成とすることによって、ウェーハ上面を処理す
るためにウェーハ上面側に供給される薬液がウェーハ下
面側に回り込むのが防止される。これは強制供給された
媒体Aがウェーハ下面に吹きつけられることによって行
われるものである。
部に穿設された貫通孔14の上方に位置するように該回
転円板12に設けられた邪魔板である。該貫通孔14を
介して該回転円板12の上面に供給される媒体(純水ミ
スト)Aは該邪魔板46によって羽根板16方向に誘導
される。
に不純物が混入した場合でも媒体AがウェーハWの下面
に直接吹き付けられることはないので不純物等によって
汚染されるという事故が防止され、また操業中にウェー
ハWが割れた場合の媒体Aの上方への吹き出しが防止さ
れるという利点がある。
は、ウェーハWを回転させつつ上面側にエッチング液を
供給してエッチングを行う際などに、ウェーハ下面側に
純水ミストによってバックサイドリンスを同時に行うこ
とができるという有利性がある。
が、図1及び図2に示した例と異なり、図7及び図8に
よく示されるごとく、ウェーハWの下面を受ける下側ガ
イドピン18aとウェーハWの外側面を受ける外側ガイ
ドピン18bとから構成されている。なお、上記説明以
外の構成は、図1〜図2の構成と同様であるので再度の
説明は省略する。
同様に、回転円板12を回転させると、回転による遠心
力によって、回転円板12上面の媒体が外方に排気さ
れ、即ち貫通孔14を通った媒体Aは邪魔板46の下面
を介して側方に誘導され、続いて回転円板12の上面と
一対の相対向する羽根板16,16とウェーハWの下面
との間に形成された複数の媒体流路36を介して該回転
円板12上の媒体Aが外方に排出される。
させることによって、媒体Aをウェーハ下面に積極的に
吹きつけ、ウェーハ上面側に供給されるエッチング液等
の薬液がウェーハ下面側に回り込むのを防止することが
できる。この媒体Aの強制供給は邪魔板46の有無とは
関係なく行えることはいうまでもない。
回転保持状態のウェーハWの上面に薬液等Bを注加する
と、薬液等Bの粘性によって回転保持装置10の回転方
向と逆方向にウェーハWが引張られ、ウェーハWの回転
と回転保持装置10の回転との間で回転の差が生じ(図
9)、その回転のズレによってウェーハ下面の下側ガ
イドピンとの接触摩擦の増大による傷の発生、ウェー
ハの回転ムラによるエッチング処理等の処理状態のバラ
ツキの発生、ウェーハ回転の低下に起因する遠心力の
低下による薬液等Bのウェーハ下面側への廻り込みの増
加等の問題が発生することがある。このような問題の発
生を防止するために、ウェーハWのオリエンテーション
フラット(オリフラ)部Fに当接するオリフラ受け部F
P、例えばオリフラストッパーピン(図10)やウェー
ハWのノッチ部Nに当接するノッチ受け部NP、例えば
ノッチストッパーピン(図11)をウェーハWの上面に
立設することによってウェーハWの回転と回転保持装置
10の回転との間で回転の差が生じないようにすれば、
上記したような両者の回転のズレによる問題が発生する
ことはなくなる。
は、スピンエッチング装置、スピン乾燥装置、スピンコ
ーティング装置等のようにウェーハを回転させつつ処理
を行う装置に好適に適用することができる。
転保持装置によれば、真空源装置、加圧空気供給装置や
ガス供給装置等を必要とすることなく、簡易な機構によ
って回転円板上面に減圧状態を出現せしめ、ウェーハの
背面側に接触することなくウェーハの回転保持を行うこ
とができ、かつ減圧の度合を簡単に調整でき、薄いウェ
ーハ(厚さ0.1mm以下)であっても変形することなく
回転保持することができるという効果を達成することが
できる。
の形態を示す斜視的説明図である。
転保持させた状態を示す斜視的説明図である。
形態を示す断面的側面概略説明図である。
ウェーハ上面に薬液等を注加した際のウェーハ回転とウ
ェーハ回転保持装置の回転とのズレの発生状態を示す上
面説明図である。
ーピンにウェーハのオリフラ面を係止させた状態を示す
上面説明図である。
ピンにウェーハのノッチ部を係止させた状態を示す上面
説明図である。
ウェーハ受け部、18a:下側ガイドピン、18b:外
側ガイドピン、20:回転シャフト、22、中空部、2
4:下端開口部、26:減圧調整手段、26A:流量調
節器、28:プーリ、30:モータ、32:モータプー
リ、34:プーリベルト、36:媒体流路、38:媒体
強制供給手段、40:混合室、42:純水槽、44:導
管、46:邪魔板、A:媒体、FP:オリフラ受け部、
NP:ノッチ受け部、W:ウェーハ。
Claims (11)
- 【請求項1】 上面に媒体流路を形成した回転円板と、
該回転円板の中心部に穿設された貫通孔と、該回転円板
の上面に設けられた複数個のウェーハ受け部とを有し、
該ウェーハ受け部を介してウェーハを該回転円板の上方
に間隔を介在させて載置し、該回転円板を回転させる
と、該媒体流路内の媒体が、回転による遠心力によって
外方に排出され、これによって該媒体流路内に減圧状態
を出現せしめ、この減圧状態の吸引力によって、該回転
円板の下面側から該貫通孔を介して吸引された媒体が該
回転円板の上面に供給され、該媒体流路を通って連続的
に外方に排出され、このようにして該回転円板が回転し
ている限り該媒体流路内に減圧状態を出現せしめ、この
減圧状態の吸引力によって該ウェーハを下方に吸引し該
ウェーハ受け部によって回転保持するようにしたことを
特徴とするウェーハ回転保持装置。 - 【請求項2】 前記回転板の下面側から前記貫通孔に媒
体を強制供給する媒体強制供給手段をさらに有し、前記
減圧状態を維持しつつ該回転円板の下面側から該貫通孔
に媒体を強制供給するようにしたことを特徴とする請求
項1記載のウェーハ回転保持装置。 - 【請求項3】 前記回転円板の上面に羽根板を放射状、
螺旋状又は渦巻状に設け、前記媒体流路が該回転円板の
上面と相対向する羽根板とウェーハの下面との間に形成
されることを特徴とする請求項1又は2記載のウェーハ
回転保持装置。 - 【請求項4】 前記貫通孔に連通する中空部を軸方向に
穿設した回転シャフトを前記回転円板の下面中央部に垂
設し、該回転シャフト及び該回転円板を回転させると該
回転シャフトの中空部の下端開口部から吸引された媒体
が該中空部及び貫通孔を通って該回転円板の上面に供給
されるようにしたことを特徴とする請求項1〜3のいず
れか1項記載のウェーハ回転保持装置。 - 【請求項5】 前記回転シャフトの適宜位置に取りつけ
られ前記中空部の開口度合を調整することによって前記
媒体流路の減圧状態を調整するようにした減圧調整手段
をさらに設けたことを特徴とする請求項4記載のウェー
ハ回転保持装置。 - 【請求項6】 前記ウェーハ受け部がウェーハ下面を受
ける下側ガイドピンとウェーハ外側面を受ける外側ガイ
ドピンとからなることを特徴とする請求項1〜5のいず
れか1項記載のウェーハ回転保持装置。 - 【請求項7】 前記ウェーハ受け部を羽根板の上面に設
けたことを特徴とする請求項3〜5のいずれか1項記載
のウェーハ回転保持装置。 - 【請求項8】 前記回転円板の中心部に穿設された貫通
孔の上方に邪魔板を設け、該貫通孔を介して該回転円板
の上面に供給される媒体を該邪魔板によって羽根板方向
に誘導するようにしたことを特徴とする請求項1〜7の
いずれか1項記載のウェーハ回転保持装置。 - 【請求項9】 前記回転円板の上面にオリエンテーショ
ンフラット部を受けるオリフラ受け部を設けたことを特
徴とする請求項1〜8のいずれか1項記載のウェーハ回
転保持装置。 - 【請求項10】 前記回転円板の上面にノッチ部を受け
るノッチ受け部を設けたことを特徴とする請求項1〜8
のいずれか1項記載のウェーハ回転保持装置。 - 【請求項11】 前記媒体が気体及び/又は液体である
ことを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項記載の
ウェーハ回転保持装置。
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JP11-255779 | 1999-09-09 | ||
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