JP2001147421A - 液晶素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 明るい画像表示が可能であるとともにコント
ラストが高く、液晶素子が反ったり電極に断線が生じる
などの問題が起こり難く、また電極の導電性が良好な液
晶素子を提供する。 【解決手段】 液晶層ｂ、ｇ、ｒがこの順に積層された
積層型液晶素子において、各液晶層ｂ、ｇ、ｒは、電極
１１、１２がそれぞれ形成されている一対の樹脂フィル
ム基板１、２に挟持されており、少なくとも素子最観測
側の電極（液晶素子Ｂの電極１１）が、厚み１２００Å
以上１５００Å以下、且つ、面抵抗２００Ω／□以下で
ある。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は液晶素子に関する。
また本発明は液晶層を複数層含む積層型液晶素子に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】液晶素子は、基本的に一対の基板とこの
基板間に挟持された液晶層とからなる。この液晶層に駆
動電圧を印加することで液晶分子の配列を制御し、素子
に入射される外光を変調して目的とする画像の表示等を
行う。

【０００３】画像をモノクロ表示する場合には、通常、
液晶層は一層のものが使用されるが、例えば複数色で表
示を行う場合に、所定色の表示を行える液晶層を積層し
て積層型液晶素子とすることがある。コレステリック相
の選択反射を利用した反射型の液晶素子を用いてフルカ
ラー画像表示を行うときには、例えばブルー表示、グリ
ーン表示、レッド表示をそれぞれ行う三つの液晶層を３
層に積層した積層型液晶素子とする。

【０００４】このような積層型液晶素子において、基板
として樹脂フィルム基板を用いた液晶素子が提案されて
いる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、樹脂フ
ィルム基板を用いた液晶素子においては、赤色光の波長
領域〜赤外光の波長領域の光の干渉が生じたり、光の不
要な散乱を生じることがあり、画像表示における明るさ
やコントラストが低下することがある。また、樹脂フィ
ルム基板を用いた場合、特に表示特性などの光変調特性
が損なわれないように、できるだけ薄い樹脂フィルム基
板を用いた場合、液晶素子が反ったり電極に断線を生じ
るなどの問題が生じることがあった。これらの問題は積
層型液晶素子において、より顕著であった。

【０００６】そこで本発明は、明るい画像表示が可能で
あるとともにコントラストの高い液晶素子を提供するこ
とを課題とする。また本発明は、コントラストが高く、
液晶素子が反ったり電極に断線を生じるなどの問題が起
こり難い液晶素子を提供することを課題とする。さらに
本発明は、電極の導電性が良好に確保される液晶素子を
提供することを課題とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者の研究による
と、液晶層が電極をそれぞれ形成した一対の樹脂フィル
ム基板に挟持されている液晶素子においては、前記両電
極のうち少なくとも素子観察側の電極の厚みを比較的厚
くすることで、その電極の膜特性の影響が大きくなり、
各液晶層における赤色光の波長領域〜赤外光の波長領域
の光の干渉が減る。また、電極の導電性が良好に確保さ
れる。さらに、電極の厚みを所定値以下にしておくこと
で、前記の特性を保ちつつ基板の反りが防止され、素子
の作製が容易になる、電極の断線が防止される、容易に
薄い樹脂フィルム基板を用いることができ表示特性の向
上に寄与するなどの効果が得られる。

【０００８】また、樹脂フィルム基板の屈折率を比較的
大きくすることで、それに形成されている電極の屈折率
との差が小さくなり、これらを通る光の不要な散乱の発
生が抑制される。本発明はかかる知見に基づくものであ
り、前記課題を解決するため、次の第１から第３の液晶
素子を提供する。 （１）第１の積層型液晶素子 複数の液晶層を含む積層型液晶素子であり、前記各液晶
層は、電極がそれぞれに形成されている一対の樹脂フィ
ルム基板に挟持されており、少なくとも素子最観察側の
電極が、厚み１２００Å以上１５００Å以下、且つ、面
抵抗２００Ω／□以下であることを特徴とする積層型液
晶素子。 （２）第２の積層型液晶素子 複数の液晶層を含む積層型液晶素子であり、前記各液晶
層は、電極がそれぞれに形成されている一対の樹脂フィ
ルム基板に挟持されており、少なくとも素子最観察側の
基板が、厚み５０μｍ以上２００μｍ以下、且つ、屈折
率１．５８以上であり、少なくとも該樹脂フィルム基板
に形成されている電極が、厚み１２００Å以上１５００
Å以下、且つ、面抵抗２００Ω／□以下であることを特
徴とする積層型液晶素子。 （３）第３の液晶素子 電極がそれぞれに形成されている一対の樹脂フィルム基
板に、コレステリック相を示す液晶層が挟持されてお
り、少なくとも素子観察側の基板に設けられている電極
が、厚み１２００Å以上１５００Å以下、且つ、面抵抗
２００Ω／□以下であることを特徴とする液晶素子。

【０００９】本発明に係る第１及び第２の積層型液晶素
子は反射型の積層型液晶素子の場合に所望のコントラス
トで画像表示するのに適している。本発明に係る第１か
ら第３の液晶素子では、液晶層は電極がそれぞれ形成さ
れている一対の樹脂フィルム基板に挟持されている。本
発明の第１の積層型液晶素子では、少なくとも素子最観
察側の電極は、厚みが１２００Å以上１５００Å以下で
あり、比較的厚い。また、電極が比較的厚いのでそれだ
け面抵抗を小さくできる。ここでは面抵抗が２００Ω／
□以下である。

【００１０】また、本発明の第２の積層型液晶素子で
は、少なくとも素子最観察側の基板は、厚みが５０μｍ
以上２００μｍ以下であり、積層型液晶素子の表示特性
が損なわれない程度に薄い。また、屈折率が１．５８以
上であり、比較的大きい。この樹脂フィルム基板の屈折
率は比較的大きいが、例えば、樹脂フィルム基板に用い
る材料として、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）、ポリ
カーボネート（ＰＣ）、ポリアリレート等の材料を用い
ることで、屈折率１．５８以上の樹脂フィルム基板を得
ることができる。なお、樹脂フィルム基板の屈折率の上
限値としては、例えば使用する基板の材料やそれに形成
される電極の屈折率等にもよるが、概ね１．７以下を例
示できる。

【００１１】そして少なくともその厚み及び屈折率の樹
脂フィルム基板に形成されている電極は、厚みが１２０
０Å以上１５００Å以下であり、比較的厚い。また、電
極が比較的厚いのでそれだけ面抵抗を小さくできる。こ
こでは面抵抗が２００Ω／□以下である。また、本発明
の第３の液晶素子では、少なくとも素子観察側の基板に
設けられている電極は、厚みが１２００Å以上１５００
Å以下であり、比較的厚い。また、電極が比較的厚いの
でそれだけ面抵抗を小さくできる。ここでは面抵抗が２
００Ω／□以下である。

【００１２】本発明に係る第１から第３の液晶素子によ
ると、少なくとも素子最観察側の電極は、厚みが１２０
０Å〜１５００Åと比較的厚く、電極がここまで厚いと
その屈折率の影響が大きくなり、該各液晶層において赤
色光の波長領域〜赤外光の波長領域の光の干渉が減り、
画像表示における明るさやコントラストを向上させるこ
とができる。また、該電極は、面抵抗が２００Ω／□以
下であるので、電気の導通性がとり易い。また、第２の
積層型液晶素子では、少なくとも素子最観察側の基板は
屈折率が１．５８以上と、通常採用される透明基板の屈
折率に近づけられているから、これら基板及び電極を通
る光の不要な散乱が抑制され、この点でもコントラスト
が向上する。

【００１３】従って、本発明の第１から第３の液晶素子
では、明るい画像表示が可能であるとともにコントラス
トが高く、しかも電気の導通性が取り易い。また、本発
明の第２の積層型液晶素子において、少なくとも素子最
観察側の基板は、厚みが５０μｍ〜２００μｍと積層型
液晶素子の表示特性が損なわれない程度に薄いが、この
ように薄い樹脂フィルム基板を用いても、それに形成さ
れている電極は、厚みが１２００Å〜１５００Åとされ
ているので、基板に反りが生じ難い。従って、それだけ
素子の作製が容易になり、基板の反りに起因する電極の
断線等が防止される。

【００１４】また、本発明の第１及び第２の積層型液晶
素子においては、複数の液晶層を含んでおり、各液晶層
がそれぞれ一対の樹脂フィルム基板に挟まれているが、
電極の厚みを前記範囲の厚み（１２００Å〜１５００
Å）とすることにより、液晶層の積層による表示特性な
どの光変調特性への影響を防止するために薄い樹脂フィ
ルム基板を用いることが容易になる。

【００１５】本発明の第３の液晶素子においては、液晶
層としてコレステリック相を示すものを用いることによ
り、コレステリック相の選択反射による表示を、コント
ラストを良好に保った状態で行うことができる。なお、
いずれにしても、電極の厚みが１５００Åより大きい
と、電極とそれが形成されている基板との熱収縮差等に
より電極の剥離や基板の反り等を生じ易いので、１５０
０Å以下がよい。

【００１６】また、いずれの場合も液晶層の少なくとも
素子観察側の電極を厚み１２００Å以上１５００Å以
下、且つ、面抵抗２００Ω／□以下としてもよい。第１
及び第２の積層型液晶素子の場合、素子に含まれるすべ
ての電極を厚み１２００Å以上１５００Å以下、且つ、
面抵抗２００Ω／□以下としてもよい。なお、いずれに
しても電極としては、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）か
らなる電極を例示できる。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態について
図面を参照して説明する。図１は本発明に係る積層型液
晶素子の１例の概略断面図である。図２は本発明に係る
積層型液晶素子の他の例の概略断面図である。図３は本
発明に係る積層型液晶素子のさらに他の例の概略断面図
である。

【００１８】図１から図３に示す積層型液晶素子は単純
マトリクス駆動方式のフルカラー表示可能な積層型液晶
表示素子である。これらの積層型液晶表示素子ＬＤ１、
ＬＤ２、ＬＤ３はそれぞれブルー（青色）表示用液晶素
子Ｂ、グリーン（緑色）表示用液晶素子Ｇ、レッド（赤
色）表示用液晶素子Ｒをこの順序で積層したものであ
る。

【００１９】積層型液晶素子ＬＤ１、ＬＤ２、ＬＤ３に
おいて、各色表示用の液晶素子は一対の透明樹脂フィル
ム基板１、２の間に液晶層ｂ（又はｇ又はｒ）を挟持し
ている。但し、素子ＬＤ３では、隣り合う液晶素子Ｂと
Ｇにおいて素子Ｂの基板２が素子Ｇの基板１を兼ねてお
り、隣り合う液晶素子ＧとＲにおいて素子Ｇの基板２が
素子Ｒの基板１を兼ねている。

【００２０】各積層型液晶素子ＬＤ１、ＬＤ２、ＬＤ３
において、各液晶素子が有する液晶層には、可視領域に
選択反射波長を有するコレステリック相を示す液晶材料
が含まれている。最も観察側の液晶素子は素子Ｂであ
り、それの液晶層ｂには青色の選択反射を行なう液晶材
料が含まれており、次の液晶素子は素子Ｇであり、それ
の液晶層ｇには緑色の選択反射を行なう液晶材料が含ま
れている。素子観察側とは反対側の最外側の液晶素子は
素子Ｒであり、それの液晶層ｒには赤色の選択反射を行
なう液晶材料が含まれている。素子Ｒの外面（裏面）に
は黒色の光吸収層３が設けられている。

【００２１】各液晶素子に含まれる液晶層は、その液晶
層を挟持する一対の基板１、２に予め設けられている透
明電極間１１、１２に印加される電圧に応答して、可視
光を透過する透明状態から特定の波長の可視光を選択的
に反射する選択反射状態へ、或いは逆に、選択反射状態
から透明状態へと切り替わる。従って、いずれかの液晶
層を選択反射状態とし、図１、図２、図３の上方から
（観察側から）積層型液晶素子に自然光等の白色光を照
射すると、選択反射状態の液晶層が特定波長の可視光を
反射し、これが色表示として観察される。液晶層が透明
状態にあるときは、入射光がその液晶層を透過する。こ
のため、表示しようとする色に相当する液晶素子を選択
反射状態とし、少なくともこの液晶素子よりも観察側に
ある液晶素子を透明状態とすることにより、所望の色の
表示を行なうことができる。また、全ての液晶素子Ｒ、
Ｂ、Ｇを透明状態とすれば、入射光が光吸収層３に吸収
されて黒色表示となる。

【００２２】各液晶層に含まれるコレステリック相を示
す液晶材料（以下「コレステリック液晶材料」とい
う。）としては、それ自体が室温でコレステリック相を
示すコレステリック液晶を含む液晶材料や、ネマティッ
ク液晶にカイラル材を添加した液晶材料などを用いるこ
とができる。なお、液晶材料については後ほど詳述す
る。これらのコレステリック液晶材料は、比較的高いパ
ルス電圧が印加されるとプレーナ状態が選択され、比較
的低いパルス電圧が印加されるとフォーカルコニック状
態が選択される。また、その中間の電圧パルスを印加す
ると、プレーナー状態とフォーカルコニック状態が混在
した状態が選択される。

【００２３】コレステリック液晶材料がプレーナ状態の
場合、液晶の螺旋ピッチをＰ、液晶の平均屈折率をｎと
すると、波長λ＝Ｐ・ｎの光が液晶材料によって選択的
に反射される。また、コレステリック液晶材料におい
て、その選択反射波長が赤外領域にある場合にはフォー
カルコニック状態では可視光を散乱し、選択反射波長が
それよりも短い場合には散乱が弱くなり可視光が透過さ
れる。

【００２４】コレステリック液晶材料がプレーナー状態
とフォーカルコニック状態が混在した状態にあると、中
間調が表示される。従って、選択反射波長を可視光域に
設定し、液晶素子の観察側と反対側に光吸収層（ここで
は黒色層）を設けることにより、特定色（プレーナ状
態）と黒色（フォーカルコニック状態）、及び中間調と
で表示を切り替えることができる。

【００２５】これにより、例えば青色表示用液晶素子及
び緑色表示用液晶素子をコレステリック液晶材料がフォ
ーカルコニック状態となった透明状態とし、赤色表示用
液晶素子をコレステリック液晶材料がプレーナ状態とな
った選択反射状態とすることにより、赤色表示を行うこ
とができる。また、青色表示用液晶素子をコレステリッ
ク液晶材料がフォーカルコニック状態となった透明状態
とし、緑色表示用液晶素子及び赤色表示用液晶素子をコ
レステリック液晶材料がプレーナ状態となった選択反射
状態とすることにより、イエローの表示を行うことがで
きる。同様に、各液晶素子の状態を透明状態と選択反射
状態を適宜選択することにより赤、緑、青、白、シア
ン、マゼンタ、イエロー、黒の表示が可能である。さら
に各色液晶素子の状態として中間の選択反射状態を選択
することにより中間色が表示され、フルカラー表示を行
うことができる。

【００２６】先ず、図１に示す積層型液晶素子ＬＤ１に
ついて詳細に説明する。図１に示すように、液晶素子
Ｂ、Ｇ、Ｒのそれぞれにおいて、透明樹脂フィルム基板
１上には、微細な間隔おいて平行に並んだ複数の帯状の
透明電極１１が形成されており、この透明電極１１形成
側の面に、両基板１、２に接着した柱状の樹脂構造物４
が配置され、両基板を支持している。さらに基板１、２
間にはスペーサ５が配置され、これら樹脂構造物４及び
スペーサ５が基板間ギャップを定めている。液晶層ｂ
（又はｇ又はｒ）は、樹脂構造物４、スペーサ５及びこ
れらの間に充填された液晶材料６ｂ（又は６ｇ又は６
ｒ）により構成される。

【００２７】各素子において両基板１、２は、透明電極
１１、１２の向きが互いに直角方向となるように対向さ
せてあり、透明電極１１、１２が重なり合う領域が画素
となる。なお、本明細書においては、液晶材料によって
画像表示がなされる領域を表示領域と呼ぶ。基板１、２
間には、表示領域外である基板１、２の周縁部に液晶材
料を封じ込めるためのシール材Ｓが設けられている。

【００２８】基板１及び（又は２）の透明電極形成面
に、絶縁層やガスバリア層として酸化シリコンなどの無
機膜或いはポリイミド樹脂、エポキシ樹脂などの有機膜
を配することにより、両基板１、２間のショートを防い
だり、液晶素子の信頼性を向上させることができる。ま
た、ポリイミドに代表される配向制御膜を配してもよ
い。

【００２９】図１に示す例では、帯状電極１１の上に配
向制御膜８を設け、帯状電極１２の上に絶縁膜７、さら
にその上に配向制御膜８を設けた構成としている。な
お、絶縁膜や配向制御膜は必要に応じて設ければよい。
透明樹脂フィルム基板１、２のうち少なくとも素子観察
側の基板１は、厚みが５０μｍ〜２００μｍであり、積
層型液晶素子の表示特性が損なわれない程度に薄い。ま
た、屈折率が１．５８以上であり、比較的大きい。この
樹脂フィルム基板の屈折率は比較的大きいが、例えば、
樹脂フィルム基板に用いる材料として、ポリエーテルサ
ルホン（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリア
リレート等の材料を用いることで、屈折率１．５８以上
の樹脂フィルム基板を得ることができる。なお、樹脂フ
ィルム基板の屈折率の上限値は、例えば使用する基板の
材料やそれに形成される電極の屈折率等にもよるが、概
ね１．７以下とする。

【００３０】そして少なくともその厚み及び屈折率の樹
脂フィルム基板に形成されている電極は、厚みが１２０
０Å〜１５００Åであり、比較的厚い。また、電極が比
較的厚いのでそれだけ面抵抗を小さくできる。ここでは
面抵抗が２００Ω／□以下である。なお、電極の厚みが
１５００Åより大きいと、電極とそれが形成されている
基板との熱収縮差等により電極の剥離や基板の反り等を
生じ易いので、１５００Å以下がよい。

【００３１】透明電極１１、１２としては、Ｉｎｄｉｕ
ｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ（ＩＴＯ：インジウム錫酸化
物）に代表される透明導電膜やアルミニウム、シリコン
等の金属電極、或いは、アモルファスシリコン、ＢＳＯ
（Ｂｉｓｍｕｔｈ Ｓｉｌｉｃｏｎ Ｏｘｉｄｅ）等の
光導電性膜などを用いることができる。図４は樹脂構造
物４の配置状態を示す図である。図４に示すように、表
示領域内の樹脂構造物４は、例えば、格子配列などの所
定の配置規則に基づいて、一定の間隔をおいて配列され
た、円柱状、断面四角柱状、断面楕円柱状などのドット
状のものとしている。ドット状樹脂構造物の大きさや配
列ピッチは、液晶素子の大きさや画素解像度により適宜
選択され得るが、電極間に優先的にドット状樹脂構造物
を配置すると開口率が上昇するため好ましい。もちろ
ん、ドット状のものに限らず種々変更可能であり、樹脂
構造物を等間隔に配列したものや、徐々に間隔が変わる
もの、所定の配置パターンが一定の周期で繰り返される
ものなど、基板間ギャップを適切に維持でき、且つ、画
像表示を妨げないように考慮された一定の配置規則に基
づくものであればよい。例えば、樹脂構造物の形状を所
定の間隔を置いて配置したストライプ状に形成してもよ
い。

【００３２】樹脂構造物としては、加熱により軟化し冷
却により固化するような材料を用いる。また、使用する
液晶材料と化学反応を起こさず適度な弾性を有する有機
物質が好適である。このような樹脂材料として熱可塑性
高分子材料を用いることが好ましい。熱可塑性高分子材
料としては、例えば、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビ
ニリデン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリメタクリル酸
エステル樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂、ポリスチ
レン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプ
ロピレン樹脂、フッ素樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリア
クリロニトリル樹脂、ポリビニールエーテル樹脂、ポリ
ビニールケトン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリビニール
ピロリドン樹脂、飽和ポリエステル樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、塩素化ポリエーテル樹脂等が挙げられ、これ
らを１種類か、これらの混合物を少なくとも含むような
材料から樹脂構造物を形成できる。

【００３３】スペーサとしては、加熱や加圧によって変
形しない硬質材料からなる粒子が好ましく、例えば、ガ
ラスファイバーを微細化したもの、ボール状の珪酸ガラ
ス、アルミナ粉末等の無機系材料、或いはジビニルベン
ゼン系架橋重合体やポリスチレン系架橋重合体等の有機
系合成球状粒が使用可能である。このように、２枚の基
板１、２間のギャップを所定の大きさに保つ硬質のスペ
ーサ５と、表示領域内に所定の配置規則に基づいて配置
され、一対の基板を接着支持する熱可塑性高分子材料を
主成分とする樹脂構造物４とを設けることにより、基板
の全域にわたって両基板１、２を強固に支持するととも
に、基板間隔にムラがなく、しかも、低温環境下におい
て液晶材料からの気泡の発生を抑えることができる。

【００３４】なお樹脂構造物４は、基板面積が小さい等
によりこれがなくても基板１、２の間隔を安定に維持で
きるのであれば、省略してもよい。そのように樹脂構造
物４を省略したものが図２に示す積層型液晶素子ＬＤ２
や、図３に示す積層型液晶素子ＬＤ３である。但し、既
述のとおり積層型液晶素子ＬＤ３では、隣り合う液晶素
子ＢとＧにおいて素子Ｂの基板２が素子Ｇの基板１を兼
ねており、隣り合う液晶素子ＧとＲにおいて素子Ｇの基
板２が素子Ｒの基板１を兼ねている。

【００３５】図１から図３に示す積層型液晶素子による
と、各液晶層ｂ、ｇ、ｒに臨む両電極１１、１２のうち
少なくとも素子観察側の電極は、厚みが１２００Å〜１
５００Åと比較的厚く、電極がここまで厚いとその屈折
率の影響が大きくなり、各液晶層ｂ、ｇ、ｒにおいて赤
色光の波長領域〜赤外光の波長領域の光の干渉が減り、
画像表示における明るさやコントラストを向上させるこ
とができる。また、該電極は、面抵抗が２００Ω／□以
下であるので、電気の導通性がとり易い。また、少なく
とも素子観察側の基板は屈折率が１．５８以上と、通常
採用される透明基板の屈折率に近づけられているから、
これら基板及び電極を通る光の不要な散乱が抑制され、
この点でもコントラストが向上する。

【００３６】従って、図１から図３に示す積層型液晶素
子では、明るい画像表示が可能であるとともにコントラ
ストが高く、しかも電気の導通性がとりやすい。また、
これらの積層型液晶素子のそれぞれにおいて、各液晶層
ｂ、ｇ、ｒに臨む一対の樹脂フィルム基板１、２のうち
少なくとも素子観察側の基板１は、厚みが５０μｍ〜２
００μｍと積層型液晶素子の表示特性が損なわれない程
度に薄いが、このように薄い樹脂フィルム基板を用いて
も、それに形成されている電極は、厚みが１２００Å〜
１５００Åとされているので、基板に反りが生じ難い。
従って、それだけ素子の作製が容易になり、基板の反り
に起因する電極の断線等が防止される。

【００３７】次に図１に示す積層型液晶素子ＬＤ１にお
ける各液晶素子の製造例について簡単に説明する。ま
ず、２枚の透明基板１、２上にそれぞれ複数の帯状の透
明電極を形成する。透明電極１１、１２は、基板上にＩ
ＴＯ膜をスパッタリング法等で形成した後、フォトリソ
グラフイ法によりパターニングを行って形成する。

【００３８】次に、配向制御膜８を基板１の透明電極形
成面に、絶縁膜７及び（又は）配向制御膜８を基板２の
透明電極形成面に形成する。絶縁膜７及び配向制御膜８
は、それぞれ、酸化シリコン等の無機材料やポリイミド
樹脂などの有機材料を用いて、スパッタリング法、スピ
ンコート法、或いはロールコート法など公知の方法によ
って形成することができる。

【００３９】こうして透明電極１１（又は１２）、配向
制御膜８（又は絶縁膜７及び配向制御膜８）が設けられ
た一方の基板１（又は２）の電極形成面に樹脂構造物４
を形成する。樹脂構造物４は樹脂を溶剤に溶解したペー
スト状の樹脂材料を、スクリーン版やメタルマスク等を
介してスキージで押し出して平板上に載置した基板１
（又は２）に印刷を行う印刷法、ディスペンサ法やイン
クジェット法などの、樹脂材料をノズルの先から基板上
に吐出して形成する方法、或いは樹脂材料を平板やロー
ラ上に供給した後、これを基板表面に転写する転写法な
どにより形成することができる。樹脂構造物の形成時の
高さは、所望の液晶層の厚みより大きくすることが望ま
しい。

【００４０】他方の基板２（又は１）の電極形成面に
は、紫外線硬化樹脂や熱硬化性樹脂等を用いてシール材
Ｓを設ける。シール材Ｓは、基板の周縁部で連続な環状
に配置する。シール材Ｓの配置は、上述した樹脂構造物
４と同様に、ディスペンサ法やインクジェット法など、
樹脂をノズルの先から基板上に吐出して形成する方法
や、スクリーン版、メタルマスク等を用いた印刷法、樹
脂を平板或いはローラ上に形成した後、基板上に転写す
る転写法などによって行なえばよい。

【００４１】次に、少なくとも一方の基板１（又は２）
の表面に、従来公知の方法によりスペーサ５を散布す
る。そして、これら一対の基板１、２を電極形成面が対
向するように重ね合わせ、且つ、両基板間に液晶材料６
ｂ（又は６ｇ又は６ｒ）を配置し、この基板対１、２の
両側から加圧しながら加熱する。加圧および加熱は、例
えば、図５に示すように、平板９１上に樹脂構造物の形
成された基板１を載せ、これに対向基板２を重ね、端部
から加熱・加圧ローラ９２により加熱・加圧しながら、
ローラ９２と平板９１との間に相対的に通過させること
により行なうことができる。

【００４２】このような方法を用いると、可撓性を有す
る樹脂フィルム基板を用いても精度よく液晶素子を作製
することができる。熱可塑性高分子材料で樹脂構造物４
を形成しておくと、樹脂構造物４を加熱により軟化させ
冷却により固化させて、樹脂構造物４で両基板１、２を
接着させることができる。また、シール材Ｓとして熱硬
化性樹脂材料を用いた場合は、この基板の重ね合わせの
際の加熱によりシール材を硬化させることができる。

【００４３】液晶材料については、この重ね合わせ工程
において、液晶材料６ｂ（又は６ｇ又は６ｒ）を基板１
又は（及び）２上に滴下し、基板１、２の重ね合わせと
同時に液晶材料を注入する。この場合、予めスペーサを
液晶材料に含ませておき、これを基板１又は（及び）２
の帯状電極形成面に滴下してもよい。図５に示すよう
に、液晶材料６ｂ（又は６ｇ又は６ｒ）を基板１（又は
２）の端部に滴下し、ローラ９２で基板１、２を重ね合
わせながら液晶材料を他端へと押し広げることにより、
基板全域に液晶材料を充填してもよい。こうすることに
より、基板１、２を重ね合わせる際に液晶材料に気泡が
生じてこれを巻き込むことを低減することができる。

【００４４】この後、少なくとも樹脂構造物４を構成す
る樹脂材料の軟化温度以下まで基板温度が低下するまで
基板１、２を加圧し続けてから加圧をやめる。なおシー
ル材Ｓとして光硬化性樹脂材料を用いた場合は、この後
光照射を行なってシール材Ｓを硬化させる。こうして液
晶素子を作製する。同様の手順で、液晶材料を選択反射
波長が異なるものに変更し、青色表示用、緑色表示用及
び赤色表示用の液晶素子Ｂ、Ｇ、Ｒを作製する。こうし
て作製した３層の液晶素子を積層し、各隣り合う液晶素
子ＢとＧ、ＧとＲをそれぞれ、積層型液晶素子特性にで
きるだけ悪影響を与えない透明接着剤又は粘着シート１
０（図中には「接着剤１０」と総称して示す。）で相互
に貼着し、さらに赤色表示用液晶素子Ｒの外面に光吸収
層３を形成してフルカラー表示可能の積層型液晶素子と
する。

【００４５】図２に示す積層型液晶素子ＬＤ２について
は、いま述べた積層型液晶素子ＬＤ１の製造において、
樹脂構造物４の形成が省略され、図５に例示する工程
は、樹脂構造物４が省略された状態での図６に例示する
工程となる。その他の点は積層型液晶素子ＬＤ１と同様
である。また、図３に示す積層型液晶素子ＬＤ３につい
ては、積層型液晶素子ＬＤ１の製造において、各隣り合
う液晶素子ＢとＧ、ＧとＲの間に配置される基板につい
てはその両面に予め電極を、さらに必要に応じて絶縁
膜、配向制御膜を形成する。そして例えばいずれかの液
晶素子を作成し、その上に順次、又はその両側に順次他
の液晶素子を形成する。

【００４６】次に液晶材料（液晶組成物）について詳述
する。液晶材料としては既述のとおり室温でコレステリ
ック相を示すものが好ましい。ネマティック液晶にカイ
ラル材を添加したカイラルネマティック液晶が好適であ
る。カイラル材の添加量の大小で選択反射波長が調整可
能であり、選択反射波長を可視光域に設定したり、可視
光域外に設定することができる。

【００４７】液晶材料は色素が添加されていてもよい。
ネマティック液晶は、棒状の液晶分子が平行に配列して
いるが、層状構造は有していない。このようなネマティ
ック液晶としては、特に限定されることなく各種のもの
が使用可能である。特に、液晶性エステル化合物、液晶
性ピリミジン化合物、液晶性シアノビフェニル化合物、
液晶性シアノフェニルシクロヘキサン化合物、液晶性シ
アノターフェニル化合物、液晶性ジフルオロスチルベン
化合物、液晶性トラン化合物などの極性基を有する液晶
性化合物を含むネマティック液晶は液晶組成物の誘電率
異方性を大きくさせるうえで有用である。ネマティック
液晶は、複数の液晶性化合物の混合物であってもよい。
前記化合物以外では、等方相への相転移温度を上昇させ
るための多環化合物やＮ型化合物等の液晶成分を含むこ
とができる。

【００４８】カイラルネマティック液晶は、カイラル材
の添加量を変えることにより、螺旋構造のピッチを変化
させることができ、これにより液晶の選択反射波長を制
御することができるという利点がある。なお、一般的に
は、液晶分子の螺旋構造のピッチを表す用語として、液
晶分子の螺旋構造に沿って液晶分子が３６０度回転した
ときの分子間の距離で定義される「ヘリカルピッチ」を
用いる。

【００４９】カイラル材は、ネマティック液晶に添加さ
れた場合にネマティック液晶の分子を捩じる作用を有す
る添加剤である。カイラル材をネマティック液晶に添加
することにより、所定の捩じれ間隔を有する液晶分子の
螺旋構造が生じ、これによりコレステリック相を示す。
添加されるカイラル材としては、少なくとも一つの不斉
炭素を有する少なくとも１種類の化合物を含有し、複数
含有した場合はそのヘリカルセンス（液晶に与えられる
捩じれの方向）については同一方向でも異なる方向でも
よい。

【００５０】添加量は液晶化合物に対して約４５ｗｔ％
（４５重量％）以下、より好ましくは４０ｗｔ％以下で
ある。４５ｗｔ％を超えると結晶が析出する等の不具合
が発生しやすくなる。カイラル材の添加量の下限は、液
晶組成物に選択反射を生じさせる程度の量であれば特に
制限はないが、１０ｗｔ％以上とすることが好ましい。

【００５１】ネマティック液晶に添加するカイラル材と
して、複数種のカイラル材を混合して使用してもよく、
また旋光性の同じ種類の組合わせに加えて旋光性の異な
る種類の組み合わせも使用できる。複数種のカイラル材
の使用や、多環化合物、Ｎ型化合物等の液晶成分を添加
すると、コレステリック液晶材料の相転移温度を変化さ
せたり、温度変化に応じた選択反射波長の変化を軽減し
たりすることができる他、誘電率異方性、屈折率異方性
や粘度等のコレステリック液晶材料の諸物性値を変化さ
せることができ、液晶素子に用いた場合、該素子として
の特性を向上させ得る。

【００５２】各液晶素子Ｂ、Ｇ、Ｒにおいて、選択反射
によって行われる表示の色純度の向上や、透明状態時の
透明度の低下につながる光成分を吸収するために、各素
子に色素を添加したり、それと同等の効果をもたらす着
色フィルタ層、即ち、色ガラスフィルタやカラーフィル
ム等の板状部材を各素子に配してもよい。色素は各素子
を構成する液晶材料、樹脂材料、透明電極材料、透明基
板材料のいずれに添加してもよく、各構成要素の複数が
色素を含有していてもよい。

【００５３】但し、表示品位を低下させないためにも、
添加する色素及び追加するフィルタ層は、各素子の選択
反射による色表示を妨げないようにすることが望まし
い。次に積層型液晶素子ＬＤ１、ＬＤ２、ＬＤ３のそれ
ぞれの駆動について説明する。図７は駆動回路のブロッ
ク図である。図１から図３に示す各積層型液晶素子の各
液晶素子はいずれも図７に示す構成の駆動回路で駆動さ
れる。

【００５４】図７の駆動回路に示すように、各液晶素子
の画素構成は、複数本の走査電極Ｒ１〜Ｒｍと信号電極
Ｃ１〜Ｃｎ（ｎ、ｍは自然数）とのマトリクスで表され
る。走査電極Ｒ１〜Ｒｍは液晶素子におけるいずれか一
方の基板上の複数の帯状電極１１に相当し、信号電極Ｃ
１〜Ｃｎは他方の基板上の複数の帯状電極１２に相当す
る。

【００５５】走査電極Ｒ１〜Ｒｍは走査駆動ＩＣの出力
端子に接続され、信号電極Ｃ１〜Ｃｎは信号駆動ＩＣの
出力端子に接続されている。走査駆動ＩＣは、走査電極
Ｒ１〜Ｒｍのうち所定のものに選択信号を出力して選択
状態とする一方、その他の電極には非選択信号を出力し
非選択状態とする。走査駆動ＩＣは、所定の時間間隔で
電極を切り替えながら順次各走査電極に選択信号を印加
してゆく。一方、信号駆動ＩＣは、選択状態にある走査
電極上の各画素を書き換えるべく、画像データに応じた
信号を各信号電極に同時に出力する。例えば、走査電極
Ｒａが選択されると（ａはａ≦ｍを満たす自然数）、こ
の走査電極Ｒａと各信号電極Ｃ１〜Ｃｎとの交差部分の
画素ＬＲａ−Ｃ１〜ＬＲａ−Ｃｎが同時に書き換えられ
る。これにより、各画素における走査電極と信号電極と
の電圧差が画素の書き換え電圧となり、画素がこの書き
換え電圧に応じて書き換えられる。

【００５６】信号駆動ＩＣは、次の走査電極が選択され
るのに合わせて出力信号を切り替え、次の走査電極の画
素を書き換える。なお以上説明した各液晶素子は樹脂構
造物が液晶層内に含まれる又は含まれない素子構成であ
るが、これに限らず種々の形態を採用することができ、
例えば、ある程度駆動電圧の上昇が許容されるのであれ
ば、液晶層が、高分子の３次元網目構造の中に液晶材料
が分散された、或いは液晶材料中に高分子の３次元網目
構造が形成された、いわゆる高分子分散型の液晶複合膜
であってもよい。

【００５７】

【実験例】次に具体的な実験例及び比較実験例を説明す
るが、本発明はそれらの実験例に限定されるものではな
い。以下の実験例（実験例７を除く）に示す積層型液晶
素子は図２に示す積層型液晶素子ＬＤ２と実質上同構造
である。各隣り合う液晶素子間はいずれもアクリル系粘
着シートにより貼り合わせた。また、実験例７に示す液
晶素子は、図２に示す積層型液晶素子ＬＤ２におけるレ
ッド（赤色）表示用液晶素子Ｒと実質上同構造である。

【００５８】以下の各実験例において、コントラストの
測定は反射型分光測色計ＣＭ−３７００ｄ（ミノルタ社
製）を用いて視感反射率（Ｙ値）を測定することで行っ
た。Ｙ値が小さいほど透明であり、コントラストは（高
反射率状態でのＹ値／低反射率状態でのＹ値）で与えら
れる。以下に説明する各実験例（実験例７を除く）にお
ける３層構成の積層型液晶素子においては、各層の液晶
セル（液晶素子）を一斉に着色状態としたときに高反射
率状態（白色又はそれに近い状態）となり、一斉に消色
状態としたときに低反射率状態（全ての素子が透明又は
それに近い状態となって光吸収膜の黒色が見える状態）
となる。よってコントラストは言わば白表示と黒表示で
の反射率比（Ｗ／Ｂ）である。また、実験例７における
液晶素子においては、液晶セル（液晶素子）を着色状態
としたときに高反射率状態（赤色又はそれに近い状態）
となり、消色状態としたときに低反射率状態（素子が透
明又はそれに近い状態となって光吸収膜の黒色が見える
状態）となる。よってコントラストは言わば赤表示と黒
表示で反射率比（Ｒ／Ｂ）である。 （実施例１）ネマティック液晶Ａ（屈折率異方性Δｎ：
０．１８７、誘電率異方性Δε：４．４７）、ネマティ
ック液晶Ｂ（Δｎ：０．１７７、Δε：５．３３）、ネ
マティック液晶Ｃ（Δｎ：０．２０、Δε：６．２５）
に対して、それぞれにカイラル材料Ｓ−８１１（メルク
社製）を所定量、即ち１７ｗｔ％、２２ｗｔ％、２６ｗ
ｔ％添加し、液晶組成物ａ１、ｂ１、ｃ１を調製した。
ａ１は６８０ｎｍ付近の、ｂ１は５６０ｎｍ付近の、ｃ
１は４８０ｎｍ付近の波長の光を選択反射できる。

【００５９】液晶組成物ａ１、ｂ１、ｃ１の誘電率異方
性Δεは、それぞれ１２、１１、１１であり、屈折率異
方性Δｎは０．１８、０．１５、０．１６であった。ま
ず、基板厚１５０μｍ、屈折率１．６５のポリエーテル
サルホン（ＰＥＳ）フィルム基板上に設けられた厚み１
３００Å、面抵抗１２５Ω／□の透明電極上に厚み８０
０Åのポリイミド系配向膜を形成し、その上に９μｍ径
のスペーサ（積水ファインケミカル社製）を散布した。

【００６０】また、もう一つのＰＥＳフィルム基板（厚
み１５０μｍ、屈折率１．６５）上の透明電極（厚み１
３００Å、面抵抗１２５Ω／□）上には、まず厚み２０
００Åのポリイミド系絶縁膜を形成した後、その上に厚
み１５００Åのポリイミド系配向膜を形成した。続い
て、一方の基板上の周縁部にシール材ＸＮ２１Ｓ（三井
化学社製）をスクリーン印刷して所定高さの壁を形成し
た。その後該一方の基板上にシール材の高さと面積から
計算された量の液晶組成物ａ１を塗布し、図６に示す貼
り合わせ装置を用いて両基板を貼り合わせ、１５０℃で
１時間加熱し、液晶セル（液晶素子）Ａ１を作製した。

【００６１】次に、基板厚１５０μｍ、屈折率１．６５
のＰＥＳフィルム基板上に設けられた厚み１３００Å、
面抵抗１２５Ω／□の透明電極上に厚み８００Åのポリ
イミド系配向膜を形成し、その上に７μｍ径のスペーサ
（積水ファインケミカル社製）を散布した。また、もう
一つのＰＥＳフィルム基板（厚み１５０μｍ、屈折率
１．６５）上の透明電極（厚み１３００Å、面抵抗１２
５Ω／□）上には、まず厚み２０００Åのポリイミド系
絶縁膜を形成した後、その上に厚み１５００Åのポリイ
ミド系配向膜を形成した。続いて、一方の基板上の周縁
部にシール材ＸＮ２１Ｓ（三井化学社製）をスクリーン
印刷して所定高さの壁を形成した。

【００６２】その後該一方の基板上にシール材の高さと
面積から計算された量の液晶組成物ｂ１を塗布し、同様
の貼り合わせ装置を用いて両基板を貼り合わせ、１５０
℃で１時間加熱し、液晶セル（液晶素子）Ｂ１を作製し
た。また、基板厚１５０μｍ、屈折率１．６５のＰＥＳ
フィルム基板上に設けられた厚み１３００Å、面抵抗１
２５Ω／□の透明電極上に厚み８００Åのポリイミド系
配向膜を形成しその上に７μｍ径のスペーサ（積水ファ
インケミカル社製）を散布した。

【００６３】もう一つのＰＥＳフィルム基板（厚み１５
０μｍ、屈折率１．６５）上の透明電極（厚み１３００
Å、面抵抗１２５Ω／□）上には、まず厚み２０００Å
のポリイミド系絶縁膜を形成した後、その上に厚み１５
００Åのポリイミド系配向膜を形成した。続いて、一方
の基板上の周縁部にシール材ＸＮ２１Ｓ（三井化学社
製）をスクリーン印刷して所定高さの壁を形成した。

【００６４】その後該一方の基板上にシール材の高さと
面積から計算された量の液晶組成物ｃ１を塗布し、貼り
合わせ装置を用いて両基板を貼り合わせ、１５０℃で１
時間加熱し、液晶セル（液晶素子）Ｃ１を作製した。こ
れら３種類のセルＡ１、Ｂ１、Ｃ１をこの順に積層し、
積層体の裏面（液晶セルＡ１の外面（裏面））には黒色
の光吸収膜を設けた。

【００６５】各セルを着色状態と消色状態にするために
所定電圧で駆動したところ、セルＣ１から観察した積層
体のコントラストは６．０：１（Ｗ／Ｂ）であり、白・
黒表示特性共に良好で、コントラストの高い素子となっ
た。 （実施例２）実験例１と同じようにして調製した液晶組
成物ａ１、ｂ１、ｃ１を使用した。

【００６６】まず、基板厚１００μｍ、屈折率１．５８
のポリカーボネート（ＰＣ）フィルム基板上に設けられ
た厚み１４００Å、面抵抗８０Ω／□の透明電極上に厚
み８００Åのポリイミド系配向膜を形成し、その上に９
μｍ径のスペーサ（積水ファインケミカル社製）を散布
した。また、もう一つのＰＣフィルム基板（厚み１００
μｍ、屈折率１．５８）上の透明電極（厚み１４００
Å、面抵抗８０Ω／□）上には、まず厚み２０００Åの
ポリイミド系絶縁膜を形成した後、その上に厚み１５０
０Åのポリイミド系配向膜を形成した。

【００６７】続いて、一方の基板上の周縁部にシール材
ＸＮ２１Ｓ（三井化学社製）をスクリーン印刷して所定
高さの壁を形成した。その後該一方の基板上にシール材
の高さと面積から計算された量の液晶組成物ａ１を塗布
し、貼り合わせ装置を用いて両基板を貼り合わせ、１５
０℃で１時間加熱し、液晶セルＡ１を作製した。

【００６８】次に、基板厚１００μｍ、屈折率１．５８
のＰＣフィルム基板上に設けられた厚み１４００Å、面
抵抗８０Ω／□の透明電極上に厚み８００Åのポリイミ
ド系配向膜を形成し、その上に７μｍ径のスペーサ（積
水ファインケミカル社製）を散布した。また、もう一つ
のＰＣフィルム基板（厚み１００μｍ、屈折率１．５
８）上の透明電極（厚み１４００Å、面抵抗８０Ω／
□）上には、まず厚み２０００Åのポリイミド系絶縁膜
を形成した後、その上に厚み１５００Åのポリイミド系
配向膜を形成した。続いて、一方の基板上の周縁部にシ
ール材ＸＮ２１Ｓ（三井化学社製）をスクリーン印刷し
て所定高さの壁を形成した。

【００６９】その後該一方の基板上にシール材の高さと
面積から計算された量の液晶組成物ｂ１を塗布し、貼り
合わせ装置を用いて両基板を貼り合わせ、１５０℃で１
時間加熱し、液晶セルＢ１を作製した。また、基板厚１
００μｍ、屈折率１．５８のＰＣフィルム基板上に設け
られた厚み１４００Å、面抵抗８０Ω／□の透明電極上
に厚み８００Åのポリイミド系配向膜を形成しその上に
７μｍ径のスペーサ（積水ファインケミカル社製）を散
布した。

【００７０】もう一つのＰＣフィルム基板（厚み１００
μｍ、屈折率１．５８）上の透明電極（厚み１４００
Å、面抵抗８０Ω／□）上には、まず厚み２０００Åの
ポリイミド系絶縁膜を形成した後、その上に厚み１５０
０Åのポリイミド系配向膜を形成した。続いて、一方の
基板上の周縁部にシール材ＸＮ２１Ｓ（三井化学社製）
をスクリーン印刷して所定高さの壁を形成した。

【００７１】その後該一方の基板上にシール材の高さと
面積から計算された量の液晶組成物ｃ１を塗布し、貼り
合わせ装置を用いて両基板を貼り合わせ、１５０℃で１
時間加熱し、液晶セルＣ１を作製した。これら３種類の
セルＡ１、Ｂ１、Ｃ１をこの順に積層し、積層体の裏面
（液晶セルＡ１の外面（裏面））には黒色の光吸収膜を
設けた。

【００７２】各セルを着色状態と消色状態にするために
所定電圧で駆動したところ、積層体のコントラストは
５．６：１（Ｗ／Ｂ）であり、白・黒表示特性共に良好
で、コントラストの高い素子となった。 （実施例３）実験例１と同じようにして調製した液晶組
成物ａ１、ｂ１、ｃ１を使用した。

【００７３】まず、基板厚２００μｍ、屈折率１．６の
ポリアリレートフィルム基板上に設けられた厚み１２０
０Å、面抵抗１６０Ω／□の透明電極上に厚み８００Å
のポリイミド系配向膜を形成し、その上に９μｍ径のス
ペーサ（積水ファインケミカル社製）を散布した。ま
た、もう一つのポリアリレートフィルム基板（厚み２０
０μｍ、屈折率１．６）上の透明電極（厚み１２００
Å、面抵抗１６０Ω／□）上には、まず厚み２０００Å
のポリイミド系絶縁膜を形成した後、その上に厚み１５
００Åのポリイミド系配向膜を形成した。

【００７４】続いて、一方の基板上の周縁部にシール材
ＸＮ２１Ｓ（三井化学社製）をスクリーン印刷して所定
高さの壁を形成した。その後該一方の基板上にシール材
の高さと面積から計算された量の液晶組成物ａ１を塗布
し、貼り合わせ装置を用いて両基板を貼り合わせ、１５
０℃で１時間加熱し、液晶セルＡ１を作製した。

【００７５】次に、基板厚２００μｍ、屈折率１．６の
ポリアリレートフィルム基板上に設けられた厚み１２０
０Å、面抵抗１６０Ω／□の透明電極上に厚み８００Å
のポリイミド系配向膜を形成し、その上に７μｍ径のス
ペーサ（積水ファインケミカル社製）を散布した。ま
た、もう一つのポリアリレートフィルム基板（厚み２０
０μｍ、屈折率１．６）上の透明電極（厚み１２００
Å、面抵抗１６０Ω／□）上には、まず厚み２０００Å
のポリイミド系絶縁膜を形成した後、その上に厚み１５
００Åのポリイミド系配向膜を形成した。続いて、一方
の基板上の周縁部にシール材ＸＮ２１Ｓ（三井化学社
製）をスクリーン印刷して所定高さの壁を形成した。

【００７６】その後該一方の基板上にシール材の高さと
面積から計算された量の液晶組成物ｂ１を塗布し、貼り
合わせ装置を用いて両基板を貼り合わせ、１５０℃で１
時間加熱し、液晶セルＢ１を作製した。また、基板厚２
００μｍ、屈折率１．６のポリアリレートフィルム基板
上に設けられた厚み１２００Å、面抵抗１６０Ω／□の
透明電極上に厚み８００Åのポリイミド系配向膜を形成
しその上に７μｍ径のスペーサ（積水ファインケミカル
社製）を散布した。

【００７７】もう一つのポリアリレートフィルム基板
（厚み２００μｍ、屈折率１．６）上の透明電極（厚み
１２００Å、面抵抗１６０Ω／□）上には、まず厚み２
０００Åのポリイミド系絶縁膜を形成した後、その上に
厚み１５００Åのポリイミド系配向膜を形成した。続い
て、一方の基板上の周縁部にシール材ＸＮ２１Ｓ（三井
化学社製）をスクリーン印刷して所定高さの壁を形成し
た。

【００７８】その後該一方の基板上にシール材の高さと
面積から計算された量の液晶組成物ｃ１を塗布し、貼り
合わせ装置を用いて両基板を貼り合わせ、１５０℃で１
時間加熱し、液晶セルＣ１を作製した。これら３種類の
セルＡ１、Ｂ１、Ｃ１をこの順に積層し、積層体の裏面
（液晶セルＡ１の外面（裏面））には黒色の光吸収膜を
設けた。

【００７９】各セルを着色状態と消色状態にするために
所定電圧で駆動したところ、積層体のコントラストは
５．５：１（Ｗ／Ｂ）であり、白・黒表示特性共に良好
で、コントラストの高い素子となった。 （実施例４）実験例１と同じようにして調製した液晶組
成物ａ１、ｂ１、ｃ１を使用した。

【００８０】まず、基板厚１５０μｍ、屈折率１．６５
のポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）フィルム基板上に設
けられた厚み１４５０Å、面抵抗６５Ω／□の透明電極
上に厚み８００Åのポリイミド系配向膜を形成し、その
上に９μｍ径のスペーサ（積水ファインケミカル社製）
を散布した。また、もう一つのＰＥＳフィルム基板（厚
み１５０μｍ、屈折率１．６５）上の透明電極（厚み１
４５０Å、面抵抗６５Ω／□）上には、まず厚み２００
０Åのポリイミド系絶縁膜を形成した後、その上に厚み
１５００Åのポリイミド系配向膜を形成した。

【００８１】続いて、一方の基板上の周縁部にシール材
ＸＮ２１Ｓ（三井化学社製）をスクリーン印刷して所定
高さの壁を形成した。その後該一方の基板上にシール材
の高さと面積から計算された量の液晶組成物ａ１を塗布
し、貼り合わせ装置を用いて両基板を貼り合わせ、１５
０℃で１時間加熱し、液晶セルＡ１を作製した。

【００８２】次に、基板厚１５０μｍ、屈折率１．６５
のＰＥＳフィルム基板上に設けられた厚み１４５０Å、
面抵抗６５Ω／□の透明電極上に厚み８００Åのポリイ
ミド系配向膜を形成し、その上に７μｍ径のスペーサ
（積水ファインケミカル社製）を散布した。また、もう
一つのＰＥＳフィルム基板（厚み１５０μｍ、屈折率
１．６５）上の透明電極（厚み１４５０Å、面抵抗６５
Ω／□）上には、まず厚み２０００Åのポリイミド系絶
縁膜を形成した後、その上に厚み１５００Åのポリイミ
ド系配向膜を形成した。続いて、一方の基板上の周縁部
にシール材ＸＮ２１Ｓ（三井化学社製）をスクリーン印
刷して所定高さの壁を形成した。

【００８３】その後該一方の基板上にシール材の高さと
面積から計算された量の液晶組成物ｂ１を塗布し、貼り
合わせ装置を用いて両基板を貼り合わせ、１５０℃で１
時間加熱し、液晶セルＢ１を作製した。また、基板厚１
５０μｍ、屈折率１．６５のＰＥＳフィルム基板上に設
けられた厚み１４５０Å、面抵抗６５Ω／□の透明電極
上に厚み８００Åのポリイミド系配向膜を形成しその上
に７μｍ径のスペーサ（積水ファインケミカル社製）を
散布した。

【００８４】もう一つのＰＥＳフィルム基板（厚み１５
０μｍ、屈折率１．６５）上の透明電極（厚み１４５０
Å、面抵抗６５Ω／□）上には、まず厚み２０００Åの
ポリイミド系絶縁膜を形成した後、その上に厚み１５０
０Åのポリイミド系配向膜を形成した。続いて、一方の
基板上の周縁部にシール材ＸＮ２１Ｓ（三井化学社製）
をスクリーン印刷して所定高さの壁を形成した。

【００８５】その後該一方の基板上にシール材の高さと
面積から計算された量の液晶組成物ｃ1 を塗布し、貼り
合わせ装置を用いて両基板を貼り合わせ、１５０℃で１
時間加熱し、液晶セルＣ１を作製した。これら３種類の
セルＡ１、Ｂ１、Ｃ１をこの順に積層し、積層体の裏面
（液晶セルＡ１の外面（裏面））には黒色の光吸収膜を
設けた。

【００８６】各セルを着色状態と消色状態にするために
所定電圧で駆動したところ、積層体のコントラストは
５．８：１（Ｗ／Ｂ）であり、白・黒表示特性共に良好
で、コントラストの高い素子となった。 （実施例５）実験例１と同じようにして調製した液晶組
成物ａ１、ｂ１、ｃ１を使用した。

【００８７】まず、基板厚１３０μｍ、屈折率１．６５
のポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）フィルム基板上に設
けられた厚み１３５０Å、面抵抗１００Ω／□の透明電
極上に厚み８００Åのポリイミド系配向膜を形成し、そ
の上に９μｍ径のスペーサ（積水ファインケミカル社
製）を散布した。また、もう一つのＰＥＳフィルム基板
（厚み１５０μｍ、屈折率１．６５）上の透明電極（厚
み１４００Å、面抵抗１２０Ω／□）上には、まず厚み
２０００Åのポリイミド系絶縁膜を形成した後、その上
に厚み１５００Åのポリイミド系配向膜を形成した。

【００８８】続いて、一方の基板上の周縁部にシール材
ＸＮ２１Ｓ（三井化学社製）をスクリーン印刷して所定
高さの壁を形成した。その後該一方の基板上にシール材
の高さと面積から計算された量の液晶組成物ａ１を塗布
し、貼り合わせ装置を用いて両基板を貼り合わせ、１５
０℃で１時間加熱し、液晶セルＡ１を作製した。

【００８９】次に、基板厚１３０μｍ、屈折率１．６５
のＰＥＳフィルム基板上に設けられた厚み１３５０Å、
面抵抗１００Ω／□の透明電極上に厚み８００Åのポリ
イミド系配向膜を形成し、その上に７μｍ径のスペーサ
（積水ファインケミカル社製）を散布した。また、もう
一つのＰＥＳフィルム基板（厚み１５０μｍ、屈折率
１．６５）上の透明電極（厚み１４００Å、面抵抗１２
０Ω／□）上には、まず厚み２０００Åのポリイミド系
絶縁膜を形成した後、その上に厚み１５００Åのポリイ
ミド系配向膜を形成した。続いて、一方の基板上の周縁
部にシール材ＸＮ２１Ｓ（三井化学社製）をスクリーン
印刷して所定高さの壁を形成した。

【００９０】その後該一方の基板上にシール材の高さと
面積から計算された量の液晶組成物ｂ1 を塗布し、貼り
合わせ装置を用いて両基板を貼り合わせ、１５０℃で１
時間加熱し、液晶セルＢ１を作製した。また、基板厚１
３０μｍ、屈折率１．６５のＰＥＳフィルム基板上に設
けられた厚み１３５０Å、面抵抗１００Ω／□の透明電
極上に厚み８００Åのポリイミド系配向膜を形成しその
上に７μｍ径のスペーサ（積水ファインケミカル社製）
を散布した。

【００９１】もう一つのＰＥＳフィルム基板（厚み１５
０μｍ、屈折率１．６５）上の透明電極（厚み１４００
Å、面抵抗１２０Ω／□）上には、まず厚み２０００Å
のポリイミド系絶縁膜を形成した後、その上に厚み１５
００Åのポリイミド系配向膜を形成した。続いて、一方
の基板上の周縁部にシール材ＸＮ２１Ｓ（三井化学社
製）をスクリーン印刷して所定高さの壁を形成した。

【００９２】その後該一方の基板上にシール材の高さと
面積から計算された量の液晶組成物ｃ１を塗布し、貼り
合わせ装置を用いて両基板を貼り合わせ、１５０℃で１
時間加熱し、液晶セルＣ１を作製した。これら３種類の
セルＡ１、Ｂ１、Ｃ１をこの順に積層し、積層体の裏面
（液晶セルＡ１の外面（裏面））には黒色の光吸収膜を
設けた。

【００９３】各セルを着色状態と消色状態にするために
所定電圧で駆動したところ、積層体のコントラストは
６．２：１（Ｗ／Ｂ）であり、白・黒表示特性共に良好
で、コントラストの高い素子となった。 （実施例６）実験例１と同じようにして調製した液晶組
成物ａ１、ｂ１、ｃ１を使用した。

【００９４】まず、基板厚２００μｍ、屈折率１．６５
のポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）フィルム基板上に設
けられた厚み１５００Å、面抵抗５５Ω／□の透明電極
上に厚み８００Åのポリイミド系配向膜を形成し、その
上に９μｍ径のスペーサ（積水ファインケミカル社製）
を散布した。また、もう一つのＰＥＳフィルム基板（厚
み２００μｍ、屈折率１．６５）上の透明電極（厚み１
５００Å、面抵抗５５Ω／□）上には、まず厚み２００
０Åのポリイミド系絶縁膜を形成した後、その上に厚み
１５００Åのポリイミド系配向膜を形成した。

【００９５】続いて、一方の基板上の周縁部にシール材
ＸＮ２１Ｓ（三井化学社製）をスクリーン印刷して所定
高さの壁を形成した。その後該一方の基板上にシール材
の高さと面積から計算された量の液晶組成物ａ１を塗布
し、貼り合わせ装置を用いて両基板を貼り合わせ、１５
０℃で１時間加熱し、液晶セルＡ１を作製した。

【００９６】次に、基板厚２００μｍ、屈折率１．６５
のＰＥＳフィルム基板上に設けられた厚み１５００Å、
面抵抗５５Ω／□の透明電極上に厚み８００Åのポリイ
ミド系配向膜を形成し、その上に７μｍ径のスペーサ
（積水ファインケミカル社製）を散布した。また、もう
一つのＰＥＳフィルム基板（厚み２００μｍ、屈折率
１．６５）上の透明電極（厚み１５００Å、面抵抗５５
Ω／□）上には、まず厚み２０００Åのポリイミド系絶
縁膜を形成した後、その上に厚み１５００Åのポリイミ
ド系配向膜を形成した。続いて、一方の基板上の周縁部
にシール材ＸＮ２１Ｓ（三井化学社製）をスクリーン印
刷して所定高さの壁を形成した。

【００９７】その後該一方の基板上にシール材の高さと
面積から計算された量の液晶組成物ｂ１を塗布し、貼り
合わせ装置を用いて両基板を貼り合わせ、１５０℃で１
時間加熱し、液晶セルＢ１を作製した。また、基板厚２
００μｍ、屈折率１．６５のＰＥＳフィルム基板上に設
けられた厚み１５００Å、面抵抗５５Ω／□の透明電極
上に厚み８００Åのポリイミド系配向膜を形成しその上
に７μｍ径のスペーサ（積水ファインケミカル社製）を
散布した。

【００９８】もう一つのＰＥＳフィルム基板（厚み２０
０μｍ、屈折率１．６５）上の透明電極（厚み１５００
Å、面抵抗５５Ω／□）上には、まず厚み２０００Åの
ポリイミド系絶縁膜を形成した後、その上に厚み１５０
０Åのポリイミド系配向膜を形成した。続いて、一方の
基板上の周縁部にシール材ＸＮ２１Ｓ（三井化学社製）
をスクリーン印刷して所定高さの壁を形成した。

【００９９】その後該一方の基板上にシール材の高さと
面積から計算された量の液晶組成物ｃ１を塗布し、貼り
合わせ装置を用いて両基板を貼り合わせ、１５０℃で１
時間加熱し、液晶セルＣ１を作製した。これら３種類の
セルＡ１、Ｂ１、Ｃ１をこの順に積層し、積層体の裏面
（液晶セルＡ１の外面（裏面））には黒色の光吸収膜を
設けた。

【０１００】各セルを着色状態と消色状態にするために
所定電圧で駆動したところ、積層体のコントラストは
５．９：１（Ｗ／Ｂ）であり、白・黒表示特性共に良好
で、コントラストの高い素子となった。 （実験例７）実験例１と同じようにして調製した液晶組
成物ａ１を用いた。

【０１０１】厚み１５０μｍ、屈折率１．６５のＰＥＳ
フィルム基板上に設けられた厚み１３００Å、面抵抗１
００Ω／□の透明電極上に厚み８００Åのポリイミド系
配向膜を形成し、その上に９μｍ径のスペーサ（積水フ
ァインケミカル社製）を散布した。またもう一つの厚み
１５０μｍ、屈折率１．６５のＰＥＳフィルム基板上に
設けられた厚み１３００Å、面抵抗１００Ω／□の透明
電極上には、まず厚み２０００Åのポリイミド系絶縁膜
を形成した後、その上に厚み８００Åのポリイミド系配
向膜を形成した。

【０１０２】続いて、一方の基板上の周縁部にシール材
ＸＮ２１（三井化学社製）をスクリーン印刷して所定高
さの壁を形成した。その後、該一方の基板上にシール材
の高さと面積から計算された量の液晶組成物ａ１を塗布
し、図６に示す貼り合わせ装置を用いて両基板を貼り合
わせ、１５０℃で１時間加熱し、液晶セルＡ０を作製し
た。

【０１０３】液晶セルＡ０の外面（裏面）には黒色の光
吸収膜を設けた。セルを着色状態と消色状態にするため
に所定電圧で駆動したところ、液晶セルのコントラスト
は６．３：１（Ｒ／Ｂ）であり、赤・黒表示特性共に良
好で、コントラストの高い素子となった。 （比較実験例１）実験例１と同じようにして調製した液
晶組成物ａ１、ｂ１、ｃ１を使用した。

【０１０４】まず、基板厚１５０μｍ、屈折率１．６５
のＰＥＳフィルム基板上に設けられた厚み８００Å、面
抵抗２４０Ω／□の透明電極上に厚み８００Åのポリイ
ミド系配向膜を形成し、その上に９μｍ径のスペーサ
（積水ファインケミカル社製）を散布した。また、もう
一つのＰＥＳフィルム基板（厚み１５０μｍ、屈折率
１．６５）上の透明電極（厚み８００Å、面抵抗２４０
Ω／□）上には、まず厚み２０００Åのポリイミド系絶
縁膜を形成した後、その上に厚み１５００Åのポリイミ
ド系配向膜を形成した。

【０１０５】続いて、一方の基板上の周縁部にシール材
ＸＮ２１Ｓ（三井化学社製）をスクリーン印刷して所定
高さの壁を形成した。その後該一方の基板上にシール材
の高さと面積から計算された量の液晶組成物ａ１を塗布
し、貼り合わせ装置を用いて両基板を貼り合わせ、１５
０℃で１時間加熱し、液晶セルＡ１を作製した。

【０１０６】次に、基板厚１５０μｍ、屈折率１．６５
のＰＥＳフィルム基板上に設けられた厚み８００Å、面
抵抗２４０Ω／□の透明電極上に厚み８００Åのポリイ
ミド系配向膜を形成し、その上に７μｍ径のスペーサ
（積水ファインケミカル社製）を散布した。また、もう
一つのＰＥＳフィルム基板（厚み１５０μｍ、屈折率
１．６５）上の透明電極（厚み８００Å、面抵抗２４０
Ω／□）上には、まず厚み２０００Åのポリイミド系絶
縁膜を形成した後、その上に厚み１５００Åのポリイミ
ド系配向膜を形成した。続いて、一方の基板上の周縁部
にシール材ＸＮ２１Ｓ（三井化学社製）をスクリーン印
刷して所定高さの壁を形成した。

【０１０７】その後該一方の基板上にシール材の高さと
面積から計算された量の液晶組成物ｂ１を塗布し、貼り
合わせ装置を用いて両基板を貼り合わせ、１５０℃で１
時間加熱し、液晶セルＢ１を作製した。また、基板厚１
５０μｍ、屈折率１．６５のＰＥＳフィルム基板上に設
けられた厚み８００Å、面抵抗２４０Ω／□の透明電極
上に厚み８００Åのポリイミド系配向膜を形成しその上
に７μｍ径のスペーサ（積水ファインケミカル社製）を
散布した。

【０１０８】もう一つのＰＥＳフィルム基板（厚み１５
０μｍ、屈折率１．６５）上の透明電極（厚み８００
Å、面抵抗２４０Ω／□）上には、まず厚み２０００Å
のポリイミド系絶縁膜を形成した後、その上に厚み１５
００Åのポリイミド系配向膜を形成した。続いて、一方
の基板上の周縁部にシール材ＸＮ２１Ｓ（三井化学社
製）をスクリーン印刷して所定高さの壁を形成した。

【０１０９】その後該一方の基板上にシール材の高さと
面積から計算された量の液晶組成物ｃ１を塗布し、貼り
合わせ装置を用いて両基板を貼り合わせ、１５０℃で１
時間加熱し、液晶セルＣ１を作製した。これら３種類の
セルＡ１、Ｂ１、Ｃ１をこの順に積層し、積層体の裏面
（液晶セルＡ１の外面（裏面））には黒色の光吸収膜を
設けた。

【０１１０】各セルを着色状態と消色状態にするために
所定電圧で駆動したところ、積層体のコントラストは
４．５：１（Ｗ／Ｂ）であった。 （比較実験例２）実験例１と同じようにして調製した液
晶組成物ａ１、ｂ１、ｃ１を使用した。まず、基板厚１
５０μｍ、屈折率１．６５のポリエーテルサルホン（Ｐ
ＥＳ）フィルム基板上に設けられた厚み２０００Å、面
抵抗５０Ω／□の透明電極上に厚み８００Åのポリイミ
ド系配向膜を形成し、その上に９μｍ径のスペーサ（積
水ファインケミカル社製）を散布した。

【０１１１】また、もう一つのＰＥＳフィルム基板（厚
み１５０μｍ、屈折率１．６５）上の透明電極（厚み２
０００Å、面抵抗５０Ω／□）上には、まず厚み２００
０Åのポリイミド系絶縁膜を形成した後、その上に厚み
１５００Åのポリイミド系配向膜を形成した。続いて、
一方の基板上の周縁部にシール材ＸＮ２１Ｓ（三井化学
社製）をスクリーン印刷して所定高さの壁を形成した。

【０１１２】その後該一方の基板上にシール材の高さと
面積から計算された量の液晶組成物ａ１を塗布し、貼り
合わせ装置を用いて両基板を貼り合わせ、１５０℃で１
時間加熱し、液晶セルＡ１を作製した。次に、基板厚１
５０μｍ、屈折率１．６５のＰＥＳフィルム基板上に設
けられた厚み２０００Å、面抵抗５０Ω／□の透明電極
上に厚み８００Åのポリイミド系配向膜を形成し、その
上に７μｍ径のスペーサ（積水ファインケミカル社製）
を散布した。

【０１１３】また、もう一つのＰＥＳフィルム基板（厚
み１５０μｍ、屈折率１．６５）上の透明電極（厚み２
０００Å、面抵抗５０Ω／□）上には、まず厚み２００
０Åのポリイミド系絶縁膜を形成した後、その上に厚み
１５００Åのポリイミド系配向膜を形成した。続いて、
一方の基板上の周縁部にシール材ＸＮ２１Ｓ（三井化学
社製）をスクリーン印刷して所定高さの壁を形成した。

【０１１４】その後該一方の基板上にシール材の高さと
面積から計算された量の液晶組成物ｂ１を塗布し、貼り
合わせ装置を用いて両基板を貼り合わせ、１５０℃で１
時間加熱し、液晶セルＢ１を作製した。また、基板厚１
５０μｍ、屈折率１．６５のＰＥＳフィルム基板上に設
けられた厚み２０００Å、面抵抗５０Ω／□の透明電極
上に厚み８００Åのポリイミド系配向膜を形成しその上
に７μｍ径のスペーサ（積水ファインケミカル社製）を
散布した。

【０１１５】もう一つのＰＥＳフィルム基板（厚み１５
０μｍ、屈折率１．６５）上の透明電極（厚み２０００
Å、面抵抗５０Ω／□）上には、まず厚み２０００Åの
ポリイミド系絶縁膜を形成した後、その上に厚み１５０
０Åのポリイミド系配向膜を形成した。続いて、一方の
基板上の周縁部にシール材ＸＮ２１Ｓ（三井化学社製）
をスクリーン印刷して所定高さの壁を形成した。

【０１１６】その後該一方の基板上にシール材の高さと
面積から計算された量の液晶組成物ｃ１を塗布し、貼り
合わせ装置を用いて両基板を貼り合わせ、１５０℃で１
時間加熱し、液晶セルＣ１を作製した。しかしながら、
これら３種類のセルＡ１、Ｂ１、Ｃ１はすべて１時間加
熱した後に、フィルム基板に反りが生じ、三層の積層体
を作製することができなかった。従って、積層体のコン
トラストを測定することができなかった。 （比較実験例３）実験例１と同じようにして調製した液
晶組成物ａ１、ｂ１、ｃ１を使用した。

【０１１７】まず、基板厚１００μｍ、屈折率１．５８
のポリカーボネート（ＰＣ）フィルム基板上に設けられ
た厚み８００Å、面抵抗２８０Ω／□の透明電極上に厚
み８００Åのポリイミド系配向膜を形成し、その上に９
μｍ径のスペーサ（積水ファインケミカル社製）を散布
した。また、もう一つのＰＣフィルム基板（厚み１００
μｍ、屈折率１．５８）上の透明電極（厚み８００Å、
面抵抗２８０Ω／□）上には、まず厚み２０００Åのポ
リイミド系絶縁膜を形成した後、その上に厚み１５００
Åのポリイミド系配向膜を形成した。

【０１１８】続いて、一方の基板上の周縁部にシール材
ＸＮ２１Ｓ（三井化学社製）をスクリーン印刷して所定
高さの壁を形成した。その後該一方の基板上にシール材
の高さと面積から計算された量の液晶組成物ａ１を塗布
し、貼り合わせ装置を用いて両基板を貼り合わせ、１５
０℃で１時間加熱し、液晶セルＡ１を作製した。

【０１１９】次に、基板厚１００μｍ、屈折率１．５８
のＰＣフィルム基板上に設けられた厚み８００Å、面抵
抗２８０Ω／□の透明電極上に厚み８００Åのポリイミ
ド系配向膜を形成し、その上に７μｍ径のスペーサ（積
水ファインケミカル社製）を散布した。また、もう一つ
のＰＣフィルム基板（厚み１００μｍ、屈折率１．５
８）上の透明電極（厚み８００Å、面抵抗２８０Ω／
□）上には、まず厚み２０００Åのポリイミド系絶縁膜
を形成した後、その上に厚み１５００Åのポリイミド系
配向膜を形成した。続いて、一方の基板上の周縁部にシ
ール材ＸＮ２１Ｓ（三井化学社製）をスクリーン印刷し
て所定高さの壁を形成した。

【０１２０】その後該一方の基板上にシール材の高さと
面積から計算された量の液晶組成物ｂ１を塗布し、貼り
合わせ装置を用いて両基板を貼り合わせ、１５０℃で１
時間加熱し、液晶セルＢ１を作製した。また、基板厚１
００μｍ、屈折率１．５８のＰＣフィルム基板上に設け
られた厚み８００Å、面抵抗２８０Ω／□の透明電極上
に厚み８００Åのポリイミド系配向膜を形成しその上に
７μｍ径のスペーサ（積水ファインケミカル社製）を散
布した。

【０１２１】もう一つのＰＣフィルム基板（厚み１００
μｍ、屈折率１．５８）上の透明電極（厚み８００Å、
面抵抗２８０Ω／□）上には、まず厚み２０００Åのポ
リイミド系絶縁膜を形成した後、その上に厚み１５００
Åのポリイミド系配向膜を形成した。続いて、一方の基
板上の周縁部にシール材ＸＮ２１Ｓ（三井化学社製）を
スクリーン印刷して所定高さの壁を形成した。

【０１２２】その後該一方の基板上にシール材の高さと
面積から計算された量の液晶組成物ｃ１を塗布し、貼り
合わせ装置を用いて両基板を貼り合わせ、１５０℃で１
時間加熱し、液晶セルＣ１を作製した。これら３種類の
セルＡ１、Ｂ１、Ｃ１をこの順に積層し、積層体の裏面
（液晶セルＡ１の外面（裏面））には黒色の光吸収膜を
設けた。

【０１２３】各セルを着色状態と消色状態にするために
所定電圧で駆動したところ、積層体のコントラストは
４．２：１（Ｗ／Ｂ）であった。 （比較実験例４）実験例１と同じようにして調製した液
晶組成物ａ１、ｂ１、ｃ１を使用した。まず、基板厚３
００μｍ、屈折率１．６のポリアリレートフィルム基板
上に設けられた厚み１０００Å、面抵抗２３０Ω／□の
透明電極上に厚み８００Åのポリイミド系配向膜を形成
し、その上に９μｍ径のスペーサ（積水ファインケミカ
ル社製）を散布した。

【０１２４】また、もう一つのポリアリレートフィルム
基板（厚み３００μｍ、屈折率１．６）上の透明電極
（厚み１０００Å、面抵抗２３０Ω／□）上には、まず
厚み２０００Åのポリイミド系絶縁膜を形成した後、そ
の上に厚み１５００Åのポリイミド系配向膜を形成し
た。続いて、一方の基板上の周縁部にシール材ＸＮ２１
Ｓ（三井化学社製）をスクリーン印刷して所定高さの壁
を形成した。

【０１２５】その後該一方の基板上にシール材の高さと
面積から計算された量の液晶組成物ａ１を塗布し、貼り
合わせ装置を用いて両基板を貼り合わせ、１５０℃で１
時間加熱し、液晶セルＡ１を作製した。次に、基板厚３
００μｍ、屈折率１．６のポリアリレートフィルム基板
上に設けられた厚み１０００Å、面抵抗２３０Ω／□の
透明電極上に厚み８００Åのポリイミド系配向膜を形成
し、その上に７μｍ径のスペーサ（積水ファインケミカ
ル社製）を散布した。

【０１２６】また、もう一つのポリアリレートフィルム
基板（厚み３００μｍ、屈折率１．６）上の透明電極
（厚み１０００Å、面抵抗２３０Ω／□）上には、まず
厚み２０００Åのポリイミド系絶縁膜を形成した後、そ
の上に厚み１５００Åのポリイミド系配向膜を形成し
た。続いて、一方の基板上の周縁部にシール材ＸＮ２１
Ｓ（三井化学社製）をスクリーン印刷して所定高さの壁
を形成した。

【０１２７】その後該一方の基板上にシール材の高さと
面積から計算された量の液晶組成物ｂ１を塗布し、貼り
合わせ装置を用いて両基板を貼り合わせ、１５０℃で１
時間加熱し、液晶セルＢ１を作製した。また、基板厚３
００μｍ、屈折率１．６のポリアリレートフィルム基板
上に設けられた厚み１０００Å、面抵抗２３０Ω／□の
透明電極上に厚み８００Åのポリイミド系配向膜を形成
しその上に７μｍ径のスペーサ（積水ファインケミカル
社製）を散布した。

【０１２８】もう一つのポリアリレートフィルム基板
（厚み３００μｍ、屈折率１．６）上の透明電極（厚み
１０００Å、面抵抗２３０Ω／□）上には、まず厚み２
０００Åのポリイミド系絶縁膜を形成した後、その上に
厚み１５００Åのポリイミド系配向膜を形成した。続い
て、一方の基板上の周縁部にシール材ＸＮ２１Ｓ（三井
化学社製）をスクリーン印刷して所定高さの壁を形成し
た。

【０１２９】その後該一方の基板上にシール材の高さと
面積から計算された量の液晶組成物ｃ１を塗布し、貼り
合わせ装置を用いて両基板を貼り合わせ、１５０℃で１
時間加熱し、液晶セルＣ１を作製した。これら３種類の
セルＡ１、Ｂ１、Ｃ１をこの順に積層し、積層体の裏面
（液晶セルＡ１の外面（裏面））には黒色の光吸収膜を
設けた。

【０１３０】各セルを着色状態と消色状態にするために
所定電圧で駆動したところ、積層体のコントラストは
３．８：１（Ｗ／Ｂ）であった。以上説明した実験例及
び比較実験例を表１にまとめて示す。

【０１３１】

【表１】

【０１３２】表１に示すように、本発明に係る液晶素子
を作製してコントラストを測定した実験例１〜７では、
コントラストが５．５：１〜６．３：１であり、いずれ
もコントラストが高かった。これに対し、電極の厚みが
１２００Åより小さい積層型液晶素子を作製してコント
ラストを測定した比較実験例１、３及び４では積層体の
コントラストが３．８：１〜４．５：１であり、いずれ
もコントラストが低かった。また、比較実験例２では、
電極の厚みが１５００Åより大きかったためフィルム基
板に反りが生じた。

【０１３３】

【発明の効果】以上説明したように本発明によると、明
るい画像表示が可能であるとともにコントラストの高い
液晶素子を提供することができる。また本発明による
と、コントラストが高く、液晶素子が反ったり、電極に
断線を生じるなどの問題が起こり難い液晶素子を提供す
ることができる。

【０１３４】また本発明によると、コントラストが高
く、電極の導電性が良好な液晶素子を提供することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る積層型液晶素子の１例の概略断面
図である。

【図２】本発明に係る積層型液晶素子の他の例の概略断
面図である。

【図３】本発明に係る積層型液晶素子のさらに他の例の
概略断面図である。

【図４】図１に示す積層型液晶素子における各液晶素子
中の樹脂構造物の配置状態を示す図である。

【図５】図１に示す積層型液晶素子の製造方法例におけ
る１工程を示す図である。

【図６】図２に示す積層型液晶素子の製造方法例におけ
る１工程を示す図である。

【図７】液晶素子の駆動回路を示すブロック図である。

【符号の説明】

１、２ 透明樹脂フィルム基板 ３ 光吸収層 ４ 樹脂構造物 ５ スペーサ ６ｂ 青色表示用液晶材料 ６ｇ 緑色表示用液晶材料 ６ｒ 赤色表示用液晶材料 ７ 絶縁膜 ８ 配向制御膜 ９１ 平板 ９２ 加熱・加圧ローラ １０ 接着剤 １１、１２ 透明電極 ＬＤ１、ＬＤ２、ＬＤ３ 積層型液晶素子 Ｂ ブルー（青色）表示用液晶素子 Ｇ グリーン（緑色）表示用液晶素子 Ｒ レッド（赤色）表示用液晶素子 ｂ 青色表示用液晶層 ｇ 緑色表示用液晶層 ｒ 赤色表示用液晶層 Ｃ１〜Ｃｎ 信号電極 Ｒ１〜Ｒｍ（Ｒａ） 走査電極 Ｓ シール材

フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H089 HA21 LA07 LA09 MA04Y NA08 NA13 QA04 RA04 TA01 TA02 TA17 2H090 JB03 JD14 KA04 LA01 LA02 LA20 2H092 GA05 GA27 HA03 HA04 MA05 NA01 PA01 PA03 QA08 QA11

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】複数の液晶層を含む積層型液晶素子であ
   り、前記各液晶層は、電極がそれぞれに形成されている
   一対の樹脂フィルム基板に挟持されており、少なくとも
   素子最観察側の電極が、厚み１２００Å以上１５００Å
   以下、且つ、面抵抗２００Ω／□以下であることを特徴
   とする積層型液晶素子。
2. 【請求項２】複数の液晶層を含む積層型液晶素子であ
   り、前記各液晶層は、電極がそれぞれに形成されている
   一対の樹脂フィルム基板に挟持されており、少なくとも
   素子最観察側の基板が、厚み５０μｍ以上２００μｍ以
   下、且つ、屈折率１．５８以上であり、少なくとも該樹
   脂フィルム基板に形成されている電極が、厚み１２００
   Å以上１５００Å以下、且つ、面抵抗２００Ω／□以下
   であることを特徴とする積層型液晶素子。
3. 【請求項３】前記一対の樹脂フィルム基板は、それぞれ
   がポリエーテルサルホンからなるフィルム基板である請
   求項１又は２記載の積層型液晶素子。
4. 【請求項４】電極がそれぞれに形成されている一対の樹
   脂フィルム基板に、コレステリック相を示す液晶層が挟
   持されており、少なくとも素子観察側の基板に設けられ
   ている電極が、厚み１２００Å以上１５００Å以下、且
   つ、面抵抗２００Ω／□以下であることを特徴とする液
   晶素子。
5. 【請求項５】前記電極は、インジウム錫酸化物からなる
   電極である請求項１から４のいずれかに記載の液晶素
   子。