JP2001147397A

JP2001147397A - レーザスキャナにおいて露光時間を延長するための方法及び装置

Info

Publication number: JP2001147397A
Application number: JP32092599A
Authority: JP
Inventors: Daniel Gelbart; ゲルバートダニエル
Original assignee: CLEO Srl
Current assignee: CLEO Srl
Priority date: 1999-11-11
Filing date: 1999-11-11
Publication date: 2001-05-29

Abstract

(57)【要約】【課題】高出力レーザによるサーモグラフィック材料の
走査において、コストや画像の質において妥協すること
なく露光時間を延長する。【解決手段】高データ速度単スポットレーザスキャナに
おける露光時間をＴＤＩモードを用いて延長してサーモ
グラフィック材料（１）を露光する。サーマルプリンテ
ィングプレートなどの多くのサーモグラフィック材料
（１）は内面円筒走査型スキャナなどの単スポットスキ
ャナでは単一のスポットの露光時間が短いことにより適
当に露光することができないが、ＴＤＩ走査を用いて露
光時間が長くなることによりこれを適当に露光すること
が可能である。ＴＤＩの一方法としてスコフォニーモー
ドを用いることも可能である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はレーザ走査に関し、
より詳細にはサーモグラフィック材料としても知られる
感熱材料を高出力レーザにて走査して画像を形成するこ
とに関する。

【０００２】

【従来の技術】レーザ走査システムが高速である場合、
１個の画素の露光時間は際立って短くなるが、露光時間
が短すぎると露光された材料中で所望の化学反応が起こ
らない場合がある。出力を大きくしても、材料の表層が
過熱して融除あるいは分解される一方で表面下の材料は
低温のままであるため、この問題の解決にはつながらな
い。

【０００３】例として、サーマルプリンティングプレー
トを露光するために用いられる内面円筒走査型の最新の
レーザスキャナでは１０ナノ秒程度の露光時間が用いら
れているが、この露光時間は一般的なプレートにおける
プレート活性ポリマ層の熱時定数である約１μ秒と比較
して大幅に短い。露光時間が熱時定数の約１００分の１
程度であることにより、（熱がポリマ層全体に拡散した
後の）平均温度を約１００℃とするためにはポリマの表
面は数千度にまで加熱されなければならない。このよう
に温度のピークが高いことにより、ポリマは所望の変化
を起こす代りに分解あるいは融除される。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】この問題に対する一般
的な解決策としてはマルチビームシステムがある。マル
チビームシステムでは、データ速度が一定に保たれてい
る場合、各スポットの露光時間はビームの数に比例して
長くなる。しかしマルチビームシステムはレーザスキャ
ナのコストを増大させるため、単ビームシステムにおい
て露光時間を延ばすことが望ましいが、単にスポット径
を大きくすることによって露光時間を延ばすことは解像
度の低下につながるために現実的ではない。

【０００５】サーマルイメージングシステムでは高出力
の高価なＩＲレーザが用いられ、通常はワット数の大き
なダイオードポンプＹＡＧレーザが用いられる。広領域
レーザダイオード発振器などの安価なレーザを用いるこ
とが望ましいが、こうしたレーザ光線の質は既存のサー
マルイメージングシステムにおいて用いるうえで低すぎ
ることがしばしばである。

【０００６】したがって本発明の目的は、サーモグラフ
ィック材料の高出力レーザによる走査において、コスト
や画像の質において妥協することなく露光時間を長くす
ることにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明では直線状に配列された光源からの光線を走
査して露光される材料上にスポットを形成する。請求項
１に記載の発明では、データは光源を動作させるドライ
バを介して光源の配列（アレイ）において順々にシフト
され、ＴＤＩ（ＴｉｍｅＤｏｍａｉｎＩｎｔｅｇｒａｔ
ｉｏｎ）として知られるモードを利用して材料上に光源
の配列による像が形成される。

【０００８】このモードでは材料上の各スポットの全露
光時間は光源の数を乗じた長さとなる（例上述の内面
円筒走査型スキャナにおいて１０個の光源が用いられて
いるものとするとシステムは単ビームシステムとしたま
まで露光時間は１０ｎ秒から１００ｎ秒に長くなる）。
ＴＤＩイメージングを可能とするうえで、スポットの配
列を通じてデータを順々にシフトさせる速度は走査速度
に一致させられ、これにより露光される材料上でシフト
するデータによるほぼ静止した画像が得られる。

【０００９】こうした画像形成のＴＤＩモードは電荷結
合素子（ＣＣＤ）などの画像センサにおいてよく知られ
たものであり、露光時間が長くなるように積分を行って
解像度を低下させることなく感度を向上させる。光を積
分するＴＤＩ走査のこうした性質が本発明において利用
されており、解像度を低下させることなく単一の走査線
による露光時間を長くする。

【００１０】本発明に基づく単チャンネルスキャナにお
いて複数の光源が用いられる場合、複数の光源の間にお
いて強度を一致させる必要がない。これは強度を一致さ
せることが非常に重要である、互いに平行な複数のスポ
ットを用いたシステムと比較して有利である。

【００１１】請求項２に記載の発明は、画像形成するた
めに延長された露光時間を必要とするサーモグラフィッ
ク材料を露光する方法であり、スコフォニーモード走査
を利用することをその要旨とする。

【００１２】請求項３に記載の発明は、画像形成するた
めにサーモグラフィック材料を均一に露光するための方
法であり、不規則な光線プロファイルを有する高出力レ
ーザを用いることと、該光線プロファイルを前記画像の
各要素上に走査するうえでＴＤＩを利用することとをそ
の要旨とする。

【００１３】請求項４に記載の発明は、画像形成するた
めにサーモグラフィック材料を均一に露光するための方
法であり、不規則な光線プロファイルを有する高出力レ
ーザを用いることと、該光線プロファイルを前記画像の
各要素上に走査するうえでスコフォニーモード走査を利
用することとをその要旨とする。

【００１４】請求項５に記載の発明は、露光時間を延長
するためにＴＤＩ走査を利用することをその要旨とする
サーモグラフィック材料のための内面円筒走査型スキャ
ナである。

【００１５】請求項６に記載の発明は、露光時間を延長
するためにスコフォニー走査を利用することをその要旨
とするサーモグラフィック材料のための内面円筒走査型
スキャナである。

【００１６】請求項７に記載の発明は、サーモグラフィ
ック材料に画像形成するための方法であり、（ａ）サー
モグラフィック材料の層を設けることと、（ｂ）サーモ
グラフィック材料の表面上の線に沿って複数の光源の像
を含む光線を第１の方向に走査し、該複数の像は全て前
記の線上に位置することと、（ｃ）該線上に位置するス
ポットに与えられるべき露光量を表すデータを提供する
ことと、（ｄ）該線に沿った光線の走査に同期するよう
に前記のデータに応じて各光源を変調して、（ｉ）複数
の光源の内の第１の光源の像がスポット上にある滞留時
間の間において前記のデータに応じて第１の光源が変調
され、（ｉｉ）複数の光源の後続の光源のそれぞれの像
がスポット上にある滞留時間の間において前記のデータ
に応じて後続の光源のそれぞれが変調されることとを含
む。

【００１７】請求項８に記載の発明は、請求項７に記載
の発明において、前記の線に沿った光線の走査速度は、
複数の像のそれぞれの滞留時間がスポット近傍のサーモ
グラフィック材料に損傷を与えない程度に短くなるよう
な速度であることをその要旨とする方法である。

【００１８】請求項９に記載の発明は、請求項８に記載
の発明において、前記の線に沿った光線の走査速度は、
複数の像のそれぞれの滞留時間がスポット近傍のサーモ
グラフィック材料が完全に露光しない程度に短くなるよ
うな速度であることをその要旨とする方法である。

【００１９】請求項１０に記載の発明は、請求項９に記
載の発明において、サーモグラフィック材料の層は円筒
部の内面上に設けられ、該サーモグラフィック材料の表
面上の線に沿った光線の走査は円筒内面の中心軸上に配
置される回転式偏向器によって光線を偏向することを含
む方法である。

【００２０】請求項１１に記載の発明は、請求項１０に
記載の発明において、シフトレジスタは複数の光源のそ
れぞれに対応したビットを有し、データをシフトレジス
タに入力することと複数の光源を順次変調するために前
記シフトレジスタをクロッキングすることとを含む方法
である。

【００２１】請求項１２に記載の発明は、請求項１１に
記載の発明において、シフトレジスタのクロッキングは
光線偏向器の回転に応じて発生するクロックパルスをシ
フトレジスタに与えることを含むことをその要旨とする
方法である。

【００２２】請求項１３に記載の発明は、請求項１０に
記載の発明において、光源が直線状に配列された複数の
レーザ発生装置を含むことをその要旨とする方法であ
る。請求項１４に記載の発明は、請求項１３に記載の発
明において、複数のレーザ発生装置は異なる強度を有す
ることをその要旨とする方法である。

【００２３】請求項１５に記載の発明は、請求項８に記
載の発明において、シフトレジスタは複数の光源のそれ
ぞれに対応したビットを有し、該データをシフトレジス
タに入力することと複数の光源を順次変調するためにシ
フトレジスタをクロッキングすることとを含む方法であ
る。

【００２４】請求項１６に記載の発明は、請求項１５に
記載の発明において、光源が直線状に配列された複数の
レーザ発生装置を含むことをその要旨とする方法であ
る。請求項１７に記載の発明は、請求項１６に記載の発
明において、複数のレーザ発生装置は異なる強度を有す
ることをその要旨とする方法である。

【００２５】請求項１８に記載の発明は、請求項１５に
記載の発明において、複数の光源はそれぞれ単一のレー
ザ光線から別れた光線と変調器とを含むことをその要旨
とする方法である。

【００２６】請求項１９に記載の発明は、請求項１８に
記載の発明において、単一の光線のプロファイルが不均
一であり、個々の光線の強度は異なっていることをその
要旨とする方法である。

【００２７】請求項２０に記載の発明は、請求項１５に
記載の発明において、複数の光源はＡＯＭから射出され
る光線の一部を含み、該複数の光源の内の１つの光源の
変調は、データに応じてＡＯＭのＲＦ変調器を作動する
ことと、得られた音波を複数の光源の内の前記の１つの
光源に対応したＡＯＭの一部に伝播させることとを含む
方法である。

【００２８】請求項２１に記載の発明は、請求項８に記
載の発明において、複数の光源の強度は異なることをそ
の要旨とする方法である。請求項２２に記載の発明は、
請求項７に記載の発明において、複数の光源は直線状に
配列された複数のレーザ発生装置を含み、各レーザ発生
装置の強度は異なることをその要旨とする方法である。

【００２９】

【発明の実施の形態】本発明をその方法と装置につい
て、図１〜図８に基づき以下に詳細に説明する。

【００３０】従来の高速スキャナは、図１に示されるよ
うな内面円筒走査型のものとマルチチャンネル（または
マルチビームあるいはマルチスポット）外面円筒走査型
のものとに大別される。内面円筒走査型のスキャナでは
光線８はレンズ５によって集束されて円筒表面２上にス
ポットを形成する。集束光のスポットはモータ４によっ
て駆動される走査ミラー３によって材料１上に走査され
る。全走査アッセンブリ６が直線位置決め要素７によっ
て材料１に沿って移動する。この種のスキャナでは光線
８が形成する像は、矢印１０の矢印９への回転にて示さ
れるように回転する。このため光線８は回転によって影
響されない円形光線を用いなければならない。

【００３１】従来のスキャナの別の一般的な方式として
図２に示されるようなマルチスポット外面円筒走査型レ
コーダがある。この種のスキャナでは、複数のレーザ１
１がレンズ５によって円筒部２上に配される材料１に複
数のスポット１２を形成する。複数のレーザ光は各々変
調され、材料１上にそれぞれ１つの軌跡を描く。

【００３２】内面円筒走査型スキャナと比較した場合の
マルチスポットドラムレコーダの長所として、各スポッ
トの露光時間を短縮することなく大きな書き込み速度が
得られる点がある。Ｎ個のスポットを有するシステムで
は、スポットが１個であるシステムと比較して露光時間
はＮ倍である。このことは特に感熱材料などの特定の材
料上に画像形成するうえで有利である。この種のスキャ
ナの難点は各スポットの光強度及び形状を注意深く調整
しなければならないことである。図３には、本発明を利
用して、マルチスポットシステムの長い露光時間を保ち
つつシングルスポットシステムの利点を得るように図２
のレーザ走査システムを改変したものが示されている。
本発明は内面円筒走査型スキャナにおいてその効果をよ
り発揮するが作動原理の説明の便宜上、外面円筒走査シ
ステムに基づいて先ず説明する。

【００３３】図３を参照すると、サーモグラフィック材
料１がドラム２上に配されている。レーザ光源の配列１
１からの光線がレンズ５によって材料１上に配列に対応
した一連のスポット１２を形成する。複数のスポット１
２は１本の線上に形成されるため各スポット１２は先の
スポットの軌跡を辿り、材料１上に１本の線を形成す
る。記録されるデータはシフトレジスタ１５を介してレ
ーザ光源１１に伝送される。シフトレジスタ１５はシャ
フトエンコーダ１３を介して円筒部２の位置に同期させ
られたクロック発振器１４によってクロック動作する。
シフトレジスタ１５をシャフトエンコーダ１３からの出
力によって直接的に動作させない理由は、書き込みクロ
ック（ピクセルクロックとしても知られる）がシャフト
エンコーダ１３の出力の整数倍であったりそうでなかっ
たりするためである。クロック発振器１４は、位相同期
ループ型、シンセサイザ型、または公知のクロック発振
方法のいずれを用いることも可能である。

【００３４】クロック発振器１４の周期は、材料１の表
面が２個の隣り合うスポット間の距離を移動する間にシ
フトレジスタ１５がデータを１ビット動かすような周期
に設定される。この距離を図３にＸとして示した。この
ようにデータをクロッキングすることにより、与えられ
たデータビットの画像がレーザ光源１１によって順々に
照射され材料１に対して静止画となる。この画像形成の
モードはＴＤＩ（ＴｉｍｅＤｏｍａｉｎＩｎｔｅｇｒａ
ｔｉｏｎ）方式として知られ、通常、露光量を増大させ
るために用いられる。例として、米国特許出願第５，０
４９，９０１号及び同第５，１３２，７２３号ではＴＤ
Ｉを用いて露光エネルギーを増大させている。本発明で
はＴＤＩを用いて露光時間を長くすることにより、エネ
ルギーを増大させることなく特定の感熱材料を使用する
ことを可能にしている。

【００３５】本発明の効果が最も著明となるのは図４に
示されるような内面円筒走査型レーザスキャナにおいて
である。レーザ光源の配列１１からの光線は一線上に位
置する複数のスポット１２を形成する。モータ４によっ
てミラー３が回転させられ、サーモグラフィック材料１
上にスポット１２が走査される。直線位置決め要素７に
より走査機構６が材料１に沿って動かされる。この走査
機構は前述の像の回転の問題を避けるため図１に示され
るものとは異なっている。複数のレーザ１１を通じて順
々にデータをシフトさせる点は図３に基づく説明と同様
であるので理解を助けるため図４においてこの説明は省
いた。像の回転を生じない内面円筒走査型レコーダのた
めの走査機構に関する更なる詳細が米国特許出願第４，
２０６，４８２号及び同第４，５９５，９５７号に開示
されている。広く知られるドーブプリズムや米国特許出
願第５，１８４，２４６号に開示される方法などの他の
像回転を生じない装置を用いることも可能である。図５
は、図４の構成を断面図にて示したものである。シャフ
トエンコーダ（図に示されていない）からのデータはモ
ータ４に伝送され、複数のレーザ光源１１を通じてデー
タのシフトを同期させることにより複数のスポット１２
の走査速度が一致する。この同期化はクロック発振器１
４及びシフトレジスタ１５を介して行われる。

【００３６】本発明は、単一のレーザ光源を複数に分割
して用いる場合においても、別々のレーザ光源を用いた
場合と同様に効果的である点は重要である。別々のレー
ザ光源の例として以下のものが挙げられる。すなわち、１．光学素子と組み合わせたレーザダイオード、２．レーザダイオードと組み合わせた光ファイバ、及
び、３．発光ダイオードなどである。

【００３７】高出力のレーザダイオードやＹＡＧレーザ
などの単一光源を、例として以下の方法を用いて別々の
光源に分割することが可能である。すなわち、１．変調器と組み合わせたビームスプリッタ、２．マルチスポット変調器として用いられる音響光学
変調器（ＡＯＭ）、３．電気光学変調器（ＥＯＭ）などの、データを順々
にシフトすることが可能な他の変調器である。

【００３８】ＴＤＩモードにおける音響光学変調器や電
気光学変調器の使用は、よく知られているスコフォニー
効果にも関係している。スコフォニーイメージングで
は、ＴＤＩ法によって照射される材料上に静止画が形成
されることを利用して、連続的に動くデータに基づく像
の不鮮明化を防止する。ＴＤＩという語句は専ら離散的
な動作に関連して用いられ、スコフォニーイメージング
という語句はＡＯＭにおけるような連続的に動くデータ
パターンに関連して専ら用いられる。米国特許出願第
４，３５７，６２７号及び同第４，６３９，０７３号に
スコフォニー／ＴＤＩ技術の一例を見ることができる。
これらの特許はいずれも、本発明の要旨であるところの
露光時間の増大ではなく、スキャナの解像度を向上させ
ることを目的としてスコフォニー／ＴＤＩ効果を利用し
ている。更に、これらの特許のいずれにおいても不均一
なレーザ光の利用は考慮されていない。図６及び図７
（ａ）乃至（ｄ）には、不均一な光線を利用した本発明
に基づくスコフォニー／ＴＤＩ効果の応用が示されてい
る。不均一なレーザ光線とそれぞれに出力が異なる複数
のレーザの配列との間には本質的な差はない。いずれの
場合も本発明において利用されるスコフォニー／ＴＤＩ
効果によって均一なスポットが形成され、記録材料の露
光時間が長くなる。

【００３９】図６を参照すると、高出力レーザダイオー
ド光源１６からの光線がレンズ２１によって部分的に集
束されている。光源１６からの光線はＡＯＭ１７に照射
される。ＡＯＭドライバ１８を介してＡＯＭ１７に与え
られるデータは所定の速さにてＡＯＭを伝播する。この
速さは用いられるＡＯＭの種類によって異なるが通常は
約４ｋｍ／秒である。ＡＯＭはよく知られた装置であ
り、その動作についての詳しい説明はここでは省略す
る。ＡＯＭ１７の活動開口はレンズ５によって材料１上
に結像する。０次回折光１９または回折光２０を用いる
ことが可能である（０次回折光１９が用いられる場合に
はデータを反転させなければならないことは明らかであ
る）。

【００４０】ＡＯＭ１７内を伝播する音波は一連のデー
タパターンの複製であり、ＲＦドライブに基づく進行波
が存在する場合にのみ回折が生じる。伝播するビットパ
ターンの大きさがＡであるものとし、そのパターンの像
の大きさがＢ、これに対応する音波の速度がｖ、走査速
度がＶであるものとすると（Ａ，Ｂ，ｖ及びＶの定義に
ついては図６参照）、Ａ／Ｂ＝ｖ／Ｖである場合にビッ
ト像は材料１に対して静止画となる。これがよく知られ
ているスコフォニー条件である。この時、各ビットの露
光時間はＡ／ｖで与えられる。一般的なＡＯＭでは
「Ａ」を約１０ｍｍ、ｖを約４ｍｍ／μ秒とすることが
容易に可能であり、このとき露光時間は２．５μ秒とな
る。これは多くの感熱材料に対して充分な値である。

【００４１】図７（ａ）乃至（ｄ）には、不均一なレー
ザ光源を使用して画素を均一に露光するうえでの本発明
の利用が示されている。図７（ａ）は図６のレーザダイ
オード１６の放射プロファイルを示したものである。多
くの広帯域レーザダイオードと同様、このプロファイル
は複数の「暗点」を有する不均一なパターンとなってい
る。図７（ｂ）はＡＯＭ内を伝播する音波の特定の時刻
における波形を示したものである。特定の時刻における
回折光（図６中、参照符合２０にて示される）の露光プ
ロファイルは図７（ａ）と図７（ｂ）との積として与え
られ、図７ｃに示されている。このプロファイルは不均
一であり、レーザダイオードと同様の「暗点」を有す
る。スコフォニー走査モードにより、材料上の各画素
は、全画素の走査が完了した時点で、ＡＯＭの活動開口
「Ａ」によって捉えられるレーザダイオードの完全なプ
ロファイル、すなわちデータパターンの全露光によって
走査されたことになる。高度に不均一な光源から、レー
ザ出力を無駄にすることなく、また露光量を調整するた
めの格別の努力をすることなく、高度に均一な露光を得
ることが可能である。本発明のこの特徴によれば低コス
トのレーザ光源の利用が可能である。同様の方法はＡＯ
Ｍのみばかりでなく、任意の変調器またはレーザ光源の
配列に対して用いることが可能である。

【００４２】図８は、平面走査における本発明の使用を
示したものである。この実施例では、発明を説明するう
えで、例えば米国特許出願第４，６３９，０７３号に開
示される変調器のような電気光学変調器１７が選択され
ている。米国特許出願第４，６３９，０７３号では解像
度を向上させる目的でスコフォニー効果を利用している
が、同様の構成を利用して感熱材料の露光時間を長くす
ることが可能であり、また低コストで光線の質の低いレ
ーザ光源を使用することが可能である。この実施例で
は、モータ４によりポリゴンミラー３が回転させられ
る。レーザダイオード１６からの光線はレンズ２１によ
って集められ、変調器１７を通過し、ポリゴン３によっ
て反射され、レンズ５によって材料１上に結像する。上
述の例と同様、スコフォニー／ＴＤＩ条件はシャフトエ
ンコーダ１３及びクロック発振器１４を用い、シフトレ
ジスタ１５を介してシフト速度を同期させることによっ
て満たされる。

【００４３】以上、本発明をシングルチャンネルシステ
ムに基づいて説明してきたが、サーマルプリンティング
プレートを露光するために必要な時間はプリンティング
プレート上の２以上の部分を同時に照射することによっ
て短縮することが可能である。光源１１の２次元的な配
列が用いられる場合、同様の光学系を用いて本発明に基
づくプリンティングプレート上で複数の平行な軌跡を照
射することが可能である。

【００４４】明らかであるが、本発明は任意の走査シス
テム、レーザ光源、及び変調器と共に使用することが可
能であり、ここに示した３つの走査システムはあくまで
例に過ぎない。

【００４５】以上の開示に鑑みれば当業者にとっては自
明であるが、本発明の実施に際しては、発明の精神及び
範囲から逸脱することなく多くの変更及び改変が可能で
ある。したがって、発明の範囲は請求の範囲において定
義される実質に基づいて解釈されるべきものである。

【００４６】

【発明の効果】本発明に基づく装置及び方法により、コ
ストや画像の質において妥協することなく、サーモグラ
フィック材料の高出力レーザによる走査における露光時
間を長くすることが可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来技術に基づく内面円筒走査型のレーザスキ
ャナを示す概略斜視図。

【図２】従来技術に基づくマルチビーム外面円筒走査型
のレーザスキャナを示す概略斜視図。

【図３】外面円筒走査型スキャナにおいて実施された本
発明を示す概略図。

【図４】内面円筒走査型スキャナにおいて実施された本
発明を示す概略図。

【図５】図４の内面円筒走査型スキャナの５−５線に沿
った断面図。

【図６】音響光学変調器を使用して実施された本発明を
示す概略図。

【図７】（ａ）均一な露光を得るために不均一なレーザ
光源に対して使用される本発明を示すグラフ。（ｂ）均
一な露光を得るために不均一なレーザ光源に対して使用
される本発明を示すグラフ。（ｃ）均一な露光を得るた
めに不均一なレーザ光源に対して使用される本発明を示
すグラフ。（ｄ）均一な露光を得るために不均一なレー
ザ光源に対して使用される本発明を示すグラフ。

【図８】電気光学変調器を使用して実施された本発明を
示す概略図。この実施例では発明を説明するうえで平面
走査型スキャナが用いられている。

【符号の説明】

１…サーモグラフィック材料、２…円筒部、１１…レー
ザ、１２…スポット、１３…シフトエンコーダ、１４…
クロック発振器、１５…シフトレジスタ、１７…音響光
学変調器（ＡＯＭ）、１８…ＡＯＭドライバ。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2C362 AA02 AA03 AA14 AA16 AA32 BA04 BA14 BA25 BA54 BA59 BA60 BA70 CB67 2H045 AG09 BA02 BA22

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】延長された露光時間を必要とするサーモ
グラフィック材料に画像形成するために露光する方法で
あって、ＴＤＩ走査を利用することを特徴とする方法。
【請求項２】延長された露光時間を必要とするサーモ
グラフィック材料に画像形成するために露光する方法で
あって、スコフォニーモード走査を利用することを特徴
とする方法。
【請求項３】画像形成するためにサーモグラフィック
材料を均一に露光するための方法であって、不規則な光
線プロファイルを有する高出力レーザを用いることと、
該光線プロファイルを前記画像の各要素上に走査するう
えでＴＤＩを利用することとを特徴とする方法。
【請求項４】画像形成するためにサーモグラフィック
材料を均一に露光するための方法であって、不規則な光
線プロファイルを有する高出力レーザを用いることと、
該光線プロファイルを前記画像の各要素上に走査するう
えでスコフォニーモード走査を利用することとを特徴と
する方法。
【請求項５】露光時間を延長するためにＴＤＩ走査を
利用することを特徴とするサーモグラフィック材料のた
めの内面円筒走査型スキャナ。
【請求項６】露光時間を延長するためにスコフォニー
走査を利用することを特徴とするサーモグラフィック材
料のための内面円筒走査型スキャナ。
【請求項７】サーモグラフィック材料に画像形成する
ための方法であって、（ａ）サーモグラフィック材料の
層を設けることと、（ｂ）サーモグラフィック材料の表
面上の線に沿って複数の光源の像を含む光線を第１の方
向に走査し、該複数の像は全て前記線上に位置すること
と、（ｃ）前記線上に位置するスポットに与えられるべ
き露光量を表すデータを提供することと、（ｄ）前記線
に沿った光線の走査に同期するように前記データに応じ
て各光源を変調して、（ｉ）前記複数の光源の内の第１
の光源の像が前記スポット上にある滞留時間の間におい
て前記データに応じて前記第１の光源が変調され、（ｉ
ｉ）前記複数の光源の後続の光源のそれぞれの像が前記
スポット上にある滞留時間の間において前記データに応
じて前記後続の光源のそれぞれが変調されることとを含
む方法。
【請求項８】前記線に沿った光線の走査速度は、前記複
数の像のそれぞれの滞留時間が前記スポット近傍のサー
モグラフィック材料に損傷を与えない程度に短くなるよ
うな速度であることを特徴とする請求項７に記載の方
法。
【請求項９】前記線に沿った光線の走査速度は、前記複
数の像のそれぞれの滞留時間が前記スポット近傍のサー
モグラフィック材料が完全に露光しない程度に短くなる
ような速度であることを特徴とする請求項８に記載の方
法。
【請求項１０】前記サーモグラフィック材料の層は円筒
部の内面上に設けられ、該サーモグラフィック材料の表
面上の線に沿った光線の走査は前記円筒内面の中心軸上
に配置される回転式偏向器によって光線を偏向すること
を含む請求項８に記載の方法。
【請求項１１】シフトレジスタは前記複数の光源のそれ
ぞれに対応したビットを有し、データをシフトレジスタ
に入力することと前記複数の光源を順次変調するために
前記シフトレジスタをクロッキングすることとを含む請
求項１０に記載の方法。
【請求項１２】前記シフトレジスタのクロッキングは前
記光線偏向器の回転に応じて発生するクロックパルスを
シフトレジスタに与えることを含むことを特徴とする請
求項１１に記載の方法。
【請求項１３】前記光源は直線状に配列された複数のレ
ーザ発生装置を含むことを特徴とする請求項１０に記載
の方法。
【請求項１４】前記複数のレーザ発生装置は異なる強度
を有することを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】シフトレジスタは前記複数の光源のそれ
ぞれに対応したビットを有し、該データをシフトレジス
タに入力することと前記複数の光源を順次変調するため
に前記シフトレジスタをクロッキングすることとを含む
請求項８に記載の方法。
【請求項１６】前記光源は直線状に配列された複数のレ
ーザ発生装置を含むことを特徴とする請求項１５に記載
の方法。
【請求項１７】前記複数のレーザ発生装置は異なる強度
を有することを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】前記複数の光源はそれぞれ単一のレーザ
光線から別れた光線と変調器とを含むことを特徴とする
請求項１５に記載の方法。
【請求項１９】前記単一の光線のプロファイルは不均一
であり、個々の光線の強度は異なっていることを特徴と
する請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】前記複数の光源はＡＯＭから射出される
光線の一部を含み、該複数の光源の内の１つの光源の変
調は、データに応じてＡＯＭのＲＦ変調器を作動するこ
とと、得られた音波を複数の光源の内の前記１つの光源
に対応したＡＯＭの一部に伝播させることとを含む請求
項１５に記載の方法。
【請求項２１】前記複数の光源の強度は異なることを特
徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項２２】前記複数の光源は直線状に配列された複
数のレーザ発生装置を含み、各レーザ発生装置の強度は
異なることを特徴とする請求項７に記載の方法。