JP2001147112A - 走査電子顕微鏡 - Google Patents
走査電子顕微鏡Info
- Publication number
- JP2001147112A JP2001147112A JP33164499A JP33164499A JP2001147112A JP 2001147112 A JP2001147112 A JP 2001147112A JP 33164499 A JP33164499 A JP 33164499A JP 33164499 A JP33164499 A JP 33164499A JP 2001147112 A JP2001147112 A JP 2001147112A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- sample image
- electron microscope
- scanning electron
- image
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は、このような問題点を鑑みてなされた
もので、微小な素子であるにも関わらず、離間している
が故に倍率を低くして寸法測定を行わざるを得ない対象
試料の測長を高精度に行うことを目的とするものであ
る。 【解決手段】本発明によれば、上記目的を達成するため
に第１に、電子線を試料上で走査し、当該試料で得られ
た二次信号に基づいて試料像を形成し、当該試料像に基
づいて二点間の寸法測定を行う走査電子顕微鏡におい
て、前記二点を結ぶ直線に対し、垂直な方向に前記試料
像を伸ばして形成する手段を備えたことを特徴とする走
査電子顕微鏡を提供する。
もので、微小な素子であるにも関わらず、離間している
が故に倍率を低くして寸法測定を行わざるを得ない対象
試料の測長を高精度に行うことを目的とするものであ
る。 【解決手段】本発明によれば、上記目的を達成するため
に第１に、電子線を試料上で走査し、当該試料で得られ
た二次信号に基づいて試料像を形成し、当該試料像に基
づいて二点間の寸法測定を行う走査電子顕微鏡におい
て、前記二点を結ぶ直線に対し、垂直な方向に前記試料
像を伸ばして形成する手段を備えたことを特徴とする走
査電子顕微鏡を提供する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、走査電子顕微鏡に
係り、特に離間した素子間の測長を行うのに好適な走査
電子顕微鏡に関する。
係り、特に離間した素子間の測長を行うのに好適な走査
電子顕微鏡に関する。
【０００２】
【従来の技術】走査電子顕微鏡は、電子源から発生され
収束レンズおよび対物レンズにより細く絞られた電子線
を偏向器を用いて試料上で走査し、電子線照射によって
試料から発生する二次信号（二次電子や反射電子）を二
次信号検出器により検出し、その検出信号を電子線の走
査と同期して処理することで試料像を形成する装置であ
る。
収束レンズおよび対物レンズにより細く絞られた電子線
を偏向器を用いて試料上で走査し、電子線照射によって
試料から発生する二次信号（二次電子や反射電子）を二
次信号検出器により検出し、その検出信号を電子線の走
査と同期して処理することで試料像を形成する装置であ
る。
【０００３】走査電子顕微鏡は、得られる試料像の縦方
向と横方向の像倍率がなるべく高精度に一致するように
設計されている。また、試料を傾斜して観察する場合に
は、一次ビームの走査領域の縦横倍率比が一致している
と、試料傾斜方向に対応する試料上の寸法が縮んで見え
るため、縦方向と横方向の一次ビーム走査範囲を変更し
て、傾斜した試料に対して、試料像の縦方向と横方向の
倍率が同じになるような機能（傾斜倍率補正）を設けて
いる。
向と横方向の像倍率がなるべく高精度に一致するように
設計されている。また、試料を傾斜して観察する場合に
は、一次ビームの走査領域の縦横倍率比が一致している
と、試料傾斜方向に対応する試料上の寸法が縮んで見え
るため、縦方向と横方向の一次ビーム走査範囲を変更し
て、傾斜した試料に対して、試料像の縦方向と横方向の
倍率が同じになるような機能（傾斜倍率補正）を設けて
いる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このような走査電子顕
微鏡において、離間した位置に（例えば１００μｍ）存
在する２つの微小な部位（例えば１μｍ）間の距離を測
定する場合、２つの部位が同じ画面内に入るように倍率
を設定すると、微小な部位は試料像中の極限られた領域
に点在することになる。
微鏡において、離間した位置に（例えば１００μｍ）存
在する２つの微小な部位（例えば１μｍ）間の距離を測
定する場合、２つの部位が同じ画面内に入るように倍率
を設定すると、微小な部位は試料像中の極限られた領域
に点在することになる。
【０００５】半導体素子の微細化に伴い、走査電子顕微
鏡がデバイスの寸法測定手段として用いられるようにな
って久しい。これまでは、近接するパターンのピッチや
パターン幅だけの寸法測定に走査電子顕微鏡が用いられ
ていたが、近年、デバイスの形状が複雑になるにつれ
て、寸法測定を行うべき素子が互いに離れて存在するケ
ースが考えられるようになってきた。
鏡がデバイスの寸法測定手段として用いられるようにな
って久しい。これまでは、近接するパターンのピッチや
パターン幅だけの寸法測定に走査電子顕微鏡が用いられ
ていたが、近年、デバイスの形状が複雑になるにつれ
て、寸法測定を行うべき素子が互いに離れて存在するケ
ースが考えられるようになってきた。
【０００６】例えば、横方向に微細寸法を有する複数の
被測定対象が、縦方向に互いに離れて存在し、かつ被測
定対象の縦方向の距離が横方向の微細寸法に比較して極
めて大きい状況が生まれてきた。このようなデバイス構
造の横方向の微細寸法とデバイス間の縦方向の距離を同
時に測定するには、縦横倍率の等しい従来の走査電子顕
微鏡では、距離の長い縦方向を基準に像倍率を設定し
て、試料像を得る必要がある。
被測定対象が、縦方向に互いに離れて存在し、かつ被測
定対象の縦方向の距離が横方向の微細寸法に比較して極
めて大きい状況が生まれてきた。このようなデバイス構
造の横方向の微細寸法とデバイス間の縦方向の距離を同
時に測定するには、縦横倍率の等しい従来の走査電子顕
微鏡では、距離の長い縦方向を基準に像倍率を設定し
て、試料像を得る必要がある。
【０００７】通常、試料像から被測定物の寸法を測定す
るには、試料像の測定範囲における画素数を計測し、こ
の画素数に像倍率で決まる係数を掛けて寸法に換算す
る。このとき、測定範囲における画素数が少ないと当然
のことながら、精度の高い寸法測定は望めない。上述の
例のように、縦方向と横方向の寸法が大きく異なるよう
な状況においては、測定範囲における縦方向の画素数は
十分得られるが、横方向の微細寸法範囲においては、極
わずかの画素数で画像を形成せざるを得ないため、高い
精度の寸法測定を行うことができないという問題があっ
た。
るには、試料像の測定範囲における画素数を計測し、こ
の画素数に像倍率で決まる係数を掛けて寸法に換算す
る。このとき、測定範囲における画素数が少ないと当然
のことながら、精度の高い寸法測定は望めない。上述の
例のように、縦方向と横方向の寸法が大きく異なるよう
な状況においては、測定範囲における縦方向の画素数は
十分得られるが、横方向の微細寸法範囲においては、極
わずかの画素数で画像を形成せざるを得ないため、高い
精度の寸法測定を行うことができないという問題があっ
た。
【０００８】本発明は、このような問題点を鑑みてなさ
れたもので、微小な素子であるにも関わらず、離間して
いるが故に倍率を低くして寸法測定を行わざるを得ない
対象試料の測長を高精度に行うことを目的とするもので
ある。
れたもので、微小な素子であるにも関わらず、離間して
いるが故に倍率を低くして寸法測定を行わざるを得ない
対象試料の測長を高精度に行うことを目的とするもので
ある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記目
的を達成するために第１に、電子線を試料上で走査し、
当該試料で得られた二次信号に基づいて試料像を形成
し、当該試料像に基づいて二点間の寸法測定を行う走査
電子顕微鏡において、前記二点を結ぶ直線に対し、垂直
な方向に前記試料像を伸ばして形成する手段を備えたこ
とを特徴とする走査電子顕微鏡を提供する。
的を達成するために第１に、電子線を試料上で走査し、
当該試料で得られた二次信号に基づいて試料像を形成
し、当該試料像に基づいて二点間の寸法測定を行う走査
電子顕微鏡において、前記二点を結ぶ直線に対し、垂直
な方向に前記試料像を伸ばして形成する手段を備えたこ
とを特徴とする走査電子顕微鏡を提供する。
【００１０】このような構成によれば、２つの測長対象
が離間し試料像を低倍率にせざるを得ない場合であって
も、試料像上で測長の基準となる素子の存在を明確にす
ることが可能になる。
が離間し試料像を低倍率にせざるを得ない場合であって
も、試料像上で測長の基準となる素子の存在を明確にす
ることが可能になる。
【００１１】更に、上記目的を達成するべく第２に、電
子線を試料上で走査し、当該試料で得られた二次信号に
基づいて試料像を形成する走査電子顕微鏡において、前
記試料像上で任意の縦横比を持つ矩形領域を指定する手
段と、当該矩形領域の任意の一方向を広げて表示する手
段を備えたことを特徴とする走査電子顕微鏡を提供す
る。
子線を試料上で走査し、当該試料で得られた二次信号に
基づいて試料像を形成する走査電子顕微鏡において、前
記試料像上で任意の縦横比を持つ矩形領域を指定する手
段と、当該矩形領域の任意の一方向を広げて表示する手
段を備えたことを特徴とする走査電子顕微鏡を提供す
る。
【００１２】このような構成によれば、オペレータは測
長を実施すべき２つの素子を含むように上記矩形領域を
設定することによって、測長の基準となる素子を一画面
上に配置しつつ、当該素子を試料像上で明確にすること
ができる。
長を実施すべき２つの素子を含むように上記矩形領域を
設定することによって、測長の基準となる素子を一画面
上に配置しつつ、当該素子を試料像上で明確にすること
ができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】図１は本発明の一実施例の概略断
面図である。陰極１と第一陽極２の間には、マイクロプ
ロセッサ（ＣＰＵ）３０で制御される高電圧制御電源２
２により電圧が印加され、所定のエミッション電流が陰
極１から引き出される。陰極１と第二陽極３の間にはＣ
ＰＵ３０で制御される高電圧制御電源２２により加速電
圧が印加されるため、陰極１から放出された一次電子線
４は加速されて後段のレンズ系に進行する。一次電子線
４は、レンズ制御電源２３で制御された収束レンズ５で
収束され、絞り板９で一次電子線４の不要な領域が除去
される。その後、対物レンズ制御電源２４で制御された
対物レンズ７により試料８に微小スポットとして収束さ
れ、偏向コイル１１で試料上を二次元的に走査される。
偏向コイル１１の走査信号は、観察倍率に応じて偏向コ
イル制御電源２５により制御される。また、試料８は二
次元的に移動可能で、一次電子線４に対し傾斜可能なス
テージ５上に固定されている。ステージ５はステージ制
御電源２６により移動が制御される。一次電子線４の照
射によって試料８から発生した二次電子１０は二次電子
検出器６により検出され、その検出信号を一次電子線４
の走査と同期してＣＰＵ３０にて処理し、像表示装置１
２に試料像１４ａとして表示する。
面図である。陰極１と第一陽極２の間には、マイクロプ
ロセッサ（ＣＰＵ）３０で制御される高電圧制御電源２
２により電圧が印加され、所定のエミッション電流が陰
極１から引き出される。陰極１と第二陽極３の間にはＣ
ＰＵ３０で制御される高電圧制御電源２２により加速電
圧が印加されるため、陰極１から放出された一次電子線
４は加速されて後段のレンズ系に進行する。一次電子線
４は、レンズ制御電源２３で制御された収束レンズ５で
収束され、絞り板９で一次電子線４の不要な領域が除去
される。その後、対物レンズ制御電源２４で制御された
対物レンズ７により試料８に微小スポットとして収束さ
れ、偏向コイル１１で試料上を二次元的に走査される。
偏向コイル１１の走査信号は、観察倍率に応じて偏向コ
イル制御電源２５により制御される。また、試料８は二
次元的に移動可能で、一次電子線４に対し傾斜可能なス
テージ５上に固定されている。ステージ５はステージ制
御電源２６により移動が制御される。一次電子線４の照
射によって試料８から発生した二次電子１０は二次電子
検出器６により検出され、その検出信号を一次電子線４
の走査と同期してＣＰＵ３０にて処理し、像表示装置１
２に試料像１４ａとして表示する。
【００１４】図２（ａ）は像表示装置１２のＣＲＴ画面
１３を示した一例である。ＣＲＴ画面１３に表示された
試料像１４ａにおいて、距離の測定を行いたい部位１６
ａと１６ｂは、両方がＣＲＴ画面１３内に入る像倍率で
は小さくなってしまってわかりにくい。そこで、画像範
囲１５を選択し、偏向コイル制御電源２５により偏向コ
イル１１の走査信号を制御して画像範囲１５に対応する
試料８上に一次電子線４を走査させると、図２（ｂ）に
示されるような、試料像１４ａの縦方向が拡大された試
料像１４ｂが得られる。この試料像１４ｂにより、部位
１６ａと１６ｂの距離を測定することで、試料像１４ａ
にて測定するよりも、より精度の良い測定を行うことが
できる。また本実施例の構成によれば、測長とは関係の
ない素子を測長対象として取り違えるような事態を防ぐ
ことができる。
１３を示した一例である。ＣＲＴ画面１３に表示された
試料像１４ａにおいて、距離の測定を行いたい部位１６
ａと１６ｂは、両方がＣＲＴ画面１３内に入る像倍率で
は小さくなってしまってわかりにくい。そこで、画像範
囲１５を選択し、偏向コイル制御電源２５により偏向コ
イル１１の走査信号を制御して画像範囲１５に対応する
試料８上に一次電子線４を走査させると、図２（ｂ）に
示されるような、試料像１４ａの縦方向が拡大された試
料像１４ｂが得られる。この試料像１４ｂにより、部位
１６ａと１６ｂの距離を測定することで、試料像１４ａ
にて測定するよりも、より精度の良い測定を行うことが
できる。また本実施例の構成によれば、測長とは関係の
ない素子を測長対象として取り違えるような事態を防ぐ
ことができる。
【００１５】ここで、画像範囲１５の選択は自動で行っ
ても良い。試料像１４ａにおいて測定部位１６ａと１６
ｂの近傍に形状が特徴的なパターン４０が存在している
ような場合、パターン４０を画像パターン４１として図
３のように抜き出して予め登録する。画像パターン４１
と共に画像パターン４１に対応する測定個所１６ａ，１
６ｂと測定個所を含むような画像範囲１５を登録してお
く。試料像１４ａを取得した後、試料像１４ａにおいて
画像パターン４１を用いパターン認識を行い、試料像１
４ａにおける画像範囲１５を自動で選択することができ
る。画像範囲１５を選択した後、偏向コイル制御電源２
５により偏向コイル１１の走査信号を制御して画像範囲
１５に対応する試料８上に一次電子線４を走査させ、図
２(ｂ)に示されるような試料像１４ｂを得ることができ
る。
ても良い。試料像１４ａにおいて測定部位１６ａと１６
ｂの近傍に形状が特徴的なパターン４０が存在している
ような場合、パターン４０を画像パターン４１として図
３のように抜き出して予め登録する。画像パターン４１
と共に画像パターン４１に対応する測定個所１６ａ，１
６ｂと測定個所を含むような画像範囲１５を登録してお
く。試料像１４ａを取得した後、試料像１４ａにおいて
画像パターン４１を用いパターン認識を行い、試料像１
４ａにおける画像範囲１５を自動で選択することができ
る。画像範囲１５を選択した後、偏向コイル制御電源２
５により偏向コイル１１の走査信号を制御して画像範囲
１５に対応する試料８上に一次電子線４を走査させ、図
２(ｂ)に示されるような試料像１４ｂを得ることができ
る。
【００１６】試料像１４ａが図４（ａ）に示されるよう
に、細く長いパターン１７の幅を測定したい場合には、
画像選択範囲１５を縦に長い長方形として試料像１４ｂ
を取得し、図４（ｂ）に示されるように、横方向が拡大
された試料像１４ｂにて測定を行うことで、精度良く測
定できる。
に、細く長いパターン１７の幅を測定したい場合には、
画像選択範囲１５を縦に長い長方形として試料像１４ｂ
を取得し、図４（ｂ）に示されるように、横方向が拡大
された試料像１４ｂにて測定を行うことで、精度良く測
定できる。
【００１７】寸法の測定は、２本の垂直カーソル線１８
を表示させ、測定したい場所へ移動することで試料像１
４ｂの横方向の像倍率より、測定値２１をＣＲＴ画面１
３へ表示させる。
を表示させ、測定したい場所へ移動することで試料像１
４ｂの横方向の像倍率より、測定値２１をＣＲＴ画面１
３へ表示させる。
【００１８】更に図４に示すようなパターンの場合、エ
ッジラフネスが局所的に形成されている場合があるの
で、画像選択範囲１５をパターン１７の長手方向にでき
るだけ大きく設定することで、局所的なエッジラフネス
に基づく測長誤差を低減することができる。また反対に
パターン１７に対し、画像選択範囲１５を局所的に設定
することによって、当該部分の正確な測長を行うことも
可能になる。
ッジラフネスが局所的に形成されている場合があるの
で、画像選択範囲１５をパターン１７の長手方向にでき
るだけ大きく設定することで、局所的なエッジラフネス
に基づく測長誤差を低減することができる。また反対に
パターン１７に対し、画像選択範囲１５を局所的に設定
することによって、当該部分の正確な測長を行うことも
可能になる。
【００１９】また、図５に示すように、２本の水平カー
ソル線１９に挟まれた区間の水平方向の信号強度のプロ
ファイルを垂直方向に加算平均を行ったプロファイル２
０を表示させ、そのプロファイル２０から測定範囲を検
出し、測定値２１をＣＲＴ画面１３に表示させても良
い。このような表示を行うことによって、測長範囲の選
択が適当であったか否かの判断が容易になる。
ソル線１９に挟まれた区間の水平方向の信号強度のプロ
ファイルを垂直方向に加算平均を行ったプロファイル２
０を表示させ、そのプロファイル２０から測定範囲を検
出し、測定値２１をＣＲＴ画面１３に表示させても良
い。このような表示を行うことによって、測長範囲の選
択が適当であったか否かの判断が容易になる。
【００２０】さらに、図６に示すように、任意の個所の
測定を行い、その測定値の平均を寸法の測定値としてＣ
ＲＴ画面１３に表示させても良い。
測定を行い、その測定値の平均を寸法の測定値としてＣ
ＲＴ画面１３に表示させても良い。
【００２１】図７は、測定を行う画像範囲１５を選択
し、測定値２１をＣＲＴ画面１３に表示させる手順を示
すフローチャートである。図に示すように、ステップ１
０において試料像１４ａ上にて画像範囲１５を選択し、
ステップ１１において選択した画像範囲１５の試料８に
対応する位置および大きさを計算する。
し、測定値２１をＣＲＴ画面１３に表示させる手順を示
すフローチャートである。図に示すように、ステップ１
０において試料像１４ａ上にて画像範囲１５を選択し、
ステップ１１において選択した画像範囲１５の試料８に
対応する位置および大きさを計算する。
【００２２】ステップ１２にて計算された試料８上の範
囲に一次電子線４を走査させるように偏向コイル制御電
源２５にとり偏向コイル１１の走査信号を制御して、ス
テップ１３にて画像選択範囲１５の試料像１４ｂを取得
する。
囲に一次電子線４を走査させるように偏向コイル制御電
源２５にとり偏向コイル１１の走査信号を制御して、ス
テップ１３にて画像選択範囲１５の試料像１４ｂを取得
する。
【００２３】ステップ１４では測定する場所の指定方法
を選択し、任意の点を指定する場合はステップ１５にて
測定点の指定を行い、ステップ２０にて指定された点間
の試料８上の寸法を計算する。
を選択し、任意の点を指定する場合はステップ１５にて
測定点の指定を行い、ステップ２０にて指定された点間
の試料８上の寸法を計算する。
【００２４】ステップ１４にて範囲を指定する場合に
は、ステップ１６にて水平カーソル１９を用い測定範囲
の指定を行い、ステップ１７において測定範囲のプロフ
ァイル２０の取得を行う。ステップ１８にて得られたプ
ロファイル２０から寸法測定範囲を検出し、ステップ２
０にて検出した寸法測定範囲の寸法を計算する。
は、ステップ１６にて水平カーソル１９を用い測定範囲
の指定を行い、ステップ１７において測定範囲のプロフ
ァイル２０の取得を行う。ステップ１８にて得られたプ
ロファイル２０から寸法測定範囲を検出し、ステップ２
０にて検出した寸法測定範囲の寸法を計算する。
【００２５】ステップ１４にてカーソルを用いて指定す
る場合には、ステップ１９にて測定する場所をカーソル
にて指定し、ステップ２０にて指定したカーソル間の試
料８上の寸法を計算する。
る場合には、ステップ１９にて測定する場所をカーソル
にて指定し、ステップ２０にて指定したカーソル間の試
料８上の寸法を計算する。
【００２６】ステップ２１では、ステップ２０にて計算
された測定値２１をＣＲＴ画面１３へ表示させる。
された測定値２１をＣＲＴ画面１３へ表示させる。
【００２７】ステップ１０における画像範囲１５の選択
を自動にて行う場合の手順をフローチャートにしたもの
を図８に示す。ステップ１０１において、予め特徴的な
画像パターン４１と画像パターン４１に対応する測定個
所と画像範囲１５を登録する。ステップ１０２にて測定
個所近傍の試料像１４ａを取得する。ステップ１０３で
は、取得した試料像１４ａにおいて画像パターン４１に
よるパターン認識を行う。
を自動にて行う場合の手順をフローチャートにしたもの
を図８に示す。ステップ１０１において、予め特徴的な
画像パターン４１と画像パターン４１に対応する測定個
所と画像範囲１５を登録する。ステップ１０２にて測定
個所近傍の試料像１４ａを取得する。ステップ１０３で
は、取得した試料像１４ａにおいて画像パターン４１に
よるパターン認識を行う。
【００２８】ステップ１０４にてステップ１０３におけ
るパターン認識により取得した試料像１４ａに画像パタ
ーン４１は存在していたかどうかを判断し、存在してい
ると判断した場合はステップ１０５へ進む。
るパターン認識により取得した試料像１４ａに画像パタ
ーン４１は存在していたかどうかを判断し、存在してい
ると判断した場合はステップ１０５へ進む。
【００２９】ステップ１０５にて画像パターン４１に対
応した画像範囲１５を選択し、図７のステップ１１へ進
む。
応した画像範囲１５を選択し、図７のステップ１１へ進
む。
【００３０】ステップ１０４にて存在しないと判断した
場合には、ステップ１０６へ進み、エラーメッセージを
表示させる。
場合には、ステップ１０６へ進み、エラーメッセージを
表示させる。
【００３１】
【発明の効果】本発明によれば、縦横の像倍率を変化さ
せた試料像において寸法の測定を行うことができるの
で、寸法測定の像倍率では見えにくい部分を拡大し、精
度良く寸法の測定ができる効果がある。
せた試料像において寸法の測定を行うことができるの
で、寸法測定の像倍率では見えにくい部分を拡大し、精
度良く寸法の測定ができる効果がある。
【図１】本発明の一実施例を示す概略断面図。
【図２】図１における像表示装置のＣＲＴ画面の一実施
例を示す概略図。
例を示す概略図。
【図３】登録された画像パターンを示す図。
【図４】図１における像表示装置のＣＲＴ画面の他の実
施例を示す概略図。
施例を示す概略図。
【図５】図１における像表示装置のＣＲＴ画面の他の実
施例を示す概略図。
施例を示す概略図。
【図６】図１における像表示装置のＣＲＴ画面の他の実
施例を示す概略図。
施例を示す概略図。
【図７】画像範囲を選択し測定値を表示させる手順を示
すフローチャート。
すフローチャート。
【図８】画像範囲の選択を自動にて行う手順を示すフロ
ーチャート。
ーチャート。
１…陰極、２…第一陽極、３…第二陽極、４…一次電子
線、５…収束レンズ、６…二次電子検出器、７…対物レ
ンズ、８…試料、９…絞り板、１０…二次電子、１１…
偏向コイル、１２…像表示装置、１３…ＣＲＴ画面、１
４ａ…試料像、１４ｂ…選択範囲の試料像、１５…画像
選択範囲、１６ａ，１６ｂ…測定部位、１７…測定パタ
ーン、１８…垂直カーソル線、１９…水平カーソル線、
２０…プロファイル、２１…測定値、２２…高電圧制御
電源、２３…収束レンズ制御電源、２４…対物レンズ制
御電源、２５…偏向コイル制御電源、２６…ステージ制
御電源、３０…制御ＣＰＵ、４０…特徴的なパターン、
４１…画像パターン。
線、５…収束レンズ、６…二次電子検出器、７…対物レ
ンズ、８…試料、９…絞り板、１０…二次電子、１１…
偏向コイル、１２…像表示装置、１３…ＣＲＴ画面、１
４ａ…試料像、１４ｂ…選択範囲の試料像、１５…画像
選択範囲、１６ａ，１６ｂ…測定部位、１７…測定パタ
ーン、１８…垂直カーソル線、１９…水平カーソル線、
２０…プロファイル、２１…測定値、２２…高電圧制御
電源、２３…収束レンズ制御電源、２４…対物レンズ制
御電源、２５…偏向コイル制御電源、２６…ステージ制
御電源、３０…制御ＣＰＵ、４０…特徴的なパターン、
４１…画像パターン。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 熊田 隆雄 茨城県ひたちなか市大字市毛882番地 株 式会社日立製作所計測器グループ内 Ｆターム(参考） 2F067 AA21 AA25 HH06 JJ05 KK04 LL00 QQ02 RR27 RR28 RR35 RR37
Claims (9)
- 【請求項１】電子線を試料上で走査し、当該試料で得ら
れた二次信号に基づいて試料像を形成し、当該試料像に
基づいて二点間の寸法測定を行う走査電子顕微鏡におい
て、前記二点を結ぶ直線に対し、垂直な方向に前記試料
像を伸ばして形成する手段を備えたことを特徴とする走
査電子顕微鏡。 - 【請求項２】請求項１において、 前記試料像を伸ばして形成する手段は、前記試料像上で
任意の矩形領域を指定する手段と、前記指定領域の縦横
比を変えて表示する手段を含むことを特徴とする走査電
子顕微鏡。 - 【請求項３】請求項１において、 前記試料像上に、２以上のカーソルを重畳させる手段
と、当該カーソルを前記試料像上で移動させる手段と、
当該カーソルの指定位置に基づいて前記二点間の寸法を
測定する手段を備えたことを特徴とする走査電子顕微
鏡。 - 【請求項４】請求項１において、 前記カーソルを横切る方向の信号強度に基づいて複数の
ラインプロファイルを取得する手段を備え、当該手段に
よって取得された複数のラインプロファイルを加算平均
する手段を備えたことを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 【請求項５】電子線を試料上で走査し、当該試料で得ら
れた二次信号に基づいて試料像を形成する走査電子顕微
鏡において、前記試料像上で任意の縦横比を持つ矩形領
域を指定する指定手段と、当該矩形領域の任意の一方向
を広げて表示する手段を備えたことを特徴とする走査電
子顕微鏡。 - 【請求項６】請求項５において、 前記指定される矩形領域に基づいて、前記試料に対する
前記電子線の走査領域が決定されることを特徴とする走
査電子顕微鏡。 - 【請求項７】請求項５において、 前記試料像上に、２以上のカーソルを重畳させる手段
と、当該カーソルを前記試料像上で移動させる手段と、
当該カーソルの指定位置に基づいて前記二点間の寸法を
測定する手段を備えたことを特徴とする走査電子顕微
鏡。 - 【請求項８】請求項５において、 前記試料像上に２以上のカーソルを重畳する手段と、当
該２つのカーソル間の信号強度のラインプロファイルを
複数取得する手段と、当該複数のラインプロファイルを
加算平均して、前記２つのカーソル間の寸法を測長する
手段を備えたことを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 【請求項９】請求項５において、 前記試料を傾斜する手段と、当該手段の傾斜角を入力す
る手段と、当該入力手段により入力された傾斜角度と前
記指定手段によって指定された試料像情報に基づいて、
前記試料上の寸法を測定することを特徴とする走査電子
顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33164499A JP2001147112A (ja) | 1999-11-22 | 1999-11-22 | 走査電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33164499A JP2001147112A (ja) | 1999-11-22 | 1999-11-22 | 走査電子顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001147112A true JP2001147112A (ja) | 2001-05-29 |
Family
ID=18245979
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33164499A Pending JP2001147112A (ja) | 1999-11-22 | 1999-11-22 | 走査電子顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001147112A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003021186A1 (fr) * | 2001-08-29 | 2003-03-13 | Hitachi, Ltd. | Procede pour mesurer les dimensions d'un echantillon et microscope electronique a balayage |
| US7045782B2 (en) | 2003-12-15 | 2006-05-16 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method of measurement accuracy improvement by control of pattern shrinkage |
| JP2006138864A (ja) * | 2001-08-29 | 2006-06-01 | Hitachi Ltd | 試料寸法測定方法及び走査型電子顕微鏡 |
| JP2007003535A (ja) * | 2001-08-29 | 2007-01-11 | Hitachi Ltd | 試料寸法測定方法及び走査型電子顕微鏡 |
-
1999
- 1999-11-22 JP JP33164499A patent/JP2001147112A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003021186A1 (fr) * | 2001-08-29 | 2003-03-13 | Hitachi, Ltd. | Procede pour mesurer les dimensions d'un echantillon et microscope electronique a balayage |
| JP2006138864A (ja) * | 2001-08-29 | 2006-06-01 | Hitachi Ltd | 試料寸法測定方法及び走査型電子顕微鏡 |
| JP2007003535A (ja) * | 2001-08-29 | 2007-01-11 | Hitachi Ltd | 試料寸法測定方法及び走査型電子顕微鏡 |
| US7659508B2 (en) | 2001-08-29 | 2010-02-09 | Hitachi, Ltd. | Method for measuring dimensions of sample and scanning electron microscope |
| US8080789B2 (en) | 2001-08-29 | 2011-12-20 | Hitachi, Ltd. | Sample dimension measuring method and scanning electron microscope |
| US7045782B2 (en) | 2003-12-15 | 2006-05-16 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method of measurement accuracy improvement by control of pattern shrinkage |
| US7288763B2 (en) | 2003-12-15 | 2007-10-30 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method of measurement accuracy improvement by control of pattern shrinkage |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8304722B2 (en) | Charged particle beam equipment and charged particle microscopy | |
| US20050151078A1 (en) | Method for determining depression/protrusion of sample and charged particle beam apparatus therefor | |
| US10984981B2 (en) | Charged particle beam device having inspection scan direction based on scan with smaller dose | |
| US7288763B2 (en) | Method of measurement accuracy improvement by control of pattern shrinkage | |
| JP2005209488A (ja) | 荷電粒子線装置および倍率計測法 | |
| JP2006107919A (ja) | 荷電粒子線装置および寸法測定方法 | |
| JP6850234B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
| CN108573844A (zh) | 聚焦离子束装置的控制方法以及控制程序 | |
| JP2001147112A (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
| JP2001210263A (ja) | 走査電子顕微鏡、そのダイナミックフォーカス制御方法および半導体デバイスの表面および断面形状の把握方法 | |
| US8872106B2 (en) | Pattern measuring apparatus | |
| JP2005005055A (ja) | 試料の高さ情報取得方法 | |
| US10755890B2 (en) | Charged particle beam apparatus | |
| JP2008216198A (ja) | 試料観察条件設定方法及び装置、並びに試料観察方法及び装置 | |
| JP2010272398A (ja) | 荷電粒子線応用装置 | |
| US6930317B2 (en) | Charged particle beam apparatus, charged particle beam irradiation method, and method of manufacturing semiconductor device | |
| JP3488707B2 (ja) | パターン寸法測定装置 | |
| JPS63266747A (ja) | 試料像表示装置 | |
| JP4431624B2 (ja) | 荷電粒子線調整方法、及び荷電粒子線装置 | |
| JP2006107870A (ja) | 分析走査電子顕微鏡 | |
| JP2000260379A (ja) | 走査形電子顕微鏡 | |
| JPH1083782A (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
| JPH0963937A (ja) | 荷電ビーム描画装置 | |
| JPH07254387A (ja) | 走査型荷電粒子線顕微鏡 | |
| JPH05128989A (ja) | 立体像観察用走査電子顕微鏡 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20060417 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060602 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071004 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071106 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080107 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20081007 |