JP2001141775A - 半導体試験装置、半導体試験方法および記録媒体 - Google Patents

半導体試験装置、半導体試験方法および記録媒体

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JP2001141775A JP32110599A JP32110599A JP2001141775A JP 2001141775 A JP2001141775 A JP 2001141775A JP 32110599 A JP32110599 A JP 32110599A JP 32110599 A JP32110599 A JP 32110599A JP 2001141775 A JP2001141775 A JP 2001141775A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 故障検出率が高く、かつ、スループットに優
れた半導体試験装置、半導体試験方法および記録媒体を
提供する。 【解決手段】 データ読込み部10と測定ポイント決定
部20とIddQ測定部30とを備える半導体試験装置
1を用い、テストベクタ毎に良品および不良品の各サン
プルについて電流値を測定してテストベクタ対毎に電流
値変化率を算出し、不良品の電流値変化率のうち良品の
電流値変化率の範囲内にあるものに対応するテストベク
タを量産テスト用のテストベクタからまず除外する。次
に、良品の電流値変化率に基づいて良否判定基準範囲L
を算出し、この良否判定基準範囲Lと不良品の電流値変
化率と比較し、より多く不良品の検出が見込めるテスト
ベクタ対を選出する。選出されたテストベクタ対と良否
判定基準範囲Lに基づいて量産テストを実行し、良否判
定基準範囲Lに含まれない電流値変化率が得られた被試
験体を不良品として検出する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体の試験装
置、試験方法および記録媒体に関し、特に、実装後の半
導体装置の静止電源電流を測定してその良否を判定する
IddQテスト(Idd Quiescent power current test)
を対象とする。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体デバイスの微細化に伴い、
1チップ内に膨大な規模の回路が形成されるようになっ
てきている。このように複雑化したデバイスで不良が発
生するとこれを検知することは大変困難なことである。
特に、故障を検出するためのテストパターンであるテス
トベクタの作成においては、人手により、または自動テ
ストパターン生成ツール(ATPG)により作成する場
合でも、検出率の高いテストベクタを作成することは大
変な労力と時間が必要である。既存のテストベクタを使
用して、さらに高い故障検出率を得るテスト手法として
IddQテストが注目されている。
【0003】従来、IddQ測定を行うための測定ポイ
ントは、既存のテストベクタを用いる場合は、回路設計
者の判断により回路内で適当と思われる測定ポイントを
選択し、これに対応するテストベクタを採用していた。
また、最近行われている有効な方法としては、市販のI
ddQ測定ポイント抽出ツールを用いて行っていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年の
複雑化した半導体集積回路において、回路設計者の判断
でIddQ測定において適当と思われるポイントを選択
することは、非常に困難であり、推測により選択した測
定ポイントが故障の検出にあたって必ずしも有効なもの
ではなかった。その結果、本来有効な測定ポイントを見
逃し、あまり検出効果がない測定ポイントでの測定を行
うことに時間が費やされていた。また、市販のIddQ
測定ポイント抽出ツールを用いるためには、ツールを実
行するための環境を整備することが必要である。即ち、
まずツールを準備する必要があり、ツールをインストー
ルするためのマシン・ディスクが必要であり、さらに、
回路やパターン等の情報をツール実行用のフォーマット
に変換する必要があった。このツール実行用のフォーマ
ット変換には特に多くの作業が必要であり、そのための
専用ツールを開発する必要すら生じている。この一方、
市販のIddQ測定ポイント抽出ツールは、コンピュー
タ上でシミュレーションを実行した結果、有効であると
推測した測定ポイントを抽出しているにすぎない。この
ため、抽出した測定ポイントの全てが実際に有効である
とは言えない。実際の量産を経た後に問題となる不良品
は、現象および不良の原因と考えられる回路部分が限定
されることが多い。これに対して、上述したコンピュー
タシミュレーションにより抽出された測定ポイントは、
回路全体を対象とした測定が条件となっているため、既
に故障部分が限定された不良品を判別するためには、必
要のない測定ポイントか含まれており、IddQ測定に
おいて無駄な時間を費やしていた。また、IddQ測定
による不良品の判断基準としては電流値が用いられ、あ
る基準となる電流値を判定基準電流値として、これを超
える値のサンプルを不良品として判別し、それ以外は良
品と判断していた。このため、故障の現象が電流的傾向
(電流値変化率)の異常として現れるサンプルであって
も、各測定ポイントにおける電流値が上記判定基準値を
超えないものであれば良品と判断され、不良の検出が見
逃されていた。
【0005】本発明は上記事情に鑑みてなされたもので
あり、その目的は、故障検出率が高く、かつ、スループ
ットに優れた半導体試験装置、半導体試験方法および記
録媒体を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本願発明者は、複数の測
定ポイントで測定した電流値についてその測定ポイント
間での変化率が良品と不良品とで異なる点に着目し、以
下の手段により上記課題の解決を図る半導体試験装置、
半導体試験方法および記録媒体を案出した。
【0007】即ち、本発明によれば、第1の数量のテス
トベクタを含む測定用データを読込む読込み手段と、半
導体装置に上記テストベクタを入力し、上記半導体装置
から出力される電流値を上記テストベクタのアドレスに
対応づけて測定する測定手段と、2つの異なる上記アド
レスをアドレス対としてこのアドレス対に対応する2つ
の上記電流値相互間の電流値変化率を上記アドレス対毎
にそれぞれ算出する演算手段と、良品サンプルに上記第
1の数量のテストベクタを入力して得られた第1の電流
値変化率に基づいて被試験体である半導体装置の良否を
判定する基準となる良否判定基準範囲を決定する決定手
段と、被試験体に上記テストベクタを入力して得られた
第2の電流値変化率と上記良否判定基準範囲とを上記ア
ドレス対毎に比較し、この比較結果に基づいて上記被試
験体が良品であるか不良品であるかを判定する判定手段
と、を備える半導体試験装置が提供される。
【0008】上記半導体試験装置によれば、良品サンプ
ルから得られた第1の電流値変化率に基づいて良否判定
基準範囲が決定され、この良否判定基準範囲と被試験体
から得られた第2の電流値変化率とを比較するので、従
来の試験装置では検出できなかった不良品を検出するこ
とができる。
【0009】上記決定手段は、複数の良品サンプルにつ
いて得られた複数の上記第1の電流値変化率に基づいて
上記良否判定基準範囲を決定することが望ましい。
【0010】上記決定手段は、複数の上記第1の電流値
変化率について上記アドレス対毎に最大値と最小値を抽
出し、これに基づいて良品変化率範囲を上記アドレス対
毎に決定する。さらに、上記決定手段は、上記良品変化
率範囲に所定の誤差を考慮することにより上記良否判定
基準範囲を決定する。
【0011】また、上記決定手段は、不良品サンプルに
上記第1の数量のテストベクタを入力して得られた第3
の電流値変化率と上記良否判定基準範囲とを上記アドレ
ス対毎に比較し、上記良否判定基準範囲の範囲外となる
上記第3の電流値変化率に対応する上記アドレス対を上
記第1の数量のテストベクタのアドレス対から抽出し
て、第1の組合わせのアドレス対群として決定する測定
範囲決定手段を含み、上記測定手段は、上記被試験体に
上記第1の組合わせのアドレス対群に対応する上記テス
トベクタを入力することが好ましい。
【0012】これにより、故障検出の見込みが極めて小
さいアドレスを量産用のアドレスから除外することがで
きる。この結果、実質的に有効な測定ポイントに対応す
るテストベクタを抽出することができる。
【0013】上記測定範囲決定手段は、複数の不良品サ
ンプルについて得られた複数の上記第3の電流値変化率
と上記良否判定基準範囲とを上記アドレス対毎に比較
し、上記良否判定基準範囲の範囲外となる上記第3の電
流値変化率が得られた上記不良品サンプルの数量に応じ
て上記被試験体に入力すべき第2の組合わせのアドレス
対群を上記第1の組合わせのアドレス対群から選出する
とさらに良い。
【0014】これにより、量産テストに用いるテストベ
クタを検出効率の高い順から選定することができる。こ
の結果、測定ポイントを要求仕様に応じてさらに絞り込
むことができる。
【0015】また、本発明によれば、良品サンプルであ
る第1の半導体装置に第1の数量のテストベクタを入力
し、上記良品サンプルから出力される電流値を上記テス
トベクタのアドレスに対応づけて測定し、第1の電流値
として出力する工程と、2つの異なる上記アドレスをア
ドレス対としてこのアドレス対に対応する2つの上記第
1の電流値相互間の変化率を上記アドレス対毎にそれぞ
れ算出し、第1の電流値変化率として出力する工程と、
上記第1の電流値変化率に基づいて良否判定の基準とな
る良否判定基準範囲を上記アドレス対毎に決定する工程
と、被試験体である第2の半導体装置に上記第1の数量
のテストベクタを入力して上記第2の半導体装置から出
力される電流値を上記アドレスに対応づけて測定し、第
2の電流値として出力する工程と、上記アドレス対に対
応する2つの上記第2の電流値相互間の変化率を上記ア
ドレス対毎にそれぞれ算出し、第2の電流値変化率とし
て出力する工程と、上記第2の電流値変化率と上記良否
判定基準範囲とを上記アドレス対毎に比較し、この比較
結果に基づいて上記第2の半導体装置が良品であるか不
良品であるかを判定する工程と、を備える半導体試験方
法が提供される。
【0016】上記半導体試験方法において、上記第1の
半導体装置は、複数の良品サンプルでなり、上記第1の
電流値と上記第1の電流値変化率は、上記良品サンプル
毎に出力され、上記良否判定基準範囲は、複数の上記第
1の電流値変化率に基づいて決定されることが望まし
い。
【0017】また、上記半導体試験方法においては、不
良品サンプルである第3の半導体装置に上記第1の数量
の上記テストベクタを入力し、上記第3の半導体装置か
ら出力される電流値を上記アドレスに対応づけて測定し
て第3の電流値として出力する工程と、上記アドレス対
に対応する2つの上記第3の電流値相互間の変化率を上
記アドレス対毎にそれぞれ算出し、第3の電流値変化率
として出力する工程と、上記第3の電流値変化率と上記
良否判定基準範囲とを上記アドレス対毎に比較し、上記
良否判定基準範囲の範囲外となる上記第3の電流値変化
率に対応する上記アドレス対を第1の組合わせのアドレ
ス対として上記第1の数量でなる上記アドレスから抽出
する工程と、さらに備え、上記第2の電流値を測定する
工程は、抽出された上記第1の組合わせのアドレス対に
対応する上記テストベクタを上記第2の半導体装置に入
力して測定する工程であると好適である。
【0018】また、上記第3の半導体装置は、複数の不
良品サンプルでなり、上記第3の電流値と、上記第3の
電流値変化率は、上記不良品サンプル毎に出力され、複
数の上記不良品サンプルについて得られた上記第3の電
流値変化率と上記良否判定基準範囲とを上記アドレス対
毎に比較する工程と、上記良否判定基準範囲の範囲外と
なる上記第3の電流値変化率が得られた上記不良品サン
プルの数量に応じて上記第1の組合わせのアドレス対か
ら第2の組合わせのアドレス対を選出する工程と、をさ
らに備え、上記第2の電流値を測定する工程は、上記第
2の組合わせのアドレス対に対応する上記テストベクタ
を上記第2の半導体装置に入力して測定する工程である
と良い。
【0019】また、本発明によれば、テストベクタを含
む測定用データを読込む読込み手段と、半導体装置に上
記テストベクタを入力し上記半導体装置から出力される
電流値を測定する測定手段と、上記電流値に基づいて上
記被試験体が良品であるか不良品であるかを判定する判
定手段と、を備える半導体テストシステムに用いられ、
良品サンプルである第1の半導体装置に第1の数量のテ
ストベクタを入力し、上記良品サンプルから出力される
電流値を上記テストベクタのアドレスに対応づけて測定
し、第1の電流値として出力する手順と、2つの異なる
上記アドレスをアドレス対としてこのアドレス対に対応
する2つの上記第1の電流値相互間の変化率を上記アド
レス対毎にそれぞれ算出し、第1の電流値変化率として
出力する手順と、上記第1の電流値変化率に基づいて良
否判定の基準となる良否判定基準範囲を上記アドレス対
毎に決定する手順と、被試験体である第2の半導体装置
に上記第1の数量のテストベクタを入力して上記第2の
半導体装置から出力される電流値を上記アドレスに対応
づけて測定し、第2の電流値として出力する手順と、上
記アドレス対に対応する2つの上記第2の電流値相互間
の変化率を上記アドレス対毎にそれぞれ算出し、第2の
電流値変化率として出力する手順と、上記第2の電流値
変化率と上記良否判定基準範囲とを上記アドレス対毎に
比較し、この比較結果に基づいて上記第2の半導体装置
が良品であるか不良品であるかを判定する手順と、を含
む半導体試験方法をコンピュータに実行させるプログラ
ムを記録したコンピュータ読取り可能な記録媒体が提供
される。
【0020】本発明にかかる記録媒体によれば、汎用の
コンピュータを有する半導体試験装置を用いて、スルー
プットに優れかつ従来の試験方法では検出できなかった
不良品を検出できる上述の半導体試験方法を実施するこ
とができる。
【0021】上記半導体試験方法において、上記第1の
半導体装置は、複数の良品サンプルでなり、上記第1の
電流値と上記第1の電流値変化率は、上記良品サンプル
毎に出力され、上記良否判定基準範囲は、複数の上記第
1の電流値変化率に基づいて決定されることが望まし
い。
【0022】また、上記半導体試験方法においては、不
良品サンプルである第3の半導体装置に上記第1の数量
の上記テストベクタを入力し、上記第3の半導体装置か
ら出力される電流値を上記アドレスに対応づけて測定し
て第3の電流値として出力する手順と、上記アドレス対
に対応する2つの上記第3の電流値相互間の変化率を上
記アドレス対毎にそれぞれ算出し、第3の電流値変化率
として出力する手順と、上記第3の電流値変化率と上記
良否判定基準範囲とを上記アドレス対毎に比較し、上記
良否判定基準範囲の範囲外となる上記第3の電流値変化
率に対応する上記アドレス対を第1の組合わせのアドレ
ス対として上記第1の数量でなる上記アドレスから抽出
する手順と、がさらに含まれ、上記第2の電流値を測定
する手順は、抽出された上記第1の組合わせのアドレス
対に対応する上記テストベクタを上記第2の半導体装置
に入力して測定する手順であると好適である。
【0023】また、上記第3の半導体装置は、複数の不
良品サンプルでなり、上記第3の電流値と上記第3の電
流値変化率は、上記不良品サンプル毎に出力され、上記
半導体試験方法には、複数の上記不良品サンプルについ
て得られた上記第3の電流値変化率と上記良否判定基準
範囲とを上記アドレス対毎に比較する手順と、上記良否
判定基準範囲の範囲外となる上記第3の電流値変化率が
得られた上記不良品サンプルの数量に応じて上記第1の
組合わせのアドレス対から第2の組合わせのアドレス対
を選出する手順と、がさらに含まれ、上記第2の電流値
を測定する手順は、上記第2の組合わせのアドレス対に
対応する上記テストベクタを上記第2の半導体装置に入
力して測定する手順であるとさらに良い。
【0024】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態のいくつ
かを試験方法、試験装置、および記録媒体の順で詳細に
説明する。
【0025】(1)半導体試験方法の実施の一形態 本発明にかかる半導体試験方法の実施の一形態について
図面を参照しながら説明する。本実施形態の第1の特徴
は、異なる測定ポイントで得られた電流値相互間の変化
率を半導体装置の良否判定基準として用いることにより
故障検出率を向上させる点にある。また本実施形態の第
2の特徴は、良品および不良品の各サンプルに対して多
数のポイントにわたるIddQ測定を行い、得られた測
定結果情報を統計的に処理することにより、量産テスト
に有効な測定ポイントを抽出することにより、量産テス
トにおいて故障検出の見込みが低い測定ポイントを除外
してIddQテストのスループットを高める点にある。
【0026】まず、本実施形態の試験方法の概略を図1
および図2のフローチャートを参照しながら説明する。
【0027】まず、図1に示すように、測定に必要なデ
ータを読込む(ステップS10)。測定用データには、
既存のテストプログラムやテストベクタデータの他、予
め用意した良品サンプルおよび不良品サンプルに関する
データ(サンプル名など)を含む。
【0028】続いて、電流値測定装置を用いて上述の良
品サンプルと不良品サンプルのそれぞれについて多数の
測定ポイント(以下、単に多ポイントという)にわたっ
てIddQ測定を行い(ステップS20、S30)、各
測定ポイントにそれぞれ対応するテストベクタのアドレ
ス毎に測定結果を取得する(ステップS。40、5
0)。
【0029】次に、これらの測定結果から各サンプル毎
に電流値変化率を2つの測定アドレス(以下、アドレス
対という)毎に算出し(ステップS60)、良品サンプ
ルの電流値変化率(第1の電流値変化率)と不良品サン
プルの電流値変化率(第3の電流値変化率)に分けて抽
出する(ステップS70、80)。
【0030】続いて良品サンプルの電流値変化率のデー
タから良品の電流値変化率の最大値と最小値とを各アド
レス対毎に抽出し、これらに基づいて良品として許容で
きる変化率の範囲(以下、良品変化率範囲という)を取
得する(ステップS90)。
【0031】次に、各アドレス毎に不良品の電流値変化
率を良品変化率範囲と比較し(ステップS100)す
る。
【0032】次に、図2に示すように、比較の結果、良
品変化率範囲の範囲外となる電流値変化率に対応するア
ドレス対を抽出し、故障検出に有効なアドレス対の組合
わせ(以下、有効アドレス対という)として取得する
(ステップS110)。
【0033】次に、良品変化率範囲に基づいて、抽出し
た有効アドレス対毎に量産テストにおける良否判定基準
となる良否判定基準範囲Lを決定する(ステップS12
0)。
【0034】次に、不良品の電流値変化率と良否判定基
準範囲Lとを比較して(ステップS130)、良否判定
基準範囲Lの範囲外となる電流値変化率が得られた不良
品の数量に基づいて上述した有効アドレス対から量産テ
スト用のアドレス対を要求仕様に応じて選出する(ステ
ップS140)。
【0035】最後は、このようにして得られた量産テス
ト用アドレス対の情報と良否判定基準範囲Lの情報とを
用いて量産テストにおけるIddQ測定を実施する(ス
テップS150)。
【0036】上述の手順を図面を参照しながらより具体
的に説明する。
【0037】まず、一般的なテストベクタの情報を図3
を用いて説明する。テストベクタ情報は、テストベクタ
(グループ)名51と、入力パターンである入力信号群
と出力パターンである出力信号群でなるテストベクタ5
3とを含む。同図(a)はテストベクタ名AAAが与え
られたテストベクタ情報の一例を示し、また、同図
(b)は、テストベクタ名BBBが与えられたテストベ
クタ情報の一例を示す。各テストベクタにはアドレス
(ステップまたはサイクルとも呼ばれる)55が付せら
れる。
【0038】多ポイントで測定する場合、これらのテス
トベクタのうち、どのアドレスのテストベクタを用いる
かについては、ランダムなアドレスで測定しても、ま
た、所定の方法で抽出されたアドレスで測定しても良
い。但し、より信頼性の高いデータを取得するために、
できる限り多くのポイントで測定するのが望ましいこと
は勿論である。なお、出力信号群は、ロジックテストに
おける期待値の信号であるため、本実施形態では、テス
トベクタ53のうち、入力信号群のみを用いる。
【0039】このようなテストベクタ(第1の数量のテ
ストベクタ)を用いて取得した測定結果の具体例を図4
および図5に示す。図4は3つの良品サンプルPA、P
B、PCについて取得した測定結果を示し、また、図5
は3つの不良品サンプルFA、FB、FCについて取得
した測定結果を示す。両図に示すように、多ポイント測
定により、各サンプル毎にパターン名(PAT)、アド
レス番号(ADR)、電流値(IddQ)の情報が得ら
れる。
【0040】図6は、図4および図5に示す測定結果情
報に基づいて、連続するアドレス(アドレス対群)とそ
れぞれに対応する電流値との関係を視覚的に現したグラ
フである。同図(a)は良品サンプルPA、PB、PC
の電流値と各測定ポイントとの関係、(b)は不良品サ
ンプルFA、FB、FCの電流値と各測定ポイントとの
関係を示す。
【0041】同図(a)と(b)との対比において明ら
かなように、同図に示す例においては良品の電流値が安
定している区間(パターン名AAAのADR87〜パタ
ーン名BBBのADR30)内で不良品の電流値が不安
定となっている部分、即ち、電流値の変化が大きくなっ
ている部分があることが分る。
【0042】ここで、本実施形態において特徴的な電流
値変化率の考え方の一例を、図7に示す。変化率とは、
どのくらい変化するかということであり、本実施形態で
は、任意のアドレス対の組合わせについて、各アドレス
に対応する測定ポイントで取得された電流値をa,bと
するとき、電流値変化率Cを(b−a)/aまたは(a
−b)/bと定義する。なお、電流値変化率の定義は、
同図に示す方法に限ることなく、例えば微分値など、被
試験体の種類や要求仕様に応じて決定できるのは勿論で
ある。
【0043】図7に示す定義に従って電流値変化率を算
出する手順(図1、ステップS60)について図8のフ
ローチャートを参照しながら具体的に説明する。
【0044】まず、多ポイントIddQ測定(図1、ス
テップS20およびS30)により得られた各アドレス
毎の電流値データに基づいて、アドレス対の組合わせを
決定する(ステップS61)。次に、各アドレス対にお
いて、各測定アドレスでの電流値データa,bを図7に
示す計算式に代入して(ステップS62)、各アドレス
対毎に電流値変化率Cを取得する(ステップS63)。
【0045】次に、良品変化率範囲の算出方法(図1、
ステップS90)を説明する。
【0046】図9は、図4に示す良品サンプルにおける
電流値変化率を各アドレス対毎に示す説明図である。同
図の基準範囲の欄に示すように、3つの良品サンプルP
A、PB、PCにおいて同一のアドレス対に対応する電
流値変化率のうち、最小値をCs、最大値をClとする
と、任意のアドレス対における良品変化率範囲Cは、
Cs<C<Clとなる。
【0047】ここで、不良品サンプルの電流値変化率の
うち、この良品変化率範囲C内に属する電流値変化率
に対応するアドレス対については、量産テストにおいて
故障を検出する可能性が極めて小さいものと判断でき
る。
【0048】そこで、良品変化率範囲Cと不良品サン
プルの電流値変化率とを各アドレス対毎に比較し(図
1、ステップS100)、不良品の電流値変化率のう
ち、良品変化率範囲C内に属さないものに対応するア
ドレス対(第1の組合わせのアドレス対)を抽出するこ
とにより(図2ステップS110)、故障検出が見込め
る有効アドレス対を選定することができる。
【0049】このようにして有効アドレス対を選定した
後は、選定されたアドレス対のそれぞれについて量産テ
ストに用いる良否判定基準範囲Lを決定する(図2、ス
テップS120)。
【0050】図10に良品判定基準範囲Lの一定義例を
示す。量産テストは一般に誤差を考慮して実施するた
め、図10に示す例においては、図9の電流値変化率を
用いて算出した良品変化率範囲Cに誤差αを考慮して
定義する。誤差αは、本実施形態では(最大値Cl−最
小値Cs)/2とする。
【0051】さらに、本実施形態によれば、このように
定義した良否判定基準範囲Lと不良品サンプルの電流値
変化率とを比較することにより、量産テストにおける測
定ポイントを要求仕様に応じてさらに絞り込むこともで
きる。
【0052】図11は、図9に示す良品サンプルの各ア
ドレス対に対応して図5に示す不良品サンプルの電流値
の変化率を算出した結果を含む説明図である。同図にお
いては、算出された不良品の電流値変化率を良否判定基
準範囲Lとの比較で示している。
【0053】同図に示す例においては、PAT=AAA
でのアドレス対21,43間、PAT=BBBでのアド
レス対28,30間における電流値変化率は、いずれも
良否判定基準範囲L内に含まれるため、これらのアドレ
ス対で量産テストを実施しても故障の検出が見込めない
ことが分る。従って、これらのアドレス対は、上述した
第1の組合わせのアドレス対には含まれない。
【0054】この一方、PAT=AAAでのアドレス対
109,111間、PAT=AAAのアドレス113と
PAT=BBBのアドレス17とのアドレス対間、PA
T=BBBでのアドレス対17,19間、アドレス対2
1,24間、アドレス対24,26間、PAT=CCC
でのアドレス対36,37間、アドレス対37,49間
における電流値変化率は、いずれも不良品1サンプルが
良否判定基準範囲Lの範囲外となり、従って、これらの
アドレス対によれば、1つの不良品サンプルに対応する
不良品を検出することが期待できる。
【0055】また、PAT=AAAでのアドレス対4
3,65間、65,87間、87,109間、111,
113間、PAT=BBBでのアドレス対26,28
間、PAT=BBBのアドレス30とPAT=CCCの
アドレス33とのアドレス対間、PAT=CCCでのア
ドレス対33,36間における電流値変化率は、それぞ
れ不良品2サンプルが良否判定基準範囲Lの範囲外とな
る。このことから、これらのアドレス対によれば、2つ
の不良品サンプルに対応する不良品を検出することが期
待できる。
【0056】さらに、PAT=BBB19,21間の電
流値変化率は、不良品3サンプルが全て良否判定基準範
囲Lの範囲外となるので、この1対のアドレス対で3つ
の不良品サンプルに対応する不良品の検出が見込め、こ
のアドレス対を用いた量産テストが最も効率的であるこ
とが分る。
【0057】このように、アドレス対の組合わせに応じ
て不良品を検出できる可能性が異なるため、要求仕様に
応じてアドレス対(第3の組合わせのアドレス対)を選
択した上で上述の良否判定基準範囲Lの情報を用いて量
産テストでのIddQ測定を実施すれば(図2、ステッ
プS130)、電流値を判定基準とした従来のIddQ
測定による試験方法では検出できなかった不良品を高い
スループットで検出できる。これにより従来検出できな
かった故障を解析することが可能になり、設計部門、プ
ロセス部門に対してより迅速にフィードバックできる。
この結果、不良原因解明のための解析効率を向上させ、
不具合に対する早期改善を図ることができる。
【0058】さらに、測定に用いるテストベクタのアド
レス対は、適宜組合わせることができるので、試験に要
する時間を要求仕様に応じて柔軟に調整することができ
る。
【0059】(2)半導体試験装置の実施の一形態 次に、本発明にかかる半導体試験装置の実施の一形態に
ついて図面を参照しながら説明する。
【0060】図12は、本実施形態の半導体試験装置の
概略構成を示すブロック図である。同図に示す半導体試
験装置1は、データ読込み部10と、決定手段である測
定ポイント決定部20と、IddQ測定部30と、結果
表示部40とを備え、上述した本発明にかかる半導体試
験方法に従って動作する。
【0061】データ読込み部10は、テストプログラ
ム、テストベクタ、並びに、良品および不良品サンプル
に関するデータを読込んで測定ポイント決定部20に供
給する。
【0062】図13は、測定ポイント決定部20の詳細
な構成を示すブロック図である。同図に示すように、測
定ポイント決定部20は、データ取得部24、テスタ2
2、メモリ25、電流値変化率算出部26、基準範囲決
定部27、データ比較部28および、測定範囲決定手段
である測定ポイント群決定部29を含む。
【0063】データ取得部24は、データ読込み部10
からテストプログラム、テストベクタデータ等の供給を
受け、これらのデータに基づいてテスタ22が予め準備
された良品サンプルおよび不良品サンプルに対して多ポ
イントでのIddQ測定を実行する。測定結果である電
流値は、各テストベクタのアドレスと対応づけられてメ
モリ25に格納される。電流値変化率算出部26は、メ
モリ25から電流値およびテストベクタアドレスなどの
データを引出して各アドレス対毎に電流値変化率を良品
および不良品のそれぞれについて算出し、良品サンプル
の算出結果を基準範囲決定部27に供給し、また、不良
品サンプルの算出結果をデータ比較部28に供給する。
【0064】基準範囲決定部27は、電流値変化率算出
部26から良品の電流値変化率の算出結果を受けて良品
変化率範囲Cと良否判定基準範囲Lを算出し、データ
比較部28に供給する。
【0065】データ比較部28は、電流値変化率算出部
26から供給された不良品サンプルの電流値変化率と、
基準範囲決定部27から供給された良否判定基準範囲L
とを各アドレス対毎に相互に比較し、良否判定基準範囲
Lの範囲外となる電流値変化率が得られた不良品サンプ
ルのサンプル名とそのときのテストベクタのアドレス対
とを測定ポイント群決定部29に供給する。
【0066】測定ポイント群決定部29は、データ比較
部28から供給されたデータに基づいて、良否判定基準
範囲Lの範囲外となる不良品サンプルがより多くなるア
ドレス対を予め設定された被試験体の要求仕様に応じて
検索し、量産テスト用のアドレス対群(第1または第2
の組合わせのアドレス対)として抽出し、この量産テス
ト用アドレス対群を良否判定基準範囲Lとともに出力す
る。
【0067】図12に戻り、IddQ測定部30は、量
産テスタ32とデータ取得部34と良否判定部36とを
含む。
【0068】データ取得部34は、測定ポイント決定部
20から量産テスト用アドレス対群および良否判定基準
範囲Lのデータの供給を受け、量産テスタ32および良
否判定部36に量産テスト用アドレス対群を供給し、ま
た、良否判定部36に良否判定基準範囲Lのデータを供
給する。
【0069】量産テスタ32は、データ取得部34から
供給された量産テスト用アドレス対群のデータに基づい
て、量産された被試験体のIddQ測定を実行し、測定
結果をデータ取得部34に供給する。データ取得部34
はまた演算手段をも構成し、量産テスタ32によるId
dQ測定の結果から被試験体毎に各アドレス対に対応し
て電流値変化率(第2の電流値変化率)を算出し、算出
結果を良否判定部36に供給する。
【0070】良否判定部36は、データ取得部34から
供給された電流値変化率のデータと良否判定基準範囲L
のデータに基づいて各被試験体について良否を判定し、
被試験体から得られた電流値変化率のうち、良否判定基
準範囲Lの範囲外となる電流値変化率がある場合に、そ
の被試験体を不良品と判別する。不良品でない場合は、
次の被試験体の試験に進む。
【0071】結果表示部40は、良否判定部36から受
けた判定結果を図示しないCRT(Cathode Ray Tube)
などに表示する。
【0072】(3)記録媒体 (1)において前述した実施形態の半導体試験方法の一
連の手順は、コンピュータに実行させるプログラムとし
てフロッピーディスクやCD−ROM等の記録媒体に収
納し、コンピュータに読込ませて実行させても良い。こ
れにより、本発明にかかる半導体試験方法をワークステ
ーション等の汎用コンピュータを備える試験装置を用い
て実現することができる。記録媒体は、磁気ディスクや
光ディスク等の携帯可能なものに限定されず、ハードデ
ィスク装置やメモリなどの固定型の記録媒体でも良い。
また、前述した半導体試験方法の一連の手順を組込んだ
プログラムをインターネット等の通信回線(無線通信を
含む)を介して頒布しても良い。さらに、前述した半導
体試験方法の一連の手順を組込んだプログラムを暗号化
したり、変調をかけたり、圧縮した状態で、インターネ
ット等の有線回線や無線回線を介して、あるいは記録媒
体に収納して頒布しても良い。
【0073】
【発明の効果】以上詳述したとおり、本発明は、以下の
効果を奏する。
【0074】即ち、本発明にかかる半導体試験装置によ
れば、良品サンプルから得られた第1の電流値変化率に
基づいて良否判定基準範囲を決定する決定手段と、被試
験体から得られた第2の電流値変化率と上記良否判定基
準範囲とをアドレス対毎に比較する判定手段とを備える
ので、従来の試験装置では検出できなかった不良品を優
れたスループットで検出することができる。
【0075】また、本発明にかかる半導体試験方法によ
れば、良品サンプルから得られた第1の電流値変化率に
基づいて良否判定基準範囲をアドレス対毎に決定する工
程と、被試験体から得られた第2の電流値変化率と上記
良否判定基準範囲とを上記アドレス対毎に比較する工程
とを備えるので、電流値を判定基準とした従来のIdd
Q測定による試験方法では検出できなかった不良品を高
いスループットで検出することができる。これにより、
不良原因解明のための解析効率を向上させ、不具合に対
する早期改善を図ることができる。また、量産テスト用
のアドレス対は適宜組合わせることができるので、試験
に要する時間を要求仕様に応じて柔軟に調整することが
できる。
【0076】また、本発明にかかる記録媒体によれば、
上述した効果を奏する半導体試験方法を汎用のコンピュ
ータを有する半導体試験装置を用いて実施することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかる半導体試験方法の実施の一形態
を説明するフローチャートである。
【図2】本発明にかかる半導体試験方法の実施の一形態
を説明するフローチャートである。
【図3】テストベクタの一例の説明図である。
【図4】図1および図2に示す方法により多ポイントに
わたって良品サンプルをIddQ測定した結果を示す説
明図である。
【図5】図1および図2に示す方法により多ポイントに
わたって不良品サンプルをIddQ測定した結果を示す
説明図である。
【図6】多ポイントにわたるIddQ測定により得られ
た電流値と測定ポイントとの関係を示す説明図である。
【図7】電流値変化率の一定義例を示す説明図である。
【図8】電流値変化率の算出方法を示すフローチャート
である。
【図9】良品の電流値変化率の一例を示す説明図であ
る。
【図10】良否判定基準範囲の一定義例を示す説明図で
ある。
【図11】不良品の電流値変化率の一例を示す説明図で
ある。
【図12】本発明にかかる半導体試験装置の実施の一形
態の概略構成を示すブロック図である。
【図13】図12に示す半導体試験装置の測定ポイント
決定部の具体的構成を示すブロック図である。
【符号の説明】
1 半導体試験装置 10 データ読込み部 20 測定ポイント決定部 22 テスタ 24,34 データ取得部 25 メモリ 26 電流値変化率算出部 27 基準範囲決定部 28 データ比較部 29 測定ポイント群決定部 30 IddQ測定部 32 量産テスタ 36 良否判定部 40 結果表示部

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】第1の数量のテストベクタを含む測定用デ
    ータを読込む読込み手段と、 半導体装置に前記テストベクタを入力し、前記半導体装
    置から出力される電流値を前記テストベクタのアドレス
    に対応づけて測定する測定手段と、 2つの異なる前記アドレスをアドレス対としてこのアド
    レス対に対応する2つの前記電流値相互間の電流値変化
    率を前記アドレス対毎にそれぞれ算出する演算手段と、 良品サンプルに前記第1の数量のテストベクタを入力し
    て得られた第1の電流値変化率に基づいて被試験体であ
    る半導体装置の良否を判定する基準となる良否判定基準
    範囲を決定する決定手段と、 被試験体に前記テストベクタを入力して得られた第2の
    電流値変化率と前記良否判定基準範囲とを前記アドレス
    対毎に比較し、この比較結果に基づいて前記被試験体が
    良品であるか不良品であるかを判定する判定手段と、を
    備える半導体試験装置。
  2. 【請求項2】前記決定手段は、複数の良品サンプルにつ
    いて得られた複数の前記第1の電流値変化率に基づいて
    前記良否判定基準範囲を決定することを特徴とする請求
    項1に記載の半導体試験装置。
  3. 【請求項3】前記決定手段は、 不良品サンプルに前記第1の数量のテストベクタを入力
    して得られた第3の電流値変化率と前記良否判定基準範
    囲とを前記アドレス対毎に比較し、前記良否判定基準範
    囲の範囲外となる前記第3の電流値変化率に対応する前
    記アドレス対を前記第1の数量のテストベクタのアドレ
    ス対から抽出して、第1の組合わせのアドレス対群とし
    て決定する測定範囲決定手段を含み、 前記測定手段は、前記被試験体に前記第1の組合わせの
    アドレス対群に対応する前記テストベクタを入力するこ
    とを特徴とする請求項1または2に記載の半導体試験装
    置。
  4. 【請求項4】前記測定範囲決定手段は、複数の不良品サ
    ンプルについて得られた複数の前記第3の電流値変化率
    と前記良否判定基準範囲とを前記アドレス対毎に比較
    し、前記良否判定基準範囲の範囲外となる前記第3の電
    流値変化率が得られた前記不良品サンプルの数量に応じ
    て前記被試験体に入力すべき第2の組合わせのアドレス
    対群を前記第1の組合わせのアドレス対群から選出する
    ことを特徴とする請求項3に記載の半導体試験装置。
  5. 【請求項5】良品サンプルである第1の半導体装置に第
    1の数量のテストベクタを入力し、前記良品サンプルか
    ら出力される電流値を前記テストベクタのアドレスに対
    応づけて測定し、第1の電流値として出力する工程と、 2つの異なる前記アドレスをアドレス対としてこのアド
    レス対に対応する2つの前記第1の電流値相互間の変化
    率を前記アドレス対毎にそれぞれ算出し、第1の電流値
    変化率として出力する工程と、 前記第1の電流値変化率に基づいて良否判定の基準とな
    る良否判定基準範囲を前記アドレス対毎に決定する工程
    と、 被試験体である第2の半導体装置に前記第1の数量のテ
    ストベクタを入力して前記第2の半導体装置から出力さ
    れる電流値を前記アドレスに対応づけて測定し、第2の
    電流値として出力する工程と、 前記アドレス対に対応する2つの前記第2の電流値相互
    間の変化率を前記アドレス対毎にそれぞれ算出し、第2
    の電流値変化率として出力する工程と、 前記第2の電流値変化率と前記良否判定基準範囲とを前
    記アドレス対毎に比較し、この比較結果に基づいて前記
    第2の半導体装置が良品であるか不良品であるかを判定
    する工程と、を備える半導体試験方法。
  6. 【請求項6】前記第1の半導体装置は、複数の良品サン
    プルでなり、 前記第1の電流値と前記第1の電流値変化率は、前記良
    品サンプル毎に出力され、 前記良否判定基準範囲は、複数の前記第1の電流値変化
    率に基づいて決定されることを特徴とする請求項5に記
    載の半導体試験方法。
  7. 【請求項7】不良品サンプルである第3の半導体装置に
    前記第1の数量の前記テストベクタを入力し、前記第3
    の半導体装置から出力される電流値を前記アドレスに対
    応づけて測定して第3の電流値として出力する工程と、 前記アドレス対に対応する2つの前記第3の電流値相互
    間の変化率を前記アドレス対毎にそれぞれ算出し、第3
    の電流値変化率として出力する工程と、 前記第3の電流値変化率と前記良否判定基準範囲とを前
    記アドレス対毎に比較し、前記良否判定基準範囲の範囲
    外となる前記第3の電流値変化率に対応する前記アドレ
    ス対を第1の組合わせのアドレス対として前記第1の数
    量でなる前記アドレスから抽出する工程と、をさらに備
    え、 前記第2の電流値を測定する工程は、抽出された前記第
    1の組合わせのアドレス対に対応する前記テストベクタ
    を前記第2の半導体装置に入力して測定する工程である
    ことを特徴とする請求項5または6に記載の半導体試験
    方法。
  8. 【請求項8】前記第3の半導体装置は、複数の不良品サ
    ンプルでなり、 前記第3の電流値と、前記第3の電流値変化率は、前記
    不良品サンプル毎に出力され、 複数の前記不良品サンプルについて得られた前記第3の
    電流値変化率と前記良否判定基準範囲とを前記アドレス
    対毎に比較する工程と、 前記良否判定基準範囲の範囲外となる前記第3の電流値
    変化率が得られた前記不良品サンプルの数量に応じて前
    記第1の組合わせのアドレス対から第2の組合わせのア
    ドレス対を選出する工程と、をさらに備え、 前記第2の電流値を測定する工程は、前記第2の組合わ
    せのアドレス対に対応する前記テストベクタを前記第2
    の半導体装置に入力して測定する工程であることを特徴
    とする請求項7に記載の半導体試験方法。
  9. 【請求項9】テストベクタを含む測定用データを読込む
    読込み手段と、半導体装置に前記テストベクタを入力し
    前記半導体装置から出力される電流値を測定する測定手
    段と、前記電流値に基づいて前記被試験体が良品である
    か不良品であるかを判定する判定手段と、を備える半導
    体テストシステムに用いられ、 良品サンプルである第1の半導体装置に第1の数量のテ
    ストベクタを入力し、前記良品サンプルから出力される
    電流値を前記テストベクタのアドレスに対応づけて測定
    し、第1の電流値として出力する手順と、 2つの異なる前記アドレスをアドレス対としてこのアド
    レス対に対応する2つの前記第1の電流値相互間の変化
    率を前記アドレス対毎にそれぞれ算出し、第1の電流値
    変化率として出力する手順と、 前記第1の電流値変化率に基づいて良否判定の基準とな
    る良否判定基準範囲を前記アドレス対毎に決定する手順
    と、 被試験体である第2の半導体装置に前記第1の数量のテ
    ストベクタを入力して前記第2の半導体装置から出力さ
    れる電流値を前記アドレスに対応づけて測定し、第2の
    電流値として出力する手順と、 前記アドレス対に対応する2つの前記第2の電流値相互
    間の変化率を前記アドレス対毎にそれぞれ算出し、第2
    の電流値変化率として出力する手順と、 前記第2の電流値変化率と前記良否判定基準範囲とを前
    記アドレス対毎に比較し、この比較結果に基づいて前記
    第2の半導体装置が良品であるか不良品であるかを判定
    する手順と、を含む半導体試験方法をコンピュータに実
    行させるプログラムを記録したコンピュータ読取り可能
    な記録媒体。
  10. 【請求項10】前記第1の半導体装置は、複数の良品サ
    ンプルでなり、 前記第1の電流値と前記第1の電流値変化率は、前記良
    品サンプル毎に出力され、 前記良否判定基準範囲は、複数の前記第1の電流値変化
    率に基づいて決定されることを特徴とする請求項9に記
    載の記録媒体。
  11. 【請求項11】前記半導体試験方法は、 不良品サンプルである第3の半導体装置に前記第1の数
    量の前記テストベクタを入力し、前記第3の半導体装置
    から出力される電流値を前記アドレスに対応づけて測定
    して第3の電流値として出力する手順と、 前記アドレス対に対応する2つの前記第3の電流値相互
    間の変化率を前記アドレス対毎にそれぞれ算出し、第3
    の電流値変化率として出力する手順と、 前記第3の電流値変化率と前記良否判定基準範囲とを前
    記アドレス対毎に比較し、前記良否判定基準範囲の範囲
    外となる前記第3の電流値変化率に対応する前記アドレ
    ス対を第1の組合わせのアドレス対として前記第1の数
    量でなる前記アドレスから抽出する手順と、をさらに含
    み、 前記第2の電流値を測定する手順は、抽出された前記第
    1の組合わせのアドレス対に対応する前記テストベクタ
    を前記第2の半導体装置に入力して測定する手順である
    ことを特徴とする請求項9または10に記載の半導体試
    験方法。
  12. 【請求項12】前記第3の半導体装置は、複数の不良品
    サンプルでなり、 前記第3の電流値と前記第3の電流値変化率は、前記不
    良品サンプル毎に出力され、 前記半導体試験方法は、 複数の前記不良品サンプルについて得られた前記第3の
    電流値変化率と前記良否判定基準範囲とを前記アドレス
    対毎に比較する手順と、 前記良否判定基準範囲の範囲外となる前記第3の電流値
    変化率が得られた前記不良品サンプルの数量に応じて前
    記第1の組合わせのアドレス対から第2の組合わせのア
    ドレス対を選出する手順と、をさらに含み、 前記第2の電流値を測定する手順は、前記第2の組合わ
    せのアドレス対に対応する前記テストベクタを前記第2
    の半導体装置に入力して測定する手順であることを特徴
    とする請求項11に記載の記録媒体。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2014048893A (ja) * 2012-08-31 2014-03-17 Mega Chips Corp メモリシステム、メモリ装置、情報処理装置、メモリシステムの動作方法および比較演算器
JP2014048898A (ja) * 2012-08-31 2014-03-17 Mega Chips Corp メモリシステム、メモリ装置、情報処理装置、メモリシステムの動作方法および比較演算器

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010107507A (ja) * 2008-10-30 2010-05-13 Advantest Corp 試験装置、試験方法、および、プログラム
JP2014048893A (ja) * 2012-08-31 2014-03-17 Mega Chips Corp メモリシステム、メモリ装置、情報処理装置、メモリシステムの動作方法および比較演算器
JP2014048898A (ja) * 2012-08-31 2014-03-17 Mega Chips Corp メモリシステム、メモリ装置、情報処理装置、メモリシステムの動作方法および比較演算器

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