JP2001129550A - 純水製造装置 - Google Patents
純水製造装置Info
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- JP2001129550A JP2001129550A JP31372499A JP31372499A JP2001129550A JP 2001129550 A JP2001129550 A JP 2001129550A JP 31372499 A JP31372499 A JP 31372499A JP 31372499 A JP31372499 A JP 31372499A JP 2001129550 A JP2001129550 A JP 2001129550A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】逆浸透膜モジュールから成る純水製造装置であ
って、供給水中のシリカ濃度が増加した際に惹起される
逆浸透膜へのシリカのスケーリングや堆積を防止すると
共に一定の透過水量を維持して安定した水量の純水が得
られる様に改良された純水製造装置を提供する。 【解決手段】逆浸透膜モジュールから成る純水製造装置
であって、濃縮水中のシリカ濃度を検知し且つその値が
一定となる様に供給水量と濃縮水量とを制御する供給／
濃縮水量制御手段を設けて成る。
って、供給水中のシリカ濃度が増加した際に惹起される
逆浸透膜へのシリカのスケーリングや堆積を防止すると
共に一定の透過水量を維持して安定した水量の純水が得
られる様に改良された純水製造装置を提供する。 【解決手段】逆浸透膜モジュールから成る純水製造装置
であって、濃縮水中のシリカ濃度を検知し且つその値が
一定となる様に供給水量と濃縮水量とを制御する供給／
濃縮水量制御手段を設けて成る。
Description
【０００１】
【従来の技術】逆浸透膜モジュールは、逆浸透膜により
供給水（原水）中に含まれる塩分などの浸透を阻止しそ
の水分のみを透過させて脱塩処理された透過水を得るも
のであり、比較的簡単な構造で且つ小型化し得る純水製
造装置として注目されている。
供給水（原水）中に含まれる塩分などの浸透を阻止しそ
の水分のみを透過させて脱塩処理された透過水を得るも
のであり、比較的簡単な構造で且つ小型化し得る純水製
造装置として注目されている。
【０００２】ところで、原水が例えば河川水の場合、そ
れに含まれるためシリカ濃度が変動して増加した場合、
逆浸透膜モジュールの運転上、次の様な問題がある。す
なわち、濃縮倍率（供給水量／濃縮水量）を一定にして
運転を続行した場合は、逆浸透膜にシリカがスケーリン
グしたり堆積して長期間安定した運転が出来ず、斯かる
不都合を解消するため、濃縮水側のシリカ濃度を低下さ
せるべく回収率（透過水量／供給水量）を下げた場合
は、安定した水量の純水が得られない。
れに含まれるためシリカ濃度が変動して増加した場合、
逆浸透膜モジュールの運転上、次の様な問題がある。す
なわち、濃縮倍率（供給水量／濃縮水量）を一定にして
運転を続行した場合は、逆浸透膜にシリカがスケーリン
グしたり堆積して長期間安定した運転が出来ず、斯かる
不都合を解消するため、濃縮水側のシリカ濃度を低下さ
せるべく回収率（透過水量／供給水量）を下げた場合
は、安定した水量の純水が得られない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記実情に
鑑みなされたものであり、その目的は、逆浸透膜モジュ
ールから成る純水製造装置であって、供給水中のシリカ
濃度が増加した際に惹起される逆浸透膜へのシリカのス
ケーリングや堆積を防止すると共に一定の透過水量を維
持して安定した水量の純水が得られる様に改良された純
水製造装置を提供することにある。
鑑みなされたものであり、その目的は、逆浸透膜モジュ
ールから成る純水製造装置であって、供給水中のシリカ
濃度が増加した際に惹起される逆浸透膜へのシリカのス
ケーリングや堆積を防止すると共に一定の透過水量を維
持して安定した水量の純水が得られる様に改良された純
水製造装置を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明の要旨
は、逆浸透膜モジュールから成る純水製造装置であっ
て、濃縮水中のシリカ濃度を検知し且つその値が一定と
なる様に供給水量と濃縮水量とを制御する供給／濃縮水
量制御手段を設けて成ることを特徴とする純水製造装置
に存する。
は、逆浸透膜モジュールから成る純水製造装置であっ
て、濃縮水中のシリカ濃度を検知し且つその値が一定と
なる様に供給水量と濃縮水量とを制御する供給／濃縮水
量制御手段を設けて成ることを特徴とする純水製造装置
に存する。
【０００５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を添付図面
に基づき説明する。図１は、本発明の純水製造装置の好
ましい態様の一例を示す概念説明図である。
に基づき説明する。図１は、本発明の純水製造装置の好
ましい態様の一例を示す概念説明図である。
【０００６】本発明の純水製造装置は、逆浸透膜モジュ
ールは、基本的には、逆浸透膜（１）によって区分され
た供給水部（２）と透過水部（３）から成る。原水（処
理水）は、供給管（４）から供給される。そして、脱塩
された透過水（被処理水）は取出管（５）から、濃縮水
は取出管（６）から、それぞれ取り出される。
ールは、基本的には、逆浸透膜（１）によって区分され
た供給水部（２）と透過水部（３）から成る。原水（処
理水）は、供給管（４）から供給される。そして、脱塩
された透過水（被処理水）は取出管（５）から、濃縮水
は取出管（６）から、それぞれ取り出される。
【０００７】上記の様な逆浸透膜モジュールは、純水製
造分野において広く使用されており、本発明において
は、何れの種類の逆浸透膜モジュールをも使用し得る。
例えば、膜の素材としては、酢酸セルロース系、ポリア
ミド系、架橋ポリアミン系、架橋ポリエーテル系、スル
ホン化ポリスルホン等がある。また、膜のエレメント構
造としては、スパイラル型、中空糸型、チューブラー型
などがある。本発明においては、市販の逆浸透膜モジュ
ールを適宜選択して使用することが出来る。
造分野において広く使用されており、本発明において
は、何れの種類の逆浸透膜モジュールをも使用し得る。
例えば、膜の素材としては、酢酸セルロース系、ポリア
ミド系、架橋ポリアミン系、架橋ポリエーテル系、スル
ホン化ポリスルホン等がある。また、膜のエレメント構
造としては、スパイラル型、中空糸型、チューブラー型
などがある。本発明においては、市販の逆浸透膜モジュ
ールを適宜選択して使用することが出来る。
【０００８】本発明の純水製造装置の特徴は、濃縮水中
のシリカ濃度を検知し且つその値が一定となる様に供給
水量と濃縮水量とを制御する供給／濃縮水量制御手段を
設けた点にある。
のシリカ濃度を検知し且つその値が一定となる様に供給
水量と濃縮水量とを制御する供給／濃縮水量制御手段を
設けた点にある。
【０００９】図１に示す装置において、上記の供給／濃
縮水量制御手段は、濃縮水の取出管（６）に設けられた
流量調節弁（７）及びその流量調節計（８）並びに流量
センサー（９）及びシリカセンサー（１０）と、原水の
供給管（４）に設けられた流量調節弁（１１）及びその
流量調節計（１２）並びに流量センサー（１３）と、上
記の各要素のための制御機構（１４）から構成されてい
る。
縮水量制御手段は、濃縮水の取出管（６）に設けられた
流量調節弁（７）及びその流量調節計（８）並びに流量
センサー（９）及びシリカセンサー（１０）と、原水の
供給管（４）に設けられた流量調節弁（１１）及びその
流量調節計（１２）並びに流量センサー（１３）と、上
記の各要素のための制御機構（１４）から構成されてい
る。
【００１０】上記の構成において、濃縮水中のシリカ濃
度はシリカセンサー（１０）によって検知され、その結
果（信号）は制御機構（１４）に送られる。そして、濃
縮水中のシリカ濃度が一定となる様に、制御機構（１
４）からの信号により、供給水量、すなわち、流量調節
弁（１１）及びその流量調節計（１２）並びに流量セン
サー（１３）供給水量が制御されると同時に、濃縮水
量、すなわち、流量調節弁（７）及びその流量調節計
（８）並びに流量センサー（９）が制御される。例え
ば、濃縮水中のシリカ濃度が高くなった場合は、供給水
量が増加され且つそれに見合って濃縮水量が増加され
る。その結果、濃縮水中のシリカ濃度は一定に保持さ
れ、また、透過水量の変動もない。
度はシリカセンサー（１０）によって検知され、その結
果（信号）は制御機構（１４）に送られる。そして、濃
縮水中のシリカ濃度が一定となる様に、制御機構（１
４）からの信号により、供給水量、すなわち、流量調節
弁（１１）及びその流量調節計（１２）並びに流量セン
サー（１３）供給水量が制御されると同時に、濃縮水
量、すなわち、流量調節弁（７）及びその流量調節計
（８）並びに流量センサー（９）が制御される。例え
ば、濃縮水中のシリカ濃度が高くなった場合は、供給水
量が増加され且つそれに見合って濃縮水量が増加され
る。その結果、濃縮水中のシリカ濃度は一定に保持さ
れ、また、透過水量の変動もない。
【００１１】本発明の純水製造装置は、好ましい態様と
して、原水供給ラインに供給水または濃縮水中のシリカ
濃度に見合った量のシリカインヒビターを注入する手段
を設けている。
して、原水供給ラインに供給水または濃縮水中のシリカ
濃度に見合った量のシリカインヒビターを注入する手段
を設けている。
【００１２】図１に示す装置において、上記の手段は、
シリカインヒビター注入管（１５）とこれに設けられた
流量調節弁（１６）及びその流量調節計（１７）から構
成されている。そして、制御機構（１４）からの信号に
より、流量調節弁（１６）及びその流量調節計（１７）
が制御され、シリカ濃度に見合った量のシリカインヒビ
ターが原水中に注入される。
シリカインヒビター注入管（１５）とこれに設けられた
流量調節弁（１６）及びその流量調節計（１７）から構
成されている。そして、制御機構（１４）からの信号に
より、流量調節弁（１６）及びその流量調節計（１７）
が制御され、シリカ濃度に見合った量のシリカインヒビ
ターが原水中に注入される。
【００１３】シリカインヒビターとしては、逆浸透膜へ
のシリカのスケーリングや堆積を抑制する機能を有する
公知の薬剤を使用することが出来る。シリカインヒビタ
ーの使用により、本発明の純水製造装置は、濃縮水中の
シリカ濃度を高めて運転することが出来るため、高い回
収率が達成される。また、上記の様なシリカインヒビタ
ー注入量制御手段により、シリカインヒビターの利用効
率が高められる。
のシリカのスケーリングや堆積を抑制する機能を有する
公知の薬剤を使用することが出来る。シリカインヒビタ
ーの使用により、本発明の純水製造装置は、濃縮水中の
シリカ濃度を高めて運転することが出来るため、高い回
収率が達成される。また、上記の様なシリカインヒビタ
ー注入量制御手段により、シリカインヒビターの利用効
率が高められる。
【００１４】
【発明の効果】以上説明した本発明によれば、逆浸透膜
モジュールから成る純水製造装置であって、供給水中の
シリカ濃度が増加した際に惹起される逆浸透膜へのシリ
カのスケーリングや堆積を防止すると共に一定の透過水
量を維持して安定した水量の純水が得られる様に改良さ
れた純水製造装置が提供され、本発明の工業的価値は顕
著である。
モジュールから成る純水製造装置であって、供給水中の
シリカ濃度が増加した際に惹起される逆浸透膜へのシリ
カのスケーリングや堆積を防止すると共に一定の透過水
量を維持して安定した水量の純水が得られる様に改良さ
れた純水製造装置が提供され、本発明の工業的価値は顕
著である。
【図１】本発明の純水製造装置の好ましい態様の一例を
示す概念説明図
示す概念説明図
１：逆浸透膜 ２：供給水部 ３：透過水部 ４：（原水）供給管 ５：（透過水）取出管 ６：（濃縮水）取出管 ７：流量調節弁 ８：流量調節計 ９：流量センサー １０：シリカセンサー １１：流量調節弁 １２：流量調節計 １３：流量センサー １４：制御機構 １５：シリカインヒビター注入管 １６：流量調節弁 １７：流量調節計
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4D006 GA03 HA01 HA21 HA61 JA63Z KA12 KA33 KD30 KE02Q KE04P KE04Q MA01 MA02 MB02 MC18X MC45X MC54X MC60X MC62X PA02 PA05 PB04 PB23 PC03
Claims (2)
- 【請求項１】 逆浸透膜モジュールから成る純水製造装
置であって、濃縮水中のシリカ濃度を検知し且つその値
が一定となる様に供給水量と濃縮水量とを制御する供給
／濃縮水量制御手段を設けて成ることを特徴とする純水
製造装置。 - 【請求項２】 原水供給ラインに供給水または濃縮水中
のシリカ濃度に見合った量のシリカインヒビターを注入
する手段を設けて成る請求項１に記載の純水製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31372499A JP2001129550A (ja) | 1999-11-04 | 1999-11-04 | 純水製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31372499A JP2001129550A (ja) | 1999-11-04 | 1999-11-04 | 純水製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001129550A true JP2001129550A (ja) | 2001-05-15 |
Family
ID=18044763
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31372499A Withdrawn JP2001129550A (ja) | 1999-11-04 | 1999-11-04 | 純水製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001129550A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010029757A (ja) * | 2008-07-25 | 2010-02-12 | Miura Co Ltd | 膜ろ過システム、及び膜ろ過システムの運転方法 |
| JP2010082610A (ja) * | 2008-10-03 | 2010-04-15 | Miura Co Ltd | 純水の製造方法、及び純水製造システム |
| JP2012183472A (ja) * | 2011-03-04 | 2012-09-27 | Miura Co Ltd | 水処理装置 |
| JP2012192373A (ja) * | 2011-03-17 | 2012-10-11 | Miura Co Ltd | 水処理装置 |
| JP2014213260A (ja) * | 2013-04-25 | 2014-11-17 | オルガノ株式会社 | 膜ろ過装置 |
| JP2017074574A (ja) * | 2015-10-16 | 2017-04-20 | 水ｉｎｇ株式会社 | 水処理方法及び水処理装置 |
| JP6142937B1 (ja) * | 2016-03-18 | 2017-06-07 | 栗田工業株式会社 | 逆浸透膜装置の運転管理方法および逆浸透膜処理システム |
| WO2017175333A1 (ja) * | 2016-04-06 | 2017-10-12 | 三菱重工業株式会社 | 水処理装置の性能評価方法、及び水処理装置 |
-
1999
- 1999-11-04 JP JP31372499A patent/JP2001129550A/ja not_active Withdrawn
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010029757A (ja) * | 2008-07-25 | 2010-02-12 | Miura Co Ltd | 膜ろ過システム、及び膜ろ過システムの運転方法 |
| JP2010082610A (ja) * | 2008-10-03 | 2010-04-15 | Miura Co Ltd | 純水の製造方法、及び純水製造システム |
| JP2012183472A (ja) * | 2011-03-04 | 2012-09-27 | Miura Co Ltd | 水処理装置 |
| JP2012192373A (ja) * | 2011-03-17 | 2012-10-11 | Miura Co Ltd | 水処理装置 |
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| JP2017074574A (ja) * | 2015-10-16 | 2017-04-20 | 水ｉｎｇ株式会社 | 水処理方法及び水処理装置 |
| JP6142937B1 (ja) * | 2016-03-18 | 2017-06-07 | 栗田工業株式会社 | 逆浸透膜装置の運転管理方法および逆浸透膜処理システム |
| WO2017158887A1 (ja) * | 2016-03-18 | 2017-09-21 | 栗田工業株式会社 | 逆浸透膜装置の運転管理方法および逆浸透膜処理システム |
| JP2017170273A (ja) * | 2016-03-18 | 2017-09-28 | 栗田工業株式会社 | 逆浸透膜装置の運転管理方法および逆浸透膜処理システム |
| CN108698859A (zh) * | 2016-03-18 | 2018-10-23 | 栗田工业株式会社 | 反渗透膜装置的运转管理方法及反渗透膜处理系统 |
| WO2017175333A1 (ja) * | 2016-04-06 | 2017-10-12 | 三菱重工業株式会社 | 水処理装置の性能評価方法、及び水処理装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20070109 |