JP2001126554A - 化合物超電導線、その製造方法及びその製造装置 - Google Patents
化合物超電導線、その製造方法及びその製造装置Info
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- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 化合物超電導裸線に良好な絶縁被覆を施した
化合物超電導線を得る。 【解決手段】 化合物超電導線の製造方法は、線引き後
所定の熱処理を行い、その線材をエナメル被覆した後、
所定のコイル形状に巻線し、必要があればエポキシ含浸
を施し完成するものである。
化合物超電導線を得る。 【解決手段】 化合物超電導線の製造方法は、線引き後
所定の熱処理を行い、その線材をエナメル被覆した後、
所定のコイル形状に巻線し、必要があればエポキシ含浸
を施し完成するものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、超電導マグネット
などに用いられる絶縁被覆を施した超電導線に関するも
のである。
などに用いられる絶縁被覆を施した超電導線に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】図５は、例えば特開平１０−１６２６６
４号公報に示された従来の化合物超電導線の製造方法を
示す図である。図において１は化合物超電導裸線であり
この化合物超電導裸線１は直線状のままでその表面に絶
縁テープ２ａ，２ｂが施され化合物超電導線１０を得て
いる。
４号公報に示された従来の化合物超電導線の製造方法を
示す図である。図において１は化合物超電導裸線であり
この化合物超電導裸線１は直線状のままでその表面に絶
縁テープ２ａ，２ｂが施され化合物超電導線１０を得て
いる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来のように、化合物
超電導裸線１は絶縁テープ２ａ，２ｂにより絶縁されて
いるため絶縁テープ２ａ，２ｂの側端部が線長方向に存
在し、絶縁テープ側端面に隙間ができやすくこの隙間に
より絶縁耐電圧が低下するという課題があった。
超電導裸線１は絶縁テープ２ａ，２ｂにより絶縁されて
いるため絶縁テープ２ａ，２ｂの側端部が線長方向に存
在し、絶縁テープ側端面に隙間ができやすくこの隙間に
より絶縁耐電圧が低下するという課題があった。
【０００４】また、上記絶縁テープ２ａ，２ｂの隙間を
無くするために側端面を重ね合わせる必要があり、この
重ね合わせにより化合物超電導線１０の外径が大きくな
り断面形状もいびつになるという課題もあった。
無くするために側端面を重ね合わせる必要があり、この
重ね合わせにより化合物超電導線１０の外径が大きくな
り断面形状もいびつになるという課題もあった。
【０００５】また、一般的に絶縁テープ２ａ，２ｂは５
０μｍ以上と比較的厚いため化合物超電導裸線１の外径
が例えば０．５ｍｍなどの細い線に適用すると線材の占
積率が５５％程度となりコイルに巻線した場合の平均電
流密度を向上させることができないという課題もあっ
た。
０μｍ以上と比較的厚いため化合物超電導裸線１の外径
が例えば０．５ｍｍなどの細い線に適用すると線材の占
積率が５５％程度となりコイルに巻線した場合の平均電
流密度を向上させることができないという課題もあっ
た。
【０００６】本発明は、上記のような課題を解決するた
めになされたもので、化合物超電導裸線に良好な絶縁被
覆を施した化合物超電導線を得ることを目的としてい
る。
めになされたもので、化合物超電導裸線に良好な絶縁被
覆を施した化合物超電導線を得ることを目的としてい
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明に係る化合物超電
導線は、化合物超電導相が形成された化合物超電導裸線
にエナメルが被覆された化合物超電導線であって、上記
化合物超電導裸線は、断面の最小幅に対する最大幅の比
が２以下であるものである。
導線は、化合物超電導相が形成された化合物超電導裸線
にエナメルが被覆された化合物超電導線であって、上記
化合物超電導裸線は、断面の最小幅に対する最大幅の比
が２以下であるものである。
【０００８】又、エナメルは、化合物超電導裸線に対し
て、該化合物超電導裸線の断面の最小幅に対し５０倍以
上の曲げ半径で曲げを複数回施しかつ７０ＭＰａ以下の
張力をかけた条件下において、被覆されたものである。
て、該化合物超電導裸線の断面の最小幅に対し５０倍以
上の曲げ半径で曲げを複数回施しかつ７０ＭＰａ以下の
張力をかけた条件下において、被覆されたものである。
【０００９】又、化合物超電導相はＮｂ3Ｓｎ超電導相
である。
である。
【００１０】又、化合物超電導裸線は、化合物超電導細
線の集合体部とその周囲に形成された金属もしくは合金
からなる周辺部とからなり、化合物超電導細線の径は１
μｍ以上である。
線の集合体部とその周囲に形成された金属もしくは合金
からなる周辺部とからなり、化合物超電導細線の径は１
μｍ以上である。
【００１１】又、化合物超電導裸線は、化合物超電導細
線の集合体部とその周囲に形成された金属もしくは合金
からなる周辺部とからなり、上記集合体部の外径は、上
記化合物超電導裸線の外径の３分の２以下である。
線の集合体部とその周囲に形成された金属もしくは合金
からなる周辺部とからなり、上記集合体部の外径は、上
記化合物超電導裸線の外径の３分の２以下である。
【００１２】本発明に係る化合物超電導線の製造方法
は、熱処理により化合物超電導相が生成された化合物超
電導裸線に、上記化合物超電導裸線の断面の最小幅に対
し５０倍以上の曲げ半径で曲げを複数回施しかつ７０Ｍ
Ｐａ以下の張力をかけた条件下において、エナメルを被
覆するものである。
は、熱処理により化合物超電導相が生成された化合物超
電導裸線に、上記化合物超電導裸線の断面の最小幅に対
し５０倍以上の曲げ半径で曲げを複数回施しかつ７０Ｍ
Ｐａ以下の張力をかけた条件下において、エナメルを被
覆するものである。
【００１３】本発明に係る化合物超電導線の製造装置
は、化合物超電導相が形成された化合物超電導裸線に、
該化合物超電導裸線の断面の最小幅に対し５０倍以上の
曲げ半径で曲げを複数回施しかつ７０ＭＰａ以下の張力
をかけた条件下において、エナメルを被覆可能なもので
ある。
は、化合物超電導相が形成された化合物超電導裸線に、
該化合物超電導裸線の断面の最小幅に対し５０倍以上の
曲げ半径で曲げを複数回施しかつ７０ＭＰａ以下の張力
をかけた条件下において、エナメルを被覆可能なもので
ある。
【００１４】
【発明の実施の形態】実施の形態１．以下、本発明の実
施の形態１による化合物超電導線について説明する。化
合物超電導線は例えばＮｂ3Ｓｎ線やＮｂ3Ａｌ線などが
市販されており、同じく一般的に市販されているＮｂＴ
ｉ合金線に比べ臨界温度、臨界電流密度、上部臨界磁界
が高い特性を有する。
施の形態１による化合物超電導線について説明する。化
合物超電導線は例えばＮｂ3Ｓｎ線やＮｂ3Ａｌ線などが
市販されており、同じく一般的に市販されているＮｂＴ
ｉ合金線に比べ臨界温度、臨界電流密度、上部臨界磁界
が高い特性を有する。
【００１５】また、近年ではＢｉ2Ｓｒ2Ｃａ1Ｃｕ2Ｏy
やＢｉ2Ｓｒ2Ｃａ2Ｃｕ3Ｏy、Ｙ1Ｂａ2Ｃｕ3Ｏyなどの
銀被覆高温超電導線材が試作されている。しかし、化合
物超電導線はＮｂＴｉ合金線に比べ化合物超電導体が硬
く脆いため、線材形状に成形後熱処理をし超電導相を生
成もしくは超電導粒間の結合を行わなければならない。
従って、化合物超電導線の製造方法においては、線引き
からコイル完成の間に８００℃以上の高温での熱処理工
程が必ず存在する。
やＢｉ2Ｓｒ2Ｃａ2Ｃｕ3Ｏy、Ｙ1Ｂａ2Ｃｕ3Ｏyなどの
銀被覆高温超電導線材が試作されている。しかし、化合
物超電導線はＮｂＴｉ合金線に比べ化合物超電導体が硬
く脆いため、線材形状に成形後熱処理をし超電導相を生
成もしくは超電導粒間の結合を行わなければならない。
従って、化合物超電導線の製造方法においては、線引き
からコイル完成の間に８００℃以上の高温での熱処理工
程が必ず存在する。
【００１６】例えば特開平１１−２５７８５号公報に示
された従来の化合物超電導線の製造方法は、図１に示す
ように、線引きした後にガラス繊維などの耐高温性の絶
縁材で被覆を施し、所定のコイル形状に巻線した後、例
えばＮｂ3Ｓｎ超電導線の場合８５０℃で熱処理した後
にエポキシ等で含浸して超電導線が動かないよう固定し
完成するものである。
された従来の化合物超電導線の製造方法は、図１に示す
ように、線引きした後にガラス繊維などの耐高温性の絶
縁材で被覆を施し、所定のコイル形状に巻線した後、例
えばＮｂ3Ｓｎ超電導線の場合８５０℃で熱処理した後
にエポキシ等で含浸して超電導線が動かないよう固定し
完成するものである。
【００１７】一方、本実施の形態における化合物超電導
線の製造方法は、図１に示すように、線引き後所定の熱
処理を行い、その線材をエナメル被覆した後、所定のコ
イル形状に巻線し、必要があればエポキシ含浸を施し完
成するものである。
線の製造方法は、図１に示すように、線引き後所定の熱
処理を行い、その線材をエナメル被覆した後、所定のコ
イル形状に巻線し、必要があればエポキシ含浸を施し完
成するものである。
【００１８】本実施の形態におけるエナメル被覆は、図
２に示すような装置により実施される。以下に、この装
置を用いたエナメル被覆の方法について説明する。ま
ず、巻出しドラム５３から引き出された超電導線５１
は、洗浄器５５を通過し、エナメルの被覆器５７を３か
ら５回通過し、エナメルを焼き付けられ、巻取りドラム
５９に巻取られる。このエナメル被覆の工程で、超電導
線５１は少なくとも５回はプリー６１により繰り返し曲
げを経験する。
２に示すような装置により実施される。以下に、この装
置を用いたエナメル被覆の方法について説明する。ま
ず、巻出しドラム５３から引き出された超電導線５１
は、洗浄器５５を通過し、エナメルの被覆器５７を３か
ら５回通過し、エナメルを焼き付けられ、巻取りドラム
５９に巻取られる。このエナメル被覆の工程で、超電導
線５１は少なくとも５回はプリー６１により繰り返し曲
げを経験する。
【００１９】このように何度も曲げを行う場合、Ｎｂ3
Ｓｎ超電導線のような化合物超電導線は歪みに弱いこと
から、断面内の応力を均等にし、応力がある部位に集中
しないようにしなければならない。従って、超電導線材
の断面形状が丸であることが最も望ましく、角線であっ
ても縦横比がほぼ２以下にすることにより極端な応力集
中が避けられる。尚、これらの断面形状に限らず、断面
の最少幅に対する最大幅の比がほぼ２以下となる断面形
状で有れば良く、楕円、５個以上の角を有する多角形、
及びそれらを組み合わせた形状であってもかまわない。
Ｓｎ超電導線のような化合物超電導線は歪みに弱いこと
から、断面内の応力を均等にし、応力がある部位に集中
しないようにしなければならない。従って、超電導線材
の断面形状が丸であることが最も望ましく、角線であっ
ても縦横比がほぼ２以下にすることにより極端な応力集
中が避けられる。尚、これらの断面形状に限らず、断面
の最少幅に対する最大幅の比がほぼ２以下となる断面形
状で有れば良く、楕円、５個以上の角を有する多角形、
及びそれらを組み合わせた形状であってもかまわない。
【００２０】特開平１１−２５７８５号公報に記載の従
来の化合物超電導線は、上述のように高温で耐える絶縁
材料としてガラス繊維で被覆されており、このガラス繊
維の被覆厚さは少なくとも０．１ｍｍと厚く、図３のグ
ラフに示すように、例えば０．５ｍｍ直径の超電導丸線
に０．１ｍｍの被覆を付けると、単線だけでも約５５％
の占積率、コイルに巻線した場合で約４０％の占積率と
なってしまう。このことは、コイル断面積が大きくなる
のみならず、発生できるコイル中心磁場が低くなること
を意味する。一方、本実施の形態におけるエナメル被覆
の化合物超電導線の被覆厚さは、０．０３ｍｍ程度にす
ることが一般的であり、この場合、数ｋＶの耐電圧を有
しコイル絶縁としては十分である。
来の化合物超電導線は、上述のように高温で耐える絶縁
材料としてガラス繊維で被覆されており、このガラス繊
維の被覆厚さは少なくとも０．１ｍｍと厚く、図３のグ
ラフに示すように、例えば０．５ｍｍ直径の超電導丸線
に０．１ｍｍの被覆を付けると、単線だけでも約５５％
の占積率、コイルに巻線した場合で約４０％の占積率と
なってしまう。このことは、コイル断面積が大きくなる
のみならず、発生できるコイル中心磁場が低くなること
を意味する。一方、本実施の形態におけるエナメル被覆
の化合物超電導線の被覆厚さは、０．０３ｍｍ程度にす
ることが一般的であり、この場合、数ｋＶの耐電圧を有
しコイル絶縁としては十分である。
【００２１】図３に示すように、０．０３ｍｍ絶縁厚さ
の線材の占積率はコイル化しても６０％以上と従来のガ
ラス絶縁に比べ１．５倍以上であり、同じ巻数のコイル
であれば、コイル断面積は従来の化合物超電導線に比し
６６％と小さくできる。また、従来例で示した化合物超
電導線のように絶縁テープの厚さが０．０５ｍｍの場
合、図３に示されるようにコイル化した占積率は５５％
であり、実際にはテープの隙間が生じるため絶縁耐電圧
を取るためにはテープの一部を重ねるか隙間部に再度テ
ープを貼るため先のガラス絶縁と同様に０．１ｍｍの絶
縁厚さとなり線材の占積率は４０％程度に低下してしま
う。
の線材の占積率はコイル化しても６０％以上と従来のガ
ラス絶縁に比べ１．５倍以上であり、同じ巻数のコイル
であれば、コイル断面積は従来の化合物超電導線に比し
６６％と小さくできる。また、従来例で示した化合物超
電導線のように絶縁テープの厚さが０．０５ｍｍの場
合、図３に示されるようにコイル化した占積率は５５％
であり、実際にはテープの隙間が生じるため絶縁耐電圧
を取るためにはテープの一部を重ねるか隙間部に再度テ
ープを貼るため先のガラス絶縁と同様に０．１ｍｍの絶
縁厚さとなり線材の占積率は４０％程度に低下してしま
う。
【００２２】実施の形態２．次に本発明の実施の形態２
による化合物超電導線について図に基づき説明する。図
４は化合物超電導線にエナメル被覆を施したものの断面
図であり、１０１の化合物超電導細線の集合体の周りに
は、当該集合体１０１を保護し超電導安定性を確保する
ための銅部材（周辺部）１０３が覆っている。化合物超
電導細線の集合体１０１と銅部材１０３の間には熱処理
時に超電導体の元素が拡散しないようにＴａなどのバリ
ア材が施されていても良い。そして、この銅部材１０３
の周囲にエナメル被覆１０５が施されている。
による化合物超電導線について図に基づき説明する。図
４は化合物超電導線にエナメル被覆を施したものの断面
図であり、１０１の化合物超電導細線の集合体の周りに
は、当該集合体１０１を保護し超電導安定性を確保する
ための銅部材（周辺部）１０３が覆っている。化合物超
電導細線の集合体１０１と銅部材１０３の間には熱処理
時に超電導体の元素が拡散しないようにＴａなどのバリ
ア材が施されていても良い。そして、この銅部材１０３
の周囲にエナメル被覆１０５が施されている。
【００２３】このように構成された化合物超電導線にお
いて化合物超電導フィラメント集合体部１０１の直径ｄ
１が銅部材１０３を加えた外直径ｄ２の３分の２以下に
することにより、エナメル被覆時やコイル巻線時の曲げ
における化合物超電導フィラメント集合体に加わる最大
曲げ歪みは、銅部材１０３を形成せず集合体部１０１の
みで形成されている場合に比べて、３分の２以下に軽減
できた。
いて化合物超電導フィラメント集合体部１０１の直径ｄ
１が銅部材１０３を加えた外直径ｄ２の３分の２以下に
することにより、エナメル被覆時やコイル巻線時の曲げ
における化合物超電導フィラメント集合体に加わる最大
曲げ歪みは、銅部材１０３を形成せず集合体部１０１の
みで形成されている場合に比べて、３分の２以下に軽減
できた。
【００２４】実施の形態１にて説明したようなエナメル
被覆の工程では、化合物超電導線に対し０．５％程度の
曲げ歪みが加わる箇所がある。Ｎｂ3Ｓｎ超電導線の場
合０．４％以上の曲げ歪みが加わると超電導特性が大き
く劣化するので、上記のように集合体部１０１の直径ｄ
１が銅部材１０３を加えた外直径ｄ２の３分の２以下と
なるようにしたことにより、エナメル被覆の工程におい
て集合体部１０１に加わる最大曲げ歪みは０．３％程度
になり、大きな超電導特性の低下は生じなかった。
被覆の工程では、化合物超電導線に対し０．５％程度の
曲げ歪みが加わる箇所がある。Ｎｂ3Ｓｎ超電導線の場
合０．４％以上の曲げ歪みが加わると超電導特性が大き
く劣化するので、上記のように集合体部１０１の直径ｄ
１が銅部材１０３を加えた外直径ｄ２の３分の２以下と
なるようにしたことにより、エナメル被覆の工程におい
て集合体部１０１に加わる最大曲げ歪みは０．３％程度
になり、大きな超電導特性の低下は生じなかった。
【００２５】実施の形態３．次に本発明の実施の形態３
による化合物超電導線について説明する。熱処理後の裸
線での直径０．６５ｍｍのＮｂ3Ｓｎ線材を直径７５ｍ
ｍの巻枠に２０Ｎの張力で数回巻き付けたものの超電導
特性の測定を行った結果、臨界電流は曲げおよび張力を
加えない場合の８５％以上が得られた。直径６０ｍｍ以
下で２０Ｎ以上の張力を掛けたものの臨界電流は５０％
以下と顕著な低下を示した。
による化合物超電導線について説明する。熱処理後の裸
線での直径０．６５ｍｍのＮｂ3Ｓｎ線材を直径７５ｍ
ｍの巻枠に２０Ｎの張力で数回巻き付けたものの超電導
特性の測定を行った結果、臨界電流は曲げおよび張力を
加えない場合の８５％以上が得られた。直径６０ｍｍ以
下で２０Ｎ以上の張力を掛けたものの臨界電流は５０％
以下と顕著な低下を示した。
【００２６】そこで、本実施の形態では、本発明の実施
の形態１の手法において、さらに、線材直径の５０倍以
上の曲げ半径と７０ＭＰａ以下の張力を加え、エナメル
絶縁処理を行った。ここで繰り返し曲げの回数はおよそ
１２回であった。
の形態１の手法において、さらに、線材直径の５０倍以
上の曲げ半径と７０ＭＰａ以下の張力を加え、エナメル
絶縁処理を行った。ここで繰り返し曲げの回数はおよそ
１２回であった。
【００２７】上記手法により得られた線材を用いて、直
径１２０ｍｍの巻枠に張力をほとんど掛けずに巻き付け
臨界電流を測定したところ、上記測定結果とほぼ同じ特
性が得られた。これらの結果から、実施の形態１の手法
において、線材直径の５０倍以上の曲げ半径と７０ＭＰ
ａ以下の張力を加えエナメル被覆処理を行うことによ
り、特性を著しく低下させることなく被覆された化合物
超電導線を得ることができた。
径１２０ｍｍの巻枠に張力をほとんど掛けずに巻き付け
臨界電流を測定したところ、上記測定結果とほぼ同じ特
性が得られた。これらの結果から、実施の形態１の手法
において、線材直径の５０倍以上の曲げ半径と７０ＭＰ
ａ以下の張力を加えエナメル被覆処理を行うことによ
り、特性を著しく低下させることなく被覆された化合物
超電導線を得ることができた。
【００２８】尚、実施の形態３では、エナメル被覆加工
時の条件について述べたが、エナメル絶縁後の化合物超
電導線をコイルに巻線する場合においても、線材直径の
５０倍以上の曲げ半径と７０ＭＰａ以下の張力の条件
で、コイル巻線を実施することにより、超電導特性を低
下させることなくコイル化できることは言うまでもな
い。
時の条件について述べたが、エナメル絶縁後の化合物超
電導線をコイルに巻線する場合においても、線材直径の
５０倍以上の曲げ半径と７０ＭＰａ以下の張力の条件
で、コイル巻線を実施することにより、超電導特性を低
下させることなくコイル化できることは言うまでもな
い。
【００２９】実施の形態４．次に本発明の実施の形態４
による化合物超電導線について説明する。超電導線は通
電時の損失に伴う超電導安定性（常電導状態に転移する
ことなく、超電導状態を維持する特性）を向上するため
に、超電導体を例えば数μｍという細い線にして銅など
の金属に埋め込んでいる。さらにこの線を捻ることで、
より安定性を向上させている。
による化合物超電導線について説明する。超電導線は通
電時の損失に伴う超電導安定性（常電導状態に転移する
ことなく、超電導状態を維持する特性）を向上するため
に、超電導体を例えば数μｍという細い線にして銅など
の金属に埋め込んでいる。さらにこの線を捻ることで、
より安定性を向上させている。
【００３０】これまで述べた実施の形態のように化合物
超電導体は脆いため超電導細線の直径が１μｍ以下のも
のではエナメル被覆を施す場合に細線が切れやすくなり
超電導特性が低下した。例えば、実施の形態１乃至３で
述べた化合物超電導線は超電導細線の直径が２μｍ程度
であった。以上の結果から、熱処理した化合物超電導線
をエナメル被覆する場合は、超電導細線の直径が１μｍ
以上であることが望ましい。
超電導体は脆いため超電導細線の直径が１μｍ以下のも
のではエナメル被覆を施す場合に細線が切れやすくなり
超電導特性が低下した。例えば、実施の形態１乃至３で
述べた化合物超電導線は超電導細線の直径が２μｍ程度
であった。以上の結果から、熱処理した化合物超電導線
をエナメル被覆する場合は、超電導細線の直径が１μｍ
以上であることが望ましい。
【００３１】
【発明の効果】本発明に係る化合物超電導線は、化合物
超電導相が形成された化合物超電導裸線にエナメルが被
覆された化合物超電導線であって、上記化合物超電導裸
線は、断面の最小幅に対する最大幅の比が２以下である
ので、線材断面形状がいびつになることなく絶縁被覆に
隙間が無く、コイル化した場合に超電導線の占積率が大
きく低下しないという効果がある。
超電導相が形成された化合物超電導裸線にエナメルが被
覆された化合物超電導線であって、上記化合物超電導裸
線は、断面の最小幅に対する最大幅の比が２以下である
ので、線材断面形状がいびつになることなく絶縁被覆に
隙間が無く、コイル化した場合に超電導線の占積率が大
きく低下しないという効果がある。
【００３２】又、エナメルは、化合物超電導裸線に対し
て、該化合物超電導裸線の断面の最小幅に対し５０倍以
上の曲げ半径で曲げを複数回施しかつ７０ＭＰａ以下の
張力をかけた条件下において、被覆されたので、被覆処
理時に超電導特性が顕著に劣化することがないという効
果を有する。
て、該化合物超電導裸線の断面の最小幅に対し５０倍以
上の曲げ半径で曲げを複数回施しかつ７０ＭＰａ以下の
張力をかけた条件下において、被覆されたので、被覆処
理時に超電導特性が顕著に劣化することがないという効
果を有する。
【００３３】又、化合物超電導相はＮｂ3Ｓｎ超電導相
であるので、エナメル被覆処理を行う場合に引っ張り応
力が加わっても超電導細線が切れにくく超電導特性が顕
著に劣化することがないという効果がある。
であるので、エナメル被覆処理を行う場合に引っ張り応
力が加わっても超電導細線が切れにくく超電導特性が顕
著に劣化することがないという効果がある。
【００３４】又、化合物超電導裸線は、化合物超電導細
線の集合体部とその周囲に形成された金属もしくは合金
からなる周辺部とからなり、化合物超電導細線の径は１
μｍ以上であるので、エナメル被覆処理を行う場合に引
っ張り応力が加わっても超電導細線が切れにくく超電導
特性が顕著に劣化することがないという効果がある。
線の集合体部とその周囲に形成された金属もしくは合金
からなる周辺部とからなり、化合物超電導細線の径は１
μｍ以上であるので、エナメル被覆処理を行う場合に引
っ張り応力が加わっても超電導細線が切れにくく超電導
特性が顕著に劣化することがないという効果がある。
【００３５】又、化合物超電導裸線は、化合物超電導細
線の集合体部とその周囲に形成された金属もしくは合金
からなる周辺部とからなり、上記集合体部の外径は、上
記化合物超電導裸線の外径の３分の２以下であるので、
エナメル被覆時の複数回の曲げによる超電導特性の低下
を防ぐことができるという効果がある。
線の集合体部とその周囲に形成された金属もしくは合金
からなる周辺部とからなり、上記集合体部の外径は、上
記化合物超電導裸線の外径の３分の２以下であるので、
エナメル被覆時の複数回の曲げによる超電導特性の低下
を防ぐことができるという効果がある。
【００３６】本発明に係る化合物超電導線の製造方法
は、熱処理により化合物超電導相が生成された化合物超
電導裸線に、上記化合物超電導裸線の断面の最小幅に対
し５０倍以上の曲げ半径で曲げを複数回施しかつ７０Ｍ
Ｐａ以下の張力をかけた条件下において、エナメルを被
覆するので、被覆処理時に超電導特性を顕著に劣化させ
ることがないという効果を有する。
は、熱処理により化合物超電導相が生成された化合物超
電導裸線に、上記化合物超電導裸線の断面の最小幅に対
し５０倍以上の曲げ半径で曲げを複数回施しかつ７０Ｍ
Ｐａ以下の張力をかけた条件下において、エナメルを被
覆するので、被覆処理時に超電導特性を顕著に劣化させ
ることがないという効果を有する。
【００３７】本発明に係る化合物超電導線の製造装置
は、化合物超電導相が形成された化合物超電導裸線に、
該化合物超電導裸線の断面の最小幅に対し５０倍以上の
曲げ半径で曲げを複数回施しかつ７０ＭＰａ以下の張力
をかけた条件下において、エナメルを被覆可能なので、
被覆処理時に超電導特性を顕著に劣化させることがない
という効果を有する。
は、化合物超電導相が形成された化合物超電導裸線に、
該化合物超電導裸線の断面の最小幅に対し５０倍以上の
曲げ半径で曲げを複数回施しかつ７０ＭＰａ以下の張力
をかけた条件下において、エナメルを被覆可能なので、
被覆処理時に超電導特性を顕著に劣化させることがない
という効果を有する。
【図１】 本発明の実施の形態１による化合物超電導線
の加工工程と、従来の工程を比較した図である。
の加工工程と、従来の工程を比較した図である。
【図２】 本発明の実施の形態１による化合物超電導線
のエナメル被覆処理装置を示す図である。
のエナメル被覆処理装置を示す図である。
【図３】 絶縁厚さと超電導線の占積率の関係を示すグ
ラフである。
ラフである。
【図４】 本発明の実施の形態２による化合物超電導線
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図５】 従来の化合物超電導線の被覆処理方法を示す
図である。
図である。
１，５１ 化合物超電導裸線、 ２ａ，２ｂ 絶縁テープ、 １０ 化合物超電導線、 ５３ 巻出しドラム、 ５５ 洗浄器、 ５７ エナメル被覆器、 ５９ 巻取りドラム、 ６１ プリー、 １０１ 化合物超電導細線集合体部、 １０３ 銅部材（周辺部）、 １０５ エナメル。
Claims (7)
- 【請求項１】 化合物超電導相が形成された化合物超電
導裸線にエナメルが被覆された化合物超電導線であっ
て、 上記化合物超電導裸線は、断面の最小幅に対する最大幅
の比が２以下であることを特徴とする化合物超電導線。 - 【請求項２】 エナメルは、化合物超電導裸線に対し
て、該化合物超電導裸線の断面の最小幅に対し５０倍以
上の曲げ半径で曲げを複数回施しかつ７０ＭＰａ以下の
張力をかけた条件下において、被覆されたものであるこ
とを特徴とする請求項１に記載の化合物超電導線。 - 【請求項３】 化合物超電導相はＮｂ3Ｓｎ超電導相で
あることを特徴とする請求項１又は２に記載の化合物超
電導線。 - 【請求項４】 化合物超電導裸線は、化合物超電導細線
の集合体部とその周囲に形成された金属もしくは合金か
らなる周辺部とからなり、 化合物超電導細線の径は１μｍ以上であることを特徴と
する請求項１ないし３のいずれか１項に記載の化合物超
電導線。 - 【請求項５】 化合物超電導裸線は、化合物超電導細線
の集合体部とその周囲に形成された金属もしくは合金か
らなる周辺部とからなり、 上記集合体部の外径は、上記化合物超電導裸線の外径の
３分の２以下であることを特徴とする請求項１ないし４
のいずれか１項に記載の化合物超電導線。 - 【請求項６】 熱処理により化合物超電導相が生成され
た化合物超電導裸線に、上記化合物超電導裸線の断面の
最小幅に対し５０倍以上の曲げ半径で曲げを複数回施し
かつ７０ＭＰａ以下の張力をかけた条件下において、エ
ナメルを被覆することを特徴とする化合物超電導線の製
造方法。 - 【請求項７】 化合物超電導相が形成された化合物超電
導裸線に、該化合物超電導裸線の断面の最小幅に対し５
０倍以上の曲げ半径で曲げを複数回施しかつ７０ＭＰａ
以下の張力をかけた条件下において、エナメルを被覆可
能な化合物超電導線の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30357599A JP3674415B2 (ja) | 1999-10-26 | 1999-10-26 | 化合物超電導線、その製造方法及びその製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30357599A JP3674415B2 (ja) | 1999-10-26 | 1999-10-26 | 化合物超電導線、その製造方法及びその製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001126554A true JP2001126554A (ja) | 2001-05-11 |
| JP3674415B2 JP3674415B2 (ja) | 2005-07-20 |
Family
ID=17922662
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30357599A Expired - Fee Related JP3674415B2 (ja) | 1999-10-26 | 1999-10-26 | 化合物超電導線、その製造方法及びその製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3674415B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006253592A (ja) * | 2005-03-14 | 2006-09-21 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 超電導コイル及びその製造方法 |
| US12020830B2 (en) | 2018-09-28 | 2024-06-25 | Furukawa Electric Co., Ltd. | Insulation-coated compound superconducting wire and rewinding method thereof |
-
1999
- 1999-10-26 JP JP30357599A patent/JP3674415B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006253592A (ja) * | 2005-03-14 | 2006-09-21 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 超電導コイル及びその製造方法 |
| US12020830B2 (en) | 2018-09-28 | 2024-06-25 | Furukawa Electric Co., Ltd. | Insulation-coated compound superconducting wire and rewinding method thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3674415B2 (ja) | 2005-07-20 |
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