JP2001118949A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JP2001118949A
JP2001118949A JP29854199A JP29854199A JP2001118949A JP 2001118949 A JP2001118949 A JP 2001118949A JP 29854199 A JP29854199 A JP 29854199A JP 29854199 A JP29854199 A JP 29854199A JP 2001118949 A JP2001118949 A JP 2001118949A
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JP
Japan
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semiconductor chip
carrier tape
semiconductor
interposer
semiconductor device
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JP29854199A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshiaki Emoto
義明 江本
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto
    • HELECTRICITY
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    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device wherein a semiconductor chip and an interposer are arranged side by side on a carrier tape and which can provide good electrical characteristics with use of a short wiring pattern substantially symmetrical with respect to the semiconductor chip, can facilitate its manufacturing with a small size, and can improve its heat radiating performance. SOLUTION: A semiconductor chip electrically connected to a wiring formed on a carrier tape is arranged in a side-by-side relation with an interposer on the tape and in the vicinity of the chip. The tape is bent so as to wrap the chip arranged on the tape in its center, the chip and interposer are overlapped, and then covered with molding resin.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置に係
り、半導体チップに対してほぼ対称の配線パターンの短
い配線を用いて電気的特性を良好にし、製造が容易で、
かつ、小型で放熱性を向上させることができる半導体装
置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device, and uses a short wiring having a wiring pattern substantially symmetrical with respect to a semiconductor chip to improve electrical characteristics, to facilitate manufacture.
Also, the present invention relates to a semiconductor device which is small and can improve heat dissipation.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器の高性能化、小型化の要
望に伴って、半導体チップそのものの高集積化で小型に
するとともに、かつ多ピンの半導体装置が求められるよ
うになっている。また、高性能化、小型化の要望に伴っ
て半導体チップを一つのパッケージ内に複数個配置して
マルチチップパッケージ(MCP)とすることにより、
半導体装置の高機能化と小型化とが図られている。上記
の小型化と多ピン化を図るものとして、例えば、特開平
6−334098号公報の半導体装置が提案されてい
る。この半導体装置110は、図11および図12に示
すように、フレキシブル配線基板116放熱板117を
接合し、放熱板117の接合部分と対応する他方の面に
は多層プリント回路基板からなるパッケージ本体112
を接合し、パッケージ本体112の外方に延出したフレ
キシブル配線基板116を折り返してパッケージ本体1
12のキャビティ115が開口した面側に接合して形成
している。このように形成した半導体装置は、図12に
示すように、放熱板117にはさらに放熱フィン117
aが取り付けられ、パッケージ本体112に接合したフ
レキシブル配線基板116の外面にプリント回路基板な
どの回路基板116aを介して外部接続端子118とし
てのリードピンが接合されて構成されている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the demand for higher performance and smaller size of electronic equipment, a semiconductor device having a high integration and a smaller size and a multi-pin semiconductor device have been required. Also, with the demand for higher performance and smaller size, a plurality of semiconductor chips are arranged in one package to form a multi-chip package (MCP).
Higher functionality and miniaturization of semiconductor devices have been achieved. For achieving the above miniaturization and increase in the number of pins, for example, a semiconductor device disclosed in JP-A-6-334098 has been proposed. As shown in FIGS. 11 and 12, the semiconductor device 110 has a package body 112 formed of a multilayer printed circuit board on the other surface corresponding to the joint portion of the heat sink 117 with a flexible wiring board 116 joined to the heat sink 117.
And the flexible wiring board 116 extending outside the package body 112 is folded back to form a package body 1
Twelve cavities 115 are joined to the open side. In the semiconductor device thus formed, as shown in FIG.
a is attached, and a lead pin as an external connection terminal 118 is joined to an outer surface of the flexible wiring board 116 joined to the package body 112 via a circuit board 116a such as a printed circuit board.

【0003】また、前記の一つのパッケージ内に複数個
の半導体チップを配置したマルチチップパッケージに
は、複数の半導体チップが平面的に並べられた平面型M
CPと、複数の半導体チップを厚み方向に積層した積層
型(スタックド)MCPとがある。半導体チップを平面
的に並べられた平面型MCPは、広い実装面積を必要と
するため、電子機器の小型化への寄与率が小さい。この
ため、半導体チップを積層した積層型MCPの開発が盛
んに行われている。この例として、特開平6−2043
99号公報や特開平8−167630号公報記載の、半
導体チップをパッケージに封止した後に垂直に積み重
ね、ビアホールやスルーホールを用いてパッケージ間の
電気的接続を行うことによりモジュールを形成する技
術、などがある。
A multi-chip package in which a plurality of semiconductor chips are arranged in one package has a planar type M in which a plurality of semiconductor chips are arranged in a plane.
There are a CP and a stacked (stacked) MCP in which a plurality of semiconductor chips are stacked in the thickness direction. A planar MCP in which semiconductor chips are arranged in a plane requires a large mounting area, and therefore has a small contribution to miniaturization of electronic devices. For this reason, a stacked MCP in which semiconductor chips are stacked has been actively developed. An example of this is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 6-2043.
No. 99 or JP-A-8-167630, a technique for forming a module by stacking semiconductor chips vertically after sealing them in a package and making electrical connection between the packages using via holes and through holes; and so on.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の
特開平6−334098号公報の半導体装置において
は、フレキシブル配線基板116の片面に、予め所定の
配線パターンが形成されたプリント基板を多層に積層し
てキャビティ115を形成したパッケージ本体112を
接合して製造するため組み立てが複雑であったり、効果
的に小型化が図れないという問題点があった。
However, in the semiconductor device disclosed in JP-A-6-334098, a printed circuit board having a predetermined wiring pattern formed on one side of a flexible wiring board 116 is laminated in multiple layers. Therefore, since the package body 112 having the cavity 115 formed therein is joined and manufactured, there are problems that the assembly is complicated and the size cannot be effectively reduced.

【0005】また、従来の積層型MCPでは、半導体チ
ップと配線基板とを電気的に接続するために層間接続を
行うためのビアホールやスルーホールを形成する必要が
あるので、層間の位置合わせ、穴あけ加工、穴への導体
の充填もしくは鍍金加工などの製造プロセスが困難であ
る。このために、ビアホールやスルーホール等の製造困
難な製造プロセスを用いずに、銅配線を施した絶縁フィ
ルムテープに半導体チップを載置するとともに、積層し
た半導体チップを電気的に接続したもの、例えば、特開
平8−167630号公報が提案されている。少なくと
も一つの半導体チップと、それらを搭載するための基板
と、その基板上に形成された前記半導体チップと電気的
に接続された配線からなる半導体モジュールにおいて、
前記基板を折り畳むことにより多層化を行い、前記基板
の層間を接着手段により接着する。また、折り畳んだ層
間に、熱拡散用基板を配置し熱を拡散することを行う。
また、折り畳んだ層間に、剛性確保用基板を配置し、半
導体モジュールの剛性を上げ、反り等の変形により半田
ボールが浮き上がるのを防止し、半導体モジュールと配
線基板との電気的接続を確実にすることが記載されてい
る。しかしながら、同公報の場合には、基板が山折り線
と谷折り線の部分から折り畳まれて多層化が行われると
ともに、谷折り線の部分の同一空間内に半導体チップが
配設されており、かつ、その空間内に半導体チップの能
動面が対向して配置されている。このため、基板は山折
り線では、曲げ半径を小さくすると配線の切断等が生ず
る恐れがあるために大きくとる必要が生じ、また、この
山折り線が複数個所あるために半導体モジュールの厚さ
が厚くなる。さらに、対向する半導体チップから発生す
る熱が互いに作用し、更に、温度を向上させて半導体チ
ップに異常動作を起こし、延いては、それを元にして半
導体モジュールに異常を生じさせる。特に、半導体チッ
プの能動面が対向した位置に配置されている場合には、
この熱が互いに作用して異常動作を起こし易い。このた
めに同公報では、半導体チップの間に熱拡散用基板が配
置され熱を拡散することを行っているが、能動面に接し
て配設されているために熱拡散用基板を介して半導体チ
ップの発生する熱が互いに作用することに変化がなく、
温度は余り少なくならないために、温度を上昇させて半
導体チップに異常動作を起こすことが生ずるとともに、
大形になるという問題がまだ残っている。
[0005] In the conventional laminated MCP, via holes and through holes for interlayer connection must be formed in order to electrically connect the semiconductor chip and the wiring board. Manufacturing processes such as processing, filling of conductors in holes, or plating are difficult. For this reason, without using a difficult manufacturing process such as via holes and through holes, a semiconductor chip is mounted on an insulating film tape provided with copper wiring, and a stacked semiconductor chip is electrically connected, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-167630 has been proposed. In a semiconductor module comprising at least one semiconductor chip, a substrate for mounting them, and wiring electrically connected to the semiconductor chip formed on the substrate,
The substrate is folded to be multilayered, and the layers of the substrate are bonded by bonding means. In addition, a heat diffusion substrate is arranged between the folded layers to diffuse heat.
In addition, a rigidity securing substrate is disposed between the folded layers to increase the rigidity of the semiconductor module, prevent the solder balls from floating due to deformation such as warpage, and ensure electrical connection between the semiconductor module and the wiring board. It is described. However, in the case of the publication, the substrate is folded from the portion of the mountain fold line and the valley fold line to perform multilayering, and the semiconductor chip is disposed in the same space of the portion of the valley fold line, In addition, the active surfaces of the semiconductor chips are arranged to face each other in the space. For this reason, it is necessary to increase the size of the substrate at the mountain fold line because if the bending radius is reduced, the wiring may be cut or the like may occur, and the thickness of the semiconductor module is reduced because there are a plurality of the mountain fold lines. It gets thicker. Further, heat generated from the opposing semiconductor chips acts on each other, and further raises the temperature to cause an abnormal operation in the semiconductor chip, and further causes an abnormality in the semiconductor module based on the abnormal operation. In particular, when the active surface of the semiconductor chip is located at a position facing the semiconductor chip,
The heat acts on each other to cause abnormal operation. For this reason, in the same publication, a heat diffusion substrate is arranged between semiconductor chips to diffuse heat. However, since the heat diffusion substrate is arranged in contact with the active surface, the semiconductor is spread through the heat diffusion substrate. There is no change in the heat generated by the chips acting on each other,
Since the temperature does not decrease too much, the temperature may rise and cause abnormal operation of the semiconductor chip,
The problem of large size still remains.

【0006】本発明は、上記従来の問題点に着目し、キ
ャリアテープ上に半導体チップおよびインタポーザとを
並置するとともに、半導体チップに対してほぼ対称の配
線パターンの短い配線を用いて電気的特性を良好にし、
製造が容易で、かつ、小型で放熱性が向上できる半導体
装置を提供することを目的としている。また、他の目的
として、電子部品を搭載したキャリアテープを用いて使
用面積を小さくし、それに伴いパッケージ全体の外形寸
法が小さくできて実装面積を縮小することができ、作業
性、生産性を向上させて製造コストを低減できる半導体
装置を得る。
The present invention focuses on the above-mentioned conventional problems, and arranges a semiconductor chip and an interposer on a carrier tape side by side, and uses a short wiring having a wiring pattern substantially symmetrical with respect to the semiconductor chip to improve electrical characteristics. Good and
It is an object of the present invention to provide a semiconductor device which is easy to manufacture, small in size, and capable of improving heat dissipation. For other purposes, the use area can be reduced by using a carrier tape on which electronic components are mounted, and as a result, the external dimensions of the entire package can be reduced and the mounting area can be reduced, improving workability and productivity. Thus, a semiconductor device whose manufacturing cost can be reduced is obtained.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係る半導体装置は、キャリアテープ上に形
成した配線に電気的に接続した半導体チップと、キャリ
アテープ上で、かつ前記半導体チップの周辺にインタポ
ーザとを並置するとともに、中央に配置した半導体チッ
プを内包するようにキャリアテープを折り曲げて半導体
チップとインタポーザを重ね合せ、モールド樹脂で覆っ
たことを特徴としている。
In order to achieve the above object, a semiconductor device according to the present invention comprises: a semiconductor chip electrically connected to wiring formed on a carrier tape; The semiconductor device is characterized in that an interposer is juxtaposed around a chip, a carrier tape is bent so as to include the semiconductor chip arranged in the center, the semiconductor chip and the interposer are overlapped, and covered with a mold resin.

【0008】このように構成した本発明は、中心に配置
した半導体チップに対して図示の左右、あるいは/およ
び、前後方向にほぼ同じ長さのキャリアテープ材を有し
ているので、配線パターンの長さを短くでき、電気的特
性を良好にすることが出来る。また、左右対称の短いキ
ャリアテープ材を左右同様に折り曲げれば良く製造が容
易にできる。
According to the present invention having such a structure, the carrier tape material having substantially the same length in the left, right, and / or front and rear directions as shown with respect to the semiconductor chip disposed at the center is provided. The length can be shortened, and the electrical characteristics can be improved. In addition, it is only necessary to bend the short symmetrical carrier tape material in the same manner as the left and right sides, and the production can be facilitated.

【0009】また、本発明に係る半導体装置は、キャリ
アテープ上に形成した配線に電気的に接続した複数の並
列した半導体チップと、キャリアテープ上で、かつ中央
に配置した半導体チップの上下両側にインタポーザとを
並置するとともに、キャリアテープを折り曲げて中央の
半導体チップの一面にインタポーザを、他面に半導体チ
ップを重ね合わせて多層化し、モールド樹脂で覆った構
成にすることもできる。
In addition, a semiconductor device according to the present invention includes a plurality of parallel semiconductor chips electrically connected to wiring formed on a carrier tape, and a plurality of semiconductor chips arranged on the carrier tape and on both upper and lower sides of a semiconductor chip arranged at the center. The interposer and the interposer may be juxtaposed, and the carrier tape may be bent so that the interposer is superimposed on one surface of the central semiconductor chip and the semiconductor chip is superimposed on the other surface to form a multilayer, which is covered with a mold resin.

【0010】このように構成した本発明は、前記と同様
に、中心に配置した半導体チップに対して図示の上下方
向にほぼ同じ長さのキャリアテープ材を有しているの
で、配線パターンの長さを短くでき、電気的特性を良好
にすることが出来る。また、キャリアテープとインタポ
ーザとを近接して配置することができるので小型化がで
きる。
As described above, the present invention has a carrier tape material having substantially the same length in the vertical direction as shown in FIG. And the electrical characteristics can be improved. Further, since the carrier tape and the interposer can be arranged close to each other, the size can be reduced.

【0011】また、本発明に係る半導体装置は、並置し
た半導体チップに隣接してテープ材のインタポーザをキ
ャリアテープ上に配置し、かつ、インタポーザに外部接
続端子を配設することが望ましい。
In the semiconductor device according to the present invention, it is preferable that an interposer made of a tape material is disposed on the carrier tape adjacent to the juxtaposed semiconductor chips, and external connection terminals are disposed on the interposer.

【0012】このように構成した本発明は、並置した半
導体チップに隣接してテープ材のインタポーザをキャリ
アテープ上に配置しており、インタポーザに外部接続端
子を配設しているため、インタポーザにより外部接続端
子部が補強されるとともに、単層の配線で良くなりコス
トが安価になる。
According to the present invention constructed as described above, an interposer made of a tape material is arranged on a carrier tape adjacent to the juxtaposed semiconductor chips, and external connection terminals are arranged on the interposer. The connection terminal portion is reinforced, and a single-layer wiring is sufficient and the cost is reduced.

【0013】また、本発明に係る半導体装置は、半導体
チップの能動面を非対向として上下方向に重ね合わせて
多層化を行うことが望ましい。
In the semiconductor device according to the present invention, it is desirable that the active surfaces of the semiconductor chips are not opposed to each other and are stacked in a vertical direction to form a multilayer structure.

【0014】このように構成した本発明は、半導体チッ
プの能動面を非対向にしながら半導体チップを重ねて多
層化しモールド樹脂で覆った構成にすることもできるの
で、半導体チップは、能動面が互いに対向する面に配置
されることがなくなり、能動面から発生する熱が互いに
作用して熱を上昇させることがなくなり、半導体チップ
の温度が上昇することが少なくなる。このため、半導体
チップに異常動作が発生することがなくなり、半導体モ
ジュールは正常に動作する。
According to the present invention having such a configuration, the semiconductor chips can be stacked and multilayered and covered with mold resin while the active surfaces of the semiconductor chips are not opposed to each other. This prevents the semiconductor chip from being disposed on the opposing surface, and prevents the heat generated from the active surface from acting on each other to raise the heat, thereby reducing the rise in the temperature of the semiconductor chip. Therefore, abnormal operation does not occur in the semiconductor chip, and the semiconductor module operates normally.

【0015】また、本発明に係る半導体装置は、重ねら
れた半導体チップ間は非キャリアテープとすることが望
ましい。
Further, in the semiconductor device according to the present invention, it is desirable that a non-carrier tape is provided between the stacked semiconductor chips.

【0016】このように構成した本発明は、重ねられた
半導体チップ間はキャリアテープを省いた分だけ半導体
チップ間の隙間を小さくできるので半導体モジュールの
厚さを薄くことができる。また、熱伝導率の良くないキ
ャリアテープが配設されていないため、半導体チップの
放熱性が良くなり、温度が余り上昇することがなくな
り、異常動作の発生を防止できる。
According to the present invention thus configured, the gap between the semiconductor chips can be reduced by the amount of the carrier tape omitted between the stacked semiconductor chips, so that the thickness of the semiconductor module can be reduced. Further, since no carrier tape having poor heat conductivity is not provided, the heat dissipation of the semiconductor chip is improved, the temperature does not rise so much, and the occurrence of abnormal operation can be prevented.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下に、本発明に係る半導体装置
の好ましい実施の形態を添付図面に従って詳細に説明す
る。
Preferred embodiments of a semiconductor device according to the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.

【0018】図1は本発明の第1実施形態に係る半導体
装置1の展開平面図、図2は半導体装置1の側面断面図
である。
FIG. 1 is a developed plan view of a semiconductor device 1 according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a side sectional view of the semiconductor device 1.

【0019】図1あるいは図2において、第1実施形態
の半導体装置1では、図示で横方向に長い長方形のキャ
リアテープ材3を用いており、そのほぼ中央部に半導体
チップ5(一点鎖線で示す)を配置するとともに、その
半導体チップ5の両側に詳細は後述するインタポーザ2
9a、29bを配置している。半導体装置1は、キャリ
アテープ材3のほぼ中央部上に半導体チップ5が電気的
に接続されて載置されている。この半導体チップ5は、
長方形形状に形成されるとともに、その細長い対向する
対辺近傍に並列に複数の電極7、9を有している。この
電極7、9は、例えば、図示の左側に第1電極7a、7
b、7c、…が、また、右側に第2電極9a、9b、9
c、…が配設されている。この電極の変りにはバンプを
使用しても良い。
In FIG. 1 or FIG. 2, the semiconductor device 1 of the first embodiment uses a rectangular carrier tape material 3 which is long in the horizontal direction as shown in the figure, and has a semiconductor chip 5 (shown by a dashed line) substantially in the center. ), And an interposer 2 which will be described in detail later on both sides of the semiconductor chip 5.
9a and 29b are arranged. In the semiconductor device 1, a semiconductor chip 5 is mounted on a carrier tape material 3 at a substantially central portion thereof while being electrically connected thereto. This semiconductor chip 5
It is formed in a rectangular shape, and has a plurality of electrodes 7 and 9 in parallel in the vicinity of opposing elongated sides thereof. The electrodes 7, 9 are, for example, first electrodes 7a, 7
, and the second electrodes 9a, 9b, 9 on the right side.
c,... are provided. A bump may be used for this electrode change.

【0020】半導体チップ5が載置されている下面のキ
ャリアテープ材3には、半導体チップ5の位置と重合す
るようにデバイスホール11があけられている。このデ
バイスホール11の寸法は、半導体チップ5の外形より
も小さい孔があけられており、半導体チップ5とデバイ
スホール11とは所定の寸法Laで重ねられ、電気的に
接続されている。これにより、半導体装置1は小型にで
きる。また、デバイスホール11は半導体チップ5より
も反対に大きくして図示しない接着剤で固定しても良
い。
A device hole 11 is formed in the carrier tape material 3 on the lower surface on which the semiconductor chip 5 is mounted so as to overlap with the position of the semiconductor chip 5. The dimensions of the device hole 11 are smaller than the outer shape of the semiconductor chip 5, and the semiconductor chip 5 and the device hole 11 are overlapped with a predetermined dimension La and are electrically connected. Thereby, the semiconductor device 1 can be reduced in size. The device hole 11 may be made larger than the semiconductor chip 5 and fixed with an adhesive (not shown).

【0021】キャリアテープ材3は、ポリイミド、ポリ
エステル、あるいは、ガラスエキシポ系材料の樹脂等か
らなるフレキシブルで、かつ、絶縁フィルムテープが用
いられており、曲げ自在に構成されている。このキャリ
アテープ材3の上には、一端面側に銅配線13が、ま
た、他端面側に後述する半田ボール15が形成されるラ
ンド17が形成されている。一端面側の銅配線13と他
端面側の半田ボール15とは、キャリアテープ材3に設
けられたスルーホール19により電気的に接続されてい
る。このため、スルーホール19には、貫通している孔
の内面にメッキを施す方法、孔内に配設された導電性物
質を充填する方法、あるいは、孔内に配設された導電性
金属材料のワイヤ又は棒等を接続する方法、等により電
気的に接続されている。
The carrier tape material 3 is a flexible and insulating film tape made of a resin such as polyimide, polyester, or a glass epoxy material, and is bendable. On this carrier tape material 3, a copper wiring 13 is formed on one end surface side, and a land 17 on which a solder ball 15 to be described later is formed is formed on the other end surface side. The copper wiring 13 on one end side and the solder balls 15 on the other end side are electrically connected by through holes 19 provided in the carrier tape material 3. For this reason, the through hole 19 may be formed by plating the inner surface of the through hole, filling a conductive material disposed in the hole, or forming a conductive metal material disposed in the hole. Are electrically connected by a method of connecting wires, rods, or the like.

【0022】銅配線13は、絶縁性のフレキシブルフィ
ルムに銅泊をエッジングして所定の配線パターンを形成
するとともに、かつ、その一端部が半導体チップ5の対
応する電極7、9に接続するため、インナリード23、
25がデバイスホール11の細長い左右対辺の周縁の端
部を越えて内側に突出しているように設けられている。
このインナリード23、25は、図示の左側にインナリ
ード23a、23b、23c、…が、また、図示の右側
にインナリード25a、25b、25c、…が配設され
ている。この銅配線13は、蒸着法、スパッタリング法
により、フレキシブルフィルムの表面に導体膜を形成
し、導体膜をエッチングして所定の配線パターンを形成
することもできる。この銅配線13は、電極7、9およ
び半田ボール15が接着されるランド17を除いて、ポ
リイミド等の保護用の樹脂を塗布して保護膜を形成する
ようにしても良い。
The copper wiring 13 is formed by edging the copper foil on an insulating flexible film to form a predetermined wiring pattern, and one end of the copper wiring 13 is connected to the corresponding electrodes 7 and 9 of the semiconductor chip 5. Inner lead 23,
Reference numeral 25 is provided so as to protrude inward beyond the peripheral end of the elongated left and right sides of the device hole 11.
The inner leads 23, 25 are provided with inner leads 23a, 23b, 23c,... On the left side in the figure, and the inner leads 25a, 25b, 25c,. The copper wiring 13 may be formed by forming a conductive film on the surface of the flexible film by vapor deposition or sputtering, and etching the conductive film to form a predetermined wiring pattern. Except for the lands 17 to which the electrodes 7 and 9 and the solder balls 15 are bonded, the copper wiring 13 may be coated with a protective resin such as polyimide to form a protective film.

【0023】このキャリアテープ材3は、ほぼ中央部に
配設された半導体チップ5を挟んで、例えば、図示の左
側に第1キャリアテープ材3aが、また、図示の右側に
第2キャリアテープ材3bが配設されている。第1キャ
リアテープ材3aには第1折り曲げ部27aが、また、
第2キャリアテープ材3bには第2折り曲げ部27bが
設けられている。この銅配線13は、例えば、TAB
(Tape Automated Bonding)技術により、半導体チップ
5の電極7、9および半田ボール15と電気的に接続さ
れる。また、銅配線13は、例えば、エポシキ系銀ペー
スト等の接着剤により接合されてワイヤボンディングに
より、半導体チップ5の電極7、9および半田ボール1
5と電気的に接続されるようにしても良い。
The carrier tape member 3 has, for example, a first carrier tape member 3a on the left side in the drawing and a second carrier tape member 3 on the right side in the drawing with the semiconductor chip 5 disposed substantially at the center therebetween. 3b is provided. The first carrier tape member 3a has a first bent portion 27a,
The second bent portion 27b is provided on the second carrier tape material 3b. This copper wiring 13 is, for example, TAB
The electrodes 7 and 9 of the semiconductor chip 5 and the solder balls 15 are electrically connected by a (Tape Automated Bonding) technique. The copper wiring 13 is bonded to the electrodes 7 and 9 of the semiconductor chip 5 and the solder balls 1 by wire bonding, for example, by bonding with an adhesive such as epoxy silver paste.
5 may be electrically connected.

【0024】また、図示の左側の第1キャリアテープ材
3aには第1インタポーザ29aが、また、図示の右側
に第2キャリアテープ材3bには第2インタポーザ29
bが図示しない接着剤により固設されている。
A first interposer 29a is provided on the first carrier tape member 3a on the left side in the drawing, and a second interposer 29 is provided on the second carrier tape member 3b on the right side in the drawing.
b is fixed by an adhesive (not shown).

【0025】上記のごとく展開された半導体装置1は、
次のような工程順序で製造される。先ず、前記のように
半導体チップ5は、キャリアテープ材3にあけられたデ
バイスホール11と重合する位置に載置される。また、
半導体チップ5の電極7、9と、キャリアテープ材3の
銅配線をTAB技術あるいはワイヤボンディング技術に
より電気的に接続する。キャリアテープ材3の両方の端
部には、第1インタポーザ29aおよび第2インタポー
ザ29bが図示しない接着剤により固設される。次に、
半導体チップ5の両方に設けられた第1キャリアテープ
材3aの第1折り曲げ部27a、および、第2キャリア
テープ材3bの第2折り曲げ部27bが、半導体チップ
5を両キャリアテープ材3a、3bの内方の間に収納す
るように、ぼぼ直角に折り曲げられる。さらに、前記と
同様に、第1キャリアテープ材3aの第1折り曲げ部2
7a、および、第2キャリアテープ材3bの第2折り曲
げ部27bは、半導体チップ5の図示の下面と第1イン
タポーザ29aおよび第2インタポーザ29bとが重な
り合うようにぼぼ直角に折り曲げる。この状態で、半導
体チップ5とキャリアテープ材3の外側を所定の厚さ
で、および、半導体チップ5とキャリアテープの内側の
隙間を樹脂封止材31によりモールドする。この樹脂封
止にはモールド金型を用いたトランスファモールド方
法、あるいは、ポッティング樹脂を用いたポッティング
方法を用いることが出来る。この後に、ランド17に半
田ボール15が接着され、電気的に接続される。また、
半田ボール15は、銅球に半田を接着し、球状の外部接
着端子としても良い。
The semiconductor device 1 developed as described above has:
It is manufactured in the following process sequence. First, as described above, the semiconductor chip 5 is placed at a position where the semiconductor chip 5 overlaps the device hole 11 formed in the carrier tape material 3. Also,
The electrodes 7, 9 of the semiconductor chip 5 and the copper wiring of the carrier tape material 3 are electrically connected by TAB technology or wire bonding technology. A first interposer 29a and a second interposer 29b are fixed to both ends of the carrier tape material 3 by an adhesive (not shown). next,
The first bent portion 27a of the first carrier tape material 3a and the second bent portion 27b of the second carrier tape material 3b provided on both of the semiconductor chips 5 divide the semiconductor chip 5 between the two carrier tape materials 3a and 3b. It is bent at an almost right angle so as to be stored between the insides. Further, similarly to the above, the first bent portion 2 of the first carrier tape material 3a is formed.
7a and the second bent portion 27b of the second carrier tape material 3b are bent at a substantially right angle so that the illustrated lower surface of the semiconductor chip 5 and the first interposer 29a and the second interposer 29b overlap. In this state, the outside of the semiconductor chip 5 and the carrier tape material 3 is molded with a predetermined thickness, and the gap between the semiconductor chip 5 and the inside of the carrier tape is molded with the resin sealing material 31. For this resin sealing, a transfer molding method using a mold or a potting method using a potting resin can be used. Thereafter, the solder balls 15 are bonded to the lands 17 and are electrically connected. Also,
The solder ball 15 may be formed by bonding a solder to a copper ball to form a spherical external bonding terminal.

【0026】上記のように、デバイスホール11の寸法
を半導体チップ5の外形形状よりも小さくすることによ
り、デバイスホール11の周縁と半導体チップ5との周
縁との間に設けられるキャリアテープ材3の重複領域に
銅配線13を設けることができ、1個の半導体装置1に
対するキャリアテープ材3の使用を少なく出来る。ま
た、このキャリアテープ材3から製造される半導体装置
1の寸法を大幅に小さくし、実装面積を小さくすること
ができる。また、半導体チップ5に対して図示の左右方
向にほぼ同じ長さの第1キャリアテープ材3a、およ
び、第2キャリアテープ材3bを有しているので、配線
パターンの長さを短くでき、半導体装置1の電気的特性
を良好にすることが出来る。また、左右対称の短いキャ
リアテープ材を左右同様に折り曲げれば良く製造が容易
にできる。
As described above, by making the size of the device hole 11 smaller than the outer shape of the semiconductor chip 5, the carrier tape material 3 provided between the periphery of the device hole 11 and the periphery of the semiconductor chip 5 is formed. The copper wiring 13 can be provided in the overlapping area, and the use of the carrier tape material 3 for one semiconductor device 1 can be reduced. Further, the dimensions of the semiconductor device 1 manufactured from the carrier tape material 3 can be significantly reduced, and the mounting area can be reduced. Further, since the first carrier tape material 3a and the second carrier tape material 3b having substantially the same length in the horizontal direction as shown in the drawing with respect to the semiconductor chip 5, the length of the wiring pattern can be shortened. The electrical characteristics of the device 1 can be improved. In addition, it is only necessary to bend the short symmetrical carrier tape material in the same manner as the left and right sides, and the production can be facilitated.

【0027】図3は本発明の第2実施形態に係る半導体
装置1Aの展開平面図、図4は半導体装置1Aの側面断
面図、図5は半導体装置1Aの組立後の平面図である。
FIG. 3 is an exploded plan view of a semiconductor device 1A according to a second embodiment of the present invention, FIG. 4 is a side sectional view of the semiconductor device 1A, and FIG. 5 is a plan view of the semiconductor device 1A after assembly.

【0028】第2実施形態の半導体装置1Aでは、ほぼ
四角形形状のキャリアテープ材43を用いており、その
ほぼ中央部にほぼ四角形形状の半導体チップ45を90
度回転させて配置するとともに、その半導体チップ45
の各四辺より突出している三角形形状のインタポーザ4
9を折り曲げ自在に配置している。
In the semiconductor device 1A of the second embodiment, a substantially square carrier tape material 43 is used, and a substantially square semiconductor chip 45 is provided at a substantially central portion thereof.
And the semiconductor chip 45
Triangular interposer 4 protruding from each of the four sides
9 is arranged to be freely bent.

【0029】図3および図4において、キャリアテープ
材43のほぼ中央部上に半導体チップ45が電気的に接
続されて載置されている。この半導体チップ45は、ほ
ぼ四角形状に形成されるとともに、その各辺近傍に並列
に複数の電極51、53、55、57を有している。こ
の電極51、53、55、57は、例えば、図示の左側
に第1電極51a、51b、51c、…が、右側に第2
電極53a、53b、53c、…が、上側に第3電極5
5a、55b、55c、…が、および、下側に第4電極
57a、57b、57c、…が配設されている。
In FIGS. 3 and 4, a semiconductor chip 45 is electrically connected to and mounted on substantially the center of the carrier tape material 43. The semiconductor chip 45 is formed in a substantially square shape, and has a plurality of electrodes 51, 53, 55, and 57 near each side thereof in parallel. The electrodes 51, 53, 55, and 57 include, for example, first electrodes 51a, 51b, 51c,.
The electrodes 53a, 53b, 53c,...
5a, 55b, 55c,... And the fourth electrodes 57a, 57b, 57c,.

【0030】第1実施形態と同様に、半導体チップ45
が載置されている下面のキャリアテープ材43には、半
導体チップ45の位置と重合するようにデバイスホール
11があけられている。このデバイスホール11の寸法
は、図4に示すように、半導体チップ45の外形よりも
小さい孔があけられており、半導体チップ45とデバイ
スホール11とは所定の寸法Laで重ねられ、電気的に
接続されている。これにより、第1実施形態と同様に、
外形形状を小型にできる。
As in the first embodiment, the semiconductor chip 45
A device hole 11 is formed in the carrier tape material 43 on the lower surface on which is mounted so as to overlap the position of the semiconductor chip 45. As shown in FIG. 4, the size of the device hole 11 is smaller than the outer shape of the semiconductor chip 45, and the semiconductor chip 45 and the device hole 11 are overlapped with a predetermined size La, and are electrically connected. It is connected. Thereby, similarly to the first embodiment,
The external shape can be made smaller.

【0031】キャリアテープ材43は、第1実施形態と
同様に、キャリアテープ材43の上には、一端面側に銅
配線13が、また、他端面側に後述する半田ボール15
が形成されるランド17が形成されており、材料、構成
等も同一のために詳細な説明は省略する。
As in the first embodiment, the carrier tape material 43 has a copper wiring 13 on one end surface and a solder ball 15 to be described later on the other end surface.
Are formed, and the material, configuration, and the like are the same, and therefore detailed description is omitted.

【0032】銅配線13は、絶縁性のフレキシブルフィ
ルムに銅泊をエッジングして所定の配線パターンを形成
するとともに、かつ、その一端部が半導体チップ45の
対応する複数の電極51、53、55、57に接続する
ため、インナリード61、63、65、67が四角形状
にあけられたデバイスホール11の周縁の端部を越えて
内側に突出しているように設けられている。このインナ
リード61、63、65、67は、図示の左側に第1イ
ンナリード61a、61b、61c、…が、また、図示
の右側に第2インナリード63a、63b、63c、上
側に第3インナリード65a、65b、65c、…が、
および、下側に第4インナリード67a、67b、67
c、…が配設されている。この銅配線13は、前記第1
実施形態と同様に、フレキシブルフィルムの表面に導体
膜を形成することでも可能である。
The copper wiring 13 has a predetermined wiring pattern formed by edging copper wire on an insulating flexible film, and one end of the copper wiring 13 has a plurality of electrodes 51, 53, 55, In order to connect to the terminal 57, the inner leads 61, 63, 65, 67 are provided so as to protrude inward beyond the peripheral edge of the device hole 11 formed in a square shape. The inner leads 61, 63, 65, and 67 have first inner leads 61a, 61b, 61c,... On the left side in the drawing, second inner leads 63a, 63b, 63c on the right side in the drawing, and a third inner lead on the upper side. The leads 65a, 65b, 65c,.
And the fourth inner leads 67a, 67b, 67 on the lower side.
c,... are provided. The copper wiring 13 is formed by the first
As in the embodiment, it is also possible to form a conductor film on the surface of the flexible film.

【0033】このキャリアテープ材43は、例えば、図
3に示すように、ほぼ中央部に配設された四角形状の半
導体チップ45の各辺を囲んで三角形状に接続されてい
る。すなわち、半導体チップ45の図示の左側に第1キ
ャリアテープ材43aが、右側に第2キャリアテープ材
43bが、上側に第3キャリアテープ材43cが、およ
び、下側に第4キャリアテープ材43dが配設されてい
る。
As shown in FIG. 3, for example, the carrier tape material 43 is connected in a triangular shape so as to surround each side of a quadrangular semiconductor chip 45 disposed substantially at the center. That is, the first carrier tape material 43a is shown on the left side of the semiconductor chip 45, the second carrier tape material 43b is shown on the right side, the third carrier tape material 43c is shown on the upper side, and the fourth carrier tape material 43d is shown on the lower side. It is arranged.

【0034】第1キャリアテープ材43aには第1折り
曲げ部69aが、第2キャリアテープ材43bには第2
折り曲げ部69bが、第3キャリアテープ材43cには
第1折り曲げ部69cが、および、第4キャリアテープ
材43dには第4折り曲げ部69dが設けられている。
この銅配線13は、前記と同様に、例えば、TAB(Ta
pe Automated Bonding)あるいは、ワイヤボンディング
技術により製造される。また、各キャリアテープ材43
の各三角形形状の端部には、第1インタポーザ49a、
第2インタポーザ49b、第3インタポーザ49c、お
よび第4インタポーザ49dが図示しない接着剤により
固設される。
The first carrier tape member 43a has a first bent portion 69a, and the second carrier tape member 43b has a second bent portion 69a.
The bent portion 69b is provided with a first bent portion 69c on the third carrier tape material 43c, and the fourth bent portion 69d is provided on the fourth carrier tape material 43d.
The copper wiring 13 is formed, for example, by TAB (Ta
pe Automated Bonding) or manufactured by wire bonding technology. In addition, each carrier tape material 43
The first interposer 49a,
The second interposer 49b, the third interposer 49c, and the fourth interposer 49d are fixed with an adhesive (not shown).

【0035】上記のごとく展開された半導体装置1A
は、次のような工程順序で製造される。先ず、前記のよ
うに半導体チップ45は、キャリアテープ材43にあけ
られたデバイスホール11と重合する位置に載置され
る。また、半導体チップ45の各辺近傍に並列に複数の
電極51、53、55、57と、キャリアテープ材43
の銅配線をTAB技術あるいはワイヤボンディング技術
により電気的に接続する。キャリアテープ材43の各三
角形形状の端部には、各インタポーザ49が図示しない
接着剤により固設される。次に、半導体チップ5の各辺
に設けられた第1キャリアテープ材43aの第1折り曲
げ部69a、第2キャリアテープ材43bの第2折り曲
げ部69b、第3キャリアテープ材43cの第1折り曲
げ部69c、および、第4キャリアテープ材43dの第
4折り曲げ部69dが、半導体チップ45を各キャリア
テープ材43a、43b、43c、43dの内方の間に
収納するように、ぼぼ直角に折り曲げられる。さらに、
前記と同様に、半導体チップ45の図示の下面と、第1
インタポーザ49a、第2インタポーザ49b、第3イ
ンタポーザ49cおよび第4インタポーザ49dとが重
なり合うようにぼぼ直角に折り曲げる。これにより、図
5に示すように、各辺に接続された三角形形状の第1キ
ャリアテープ材43a、第2キャリアテープ材43b、
第3キャリアテープ材43c、および、第4キャリアテ
ープ材43dが一面の平面となって、半導体チップ45
を各キャリアテープ材43a、43b、43c、43d
の内方の間に収納する。この状態で、半導体チップ45
とキャリアテープ材43の外側を所定の厚さで、およ
び、半導体チップ45とキャリアテープの内側の隙間を
樹脂封止材31によりモールドする。この樹脂封止には
モールド金型を用いたトランスファモールド方法、ある
いは、ポッティング樹脂を用いたポッティング方法を用
いることが出来る。この後に、ランド17に半田ボール
15が接着され、電気的に接続される。また、半田ボー
ル15は、銅球に半田を接着し、球状の外部接着端子と
しても良い。
The semiconductor device 1A developed as described above
Are manufactured in the following process sequence. First, as described above, the semiconductor chip 45 is placed at a position where it overlaps with the device hole 11 formed in the carrier tape material 43. Further, a plurality of electrodes 51, 53, 55, 57 and a carrier tape material 43 are arranged in parallel near each side of the semiconductor chip 45.
Are electrically connected by TAB technology or wire bonding technology. Each interposer 49 is fixed to an end of each triangular shape of the carrier tape member 43 by an adhesive (not shown). Next, the first bent portion 69a of the first carrier tape material 43a, the second bent portion 69b of the second carrier tape material 43b, and the first bent portion of the third carrier tape material 43c provided on each side of the semiconductor chip 5 69c and the fourth bent portion 69d of the fourth carrier tape material 43d are bent almost at a right angle so as to house the semiconductor chip 45 between the insides of the carrier tape materials 43a, 43b, 43c and 43d. further,
Similarly to the above, the illustrated lower surface of the semiconductor chip 45 and the first
The interposer 49a, the second interposer 49b, the third interposer 49c, and the fourth interposer 49d are bent at substantially right angles so as to overlap with each other. Thereby, as shown in FIG. 5, the first carrier tape member 43a and the second carrier tape member 43b each having a triangular shape connected to each side.
The third carrier tape member 43c and the fourth carrier tape member 43d form a flat surface, and the semiconductor chip 45
For each carrier tape material 43a, 43b, 43c, 43d
To be stored between the insides. In this state, the semiconductor chip 45
Then, the outside of the carrier tape material 43 is molded with a predetermined thickness, and the gap between the semiconductor chip 45 and the inside of the carrier tape is molded with the resin sealing material 31. For this resin sealing, a transfer molding method using a mold or a potting method using a potting resin can be used. Thereafter, the solder balls 15 are bonded to the lands 17 and are electrically connected. Further, the solder ball 15 may be formed by bonding a solder to a copper ball to form a spherical external bonding terminal.

【0036】上記により、第1実施形態と同様に、デバ
イスホール11の寸法を半導体チップ45の外形形状よ
りも小さくすることにより、デバイスホール11の周縁
と半導体チップ45との周縁との間に設けられるキャリ
アテープ材43の重複領域に銅配線13を設けることが
でき、1個の半導体装置1Aに対するキャリアテープ材
43の使用を少なく出来る。また、このキャリアテープ
材43から製造される半導体装置1Aの寸法を大幅に小
さくし、実装面積を小さくすることができる。また、半
導体チップ45に対して図示の左右上下方向にほぼ同じ
長さの第1キャリアテープ材43a、第2キャリアテー
プ材43b、第3キャリアテープ材43c、および、第
4キャリアテープ材43dを有しているので、配線パタ
ーンの長さを短くでき、半導体装置1の電気的特性を良
好にすることが出来る。また、左右あるいは/および上
下対称の短いキャリアテープ材を左右同様に折り曲げれ
ば良く製造が容易にできる。
As described above, similarly to the first embodiment, the size of the device hole 11 is made smaller than the outer shape of the semiconductor chip 45, so that the device hole 11 is provided between the periphery of the device hole 11 and the periphery of the semiconductor chip 45. The copper wiring 13 can be provided in the overlapping region of the carrier tape material 43 to be used, and the use of the carrier tape material 43 for one semiconductor device 1A can be reduced. Further, the size of the semiconductor device 1A manufactured from the carrier tape material 43 can be significantly reduced, and the mounting area can be reduced. Further, a first carrier tape material 43a, a second carrier tape material 43b, a third carrier tape material 43c, and a fourth carrier tape material 43d having substantially the same length in the left, right, up and down directions as shown in the figure with respect to the semiconductor chip 45 are provided. As a result, the length of the wiring pattern can be reduced, and the electrical characteristics of the semiconductor device 1 can be improved. In addition, it is only necessary to bend the short side of the carrier tape material left and right or / and vertically symmetrically in the same manner as the left and right sides, and the production can be facilitated.

【0037】図6は本発明の第3実施形態に係る半導体
装置1Bの展開平面図、図7は半導体装置1Bの側面断
面図で図1のY−Y断面図、図8は半導体装置の正面断
面図で図1のZ−Z断面図である。
FIG. 6 is an exploded plan view of a semiconductor device 1B according to a third embodiment of the present invention, FIG. 7 is a side sectional view of the semiconductor device 1B, taken along the line YY of FIG. 1, and FIG. FIG. 2 is a sectional view taken along the line ZZ of FIG. 1.

【0038】第3実施形態では、テープ折り曲げ型スタ
ックの例の半導体装置1Bを説明する。
In the third embodiment, a semiconductor device 1B as an example of a tape folding type stack will be described.

【0039】図6乃至図8において、半導体装置1B
は、図示の左右方向にキャリアテープ材73の上で、図
示の左右方向に複数(本実施形態の場合は5個)の半導
体チップ75が、また、図示の上下方向にインタポーザ
77が載置されている。本実施形態の場合に、半導体チ
ップ75は、図示の右側より順次、第1半導体チップ7
5a、第2半導体チップ75b、第3半導体チップ75
c、第4半導体チップ75d、および、第5半導体チッ
プ5eとする。また、インタポーザ77は、第3半導体
チップ75cの上側に上インタポーザ77aが、下側に
下インタポーザ77bとする。
6 to 8, the semiconductor device 1B
A plurality (five in the present embodiment) of semiconductor chips 75 are mounted on the carrier tape material 73 in the illustrated horizontal direction, and an interposer 77 is mounted in the illustrated vertical direction. ing. In the case of the present embodiment, the semiconductor chips 75 are sequentially arranged on the first semiconductor chip 7 from the right side in the drawing.
5a, second semiconductor chip 75b, third semiconductor chip 75
c, the fourth semiconductor chip 75d, and the fifth semiconductor chip 5e. The interposer 77 has an upper interposer 77a above the third semiconductor chip 75c and a lower interposer 77b below the third semiconductor chip 75c.

【0040】キャリアテープ材73のほぼ中央部に配置
された第3半導体チップ75cは、ほぼ長方形形状に形
成されるとともに、その各辺近傍に並列に複数の電極8
1、83、85、87を有している。この電極81、8
3、85、87は、例えば、図示の左側に第1電極81
a、81b、81c、…が、右側に第2電極83a、8
3b、83c、…が、上側に第3電極85a、85b、
85c、…が、および、下側に第4電極87a、87
b、87c、…が配設されている。また、第1半導体チ
ップ75a、第2半導体チップ75b、第4半導体チッ
プ75d、および、第5半導体チップ5eの中央部に
は、電極89が一列に複数個並列されており、各電極8
9は夫々の銅配線13とパンプされて電気的に接続され
ている。
The third semiconductor chip 75c disposed substantially at the center of the carrier tape member 73 is formed in a substantially rectangular shape, and a plurality of electrodes 8 are arranged in parallel near each side thereof.
1, 83, 85 and 87. These electrodes 81, 8
3, 85 and 87 are, for example, first electrodes 81 on the left side of the drawing.
, 81b, 81c,...
3b, 83c,..., The third electrodes 85a, 85b,.
, 85c,... And the fourth electrodes 87a, 87 on the lower side.
, 87c,... are provided. A plurality of electrodes 89 are arranged in a line at the center of the first semiconductor chip 75a, the second semiconductor chip 75b, the fourth semiconductor chip 75d, and the fifth semiconductor chip 5e.
Reference numeral 9 denotes a pump which is electrically connected to each copper wiring 13.

【0041】第1実施形態と同様に、キャリアテープ材
73には、各半導体チップ75の載置されているそれぞ
れの下面に複数(本実施形態の場合は5個)のデバイス
ホール11があけられている。本実施形態の場合に、こ
のデバイスホール11は、図示の右側より順次、第1デ
バイスホール11a、第2デバイスホール11b、第3
デバイスホール11c、第4デバイスホール11d、お
よび、第5デバイスホール11eとする。このデバイス
ホール11は、半導体チップ75の外形寸法よりも小さ
く形成されており、本実施形態では、半導体チップ75
とデバイスホール11とは所定の寸法Laで重ねられ、
電気的に接続されている。これにより、半導体装置1は
小型にできる。また、デバイスホール11は半導体チッ
プ5よりも反対に大きくして図示しない接着剤で固定し
ても良い。
As in the first embodiment, a plurality (five in the case of the present embodiment) of device holes 11 are formed in the lower surface of the carrier tape material 73 on which the semiconductor chips 75 are mounted. ing. In the case of the present embodiment, the device holes 11 are sequentially formed from a first device hole 11a, a second device hole 11b,
The device hole 11c, the fourth device hole 11d, and the fifth device hole 11e. The device hole 11 is formed to be smaller than the outer dimensions of the semiconductor chip 75.
And the device hole 11 are overlapped with a predetermined dimension La,
It is electrically connected. Thereby, the semiconductor device 1 can be reduced in size. The device hole 11 may be made larger than the semiconductor chip 5 and fixed with an adhesive (not shown).

【0042】ここで、第1半導体チップ75aと第2半
導体チップ75bの外形寸法が同一の場合には、第1デ
バイスホール11aと第2デバイスホール11bとは同
一寸法のデバイスホールがあけられている。また、第1
半導体チップ75aと第2半導体チップ75bの外形寸
法が異なる場合には、第1デバイスホール11aと第2
デバイスホール11bとは、寸法が異なるデバイスホー
ルがあけられている。デバイスホール11は、以下にお
いて説明は省略するが同様に構成されている。本実施形
態では、前記のように5個の半導体チップで形成されて
いるが、これに限定されることなく2個、3個、あるい
は、4個以上でも良い。
Here, when the outer dimensions of the first semiconductor chip 75a and the second semiconductor chip 75b are the same, device holes of the same size are formed in the first device hole 11a and the second device hole 11b. . Also, the first
If the outer dimensions of the semiconductor chip 75a and the second semiconductor chip 75b are different, the first device hole 11a and the second
Device holes having dimensions different from those of the device holes 11b are formed. The device hole 11 has the same configuration, although the description is omitted below. In the present embodiment, as described above, the semiconductor chip is formed by five semiconductor chips, but the number is not limited thereto, and may be two, three, or four or more.

【0043】キャリアテープ材73は、第1実施形態と
同様に、キャリアテープ材73の上には、一端面側に銅
配線13が形成されている。また、その上に第3半導体
チップ75cの上側に配設されている第3電極85a、
85b、85c、…が、および、下側に第4電極87
a、87b、87c、…に接続される銅配線13には、
他端面側に後述する半田ボール15が形成されるランド
17が形成されている。また、キャリアテープ材73
は、その他の材料、構成等も同一のために詳細な説明は
省略する。
As in the first embodiment, a copper wiring 13 is formed on one end surface of the carrier tape material 73, as in the first embodiment. A third electrode 85a disposed above the third semiconductor chip 75c;
, 85b, 85c,...
a, 87b, 87c,...
A land 17 on which a solder ball 15 described later is formed is formed on the other end surface side. Also, the carrier tape material 73
Since other materials, configurations and the like are the same, detailed description is omitted.

【0044】銅配線13は、絶縁性のフレキシブルフィ
ルムに銅泊をエッジングして所定の配線パターンを形成
するとともに、かつ、その一端部が第3半導体チップ7
5cの対応する複数の電極81、83、85、87に接
続するため、インナリード91、93、95、97が長
方形形状にあけられた第3デバイスホール11cの周縁
の端部を越えて内側に突出しているように設けられてい
る。このインナリードは、図示の左側に第1インナリー
ド91が、また、図示の右側に第2インナリード93、
上側に第3インナリード95が、および、下側に第4イ
ンナリード97が配設されている。この銅配線13は、
前記第1実施形態と同様に、フレキシブルフィルムの表
面に導体膜を形成することでも可能である。
The copper wiring 13 has a predetermined wiring pattern formed by edging the copper foil on an insulating flexible film, and one end of the copper wiring 13 is connected to the third semiconductor chip 7.
In order to connect to the corresponding plurality of electrodes 81, 83, 85, and 87 of 5c, the inner leads 91, 93, 95, and 97 extend inward beyond the peripheral edge of the third device hole 11c formed in a rectangular shape. It is provided so as to protrude. The inner lead has a first inner lead 91 on the left side of the drawing, a second inner lead 93 on the right side of the drawing,
The third inner lead 95 is provided on the upper side, and the fourth inner lead 97 is provided on the lower side. This copper wiring 13
Similarly to the first embodiment, it is also possible to form a conductive film on the surface of the flexible film.

【0045】このキャリアテープ材73は、例えば、図
6に示すように、ほぼ中央部に横方向に配設された長方
形形状の半導体チップ75と、ほぼ中央部に配設された
第3半導体チップ75cの図示の上下に配設された上イ
ンタポーザ77aおよび下側に下インタポーザ77bと
接続されており、十字形状で構成されている。すなわ
ち、第3半導体チップ75cの図示の右側に第1キャリ
アテープ材73aが、左側に第2キャリアテープ材73
bが、上側に第3キャリアテープ材73cが、および、
下側に第4キャリアテープ材73dが配設されている。
As shown in FIG. 6, for example, the carrier tape member 73 is composed of a rectangular semiconductor chip 75 disposed substantially horizontally at the center and a third semiconductor chip 75 disposed substantially at the center. The lower interposer 77b is connected to the upper interposer 77a and the lower interposer 77b disposed below and above the illustrated 75c, and has a cross shape. That is, the first carrier tape member 73a is located on the right side of the third semiconductor chip 75c and the second carrier tape member 73 is located on the left side.
b is a third carrier tape material 73c on the upper side, and
The fourth carrier tape member 73d is provided on the lower side.

【0046】第1キャリアテープ材73aには第1折り
曲げ部99aが、第2キャリアテープ材73bには第2
折り曲げ部99bが、第3キャリアテープ材73cには
第3折り曲げ部99cが、および、第4キャリアテープ
材73dには第4折り曲げ部99dが設けられている。
この銅配線13は、前記と同様に、例えば、TAB(Ta
pe Automated Bonding)あるいは、ワイヤボンディング
技術により製造される。次に、キャリアテープ材3のパ
ーフォレーション101の部分を切取り線103で切断
されている。
The first carrier tape member 73a has a first bent portion 99a, and the second carrier tape member 73b has a second bent portion 99a.
The bent portion 99b is provided with a third bent portion 99c in the third carrier tape material 73c, and the fourth bent portion 99d is provided in the fourth carrier tape material 73d.
The copper wiring 13 is formed, for example, by TAB (Ta
pe Automated Bonding) or manufactured by wire bonding technology. Next, a portion of the perforation 101 of the carrier tape material 3 is cut along a cut line 103.

【0047】上記のごとく展開された半導体装置1B
は、次のような工程順序で製造される。先ず、前記のよ
うに各半導体チップ75は、キャリアテープ材73にあ
けられた各デバイスホール11と重合する位置に載置さ
れる。また、各半導体チップ75の各辺近傍に並列に複
数の電極81、83、85、87と、キャリアテープ材
73の銅配線13をTAB技術あるいはワイヤボンディ
ング技術により電気的に接続する。第3半導体チップ7
5cを中心としてキャリアテープ材73の十字形形状の
各端部には、第1半導体チップ75a、第2半導体チッ
プ75b、第4半導体チップ75d、および、第5半導
体チップ5eと、上インタポーザ77aと下インタポー
ザ77bとが図示しない接着剤により固設される。この
とき、第1半導体チップ75a、第2半導体チップ75
b、第4半導体チップ75d、および、第5半導体チッ
プ5eの中央部の各電極89は、夫々の銅配線13とパ
ンプされて電気的に接続される。
The semiconductor device 1B developed as described above
Are manufactured in the following process sequence. First, as described above, each semiconductor chip 75 is mounted at a position where it overlaps with each device hole 11 formed in the carrier tape material 73. Further, the plurality of electrodes 81, 83, 85, 87 and the copper wiring 13 of the carrier tape material 73 are electrically connected in parallel near each side of each semiconductor chip 75 by TAB technology or wire bonding technology. Third semiconductor chip 7
The first semiconductor chip 75a, the second semiconductor chip 75b, the fourth semiconductor chip 75d, the fifth semiconductor chip 5e, and the upper interposer 77a are provided at the respective cross-shaped ends of the carrier tape material 73 around the center 5c. The lower interposer 77b is fixed with an adhesive (not shown). At this time, the first semiconductor chip 75a and the second semiconductor chip 75
b, each electrode 89 at the center of the fourth semiconductor chip 75d and the fifth semiconductor chip 5e is electrically connected to each copper wiring 13 by pumping.

【0048】次に、第3半導体チップ75cの左右両側
の各辺に設けられた第1キャリアテープ材73aの第1
折り曲げ部99aおよび第2キャリアテープ材73bの
第2折り曲げ部99bが図示の上方(矢印Wa)に向け
て回転されて、第3半導体チップ75cに対して第1半
導体チップ75a、第2半導体チップ75b、第4半導
体チップ75d、および、第5半導体チップ5eが一列
に重ね合わされる。
Next, the first carrier tape material 73a provided on each of the left and right sides of the third semiconductor chip 75c has the first
The bent portion 99a and the second bent portion 99b of the second carrier tape member 73b are rotated upward (arrow Wa) in the drawing, and the first semiconductor chip 75a and the second semiconductor chip 75b are moved relative to the third semiconductor chip 75c. , The fourth semiconductor chip 75d, and the fifth semiconductor chip 5e are superposed in a line.

【0049】次に、第3キャリアテープ材73cの第3
折り曲げ部99c、および、第4キャリアテープ材43
dの第4折り曲げ部99dが、図示の下方(矢印Va)
に向けて回転されて、第3半導体チップ45cに対して
上インタポーザ77aと下インタポーザ77bとが一列
に重ね合わされる。すなわち、これにより、第3半導体
チップ75cは、図示の上側に第1半導体チップ75
a、第2半導体チップ75b、第4半導体チップ75
d、および、第5半導体チップ5eが、また、図示の下
側に上インタポーザ77aと下インタポーザ77bとが
重なり合うよう構成され、内方に収納される。このと
き、山折りは1回のみであり、かつ、大きい半導体チッ
プに小さい複数の半導体チップが重ね合わされるととも
に、並置されるために小型で、かつ製造を容易にでき
る。この状態で、半導体チップ75とキャリアテープ材
73の外側を所定の厚さで、および、半導体チップ75
とキャリアテープ材73の内側の隙間を樹脂封止材31
によりモールドする。この樹脂封止にはモールド金型を
用いたトランスファモールド方法、あるいは、ポッティ
ング樹脂を用いたポッティング方法を用いることが出来
る。この後に、ランド17に半田ボール15が接着さ
れ、電気的に接続される。また、半田ボール15は、銅
球に半田を接着し、球状の外部接着端子としても良い。
Next, the third carrier tape material 73c
Folded portion 99c and fourth carrier tape material 43
d is bent downward (arrow Va) in the figure.
, The upper interposer 77a and the lower interposer 77b are superimposed on the third semiconductor chip 45c in a line. That is, thereby, the third semiconductor chip 75c is placed above the first semiconductor chip 75c in the drawing.
a, second semiconductor chip 75b, fourth semiconductor chip 75
d and the fifth semiconductor chip 5e are configured such that the upper interposer 77a and the lower interposer 77b overlap on the lower side in the figure and are housed inside. At this time, mountain folding is performed only once, and a plurality of small semiconductor chips are superimposed on a large semiconductor chip. In this state, the outside of the semiconductor chip 75 and the carrier tape material 73 is formed with a predetermined thickness, and
And the gap between the carrier tape material 73 and the resin sealing material 31
Mold. For this resin sealing, a transfer molding method using a mold or a potting method using a potting resin can be used. Thereafter, the solder balls 15 are bonded to the lands 17 and are electrically connected. Further, the solder ball 15 may be formed by bonding a solder to a copper ball to form a spherical external bonding terminal.

【0050】また、上記において、例えば、第1半導体
チップ75a、第2半導体チップ75b、第4半導体チ
ップ75d、および、第5半導体チップ5eの能動面
(Ac)を図示の上側にして水平に置き、次に、第3半
導体チップ75cの能動面を下側にして水平に置き、第
3半導体チップ75cと他の第1半導体チップ75a、
第2半導体チップ75b、第4半導体チップ75d、お
よび、第5半導体チップ5eとは能動面が対向すること
ないように、離間して重ねられて配置されようにしても
良い。これにより、テープ折り曲げ型スタックの場合の
半導体装置1Bは、能動面を対向することなく積層され
るため、半導体チップ5の温度が相互に作用することが
なくなり、正常に動作し、異常動作の発生を防止でき
る。また、半導体チップ5の間には、キャリアテープ材
3が挟まれていない状態で積層されているため、小型化
がされるとともに、熱伝導率の悪いキャリアテープ材3
がないため、半導体チップ5からの熱の放散性が良くな
り、半導体装置1Bは、正常に動作し、異常動作の発生
を防止できる。
In the above description, for example, the active surfaces (Ac) of the first semiconductor chip 75a, the second semiconductor chip 75b, the fourth semiconductor chip 75d, and the fifth semiconductor chip 5e are placed horizontally with the upper side in the drawing. Next, the third semiconductor chip 75c is placed horizontally with the active surface of the third semiconductor chip 75c facing down, and the third semiconductor chip 75c and the other first semiconductor chips 75a,
The second semiconductor chip 75b, the fourth semiconductor chip 75d, and the fifth semiconductor chip 5e may be arranged so as to be separated from each other so that the active surfaces do not face each other. As a result, the semiconductor devices 1B in the case of the tape bending type stack are stacked without facing the active surfaces, so that the temperatures of the semiconductor chips 5 do not interact with each other and operate normally, and abnormal operation occurs. Can be prevented. In addition, since the carrier tape material 3 is laminated without being sandwiched between the semiconductor chips 5, the carrier tape material 3 having low thermal conductivity is reduced while the size is reduced.
Therefore, the heat dissipation from the semiconductor chip 5 is improved, and the semiconductor device 1B operates normally and can prevent occurrence of abnormal operation.

【0051】上記のごとく展開された半導体装置1B
は、第1実施形態と同様に、デバイスホール11の寸法
を半導体チップ45の外形形状よりも小さくすることに
より、デバイスホール11の周縁と半導体チップ75と
の周縁との間に設けられるキャリアテープ材73の重複
領域に銅配線13を設けることができ、1個の半導体装
置1Bに対するキャリアテープ材73の使用を少なく出
来る。また、このキャリアテープ材73から製造される
半導体装置1Bの寸法を大幅に小さくし、実装面積を小
さくすることができる。また、半導体チップ75に対し
て図示の左右上下方向にほぼ同じ長さの第1キャリアテ
ープ材73a、第2キャリアテープ材73b、第4キャ
リアテープ材73d、および、第5キャリアテープ材7
3eを有しているので、配線パターンの長さを短くで
き、半導体装置1Bの電気的特性を良好にすることが出
来る。また、左右あるいは/および上下対称の短いキャ
リアテープ材を左右同様に折り曲げれば良く製造が容易
にできる。
The semiconductor device 1B developed as described above
The carrier tape material provided between the periphery of the device hole 11 and the periphery of the semiconductor chip 75 by making the size of the device hole 11 smaller than the outer shape of the semiconductor chip 45 as in the first embodiment. The copper wiring 13 can be provided in the overlapping region of 73, and the use of the carrier tape material 73 for one semiconductor device 1B can be reduced. Further, the dimensions of the semiconductor device 1B manufactured from the carrier tape material 73 can be significantly reduced, and the mounting area can be reduced. Further, the first carrier tape member 73a, the second carrier tape member 73b, the fourth carrier tape member 73d, and the fifth carrier tape member 7 having substantially the same length in the left, right, up and down directions as shown in FIG.
3e, the length of the wiring pattern can be reduced, and the electrical characteristics of the semiconductor device 1B can be improved. In addition, it is only necessary to bend the short side of the carrier tape material left and right or / and vertically symmetrically in the same manner as the left and right sides, and the production can be facilitated.

【0052】図9は本発明の第4実施形態に係る半導体
装置1Cの側面断面図、図10は半導体装置の正面断面
図である。第4実施形態に係る半導体装置1Cは、第3
実施形態の変形例であり、半導体チップ75の間、およ
び、インタポーザ77を接続するキャリアテープ材73
の位置が異なる。
FIG. 9 is a side sectional view of a semiconductor device 1C according to a fourth embodiment of the present invention, and FIG. 10 is a front sectional view of the semiconductor device. The semiconductor device 1C according to the fourth embodiment includes a third device.
This is a modification of the embodiment, and is a carrier tape material 73 connecting between the semiconductor chips 75 and connecting the interposer 77.
Position is different.

【0053】第3実施形態では、図1において、銅配線
13を上面にしてキャリアテープ材73を配置し、その
上に第1半導体チップ75a、第2半導体チップ75
b、第3半導体チップ75c、第4半導体チップ75
d、および、第5半導体チップ5eと、更に、上インタ
ポーザ77aと下インタポーザ77bとを載置する。こ
の展開された半導体装置1Bは、第3半導体チップ75
cを中心として、第1半導体チップ75a、第2半導体
チップ75b、第4半導体チップ75d、および、第5
半導体チップ5eを図示の上方(矢印Wa)に向けて回
転している。また、上インタポーザ77aと下インタポ
ーザ77bとは、第3半導体チップ75cを中心とし
て、図示の下方(矢印Va)に向けて回転している。
In the third embodiment, in FIG. 1, a carrier tape material 73 is arranged with the copper wiring 13 facing upward, and the first semiconductor chip 75a and the second semiconductor chip 75 are placed thereon.
b, third semiconductor chip 75c, fourth semiconductor chip 75
d, the fifth semiconductor chip 5e, and further, the upper interposer 77a and the lower interposer 77b are mounted. The developed semiconductor device 1B is provided with a third semiconductor chip 75.
The first semiconductor chip 75a, the second semiconductor chip 75b, the fourth semiconductor chip 75d, and the fifth
The semiconductor chip 5e is rotating upward (arrow Wa) in the figure. The upper interposer 77a and the lower interposer 77b rotate around the third semiconductor chip 75c downward (arrow Va) in the figure.

【0054】これに対して、第4実施形態の半導体装置
1Cでは、図1において、銅配線13を下面にしてキャ
リアテープ材73を配置し、その下に第1半導体チップ
75a、第2半導体チップ75b、第3半導体チップ7
5c、第4半導体チップ75d、および、第5半導体チ
ップ5eと、更に、上インタポーザ77aと下インタポ
ーザ77bとを載置する。この展開された半導体装置1
Cは、第3実施形態と同じに回転される。これにより、
半導体装置1Cでは、上インタポーザ77aと下インタ
ポーザ77bとを第3半導体チップ75cの下面に接し
ながら配設することができる。また、第1半導体チップ
75a、第2半導体チップ75b、第3半導体チップ7
5c、第4半導体チップ75d、および、第5半導体チ
ップ5eは、所定間隔離間して配設することができる。
このため、第4実施形態の半導体装置1Cでは、インタ
ポーザ77と第3半導体チップ75cとを接して配設し
ているために、第3実施形態の半導体装置1Cよりも小
型にできる。また、半導体チップ75の能動面を非対向
して配置することもでき、温度の上昇も防ぐことができ
る。
On the other hand, in the semiconductor device 1C of the fourth embodiment, in FIG. 1, the carrier tape member 73 is disposed with the copper wiring 13 as the lower surface, and the first semiconductor chip 75a, the second semiconductor chip 75b, third semiconductor chip 7
5c, the fourth semiconductor chip 75d, and the fifth semiconductor chip 5e, and further, the upper interposer 77a and the lower interposer 77b are mounted. This developed semiconductor device 1
C is rotated in the same manner as in the third embodiment. This allows
In the semiconductor device 1C, the upper interposer 77a and the lower interposer 77b can be arranged while being in contact with the lower surface of the third semiconductor chip 75c. The first semiconductor chip 75a, the second semiconductor chip 75b, and the third semiconductor chip 7
5c, the fourth semiconductor chip 75d, and the fifth semiconductor chip 5e can be arranged at predetermined intervals.
For this reason, in the semiconductor device 1C of the fourth embodiment, since the interposer 77 and the third semiconductor chip 75c are disposed in contact with each other, the semiconductor device 1C can be smaller than the semiconductor device 1C of the third embodiment. In addition, the active surfaces of the semiconductor chip 75 can be disposed so as not to face each other, and a rise in temperature can be prevented.

【0055】[0055]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、キ
ャリアテープ上に形成した配線に電気的に接続した半導
体チップと、キャリアテープ上で、かつ前記半導体チッ
プの周辺にインタポーザとを並置するとともに、中央に
配置した半導体チップを内包するようにキャリアテープ
を折り曲げて半導体チップとインタポーザを重ね合せ、
モールド樹脂で覆った構成としている。これにより、中
央の半導体チップに対して図示の左右、あるいは/およ
び、前後方向にほぼ同じ長さのキャリアテープ材にでき
るので、配線パターンの長さを短くでき、電気的特性を
良好にすることが出来る。また、左右対称の短いキャリ
アテープ材を左右同様に折り曲げれば良く製造が容易に
できる。
As described above, according to the present invention, the semiconductor chip electrically connected to the wiring formed on the carrier tape and the interposer are juxtaposed on the carrier tape and around the semiconductor chip. At the same time, the carrier tape is bent so as to include the semiconductor chip placed in the center, and the semiconductor chip and the interposer are overlapped,
It is configured to be covered with mold resin. As a result, a carrier tape material having substantially the same length in the left-right direction and / or the front-rear direction as shown with respect to the center semiconductor chip can be formed, so that the length of the wiring pattern can be shortened and the electrical characteristics can be improved. Can be done. In addition, it is only necessary to bend the short symmetrical carrier tape material in the same manner as the left and right sides, and the production can be facilitated.

【0056】また、本発明は、キャリアテープ上で、か
つ中央に配置した半導体チップの上下両側にインタポー
ザとを並置するとともに、キャリアテープを折り曲げて
中央の半導体チップの一面にインタポーザを、他面に半
導体チップを重ね合わせて多層化した構成にすると、前
記と同様に、上下方向にほぼ同じ長さのキャリアテープ
材を有しているので、配線パターンの長さを短くでき、
電気的特性を良好にすることができるとともに、キャリ
アテープとインタポーザとを近接して配置することがで
きるので小型化ができる。
Further, according to the present invention, an interposer is juxtaposed on a carrier tape and on both upper and lower sides of a semiconductor chip arranged in the center, and the interposer is arranged on one surface of the center semiconductor chip by bending the carrier tape and on the other surface. When the semiconductor chip is stacked and formed into a multilayer structure, the length of the wiring pattern can be reduced because the carrier tape material having substantially the same length in the vertical direction is provided as described above.
The electrical characteristics can be improved, and the carrier tape and the interposer can be arranged close to each other, so that the size can be reduced.

【0057】また、並置した半導体チップに隣接してテ
ープ材のインタポーザをキャリアテープ上に配置し、か
つ、インタポーザに外部接続端子を配設すると、インタ
ポーザに外部接続端子を配設しているため、インタポー
ザにより外部接続端子部が補強されるとともに、単層の
配線で良くなりコストが安価になる。
When an interposer made of a tape material is disposed on a carrier tape adjacent to the juxtaposed semiconductor chips and an external connection terminal is disposed on the interposer, the external connection terminal is disposed on the interposer. The external connection terminal portion is reinforced by the interposer, and a single-layer wiring improves the cost and reduces the cost.

【0058】また、半導体チップの能動面を非対向とし
て上下方向に重ね合わせて多層化を行うと、半導体チッ
プは、能動面から発生する熱が互いに作用して熱を上昇
させることがなくなり、半導体チップの温度が上昇する
ことが少なくなる。このため、半導体チップに異常動作
が発生することがなくなり、半導体モジュールは正常に
動作させることができる。
When the semiconductor chips are stacked so that the active surfaces of the semiconductor chips are not opposed to each other and are vertically overlapped, heat generated from the active surfaces does not act on each other to increase the heat. The temperature of the chip is less likely to rise. For this reason, abnormal operation does not occur in the semiconductor chip, and the semiconductor module can operate normally.

【0059】また、重ねられた半導体チップ間は非キャ
リアテープとすると、重ねられた半導体チップ間はキャ
リアテープを省いた分だけ半導体チップ間の隙間を小さ
くできるので半導体モジュールの厚さを薄くことがで
き、小型にできる。キャリアテープが配設されていない
ため、半導体チップの放熱性が良くなり、温度が余り上
昇することがなくなり、異常動作の発生を防止すること
ができる。
If a non-carrier tape is used between the stacked semiconductor chips, the gap between the semiconductor chips can be reduced by the amount of the carrier tape omitted between the stacked semiconductor chips, so that the thickness of the semiconductor module can be reduced. Can be made smaller. Since no carrier tape is provided, the heat dissipation of the semiconductor chip is improved, the temperature does not rise too much, and the occurrence of abnormal operation can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施形態に係る半導体装置の展開
平面図である。
FIG. 1 is a developed plan view of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1実施形態に係る半導体装置の側面
断面図である。
FIG. 2 is a side sectional view of the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第2実施形態に係る半導体装置の展開
平面図である。
FIG. 3 is a developed plan view of a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第2実施形態に係る半導体装置の側面
断面図である。
FIG. 4 is a side sectional view of a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第2実施形態に係る半導体装置の組立
後の平面図である。
FIG. 5 is a plan view after assembling a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第3実施形態に係る半導体装置の展開
平面図である。
FIG. 6 is a developed plan view of a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第3実施形態に係る半導体装置の側面
断面図で図1のY−Y断面図である。
FIG. 7 is a side sectional view of a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention, which is a sectional view taken along line YY of FIG. 1;

【図8】本発明の第3実施形態に係る半導体装置の正面
断面図で図1のZ−Z断面図である。
FIG. 8 is a front sectional view of a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention, which is a sectional view taken along line ZZ of FIG. 1;

【図9】本発明の第4実施形態に係る半導体装置の側面
断面図である。
FIG. 9 is a side sectional view of a semiconductor device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図10】本発明の第4実施形態に係る半導体装置の正
面断面図である。
FIG. 10 is a front sectional view of a semiconductor device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図11】従来のフレキシブル配線基板を用いた半導体
装置の製造方法を説明する図である。
FIG. 11 is a diagram illustrating a method of manufacturing a semiconductor device using a conventional flexible wiring board.

【図12】従来のフレキシブル配線基板を用いた半導体
装置の構成を示す図である。
FIG. 12 is a diagram showing a configuration of a semiconductor device using a conventional flexible wiring board.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、1A、1B、1C 半導体装置 3、43、73 キャリアテープ材 5、45、75 半導体チップ 7、9、51、53、55、57、81、83、85、
87、89 電極 11 デバイスホール 13 銅配線 15 半田ボール 19 スルーホール 27、69、99 折り曲げ部 29、49、77 インタポーザ
1, 1A, 1B, 1C Semiconductor device 3, 43, 73 Carrier tape material 5, 45, 75 Semiconductor chip 7, 9, 51, 53, 55, 57, 81, 83, 85,
87, 89 Electrode 11 Device hole 13 Copper wiring 15 Solder ball 19 Through hole 27, 69, 99 Bent part 29, 49, 77 Interposer

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 キャリアテープ上に形成した配線に電気
的に接続した半導体チップと、キャリアテープ上で、か
つ前記半導体チップの周辺にインタポーザとを並置する
とともに、中央に配置した半導体チップを内包するよう
にキャリアテープを折り曲げて半導体チップとインタポ
ーザを重ね合せ、モールド樹脂で覆ったことを特徴する
半導体装置。
1. A semiconductor chip electrically connected to wiring formed on a carrier tape, and an interposer arranged side by side on the carrier tape and around the semiconductor chip, and including a semiconductor chip arranged at the center. A semiconductor device characterized in that the carrier tape is bent in such a manner that the semiconductor chip and the interposer are overlapped and covered with a mold resin.
【請求項2】 キャリアテープ上に形成した配線に電気
的に接続した複数の並列した半導体チップと、キャリア
テープ上で、かつ中央に配置した半導体チップの上下両
側にインタポーザとを並置するとともに、キャリアテー
プを折り曲げて中央の半導体チップの一面にインタポー
ザを、他面に半導体チップを重ね合わせて多層化し、モ
ールド樹脂で覆ったことを特徴する半導体装置。
2. A semiconductor device comprising: a plurality of parallel semiconductor chips electrically connected to wiring formed on a carrier tape; and an interposer arranged on the carrier tape on both upper and lower sides of a centrally located semiconductor chip. A semiconductor device, wherein a tape is bent to form a multilayer by superposing a semiconductor chip on one surface of a central semiconductor chip and a semiconductor chip on the other surface, and covering with a mold resin.
【請求項3】 並置した半導体チップに隣接してテープ
材のインタポーザをキャリアテープ上に配置し、かつ、
インタポーザに外部接続端子を配設したことを特徴とす
る請求項1あるいは請求項2に記載の半導体装置。
3. An interposer of tape material is arranged on a carrier tape adjacent to the juxtaposed semiconductor chips, and
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein an external connection terminal is provided on the interposer.
【請求項4】 半導体チップの能動面を非対向として上
下方向に重ね合わせて多層化を行ったことを特徴とする
請求項2あるいは請求項3に記載の半導体装置。
4. The semiconductor device according to claim 2, wherein the semiconductor chips are stacked so that the active surfaces of the semiconductor chips are not opposed to each other and are vertically stacked.
【請求項5】 重ねられた半導体チップ間は非キャリア
テープとしたことを特徴とする請求項2乃至請求項4に
記載の半導体装置。
5. The semiconductor device according to claim 2, wherein a non-carrier tape is provided between the stacked semiconductor chips.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7601561B2 (en) 2006-03-20 2009-10-13 Samsung Electronics Co., Ltd. Heat-radiating tape carrier package and method for manufacturing the same
JP2010114464A (en) * 2010-01-18 2010-05-20 Elpida Memory Inc Semiconductor device, and method of manufacturing the same

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