JP2001114527A - 光ファイバの製造方法 - Google Patents
光ファイバの製造方法Info
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/02—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor
- C03B37/025—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor from reheated softened tubes, rods, fibres or filaments, e.g. drawing fibres from preforms
- C03B37/029—Furnaces therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
- C03B2203/36—Dispersion modified fibres, e.g. wavelength or polarisation shifted, flattened or compensating fibres (DSF, DFF, DCF)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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- C03B2205/06—Rotating the fibre fibre about its longitudinal axis
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C03B2205/00—Fibre drawing or extruding details
- C03B2205/60—Optical fibre draw furnaces
- C03B2205/90—Manipulating the gas flow through the furnace other than by use of upper or lower seals, e.g. by modification of the core tube shape or by using baffles
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 偏光モード分散を低減した光ファイバを効率
よく製造することのできる光ファイバの製造方法を提供
すること。 【解決手段】 本発明の製造方法は、線引きされる光フ
ァイバの下流側で、捻り方向が交互に入れ替わるように
光ファイバに捻りを与えつつ、一部を加熱させたプリフ
ォームから光ファイバを線引きするもので、プリフォー
ムから光ファイバにかけての外径が500μm〜126μmであ
る範囲に、プリフォーム及び光ファイバの周囲に覆いを
設け、覆いの内部に不活性ガスを充填させつつ線引を行
うことを特徴としている。
よく製造することのできる光ファイバの製造方法を提供
すること。 【解決手段】 本発明の製造方法は、線引きされる光フ
ァイバの下流側で、捻り方向が交互に入れ替わるように
光ファイバに捻りを与えつつ、一部を加熱させたプリフ
ォームから光ファイバを線引きするもので、プリフォー
ムから光ファイバにかけての外径が500μm〜126μmであ
る範囲に、プリフォーム及び光ファイバの周囲に覆いを
設け、覆いの内部に不活性ガスを充填させつつ線引を行
うことを特徴としている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、一部を加熱させた
プリフォームから光ファイバを線引きする光ファイバの
製造方法に関する。
プリフォームから光ファイバを線引きする光ファイバの
製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】米国特許5,298,047号のように、光ファ
イバの偏光モード分散(PMD:polarization mode dispers
ion)を低減させるために、線引時に光ファイバに捻りを
加えることが従来から行われている。米国特許5,298,04
7号では、光ファイバの下流側に位置するガイドローラ
ー（引き取りローラーや揺動ローラーでもよい）の回転
軸を線引時にシーソーのように揺動させ、線引きされた
光ファイバがガイドローラーの周面上を転がるようにし
ている。光ファイバをガイドローラーの周面上で往復さ
せるように転がすことによって、光ファイバが捻り方向
が交互に入れ替わるように捻られつつ線引きされる。こ
の結果、コア部が真円でない場合に発生する偏光モード
分散の影響を低減させることができる。
イバの偏光モード分散(PMD:polarization mode dispers
ion)を低減させるために、線引時に光ファイバに捻りを
加えることが従来から行われている。米国特許5,298,04
7号では、光ファイバの下流側に位置するガイドローラ
ー（引き取りローラーや揺動ローラーでもよい）の回転
軸を線引時にシーソーのように揺動させ、線引きされた
光ファイバがガイドローラーの周面上を転がるようにし
ている。光ファイバをガイドローラーの周面上で往復さ
せるように転がすことによって、光ファイバが捻り方向
が交互に入れ替わるように捻られつつ線引きされる。こ
の結果、コア部が真円でない場合に発生する偏光モード
分散の影響を低減させることができる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、線引時の様々
な条件によっては、上述した捻れが線引後の光ファイバ
に充分に反映されない場合があった。発明者らは鋭意検
討を行った結果、線引時の光ファイバ（プリフォーム）
は、その軸方向に沿って捻りやすさの分布状態が異な
り、その分布状態も線引炉のサイズや構造、あるいは、
周囲の気流の乱れなどによって変化することを知見し
た。発明者らは上述した知見に基づいて更なる研究を重
ねた結果、線引時に加えた捻れを線引後の光ファイバに
充分に反映させることができる条件を見出した。
な条件によっては、上述した捻れが線引後の光ファイバ
に充分に反映されない場合があった。発明者らは鋭意検
討を行った結果、線引時の光ファイバ（プリフォーム）
は、その軸方向に沿って捻りやすさの分布状態が異な
り、その分布状態も線引炉のサイズや構造、あるいは、
周囲の気流の乱れなどによって変化することを知見し
た。発明者らは上述した知見に基づいて更なる研究を重
ねた結果、線引時に加えた捻れを線引後の光ファイバに
充分に反映させることができる条件を見出した。
【０００４】即ち、本発明の目的は、偏光モード分散の
影響を低減させた光ファイバを効率よく製造することの
できる光ファイバの製造方法を提供することにある。
影響を低減させた光ファイバを効率よく製造することの
できる光ファイバの製造方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の光ファ
イバの製造方法は、線引きされる光ファイバの下流側
で、捻り方向が交互に入れ替わるように光ファイバに捻
りを与えつつ、加熱させたプリフォームから光ファイバ
を線引きするもので、プリフォームから光ファイバにか
けての外径が500μm〜126μmである範囲のプリフォーム
及び光ファイバの周囲を不活性ガス雰囲気として線引を
行うことを特徴としている。
イバの製造方法は、線引きされる光ファイバの下流側
で、捻り方向が交互に入れ替わるように光ファイバに捻
りを与えつつ、加熱させたプリフォームから光ファイバ
を線引きするもので、プリフォームから光ファイバにか
けての外径が500μm〜126μmである範囲のプリフォーム
及び光ファイバの周囲を不活性ガス雰囲気として線引を
行うことを特徴としている。
【０００６】請求項２に記載の光ファイバの製造方法
は、請求項１に記載の発明において、プリフォーム及び
光ファイバの周囲に覆いを設け、覆いの内部に不活性ガ
スを充填させることを特徴としている。
は、請求項１に記載の発明において、プリフォーム及び
光ファイバの周囲に覆いを設け、覆いの内部に不活性ガ
スを充填させることを特徴としている。
【０００７】請求項３に記載の光ファイバの製造方法
は、請求項１又は２に記載の発明において、不活性ガス
として窒素ガスを用いることを特徴としている。
は、請求項１又は２に記載の発明において、不活性ガス
として窒素ガスを用いることを特徴としている。
【０００８】
【発明の実施の形態】まず、具体的な実施形態を説明す
るに先だって、光ファイバに加える捻りについて簡単に
説明する。上述したように、光ファイバの偏光分散モー
ドの影響を低減するために、光ファイバの線引時に捻り
を与える。光ファイバに加えられる捻りは、一定の間隔
を置いて交互にその捻り方向が変えられる。捻りの局所
抵抗C(z)は、C(z)=(π/2)・R4(z)・η(z)によって得られ
る。ここで、zは、ある点を基準点(z=0)としたときに、
線引時のプリフォーム及びこのプリフォームから線引き
された光ファイバの軸方向に設定されたz座標軸上の座
標である。R(z)は、座標zにおけるプリフォーム又は光
ファイバの半径である。η(z)は、座標zにおけるプリフ
ォーム又は光ファイバの粘度である。
るに先だって、光ファイバに加える捻りについて簡単に
説明する。上述したように、光ファイバの偏光分散モー
ドの影響を低減するために、光ファイバの線引時に捻り
を与える。光ファイバに加えられる捻りは、一定の間隔
を置いて交互にその捻り方向が変えられる。捻りの局所
抵抗C(z)は、C(z)=(π/2)・R4(z)・η(z)によって得られ
る。ここで、zは、ある点を基準点(z=0)としたときに、
線引時のプリフォーム及びこのプリフォームから線引き
された光ファイバの軸方向に設定されたz座標軸上の座
標である。R(z)は、座標zにおけるプリフォーム又は光
ファイバの半径である。η(z)は、座標zにおけるプリフ
ォーム又は光ファイバの粘度である。
【０００９】上述した局所抵抗C(z)の逆数1/C(z)が、座
標zでの捻りやすさを示す。即ち、線引時に光ファイバ
に捻りを与えたとき、z軸上の1/C(z)が大きい位置に捻
りが実際に加えられることになる。なお、プリフォーム
及びこのプリフォームから線引きされた光ファイバ全体
に加わる全体抵抗A(z)は、以下の式(1)によって得られ
る。
標zでの捻りやすさを示す。即ち、線引時に光ファイバ
に捻りを与えたとき、z軸上の1/C(z)が大きい位置に捻
りが実際に加えられることになる。なお、プリフォーム
及びこのプリフォームから線引きされた光ファイバ全体
に加わる全体抵抗A(z)は、以下の式(1)によって得られ
る。
【数１】
【００１０】上述したことを踏まえて、プリフォーム及
び光ファイバの捻りを計算し、グラフ化したものを図１
及び図２に示す。図１及び図２において、上下の最も外
側の線は、プリフォーム及び光ファイバの外形を示して
いる。また、この外形の間に示される曲線は、プリフォ
ームの上流側の側面に点を連続的にプロットした場合
に、そのプロットされた点が、線引後の光ファイバに反
対方向に交互に捻りを与えることによって、どの位置と
なるかを示している。即ち、この曲線をみれば、光ファ
イバの捻りがどのように光ファイバに反映されているか
が分かる。
び光ファイバの捻りを計算し、グラフ化したものを図１
及び図２に示す。図１及び図２において、上下の最も外
側の線は、プリフォーム及び光ファイバの外形を示して
いる。また、この外形の間に示される曲線は、プリフォ
ームの上流側の側面に点を連続的にプロットした場合
に、そのプロットされた点が、線引後の光ファイバに反
対方向に交互に捻りを与えることによって、どの位置と
なるかを示している。即ち、この曲線をみれば、光ファ
イバの捻りがどのように光ファイバに反映されているか
が分かる。
【００１１】なお、図１は線引時の光ファイバを冷却す
るのにヘリウム(He)ガスを用いた場合であり、図２は線
引時の光ファイバを冷却するのに窒素(N2)ガスを用いた
場合である。さらに、Heを用いた場合とN2を用いた場合
とについて、プリフォーム及び光ファイバの捻りやすさ
〔1/C(z)〕を図３に示す。なお、図３の上部には、プリ
フォームから光ファイバを線引きするときの位置関係が
模式的に示されている。
るのにヘリウム(He)ガスを用いた場合であり、図２は線
引時の光ファイバを冷却するのに窒素(N2)ガスを用いた
場合である。さらに、Heを用いた場合とN2を用いた場合
とについて、プリフォーム及び光ファイバの捻りやすさ
〔1/C(z)〕を図３に示す。なお、図３の上部には、プリ
フォームから光ファイバを線引きするときの位置関係が
模式的に示されている。
【００１２】図１〜図３に示されるように、Heを用いた
場合とN2を用いた場合とで捻りやすさや捻りの反映状態
に変化が現れるのは、冷却に用いる不活性ガスによって
冷却効果が異なるので、z座標軸上の粘度η(z)に差が生
じるためである。また、Heを用いた場合とN2を用いた場
合との差は、半径R(x)の変化に差が生じることも原因で
ある。なお、図１〜図３に示される場合において、炉心
管のヒーター中心位置はz=0.175(m)、炉心管下端はz=0.
35(m)、線引速度は600m/min.であり、捻りは毎分200往
復で与えられている。
場合とN2を用いた場合とで捻りやすさや捻りの反映状態
に変化が現れるのは、冷却に用いる不活性ガスによって
冷却効果が異なるので、z座標軸上の粘度η(z)に差が生
じるためである。また、Heを用いた場合とN2を用いた場
合との差は、半径R(x)の変化に差が生じることも原因で
ある。なお、図１〜図３に示される場合において、炉心
管のヒーター中心位置はz=0.175(m)、炉心管下端はz=0.
35(m)、線引速度は600m/min.であり、捻りは毎分200往
復で与えられている。
【００１３】図１〜図３から分かるように、プリフォー
ム（光ファイバ）の直径が500μm以下の部分で捻りが反
映されることが分かる。また、線引後の光ファイバの目
標直径は125μmであり、冷却・硬化された後の光ファイ
バの直径は125μmとなる。即ち、光ファイバに加えられ
た捻りは、プリフォーム及び光ファイバの直径が500μm
〜126μmの間で実際に光ファイバに対して反映される。
線引後の光ファイバに確実に捻りを反映させるには、上
述した範囲でプリフォーム及び光ファイバに外乱（特
に、プリフォーム及び光ファイバ周囲の気流の乱れ）が
作用するのを抑止することが有効である。
ム（光ファイバ）の直径が500μm以下の部分で捻りが反
映されることが分かる。また、線引後の光ファイバの目
標直径は125μmであり、冷却・硬化された後の光ファイ
バの直径は125μmとなる。即ち、光ファイバに加えられ
た捻りは、プリフォーム及び光ファイバの直径が500μm
〜126μmの間で実際に光ファイバに対して反映される。
線引後の光ファイバに確実に捻りを反映させるには、上
述した範囲でプリフォーム及び光ファイバに外乱（特
に、プリフォーム及び光ファイバ周囲の気流の乱れ）が
作用するのを抑止することが有効である。
【００１４】なお、図１に示されるように、Heを用いて
線引した場合、プリフォーム（光ファイバ）の直径が50
0μmのときはz=0.33(m)であり、光ファイバの直径が125
μmのときはz=0.73(m)である。一方、図２に示されるよ
うに、N2を用いて線引した場合、プリフォーム（光ファ
イバ）の直径が500μmのときはz=0.47(m)であり、光フ
ァイバの直径が126μmのときはz=1.34(m)、125μmのと
きはz=1.75(m)である。
線引した場合、プリフォーム（光ファイバ）の直径が50
0μmのときはz=0.33(m)であり、光ファイバの直径が125
μmのときはz=0.73(m)である。一方、図２に示されるよ
うに、N2を用いて線引した場合、プリフォーム（光ファ
イバ）の直径が500μmのときはz=0.47(m)であり、光フ
ァイバの直径が126μmのときはz=1.34(m)、125μmのと
きはz=1.75(m)である。
【００１５】また、Heガスを用いた場合よりもN2ガスを
用いた場合の方が、光ファイバを徐々に冷却させること
ができ、図３から分かるように、N2ガスを用いた場合の
方が、捻りが局所的に反映されずに広範囲にわたって反
映されている。これに対して、Heガスを用いた場合は、
z=0.4(m)近傍にのみ局所的に捻りが加えられてしまう。
これは、Heガスの熱伝導率が高く、光ファイバ１ｂを急
に硬化させてしまい、z=0.4(m)近傍以外では捻れにくく
させてしまうためである。
用いた場合の方が、光ファイバを徐々に冷却させること
ができ、図３から分かるように、N2ガスを用いた場合の
方が、捻りが局所的に反映されずに広範囲にわたって反
映されている。これに対して、Heガスを用いた場合は、
z=0.4(m)近傍にのみ局所的に捻りが加えられてしまう。
これは、Heガスの熱伝導率が高く、光ファイバ１ｂを急
に硬化させてしまい、z=0.4(m)近傍以外では捻れにくく
させてしまうためである。
【００１６】即ち、N2ガスを用いた場合の方が、より効
率的に捻りを光ファイバに対して反映させることがで
き、図２に示されるように、光ファイバの単位長さあた
りに反映される捻りの数は多くなる。この結果、光ファ
イバを冷却する不活性ガスとしてN2ガスを用いると、光
ファイバに対して、より効果的に捻りを反映させること
ができ、偏光モード分散の影響をより低減させることが
できる。
率的に捻りを光ファイバに対して反映させることがで
き、図２に示されるように、光ファイバの単位長さあた
りに反映される捻りの数は多くなる。この結果、光ファ
イバを冷却する不活性ガスとしてN2ガスを用いると、光
ファイバに対して、より効果的に捻りを反映させること
ができ、偏光モード分散の影響をより低減させることが
できる。
【００１７】本発明の光ファイバの製造方法の実施形態
について図面を参照しつつ説明する。図４に、本発明の
製造方法を実施するための製造装置を示す。
について図面を参照しつつ説明する。図４に、本発明の
製造方法を実施するための製造装置を示す。
【００１８】図４に示されるように、プリフォーム１ａ
の一部を炉２のヒーター２ａで加熱溶融化させ、下方に
延伸させることによって光ファイバ１ｂを線引きする。
なお、炉２の内部のヒーター２ａの周囲には、断熱材２
ｂが配設されている。ここでは、炉心管２ｃが、プリフ
ォーム１ａ〜光ファイバ１ｂの外径が500μm〜126μmで
ある範囲において、プリフォーム１ａ〜光ファイバ１ｂ
の周囲を囲む覆いとして機能している。
の一部を炉２のヒーター２ａで加熱溶融化させ、下方に
延伸させることによって光ファイバ１ｂを線引きする。
なお、炉２の内部のヒーター２ａの周囲には、断熱材２
ｂが配設されている。ここでは、炉心管２ｃが、プリフ
ォーム１ａ〜光ファイバ１ｂの外径が500μm〜126μmで
ある範囲において、プリフォーム１ａ〜光ファイバ１ｂ
の周囲を囲む覆いとして機能している。
【００１９】これにより、プリフォーム１ａ〜光ファイ
バ１ｂの外径が500μm〜126μmである範囲でプリフォー
ム１ａ〜光ファイバ１ｂが直接外気に触れないようにさ
れている。さらに、炉心管２ｃの内部にHeガスやN2ガス
などの不活性ガスをパージするパージ機構７が設けられ
ている。炉心管２ｃに設けられたガス供給口２ｄから不
活性ガスをプリフォーム１ａ〜光ファイバ１ｂの周囲に
パージし、プリフォーム１ａ〜光ファイバ１ｂの周囲を
不活性ガス雰囲気とする。ここでは、不活性ガスとして
N2ガスを用いており、線引時に炉心管２ｃの内部をN2ガ
スによってパージする。
バ１ｂの外径が500μm〜126μmである範囲でプリフォー
ム１ａ〜光ファイバ１ｂが直接外気に触れないようにさ
れている。さらに、炉心管２ｃの内部にHeガスやN2ガス
などの不活性ガスをパージするパージ機構７が設けられ
ている。炉心管２ｃに設けられたガス供給口２ｄから不
活性ガスをプリフォーム１ａ〜光ファイバ１ｂの周囲に
パージし、プリフォーム１ａ〜光ファイバ１ｂの周囲を
不活性ガス雰囲気とする。ここでは、不活性ガスとして
N2ガスを用いており、線引時に炉心管２ｃの内部をN2ガ
スによってパージする。
【００２０】線引きされた光ファイバ１ｂは、周囲に被
覆樹脂を塗布するコーティングダイ３に挿通された後、
この塗布された被覆樹脂を硬化させる硬化炉４内に挿通
される。ここでは、被覆樹脂としてUV硬化樹脂を用いて
おり、硬化炉４はUV硬化炉である。そして、UV硬化炉４
から導出された光ファイバ１ｂは、揺動ローラー５の周
囲に接触した後、他のガイドローラー６などを経由し
て、下流側に引き取られる。揺動ローラー５を首振り状
に揺動させることによって、上述したように光ファイバ
１ｂに対して捻りを加えることができる。
覆樹脂を塗布するコーティングダイ３に挿通された後、
この塗布された被覆樹脂を硬化させる硬化炉４内に挿通
される。ここでは、被覆樹脂としてUV硬化樹脂を用いて
おり、硬化炉４はUV硬化炉である。そして、UV硬化炉４
から導出された光ファイバ１ｂは、揺動ローラー５の周
囲に接触した後、他のガイドローラー６などを経由し
て、下流側に引き取られる。揺動ローラー５を首振り状
に揺動させることによって、上述したように光ファイバ
１ｂに対して捻りを加えることができる。
【００２１】ここでは、プリフォーム１ａ〜光ファイバ
１ｂの外径が500μm〜126μmである範囲で、プリフォー
ム１ａ〜光ファイバ１ｂの周囲を炉心管２ｃによって覆
うと共に、炉心管２ｃの内部をN2ガスでパージしてい
る。この結果、上述した光ファイバ１ｂに捻れが反映さ
れる範囲で光ファイバ１ｂに対して外乱が作用するのを
抑止でき、確実に捻れが反映された光ファイバ１ｂを線
引きすることができる。このとき、炉心管２ｃの内部を
パージする不活性ガスとしてN2ガスを用いているので、
より効果的に光ファイバ１ｂに対して捻れを反映させる
ことができるのは上述した通りである。覆い（炉心管２
ｃ）を設けることによって、プリフォーム１ａ〜光ファ
イバ１ｂの周囲のガスをクリーンにでき、かつ、その気
流も安定したものとすることができる。この結果、プリ
フォーム１ａ〜光ファイバ１ｂに対して外乱が作用する
ことを抑止することができるのである。
１ｂの外径が500μm〜126μmである範囲で、プリフォー
ム１ａ〜光ファイバ１ｂの周囲を炉心管２ｃによって覆
うと共に、炉心管２ｃの内部をN2ガスでパージしてい
る。この結果、上述した光ファイバ１ｂに捻れが反映さ
れる範囲で光ファイバ１ｂに対して外乱が作用するのを
抑止でき、確実に捻れが反映された光ファイバ１ｂを線
引きすることができる。このとき、炉心管２ｃの内部を
パージする不活性ガスとしてN2ガスを用いているので、
より効果的に光ファイバ１ｂに対して捻れを反映させる
ことができるのは上述した通りである。覆い（炉心管２
ｃ）を設けることによって、プリフォーム１ａ〜光ファ
イバ１ｂの周囲のガスをクリーンにでき、かつ、その気
流も安定したものとすることができる。この結果、プリ
フォーム１ａ〜光ファイバ１ｂに対して外乱が作用する
ことを抑止することができるのである。
【００２２】図５に、他の実施形態を示す。本実施形態
は、上述した図４に示す実施形態とほとんど変わるとこ
ろがないため、同一又は同等の構成には同一の符号を付
してその詳しい説明を省略する。以下には、上述した図
４に示す実施形態と異なる部分についてのみ詳しく説明
する。
は、上述した図４に示す実施形態とほとんど変わるとこ
ろがないため、同一又は同等の構成には同一の符号を付
してその詳しい説明を省略する。以下には、上述した図
４に示す実施形態と異なる部分についてのみ詳しく説明
する。
【００２３】本実施形態では、プリフォーム１ａ〜光フ
ァイバ１ｂの外径が500μm〜126μmである範囲を、炉心
管２ｃだけでなく炉心管２ｃの下方に連続的に設けられ
た炉心管延長部２ｅも用いて覆っている。即ち、ここで
は、炉心管２ｃ及び炉心管延長部２ｅとが覆いとして機
能している。このように、上述した範囲を覆うことがで
きれば、覆いの形態は限定されない。本実施形態によっ
ても、上述した図４に示される実施形態による上述した
効果と同様の効果が得られる。
ァイバ１ｂの外径が500μm〜126μmである範囲を、炉心
管２ｃだけでなく炉心管２ｃの下方に連続的に設けられ
た炉心管延長部２ｅも用いて覆っている。即ち、ここで
は、炉心管２ｃ及び炉心管延長部２ｅとが覆いとして機
能している。このように、上述した範囲を覆うことがで
きれば、覆いの形態は限定されない。本実施形態によっ
ても、上述した図４に示される実施形態による上述した
効果と同様の効果が得られる。
【００２４】本発明は、上述した実施形態に限定される
ものではない。例えば、上述した覆い（上述した実施形
態では、炉心管２ｃや炉心管延長部２ｅ）を設ける範囲
は、少なくともプリフォーム〜光ファイバの外径が500
μm〜126μmである範囲に設けられていればよく、この
範囲に加えて設ける範囲を拡張してもよい。
ものではない。例えば、上述した覆い（上述した実施形
態では、炉心管２ｃや炉心管延長部２ｅ）を設ける範囲
は、少なくともプリフォーム〜光ファイバの外径が500
μm〜126μmである範囲に設けられていればよく、この
範囲に加えて設ける範囲を拡張してもよい。
【００２５】
【発明の効果】請求項１に記載の発明によれば、プリフ
ォームから線引きされた光ファイバにかけての外径が50
0μm〜126μmである範囲のプリフォーム及び光ファイバ
の周囲を不活性ガス雰囲気として、捻り方向が交互に入
れ替わるように捻りを与えつつ光ファイバの線引を行
う。このため、光ファイバに捻りが反映される領域で光
ファイバに対して外乱が作用するのを効果的に抑止で
き、偏光モード分散を効果的に抑止できる光ファイバを
製造することができる。
ォームから線引きされた光ファイバにかけての外径が50
0μm〜126μmである範囲のプリフォーム及び光ファイバ
の周囲を不活性ガス雰囲気として、捻り方向が交互に入
れ替わるように捻りを与えつつ光ファイバの線引を行
う。このため、光ファイバに捻りが反映される領域で光
ファイバに対して外乱が作用するのを効果的に抑止で
き、偏光モード分散を効果的に抑止できる光ファイバを
製造することができる。
【００２６】請求項２に記載の発明によれば、上述した
プリフォームから線引きされた光ファイバにかけての外
径が500μm〜126μmである範囲のプリフォーム及び光フ
ァイバの周囲に覆いを設け、この覆いの内部に不活性ガ
スを充填することによって、プリフォーム及び光ファイ
バの周囲を確実に不活性ガス雰囲気にすることができ
る。また、外乱の影響も受けにくくなる。この結果、偏
光モード分散を効果的に抑止できる光ファイバをより確
実に製造することができる。
プリフォームから線引きされた光ファイバにかけての外
径が500μm〜126μmである範囲のプリフォーム及び光フ
ァイバの周囲に覆いを設け、この覆いの内部に不活性ガ
スを充填することによって、プリフォーム及び光ファイ
バの周囲を確実に不活性ガス雰囲気にすることができ
る。また、外乱の影響も受けにくくなる。この結果、偏
光モード分散を効果的に抑止できる光ファイバをより確
実に製造することができる。
【００２７】請求項３に記載の発明によれば、不活性ガ
スとして窒素ガスを用いるので、光ファイバを広範囲に
かけて冷却・硬化させることができる。この結果、光フ
ァイバに捻りを効果的に反映させることができ、より効
果的に偏光モード分散を抑止できる光ファイバを製造す
ることができる。
スとして窒素ガスを用いるので、光ファイバを広範囲に
かけて冷却・硬化させることができる。この結果、光フ
ァイバに捻りを効果的に反映させることができ、より効
果的に偏光モード分散を抑止できる光ファイバを製造す
ることができる。
【図１】捻りを与えつつプリフォームから光ファイバを
線引きした際に、光ファイバに反映される捻りの状態を
示す説明図〔ヘリウムガス使用〕である。
線引きした際に、光ファイバに反映される捻りの状態を
示す説明図〔ヘリウムガス使用〕である。
【図２】捻りを与えつつプリフォームから光ファイバを
線引きした際に、光ファイバに反映される捻りの状態を
示す説明図〔窒素ガス使用〕である。
線引きした際に、光ファイバに反映される捻りの状態を
示す説明図〔窒素ガス使用〕である。
【図３】プリフォームから光ファイバにかけての捻りや
すさを示すグラフである。
すさを示すグラフである。
【図４】本発明の光ファイバの製造方法を行う製造装置
を示す側面図である。
を示す側面図である。
【図５】本発明の光ファイバの製造方法を行う他の製造
装置を示す側面図である。
装置を示す側面図である。
１ａ…プリフォーム、１ｂ…光ファイバ、２…炉、２ｃ
…炉心管（覆い）、２ａ…ヒーター、２ｅ…炉心管延長
部（覆い）、３…コーティングダイ、４…硬化炉、５…
揺動ローラー、７…ガス供給機構。
…炉心管（覆い）、２ａ…ヒーター、２ｅ…炉心管延長
部（覆い）、３…コーティングダイ、４…硬化炉、５…
揺動ローラー、７…ガス供給機構。
Claims (3)
- 【請求項１】 線引きされる光ファイバの下流側で、捻
り方向が交互に入れ替わるように前記光ファイバに捻り
を与えつつ、加熱させたプリフォームから光ファイバを
線引きする光ファイバの製造方法において、 前記プリフォームから前記光ファイバにかけての外径が
500μm〜126μmである範囲の前記プリフォーム及び前記
光ファイバの周囲を不活性ガス雰囲気として線引を行う
ことを特徴とする光ファイバの製造方法。 - 【請求項２】 前記プリフォーム及び前記光ファイバの
周囲に覆いを設け、前記覆いの内部に不活性ガスを充填
させることを特徴とする請求項１に記載の光ファイバの
製造方法。 - 【請求項３】 前記不活性ガスとして窒素ガスを用いる
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の光ファイバの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29246399A JP2001114527A (ja) | 1999-10-14 | 1999-10-14 | 光ファイバの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29246399A JP2001114527A (ja) | 1999-10-14 | 1999-10-14 | 光ファイバの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001114527A true JP2001114527A (ja) | 2001-04-24 |
Family
ID=17782144
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29246399A Pending JP2001114527A (ja) | 1999-10-14 | 1999-10-14 | 光ファイバの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001114527A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011102964A (ja) * | 2009-10-14 | 2011-05-26 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ファイバおよび光ファイバ製造方法 |
-
1999
- 1999-10-14 JP JP29246399A patent/JP2001114527A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011102964A (ja) * | 2009-10-14 | 2011-05-26 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ファイバおよび光ファイバ製造方法 |
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