JP2001113137A - 高純度水の製造装置及び高純度水の製造方法 - Google Patents
高純度水の製造装置及び高純度水の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 より高純度で水質の安定した高純度水を長期
に亘り連続的に製造する。 【解決手段】 原水をＲＯ膜装置１，１段目電気脱イオ
ン装置２及び２段目電気脱イオン装置３に順次通水して
処理するに当り、ＲＯ膜装置１の前段に脱炭酸装置４を
設ける；１段目電気脱イオン装置２の給水にアルカリを
添加する；或いは、１段目電気脱イオン装置２と２段目
電気脱イオン装置３との間にアニオン交換樹脂塔５を設
ける。
に亘り連続的に製造する。 【解決手段】 原水をＲＯ膜装置１，１段目電気脱イオ
ン装置２及び２段目電気脱イオン装置３に順次通水して
処理するに当り、ＲＯ膜装置１の前段に脱炭酸装置４を
設ける；１段目電気脱イオン装置２の給水にアルカリを
添加する；或いは、１段目電気脱イオン装置２と２段目
電気脱イオン装置３との間にアニオン交換樹脂塔５を設
ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は高純度水の製造装置
及び高純度水の製造方法に係り、特に、逆浸透（ＲＯ）
膜装置と、このＲＯ膜装置の後段に２段に設けられた電
気脱イオン装置に原水を順次通水することにより、より
高純度で水質の安定した高純度水を連続的に製造する高
純度水の製造装置及び高純度水の製造方法に関する。
及び高純度水の製造方法に係り、特に、逆浸透（ＲＯ）
膜装置と、このＲＯ膜装置の後段に２段に設けられた電
気脱イオン装置に原水を順次通水することにより、より
高純度で水質の安定した高純度水を連続的に製造する高
純度水の製造装置及び高純度水の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ＲＯ膜装置と電気脱イオン装置と
を組み合わせ、更に必要に応じて後段にイオン交換樹脂
塔を設けて高純度化を図った純水製造装置が公知であ
り、このような装置において、更に純度を向上するため
にＲＯ膜装置を２段に設けたものや前段にアニオン交換
樹脂塔を設けたものも提案されている。
を組み合わせ、更に必要に応じて後段にイオン交換樹脂
塔を設けて高純度化を図った純水製造装置が公知であ
り、このような装置において、更に純度を向上するため
にＲＯ膜装置を２段に設けたものや前段にアニオン交換
樹脂塔を設けたものも提案されている。
【０００３】従来の装置構成において、シリカ２０ｍｇ
／Ｌ、ボロン０．２ｍｇ／Ｌ、比抵抗０．００４ＭΩ・
ｃｍ、炭酸ガス約５ｍｇ／Ｌの原水を処理した場合、各
装置の処理水の水質は下記の通りである。
／Ｌ、ボロン０．２ｍｇ／Ｌ、比抵抗０．００４ＭΩ・
ｃｍ、炭酸ガス約５ｍｇ／Ｌの原水を処理した場合、各
装置の処理水の水質は下記の通りである。
【０００４】
【表１】
【０００５】
【表２】
【０００６】
【表３】
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の純水製造装
置では、シリカ０．００５ｍｇ／Ｌ以下、ボロン０．０
００５ｍｇ／Ｌ以下、比抵抗１７．５ＭΩ・ｃｍ以上を
処理水の水質の目標値とした場合、図２（ａ）に示す如
く２段ＲＯ膜装置と電気脱イオン装置とを組み合わせた
もの、及び、図２（ｂ）に示す如くＲＯ膜装置と電気脱
イオン装置とを組み合わせたものでは、この水質の目標
値に到達するためには、更に後段に非再生型混床式イオ
ン交換装置等のイオン交換装置を設置する必要があり、
そのための装置コストや設置スペースが問題となる。し
かも、その場合においても、ボロンの低濃度化は困難で
あり、また水質が安定せず、その上、イオン交換装置の
交換や再生が必要であるために長期連続運転に適さない
という欠点がある。
置では、シリカ０．００５ｍｇ／Ｌ以下、ボロン０．０
００５ｍｇ／Ｌ以下、比抵抗１７．５ＭΩ・ｃｍ以上を
処理水の水質の目標値とした場合、図２（ａ）に示す如
く２段ＲＯ膜装置と電気脱イオン装置とを組み合わせた
もの、及び、図２（ｂ）に示す如くＲＯ膜装置と電気脱
イオン装置とを組み合わせたものでは、この水質の目標
値に到達するためには、更に後段に非再生型混床式イオ
ン交換装置等のイオン交換装置を設置する必要があり、
そのための装置コストや設置スペースが問題となる。し
かも、その場合においても、ボロンの低濃度化は困難で
あり、また水質が安定せず、その上、イオン交換装置の
交換や再生が必要であるために長期連続運転に適さない
という欠点がある。
【０００８】また、図２（ｃ）に示す如くアニオン交換
樹脂塔、ＲＯ膜装置及び電気脱イオン装置を組み合わせ
たものでは、ほぼ目標水質に到達するが、ＲＯ膜装置の
前段のアニオン交換樹脂塔の負荷が大きく、装置コスト
や設置スペース、更にはアニオン交換樹脂の再生等の面
で不利である。
樹脂塔、ＲＯ膜装置及び電気脱イオン装置を組み合わせ
たものでは、ほぼ目標水質に到達するが、ＲＯ膜装置の
前段のアニオン交換樹脂塔の負荷が大きく、装置コスト
や設置スペース、更にはアニオン交換樹脂の再生等の面
で不利である。
【０００９】本発明は上記従来の問題点を解決し、より
高純度で水質の安定した高純度水を長期に亘り連続的に
製造することができる高純度水の製造装置及び高純度水
の製造方法を提供することを目的とする。
高純度で水質の安定した高純度水を長期に亘り連続的に
製造することができる高純度水の製造装置及び高純度水
の製造方法を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】請求項１の高純度水の製
造装置は、ＲＯ膜装置と該ＲＯ膜装置の後段に設けられ
た第１の電気脱イオン装置と、該第１の電気脱イオン装
置の後段に設けられた第２の電気脱イオン装置とを有す
る高純度水の製造装置であって、該ＲＯ膜装置の前段に
設けられた脱炭酸手段と、該ＲＯ膜装置と第１の電気脱
イオン装置との間に設けられたアルカリ添加手段とのい
ずれか一方又は双方を有することを特徴とする。
造装置は、ＲＯ膜装置と該ＲＯ膜装置の後段に設けられ
た第１の電気脱イオン装置と、該第１の電気脱イオン装
置の後段に設けられた第２の電気脱イオン装置とを有す
る高純度水の製造装置であって、該ＲＯ膜装置の前段に
設けられた脱炭酸手段と、該ＲＯ膜装置と第１の電気脱
イオン装置との間に設けられたアルカリ添加手段とのい
ずれか一方又は双方を有することを特徴とする。
【００１１】請求項２の高純度水の製造装置は、ＲＯ膜
装置と該ＲＯ膜装置の後段に設けられた第１の電気脱イ
オン装置と、該第１の電気脱イオン装置の後段に設けら
れた第２の電気脱イオン装置とを有する高純度水の製造
装置であって、該第１の電気脱イオン装置と第２の電気
脱イオン装置との間にアニオン交換装置を有することを
特徴とする。
装置と該ＲＯ膜装置の後段に設けられた第１の電気脱イ
オン装置と、該第１の電気脱イオン装置の後段に設けら
れた第２の電気脱イオン装置とを有する高純度水の製造
装置であって、該第１の電気脱イオン装置と第２の電気
脱イオン装置との間にアニオン交換装置を有することを
特徴とする。
【００１２】この請求項２の高純度水の製造装置におい
て、ＲＯ膜装置の前段に脱炭酸手段を設けるのが好まし
い。
て、ＲＯ膜装置の前段に脱炭酸手段を設けるのが好まし
い。
【００１３】請求項４の高純度水の製造方法は、原水を
ＲＯ膜装置、第１の電気脱イオン装置及び第２の電気脱
イオン装置に順次通水して高純度水を製造する方法であ
って、該ＲＯ膜装置への通水に先立つ原水の脱炭酸処理
と、該第１の電気脱イオン装置への通水に先立つＲＯ膜
装置の処理水へのアルカリ添加とのいずれか一方又は双
方を採用することを特徴とする。
ＲＯ膜装置、第１の電気脱イオン装置及び第２の電気脱
イオン装置に順次通水して高純度水を製造する方法であ
って、該ＲＯ膜装置への通水に先立つ原水の脱炭酸処理
と、該第１の電気脱イオン装置への通水に先立つＲＯ膜
装置の処理水へのアルカリ添加とのいずれか一方又は双
方を採用することを特徴とする。
【００１４】請求項５の高純度水の製造方法は、原水を
ＲＯ膜装置、第１の電気脱イオン装置及び第２の電気脱
イオン装置に順次通水して高純度水を製造する方法であ
って、該第１の電気脱イオン装置の処理水をアニオン交
換処理した後、該第２の電気脱イオン装置に通水するこ
とを特徴とする。
ＲＯ膜装置、第１の電気脱イオン装置及び第２の電気脱
イオン装置に順次通水して高純度水を製造する方法であ
って、該第１の電気脱イオン装置の処理水をアニオン交
換処理した後、該第２の電気脱イオン装置に通水するこ
とを特徴とする。
【００１５】この請求項５の高純度水の製造方法におい
て、ＲＯ膜装置への通水に先立ち原水を脱炭酸処理する
のが好ましい。
て、ＲＯ膜装置への通水に先立ち原水を脱炭酸処理する
のが好ましい。
【００１６】従来の純水製造装置では、電気脱イオン装
置を１段のみで使用しているが、本発明においては、電
気脱イオン装置を２段に直列に配置してシリカやボロン
を高度に除去し、処理水の比抵抗を高める。即ち、電気
脱イオン装置を２段に設けると、２段目の電気脱イオン
装置では、１段目の電気脱イオン装置においてシリカや
ボロンが十分に除去され、比抵抗も十分に向上した水を
処理することになることから、２段目の電気脱イオン装
置では原水（給水）条件が、性能面、回収率、電圧電流
負荷に対して良好なものとなるため、得られる処理水の
水質は著しく高くなり、水質が安定すると共に、長期連
続運転が可能となる。
置を１段のみで使用しているが、本発明においては、電
気脱イオン装置を２段に直列に配置してシリカやボロン
を高度に除去し、処理水の比抵抗を高める。即ち、電気
脱イオン装置を２段に設けると、２段目の電気脱イオン
装置では、１段目の電気脱イオン装置においてシリカや
ボロンが十分に除去され、比抵抗も十分に向上した水を
処理することになることから、２段目の電気脱イオン装
置では原水（給水）条件が、性能面、回収率、電圧電流
負荷に対して良好なものとなるため、得られる処理水の
水質は著しく高くなり、水質が安定すると共に、長期連
続運転が可能となる。
【００１７】なお電気脱イオン装置はコンパクトである
ため、２段設けても装置設備が過度に大型化することは
なく、設置スペース面でも問題になることはない。
ため、２段設けても装置設備が過度に大型化することは
なく、設置スペース面でも問題になることはない。
【００１８】しかも、本発明では、このようにＲＯ膜装
置と２段に設けた電気脱イオン装置で処理するに当た
り、 脱炭酸処理することにより原水の炭酸ガス濃度を下
げる。 第１の電気脱イオン装置の給水にアルカリを添加す
ることにより第１の電気脱イオン装置におけるシリカや
炭酸ガス除去率を高める。 第１の電気脱イオン装置の処理水をアニオン交換処
理してより純度を高めると共に、アニオン交換処理によ
りｐＨを高めた水を第２の電気脱イオン装置に給水する
ことにより、第２の電気脱イオン装置においてシリカを
高度に除去する。ことで、著しく高純度の処理水を得る
ことができる。
置と２段に設けた電気脱イオン装置で処理するに当た
り、 脱炭酸処理することにより原水の炭酸ガス濃度を下
げる。 第１の電気脱イオン装置の給水にアルカリを添加す
ることにより第１の電気脱イオン装置におけるシリカや
炭酸ガス除去率を高める。 第１の電気脱イオン装置の処理水をアニオン交換処
理してより純度を高めると共に、アニオン交換処理によ
りｐＨを高めた水を第２の電気脱イオン装置に給水する
ことにより、第２の電気脱イオン装置においてシリカを
高度に除去する。ことで、著しく高純度の処理水を得る
ことができる。
【００１９】即ち、原水を脱炭酸処理して電気脱イオン
装置の炭酸ガス負荷を軽減することで、電気脱イオン装
置の脱塩室内のイオン交換樹脂面及びイオン交換膜面で
のシリカ、ボロン、その他の塩類に対する吸着、移動速
度を向上させ、これらの除去性能を高めることができ
る。
装置の炭酸ガス負荷を軽減することで、電気脱イオン装
置の脱塩室内のイオン交換樹脂面及びイオン交換膜面で
のシリカ、ボロン、その他の塩類に対する吸着、移動速
度を向上させ、これらの除去性能を高めることができ
る。
【００２０】また、電気脱イオン装置の給水のｐＨを高
めることにより、炭酸ガスが重炭酸イオンに変化する
と、電気脱イオン装置の脱塩室から濃縮室側へ容易に移
動するようになり、脱イオン効率が高まる。
めることにより、炭酸ガスが重炭酸イオンに変化する
と、電気脱イオン装置の脱塩室から濃縮室側へ容易に移
動するようになり、脱イオン効率が高まる。
【００２１】特に、前処理として脱炭酸装置を設けて原
水の炭酸ガス濃度を下げ、また、１段目電気脱イオン装
置と２段目電気脱イオン装置との間にアニオン交換樹脂
塔を設置することにより、２段目電気脱イオン装置の給
水のｐＨを高め、かつ、シリカ、ボロン、炭酸ガスを更
に除去することとなり、その結果、シリカトータル除去
率９９．９９９％以上、ボロントータル除去率９９％以
上、比抵抗値１７．５ＭΩ・ｃｍ以上の性能を確実に得
ることができ、２段目電気脱イオン装置の処理水とし
て、シリカ濃度０．０００１ｍｇ／Ｌ以下、ボロン濃度
０．０００１ｍｇ／Ｌ以下、比抵抗値１８．０ＭΩ・ｃ
ｍと著しく高純度の処理水を得ることができる。
水の炭酸ガス濃度を下げ、また、１段目電気脱イオン装
置と２段目電気脱イオン装置との間にアニオン交換樹脂
塔を設置することにより、２段目電気脱イオン装置の給
水のｐＨを高め、かつ、シリカ、ボロン、炭酸ガスを更
に除去することとなり、その結果、シリカトータル除去
率９９．９９９％以上、ボロントータル除去率９９％以
上、比抵抗値１７．５ＭΩ・ｃｍ以上の性能を確実に得
ることができ、２段目電気脱イオン装置の処理水とし
て、シリカ濃度０．０００１ｍｇ／Ｌ以下、ボロン濃度
０．０００１ｍｇ／Ｌ以下、比抵抗値１８．０ＭΩ・ｃ
ｍと著しく高純度の処理水を得ることができる。
【００２２】
【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。
施の形態を詳細に説明する。
【００２３】図１（ａ）〜（ｃ）は本発明の高純度水の
製造装置及び高純度水の製造方法の実施の形態を示す系
統図である。
製造装置及び高純度水の製造方法の実施の形態を示す系
統図である。
【００２４】本発明において、処理する原水は、市水
（水道水）、地下水（井戸水）、河川水、その他使用済
純水の回収水等である。
（水道水）、地下水（井戸水）、河川水、その他使用済
純水の回収水等である。
【００２５】図１（ａ）の高純度水の製造装置は、原水
をＲＯ膜装置１，１段目電気脱イオン装置２及び２段目
電気脱イオン装置３に順次通水して処理するに当たり、
１段目電気脱イオン装置２に給水されるＲＯ膜装置１の
透過水にＮａＯＨ，ＫＯＨ等のアルカリを添加して１段
目電気脱イオン装置２の給水のｐＨを６．５以上、好ま
しくは８．０〜１２．０に調整して処理を行うものであ
る。
をＲＯ膜装置１，１段目電気脱イオン装置２及び２段目
電気脱イオン装置３に順次通水して処理するに当たり、
１段目電気脱イオン装置２に給水されるＲＯ膜装置１の
透過水にＮａＯＨ，ＫＯＨ等のアルカリを添加して１段
目電気脱イオン装置２の給水のｐＨを６．５以上、好ま
しくは８．０〜１２．０に調整して処理を行うものであ
る。
【００２６】図１（ｂ）の高純度水の製造装置は、図１
（ａ）の高純度水の製造装置に更に前処理装置として脱
炭酸装置４を設け、原水を脱炭酸処理した後、ＲＯ膜装
置１で処理し、アルカリでｐＨ調整後、１段目電気脱イ
オン装置２及び２段目電気脱イオン装置３に順次通水し
て処理するものである。
（ａ）の高純度水の製造装置に更に前処理装置として脱
炭酸装置４を設け、原水を脱炭酸処理した後、ＲＯ膜装
置１で処理し、アルカリでｐＨ調整後、１段目電気脱イ
オン装置２及び２段目電気脱イオン装置３に順次通水し
て処理するものである。
【００２７】図１（ｃ）の高純度水の製造装置は、図１
（ｂ）の高純度水の製造装置において、アルカリ添加の
代りに１段目電気脱イオン装置２と２段目電気脱イオン
装置３との間にアニオン交換樹脂塔５を設け、原水を脱
炭酸装置４で脱炭酸処理した後、ＲＯ膜装置１、１段目
電気脱イオン装置２、アニオン交換樹脂塔５及び２段目
電気脱イオン装置３に順次通水して処理するものであ
る。
（ｂ）の高純度水の製造装置において、アルカリ添加の
代りに１段目電気脱イオン装置２と２段目電気脱イオン
装置３との間にアニオン交換樹脂塔５を設け、原水を脱
炭酸装置４で脱炭酸処理した後、ＲＯ膜装置１、１段目
電気脱イオン装置２、アニオン交換樹脂塔５及び２段目
電気脱イオン装置３に順次通水して処理するものであ
る。
【００２８】本発明においては、このように、原水をＲ
Ｏ膜装置１，１段目電気脱イオン装置２及び２段目電気
脱イオン装置３に順次通水して処理するに当たり、アル
カリ添加、脱炭酸処理、アニオン交換処理を組み込むこ
とにより、１段目電気脱イオン装置２及び／又は２段目
電気脱イオン装置３の給水が好ましくは次のような水質
となるように調整し、１段目電気脱イオン装置２の水回
収率を５０〜９５％、２段目電気脱イオン装置３の水回
収率を５０〜９６％で通水することにより、著しく高純
度の処理水を得ることができる。
Ｏ膜装置１，１段目電気脱イオン装置２及び２段目電気
脱イオン装置３に順次通水して処理するに当たり、アル
カリ添加、脱炭酸処理、アニオン交換処理を組み込むこ
とにより、１段目電気脱イオン装置２及び／又は２段目
電気脱イオン装置３の給水が好ましくは次のような水質
となるように調整し、１段目電気脱イオン装置２の水回
収率を５０〜９５％、２段目電気脱イオン装置３の水回
収率を５０〜９６％で通水することにより、著しく高純
度の処理水を得ることができる。
【００２９】
【表４】
【００３０】
【表５】
【００３１】従って、本発明では、電気脱イオン装置の
給水として上述のような水質範囲が達成されれば良く、
例えば、図１（ｂ）の高純度水の製造装置において、ア
ルカリ添加を省略しても良く、また、図１（ｃ）の高純
度水の製造装置において、脱炭酸装置を省略しても良
い。
給水として上述のような水質範囲が達成されれば良く、
例えば、図１（ｂ）の高純度水の製造装置において、ア
ルカリ添加を省略しても良く、また、図１（ｃ）の高純
度水の製造装置において、脱炭酸装置を省略しても良
い。
【００３２】なお、上記水質を確保する上で、原水は必
要に応じて除濁装置、活性炭塔、或いは軟水器等で前処
理した後、本発明に従って処理するのが好ましい。
要に応じて除濁装置、活性炭塔、或いは軟水器等で前処
理した後、本発明に従って処理するのが好ましい。
【００３３】
【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。
り具体的に説明する。
【００３４】なお、以下において、原水としては、上水
（井水）を活性炭塔で処理した後、軟水器で硬度成分を
除去した水（水温２１〜２４℃）を用いた。この原水の
水質は次の通りであり、処理水量は４００Ｌ／ｈｒとし
た。 〔原水水質〕 シリカ ： ３０ｍｇ／Ｌ ボロン ： ０．０５ｍｇ／Ｌ 炭酸ガス： ８ｍｇ／Ｌ ｐＨ ： ７．２ 比抵抗 ：０．００４ＭΩ・ｃｍ また、用いたＲＯ膜装置、１段目電気脱イオン装置、２
段目電気脱イオン装置、脱炭酸装置及びアニオン交換樹
脂塔の仕様及び運転条件は次の通りである。
（井水）を活性炭塔で処理した後、軟水器で硬度成分を
除去した水（水温２１〜２４℃）を用いた。この原水の
水質は次の通りであり、処理水量は４００Ｌ／ｈｒとし
た。 〔原水水質〕 シリカ ： ３０ｍｇ／Ｌ ボロン ： ０．０５ｍｇ／Ｌ 炭酸ガス： ８ｍｇ／Ｌ ｐＨ ： ７．２ 比抵抗 ：０．００４ＭΩ・ｃｍ また、用いたＲＯ膜装置、１段目電気脱イオン装置、２
段目電気脱イオン装置、脱炭酸装置及びアニオン交換樹
脂塔の仕様及び運転条件は次の通りである。
【００３５】ＲＯ膜装置：低圧スパイラル型モジュー
ル、ポリイミド系合成複合膜 水回収率： ３０％ 通水圧力： ６．４ｋｇ／ｃｍ２（６．２７×１０５Ｐ
ａ） １段目電気脱イオン装置：脱塩室と濃縮室にアニオンと
カチオンとの混合イオン交換樹脂を充填したオールフィ
ルド型 水回収率： ８８％ 電圧 ： ９８Ｖ 電流 ： ０．４Ａ ２段目電気脱イオン装置：１段目電気脱イオン装置と同
じ型を使用 水回収率： ９０％ 電圧 ： １００Ｖ 電流 ：０．０４Ａ 脱炭酸装置：外圧式中空糸型脱気膜（膜材質：ポリプロ
ピレン） アニオン交換樹脂塔：強塩基性アニオン交換樹脂量１５
Ｌ（１基） 実施例１ 図１（ａ）に示す高純度水の製造装置で原水を処理し
た。アルカリとしてはＮａＯＨを用い、１段目電気脱イ
オン装置２の給水のｐＨが９となるように添加した。
ル、ポリイミド系合成複合膜 水回収率： ３０％ 通水圧力： ６．４ｋｇ／ｃｍ２（６．２７×１０５Ｐ
ａ） １段目電気脱イオン装置：脱塩室と濃縮室にアニオンと
カチオンとの混合イオン交換樹脂を充填したオールフィ
ルド型 水回収率： ８８％ 電圧 ： ９８Ｖ 電流 ： ０．４Ａ ２段目電気脱イオン装置：１段目電気脱イオン装置と同
じ型を使用 水回収率： ９０％ 電圧 ： １００Ｖ 電流 ：０．０４Ａ 脱炭酸装置：外圧式中空糸型脱気膜（膜材質：ポリプロ
ピレン） アニオン交換樹脂塔：強塩基性アニオン交換樹脂量１５
Ｌ（１基） 実施例１ 図１（ａ）に示す高純度水の製造装置で原水を処理し
た。アルカリとしてはＮａＯＨを用い、１段目電気脱イ
オン装置２の給水のｐＨが９となるように添加した。
【００３６】各段階における水質及び除去率は次の通り
であった。なお、除去率は原水中の濃度に対して各段階
における濃度から求めた値である。
であった。なお、除去率は原水中の濃度に対して各段階
における濃度から求めた値である。
【００３７】
【表６】
【００３８】実施例２ 図１（ｃ）に示す高純度水の製造装置で原水を処理した
ところ、各段階における水質及び除去率は次の通りであ
った。
ところ、各段階における水質及び除去率は次の通りであ
った。
【００３９】
【表７】
【００４０】比較例１ 図２（ｂ）に示す高純度水の製造装置で原水を処理し
た。なお、電気脱イオン装置としては脱塩室と濃縮室に
アニオンとカチオンの混合イオン交換樹脂を充填したオ
ールフィルド型を用い、水回収率８５％、電圧１１５
Ｖ，電流０．５Ａで処理を行った。
た。なお、電気脱イオン装置としては脱塩室と濃縮室に
アニオンとカチオンの混合イオン交換樹脂を充填したオ
ールフィルド型を用い、水回収率８５％、電圧１１５
Ｖ，電流０．５Ａで処理を行った。
【００４１】各段階における水質及び除去率は次の通り
であった。
であった。
【００４２】
【表８】
【００４３】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明によれば、よ
り高純度で水質の安定した高純度水を長期に亘り連続的
に製造することができるため、後段の装置設備の負荷を
軽減して装置のコンパクト化、設備コストの低減を図る
ことができる。
り高純度で水質の安定した高純度水を長期に亘り連続的
に製造することができるため、後段の装置設備の負荷を
軽減して装置のコンパクト化、設備コストの低減を図る
ことができる。
【図１】本発明の実施の形態を示す系統図である。
【図２】従来例を示す系統図である。
１：ＲＯ膜装置 ２：１段目電気脱イオン装置 ３：２段目電気脱イオン装置 ４：脱炭酸装置 ５：アニオン交換樹脂塔
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4D006 GA03 KA02 KA71 KA72 KB11 KB17 PB23 PB70 PC02 4D061 DA02 DB15 DC13 DC18 EA09 EB13 FA09 FA20
Claims (6)
- 【請求項１】 逆浸透膜装置と該逆浸透膜装置の後段に
設けられた第１の電気脱イオン装置と、該第１の電気脱
イオン装置の後段に設けられた第２の電気脱イオン装置
とを有する高純度水の製造装置であって、 該逆浸透膜装置の前段に設けられた脱炭酸手段と、該逆
浸透膜装置と第１の電気脱イオン装置との間に設けられ
たアルカリ添加手段とのいずれか一方又は双方を有する
ことを特徴とする高純度水の製造装置。 - 【請求項２】 逆浸透膜装置と該逆浸透膜装置の後段に
設けられた第１の電気脱イオン装置と、該第１の電気脱
イオン装置の後段に設けられた第２の電気脱イオン装置
とを有する高純度水の製造装置であって、 該第１の電気脱イオン装置と第２の電気脱イオン装置と
の間にアニオン交換装置を有することを特徴とする高純
度水の製造装置。 - 【請求項３】 請求項２において、該逆浸透膜装置の前
段に設けられた脱炭酸手段を有することを特徴とする高
純度水の製造装置。 - 【請求項４】 原水を逆浸透膜装置、第１の電気脱イオ
ン装置及び第２の電気脱イオン装置に順次通水して高純
度水を製造する方法であって、 該逆浸透膜装置への通水に先立つ原水の脱炭酸処理と、
該第１の電気脱イオン装置への通水に先立つ逆浸透膜装
置の処理水へのアルカリ添加とのいずれか一方又は双方
を採用することを特徴とする高純度水の製造方法。 - 【請求項５】 原水を逆浸透膜装置、第１の電気脱イオ
ン装置及び第２の電気脱イオン装置に順次通水して高純
度水を製造する方法であって、 該第１の電気脱イオン装置の処理水をアニオン交換処理
した後、該第２の電気脱イオン装置に通水することを特
徴とする高純度水の製造方法。 - 【請求項６】 請求項５において、該逆浸透膜装置への
通水に先立ち原水を脱炭酸処理することを特徴とする高
純度水の製造方法。
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Cited By (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6607647B2 (en) | 2001-04-25 | 2003-08-19 | United States Filter Corporation | Electrodeionization apparatus with expanded conductive mesh electrode and method |
| US6649037B2 (en) | 2001-05-29 | 2003-11-18 | United States Filter Corporation | Electrodeionization apparatus and method |
| JP2007167745A (ja) * | 2005-12-21 | 2007-07-05 | Japan Organo Co Ltd | シリカの除去方法及びシリカ除去装置 |
| US7658828B2 (en) | 2005-04-13 | 2010-02-09 | Siemens Water Technologies Holding Corp. | Regeneration of adsorption media within electrical purification apparatuses |
| US7744760B2 (en) | 2006-09-20 | 2010-06-29 | Siemens Water Technologies Corp. | Method and apparatus for desalination |
| US7820024B2 (en) | 2006-06-23 | 2010-10-26 | Siemens Water Technologies Corp. | Electrically-driven separation apparatus |
| US7846340B2 (en) | 2003-11-13 | 2010-12-07 | Siemens Water Technologies Corp. | Water treatment system and method |
| US7862700B2 (en) | 2003-11-13 | 2011-01-04 | Siemens Water Technologies Holding Corp. | Water treatment system and method |
| US8045849B2 (en) | 2005-06-01 | 2011-10-25 | Siemens Industry, Inc. | Water treatment system and process |
| US8101058B2 (en) | 2001-10-15 | 2012-01-24 | Siemens Industry, Inc. | Apparatus for fluid purification |
| US8114260B2 (en) | 2003-11-13 | 2012-02-14 | Siemens Industry, Inc. | Water treatment system and method |
| US8377279B2 (en) | 2003-11-13 | 2013-02-19 | Siemens Industry, Inc. | Water treatment system and method |
| US8585882B2 (en) | 2007-11-30 | 2013-11-19 | Siemens Water Technologies Llc | Systems and methods for water treatment |
| US8658043B2 (en) | 2003-11-13 | 2014-02-25 | Siemens Water Technologies Llc | Water treatment system and method |
| JP2014069120A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-21 | Japan Organo Co Ltd | 脱塩方法及び脱塩装置 |
| US8894834B2 (en) | 2003-11-13 | 2014-11-25 | Evoqua Water Technologies Llc | Water treatment system and method |
| US9023185B2 (en) | 2006-06-22 | 2015-05-05 | Evoqua Water Technologies Llc | Low scale potential water treatment |
| US9592472B2 (en) | 2006-06-13 | 2017-03-14 | Evoqua Water Technologies Llc | Method and system for irrigation |
| US10252923B2 (en) | 2006-06-13 | 2019-04-09 | Evoqua Water Technologies Llc | Method and system for water treatment |
| US10625211B2 (en) | 2006-06-13 | 2020-04-21 | Evoqua Water Technologies Llc | Method and system for water treatment |
| WO2023199759A1 (ja) * | 2022-04-11 | 2023-10-19 | 栗田工業株式会社 | 脱イオン水の製造装置及び方法 |
| US11820689B2 (en) | 2017-08-21 | 2023-11-21 | Evoqua Water Technologies Llc | Treatment of saline water for agricultural and potable use |
-
1999
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Cited By (29)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6607647B2 (en) | 2001-04-25 | 2003-08-19 | United States Filter Corporation | Electrodeionization apparatus with expanded conductive mesh electrode and method |
| US6649037B2 (en) | 2001-05-29 | 2003-11-18 | United States Filter Corporation | Electrodeionization apparatus and method |
| US6824662B2 (en) | 2001-05-29 | 2004-11-30 | Usfilter Corporation | Electrodeionization apparatus and method |
| US8721862B2 (en) | 2001-10-15 | 2014-05-13 | Evoqua Water Technologies Llc | Apparatus for fluid purification and methods of manufacture and use thereof |
| US8101058B2 (en) | 2001-10-15 | 2012-01-24 | Siemens Industry, Inc. | Apparatus for fluid purification |
| US8377279B2 (en) | 2003-11-13 | 2013-02-19 | Siemens Industry, Inc. | Water treatment system and method |
| US8864971B2 (en) | 2003-11-13 | 2014-10-21 | Evoqua Water Technologies Llc | Water treatment system and method |
| US8894834B2 (en) | 2003-11-13 | 2014-11-25 | Evoqua Water Technologies Llc | Water treatment system and method |
| US8658043B2 (en) | 2003-11-13 | 2014-02-25 | Siemens Water Technologies Llc | Water treatment system and method |
| US7846340B2 (en) | 2003-11-13 | 2010-12-07 | Siemens Water Technologies Corp. | Water treatment system and method |
| US7862700B2 (en) | 2003-11-13 | 2011-01-04 | Siemens Water Technologies Holding Corp. | Water treatment system and method |
| US8114260B2 (en) | 2003-11-13 | 2012-02-14 | Siemens Industry, Inc. | Water treatment system and method |
| US7658828B2 (en) | 2005-04-13 | 2010-02-09 | Siemens Water Technologies Holding Corp. | Regeneration of adsorption media within electrical purification apparatuses |
| US8045849B2 (en) | 2005-06-01 | 2011-10-25 | Siemens Industry, Inc. | Water treatment system and process |
| JP2007167745A (ja) * | 2005-12-21 | 2007-07-05 | Japan Organo Co Ltd | シリカの除去方法及びシリカ除去装置 |
| US9592472B2 (en) | 2006-06-13 | 2017-03-14 | Evoqua Water Technologies Llc | Method and system for irrigation |
| US10252923B2 (en) | 2006-06-13 | 2019-04-09 | Evoqua Water Technologies Llc | Method and system for water treatment |
| US10625211B2 (en) | 2006-06-13 | 2020-04-21 | Evoqua Water Technologies Llc | Method and system for water treatment |
| US9023185B2 (en) | 2006-06-22 | 2015-05-05 | Evoqua Water Technologies Llc | Low scale potential water treatment |
| US9586842B2 (en) | 2006-06-22 | 2017-03-07 | Evoqua Water Technologies Llc | Low scale potential water treatment |
| US7820024B2 (en) | 2006-06-23 | 2010-10-26 | Siemens Water Technologies Corp. | Electrically-driven separation apparatus |
| US8182693B2 (en) | 2006-09-20 | 2012-05-22 | Siemens Industry, Inc. | Method and apparatus for desalination |
| US7744760B2 (en) | 2006-09-20 | 2010-06-29 | Siemens Water Technologies Corp. | Method and apparatus for desalination |
| US9011660B2 (en) | 2007-11-30 | 2015-04-21 | Evoqua Water Technologies Llc | Systems and methods for water treatment |
| US8585882B2 (en) | 2007-11-30 | 2013-11-19 | Siemens Water Technologies Llc | Systems and methods for water treatment |
| US9637400B2 (en) | 2007-11-30 | 2017-05-02 | Evoqua Water Technologies Llc | Systems and methods for water treatment |
| JP2014069120A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-21 | Japan Organo Co Ltd | 脱塩方法及び脱塩装置 |
| US11820689B2 (en) | 2017-08-21 | 2023-11-21 | Evoqua Water Technologies Llc | Treatment of saline water for agricultural and potable use |
| WO2023199759A1 (ja) * | 2022-04-11 | 2023-10-19 | 栗田工業株式会社 | 脱イオン水の製造装置及び方法 |
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| Publication number | Publication date |
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