JP2001110032A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JP2001110032A JP2001110032A JP28976099A JP28976099A JP2001110032A JP 2001110032 A JP2001110032 A JP 2001110032A JP 28976099 A JP28976099 A JP 28976099A JP 28976099 A JP28976099 A JP 28976099A JP 2001110032 A JP2001110032 A JP 2001110032A
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- powder
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 短波長出力を向上させるため磁性層の表面粗
さを1.0〜2.5nmに小さくし、全体の厚み、バッ
ク層の厚みも比較的薄く形成した場合であっても電磁変
換特性や走行耐久性が優れ、またデータの記録、読み出
しに対する信頼性が高くかつ湿熱保存特性が優れ、特に
デジタルデータ記録用として有利に用いることができる
磁気テープを提供すること。 【解決手段】 支持体の一方の側に磁性層を設け、そし
て他方の側にバック層を設けた磁気記録媒体において、
前記バック層が、フッ化炭素粉末を含有することを特徴
とする磁気記録媒体。
さを1.0〜2.5nmに小さくし、全体の厚み、バッ
ク層の厚みも比較的薄く形成した場合であっても電磁変
換特性や走行耐久性が優れ、またデータの記録、読み出
しに対する信頼性が高くかつ湿熱保存特性が優れ、特に
デジタルデータ記録用として有利に用いることができる
磁気テープを提供すること。 【解決手段】 支持体の一方の側に磁性層を設け、そし
て他方の側にバック層を設けた磁気記録媒体において、
前記バック層が、フッ化炭素粉末を含有することを特徴
とする磁気記録媒体。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、デジタルデ−タ−
を記録するために外部記録媒体として特に有利に用いる
ことができる磁気記録媒体に関するものである。
を記録するために外部記録媒体として特に有利に用いる
ことができる磁気記録媒体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】磁気記録技術は、媒体の繰り返し使用が
可能であること、信号の電子化が容易であり周辺機器と
の組み合わせによるシステムの構築が可能であること、
信号の修正も簡単にできること等の他の記録方式にはな
い優れた特長を有することから、ビデオ、オーディオ、
コンピューター用途等を始めとして様々な分野で幅広く
利用されてきた。そして、機器の小型化、記録再生信号
の質の向上、記録の長時間化、記録容量の増大等の要求
に対応するために、記録媒体に関しては、記録密度、信
頼性、耐久性をより一層向上させることが常に望まれて
きた。
可能であること、信号の電子化が容易であり周辺機器と
の組み合わせによるシステムの構築が可能であること、
信号の修正も簡単にできること等の他の記録方式にはな
い優れた特長を有することから、ビデオ、オーディオ、
コンピューター用途等を始めとして様々な分野で幅広く
利用されてきた。そして、機器の小型化、記録再生信号
の質の向上、記録の長時間化、記録容量の増大等の要求
に対応するために、記録媒体に関しては、記録密度、信
頼性、耐久性をより一層向上させることが常に望まれて
きた。
【0003】近年、ミニコンピュータ、パーソナルコン
ピュータなどのオフィスコンピュータの普及に伴って、
外部記憶媒体として、コンピュータ情報を保存するため
の磁気テープ(所謂、バックアップテープ)の研究が盛
んに行われている。このような用途の磁気記録媒体の実
用化に際しては、特にコンピュータの小型化、情報処理
能力の増大および搭載されるハ−ドディスクの大容量化
と相まって、記録容量の向上が強く要求される。また磁
気記録媒体が可換媒体であること、磁気記録媒体の使用
環境の広がりによる幅広い環境条件下(特に、変動の激
しい温湿度条件下など)での使用、データ保存に対する
信頼性、更に高速での繰り返し使用による多数回走行に
おけるデータの安定した記録、読み出し等の性能に対す
る信頼性なども従来にまして要求される。
ピュータなどのオフィスコンピュータの普及に伴って、
外部記憶媒体として、コンピュータ情報を保存するため
の磁気テープ(所謂、バックアップテープ)の研究が盛
んに行われている。このような用途の磁気記録媒体の実
用化に際しては、特にコンピュータの小型化、情報処理
能力の増大および搭載されるハ−ドディスクの大容量化
と相まって、記録容量の向上が強く要求される。また磁
気記録媒体が可換媒体であること、磁気記録媒体の使用
環境の広がりによる幅広い環境条件下(特に、変動の激
しい温湿度条件下など)での使用、データ保存に対する
信頼性、更に高速での繰り返し使用による多数回走行に
おけるデータの安定した記録、読み出し等の性能に対す
る信頼性なども従来にまして要求される。
【0004】一般に、磁気記録媒体は、合成樹脂などの
可撓性材料の支持体上に、磁性層が設けられた構成であ
る。そして上記のような大きい記録容量(体積記録容
量)を達成するためには、磁性粉末の粉体サイズを小さ
くする、その分散性を向上させる、あるいは磁性層を更
に薄膜化するなどの磁性層自体の面記録密度を高めると
共に、磁気記録媒体の全厚を薄くすることが有効な方法
であるとされている。また良好な感度(特に高周波領域
での出力)を維持させるためには磁性層は平滑であるこ
とが好ましいが、この平滑化による巻き乱れ、走行性の
低下を防止するために、上記支持体の磁性層とは反対の
面に通常バック層が設けられることが多い。そして特に
全厚を薄くした場合には、磁気テープの自己支持性と強
度も低下するため、バック層の付設は、繰り返し使用に
対する良好な走行耐久性を維持させるためにも必要にな
る。但し、上記のように磁気テープの薄手化に伴ってバ
ック層の厚さも比較的薄く設けられることが必要にな
る。
可撓性材料の支持体上に、磁性層が設けられた構成であ
る。そして上記のような大きい記録容量(体積記録容
量)を達成するためには、磁性粉末の粉体サイズを小さ
くする、その分散性を向上させる、あるいは磁性層を更
に薄膜化するなどの磁性層自体の面記録密度を高めると
共に、磁気記録媒体の全厚を薄くすることが有効な方法
であるとされている。また良好な感度(特に高周波領域
での出力)を維持させるためには磁性層は平滑であるこ
とが好ましいが、この平滑化による巻き乱れ、走行性の
低下を防止するために、上記支持体の磁性層とは反対の
面に通常バック層が設けられることが多い。そして特に
全厚を薄くした場合には、磁気テープの自己支持性と強
度も低下するため、バック層の付設は、繰り返し使用に
対する良好な走行耐久性を維持させるためにも必要にな
る。但し、上記のように磁気テープの薄手化に伴ってバ
ック層の厚さも比較的薄く設けられることが必要にな
る。
【0005】磁気記録媒体の全厚、そしてバック層の厚
さを比較的薄くした磁気記録媒体は、例えば、特開平6
−215350号公報に開示されている。そしてこの公
報に記載されている磁気テープの具体的な例としては、
磁気テープの全厚を10μm、バック層の層厚を0.5
μmにした態様のもの、あるいはまた全厚を9.5μ
m、バック層の層厚を0.5μmにした態様のものが挙
げられている。これらの態様におけるバック層には、帯
電防止と安定した走行性付与のために、前者の態様で
は、比較的微粒子状のカーボンブラックが単独で使用さ
れており、また後者の態様では、比較的微粒子状のカー
ボンブラックと比較的粗粒子状のカーボンブラックの二
種類のカーボンブラックが使用されている。
さを比較的薄くした磁気記録媒体は、例えば、特開平6
−215350号公報に開示されている。そしてこの公
報に記載されている磁気テープの具体的な例としては、
磁気テープの全厚を10μm、バック層の層厚を0.5
μmにした態様のもの、あるいはまた全厚を9.5μ
m、バック層の層厚を0.5μmにした態様のものが挙
げられている。これらの態様におけるバック層には、帯
電防止と安定した走行性付与のために、前者の態様で
は、比較的微粒子状のカーボンブラックが単独で使用さ
れており、また後者の態様では、比較的微粒子状のカー
ボンブラックと比較的粗粒子状のカーボンブラックの二
種類のカーボンブラックが使用されている。
【0006】一方、バック層の高い表面平滑性、ガイド
ピンに対する摩擦係数の低減化、そして良好な走行安定
性を得る目的で、バック層中に、平均粒子径10〜80
nmの微粒子状カーボンブラックと、平均粒子径200
〜500nmの粗粒子状のカーボンブラックと、平均粒
子径10〜45nmの微粒子状炭酸カルシウムを含有し
た磁気テープが提案されている(特開平2−7223号
公報)。また上記バック層には、更に無機質粉末(例え
ば、α−酸化鉄など)が添加されることがあると記載さ
れている。特願平7−293738には、平均粒子サイ
ズが10〜20nmの微粒子状カーボンブラックと平均
粒子サイズが230〜300nmの粗粒子状カーボンブ
ラックを含み、更に平均粒子サイズが20〜50nmの
炭酸カルシウムと平均粒子サイズが80〜250nmの
モース硬度5〜9の無機質粉末を含み、かつその表面粗
さRaが、30〜60nmであるバック層が提案されて
いる。
ピンに対する摩擦係数の低減化、そして良好な走行安定
性を得る目的で、バック層中に、平均粒子径10〜80
nmの微粒子状カーボンブラックと、平均粒子径200
〜500nmの粗粒子状のカーボンブラックと、平均粒
子径10〜45nmの微粒子状炭酸カルシウムを含有し
た磁気テープが提案されている(特開平2−7223号
公報)。また上記バック層には、更に無機質粉末(例え
ば、α−酸化鉄など)が添加されることがあると記載さ
れている。特願平7−293738には、平均粒子サイ
ズが10〜20nmの微粒子状カーボンブラックと平均
粒子サイズが230〜300nmの粗粒子状カーボンブ
ラックを含み、更に平均粒子サイズが20〜50nmの
炭酸カルシウムと平均粒子サイズが80〜250nmの
モース硬度5〜9の無機質粉末を含み、かつその表面粗
さRaが、30〜60nmであるバック層が提案されて
いる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明者は、磁気テー
プの全厚が10μm以下と薄く、かつバック層の層厚も
0.2〜0.8μmと非常に薄く抑えた磁気記録媒体の
デジタルデータ用の外部記録媒体としての利用について
検討した。その結果、前記特開平6−215350号公
報に記載の磁気テープでは、充分満足できる性能は得ら
れないことが判明した。すなわち、磁気記録媒体の薄型
化に伴って媒体自体の強度が不足するためか、走行を繰
り返すうちにカーボンブラックがバック層から脱落し、
摩擦係数が増大して走行性が悪化したり、またバック層
自体の薄膜化のために、バック層の削れによる走行性、
出力等への悪影響も出易くなることが判明した。また一
般にバック層の表面の凹凸状態は磁性層に転写されるた
め磁性層の平滑化の要求に対応させてバック層の表面も
平滑であることが好ましいが、磁気記録媒体を薄型にし
た場合には、前記特開平2−7223号公報に記載の磁
気テープのようにバック層の表面の平滑性を高め過ぎる
と反対に摩擦係数の増大を招き易いことも判明した。ま
た、特開平2−7223号公報、特開平9−11513
4号公報に記載の磁気テープのようにバック層に炭酸カ
ルシウムを含有させた時、使用環境の拡大に対応して湿
熱保存した後に摩擦係数を測定すると摩擦係数が大幅に
増加し、最悪の場合、走行停止することを見いだした。
プの全厚が10μm以下と薄く、かつバック層の層厚も
0.2〜0.8μmと非常に薄く抑えた磁気記録媒体の
デジタルデータ用の外部記録媒体としての利用について
検討した。その結果、前記特開平6−215350号公
報に記載の磁気テープでは、充分満足できる性能は得ら
れないことが判明した。すなわち、磁気記録媒体の薄型
化に伴って媒体自体の強度が不足するためか、走行を繰
り返すうちにカーボンブラックがバック層から脱落し、
摩擦係数が増大して走行性が悪化したり、またバック層
自体の薄膜化のために、バック層の削れによる走行性、
出力等への悪影響も出易くなることが判明した。また一
般にバック層の表面の凹凸状態は磁性層に転写されるた
め磁性層の平滑化の要求に対応させてバック層の表面も
平滑であることが好ましいが、磁気記録媒体を薄型にし
た場合には、前記特開平2−7223号公報に記載の磁
気テープのようにバック層の表面の平滑性を高め過ぎる
と反対に摩擦係数の増大を招き易いことも判明した。ま
た、特開平2−7223号公報、特開平9−11513
4号公報に記載の磁気テープのようにバック層に炭酸カ
ルシウムを含有させた時、使用環境の拡大に対応して湿
熱保存した後に摩擦係数を測定すると摩擦係数が大幅に
増加し、最悪の場合、走行停止することを見いだした。
【0008】本発明の目的は、短波長出力を向上させる
ため磁性層の表面粗さを1.0〜3.0nmに小さく
し、全体の厚み、バック層の厚みも比較的薄く形成した
場合であっても電磁変換特性や走行耐久性が優れ、また
データの記録、読み出しに対する信頼性が高くかつ湿熱
保存特性が優れ、特にデジタルデータ記録用として有利
に用いることができる磁気テープを提供することであ
る。
ため磁性層の表面粗さを1.0〜3.0nmに小さく
し、全体の厚み、バック層の厚みも比較的薄く形成した
場合であっても電磁変換特性や走行耐久性が優れ、また
データの記録、読み出しに対する信頼性が高くかつ湿熱
保存特性が優れ、特にデジタルデータ記録用として有利
に用いることができる磁気テープを提供することであ
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者は、バック層に
フッ化炭素粉末を含有させること、特に比較的薄型にし
た磁気テープにおいては、該バック層中に特定の平均粒
子サイズを持つカーボンブラックと特定範囲の平均粒子
サイズを持つフッ化炭素粉末を含有させることが、電磁
変換特性、走行耐久性、湿熱保存特性が改良できること
を見いだし本発明にいたった。特に、磁性層の表面粗さ
を1.0〜3.0nmに小さくした場合、摩擦係数と湿
熱保存特性を改良するためにフッ化炭素粉末を使用する
ことが有効である。
フッ化炭素粉末を含有させること、特に比較的薄型にし
た磁気テープにおいては、該バック層中に特定の平均粒
子サイズを持つカーボンブラックと特定範囲の平均粒子
サイズを持つフッ化炭素粉末を含有させることが、電磁
変換特性、走行耐久性、湿熱保存特性が改良できること
を見いだし本発明にいたった。特に、磁性層の表面粗さ
を1.0〜3.0nmに小さくした場合、摩擦係数と湿
熱保存特性を改良するためにフッ化炭素粉末を使用する
ことが有効である。
【0010】本発明は、支持体の一方の側に磁性層を設
け、そして他方の側にバック層を設けた磁気記録媒体に
おいて、前記バック層が、フッ化炭素粉末を含有するこ
とを特徴とする磁気記録媒体である。
け、そして他方の側にバック層を設けた磁気記録媒体に
おいて、前記バック層が、フッ化炭素粉末を含有するこ
とを特徴とする磁気記録媒体である。
【0011】本発明は以下の態様であることが好まし
い。 (1)前記フッ化炭素粉末の平均粒子サイズが1〜30
0nmである磁気記録媒体。 (2)前記バック層の厚みが、0.2〜0.8μmであ
り、前記磁気記録媒体の総厚みが3〜10μmであり、
該バック層は、平均粒子サイズが10〜20nmの微粒
子状カーボンブラックと平均粒子サイズ1〜300nm
のフッ化炭素粉末を含み、かつ該バック層の中心面平均
表面粗さRaが、2.0〜15nmである磁気記録媒
体。 (3)前記バック層が平均粒子サイズ3〜100nmの
フッ化炭素粉末を含む磁気記録媒体。 (4)前記バック層が更に平均粉体サイズが20〜25
0nmのモース硬度5〜9の無機質粉末を含む磁気記録
媒体。 (5)前記無機質粉末が、α−酸化鉄又はα−アルミナ
である磁気記録媒体。 (6)前記支持体と前記磁性層の間に実質的に非磁性で
ある下層を設け、該磁性層の抗磁力が1.43×105
A/m以上であり、前記磁性層の厚みが0.05〜0.
5μmである磁気記録媒体。 (7)前記磁性層の磁化量φm(飽和磁束密度×磁性層厚
み/4π)が4π(1.0〜8.0)×10-7Wb/m2で
あり、かつ前記磁性層の表面粗さが3D−MIRAU法
による中心面平均表面粗さで1.0〜3.0nm以下で
ある磁気記録媒体。
い。 (1)前記フッ化炭素粉末の平均粒子サイズが1〜30
0nmである磁気記録媒体。 (2)前記バック層の厚みが、0.2〜0.8μmであ
り、前記磁気記録媒体の総厚みが3〜10μmであり、
該バック層は、平均粒子サイズが10〜20nmの微粒
子状カーボンブラックと平均粒子サイズ1〜300nm
のフッ化炭素粉末を含み、かつ該バック層の中心面平均
表面粗さRaが、2.0〜15nmである磁気記録媒
体。 (3)前記バック層が平均粒子サイズ3〜100nmの
フッ化炭素粉末を含む磁気記録媒体。 (4)前記バック層が更に平均粉体サイズが20〜25
0nmのモース硬度5〜9の無機質粉末を含む磁気記録
媒体。 (5)前記無機質粉末が、α−酸化鉄又はα−アルミナ
である磁気記録媒体。 (6)前記支持体と前記磁性層の間に実質的に非磁性で
ある下層を設け、該磁性層の抗磁力が1.43×105
A/m以上であり、前記磁性層の厚みが0.05〜0.
5μmである磁気記録媒体。 (7)前記磁性層の磁化量φm(飽和磁束密度×磁性層厚
み/4π)が4π(1.0〜8.0)×10-7Wb/m2で
あり、かつ前記磁性層の表面粗さが3D−MIRAU法
による中心面平均表面粗さで1.0〜3.0nm以下で
ある磁気記録媒体。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明のバック層に使用されるフ
ッ化炭素粉末は、本発明の目的を満足することができる
ものであれば、特に制限されるべきものではないが、好
ましくは式[(CFx)n]で表される。式中、xは0.
5〜3.5、好ましくは0.8〜1.5であり、nは固
体化に必要な数である。
ッ化炭素粉末は、本発明の目的を満足することができる
ものであれば、特に制限されるべきものではないが、好
ましくは式[(CFx)n]で表される。式中、xは0.
5〜3.5、好ましくは0.8〜1.5であり、nは固
体化に必要な数である。
【0013】このようなフッ化炭素粉末は、黒鉛、カー
ボンブラック、石油コークスなどの粉体をフッ素と反応
させることにより製造することができ、好ましくは特開
平11−180706号公報に記載の方法等により製造
することができる。フッ化炭素粉末の平均粒子サイズ
は、1〜300nmが好ましく、3〜100nmがより
好ましい。
ボンブラック、石油コークスなどの粉体をフッ素と反応
させることにより製造することができ、好ましくは特開
平11−180706号公報に記載の方法等により製造
することができる。フッ化炭素粉末の平均粒子サイズ
は、1〜300nmが好ましく、3〜100nmがより
好ましい。
【0014】本発明の磁気記録媒体は、総厚みが3〜1
0μmの範囲が好ましく、3〜9μmの範囲が更に好ま
しくバック層の厚みは、0.2〜0.8μmが好まし
く、0.2〜0.7μmの範囲が更に好ましい。また、
バック層の中心面平均表面粗さRaは、好ましくは2.
0〜15nmであり、更に好ましくは2.0〜13nm
の範囲である。
0μmの範囲が好ましく、3〜9μmの範囲が更に好ま
しくバック層の厚みは、0.2〜0.8μmが好まし
く、0.2〜0.7μmの範囲が更に好ましい。また、
バック層の中心面平均表面粗さRaは、好ましくは2.
0〜15nmであり、更に好ましくは2.0〜13nm
の範囲である。
【0015】上述の磁気記録媒体を得るには、該バック
層に平均粒子サイズが好ましくは10〜20nmの微粒
子状カーボンブラックと平均粒子サイズが好ましくは1
〜300nm、更に好ましくは3〜120nmのフッ化
炭素粉末を含ませることが好ましい。
層に平均粒子サイズが好ましくは10〜20nmの微粒
子状カーボンブラックと平均粒子サイズが好ましくは1
〜300nm、更に好ましくは3〜120nmのフッ化
炭素粉末を含ませることが好ましい。
【0016】本願明細書において、平均粒子サイズとは
一次粒子の円相当径の平均を意味する。一次粒子とは、
凝集のない独立した1個の粉体であって、粉体形状が球
形、多面体状、不特定形等であって、かつ形状から粉体
を構成する長軸を特定できない場合を意味し、円相当径
とは、円投影法で求められるものを言う。後述のカーボ
ンブラックの平均粒子サイズについても上記と同様であ
る。
一次粒子の円相当径の平均を意味する。一次粒子とは、
凝集のない独立した1個の粉体であって、粉体形状が球
形、多面体状、不特定形等であって、かつ形状から粉体
を構成する長軸を特定できない場合を意味し、円相当径
とは、円投影法で求められるものを言う。後述のカーボ
ンブラックの平均粒子サイズについても上記と同様であ
る。
【0017】本願明細書において、上記フッ化炭素粉
末、カーボンブラックや強磁性粉末のように種々の粉体
のサイズ(以下、「粉体サイズ」と言う)は、高分解能
透過型電子顕微鏡写真より求められる。即ち、粉体サイ
ズは、粉体の形状が針状、紡錘状、柱状(ただし、高さ
が底面の最大長径より大きい)等の場合は、粉体を構成
する長軸の長さ、即ち長軸長で表され、粉体の形状が板
状乃至柱状(ただし、厚さ乃至高さが板面乃至底面の最
大長径より小さい)場合は、その板面乃至底面の最大長
径で表され、フッ化炭素粉末のように粉体の形状が球
形、多面体状、不特定形等であって、かつ形状から粉体
を構成する長軸を特定できない場合は、円相当径で表さ
れる。
末、カーボンブラックや強磁性粉末のように種々の粉体
のサイズ(以下、「粉体サイズ」と言う)は、高分解能
透過型電子顕微鏡写真より求められる。即ち、粉体サイ
ズは、粉体の形状が針状、紡錘状、柱状(ただし、高さ
が底面の最大長径より大きい)等の場合は、粉体を構成
する長軸の長さ、即ち長軸長で表され、粉体の形状が板
状乃至柱状(ただし、厚さ乃至高さが板面乃至底面の最
大長径より小さい)場合は、その板面乃至底面の最大長
径で表され、フッ化炭素粉末のように粉体の形状が球
形、多面体状、不特定形等であって、かつ形状から粉体
を構成する長軸を特定できない場合は、円相当径で表さ
れる。
【0018】また、該粉体の平均粉体サイズは、上記粉
体サイズの算術平均であり、約500個の粉体について
上記の如く測定を実施して求めたものである。また、該
粉体の平均針状比は、上記測定において粉体の短軸の長
さ、即ち短軸長を測定し、各粉体の(長軸長/短軸長)
の値の算術平均を指す。ここで、短軸長とは、上記粉体
サイズの定義での場合は、粉体を構成する短軸の長さ
を、同じくの場合は、厚さ乃至高さを各々指し、の場合
は、長軸と短軸の区別がないから、(長軸長/短軸長)
は便宜上、1とみなす。
体サイズの算術平均であり、約500個の粉体について
上記の如く測定を実施して求めたものである。また、該
粉体の平均針状比は、上記測定において粉体の短軸の長
さ、即ち短軸長を測定し、各粉体の(長軸長/短軸長)
の値の算術平均を指す。ここで、短軸長とは、上記粉体
サイズの定義での場合は、粉体を構成する短軸の長さ
を、同じくの場合は、厚さ乃至高さを各々指し、の場合
は、長軸と短軸の区別がないから、(長軸長/短軸長)
は便宜上、1とみなす。
【0019】そして、粉体の形状が特定の場合、例え
ば、上記粉体サイズの定義の場合は、平均粉体サイズを
平均長軸長と言い、同定義の場合は平均粉体サイズを平
均板径と言い、(最大長径/厚さ乃至高さ)の算術平均
を平均板状比という。同定義の場合は平均粉体サイズを
平均粒子サイズという。
ば、上記粉体サイズの定義の場合は、平均粉体サイズを
平均長軸長と言い、同定義の場合は平均粉体サイズを平
均板径と言い、(最大長径/厚さ乃至高さ)の算術平均
を平均板状比という。同定義の場合は平均粉体サイズを
平均粒子サイズという。
【0020】フッ化炭素粉末のバック層への添加量は、
バック層の結合剤重量(ポリイソシアネートを含む)に
対して好ましくは1〜40重量%、更に好ましくは3〜
30重量%の範囲である。 このようなバック層を持つ
磁気記録媒体に使用する磁性層は、面記録密度が0.3
〜3Gbit/inch2更には面記録密度が0.5〜3Gbit/i
nch2である。このような高い面記録密度は単層磁性層を
持つ磁気記録媒体でも実現できるが、最上層に磁性層を
設けた複数層以上より構成される磁気記録媒体で効果的
に実現できる。
バック層の結合剤重量(ポリイソシアネートを含む)に
対して好ましくは1〜40重量%、更に好ましくは3〜
30重量%の範囲である。 このようなバック層を持つ
磁気記録媒体に使用する磁性層は、面記録密度が0.3
〜3Gbit/inch2更には面記録密度が0.5〜3Gbit/i
nch2である。このような高い面記録密度は単層磁性層を
持つ磁気記録媒体でも実現できるが、最上層に磁性層を
設けた複数層以上より構成される磁気記録媒体で効果的
に実現できる。
【0021】面記録密度が0.3〜3Gbit/inch2更に
は面記録密度が0.5〜3Gbit/inch2という塗布型の
磁気記録媒体で高密度特性と優れた耐久性を併せ持つ磁
気記録媒体が得られたのは以下のようなポイントを有機
的に結合し、総合した結果である。高Hc、超平滑化、
複合潤滑剤や高耐久性結合剤、強磁性粉末の改良による
耐久性確保、磁性層の超薄層化と下層との界面での変動
減少、強磁性粉末の高充填化、粉体(強磁性粉末、非磁
性粉末)の超微粒子化、ヘッドタッチの安定化、寸法安
定性とサーボ、磁性層、支持体の熱収縮率改良、高温、
低温での潤滑剤の作用等が挙げられ、これらを結合した
結果である。
は面記録密度が0.5〜3Gbit/inch2という塗布型の
磁気記録媒体で高密度特性と優れた耐久性を併せ持つ磁
気記録媒体が得られたのは以下のようなポイントを有機
的に結合し、総合した結果である。高Hc、超平滑化、
複合潤滑剤や高耐久性結合剤、強磁性粉末の改良による
耐久性確保、磁性層の超薄層化と下層との界面での変動
減少、強磁性粉末の高充填化、粉体(強磁性粉末、非磁
性粉末)の超微粒子化、ヘッドタッチの安定化、寸法安
定性とサーボ、磁性層、支持体の熱収縮率改良、高温、
低温での潤滑剤の作用等が挙げられ、これらを結合した
結果である。
【0022】本発明の好適な磁気記録媒体は磁性層と支
持体との間に実質的に非磁性である下層を設け、磁性層
を超薄層化すると共に高出力、分散性、耐久性に優れた
超微粒子磁性粉を含有させ、下層に球状又は針状などの
無機粉末を含み、磁性層を薄くすることで磁性層内の自
己減磁作用を低減し、高周波領域での出力を大幅に高
め、更に重ね書き特性も向上させたものである。磁気ヘ
ッドの改良により、狭ギャップヘッドとの組合せにより
超薄層磁性層の効果が一層発揮でき、デジタル記録特性
の向上が図れる。特に再生ヘッドにMR素子、巨大磁気
抵抗素子を使用するシステムで使用されると好適であ
る。
持体との間に実質的に非磁性である下層を設け、磁性層
を超薄層化すると共に高出力、分散性、耐久性に優れた
超微粒子磁性粉を含有させ、下層に球状又は針状などの
無機粉末を含み、磁性層を薄くすることで磁性層内の自
己減磁作用を低減し、高周波領域での出力を大幅に高
め、更に重ね書き特性も向上させたものである。磁気ヘ
ッドの改良により、狭ギャップヘッドとの組合せにより
超薄層磁性層の効果が一層発揮でき、デジタル記録特性
の向上が図れる。特に再生ヘッドにMR素子、巨大磁気
抵抗素子を使用するシステムで使用されると好適であ
る。
【0023】磁性層と支持体の間に非磁性層を設けた上
述のような本発明の好適な重層構成の磁気記録媒体につ
いて更に詳述する。なお、磁性層を上層磁性層又は上
層、非磁性層を下層非磁性層または下層ともいう。磁性
層の厚みは高密度記録の磁気記録方式や磁気ヘッドから
要求される性能に適合するように好ましくは0.05〜
0.5μmの薄層に選択される。均一でかつ薄層にした
このような超薄層磁性層は微粒子の磁性粉や非磁性粉を
分散剤の使用と分散性の高い結合剤の組み合わせにより
高度に分散させ、高充填化を図った。使用される磁性体
は高密度領域の適性を最大限に引き出すために、高出
力、高分散性、配向性に優れた磁性体を使用している。
即ち非常に微粒子で且つ高出力を達成できる強磁性金属
粉末、特に平均長軸長が0.03〜0.12μmで、強
磁性金属粉末の結晶子サイズが80Å〜180Åである
こと、更にCoを多く含み、焼結防止剤としてAlやY
化合物を含む強磁性金属粉末を使用することにより高出
力、高耐久性が達成できる。また微粒子六方晶フェライ
トは、垂直磁気異方性に基づく高い高密度特性を持って
いるので、本発明に使用すると好適である。本発明の磁
気記録媒体の磁性層の抗磁力(Hc)は好ましくは1.
43×10 5A/m以上であり、更に好ましくは1.5
9×105A/m以上であり、特に好ましくは1.75
×105〜3.98×105A/mである。上限は明確で
はないが、記録ヘッドの改良にともない上限が拡大する
と考えられる。1.43×10 5A/m未満では本発明
が指向する高記録密度は達成されない。磁性層の最大磁
束密度Bmは0.18〜0.65T(テスラ)であるこ
とが好ましい。システムで使用されるヘッドとの関係
で、磁性層の抗磁力、磁性層厚み、磁性層の磁化量を最
適化することが好ましい。
述のような本発明の好適な重層構成の磁気記録媒体につ
いて更に詳述する。なお、磁性層を上層磁性層又は上
層、非磁性層を下層非磁性層または下層ともいう。磁性
層の厚みは高密度記録の磁気記録方式や磁気ヘッドから
要求される性能に適合するように好ましくは0.05〜
0.5μmの薄層に選択される。均一でかつ薄層にした
このような超薄層磁性層は微粒子の磁性粉や非磁性粉を
分散剤の使用と分散性の高い結合剤の組み合わせにより
高度に分散させ、高充填化を図った。使用される磁性体
は高密度領域の適性を最大限に引き出すために、高出
力、高分散性、配向性に優れた磁性体を使用している。
即ち非常に微粒子で且つ高出力を達成できる強磁性金属
粉末、特に平均長軸長が0.03〜0.12μmで、強
磁性金属粉末の結晶子サイズが80Å〜180Åである
こと、更にCoを多く含み、焼結防止剤としてAlやY
化合物を含む強磁性金属粉末を使用することにより高出
力、高耐久性が達成できる。また微粒子六方晶フェライ
トは、垂直磁気異方性に基づく高い高密度特性を持って
いるので、本発明に使用すると好適である。本発明の磁
気記録媒体の磁性層の抗磁力(Hc)は好ましくは1.
43×10 5A/m以上であり、更に好ましくは1.5
9×105A/m以上であり、特に好ましくは1.75
×105〜3.98×105A/mである。上限は明確で
はないが、記録ヘッドの改良にともない上限が拡大する
と考えられる。1.43×10 5A/m未満では本発明
が指向する高記録密度は達成されない。磁性層の最大磁
束密度Bmは0.18〜0.65T(テスラ)であるこ
とが好ましい。システムで使用されるヘッドとの関係
で、磁性層の抗磁力、磁性層厚み、磁性層の磁化量を最
適化することが好ましい。
【0024】本発明の磁性層の中心面平均表面粗さRa
は、3D−MIRAU法により測定される値であり、本
発明では好ましくは1.0〜3.0nm、更に好ましく
は1.0〜2.5nm、特に好ましくは1.0〜2.4
nmである。3.0nmを越えると磁気記録媒体とヘッ
ドのスペーシングロスが大きくなり、出力が低くなる傾
向があり、本発明の磁気記録媒体が有する媒体性能を発
揮することが困難となる傾向がある。耐久性は磁気記録
媒体にとって重要な要素である。特に高転送レートを実
現するために磁気ヘッドの回転数を従来の記録システム
に比べて0.5〜1桁以上上げたり、リニアドライブ系
ではテープ走行速度を0.5〜1桁以上上げる必要があ
り、磁気ヘッド/カートリッジ内部品と媒体とが高速摺
動する場合の媒体の耐久性の確保は重要な課題である。
媒体の耐久性を向上させる手段には、媒体自身の膜強度
を上げるバインダー処方と、磁気ヘッドとの滑り性を維
持する潤滑剤処方がある。本発明の媒体では超薄層磁性
層に適した3次元ネットワークバインダーシステムを用
い、高速回転時における走行の安定性、耐久性を確保
し、さらにバック層に工夫をして高転送レートを実現し
ている。
は、3D−MIRAU法により測定される値であり、本
発明では好ましくは1.0〜3.0nm、更に好ましく
は1.0〜2.5nm、特に好ましくは1.0〜2.4
nmである。3.0nmを越えると磁気記録媒体とヘッ
ドのスペーシングロスが大きくなり、出力が低くなる傾
向があり、本発明の磁気記録媒体が有する媒体性能を発
揮することが困難となる傾向がある。耐久性は磁気記録
媒体にとって重要な要素である。特に高転送レートを実
現するために磁気ヘッドの回転数を従来の記録システム
に比べて0.5〜1桁以上上げたり、リニアドライブ系
ではテープ走行速度を0.5〜1桁以上上げる必要があ
り、磁気ヘッド/カートリッジ内部品と媒体とが高速摺
動する場合の媒体の耐久性の確保は重要な課題である。
媒体の耐久性を向上させる手段には、媒体自身の膜強度
を上げるバインダー処方と、磁気ヘッドとの滑り性を維
持する潤滑剤処方がある。本発明の媒体では超薄層磁性
層に適した3次元ネットワークバインダーシステムを用
い、高速回転時における走行の安定性、耐久性を確保
し、さらにバック層に工夫をして高転送レートを実現し
ている。
【0025】潤滑剤は、使用される種々の温・湿度環境
下でそれぞれ優れた効果を発揮する潤滑剤を複数組み合
わせて使用し、広範囲な温度(低温、室温、高温)、湿
度(低湿、高湿)環境下でも各潤滑剤がそれぞれ機能を
発揮し、総合的に安定した潤滑効果を維持できるもので
ある。
下でそれぞれ優れた効果を発揮する潤滑剤を複数組み合
わせて使用し、広範囲な温度(低温、室温、高温)、湿
度(低湿、高湿)環境下でも各潤滑剤がそれぞれ機能を
発揮し、総合的に安定した潤滑効果を維持できるもので
ある。
【0026】また上下2層の構造を活用し、下層に潤滑
剤のタンク効果を持たせることで上層磁性層に常に適量
の潤滑剤が供給されるようにし、上層磁性層の耐久性を
向上できるようにしたものである。超薄層の磁性層に含
ませることが出来る潤滑剤量には限度があり、単純に磁
性層をうすくすることは潤滑剤の絶対量が減少し、走行
耐久性の劣化につながるので耐久性を確保することは困
難であった。上下2層に別々の機能を持たせ、互いに補
完することで電磁変換特性の向上と耐久性の向上を両立
させた。この機能分化は磁気ヘッドとメデイアを高速摺
動させるシステムでは特に有効であった。
剤のタンク効果を持たせることで上層磁性層に常に適量
の潤滑剤が供給されるようにし、上層磁性層の耐久性を
向上できるようにしたものである。超薄層の磁性層に含
ませることが出来る潤滑剤量には限度があり、単純に磁
性層をうすくすることは潤滑剤の絶対量が減少し、走行
耐久性の劣化につながるので耐久性を確保することは困
難であった。上下2層に別々の機能を持たせ、互いに補
完することで電磁変換特性の向上と耐久性の向上を両立
させた。この機能分化は磁気ヘッドとメデイアを高速摺
動させるシステムでは特に有効であった。
【0027】下層には潤滑剤の保持機能の他に表面電気
抵抗のコントロール機能を付与できる。一般に電気抵抗
のコントロールには、磁性層中にカーボンブラック等の
固体導電材料を加えることが多い。これらは磁性体の充
填密度を上げることの制約となるほか、磁性層が薄層に
なるに従い、表面粗さにも影響を与える。下層に導電材
料を加えることによってこれらの欠点を除くことができ
る。また下層のクッション効果は良好なヘッドタッチと
安定した走行性をもたらすことができる。
抵抗のコントロール機能を付与できる。一般に電気抵抗
のコントロールには、磁性層中にカーボンブラック等の
固体導電材料を加えることが多い。これらは磁性体の充
填密度を上げることの制約となるほか、磁性層が薄層に
なるに従い、表面粗さにも影響を与える。下層に導電材
料を加えることによってこれらの欠点を除くことができ
る。また下層のクッション効果は良好なヘッドタッチと
安定した走行性をもたらすことができる。
【0028】磁気記録の大容量化/高密度化に伴い、記
録トラック密度が向上する。一般には媒体上にサーボ記
録エリアを設け、記録トラックに対する磁気ヘッドのト
レーサビリテイを確保している。磁気記録媒体の支持体
として等方的寸度安定性を高めたベースを使用し、トレ
ーサビリテイの一層の安定化が図られる。そして超平滑
なベースを用いることによって、磁性層の平滑性を更に
向上できる。
録トラック密度が向上する。一般には媒体上にサーボ記
録エリアを設け、記録トラックに対する磁気ヘッドのト
レーサビリテイを確保している。磁気記録媒体の支持体
として等方的寸度安定性を高めたベースを使用し、トレ
ーサビリテイの一層の安定化が図られる。そして超平滑
なベースを用いることによって、磁性層の平滑性を更に
向上できる。
【0029】マルチメデイア社会になり、画像記録への
ニーズは産業界のみならず家庭でも益々強くなってお
り、本発明の大容量磁気記録媒体は単に文字、数字など
のデータ以外に、画像記録用媒体としての機能/コスト
の要請に十分応えられる能力を持つものである。本発明
の大容量媒体は実績のある塗布型磁気記録媒体をベース
としており、長期信頼性に富み、またコストパフォーマ
ンスに優れているものである。上述の磁気記録媒体は、
以上のような種々の要因を積み重ね、相乗的、有機的に
作用させ、初めて達成されるものである。
ニーズは産業界のみならず家庭でも益々強くなってお
り、本発明の大容量磁気記録媒体は単に文字、数字など
のデータ以外に、画像記録用媒体としての機能/コスト
の要請に十分応えられる能力を持つものである。本発明
の大容量媒体は実績のある塗布型磁気記録媒体をベース
としており、長期信頼性に富み、またコストパフォーマ
ンスに優れているものである。上述の磁気記録媒体は、
以上のような種々の要因を積み重ね、相乗的、有機的に
作用させ、初めて達成されるものである。
【0030】[磁性層]本発明の磁気記録媒体の層構成
は、基本的に支持体の上に磁性層を設けてなり、該磁性
層を支持体面の一方側に設けたものであれば、特に制限
されない。また、磁性層は単層であっても2層以上から
構成してもよく、後者の場合、それら層同士の位置関係
は目的により隣接して設けても間に磁性層以外の層を介
在させて設けてもよく、公知の層構成が採用できる。
尚、本発明において、磁性層の厚みとは、複層の場合は
最上層の磁性層の乾燥厚みを言う。
は、基本的に支持体の上に磁性層を設けてなり、該磁性
層を支持体面の一方側に設けたものであれば、特に制限
されない。また、磁性層は単層であっても2層以上から
構成してもよく、後者の場合、それら層同士の位置関係
は目的により隣接して設けても間に磁性層以外の層を介
在させて設けてもよく、公知の層構成が採用できる。
尚、本発明において、磁性層の厚みとは、複層の場合は
最上層の磁性層の乾燥厚みを言う。
【0031】本発明の磁気記録媒体は、好ましくは支持
体と磁性層との間に非磁性粉末と結合剤を主体とする非
磁性層が設けられる。磁性層を複層で構成する例として
は、強磁性酸化鉄、強磁性コバルト変性酸化鉄、CrO
2 粉末、六方晶系フェライト粉末及び各種強磁性金属粉
末等から選択した強磁性粉末を結合剤中に分散した磁性
層を組み合わせたものが挙げられる。尚、この場合、同
種の強磁性粉末であっても元素組成、粉体サイズ等の異
なる強磁性粉末を含む磁性層を組み合わせることもでき
る。本発明においては、上述したように強磁性金属粉末
を含む磁性層と支持体との間に非磁性層を設けた磁気記
録媒体が好ましい。
体と磁性層との間に非磁性粉末と結合剤を主体とする非
磁性層が設けられる。磁性層を複層で構成する例として
は、強磁性酸化鉄、強磁性コバルト変性酸化鉄、CrO
2 粉末、六方晶系フェライト粉末及び各種強磁性金属粉
末等から選択した強磁性粉末を結合剤中に分散した磁性
層を組み合わせたものが挙げられる。尚、この場合、同
種の強磁性粉末であっても元素組成、粉体サイズ等の異
なる強磁性粉末を含む磁性層を組み合わせることもでき
る。本発明においては、上述したように強磁性金属粉末
を含む磁性層と支持体との間に非磁性層を設けた磁気記
録媒体が好ましい。
【0032】重層構成の磁気記録媒体は、下層と磁性層
を支持体上に、下層を塗布後、下層が湿潤状態の内に上
層を同時、又は逐次に塗布するウェット・オン・ウェット
法(W/W)でも、下層が乾燥した後に上層磁性層を設
けるドライ・オン・ウェット法(W/D)でも作成でき
る。生産得率の点から同時、又は逐次湿潤塗布が好まし
い。本発明では同時、又は逐次湿潤塗布(W/W)では
上層/下層が同時に形成できるため、カレンダー工程な
どの表面処理工程を有効に活用でき、超薄層でも上層磁
性層の表面粗さを良化できる。
を支持体上に、下層を塗布後、下層が湿潤状態の内に上
層を同時、又は逐次に塗布するウェット・オン・ウェット
法(W/W)でも、下層が乾燥した後に上層磁性層を設
けるドライ・オン・ウェット法(W/D)でも作成でき
る。生産得率の点から同時、又は逐次湿潤塗布が好まし
い。本発明では同時、又は逐次湿潤塗布(W/W)では
上層/下層が同時に形成できるため、カレンダー工程な
どの表面処理工程を有効に活用でき、超薄層でも上層磁
性層の表面粗さを良化できる。
【0033】[強磁性粉末]本発明に使用する強磁性粉
末としては、強磁性金属粉末または六方晶系フェライト
粉末が好ましい。強磁性金属粉末としては、α−Feを
主成分とする強磁性金属粉末が好ましい。強磁性金属粉
末には所定の原子以外にAl、Si、Ca、Mg、T
i、Cr、Cu、Y、Sn、Sb、Ba、W、La、C
e、Pr、Nd、P、Co、Mn、Zn、Ni、Sr、
Bなどの原子を含んでもかまわない。特に、Al、C
a、Mg、Y、Ba、La、Nd、Sm、Co、Niの
少なくとも1つをα−Fe以外に含むことが好ましい。
CoはFeと合金を作ると飽和磁化が増加し、かつ減磁
が改良されるので特に好ましい。Coの含有量はFeに
対して1原子%〜40原子%が好ましく、さらに好まし
くは15原子%〜35原子%、より好ましくは20原子
%〜35原子%である。Y等の希土類元素の含有量は
1.5原子%〜12原子%が好ましく、さらに好ましく
は3原子%〜10原子%、より好ましくは4原子%〜9
原子%である。Alは1.5原子%〜12原子%が好ま
しく、さらに好ましくは3原子%〜10原子%、より好
ましくは4原子%〜9原子%である。Yを含む希土類や
Alは焼結防止剤として機能しており、組合わせて使用
することでより高い焼結防止効果が得られる。これらの
強磁性粉末にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、界面活性
剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ処理を行って
もかまわない。具体的には、特公昭44−14090
号、特公昭45−18372号、特公昭47−2206
2号、特公昭47−22513号、特公昭46−284
66号、特公昭46−38755号、特公昭47−42
86号、特公昭47−12422号、特公昭47−17
284号、特公昭47−18509号、特公昭47−1
8573号、特公昭39−10307号、特公昭46−
39639号、米国特許第3026215号、同303
1341号、同3100194号、同3242005
号、同3389014号などに記載されている。
末としては、強磁性金属粉末または六方晶系フェライト
粉末が好ましい。強磁性金属粉末としては、α−Feを
主成分とする強磁性金属粉末が好ましい。強磁性金属粉
末には所定の原子以外にAl、Si、Ca、Mg、T
i、Cr、Cu、Y、Sn、Sb、Ba、W、La、C
e、Pr、Nd、P、Co、Mn、Zn、Ni、Sr、
Bなどの原子を含んでもかまわない。特に、Al、C
a、Mg、Y、Ba、La、Nd、Sm、Co、Niの
少なくとも1つをα−Fe以外に含むことが好ましい。
CoはFeと合金を作ると飽和磁化が増加し、かつ減磁
が改良されるので特に好ましい。Coの含有量はFeに
対して1原子%〜40原子%が好ましく、さらに好まし
くは15原子%〜35原子%、より好ましくは20原子
%〜35原子%である。Y等の希土類元素の含有量は
1.5原子%〜12原子%が好ましく、さらに好ましく
は3原子%〜10原子%、より好ましくは4原子%〜9
原子%である。Alは1.5原子%〜12原子%が好ま
しく、さらに好ましくは3原子%〜10原子%、より好
ましくは4原子%〜9原子%である。Yを含む希土類や
Alは焼結防止剤として機能しており、組合わせて使用
することでより高い焼結防止効果が得られる。これらの
強磁性粉末にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、界面活性
剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ処理を行って
もかまわない。具体的には、特公昭44−14090
号、特公昭45−18372号、特公昭47−2206
2号、特公昭47−22513号、特公昭46−284
66号、特公昭46−38755号、特公昭47−42
86号、特公昭47−12422号、特公昭47−17
284号、特公昭47−18509号、特公昭47−1
8573号、特公昭39−10307号、特公昭46−
39639号、米国特許第3026215号、同303
1341号、同3100194号、同3242005
号、同3389014号などに記載されている。
【0034】強磁性金属粉末には少量の水酸化物、また
は酸化物が含まれてもよい。強磁性金属粉末の公知の製
造方法により得られたものを用いることができ、下記の
方法を挙げることができる。焼結防止処理を行った含水
酸化鉄、酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してFe
あるいはFe−Co粒子などを得る方法、複合有機酸塩
(主としてシュウ酸塩)と水素などの還元性気体で還元
する方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強
磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン
酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元す
る方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて粉末を
得る方法などである。このようにして得られた強磁性金
属粉末は公知の徐酸化処理する。含水酸化鉄、酸化鉄を
水素などの還元性気体で還元し、酸素含有ガスと不活性
ガスの分圧、温度、時間を制御して表面に酸化皮膜を形
成する方法が、減磁量が少なく好ましい。
は酸化物が含まれてもよい。強磁性金属粉末の公知の製
造方法により得られたものを用いることができ、下記の
方法を挙げることができる。焼結防止処理を行った含水
酸化鉄、酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してFe
あるいはFe−Co粒子などを得る方法、複合有機酸塩
(主としてシュウ酸塩)と水素などの還元性気体で還元
する方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強
磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン
酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元す
る方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて粉末を
得る方法などである。このようにして得られた強磁性金
属粉末は公知の徐酸化処理する。含水酸化鉄、酸化鉄を
水素などの還元性気体で還元し、酸素含有ガスと不活性
ガスの分圧、温度、時間を制御して表面に酸化皮膜を形
成する方法が、減磁量が少なく好ましい。
【0035】本発明の磁性層の強磁性粉末をBET法に
よる比表面積(SBET)で表せば40〜80m2/gであ
り、好ましくは45〜70m2/gである。40m2/g以下で
はノイズが高くなり、80m2/g以上では平滑な表面が得
にくく好ましくない。本発明の磁性層の強磁性粉末の結
晶子サイズは80〜180Åであり、好ましくは100
〜170Å、更に好ましくは110〜165Åである。
強磁性粉末の平均長軸長は0.02μm〜0.25μm
であり、好ましくは0.03μm〜0.15μmであ
り、さらに好ましくは0.03μm〜0.12μmであ
る。強磁性粉末の平均針状比{(長軸長/短軸長)の平
均}は3〜15が好ましく、さらには3〜10が好まし
い。磁性金属粉末の飽和磁化σs は通常、(4π×10
―8)×(90〜170)Wb/gであり、好ましくは
(4π×10-8 )×(100〜160)Wb/g、更
に好ましくは(4π×10-8 )×(110〜160)
Wb/gである。強磁性金属粉末の抗磁力は1.35×
105A/m〜2.79×105A/mが好ましく、更に
好ましくは1.43×105A/m〜2.39×105A
/mである。
よる比表面積(SBET)で表せば40〜80m2/gであ
り、好ましくは45〜70m2/gである。40m2/g以下で
はノイズが高くなり、80m2/g以上では平滑な表面が得
にくく好ましくない。本発明の磁性層の強磁性粉末の結
晶子サイズは80〜180Åであり、好ましくは100
〜170Å、更に好ましくは110〜165Åである。
強磁性粉末の平均長軸長は0.02μm〜0.25μm
であり、好ましくは0.03μm〜0.15μmであ
り、さらに好ましくは0.03μm〜0.12μmであ
る。強磁性粉末の平均針状比{(長軸長/短軸長)の平
均}は3〜15が好ましく、さらには3〜10が好まし
い。磁性金属粉末の飽和磁化σs は通常、(4π×10
―8)×(90〜170)Wb/gであり、好ましくは
(4π×10-8 )×(100〜160)Wb/g、更
に好ましくは(4π×10-8 )×(110〜160)
Wb/gである。強磁性金属粉末の抗磁力は1.35×
105A/m〜2.79×105A/mが好ましく、更に
好ましくは1.43×105A/m〜2.39×105A
/mである。
【0036】強磁性金属粉末の含水率は0.1〜2重量
%とするのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性粉
末の含水率は最適化するのが好ましい。強磁性粉末のp
Hは、用いる結合剤との組合せにより最適化することが
好ましい。その範囲は6〜12であるが、好ましくは7
〜11である。強磁性金属粉末のSA(ステアリン酸)
吸着量(表面の塩基性点の尺度)は1〜15μmol/m2、
好ましくは2〜10μmol/m2、さらに好ましくは3〜
8μmol/m2である。ステアリン酸吸着量が多い強磁性金属
粉末を使用する時、表面に強く吸着する有機物で表面修
飾して磁気記録媒体を作成することが好ましい。強磁性
粉末には可溶性のNa、Ca、Fe、Ni、Sr、NH
4、SO4、Cl、NO2、NO3などの無機イオンを含む
場合がある。これらは、本質的に無い方が好ましい。各
イオンの総和が300ppm以下程度であれば、特性には
影響しない。また、本発明に用いられる強磁性粉末は空
孔が少ないほうが好ましくその値は20容量%以下、さ
らに好ましくは5容量%以下である。また形状について
は先に示した粉体サイズ、磁気特性を満足すれば針状、
米粒状、紡錘状のいずれでもかまわない。強磁性粉末自
体のSFD(switching-field distribution)は小さい
方が好ましく、強磁性粉末のHc分布を小さくする必要
がある。テ−プのSFDが小さいと、磁化反転がシャー
プでピークシフトが小さくなり、高密度デジタル磁気記
録に好適である。Hc分布を小さくするためには、強磁
性金属粉末においてはゲ−タイトの粒度分布を良くす
る、単分散αFe2O3を使用する、粒子間の焼結を防止
するなどの方法がある。
%とするのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性粉
末の含水率は最適化するのが好ましい。強磁性粉末のp
Hは、用いる結合剤との組合せにより最適化することが
好ましい。その範囲は6〜12であるが、好ましくは7
〜11である。強磁性金属粉末のSA(ステアリン酸)
吸着量(表面の塩基性点の尺度)は1〜15μmol/m2、
好ましくは2〜10μmol/m2、さらに好ましくは3〜
8μmol/m2である。ステアリン酸吸着量が多い強磁性金属
粉末を使用する時、表面に強く吸着する有機物で表面修
飾して磁気記録媒体を作成することが好ましい。強磁性
粉末には可溶性のNa、Ca、Fe、Ni、Sr、NH
4、SO4、Cl、NO2、NO3などの無機イオンを含む
場合がある。これらは、本質的に無い方が好ましい。各
イオンの総和が300ppm以下程度であれば、特性には
影響しない。また、本発明に用いられる強磁性粉末は空
孔が少ないほうが好ましくその値は20容量%以下、さ
らに好ましくは5容量%以下である。また形状について
は先に示した粉体サイズ、磁気特性を満足すれば針状、
米粒状、紡錘状のいずれでもかまわない。強磁性粉末自
体のSFD(switching-field distribution)は小さい
方が好ましく、強磁性粉末のHc分布を小さくする必要
がある。テ−プのSFDが小さいと、磁化反転がシャー
プでピークシフトが小さくなり、高密度デジタル磁気記
録に好適である。Hc分布を小さくするためには、強磁
性金属粉末においてはゲ−タイトの粒度分布を良くす
る、単分散αFe2O3を使用する、粒子間の焼結を防止
するなどの方法がある。
【0037】[六方晶フェライト粉末]六方晶フェライ
トとしては、バリウムフェライト、ストロンチウムフェ
ライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトおよびこ
れらの各種の各置換体、Co置換体等がある。具体的に
はマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びス
トロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面を被覆し
たマグネトプランバイト型フェライト、更に一部スピネ
ル相を含有した複合マグネトプランバイト型のバリウム
フェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げら
れ、その他所定の原子以外にAl、Si、S、Nb、S
n、Ti、V、Cr、Cu、Y、Mo、Rh、Pd、A
g、Sn、Sb、Te、W、Re、Au、Bi、La、
Ce、Pr、Nd、P、Co、Mn、Zn、Ni、B、
Ge、Nbなどの原子を含んでもかまわない。一般には
Co−Zn、Co−Ti、Co−Ti−Zr、Co−T
i−Zn、Ni−Ti−Zn、Nb−Zn−Co、Sn
ーZn−Co、Sn−Co−Ti、Nb−Zn等の元素
を添加した物を使用することができる。原料・製法によ
っては特有の不純物を含有するものもある。粉体サイズ
は六角板径で好ましくは平均板径が10〜55nm、更に
好ましくは10〜45nmであり、特に好ましくは10〜
40nmである。
トとしては、バリウムフェライト、ストロンチウムフェ
ライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトおよびこ
れらの各種の各置換体、Co置換体等がある。具体的に
はマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びス
トロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面を被覆し
たマグネトプランバイト型フェライト、更に一部スピネ
ル相を含有した複合マグネトプランバイト型のバリウム
フェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げら
れ、その他所定の原子以外にAl、Si、S、Nb、S
n、Ti、V、Cr、Cu、Y、Mo、Rh、Pd、A
g、Sn、Sb、Te、W、Re、Au、Bi、La、
Ce、Pr、Nd、P、Co、Mn、Zn、Ni、B、
Ge、Nbなどの原子を含んでもかまわない。一般には
Co−Zn、Co−Ti、Co−Ti−Zr、Co−T
i−Zn、Ni−Ti−Zn、Nb−Zn−Co、Sn
ーZn−Co、Sn−Co−Ti、Nb−Zn等の元素
を添加した物を使用することができる。原料・製法によ
っては特有の不純物を含有するものもある。粉体サイズ
は六角板径で好ましくは平均板径が10〜55nm、更に
好ましくは10〜45nmであり、特に好ましくは10〜
40nmである。
【0038】特にトラック密度を上げるため磁気抵抗ヘ
ッド(MRヘッド)で再生する場合、低ノイズにする必
要があり、平均板径は45nm以下が好ましいが、10nm
より小さいと熱揺らぎのため安定な磁化が望めない。5
5nmより大きいとノイズが高く、いずれも高密度磁気記
録には向かない。板状比(板径/板厚)は1〜15が望
ましい。好ましくは1〜7である。板状比が小さいと磁
性層中の充填性は高くなり好ましいが、十分な配向性が
得られない。15より大きいと粉体間のスタッキングに
よりノイズが大きくなる。この粉体サイズ範囲のBET
法による比表面積は30〜200m2/gを示す。比表面積
は概ね粉体板径と板厚からの算術計算値と符号する。粉
体板径・板厚の分布は狭いほど好ましい。数値化は困難
であるが、粉体TEM(透過型電子顕微鏡)写真より約
500個を無作為に測定する事で比較できる。分布は正
規分布ではない場合が多いが、計算して平均サイズに対
する標準偏差で表すとσ/平均粉体サイズ=0.1〜
1.5である。粉体サイズ分布をシャープにするには粉
体生成反応系をできるだけ均一にすると共に、生成した
粉体に分布改良処理を施すことも行われている。たとえ
ば酸溶液中で超微細粉体を選別的に溶解する方法等も知
られている。ガラス化結晶法では、熱処理を複数回行
い、核生成と成長を分離することでより均一な粉体を得
ている。磁性粉で測定された抗磁力Hcは0.4×10
5A/m〜4×105A/m程度まで作成できる。高Hc
の方が高密度記録に有利であるが、記録ヘッドの能力で
制限される。Hcは粉体サイズ(板径・板厚)、含有元
素の種類と量、元素の置換サイト、粉体生成反応条件等
により制御できる。飽和磁化σsは(4π×10-8 )
×(30〜70)Wb/gである。σsは、微粉体にな
るほど小さくなる傾向がある。製法では結晶化温度、ま
たは熱処理温度時間を小さくする方法、添加する化合物
を増量する、表面処理量を多くする方法等がある。また
W型六方晶フェライトを用いることも可能である。磁性
体を分散する際に磁性体粉体表面を分散媒、ポリマーに
合った物質で処理することも行われている。表面処理剤
は無機化合物、有機化合物が使用される。主な化合物と
してはSi、Al、P等の酸化物または水酸化物、各種
シランカップリング剤、各種チタンカップリング剤が代
表例である。量は磁性体に対して0.1〜10重量%で
ある。磁性体のpHも分散に重要である。通常4〜12
程度で分散媒、ポリマーにより最適値があるが、媒体の
化学的安定性、保存性から6〜11程度が選択される。
磁性体に含まれる水分も分散に影響する。分散媒、ポリ
マーにより最適値があるが通常0.1〜2.0重量%が
選ばれる。六方晶フェライトの製法としては、炭酸バリ
ウム・酸化鉄・鉄を置換する金属酸化物とガラス形成物
質として酸化ホウ素等を所望のフェライト組成になるよ
うに混合した後溶融し、急冷して非晶質体とし、次いで
再加熱処理した後、洗浄・粉砕してバリウムフェライト
結晶粉体を得るガラス化結晶法、バリウムフェライト組
成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した
後100℃以上で液相加熱後、洗浄・乾燥・粉砕してバ
リウムフェライト結晶粉体を得る水熱反応法、バリウム
フェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成
物を除去した後乾燥し1100℃以下で処理し、粉砕し
てバリウムフェライト結晶粉体を得る共沈法等がある
が、本発明は製法を選ばない。
ッド(MRヘッド)で再生する場合、低ノイズにする必
要があり、平均板径は45nm以下が好ましいが、10nm
より小さいと熱揺らぎのため安定な磁化が望めない。5
5nmより大きいとノイズが高く、いずれも高密度磁気記
録には向かない。板状比(板径/板厚)は1〜15が望
ましい。好ましくは1〜7である。板状比が小さいと磁
性層中の充填性は高くなり好ましいが、十分な配向性が
得られない。15より大きいと粉体間のスタッキングに
よりノイズが大きくなる。この粉体サイズ範囲のBET
法による比表面積は30〜200m2/gを示す。比表面積
は概ね粉体板径と板厚からの算術計算値と符号する。粉
体板径・板厚の分布は狭いほど好ましい。数値化は困難
であるが、粉体TEM(透過型電子顕微鏡)写真より約
500個を無作為に測定する事で比較できる。分布は正
規分布ではない場合が多いが、計算して平均サイズに対
する標準偏差で表すとσ/平均粉体サイズ=0.1〜
1.5である。粉体サイズ分布をシャープにするには粉
体生成反応系をできるだけ均一にすると共に、生成した
粉体に分布改良処理を施すことも行われている。たとえ
ば酸溶液中で超微細粉体を選別的に溶解する方法等も知
られている。ガラス化結晶法では、熱処理を複数回行
い、核生成と成長を分離することでより均一な粉体を得
ている。磁性粉で測定された抗磁力Hcは0.4×10
5A/m〜4×105A/m程度まで作成できる。高Hc
の方が高密度記録に有利であるが、記録ヘッドの能力で
制限される。Hcは粉体サイズ(板径・板厚)、含有元
素の種類と量、元素の置換サイト、粉体生成反応条件等
により制御できる。飽和磁化σsは(4π×10-8 )
×(30〜70)Wb/gである。σsは、微粉体にな
るほど小さくなる傾向がある。製法では結晶化温度、ま
たは熱処理温度時間を小さくする方法、添加する化合物
を増量する、表面処理量を多くする方法等がある。また
W型六方晶フェライトを用いることも可能である。磁性
体を分散する際に磁性体粉体表面を分散媒、ポリマーに
合った物質で処理することも行われている。表面処理剤
は無機化合物、有機化合物が使用される。主な化合物と
してはSi、Al、P等の酸化物または水酸化物、各種
シランカップリング剤、各種チタンカップリング剤が代
表例である。量は磁性体に対して0.1〜10重量%で
ある。磁性体のpHも分散に重要である。通常4〜12
程度で分散媒、ポリマーにより最適値があるが、媒体の
化学的安定性、保存性から6〜11程度が選択される。
磁性体に含まれる水分も分散に影響する。分散媒、ポリ
マーにより最適値があるが通常0.1〜2.0重量%が
選ばれる。六方晶フェライトの製法としては、炭酸バリ
ウム・酸化鉄・鉄を置換する金属酸化物とガラス形成物
質として酸化ホウ素等を所望のフェライト組成になるよ
うに混合した後溶融し、急冷して非晶質体とし、次いで
再加熱処理した後、洗浄・粉砕してバリウムフェライト
結晶粉体を得るガラス化結晶法、バリウムフェライト組
成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した
後100℃以上で液相加熱後、洗浄・乾燥・粉砕してバ
リウムフェライト結晶粉体を得る水熱反応法、バリウム
フェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成
物を除去した後乾燥し1100℃以下で処理し、粉砕し
てバリウムフェライト結晶粉体を得る共沈法等がある
が、本発明は製法を選ばない。
【0039】[非磁性層]次に下層に関する詳細な内容
について説明する。下層は、実質的に非磁性であれば、
特に制限されるべきものではないが、好ましくは非磁性
粉末と結合剤を含む構成である。下層は実質的に非磁性
である範囲で磁性粉末も使用され得るものである。下層
が実質的に非磁性であるとは、上層の電磁変換特性を実
質的に低下させない範囲で下層が磁性を有することを許
容するということである。
について説明する。下層は、実質的に非磁性であれば、
特に制限されるべきものではないが、好ましくは非磁性
粉末と結合剤を含む構成である。下層は実質的に非磁性
である範囲で磁性粉末も使用され得るものである。下層
が実質的に非磁性であるとは、上層の電磁変換特性を実
質的に低下させない範囲で下層が磁性を有することを許
容するということである。
【0040】本発明の下層に用いられる非磁性粉末とし
ては、例えば、金属酸化物、含水金属酸化物、金属炭酸
塩、金属窒化物、金属炭化物、等の無機質化合物から選
択することができる。無機質化合物としては例えばα化
率90%以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アル
ミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セ
リウム、α−酸化鉄、ゲータイト、窒化珪素、二酸化チ
タン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化
ジルコニウム、酸化亜鉛、硫酸バリウム、などが単独ま
たは組合せで使用される。特に好ましいのは、粒度分布
の小ささ、機能付与の手段が多いこと等から、二酸化チ
タン、酸化亜鉛、α−酸化鉄、ゲ−タイト、硫酸バリウ
ムであり、更に好ましいのは二酸化チタン、α−酸化
鉄、ゲ−タイトである。α−酸化鉄は、粉体サイズがそ
ろった磁性酸化鉄やメタル用原料を加熱脱水、アニ−ル
処理し空孔を少なくし、必要により表面処理をしたもの
が好ましい。通常、二酸化チタンは光触媒性を持ってい
るので、光があたるとラジカルが発生しバインダー、潤
滑剤と反応する懸念がある。このため、本発明に使用す
る二酸化チタンは、Al、Fe等を1〜10重量%固溶
させ光触媒特性を低下させることが好ましい。さらに表
面をAl及び/又はSi化合物で処理し、触媒作用を低
下させることが好ましい。これら非磁性粉末の粉体サイ
ズは0.005〜1μmが好ましいが、必要に応じて粉
体サイズの異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の
非磁性粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせ
ることもできる。とりわけ好ましいのは非磁性粉末の粉
体サイズは0.01μm〜0.5μmである。特に、非
磁性粉末が粒状金属酸化物である場合は、平均粒子サイ
ズ0.08μm以下が好ましく、針状金属酸化物である
場合は、平均長軸長が0.3μm以下が好ましく、0.
2μm以下がさらに好ましい。タップ密度は通常、0.
3〜1.5g/ml、好ましくは0.4〜1.3g/mlであ
る。非磁性粉末の含水率は通常、0.2〜5重量%、好
ましくは0.3〜3重量%、更に好ましくは0.3〜
1.5重量%である。非磁性粉末のpHは通常、3〜1
2であるが、pHは5.5〜11の間が特に好ましい。
非磁性粉末の比表面積は通常、1〜100m2/g、好まし
くは5〜80m2/g、更に好ましくは10〜80m2/gであ
る。非磁性粉末の結晶子サイズは40〜1000Åが好
ましく、40〜800Åが更に好ましい。DBP(ジブ
チルフタレート)を用いた吸油量は通常、5〜100ml
/100g、好ましくは10〜80ml/100g、更に好ましくは
20〜60ml/100gである。比重は通常、1.5〜7、
好ましくは3〜6である。形状は針状、球状、多面体
状、板状のいずれでも良い。非磁性粉末のSA(ステア
リン酸)吸着量は通常、1〜20μmol/m2、好ましく
は2〜15μmol/m2、さらに好ましくは3〜8μmol/
m2である。ステアリン酸吸着量が多い非磁性粉末を使用する
時、表面に強く吸着する有機物で表面修飾して磁気記録
媒体を作成することが好ましい。これらの非磁性粉末の
表面にはAl、Mg、Si、Ti、Zr、Sn、Sb、
Zn、Y化合物で表面処理することが好ましい。特に分
散性に好ましいのはAl2O3、SiO2、TiO2、Zr
O2、MgOおよびこれらの含水酸化物であるが、更に
好ましいのはAl2O3、SiO2、ZrO2およびこれら
の含水酸化物である。これらは組み合わせて使用しても
良いし、単独で用いることもできる。また、目的に応じ
て共沈させた表面処理層を用いても良いし、先ずアルミ
ナを被覆処理した後にその表層をシリカを被覆処理する
方法、またはその逆の方法を採ることもできる。また、
表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わない
が、均質で密である方が一般には好ましい。
ては、例えば、金属酸化物、含水金属酸化物、金属炭酸
塩、金属窒化物、金属炭化物、等の無機質化合物から選
択することができる。無機質化合物としては例えばα化
率90%以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アル
ミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セ
リウム、α−酸化鉄、ゲータイト、窒化珪素、二酸化チ
タン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化
ジルコニウム、酸化亜鉛、硫酸バリウム、などが単独ま
たは組合せで使用される。特に好ましいのは、粒度分布
の小ささ、機能付与の手段が多いこと等から、二酸化チ
タン、酸化亜鉛、α−酸化鉄、ゲ−タイト、硫酸バリウ
ムであり、更に好ましいのは二酸化チタン、α−酸化
鉄、ゲ−タイトである。α−酸化鉄は、粉体サイズがそ
ろった磁性酸化鉄やメタル用原料を加熱脱水、アニ−ル
処理し空孔を少なくし、必要により表面処理をしたもの
が好ましい。通常、二酸化チタンは光触媒性を持ってい
るので、光があたるとラジカルが発生しバインダー、潤
滑剤と反応する懸念がある。このため、本発明に使用す
る二酸化チタンは、Al、Fe等を1〜10重量%固溶
させ光触媒特性を低下させることが好ましい。さらに表
面をAl及び/又はSi化合物で処理し、触媒作用を低
下させることが好ましい。これら非磁性粉末の粉体サイ
ズは0.005〜1μmが好ましいが、必要に応じて粉
体サイズの異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の
非磁性粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせ
ることもできる。とりわけ好ましいのは非磁性粉末の粉
体サイズは0.01μm〜0.5μmである。特に、非
磁性粉末が粒状金属酸化物である場合は、平均粒子サイ
ズ0.08μm以下が好ましく、針状金属酸化物である
場合は、平均長軸長が0.3μm以下が好ましく、0.
2μm以下がさらに好ましい。タップ密度は通常、0.
3〜1.5g/ml、好ましくは0.4〜1.3g/mlであ
る。非磁性粉末の含水率は通常、0.2〜5重量%、好
ましくは0.3〜3重量%、更に好ましくは0.3〜
1.5重量%である。非磁性粉末のpHは通常、3〜1
2であるが、pHは5.5〜11の間が特に好ましい。
非磁性粉末の比表面積は通常、1〜100m2/g、好まし
くは5〜80m2/g、更に好ましくは10〜80m2/gであ
る。非磁性粉末の結晶子サイズは40〜1000Åが好
ましく、40〜800Åが更に好ましい。DBP(ジブ
チルフタレート)を用いた吸油量は通常、5〜100ml
/100g、好ましくは10〜80ml/100g、更に好ましくは
20〜60ml/100gである。比重は通常、1.5〜7、
好ましくは3〜6である。形状は針状、球状、多面体
状、板状のいずれでも良い。非磁性粉末のSA(ステア
リン酸)吸着量は通常、1〜20μmol/m2、好ましく
は2〜15μmol/m2、さらに好ましくは3〜8μmol/
m2である。ステアリン酸吸着量が多い非磁性粉末を使用する
時、表面に強く吸着する有機物で表面修飾して磁気記録
媒体を作成することが好ましい。これらの非磁性粉末の
表面にはAl、Mg、Si、Ti、Zr、Sn、Sb、
Zn、Y化合物で表面処理することが好ましい。特に分
散性に好ましいのはAl2O3、SiO2、TiO2、Zr
O2、MgOおよびこれらの含水酸化物であるが、更に
好ましいのはAl2O3、SiO2、ZrO2およびこれら
の含水酸化物である。これらは組み合わせて使用しても
良いし、単独で用いることもできる。また、目的に応じ
て共沈させた表面処理層を用いても良いし、先ずアルミ
ナを被覆処理した後にその表層をシリカを被覆処理する
方法、またはその逆の方法を採ることもできる。また、
表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わない
が、均質で密である方が一般には好ましい。
【0041】本発明の下層に用いられる非磁性粉末の具
体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製
HIT−100、HIT−82、戸田工業製α−酸化鉄
DPN−250BX、DPN−245、DPN−270
BX、DPN−550BX、DPN−550RX、DB
N−650RX、DAN−850RX、石原産業製酸化
チタンTTO−51B、TTO−55A、TTO−55
B、TTO−55C、TTO−55S、TTO−55
D、SN−100、チタン工業製酸化チタンSTT−4
D、STT−30D、STT−30、STT−65C、
α−酸化鉄α−40、テイカ製酸化チタンMT−100
S、MT−100T、MT−150W、MT−500
B、MT−600B、MT−100F、MT−500H
D、堺化学製FINEX−25、BF−1、BF−1
0、BF−20、ST−M、同和鉱業製酸化鉄DEFI
C−Y、DEFIC−R、日本アエロジル製AS2B
M、TiO 2 P25、宇部興産製100A、500A、
及びそれを焼成したものが挙げられる。下層にカーボン
ブラックを混合させて公知の効果である表面電気抵抗R
sを下げること、光透過率を小さくすること、所望のマ
イクロビッカース硬度を得る事ができる。また、下層に
カーボンブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果を
もたらすことも可能である。カーボンブラックの種類は
ゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブラッ
ク、導電性カーボンブラック、アセチレンブラック等を
用いることができる。下層のカーボンブラックは所望す
る効果によって、以下のような特性を最適化すべきであ
り、併用することでより効果が得られることがある。下
層のカーボンブラックの比表面積は通常、50〜500
m2/g、好ましくは70〜400m2/g、DBP吸油量は通
常、20〜400ml/100g、好ましくは30〜400ml/
100gである。カーボンブラックの平均粒子サイズは通
常、5〜80nm、好ましく10〜50nm、さらに好まし
くは10〜40nmである。カーボンブラックのpHは2
〜10、含水率は0.1〜10重量%、タップ密度は
0.1〜1g/mlが好ましい。本発明に用いられるカー
ボンブラックの具体的な例としてはキャボット製 BL
ACKPEARLS 2000、1300、1000、
900、800、880、700、VULCAN XC
−72、三菱化学製 #3050B、#3150B、#
3750B、#3950B、#950、#650B、#
970B、#850B、MA−600、MA−230、
#4000、#4010、コロンビアンカーボン製 C
ONDUCTEX SC、RAVEN 8800、80
00、7000、5750、5250、3500、21
00、2000、1800、1500、1255、12
50、アクゾー製ケッチェンブラックECなどがあげら
れる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理した
り、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグ
ラファイト化したものを使用してもかまわない。また、
カーボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合
剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラック
は上記無機質化合物粉末に対して50重量%を越えない
範囲、非磁性層総重量の40重量%を越えない範囲で使
用できる。これらのカーボンブラックは単独、または組
合せで使用することができる。本発明で使用できるカー
ボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」(カー
ボンブラック協会編)を参考にすることができる。
体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製
HIT−100、HIT−82、戸田工業製α−酸化鉄
DPN−250BX、DPN−245、DPN−270
BX、DPN−550BX、DPN−550RX、DB
N−650RX、DAN−850RX、石原産業製酸化
チタンTTO−51B、TTO−55A、TTO−55
B、TTO−55C、TTO−55S、TTO−55
D、SN−100、チタン工業製酸化チタンSTT−4
D、STT−30D、STT−30、STT−65C、
α−酸化鉄α−40、テイカ製酸化チタンMT−100
S、MT−100T、MT−150W、MT−500
B、MT−600B、MT−100F、MT−500H
D、堺化学製FINEX−25、BF−1、BF−1
0、BF−20、ST−M、同和鉱業製酸化鉄DEFI
C−Y、DEFIC−R、日本アエロジル製AS2B
M、TiO 2 P25、宇部興産製100A、500A、
及びそれを焼成したものが挙げられる。下層にカーボン
ブラックを混合させて公知の効果である表面電気抵抗R
sを下げること、光透過率を小さくすること、所望のマ
イクロビッカース硬度を得る事ができる。また、下層に
カーボンブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果を
もたらすことも可能である。カーボンブラックの種類は
ゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブラッ
ク、導電性カーボンブラック、アセチレンブラック等を
用いることができる。下層のカーボンブラックは所望す
る効果によって、以下のような特性を最適化すべきであ
り、併用することでより効果が得られることがある。下
層のカーボンブラックの比表面積は通常、50〜500
m2/g、好ましくは70〜400m2/g、DBP吸油量は通
常、20〜400ml/100g、好ましくは30〜400ml/
100gである。カーボンブラックの平均粒子サイズは通
常、5〜80nm、好ましく10〜50nm、さらに好まし
くは10〜40nmである。カーボンブラックのpHは2
〜10、含水率は0.1〜10重量%、タップ密度は
0.1〜1g/mlが好ましい。本発明に用いられるカー
ボンブラックの具体的な例としてはキャボット製 BL
ACKPEARLS 2000、1300、1000、
900、800、880、700、VULCAN XC
−72、三菱化学製 #3050B、#3150B、#
3750B、#3950B、#950、#650B、#
970B、#850B、MA−600、MA−230、
#4000、#4010、コロンビアンカーボン製 C
ONDUCTEX SC、RAVEN 8800、80
00、7000、5750、5250、3500、21
00、2000、1800、1500、1255、12
50、アクゾー製ケッチェンブラックECなどがあげら
れる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理した
り、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグ
ラファイト化したものを使用してもかまわない。また、
カーボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合
剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラック
は上記無機質化合物粉末に対して50重量%を越えない
範囲、非磁性層総重量の40重量%を越えない範囲で使
用できる。これらのカーボンブラックは単独、または組
合せで使用することができる。本発明で使用できるカー
ボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」(カー
ボンブラック協会編)を参考にすることができる。
【0042】また下層には有機質粉末を目的に応じて、
添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹
脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉
末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフ
ィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド
系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレ
ン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭62
−18564号、特開昭60−255827号に記され
ているようなものが使用できる。
添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹
脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉
末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフ
ィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド
系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレ
ン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭62
−18564号、特開昭60−255827号に記され
ているようなものが使用できる。
【0043】下層の結合剤樹脂(種類と量)、潤滑剤・分
散剤・添加剤の量、種類、溶剤、分散方法に関しては磁
性層に関する公知技術が適用できる。
散剤・添加剤の量、種類、溶剤、分散方法に関しては磁
性層に関する公知技術が適用できる。
【0044】[結合剤]本発明に使用される結合剤とし
ては従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹
脂やこれらの混合物が使用される。熱可塑性樹脂として
は、ガラス転移温度が−100〜150℃、数平均分子
量が1,000〜200,000、好ましくは10,00
0〜100,000、重合度が約50〜1000程度の
ものである。このような例としては、塩化ビニル、酢酸
ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、
アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリ
ル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、
ブタジエン、エチレン、ビニルブチラ−ル、ビニルアセ
タ−ル、ビニルエーテル、等を構成単位として含む重合
体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂
がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては
フェノ−ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹
脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル
系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、
エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシ
アネ−トプレポリマ−の混合物、ポリエステルポリオ−
ルとポリイソシアネ−トの混合物、ポリウレタンとポリ
イソシアネートの混合物等があげられる。これらの樹脂
については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブッ
ク」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化
型樹脂を各層に使用することも可能である。これらの例
とその製造方法については特開昭62−256219に
詳細に記載されている。以上の樹脂は単独または組合せ
て使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、
塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル
ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水
マレイン酸共重合体、から選ばれる少なくとも1種とポ
リウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシア
ネ−トを組み合わせたものがあげられる。
ては従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹
脂やこれらの混合物が使用される。熱可塑性樹脂として
は、ガラス転移温度が−100〜150℃、数平均分子
量が1,000〜200,000、好ましくは10,00
0〜100,000、重合度が約50〜1000程度の
ものである。このような例としては、塩化ビニル、酢酸
ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、
アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリ
ル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、
ブタジエン、エチレン、ビニルブチラ−ル、ビニルアセ
タ−ル、ビニルエーテル、等を構成単位として含む重合
体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂
がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては
フェノ−ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹
脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル
系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、
エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシ
アネ−トプレポリマ−の混合物、ポリエステルポリオ−
ルとポリイソシアネ−トの混合物、ポリウレタンとポリ
イソシアネートの混合物等があげられる。これらの樹脂
については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブッ
ク」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化
型樹脂を各層に使用することも可能である。これらの例
とその製造方法については特開昭62−256219に
詳細に記載されている。以上の樹脂は単独または組合せ
て使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、
塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル
ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水
マレイン酸共重合体、から選ばれる少なくとも1種とポ
リウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシア
ネ−トを組み合わせたものがあげられる。
【0045】ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテル
ポリエステルポリウレタン、ポリカ−ボネ−トポリウレ
タン、ポリエステルポリカ−ボネ−トポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−COO
M、−SO3M、−OSO3M、−P=O(OM)2、−
O−P=O(OM)2、(以上につきMは水素原子、また
はアルカリ金属塩基)、OH、NR2、N+R3(Rは炭化
水素基)、エポキシ基、SH、CN、などから選ばれる
少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応
で導入したものをもちいることが好ましい。このような
極性基の量は10-1〜10-8モル/gであり、好ましくは
10-2〜10-6モル/gである。
リウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテル
ポリエステルポリウレタン、ポリカ−ボネ−トポリウレ
タン、ポリエステルポリカ−ボネ−トポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−COO
M、−SO3M、−OSO3M、−P=O(OM)2、−
O−P=O(OM)2、(以上につきMは水素原子、また
はアルカリ金属塩基)、OH、NR2、N+R3(Rは炭化
水素基)、エポキシ基、SH、CN、などから選ばれる
少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応
で導入したものをもちいることが好ましい。このような
極性基の量は10-1〜10-8モル/gであり、好ましくは
10-2〜10-6モル/gである。
【0046】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカ−バイト製VAGH、VYH
H、VMCH、VAGF、VAGD、VROH、VYE
S、VYNC、VMCC、XYHL、XYSG、PKH
H、PKHJ、PKHC、PKFE、日信化学工業製、
MPR−TA、MPR−TA5、MPR−TAL、MP
R−TSN、MPR−TMF、MPR−TS、MPR−
TM、MPR−TAO、電気化学製1000W、DX8
0、DX81、DX82、DX83、100FD、日本
ゼオン製MR−104、MR−105、MR110、M
R100、MR555、400X−110A、日本ポリ
ウレタン製ニッポランN2301、N2302、N23
04、大日本インキ製パンデックスT−5105、T−
R3080、T−5201、バ−ノックD−400、D
−210−80、クリスボン6109、7209、東洋
紡製バイロンUR8200、UR8300、UR−87
00、RV530、RV280、大日精化製、ダイフェ
ラミン4020、5020、5100、5300、90
20、9022、7020、三菱化学製、MX500
4、三洋化成製サンプレンSP−150、旭化成製サラ
ンF310、F210などがあげられる。
的な例としてはユニオンカ−バイト製VAGH、VYH
H、VMCH、VAGF、VAGD、VROH、VYE
S、VYNC、VMCC、XYHL、XYSG、PKH
H、PKHJ、PKHC、PKFE、日信化学工業製、
MPR−TA、MPR−TA5、MPR−TAL、MP
R−TSN、MPR−TMF、MPR−TS、MPR−
TM、MPR−TAO、電気化学製1000W、DX8
0、DX81、DX82、DX83、100FD、日本
ゼオン製MR−104、MR−105、MR110、M
R100、MR555、400X−110A、日本ポリ
ウレタン製ニッポランN2301、N2302、N23
04、大日本インキ製パンデックスT−5105、T−
R3080、T−5201、バ−ノックD−400、D
−210−80、クリスボン6109、7209、東洋
紡製バイロンUR8200、UR8300、UR−87
00、RV530、RV280、大日精化製、ダイフェ
ラミン4020、5020、5100、5300、90
20、9022、7020、三菱化学製、MX500
4、三洋化成製サンプレンSP−150、旭化成製サラ
ンF310、F210などがあげられる。
【0047】本発明の非磁性層、磁性層に用いられる結
合剤は非磁性粉末または磁性体に対し、通常、5〜50
重量%の範囲、好ましくは10〜30重量%の範囲で用
いられる。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は5〜30重
量%、ポリウレタン樹脂を用いる場合は2〜20重量
%、ポリイソシアネートは2〜20重量%の範囲でこれ
らを組み合わせて用いることが好ましいが、例えば、微
量の脱塩素によりヘッド腐食が起こる場合は、ポリウレ
タンのみまたはポリウレタンとイソシアネートのみを使
用することも可能である。本発明において、ポリウレタ
ンを用いる場合はガラス転移温度が通常、−50〜15
0℃、好ましくは0〜100℃、破断伸びが100〜2
000%、破断応力は0.49〜98MPa、降伏点は
0.49〜98MPaが好ましい。
合剤は非磁性粉末または磁性体に対し、通常、5〜50
重量%の範囲、好ましくは10〜30重量%の範囲で用
いられる。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は5〜30重
量%、ポリウレタン樹脂を用いる場合は2〜20重量
%、ポリイソシアネートは2〜20重量%の範囲でこれ
らを組み合わせて用いることが好ましいが、例えば、微
量の脱塩素によりヘッド腐食が起こる場合は、ポリウレ
タンのみまたはポリウレタンとイソシアネートのみを使
用することも可能である。本発明において、ポリウレタ
ンを用いる場合はガラス転移温度が通常、−50〜15
0℃、好ましくは0〜100℃、破断伸びが100〜2
000%、破断応力は0.49〜98MPa、降伏点は
0.49〜98MPaが好ましい。
【0048】本発明の磁気記録媒体は好ましくは二層以
上からなる。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化
ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネー
ト、あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各
樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物
理特性などを必要に応じ各層とで変えることはもちろん
可能であり、むしろ各層で最適化すべきであり、多層磁
性層に関する公知技術を適用できる。例えば、各層でバ
インダー量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らす
ためには磁性層のバインダー量を増量することが有効で
あり、ヘッドに対するヘッドタッチを良好にするために
は、非磁性層のバインダー量を多くして柔軟性を持たせ
ることができる。
上からなる。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化
ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネー
ト、あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各
樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物
理特性などを必要に応じ各層とで変えることはもちろん
可能であり、むしろ各層で最適化すべきであり、多層磁
性層に関する公知技術を適用できる。例えば、各層でバ
インダー量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らす
ためには磁性層のバインダー量を増量することが有効で
あり、ヘッドに対するヘッドタッチを良好にするために
は、非磁性層のバインダー量を多くして柔軟性を持たせ
ることができる。
【0049】本発明に用いるポリイソシアネートとして
は、トリレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−1、
5−ジイソシアネート、o−トルイジンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタン
トリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これ
らのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネート等を使用することができる。これらのイソシ
アネート類の市販されている商品名としては、日本ポリ
ウレタン製、コロネートL、コロネートHL、コロネー
ト2030、コロネート2031、ミリオネートMR、
ミリオネートMTL、武田薬品製、タケネートD−10
2、タケネートD−110N、タケネートD−200、
タケネートD−202、住友バイエル製、デスモジュー
ルL、デスモジュールIL、デスモジュールNデスモジ
ュールHL、等がありこれらを単独または硬化反応性の
差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで各層とも
用いることができる。
は、トリレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−1、
5−ジイソシアネート、o−トルイジンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタン
トリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これ
らのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネート等を使用することができる。これらのイソシ
アネート類の市販されている商品名としては、日本ポリ
ウレタン製、コロネートL、コロネートHL、コロネー
ト2030、コロネート2031、ミリオネートMR、
ミリオネートMTL、武田薬品製、タケネートD−10
2、タケネートD−110N、タケネートD−200、
タケネートD−202、住友バイエル製、デスモジュー
ルL、デスモジュールIL、デスモジュールNデスモジ
ュールHL、等がありこれらを単独または硬化反応性の
差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで各層とも
用いることができる。
【0050】[カーボンブラック]本発明の磁性層に使
用されるカーボンブラックはゴム用ファーネス、ゴム用
サーマル、カラー用ブラック、導電性カーボンブラッ
ク、アセチレンブラック、等を用いることができる。比
表面積は5〜500m2/g、DBP吸油量は10〜400
ml/100g、平均粒子サイズは5nm〜300nm、p
Hは2〜10、含水率は0.1〜10重量%、タップ密
度は0.1〜1g/cc、が好ましい。本発明に用いられ
るカーボンブラックの具体的な例としてはキャボット
製、BLACKPEARLS 2000、1300、1
000、900、905、800、700、VULCA
N XC−72、旭カーボン製、#80、#60、#5
5、#50、#35、三菱化学製、#2400B、#2
300、#900、#1000、#30、#40、#1
0B、コロンビアンカーボン製、CONDUCTEX
SC、RAVEN 150、50、40、15、RAV
EN−MT−P、アクゾー社製、ケッチェンブラックE
C、などがあげられる。カーボンブラックを分散剤など
で表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、
表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかま
わない。また、カーボンブラックを磁性塗料に添加する
前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これら
のカーボンブラックは単独、または組合せで使用するこ
とができる。カーボンブラックを使用する場合は磁性体
に対する量の0.1〜30重量%でもちいることが好ま
しい。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数
低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これ
らは用いるカーボンブラックにより異なる。従って本発
明に使用されるこれらのカーボンブラックは上層磁性
層、下層非磁性層でその種類、量、組合せを変え、粒子
サイズ、吸油量、電導度、pHなどの先に示した諸特性
をもとに目的に応じて使い分けることはもちろん可能で
あり、むしろ各層で最適化すべきものである。本発明の
磁性層で使用できるカーボンブラックは例えば(「カー
ボンブラック便覧」カーボンブラック協会編)を参考に
することができる。
用されるカーボンブラックはゴム用ファーネス、ゴム用
サーマル、カラー用ブラック、導電性カーボンブラッ
ク、アセチレンブラック、等を用いることができる。比
表面積は5〜500m2/g、DBP吸油量は10〜400
ml/100g、平均粒子サイズは5nm〜300nm、p
Hは2〜10、含水率は0.1〜10重量%、タップ密
度は0.1〜1g/cc、が好ましい。本発明に用いられ
るカーボンブラックの具体的な例としてはキャボット
製、BLACKPEARLS 2000、1300、1
000、900、905、800、700、VULCA
N XC−72、旭カーボン製、#80、#60、#5
5、#50、#35、三菱化学製、#2400B、#2
300、#900、#1000、#30、#40、#1
0B、コロンビアンカーボン製、CONDUCTEX
SC、RAVEN 150、50、40、15、RAV
EN−MT−P、アクゾー社製、ケッチェンブラックE
C、などがあげられる。カーボンブラックを分散剤など
で表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、
表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかま
わない。また、カーボンブラックを磁性塗料に添加する
前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これら
のカーボンブラックは単独、または組合せで使用するこ
とができる。カーボンブラックを使用する場合は磁性体
に対する量の0.1〜30重量%でもちいることが好ま
しい。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数
低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これ
らは用いるカーボンブラックにより異なる。従って本発
明に使用されるこれらのカーボンブラックは上層磁性
層、下層非磁性層でその種類、量、組合せを変え、粒子
サイズ、吸油量、電導度、pHなどの先に示した諸特性
をもとに目的に応じて使い分けることはもちろん可能で
あり、むしろ各層で最適化すべきものである。本発明の
磁性層で使用できるカーボンブラックは例えば(「カー
ボンブラック便覧」カーボンブラック協会編)を参考に
することができる。
【0051】[研磨剤]本発明の磁性層に使用できる研
磨剤としては、α化率90%以上のα−アルミナ、β−
アルミナ、微粒子ダイヤモンド、炭化ケイ素、酸化クロ
ム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、窒化珪
素、炭化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化
珪素、窒化ホウ素、など主としてモ−ス硬度6以上の公
知の材料が単独または組合せで使用される。また、これ
らの研磨剤同士の複合体(研磨剤を他の研磨剤で表面処
理したもの)を使用してもよい。これらの研磨剤には主
成分以外の化合物または元素が含まれる場合もあるが主
成分が90重量%以上であれば効果にかわりはない。こ
れら研磨剤の粉体サイズは0.01〜1μが好ましく、
特に電磁変換特性を高めるためには、その粒度分布が狭
い方が好ましい。また耐久性を向上させるには必要に応
じて粉体サイズの異なる研磨剤を組み合わせたり、単独
の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせる
ことも可能である。タップ密度は0.3〜1.5g/cc、
含水率は0.1〜5重量%、pHは2〜11、比表面積
は1〜40m2/gが好ましい。本発明に用いられる研磨剤
の形状は針状、球状、サイコロ状、のいずれでも良い
が、形状の一部に角を有するものが研磨性が高く好まし
い。具体的には住友化学社製AKP−10、AKP−1
5、AKP−20、AKP−30、AKP−50、HI
T−20、HIT−30、HIT−50、HIT−60
A、HIT−50G、HIT−70、HIT−80、H
IT−82、HIT−100、レイノルズ社製ERC−
DBM、HP−DBM、HPS−DBM、不二見研磨剤
社製WA10000、上村工業社製UB20、日本化学
工業社製G−5、クロメックスU2、クロメックスU
1、戸田工業社製TF100、TF140、イビデン社
製ベータランダムウルトラファイン、昭和鉱業社製B−
3などが挙げられる。これらの研磨剤は必要に応じ下層
に添加することもできる。下層に添加することで表面形
状を制御したり、研磨剤の突出状態を制御したりするこ
とができる。これら磁性層、下層の添加する研磨剤の粉
体サイズ、量はむろん最適値に設定すべきものである。
磨剤としては、α化率90%以上のα−アルミナ、β−
アルミナ、微粒子ダイヤモンド、炭化ケイ素、酸化クロ
ム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、窒化珪
素、炭化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化
珪素、窒化ホウ素、など主としてモ−ス硬度6以上の公
知の材料が単独または組合せで使用される。また、これ
らの研磨剤同士の複合体(研磨剤を他の研磨剤で表面処
理したもの)を使用してもよい。これらの研磨剤には主
成分以外の化合物または元素が含まれる場合もあるが主
成分が90重量%以上であれば効果にかわりはない。こ
れら研磨剤の粉体サイズは0.01〜1μが好ましく、
特に電磁変換特性を高めるためには、その粒度分布が狭
い方が好ましい。また耐久性を向上させるには必要に応
じて粉体サイズの異なる研磨剤を組み合わせたり、単独
の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせる
ことも可能である。タップ密度は0.3〜1.5g/cc、
含水率は0.1〜5重量%、pHは2〜11、比表面積
は1〜40m2/gが好ましい。本発明に用いられる研磨剤
の形状は針状、球状、サイコロ状、のいずれでも良い
が、形状の一部に角を有するものが研磨性が高く好まし
い。具体的には住友化学社製AKP−10、AKP−1
5、AKP−20、AKP−30、AKP−50、HI
T−20、HIT−30、HIT−50、HIT−60
A、HIT−50G、HIT−70、HIT−80、H
IT−82、HIT−100、レイノルズ社製ERC−
DBM、HP−DBM、HPS−DBM、不二見研磨剤
社製WA10000、上村工業社製UB20、日本化学
工業社製G−5、クロメックスU2、クロメックスU
1、戸田工業社製TF100、TF140、イビデン社
製ベータランダムウルトラファイン、昭和鉱業社製B−
3などが挙げられる。これらの研磨剤は必要に応じ下層
に添加することもできる。下層に添加することで表面形
状を制御したり、研磨剤の突出状態を制御したりするこ
とができる。これら磁性層、下層の添加する研磨剤の粉
体サイズ、量はむろん最適値に設定すべきものである。
【0052】[添加剤]本発明の磁性層、非磁性層に使
用される、添加剤としては潤滑効果、帯電防止効果、分
散効果、可塑効果などをもつものが使用される。二硫化
モリブデン、二硫化タングステン、グラファイト、窒化
ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつ
シリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコ
ーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポ
リオレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステル
およびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよ
びそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フェニ
ルホスホン酸、αナフチル燐酸、フェニル燐酸、ジフェ
ニル燐酸、p−エチルベンゼンホスホン酸、フェニルホ
スフィン酸、アミノキノン類、各種シランカップリング
剤、チタンカップリング剤、フッ素含有アルキル硫酸エ
ステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数10〜24の
一塩基性脂肪酸(不飽和結合を含んでも、また分岐して
いてもかまわない)、およびこれらの金属塩(Li、N
a、K、Cuなど)または、炭素数12〜22の一価、
二価、三価、四価、五価、六価アルコール(不飽和結合
を含んでも、また分岐していてもかまわない)、炭素数
12〜22のアルコキシアルコール(不飽和結合を含ん
でも、また分岐していてもかまわない)、炭素数10〜
24の一塩基性脂肪酸(不飽和結合を含んでも、また分
岐していてもかまわない)と炭素数2〜12の一価、二
価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一つ
(不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわな
い)とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エス
テルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重
合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素数
8〜22の脂肪酸アミド、炭素数8〜22の脂肪族アミ
ン、などが使用できる。
用される、添加剤としては潤滑効果、帯電防止効果、分
散効果、可塑効果などをもつものが使用される。二硫化
モリブデン、二硫化タングステン、グラファイト、窒化
ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつ
シリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコ
ーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポ
リオレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステル
およびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよ
びそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フェニ
ルホスホン酸、αナフチル燐酸、フェニル燐酸、ジフェ
ニル燐酸、p−エチルベンゼンホスホン酸、フェニルホ
スフィン酸、アミノキノン類、各種シランカップリング
剤、チタンカップリング剤、フッ素含有アルキル硫酸エ
ステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数10〜24の
一塩基性脂肪酸(不飽和結合を含んでも、また分岐して
いてもかまわない)、およびこれらの金属塩(Li、N
a、K、Cuなど)または、炭素数12〜22の一価、
二価、三価、四価、五価、六価アルコール(不飽和結合
を含んでも、また分岐していてもかまわない)、炭素数
12〜22のアルコキシアルコール(不飽和結合を含ん
でも、また分岐していてもかまわない)、炭素数10〜
24の一塩基性脂肪酸(不飽和結合を含んでも、また分
岐していてもかまわない)と炭素数2〜12の一価、二
価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一つ
(不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわな
い)とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エス
テルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重
合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素数
8〜22の脂肪酸アミド、炭素数8〜22の脂肪族アミ
ン、などが使用できる。
【0053】これらの具体例としては脂肪酸では、カプ
リン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エラ
イジン酸、リノール酸、リノレン酸、イソステアリン
酸、などが挙げられる。エステル類ではブチルステアレ
ート、オクチルステアレート、アミルステアレート、イ
ソオクチルステアレート、ブチルミリステート、オクチ
ルミリステート、ブトキシエチルステアレート、ブトキ
シジエチルステアレート、2−エチルヘキシルステアレ
ート、2−オクチルドデシルパルミテート、2−ヘキシ
ルドデシルパルミテート、イソヘキサデシルステアレー
ト、オレイルオレエート、ドデシルステアレート、トリ
デシルステアレート、エルカ酸オレイル、ネオペンチル
グリコールジデカノエート、エチレングリコールジオレ
イル、アルコール類ではオレイルアルコール、ステアリ
ルアルコール、ラウリルアルコール、などがあげられ
る。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グ
リシド−ル系、アルキルフェノ−ルエチレンオキサイド
付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステ
ルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導
体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等
のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、
燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基
を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用
できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤
便覧」(産業図書株式会社発行)に詳細に記載されてい
る。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも100%
純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応
物、分解物、酸化物 等の不純分が含まれてもかまわな
い。これらの不純分は30重量%以下が好ましく、さら
に好ましくは10重量%以下である。
リン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エラ
イジン酸、リノール酸、リノレン酸、イソステアリン
酸、などが挙げられる。エステル類ではブチルステアレ
ート、オクチルステアレート、アミルステアレート、イ
ソオクチルステアレート、ブチルミリステート、オクチ
ルミリステート、ブトキシエチルステアレート、ブトキ
シジエチルステアレート、2−エチルヘキシルステアレ
ート、2−オクチルドデシルパルミテート、2−ヘキシ
ルドデシルパルミテート、イソヘキサデシルステアレー
ト、オレイルオレエート、ドデシルステアレート、トリ
デシルステアレート、エルカ酸オレイル、ネオペンチル
グリコールジデカノエート、エチレングリコールジオレ
イル、アルコール類ではオレイルアルコール、ステアリ
ルアルコール、ラウリルアルコール、などがあげられ
る。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グ
リシド−ル系、アルキルフェノ−ルエチレンオキサイド
付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステ
ルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導
体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等
のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、
燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基
を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用
できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤
便覧」(産業図書株式会社発行)に詳細に記載されてい
る。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも100%
純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応
物、分解物、酸化物 等の不純分が含まれてもかまわな
い。これらの不純分は30重量%以下が好ましく、さら
に好ましくは10重量%以下である。
【0054】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は個々に異なる物理的作用を有するものであり、
その種類、量、および相乗的効果を生み出す潤滑剤の併
用比率は目的に応じ最適に定められるべきものである。
非磁性層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面への
にじみ出しを制御する、沸点、融点や極性の異なるエス
テル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性
剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑
剤の添加量を中間層で多くして潤滑効果を向上させるな
ど考えられ、無論ここに示した例のみに限られるもので
はない。一般には潤滑剤の総量として磁性体または非磁
性粉末に対し、0.1重量%〜50重量%、好ましくは
2重量%〜25重量%の範囲で選択される。
活性剤は個々に異なる物理的作用を有するものであり、
その種類、量、および相乗的効果を生み出す潤滑剤の併
用比率は目的に応じ最適に定められるべきものである。
非磁性層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面への
にじみ出しを制御する、沸点、融点や極性の異なるエス
テル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性
剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑
剤の添加量を中間層で多くして潤滑効果を向上させるな
ど考えられ、無論ここに示した例のみに限られるもので
はない。一般には潤滑剤の総量として磁性体または非磁
性粉末に対し、0.1重量%〜50重量%、好ましくは
2重量%〜25重量%の範囲で選択される。
【0055】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性および非磁性塗料製造のどの工程
で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に磁性体
と混合する場合、磁性体と結合剤と溶剤による混練工程
で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添
加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。ま
た、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐次
塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより
目的が達成される場合がある。また、目的によってはカ
レンダ−した後、またはスリット終了後、磁性層表面に
潤滑剤を塗布することもできる。本発明で用いられる有
機溶剤は公知のものが使用でき、例えば特開昭6−68
453に記載の溶剤を用いることができる。
たはその一部は、磁性および非磁性塗料製造のどの工程
で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に磁性体
と混合する場合、磁性体と結合剤と溶剤による混練工程
で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添
加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。ま
た、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐次
塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより
目的が達成される場合がある。また、目的によってはカ
レンダ−した後、またはスリット終了後、磁性層表面に
潤滑剤を塗布することもできる。本発明で用いられる有
機溶剤は公知のものが使用でき、例えば特開昭6−68
453に記載の溶剤を用いることができる。
【0056】[層構成]本発明の磁気記録媒体の厚み構
成は支持体が好ましくは2.5〜8μmであるが、体積
密度を大きくするため更に好ましくは2.5〜7.5μ
m、特に好ましくは3.0〜7μmである。非磁性可撓
性支持体と非磁性層また磁性層の間に密着性向上のため
の下塗り層を設けてもかまわない。本下塗層厚みは0.
01〜0.5μm、好ましくは0.02〜0.5μmで
ある。これらの下塗層は公知のものが使用できる。本発
明の媒体の磁性層の厚みは用いるヘッドの飽和磁化量や
ヘッドギャップ長、記録信号の帯域により最適化される
ものであるが、一般には0.05μm〜0.5μmであ
り、好ましくは0.05μm〜0.30μmである。磁
性層を異なる磁気特性を有する2層以上に分離してもか
まわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。
成は支持体が好ましくは2.5〜8μmであるが、体積
密度を大きくするため更に好ましくは2.5〜7.5μ
m、特に好ましくは3.0〜7μmである。非磁性可撓
性支持体と非磁性層また磁性層の間に密着性向上のため
の下塗り層を設けてもかまわない。本下塗層厚みは0.
01〜0.5μm、好ましくは0.02〜0.5μmで
ある。これらの下塗層は公知のものが使用できる。本発
明の媒体の磁性層の厚みは用いるヘッドの飽和磁化量や
ヘッドギャップ長、記録信号の帯域により最適化される
ものであるが、一般には0.05μm〜0.5μmであ
り、好ましくは0.05μm〜0.30μmである。磁
性層を異なる磁気特性を有する2層以上に分離してもか
まわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。
【0057】本発明になる媒体の下層である非磁性層の
厚みは0.2〜3.0μm、好ましくは0.3〜2.5
μm、さらに好ましくは0.5〜2.0μmである。な
お、本発明媒体の下層は実質的に非磁性であればその効
果を発揮するものであり、たとえば不純物としてあるい
は意図的に少量の磁性体を含んでも、本発明の効果を示
すものであり、本発明と実質的に同一の構成と見なすこ
とができることは言うまでもない。実質的に非磁性とは
下層の残留磁束密度が0.05T以下もしくは抗磁力が
上層磁性層の〜40%以下であることを示し、好ましく
は残留磁束密度と抗磁力がゼロである。
厚みは0.2〜3.0μm、好ましくは0.3〜2.5
μm、さらに好ましくは0.5〜2.0μmである。な
お、本発明媒体の下層は実質的に非磁性であればその効
果を発揮するものであり、たとえば不純物としてあるい
は意図的に少量の磁性体を含んでも、本発明の効果を示
すものであり、本発明と実質的に同一の構成と見なすこ
とができることは言うまでもない。実質的に非磁性とは
下層の残留磁束密度が0.05T以下もしくは抗磁力が
上層磁性層の〜40%以下であることを示し、好ましく
は残留磁束密度と抗磁力がゼロである。
【0058】以下に、バック層について詳述する。バッ
ク層は基本的に帯電防止やカール補正などの効果を有す
る。バック層は、通常、微粒子で電気伝導性がすぐれた
カーボンブラックを主なフィラーとして含有し、平均粒
子サイズの異なる二種類のカーボンブラックを含有させ
たり、必要により無機質粉末を含有してもよい。例え
ば、モース硬度5〜9の無機質粉末を含有させることが
できる。
ク層は基本的に帯電防止やカール補正などの効果を有す
る。バック層は、通常、微粒子で電気伝導性がすぐれた
カーボンブラックを主なフィラーとして含有し、平均粒
子サイズの異なる二種類のカーボンブラックを含有させ
たり、必要により無機質粉末を含有してもよい。例え
ば、モース硬度5〜9の無機質粉末を含有させることが
できる。
【0059】バック層に含有されるカーボンブラック
は、平均粒子サイズが10〜20nmの微粒子状カーボ
ンブラックと平均粒子サイズが50〜300nm(この
ましくは230〜300nm)の粗粒子状カーボンブラ
ックである。一般に、上記のような微粒子状のカーボン
ブラックの添加により、バック層の表面電気抵抗を低く
設定でき、また光透過率も低く設定できる。磁気記録の
装置によっては、テープの光透過率を利用し、動作の信
号に使用しているものが多くあるため、このような場合
には特に微粒子状のカーボンブラックの添加は有効にな
る。また微粒子状カーボンブラックは一般に潤滑剤の保
持力に優れ、潤滑剤併用時、摩擦係数の低減化に寄与す
る。一方、50〜300nm(このましくは230〜3
00nm)の粗粒子状カーボンブラックは、固体潤滑剤
としての機能を有しており、またバック層の表面に微小
突起を形成し、接触面積を低減化して、摩擦係数の低減
化に寄与する。しかし粗粒子状カーボンブラックは、過
酷な走行系では、テープ摺動により、バック層からの脱
落が生じ易くなり、エラー比率の増大につながる欠点を
有している。
は、平均粒子サイズが10〜20nmの微粒子状カーボ
ンブラックと平均粒子サイズが50〜300nm(この
ましくは230〜300nm)の粗粒子状カーボンブラ
ックである。一般に、上記のような微粒子状のカーボン
ブラックの添加により、バック層の表面電気抵抗を低く
設定でき、また光透過率も低く設定できる。磁気記録の
装置によっては、テープの光透過率を利用し、動作の信
号に使用しているものが多くあるため、このような場合
には特に微粒子状のカーボンブラックの添加は有効にな
る。また微粒子状カーボンブラックは一般に潤滑剤の保
持力に優れ、潤滑剤併用時、摩擦係数の低減化に寄与す
る。一方、50〜300nm(このましくは230〜3
00nm)の粗粒子状カーボンブラックは、固体潤滑剤
としての機能を有しており、またバック層の表面に微小
突起を形成し、接触面積を低減化して、摩擦係数の低減
化に寄与する。しかし粗粒子状カーボンブラックは、過
酷な走行系では、テープ摺動により、バック層からの脱
落が生じ易くなり、エラー比率の増大につながる欠点を
有している。
【0060】本発明で用いることができる微粒子状カー
ボンブラックの具体的な商品としては、以下のものを挙
げることができる。かっこ内は、平均粒子サイズを示
す。RAVEN2000B(18nm)、RAVEN15
00B(17nm)(以上、コロンビアカーボン社製)、
BP800(17nm)(キャボット社製)、PRINN
TEX90(14nm)、PRINTEX95(15n
m)、PRINTEX85(16nm)、PRINTEX
75(17nm)(以上、デグサ社製)、#3950(1
6nm)(三菱化学(株)製)。また粗粒子カーボンブラ
ックの具体的な商品の例としては、サーマルブラック
(270nm)(カーンカルブ社製)、RAVENMTP
(275nm)(コロンビアカーボン社製)を挙げること
ができる。50〜200nmのカーボンブラックは,ゴム
用カーボンブラックや,カラー用カーボンブラックより
選択することができる.
ボンブラックの具体的な商品としては、以下のものを挙
げることができる。かっこ内は、平均粒子サイズを示
す。RAVEN2000B(18nm)、RAVEN15
00B(17nm)(以上、コロンビアカーボン社製)、
BP800(17nm)(キャボット社製)、PRINN
TEX90(14nm)、PRINTEX95(15n
m)、PRINTEX85(16nm)、PRINTEX
75(17nm)(以上、デグサ社製)、#3950(1
6nm)(三菱化学(株)製)。また粗粒子カーボンブラ
ックの具体的な商品の例としては、サーマルブラック
(270nm)(カーンカルブ社製)、RAVENMTP
(275nm)(コロンビアカーボン社製)を挙げること
ができる。50〜200nmのカーボンブラックは,ゴム
用カーボンブラックや,カラー用カーボンブラックより
選択することができる.
【0061】本発明において、前記バック層の厚みが、
0.2〜0.8μmであり、前記磁気記録媒体の総厚み
が3〜10μmであり、該バック層の中心面平均表面粗
さRaが、2.0〜15nmである磁気記録媒体を得る
ためには、バック層における10〜20nmの微粒子状
カーボンブラックと平均粒子サイズ1nm〜300nmの
フッ化炭素粉末の含有比率が重量比で、前者:後者=9
9.9:0.1〜75:25となる範囲が好ましく、9
9:1〜85:15が更に好ましい範囲である。また、
バック層において10〜20nmの微粒子状カーボンブ
ラックと50〜300nmの粗粒子状カーボンブラックを
混合して使用する場合には、平均粒子サイズ1nm〜30
0nmのフッ化炭素粉末の含有比率が、10〜20nm
の微粒子状カーボンブラックと50〜300nmの粗粒子
状カーボンブラックを加えた全カーボンに対する重量比
で、好ましくは前者:後者=99.9:0.1〜75:
25、更に好ましくは、99:1〜85:15の範囲で
ある。
0.2〜0.8μmであり、前記磁気記録媒体の総厚み
が3〜10μmであり、該バック層の中心面平均表面粗
さRaが、2.0〜15nmである磁気記録媒体を得る
ためには、バック層における10〜20nmの微粒子状
カーボンブラックと平均粒子サイズ1nm〜300nmの
フッ化炭素粉末の含有比率が重量比で、前者:後者=9
9.9:0.1〜75:25となる範囲が好ましく、9
9:1〜85:15が更に好ましい範囲である。また、
バック層において10〜20nmの微粒子状カーボンブ
ラックと50〜300nmの粗粒子状カーボンブラックを
混合して使用する場合には、平均粒子サイズ1nm〜30
0nmのフッ化炭素粉末の含有比率が、10〜20nm
の微粒子状カーボンブラックと50〜300nmの粗粒子
状カーボンブラックを加えた全カーボンに対する重量比
で、好ましくは前者:後者=99.9:0.1〜75:
25、更に好ましくは、99:1〜85:15の範囲で
ある。
【0062】バック層に添加することができる無機質粉
末としては、好ましくは平均粉体サイズが20〜250
nm、更に好ましくは20〜150μmでモース硬度が
5〜9の無機質粉末が挙げられる。無機質粉末として
は、前述した下層に使用される非磁性粉末や研磨剤など
と同様のものが使用されるが、中でもα−酸化鉄、α−
アルミナ等が好ましい。
末としては、好ましくは平均粉体サイズが20〜250
nm、更に好ましくは20〜150μmでモース硬度が
5〜9の無機質粉末が挙げられる。無機質粉末として
は、前述した下層に使用される非磁性粉末や研磨剤など
と同様のものが使用されるが、中でもα−酸化鉄、α−
アルミナ等が好ましい。
【0063】カーボンブラックを除いた無機質粉末のバ
ック層への添加量は、後述する結合剤100重量部に対
して、好ましくは3〜40重量部の範囲であり、更に好
ましくは5〜30重量部の範囲である。本発明に係るバ
ック層は、上記各成分が後述する結合剤中に分散されて
なるものであるが、他の任意の成分として、分散剤、潤
滑剤を添加することが好ましい。分散剤としては、例え
ば、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン
酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン
酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロ
ール酸等の炭素数12〜18個の脂肪酸(RCOOH、
Rは炭素数11〜17個のアルキル基、又はアルケニル
基)、前記脂肪酸のアルカリ金属又はアルカリ土類金属
からなる金属石けん、前記の脂肪酸エステルのフッ素を
含有した化合物、前記脂肪酸のアミド、ポリアルキレン
オキサイドアルキルリン酸エステル、レシチン、トリア
ルキルポリオレフィンオキシ第四級アンモニウム塩(ア
ルキルは炭素数1〜5個、オレフィンは、エチレン、プ
ロピレンなど)、硫酸エステル、及び銅フタロシアニン
等を使用することができる。これらは、単独でも組み合
わせて使用しても良い。上記の中では、オレン酸銅、銅
フタロシアニン、及び硫酸バリウムが好ましい。分散剤
は、結合剤樹脂100重量部に対して通常、0.5〜2
0重量部の範囲で添加される。
ック層への添加量は、後述する結合剤100重量部に対
して、好ましくは3〜40重量部の範囲であり、更に好
ましくは5〜30重量部の範囲である。本発明に係るバ
ック層は、上記各成分が後述する結合剤中に分散されて
なるものであるが、他の任意の成分として、分散剤、潤
滑剤を添加することが好ましい。分散剤としては、例え
ば、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン
酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン
酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロ
ール酸等の炭素数12〜18個の脂肪酸(RCOOH、
Rは炭素数11〜17個のアルキル基、又はアルケニル
基)、前記脂肪酸のアルカリ金属又はアルカリ土類金属
からなる金属石けん、前記の脂肪酸エステルのフッ素を
含有した化合物、前記脂肪酸のアミド、ポリアルキレン
オキサイドアルキルリン酸エステル、レシチン、トリア
ルキルポリオレフィンオキシ第四級アンモニウム塩(ア
ルキルは炭素数1〜5個、オレフィンは、エチレン、プ
ロピレンなど)、硫酸エステル、及び銅フタロシアニン
等を使用することができる。これらは、単独でも組み合
わせて使用しても良い。上記の中では、オレン酸銅、銅
フタロシアニン、及び硫酸バリウムが好ましい。分散剤
は、結合剤樹脂100重量部に対して通常、0.5〜2
0重量部の範囲で添加される。
【0064】潤滑剤としては、従来から磁気テープに通
常使用されている潤滑剤から適宜選択して使用できる
が、本発明では特に炭素数18以上の脂肪酸、あるいは
脂肪酸エステルが走行性の向上の点から好ましい。潤滑
剤は、結合剤樹脂100重量部に対して通常1〜5重量
部の範囲で添加される。
常使用されている潤滑剤から適宜選択して使用できる
が、本発明では特に炭素数18以上の脂肪酸、あるいは
脂肪酸エステルが走行性の向上の点から好ましい。潤滑
剤は、結合剤樹脂100重量部に対して通常1〜5重量
部の範囲で添加される。
【0065】本発明で使用できる結合剤としては、例え
ば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれら
の混合物を挙げることができる。熱可塑性樹脂の例とし
ては、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−
塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリルニトリ
ル共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共
重合体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合
体、アクリル酸エステル−スチレン共重合体、メタアク
リル酸エステル−アクリルニトリル共重合体、メタアク
リル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、メタアクリ
ル酸エステル−スチレン共重合体、ポリ弗化ビニル、塩
ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、ブタジエン−
アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニ
ルブチラール、繊維素系樹脂(セルロースアセテートブ
チレート、セルロースダイアセテート、セルロースプロ
ピオネート、ニトロセルロースなど)、スチレン−ブタ
ジエン共重合体、ポリエステル樹脂、クロロビニルエー
テル−アクリル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各種
ゴム系樹脂を挙げることができる。
ば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれら
の混合物を挙げることができる。熱可塑性樹脂の例とし
ては、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−
塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリルニトリ
ル共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共
重合体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合
体、アクリル酸エステル−スチレン共重合体、メタアク
リル酸エステル−アクリルニトリル共重合体、メタアク
リル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、メタアクリ
ル酸エステル−スチレン共重合体、ポリ弗化ビニル、塩
ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、ブタジエン−
アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニ
ルブチラール、繊維素系樹脂(セルロースアセテートブ
チレート、セルロースダイアセテート、セルロースプロ
ピオネート、ニトロセルロースなど)、スチレン−ブタ
ジエン共重合体、ポリエステル樹脂、クロロビニルエー
テル−アクリル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各種
ゴム系樹脂を挙げることができる。
【0066】また熱硬化性樹脂または反応型樹脂として
は、例えば、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレ
タン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹
脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリ
コーン樹脂、エポキシーポリアミド樹脂、ポリイソシア
ネートを挙げることができる。バック層は、通常の方法
に従って支持体の磁性層が設けられている側とは反対側
に設けられる。即ち、前記の各成分を適当な有機溶媒に
溶解、分散させた塗布液を調製し、これを常法の塗布方
法に従い、塗布、乾燥することにより、支持体上にバッ
ク層を設けることができる。本発明において、バック層
は、その表面粗さRaが、3D−MIRAU法による中
心面平均表面粗さで好ましくは2.0〜15nm、更に
好ましくは2.0〜10nmの範囲にある。この表面粗
さは、テープが巻かれた状態でバック層の表面が磁性層
の表面に転写され、再生出力に影響を与えたり、ガイド
ポールに対する摩擦係数に影響を与えるため、上記の範
囲に調整することが好ましい。なお、この表面粗さRa
の調整は、通常バック層を塗布形成後、カレンダーによ
る表面処理工程において、用いるカレンダーロールの材
質、その表面性、圧力等の調整により行われる。本発明
において、バック層は、その厚みが0.2〜0.8μ
m、さらに好ましくは0.2〜0.7μmの範囲であ
る。
は、例えば、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレ
タン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹
脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリ
コーン樹脂、エポキシーポリアミド樹脂、ポリイソシア
ネートを挙げることができる。バック層は、通常の方法
に従って支持体の磁性層が設けられている側とは反対側
に設けられる。即ち、前記の各成分を適当な有機溶媒に
溶解、分散させた塗布液を調製し、これを常法の塗布方
法に従い、塗布、乾燥することにより、支持体上にバッ
ク層を設けることができる。本発明において、バック層
は、その表面粗さRaが、3D−MIRAU法による中
心面平均表面粗さで好ましくは2.0〜15nm、更に
好ましくは2.0〜10nmの範囲にある。この表面粗
さは、テープが巻かれた状態でバック層の表面が磁性層
の表面に転写され、再生出力に影響を与えたり、ガイド
ポールに対する摩擦係数に影響を与えるため、上記の範
囲に調整することが好ましい。なお、この表面粗さRa
の調整は、通常バック層を塗布形成後、カレンダーによ
る表面処理工程において、用いるカレンダーロールの材
質、その表面性、圧力等の調整により行われる。本発明
において、バック層は、その厚みが0.2〜0.8μ
m、さらに好ましくは0.2〜0.7μmの範囲であ
る。
【0067】[支持体]本発明に用いられる支持体はポ
リエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレート
等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルロ−スト
リアセテ−ト、ポリカ−ボネート、ポリアミド、ポリイ
ミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、芳香族ポリ
アミド、ポリベンゾオキサゾ−ルなどの公知のフィルム
が使用できる。ガラス転移温度が100℃以上の支持体
がこのましく、ポリエチレンナフタレ−ト、アラミドな
どの高強度支持体を用いることが特に好ましい。また必
要に応じ、磁性面とベ−ス面の表面粗さを変えるため特
開平3−224127に示されるような積層タイプの支
持体を用いることもできる。これらの支持体にはあらか
じめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処
理、除塵処理、などを行ってもよい。
リエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレート
等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルロ−スト
リアセテ−ト、ポリカ−ボネート、ポリアミド、ポリイ
ミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、芳香族ポリ
アミド、ポリベンゾオキサゾ−ルなどの公知のフィルム
が使用できる。ガラス転移温度が100℃以上の支持体
がこのましく、ポリエチレンナフタレ−ト、アラミドな
どの高強度支持体を用いることが特に好ましい。また必
要に応じ、磁性面とベ−ス面の表面粗さを変えるため特
開平3−224127に示されるような積層タイプの支
持体を用いることもできる。これらの支持体にはあらか
じめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処
理、除塵処理、などを行ってもよい。
【0068】本発明の目的を達成するには、支持体とし
てWYKO社製TOPO−3DのMIRAU法で測定し
た中心面平均表面粗さ(SRa)は通常、5.0nm以下、
好ましくは3.0nm以下、さらに好ましくは2.0nm以
下のものを使用することが好ましい。これらの支持体は
単に中心面平均表面粗さが小さいだけではなく、0.5
μm以上の粗大突起がないことが好ましい。また表面の
粗さ形状は必要に応じて支持体に添加されるフィラ−の
大きさと量により自由にコントロ−ルされるものであ
る。これらのフィラ−としては一例としてはCa、S
i、Tiなどの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系などの
有機粉末があげられる。支持体の最大高さSRmaxは1
μm以下、十点平均粗さSRzは0.5μm以下、中心
面山高さはSRpは0.5μm以下、中心面谷深さSRv
は0.5μm以下、中心面面積率SSrは10%以上、
90%以下、平均波長Sλaは5μm以上、300μm
以下が好ましい。所望の電磁変換特性と耐久性を得るた
め、これら支持体の表面突起分布をフィラーにより任意
にコントロールできるものであり、0.01μmから1
μmの大きさのもの各々を0.1mm2あたり0個から2
000個の範囲でコントロ−ルすることができる。
てWYKO社製TOPO−3DのMIRAU法で測定し
た中心面平均表面粗さ(SRa)は通常、5.0nm以下、
好ましくは3.0nm以下、さらに好ましくは2.0nm以
下のものを使用することが好ましい。これらの支持体は
単に中心面平均表面粗さが小さいだけではなく、0.5
μm以上の粗大突起がないことが好ましい。また表面の
粗さ形状は必要に応じて支持体に添加されるフィラ−の
大きさと量により自由にコントロ−ルされるものであ
る。これらのフィラ−としては一例としてはCa、S
i、Tiなどの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系などの
有機粉末があげられる。支持体の最大高さSRmaxは1
μm以下、十点平均粗さSRzは0.5μm以下、中心
面山高さはSRpは0.5μm以下、中心面谷深さSRv
は0.5μm以下、中心面面積率SSrは10%以上、
90%以下、平均波長Sλaは5μm以上、300μm
以下が好ましい。所望の電磁変換特性と耐久性を得るた
め、これら支持体の表面突起分布をフィラーにより任意
にコントロールできるものであり、0.01μmから1
μmの大きさのもの各々を0.1mm2あたり0個から2
000個の範囲でコントロ−ルすることができる。
【0069】本発明に用いられる支持体のF−5値は好
ましくは49〜490MPa、また、支持体の100℃
30分での熱収縮率は好ましくは3%以下、さらに好ま
しくは1.5%以下、80℃30分での熱収縮率は好ま
しくは1%以下、さらに好ましくは0.5%以下であ
る。破断強度は49〜980MPa、弾性率は980〜
19600MPa、が好ましい。温度膨張係数は10-4
〜10-8/℃であり、好ましくは10-5〜10-6/℃で
ある。湿度膨張係数は10-4/RH%以下であり、好ましく
は10-5/RH%以下である。これらの熱特性、寸法特
性、機械強度特性は支持体の面内各方向に対し10%以
内の差でほぼで等しいことが好ましい。
ましくは49〜490MPa、また、支持体の100℃
30分での熱収縮率は好ましくは3%以下、さらに好ま
しくは1.5%以下、80℃30分での熱収縮率は好ま
しくは1%以下、さらに好ましくは0.5%以下であ
る。破断強度は49〜980MPa、弾性率は980〜
19600MPa、が好ましい。温度膨張係数は10-4
〜10-8/℃であり、好ましくは10-5〜10-6/℃で
ある。湿度膨張係数は10-4/RH%以下であり、好ましく
は10-5/RH%以下である。これらの熱特性、寸法特
性、機械強度特性は支持体の面内各方向に対し10%以
内の差でほぼで等しいことが好ましい。
【0070】[製法]本発明の磁気記録媒体の磁性塗料
を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程、お
よびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程
からなる。個々の工程はそれぞれ2段階以上にわかれて
いてもかまわない。本発明に使用する磁性体、非磁性粉
末、結合剤、カーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、
潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初または
途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を2つ
以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、
ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整
のための混合工程で分割して投入してもよい。本発明の
目的を達成するためには、従来の公知の製造技術を一部
の工程として用いることができる。混練工程ではオープ
ンニーダ、連続ニ−ダ、加圧ニ−ダ、エクストルーダな
ど強い混練力をもつものを使用することが好ましい。ニ
−ダを用いる場合は磁性体または非磁性粉末と結合剤の
すべてまたはその一部(ただし全結合剤の30重量%以
上が好ましい)および磁性体100部に対し15〜50
0部の範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細
については特開平1−106338、特開平1−792
74に記載されている。また、磁性層液および非磁性層
液を分散させるにはガラスビーズを用ることができる
が、高比重の分散メディアであるジルコニアビーズ、チ
タニアビーズ、スチールビーズが好適である。これら分
散メディアの粒径と充填率は最適化して用いられる。分
散機は公知のものを使用することができる。分散速度が
ことなる磁性体、研磨剤、カーボンブラックをあらかじ
め別々に分散し、混合し必要によりさらに微分散して塗
布液とすることができる。
を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程、お
よびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程
からなる。個々の工程はそれぞれ2段階以上にわかれて
いてもかまわない。本発明に使用する磁性体、非磁性粉
末、結合剤、カーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、
潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初または
途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を2つ
以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、
ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整
のための混合工程で分割して投入してもよい。本発明の
目的を達成するためには、従来の公知の製造技術を一部
の工程として用いることができる。混練工程ではオープ
ンニーダ、連続ニ−ダ、加圧ニ−ダ、エクストルーダな
ど強い混練力をもつものを使用することが好ましい。ニ
−ダを用いる場合は磁性体または非磁性粉末と結合剤の
すべてまたはその一部(ただし全結合剤の30重量%以
上が好ましい)および磁性体100部に対し15〜50
0部の範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細
については特開平1−106338、特開平1−792
74に記載されている。また、磁性層液および非磁性層
液を分散させるにはガラスビーズを用ることができる
が、高比重の分散メディアであるジルコニアビーズ、チ
タニアビーズ、スチールビーズが好適である。これら分
散メディアの粒径と充填率は最適化して用いられる。分
散機は公知のものを使用することができる。分散速度が
ことなる磁性体、研磨剤、カーボンブラックをあらかじ
め別々に分散し、混合し必要によりさらに微分散して塗
布液とすることができる。
【0071】本発明で重層構成の磁気記録媒体を塗布す
る場合、以下のような方式を用いることが好ましい。第
一に磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウェット状
態のうちに特公平1−46186や特開昭60−238
179、特開平2−265672に開示されている支持
体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層を塗布
する方法。第二に特開昭63−88080、特開平2−
17971、特開平2−265672に開示されている
ような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘ
ッドにより上下層をほぼ同時に塗布する方法。第三に特
開平2−174965に開示されているバックアップロ
ール付きエクストルージョン塗布装置により上下層をほ
ぼ同時に塗布する方法である。なお、磁性粒子の凝集に
よる磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止するた
め、特開昭62−95174や特開平1−236968
に開示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗
布液にせん断を付与することが望ましい。さらに、塗布
液の粘度については、特開平3−8471に開示されて
いる数値範囲を満足する必要がある。本発明の構成を実
現するには下層を塗布し乾燥させたのち、その上に磁性
層を設ける逐次重層塗布をもちいてもむろんかまわず、
本発明の効果が失われるものではない。ただし、塗布欠
陥を少なくし、ドロップアウトなどの品質を向上させる
ためには、前述の同時重層塗布を用いることが好まし
い。
る場合、以下のような方式を用いることが好ましい。第
一に磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウェット状
態のうちに特公平1−46186や特開昭60−238
179、特開平2−265672に開示されている支持
体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層を塗布
する方法。第二に特開昭63−88080、特開平2−
17971、特開平2−265672に開示されている
ような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘ
ッドにより上下層をほぼ同時に塗布する方法。第三に特
開平2−174965に開示されているバックアップロ
ール付きエクストルージョン塗布装置により上下層をほ
ぼ同時に塗布する方法である。なお、磁性粒子の凝集に
よる磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止するた
め、特開昭62−95174や特開平1−236968
に開示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗
布液にせん断を付与することが望ましい。さらに、塗布
液の粘度については、特開平3−8471に開示されて
いる数値範囲を満足する必要がある。本発明の構成を実
現するには下層を塗布し乾燥させたのち、その上に磁性
層を設ける逐次重層塗布をもちいてもむろんかまわず、
本発明の効果が失われるものではない。ただし、塗布欠
陥を少なくし、ドロップアウトなどの品質を向上させる
ためには、前述の同時重層塗布を用いることが好まし
い。
【0072】カレンダ処理ロ−ルとしてエポキシ、ポリ
イミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあ
るプラスチックロ−ルまたは金属ロ−ルで処理するが、
特に両面磁性層とする場合は金属ロ−ル同志で処理する
ことが好ましい。処理温度は、好ましくは50℃以上、
さらに好ましくは100℃以上である。線圧力は好まし
くは1.96kN/m以上、さらに好ましくは2.94
kN/m以上である。
イミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあ
るプラスチックロ−ルまたは金属ロ−ルで処理するが、
特に両面磁性層とする場合は金属ロ−ル同志で処理する
ことが好ましい。処理温度は、好ましくは50℃以上、
さらに好ましくは100℃以上である。線圧力は好まし
くは1.96kN/m以上、さらに好ましくは2.94
kN/m以上である。
【0073】本発明の磁気記録媒体のヘッドに対する摩
擦係数は温度−10℃〜40℃、湿度0%〜95%の範
囲において0.5以下、好ましくは0.3以下、表面固
有抵抗は好ましくは磁性面104〜1012オ−ム/sq、帯
電位は−500Vから+500V以内が好ましい。磁性層
の0.5%伸びでの弾性率は面内各方向で好ましくは9
80〜1960MPa、破断強度は好ましくは98〜6
86MPa、磁気記録媒体の弾性率は面内各方向で好ま
しくは980〜14700MPa、残留のびは好ましく
は0.5%以下、100℃以下のあらゆる温度での熱収
縮率は好ましくは1%以下、さらに好ましくは0.5%
以下、もっとも好ましくは0.1%以下である。磁性層
のガラス転移温度(110Hzで測定した動的粘弾性測定
の損失弾性率の極大点)は50℃以上120℃以下が好
ましく、下層非磁性層のそれは0℃〜100℃が好まし
い。損失弾性率は1×107〜8×108N/m2の範囲
にあることが好ましく、損失正接は0.2以下であるこ
とが好ましい。損失正接が大きすぎると粘着故障が発生
しやすい。これらの熱特性や機械特性は媒体の面内各方
向で10%以内でほぼ等しいことが好ましい。磁性層中
に含まれる残留溶媒は好ましくは100mg/m2以下、さ
らに好ましくは10mg/m2以下である。塗布層が有する
空隙率は非磁性層、磁性層とも好ましくは30容量%以
下、さらに好ましくは20容量%以下である。空隙率は
高出力を果たすためには小さい方が好ましいが、目的に
よってはある値を確保した方が良い場合がある。
擦係数は温度−10℃〜40℃、湿度0%〜95%の範
囲において0.5以下、好ましくは0.3以下、表面固
有抵抗は好ましくは磁性面104〜1012オ−ム/sq、帯
電位は−500Vから+500V以内が好ましい。磁性層
の0.5%伸びでの弾性率は面内各方向で好ましくは9
80〜1960MPa、破断強度は好ましくは98〜6
86MPa、磁気記録媒体の弾性率は面内各方向で好ま
しくは980〜14700MPa、残留のびは好ましく
は0.5%以下、100℃以下のあらゆる温度での熱収
縮率は好ましくは1%以下、さらに好ましくは0.5%
以下、もっとも好ましくは0.1%以下である。磁性層
のガラス転移温度(110Hzで測定した動的粘弾性測定
の損失弾性率の極大点)は50℃以上120℃以下が好
ましく、下層非磁性層のそれは0℃〜100℃が好まし
い。損失弾性率は1×107〜8×108N/m2の範囲
にあることが好ましく、損失正接は0.2以下であるこ
とが好ましい。損失正接が大きすぎると粘着故障が発生
しやすい。これらの熱特性や機械特性は媒体の面内各方
向で10%以内でほぼ等しいことが好ましい。磁性層中
に含まれる残留溶媒は好ましくは100mg/m2以下、さ
らに好ましくは10mg/m2以下である。塗布層が有する
空隙率は非磁性層、磁性層とも好ましくは30容量%以
下、さらに好ましくは20容量%以下である。空隙率は
高出力を果たすためには小さい方が好ましいが、目的に
よってはある値を確保した方が良い場合がある。
【0074】磁性層を3D−MIRAU法で測定した中
心面表面粗さRaは、好ましくは1.0〜3.0nm、
さらに好ましくは2.2nm以下である。磁性層の最大高
さRmaxは0.5μm以下、十点平均粗さRzは0.3μ
m以下、中心面山高さRpは0.3μm以下、中心面谷
深さRvは0.3μm以下、中心面面積率Srは20〜8
0%以下、平均波長λaは5〜300μm以下が好まし
い。磁性層の表面突起は0.01μm〜1μmの大きさ
のものを0〜2000個の範囲で任意に設定することが
可能であり、これにより電磁変換特性、摩擦係数を最適
化することが好ましい。これらは支持体のフィラ−によ
る表面性のコントロ−ルや磁性層に添加する粉体の粒径
と量、カレンダ処理のロ−ル表面形状などで容易にコン
トロ−ルすることができる。カールは±3mm以内とする
ことが好ましい。
心面表面粗さRaは、好ましくは1.0〜3.0nm、
さらに好ましくは2.2nm以下である。磁性層の最大高
さRmaxは0.5μm以下、十点平均粗さRzは0.3μ
m以下、中心面山高さRpは0.3μm以下、中心面谷
深さRvは0.3μm以下、中心面面積率Srは20〜8
0%以下、平均波長λaは5〜300μm以下が好まし
い。磁性層の表面突起は0.01μm〜1μmの大きさ
のものを0〜2000個の範囲で任意に設定することが
可能であり、これにより電磁変換特性、摩擦係数を最適
化することが好ましい。これらは支持体のフィラ−によ
る表面性のコントロ−ルや磁性層に添加する粉体の粒径
と量、カレンダ処理のロ−ル表面形状などで容易にコン
トロ−ルすることができる。カールは±3mm以内とする
ことが好ましい。
【0075】本発明の磁気記録媒体で非磁性層と磁性層
を有する場合、目的に応じ非磁性層と磁性層でこれらの
物理特性を変えることができるのは容易に推定されるこ
とである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性
を向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低
くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどで
ある。
を有する場合、目的に応じ非磁性層と磁性層でこれらの
物理特性を変えることができるのは容易に推定されるこ
とである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性
を向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低
くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどで
ある。
【0076】
【実施例】本発明の新規な特長を以下の実施例で具体的
に説明するが、本発明はこれに限定されるものではな
い。
に説明するが、本発明はこれに限定されるものではな
い。
【0077】製造例(バックコ−トに添加するフッ化炭
素粉末の製法) フッ化炭素粉末(A)の製造 平均粒子サイズ10nmのファーネスブラック50gに平均粒
子サイズ10μm の溶融アルミナ1500gを添加し、混合し
た原料を回転式反応炉内に置いた。系内を窒素ガスで充
分置換した後、フッ素モル濃度50%のフッ素と窒素の混
合ガスを通じ、温度350 〜400 ℃で5時間反応させた。
冷却後、得られた混合物を市販の風力分級機を用いて分
離し、サイクロン部で120 gの白色粉末を回収した。白
色粉末の組成は(CF1.0)nに相当し、アルミナ分は 0.1%
以下であった。得られたフッ化炭素粉末(A)の平均粒
子サイズは、10nmであった。 フッ化炭素粉末(B)の製造 平均粒子サイズ17nmのファーネスブラック50gに平均
粒子サイズ10μm の溶融アルミナ1500gを添加し、混合
した原料を回転式反応炉内に置いた。系内を窒素ガスで
充分置換した後、フッ素モル濃度50%のフッ素と窒素の
混合ガスを通じ、温度350 〜400 ℃で5時間反応させ
た。冷却後、得られた混合物を市販の風力分級機を用い
て分離し、サイクロン部で120 gの白色粉末を回収し
た。白色のフッ化炭素粉末(B)の組成は(CF1.0)nに相
当し、アルミナ分は 0.1%以下で、平均粒子サイズは1
8nmであった。 フッ化炭素粉末(C)の製造 平均粒子サイズ53nmのアセチレンブラッツク50gに平
均粒子サイズ10μm の溶融アルミナ1500gを添加し、混
合した原料を回転式反応炉内に置いた。系内を窒素ガス
で充分置換した後、フッ素モル濃度50%のフッ素と窒素
の混合ガスを通じ、温度350 〜400 ℃で5時間反応させ
た。冷却後、得られた混合物を市販の風力分級機を用い
て分離し、サイクロン部で120 gの白色粉末を回収し
た。白色のフッ化炭素粉末(C)の組成は(CF1.0)nに相
当し、アルミナ分は 0.1%以下で、平均粒子サイズは55
nmであった。 フッ化炭素粉末(D)の製造 平均粒子サイズ78nmのファーネスブラック50gに平均粒
子サイズ10μm の溶融アルミナ1500gを添加し、混合し
た原料を回転式反応炉内に置いた。系内を窒素ガスで充
分置換した後、フッ素モル濃度50%のフッ素と窒素の混
合ガスを通じ、温度350 〜400 ℃で5時間反応させた。
冷却後、得られた混合物を市販の風力分級機を用いて分
離し、サイクロン部で120 gの白色粉末を回収した。白
色のフッ化炭素粉末(D)の組成は(CF1.0)nに相当し、
アルミナ分は 0.1%以下で、平均粒子サイズは80nmであ
った。 実施例(磁気記録媒体の製造) 実施例1 磁性塗料1 強磁性金属粉末 100部 (Co/Fe=30原子%、Al/Fe=8原子%、Y/Fe=6原子% 、 Hc1.87×105A/m、比表面積55m2/g、 σs140×4π×10-8Wb/g、 結晶子サイズ140Å、平均長軸長0.068μm、平均針状比 6 表面酸化膜厚25Å 塩化ビニル重合体 MR110(日本ゼオン社製) 12部 ポリウレタン樹脂 UR8200(東洋紡社製) 4部 αアルミナ(平均粒子サイズ 0.15μm) 5部 カーボンブラック #50(旭カーボン社製) 5部 フェニルホスホン酸 3部 ブチルステアレート 5部 ステアリン酸 6部 メチルエチルケトン 180部 シクロヘキサノン 180部
素粉末の製法) フッ化炭素粉末(A)の製造 平均粒子サイズ10nmのファーネスブラック50gに平均粒
子サイズ10μm の溶融アルミナ1500gを添加し、混合し
た原料を回転式反応炉内に置いた。系内を窒素ガスで充
分置換した後、フッ素モル濃度50%のフッ素と窒素の混
合ガスを通じ、温度350 〜400 ℃で5時間反応させた。
冷却後、得られた混合物を市販の風力分級機を用いて分
離し、サイクロン部で120 gの白色粉末を回収した。白
色粉末の組成は(CF1.0)nに相当し、アルミナ分は 0.1%
以下であった。得られたフッ化炭素粉末(A)の平均粒
子サイズは、10nmであった。 フッ化炭素粉末(B)の製造 平均粒子サイズ17nmのファーネスブラック50gに平均
粒子サイズ10μm の溶融アルミナ1500gを添加し、混合
した原料を回転式反応炉内に置いた。系内を窒素ガスで
充分置換した後、フッ素モル濃度50%のフッ素と窒素の
混合ガスを通じ、温度350 〜400 ℃で5時間反応させ
た。冷却後、得られた混合物を市販の風力分級機を用い
て分離し、サイクロン部で120 gの白色粉末を回収し
た。白色のフッ化炭素粉末(B)の組成は(CF1.0)nに相
当し、アルミナ分は 0.1%以下で、平均粒子サイズは1
8nmであった。 フッ化炭素粉末(C)の製造 平均粒子サイズ53nmのアセチレンブラッツク50gに平
均粒子サイズ10μm の溶融アルミナ1500gを添加し、混
合した原料を回転式反応炉内に置いた。系内を窒素ガス
で充分置換した後、フッ素モル濃度50%のフッ素と窒素
の混合ガスを通じ、温度350 〜400 ℃で5時間反応させ
た。冷却後、得られた混合物を市販の風力分級機を用い
て分離し、サイクロン部で120 gの白色粉末を回収し
た。白色のフッ化炭素粉末(C)の組成は(CF1.0)nに相
当し、アルミナ分は 0.1%以下で、平均粒子サイズは55
nmであった。 フッ化炭素粉末(D)の製造 平均粒子サイズ78nmのファーネスブラック50gに平均粒
子サイズ10μm の溶融アルミナ1500gを添加し、混合し
た原料を回転式反応炉内に置いた。系内を窒素ガスで充
分置換した後、フッ素モル濃度50%のフッ素と窒素の混
合ガスを通じ、温度350 〜400 ℃で5時間反応させた。
冷却後、得られた混合物を市販の風力分級機を用いて分
離し、サイクロン部で120 gの白色粉末を回収した。白
色のフッ化炭素粉末(D)の組成は(CF1.0)nに相当し、
アルミナ分は 0.1%以下で、平均粒子サイズは80nmであ
った。 実施例(磁気記録媒体の製造) 実施例1 磁性塗料1 強磁性金属粉末 100部 (Co/Fe=30原子%、Al/Fe=8原子%、Y/Fe=6原子% 、 Hc1.87×105A/m、比表面積55m2/g、 σs140×4π×10-8Wb/g、 結晶子サイズ140Å、平均長軸長0.068μm、平均針状比 6 表面酸化膜厚25Å 塩化ビニル重合体 MR110(日本ゼオン社製) 12部 ポリウレタン樹脂 UR8200(東洋紡社製) 4部 αアルミナ(平均粒子サイズ 0.15μm) 5部 カーボンブラック #50(旭カーボン社製) 5部 フェニルホスホン酸 3部 ブチルステアレート 5部 ステアリン酸 6部 メチルエチルケトン 180部 シクロヘキサノン 180部
【0078】 非磁性塗料 非磁性粉末 α−Fe2O3 80部 平均長軸長 0.12μm、BET法による比表面積 50m2/g pH 9、 表面処理剤アルミ化合物(Al2O3として 1重量%) αアルミナ(平均粒子サイズ 0.15μm) 7部 カーボンブラック コンダクテックスSC−U(コロンビアンカーボン社製) 20部 塩化ビニル重合体 MR110(日本ゼオン製) 12部 ポリウレタン樹脂 UR8200(東洋紡社製) 5部 フェニルホスホン酸 4部 ブチルステアレート 6部 ステアリン酸 5部 メチルエチルケトン/シクロヘキサノン(7/3混合溶剤) 250部
【0079】 バック層形成用塗布液組成(1) 微粒子状カーボンブラック粉末 100部 (キャボット社製、BP−800、平均粒子サイズ:17nm) フッ化炭素粉末(D)(平均粒子サイズ:80nm) 10部 α−アルミナ 15部 (住友化学工業(株)製、HIT60A、平均粒子サイズ:0.17μm、 モース硬度:9) ニトロセルロース樹脂 120部 ポリウレタン樹脂 15部 ポリイソシアネート 40部 ポリエステル樹脂 5部 分散剤:オレイン酸銅 5部 銅フタロシアニン 5部 硫酸バリウム 5部 メチルエチルケトン 2200部 トルエン 800部
【0080】上記の磁性層用塗料、非磁性層用塗料のそ
れぞれについて、顔料、ポリ塩化ビニル、フェニルホス
ホン酸と処方量の50重量%の各溶剤をニ−ダで混練し
たのち、ポリウレタン樹脂と残りの成分を加えてサンド
グラインダーで分散した。得られた分散液にポリイソシ
アネートを非磁性層の塗布液には15部、磁性層の塗布
液には14部を加え、さらにそれぞれにシクロヘキサノ
ン30部を加え、1μmの平均孔径を有するフィルター
を用いて濾過し、非磁性層形成用および磁性層形成用の
塗布液をそれぞれ調製した。
れぞれについて、顔料、ポリ塩化ビニル、フェニルホス
ホン酸と処方量の50重量%の各溶剤をニ−ダで混練し
たのち、ポリウレタン樹脂と残りの成分を加えてサンド
グラインダーで分散した。得られた分散液にポリイソシ
アネートを非磁性層の塗布液には15部、磁性層の塗布
液には14部を加え、さらにそれぞれにシクロヘキサノ
ン30部を加え、1μmの平均孔径を有するフィルター
を用いて濾過し、非磁性層形成用および磁性層形成用の
塗布液をそれぞれ調製した。
【0081】得られた非磁性層形成用塗布液を、乾燥後
の下層の厚さが1.7μmになるようにさらにその直後
にその上に磁性塗料1の塗布液を磁性層の厚さが0.2
0μmとなるように、厚さ5.5μmで中心面平均表面
粗さが2nmのアラミドベース上に同時重層塗布をおこ
ない、両層がまだ湿潤状態にあるうちに4.8×10 5
A/mの磁力を持つコバルト磁石と4.8×105A/
mの磁力を持つソレノイドにより配向、乾燥させた。そ
の後、バック層形成用塗布液(1)を厚み0.4μmと
なるように塗布した。金属ロ−ルのみから構成される7
段のカレンダ−で温度95℃にて分速150m/mi
n.で処理を行い、熱処理を施した。次いで、得られた
塗布物を3.8mm幅にスリットし、表面研磨処理を施
した後、所定のカートリッジに組み込んでサンプル(磁
気テープ)とした。得られた磁性層の磁気特性、磁性層
とバック層のRaを測定した。さらに4.7MHz再生出
力、DO評価、初期と60℃90%RH7日保存後の摩
擦係数を測定した。
の下層の厚さが1.7μmになるようにさらにその直後
にその上に磁性塗料1の塗布液を磁性層の厚さが0.2
0μmとなるように、厚さ5.5μmで中心面平均表面
粗さが2nmのアラミドベース上に同時重層塗布をおこ
ない、両層がまだ湿潤状態にあるうちに4.8×10 5
A/mの磁力を持つコバルト磁石と4.8×105A/
mの磁力を持つソレノイドにより配向、乾燥させた。そ
の後、バック層形成用塗布液(1)を厚み0.4μmと
なるように塗布した。金属ロ−ルのみから構成される7
段のカレンダ−で温度95℃にて分速150m/mi
n.で処理を行い、熱処理を施した。次いで、得られた
塗布物を3.8mm幅にスリットし、表面研磨処理を施
した後、所定のカートリッジに組み込んでサンプル(磁
気テープ)とした。得られた磁性層の磁気特性、磁性層
とバック層のRaを測定した。さらに4.7MHz再生出
力、DO評価、初期と60℃90%RH7日保存後の摩
擦係数を測定した。
【0082】(1)磁気特性(Hc、φm):振動試料
型磁力計(東英工業社製)を用い、Hm8×105A/
mで測定した。φmとは(飽和磁束密度×磁性層厚み/4
π)で示される磁気記録媒体の単位面積当たりの磁化量
(単位はWb/m2)である。(2)中心面平均表面粗さ
(Ra):3D−MIRAU法での表面粗さ(Ra):
WYKO社製TOPO3Dを用いて、3D−MIRAU
法で約250×250μmの面積のRa値を測定した。
測定波長約650nmにて球面補正、円筒補正を加えてい
る。本方式は光干渉にて測定する非接触表面粗さ計であ
る。
型磁力計(東英工業社製)を用い、Hm8×105A/
mで測定した。φmとは(飽和磁束密度×磁性層厚み/4
π)で示される磁気記録媒体の単位面積当たりの磁化量
(単位はWb/m2)である。(2)中心面平均表面粗さ
(Ra):3D−MIRAU法での表面粗さ(Ra):
WYKO社製TOPO3Dを用いて、3D−MIRAU
法で約250×250μmの面積のRa値を測定した。
測定波長約650nmにて球面補正、円筒補正を加えてい
る。本方式は光干渉にて測定する非接触表面粗さ計であ
る。
【0083】(3)4.7MHz再生出力 DDSドライブにて4.7MHzの単一周波数信号を最
適記録電流にて記録し、その再生出力を測定した。出力
値は、実施例5の再生出力を0dBとして相対値で示し
た。 (4)ドロップアウト(DO) DATデッキにて周波数2.35MHzの信号を最適電
流値で書き込み、その再生信号をドロップアウトカウン
タ(シバソク(株)製)で計数した。計測は、5分間行
い、15μ秒、−16dBのDOの1分間当りの平均個
数を求めた。
適記録電流にて記録し、その再生出力を測定した。出力
値は、実施例5の再生出力を0dBとして相対値で示し
た。 (4)ドロップアウト(DO) DATデッキにて周波数2.35MHzの信号を最適電
流値で書き込み、その再生信号をドロップアウトカウン
タ(シバソク(株)製)で計数した。計測は、5分間行
い、15μ秒、−16dBのDOの1分間当りの平均個
数を求めた。
【0084】(5)保存前のバック層面の1パス目の摩
擦係数(μ値)、及び500パス目の摩擦係数(μ
値):保存前 DDSドライブで使用されているバック面タッチのガイ
ドポールに対して、磁気テープのバック層面を接触させ
て荷重10g(T1)をかけ、8mm/秒の速度になる
ように張力(T2)をかけ引っ張り、T2/T1よりガ
イドポールに対するバック層面の摩擦係数を求めた。測
定は繰り返し500パスまで行い、1パス目の摩擦係数
μ1と500パス目の摩擦係数μ500を求めた。
擦係数(μ値)、及び500パス目の摩擦係数(μ
値):保存前 DDSドライブで使用されているバック面タッチのガイ
ドポールに対して、磁気テープのバック層面を接触させ
て荷重10g(T1)をかけ、8mm/秒の速度になる
ように張力(T2)をかけ引っ張り、T2/T1よりガ
イドポールに対するバック層面の摩擦係数を求めた。測
定は繰り返し500パスまで行い、1パス目の摩擦係数
μ1と500パス目の摩擦係数μ500を求めた。
【0085】(6)60℃90%RH7日保存後のバッ
ク層面の1パス目の摩擦係数(μ値)、及び500パス
目の摩擦係数(μ値):保存後 カ−トリッジを60℃90%RH7日保存した後、DD
Sドライブで使用されているバック面タッチのガイドポ
ールに対して、磁気テープのバック層面を接触させて荷
重10g(T1)をかけ、8mm/秒の速度になるよう
に張力(T2)をかけ引っ張り、T2/T1よりガイド
ポールに対するバック層面の摩擦係数を求めた。測定は
繰り返し500パスまで行い、1パス目の摩擦係数μ1
と500パス目の摩擦係数μ500を求めた。測定中に
張付きが発生し測定不可能となった場合は張付きと表示
した。
ク層面の1パス目の摩擦係数(μ値)、及び500パス
目の摩擦係数(μ値):保存後 カ−トリッジを60℃90%RH7日保存した後、DD
Sドライブで使用されているバック面タッチのガイドポ
ールに対して、磁気テープのバック層面を接触させて荷
重10g(T1)をかけ、8mm/秒の速度になるよう
に張力(T2)をかけ引っ張り、T2/T1よりガイド
ポールに対するバック層面の摩擦係数を求めた。測定は
繰り返し500パスまで行い、1パス目の摩擦係数μ1
と500パス目の摩擦係数μ500を求めた。測定中に
張付きが発生し測定不可能となった場合は張付きと表示
した。
【0086】実施例2〜4 実施例1のバック層のフッ化炭素粉末を表1に示すフッ
化炭素粉末に変更した以外は実施例1と同様に作成し
た。
化炭素粉末に変更した以外は実施例1と同様に作成し
た。
【0087】実施例5 実施例1のバック層の微粒子状カーボンブラック粉末
(キャボット社製、BP−800、平均粒子サイズ:1
7nm)100部を微粒子状カーボンブラック粉末(キャ
ボット社製、BP−800、平均粒子サイズ:17nm)
90部+粗粒子状カーボンブラック粉末(カーンカルブ
社製、サーマルブラック、平均粒子サイズ:270nm)
10部に変更し、且、フッ化炭素粉末を表1に示すフッ
化炭素粉末に変更した以外は実施例1と同様に作成し
た。
(キャボット社製、BP−800、平均粒子サイズ:1
7nm)100部を微粒子状カーボンブラック粉末(キャ
ボット社製、BP−800、平均粒子サイズ:17nm)
90部+粗粒子状カーボンブラック粉末(カーンカルブ
社製、サーマルブラック、平均粒子サイズ:270nm)
10部に変更し、且、フッ化炭素粉末を表1に示すフッ
化炭素粉末に変更した以外は実施例1と同様に作成し
た。
【0088】実施例6 実施例1のバック層のα−アルミナ(住友化学工業
(株)製、HIT60A、平均粒子サイズ:0.17μ
m、モース硬度:9)をα酸化鉄(戸田工業(株)製、
TF100、平均粉体サイズ(平均長軸長):110n
m、モース硬度:5.5)に変更した以外は実施例1と
同様に作成した。
(株)製、HIT60A、平均粒子サイズ:0.17μ
m、モース硬度:9)をα酸化鉄(戸田工業(株)製、
TF100、平均粉体サイズ(平均長軸長):110n
m、モース硬度:5.5)に変更した以外は実施例1と
同様に作成した。
【0089】比較例1 実施例1のバック層にフッ化炭素粉末を用いず、代わり
に炭酸カルシウム、平均粒子サイズ:40nm)を使用し
た以外は実施例1と同様に作成した。
に炭酸カルシウム、平均粒子サイズ:40nm)を使用し
た以外は実施例1と同様に作成した。
【0090】比較例2 実施例1のバック層にフッ化炭素粉末を使用しなかった
以外は実施例1と同様に作成した。
以外は実施例1と同様に作成した。
【0091】
【表1】
【0092】上記表1の結果から、比較例1〜2はバッ
ク層の表面粗さ(Ra)が大きいにもかかわらず初期の繰り
返し走行摩擦係数変化が大きく、さらに60℃90%R
Hに保管後の摩擦係数が大幅に大きくなり、特に比較例
1では、繰り返し走行で張付きを発生した。DO数も大き
く、フッ化炭素粉末を使用した本発明の実施例1〜6に
比較して走行、耐久性が劣っている。
ク層の表面粗さ(Ra)が大きいにもかかわらず初期の繰り
返し走行摩擦係数変化が大きく、さらに60℃90%R
Hに保管後の摩擦係数が大幅に大きくなり、特に比較例
1では、繰り返し走行で張付きを発生した。DO数も大き
く、フッ化炭素粉末を使用した本発明の実施例1〜6に
比較して走行、耐久性が劣っている。
【0093】 実施例7 磁性塗料 2 バリウムフェライト磁性粉 100部 (Hc1.67×105A/m、比表面積52m2/g、σs56×(4π×1 0-8)Wb/g、平均板径40nm、平均板状比 3) 塩化ビニル共重合体 MR110(日本ゼオン社製) 5部 ポリウレタン樹脂 UR8200(東洋紡社製) 3部 αアルミナ(平均粒子サイズ 0.15μm) 6部 カーボンブラック #50(旭カーボン社製) 1部 フェニルホスホン酸 2部 ブチルステアレート 10部 ブトキシエチルステアレート 5部 イソヘキサデシルステアレート 3部 ステアリン酸 2部 メチルエチルケトン 125部 シクロヘキサノン 125部
【0094】非磁性層用塗料:実施例1と同じ。
【0095】 バック層形成用塗布液組成(2) 微粒子状カーボンブラック粉末 100部 (キャボット社製、BP−800、平均粒子サイズ:17nm) フッ化炭素粉末(D)(平均粒子サイズ:80nm) 10部 α−酸化鉄 15部 (戸田工業(株)製、TF100、平均粉体サイズ(平均長軸長):110n m、モース硬度:5.5) ニトロセルロース樹脂 140部 ポリウレタン樹脂 15部 ポリイソシアネート 40部 ポリエステル樹脂 5部 分散剤:オレイン酸銅 5部 銅フタロシアニン 5部 硫酸バリウム 5部 メチルエチルケトン 2200部 酢酸ブチル 300部 トルエン 600部
【0096】上記の磁性層用塗料、非磁性層用塗料のそ
れぞれについて、顔料、ポリ塩化ビニル、フェニルホス
ホン酸と処方量の50重量%の各溶剤をニ−ダで混練し
たのち、ポリウレタン樹脂と残りの成分を加えてサンド
グラインダーで分散した。得られた分散液にポリイソシ
アネートを非磁性層の塗布液には15部、磁性層の塗布
液には14部を加え、さらにそれぞれにシクロヘキサノ
ン30部を加え、1μmの平均孔径を有するフィルター
を用いて濾過し、非磁性層形成用および磁性層形成用の
塗布液をそれぞれ調製した。
れぞれについて、顔料、ポリ塩化ビニル、フェニルホス
ホン酸と処方量の50重量%の各溶剤をニ−ダで混練し
たのち、ポリウレタン樹脂と残りの成分を加えてサンド
グラインダーで分散した。得られた分散液にポリイソシ
アネートを非磁性層の塗布液には15部、磁性層の塗布
液には14部を加え、さらにそれぞれにシクロヘキサノ
ン30部を加え、1μmの平均孔径を有するフィルター
を用いて濾過し、非磁性層形成用および磁性層形成用の
塗布液をそれぞれ調製した。
【0097】得られた非磁性層形成用塗布液を、乾燥後
の下層の厚さが1.5μmになるようにさらにその直後
にその上に磁性塗料2の塗布液を磁性層の厚さが0.1
5μmとなるように、厚さ5.5μmで中心面平均表面
粗さが2nmのPENベース上に同時重層塗布をおこな
い、両層がまだ湿潤状態にあるうちに4.8×105A
/mの磁力を持つコバルト磁石と4.8×105A/m
の磁力を持つソレノイドにより配向させた。乾燥後、バ
ック層形成用塗布液(2)を厚み0.6μmとなるよう
に塗布した。金属ロ−ルのみから構成される7段のカレ
ンダ−で温度95℃にて分速200m/min.でカレ
ンダ−処理を行い、その後、3.8mm幅にスリット
し、パンケ−キを作成した。表面研磨処理を施した後、
所定のカートリッジに組み込んでサンプル(磁気テー
プ)とした。得られた磁性層の磁気特性、磁性層とバッ
ク層のRaを測定した。さらに4.7MHz再生出力、D
O評価、初期と60℃90%RH7日保存後の摩擦係数
を測定した。出力は実施例7に対する相対値で示す。評
価条件は表1と同様に実施した。
の下層の厚さが1.5μmになるようにさらにその直後
にその上に磁性塗料2の塗布液を磁性層の厚さが0.1
5μmとなるように、厚さ5.5μmで中心面平均表面
粗さが2nmのPENベース上に同時重層塗布をおこな
い、両層がまだ湿潤状態にあるうちに4.8×105A
/mの磁力を持つコバルト磁石と4.8×105A/m
の磁力を持つソレノイドにより配向させた。乾燥後、バ
ック層形成用塗布液(2)を厚み0.6μmとなるよう
に塗布した。金属ロ−ルのみから構成される7段のカレ
ンダ−で温度95℃にて分速200m/min.でカレ
ンダ−処理を行い、その後、3.8mm幅にスリット
し、パンケ−キを作成した。表面研磨処理を施した後、
所定のカートリッジに組み込んでサンプル(磁気テー
プ)とした。得られた磁性層の磁気特性、磁性層とバッ
ク層のRaを測定した。さらに4.7MHz再生出力、D
O評価、初期と60℃90%RH7日保存後の摩擦係数
を測定した。出力は実施例7に対する相対値で示す。評
価条件は表1と同様に実施した。
【0098】実施例8〜10 実施例7のバック層のフッ化炭素粉末を表2に示すフッ
化炭素粉末に変更した以外は実施例7と同様に作成し
た。
化炭素粉末に変更した以外は実施例7と同様に作成し
た。
【0099】実施例11 実施例7のバック層の微粒子状カーボンブラック粉末
(キャボット社製、BP−800、平均粒子サイズ:1
7nm)100部を微粒子状カーボンブラック粉末(キャ
ボット社製、BP−800、平均粒子サイズ:17nm)
80部+粗粒子状カーボンブラック粉末(カーンカルブ
社製、サーマルブラック、平均粒子サイズ:270nm)
20部に変更し、且、フッ化炭素粉末を表2に示すフッ
化炭素粉末に変更した以外は実施例7と同様に作成し
た。
(キャボット社製、BP−800、平均粒子サイズ:1
7nm)100部を微粒子状カーボンブラック粉末(キャ
ボット社製、BP−800、平均粒子サイズ:17nm)
80部+粗粒子状カーボンブラック粉末(カーンカルブ
社製、サーマルブラック、平均粒子サイズ:270nm)
20部に変更し、且、フッ化炭素粉末を表2に示すフッ
化炭素粉末に変更した以外は実施例7と同様に作成し
た。
【0100】実施例12 実施例7のバック層のα酸化鉄(戸田工業(株)製、T
F100、平均粉体サイズ:110nm、モース硬度:
5.5)をα−アルミナ(住友化学工業(株)製、HI
T60A、平均粒子サイズ:0.17μm、モース硬
度:9)に変更した以外は実施例7と同様に作成した。
F100、平均粉体サイズ:110nm、モース硬度:
5.5)をα−アルミナ(住友化学工業(株)製、HI
T60A、平均粒子サイズ:0.17μm、モース硬
度:9)に変更した以外は実施例7と同様に作成した。
【0101】比較例3 実施例7のバック層にフッ化炭素粉末を用いず、代わり
に炭酸カルシウム、平均粒子サイズ:40nm)を使用し
た以外は実施例7と同様に作成した。
に炭酸カルシウム、平均粒子サイズ:40nm)を使用し
た以外は実施例7と同様に作成した。
【0102】比較例4 実施例7のバック層にフッ化炭素粉末を使用しなかった
以外は実施例7と同様に作成した。
以外は実施例7と同様に作成した。
【0103】
【表2】
【0104】上記表2の結果から,比較例3〜4はバッ
ク層の表面粗さ(Ra)が大きいにもかかわらず初期の繰り
返し走行摩擦係数変化が大きく、さらに60℃90%R
Hに保管後に摩擦係数が高く特に比較例3では、測定し
ようとしたが張り付きを発生した。比較例は、DO数も大
きく、フッ化炭素粉末を使用した本発明に比較して走
行、耐久性が劣っている。
ク層の表面粗さ(Ra)が大きいにもかかわらず初期の繰り
返し走行摩擦係数変化が大きく、さらに60℃90%R
Hに保管後に摩擦係数が高く特に比較例3では、測定し
ようとしたが張り付きを発生した。比較例は、DO数も大
きく、フッ化炭素粉末を使用した本発明に比較して走
行、耐久性が劣っている。
【0105】
【発明の効果】本発明の磁気テープは、全厚、そしてバ
ック層共に薄くした形態に拘らず、優れた電磁変換特性
を維持した状態で、繰り返し走行による摩擦係数の上昇
も少なく、また60℃90%RHで保存した場合でも繰
り返し走行による摩擦係数の増加がなく良好な走行耐久
性を備えている。ドロップアウトが少ないので、データ
の記録、読み出しに対する信頼性が高く、さらに劣悪な
環境で保存されてもデ−タ−の再生に関して信頼性が優
れている。従って本発明の磁気テープは、コンピュータ
データ記録用の磁気テープとして特に有利に用いること
ができる。
ック層共に薄くした形態に拘らず、優れた電磁変換特性
を維持した状態で、繰り返し走行による摩擦係数の上昇
も少なく、また60℃90%RHで保存した場合でも繰
り返し走行による摩擦係数の増加がなく良好な走行耐久
性を備えている。ドロップアウトが少ないので、データ
の記録、読み出しに対する信頼性が高く、さらに劣悪な
環境で保存されてもデ−タ−の再生に関して信頼性が優
れている。従って本発明の磁気テープは、コンピュータ
データ記録用の磁気テープとして特に有利に用いること
ができる。
Claims (8)
- 【請求項1】 支持体の一方の側に磁性層を設け、そし
て他方の側にバック層を設けた磁気記録媒体において、
前記バック層が、フッ化炭素粉末を含有することを特徴
とする磁気記録媒体。 - 【請求項2】 前記フッ化炭素粉末の平均粒子サイズが
1〜300nmであることを特徴とする請求項1記載の
磁磁気記録媒体。 - 【請求項3】 前記バック層の厚みが、0.2〜0.8
μmであり、前記磁気記録媒体の総厚みが3〜10μm
であり、該バック層は、平均粒子サイズが10〜20n
mの微粒子状カーボンブラックと平均粒子サイズ1〜3
00nmのフッ化炭素粉末を含み、かつ該バック層の中
心面平均表面粗さRaが、2.0〜15nmであること
を特徴とする請求項1記載の磁気記録媒体。 - 【請求項4】前記バック層が平均粒子サイズ3〜100
nmのフッ化炭素粉末を含むことを特徴とする請求項3
記載の磁気記録媒体。 - 【請求項5】前記バック層が更に平均粉体サイズが20
〜250nmのモース硬度5〜9の無機質粉末を含むこ
とを特徴とする請求項3記載の磁気記録媒体。 - 【請求項6】前記無機質粉末が、α−酸化鉄又はα−ア
ルミナであることを特徴とする請求項5記載の磁気記録
媒体。 - 【請求項7】 前記支持体と前記磁性層の間に実質的に
非磁性である下層を設け、該磁性層の抗磁力が1.43
×105A/m以上であり、前記磁性層の厚みが0.0
5〜0.5μmであることを特徴とする請求項1〜6の
いずれか1項に記載の磁気記録媒体。 - 【請求項8】 前記磁性層の磁化量φm(飽和磁束密度×
磁性層厚み/4π)が4π(1.0〜8.0)×10-7W
b/m2であり、かつ前記磁性層の表面粗さが3D−M
IRAU法による中心面平均表面粗さで1.0〜3.0
nm以下であることを特徴とする請求項7記載の磁気記
録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28976099A JP2001110032A (ja) | 1999-10-12 | 1999-10-12 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28976099A JP2001110032A (ja) | 1999-10-12 | 1999-10-12 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001110032A true JP2001110032A (ja) | 2001-04-20 |
Family
ID=17747407
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28976099A Pending JP2001110032A (ja) | 1999-10-12 | 1999-10-12 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001110032A (ja) |
-
1999
- 1999-10-12 JP JP28976099A patent/JP2001110032A/ja active Pending
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